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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023063977
(43)【公開日】2023-05-10
(54)【発明の名称】蒸着装置
(51)【国際特許分類】
C23C 14/04 20060101AFI20230428BHJP
C23C 14/24 20060101ALI20230428BHJP
H10K 50/00 20230101ALI20230428BHJP
H05B 33/10 20060101ALI20230428BHJP
【ＦＩ】
C23C14/04 A
C23C14/24 G
H05B33/14 A
H05B33/10
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021174132
(22)【出願日】2021-10-25
(71)【出願人】
【識別番号】521467881
【氏名又は名称】吉林ＯＬＥＤ日本研究所株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100187388
【弁理士】
【氏名又は名称】樋口 天光
(72)【発明者】
【氏名】張 鵬
(72)【発明者】
【氏名】古山 晃一
【テーマコード（参考）】
3K107
4K029
【Ｆターム（参考）】
3K107AA01
3K107BB01
3K107CC45
3K107GG02
3K107GG32
3K107GG33
4K029AA09
4K029AA24
4K029BA62
4K029BB03
4K029BC07
4K029BD01
4K029CA01
4K029DB06
4K029EA00
4K029HA02
4K029HA03
4K029HA04
4K029JA06
(57)【要約】
【課題】蒸着マスクを基板に密着させることができ、基板の画素の領域に蒸着材料のパターンを形状精度良く形成することができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置１は、磁性材料よりなる蒸着マスク７を保持するマスク保持部２と、基板１１が蒸着マスク７と接するように、基板１１を配置する基板配置部３と、蒸着マスク７を挟んで、基板１１が配置される側と反対側に配置された蒸着源４と、基板１１を挟んで、蒸着マスク７が配置される側と反対側に配置され、蒸着マスク７を磁力で吸引することで蒸着マスク７を基板１１に密着させる吸引部５と、を有する。吸引部５は、吸引部５の基板１１側の磁場の強度が、吸引部５の基板１１側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、基板１１に沿ってハルバッハ配列された複数の永久磁石ＰＭを含む。
【選択図】図１
【解決手段】蒸着装置１は、磁性材料よりなる蒸着マスク７を保持するマスク保持部２と、基板１１が蒸着マスク７と接するように、基板１１を配置する基板配置部３と、蒸着マスク７を挟んで、基板１１が配置される側と反対側に配置された蒸着源４と、基板１１を挟んで、蒸着マスク７が配置される側と反対側に配置され、蒸着マスク７を磁力で吸引することで蒸着マスク７を基板１１に密着させる吸引部５と、を有する。吸引部５は、吸引部５の基板１１側の磁場の強度が、吸引部５の基板１１側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、基板１１に沿ってハルバッハ配列された複数の永久磁石ＰＭを含む。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板に蒸着材料を蒸着する蒸着装置において、
磁性材料よりなる蒸着マスクを保持するマスク保持部と、
前記基板が、前記マスク保持部に保持されている前記蒸着マスクと接するように、前記基板を配置する基板配置部と、
前記蒸着マスクを挟んで、前記基板が配置される側と反対側に配置され、前記蒸着材料を気化又は昇華させる蒸着源と、
前記基板を挟んで、前記蒸着マスクが配置される側と反対側に配置され、前記蒸着マスクを磁力で吸引することで前記蒸着マスクを前記基板に密着させる吸引部と、
を有し、
前記吸引部は、前記吸引部の前記基板側の磁場の強度が、前記吸引部の前記基板側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、前記基板に沿ってハルバッハ配列された複数の永久磁石を含む、蒸着装置。
磁性材料よりなる蒸着マスクを保持するマスク保持部と、
前記基板が、前記マスク保持部に保持されている前記蒸着マスクと接するように、前記基板を配置する基板配置部と、
前記蒸着マスクを挟んで、前記基板が配置される側と反対側に配置され、前記蒸着材料を気化又は昇華させる蒸着源と、
前記基板を挟んで、前記蒸着マスクが配置される側と反対側に配置され、前記蒸着マスクを磁力で吸引することで前記蒸着マスクを前記基板に密着させる吸引部と、
を有し、
前記吸引部は、前記吸引部の前記基板側の磁場の強度が、前記吸引部の前記基板側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、前記基板に沿ってハルバッハ配列された複数の永久磁石を含む、蒸着装置。
【請求項2】
請求項１に記載の蒸着装置において、
前記複数の永久磁石は、前記吸引部の前記基板側の磁場の強度が、前記吸引部の前記基板側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、前記基板に沿った第１方向にハルバッハ配列され、
前記吸引部は、前記第１方向に配列された複数の永久磁石群を含み、
前記複数の永久磁石群の各々は、前記第１方向に順次配置された、第１永久磁石、第２永久磁石、第３永久磁石及び第４永久磁石を含み、
前記第１永久磁石は、前記基板に垂直な第２方向に沿った第１磁化を有し、
前記第２永久磁石は、前記第１方向に沿った第２磁化を有し、
前記第３永久磁石は、前記第２方向に沿った第３磁化を有し、
前記第４永久磁石は、前記第１方向に沿った第４磁化を有し、
前記第３磁化の磁化方向は、前記第１磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第４磁化の磁化方向は、前記第２磁化の磁化方向と反平行である、蒸着装置。
前記複数の永久磁石は、前記吸引部の前記基板側の磁場の強度が、前記吸引部の前記基板側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、前記基板に沿った第１方向にハルバッハ配列され、
前記吸引部は、前記第１方向に配列された複数の永久磁石群を含み、
前記複数の永久磁石群の各々は、前記第１方向に順次配置された、第１永久磁石、第２永久磁石、第３永久磁石及び第４永久磁石を含み、
前記第１永久磁石は、前記基板に垂直な第２方向に沿った第１磁化を有し、
前記第２永久磁石は、前記第１方向に沿った第２磁化を有し、
前記第３永久磁石は、前記第２方向に沿った第３磁化を有し、
前記第４永久磁石は、前記第１方向に沿った第４磁化を有し、
前記第３磁化の磁化方向は、前記第１磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第４磁化の磁化方向は、前記第２磁化の磁化方向と反平行である、蒸着装置。
【請求項3】
請求項２に記載の蒸着装置において、
前記マスク保持部により保持されている前記蒸着マスクは、
前記基板に沿い且つ前記第１方向と交差する第３方向にそれぞれ延在する第１延在部及び第２延在部と、前記第１方向にそれぞれ延在する第３延在部及び第４延在部と、を含み、枠部形状を有する第１枠部と、
それぞれ前記磁性材料よりなり、前記第１方向にそれぞれ延在し、前記第１方向における第１の側の第１端部が前記第１延在部にそれぞれ固定され、前記第１方向における前記第１の側と反対側の第２端部が前記第２延在部にそれぞれ固定され、且つ、前記第３方向に配列された複数の第１マスクシート部と、
を含み、
前記複数の第１マスクシート部の各々は、
前記基板に前記蒸着材料を蒸着するための蒸着用パターンがそれぞれ形成され、前記第１方向に互いに間隔を空けて配列された複数の第１パターン部と、
前記複数の第１パターン部のうち前記第１方向で互いに隣り合う２つの第１パターン部をそれぞれ連結する複数の第１リブ部と、
を含み、
前記複数の第１マスクシート部のいずれかについて、前記複数の第１パターン部のうち前記第１方向で互いに隣り合う２つの第１パターン部の中心間隔を、第１間隔とし、
前記複数の永久磁石群のうち前記第１方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群の中心間隔を、第２間隔としたとき、
前記第２間隔は、前記第１間隔に等しいか、又は、前記第１間隔の整数分の１に等しい、蒸着装置。
前記マスク保持部により保持されている前記蒸着マスクは、
前記基板に沿い且つ前記第１方向と交差する第３方向にそれぞれ延在する第１延在部及び第２延在部と、前記第１方向にそれぞれ延在する第３延在部及び第４延在部と、を含み、枠部形状を有する第１枠部と、
それぞれ前記磁性材料よりなり、前記第１方向にそれぞれ延在し、前記第１方向における第１の側の第１端部が前記第１延在部にそれぞれ固定され、前記第１方向における前記第１の側と反対側の第２端部が前記第２延在部にそれぞれ固定され、且つ、前記第３方向に配列された複数の第１マスクシート部と、
を含み、
前記複数の第１マスクシート部の各々は、
前記基板に前記蒸着材料を蒸着するための蒸着用パターンがそれぞれ形成され、前記第１方向に互いに間隔を空けて配列された複数の第１パターン部と、
前記複数の第１パターン部のうち前記第１方向で互いに隣り合う２つの第１パターン部をそれぞれ連結する複数の第１リブ部と、
を含み、
前記複数の第１マスクシート部のいずれかについて、前記複数の第１パターン部のうち前記第１方向で互いに隣り合う２つの第１パターン部の中心間隔を、第１間隔とし、
前記複数の永久磁石群のうち前記第１方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群の中心間隔を、第２間隔としたとき、
前記第２間隔は、前記第１間隔に等しいか、又は、前記第１間隔の整数分の１に等しい、蒸着装置。
【請求項4】
請求項２に記載の蒸着装置において、
前記マスク保持部により保持されている前記蒸着マスクは、
前記基板に沿い且つ前記第１方向と交差する第４方向にそれぞれ延在する第５延在部及び第６延在部と、前記第１方向にそれぞれ延在する第７延在部及び第８延在部と、を含み、枠部形状を有する第２枠部と、
それぞれ前記磁性材料よりなり、前記第４方向にそれぞれ延在し、前記第４方向における第２の側の第３端部が前記第７延在部にそれぞれ固定され、前記第４方向における前記第２の側と反対側の第４端部が前記第８延在部にそれぞれ固定され、且つ、前記第１方向に配列された複数の第２マスクシート部と、
を含み、
前記複数の第２マスクシート部のうち前記第１方向で互いに隣り合う２つの第２マスクシート部の中心間隔を、第３間隔とし、
前記複数の永久磁石群のうち前記第１方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群の中心間隔を、第４間隔としたとき、
前記第４間隔は、前記第３間隔に等しいか、又は、前記第３間隔の整数分の１に等しい、蒸着装置。
