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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023062651
(43)【公開日】2023-05-08
(54)【発明の名称】セラミック電子部品
(51)【国際特許分類】
   H01G 4/30 20060101AFI20230426BHJP
【FI】
H01G4/30 201L
H01G4/30 515
H01G4/30 201N
【審査請求】未請求
【請求項の数】13
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2022006021
(22)【出願日】2022-01-18
(31)【優先権主張番号】10-2021-0141289
(32)【優先日】2021-10-21
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(71)【出願人】
【識別番号】594023722
【氏名又は名称】サムソン エレクトロ-メカニックス カンパニーリミテッド.
(74)【代理人】
【識別番号】110000877
【氏名又は名称】弁理士法人RYUKA国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】キム、テ ヒュン
(72)【発明者】
【氏名】チュン、ヒー スン
(72)【発明者】
【氏名】リー、ヒョ ジュ
(72)【発明者】
【氏名】アン、ヒェグ スーン
(72)【発明者】
【氏名】パク、フイ スン
(72)【発明者】
【氏名】セオ、ジェオン ウーク
(72)【発明者】
【氏名】キム、ジン ウー
(72)【発明者】
【氏名】ヨーン、セオク ヒュン
【テーマコード(参考)】
5E001
5E082
【Fターム(参考)】
5E001AB03
5E001AE02
5E001AE03
5E001AE04
5E001AJ02
5E082AB03
5E082BC38
5E082EE04
5E082EE23
5E082EE35
5E082FF05
5E082FG04
5E082FG26
5E082FG46
5E082GG10
5E082PP03
(57)【要約】
【課題】
マージン部の焼結ミスマッチングの最小化及び緻密度向上を介して信頼性を改善することができるセラミック電子部品を提供する。
【解決手段】
本開示は、第1誘電体層及び内部電極を含む活性部、及び幅方向に上記活性部の両側部に配置され、第2誘電体層を含むマージン部を含む本体と、上記本体上に配置され、上記内部電極と連結される外部電極と、を含み、上記第1及び第2誘電体層は互いに異なる誘電体組成を有し、上記第1誘電体層はスズ(Sn)及びジスプロシウム(Dy)を含み、上記第2誘電体層はマグネシウム(Mg)を含む、セラミック電子部品に関するものである。
【選択図】図3
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第1誘電体層及び内部電極を含む活性部、及び幅方向に前記活性部の両側部に配置され、第2誘電体層を含むマージン部を有する本体と、
前記本体上に配置され、前記内部電極と連結される外部電極と、を備え、
前記第1及び第2誘電体層は互いに異なる誘電体組成を有し、
前記第1誘電体層はスズ(Sn)及びジスプロシウム(Dy)を含み、
前記第2誘電体層はマグネシウム(Mg)を含む、セラミック電子部品。
【請求項2】
前記第1誘電体層は、チタン酸バリウム系材料を主成分として含む、請求項1に記載のセラミック電子部品。
【請求項3】
前記第1誘電体層は、前記チタン酸バリウム系材料100モルに対して前記スズ(Sn)0.5モル~1.5モル及び前記ジスプロシウム(Dy)0.6モル~1.0モルを含む、請求項2に記載のセラミック電子部品。
【請求項4】
前記ジスプロシウム(Dy)及び前記スズ(Sn)のモル比(Dy/Sn)が0.6~1.0である、請求項1から3のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
【請求項5】
前記第2誘電体層は、チタン酸バリウム系材料を主成分として含む、請求項1から4のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
【請求項6】
前記第2誘電体層は、前記チタン酸バリウム系材料100モルに対して前記マグネシウム(Mg)1.5モル~2.5モルを含む、請求項5に記載のセラミック電子部品。
【請求項7】
前記第1誘電体層は、イットリウム(Y)、テルビウム(Tb)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(Er)、ガドリニウム(Gd)、セリウム(Ce)、サマリウム(Sm)、ランタン(La)、ネオジム(Nd)及びプラセオジム(Pr)の少なくとも一つをさらに含む、請求項1から6のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
