(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023058053
(43)【公開日】2023-04-25
(54)【発明の名称】磁場応答性六方晶窒化ホウ素およびシート状樹脂組成物
(51)【国際特許分類】
C01B 21/064 20060101AFI20230418BHJP
C01B 32/198 20170101ALI20230418BHJP
H01F 1/00 20060101ALI20230418BHJP
H01F 1/11 20060101ALI20230418BHJP
C08K 3/38 20060101ALI20230418BHJP
C08L 101/00 20060101ALI20230418BHJP
【ＦＩ】
C01B21/064 M
C01B32/198
H01F1/00 145
H01F1/11
C08K3/38
C08L101/00
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021167788
(22)【出願日】2021-10-13
(71)【出願人】
【識別番号】591167430
【氏名又は名称】株式会社ＫＲＩ
(72)【発明者】
【氏名】在間 弘朗
(72)【発明者】
【氏名】松本 信子
(72)【発明者】
【氏名】杉森 秀一
(72)【発明者】
【氏名】大仲 淳子
(72)【発明者】
【氏名】伊藤 玄
【テーマコード（参考）】
4G146
4J002
5E040
【Ｆターム（参考）】
4G146AA01
4G146AB07
4G146CB19
4G146CB32
4J002AA001
4J002BG021
4J002CD001
4J002CK021
4J002CP031
4J002DE116
4J002DK006
4J002FB076
4J002FD010
4J002FD016
4J002FD206
4J002GR02
5E040AB02
(57)【要約】
【課題】 永久磁石程度の磁場（０．２～１テスラ）で配向可能な六方晶窒化ホウ素粒子および六方晶窒化ホウ素粒子の濃度が高くなくても熱伝導の良いシート状樹脂組成物の提供。
【解決手段】 本発明の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子は、磁場に応答する六方晶窒化ホウ素粒子であって、鱗片状または板状の六方晶窒化ホウ素粒子の表面に単層の酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層を有し、前記酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層に磁性粒子が付着した、磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子である。
【選択図】 図１
【解決手段】 本発明の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子は、磁場に応答する六方晶窒化ホウ素粒子であって、鱗片状または板状の六方晶窒化ホウ素粒子の表面に単層の酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層を有し、前記酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層に磁性粒子が付着した、磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子である。
【選択図】 図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
磁場に応答する六方晶窒化ホウ素粒子であって、鱗片状または板状の六方晶窒化ホウ素粒子の表面に単層の酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層を有し、前記酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層に磁性粒子が付着した、磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子。
【請求項2】
前記磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子が、０．２～２．０ｅｍｕ／ｇの飽和磁化を有する、請求項１に記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子。
【請求項3】
前記磁性粒子が、γ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子またはＦｅ３Ｏ４ナノ粒子である、請求項１または２に記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子。
【請求項4】
請求項１から３のいずれかに記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子を樹脂に混合した樹脂組成物で、前記磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子を体積比率で８体積％以上含有する、シート状樹脂組成物。
【請求項5】
樹脂組成物の作製方法であって、請求項１から３のいずれかに記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の集合体を０．２～３テスラの磁場下に置いて前記粒子を配向させた後、前記集合体に硬化性液状樹脂を含浸して硬化させた、樹脂組成物の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、磁場に応答する六方晶窒化ホウ素粒子および前記粒子を含有するシート状熱伝導性樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【0002】
六方晶窒化ホウ素は、電気伝導性のない鱗片状（板状）の結晶粒子で、電子機器の放熱材用フィラーとして期待されている。しかし、粒子横方向（（０００１）面方向）のみに高い熱伝導を有するため、これまで一般的に使われてきた熱伝導シートの作製方法、例えば、六方晶窒化ホウ素を含む液状混合物の基板への塗布やプレス成形方法では、鱗片状の六方晶窒化ホウ素は作製時のせん断力や基板上面からの力により基板に平行に配向が起こって、シート厚み方向の熱伝導を向上させにくい問題があった。
【0003】
こうした問題に対して、シート厚み方向に窒化ホウ素を配向させて熱伝導率を向上させる簡便な方法として、六方晶窒化ホウ素粒子に高磁場をかけると磁場に平行に配向する性質を利用して、熱硬化性液状樹脂と六方晶窒化ホウ素粒子の混合物に外部から磁場を印加して六方晶窒化ホウ素粒子を配向させた後、樹脂を硬化させて熱伝導シートを作製する先行技術がある（特許文献１～３等）。しかし、六方晶窒化ホウ素粒子を配向させるのには強力な磁場が必要であり、特許文献１では磁束密度４テスラ（実施例１）、特許文献２では磁束密度１０テスラ（実施例１、５、６）、磁束密度５テスラ（実施例２～４）と強力な磁場をかけている。
【0004】
さらに、磁場配向を促進する目的で六方晶窒化ホウ素粒子に磁性粒子を付着させた粒子を用いて液状樹脂との混合物に磁場をかけて、シート厚み方向の熱伝導率が向上させる方法に関する、先行技術が存在する（特許文献４～６）。しかし、磁性粒子を付けているにも関わらず六方晶窒化ホウ素粒子を配向させるのには強力な磁場が必要であり、特許文献４では磁束密度２テスラ（実施例１）、特許文献５では磁束密度９．５テスラ（実施例２）と強力な磁場をかけている。特許文献６では磁束密度０．０８テスラ（実施例１）という低磁場で配向させているが、大量の磁性粒子（窒化ホウ素：酸化鉄粒子＝１０：６（重量比））を複合している。また、これらの文献の磁性粒子を被覆又は付着させた粒子は、いずれも窒化ホウ素に直接磁性粒子を被覆又は付着させた粒子である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２００２－０８０６１７号公報
【特許文献2】特開２００４－２５６６８７号公報
【特許文献3】特開２０１２－２２７４１７号公報
【0006】
【特許文献4】特開２０１２－１６９５９９号公報
【特許文献5】特開２０１７－１４３２０４号公報
【特許文献6】特表２０２０－５３６１５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、前記課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、永久磁石程度の磁場（０．２～１テスラ）で配向可能な六方晶窒化ホウ素粒子および六方晶窒化ホウ素粒子の濃度が高くなくても熱伝導の良いシート状樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、六方晶窒化ホウ素粒子表面に酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を形成すると、窒化ホウ素粒子は３テスラ程度の磁場でも応答するようになることを見出した。さらに、窒化ホウ素粒子表面の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層は磁性粒子を吸着し、それによって窒化ホウ素粒子は永久磁石程度の磁場に応答するようになることを見出した。また、タップ密度が０．５以上の鱗片状または板状窒化ホウ素粒子を用いると、磁場配向により窒化ホウ素粒子含有量が高くなくても熱伝導のよいシート状樹脂組成物を作製できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0009】
すなわち本発明は、以下の構成からなることを特徴とする。
〔１〕 磁場に応答する六方晶窒化ホウ素粒子であって、鱗片状または板状の六方晶窒化ホウ素粒子の表面に単層の酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層を有し、前記酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層に磁性粒子が付着した、磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子。
〔２〕 前記磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子が、０．２～２．０ｅｍｕ／ｇの飽和磁化を有する、前記〔１〕に記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子。
〔３〕 前記磁性粒子が、γ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子またはＦｅ３Ｏ４ナノ粒子である、前記〔１〕または前記〔２〕に記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子。
〔４〕 前記〔１〕から〔３〕のいずれかに記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子を樹脂に混合した樹脂組成物で、前記磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子を体積比率で８体積％以上含有する、シート状樹脂組成物。
〔５〕 樹脂組成物の作製方法であって、前記〔１〕から〔３〕のいずれかに記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の集合体を０．２～３テスラの磁場下に置いて前記粒子を配向させた後、前記集合体に硬化性液状樹脂を含浸して硬化させた、樹脂組成物の作製方法。
〔１〕 磁場に応答する六方晶窒化ホウ素粒子であって、鱗片状または板状の六方晶窒化ホウ素粒子の表面に単層の酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層を有し、前記酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層に磁性粒子が付着した、磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子。
〔２〕 前記磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子が、０．２～２．０ｅｍｕ／ｇの飽和磁化を有する、前記〔１〕に記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子。
