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特開2023-68560ホウ素含有化合物、オレフィン重合用触媒、およびオレフィン重合体の製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023068560
(43)【公開日】2023-05-17
(54)【発明の名称】ホウ素含有化合物、オレフィン重合用触媒、およびオレフィン重合体の製造方法
(51)【国際特許分類】
C07C 211/54 20060101AFI20230510BHJP
C07F 5/02 20060101ALI20230510BHJP
【ＦＩ】
C07C211/54
C07F5/02 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021179786
(22)【出願日】2021-11-02
(71)【出願人】
【識別番号】000005887
【氏名又は名称】三井化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001070
【氏名又は名称】弁理士法人エスエス国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】足利 駿輔
(72)【発明者】
【氏名】原田 恭行
(72)【発明者】
【氏名】寺尾 浩志
【テーマコード（参考）】
4H006
4H048
【Ｆターム（参考）】
4H006AA01
4H006AB40
4H048AA01
4H048AA03
4H048AB40
4H048VA11
4H048VA30
4H048VB10
(57)【要約】
【課題】オレフィン重合用触媒における助触媒として有用な新規なホウ素含有化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ａ）で表されるホウ素含有化合物（Ａ）。
［Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＮＨ］+［ＢＱ4］- …（Ａ）
〔一般式（Ａ）において、Ｒ1は炭素数２以上のアリール基以外の炭化水素基または水素原子である。Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、アリール基である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計は１５以上である。４つのＱは、それぞれ独立に、アリール基である。〕
【選択図】なし
【解決手段】下記一般式（Ａ）で表されるホウ素含有化合物（Ａ）。
［Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＮＨ］+［ＢＱ4］- …（Ａ）
〔一般式（Ａ）において、Ｒ1は炭素数２以上のアリール基以外の炭化水素基または水素原子である。Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、アリール基である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計は１５以上である。４つのＱは、それぞれ独立に、アリール基である。〕
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式（Ａ）で表されるホウ素含有化合物（Ａ）。
［Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＮＨ］+［ＢＱ4］- …（Ａ）
〔一般式（Ａ）において、Ｒ1は炭素数２以上のアリール基以外の炭化水素基または水素原子である。
Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、アリール基である。
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計は１５以上である。
４つのＱは、それぞれ独立に、アリール基である。〕
［Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＮＨ］+［ＢＱ4］- …（Ａ）
〔一般式（Ａ）において、Ｒ1は炭素数２以上のアリール基以外の炭化水素基または水素原子である。
Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、アリール基である。
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計は１５以上である。
４つのＱは、それぞれ独立に、アリール基である。〕
【請求項2】
前記一般式（Ａ）においてＲ1は炭素数２以上のアリール基以外の炭化水素基である請求項１に記載のホウ素含有化合物（Ａ）。
【請求項3】
前記一般式（Ａ）においてＲ1は水素原子である請求項１に記載のホウ素含有化合物（Ａ）。
【請求項4】
請求項１～３のいずれか一項に記載のホウ素含有化合物（Ａ）と、遷移金属錯体（Ｂ）とを含む、オレフィン重合用触媒。
【請求項5】
請求項４に記載のオレフィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合させるオレフィン重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ホウ素含有化合物、より詳細にはオレフィン重合用触媒における助触媒として有用なホウ素含有化合物、ならびにこれを用いたオレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
オレフィンの重合においては、主触媒である遷移金属錯体を活性化させるための助触媒として、ボレート化合物が広く用いられている。
しかしながらボレート化合物は、イオン性化合物であるため、オレフィン重合に頻繁に用いられる炭化水素溶媒に対する溶解度が低い。このためボレート化合物には、ボレート化合物の溶液を作製する際に大量の溶媒を必要としたり、完全には溶解していないスラリー状態で用いることで反応器への供給性が不安定になったりするなどの問題があった。
しかしながらボレート化合物は、イオン性化合物であるため、オレフィン重合に頻繁に用いられる炭化水素溶媒に対する溶解度が低い。このためボレート化合物には、ボレート化合物の溶液を作製する際に大量の溶媒を必要としたり、完全には溶解していないスラリー状態で用いることで反応器への供給性が不安定になったりするなどの問題があった。
