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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023062613
(43)【公開日】2023-05-08
(54)【発明の名称】光導波路の製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 6/132 20060101AFI20230426BHJP
【ＦＩ】
G02B6/132
【審査請求】未請求
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021172685
(22)【出願日】2021-10-21
(71)【出願人】
【識別番号】000002141
【氏名又は名称】住友ベークライト株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100091292
【弁理士】
【氏名又は名称】増田 達哉
(74)【代理人】
【識別番号】100091627
【弁理士】
【氏名又は名称】朝比 一夫
(72)【発明者】
【氏名】今井 洋武
(72)【発明者】
【氏名】兼田 幹也
【テーマコード（参考）】
2H147
【Ｆターム（参考）】
2H147BG02
2H147CB05
2H147CD02
2H147EA16A
2H147EA16B
2H147EA16C
2H147EA17A
2H147EA17B
2H147EA17C
2H147EA18A
2H147EA18B
2H147EA19A
2H147EA19B
2H147EA20A
2H147EA20B
2H147EA22B
2H147EA22C
2H147FA15
2H147FA16
2H147FA17
2H147FA25
2H147FB01
2H147FB02
2H147FB04
2H147FD08
2H147FD15
2H147FE01
2H147FE02
2H147FE03
2H147FE07
2H147FF05
(57)【要約】
【課題】クラッド形成層に起因して発生するコア層の変形を見越して、照射領域および非照射領域の少なくとも一方の大きさを適切に設定することができ、コア部のピッチの精度が高い光導波路を効率よく製造可能な光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の光導波路の製造方法は、コア形成層およびクラッド形成層を準備する工程と、前記コア形成層の一部に活性放射線を照射し、非照射領域に対応する複数のコア部、および、前記コア部同士の間に位置し、照射領域に対応する側面クラッド部、を含むコア層を得る工程と、前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、加熱することにより、前記コア層およびクラッド層を有する光導波路を得る工程と、を有し、前記クラッド形成層の製造時点からの経過時間に応じて、前記照射領域および前記非照射領域の少なくとも一方の大きさを調整することを特徴とする。
【選択図】図１
【解決手段】本発明の光導波路の製造方法は、コア形成層およびクラッド形成層を準備する工程と、前記コア形成層の一部に活性放射線を照射し、非照射領域に対応する複数のコア部、および、前記コア部同士の間に位置し、照射領域に対応する側面クラッド部、を含むコア層を得る工程と、前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、加熱することにより、前記コア層およびクラッド層を有する光導波路を得る工程と、を有し、前記クラッド形成層の製造時点からの経過時間に応じて、前記照射領域および前記非照射領域の少なくとも一方の大きさを調整することを特徴とする。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
コア形成層およびクラッド形成層を準備する工程と、
前記コア形成層の一部に活性放射線を照射し、非照射領域に対応する複数のコア部、および、前記コア部同士の間に位置し、照射領域に対応する側面クラッド部、を含むコア層を得る工程と、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、加熱することにより、前記コア層およびクラッド層を有する光導波路を得る工程と、
を有し、
前記クラッド形成層の製造時点からの経過時間に応じて、前記照射領域および前記非照射領域の少なくとも一方の大きさを調整することを特徴とする光導波路の製造方法。
前記コア形成層の一部に活性放射線を照射し、非照射領域に対応する複数のコア部、および、前記コア部同士の間に位置し、照射領域に対応する側面クラッド部、を含むコア層を得る工程と、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、加熱することにより、前記コア層およびクラッド層を有する光導波路を得る工程と、
を有し、
前記クラッド形成層の製造時点からの経過時間に応じて、前記照射領域および前記非照射領域の少なくとも一方の大きさを調整することを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項2】
前記経過時間は、常温に置かれた日数である常温保管日数であり、
前記大きさを調整するときの補正倍率をｙとし、前記常温保管日数をｘとするとき、下記補正式（１）を満たすように前記補正倍率を設定する請求項１に記載の光導波路の製造方法。
ｙ＝ｘＡ （１）
［補正式（１）中、Ａは、０．０００１５～０．０００４５である。］
前記大きさを調整するときの補正倍率をｙとし、前記常温保管日数をｘとするとき、下記補正式（１）を満たすように前記補正倍率を設定する請求項１に記載の光導波路の製造方法。
ｙ＝ｘＡ （１）
［補正式（１）中、Ａは、０．０００１５～０．０００４５である。］
【請求項3】
前記クラッド層の膜厚は、１～２００μｍである請求項１または２に記載の光導波路の製造方法。
【請求項4】
前記光導波路は、
前記コア層と、
前記コア層の両面に積層された前記クラッド層である第１クラッド層および第２クラッド層と、
を備え、
前記光導波路を得る工程の前における前記コア層は、基材上に設けられており、
前記光導波路を得る工程は、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、積層体を得る操作と、
前記積層体から前記基材を剥離する操作と、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、加熱することにより、前記光導波路を得る操作と、
を有する請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光導波路の製造方法。
前記コア層と、
前記コア層の両面に積層された前記クラッド層である第１クラッド層および第２クラッド層と、
を備え、
前記光導波路を得る工程の前における前記コア層は、基材上に設けられており、
前記光導波路を得る工程は、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、積層体を得る操作と、
前記積層体から前記基材を剥離する操作と、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、加熱することにより、前記光導波路を得る操作と、
を有する請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光導波路の製造方法。
【請求項5】
前記光導波路は、
前記第１クラッド層の前記コア層とは反対側に積層されている第１カバー層と、
前記第２クラッド層の前記コア層とは反対側に積層されている第２カバー層と、
をさらに備える請求項４に記載の光導波路の製造方法。
前記第１クラッド層の前記コア層とは反対側に積層されている第１カバー層と、
前記第２クラッド層の前記コア層とは反対側に積層されている第２カバー層と、
をさらに備える請求項４に記載の光導波路の製造方法。
【請求項6】
前記光導波路の膜厚は、５０～３００μｍである請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光導波路の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、ポリイミド積層体上に下部クラッド層を形成する工程と、下部クラッド層上にコア層を形成する工程と、コア層からコアパターンを形成する工程と、コアパターン上に上部クラッド層を形成する工程と、直線光導波路を切り出す工程と、を有する光導波路の製造方法が開示されている。また、コアパターンを形成する工程は、下部クラッド層上にフッ素化ポリアミック酸溶液をスピンコートする操作と、これを３００℃以上で加熱してコア層を形成する操作と、コア層からフォトレジストを用いてコアパターンを形成する操作と、コアパターンにドライエッチングを行い、コアリッジを得る操作と、を含む。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２００３－１０３７３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
このような有機材料で構成された光導波路は、有機材料の特性上、寸法変化が生じやすい。特に、光導波路の製造過程で、樹脂の硬化反応等を伴う場合、反応速度が様々な外因によって変化することがある。その結果、加熱後のコアリッジの寸法精度が低下し、最終的に得られる光導波路において、コア同士の間隔の精度が低下するという課題が生じる。
【0005】
本発明の目的は、クラッド形成層に起因して発生するコア層の変形を見越して、照射領域および非照射領域の少なくとも一方の大きさを適切に設定することができ、コア部のピッチの精度が高い光導波路を効率よく製造可能な光導波路の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