〔３〕 前記磁性粒子が、γ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子またはＦｅ３Ｏ４ナノ粒子である、前記〔１〕または前記〔２〕に記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子。
〔４〕 前記〔１〕から〔３〕のいずれかに記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子を樹脂に混合した樹脂組成物で、前記磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子を体積比率で８体積％以上含有する、シート状樹脂組成物。
〔５〕 樹脂組成物の作製方法であって、前記〔１〕から〔３〕のいずれかに記載の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の集合体を０．２～３テスラの磁場下に置いて前記粒子を配向させた後、前記集合体に硬化性液状樹脂を含浸して硬化させた、樹脂組成物の作製方法。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、永久磁石で配向可能な六方晶窒化ホウ素粒子を提供できる。さらに磁場配向により、六方晶窒化ホウ素粒子の濃度が高くなくても熱伝導の良いシート状樹脂組成物を提供できるようになる。
また、六方晶窒化ホウ素表面に磁性粒子を直接吸着した従来の六方晶窒化ホウ素磁性粒子は、ファン・デル・ワールス力で窒化ホウ素表面に吸着しているため、窒化ホウ素表面や磁性粒子への溶媒吸着などによって脱離しやすい。一方、六方晶窒化ホウ素表面に強く吸着している酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層は、磁性粒子との間にファン・デル・ワールス力だけでなく水素結合や金属原子－水酸基／カルボキシル基結合も形成しやすいため六方晶窒化ホウ素から脱離しにくい。
また、六方晶窒化ホウ素表面に磁性粒子を直接吸着した従来の六方晶窒化ホウ素磁性粒子は、ファン・デル・ワールス力で窒化ホウ素表面に吸着しているため、窒化ホウ素表面や磁性粒子への溶媒吸着などによって脱離しやすい。一方、六方晶窒化ホウ素表面に強く吸着している酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層は、磁性粒子との間にファン・デル・ワールス力だけでなく水素結合や金属原子－水酸基／カルボキシル基結合も形成しやすいため六方晶窒化ホウ素から脱離しにくい。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【図1】実施例１の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子表面の走査電子顕微鏡像
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【0013】
本発明の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子は、鱗片状または板状の六方晶窒化ホウ素粒子をベースとし、その粒子表面に直接吸着させた単層の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層と、それに付着している磁性粒子を有する。そして、０．２ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは０．２１ｅｍｕ／ｇ以上、より好ましくは０．２２ｅｍｕ／ｇ以上の飽和磁化を有し、超常磁性を示す。飽和磁化が０．２ｅｍｕ／ｇより小さいと永久磁石では配向しにくくなる。飽和磁化は大きい方が低磁場でも配向可能となるために好ましいが、２．０ｅｍｕ／ｇ程度あれば永久磁石程度の磁場で配向する。単層の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層は、磁性粒子を六方晶窒化ホウ素粒子に安定に固定する機能を有する。安定に固定できる理由としては、まず、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層が磁性粒子との間に水素結合や鉄原子－水酸基／カルボキシル基結合を形成できるので、磁性粒子は脱離しにくくなる。さらに、単層の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層はファン・デル・ワールス力によって六方晶窒化ホウ素表面に強固に吸着しているので磁性粒子が脱離しにくい。
【0014】
〈六方晶窒化ホウ素〉
本発明で用いられる六方晶窒化ホウ素に特に制限はないが、樹脂組成物のフィラーとして用いる場合は、タップ密度が０．５以上、好ましくは０．５５以上、より好ましくは０．６以上の鱗片状または板状粒子であることが好ましい。ここで、タップ密度は、所定容器内で粉末を所定回数タップした後の粉末の見掛け密度を示す指標であり、ＪＩＳ Ｒ １６２８：１９９７に従って測定することができる。タップ密度が０．５より小さいと、樹脂組成物中の六方晶窒化ホウ素の含有量が低くなり、仮に六方晶窒化ホウ素が熱流方向に配向したとしても十分な熱伝導率が得られない。タップ密度の上限は特に限定されないが、鱗片状または板状粒子の場合、実質的に１前後が上限となる。市販される六方晶窒化ホウ素には鱗片状または板状粒子の他に鱗片状粒子を造粒して球状としたタイプがある。このような球状タイプもタップ密度が０．５以上となるが、形状の異方性がないため磁場配向しにくい。
本発明で用いられる六方晶窒化ホウ素に特に制限はないが、樹脂組成物のフィラーとして用いる場合は、タップ密度が０．５以上、好ましくは０．５５以上、より好ましくは０．６以上の鱗片状または板状粒子であることが好ましい。ここで、タップ密度は、所定容器内で粉末を所定回数タップした後の粉末の見掛け密度を示す指標であり、ＪＩＳ Ｒ １６２８：１９９７に従って測定することができる。タップ密度が０．５より小さいと、樹脂組成物中の六方晶窒化ホウ素の含有量が低くなり、仮に六方晶窒化ホウ素が熱流方向に配向したとしても十分な熱伝導率が得られない。タップ密度の上限は特に限定されないが、鱗片状または板状粒子の場合、実質的に１前後が上限となる。市販される六方晶窒化ホウ素には鱗片状または板状粒子の他に鱗片状粒子を造粒して球状としたタイプがある。このような球状タイプもタップ密度が０．５以上となるが、形状の異方性がないため磁場配向しにくい。
【0015】
〈酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン〉
本発明で六方晶窒化ホウ素に吸着させる酸化グラフェンは、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンである。酸化グラフェンを完全に還元処理した還元型酸化グラフェンは、疎水化して水中では凝集するので、窒化ホウ素粒子表面に均一に吸着することができない。
本発明で六方晶窒化ホウ素に吸着させる酸化グラフェンは、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンである。酸化グラフェンを完全に還元処理した還元型酸化グラフェンは、疎水化して水中では凝集するので、窒化ホウ素粒子表面に均一に吸着することができない。
【0016】
〈酸化グラフェン〉
本発明に用いる酸化グラフェンは、市販されている個体または水に分散している酸化グラフェンまたは改良ハマーズ法によって作製された酸化グラフェン水分散液を用いることができる。
本発明に用いる酸化グラフェンは、市販されている個体または水に分散している酸化グラフェンまたは改良ハマーズ法によって作製された酸化グラフェン水分散液を用いることができる。
【0017】
〈部分還元された酸化グラフェン〉
本発明に用いる部分還元された酸化グラフェンは、酸化グラフェンよりも長波長側かつ２６５ｎｍよりも短波長側に吸収ピークを有し、酸化グラフェンの水分散液を適切な条件で還元することにより水分散液の状態で得ることができる。
部分還元された酸化グラフェンの水分散液は、市販されている酸化グラフェンまたは改良ハマーズ法によって作製された酸化グラフェン水分散液を適切な条件で還元することによって作製することが出来る。還元方法としては、水媒体で実施できる還元剤を用いた化学還元が好ましい。還元剤としては、従来から知られている水溶性の水素化ホウ素ナトリウムやヒドラジン水和物を用いることが出来るが、残留物の除去性やグラフェン骨格に窒素が導入されないという点でアスコルビン酸を用いた還元が好ましい。還元状態の制御は、還元剤の使用量、還元温度、還元時間によって可能である。還元温度は、水媒体で還元を行うため８０℃以上、好ましくは９０℃以上であればよい。適切な還元剤の使用量と還元時間は、還元する酸化グラフェン量と酸素含有基量によって異なるので、還元処理で得られた部分還元された酸化グラフェン水分散液の紫外可視吸収スペクトルの吸収ピーク位置をみて適宜調整すれば良い。還元処理で得られた部分還元された酸化グラフェン分散液は、透析チューブに入れ、イオン交換水や蒸留水で透析（精製）処理して部分還元された酸化グラフェン水分散液とすることが出来る。なお、原料とする酸化グラフェンが単層であれば、部分還元された酸化グラフェンも単層となるが、念の為、還元・精製処理後に超音波照射などにより剥離処理し、処理液を遠心分離して上澄みを利用することが好ましい。また、場合によっては水分散液のｐＨを調整することもできる。使用する部分還元された酸化グラフェンが単層かどうかは、原子間力顕微鏡や電子顕微鏡で評価できる。水分散液中の部分還元された酸化グラフェン濃度は特に限定されないが、０．１～０．５ｗ％の範囲内であれば扱いやすい。
本発明に用いる部分還元された酸化グラフェンは、酸化グラフェンよりも長波長側かつ２６５ｎｍよりも短波長側に吸収ピークを有し、酸化グラフェンの水分散液を適切な条件で還元することにより水分散液の状態で得ることができる。
部分還元された酸化グラフェンの水分散液は、市販されている酸化グラフェンまたは改良ハマーズ法によって作製された酸化グラフェン水分散液を適切な条件で還元することによって作製することが出来る。還元方法としては、水媒体で実施できる還元剤を用いた化学還元が好ましい。還元剤としては、従来から知られている水溶性の水素化ホウ素ナトリウムやヒドラジン水和物を用いることが出来るが、残留物の除去性やグラフェン骨格に窒素が導入されないという点でアスコルビン酸を用いた還元が好ましい。還元状態の制御は、還元剤の使用量、還元温度、還元時間によって可能である。還元温度は、水媒体で還元を行うため８０℃以上、好ましくは９０℃以上であればよい。適切な還元剤の使用量と還元時間は、還元する酸化グラフェン量と酸素含有基量によって異なるので、還元処理で得られた部分還元された酸化グラフェン水分散液の紫外可視吸収スペクトルの吸収ピーク位置をみて適宜調整すれば良い。還元処理で得られた部分還元された酸化グラフェン分散液は、透析チューブに入れ、イオン交換水や蒸留水で透析（精製）処理して部分還元された酸化グラフェン水分散液とすることが出来る。なお、原料とする酸化グラフェンが単層であれば、部分還元された酸化グラフェンも単層となるが、念の為、還元・精製処理後に超音波照射などにより剥離処理し、処理液を遠心分離して上澄みを利用することが好ましい。また、場合によっては水分散液のｐＨを調整することもできる。使用する部分還元された酸化グラフェンが単層かどうかは、原子間力顕微鏡や電子顕微鏡で評価できる。水分散液中の部分還元された酸化グラフェン濃度は特に限定されないが、０．１～０．５ｗ％の範囲内であれば扱いやすい。
【0018】
一般に、酸化グラフェンは可視紫外可視吸収スペクトルで２３０ｎｍ付近に吸収ピークを示す含酸素官能基を有するグラフェン、還元型酸化グラフェンは可視紫外可視吸収スペクトルでは２６５ｎｍ付近より大きい波長域に吸収ピークを示す還元処理された酸化グラフェンと認識されている。この吸収ピークは、酸化グラフェンの還元状態に従って長波長シフトすることが知られている。
【0019】
本明細書でも前記一般的な認識に従うと、本発明に用いられる部分還元された酸化グラフェンは、酸化グラフェンよりも還元状態にあり、還元型酸化グラフェンほどの還元状態にはない中間的性質を持つといえる。それは、本発明に用いられる部分還元された酸化グラフェンが酸化グラフェンよりも長波長側かつ２６５ｎｍよりも短波長側に吸収ピークを有することに示唆されている。なお、測定条件によって酸化グラフェンおよび還元型酸化グラフェンの吸収ピーク位置が２３０ｎｍ、２６５ｎｍから若干ずれる場合があるので、本明細書においては、酸化グラフェンの吸収ピーク位置２３０ｎｍおよび還元型酸化グラフェンの吸収ピーク位置２６５ｎｍは絶対的な値ではない。また、一般に炭素／酸素比で表される酸化グラフェンの酸化度が低い場合、含酸素官能基量だけみると部分還元された酸化グラフェンの場合とほぼ同じ場合がありえるが、可視紫外可視吸収スペクトルの吸収ピークは２３０ｎｍ付近にあるため、炭素／酸素比は還元度の指標とはなりえない。
