特開 2023-60445 タイル壁およびその形成方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023060445

(43)【公開日】2023-04-28

(54)【発明の名称】タイル壁およびその形成方法

(51)【国際特許分類】

   C04B 41/65 20060101AFI20230421BHJP

   E04F 13/02 20060101ALI20230421BHJP

【ＦＩ】

C04B41/65

E04F13/02 A

E04F13/02 G

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021170060

(22)【出願日】2021-10-18

(71)【出願人】

【識別番号】520352193

【氏名又は名称】ライトウエイ株式会社

(71)【出願人】

【識別番号】521236807

【氏名又は名称】ｅｃｏ断熱株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100111811

【弁理士】

【氏名又は名称】山田 茂樹

(72)【発明者】

【氏名】辻 正和

(72)【発明者】

【氏名】藤森 浩一郎

【テーマコード（参考）】

4G028

【Ｆターム（参考）】

4G028DA01

4G028DB02

(57)【要約】

【課題】コンクリートなどの構造物上に形成されるタイル壁であって、従来に比べて形成作業が容易で、目地溝の防水性が高く、所望の意匠性を付与可能なタイル壁を提供する
【解決手段】タイル壁ＴＷは、断面視において、構造物Ｓｔ上に形成されたシラス１２を含有するモルタル層Ｌ１と、前記モルタル層Ｌ１の表面に前記シラス１２を原料として形成されたガラス層Ｌ２とを有し、平面視において、所定形状の押し型４によって形成された模擬目地溝３と、前記模擬目地溝３によって区画されたタイル部２とを有する。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

構造物上に形成されるタイル壁であって、
断面視において、前記構造物上に形成されたシラスを含有するモルタル層と、
前記モルタル層の表面に前記シラスを原料として形成されたガラス層とを有し、
平面視において、所定形状の押し型によって形成された模擬目地溝と、前記模擬目地溝によって区画されたタイル部と、
を有することを特徴とするタイル壁。

【請求項2】

前記構造物の表面と前記モルタル層との間に下地層をさらに有する請求項１に記載のタイル壁。

【請求項3】

前記タイル部の表層の前記ガラス層が釉薬によって着色されている請求項１又は２に記載のタイル壁。

【請求項4】

前記タイル部の表面および前記模擬目地溝の表面に防水性を有する樹脂コート層をさらに有する請求項１～３のいずれかに記載のタイル壁。

【請求項5】

構造物上にタイル壁を形成する方法であって、
シラスを含有するモルタル層を前記構造物上に形成する第１工程と、
前記モルタル層の表面に所定形状の押し型を押し入れる第２工程と、
前記押し型を前記モルタル層から除去し模擬目地溝を形成するとともに、前記模擬目地溝によって区画されるタイル部を形成する第３工程と、
前記タイル部の表面および前記模擬目地溝の表面にレーザ光を照射して前記シラスを溶融して、前記タイル部の表層および前記模擬目地溝の表層をガラス層とする第４工程と、
を有することを特徴とするタイル壁の形成方法。

【請求項6】

第１工程の前に、前記構造物の表面を凹凸化処理する第５工程をさらに有する請求項５に記載のタイル壁の形成方法。

【請求項7】

前記構造物の表面と前記モルタル層との間に下地層を形成する第６工程をさらに有する請求項５又は６に記載のタイル壁の形成方法。

【請求項8】

第２工程と第３工程との間に、前記タイル部となる前記モルタル層の表面に釉薬を塗布する第７工程をさらに有し、
前記タイル部の表層のガラス層を前記釉薬で着色する請求項５～７のいずれかに記載のタイル壁の形成方法。