このような目的は、下記（１）～（６）の本発明により達成される。
（１） コア形成層およびクラッド形成層を準備する工程と、
前記コア形成層の一部に活性放射線を照射し、非照射領域に対応する複数のコア部、および、前記コア部同士の間に位置し、照射領域に対応する側面クラッド部、を含むコア層を得る工程と、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、加熱することにより、前記コア層およびクラッド層を有する光導波路を得る工程と、
を有し、
前記クラッド形成層の製造時点からの経過時間に応じて、前記照射領域および前記非照射領域の少なくとも一方の大きさを調整することを特徴とする光導波路の製造方法。
（１） コア形成層およびクラッド形成層を準備する工程と、
前記コア形成層の一部に活性放射線を照射し、非照射領域に対応する複数のコア部、および、前記コア部同士の間に位置し、照射領域に対応する側面クラッド部、を含むコア層を得る工程と、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、加熱することにより、前記コア層およびクラッド層を有する光導波路を得る工程と、
を有し、
前記クラッド形成層の製造時点からの経過時間に応じて、前記照射領域および前記非照射領域の少なくとも一方の大きさを調整することを特徴とする光導波路の製造方法。
【0007】
（２） 前記経過時間は、常温に置かれた日数である常温保管日数であり、
前記大きさを調整するときの補正倍率をｙとし、前記常温保管日数をｘとするとき、下記補正式（１）を満たすように前記補正倍率を設定する上記（１）に記載の光導波路の製造方法。
ｙ＝ｘＡ （１）
［補正式（１）中、Ａは、０．０００１５～０．０００４５である。］
前記大きさを調整するときの補正倍率をｙとし、前記常温保管日数をｘとするとき、下記補正式（１）を満たすように前記補正倍率を設定する上記（１）に記載の光導波路の製造方法。
ｙ＝ｘＡ （１）
［補正式（１）中、Ａは、０．０００１５～０．０００４５である。］
【0008】
（３） 前記クラッド層の膜厚は、１～２００μｍである上記（１）または（２）に記載の光導波路の製造方法。
【0009】
（４） 前記光導波路は、
前記コア層と、
前記コア層の両面に積層された前記クラッド層である第１クラッド層および第２クラッド層と、
を備え、
前記光導波路を得る工程の前における前記コア層は、基材上に設けられており、
前記光導波路を得る工程は、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、積層体を得る操作と、
前記積層体から前記基材を剥離する操作と、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、加熱することにより、前記光導波路を得る操作と、
を有する上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の光導波路の製造方法。
前記コア層と、
前記コア層の両面に積層された前記クラッド層である第１クラッド層および第２クラッド層と、
を備え、
前記光導波路を得る工程の前における前記コア層は、基材上に設けられており、
前記光導波路を得る工程は、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、積層体を得る操作と、
前記積層体から前記基材を剥離する操作と、
前記コア層に前記クラッド形成層を積層し、加熱することにより、前記光導波路を得る操作と、
を有する上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の光導波路の製造方法。
【0010】
（５） 前記光導波路は、
前記第１クラッド層の前記コア層とは反対側に積層されている第１カバー層と、
前記第２クラッド層の前記コア層とは反対側に積層されている第２カバー層と、
をさらに備える上記（４）に記載の光導波路の製造方法。
前記第１クラッド層の前記コア層とは反対側に積層されている第１カバー層と、
前記第２クラッド層の前記コア層とは反対側に積層されている第２カバー層と、
をさらに備える上記（４）に記載の光導波路の製造方法。
【0011】
（６） 前記光導波路の膜厚は、５０～３００μｍである上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の光導波路の製造方法。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、コア部のピッチの精度が高い光導波路を効率よく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1】実施形態に係る光導波路の製造方法により製造される光導波路を示す平面図である。
【図3】実施形態に係る光導波路の製造方法について説明するための工程図である。
【図7】第２クラッド層を有するクラッドフィルムの常温保管日数と、コア部のピッチと、の相関関係を示す散布図である。
【図9】第１クラッド層を有するクラッドフィルムの常温保管日数および第２クラッド層を有するクラッドフィルムの常温保管日数が、互いに同じ場合と互いに異なる場合とで、コア部のピッチがどのように変化するかを示したグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明の光導波路の製造方法について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
【0015】
【0016】
なお、本願の各図では、互いに直交する３つの軸として、Ｘ軸、Ｙ軸およびＺ軸を設定し、矢印で示している。また、矢印の先端側を「プラス側」といい、基端側を「マイナス側」という。さらに、Ｚ軸を表す矢印の先端側を「上」といい、基端側を「下」という。
【0017】
１．光導波路
図１および図２に示す光導波路１は、シート状をなしており、第１カバー層１８、第１クラッド層１１、コア層１３、第２クラッド層１２および第２カバー層１９がこの順で積層されている積層構造を備える。積層構造の各層は、Ｘ－Ｙ面に沿って広がっている。光導波路１は、後述するように、Ｘ軸に長軸を有する長尺状の樹脂フィルムであり、可撓性を有する。このため、光導波路１は、例えば、Ｚ軸に沿って曲げた状態でも使用可能である。
図１および図２に示す光導波路１は、シート状をなしており、第１カバー層１８、第１クラッド層１１、コア層１３、第２クラッド層１２および第２カバー層１９がこの順で積層されている積層構造を備える。積層構造の各層は、Ｘ－Ｙ面に沿って広がっている。光導波路１は、後述するように、Ｘ軸に長軸を有する長尺状の樹脂フィルムであり、可撓性を有する。このため、光導波路１は、例えば、Ｚ軸に沿って曲げた状態でも使用可能である。
【0018】
コア層１３中には、図１に示すように、Ｘ軸に沿って延在する９本の長尺状のコア部１４と、各コア部１４の側面に隣接する側面クラッド部１５と、が形成されている。したがって、コア部１４のうち、Ｙ軸方向の両側面には、いずれも側面クラッド部１５が隣接している。また、図２に示すように、コア部１４の下面には第１クラッド層１１が隣接し、コア部１４の上面には第２クラッド層１２が隣接している。これにより、コア部１４とクラッド部（側面クラッド部１５、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２）との間には、十分に大きい屈折率差が安定的に維持され、コア部１４の伝送効率が高くなる。なお、コア部１４は、コア層１３中において、途中で分岐していてもよいし、途中で他のコア部１４と交差していてもよい。
【0019】
なお、コア層１３中に設けられるコア部１４の数は、特に限定されず、例えば１～１００本程度とされる。また、光導波路１のＸ軸に沿った全長は、特に限定されないが、１０～３０００ｍｍ程度であるのが好ましい。さらに、光導波路１のＹ軸に沿った全幅は、特に限定されないが、２～２００ｍｍ程度であるのがより好ましい。
【0020】
コア層１３のＺ軸に沿った膜厚は、特に限定されないが、１～２００μｍ程度であるのが好ましく、５～１００μｍ程度であるのがより好ましく、１０～７０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、コア層１３に必要とされる光学的特性および機械的強度が確保される。
【0021】
第１クラッド層１１および第２クラッド層１２のＺ軸に沿った膜厚は、それぞれ１～２００μｍ程度であるのが好ましく、３～１００μｍ程度であるのがより好ましく、５～５０μｍ程度であるのがさらに好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２に必要とされる光学的特性および機械的強度が確保される。また、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２をクラッド形成層から形成するとき、クラッド形成層の硬化収縮量が大きくなりすぎるのを抑制し、その影響がコア層１３に及ぶのを抑制することができる。
【0022】
光導波路１は、Ｘ軸マイナス側の端部に位置する端面１０１と、Ｘ軸プラス側の端部に位置する端面１０２と、を有する。端面１０１、１０２は、それぞれ光入出射面として機能する。
【0023】
光導波路１の両端部の少なくとも一方には、図示しない光コネクターが装着されていてもよい。光コネクターを介して、光導波路１と他の光学部品とを固定するとともに、端面１０１、１０２と他の光学部品との間を光学的に接続することができる。また、光導波路１は、コア部１４を通過する光の光路を変換するミラーを有していてもよい。ミラーを介して光路を変換することにより、コア部１４と、光導波路１の外部に設けられた光学部品と、を光学的に接続することができる。