【0020】
本発明に用いられる部分還元された酸化グラフェンは、このように酸化グラフェンと還元型酸化グラフェンの中間の還元状態にあるため、酸化グラフェンよりは疎水性であり、還元型酸化グラフェンほど疎水性ではないので、水中で酸化グラフェンと同様の分散を維持しながら、六方晶窒化ホウ素粒子の疎水性表面にファン・デル・ワールス力（特に疎水結合）により吸着しやすくなっている。
【0021】
〈酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層〉
本発明の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子は、鱗片状または板状の六方晶窒化ホウ素粒子の表面に単層の酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層を有しているが、同じ六方晶窒化ホウ素粒子の吸着させた場合、酸化グラフェンよりも部分還元された酸化グラフェンの方が１．５倍以上の吸着量があるので、部分還元された酸化グラフェンを吸着させるのが好ましい。
本発明の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子は、鱗片状または板状の六方晶窒化ホウ素粒子の表面に単層の酸化グラフェン又は部分還元された酸化グラフェンの吸着層を有しているが、同じ六方晶窒化ホウ素粒子の吸着させた場合、酸化グラフェンよりも部分還元された酸化グラフェンの方が１．５倍以上の吸着量があるので、部分還元された酸化グラフェンを吸着させるのが好ましい。
【0022】
部分還元された酸化グラフェン吸着層は六方晶窒化ホウ素粒子表面に存在し、その量は六方晶窒化ホウ素粒子の単位表面積あたり０．４０×１０－７～１．２×１０－６ｇ／ｃｍ２，好ましくは０．５０×１０－７～１．０×１０－６ｇ／ｃｍ２，より好ましくは０．６×１０－７～０．９５×１０－６ｇ／ｃｍ２である。０．４０×１０－７ｇ／ｃｍ２より少ないと六方晶窒化ホウ素粒子表面に部分還元された酸化グラフェン吸着層がないエリアが広くなるため、それに伴って磁性粒子の付着量が減る。１．２×１０－６ ｇ／ｃｍ２より多い場合、増えた分だけの磁性粒子付着量の増加がみられない。
【0023】
酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層の量は、炭素・硫黄分析装置を用いた炭素の定量分析により、知ることができる。なお、炭素の定量値は炭素・硫黄分析装置や助燃剤の影響を受けやすいので、本明細書では、ＬＥＣＯ社製ＣＳ８４４型炭素・硫黄分析装置で助燃剤：ＷとＬＥＣＯ社製ＬＥＣＯＣＥＬ（登録商用）ＩＩを用いて分析を行った分析値を採用する。六方晶窒化ホウ素粒子の表面積はＢＥＴ比表面積を測定することにより知ることができる。また、後述のように実験的に六方晶窒化ホウ素粒子に吸着した酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン量を知ることができ、およその量を把握するにはこの方法で十分である。六方晶窒化ホウ素粒子表面の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層は、オージェ分光分析法や顕微ラマン分光法で確認することができる。
【0024】
酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層は単層が好ましい。複層であると、何らかの外的要因によって剥離が起こる可能性があり、それによって酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層の最表面に付いている磁性粒子も一緒に失われるため好ましくない。用いる酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンの層数は、予め原子間力顕微鏡や電子顕微鏡で評価できる。
【0025】
単層の酸化グラフェンおよび部分還元された酸化グラフェンは、何れも原子間力顕微鏡観察で１ｎｍ以下の厚みを有する多角形シートである。そのシートの大きさは様々な方法で定義できるが、本明細書では、原子間力顕微鏡や電子顕微鏡像の画像解析により計測したシート面積から算出した面積円相当径を採用する。その理由として、面積円相当径は原子間力顕微鏡や電子顕微鏡像から測定されるシートの最大長よりも客観的に大きさを定義できるためである。
【0026】
酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンの面積円相当径平均値は、２０μｍ以下、好ましくは１８μｍ以下、より好ましくは１６μｍ以下である。２０μｍより大きな酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンは、対象とする窒化ホウ素粒子の大きさを考慮すると必要としない。面積円相当径平均値の下限は特に限定されないが、１μｍより小さい酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンは、吸着を起こしにくい、または吸着しても剥がれやすいため好ましくない。
【0027】
単層の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層は、単層の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンを六方晶窒化ホウ素表面に吸着させることにより形成できる。そして、窒化ホウ素粒子表面に形成された酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層の上に別の部分還元された酸化グラフェンが積層することはないため、単層の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層となる。これは、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンが、含まれる酸素官能基による電気的反発や含酸素官能基の水和によって凝集せずに水に分散しているように、窒化ホウ素粒子表面の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層と別の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンとの間にも同様の相互作用があって凝集（＝吸着）が起こらないためである。この点から、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層が単層の場合、その吸着量は、六方晶窒化ホウ素粒子表面の被覆面積に比例するといえる。
【0028】
〈酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素の作製〉
本発明に用いられる酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子は、次のような工程で作製することができる。まず、酸化グラフェン水分散液または前記部分還元された酸化グラフェン水分散液に鱗片状または板状六方晶窒化ホウ素粒子粉末を加えて、撹拌または振盪して塊がなくなるまで均一に混合する。こうした工程で酸化グラフェン水分散液または部分還元された酸化グラフェン水分散液に六方晶窒化ホウ素粒子粉末を混合していくと、沈殿が生じて上澄み（酸化グラフェン水分散液層または部分還元された酸化グラフェン水分散液層）の色が薄くなっていく。最終的に上澄みは無色透明となる。これは、六方晶窒化ホウ素粒子粒子への酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンの吸着が起こっているためである。なお、酸化グラフェン水分散液または部分還元された酸化グラフェン水分散液への六方晶窒化ホウ素粒子の添加は、六方晶窒化ホウ素粒子が過剰になって酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンの吸着量の少ない六方晶窒化ホウ素粒子が生じないように、上澄みに着色が残る段階で添加を終了することが好ましい。この上澄みの着色の程度は、紫外可視吸収スペクトルのピーク強度を用いて決定することができ、六方晶窒化ホウ素粒子添加の終点は、上澄みのピーク強度が添加前の酸化グラフェン水分散液または部分還元された酸化グラフェン分散液のピーク強度の１／１０程度になった時点が好ましい。
本発明に用いられる酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子は、次のような工程で作製することができる。まず、酸化グラフェン水分散液または前記部分還元された酸化グラフェン水分散液に鱗片状または板状六方晶窒化ホウ素粒子粉末を加えて、撹拌または振盪して塊がなくなるまで均一に混合する。こうした工程で酸化グラフェン水分散液または部分還元された酸化グラフェン水分散液に六方晶窒化ホウ素粒子粉末を混合していくと、沈殿が生じて上澄み（酸化グラフェン水分散液層または部分還元された酸化グラフェン水分散液層）の色が薄くなっていく。最終的に上澄みは無色透明となる。これは、六方晶窒化ホウ素粒子粒子への酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンの吸着が起こっているためである。なお、酸化グラフェン水分散液または部分還元された酸化グラフェン水分散液への六方晶窒化ホウ素粒子の添加は、六方晶窒化ホウ素粒子が過剰になって酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンの吸着量の少ない六方晶窒化ホウ素粒子が生じないように、上澄みに着色が残る段階で添加を終了することが好ましい。この上澄みの着色の程度は、紫外可視吸収スペクトルのピーク強度を用いて決定することができ、六方晶窒化ホウ素粒子添加の終点は、上澄みのピーク強度が添加前の酸化グラフェン水分散液または部分還元された酸化グラフェン分散液のピーク強度の１／１０程度になった時点が好ましい。
【0029】
次いで、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェンが吸着した六方晶窒化ホウ素粒子を分散液から濾別または遠心沈降によって回収し、室温乾燥または必要に応じて５０～７０℃程度で加熱乾燥することにより、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子を粉体として得ることができる。
【0030】
〈磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子〉
本発明の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子表面には、単層の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を介して磁性粒子が主に粒子一個分の厚さで付着していることが好ましい。これは、例えば酸化鉄ナノ粒子が大きな凝集塊を形成している場合を考えると、液状樹脂と混合した場合に凝集塊は投影面積が大きいため流体による抗力が大きくなって窒化ホウ素表面から脱落しやすい問題が発生するが、磁性粒子が主に粒子一個分の厚さで付着していれば、投影面積は小さくなるので脱落するような問題を回避できる。磁性粒子が主に粒子一個分の厚さで付着する理由としては、磁性粒子は酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層に両者間の水素結合や鉄原子との配位結合などを介して直接付着するが、一旦付着した粒子には、粒子同士の静電反発によって後から他の磁性粒子が付着できないためである。なお、磁性粒子の作製過程で凝集粒子の副生は避けることができず、そしてこのような凝集粒子も酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層に付着するので、磁性粒子の付着層には粒子一個分の厚さでない部分も含まれる。
本発明の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子表面には、単層の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を介して磁性粒子が主に粒子一個分の厚さで付着していることが好ましい。これは、例えば酸化鉄ナノ粒子が大きな凝集塊を形成している場合を考えると、液状樹脂と混合した場合に凝集塊は投影面積が大きいため流体による抗力が大きくなって窒化ホウ素表面から脱落しやすい問題が発生するが、磁性粒子が主に粒子一個分の厚さで付着していれば、投影面積は小さくなるので脱落するような問題を回避できる。磁性粒子が主に粒子一個分の厚さで付着する理由としては、磁性粒子は酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層に両者間の水素結合や鉄原子との配位結合などを介して直接付着するが、一旦付着した粒子には、粒子同士の静電反発によって後から他の磁性粒子が付着できないためである。なお、磁性粒子の作製過程で凝集粒子の副生は避けることができず、そしてこのような凝集粒子も酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層に付着するので、磁性粒子の付着層には粒子一個分の厚さでない部分も含まれる。