【0003】
このような問題を解決するため、炭素数の多い（炭素鎖長の長い）炭化水素基を置換基として持つアンモニウムカチオンを含むボレート化合物が数多く報告されている。（例えば、特許文献１～５）
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開第９７／３５８９３号
【特許文献2】国際公開第２０１０／０９２５５４号
【特許文献3】国際公開第２０１９／２１００２６号
【特許文献4】国際公開第２０１９／２１００２７号
【特許文献5】国際公開第２０１９／２１００３０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、従来のボレート化合物には、炭化水素溶媒に対する溶解性向上などの観点からさらなる改善の余地があった。
そこで本発明は、オレフィン重合用触媒における助触媒として有用であり、かつ炭化水素溶媒に対する溶解性が高く、好ましくはオレフィンの重合において高い重合活性を発現することもできる新規ホウ素含有化合物、ならびにこれを用いたオレフィン重合用触媒およびオレフィン重合の製造方法を提供することを目的としている。
そこで本発明は、オレフィン重合用触媒における助触媒として有用であり、かつ炭化水素溶媒に対する溶解性が高く、好ましくはオレフィンの重合において高い重合活性を発現することもできる新規ホウ素含有化合物、ならびにこれを用いたオレフィン重合用触媒およびオレフィン重合の製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は、たとえば以下の［１］～［５］に関する。
［１］
下記一般式（Ａ）で表されるホウ素含有化合物（Ａ）。
［Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＮＨ］+［ＢＱ4］- …（Ａ）
〔一般式（Ａ）において、Ｒ1は炭素数２以上のアリール基以外の炭化水素基または水素原子である。
Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、アリール基である。
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計は１５以上である。
４つのＱは、それぞれ独立に、アリール基である。〕
［１］
下記一般式（Ａ）で表されるホウ素含有化合物（Ａ）。
［Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＮＨ］+［ＢＱ4］- …（Ａ）
〔一般式（Ａ）において、Ｒ1は炭素数２以上のアリール基以外の炭化水素基または水素原子である。
Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、アリール基である。
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計は１５以上である。
４つのＱは、それぞれ独立に、アリール基である。〕
【0007】
［２］
前記一般式（Ａ）においてＲ1は炭素数２以上のアリール基以外の炭化水素基である前記［１］のホウ素含有化合物（Ａ）。
前記一般式（Ａ）においてＲ1は炭素数２以上のアリール基以外の炭化水素基である前記［１］のホウ素含有化合物（Ａ）。
【0008】
［３］
前記一般式（Ａ）においてＲ1は水素原子である前記［１］のホウ素含有化合物（Ａ）。
前記一般式（Ａ）においてＲ1は水素原子である前記［１］のホウ素含有化合物（Ａ）。
【0009】
［４］
前記［１］～［３］のいずれかのホウ素含有化合物（Ａ）と、遷移金属錯体（Ｂ）とを含む、オレフィン重合用触媒。
前記［１］～［３］のいずれかのホウ素含有化合物（Ａ）と、遷移金属錯体（Ｂ）とを含む、オレフィン重合用触媒。
【0010】
［５］
前記［４］のオレフィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合させるオレフィン重合体の製造方法。
前記［４］のオレフィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合させるオレフィン重合体の製造方法。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、オレフィン重合用触媒における助触媒として有用であり、かつ炭化水素溶媒に対する溶解性が高く、好ましくはオレフィンの重合において高い重合活性を発現することもできる新規ホウ素含有化合物、ならびにこれを用いたオレフィン重合用触媒およびオレフィン重合の製造方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
［ホウ素含有化合物（Ａ）］
本発明に係るホウ素含有化合物（Ａ）（以下、単に「化合物（Ａ）」または「成分（Ａ）」とも記載する。）は、下記一般式（Ａ）で表されることを特徴としている。
［Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＮＨ］+［ＢＱ4］- …（Ａ）
（［Ｒ 1 Ｒ 2 Ｒ 3 ＮＨ］ + で表されるカチオン部）
＜Ｒ 1 ＞
一般式（Ａ）において、Ｒ1は炭素数２以上のアリール基以外の炭化水素基または水素原子である。
［ホウ素含有化合物（Ａ）］
本発明に係るホウ素含有化合物（Ａ）（以下、単に「化合物（Ａ）」または「成分（Ａ）」とも記載する。）は、下記一般式（Ａ）で表されることを特徴としている。
［Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＮＨ］+［ＢＱ4］- …（Ａ）
（［Ｒ 1 Ｒ 2 Ｒ 3 ＮＨ］ + で表されるカチオン部）
＜Ｒ 1 ＞
一般式（Ａ）において、Ｒ1は炭素数２以上のアリール基以外の炭化水素基または水素原子である。
【0013】
前記アリール基以外の炭化水素基の炭素数は２以上、好ましくは６以上、より好ましくは１２以上である。Ｒ1がこのような炭素数を有する炭化水素基であると、化合物（Ａ）は炭化水素溶媒への溶解性に優れる。前記炭素数の上限は、たとえば３０であってもよい。
【0014】
一方、Ｒ1が水素原子であると、化合物（Ａ）と後述する遷移金属錯体（Ｂ）を含む触媒の存在下でオレフィンの重合を行った際に、高い重合活性が発現する。
前記アリール基以外の炭化水素基は、置換基を有していてもよく有していなくてもよい。