【0024】
第１カバー層１８は、第１クラッド層１１の下面に積層されている。第２カバー層１９は、第２クラッド層１２の上面に積層されている。これにより、光導波路１の機械的特性や耐久性を高めることができる。
【0025】
光導波路１のＺ軸に沿った膜厚は、５０～３００μｍであるのが好ましく、６０～２００μｍであるのがより好ましく、７０～１５０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、光導波路１の可撓性を高めつつ、光導波路１の機械的強度を十分に確保することができる。
【0026】
以下、光導波路１の各部についてさらに詳述する。
２．光導波路の製造方法
次に、実施形態に係る光導波路の製造方法について説明する。以下の説明では、図１および図２に示す光導波路１の製造方法を例にして説明する。
２．光導波路の製造方法
次に、実施形態に係る光導波路の製造方法について説明する。以下の説明では、図１および図２に示す光導波路１の製造方法を例にして説明する。
【0027】
【0028】
図３に示す光導波路１の製造方法は、準備工程Ｓ１０２と、コア層形成工程Ｓ１０４と、クラッド層形成工程Ｓ１０６と、を有する。
【0029】
準備工程Ｓ１０２では、コア形成層１６０およびクラッド形成層１７０を準備する。コア層形成工程Ｓ１０４では、コア形成層１６０の一部に活性放射線Ｒを照射し、コア部１４および側面クラッド部１５を含むコア層１３を得る。クラッド層形成工程Ｓ１０６では、コア層１３にクラッド形成層１７０を積層し、加熱することにより、光導波路１を得る。
【0030】
そして、本実施形態に係る光導波路１の製造方法では、クラッド形成層１７０の製造時点からの経過時間に応じて、活性放射線Ｒを照射する照射領域３０１および非照射領域３０２の少なくとも一方の大きさを調整する。
【0031】
このような構成によれば、クラッド形成層１７０に起因して発生する、コア層１３の変形を見越して、照射領域３０１および非照射領域３０２の少なくとも一方の大きさを調整することができる。これにより、コア層１３が変形したとしても、コア部１４および側面クラッド部１５の少なくとも一方の大きさを、目的とする大きさに近づけることができる。その結果、図２に示す、コア部１４のピッチＰの精度が高い光導波路１を効率よく製造することができる。
【0032】
以下、各工程について順次説明する。
２．１．準備工程
準備工程Ｓ１０２では、コア形成層１６０およびクラッド形成層１７０を準備する。
２．１．準備工程
準備工程Ｓ１０２では、コア形成層１６０およびクラッド形成層１７０を準備する。
【0033】
本実施形態では、図４（ａ）に示すように、基材１００と、基材１００の上面に積層されたコア形成層１６０と、を有するコアフィルム２００を準備する。
【0034】
また、本実施形態では、図５（ｆ）に示すように、第２カバー層１９と、第２カバー層１９の下面に積層されたクラッド形成層１７０と、を有するクラッドフィルム４０２を準備する。同様に、図６（ｉ）に示すように、第１カバー層１８と、第１カバー層１８の上面に積層されたクラッド形成層１７０と、を有するクラッドフィルム４０１を準備する。
【0035】
２．１．１．コアフィルム
コアフィルム２００は、前述したように、基材１００とコア形成層１６０との積層体である。コアフィルム２００は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
コアフィルム２００は、前述したように、基材１００とコア形成層１６０との積層体である。コアフィルム２００は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
【0036】
コア形成層１６０の形成方法としては、例えば、ワニス状のコア形成用樹脂組成物を基材１００上に塗布した後、乾燥させる方法、基材１００上に樹脂膜を積層する方法等が挙げられる。
【0037】
樹脂組成物を塗布する方法では、例えば、スピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等の各種コーターを用いて塗布する方法、スクリーン印刷のような印刷方法等が用いられる。
【0038】
樹脂膜を積層する方法では、ワニス状のコア形成用樹脂組成物から作製したフィルム状の樹脂膜を、例えばロールラミネート、真空ロールラミネート、平板ラミネート、真空平板ラミネート、常圧プレス、真空プレス等を用いて積層する方法等が用いられる。
【0039】
なお、コアフィルム２００は、最終的に複数の光導波路１を切り出すことができるように、光導波路１に対応する領域を複数含んでいてもよい。この場合、光導波路１を切り出す工程を追加することにより、光導波路１をより効率よく製造することができる。
【0040】
２．１．１．１．基材
基材１００には、例えば、樹脂フィルムが用いられる。基材１００の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなフッ素樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー等が挙げられる。
基材１００には、例えば、樹脂フィルムが用いられる。基材１００の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなフッ素樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー等が挙げられる。
【0041】
なお、基材１００には、必要に応じて、コア層１３と基材１００との剥離を容易にする離型処理等が施されていてもよい。
【0042】
２．１．１．２．コア形成用樹脂組成物
上記のコア形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
上記のコア形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
【0043】
２．１．１．２．１．ポリマー
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
【0044】
これらの中でも、ポリマーには、アクリル系樹脂、フェノキシ樹脂、または、環状オレフィン系樹脂が好ましく用いられる。
【0045】
アクリル系樹脂としては、例えば、単官能アクリレート、多官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能メタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ポリエステルアクリレート、および、尿素アクリレートからなる群から選択される１種以上を含むアクリル化合物の重合体が挙げられる。また、アクリル系樹脂は、ポリエステル骨格、ポリプロピレングリコール骨格、ビスフェノール骨格、フルオレン骨格、トリシクロデカン骨格、ジシクロペンタジエン骨格等を有していてもよい。
【0046】
フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体、およびビスフェノールＦ、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体を共重合成分の構成単位として含むものが挙げられる。
【0047】
ポリマーの含有量は、例えば、コア形成用樹脂組成物の固形分全体の１５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、６０質量％以上であることがさらに好ましい。これにより、コア層１３の機械的特性が向上する。また、コア形成用樹脂組成物に含まれるポリマーの含有量は、コア形成用樹脂組成物の固形分全体の９５質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましい。これにより、コア層１３の光学的特性が向上する。
【0048】
コア形成用樹脂組成物の固形分全体とは、組成物中における不揮発分を指し、水や溶媒等の揮発成分を除いた残部を指す。
【0049】
２．１．１．２．２．モノマー
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
【0050】
これらの中でも、モノマーとしては、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、または、エポキシ系モノマーが好ましく用いられる。
【0051】
アクリル酸（メタクリル酸）系モノマーとしては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。具体的には、例えば、脂肪族（メタ）アクリレート、脂環式（メタ）アクリレート、芳香族（メタ）アクリレート、複素環式（メタ）アクリレート、またはこれらのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体等が挙げられる。また、分子内に、ビスフェノール骨格、ウレタン骨格等を有していてもよい。
【0052】
エポキシ系モノマーとしては、例えば、脂環族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
【0053】
モノマーとしては、可視光、紫外線、赤外線、レーザー光、電子線、Ｘ線等の活性放射線の照射により、照射領域において反応して反応物を生成する光重合性モノマーを用いてもよい。また、モノマーは、活性放射線の照射時において、コア形成層１６０中の膜厚と直交する面内方向に移動可能であり、その結果として得られるコア層１３において、活性放射線の照射領域と非照射領域との間で屈折率差を生じさせるものであってもよい。
【0054】