【0031】
磁性粒子の付着量は、０．１～２重量％、好ましくは０．２～１．７重量％、より好ましくは０．３～１．４重量％の磁性粒子が付着している。これにより六方晶窒化ホウ素粒子が３テスラ以下でも磁場に応答するようになる。磁性粒子の付着量が０．１重量％より少ないと、１テスラ以下の磁場での応答性が悪くなる。磁性粒子の付着量は多い方が低磁場でも応答しやすくなるために好ましいが、２重量％より多い量は酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層の量の制約があり付かない。付着量は、磁性粒子を構成する金属元素の元素分析によって定量することができる。
【0032】
〈磁性粒子〉
磁性粒子は、磁力を有する粒子であればよいが、透過型電子顕微鏡で観察される平均粒子径が１０～３０ｎｍの範囲にあるγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子またはＦｅ３Ｏ４ナノ粒子が好ましいが、六方晶窒化ホウ素の用途を考慮すると導電性の低いγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子がより好ましい。
磁性粒子は、磁力を有する粒子であればよいが、透過型電子顕微鏡で観察される平均粒子径が１０～３０ｎｍの範囲にあるγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子またはＦｅ３Ｏ４ナノ粒子が好ましいが、六方晶窒化ホウ素の用途を考慮すると導電性の低いγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子がより好ましい。
【0033】
γ－Ｆｅ２Ｏ３粒子またはＦｅ３Ｏ４ナノ粒子の飽和磁化は、１０～７０ｅｍｕ／ｇ、好ましくは１５～６５ｅｍｕ／ｇ、より好ましくは２０～６０ｅｍｕ／ｇである。１０ｅｍｕ／ｇより低いと１テスラ以下の磁場での応答性が悪くなる。飽和磁化は高い方が窒化ホウ素粒子の磁場応答性がよくなるので好ましいが、７０ｅｍｕ／ｇより高いγ－Ｆｅ２Ｏ３粒子またはＦｅ３Ｏ４ナノ粒子を作製することは難しい。
【0034】
平均粒子径が１０～３０ｎｍの範囲にあるＦｅ３Ｏ４ナノ粒子は、当業者ではよく用いられている鉄（ＩＩ）塩と鉄（ＩＩＩ）塩を混合してｐＨ調整をする湿式合成法で合成できる。γ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子は、Ｆｅ３Ｏ４ナノ粒子の酸性水分散液を９０～１００℃に加熱して空気を吹き込んで酸化する方法で合成できる。
【0035】
〈磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の作製〉
磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の作製方法は、次のような方法で作製することができる。Ｆｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子水分散液（ｐＨ５～７）に前記酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子粉末を加えて、撹拌または振盪により均一に混合する。こうした工程でＦｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子水分散液に酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子粉末を混合していくと、次第に沈殿が生じて上澄み（酸化鉄ナノ粒子を含む水層）の色が薄くなっていく。最終的に上澄みは無色透明となる。これは、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子へのＦｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子の付着が起こっているためである。なお、Ｆｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子水分散液への酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子粉末の添加は、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子が過剰になってＦｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子付着量の少ない酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子が生じないように、上澄みに着色が残る段階で添加を終了することが好ましい。この上澄みの着色の程度は、紫外可視吸収スペクトルのピーク強度を用いて決定することができ、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子添加の終点は、上澄みのピーク強度が添加前のＦｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子分散液のピーク強度の１／１０程度になった時点が好ましい。
磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の作製方法は、次のような方法で作製することができる。Ｆｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子水分散液（ｐＨ５～７）に前記酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子粉末を加えて、撹拌または振盪により均一に混合する。こうした工程でＦｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子水分散液に酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子粉末を混合していくと、次第に沈殿が生じて上澄み（酸化鉄ナノ粒子を含む水層）の色が薄くなっていく。最終的に上澄みは無色透明となる。これは、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子へのＦｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子の付着が起こっているためである。なお、Ｆｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子水分散液への酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子粉末の添加は、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子が過剰になってＦｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子付着量の少ない酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子が生じないように、上澄みに着色が残る段階で添加を終了することが好ましい。この上澄みの着色の程度は、紫外可視吸収スペクトルのピーク強度を用いて決定することができ、酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子添加の終点は、上澄みのピーク強度が添加前のＦｅ３Ｏ４ナノ粒子またはγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子分散液のピーク強度の１／１０程度になった時点が好ましい。
【0036】
最後に磁性粒子と酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子を分散液から濾別または遠心沈降によって回収し、室温乾燥または必要に応じて５０～７０℃程度で加熱乾燥することにより、本発明の磁場応答性六方晶窒化ホウ素を粉体として得ることができる。
【0037】
本発明の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子は、磁性粒子としてγ－Ｆｅ２Ｏ３ナノ粒子またはＦｅ３Ｏ４ナノ粒子を用いた場合、粒子表面に存在する磁性粒子中の鉄原子の性質を利用して、鉄原子に結合しやすい官能基を持つ酸化グラフェン、部分還元された酸化グラフェン、またはカルボキシル基などの酸性基を有する高分子化合物を粒子表面に吸着させることができる。これにより、例えば、酸化グラフェンが吸着すると粒子表面が酸化グラフェンで覆われるので、磁性粒子が外れにくくなる、樹脂との親和性が向上するなどの利点が得られる。高分子化合物の吸着では、粒子表面が疎水化され、樹脂との親和性も向上するなどの利点が得られる。
【0038】
吸着量は特に限定されないが、吸着によって得られる利点を最大化するためには、飽和吸着量が好ましい。酸化グラフェンや部分還元された酸化グラフェンの吸着処理は、これらの水分散液に磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子粉末を加えて撹拌または振盪により均一混合する工程を上澄みにやや着色が残るまで実施し、次いで粒子を濾別または遠心沈降によって回収し、室温乾燥または必要に応じて５０～７０℃程度で加熱乾燥することで実施できる。カルボキシル基などの酸性基を有する高分子化合物の吸着処理は、０．５～１．０重量部の高分子化合物を含む有機溶媒溶液に磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子粉末１．０重量部を加えて撹拌または振盪して均一混合した後、粒子を濾別または遠心沈降によって回収する工程と未吸着高分子化合物を洗浄除去する工程を繰り返した後、室温乾燥または必要に応じて５０～７０℃程度で加熱乾燥することで実施できる。
【0039】
〈シート状樹脂組成物〉
本発明のシート状樹脂組成物は、シート表面のＸ線回折測定における六方晶窒化ホウ素の（１００）面のピーク強度（Ｉ（１００））と（００２）面のピーク強度（Ｉ（００２））の比（＝Ｉ（１００）／Ｉ（００２））を配向度とした時の値が、０．７以上、好ましくは０．８以上、より好ましくは１以上である六方晶窒化ホウ素を８～５５体積％、好ましくは１０～５０体積％、より好ましくは１２～４５体積％含む。配向度の値が０．７より小さいと六方晶窒化ホウ素の配向が弱いため配向による物性向上効果が得られにくい。上限は特に設定されないが、実験的には１５くらいである。また、六方晶窒化ホウ素含有量が８体積％より少ないと配向による物性向上効果が得られない。５５体積％より多い量は、本発明が採用する作製方法では困難である。シート状樹脂組成物の厚さと大きさと形状は特に限定されないが、厚さは１～５０００μｍ、好ましくは５～４０００μｍ、より好ましくは１０～３０００μｍの範囲が実用的である。
本発明のシート状樹脂組成物は、シート表面のＸ線回折測定における六方晶窒化ホウ素の（１００）面のピーク強度（Ｉ（１００））と（００２）面のピーク強度（Ｉ（００２））の比（＝Ｉ（１００）／Ｉ（００２））を配向度とした時の値が、０．７以上、好ましくは０．８以上、より好ましくは１以上である六方晶窒化ホウ素を８～５５体積％、好ましくは１０～５０体積％、より好ましくは１２～４５体積％含む。配向度の値が０．７より小さいと六方晶窒化ホウ素の配向が弱いため配向による物性向上効果が得られにくい。上限は特に設定されないが、実験的には１５くらいである。また、六方晶窒化ホウ素含有量が８体積％より少ないと配向による物性向上効果が得られない。５５体積％より多い量は、本発明が採用する作製方法では困難である。シート状樹脂組成物の厚さと大きさと形状は特に限定されないが、厚さは１～５０００μｍ、好ましくは５～４０００μｍ、より好ましくは１０～３０００μｍの範囲が実用的である。
【0040】