【請求項8】
前記第1誘電体層は、マンガン(Mn)及びバナジウム(V)の少なくとも一つをさらに含む、請求項1から7のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
【請求項9】
前記第1及び第2誘電体層は、それぞれシリコン(Si)及びアルミニウム(Al)の少なくとも一つをさらに含む、請求項1から8のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
【請求項10】
前記本体は、厚さ方向に前記活性部の上部及び下部に配置され、第3誘電体層を含むカバー部をさらに含み、
前記マージン部は、幅方向に前記カバー部の両側部に延長配置され、
前記第1及び第3誘電体層は、互いに同一の誘電体組成を有する、請求項1から9のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
【請求項11】
前記外部電極は、長さ方向に前記本体の両端部にそれぞれ配置される第1及び第2外部電極を含み、
前記内部電極は、厚さ方向に交互に積層され、前記第1及び第2外部電極とそれぞれ連結される複数の第1及び第2内部電極を含む、請求項1から10のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
【請求項12】
第1誘電体層及び内部電極を含む活性部、及び幅方向に前記活性部の両側部に配置され、第2誘電体層を含むマージン部を有する本体と、
前記本体上に配置され、前記内部電極と連結される外部電極と、を備え、
前記第1及び第2誘電体層はそれぞれチタン酸バリウム系材料を主成分として含み、
前記第1誘電体層は、前記チタン酸バリウム系材料100モルに対してスズ(Sn)0.5モル~1.5モル及びジスプロシウム(Dy)0.6モル~1.0モルを含み、
前記第2誘電体層は、前記チタン酸バリウム系材料100モルに対してマグネシウム(Mg)1.5モル~2.5モルを含む、セラミック電子部品。
【請求項13】
前記ジスプロシウム(Dy)及び前記スズ(Sn)のモル比(Dy/Sn)が0.6~1.0である、請求項12に記載のセラミック電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、セラミック電子部品、例えば、積層セラミックキャパシタ(MLCC:Multi-Layered Ceramic Capacitor)に関するものである。
【背景技術】
【0002】
最近、セラミック電子部品の小型化のための誘電体及び内部電極の薄層化により、信頼性劣化の問題が重要イシューとなっている。例えば、重還元及び高温短縮焼成条件を適用することにより、焼結駆動差異によって活性部とマージン部との間のミスマッチングが発生することがあり、また、マージン部の緻密度低下が発生することがある。このようなミスマッチング及びマージン部の緻密度の低下現象が発生する場合、加速寿命の減少及び耐湿信頼性の劣化を引き起こすことがある。したがって、マージン部の焼結挙動を制御することができる技術及び組成が必要な状況である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
本開示の様々な目的の1つは、マージン部の焼結ミスマッチングの最小化及び緻密度向上を介して信頼性を改善することができるセラミック電子部品を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0004】
本開示によって提案する様々な解決手段の一つは、活性部の誘電体層はスズ(Sn)及びジスプロシウム(Dy)を含み、マージン部の誘電体層はマグネシウム(Mg)を含むようにするなど、両者の組成を異ならせて適用するものである。
【0005】
例えば、一例によるセラミック電子部品は、第1誘電体層及び内部電極を含む活性部、及び幅方向に上記活性部の両側部に配置され、第2誘電体層を含むマージン部を含む本体と、上記本体上に配置され、上記内部電極と連結される外部電極と、を含み、上記第1及び第2誘電体層は互いに異なる誘電体組成を有し、上記第1誘電体層はスズ(Sn)及びジスプロシウム(Dy)を含み、上記第2誘電体層はマグネシウム(Mg)を含むものであることができる。
【0006】
例えば、一例によるセラミック電子部品は、第1誘電体層及び内部電極を含む活性部、及び幅方向に上記活性部の両側部に配置され、第2誘電体層を含むマージン部を含む本体と、上記本体上に配置され、上記内部電極と連結される外部電極と、を含み、上記第1及び第2誘電体層はそれぞれチタン酸バリウム系材料を主成分として含み、上記第1誘電体層は上記チタン酸バリウム系材料100モルに対してスズ(Sn)0.5モル~1.5モル及びジスプロシウム(Dy)0.6モル~1.0モルを含み、上記第2誘電体層は、上記チタン酸バリウム系材料100モルに対してマグネシウム(Mg)1.5モル~2.5モルを含むこともできる。
【発明の効果】
【0007】