【請求項9】

第４工程の後に、前記タイル部の表面および前記模擬目地溝の表面に防水性を有する樹脂コート層を形成する第８工程をさらに有する請求項５～８のいずれかに記載のタイル壁の形成方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、タイル壁およびその形成方法に関し、より詳細には、構造物上に設けられるタイル壁およびその形成方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来、建物や塀等の壁面をタイル壁に形成する場合、壁面を構成する下地材に塗布・形成したモルタル層に多数のタイル片の各々を圧着してタイル壁を形成していた。そして、タイル壁のタイル片間には目地溝が一般に形成されていた（例えば、特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開平８－１４４４７１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

従来のタイル壁の形成ではモルタル層にタイル片を１枚毎圧着させるので、多大な作業時間を要すると共に緻密な作業も要求されていた。

【0005】

また、目地溝内に入った汚れは簡単に除去することができないことがあり、経年によって汚れが目立つようになることがあった。そしてまた、目地溝の防水性はタイル片に比べると低く防水性の向上が望まれていた。加えて、近年、コンクリート等で構成された構造物表面の意匠性の向上も望まれていた。

【0006】

そこで本発明の目的は、コンクリートなどの構造物上に形成されるタイル壁において、従来に比べて形成作業が容易で、目地溝の防水性が高く、所望の意匠性を付与可能なタイル壁を提供することにある。

【0007】

また本発明の他の目的は、前記タイル壁を効率的に形成可能な方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

前記目的を達成する本発明に係るタイル壁は、構造物上に形成されるタイル壁であって、断面視において、前記構造物上に形成されたシラスを含有するモルタル層と、前記モルタル層の表面に前記シラスを原料として形成されたガラス層とを有し、平面視において、所定形状の押し型によって形成された模擬目地溝と、前記模擬目地溝によって区画されたタイル部とを有することを特徴とする。

【0009】

前記構成のタイル壁は、前記構造物の表面と前記モルタル層との間に下地層をさらに有するのが好ましい。

【0010】

前記構成のタイル壁は、前記タイル部の表層の前記ガラス層が釉薬によって着色されていてもよい。

【0011】

また前記構成のタイル壁は、前記タイル部の表面および前記模擬目地溝の表面に防水性を有する樹脂コート層をさらに有していてもよい。

【0012】

また本発明によれば、構造物上にタイル壁を形成する方法であって、シラスを含有するモルタル層を前記構造物上に形成する第１工程と、前記モルタル層の表面に所定形状の押し型を押し入れる第２工程と、前記押し型を前記モルタル層から除去し模擬目地溝を形成するとともに、前記模擬目地溝によって区画されるタイル部を形成する第３工程と、前記タイル部の表面および前記模擬目地溝の表面にレーザ光を照射して前記シラスを溶融して、前記タイル部の表層および前記模擬目地溝の表層をガラス層とする第４工程とを有することを特徴とするタイル壁の形成方法が提供される。

【0013】

前記構成の形成方法は、第１工程の前に、前記構造物の表面を凹凸化処理する第５工程をさらに有するのが好ましい。

【0014】

また前記構成の形成方法は、前記構造物の表面と前記モルタル層との間に下地層を形成する第６工程をさらに有するのが好ましい。

【0015】

また前記構成の形成方法は、第２工程と第３工程との間に、前記タイル部となる前記モルタル層の表面に釉薬を塗布する第７工程をさらに有し、前記タイル部の表層のガラス層を前記釉薬で着色するようにしてもよい。

【0016】

また前記構成の形成方法は、第４工程の後に、前記タイル部の表面および前記模擬目地溝の表面に防水性を有する樹脂コート層を形成する第８工程をさらに有するようにしてもよい。

【0017】

なお、本明細書における「シラス」とは、南九州に広く分布する白色粗鬆な火山噴出物およびそれに由来する２次堆積物の総称をいい、高温マグマの冷却により結晶分化作用が起こり、マグマ中の主成分ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＦｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ等が互いに集まり鉱物として晶出して間もなく爆発的に噴出して形成されたものであり、約３割の結晶鉱物と残り約７割の非晶質火山ガラスから成っている。非晶質火山ガラスはマグマ中の揮発性成分が急激に放出して、多孔質の軽石状を成し、ＳｉＯ_２が６５～７３％、Ａｌ_２Ｏ_３が１２～１６％、ＣａＯが２～４％、Ｎａ_２Ｏが３～４％、Ｋ_２Ｏが２～４％と鉄分１～３％を含んでいる。そして、結晶鉱物は斜長石が最も多く、他に紫蘇輝石、石英、普通輝石、磁鉄工等が多少含まれている。