このようなシート状樹脂組成物は、磁場応答性六方晶窒化ホウ素と硬化性液状樹脂を混合した後、磁場下に静置して硬化させる方法、あるいは磁場応答性六方晶窒化ホウ素粉末を容器に入れて磁場配向させながら充填した後、磁場下で硬化性液状樹脂を六方晶窒化ホウ素充填層に含浸させて硬化させる方法、のいずれでも作製できるが、粘度の高い液状樹脂が磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の充填と配向を邪魔しない点、液状樹脂の希釈溶剤を使用しなくてよい点から後者が好ましい。
【0041】
磁場応答性六方晶窒化ホウ素と硬化性液状樹脂を混合した後、磁場下に静置して硬化させる方法は、従来から行われている方法で行うことができる。しかし、磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の濃度を高くすると磁場配向性が低下するという課題がある。
【0042】
次に、磁場応答性六方晶窒化ホウ素粉末を容器に入れて磁場配向させながら充填した後、磁場下で硬化性液状樹脂を六方晶窒化ホウ素充填層に含浸させて硬化させる方法について説明する。
磁場応答性六方晶窒化ホウ素粉末を磁場配向させながら充填する方法としては、簡単には、シート材の大きさに合わせた平容器に磁場応答性六方晶窒化ホウ素粉末を入れ、これを容器に垂直な方向の磁場下に置いてから容器に振動を加えて充填することで実施できる。なお、振動の強さと回数は、予め充填実験をして決めることができる。
磁場応答性六方晶窒化ホウ素粉末を磁場配向させながら充填する方法としては、簡単には、シート材の大きさに合わせた平容器に磁場応答性六方晶窒化ホウ素粉末を入れ、これを容器に垂直な方向の磁場下に置いてから容器に振動を加えて充填することで実施できる。なお、振動の強さと回数は、予め充填実験をして決めることができる。
【0043】
磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の配向に必要な磁場は、０．２～３テスラ、好ましくは０．３～２テスラ、より好ましくは０．４～１テスラの静磁場である。０．２テスラより小さいと、十分に配向させることができない。３テスラより大きな磁場は必要ない。必要に応じて回転磁場などを用いることもできる。
【0044】
用いることのできる硬化性液状樹脂としては、湿気、光、熱などの一般的な手段によって硬化可能でかつ粘度（加熱時も含む）が、１～１５０ｍＰａ・ｓ、好ましくは２～１００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは３～５０ｍＰａ・ｓであれば種類は限定されない。粘度が１ｍＰａ・ｓ未満の液状樹脂は一般的に入手が困難である。１５０ｍＰａ・ｓより大きいと充填した六方晶窒化ホウ素充填層にしみ込みにくくなる。このような液状樹脂としては、湿気硬化型シリコーン、付加硬化型シリコーン、液状エポキシ化合物（＋硬化剤、必要に応じて２エチルヘキシルグリシジルエーテルのような反応性希釈剤を用いることもできる）、液晶性エポキシ化合物（＋硬化剤）、アクリルモノマー、アクリルマクロマー、ポリイソシアネート（＋硬化剤）などを挙げることができる。これらの中で液晶性エポキシ化合物は、それ自体の熱伝導性や磁場配向性が高いことから好ましい。
【0045】
硬化性液状樹脂の含浸量は、六方晶窒化ホウ素充填層の空隙率から算出される体積と等量が好ましい。凡その目安としては、六方晶窒化ホウ素充填層上部が、液体でやや光沢を帯びる程度でよい。液状樹脂を含浸させる方法としては、注射器等を用いて静かに注入する方法、上部から液状樹脂を噴霧する方法など可能であるが、六方晶窒化ホウ素層の配向を乱さない方法であれば特に限定されない。
【0046】
磁場下で所定の条件で硬化後、硬化物を容器から取り出してシート状試料の両面を必要に応じて研磨して、シート材とすることができる。
【0047】
シート材には、磁場配向性六方晶窒化ホウ素粒子の配向を乱さない範囲で他粒子（アルミナ、酸化亜鉛、窒化アルミニウム、酸化マグネシウムなど）を併用することができる。
【実施例0048】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例には限定されない。
【0049】
（酸化グラフェン水分散液の作製）
温度計、マグネティックスターラーをセットした１０００ｍｌ三口フラスコに日本黒鉛製グラファイトＵＰ２０ ２．５ｇ、硝酸ナトリウム２．０ｇおよび濃硫酸９０ｍｌを仕込み、アイスバスで冷却しながら過マンガン酸カリウム１１．０ｇをゆっくりと加えた。加え終わったのち、室温まで戻して約９６時間撹拌した。
温度計、マグネティックスターラーをセットした１０００ｍｌ三口フラスコに日本黒鉛製グラファイトＵＰ２０ ２．５ｇ、硝酸ナトリウム２．０ｇおよび濃硫酸９０ｍｌを仕込み、アイスバスで冷却しながら過マンガン酸カリウム１１．０ｇをゆっくりと加えた。加え終わったのち、室温まで戻して約９６時間撹拌した。
【0050】
反応液をアイスバスで冷却し、５％硫酸水溶液２００ｍｌをゆっくりと加え、さらに３０％過酸化水素水５０ｍｌを加えて１時間攪拌した。次いで、過酸化水素濃度０．５％および硫酸濃度３％となるように調整した混合液２５０ｍｌで希釈して、室温で２４時間攪拌した。
次に、酸化したグラファイトを遠心沈降させた。沈殿物を再び０．５％の過酸化水素との３％の硫酸を含む混合液２００ｍｌに分散させ、再び遠心沈降させた。次いで、遠心沈降物を０．５％の過酸化水素と３％の硫酸を含む混合液１５０ｍｌに分散させ、これを透析チューブに入れてイオン交換水に漬け、イオン交換水を交換しながら７日間透析を行った。
透析処理後、透析液を超音波洗浄機に入れて８時間超音波照射処理した後、遠心分離することにより上澄みを取りだし、濃度０．２４重量％の酸化グラフェン水分散液を得た。分散液０．１０ｇを蒸留水１５ｍｌで希釈して紫外可視吸収スペクトルを測定したところ、最大吸収ピーク位置は２２７ｎｍであった。分散液から調製した試料をＳＴＥＭ観察し、ＳＴＥＭ像から酸化グラフェンの面積を計測し、その面積から個々の酸化グラフェンの面積円相当径を算出した。その結果、面積円相当径の平均値は８．１３μｍ（変動係数０．７７）であった。
次に、酸化したグラファイトを遠心沈降させた。沈殿物を再び０．５％の過酸化水素との３％の硫酸を含む混合液２００ｍｌに分散させ、再び遠心沈降させた。次いで、遠心沈降物を０．５％の過酸化水素と３％の硫酸を含む混合液１５０ｍｌに分散させ、これを透析チューブに入れてイオン交換水に漬け、イオン交換水を交換しながら７日間透析を行った。
透析処理後、透析液を超音波洗浄機に入れて８時間超音波照射処理した後、遠心分離することにより上澄みを取りだし、濃度０．２４重量％の酸化グラフェン水分散液を得た。分散液０．１０ｇを蒸留水１５ｍｌで希釈して紫外可視吸収スペクトルを測定したところ、最大吸収ピーク位置は２２７ｎｍであった。分散液から調製した試料をＳＴＥＭ観察し、ＳＴＥＭ像から酸化グラフェンの面積を計測し、その面積から個々の酸化グラフェンの面積円相当径を算出した。その結果、面積円相当径の平均値は８．１３μｍ（変動係数０．７７）であった。
【0051】
（部分還元された酸化グラフェン水分散液の作製）
続いて、０．２４重量％の酸化グラフェン水分散液１００ｍｌにアスコルビン酸０．０２ｇを加えて９０℃で３０分間還元処理を行った。処理液を室温まで冷却後、透析チューブに入れてイオン交換水に漬け、イオン交換水を交換しながら７日間透析を行った。透析処理後、透析液を超音波洗浄機に入れて３０分間超音波照射処理して濃度０．１９重量％の部分還元された酸化グラフェンの水分散液を得た。
次に分散液を蒸留水で希釈してシリコン板に塗布し、原子間力顕微鏡（使用装置：Ａｓｙｌｕｍ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ＭＦＰ－３Ｄ Ｉｎｆｉｎｉｔｙ）で観察したところ、部分還元された酸化グラフェンはほぼ単層であることが分かった。同じサンプルをＳＴＥＭ観察して、得られた顕微鏡像から面積円相当径を算出したところ、面積円相当径平均値８．１５μｍ（変動係数０．７７）であった。分散液０．１６ｇを蒸留水１５ｍｌで希釈して紫外可視吸収スペクトルを測定したところ、２４０ｎｍに吸収ピークが観測された。
続いて、０．２４重量％の酸化グラフェン水分散液１００ｍｌにアスコルビン酸０．０２ｇを加えて９０℃で３０分間還元処理を行った。処理液を室温まで冷却後、透析チューブに入れてイオン交換水に漬け、イオン交換水を交換しながら７日間透析を行った。透析処理後、透析液を超音波洗浄機に入れて３０分間超音波照射処理して濃度０．１９重量％の部分還元された酸化グラフェンの水分散液を得た。
次に分散液を蒸留水で希釈してシリコン板に塗布し、原子間力顕微鏡（使用装置：Ａｓｙｌｕｍ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ＭＦＰ－３Ｄ Ｉｎｆｉｎｉｔｙ）で観察したところ、部分還元された酸化グラフェンはほぼ単層であることが分かった。同じサンプルをＳＴＥＭ観察して、得られた顕微鏡像から面積円相当径を算出したところ、面積円相当径平均値８．１５μｍ（変動係数０．７７）であった。分散液０．１６ｇを蒸留水１５ｍｌで希釈して紫外可視吸収スペクトルを測定したところ、２４０ｎｍに吸収ピークが観測された。
【0052】
（磁性粒子（γ－Ｆｅ２Ｏ３）分散液の作製）
予め窒素ガスをバブリングした精製水２５ｍｌに０．８５ｍｌの１２Ｎ ＨＣｌを溶解させ、これに塩化鉄（ＩＩＩ）６水和物５．２ｇと塩化鉄（ＩＩ）４水和物２．０ｇを溶解させた。次いで、得られた溶液をマグネチックスターラーで激しく撹拌する１．５Ｍ ＮａＯＨ２５０ｍｌに滴下して黒色沈殿を得た。この黒色沈殿を遠心分離を用いて窒素ガスをバブリングした精製水２５０ｍｌで洗浄し、最後に０．０１Ｎ ＨＣｌ３００ｍｌに再分散させてＦｅ３Ｏ４分散液を得た。
次に０．１Ｎ ＨＣｌでＦｅ３Ｏ４分散液のｐＨを５にして１００℃に加温し、撹拌しながら空気を３０分間バブリングした。得られた赤褐色液を室温に冷却して磁性粒子（γ－Ｆｅ２Ｏ３）分散液を得た。この分散液０．０３ｍｌを蒸留水１ｍｌで希釈してサンプリングし、走査型電子顕微鏡で観察したところ、１０～３０ｎｍの範囲に粒子径分布を持つ（平均粒子径２１ｎｍ）粒子が観察された。磁性粒子の飽和磁化は４２ｅｍｕ／ｇであった。
予め窒素ガスをバブリングした精製水２５ｍｌに０．８５ｍｌの１２Ｎ ＨＣｌを溶解させ、これに塩化鉄（ＩＩＩ）６水和物５．２ｇと塩化鉄（ＩＩ）４水和物２．０ｇを溶解させた。次いで、得られた溶液をマグネチックスターラーで激しく撹拌する１．５Ｍ ＮａＯＨ２５０ｍｌに滴下して黒色沈殿を得た。この黒色沈殿を遠心分離を用いて窒素ガスをバブリングした精製水２５０ｍｌで洗浄し、最後に０．０１Ｎ ＨＣｌ３００ｍｌに再分散させてＦｅ３Ｏ４分散液を得た。
次に０．１Ｎ ＨＣｌでＦｅ３Ｏ４分散液のｐＨを５にして１００℃に加温し、撹拌しながら空気を３０分間バブリングした。得られた赤褐色液を室温に冷却して磁性粒子（γ－Ｆｅ２Ｏ３）分散液を得た。この分散液０．０３ｍｌを蒸留水１ｍｌで希釈してサンプリングし、走査型電子顕微鏡で観察したところ、１０～３０ｎｍの範囲に粒子径分布を持つ（平均粒子径２１ｎｍ）粒子が観察された。磁性粒子の飽和磁化は４２ｅｍｕ／ｇであった。
【0053】
〔実施例１〕
（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素の作製）
５０ｍｌネジ口瓶中で前記の部分還元された酸化グラフェン分散液０．２１１ｇを蒸留水で１５ｍｌに希釈し、紫外可視吸収スペクトルを測定した。次いで、この希釈液にＡＲ ＢＲＯＷＮ製鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子ＨＳＬ（Ｄ５０平均粒子径３０μｍ、カタログ記載嵩密度０．６ｇ／ｃｍ３）を約０．０１ｇ加えて１分間振盪し、静置した。この作業を繰り返し、添加量０．２０１ｇの時点で上澄みの吸収が元の１／１０になったので添加を終了した。次いで、沈殿を濾別して蒸留水１００ｍｌ、メタノール１００ｍｌで洗浄後、６０℃で８時間乾燥して薄灰色の粉末（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬ）得た。この時点で使用した部分還元された酸化グラフェンがすべてＨＳＬに付着したとすると、部分還元された酸化グラフェン吸着層の量は０．２０重量％と算出される。さらに、部分還元された酸化グラフェン吸着層の量を正確に把握するため、炭素・硫黄分析装置（ＬＥＣＯ社製ＣＳ８４４型）を用いた炭素の定量分析（助燃剤：ＷとＬＥＣＯ社製ＬＥＣＯＣＥＬ（登録商標）ＩＩ）により部分還元された酸化グラフェン吸着層の量を分析したところ、０．２１重量％（３回測定の平均値）であり、実験値とよく一致した。また、部分還元された酸化グラフェン吸着層の量はＨＳＬ（比表面積１．５ｍ２／ｇで計算）の単位表面積あたり、１．３×１０－７ｇ／ｃｍ２となる。
（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素の作製）