モノマーの含有量は、ポリマー１００質量部に対し、１質量部以上７０質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上６０質量部以下であることがより好ましい。これにより、上記の屈折率差の形成、すなわち屈折率変調をより確実に起こすことができる。
【0055】
２．１．１．２．３．重合開始剤
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
【0056】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Irgacure、登録商標）６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２９５９、イルガキュア１８４（以上、ＩＧＭジャパン合同会社製）等が挙げられる。
【0057】
カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型のもの、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型のもの等が挙げられる。具体的には、アデカオプトマーＳＰ－１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、サンエイドＳＩ－１００Ｌ（三新化学工業株式会社製）、Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ２０７４（ローディアジャパン株式会社製）等が挙げられる。
【0058】
重合開始剤の含有量は、ポリマー１００質量部に対し、０．０１質量部以上５質量部以下であることが好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下であることがより好ましい。これにより、コア層１３の光学的特性や機械的特性を低下させることなく、モノマーを速やかに反応させることができる。
【0059】
２．１．１．２．４．その他
コア形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
コア形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
【0060】
２．１．１．２．５．溶剤
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のコア形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のコア形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
【0061】
コア形成用樹脂組成物に含まれる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、セルソルブ系、カルビトール系、アニソール、Ｎ－メチルピロリドン等の有機溶剤が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上の混合物が用いられる。
【0062】
２．１．２．クラッドフィルム
クラッドフィルム４０１は、前述したように、第１カバー層１８とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム４０２は、前述したように、第２カバー層１９とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム４０１、４０２は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
クラッドフィルム４０１は、前述したように、第１カバー層１８とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム４０２は、前述したように、第２カバー層１９とクラッド形成層１７０との積層体である。クラッドフィルム４０１、４０２は、フィルム形状であり、枚葉状であっても、巻き取り可能なロール状であってもよい。
【0063】
クラッド形成層１７０の形成方法としては、例えば、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物をカバー層上に塗布した後、乾燥させる方法、カバー層上に樹脂膜を積層する方法等が挙げられる。
【0064】
樹脂組成物を塗布する方法では、例えば、スピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等の各種コーターを用いて塗布する方法、スクリーン印刷のような印刷方法等が用いられる。
【0065】
樹脂膜を積層する方法では、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物から作製したフィルム状の樹脂膜を、例えばロールラミネート、真空ロールラミネート、平板ラミネート、真空平板ラミネート、常圧プレス、真空プレス等を用いて積層する方法等が用いられる。
【0066】
２．１．２．１．カバー層
第１カバー層１８および第２カバー層１９の膜厚は、特に限定されないが、１～２００μｍ程度であるのが好ましく、３～１００μｍ程度であるのがより好ましく、５～５０μｍ程度であるのがさらに好ましい。各カバー層の膜厚が前記範囲内であれば、第１カバー層１８および第２カバー層１９によってコア層１３等を保護する能力を確保しつつ、光導波路１が厚くなりすぎることの弊害、例えば光導波路１の可撓性が低下すること等を抑制することができる。
第１カバー層１８および第２カバー層１９の膜厚は、特に限定されないが、１～２００μｍ程度であるのが好ましく、３～１００μｍ程度であるのがより好ましく、５～５０μｍ程度であるのがさらに好ましい。各カバー層の膜厚が前記範囲内であれば、第１カバー層１８および第２カバー層１９によってコア層１３等を保護する能力を確保しつつ、光導波路１が厚くなりすぎることの弊害、例えば光導波路１の可撓性が低下すること等を抑制することができる。
【0067】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の膜厚は、互いに異なっていてもよいが、互いに同じであるのが好ましい。これにより、膜厚の違いに伴う光導波路１の反りを抑制することができる。なお、膜厚が同じとは、膜厚の差が５μｍ以下であることをいう。
【0068】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の主材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなフッ素樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー等の各種樹脂を含む材料が挙げられる。
【0069】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の主材料は、互いに異なっていてもよいが、互いに同じであるのが好ましい。これにより、主材料の違いに伴う光導波路１の反りを抑制することができる。
【0070】
第１カバー層１８および第２カバー層１９の弾性率は、１～１２ＧＰａであるのが好ましく、２～１１ＧＰａであるのがより好ましく、３～１０ＧＰａであるのがさらに好ましい。なお、上記弾性率は、引張り弾性率とする。
【0071】
２．１．２．２．クラッド形成用樹脂組成物
上記のクラッド形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
上記のクラッド形成用樹脂組成物としては、例えば、ポリマー、モノマー、重合開始剤等を含む組成物が挙げられる。
【0072】
２．１．２．２．１．ポリマー
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
ポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ＰＥＴやＰＢＴのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて、ポリマーアロイ、ポリマーブレンド（混合物）、共重合体等として用いられる。
【0073】
これらの中でも、ポリマーには、アクリル系樹脂、フェノキシ樹脂、または、環状オレフィン系樹脂が好ましく用いられる。
【0074】
アクリル系樹脂としては、例えば、単官能アクリレート、多官能アクリレート、単官能メタクリレート、多官能メタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ポリエステルアクリレート、および、尿素アクリレートからなる群から選択される１種以上を含むアクリル化合物の重合体が挙げられる。また、アクリル系樹脂は、ポリエステル骨格、ポリプロピレングリコール骨格、ビスフェノール骨格、フルオレン骨格、トリシクロデカン骨格、ジシクロペンタジエン骨格等を有していてもよい。
【0075】
フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体、およびビスフェノールＦ、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物またはそれらの誘導体を共重合成分の構成単位として含むものが挙げられる。
【0076】
また、ポリマーは、必要に応じて熱硬化性樹脂を含んでもよい。熱硬化性樹脂としては、例えば、アミノ樹脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、マレイミド化合物、ベンゾオキサジン化合物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物、シクロカーボネート化合物、多官能オキセタン化合物、エピスルフィド樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