本開示の様々な効果の一効果として、マージン部の焼結ミスマッチング最小化及び緻密度向上により信頼性を改善することができるセラミック電子部品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
図1】一例によるセラミック電子部品の概略的な斜視図である。
図2図1のI-I'線に沿った断面図を概略的に示した断面図である。
図3図1のII-II'線に沿った断面図を概略的に示した断面図である。
図4】活性部及びマージン部の組成を同様にした場合のマージン部の微細構造を示した断面SEM(Scanning Electron Microscope)写真である。
図5】活性部及びマージン部の組成を本開示によって異ならせた場合のマージン部の微細構造を示した断面SEM写真である。
図6】マージン部のマグネシウム(Mg)の含有量が本開示で提案する範囲よりも小さい場合のマージン部の微細構造を示した断面SEM写真である。
図7】マージン部のマグネシウム(Mg)の含有量が本開示で提案する範囲を満たす場合のマージン部の微細構造を示した断面SEM写真である。
図8】マージン部のマグネシウム(Mg)の含有量が本開示で提案する範囲よりも多い場合のマージン部の微細構造を示した断面SEM写真である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、添付の図面を参照して本開示について説明する。図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために拡大縮小表示(または強調表示や簡略化表示)がされることができる。
【0010】
図面において、第1方向は積層方向または厚さ方向、第2方向は長さ方向、第3方向は幅方向と定義することができる。
【0011】
図1は、一例によるセラミック電子部品の概略的な斜視図であり、図2は、図1のI-I'線に沿った断面図を概略的に示した断面図であり、図3は、図1のII-II'線に沿った断面図を概略的に示した断面図である。
【0012】
図面を参照すると、一例によるセラミック電子部品100は、第1誘電体層111及び内部電極121、122を含む活性部Ac、及び幅方向に活性部Acの両側部に配置され、第2誘電体層114、115を含むマージン部Maを含む本体110、及び本体110上に配置され、内部電極112、113と連結される外部電極131、132を含む。第1誘電体層111及び第2誘電体層114、115は、それぞれチタン酸バリウム系材料を主成分として含むことができる。但し、第1誘電体層111と第2誘電体層114、115は互いに異なる誘電体組成を有することができる。例えば、第1誘電体層111はスズ(Sn)及びジスプロシウム(Dy)を含むことができ、第2誘電体層114、115はマグネシウム(Mg)を含むことができる。
【0013】
一方、最近では、電子製品が小型化及び多機能化するにつれて、チップ部品も小型化及び高機能化する傾向にあるため、積層セラミックキャパシタも大きさが小さく、容量の大きい高容量製品が求められている。積層セラミックキャパシタの小型及び高容量化のためには、高い誘電特性及び優れた耐電圧特性を有する誘電体材料の確保が必要である。これに伴い、誘電体の薄層化及び電極有効面積の最大化が求められる。但し、誘電体の薄層化及びマージン部の段差により局部的な誘電体厚さの減少現象が発生することがあり、このような現象に伴う耐電圧低下の現象を最小化することができる構造的設計変更が必須である。
【0014】
ここで、小型及び高容量積層セラミックキャパシタを実現するが、耐電圧低下現象を防ぐために、マージン部を別途付着することを考えることができる。例えば、積層セラミックキャパシタを製造する上で、内部電極が本体の幅方向に露出するようにすることで、マージンのない設計によって内部電極の幅方向の面積を最大化するが、このようなチップ製作後に焼成前段階でチップの幅方向の電極露出面にマージン部を別途付着して完成する方法を考慮することができる。
【0015】
但し、サイドマージン部形成用誘電体組成をセラミック本体の誘電体組成と差別化することなく、セラミック本体の誘電体組成物をそのまま用いる場合、サイドマージン部内に誘電体の物理的充填密度が低くてサイドマージン部の緻密化低下現象が発生することがある。また、焼結過程中、サイドマージン部の誘電体と内部電極の焼結駆動ミスマッチング現象が発生することがある。このようなミスマッチング及びマージン部の緻密度低下現象が発生する場合、加速寿命の減少及び耐湿信頼性の劣化を引き起こすことがある。
【0016】
ここで、サイドマージン部形成用誘電体組成をセラミック本体の誘電体組成と異ならせて信頼性を改善することを考慮することができる。例えば、マージン部の母材の変更、またはバリウム(Ba)及びチタン(Ti)のモル比調節の方法を考慮することができる。但し、マージン部の母材変更の場合、非粒成長系母材を用いて耐電圧特性及び信頼性特性を向上させることができるが、粒成長は抑制するが緻密度が劣って耐湿信頼性が劣化することがある。また、モル比を調節する方法の場合、マージン部の緻密度を確保することができるが、同一焼成条件で緻密度のみを確保するためにモル比を調節する場合、グレインが過粒成長するようになり、マージン近接活性誘電体の粒成長を誘発することがある。また、焼結挙動のミスマッチングによるチップ変形により特性が劣化することがある。