５０ｍｌネジ口瓶中で前記の部分還元された酸化グラフェン分散液０．２１１ｇを蒸留水で１５ｍｌに希釈し、紫外可視吸収スペクトルを測定した。次いで、この希釈液にＡＲ ＢＲＯＷＮ製鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子ＨＳＬ（Ｄ５０平均粒子径３０μｍ、カタログ記載嵩密度０．６ｇ／ｃｍ３）を約０．０１ｇ加えて１分間振盪し、静置した。この作業を繰り返し、添加量０．２０１ｇの時点で上澄みの吸収が元の１／１０になったので添加を終了した。次いで、沈殿を濾別して蒸留水１００ｍｌ、メタノール１００ｍｌで洗浄後、６０℃で８時間乾燥して薄灰色の粉末（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬ）得た。この時点で使用した部分還元された酸化グラフェンがすべてＨＳＬに付着したとすると、部分還元された酸化グラフェン吸着層の量は０．２０重量％と算出される。さらに、部分還元された酸化グラフェン吸着層の量を正確に把握するため、炭素・硫黄分析装置（ＬＥＣＯ社製ＣＳ８４４型）を用いた炭素の定量分析（助燃剤：ＷとＬＥＣＯ社製ＬＥＣＯＣＥＬ（登録商標）ＩＩ）により部分還元された酸化グラフェン吸着層の量を分析したところ、０．２１重量％（３回測定の平均値）であり、実験値とよく一致した。また、部分還元された酸化グラフェン吸着層の量はＨＳＬ（比表面積１．５ｍ２／ｇで計算）の単位表面積あたり、１．３×１０－７ｇ／ｃｍ２となる。
【0054】
部分還元された酸化グラフェン吸着層の分布状況についてオージェ電子分光分析（使用装置：ＵＬＶＡＣ ＰＨＩ ７００）を用いて炭素とホウ素のマッピングを行って解析したころ、１粒子において炭素が多く分布するところではホウ素は少なく、逆にホウ素が多く分布する所では炭素が少なかった。そして、炭素は粒子の（０００１）面のほぼ全面と側面の一部に分布していた。炭素は部分還元された酸化グラフェンに由来するので、部分還元された酸化グラフェンは粒子のかなりの部分に付着していると考えられる。合計１０個の粒子を分析し、すべて同じ傾向であった。
【0055】
（磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の作製）
続いて、前記磁性粒子分散液（粒子濃度０．５９ｗ％）０．５０１ｇを蒸留水５０ｍｌで希釈し、これに前記部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬ粉を約０．１ｇ加えて激しく振盪して混合した。この操作を繰り返し、部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬを０．４９８ｇ加えた時点で上澄みの吸収が元のおよそ１／１０になったので添加を終了した。この段階で部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬに付着したγ－Ｆｅ２Ｏ３はおよそ０．００２９ｇ（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬの０．６ｗ％）と推測される。次いで、液を静置して粒子を沈殿させ、上澄みを除いて沈殿を蒸留水に再分散させ、再度静置した。この時、上澄みの着色が殆どないことを確認した。次に、沈殿をエタノールに再分散させて静置した。この時も上澄みの着色が殆どないことを確認した。エタノール分散液から粒子を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させた（磁場応答性ＨＳＬ）。乾燥粉を酸分解後ＩＣＰ発光分光分析法（分析装置：バリアンテクノロジーズジャパンリミテッド製 ７３０－ＥＳ）で鉄含有量の分析したところ、０．７６ｗ％のＦｅ２Ｏ３が含まれていることがわかった。飽和磁化は０．２８ｅｍｕ／ｇであった。電界放出形走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）で粒子を観察したところ、殆どの磁性粒子が一次粒子で存在し、その中に凝集粒子と思われる大きな粒子が存在している様子が観察された（図１）。
続いて、前記磁性粒子分散液（粒子濃度０．５９ｗ％）０．５０１ｇを蒸留水５０ｍｌで希釈し、これに前記部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬ粉を約０．１ｇ加えて激しく振盪して混合した。この操作を繰り返し、部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬを０．４９８ｇ加えた時点で上澄みの吸収が元のおよそ１／１０になったので添加を終了した。この段階で部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬに付着したγ－Ｆｅ２Ｏ３はおよそ０．００２９ｇ（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬの０．６ｗ％）と推測される。次いで、液を静置して粒子を沈殿させ、上澄みを除いて沈殿を蒸留水に再分散させ、再度静置した。この時、上澄みの着色が殆どないことを確認した。次に、沈殿をエタノールに再分散させて静置した。この時も上澄みの着色が殆どないことを確認した。エタノール分散液から粒子を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させた（磁場応答性ＨＳＬ）。乾燥粉を酸分解後ＩＣＰ発光分光分析法（分析装置：バリアンテクノロジーズジャパンリミテッド製 ７３０－ＥＳ）で鉄含有量の分析したところ、０．７６ｗ％のＦｅ２Ｏ３が含まれていることがわかった。飽和磁化は０．２８ｅｍｕ／ｇであった。電界放出形走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）で粒子を観察したところ、殆どの磁性粒子が一次粒子で存在し、その中に凝集粒子と思われる大きな粒子が存在している様子が観察された（図１）。
【0056】
（タップ密度の測定）
前記磁場応答性ＨＳＬ（Ｄ５０平均粒子径３０μｍ、カタログ記載嵩密度０．６ｇ／ｃｍ３）のタップ密度をＪＩＳ Ｒ １６２８：１９９７定質量測定法に従って測定したところ、０．６８ｇ／ｃｍ３であった。
前記磁場応答性ＨＳＬ（Ｄ５０平均粒子径３０μｍ、カタログ記載嵩密度０．６ｇ／ｃｍ３）のタップ密度をＪＩＳ Ｒ １６２８：１９９７定質量測定法に従って測定したところ、０．６８ｇ／ｃｍ３であった。
【0057】
〔実施例２〕
（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子の作製）
５０ｍｌネジ口瓶中で前記の部分還元された酸化グラフェン分散液０．１６４ｇを蒸留水で１５ｍｌに希釈した。次いで、この希釈液に昭和電工製鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子ショウビーエヌ（登録商標）ＵＨＰ－２（Ｄ５０平均粒子径１１μｍ、カタログ記載かさ密度（振動）０．３ｇ／ｃｍ３）を約０．０１ｇ加えて１分間振盪し、静置した。この作業を繰り返し、添加量０．０５１ｇの時点で上澄みの吸収が元の１／１０になったので添加を終了した。次いで、沈殿を濾別して蒸留水１００ｍｌ、メタノール１００ｍｌで洗浄後、６０℃で８時間乾燥して薄灰色の粉末（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２）得た。この時点で使用した部分還元された酸化グラフェンがすべてＵＨＰ－２に付着したとすると、部分還元された酸化グラフェン吸着層の量は０．６１重量％と算出される。これはＵＨＰ－２（比表面積４ｍ２／ｇで計算）の単位表面積あたり、１．６×１０－７ｇ／ｃｍ２となる。
（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子の作製）
５０ｍｌネジ口瓶中で前記の部分還元された酸化グラフェン分散液０．１６４ｇを蒸留水で１５ｍｌに希釈した。次いで、この希釈液に昭和電工製鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子ショウビーエヌ（登録商標）ＵＨＰ－２（Ｄ５０平均粒子径１１μｍ、カタログ記載かさ密度（振動）０．３ｇ／ｃｍ３）を約０．０１ｇ加えて１分間振盪し、静置した。この作業を繰り返し、添加量０．０５１ｇの時点で上澄みの吸収が元の１／１０になったので添加を終了した。次いで、沈殿を濾別して蒸留水１００ｍｌ、メタノール１００ｍｌで洗浄後、６０℃で８時間乾燥して薄灰色の粉末（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２）得た。この時点で使用した部分還元された酸化グラフェンがすべてＵＨＰ－２に付着したとすると、部分還元された酸化グラフェン吸着層の量は０．６１重量％と算出される。これはＵＨＰ－２（比表面積４ｍ２／ｇで計算）の単位表面積あたり、１．６×１０－７ｇ／ｃｍ２となる。
【0058】
（磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の作製）
続いて、前記磁性粒子分散液（粒子濃度０．５９ｗ％）０．４９５ｇを蒸留水５０ｍｌで希釈し、これに前記部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２粉を約０．１ｇ加えて激しく振盪して混合した。この操作を繰り返し、部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２を０．２９７ｇ加えた時点で上澄みの吸収が元のおよそ１／１０になったので添加を終了した。この段階で部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２に付着したγ－Ｆｅ２Ｏ３はおよそ０．００２８ｇ（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２の０．９７ｗ％）と推測される。次いで、液を静置して粒子を沈殿させた後、上澄みを除いて沈殿を蒸留水に再分散させ、再度静置した。この時、上澄みの着色が殆どないことを確認した。次に、沈殿をエタノールに再分散させて静置した。この時も上澄みの着色が殆どないことを確認した。エタノール分散液から粒子を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させた（磁場応答性ＵＨＰ－２）。乾燥粉を酸分解後ＩＣＰ発光分光分析法（分析装置：バリアンテクノロジーズジャパンリミテッド製７３０－ＥＳ）で鉄含有量の分析したところ、１．０５ｗ％のＦｅ２Ｏ３が含まれていることがわかった。飽和磁化は０．９１ｅｍｕ／ｇであった。
続いて、前記磁性粒子分散液（粒子濃度０．５９ｗ％）０．４９５ｇを蒸留水５０ｍｌで希釈し、これに前記部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２粉を約０．１ｇ加えて激しく振盪して混合した。この操作を繰り返し、部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２を０．２９７ｇ加えた時点で上澄みの吸収が元のおよそ１／１０になったので添加を終了した。この段階で部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２に付着したγ－Ｆｅ２Ｏ３はおよそ０．００２８ｇ（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２の０．９７ｗ％）と推測される。次いで、液を静置して粒子を沈殿させた後、上澄みを除いて沈殿を蒸留水に再分散させ、再度静置した。この時、上澄みの着色が殆どないことを確認した。次に、沈殿をエタノールに再分散させて静置した。この時も上澄みの着色が殆どないことを確認した。エタノール分散液から粒子を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させた（磁場応答性ＵＨＰ－２）。乾燥粉を酸分解後ＩＣＰ発光分光分析法（分析装置：バリアンテクノロジーズジャパンリミテッド製７３０－ＥＳ）で鉄含有量の分析したところ、１．０５ｗ％のＦｅ２Ｏ３が含まれていることがわかった。飽和磁化は０．９１ｅｍｕ／ｇであった。
【0059】
（タップ密度の測定）
前記磁場応答性ＵＨＰ－２のタップ密度をＪＩＳ Ｒ １６２８：１９９７定質量測定法に従って測定したところ、０．４５ｇ／ｃｍ３であった。
前記磁場応答性ＵＨＰ－２のタップ密度をＪＩＳ Ｒ １６２８：１９９７定質量測定法に従って測定したところ、０．４５ｇ／ｃｍ３であった。
【0060】
〔実施例３〕
（酸化グラフェン吸着層を有する鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子の作製）