【0077】
ポリマーの含有量は、例えば、クラッド形成用樹脂組成物の固形分全体の１５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、６０質量％以上であることがさらに好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２の機械的特性が向上する。また、クラッド形成用樹脂組成物に含まれるポリマーの含有量は、クラッド形成用樹脂組成物の固形分全体の９５質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２の光学的特性が向上する。
【0078】
クラッド形成用樹脂組成物の固形分全体とは、組成物中における不揮発分を指し、水や溶媒等の揮発成分を除いた残部を指す。
【0079】
２．１．２．２．２．モノマー
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
モノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、特に限定されないが、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いられる。
【0080】
これらの中でも、モノマーとしては、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、または、エポキシ系モノマーが好ましく用いられる。
【0081】
アクリル酸（メタクリル酸）系モノマーとしては、例えば、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレート等が挙げられる。具体的には、例えば、脂肪族（メタ）アクリレート、脂環式（メタ）アクリレート、芳香族（メタ）アクリレート、複素環式（メタ）アクリレート、またはこれらのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体等が挙げられる。また、分子内に、ビスフェノール骨格、ウレタン骨格等を有していてもよい。
【0082】
エポキシ系モノマーとしては、例えば、脂環族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
【0083】
モノマーの含有量は、ポリマー１００質量部に対し、１質量部以上７０質量部以下であることが好ましく、１０質量部以上６０質量部以下であることがより好ましい。
【0084】
２．１．２．２．３．重合開始剤
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
重合開始剤は、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。重合開始剤としては、例えば、アクリル酸（メタクリル酸）系モノマー、スチレン系モノマー等のラジカル重合開始剤、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー等のカチオン重合開始剤を用いることができる。
【0085】
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。具体的には、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２９５９、イルガキュア１８４（以上、ＩＧＭジャパン合同会社製）等が挙げられる。
【0086】
カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型のもの、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型のもの等が挙げられる。具体的には、アデカオプトマーＳＰ－１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、サンエイドＳＩ－１００Ｌ（三新化学工業株式会社製）、Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ２０７４（ローディアジャパン株式会社製）等が挙げられる。
【0087】
重合開始剤の含有量は、ポリマー１００質量部に対し、０．０１質量部以上５質量部以下であることが好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下であることがより好ましい。これにより、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２の光学的特性や機械的特性を低下させることなく、モノマーを速やかに反応させることができる。
【0088】
２．１．２．２．４．その他
クラッド形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
クラッド形成用樹脂組成物は、例えば、架橋剤、増感剤（光増感剤）、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、劣化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
【0089】
２．１．２．２．５．溶剤
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
上述した成分を溶剤中に添加し、撹拌することにより、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物が得られる。得られた組成物は、例えば０．２μｍの孔径を持つＰＴＦＥフィルターによるろ過処理に供されてもよい。また、得られた組成物は、各種混合機による混合処理に供されてもよい。
【0090】
クラッド形成用樹脂組成物に含まれる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、酢酸エチル、シクロヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、セルソルブ系、カルビトール系、アニソール、Ｎ－メチルピロリドン等の有機溶剤が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上の混合物が用いられる。
【0091】
なお、第１クラッド層１１を形成するためのクラッド形成用樹脂組成物と、第２クラッド層１２を形成するためのクラッド形成用樹脂組成物とは、互いに同じであっても、互いに異なっていてもよい。
【0092】
２．２．コア層形成工程
コア層形成工程Ｓ１０４では、コア形成層１６０からコア層１３を形成する。具体的には、コア形成層１６０の一部に活性放射線Ｒを照射し、非照射領域３０２に対応する複数のコア部１４、および、コア部１４同士の間に位置し、照射領域３０１に対応する側面クラッド部１５、を含むコア層１３を得る。
コア層形成工程Ｓ１０４では、コア形成層１６０からコア層１３を形成する。具体的には、コア形成層１６０の一部に活性放射線Ｒを照射し、非照射領域３０２に対応する複数のコア部１４、および、コア部１４同士の間に位置し、照射領域３０１に対応する側面クラッド部１５、を含むコア層１３を得る。
【0093】
照射領域３０１および非照射領域３０２の設定には、例えば、図４（ｂ）に示すフォトマスク３０３を用いる方法が用いられる。フォトマスク３０３を介して活性放射線Ｒを照射することにより、フォトマスク３０３のマスクパターンに対応して照射領域３０１および非照射領域３０２を設定することができる。
【0094】
なお、フォトマスク３０３を用いる方法に代えて、直描露光機３０４を用いる方法を採用してもよい。図４（ｃ）では、活性放射線Ｒを直描露光機３０４により照射している。直描露光機３０４としては、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）のような反射型空間光変調素子、液晶表示素子（ＬＣＤ）のような透過型空間光変調素子といった各種の空間光変調素子を利用して、照射領域を選択し得る露光機が挙げられる。このような直描露光機３０４を用いることにより、フォトマスク３０３を用いることなく、照射領域３０１および非照射領域３０２の設定が可能になる。これにより、フォトマスク３０３を作り変えることなく、照射領域３０１や非照射領域３０２の大きさを調整することができるので、光導波路１の製造コストの低減および効率化を図ることができる。
【0095】
図４（ｂ）および図４（ｃ）には、コア形成層１６０が含むポリマー１３１およびモノマー１３２を図示している。活性放射線Ｒを照射する前のコア形成層１６０では、ポリマー１３１中にモノマー１３２がほぼ均一に分布している。なお、ここでは、モノマー１３２やモノマー１３２由来の構造は、ポリマー１３１よりも屈折率が低いものとする。
【0096】
活性放射線Ｒを照射した後、コア形成層１６０を加熱する。この加熱により、照射領域３０１に存在する重合開始剤が活性化し、モノマー１３２の反応が進行する。これにより、モノマー１３２の濃度差が生じ、それに伴ってモノマー１３２の移動が生じる。その結果、図５（ｄ）に示すように、照射領域３０１におけるモノマー１３２の濃度が上昇することともに、非照射領域３０２におけるモノマー１３２の濃度が低下する。これにより、照射領域３０１の屈折率は、モノマー１３２の影響を受けて低くなり、非照射領域３０２の屈折率は、ポリマー１３１の影響を受けて高くなる。その結果、図５（ｅ）に示すように、コア部１４および側面クラッド部１５を含むコア層１３が得られる。
【0097】
コア形成層１６０の加熱条件としては、例えば、加熱温度：１００～２００℃、加熱時間：１０～１８０分が挙げられる。
【0098】
なお、この加熱に伴って、モノマー１３２が揮発したり、ポリマー１３１の分子構造が変化したりすることによって屈折率が変化してもよい。