前記マスク保持部により保持されている前記蒸着マスクは、
前記基板に沿い且つ前記第１方向と交差する第４方向にそれぞれ延在する第５延在部及び第６延在部と、前記第１方向にそれぞれ延在する第７延在部及び第８延在部と、を含み、枠部形状を有する第２枠部と、
それぞれ前記磁性材料よりなり、前記第４方向にそれぞれ延在し、前記第４方向における第２の側の第３端部が前記第７延在部にそれぞれ固定され、前記第４方向における前記第２の側と反対側の第４端部が前記第８延在部にそれぞれ固定され、且つ、前記第１方向に配列された複数の第２マスクシート部と、
を含み、
前記複数の第２マスクシート部のうち前記第１方向で互いに隣り合う２つの第２マスクシート部の中心間隔を、第３間隔とし、
前記複数の永久磁石群のうち前記第１方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群の中心間隔を、第４間隔としたとき、
前記第４間隔は、前記第３間隔に等しいか、又は、前記第３間隔の整数分の１に等しい、蒸着装置。
【請求項5】
請求項３に記載の蒸着装置において、
前記複数の永久磁石は、前記吸引部の前記基板側の磁場の強度が、前記吸引部の前記基板側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、前記第１方向及び前記第３方向にハルバッハ配列され、
前記複数の永久磁石群は、前記第１方向及び前記第３方向に配列され、
前記複数の永久磁石群の各々は、第５永久磁石、第６永久磁石、第７永久磁石、第８永久磁石、第９永久磁石、第１０永久磁石、第１１永久磁石及び第１２永久磁石を含み、
前記第１永久磁石、前記第５永久磁石、前記第７永久磁石及び前記第１１永久磁石は、前記第３方向に順次配置され、
前記第３永久磁石、前記第６永久磁石、前記第９永久磁石及び前記第１２永久磁石は、前記第３方向に順次配置され、
前記第７永久磁石、前記第８永久磁石、前記第９永久磁石及び前記第１０永久磁石は、前記第１方向に順次配置され、
前記第５永久磁石は、前記第３方向に沿った第５磁化を有し、
前記第６永久磁石は、前記第３方向に沿った第６磁化を有し、
前記第７永久磁石は、前記第２方向に沿った第７磁化を有し、
前記第８永久磁石は、前記第１方向に沿った第８磁化を有し、
前記第９永久磁石は、前記第２方向に沿った第９磁化を有し、
前記第１０永久磁石は、前記第１方向に沿った第１０磁化を有し、
前記第１１永久磁石は、前記第３方向に沿った第１１磁化を有し、
前記第１２永久磁石は、前記第３方向に沿った第１２磁化を有し、
前記第６磁化の磁化方向は、前記第５磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第７磁化の磁化方向は、前記第１磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第８磁化の磁化方向は、前記第２磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第９磁化の磁化方向は、前記第３磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第１０磁化の磁化方向は、前記第４磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第１１磁化の磁化方向は、前記第５磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第１２磁化の磁化方向は、前記第６磁化の磁化方向と反平行であり、
前記複数の第１マスクシート部のうち前記第３方向で互いに隣り合う２つの第１マスクシート部の中心間隔を、第５間隔とし、
前記複数の永久磁石群のうち前記第３方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群の中心間隔を、第６間隔としたとき、
前記第６間隔は、前記第５間隔に等しいか、又は、前記第５間隔の整数分の１に等しい、蒸着装置。
前記複数の永久磁石は、前記吸引部の前記基板側の磁場の強度が、前記吸引部の前記基板側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、前記第１方向及び前記第３方向にハルバッハ配列され、
前記複数の永久磁石群は、前記第１方向及び前記第３方向に配列され、
前記複数の永久磁石群の各々は、第５永久磁石、第６永久磁石、第７永久磁石、第８永久磁石、第９永久磁石、第１０永久磁石、第１１永久磁石及び第１２永久磁石を含み、
前記第１永久磁石、前記第５永久磁石、前記第７永久磁石及び前記第１１永久磁石は、前記第３方向に順次配置され、
前記第３永久磁石、前記第６永久磁石、前記第９永久磁石及び前記第１２永久磁石は、前記第３方向に順次配置され、
前記第７永久磁石、前記第８永久磁石、前記第９永久磁石及び前記第１０永久磁石は、前記第１方向に順次配置され、
前記第５永久磁石は、前記第３方向に沿った第５磁化を有し、
前記第６永久磁石は、前記第３方向に沿った第６磁化を有し、
前記第７永久磁石は、前記第２方向に沿った第７磁化を有し、
前記第８永久磁石は、前記第１方向に沿った第８磁化を有し、
前記第９永久磁石は、前記第２方向に沿った第９磁化を有し、
前記第１０永久磁石は、前記第１方向に沿った第１０磁化を有し、
前記第１１永久磁石は、前記第３方向に沿った第１１磁化を有し、
前記第１２永久磁石は、前記第３方向に沿った第１２磁化を有し、
前記第６磁化の磁化方向は、前記第５磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第７磁化の磁化方向は、前記第１磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第８磁化の磁化方向は、前記第２磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第９磁化の磁化方向は、前記第３磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第１０磁化の磁化方向は、前記第４磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第１１磁化の磁化方向は、前記第５磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第１２磁化の磁化方向は、前記第６磁化の磁化方向と反平行であり、
前記複数の第１マスクシート部のうち前記第３方向で互いに隣り合う２つの第１マスクシート部の中心間隔を、第５間隔とし、
前記複数の永久磁石群のうち前記第３方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群の中心間隔を、第６間隔としたとき、
前記第６間隔は、前記第５間隔に等しいか、又は、前記第５間隔の整数分の１に等しい、蒸着装置。
【請求項6】
請求項２乃至５のいずれか一項に記載の蒸着装置において、
前記吸引部は、上下方向である前記第２方向に移動可能に設けられ、
前記蒸着装置は、更に、
前記吸引部を前記第２方向に移動させ、前記吸引部と前記基板との間の前記第２方向における第１中心間隔を調整する第１移動部と、
前記蒸着マスク又は前記基板を前記第２方向に移動させ、前記蒸着マスクと前記基板との間の前記第２方向における第２中心間隔を調整する第２移動部と、
前記蒸着マスク又は前記基板を水平面内で移動させ、前記基板に対する前記蒸着マスクの水平面内での第１相対位置を調整する第３移動部と、
前記第１移動部、前記第２移動部及び前記第３移動部の動作を制御する第１制御部と、
を有し、
前記第１制御部は、
前記蒸着マスクが前記基板から離れるように、前記第１移動部により、前記吸引部を前記第２方向に移動させ、前記第１中心間隔を調整し、前記第２移動部により、前記蒸着マスク又は前記基板を前記第２方向に移動させ、前記第２中心間隔を調整し、
前記蒸着マスクが前記基板から離れている状態で、前記第１相対位置が第１範囲内になるように、前記第３移動部により、前記蒸着マスク又は前記基板を水平面内で移動させ、前記第１相対位置を調整し、
前記第１相対位置が前記第１範囲内である状態で、前記蒸着マスクが前記基板に接するように、前記第２移動部により、前記蒸着マスク又は前記基板を前記第２方向に移動させ、前記第２中心間隔を調整し、
前記蒸着マスクが前記基板に接している状態で、前記吸引部が前記蒸着マスクを磁力で吸引することで前記蒸着マスクが前記基板に密着するように、前記第１移動部により、前記吸引部を前記第２方向に移動させ、前記第１中心間隔を調整するように、
前記第１移動部、前記第２移動部及び前記第３移動部の動作を制御する、蒸着装置。
前記吸引部は、上下方向である前記第２方向に移動可能に設けられ、
前記蒸着装置は、更に、
前記吸引部を前記第２方向に移動させ、前記吸引部と前記基板との間の前記第２方向における第１中心間隔を調整する第１移動部と、
前記蒸着マスク又は前記基板を前記第２方向に移動させ、前記蒸着マスクと前記基板との間の前記第２方向における第２中心間隔を調整する第２移動部と、
前記蒸着マスク又は前記基板を水平面内で移動させ、前記基板に対する前記蒸着マスクの水平面内での第１相対位置を調整する第３移動部と、
前記第１移動部、前記第２移動部及び前記第３移動部の動作を制御する第１制御部と、
を有し、
前記第１制御部は、
前記蒸着マスクが前記基板から離れるように、前記第１移動部により、前記吸引部を前記第２方向に移動させ、前記第１中心間隔を調整し、前記第２移動部により、前記蒸着マスク又は前記基板を前記第２方向に移動させ、前記第２中心間隔を調整し、
前記蒸着マスクが前記基板から離れている状態で、前記第１相対位置が第１範囲内になるように、前記第３移動部により、前記蒸着マスク又は前記基板を水平面内で移動させ、前記第１相対位置を調整し、
前記第１相対位置が前記第１範囲内である状態で、前記蒸着マスクが前記基板に接するように、前記第２移動部により、前記蒸着マスク又は前記基板を前記第２方向に移動させ、前記第２中心間隔を調整し、
前記蒸着マスクが前記基板に接している状態で、前記吸引部が前記蒸着マスクを磁力で吸引することで前記蒸着マスクが前記基板に密着するように、前記第１移動部により、前記吸引部を前記第２方向に移動させ、前記第１中心間隔を調整するように、
前記第１移動部、前記第２移動部及び前記第３移動部の動作を制御する、蒸着装置。
【請求項7】
請求項１に記載の蒸着装置において、
前記吸引部は、前記基板に垂直な第１軸を中心として回転可能に設けられ、
前記蒸着装置は、更に、
前記第１軸を中心として前記吸引部を回転させ、前記吸引部の前記第１軸を中心とした回転角度を調整する回転部と、
前記回転部の動作を制御する第２制御部と、
を有し、
前記吸引部は、前記回転角度が第１角度であるとき、前記基板に沿った第５方向に配列された複数の永久磁石群を含み、
前記複数の永久磁石群の各々は、前記回転角度が前記第１角度であるとき、前記第５方向に順次配置された、第１３永久磁石、第１４永久磁石、第１５永久磁石及び第１６永久磁石を含み、
前記第１３永久磁石は、前記基板に垂直な第６方向に沿った第１３磁化を有し、
前記第１４永久磁石は、前記回転角度が前記第１角度であるときに前記第５方向に沿った第１４磁化を有し、
前記第１５永久磁石は、前記第６方向に沿った第１５磁化を有し、
前記第１６永久磁石は、前記回転角度が前記第１角度であるときに前記第５方向に沿った第１６磁化を有し、