【0017】
一方、本開示の一例による電子部品は、活性部Ac及びマージン部Maの誘電体組成に含まれる元素の組成を異ならせる。例えば、第1誘電体層111及び第2誘電体層114、115はそれぞれチタン酸バリウム系材料を主成分として含むが、第1誘電体層111はスズ(Sn)及びジスプロシウム(Dy)を含むことができ、第2誘電体層114、115はマグネシウム(Mg)を含むことができる。
【0018】
より具体的には、グレインの粒成長を抑制しつつ液相形成による緻密度確保が可能なマグネシウム(Mg)をマージン部Maの誘電体組成に一定量含ませることができる。このとき、マグネシウム(Mg)により粒成長が抑制され、活性部Acの誘電体との焼結駆動力の差異が発生してミスマッチングが発生することがあるため、活性部Acの場合、誘電体に緻密度を確保しながらグレインの粒成長を抑制するスズ(Sn)を活性部Acに一定量含ませることができる。また、活性部Acの母材のA-サイトに置換されて酸素空孔の欠陥を減少させ信頼性を向上させることができるジスプロシウム(Dy)を活性部Acに一定量含ませることができる。
【0019】
一方、マージン部Maにマグネシウム(Mg)が少量添加される場合、マージン部Maの緻密度が不十分であり、耐湿信頼性の劣化が問題となることがある。逆に、マグネシウム(Mg)が過量添加される場合には、2次相生成及び活性部Acへの拡散などによる特性劣化を招く可能性がある。したがって、添加されるマグネシウム(Mg)の含有量を適宜調節する必要があり、例えば、マージン部Maの第2誘電体層114、115はチタン酸バリウム系材料100モルに対してマグネシウム(Mg)1.5モル~2.5モルを含むことができる。
【0020】
また、活性部Acの誘電体組成において、スズ(Sn)が少なさすぎる場合には、ジスプロシウム(Dy)がB-サイトに置換される割合が比較的大きくなるため、信頼性向上の効果が低下することがある。逆に、スズ(Sn)が多すぎる場合には、他の元素がドープされ得るサイト自体が減り、過量のスズ(Sn)によってジスプロシウム(Dy)の置換及び母材内部への拡散が難しくなって、信頼性改善の効果が低下することがある。したがって、適正レベルのスズ(Sn)及びジスプロシウム(Dy)の比率が必要であり、例えば、活性部Acの第1誘電体層111はチタン酸バリウム系材料100モルに対してスズ(Sn)0.5モル~1.5モル及びジスプロシウム(Dy)0.6モル~1.0モルを含むことができ、このとき、モル比(Dy/Sn)は0.6~1.0程度であることができる。
【0021】
一方、活性部Acの第1誘電体層111は、イットリウム(Y)、テルビウム(Tb)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(Er)、ガドリニウム(Gd)、セリウム(Ce)、サマリウム(Sm)、ランタン(La)、ネオジム(Nd)及びプラセオジム(Pr)の少なくとも一つの副成分をさらに含むことができる。また、マンガン(Mn)及びバナジウム(V)の少なくとも一つの副成分をさらに含むことができる。また、シリコン(Si)及びアルミニウム(Al)の少なくとも一つの副成分をさらに含むことができる。このような副成分を介して信頼性をより効果的に改善することができる。これと同様に、マージン部Maの第2誘電体層114、115もシリコン(Si)及びアルミニウム(Al)の少なくとも一つの副成分をさらに含むことができる。
【0022】
一方、誘電体層111、112、113、114、115の組成は、TEM(Transmission Electron Microscopy)-EDS(Energy Dispersive Spectrometer)元素分析によって測定することができる。例えば、サンプルチップのTEM分析のためにFIB(Focused Ion Beam)サンプリング後に、TEM-EDSマッピングによって含まれる元素の種類及び含有量を確認することができる。その後、分析された元素のうちチタン酸バリウムなどの母材に該当する割合を確認するために、当該元素の分析比をチタン(Ti)の分析比で割り、母材の数モル%に該当する元素が含まれているかを確認することができる。
【0023】
以下、一例によるセラミック電子部品100に含まれる各構成についてより詳細に説明する。
【0024】
本体110の具体的な形状に特に制限はないが、六面体状やこれと類似した形状からなることができる。焼成過程で本体110に含まれたセラミック粉末の収縮によって本体110は完全な直線を有する六面体状ではなく、実質的に六面体状を有することができる。必要に応じて、本体110の角のある外形、例えば、コーナー部分は研磨工程などによって丸く研磨されることができる。
【0025】
本体110は、第1方向に互いに向かい合う第1面1及び第2面2、第1面1及び第2面2に連結され、第2方向に互いに向かい合う第3面3及び第4面4、第1面1及び第2面2に連結され、第3面3及び第4面4に連結され、かつ第3方向に互いに向かい合う第5面5及び第6面6を有することができる。