【0099】
以上、コア形成用樹脂組成物に活性放射線Ｒを照射してコア層１３を形成する方法について説明したが、コア層１３の形成方法は、上記の方法に限定されない。例えば、フォトリソグラフィー法、複製法等を用いるようにしてもよい。フォトリソグラフィー法は、露光、現像技術とエッチング技術とを組み合わせて、互いに屈折率が異なる材料でコア部１４および側面クラッド部１５を形成する方法である。また、複製法は、例えばコアパターンを有する型を樹脂膜に押し付けてコア部１４を形成し、その後、側面クラッド部１５を形成する方法である。また、活性放射線Ｒを照射する前のコア形成層１６０または活性放射線Ｒを照射した後のコア形成層１６０に対し、必要に応じて、表面処理を施すようにしてもよい。表面処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理等が挙げられる。
【0100】
２．３．クラッド層形成工程
クラッド層形成工程Ｓ１０６では、コア層１３に第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を積層するとともに、基材１００を剥離する。これにより、光導波路１を得る。
クラッド層形成工程Ｓ１０６では、コア層１３に第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を積層するとともに、基材１００を剥離する。これにより、光導波路１を得る。
【0101】
本実施形態では、図５（ｆ）に示すように、クラッドフィルム４０２をコア層１３の上面に積層する。そして、得られた積層体を加熱する。これにより、図６（ｇ）に示すように、コア層１３とクラッドフィルム４０２とが接合する。その結果、コア層１３を覆う第２クラッド層１２が得られる。このときの加熱条件としては、例えば、加熱温度：１００～２００℃、加熱時間：１０～１８０分が挙げられる。
【0102】
また、図６（ｈ）に示すように、コア層１３から基材１００を剥離した後、図６（ｉ）に示すように、クラッドフィルム４０１をコア層１３の下面に積層する。そして、得られた積層体を加熱する。これにより、コア層１３とクラッドフィルム４０１とが接合する。その結果、コア層１３を覆う第１クラッド層１１が得られる。このときの加熱条件としては、例えば、加熱温度：１００～２００℃、加熱時間：１０～１８０分が挙げられるが、第２クラッド層１２を形成するときの加熱条件よりも、高温または長時間に設定されるのが好ましい。
以上のようにして図２に示す光導波路１が得られる。
以上のようにして図２に示す光導波路１が得られる。
【0103】
２．４．照射領域および非照射領域の調整
ここで、コア層形成工程Ｓ１０４における照射領域３０１および非照射領域３０２の調整について説明する。
ここで、コア層形成工程Ｓ１０４における照射領域３０１および非照射領域３０２の調整について説明する。
【0104】
前述したように、本実施形態では、クラッド形成層１７０の製造時点からの経過時間に応じて、照射領域３０１および非照射領域３０２の少なくとも一方の大きさを調整する。
【0105】
クラッド形成層１７０は、クラッドフィルム４０１、４０２の形態であらかじめ製造され、保管されることがある。この場合、クラッド層形成工程Ｓ１０６を行うタイミングで、保管されているクラッドフィルム４０１、４０２から必要量を切り出し、使用される。そうすると、クラッド層形成工程Ｓ１０６に供されるクラッドフィルム４０１、４０２は、製造時点からの経過時間が一定しないが、あらかじめ多量のクラッドフィルム４０１、４０２を製造しておくことができるので、製造効率を高めやすい。
【0106】
ところが、クラッドフィルム４０１、４０２の製造時点からの経過時間が変わると、コア部１４のピッチＰが変化することがわかってきた。コア部１４のピッチＰとは、図２に示すように、Ｙ軸に沿ってコア部１４が並んでいるとき、コア部１４の光軸同士の距離を指す。
【0107】
そこで、本発明者は、クラッドフィルム４０１、４０２の製造時点からの経過時間Ｔと、コア部１４のピッチＰと、の関係について、鋭意検討を重ねた。そして、両者に相関関係があること、および、この相関関係に基づいて活性放射線Ｒの照射範囲を設定することにより、ピッチＰを目的とする値に近づけられることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0108】
具体的には、経過時間ＴとピッチＰとの間には、負の相関関係があり、クラッドフィルム４０１、４０２の経過時間Ｔが長くなると、クラッドフィルム４０１、４０２に起因してコア層１３がＹ軸に沿って縮み（変形し）、ピッチＰが短くなる。
【0109】
そこで、本実施形態では、経過時間Ｔが長いクラッドフィルム４０１、４０２を用いて光導波路１を製造するときには、クラッドフィルム４０１、４０２に起因したコア層１３の縮みを見越して、照射領域３０１および非照射領域３０２の少なくとも一方の大きさを、経過時間Ｔに応じて大きく設定する。これにより、ピッチＰを目的とする値に近づけることができる。その結果、コア部１４のピッチＰの精度が高い光導波路１を効率よく製造することができる。
【0110】
また、経過時間ＴとピッチＰとの関係は、クラッドフィルム４０１、４０２を保管する温度によっても変化する。例えば、クラッドフィルム４０１、４０２を常温未満の低温で保管する場合、経過時間Ｔが長くても、ピッチＰの変化は許容範囲内に抑えやすい。これに対し、クラッドフィルム４０１、４０２を常温以上の温度で保管する場合、経過時間Ｔが長くなると、ピッチＰの変化が顕在化する。
【0111】
そこで、経過時間Ｔは、常温に置かれた日数である常温保管日数としてもよい。つまり、常温未満、特に１０℃以下では、経過時間ＴがピッチＰに及ぼす影響が小さいことを踏まえ、経過時間Ｔとして、常温保管日数を特に考慮するようにしてもよい。
【0112】
図７は、第２クラッド層１２を有するクラッドフィルム４０２の常温保管日数と、コア部１４のピッチＰと、の相関関係を示す散布図である。図７には、実測データをドットで表している。クラッドフィルム４０２の常温保管日数とは、冷蔵庫内で保管していたクラッドフィルム４０２を、冷蔵庫から取り出し、常温で保管し始めた時点からの経過日数である。冷蔵庫内の温度は、１０℃以下である。また、常温とは、１５～３０℃を指す。
【0113】
常温保管日数とピッチＰとの間には、図７に破線で示すように、負の相関関係があり、クラッドフィルム４０１、４０２の常温保管日数が長くなると、ピッチＰが短くなる。なお、保管時の温度が常温より低い場合には、破線の傾きが、図７よりも緩くなると考えられる。
【0114】
本実施形態では、コア層形成工程Ｓ１０４において照射領域３０１および非照射領域３０２を設定するとき、これらの少なくとも一方について、本来の大きさに補正倍率を掛けることで、大きさを補正する。補正倍率を用いて照射領域３０１等の大きさを調整することにより、クラッドフィルム４０１、４０２に起因してコア層１３が変形したとしても、変形後のピッチＰを目的とする値に近づけることができる。
【0115】
図８は、第２クラッド層１２を有するクラッドフィルム４０２の常温保管日数ｘと、図７に示すコア層１３の縮みを補正するのに必要な補正倍率ｙと、の相関関係を示す散布図である。図８には、実測データをドットで示している。
【0116】
常温保管日数ｘと補正倍率ｙとの間には、図８に示すように、正の相関関係があり、常温保管日数ｘが長くなると、補正に必要な補正倍率ｙも大きくなる。
【0117】
このとき、下記補正式（１）を満たすように補正倍率ｙを設定することが好ましい。
ｙ＝ｘＡ （１）
［上記補正式（１）中、Ａは、０．０００１５～０．０００４５である。］
ｙ＝ｘＡ （１）
［上記補正式（１）中、Ａは、０．０００１５～０．０００４５である。］
【0118】
上記補正式（１）で表される補正倍率ｙとは、照射領域３０１および非照射領域３０２の少なくとも一方について、Ｙ軸方向における長さを補正するための倍率である。なお、図８には、Ａ＝０．０００１５のとき、上記補正式（１）が表す曲線を一点鎖線で示し、Ａ＝０．０００４５のとき、上記補正式（１）が表す曲線を破線で示している。
【0119】
図８に示すように、実測データは、上記補正式（１）の範囲内に収まっている。したがって、上記補正式（１）を用いることにより、常温での保管の影響を加味して、補正倍率ｙをより精度よく求めることができる。その結果、コア部１４のピッチＰの精度をより高めた光導波路１を効率よく製造することができる。
【0120】
なお、照射領域３０１のＹ軸に沿う長さ、および、非照射領域３０２のＹ軸に沿う長さ、の双方を、共通の補正倍率ｙで補正するのが好ましいが、互いに異なる補正倍率ｙで補正してもよいし、いずれか一方のみを補正してもよい。また、上記補正式（１）中、Ａは、特に０．０００２０～０．０００４０であるのが好ましい。また、補正式（１）は、一例であり、これに限定されない。例えば、補正式（１）に代えて、式（１）に任意の係数を追加した式を用いるようにしてもよい。
【0121】
以上、クラッドフィルム４０１、４０２の製造時点からの経過時間Ｔと、コア部１４のピッチＰと、の関係について説明したが、上述した製造方法では、クラッドフィルム４０１の常温保管日数の影響は、クラッドフィルム４０２ほど大きくない。この理由は、上述した製造方法では、コア層１３に対してクラッドフィルム４０２を先に積層し、その後、クラッドフィルム４０１を積層するという順序を採用していることにあると考えられる。
【0122】
そこで、クラッドフィルム４０１の常温保管日数とクラッドフィルム４０２の常温保管日数とが異なる場合、クラッドフィルム４０２の常温保管日数を優先し、それに基づいて照射領域３０１等の大きさを調整すればよい。
【0123】