前記第１５磁化の磁化方向は、前記第１３磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第１６磁化の磁化方向は、前記第１４磁化の磁化方向と反平行であり、
前記マスク保持部により保持されている前記蒸着マスクは、
前記基板に沿い且つ前記第５方向と交差する第７方向にそれぞれ延在する第９延在部及び第１０延在部と、前記第５方向にそれぞれ延在する第１１延在部及び第１２延在部と、を含み、枠部形状を有する第３枠部と、
それぞれ前記磁性材料よりなり、前記第５方向にそれぞれ延在し、前記第５方向における第３の側の第５端部が前記第９延在部にそれぞれ固定され、前記第５方向における前記第３の側と反対側の第６端部が前記第１０延在部にそれぞれ固定され、且つ、前記第７方向に配列された複数の第３マスクシート部と、
を含み、
前記複数の第３マスクシート部の各々は、
前記基板に前記蒸着材料を蒸着するための蒸着用パターンがそれぞれ形成され、前記第５方向に互いに間隔を空けて配列された複数の第２パターン部と、
前記複数の第２パターン部のうち前記第５方向で互いに隣り合う２つの第２パターン部をそれぞれ連結する複数の第２リブ部と、
を含み、
前記第２制御部は、
前記複数の第３マスクシート部のいずれかについて、前記複数の第２パターン部のうち前記第５方向で互いに隣り合う２つの第２パターン部の中心間隔を、第７間隔とし、
前記複数の永久磁石群のうち前記回転角度が前記第１角度であるときに前記第５方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群について、前記回転角度が前記第１角度と異なる第２角度であるときの前記２つの永久磁石群の前記第５方向における中心間隔を、第８間隔としたとき、
前記第８間隔と、前記第７間隔又は前記第７間隔の整数分の１と、の差が第２範囲内になるように、前記回転部により、前記第１軸を中心として前記吸引部を回転させ、前記回転角度を調整するように、
前記回転部の動作を制御する、蒸着装置。
前記吸引部は、前記基板に垂直な第１軸を中心として回転可能に設けられ、
前記蒸着装置は、更に、
前記第１軸を中心として前記吸引部を回転させ、前記吸引部の前記第１軸を中心とした回転角度を調整する回転部と、
前記回転部の動作を制御する第２制御部と、
を有し、
前記吸引部は、前記回転角度が第１角度であるとき、前記基板に沿った第５方向に配列された複数の永久磁石群を含み、
前記複数の永久磁石群の各々は、前記回転角度が前記第１角度であるとき、前記第５方向に順次配置された、第１３永久磁石、第１４永久磁石、第１５永久磁石及び第１６永久磁石を含み、
前記第１３永久磁石は、前記基板に垂直な第６方向に沿った第１３磁化を有し、
前記第１４永久磁石は、前記回転角度が前記第１角度であるときに前記第５方向に沿った第１４磁化を有し、
前記第１５永久磁石は、前記第６方向に沿った第１５磁化を有し、
前記第１６永久磁石は、前記回転角度が前記第１角度であるときに前記第５方向に沿った第１６磁化を有し、
前記第１５磁化の磁化方向は、前記第１３磁化の磁化方向と反平行であり、
前記第１６磁化の磁化方向は、前記第１４磁化の磁化方向と反平行であり、
前記マスク保持部により保持されている前記蒸着マスクは、
前記基板に沿い且つ前記第５方向と交差する第７方向にそれぞれ延在する第９延在部及び第１０延在部と、前記第５方向にそれぞれ延在する第１１延在部及び第１２延在部と、を含み、枠部形状を有する第３枠部と、
それぞれ前記磁性材料よりなり、前記第５方向にそれぞれ延在し、前記第５方向における第３の側の第５端部が前記第９延在部にそれぞれ固定され、前記第５方向における前記第３の側と反対側の第６端部が前記第１０延在部にそれぞれ固定され、且つ、前記第７方向に配列された複数の第３マスクシート部と、
を含み、
前記複数の第３マスクシート部の各々は、
前記基板に前記蒸着材料を蒸着するための蒸着用パターンがそれぞれ形成され、前記第５方向に互いに間隔を空けて配列された複数の第２パターン部と、
前記複数の第２パターン部のうち前記第５方向で互いに隣り合う２つの第２パターン部をそれぞれ連結する複数の第２リブ部と、
を含み、
前記第２制御部は、
前記複数の第３マスクシート部のいずれかについて、前記複数の第２パターン部のうち前記第５方向で互いに隣り合う２つの第２パターン部の中心間隔を、第７間隔とし、
前記複数の永久磁石群のうち前記回転角度が前記第１角度であるときに前記第５方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群について、前記回転角度が前記第１角度と異なる第２角度であるときの前記２つの永久磁石群の前記第５方向における中心間隔を、第８間隔としたとき、
前記第８間隔と、前記第７間隔又は前記第７間隔の整数分の１と、の差が第２範囲内になるように、前記回転部により、前記第１軸を中心として前記吸引部を回転させ、前記回転角度を調整するように、
前記回転部の動作を制御する、蒸着装置。
【請求項8】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の蒸着装置において、
前記蒸着マスクを有する、蒸着装置。
前記蒸着マスクを有する、蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、蒸着装置に関する。
【背景技術】
【0002】
例えば、有機エレクトロルミネッセンス（Electro-Luminescence：ＥＬ）表示装置等の表示装置が製造される場合には、透明基板等の基板の上に、薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）等の駆動素子、平坦化膜及び電極が形成され、形成された電極の上に、画素ごとに対応して有機層が形成される。形成される有機層は水分に弱いため、有機層をエッチングでパターニングすることは、困難である。そのため、基板（被蒸着基板）と蒸着マスクとが互いに重ねて配置された状態で、必要な画素の領域のみに、蒸着マスクの開口を通して有機材料を蒸着することにより、有機層のパターンが形成される。
【0003】
有機層が形成される際に、蒸着マスクが基板にできるだけ近接していないと、画素の領域のみに形状精度良く有機層のパターンが形成されない。画素の領域のみに形状精度良く有機層のパターンが形成されないと、製造された表示装置により表示される表示画像が不鮮明になるおそれがある。そのため、蒸着マスクとして磁性材料よりなる蒸着マスクを使用し、永久磁石又は電磁石と蒸着マスクとの間に基板を介在させることで、蒸着マスクを磁力で吸引し、蒸着マスクを基板に密着させるマグネットチャック即ち吸引部が用いられている。
【0004】
特許第６３０２１５０号公報（特許文献１）には、蒸着装置において、磁性体を有する蒸着マスクを保持するマスクホルダーと、マスクホルダーによって保持される蒸着マスクに近接して被蒸着基板を配置すべく、被蒸着基板を保持する基板ホルダーと、蒸着マスクの被蒸着基板と反対面に蒸着マスクと離間して設けられ、蒸着材料を気化又は昇華させる蒸着源と、基板ホルダーに保持される被蒸着基板の蒸着マスクと反対面に設けられ、蒸着マスクを磁力で吸引するマグネットチャックと、を有し、マグネットチャックが、永久磁石と電磁石とを有する技術が開示されている。
【0005】
また、画素が微細化するのに伴って、基板と蒸着マスクとを精密にアライメント即ち位置合わせすることが望ましい。
【0006】
特開２００６－１７６８０９号公報（特許文献２）には、基板とマスクのアライメント方法において、マスクの所定位置に設けられた位置検出用のマークを上方に設置した撮影手段で撮影する工程と、基板の所定位置に設けられた位置検出用のマークを撮影手段で撮影する工程と、撮影した画像の処理によって得られるマスク側のマークの位置情報と基板側のマークの位置情報とから、基板とマスクの相対位置を演算する工程と、基板とマスクの相対位置が所定の許容範囲内になるように、基板とマスクとを演算された相対位置に基づいて相対移動させる工程と、相対移動後の基板とマスクとを密着させる工程とを備える技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特許第６３０２１５０号公報
【特許文献2】特開２００６－１７６８０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
画素が微細化するのに伴って、例えば１００μｍ程度以下の中心間隔で開口が形成された蒸着マスクが用いられるようになってきている。そのため、例えば１０～３０μｍ程度の極薄の厚さを有する蒸着マスクが用いられるようになってきている。
【0009】
しかしながら、蒸着マスクの厚さが極薄になると、単位面積当たりの蒸着マスクを吸引部により磁力で吸引する吸引力が小さくなる。このような場合、蒸着マスクを基板に密着させることができないので、基板の画素の領域に有機層即ち蒸着材料のパターンを形状精度良く形成することができず、製造された表示装置により表示される表示画像が不鮮明になるおそれがある。
【0010】
本発明は、上述のような従来技術の問題点を解決すべくなされたものであって、基板に蒸着材料を蒸着する蒸着装置において、極薄の厚さを有する蒸着マスクが用いられる場合でも、単位面積当たりの蒸着マスクを磁力で吸引する吸引力を増加させ、蒸着マスクを基板に密着させることができ、基板の画素の領域に蒸着材料のパターンを形状精度良く形成することができる蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
【0012】
本発明の一態様としての蒸着装置は、基板に蒸着材料を蒸着する蒸着装置である。当該蒸着装置は、磁性材料よりなる蒸着マスクを保持するマスク保持部と、基板が、マスク保持部に保持されている蒸着マスクと接するように、基板を配置する基板配置部と、蒸着マスクを挟んで、基板が配置される側と反対側に配置され、蒸着材料を気化又は昇華させる蒸着源と、基板を挟んで、蒸着マスクが配置される側と反対側に配置され、蒸着マスクを磁力で吸引することで蒸着マスクを基板に密着させる吸引部と、を有する。吸引部は、吸引部の基板側の磁場の強度が、吸引部の基板側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、基板に沿ってハルバッハ配列された複数の永久磁石を含む。
【0013】
また、他の一態様として、複数の永久磁石は、吸引部の基板側の磁場の強度が、吸引部の基板側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、基板に沿った第１方向にハルバッハ配列され、吸引部は、第１方向に配列された複数の永久磁石群を含み、複数の永久磁石群の各々は、第１方向に順次配置された、第１永久磁石、第２永久磁石、第３永久磁石及び第４永久磁石を含んでもよい。第１永久磁石は、基板に垂直な第２方向に沿った第１磁化を有し、第２永久磁石は、第１方向に沿った第２磁化を有し、第３永久磁石は、第２方向に沿った第３磁化を有し、第４永久磁石は、第１方向に沿った第４磁化を有し、第３磁化の磁化方向は、第１磁化の磁化方向と反平行であり、第４磁化の磁化方向は、第２磁化の磁化方向と反平行であってもよい。
【0014】