【発明の効果】

【0018】

本発明に係るタイル壁によれば、コンクリートなどの構造物上に容易に形成することが可能で、目地溝の防水性は高く、所望の意匠性を付与することも可能である。

【0019】

また本発明に係る形成方法によれば、前記タイル壁を効率的に形成可能である。

【図面の簡単な説明】

【0020】

【図1】本発明に係るタイル壁の一例を示す部分平面図である。

【図2】図１のＡ－Ａ線断面図である。

【図3】本発明のタイル壁の形成工程の一例を示す工程図である。

【図4】本発明のタイル壁の形成工程の一例を示す工程図である。

【発明を実施するための形態】

【0021】

以下、本発明に係るタイル壁およびその形成方法についてさらに詳しく説明するが本発明はこれらの例に何ら限定されるものではない。

【0022】

図１に、本発明に係るタイル壁の一例を示す部分平面図を示し、図２に、図１のＡ－Ａ線断面図を示す。図１に示す部分平面図から理解されるように、タイル壁ＴＷは、平面視において、格子状の模擬目地溝３と、模擬目地溝３によって区画された四角形状の複数のタイル部２とを有する。そしてタイル部２の表層のガラス層Ｌ２は、後述する釉薬によって着色されている。また図２に示す断面図から理解されるように、タイル壁ＴＷは構造物Ｓｔの表面に形成されて、構造物Ｓｔの表面に形成された下地層Ｌ３と、下地層Ｌ３の表面に形成されたシラス１２を含有するモルタル層Ｌ１と、モルタル層Ｌ１の表面に形成されたガラス層Ｌ２と、ガラス層Ｌ２の表面に形成された樹脂コート層Ｌ４とを有する。

【0023】

タイル壁ＴＷの表面の模擬目地溝３の平面形状すなわちタイル部２の平面形状は意匠性を有するものであれば特に限定はなく如何なる形状であってもよい。また模擬目地溝３の幅に限定はないが、一般に、２ｍｍ以上５ｍｍ以下の範囲が好ましい。模擬目地溝３の深さは、構造物Ｓｔに至らない範囲、すなわちモルタル層Ｌ１と下地層Ｌ３の厚み合計した最大厚み未満の範囲で適宜決定すればよいが、ガラス層Ｌ２の厚みよりも深いのが望ましい。

【0024】

モルタル層Ｌ１にシラス１２が含有されているのは、シラス１２のモルタル層Ｌ１における細骨材としての働きの外、後段のタイル壁ＴＷの形成方法で説明するように、モルタル層Ｌ１に含有されるシラス１２がレーザ光ＬＢ（図４に図示）の照射などによって加熱・溶融されてガラス層Ｌ２が形成されるようにするためでもある。

【0025】

このようなタイル壁ＴＷによれば、従来のようなタイル片を個々に設置する必要がなく、従来に比べて形成作業が格段に容易になる。加えて、後述するタイル壁ＴＷの形成方法で説明するように、所望形状の押し型４（図３に図示）を選択使用することで所望の意匠をタイル壁ＴＷに容易に付与できる。また、タイル壁ＴＷの模擬目地溝３は表面にガラス層Ｌ２を有すると共に、本実施形態ではガラス層Ｌ２の表面にさらに樹脂コート層Ｌ４を有するので、従来のタイル壁に比べて格段に高い防水性が得られる。これにより、例えば、海水や酸性雨などがコンクリートなどの構造物Ｓｔの内部に浸入することが防止され、構造物Ｓｔ内の鉄筋に海水等による錆が生じて構造物Ｓｔが劣化・崩壊することが従来に比べて一層防止・抑制される。以下、これらの層について説明する。