前記アリール基以外の炭化水素基は、置換基を有していてもよく有していなくてもよい。
【0015】
前記アリール基以外の炭化水素基は、直鎖状飽和炭化水素基、分岐状飽和炭化水素基、環状飽和炭化水素基、直鎖状不飽和炭化水素基、または環状不飽和炭化水素基、アリールアルキル基であってもよい。
【0016】
無置換の前記アリール基以外の炭化水素基の具体例としては、
エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－イコシル基、ｎ－テトライコシル基、ｎ－トリアコンチル基、硬化牛脂アルキル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ペンタン－２－イル基、２－メチルブチル基、ｉｓｏ－ペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、シアミル基、ペンタン－３－イル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、ｉｓｏ－ヘキシル基、１，１－ジメチルブチル基（２－メチルペンタン－２－イル基）、３－メチルペンタン－２－イル基、４－メチルペンタン－２－イル基、２，２－ジメチルブチル基、２，３－ジメチルブチル基、３，３－ジメチルブチル基、テキシル基、３－メチルペンタン－３－イル基、３，３－ジメチルブタ－２－イル基、ヘキサン－３－イル基、２－メチルペンタン－３－イル基、ヘプタン－４－イル基、２，４－ジメチルペンタン－２－イル基、３－エチルペンタン－３－イル基、４，４－ジメチルペンチル基、４－メチルヘプタン－４－イル基、ｔｅｒｔ－オクチル基（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル基）、４－プロピルヘプタン－４－イル基、２，３，３－トリメチルブタン－２－イル基、２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル基などの直鎖状または分岐状飽和炭化水素基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、ノルボルニル基、１－アダマンチル基、２－アダマンチル基、３－メチルシクロペンチル基、３－メチルシクロヘキシル基、４－メチルシクロヘキシル基、４－シクロヘキシルシクロヘキシル基、４－フェニルシクロヘキシル基などの環状飽和炭化水素基；
エテニル基（ビニル基）、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、１－メチルエテニル基（イソプロペニル基）、１７－オクタデセニル基、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基（プロパルギル基）、１－ブテニル基、２－ブテニル基などの直鎖状または分岐状不飽和炭化水素基；
シクロ１－ブテニル基、シクロ２－ブテニル基、１－シクロペンテニル基、１－シクロヘキセニル基、ノルボルネニル基などの環状不飽和炭化水素基；および
ベンジル基、２－フェニルエチル基、４－フェニルブチル基、６－フェニルヘキシル基、１２－フェニルドデシル基、１８－フェニルオクタデシル基、１，１－ジフェニルエチル基、トリフェニルメチル基などのアリールアルキル基
が挙げられる。
エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－イコシル基、ｎ－テトライコシル基、ｎ－トリアコンチル基、硬化牛脂アルキル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ペンタン－２－イル基、２－メチルブチル基、ｉｓｏ－ペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、シアミル基、ペンタン－３－イル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、ｉｓｏ－ヘキシル基、１，１－ジメチルブチル基（２－メチルペンタン－２－イル基）、３－メチルペンタン－２－イル基、４－メチルペンタン－２－イル基、２，２－ジメチルブチル基、２，３－ジメチルブチル基、３，３－ジメチルブチル基、テキシル基、３－メチルペンタン－３－イル基、３，３－ジメチルブタ－２－イル基、ヘキサン－３－イル基、２－メチルペンタン－３－イル基、ヘプタン－４－イル基、２，４－ジメチルペンタン－２－イル基、３－エチルペンタン－３－イル基、４，４－ジメチルペンチル基、４－メチルヘプタン－４－イル基、ｔｅｒｔ－オクチル基（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル基）、４－プロピルヘプタン－４－イル基、２，３，３－トリメチルブタン－２－イル基、２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル基などの直鎖状または分岐状飽和炭化水素基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、ノルボルニル基、１－アダマンチル基、２－アダマンチル基、３－メチルシクロペンチル基、３－メチルシクロヘキシル基、４－メチルシクロヘキシル基、４－シクロヘキシルシクロヘキシル基、４－フェニルシクロヘキシル基などの環状飽和炭化水素基；
エテニル基（ビニル基）、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、１－メチルエテニル基（イソプロペニル基）、１７－オクタデセニル基、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基（プロパルギル基）、１－ブテニル基、２－ブテニル基などの直鎖状または分岐状不飽和炭化水素基；
シクロ１－ブテニル基、シクロ２－ブテニル基、１－シクロペンテニル基、１－シクロヘキセニル基、ノルボルネニル基などの環状不飽和炭化水素基；および
ベンジル基、２－フェニルエチル基、４－フェニルブチル基、６－フェニルヘキシル基、１２－フェニルドデシル基、１８－フェニルオクタデシル基、１，１－ジフェニルエチル基、トリフェニルメチル基などのアリールアルキル基
が挙げられる。
【0017】
これらの中でもｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル、ｎ－デシル、ｎ－ドデシル、ｎ－オクタデシル基、ｔｅｒｔ－オクチル基（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル基）、シクロデシル基、1-アダマンチル基、および硬化牛脂アルキル基が好ましく、
ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル、ｎ－デシル、ｎ－ドデシル、およびｎ－オクタデシル基、がより好ましい。
ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル、ｎ－デシル、ｎ－ドデシル、およびｎ－オクタデシル基、がより好ましい。
【0018】
前記置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、およびヘテロ原子含有炭化水素基が挙げられる。
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【0019】
前記ヘテロ原子含有炭化水素基としては、後述する一般式（Ｑ１）中のＲとしての炭化水素基炭中の水素原子の一部または全部をヘテロ原子含有基に置き換えたものが挙げられる。前記ヘテロ原子含有炭化水素基の例としては、ハロゲン含有基、ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基、硫黄含有基が挙げられる。
【0020】
前記ハロゲン含有基としては、例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタクロロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、ノナクロロブチル基、４，４，４－トリフルオロブチル基、ドデカフルオロヘキシル基、６，６，６－トリフルオロヘキシル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、ペンタブロモフェニル基、ペンタヨードフェニル基、ビス（トリメチルシリル）トリフルオロフェニル基、ビス（トリイソプロピルシリル）トリフルオロフェニル基、ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル）トリフルオロフェニル基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－フルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－フルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニル基、ビス（トリフルオロメチル）フルオロフェニル基、ビス（トリフルオロメチル）トリフルオロフェニル基、ペンタフルオロベンジル基、トリフルオロメトキシフェニル基、ビストリフルオロメトキシフェニル基、トリフルオロメチルチオフェニル基、ビストリフルオロメチルチオフェニル基、フルオロビフェニル基、ジフルオロビフェニル基、トリフルオロビフェニル基、テトラフルオロビフェニル基、ペンタフルオロビフェニル基、パーフルオロビフェニル－２－イル基、パーフルオロビフェニル－３－イル基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－フルオロビフェニル基、トリフルオロメチルビフェニル基、ビストリフルオロメチルビフェニル基、トリフルオロメトキシビフェニル基、ビストリフルオロメトキシビフェニル基、トリフルオロメチルジメチルシリル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、フルオロフェノキシ基、ジフルオロフェノキシ基、トリフルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－フルオロフェノキシ基、トリフルオロメチルフェノキシ基、ビストリフルオロメチルフェノキシ基、トリフルオロメトキシフェノキシ基、ビストリフルオロメトキシフェノキシ基、ジフルオロメチレンジオキシフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニルイミノメチル基、トリフルオロメチルチオ基、α－パーフルオロナフチル基、β－パーフルオロナフチル基が挙げられる。
【0021】
前記ハロゲン含有基の中でも、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、４，４，４－トリフルオロブチル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニル基、トリフルオロメトキシフェニル基、ペンタフルオロビフェニル基、トリフルオロメチルビフェニル基、ビストリフルオロメチルビフェニル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、ビストリフルオロメチルフェノキシ基、ビストリフルオロメチルフェノキシ基、ジフルオロメチレンジオキシフェニル基、トリフルオロメチルチオ基が好ましく、トリフルオロメチル基、フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ビストリフルオロメチルフェニル基、ペンタフルオロビフェニル基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基がより好ましい。
【0022】
前記ケイ素含有基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ－ｉｓｏ－プロピルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基、トリス（トリメチルシリル）シリル基、シクロペンタジエニルジメチルシリル基、ジ－ｎ－ブチル（シクロペンタジエニル）シリル基、シクロペンタジエニルジフェニルシリル基、インデニルジメチルシリル基、ジ－ｎ－ブチル（インデニル）シリル基、インデニルジフェニルシリル基、フルオレニルジメチルシリル基、ジ－ｎ－ブチル（フルオレニル）シリル基、フルオレニルジフェニルシリル基、４－トリメチルシリルフェニル基、４－トリエチルシリルフェニル基、４－トリ－ｉｓｏ－プロピルシリルフェニル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリルフェニル基、４－トリフェニルシリルフェニル基、４－トリス（トリメチルシリル）シリルフェニル基、３，５－ビス（トリメチルシリル）フェニル基が挙げられる。