また、他の一態様として、マスク保持部により保持されている蒸着マスクは、基板に沿い且つ第１方向と交差する第３方向にそれぞれ延在する第１延在部及び第２延在部と、第１方向にそれぞれ延在する第３延在部及び第４延在部と、を含み、枠部形状を有する第１枠部と、それぞれ磁性材料よりなり、第１方向にそれぞれ延在し、第１方向における第１の側の第１端部が第１延在部にそれぞれ固定され、第１方向における第１の側と反対側の第２端部が第２延在部にそれぞれ固定され、且つ、第３方向に配列された複数の第１マスクシート部と、を含んでもよい。複数の第１マスクシート部の各々は、基板に蒸着材料を蒸着するための蒸着用パターンがそれぞれ形成され、第１方向に互いに間隔を空けて配列された複数の第１パターン部と、複数の第１パターン部のうち第１方向で互いに隣り合う２つの第１パターン部をそれぞれ連結する複数の第１リブ部と、を含んでもよい。複数の第１マスクシート部のいずれかについて、複数の第１パターン部のうち第１方向で互いに隣り合う２つの第１パターン部の中心間隔を、第１間隔とし、複数の永久磁石群のうち第１方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群の中心間隔を、第２間隔としたとき、第２間隔は、第１間隔に等しいか、又は、第１間隔の整数分の１に等しくてもよい。
【0015】
また、他の一態様として、マスク保持部により保持されている蒸着マスクは、基板に沿い且つ第１方向と交差する第４方向にそれぞれ延在する第５延在部及び第６延在部と、第１方向にそれぞれ延在する第７延在部及び第８延在部と、を含み、枠部形状を有する第２枠部と、それぞれ磁性材料よりなり、第４方向にそれぞれ延在し、第４方向における第２の側の第３端部が第７延在部にそれぞれ固定され、第４方向における第２の側と反対側の第４端部が第８延在部にそれぞれ固定され、且つ、第１方向に配列された複数の第２マスクシート部と、を含んでもよい。複数の第２マスクシート部のうち第１方向で互いに隣り合う２つの第２マスクシート部の中心間隔を、第３間隔とし、複数の永久磁石群のうち第１方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群の中心間隔を、第４間隔としたとき、第４間隔は、第３間隔に等しいか、又は、第３間隔の整数分の１に等しくてもよい。
【0016】
また、他の一態様として、複数の永久磁石は、吸引部の基板側の磁場の強度が、吸引部の基板側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、第１方向及び第３方向にハルバッハ配列され、複数の永久磁石群は、第１方向及び第３方向に配列され、複数の永久磁石群の各々は、第５永久磁石、第６永久磁石、第７永久磁石、第８永久磁石、第９永久磁石、第１０永久磁石、第１１永久磁石及び第１２永久磁石を含んでもよい。第１永久磁石、第５永久磁石、第７永久磁石及び第１１永久磁石は、第３方向に順次配置され、第３永久磁石、第６永久磁石、第９永久磁石及び第１２永久磁石は、第３方向に順次配置され、第７永久磁石、第８永久磁石、第９永久磁石及び第１０永久磁石は、第１方向に順次配置されていてもよい。第５永久磁石は、第３方向に沿った第５磁化を有し、第６永久磁石は、第３方向に沿った第６磁化を有し、第７永久磁石は、第２方向に沿った第７磁化を有し、第８永久磁石は、第１方向に沿った第８磁化を有し、第９永久磁石は、第２方向に沿った第９磁化を有し、第１０永久磁石は、第１方向に沿った第１０磁化を有し、第１１永久磁石は、第３方向に沿った第１１磁化を有し、第１２永久磁石は、第３方向に沿った第１２磁化を有し、第６磁化の磁化方向は、第５磁化の磁化方向と反平行であり、第７磁化の磁化方向は、第１磁化の磁化方向と反平行であり、第８磁化の磁化方向は、第２磁化の磁化方向と反平行であり、第９磁化の磁化方向は、第３磁化の磁化方向と反平行であり、第１０磁化の磁化方向は、第４磁化の磁化方向と反平行であり、第１１磁化の磁化方向は、第５磁化の磁化方向と反平行であり、第１２磁化の磁化方向は、第６磁化の磁化方向と反平行であってもよい。複数の第１マスクシート部のうち第３方向で互いに隣り合う２つの第１マスクシート部の中心間隔を、第５間隔とし、複数の永久磁石群のうち第３方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群の中心間隔を、第６間隔としたとき、第６間隔は、第５間隔に等しいか、又は、第５間隔の整数分の１に等しくてもよい。
【0017】
また、他の一態様として、吸引部は、上下方向である第２方向に移動可能に設けられていてもよい。当該蒸着装置は、更に、吸引部を第２方向に移動させ、吸引部と基板との間の第２方向における第１中心間隔を調整する第１移動部と、蒸着マスク又は基板を第２方向に移動させ、蒸着マスクと基板との間の第２方向における第２中心間隔を調整する第２移動部と、蒸着マスク又は基板を水平面内で移動させ、基板に対する蒸着マスクの水平面内での第１相対位置を調整する第３移動部と、第１移動部、第２移動部及び第３移動部の動作を制御する第１制御部と、を有してもよい。第１制御部は、蒸着マスクが基板から離れるように、第１移動部により、吸引部を第２方向に移動させ、第１中心間隔を調整し、第２移動部により、蒸着マスク又は基板を第２方向に移動させ、第２中心間隔を調整し、蒸着マスクが基板から離れている状態で、第１相対位置が第１範囲内になるように、第３移動部により、蒸着マスク又は基板を水平面内で移動させ、第１相対位置を調整し、第１相対位置が第１範囲内である状態で、蒸着マスクが基板に接するように、第２移動部により、蒸着マスク又は基板を第２方向に移動させ、第２中心間隔を調整し、蒸着マスクが基板に接している状態で、吸引部が蒸着マスクを磁力で吸引することで蒸着マスクが基板に密着するように、第１移動部により、吸引部を第２方向に移動させ、第１中心間隔を調整するように、第１移動部、第２移動部及び第３移動部の動作を制御してもよい。
【0018】
また、他の一態様として、吸引部は、基板に垂直な第１軸を中心として回転可能に設けられていてもよい。当該蒸着装置は、更に、第１軸を中心として吸引部を回転させ、吸引部の第１軸を中心とした回転角度を調整する回転部と、回転部の動作を制御する第２制御部と、を有してもよい。吸引部は、回転角度が第１角度であるとき、基板に沿った第５方向に配列された複数の永久磁石群を含み、複数の永久磁石群の各々は、回転角度が第１角度であるとき、第５方向に順次配置された、第１３永久磁石、第１４永久磁石、第１５永久磁石及び第１６永久磁石を含んでもよい。第１３永久磁石は、基板に垂直な第６方向に沿った第１３磁化を有し、第１４永久磁石は、回転角度が第１角度であるときに第５方向に沿った第１４磁化を有し、第１５永久磁石は、第６方向に沿った第１５磁化を有し、第１６永久磁石は、回転角度が第１角度であるときに第５方向に沿った第１６磁化を有し、第１５磁化の磁化方向は、第１３磁化の磁化方向と反平行であり、第１６磁化の磁化方向は、第１４磁化の磁化方向と反平行であってもよい。マスク保持部により保持されている蒸着マスクは、基板に沿い且つ第５方向と交差する第７方向にそれぞれ延在する第９延在部及び第１０延在部と、第５方向にそれぞれ延在する第１１延在部及び第１２延在部と、を含み、枠部形状を有する第３枠部と、それぞれ磁性材料よりなり、第５方向にそれぞれ延在し、第５方向における第３の側の第５端部が第９延在部にそれぞれ固定され、第５方向における第３の側と反対側の第６端部が第１０延在部にそれぞれ固定され、且つ、第７方向に配列された複数の第３マスクシート部と、を含んでもよい。複数の第３マスクシート部の各々は、基板に蒸着材料を蒸着するための蒸着用パターンがそれぞれ形成され、第５方向に互いに間隔を空けて配列された複数の第２パターン部と、複数の第２パターン部のうち第５方向で互いに隣り合う２つの第２パターン部をそれぞれ連結する複数の第２リブ部と、を含んでもよい。第２制御部は、複数の第３マスクシート部のいずれかについて、複数の第２パターン部のうち第５方向で互いに隣り合う２つの第２パターン部の中心間隔を、第７間隔とし、複数の永久磁石群のうち回転角度が第１角度であるときに第５方向で互いに隣り合う２つの永久磁石群について、回転角度が第１角度と異なる第２角度であるときの２つの永久磁石群の第５方向における中心間隔を、第８間隔としたとき、第８間隔と、第７間隔又は第７間隔の整数分の１と、の差が第２範囲内になるように、回転部により、第１軸を中心として吸引部を回転させ、回転角度を調整するように、回転部の動作を制御してもよい。
【0019】
また、他の一態様として、当該蒸着装置は、蒸着マスクを有してもよい。
【発明の効果】
【0020】
本発明の一態様を適用することで、基板に蒸着材料を蒸着する蒸着装置において、極薄の厚さを有する蒸着マスクが用いられる場合でも、単位面積当たりの蒸着マスクを磁力で吸引する吸引力を増加させ、蒸着マスクを基板に密着させることができ、基板の画素の領域に蒸着材料のパターンを形状精度良く形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】実施の形態の蒸着装置を模式的に示す一部断面を含む正面図である。
【図2】実施の形態の蒸着装置を用いて蒸着材料が蒸着される基板及び蒸着マスクを示す平面図である。
【図3】実施の形態の蒸着装置を用いて基板に蒸着材料を蒸着するための蒸着マスクを示す平面図である。
【図4】実施の形態の蒸着装置が有する吸引部に含まれる永久磁石の配置を蒸着マスクの配置と合わせて示す平面図である。
【図5】実施の形態の蒸着装置を用いた蒸着方法を説明するための図である。
【図6】実施の形態の蒸着装置を用いた蒸着方法を説明するための図である。
【図7】実施の形態の蒸着装置を用いた蒸着方法を説明するための図である。
【図8】実施の形態の第１変形例の蒸着装置を用いて蒸着材料を蒸着するための蒸着マスクを示す平面図である。
【図9】実施の形態の第１変形例の蒸着装置が有する吸引部に含まれる永久磁石の配置を蒸着マスクの配置と合わせて示す平面図である。
【図10】実施の形態の第２変形例の蒸着装置が有する吸引部に含まれる永久磁石の配置を示す平面図である。
【図11】実施の形態の第３変形例の蒸着装置を模式的に示す一部断面を含む正面図である。
【図12】実施の形態の第３変形例の蒸着装置が有する吸引部に含まれる永久磁石の配置を蒸着マスクの配置と合わせて示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0022】
以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。
【0023】
なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実施の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。
【0024】
また本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【0025】
更に、実施の形態で用いる図面においては、構造物を区別するために付したハッチング（網掛け）を図面に応じて省略する場合もある。
【0026】
なお、以下の実施の形態においてＡ～Ｂとして範囲を示す場合には、特に明示した場合を除き、Ａ以上Ｂ以下を示すものとする。
【0027】
（実施の形態）
＜蒸着装置＞
初めに、本発明の一実施形態である実施の形態の蒸着装置について説明する。本実施の形態の蒸着装置は、基板に蒸着材料を蒸着する蒸着装置である。
＜蒸着装置＞
初めに、本発明の一実施形態である実施の形態の蒸着装置について説明する。本実施の形態の蒸着装置は、基板に蒸着材料を蒸着する蒸着装置である。