【0026】

（モルタル層Ｌ１）
構造物Ｓｔ上に形成されるモルタル層Ｌ１は、セメント１１と、細骨材としてのシラス１２とから構成される。セメント１１としては従来公知のものが使用でき、例えば、ポルトランドセメント、高炉セメント、フライアッシュセメント、シリカセメントなどが挙げられる。これらの中でもポルトランドセメントが好適に使用される。

【0027】

本発明で使用するシラス１２は、前述のように、南九州に広く分布する白色粗鬆な火山噴出物およびそれに由来する２次堆積物であり、高温マグマの冷却により結晶分化作用が起こり、マグマ中の主成分ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＦｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ等が互いに集まり鉱物として晶出して間もなく爆発的に噴出して形成されたものであり、約３割の結晶鉱物と残り約７割の非晶質火山ガラスから成っている。本発明では火山ガラス成分を９０％以上含む“淘汰された”シラスが特に好適に使用される。

【0028】

本発明で使用するシラス１２の体積粒径は３０μｍ以上１８０μｍ以下の範囲が好ましい。このような体積粒径を有するシラス１２を用いることにより、モルタル層Ｌ１が強固になると共に、加熱溶融させたときに連続した均一なガラス層Ｌ２が形成される。なお、加熱溶融によってガラス層Ｌ２を安定して形成する観点からはシラス１２は強熱減量が１質量％以下のものが好ましい。シラス１２の強熱減量を１質量％以下にするには、例えばシラスを熱処理すればよく、例えば、シラスを加熱発泡させたシラスバルーンが好適に使用できる。

【0029】

シラス１２の含有量は、表面にガラス層Ｌ２が形成な限りにおいて特に限定はないが、通常、モルタル層Ｌ１の全体に対して６０質量％～９０質量％の範囲が好ましい。シラス１２の含有量が６０質量％よりも少ないと、加熱溶融によるガラス層Ｌ２の均一な形成が困難になるおそれがある。一方、シラス１２の含有量が９０質量％よりも多いとモルタル層Ｌ１の強度が低下するおそれがある。なお、モルタル層Ｌ１におけるシラス１２の含有量は厚み方向に変化を持たせてもよい。具体的には、例えば、シラス１２の含有量を構造物Ｓｔから離れる方向に向かって連続的または段階的に増加させるようにしてもよい。

【0030】

モルタル層Ｌ１の厚みについては特に限定はないが、タイル壁ＴＷの耐久性や構造物Ｓｔの補強性などからは、通常、１ｍｍ～５ｍｍの範囲が好ましい。モルタル層Ｌ１の厚みが薄すぎるとモルタル層Ｌ１の強度が低下するおそれがある。一方、モルタル層Ｌ１が厚すぎると原料費用が高くなって経済的でない。

【0031】

（その他の添加物）
モルタル層Ｌ１は、ガラス層Ｌ２を着色するための金属化合物粉末が含有されていてもよい。あるいは、前記金属化合物粉末を含有した釉薬５（図４に図示）をタイル部２となるモルタル層Ｌ１の表面に塗布してもよい。ここで使用される金属化合物粉末の種類は、ガラス層Ｌ２に着けたい色から定まる。例えば、ガラス層Ｌ２を紫色にするにはＭｎ（マンガン）、Ｃｕ（銅）、Ｃｏ（コバルト）を添加、黄色にするにはＡｇ（銀）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｒ（クロム）、Ｃｄ（カドミウム）を添加、茶色にするにはＦｅ（鉄）、Ｓ（硫黄）を添加すればよい。なお、図１に示すタイル壁では、タイル部２となるモルタル層Ｌ１の表面のみに釉薬５が塗布され、所定色に着色されている。