５０ｍｌネジ口瓶中で前記の酸化グラフェン分散液（濃度０．２４重量％）０．１７２ｇを蒸留水で１５ｍｌに希釈した。次いで、この希釈液に昭和電工製鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子ショウビーエヌ（登録商標）ＵＨＰ－２（Ｄ５０平均粒子径１１μｍ、カタログ記載かさ密度（振動）０．３ｇ／ｃｍ３）を約０．０５ｇ加えて１分間振盪し、静置した。この作業を繰り返し、添加量０．１２９ｇの時点で上澄みの吸収が元の１／１０になったので添加を終了した。次いで、沈殿を濾別して蒸留水１００ｍｌ、メタノール１００ｍｌで洗浄後、６０℃で８時間乾燥して薄灰色の粉末（酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２）得た。この時点で使用した酸化グラフェンがすべてＵＨＰ－２に付着したとすると、酸化グラフェン吸着層の量は０．１８重量％と算出される。
（10/11 ここまでチェック）
（酸化グラフェン吸着層を有する鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子の作製）
５０ｍｌネジ口瓶中で前記の酸化グラフェン分散液（濃度０．２４重量％）０．１７２ｇを蒸留水で１５ｍｌに希釈した。次いで、この希釈液に昭和電工製鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子ショウビーエヌ（登録商標）ＵＨＰ－２（Ｄ５０平均粒子径１１μｍ、カタログ記載かさ密度（振動）０．３ｇ／ｃｍ３）を約０．０５ｇ加えて１分間振盪し、静置した。この作業を繰り返し、添加量０．１２９ｇの時点で上澄みの吸収が元の１／１０になったので添加を終了した。次いで、沈殿を濾別して蒸留水１００ｍｌ、メタノール１００ｍｌで洗浄後、６０℃で８時間乾燥して薄灰色の粉末（酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２）得た。この時点で使用した酸化グラフェンがすべてＵＨＰ－２に付着したとすると、酸化グラフェン吸着層の量は０．１８重量％と算出される。
（10/11 ここまでチェック）
【0061】
（磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の作製）
続いて、前記磁性粒子分散液（粒子濃度０．５９ｗ％）０．１６９ｇを蒸留水３０ｍｌで希釈し、これに前記部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２粉を約０．１ｇ加えて激しく振盪して混合した。この操作を繰り返し、酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２を０．３４５ｇ加えた時点で上澄みの吸収が元のおよそ１／１０になったので添加を終了した。この段階で酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２に付着したγ－Ｆｅ２Ｏ３はおよそ０．００１ｇ（酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２の０．２９ｗ％）と推測される。次いで、液を静置して粒子を沈殿させた後、上澄みを除いて沈殿を蒸留水に再分散させ、再度静置した。この時、上澄みの着色が殆どないことを確認した。次に、沈殿をエタノールに再分散させて静置した。この時も上澄みの着色が殆どないことを確認した。エタノール分散液から粒子を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させた（磁場応答性ＵＨＰ－２II）。
続いて、前記磁性粒子分散液（粒子濃度０．５９ｗ％）０．１６９ｇを蒸留水３０ｍｌで希釈し、これに前記部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２粉を約０．１ｇ加えて激しく振盪して混合した。この操作を繰り返し、酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２を０．３４５ｇ加えた時点で上澄みの吸収が元のおよそ１／１０になったので添加を終了した。この段階で酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２に付着したγ－Ｆｅ２Ｏ３はおよそ０．００１ｇ（酸化グラフェン吸着層を有するＵＨＰ－２の０．２９ｗ％）と推測される。次いで、液を静置して粒子を沈殿させた後、上澄みを除いて沈殿を蒸留水に再分散させ、再度静置した。この時、上澄みの着色が殆どないことを確認した。次に、沈殿をエタノールに再分散させて静置した。この時も上澄みの着色が殆どないことを確認した。エタノール分散液から粒子を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させた（磁場応答性ＵＨＰ－２II）。
【0062】
〔実施例４〕
（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子の作製）
５０ｍｌネジ口瓶中で前記の部分還元された酸化グラフェン分散液０．２８２ｇを蒸留水で１５ｍｌに希釈し、紫外可視吸収スペクトルを測定した。次いで、この希釈液にデンカ製鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子ＳＧＰ（Ｄ５０平均粒子径１８μｍ、カタログ記載密度０．８ｇ／ｃｍ３）を約０．０１ｇ加えて１分間振盪し、静置した。この作業を繰り返し、添加量０．２３３ｇの時点で上澄みの吸収が元の１／１０になったので添加を終了した。次いで、沈殿を濾別して蒸留水１００ｍｌ、メタノール１００ｍｌで洗浄後、６０℃で８時間乾燥して薄灰色の粉末（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＳＧＰ）得た。この時点で使用した部分還元された酸化グラフェンがすべてＳＧＰに付着したとすると、部分還元された酸化グラフェン吸着層の量は０．２３重量％と算出される。これはＳＧＰ（比表面積２ｍ２／ｇで計算）の単位表面積あたり、１．１×１０－７ｇ／ｃｍ２となる。
（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有する六方晶窒化ホウ素粒子の作製）
５０ｍｌネジ口瓶中で前記の部分還元された酸化グラフェン分散液０．２８２ｇを蒸留水で１５ｍｌに希釈し、紫外可視吸収スペクトルを測定した。次いで、この希釈液にデンカ製鱗片状六方晶窒化ホウ素粒子ＳＧＰ（Ｄ５０平均粒子径１８μｍ、カタログ記載密度０．８ｇ／ｃｍ３）を約０．０１ｇ加えて１分間振盪し、静置した。この作業を繰り返し、添加量０．２３３ｇの時点で上澄みの吸収が元の１／１０になったので添加を終了した。次いで、沈殿を濾別して蒸留水１００ｍｌ、メタノール１００ｍｌで洗浄後、６０℃で８時間乾燥して薄灰色の粉末（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＳＧＰ）得た。この時点で使用した部分還元された酸化グラフェンがすべてＳＧＰに付着したとすると、部分還元された酸化グラフェン吸着層の量は０．２３重量％と算出される。これはＳＧＰ（比表面積２ｍ２／ｇで計算）の単位表面積あたり、１．１×１０－７ｇ／ｃｍ２となる。
【0063】
（磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の作製）
続いて、前記磁性粒子分散液（粒子濃度０．５９ｗ％）０．５０３ｇを蒸留水５０ｍｌで希釈し、これに前記部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＳＧＰ粉を約０．１ｇ加えて激しく振盪して混合した。この操作を繰り返し、部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＳＧＰを０．５９２ｇ加えた時点で上澄みの吸収が元のおよそ１／１０になったので添加を終了した。この段階で部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＳＧＰに付着したγ－Ｆｅ２Ｏ３はおよそ０．００３０ｇ（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬの０．５ｗ％）と推測される。次いで、液を静置して粒子を沈殿させた後、上澄みを除いて沈殿を蒸留水に再分散させ、再度静置した。この時、上澄みの着色が殆どないことを確認した。次に、沈殿をエタノールに再分散させて静置した。この時も上澄みの着色が殆どないことを確認した。エタノール分散液から粒子を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させた（磁場応答性ＳＧＰ）。乾燥粉を酸分解後ＩＣＰ発光分光分析法（分析装置：バリアンテクノロジーズジャパンリミテッド製７３０－ＥＳ）で鉄含有量の分析したところ、０．６４ｗ％のＦｅ２Ｏ３が含まれていることがわかった。飽和磁化は０．２８ｅｍｕ／ｇであった。
続いて、前記磁性粒子分散液（粒子濃度０．５９ｗ％）０．５０３ｇを蒸留水５０ｍｌで希釈し、これに前記部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＳＧＰ粉を約０．１ｇ加えて激しく振盪して混合した。この操作を繰り返し、部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＳＧＰを０．５９２ｇ加えた時点で上澄みの吸収が元のおよそ１／１０になったので添加を終了した。この段階で部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＳＧＰに付着したγ－Ｆｅ２Ｏ３はおよそ０．００３０ｇ（部分還元された酸化グラフェン吸着層を有するＨＳＬの０．５ｗ％）と推測される。次いで、液を静置して粒子を沈殿させた後、上澄みを除いて沈殿を蒸留水に再分散させ、再度静置した。この時、上澄みの着色が殆どないことを確認した。次に、沈殿をエタノールに再分散させて静置した。この時も上澄みの着色が殆どないことを確認した。エタノール分散液から粒子を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させた（磁場応答性ＳＧＰ）。乾燥粉を酸分解後ＩＣＰ発光分光分析法（分析装置：バリアンテクノロジーズジャパンリミテッド製７３０－ＥＳ）で鉄含有量の分析したところ、０．６４ｗ％のＦｅ２Ｏ３が含まれていることがわかった。飽和磁化は０．２８ｅｍｕ／ｇであった。
【0064】
（タップ密度の測定）
前記磁場応答性ＳＧＰ（Ｄ５０平均粒子径１８μｍ、カタログ記載密度０．８ｇ／ｃｍ３）のタップ密度をＪＩＳ Ｒ １６２８：１９９７定質量測定法に従って測定したところ、０．８７ｇ／ｃｍ３であった。
前記磁場応答性ＳＧＰ（Ｄ５０平均粒子径１８μｍ、カタログ記載密度０．８ｇ／ｃｍ３）のタップ密度をＪＩＳ Ｒ １６２８：１９９７定質量測定法に従って測定したところ、０．８７ｇ／ｃｍ３であった。
【0065】
〔比較例１〕
前記磁性粒子分散液（粒子濃度０．５９ｗ％）０．４９７ｇを蒸留水５０ｍｌで希釈し、これにＡＲ ＢＲＯＷＮ製ＨＳＬ粉を約０．１ｇ加えて激しく振盪して混合した。この操作を繰り返し、ＨＳＬを０．３６７ｇ加えた時点で上澄みの吸収が元のおよそ１／１０になったので添加を終了した。この段階でＨＳＬに付着したγ－Ｆｅ２Ｏ３はおよそ０．００２９ｇ（ＨＳＬの０．８ｗ％）と推測される。次いで、液を静置して粒子を沈殿させた。この時、上澄みが薄茶色に着色（γ－Ｆｅ２Ｏ３の色）していたので上澄みを除いた後、上澄みを除いて沈殿を蒸留水に再分散させ、再度静置した。上澄みの着色はなかったので、沈殿をエタノールに分散させて静置したところ、上澄みがかなり茶色く着色した。上澄みを除いた後、エタノールに再分散して静置する工程を３回繰り返した時点で上澄みの着色はなくなったので、エタノール分散液から粒子を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させて薄茶色の粉を得た。乾燥後、飽和磁化を測定すると０．１５ｅｍｕ／ｇであった。最初の付着処理の段階ではＨＳＬの０．８ｗ％ほど付いていたγ－Ｆｅ２Ｏ３は、エタノール洗浄によりＨＳＬ表面からかなり脱落したものと考えられる。回収した薄茶色粉をＦＥ－ＳＥＭで観察したところ、窒化ホウ素表面に酸化鉄ナノ粒子が～１００ｎｍくらいの凝集塊を形成してまばらに付着していた。