【0028】
図１は、実施の形態の蒸着装置を模式的に示す一部断面を含む正面図である。図２は、実施の形態の蒸着装置を用いて蒸着材料が蒸着される基板及び蒸着マスクを示す平面図である。図２は、基板が蒸着マスク（図２では枠部のみを表示）と重ね合わされた状態を示している。図３は、実施の形態の蒸着装置を用いて基板に蒸着材料を蒸着するための蒸着マスクを示す平面図である。図４は、実施の形態の蒸着装置が有する吸引部に含まれる永久磁石の配置を蒸着マスクの配置と合わせて示す平面図である。なお、図４では、吸引部に含まれる複数の永久磁石のうち一部の複数の永久磁石のみの配置を示している。
【0029】
図１乃至図４に示すように、本実施の形態の蒸着装置１は、マスク保持部２と、基板配置部３と、蒸着源４と、吸引部５と、を有する。マスク保持部２、基板配置部３、蒸着源４及び吸引部５は、蒸着装置１が有する真空チャンバ６の内部に設けられている。また、本実施の形態の蒸着装置１は、減圧下で蒸着する場合等に備え、真空チャンバ６の内部を真空排気する真空排気部（図示は省略）を有してもよい。なお、大気圧下で蒸着する場合には、本実施の形態の蒸着装置は、真空チャンバ６及び真空排気部（図示は省略）を有しなくてもよい。
【0030】
マスク保持部２は、蒸着マスク７を保持する。マスク保持部２として、以下に説明するように、例えば図１の左右両側の各々において、図１の紙面に垂直な方向における前後にそれぞれ互いに間隔を空けて配置された、合計４つのマスク台２ａを含むものを用いることができる。
【0031】
４つのマスク台２ａは、真空チャンバ６の天板６ａに昇降可能に取り付けられたシャフト８の下端に、フレーム９及びアーム１０を介して固定されている。４つのマスク台２ａは、シャフト８の上端に取り付けられた昇降モータＭ１により、上下方向に移動する。
【0032】
蒸着マスク７は、例えば磁性金属材料等の磁性材料よりなる。磁性金属材料として、例えばインバーを用いることができる。インバーとは、鉄及びニッケルを主成分として含有する合金であり、磁気歪みによる体積変化と通常の格子振動による熱膨張が相殺しあって、ある温度範囲での熱膨張が小さくなるものである。なお、本実施の形態の蒸着装置１は、蒸着工程に応じて互いに異なる個別の蒸着マスク７を用いるものであってもよいが、専用の蒸着マスク７を蒸着装置１の一部として有するものであってもよい。
【0033】
蒸着マスク７は、蒸着材料が蒸着される基板１１よりやや大きい所定の寸法を有する。後述するように、蒸着マスク７は、枠部ＦＲ１を有する。また、枠部ＦＲ１は、４つのマスク台２ａによって支持される。枠部ＦＲ１には、基板配置部３に含まれ、後述するフック３ｂを収容する切り欠き部（図示は省略）が設けられている。蒸着マスク７には、例えば基板１１の中心に対し対称の位置に、位置検出用のマーク７ａが複数個設けられている。なお、基板１１にも、位置検出用のマーク１１ａが複数個設けられている。
【0034】
基板配置部３は、基板１１が、マスク保持部２に保持されている蒸着マスク７と接するように、基板１１を配置する。基板１１として、例えばガラス基板等の透明基板を用いることができる。また、基板配置部３として、以下に説明するように、例えば図１の左右両側の各々において、図１の紙面に垂直な方向における前後にそれぞれ互いに間隔を空けて配置された、合計４つのフック部材３ａを含むものを用いることができる。
【0035】
４つのフック部材３ａの各々は、フック部材３ａの下端が内側を向いたフック３ｂを有する。フック３ｂはマスク台２ａよりも上方に配置されている。４つのフック部材３ａの各々は、真空チャンバ６の天板６ａよりも下方に配置された支持フレーム１２に、ヒンジ機構１３を介して取付けられている。支持フレーム１２の上端は、天板６ａ上に設けた姿勢制御装置１４に接続されている。ヒンジ機構１３は、ヒンジ機構１３に取り付けられた軸１５によって、天板６ａの上方に設置した開閉モータ１６の出力軸に接続されている。このような構成により、フック部材３ａは、姿勢制御装置１４によって前後左右方向（ＸＹ方向）及び周方向（θ方向）に移動可能、且つ、開閉モータ１６及びヒンジ機構１３によって、垂直な閉じた位置から外側に略水平に開いた解除位置までヒンジ機構１３を支点として開閉可能に設けられている。４つのフック部材３ａは、４つのフック部材３ａが閉じた状態で、真空チャンバ６内に搬入された基板１１を、図１の左右両側の各々において、図１の紙面に垂直な方向におけるそれぞれ前後の位置である４箇所の位置で保持する。これによって、基板１１は、基板１１に生じる撓みが、平面視において、基板１１の中心に対して対称となる位置で保持される。
【0036】
蒸着源４は、マスク保持部２に保持されている蒸着マスク７を挟んで、基板１１が配置される側と反対側に配置され、蒸着材料を気化又は昇華させる。蒸着源４として、平面視において、点状形状、線状形状、面状形状等の各種の形状を有する蒸着源４を用いることができる。例えば図１の左右方向に沿った線状形状を有する、ラインソースと呼ばれる蒸着源４が、図１の紙面に垂直な方向において前端から後端まで走査即ち移動されることにより、基板１１の全面に亘り蒸着材料を蒸着することができる。
【0037】
吸引部５は、基板配置部３に保持されている基板１１を挟んで、マスク保持部２に保持されている蒸着マスク７が配置される側と反対側に配置されている。吸引部５は、蒸着マスク７を磁力で吸引することで蒸着マスク７を基板１１に密着させる。なお、本実施の形態では、下方から上方に向かって、蒸着源４、蒸着マスク７、基板１１、吸引部５の順に配置されているが（所謂フェイスダウン配置）、上下反転させ、上方から下方に向かって、蒸着源４、蒸着マスク７、基板１１、吸引部５の順に配置されていてもよい（所謂フェイスアップ配置）。また、吸引部５として、以下に説明するように、磁石保持部材５ａを含むものを用いることができる。
【0038】
磁石保持部材５ａは、シャフト８に貫装させた中心シャフト１７の下端に、取付け板１８を介して取り付けられている。磁石保持部材５ａは、取付け板１８に固定された支持板５ｂと、支持板５ｂの下面に例えば接着されることで固定された磁石部５ｃと、磁石部５ｃの下面に例えば接着されることで固定された支持板５ｄと、を含む。磁石保持部材５ａは、フック部材３ａのフック３ｂよりも上方に配置され、且つ、上下方向においてフック３ｂと互いに間隔を開けて配置されている。磁石保持部材５ａは、中心シャフト１７の上端に取り付けられた昇降モータＭ２により、上下方向に移動する。
【0039】
このような場合、吸引部５は、基板１１の表面に垂直な方向（後述する方向ＤＲ２）と同方向及び逆方向即ち上下方向に移動可能に設けられており、蒸着装置１は、図１に示すように、また、後述する図５乃至図７を用いて説明するように、移動部２１と、移動部２２と、移動部２３と、制御部２４と、を有することになる。また、図１に示すように、また、後述する図５乃至図７を用いて説明するように、移動部２１は、昇降モータＭ２を含み、移動部２２は、昇降モータＭ１及び姿勢制御装置１４を含み、移動部２３は、姿勢制御装置１４を含み、制御部２４は、例えばコンピュータを含む。また、基板配置部３も、開閉モータ１６を含むことになる。
【0040】
【0041】
本実施の形態では、吸引部５に含まれる磁石部５ｃは、磁石部５ｃ即ち吸引部５の基板１１側の磁場の強度が、磁石部５ｃ即ち吸引部５の基板１１側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、基板１１の表面即ち主面に沿った方向ＤＲ１にハルバッハ配列された複数の永久磁石ＰＭを含む。
【0042】
これにより、吸引部５の基板１１側の磁場の強度を、容易に強くすることができる。そのため、極薄の厚さを有する蒸着マスク７が用いられる場合でも、単位面積当たりの蒸着マスク７を磁力で吸引する吸引力を増加させ、蒸着マスク７を基板１１に密着させることができる。従って、基板１１の画素の領域に蒸着材料のパターンを形状精度良く形成することができ、製造された表示装置により表示される表示画像が不鮮明になることを、防止又は抑制することができる。なお、複数の永久磁石ＰＭがハルバッハ配列され、磁石部５ｃの基板１１側の磁場の強度が減衰するおそれがないため、複数の永久磁石ＰＭを接着等により容易に支持する観点から、非磁性材料よりなる支持板５ｄを用いることが望ましい。
【0043】
具体的には、吸引部５に含まれる磁石部５ｃは、方向ＤＲ１に配列された複数の永久磁石群ＰＧを含む。複数の永久磁石群ＰＧの各々は、方向ＤＲ１に順次配置された複数の永久磁石ＰＭとして、永久磁石ＰＭ１、永久磁石ＰＭ２、永久磁石ＰＭ３及び永久磁石ＰＭ４を含む。
【0044】
永久磁石ＰＭ１は、基板１１の表面に垂直な方向ＤＲ２に沿った磁化ＭＧ１を有し、永久磁石ＰＭ２は、方向ＤＲ１に沿った磁化ＭＧ２を有し、永久磁石ＰＭ３は、方向ＤＲ２に沿った磁化ＭＧ３を有し、永久磁石ＰＭ４は、方向ＤＲ１に沿った磁化ＭＧ４を有する。磁化ＭＧ３の磁化方向は、磁化ＭＧ１の磁化方向と反平行であり、磁化ＭＧ４の磁化方向は、磁化ＭＧ２の磁化方向と反平行である。なお、図１及び図４では、永久磁石ＰＭの磁化の向きを矢印により示している（後述する図５乃至図７、図９乃至図１２においても同様）。
【0045】
また、永久磁石ＰＭ１は、方向ＤＲ２における基板１１側と反対側に配置されたＮ極と、方向ＤＲ２における基板１１側に配置されたＳ極と、を含む。永久磁石ＰＭ２は、方向ＤＲ１における永久磁石ＰＭ３側に配置されたＮ極と、方向ＤＲ１における永久磁石ＰＭ１側に配置されたＳ極と、を含む。永久磁石ＰＭ３は、方向ＤＲ２における基板１１側に配置されたＮ極と、方向ＤＲ２における基板１１側と反対側に配置されたＳ極と、を含む。永久磁石ＰＭ４は、方向ＤＲ１における永久磁石ＰＭ３側に配置されたＮ極と、方向ＤＲ１における永久磁石ＰＭ３側と反対側に配置されたＳ極と、を含む。
【0046】
なお、本実施の形態では、Ｎ極を第１極性を有する磁極と定義し、Ｓ極を第１極性と反対の第２極性を有する磁極と定義する。しかし、本実施の形態において、全てのＮ極と全てのＳ極とを入れ替え、Ｓ極を第１極性を有する磁極と定義し、Ｎ極を第１極性と反対の第２極性を有する磁極と定義してもよい。
【0047】
このように複数の永久磁石を配置することにより、永久磁石ＰＭ１のＳ極に入る磁力線は、永久磁石ＰＭ１と隣り合う永久磁石ＰＭ２のＮ極から出たものではないため、基板１１側に大きく広がる。しかし、永久磁石ＰＭ１のＮ極から出た磁力線は、永久磁石ＰＭ１と隣り合う永久磁石ＰＭ２のＳ極に入るため、基板１１側と反対側にはあまり広がらない。そのため、永久磁石ＰＭ１の基板１１側の磁場の強度が、永久磁石ＰＭ１の基板１１側と反対側の磁場の強度よりも強い。
【0048】
また、永久磁石ＰＭ３のＮ極から出た磁力線は、永久磁石ＰＭ３と隣り合う永久磁石ＰＭ２のＮ極、及び、永久磁石ＰＭ３と隣り合う永久磁石ＰＭ４のＮ極のいずれにも入らないため、基板１１側に大きく広がる。しかし、永久磁石ＰＭ３のＳ極に入る磁力線は、永久磁石ＰＭ３と隣り合う永久磁石ＰＭ２のＮ極、及び、永久磁石ＰＭ３と隣り合う永久磁石ＰＭ４のＮ極、のいずれかから出たものであるため、基板１１側と反対側にはあまり広がらない。そのため、永久磁石ＰＭ３の基板１１側の磁場の強度が、永久磁石ＰＭ３の基板１１側と反対側の磁場の強度よりも強い。
【0049】
好適には、マスク保持部２により保持されている蒸着マスク７は、枠部ＦＲ１と、複数のマスクシート部ＭＳ１と、を有する。
【0050】