【0032】

金属化合物粉末の粒径は３０μｍ～１５０μｍの範囲が好ましい。金属化合物粉末のモルタル層Ｌ１における含有量は３質量％～１５質量％の範囲が好ましい。

【0033】

また、モルタル層Ｌ１は、その外、本発明の効果を阻害しない範囲において、必要によりフライアッシュなどの無機微粉末を含有していてもよい。

【0034】

（ガラス層Ｌ２）
ガラス層Ｌ２はガラスから構成される。ガラス層Ｌ２は、好適には、ガラス層Ｌ２が形成される前のモルタル層Ｌ１の表層を加熱溶融してモルタル層Ｌ１に含まれるシラス１２を溶融しガラス化することで形成される。すなわち、モルタル層Ｌ１の表面から所定深さが加熱溶融されてガラス層Ｌ２となり、残り部分が最終的にモルタル層Ｌ１となる。モルタル層Ｌ１の表面加熱には、例えばレーザ光ＬＢ（図４に図示）の照射加熱が使用でき、レーザ光ＬＢの照射エネルギー量によって、形成されるガラス層Ｌ２の層厚が制御される。

【0035】

ガラス層Ｌ２の層厚に特に限定はないが、通常、０．３ｍｍ～１．０ｍｍの範囲が好ましい。ガラス層Ｌ２の層厚が０．３ｍｍよりも薄いと耐久性などが不足するおそれがある。一方、ガラス層Ｌ２を１．０ｍｍよりも厚くするにはシラス１２を加熱溶融してガラス化するために大容量のレーザ出力装置が必要となり現実的でない。

【0036】

前述のように、モルタル層Ｌ１に所定の金属化合物粉末が含有されている場合、あるいは前記金属化合物粉末を含有した釉薬５がタイル部２となるモルタル層Ｌ１の表面に塗布されている場合には、レーザ光ＬＢの照射加熱によって金属化合物粉末が溶融して所定の金属イオンが生成しガラス層Ｌ２が着色される。金属化合物粉末の種類や組合せの異なる領域をモルタル層Ｌ１に設けておけば、モルタル層Ｌ１の表面がレーザ光の照射加熱でガラス化されると色の異なる領域が現れ意匠性を高めることができる。

【0037】

（下地層Ｌ３）
下地層Ｌ３は、構造物Ｓｔとモルタル層Ｌ１とを強固に接続する働きを奏する。下地層Ｌ３は、例えばモルタルなどから構成される。モルタルとしては、セメントと細骨材とが混合された従来公知物が使用できる。セメントは、例えば、ポルトランドセメント、高炉セメント、フライアッシュセメント、シリカセメントなどが使用できる。下地層Ｌ３の層厚に特に限定はないが、通常、５ｍｍ以上１０ｍｍ以下の範囲が好ましい。

【0038】

（樹脂コート層Ｌ４）
樹脂コート層Ｌ４は防水性を有する樹脂から構成される。このような樹脂としては、例えば、アクリルウレタン系樹脂やフッ素系樹脂が好適に使用される。タイル部２が着色されている場合には特に、無色透明のコート樹脂が望ましい。樹脂コート層Ｌ４は、紫外線によるガラス層等の劣化の抑制やタイル壁の遮熱性の向上、美観の維持などの作用を奏する。なお、樹脂コート層Ｌ４を形成することなくガラス層Ｌ２をタイル壁ＴＷの最外層としても構わない。

【0039】

樹脂コート層Ｌ４の層厚に特に限定はないが、通常、数十μｍ～数百μｍ程度で足りる。

【0040】

（その他）
本発明に係るタイル壁ＴＷは、モルタル層Ｌ１、ガラス層Ｌ２、樹脂コート層Ｌ４の外に、本発明の効果を阻害しない範囲で、その他の機能を有する層を備えてもよい。