前記磁性粒子分散液（粒子濃度０．５９ｗ％）０．４９７ｇを蒸留水５０ｍｌで希釈し、これにＡＲ ＢＲＯＷＮ製ＨＳＬ粉を約０．１ｇ加えて激しく振盪して混合した。この操作を繰り返し、ＨＳＬを０．３６７ｇ加えた時点で上澄みの吸収が元のおよそ１／１０になったので添加を終了した。この段階でＨＳＬに付着したγ－Ｆｅ２Ｏ３はおよそ０．００２９ｇ（ＨＳＬの０．８ｗ％）と推測される。次いで、液を静置して粒子を沈殿させた。この時、上澄みが薄茶色に着色（γ－Ｆｅ２Ｏ３の色）していたので上澄みを除いた後、上澄みを除いて沈殿を蒸留水に再分散させ、再度静置した。上澄みの着色はなかったので、沈殿をエタノールに分散させて静置したところ、上澄みがかなり茶色く着色した。上澄みを除いた後、エタノールに再分散して静置する工程を３回繰り返した時点で上澄みの着色はなくなったので、エタノール分散液から粒子を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させて薄茶色の粉を得た。乾燥後、飽和磁化を測定すると０．１５ｅｍｕ／ｇであった。最初の付着処理の段階ではＨＳＬの０．８ｗ％ほど付いていたγ－Ｆｅ２Ｏ３は、エタノール洗浄によりＨＳＬ表面からかなり脱落したものと考えられる。回収した薄茶色粉をＦＥ－ＳＥＭで観察したところ、窒化ホウ素表面に酸化鉄ナノ粒子が～１００ｎｍくらいの凝集塊を形成してまばらに付着していた。
【0066】
〔比較例２〕
塩化鉄（ＩＩＩ）６水和物０．５２ｇと塩化鉄（ＩＩ）４水和物０．２０ｇを溶解させた蒸留水５０ｍｌにＡＲ ＢＲＯＷＮ製ＨＳＬ粉５．０ｇを加えて激しく振盪し、ＨＳＬを分散させた。次いで、分散液をマグネチックスターラーで激しく撹拌しながら、１．５Ｍ ＮａＯＨ２５ｍｌを３０分かけて滴下した。生成した黒灰色懸濁液を静置して生成物を沈殿させた。次いで、沈殿を蒸留水に再分散して静置する工程を５回繰り返して計３００ｍｌの蒸留水で洗浄した。洗浄後の沈殿をエタノールに再分散して静置したところ、上澄みが黒褐色に着色してので、上澄みを除いた後、エタノールに再分散して静置する工程を５回繰り返したところ、上澄みの着色はなくなり薄灰色の沈殿となった。この沈殿を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させて白色の粉を得た。エタノール洗浄により酸化鉄が除去され無色のＨＳＬが残ったことより、生成した酸化鉄のＨＳＬ表面への付着は強固なものでなかったと考えられる。
塩化鉄（ＩＩＩ）６水和物０．５２ｇと塩化鉄（ＩＩ）４水和物０．２０ｇを溶解させた蒸留水５０ｍｌにＡＲ ＢＲＯＷＮ製ＨＳＬ粉５．０ｇを加えて激しく振盪し、ＨＳＬを分散させた。次いで、分散液をマグネチックスターラーで激しく撹拌しながら、１．５Ｍ ＮａＯＨ２５ｍｌを３０分かけて滴下した。生成した黒灰色懸濁液を静置して生成物を沈殿させた。次いで、沈殿を蒸留水に再分散して静置する工程を５回繰り返して計３００ｍｌの蒸留水で洗浄した。洗浄後の沈殿をエタノールに再分散して静置したところ、上澄みが黒褐色に着色してので、上澄みを除いた後、エタノールに再分散して静置する工程を５回繰り返したところ、上澄みの着色はなくなり薄灰色の沈殿となった。この沈殿を吸引濾過し、エタノールで洗浄後、６０℃で乾燥させて白色の粉を得た。エタノール洗浄により酸化鉄が除去され無色のＨＳＬが残ったことより、生成した酸化鉄のＨＳＬ表面への付着は強固なものでなかったと考えられる。
【0067】
〔磁場配向確認実施例〕
実施例１で作製した磁場応答性ＨＳＬを５体積％含むシリコーン樹脂（信越シリコーン製ＫＮＳ３２０Ａ＋ＣＡＴ－ＰＬ－５０Ｔ）を０．４テスラの永久磁石に乗せたＰＥＴフィルムに塗布後、８０℃で３０分加熱処理を行い、膜厚約０．５ｍｍのシート状硬化物を得た。次いで、シートのＸ線回折測定（使用機器：Ｒｉｇａｋｕ Ｕｌｔｉｍａ ＩＶ）を行って配向度を調べたところ、磁場下で作製したシート状硬化物中の前記ＨＳＬの配向度は１２であった。
実施例１で作製した磁場応答性ＨＳＬを５体積％含むシリコーン樹脂（信越シリコーン製ＫＮＳ３２０Ａ＋ＣＡＴ－ＰＬ－５０Ｔ）を０．４テスラの永久磁石に乗せたＰＥＴフィルムに塗布後、８０℃で３０分加熱処理を行い、膜厚約０．５ｍｍのシート状硬化物を得た。次いで、シートのＸ線回折測定（使用機器：Ｒｉｇａｋｕ Ｕｌｔｉｍａ ＩＶ）を行って配向度を調べたところ、磁場下で作製したシート状硬化物中の前記ＨＳＬの配向度は１２であった。
【0068】
〔磁場配向確認比較例〕
永久磁石を使用しない以外は、前記確認実施例と同様にしてシート状硬化物を得、Ｘ線回折測定を行った。無磁場で作製したシート状硬化物中の前記ＨＳＬの配向度は０．０２であり、永久磁石によって磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の高度な配向が起こることがわかった。
永久磁石を使用しない以外は、前記確認実施例と同様にしてシート状硬化物を得、Ｘ線回折測定を行った。無磁場で作製したシート状硬化物中の前記ＨＳＬの配向度は０．０２であり、永久磁石によって磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子の高度な配向が起こることがわかった。
【0069】
〔実施例５〕
（シート状樹脂組成物１）
直径１２ｍｍ×高さ１０ｍｍのポリプロピレン製円筒容器に実施例１で作製した磁場応答性ＨＳＬの粉末０．２１０ｇを入れて０．７テスラの永久磁石上に置き、容器をガラス棒で５０回振動を加えて粒子を充填させた。次いで、シリンジでシリコーンオリゴマー（信越シリコーン製ＫＲ４０１）をゆっくりとしみ込ませた。計０．２７２ｇをしみ込ませた段階で粉体層表面が湿潤して光沢感が出てきたので、添加を終了した。これを室温で２４時間放置してシリコーンオリゴマーを硬化させた。
（シート状樹脂組成物１）
直径１２ｍｍ×高さ１０ｍｍのポリプロピレン製円筒容器に実施例１で作製した磁場応答性ＨＳＬの粉末０．２１０ｇを入れて０．７テスラの永久磁石上に置き、容器をガラス棒で５０回振動を加えて粒子を充填させた。次いで、シリンジでシリコーンオリゴマー（信越シリコーン製ＫＲ４０１）をゆっくりとしみ込ませた。計０．２７２ｇをしみ込ませた段階で粉体層表面が湿潤して光沢感が出てきたので、添加を終了した。これを室温で２４時間放置してシリコーンオリゴマーを硬化させた。
【0070】
硬化物を容器から取り出して両面研磨して厚さ０．４ｍｍ×直径１２ｍｍの円盤状樹脂組成物を作製し、Ｘ線回折測定と熱拡散率測定（使用機器：ベテル製サーモウェーブアナライザＴＡ）を行ったところ、配向度は２．８、熱拡散率は４．８２ｍｍ２／ｓ（実測密度１．４４と比熱から計算される熱伝導率は７．５Ｗ／（Ｋ・ｍ）であった。また実測密度から計算される磁場応答性ＨＳＬの含有量は２０体積％であった。
【0071】
〔比較例３〕
直径１２ｍｍ×高さ１０ｍｍのポリプロピレン製円筒容器に実施例１で作製した磁場応答性ＨＳＬの粉末０．２１２ｇを入れて容器をガラス棒で５０回振動を加えて粒子を充填させた。次いで、シリンジでシリコーンオリゴマー（信越シリコーン製ＫＲ４０１）をゆっくりとしみ込ませた。計０．２７３ｇをしみ込ませた段階で粉体層表面が湿潤して光沢感が出てきたので、添加を終了した。これを室温で２４時間放置してシリコーンオリゴマーを硬化させた。
直径１２ｍｍ×高さ１０ｍｍのポリプロピレン製円筒容器に実施例１で作製した磁場応答性ＨＳＬの粉末０．２１２ｇを入れて容器をガラス棒で５０回振動を加えて粒子を充填させた。次いで、シリンジでシリコーンオリゴマー（信越シリコーン製ＫＲ４０１）をゆっくりとしみ込ませた。計０．２７３ｇをしみ込ませた段階で粉体層表面が湿潤して光沢感が出てきたので、添加を終了した。これを室温で２４時間放置してシリコーンオリゴマーを硬化させた。
【0072】
硬化物を容器から取り出して実施例５と同様にして円盤状樹脂組成物を作製し、Ｘ線回折測定と熱拡散率測定を行ったところ、配向度は０．０５、熱拡散率は２．０７ｍｍ２／ｓ（実測密度１．４５と比熱から計算される熱伝導率は３．２Ｗ／（Ｋ・ｍ）であった。また実測密度から計算される磁場応答性ＨＳＬの含有量は２０体積％であった。
【0073】
以上、実施例５と比較例３の比較から、磁場配向により熱伝導性が２倍以上向上することが明らかとなった。また、六方晶窒化ホウ素含有量が２０体積％であっても、磁場配向により従来よりも高い熱伝導性が得られることがわかった。
【0074】
〔実施例６〕
（シート状樹脂組成物２）
直径１２ｍｍ×高さ１０ｍｍのポリプロピレン製円筒容器に実施例２で作製した磁場応答性ＵＨＰ－２の粉末０．２２４ｇを入れて０．７テスラの永久磁石上に置き、容器をガラス棒で５０回振動を加えて粒子を充填させた。次いで、シリンジでシリコーンオリゴマー（信越シリコーン製ＫＲ４０１）をゆっくりとしみ込ませた。計０．３５７ｇをしみ込ませた段階で粉体層表面が湿潤して光沢感が出てきたので、添加を終了した。これを室温で２４時間放置してシリコーンオリゴマーを硬化させた。
（シート状樹脂組成物２）
直径１２ｍｍ×高さ１０ｍｍのポリプロピレン製円筒容器に実施例２で作製した磁場応答性ＵＨＰ－２の粉末０．２２４ｇを入れて０．７テスラの永久磁石上に置き、容器をガラス棒で５０回振動を加えて粒子を充填させた。次いで、シリンジでシリコーンオリゴマー（信越シリコーン製ＫＲ４０１）をゆっくりとしみ込ませた。計０．３５７ｇをしみ込ませた段階で粉体層表面が湿潤して光沢感が出てきたので、添加を終了した。これを室温で２４時間放置してシリコーンオリゴマーを硬化させた。
【0075】
硬化物を容器から取り出して実施例５と同様にして円盤状樹脂組成物を作製し、Ｘ線回折測定と熱拡散率測定を行ったところ、配向度は０．７２であり、実測密度１．４１から計算される磁場応答性ＵＨＰ－２の含有量は９．３体積％であった。
【0076】
〔実施例７〕
（シート状樹脂組成物３）
直径１２ｍｍ×高さ１０ｍｍのポリプロピレン製円筒容器に実施例４で作製した磁場応答性ＳＧＰの粉末０．２３６ｇを入れて０．７テスラの永久磁石上に置き、容器をガラス棒で５０回振動を加えて粒子を充填させた。次いで、シリンジでシリコーンオリゴマー（信越シリコーン製ＫＲ４０１）をゆっくりとしみ込ませた。計０．２５１ｇをしみ込ませた段階で粉体層表面が湿潤して光沢感が出てきたので、添加を終了した。これを室温で２４時間放置してシリコーンオリゴマーを硬化させた。
（シート状樹脂組成物３）
直径１２ｍｍ×高さ１０ｍｍのポリプロピレン製円筒容器に実施例４で作製した磁場応答性ＳＧＰの粉末０．２３６ｇを入れて０．７テスラの永久磁石上に置き、容器をガラス棒で５０回振動を加えて粒子を充填させた。次いで、シリンジでシリコーンオリゴマー（信越シリコーン製ＫＲ４０１）をゆっくりとしみ込ませた。計０．２５１ｇをしみ込ませた段階で粉体層表面が湿潤して光沢感が出てきたので、添加を終了した。これを室温で２４時間放置してシリコーンオリゴマーを硬化させた。
【0077】
硬化物を容器から取り出して実施例５と同様にして円盤状樹脂組成物を作製し、Ｘ線回折測定と熱拡散率測定を行ったところ、配向度は１．５、熱拡散率は５．４７ｍｍ２／ｓ（実測密度１．５２と比熱から計算される熱伝導率は８．７Ｗ／（Ｋ・ｍ）であった。また実測密度から計算される磁場応答性ＳＧＰの含有量は２５体積％であった。
【0078】
〔比較例４〕
直径１２ｍｍ×高さ１０ｍｍのポリプロピレン製円筒容器に実施例４で作製した磁場応答性ＳＧＰの粉末０．２３９ｇを入れて容器をガラス棒で５０回振動を加えて粒子を充填させた。次いで、シリンジでシリコーンオリゴマー（信越シリコーン製ＫＲ４０１）をゆっくりとしみ込ませた。計０．２６９ｇをしみ込ませた段階で粉体層表面が湿潤して光沢感が出てきたので、添加を終了した。これを室温で２４時間放置してシリコーンオリゴマーを硬化させた。
直径１２ｍｍ×高さ１０ｍｍのポリプロピレン製円筒容器に実施例４で作製した磁場応答性ＳＧＰの粉末０．２３９ｇを入れて容器をガラス棒で５０回振動を加えて粒子を充填させた。次いで、シリンジでシリコーンオリゴマー（信越シリコーン製ＫＲ４０１）をゆっくりとしみ込ませた。計０．２６９ｇをしみ込ませた段階で粉体層表面が湿潤して光沢感が出てきたので、添加を終了した。これを室温で２４時間放置してシリコーンオリゴマーを硬化させた。
【0079】
硬化物を容器から取り出して実施例４と同様にして円盤状樹脂組成物を作製し、Ｘ線回折測定と熱拡散率測定を行ったところ、配向度は０．０５、熱拡散率は２．５８ｍｍ２／ｓ（実測密度１．５１と比熱から計算される熱伝導率は４．１Ｗ／（Ｋ・ｍ）であった。また実測密度から計算される磁場応答性ＳＧＰの含有量は２５体積％であった。
【0080】
以上、実施例７と比較例４の比較から、磁場配向により熱伝導性が２倍以上向上した。また、ＨＳＬよりタップ密度の高いＳＧＰを用いると樹脂組成物中の六方晶窒化ホウ素含有量が高くなることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【0081】
本発明の磁場応答性六方晶窒化ホウ素粒子は、鱗片状または板状の六方晶窒化ホウ素粒子表面に単層の酸化グラフェンまたは部分還元された酸化グラフェン吸着層と磁性粒子を有することにより、永久磁石程度の磁場で応答して配向可能であり、六方晶窒化ホウ素粒子の濃度が高くなくても熱伝導の良いシート状樹脂組成物を提供できる。
【図1】