枠部ＦＲ１は、基板１１の表面に沿い且つ方向ＤＲ１と交差好適には直交する方向ＤＲ３にそれぞれ延在する延在部ＥＸ１及び延在部ＥＸ２と、方向ＤＲ１にそれぞれ延在する延在部ＥＸ３及び延在部ＥＸ４と、を含み、枠部形状を有する。
【0051】
複数のマスクシート部ＭＳ１は、それぞれ磁性材料よりなり、方向ＤＲ１にそれぞれ延在し、方向ＤＲ１における第１の側の端部ＥＰ１が延在部ＥＸ１にそれぞれ固定され、方向ＤＲ１における第１の側と反対側の端部ＥＰ２が延在部ＥＸ２にそれぞれ固定され、且つ、方向ＤＲ３に配列されている。
【0052】
複数のマスクシート部ＭＳ１の各々は、複数のパターン部ＰＴ１と、複数のリブ部ＲＢ１と、を含む。複数のパターン部ＰＴ１は、基板１１に蒸着材料を蒸着するための複数の貫通孔よりなる蒸着用パターンＰＤがそれぞれ形成され、方向ＤＲ１に互いに間隔を空けて配列されている。複数のリブ部ＲＢ１は、複数のパターン部ＰＴ１のうち方向ＤＲ１で互いに隣り合う２つのパターン部ＰＴ１をそれぞれ連結する。パターン部ＰＴ１とリブ部ＲＢ１とは、方向ＤＲ１に沿って交互に配置されている。なお、図３及び図４では、蒸着用パターンＰＤにハッチングを付している（後述する図８、図９及び図１２においても同様）。
【0053】
また、複数のマスクシート部ＭＳ１の少なくともいずれか、好適には各々について、複数のパターン部ＰＴ１のうち方向ＤＲ１で互いに隣り合う２つのパターン部ＰＴ１の中心間隔を、間隔ＳＰ１とする。また、複数の永久磁石群ＰＧのうち方向ＤＲ１で互いに隣り合う２つの永久磁石群ＰＧの中心間隔を、間隔ＳＰ２とする。このようにしたとき、間隔ＳＰ２は、間隔ＳＰ１に等しいか、又は、間隔ＳＰ１の整数分の１に等しい。
【0054】
これにより、複数のマスクシート部ＭＳ１の少なくともいずれか、好適には各々に含まれる複数のパターン部ＰＴ１の各々に吸引部５により印加される磁場分布が互いに等しくなり、複数のパターン部ＰＴ１の各々が基板１１に密着される密着力の分布も互いに等しくなる。そのため、基板１１が複数のパターン部ＰＴ１の各々にそれぞれ対応した領域に切り離されて複数の表示装置が製造される場合に、製造された複数の表示装置の間で、パターン部ＰＴ１に形成された蒸着用パターンＰＤを通して蒸着材料が蒸着されて形成されたパターンの形状精度のばらつきが小さくなり、製造された複数の表示装置の間の表示特性のばらつきを小さくすることができる。
【0055】
なお、本願明細書において、一方の値が他の値に等しいとは、一方の値と他の値との差が０である場合のみならず、一方の値と他の値との差が、一方の値及び他の値の平均値の５％以下である場合を意味する。
【0056】
次に、図１及び図５乃至図７を参照し、本実施の形態の蒸着装置を用いた蒸着方法について説明する。図５乃至図７は、実施の形態の蒸着装置を用いた蒸着方法を説明するための図である。図５乃至図７は、図１と同様に、実施の形態の蒸着装置の一部断面を含む正面図を模式的に示している。
【0057】
図１に示すように、また、前述したように、吸引部５は、基板１１の表面に垂直な方向である方向ＤＲ２と同方向及び逆方向即ち上下方向に移動可能に設けられており、蒸着装置１は、移動部２１と、移動部２２と、移動部２３と、制御部２４と、を有する。なお、図１では、方向ＤＲ２は上向きであるが、方向ＤＲ２は下向きであってもよい。
【0058】
移動部２１は、吸引部５を方向ＤＲ２と同方向又は逆方向に移動させ、吸引部５と基板１１との間の方向ＤＲ２における中心間隔ＣＳ１（後述する図６参照）を調整する。移動部２２は、マスク保持部２に保持されている蒸着マスク７、又は、蒸着マスク７よりも上方に配置されている基板１１を方向ＤＲ２と同方向又は逆方向に移動させ、蒸着マスク７と基板１１との間の方向ＤＲ２における中心間隔ＣＳ２（後述する図６参照）を調整する。移動部２３は、マスク保持部２に保持されている蒸着マスク７、又は、蒸着マスク７よりも上方に配置されている基板１１を水平面内で移動させ、基板１１に対する蒸着マスク７の水平面内での第１相対位置を調整する。また、制御部２４は、移動部２１、移動部２２及び移動部２３の動作を制御する。移動部２１は、昇降モータＭ２を含み、移動部２２は、昇降モータＭ１及び姿勢制御装置１４を含み、移動部２３は、姿勢制御装置１４を含み、制御部２４は、例えばコンピュータを含む。また、基板配置部３も、開閉モータ１６を含む。
【0059】
本実施の形態の蒸着装置を用いた蒸着方法では、まず、制御部２４は、図５に示すように、マスク保持部２により、蒸着マスク７を保持するように、マスク保持部２の動作を制御する（ステップＳ１）。
【0060】
このステップＳ１では、まず、図５に示すように、移動部２１に含まれる昇降モータＭ２を作動させて、マスク保持部２に保持されている蒸着マスク７が吸引部５に吸引されず、マスク保持部２に保持されている蒸着マスク７が基板１１から離れるような位置まで、中心シャフト１７下端の磁石保持部材５ａを上昇させる。
【0061】
このステップＳ１では、次に、図示は省略するものの、開閉モータ１６を作動させて４つのフック部材３ａを外側にやや開いた姿勢に位置させる。次いで、図示は省略するものの、搬送装置（図示は省略）によって、蒸着マスク７を真空チャンバ６内に搬入し、４つのフック部材３ａよりも内側の上方に配置する。
【0062】
このステップＳ１では、次に、図示は省略するものの、搬送装置（図示は省略）を下降させることで蒸着マスク７を下降させ、蒸着マスク７の枠部ＦＲ１をフック部材３ａのフック３ｂに掛けて、蒸着マスク７をフック部材３ａで一旦受け取る。
【0063】
このステップＳ１では、次に、図示は省略するものの、搬送装置（図示は省略）を真空チャンバ６から退出させた後、図５に示すように、移動部２１に含まれる昇降モータＭ２を作動させて４つのマスク台２ａを上昇させ、蒸着マスク７の枠部ＦＲ１の下面をマスク台２ａに掛けることで、蒸着マスク７をマスク台２ａにより保持する。これによりフック３ｂ上の蒸着マスク７が、マスク台２ａ上に受け渡される。マスク台２ａは、保持している蒸着マスク７の枠部ＦＲ１を除く本体部分をパスラインの高さに位置させたところで停止する。
【0064】
【0065】
このステップＳ２では、まず、図６に示すように、移動部２２に含まれる昇降モータＭ１を作動させて、４つのマスク台２ａを下降させ、蒸着マスク７を下降させる。続いて搬送装置（図示は省略）によって、基板１１をパスラインに沿って真空チャンバ６内に搬入し、４つのフック部材３ａの内側の上方に配置する。基板１１は、蒸着材料が蒸着される側の表面が、下側に向けられている。
【0066】
このステップＳ２では、次に、図示は省略するものの、搬送装置（図示は省略）を下降させることで基板１１を下降させ、基板１１の周縁部の下面をフック部材３ａのフック３ｂに掛けることで、基板１１をフック部材３ａにより支持する。基板１１のフック３ｂに掛けた部分はほぼパスラインの高さに配置される。フック部材３ａに支持されている基板１１は、自重で中央部が撓む。基板１１が、厚みが薄く且つ大サイズのガラス基板の場合、撓みが大きくなる。しかし、平面視において、基板１１は、左右前後の４箇所でフック３ｂにより保持されているので、基板１１の撓みは、基板１１の中心に対して対称になる。
【0067】
このステップＳ２では、次に、図６に示すように、移動部２２に含まれる昇降モータＭ１を作動させて、４つのマスク台２ａを上昇させ、蒸着マスク７を上昇させ、蒸着マスク７を基板１１に隙間を開けた位置で正対させる。
【0068】
即ち、このステップＳ２では、制御部２４は、マスク保持部２に保持されている蒸着マスク７が、蒸着マスク７上に配置されている基板１１から離れるように、移動部２１により、吸引部５を方向ＤＲ２と同方向又は逆方向に移動させ、吸引部５と基板１１との間の方向ＤＲ２における中心間隔ＣＳ１を調整し、移動部２２により、蒸着マスク７又は基板１１を方向ＤＲ２と同方向又は逆方向に移動させ、蒸着マスク７と基板１１との間の方向ＤＲ２における中心間隔ＣＳ２を調整するように、移動部２１及び移動部２２の動作を制御することになる。
【0069】
次に、制御部２４は、図６に示すように、マスク保持部２に保持されている蒸着マスク７が、蒸着マスク７上に配置されている基板１１から離れている状態で、基板１１に対する蒸着マスク７の水平面内での第１相対位置が一定の第１範囲内になるように、移動部２３により、蒸着マスク７又は基板１１を水平面内で移動させ、基板１１に対する蒸着マスク７の水平面内での第１相対位置を調整するように、移動部２３の動作を制御する（ステップＳ３）。なお、ステップＳ３、並びに、後述するステップＳ４及びステップＳ５は、ステップＳ２の後に行われてもよく、ステップＳ２に含まれてもよい。
【0070】
このステップＳ３では、まず、光源２５からスポット光を基板１１の複数のマーク１１ａ（図２参照）の近傍に照射し、その光照射下に複数のマーク１１ａをＣＣＤカメラ２６によって上方から撮影する。撮影したマーク１１ａの画像情報は、制御部２４に含まれる演算装置２４ａに送ってメモリに記憶させる。
【0071】
このステップＳ３では、次に、蒸着マスク７の複数のマーク７ａ（図２参照）を撮影して、位置情報を取得する。このとき基板１１が撓み、基板１１と蒸着マスク７とが上下方向に離れているので、ＣＣＤカメラ２６は、蒸着マスク７を撮影するときと基板１１を撮影するときとに応じて、焦点を合わせるために上下に移動させる場合がある。
【0072】
演算装置２４ａは、蒸着マスク７の複数のマーク７ａ（図２参照）と基板１１の複数のマーク１１ａ（図２参照）を撮影した画像情報をメモリから呼び出し、画像処理によってマーク７ａ及びマーク１１ａの位置を求める。更に、演算装置２４ａはマーク１１ａの位置情報から基板１１の中心及び基準線を求め、マーク７ａの位置情報から蒸着マスク７の中心及び基準線を求める。演算装置２４ａは、これらの位置情報、並びに、中心及び基準線から、基板１１に対する蒸着マスク７の水平面内での第１相対位置を演算する。また、演算装置２４ａは、基板１１に対する蒸着マスク７の水平面内での第１相対位置が予め設定した許容範囲即ち一定の第１範囲内に入るか否かを判断する。演算装置２４ａは、基板１１に対する蒸着マスク７の水平面内での第１相対位置が一定の第１範囲外であるときは、一定の第１範囲内に入らせるのに必要な基板１１のＸＹθ方向の移動量を演算し、移動部２３に含まれる姿勢制御装置１４に制御命令を出力する。姿勢制御装置１４は、フック部材３ａにより支持されている基板１１をＸＹθ方向に移動して、基板１１に対する蒸着マスク７の水平面内での第１相対位置を一定の第１範囲内とする。
【0073】
次に、制御部２４は、基板１１に対する蒸着マスク７の水平面内での第１相対位置が一定の第１範囲内である状態で、図７に示すように、マスク保持部２に保持されている蒸着マスク７が、蒸着マスク７上に配置されている基板１１に接するように、移動部２２により、蒸着マスク７又は基板１１を方向ＤＲ２と同方向又は逆方向に移動させ、中心間隔ＣＳ２を調整するように、移動部２２の動作を制御する（ステップＳ４）。
【0074】
このステップＳ４では、移動部２２に含まれる昇降モータＭ１を作動させて、マスク台２ａ上の蒸着マスク７を上昇させる。
【0075】
次に、制御部２４は、マスク保持部２に保持されている蒸着マスク７が、蒸着マスク７上に配置されている基板１１に接している状態で、吸引部５が蒸着マスク７を磁力で吸引することで蒸着マスク７が基板１１に密着するように、移動部２１により、吸引部５を方向ＤＲ２と同方向又は逆方向に移動させ、中心間隔ＣＳ１を調整するように、移動部２１の動作を制御する（ステップＳ５）。