【0026】
本体110は、誘電体層111及び内部電極121、122が交互に積層されることができる。本体110を形成する複数の誘電体層111は焼成された状態であり、隣接する誘電体層111間の境界は走査電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)を利用せずには確認しにくいほど一体化することができる。
【0027】
誘電体層111は、セラミックパウダー、有機溶剤及び有機バインダーを含むセラミックグリーンシートの焼成によって形成されることができる。セラミックパウダーは、高い誘電率を有する物質として、チタン酸バリウム(BaTiO)系材料、チタン酸ストロンチウム(SrTiO)系材料などを用いることができ、好ましくは上述したチタン酸バリウム系材料を用いることができる。
【0028】
誘電体層111の厚さtdは特に限定する必要はないが、一般的に誘電体層111を0.6μm未満の厚さで薄く形成する場合、特に誘電体層111の厚さが0.4μm以下である場合には信頼性が低下するおそれがあった。一方、本開示では、誘電体層111の厚さが0.4μm以下である場合にも、上述したように優れた信頼性を確保することができる。したがって、誘電体層111の厚さが0.4μm以下である場合に、本開示による信頼性向上の効果がより顕著になることができ、セラミック電子部品の小型化及び高容量化をより容易に達成することができる。
【0029】
誘電体層111の厚さtdは、内部電極121、122間に配置される誘電体層111の平均厚さを意味することができる。誘電体層111の平均厚さは、本体110の長さ及び厚さ方向の断面を1万倍率の走査電子顕微鏡を用いてイメージをスキャンして測定することができる。より具体的には、スキャンされたイメージにおいて1つの誘電体層を長さ方向に等間隔である30個の地点でその厚さを測定して平均値を測定することができる。等間隔である30個の地点は活性部Acで指定されることができる。また、このような平均値の測定を10個の誘電体層111に拡張して平均値を測定すると、誘電体層111の平均厚さをさらに一般化することができる。
【0030】
本体110は、誘電体層111を間に挟んで互いに向かい合うように配置される複数の第1内部電極121及び第2内部電極122を含んで容量が形成される活性部Acを含むことができる。活性部Acは、キャパシタの容量形成に寄与する部分であり、誘電体層111を間に挟んで複数の第1内部電極121及び第2内部電極122を繰り返し積層して形成されることができる。
【0031】
本体110は、幅方向を基準に活性部Acの両側部に配置されるマージン部Maをさらに含むことができる。マージン部Maは、本体110の第5面5を提供する第2-1誘電体層114及び第6面6を提供する第2-2誘電体層115を含むことができる。マージン部Maは、本体110を幅-厚さ方向に切断した断面で内部電極121、122の両端と本体110の境界面との間の領域を意味することができる。マージン部Maは、基本的に物理的または化学的ストレスによる内部電極121、122の損傷を防止する役割を果たすことができる。マージン部Maは、活性部Acとは別途に製造されてこれに付着されることができる。例えば、活性部Acの幅方向の両側面に内部電極121、122が露出するように積層体を切断した後、別途に製造された単一誘電体層または2つ以上の誘電体層を活性部Acの幅方向の両側面に積層して形成することができる。
【0032】
本体110は、厚さ方向を基準に活性部Acの上部及び下部に配置されるカバー部Coをさらに含むことができる。マージン部Maは、幅方向を基準にカバー部Coの両側部に延長配置されることができる。カバー部Coは、上述した第1誘電体層111と同一の誘電体組成を有する第3誘電体層112、113を含むことができる。例えば、カバー部Coは、本体110の第1面1を提供する第3-1誘電体層112及び本体110の第2面2を提供する第3-2誘電体層113を含むことができる。カバー部Coは、基本的に物理的または化学的ストレスによる内部電極121、122の損傷を防止する役割を果たすことができる。カバー部Coは、単一誘電体層または2つ以上の誘電体層を活性部Acの上下面にそれぞれ厚さ方向に積層して形成することができる。カバー部Coは内部電極121、122を含まないことができる。カバー部Coの厚さは特に限定する必要はない。但し、セラミック電子部品の小型化及び高容量化をより容易に達成するために、カバー部Coの厚さtpは20μm以下であることができる。
【0033】
内部電極121、122は誘電体層111と交互に積層されることができる。内部電極121、122は、複数の第1内部電極121及び第2内部電極122を含むことができる。複数の第1内部電極121及び複数の第2内部電極122は、誘電体層111を間に挟んで互いに向かい合うように交互に配置されることができ、本体110の第3面3及び第4面4にそれぞれ露出することができる。例えば、複数の第1内部電極121はそれぞれ第4面4と離隔し、第3面3を介して露出することができる。また、複数の第2内部電極122は、それぞれ第3面3と離隔し、第4面4を介して露出することができる。複数の第1内部電極121及び第2内部電極122は、その間に配置された誘電体層111によって互いに電気的に分離されることができる。