【0041】

（構造物Ｓｔ）
本発明のタイル壁ＴＷが設けられる構造物Ｓｔに特に限定はなく、例えば、土木構造物や建築構造物等が挙げられるが、本発明のタイル壁ＴＷはコンクリートの表面に好適に設けられる。

【0042】

（タイル壁の形成方法）
タイル壁ＴＷの形成方法について説明する。図３および図４にタイル壁ＴＷの形成例を示す工程図を示す。

【0043】

図３（ａ）に示すように、まず、レーザ光ＬＢの照射によって構造物Ｓｔの表面が凹凸化処理される（第５工程）。構造物Ｓｔの表面が凹凸化されることによって構造物Ｓｔの表面積が増大し下地層Ｌ３と構造物Ｓｔとの固着強度が大きくなる。表面の凹凸は数ｍｍ程度で足りる。構造物Ｓｔの凹凸化の程度はレーザ光ＬＢの出力や移動速度などにより制御できる。構造物Ｓｔの凹凸化処理はレーザ光ＬＢの照射による手段に限定されるものではなく、従来公知の処理手段を用いることができる。

【0044】

次に、図３（ｂ）に示すように、下地層Ｌ３が構造物Ｓｔの表面に形成される（第６工程）。具体的には、セメント、細骨材と水が混合されたペースト状物が構造物Ｓｔの表面に塗布される。塗布方法としては限定はなく、吹き付けや左官仕上げ、ローラ仕上げなどの従来公知の塗布方法を用いることができる。

【0045】

次に、図３（ｃ）に示すように、シラス１２を含有するモルタル層Ｌ１が下地層Ｌ３の表面に形成される（第１工程）。具体的には、セメント１１と、シラス１２と、水とが混合されたペースト状物が下地層Ｌ３の表面に塗布される。塗布方法としては限定はなく、吹き付けや左官仕上げ、ローラ仕上げなどの従来公知の塗布方法を用いることができる。

【0046】

セメント１１とシラス１２との混合比は、一般に、質量比で１：１．５～１：９の範囲が好ましい。水の混合量によって混合物の粘度は調整可能である。使用するセメント１１およびシラス１２は前述のものがここでも好適に使用される。

【0047】

モルタル層Ｌ１の塗布厚は、後述のレーザ光ＬＢの照射加熱後にモルタル層Ｌ１として残る層と、ガラス層Ｌ２となる層との層厚の合計が指標とされ、塗布後の乾燥等による収縮等が考慮される。モルタル層Ｌ１の塗布厚は、一般に、１ｍｍ～５ｍｍの範囲が好ましい。

【0048】

図３（ｄ）に示すように、モルタル層Ｌ１の表面に格子形状の押し型４が押し入れられる（第２工程）。この押し型４によって模擬目地溝３が形成される。押し型４の平面形状に特に限定はなく、タイル壁ＴＷに意匠性を与える如何なる形状であってもよい。なお、押し型４の断面形状は、押し入れ方向に向かって幅が狭くなる形状、例えば、上底が下底よりも長い、いわゆる逆台形形状であるのが好ましい。モルタル層Ｌ１に押し入れた押し型４をモルタル層Ｌ１から抜き出しやすくなるからである。また、押し型４によって形成された模擬目地溝３の対向する両側壁は、底面に向かって幅が狭くなる傾斜を有するので、後述のガラス層Ｌ２を形成するためにレーザ光ＬＢが照射された際、模擬目地溝３の側壁にもレーザ光ＬＢが照射されて側壁の表層がガラス化されるからである。

【0049】

図４（ｅ）に示すように、押し型４が押し入れられた状態のモルタル層Ｌ１の表面に、ガラス層Ｌ２を着色するための金属化合物粉末を含有した釉薬５がローラＲにより塗布される（第７工程）。釉薬５はタイル部２にのみ塗布され、押し型４に阻まれて模擬目地溝３には塗布されない。なお、釉薬５の塗布方法はローラ塗布に限定されるものではなく、スプレー塗布など従来公知の塗布手段を用いることができる。釉薬５の種類や塗布量などを変えることによって、タイル部２のガラス層Ｌ２に種々の色彩や模様を付与することができる。なお、タイル壁ＴＷを着色しない場合には、モルタル層Ｌ１の表面に釉薬５は塗布されなくてよい。