【0076】
このステップＳ５では、移動部２１に含まれる昇降モータＭ２を作動させて、中心シャフト１７下端の磁石保持部材５ａを下降させ、基板１１と蒸着マスク７とを密着させる。更に、開閉モータ１６を作動させてフック部材３ａを開き、図１に示すように、フック部材３ａによる基板１１の支持を解除し、その状態で蒸着源４から蒸発した蒸着材料を、基板１１の表面に、蒸着マスク７を通して蒸着する。
【0077】
これにより、蒸着マスク７が基板１１から離れている状態で、基板１１に対する蒸着マスク７の水平面内での第１相対位置が一定の第１範囲内になるように、第１相対位置を容易に調整した後、蒸着マスク７を基板１１に密着させることができる。従って、基板１１の画素の領域に蒸着材料のパターンを更に形状精度良く形成することができ、製造された表示装置により表示される表示画像が不鮮明になることを、更に防止又は抑制することができる。
【0078】
＜蒸着装置の第１変形例＞
次に、実施の形態の蒸着装置の第１変形例について説明する。本第１変形例の蒸着装置は、複数の永久磁石群が、複数のマスクシート部の配列方向に配列され、複数の永久磁石群の各々に含まれる複数の永久磁石が、複数のマスクシート部の配列方向にハルバッハ配列される点で、実施の形態の蒸着装置と異なる。一方、本第１変形例でも、図１に示す実施の形態と同様に、吸引部５が、方向ＤＲ２と同方向及び逆方向に移動可能に設けられ、蒸着装置１が、移動部２１と、移動部２２と、移動部２３と、制御部２４と、を有することができる。
次に、実施の形態の蒸着装置の第１変形例について説明する。本第１変形例の蒸着装置は、複数の永久磁石群が、複数のマスクシート部の配列方向に配列され、複数の永久磁石群の各々に含まれる複数の永久磁石が、複数のマスクシート部の配列方向にハルバッハ配列される点で、実施の形態の蒸着装置と異なる。一方、本第１変形例でも、図１に示す実施の形態と同様に、吸引部５が、方向ＤＲ２と同方向及び逆方向に移動可能に設けられ、蒸着装置１が、移動部２１と、移動部２２と、移動部２３と、制御部２４と、を有することができる。
【0079】
図８は、実施の形態の第１変形例の蒸着装置を用いて蒸着材料を蒸着するための蒸着マスクを示す平面図である。図９は、実施の形態の第１変形例の蒸着装置が有する吸引部に含まれる永久磁石の配置を蒸着マスクの配置と合わせて示す平面図である。なお、図９では、吸引部に含まれる複数の永久磁石のうち一部の複数の永久磁石のみの配置を示している。
【0080】
本第１変形例の蒸着装置１（図１参照）では、マスク保持部２（図１参照）により保持されている蒸着マスク７は、実施の形態の蒸着装置１で図３を用いて説明した蒸着マスク７と異なり、図８に示すように、枠部ＦＲ２と、複数のマスクシート部ＭＳ２と、を有する。
【0081】
枠部ＦＲ２は、基板１１（図１参照）の表面に沿い且つ方向ＤＲ１と交差好適には直交する方向ＤＲ４（図１に示す方向ＤＲ３と同一の方向）にそれぞれ延在する延在部ＥＸ５及び延在部ＥＸ６と、方向ＤＲ１にそれぞれ延在する延在部ＥＸ７及び延在部ＥＸ８と、を含み、枠部形状を有する。
【0082】
複数のマスクシート部ＭＳ２は、それぞれ磁性材料よりなり、方向ＤＲ４にそれぞれ延在し、方向ＤＲ４における第２の側の端部ＥＰ３が延在部ＥＸ７にそれぞれ固定され、方向ＤＲ４における第２の側と反対側の端部ＥＰ４が延在部ＥＸ８にそれぞれ固定され、且つ、方向ＤＲ１に配列されている。
【0083】
複数のマスクシート部ＭＳ２の各々は、複数のパターン部ＰＴ２と、複数のリブ部ＲＢ２と、を含む。複数のパターン部ＰＴ２は、基板１１に蒸着材料を蒸着するための複数の貫通孔よりなる蒸着用パターンＰＤがそれぞれ形成され、方向ＤＲ４に互いに間隔を空けて配列されている。複数のリブ部ＲＢ２は、複数のパターン部ＰＴ２のうち方向ＤＲ４で互いに隣り合う２つのパターン部ＰＴ２をそれぞれ連結する。パターン部ＰＴ２とリブ部ＲＢ２とは、方向ＤＲ４に沿って交互に配置されている。
【0084】
また、本第１変形例の蒸着装置１（図１参照）が有する吸引部５（図１参照）に含まれる磁石部５ｃでは、実施の形態で図４を用いて説明した磁石部５ｃと同様に、図９に示すように、複数の永久磁石群ＰＧは、方向ＤＲ１に配列され、複数の永久磁石群ＰＧの各々に含まれる複数の永久磁石ＰＭが、方向ＤＲ１にハルバッハ配列されている。即ち、本第１変形例でも、実施の形態と同様に、複数の永久磁石群ＰＧの各々は、方向ＤＲ１に順次配置された、永久磁石ＰＭ１、永久磁石ＰＭ２、永久磁石ＰＭ３及び永久磁石ＰＭ４を含むことができる。永久磁石ＰＭ１は、基板１１（図１参照）の表面に垂直な方向ＤＲ２に沿った磁化ＭＧ１を有し、永久磁石ＰＭ２は、方向ＤＲ１に沿った磁化ＭＧ２を有し、永久磁石ＰＭ３は、方向ＤＲ２に沿った磁化ＭＧ３を有し、永久磁石ＰＭ４は、方向ＤＲ１に沿った磁化ＭＧ４を有する。磁化ＭＧ３の磁化方向は、磁化ＭＧ１の磁化方向と反平行であり、磁化ＭＧ４の磁化方向は、磁化ＭＧ２の磁化方向と反平行である。
【0085】
一方、本第１変形例の蒸着装置１（図１参照）では、実施の形態の蒸着装置１（図１参照）と異なり、方向ＤＲ１は、１つのマスクシート部ＭＳ２に含まれる複数のパターン部ＰＴ２が配列されている方向ではなく、複数のマスクシート部ＭＳ２が配列されている方向である。
【0086】
また、複数のマスクシート部ＭＳ２のうち方向ＤＲ１で互いに隣り合う２つのマスクシート部ＭＳ２の中心間隔を、間隔ＳＰ３とする。また、複数の永久磁石群ＰＧのうち方向ＤＲ１で互いに隣り合う２つの永久磁石群ＰＧの中心間隔を、間隔ＳＰ４とする。このようにしたとき、間隔ＳＰ４は、間隔ＳＰ３に等しいか、又は、間隔ＳＰ３の整数分の１に等しい。
【0087】
これにより、複数のマスクシート部ＭＳ２の各々に吸引部５（図１参照）により印加される磁場分布が互いに等しくなり、複数のマスクシート部ＭＳ２の各々が基板１１（図１参照）に密着される密着力の分布も互いに等しくなる。そのため、基板１１が複数のマスクシート部ＭＳ２の各々にそれぞれ対応した領域に切り離されて複数の表示装置が製造される場合に、製造された複数の表示装置の間で、パターン部ＰＴ２に形成された蒸着用パターンＰＤを通して蒸着材料が蒸着されて形成されたパターンの形状精度のばらつきが小さくなり、製造された複数の表示装置の間の表示特性のばらつきを小さくすることができる。
【0088】
＜蒸着装置の第２変形例＞
次に、実施の形態の蒸着装置の第２変形例について説明する。本第２変形例の蒸着装置は、複数の永久磁石群が、複数のパターン部の配列方向及び複数のマスクシート部の配列方向に２次元配列され、複数の永久磁石群の各々に含まれる複数の永久磁石が、複数のパターン部の配列方向及び複数のマスクシート部の配列方向に２次元にハルバッハ配列される点で、実施の形態の蒸着装置と異なる。一方、本第２変形例でも、図１に示す実施の形態と同様に、吸引部５が、方向ＤＲ２と同方向及び逆方向に移動可能に設けられ、蒸着装置１が、移動部２１と、移動部２２と、移動部２３と、制御部２４と、を有することができる。
次に、実施の形態の蒸着装置の第２変形例について説明する。本第２変形例の蒸着装置は、複数の永久磁石群が、複数のパターン部の配列方向及び複数のマスクシート部の配列方向に２次元配列され、複数の永久磁石群の各々に含まれる複数の永久磁石が、複数のパターン部の配列方向及び複数のマスクシート部の配列方向に２次元にハルバッハ配列される点で、実施の形態の蒸着装置と異なる。一方、本第２変形例でも、図１に示す実施の形態と同様に、吸引部５が、方向ＤＲ２と同方向及び逆方向に移動可能に設けられ、蒸着装置１が、移動部２１と、移動部２２と、移動部２３と、制御部２４と、を有することができる。
【0089】
【0090】
本第２変形例でも、実施の形態で図３を用いて説明した蒸着マスク７と同様に、マスク保持部２（図１参照）により保持されている蒸着マスク７（図３参照）は、枠部ＦＲ１と、複数のマスクシート部ＭＳ１と、を有する。枠部ＦＲ１は、基板１１の表面に沿い且つ方向ＤＲ１と交差好適には直交する方向ＤＲ３にそれぞれ延在する延在部ＥＸ１及び延在部ＥＸ２と、方向ＤＲ１にそれぞれ延在する延在部ＥＸ３及び延在部ＥＸ４と、を含み、枠部形状を有する。また、複数のマスクシート部ＭＳ１は、複数のパターン部ＰＴ１と、複数のリブ部ＲＢ１と、を含む。複数のパターン部ＰＴ１と、複数のリブ部ＲＢ１とは、方向ＤＲ１に沿って交互に配置されている。
【0091】
また、複数の永久磁石群ＰＧの各々は、方向ＤＲ１に順次配置された、永久磁石ＰＭ１、永久磁石ＰＭ２、永久磁石ＰＭ３及び永久磁石ＰＭ４を含むことができる。永久磁石ＰＭ１は、基板１１の表面に垂直な方向ＤＲ２に沿った磁化ＭＧ１を有し、永久磁石ＰＭ２は、方向ＤＲ１に沿った磁化ＭＧ２を有し、永久磁石ＰＭ３は、方向ＤＲ２に沿った磁化ＭＧ３を有し、永久磁石ＰＭ４は、方向ＤＲ１に沿った磁化ＭＧ４を有する。磁化ＭＧ３の磁化方向は、磁化ＭＧ１の磁化方向と反平行であり、磁化ＭＧ４の磁化方向は、磁化ＭＧ２の磁化方向と反平行である。
【0092】
一方、本第２変形例の蒸着装置１（図１参照）が有する吸引部５（図１参照）に含まれる磁石部５ｃでは、実施の形態で図４を用いて説明した磁石部５ｃと異なり、図１０に示すように、複数の永久磁石ＰＭは、磁石部５ｃ即ち吸引部５の基板１１（図１参照）側の磁場の強度が、磁石部５ｃ即ち吸引部５の基板１１側と反対側の磁場の強度よりも強くなるように、方向ＤＲ１及び方向ＤＲ３において２次元にハルバッハ配列されている。また、磁石部５ｃでは、複数の永久磁石群ＰＧは、方向ＤＲ１及び方向ＤＲ３に２次元に配列されている。
【0093】
複数の永久磁石群ＰＧの各々は、複数の永久磁石ＰＭとして、永久磁石ＰＭ５、永久磁石ＰＭ６、永久磁石ＰＭ７、永久磁石ＰＭ８、永久磁石ＰＭ９、永久磁石ＰＭ１０、永久磁石ＰＭ１１及び永久磁石ＰＭ１２を含む。
【0094】
永久磁石ＰＭ１、永久磁石ＰＭ５、永久磁石ＰＭ７及び永久磁石ＰＭ１１は、方向ＤＲ３に順次配置されている。永久磁石ＰＭ３、永久磁石ＰＭ６、永久磁石ＰＭ９及び永久磁石ＰＭ１２は、方向ＤＲ３に順次配置されている。永久磁石ＰＭ７、永久磁石ＰＭ８、永久磁石ＰＭ９及び永久磁石ＰＭ１０は、方向ＤＲ１に順次配置されている。
【0095】
永久磁石ＰＭ５は、方向ＤＲ３に沿った磁化ＭＧ５を有し、永久磁石ＰＭ６は、方向ＤＲ３に沿った磁化ＭＧ６を有し、永久磁石ＰＭ７は、方向ＤＲ２に沿った磁化ＭＧ７を有し、永久磁石ＰＭ８は、方向ＤＲ１に沿った磁化ＭＧ８を有し、永久磁石ＰＭ９は、方向ＤＲ２に沿った磁化ＭＧ９を有し、永久磁石ＰＭ１０は、方向ＤＲ１に沿った磁化ＭＧ１０を有し、永久磁石ＰＭ１１は、方向ＤＲ３に沿った磁化ＭＧ１１を有し、永久磁石ＰＭ１２は、方向ＤＲ３に沿った磁化ＭＧ１２を有する。
【0096】
磁化ＭＧ６の磁化方向は、磁化ＭＧ５の磁化方向と反平行であり、磁化ＭＧ７の磁化方向は、磁化ＭＧ１の磁化方向と反平行であり、磁化ＭＧ８の磁化方向は、磁化ＭＧ２の磁化方向と反平行であり、磁化ＭＧ９の磁化方向は、磁化ＭＧ３の磁化方向と反平行であり、磁化ＭＧ１０の磁化方向は、磁化ＭＧ４の磁化方向と反平行であり、磁化ＭＧ１１の磁化方向は、磁化ＭＧ５の磁化方向と反平行であり、磁化ＭＧ１２の磁化方向は、磁化ＭＧ６の磁化方向と反平行である。
【0097】