【0034】
内部電極121、122は、導電性金属を含む導電性ペーストによって形成されることができる。例えば、誘電体層111を形成するセラミックグリーンシート上にスクリーン印刷法、グラビア印刷法などの印刷法を介して導電性ペーストを印刷することで、結果的に内部電極121、122を印刷することができる。内部電極121、122が印刷されたセラミックグリーンシートを交互に積層して焼成すると、本体110の活性部Acを形成することができる。導電性金属は、これに制限されるものではないが、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、銀(Ag)、金(Au)、白金(Pt)、スズ(Sn)、タングステン(W)、チタン(Ti)及び/またはこれを含む合金などを含むことができる。
【0035】
内部電極121、122の厚さteは特に限定する必要はないが、一般的に内部電極121、122を0.6μm未満の厚さで薄く形成する場合、特に内部電極121、122の厚さが0.4μm以下である場合には、信頼性が低下するおそれがあった。一方、本開示では、内部電極121、122の厚さが0.4μm以下である場合にも、上述したように優れた信頼性を確保することができる。したがって、内部電極121、122の厚さが0.4μm以下である場合に本開示による信頼性向上の効果がより顕著になることができ、セラミック電子部品の小型化及び高容量化をより容易に達成することができる。
【0036】
内部電極121、122の厚さteは、内部電極121、122の平均厚さを意味することができる。内部電極121、122の平均厚さは、本体110の長さ及び厚さ方向の断面を1万倍率の走査電子顕微鏡を用いてイメージをスキャンして測定することができる。より具体的には、スキャンされたイメージにおいて1つの内部電極を長さ方向に等間隔である30個の地点でその厚さを測定して平均値を測定することができる。等間隔である30個の地点は活性部Acで指定されることができる。また、このような平均値の測定を10個の内部電極に拡張して平均値を測定すると、内部電極の平均厚さをさらに一般化することができる。
【0037】
外部電極131、132は、本体110の第3面3及び第4面4に配置され、第1面1、第2面2、第5面5及び第6面6にそれぞれ一部が延長することができる。外部電極131、132は、複数の第1内部電極121及び第2内部電極122とそれぞれ連結された第1外部電極131及び第2外部電極132を含むことができる。第1外部電極131は、本体110の第3面3に配置され、本体110の第1面1、第2面2、第5面5及び第6面6にそれぞれ一部が延長することができる。第2外部電極132は、本体110の第4面4に配置され、本体110の第1面1、第2面2、第5面5及び第6面6にそれぞれ一部が延長することができる。図面では、セラミック電子部品100が2つの外部電極131、132を有する構造を説明しているが、外部電極131、132の個数や形状などは内部電極121、122の形態やその他の目的に応じて変わることができる。
【0038】
外部電極131、132は、金属などのように電気導電性を有するものであれば、どのような物質を用いても形成されることができ、電気的特性、構造的安定性などを考慮して、具体的な物質が決定されることができ、さらに多層構造を有することができる。例えば、外部電極131、132は、本体110に配置される電極層131a、132a及び電極層131a、132a上に形成されためっき層131b、132bを含むことができる。
【0039】
電極層131a、132aは、例えば、導電性金属及びガラスを含む焼成(firing)電極であるか、導電性金属及び樹脂を含む樹脂系電極であることができる。また、電極層131a、132aは、本体110上に焼成電極及び樹脂系電極が順次形成された形態であることもできる。また、電極層131a、132aは、本体110上に導電性金属を含むシートを転写する方式で形成されるか、焼成電極上に導電性金属を含むシートを転写する方式で形成されたものであることができる。電極層131a、132aに含まれる導電性金属として、電気導電性に優れた材料を用いることができ、特に限定されない。例えば、導電性金属は、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、金(Au)、銀(Ag)、鉛(Pb)及び/またはこれを含む合金などを含むことができる。
【0040】