図９は、第１クラッド層１１を有するクラッドフィルム４０１の常温保管日数および第２クラッド層１２を有するクラッドフィルム４０２の常温保管日数が、互いに同じ場合と互いに異なる場合とで、コア部１４のピッチＰがどのように変化するかを示したグラフである。なお、図９の例では、ピッチＰの目的とする値（目標値）が２７５０μｍである。
【0124】
サンプルＮｏ．１は、クラッドフィルム４０１、４０２の双方で常温保管日数が短い例である。
【0125】
サンプルＮｏ．２は、クラッドフィルム４０１、４０２の双方で常温保管日数が長い例である。
【0126】
サンプルＮｏ．３は、クラッドフィルム４０１の常温保管日数が長く、クラッドフィルム４０２の常温保管日数が短い例である。
【0127】
サンプルＮｏ．４は、クラッドフィルム４０１の常温保管日数が短く、クラッドフィルム４０２の常温保管日数が長い例である。
【0128】
これら４つのサンプルについてピッチＰを比較すると、図９に示すように、クラッドフィルム４０２の常温保管日数が長い場合、クラッドフィルム４０１の常温保管日数が長い場合に比べて、目標値２７５０μｍに対するピッチＰの変化量が大きくなっている。これに対し、クラッドフィルム４０２の常温保管日数が短い場合、クラッドフィルム４０１の常温保管日数によらず、目標値２７５０μｍに対するピッチＰの変化量が小さくなっている。
【0129】
以上の結果を踏まえると、コア層１３に対して先に積層されるクラッドフィルム４０２の影響の方が、後に積層されるクラッドフィルム４０１の影響よりも支配的であることがわかる。
【0130】
なお、製造方法によっては、クラッドフィルム４０１、４０２の双方がピッチＰに強く影響する場合もあると考えられる。例えば、コア層１３に対してクラッドフィルム４０１、４０２を同時に積層する場合等がそれに該当する。その場合、クラッドフィルム４０１、４０２の常温保管日数の平均値等、任意の演算値を算出し、それを上記の常温保管日数に当てはめればよい。
【0131】
以上のように、本実施形態では、クラッドフィルム４０１、４０２の製造時点からの経過時間Ｔが、コア部１４のピッチＰに及ぼす影響に基づいて、照射領域３０１等を調整している。このように、クラッドフィルム４０１、４０２の経過時間ＴがピッチＰに影響を及ぼすメカニズムには、いくつか考えられるが、１つのメカニズムとして、経過時間Ｔが長くなるにつれて、クラッド形成層１７０における硬化反応の速度が低下することが挙げられる。
【0132】
経過時間Ｔが長くても硬化反応の速度が低下しないと仮定した場合、コア層１３に積層されたクラッド形成層１７０が加熱されたとき、クラッド形成層１７０は、速やかに硬化しつつコア層１３と接合する。このため、コア層１３の収縮は抑制されるはずである。
【0133】
これに対し、硬化反応の速度が低下していると仮定した場合、クラッド形成層１７０の硬化が遅れるため、クラッド形成層１７０がコア層１３と接合する前に、加熱に伴うコア層１３の収縮が進行すると考えられる。そして、クラッドフィルム４０１、４０２の経過時間Ｔが長いほど、コア部１４のピッチＰの変化量が大きくなると考えられるため、実際の現象と一致する。
【0134】
以上のように、本実施形態に係る光導波路の製造方法は、準備工程Ｓ１０２と、コア層形成工程Ｓ１０４と、クラッド層形成工程Ｓ１０６と、を有する。準備工程Ｓ１０２では、コア形成層１６０およびクラッド形成層１７０を準備する。コア層形成工程Ｓ１０４では、コア形成層１６０の一部に活性放射線Ｒを照射し、非照射領域３０２に対応する複数のコア部１４、および、コア部１４同士の間に位置し、照射領域３０１に対応する側面クラッド部１５、を含むコア層１３を得る。クラッド層形成工程Ｓ１０６では、コア層１３にクラッド形成層１７０を積層し、加熱することにより、コア層１３、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２を有する光導波路１を得る。そして、コア層形成工程Ｓ１０４では、クラッド形成層１７０の製造時点からの経過時間Ｔに応じて、照射領域３０１および非照射領域３０２の少なくとも一方の大きさを調整する。
【0135】
このような構成によれば、クラッド形成層１７０を含むクラッドフィルム４０１、４０２に起因して発生するコア層１３の変形を見越して、照射領域３０１および非照射領域３０２の少なくとも一方の大きさを適切に設定することができる。これにより、コア部１４のピッチＰの精度が高い光導波路１を効率よく製造することができる。
【0136】
また、本実施形態で製造される光導波路１は、コア層１３と、コア層１３の両面に積層された第１クラッド層１１および第２クラッド層１２と、を備える。また、光導波路１を得る工程、すなわち、クラッド層形成工程Ｓ１０６の前におけるコア層１３は、基材１００上に設けられている。そして、クラッド層形成工程Ｓ１０６は、コア層１３にクラッド形成層１７０を積層し、積層体を得る操作と、積層体から基材１００を剥離する操作と、コア層１３にクラッド形成層１７０を積層し、加熱することにより、光導波路１を得る操作と、を有する。
【0137】
このような構成によれば、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２でコア層１３を挟んだ構造を有する光導波路１が得られる。このような光導波路１では、コア層１３と第１クラッド層１１および第２クラッド層１２との屈折率差が安定しているため、伝送損失が小さい光導波路１を効率よく製造することができる。
【0138】
また、本実施形態で製造される光導波路１は、第１カバー層１８と、第２カバー層１９と、をさらに備えている。第１カバー層１８は、第１クラッド層１１のコア層１３とは反対側に積層されている。第２カバー層１９は、第２クラッド層１２のコア層１３とは反対側に積層されている。
【0139】
このような構成によれば、第１カバー層１８および第２カバー層１９で、第１クラッド層１１、第２クラッド層１２およびコア層１３を保護することができる。これにより、光導波路１の耐久性を高められる。また、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２をコア層１３に対して積層するときの操作性が向上する。具体的には、第１クラッド層１１および第２クラッド層１２が非常に薄い場合でも、第１カバー層１８および第２カバー層１９で支持することにより、把持性、可搬性等が向上する。
【0140】
以上、本発明の光導波路の製造方法を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0141】
例えば、本発明の光導波路の製造方法は、前記実施形態に任意の目的の工程を追加したものであってもよい。
【実施例0142】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
３．光導波路の製造
３．１．コアフィルムの作製
３．１．１．ポリマーの合成
ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ、７．２ｇ、４０．１ｍｍｏｌ）、および、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン（ｄｉＰｈＮＢ、１２．９ｇ、４０．１ｍｍｏｌ）を、ドライボックス内で５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
３．光導波路の製造
３．１．コアフィルムの作製
３．１．１．ポリマーの合成
ヘキシルノルボルネン（ＨｘＮＢ、７．２ｇ、４０．１ｍｍｏｌ）、および、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン（ｄｉＰｈＮＢ、１２．９ｇ、４０．１ｍｍｏｌ）を、ドライボックス内で５００ｍＬバイアル瓶に計量し、脱水トルエン６０ｇと酢酸エチル１１ｇを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
【0143】
次に、１００ｍＬバイアル瓶中にＮｉ触媒１．５６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）および脱水トルエン１０ｍＬを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。このＮｉ触媒溶液１ｍＬをシリンジで正確に計量し、上記２種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に注入して室温で１時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。
【0144】
次に、１００ｍＬビーカーに無水酢酸９．５ｇ、過酸化水素水１８ｇ（濃度３０％）、イオン交換水３０ｇを加えて撹拌し、過酢酸水溶液を調製した。次に、この水溶液全量を上記反応溶液に加えて１２時間撹拌し、Ｎｉの還元処理を行った。
【0145】
次に、処理が完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの３０％水溶液を１００ｍＬ加えて激しく撹拌した。静置して完全に二層分離が行われた後、水層を除去した。この水洗プロセスを合計で３回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下し、生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、６０℃に設定した真空乾燥機中で１２時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマーを得た。
【0146】
得られたポリマー中の各構造単位のモル比は、ＮＭＲ測定による同定の結果、ヘキシルノルボルネン構造単位が５０ｍｏｌ％、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が５０ｍｏｌ％であった。
【0147】