【0050】

モルタル層Ｌ１の表面に釉薬５が塗布された後、押し型４がモルタル層Ｌ１の表面から抜き出される（第３工程）。抜き出された押し型４の跡が模擬目地溝３となる。そして、図４（ｆ）に示すように、モルタル層Ｌ１の表面にレーザ光ＬＢが照射される。すると、モルタル層Ｌ１中のシラス１２が加熱溶融され、モルタル層Ｌ１の表層にガラス層Ｌ２が形成される（第４工程）。シラスの溶融温度は約１７００℃であるところ、レーザ光ＬＢの照射によってモルタル層Ｌ１の表面は瞬時に前記溶融温度以上となる。また同時に、モルタル層Ｌ１表面の釉薬５中の金属化合物粉末も溶融して所定の金属イオンが生成し、タイル部２の表層のガラス層Ｌ２は所定色に着色される。

【0051】

図４（ｇ）に示すように、ガラス層Ｌ２は、模擬目地溝３によって区画されたタイル部２の表層および模擬目地溝３の底面表層に形成される。加えて、模擬目地溝３の側壁が傾斜面であることから側壁にもレーザ光ＬＢが照射され模擬目地溝３の側壁の表層にもガラス層Ｌ２が形成される。

【0052】

ここで使用するレーザとしては従来公知の物が使用可能であるが、短波長パルスレーザが好適に使用される。例えば、波長：１０７０ｎｍ、パルス幅：６０ｎｓ、周波数：１０ｋＨｚ、エネルギー：１００ｍＪの短波長パルスレーザが用いられると、１／（６×１０^７）ｓｅｃという超短時間に１．６ＭＷの強大なエネルギーが与えられてモルタル層Ｌ１の表面から０．２ｍｍ～１．０ｍｍまでがガラス化する。一方、モルタル層Ｌ１の表面からそれ以下の部分はモルタル層Ｌ１の本来の特性が損なわれずに保持される。

【0053】

次に、図４（ｈ）に示すように、タイル部２の表面および模擬目地溝３の表面にコート樹脂６がスプレーガンＧによって塗布されて樹脂コート層Ｌ４が必要により形成される（第８工程）。樹脂コート層Ｌ４は、アクリルウレタン系樹脂やフッ素系樹脂などの防水性を有する樹脂から構成される。ここで使用されるコート樹脂６は耐水性および耐候性をさらに有するものが好ましい。また、タイル部２が着色されている場合には、コート樹脂６は透光性を有するものが使用される。樹脂コート層Ｌ４の層厚に特に限定はないが、通常、数十μｍ～数百μｍ程度で足りる。

【0054】

（その他）
本発明に係るタイル壁ＴＷの形成方法において、下地層Ｌ３、モルタル層Ｌ１、ガラス層Ｌ２、樹脂コート層Ｌ４の形成工程の外に、本発明の効果を阻害しない範囲で、その他の機能を有する層の形成工程が付加されてもよい。

【産業上の利用可能性】

【0055】

本発明に係るタイル壁によれば、コンクリートなどの構造物の表面に形成する作業が従来に比べて容易となると共に、（模擬）目地溝の防水性が高く、所望の意匠性を付与することも可能になる。

【符号の説明】

【0056】

２ タイル部
３ 模擬目地溝
４ 押し型
５ 釉薬
６ コート樹脂
１１ セメント
１２ シラス
Ｌ１ モルタル層
Ｌ２ ガラス層
Ｌ３ 下地層
Ｌ４ 樹脂コート層
ＴＷ タイル壁
ＬＢ レーザ光
Ｓｔ 構造物

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】