めっき層131b、132bは実装特性を向上させる役割を果たす。めっき層131b、132bの種類は特に限定されず、ニッケル(Ni)、スズ(Sn)、パラジウム(Pd)及び/またはこれを含む合金などを含むめっき層であることができ、複数の層で形成されることもできる。めっき層131b、132bは、例えば、ニッケル(Ni)めっき層またはスズ(Sn)めっき層であることができ、電極層131a、132a上にニッケル(Ni)めっき層及びスズ(Sn)めっき層が順次形成された形態であることができる。また、めっき層131b、132bは、複数のニッケル(Ni)めっき層及び/または複数のスズ(Sn)めっき層を含むことができる。
【0041】
セラミック電子部品100のサイズは特に限定する必要はない。但し、小型化及び高容量化を同時に達成するためには、誘電体層111及び内部電極121、122の厚さを薄くして積層数を増加させる必要があるため、1005(長さ×幅、1.0mm×0.5mm)以下のサイズを有するセラミック電子部品100において、本開示による信頼性効果がより顕著になることができる。したがって、製造誤差、外部電極131、132の大きさなどを考慮すると、セラミック電子部品100の長さが1.1mm以下であり、幅が0.55mm以下である場合、信頼性向上の効果がより顕著になることができる。ここで、セラミック電子部品100の長さは長さ方向での大きさを意味し、セラミック電子部品100の幅は幅方向での大きさを意味する。
【0042】
図4は、活性部及びマージン部の組成を同様にした場合のマージン部の微細構造を示した断面SEM(Scanning Electron Microscope)写真であり、図5は、活性部及びマージン部の組成を本開示によって異ならせた場合のマージン部の微細構造を示した断面SEM写真である。
【0043】
図面を参照すると、活性部及びマージン部の組成を同様にした場合、そして本開示によって組成を異ならせた場合のマージン部の緻密度を確認するためにSEM分析を行い、これを用いて緻密化数値を測定した。
【0044】
具体的には、各サンプルチップを幅-厚さ方向に断面1/2地点まで研磨して分析位置を露出し、イオンミリングによって研磨過程での不純物を除去した後、測定を行った。このように用意された試験片に対してSEM分析を行い、加速電圧3kV、WD3.6mmの条件で行った。チップの中間部分に位置したマージン部領域を測定し、活性領域の誘電体層/内部電極の約20層が見られるようにし、マージン部の端部分まで含まれるようにイメージを測定した。これと共に緻密化数値を測定し、緻密化数値はシグマスキャンプログラムを用いて測定を行った。
【0045】
測定結果、図4のように活性部の誘電体層111'及びマージン部の誘電体層115'の組成を同様にした場合、緻密度が約97.4%程度であったが、図5のように本開示によって活性部の誘電体層111及びマージン部の誘電体層115の組成を異ならせた場合、緻密度が約99.8%程度に優れた。
【0046】
図6は、マージン部のマグネシウム(Mg)の含有量が本開示で提案する範囲よりも小さい場合のマージン部の微細構造を示した断面SEM写真であり、図7は、マージン部のマグネシウム(Mg)の含有量が本開示で提案する範囲を満たす場合のマージン部の微細構造を示した断面SEM写真であり、図8は、マージン部のマグネシウム(Mg)の含有量が本開示で提案する範囲よりも多い場合のマージン部の微細構造を示した断面SEM写真である。
【0047】
図面を参照すると、活性部及びマージン部の組成を本開示で提案するように異ならせるが、マージン部の誘電体層に含まれるマグネシウム(Mg)の含有量を異ならせてマージン部の微細組織を確認するためにSEM分析を行った。SEM分析のための試験片の用意などは上述したとおりである。
【0048】
図6のように、マグネシウム(Mg)の含有量が1.5モル%未満で少量添加される場合には、マージン部の緻密度が不十分であることがあり、この場合、耐湿信頼性の劣化が問題となることがある。また、図8のように、マグネシウム(Mg)の含有量が2.5モル%超過で過量添加される場合には、2次相生成及び活性部の誘電体層への拡散などが発生することがあり、これにより特性劣化が生じることがある。一方、図7のように、マグネシウム(Mg)の含有量が1.5モル%~2.5モル%程度である場合には、グレインの粒成長を抑制しながら十分な緻密度の確保が可能であることが分かる。
【0049】
[実験例]
チタン酸バリウム系母材を主成分として含み、スズ(Sn)、ジスプロシウム(Dy)などを含む誘電体組成物を用意した後、誘電体組成物を含むセラミックグリーンシート上にニッケル(Ni)を含む内部電極用導電性ペーストを塗布して内部電極パターンを形成した。その後、内部電極パターンが形成されたセラミックグリーンシートを積層して積層体を得た。その後、幅方向に内部電極が露出するように積層体をチップ単位で切断し、マージンのないグリーンチップを製作した。
【0050】
また、チタン酸バリウム系母材を主成分として含み、マグネシウム(Mg)などを含む誘電体組成物を用意した後、成形シートを製造した。その後、成形シートをマージン部の大きさに合わせて5cm×5cm程度に切断した。
【0051】