３．１．２．コア形成用樹脂組成物の調製
上記ポリマーの１０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（ＢＡＳＦ社製、０．０１ｇ）、シクロヘキシルオキセタンモノマー（東亜合成社製、ＣＨＯＸ、２ｇ）、重合開始剤（光酸発生剤）Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ（登録商標） Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、０．０１２５ｇ、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加えて均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、ワニス状のコア形成用樹脂組成物を調製した。
上記ポリマーの１０ｇを１００ｍＬのガラス容器に秤量し、これにメシチレン４０ｇ、酸化防止剤Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（ＢＡＳＦ社製、０．０１ｇ）、シクロヘキシルオキセタンモノマー（東亜合成社製、ＣＨＯＸ、２ｇ）、重合開始剤（光酸発生剤）Ｒｈｏｄｏｒｓｉｌ（登録商標） Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒ ２０７４（Ｒｈｏｄｉａ社製、０．０１２５ｇ、酢酸エチル０．１ｍＬ中）を加えて均一に溶解させた後、０．２μｍのＰＴＦＥフィルターによりろ過を行い、ワニス状のコア形成用樹脂組成物を調製した。
【0148】
３．１．３．コア形成層の作製
離型処理が施された厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、上記コア形成用樹脂組成物を、ドクターブレードにより均一に塗布した後、４０℃の乾燥機に５分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした。これにより、膜厚４０μｍのコア形成層を備えるコアフィルムを得た。
離型処理が施された厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム上に、上記コア形成用樹脂組成物を、ドクターブレードにより均一に塗布した後、４０℃の乾燥機に５分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした。これにより、膜厚４０μｍのコア形成層を備えるコアフィルムを得た。
【0149】
３．２．露光処理
上記コアフィルムに対し、直描露光機により、並列した直線状の照射領域を含むパターンで紫外線を照射した。その後、コアフィルムをオーブンに入れ、加熱温度１６０℃、加熱時間６０分で加熱した。これにより、直線状のコア部を含むコア層を得た。なお、紫外線の積算光量は、１３００ｍＪ／ｃｍ２とした。
上記コアフィルムに対し、直描露光機により、並列した直線状の照射領域を含むパターンで紫外線を照射した。その後、コアフィルムをオーブンに入れ、加熱温度１６０℃、加熱時間６０分で加熱した。これにより、直線状のコア部を含むコア層を得た。なお、紫外線の積算光量は、１３００ｍＪ／ｃｍ２とした。
【0150】
３．３．クラッドフィルムの作製
３．３．１．クラッド形成用樹脂組成物の調製
環状オレフィン系樹脂を含むノルボルネン系樹脂組成物（プロメラス社製Ａｖａｔｒｅｌ（登録商標） ２５９０の２０重量％２－ヘプタノン溶液、１０ｇ）に、２－ウンデシルメチルイミダゾール（四国化成工業社製Ｃ１１Ｚ、０．０６ｇ）を添加して混合し、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物を調製した。
３．３．１．クラッド形成用樹脂組成物の調製
環状オレフィン系樹脂を含むノルボルネン系樹脂組成物（プロメラス社製Ａｖａｔｒｅｌ（登録商標） ２５９０の２０重量％２－ヘプタノン溶液、１０ｇ）に、２－ウンデシルメチルイミダゾール（四国化成工業社製Ｃ１１Ｚ、０．０６ｇ）を添加して混合し、ワニス状のクラッド形成用樹脂組成物を調製した。
【0151】
３．３．２．クラッド形成層の作製
上記クラッド形成用樹脂組成物を、厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（東レ・デュポン社製カプトン１００ＥＮＣ）および厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（宇部興産社製ユーピレックス２５ＳＧＡ）の上に、ドクターブレードでそれぞれ均一に塗布した後、４５℃の乾燥機において１５分間乾燥させた。これにより、膜厚６μｍのクラッド形成層を備えるクラッドフィルムを２枚作製した。
上記クラッド形成用樹脂組成物を、厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（東レ・デュポン社製カプトン１００ＥＮＣ）および厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（宇部興産社製ユーピレックス２５ＳＧＡ）の上に、ドクターブレードでそれぞれ均一に塗布した後、４５℃の乾燥機において１５分間乾燥させた。これにより、膜厚６μｍのクラッド形成層を備えるクラッドフィルムを２枚作製した。
【0152】
３．４．光導波路の作製
２枚のクラッドフィルムを内部温度５℃の冷蔵庫内で冷却した後、２２℃（常温）下に置き、所定日数放置した。常温下で放置した、厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（東レ・デュポン社製カプトン１００ＥＮＣ）を用いて作製したクラッドフィルムを、貼り合わせ装置に吸着固定した。一方、コア層を形成したコアフィルムにプラズマ処理を施した後、貼り合わせ装置に吸着固定した。なお、プラズマ処理は、プラズマ装置を用い、１００ｍＬ／ｍｉｎで酸素を導入した１０Ｐａの雰囲気下にコアフィルムを曝す処理である。その後、クラッドフィルムのクラッド形成層をコアフィルムに積層し、積層体を得た。続いて、ラミネーターにより、積層体を熱圧着した。得られた圧着体をオーブンに入れ、加熱温度１６０℃、加熱時間３０分で加熱した。その後、圧着体を室温まで徐冷した。
２枚のクラッドフィルムを内部温度５℃の冷蔵庫内で冷却した後、２２℃（常温）下に置き、所定日数放置した。常温下で放置した、厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（東レ・デュポン社製カプトン１００ＥＮＣ）を用いて作製したクラッドフィルムを、貼り合わせ装置に吸着固定した。一方、コア層を形成したコアフィルムにプラズマ処理を施した後、貼り合わせ装置に吸着固定した。なお、プラズマ処理は、プラズマ装置を用い、１００ｍＬ／ｍｉｎで酸素を導入した１０Ｐａの雰囲気下にコアフィルムを曝す処理である。その後、クラッドフィルムのクラッド形成層をコアフィルムに積層し、積層体を得た。続いて、ラミネーターにより、積層体を熱圧着した。得られた圧着体をオーブンに入れ、加熱温度１６０℃、加熱時間３０分で加熱した。その後、圧着体を室温まで徐冷した。
【0153】
次に、常温下で放置した、厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（宇部興産社製ユーピレックス２５ＳＧＡ）で作製したクラッドフィルムを、貼り合わせ装置に吸着固定した。一方、コア層を形成したコアフィルムから基材を剥離した。そして、剥離面にコロナ処理を施した後、クラッドフィルムのクラッド形成層をコア層の剥離面に積層し、積層体を得た。続いて、ラミネーターにより、積層体を熱圧着した。得られた圧着体をオーブンに入れ、加熱温度１８０℃、加熱時間１２０分で加熱し、光導波路を得た。
【0154】
そして、クラッドフィルムの常温保管日数を変えつつ、以上のような方法で、複数の光導波路を製造した。
【0155】
４．光導波路の評価
製造した複数の光導波路におけるコア部のピッチを測定した。そして、ピッチの測定値と、光導波路の製造に使用したクラッドフィルムの常温保管日数と、を直交座標系にプロットした。これにより、図７に示す散布図を得た。
製造した複数の光導波路におけるコア部のピッチを測定した。そして、ピッチの測定値と、光導波路の製造に使用したクラッドフィルムの常温保管日数と、を直交座標系にプロットした。これにより、図７に示す散布図を得た。
【0156】
【符号の説明】
【0157】
１ 光導波路
１１ 第１クラッド層
１２ 第２クラッド層
１３ コア層
１４ コア部
１５ 側面クラッド部
１８ 第１カバー層
１９ 第２カバー層
１００ 基材
１０１ 端面
１０２ 端面
１３１ ポリマー
１３２ モノマー
１６０ コア形成層
１７０ クラッド形成層
２００ コアフィルム
３０１ 照射領域
３０２ 非照射領域
３０３ フォトマスク
３０４ 直描露光機
４０１ クラッドフィルム
４０２ クラッドフィルム
Ｐ ピッチ
Ｒ 活性放射線
Ｓ１０２ 準備工程
Ｓ１０４ コア層形成工程
Ｓ１０６ クラッド層形成工程
ｘ 常温保管日数
ｙ 補正倍率
１１ 第１クラッド層
１２ 第２クラッド層
１３ コア層
１４ コア部
１５ 側面クラッド部
１８ 第１カバー層
１９ 第２カバー層
１００ 基材
１０１ 端面
１０２ 端面
１３１ ポリマー
１３２ モノマー
１６０ コア形成層
１７０ クラッド形成層
２００ コアフィルム
３０１ 照射領域
３０２ 非照射領域
３０３ フォトマスク
３０４ 直描露光機
４０１ クラッドフィルム
４０２ クラッドフィルム
Ｐ ピッチ
Ｒ 活性放射線
Ｓ１０２ 準備工程
Ｓ１０４ コア層形成工程
Ｓ１０６ クラッド層形成工程
ｘ 常温保管日数
ｙ 補正倍率
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