複数のマスクシート部ＭＳ１（図４参照）のいずれかについて、複数のパターン部ＰＴ１（図４参照）のうち方向ＤＲ１で互いに隣り合う２つのパターン部ＰＴ１の中心間隔を、前述したように、間隔ＳＰ１（図４参照）とし、複数のマスクシート部ＭＳ１のうち方向ＤＲ３で互いに隣り合う２つのマスクシート部ＭＳ１の中心間隔を、間隔ＳＰ５（図４参照）とする。また、図１０に示すように、複数の永久磁石群ＰＧのうち方向ＤＲ１で互いに隣り合う２つの永久磁石群ＰＧの中心間隔を、間隔ＳＰ２とし、複数の永久磁石群ＰＧのうち方向ＤＲ３で互いに隣り合う２つの永久磁石群ＰＧの中心間隔を、間隔ＳＰ６とする。このようにしたとき、間隔ＳＰ２は、間隔ＳＰ１に等しいか、又は、間隔ＳＰ１の整数分の１に等しく、且つ、間隔ＳＰ６は、間隔ＳＰ５に等しいか、又は、間隔ＳＰ５の整数分の１に等しい。
【0098】
これにより、複数のマスクシート部ＭＳ１（図４参照）の少なくともいずれか、好適には各々に含まれる複数のパターン部ＰＴ１（図４参照）の各々に吸引部５（図１参照）により印加される磁場分布が互いに等しくなり、複数のパターン部ＰＴ１の各々が基板１１（図１参照）に密着される密着力の分布も互いに等しくなる。そのため、基板１１が複数のパターン部ＰＴ１の各々にそれぞれ対応した領域に切り離されて複数の表示装置が製造される場合に、製造された複数の表示装置の間で、パターン部ＰＴ１に形成された蒸着用パターンＰＤを通して蒸着材料が蒸着されて形成されたパターンの形状精度のばらつきが小さくなり、製造された複数の表示装置の間の表示特性のばらつきを小さくすることができる。
【0099】
また、複数のマスクシート部ＭＳ１（図４参照）の各々に吸引部５（図１参照）により印加される磁場分布が互いに等しくなり、複数のマスクシート部ＭＳ１の各々が基板１１に密着される密着力の分布も互いに等しくなる。そのため、基板１１が複数のマスクシート部ＭＳ１の各々にそれぞれ対応した領域に切り離されて複数の表示装置が製造される場合に、製造された複数の表示装置の間で、パターン部ＰＴ１に形成された蒸着用パターンＰＤを通して蒸着材料が蒸着されて形成されたパターンの形状精度のばらつきが小さくなり、製造された複数の表示装置の間の表示特性のばらつきを小さくすることができる。
【0100】
＜蒸着装置の第３変形例＞
次に、実施の形態の蒸着装置の第３変形例について説明する。本第３変形例の蒸着装置は、吸引部が、基板の表面に垂直な回転軸を中心として回転可能に設けられる点で、実施の形態の蒸着装置と異なる。
次に、実施の形態の蒸着装置の第３変形例について説明する。本第３変形例の蒸着装置は、吸引部が、基板の表面に垂直な回転軸を中心として回転可能に設けられる点で、実施の形態の蒸着装置と異なる。
【0101】
図１１は、実施の形態の第３変形例の蒸着装置を模式的に示す一部断面を含む正面図である。図１２は、実施の形態の第３変形例の蒸着装置が有する吸引部に含まれる永久磁石の配置を蒸着マスクの配置と合わせて示す平面図である。なお、図１２では、吸引部に含まれる複数の永久磁石のうち一部の複数の永久磁石のみの配置を示している。
【0102】
図１１及び図１２に示すように、本第３変形例の蒸着装置１ａでは、マスク保持部２により保持されている蒸着マスク７は、実施の形態の蒸着装置１で図３を用いて説明した蒸着マスク７と同様に、枠部ＦＲ３と、複数のマスクシート部ＭＳ３と、を有する。
【0103】
基板１１の表面に沿う方向を方向ＤＲ５とし、基板１１の表面に垂直な方向を方向ＤＲ６とする。このようにしたとき、枠部ＦＲ３は、基板１１の表面に沿い且つ方向ＤＲ５と交差好適には直交する方向ＤＲ７にそれぞれ延在する延在部ＥＸ９及び延在部ＥＸ１０と、方向ＤＲ５にそれぞれ延在する延在部ＥＸ１１及び延在部ＥＸ１２と、を含み、枠部形状を有する。
【0104】
複数のマスクシート部ＭＳ３は、それぞれ磁性材料よりなり、方向ＤＲ５にそれぞれ延在し、方向ＤＲ５における第３の側の端部ＥＰ５が延在部ＥＸ９にそれぞれ固定され、方向ＤＲ５における第３の側と反対側の端部ＥＰ６が延在部ＥＸ１０にそれぞれ固定され、且つ、方向ＤＲ７に配列されている。
【0105】
複数のマスクシート部ＭＳ３の各々は、複数のパターン部ＰＴ３と、複数のリブ部ＲＢ３と、を含む。複数のパターン部ＰＴ３は、基板１１に蒸着材料を蒸着するための複数の貫通孔よりなる蒸着用パターンＰＤがそれぞれ形成され、方向ＤＲ５に互いに間隔を空けて配列されている。複数のリブ部ＲＢ３は、複数のパターン部ＰＴ３のうち方向ＤＲ５で互いに隣り合う２つのパターン部ＰＴ３をそれぞれ連結する。パターン部ＰＴ３とリブ部ＲＢ３とは、方向ＤＲ５に沿って交互に配置されている。
【0106】
一方、本第３変形例では、実施の形態と異なり、吸引部５は、基板１１の表面に垂直な軸ＡＸ１を中心として回転可能に設けられている。また、本第３変形例では、実施の形態と異なり、蒸着装置１ａは、更に、回転部２７と、制御部２８と、を有する。回転部２７は、軸ＡＸ１を中心として吸引部５を回転させ、吸引部５の軸ＡＸ１を中心とした回転角度ＲＡを調整する。制御部２８は、例えばコンピュータを含み、回転部２７の動作を制御する。
【0107】
吸引部５は、昇降モータＭ２の上部に回転可能に取り付けられたシャフト２９の更に上端に取り付けられた回転モータＭ３により、軸ＡＸ１を中心として回転する。このような場合、回転部２７は、回転モータＭ３を含むことになる。
【0108】
また、本第３変形例では、複数の永久磁石群ＰＧが、方向ＤＲ５に配列されるときの吸引部５の回転角度ＲＡを、第１角度ＲＡ１（例えば０°）と定義する。即ち、吸引部５の回転角度ＲＡが第１角度ＲＡ１であるとき、吸引部５に含まれる磁石部５ｃは、基板１１の表面に沿った方向ＤＲ５に配列された複数の永久磁石群ＰＧを含む。また、吸引部５の回転角度ＲＡが第１角度ＲＡ１であるとき、複数の永久磁石群ＰＧの各々は、方向ＤＲ５に順次配置された複数の永久磁石ＰＭとして、永久磁石ＰＭ１３、永久磁石ＰＭ１４、永久磁石ＰＭ１５及び永久磁石ＰＭ１６を含む。
【0109】
また、吸引部５の回転角度ＲＡが第１角度ＲＡ１であるとき、永久磁石ＰＭ１３、永久磁石ＰＭ１４、永久磁石ＰＭ１５及び永久磁石ＰＭ１６の磁化の方向は、実施の形態における永久磁石ＰＭ１、永久磁石ＰＭ２、永久磁石ＰＭ３及び永久磁石ＰＭ４の磁化の方向と同様である。即ち、永久磁石ＰＭ１３は、基板１１の表面に垂直な方向ＤＲ６に沿った磁化ＭＧ１３を有し、永久磁石ＰＭ１４は、回転角度ＲＡが第１角度ＲＡ１であるときに方向ＤＲ５に沿った磁化ＭＧ１４を有する。また、永久磁石ＰＭ１５は、方向ＤＲ６に沿った磁化ＭＧ１５を有し、永久磁石ＰＭ１６は、回転角度ＲＡが第１角度ＲＡ１であるときに方向ＤＲ５に沿った磁化ＭＧ１６を有する。磁化ＭＧ１５の磁化方向は、磁化ＭＧ１３の磁化方向と反平行であり、磁化ＭＧ１６の磁化方向は、磁化ＭＧ１４の磁化方向と反平行である。
【0110】
また、複数のマスクシート部ＭＳ３のいずれかについて、複数のパターン部ＰＴ３のうち方向ＤＲ５で互いに隣り合う２つのパターン部ＰＴ３の中心間隔を、間隔ＳＰ７とする。また、複数の永久磁石群ＰＧのうち回転角度ＲＡが第１角度ＲＡ１であるときに方向ＤＲ５で互いに隣り合う２つの永久磁石群ＰＧについて、回転角度ＲＡが第１角度ＲＡ１と異なる第２角度ＲＡ２であるときの２つの永久磁石群ＰＧの方向ＤＲ５における中心間隔を、間隔ＳＰ８とする。このようにしたとき、本第３変形例の蒸着装置１ａを用いた蒸着方法では、制御部２８は、間隔ＳＰ８と、間隔ＳＰ７又は間隔ＳＰ７の整数分の１と、の差が、一定の第２範囲内、好適には０になるように、回転部２７により、軸ＡＸ１を中心として吸引部５を回転させ、回転角度ＲＡを調整するように、回転部２７の動作を制御する（ステップＳ６）。
【0111】
これにより、吸引部５の回転角度ＲＡが第１角度ＲＡ１（図示は省略）であるときに、２つの永久磁石群ＰＧの方向ＤＲ５における中心間隔が、間隔ＳＰ７及び間隔ＳＰ７の整数分の１のいずれに等しくない場合であっても、吸引部５の回転角度ＲＡが第１角度ＲＡ１と異なる第２角度ＲＡ２であるときに、間隔ＳＰ８を、間隔ＳＰ７又は間隔ＳＰ７の整数分の１に等しくすることができる。そのため、複数のマスクシート部ＭＳ３の少なくともいずれか、好適には各々に含まれる複数のパターン部ＰＴ３の各々に吸引部５により印加される磁場分布が互いに等しくなり、複数のパターン部ＰＴ３の各々が基板１１に密着される密着力の分布も互いに等しくなる。従って、基板１１が複数のパターン部ＰＴ３の各々にそれぞれ対応した領域に切り離されて複数の表示装置が製造される場合に、製造された複数の表示装置の間で、パターン部ＰＴ３に形成された蒸着用パターンＰＤを通して蒸着材料が蒸着されて形成されたパターンの形状精度のばらつきが小さくなり、製造された複数の表示装置の間の表示特性のばらつきを小さくすることができる。
【0112】
以上、本発明者によってなされた発明をその実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0113】
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
【0114】
例えば、前述の各実施の形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【0115】
１、１ａ 蒸着装置
２ マスク保持部
２ａ マスク台
３ 基板配置部
３ａ フック部材
３ｂ フック
４ 蒸着源
５ 吸引部
５ａ 磁石保持部材
５ｂ、５ｄ 支持板
５ｃ 磁石部
６ 真空チャンバ
６ａ 天板
７ 蒸着マスク
７ａ、１１ａ マーク
８、２９ シャフト
９ フレーム
１０ アーム
１１ 基板
１２ 支持フレーム
１３ ヒンジ機構
１４ 姿勢制御装置
１５、ＡＸ１ 軸
１６ 開閉モータ
１７ 中心シャフト
１８ 取付け板
２１～２３ 移動部
２４、２８ 制御部
２４ａ 演算装置
２５ 光源
２６ ＣＣＤカメラ
２７ 回転部
ＣＳ１、ＣＳ２ 中心間隔
ＤＲ１～ＤＲ７ 方向
ＥＰ１～ＥＰ６ 端部
ＥＸ１、ＥＸ１０～ＥＸ１２、ＥＸ２～ＥＸ９ 延在部
ＦＲ１～ＦＲ３ 枠部
Ｍ１、Ｍ２ 昇降モータ
Ｍ３ 回転モータ
ＭＧ１、ＭＧ１０～ＭＧ１６、ＭＧ２～ＭＧ９ 磁化
ＭＳ１～ＭＳ３ マスクシート部
ＰＤ 蒸着用パターン
ＰＧ 永久磁石群
ＰＭ、ＰＭ１、ＰＭ１０～ＰＭ１６、ＰＭ２～ＰＭ９ 永久磁石
ＰＴ１～ＰＴ３ パターン部
ＲＡ 回転角度
ＲＡ１ 第１角度
ＲＡ２ 第２角度
ＲＢ１～ＲＢ３ リブ部
ＳＰ１～ＳＰ８ 間隔
２ マスク保持部
２ａ マスク台
３ 基板配置部
３ａ フック部材
３ｂ フック
４ 蒸着源
５ 吸引部
５ａ 磁石保持部材
５ｂ、５ｄ 支持板
５ｃ 磁石部
６ 真空チャンバ
６ａ 天板
７ 蒸着マスク
７ａ、１１ａ マーク
８、２９ シャフト
９ フレーム
１０ アーム
１１ 基板
１２ 支持フレーム
１３ ヒンジ機構
１４ 姿勢制御装置
１５、ＡＸ１ 軸
１６ 開閉モータ
１７ 中心シャフト
１８ 取付け板
２１～２３ 移動部
２４、２８ 制御部
２４ａ 演算装置
２５ 光源
２６ ＣＣＤカメラ
２７ 回転部
ＣＳ１、ＣＳ２ 中心間隔
ＤＲ１～ＤＲ７ 方向
ＥＰ１～ＥＰ６ 端部
ＥＸ１、ＥＸ１０～ＥＸ１２、ＥＸ２～ＥＸ９ 延在部
ＦＲ１～ＦＲ３ 枠部
Ｍ１、Ｍ２ 昇降モータ
Ｍ３ 回転モータ
ＭＧ１、ＭＧ１０～ＭＧ１６、ＭＧ２～ＭＧ９ 磁化
ＭＳ１～ＭＳ３ マスクシート部
ＰＤ 蒸着用パターン
ＰＧ 永久磁石群
ＰＭ、ＰＭ１、ＰＭ１０～ＰＭ１６、ＰＭ２～ＰＭ９ 永久磁石
ＰＴ１～ＰＴ３ パターン部
ＲＡ 回転角度
ＲＡ１ 第１角度
ＲＡ２ 第２角度
ＲＢ１～ＲＢ３ リブ部
ＳＰ１～ＳＰ８ 間隔
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】