この後、チップの変形を最小化した条件で一定温度及び圧力を加え、チップの両面に上記成形シートを付着して、0603サイズ(横×縦×高さ:0.6mm×0.3mm×0.3mm)のセラミックキャパシタ試験片を多様に製作した。製造された各試験片の活性部及びマージン部の誘電体組成において、本開示に関連する主要組成の含有量及びモル比は以下の[表1]に示した。主要組成の含有量は、チタン酸バリウム系母材100モルに対するモル含有量であることができる。
【0052】
この後、製作が完了した試験片を400℃以下、窒素雰囲気で可塑工程を経て焼成温度1200℃以下、水素濃度0.5%H2以下の条件で焼成後、加速寿命評価の耐湿信頼性を評価した。
【0053】
一方、試験片の誘電体組成は、上述したTEM-EDS元素分析によって測定した。具体的には、サンプルチップのTEM分析のためにFIBサンプリング後に、TEM-EDSマッピングを介して含まれる元素の種類及び含有量を測定した。その後、分析された元素のうちチタン酸バリウムなどの母材に該当する割合を測定するために、当該元素の分析比をチタン(Ti)の分析比で割り、母材の数モル%に該当する元素が含まれているかを測定した。
【0054】
一方、加速寿命評価及び耐湿信頼性は製品に要求される信頼性を確認するための評価項目であり、各製品に要求される温度、電圧、湿度下で製品の故障率を評価した。加速寿命評価の場合、機種に要求される温度及び電圧での寿命を短期間内に評価するため、加速寿命式により算出した過酷な評価条件を適用して故障率を評価し、耐湿信頼性の場合、要求される温度、電圧、湿度での故障率を評価した。加速寿命評価の測定条件は3段階であり、それぞれ85℃/6.3V/1h、85℃/7.56V/2.5h、105℃/7.56V/2.5hの条件で行い、耐湿信頼性の測定条件は85℃/RH85%/6.3V/1hの条件で行った。このとき、試験片サンプル400個のうち1つでも不良が発生する場合を×、そうでない場合を〇と表した。
【0055】
【表1】
【0056】
[表1]を参照すると、実験例6-8のように、活性部の誘電体層がスズ(Sn)を0.5モル%~1.5モル%含み、ジスプロシウム(Dy)を0.6モル%~1.0モル%含み、これらのモル比が0.6~1.0を満たす場合、そしてマージン部の誘電体層がマグネシウム(Mg)を1.5モル%~2.5モル%含む場合、加速寿命評価及び耐湿信頼性の評価結果が特に優れることが分かる。一方、このような条件の少なくとも一部を満たさない残りの実験例の場合は、加速寿命評価及び/または耐湿信頼性評価において少なくとも一つの不良が発生することが分かる。
【0057】
本開示において、セラミック電子部品として積層セラミックキャパシタを例に挙げて説明したが、これに限定されるものではなく、他の種類のセラミック電子部品、例えば、インダクタ、圧電体素子、バリスタ、サーミスタなどにも本開示が適用されることができる。
【0058】
本開示において、側部、側面などの表現は、便宜上、図面を基準に左/右方向またはその方向における面を意味するものとして用い、上側、上部、上面などの表現は便宜上、図面を基準に上方向またはその方向における面を意味するものとして用い、下側、下部、下面などは便宜上、下方向またはその方向における面を意味するものとして用いた。さらに、側部、上側、上部、下側、または下部に位置するとは、対象構成要素が基準となる構成要素と該当方向に直接接触するだけでなく、該当方向に位置するが、直接接触することはない場合も含む概念として用いた。但し、これは説明の便宜上、方向を定義したものであって、特許請求の範囲の権利範囲がこのような方向に対する記載によって特に限定されるものではなく、上/下の概念などはいつでも変わることができる。
【0059】
本開示において連結されるという意味は、直接連結されるだけでなく、接着剤層などを介して間接的に連結されることを含む概念である。また、電気的に連結されるという意味は、物理的に連結された場合と連結されない場合を全て含む概念である。また、第1、第2などの表現は、ある構成要素と他の構成要素を区分付けるために用いるものであって、該当構成要素の順序及び/または重要度などを限定しない。場合によっては、権利範囲を逸脱することなく、第1構成要素は第2構成要素と命名されることができ、類似して第2構成要素は第1構成要素と命名されることもできる。
【0060】
本開示において用いられる一例という表現は、互いに同一の実施形態を意味するものではなく、それぞれ互いに異なる固有の特徴を強調して説明するために提供されたものである。しかしながら、上記提示された一例は、他の例の特徴と組み合わせて実現されることを排除しない。例えば、特定の一例において説明された事項が他の一例に説明されていなくても、他の一例においてその事項と反対または矛盾する説明がない限り、他の一例に関連する説明として理解することができる。
【0061】
本開示において用いられた用語は、単に一例を説明するために用いられたものであって、本開示を限定する意図はない。このとき、単数の表現は、文脈上明らかに異なるものを意味しない限り、複数の表現を含む。
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8