【0023】
前記ケイ素含有基の中でも、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ－ｉｓｏ－プロピルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、シクロペンタジエニルジメチルシリル基、シクロペンタジエニルジフェニルシリル基、インデニルジメチルシリル基、インデニルジフェニルシリル基、フルオレニルジメチルシリル基、フルオレニルジフェニルシリル基、４－トリメチルシリルフェニル基、４－トリエチルシリルフェニル基、４－トリ－ｉｓｏ－プロピルシリルフェニル基、４－トリフェニルシリルフェニル基、３，５－ビス（トリメチルシリル）フェニル基などが好ましく、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、４－トリメチルシリルフェニル基、４－トリエチルシリルフェニル基、４－トリ－ｉｓｏ－プロピルシリルフェニル基、３，５－ビス（トリメチルシリル）フェニル基がより好ましい。
【0024】
前記酸素含有基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、アリルオキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｉｓｏ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、メタリルオキシ基、プレニルオキシ基、オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基、トルイルオキシ基、ｉｓｏ－プロピルフェノキシ基、アリルフェノキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシ基、メトキシフェノキシ基、ｉｓｏ－プロポキシフェノキシ基、アリルオキシフェノキシ基、ビフェニルオキシ基、ビナフチルオキシ基、メトキシメチル基、アリルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メトキシエチル基、アリルオキシエチル基、ベンジルオキシエチル基、フェノキシエチル基、メトキシプロピル基、アリルオキシプロピル基、ベンジルオキシプロピル基、フェノキシプロピル基、メトキシビニル基、アリルオキシビニル基、ベンジルオキシビニル基、フェノキシビニル基、メトキシアリル基、アリルオキシアリル基、ベンジルオキシアリル基、フェノキシアリル基、ジメトキシメチル基、ジ－ｉｓｏ－プロポキシメチル基、ジオキソラニル基、テトラメチルジオキソラニル基、ジオキサニル基、メトキシフェニル基、ｉｓｏ－プロポキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチレンジオキシフェニル基、３，５－ジメチル－４－メトキシフェニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メトキシフェニル基、フリル基、メチルフリル基、テトラヒドロフリル基、ピラニル基、テトラヒドロピラニル基、フロフリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基が挙げられる。
【0025】
前記酸素含有基の中でも、メトキシ基、エトキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、アリルオキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、プレニルオキシ基、オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基、トルイルオキシ基、ｉｓｏ－プロピルフェノキシ基、アリルフェノキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルフェノキシ基、メトキシフェノキシ基、ビフェニルオキシ基、ビナフチルオキシ基、アリルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシメトキシ基、２－メトキシエトキシ基、２－エトキシエトキシ基、２－（２－エトキシエトキシ）エトキシ基、メトキシアリル基、ベンジルオキシアリル基、フェノキシアリル基、ジメトキシメチル基、ジオキソラニル基、テトラメチルジオキソラニル基、ジオキサニル基、ジメチルジオキサニル基、メトキシフェニル基、ｉｓｏ－プロポキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチレンジオキシフェニル基、３，５－ジメチル－４－メトキシフェニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メトキシフェニル基、フリル基、メチルフリル基、テトラヒドロピラニル基、フロフリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基等などが好ましく、メトキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、アリルオキシ基、フェノキシ基、ジメトキシメチル基、ジオキソラニル基、メトキシフェニル基、ｉｓｏ－プロポキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、３，５－ジメチル－４－メトキシフェニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メトキシフェニル基、フリル基、メチルフリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基がより好ましい。
【0026】
前記窒素含有基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アリルアミノ基、ジアリルアミノ基、Ｎ、Ｎ－ジヘキシルアミノ基、Ｎ、Ｎ－ジデシルアミノ基、Ｎ、Ｎ－ジドデシルアミノ基、Ｎ、Ｎ－ジオクタデシルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モリホリル基、アゼピニル基、ジメチルアミノメチル基、ジベンジルアミノメチル基、ピロリジニルメチル基、ジメチルアミノエチル基、ベンジルアミノメチル基、ベンジルアミノエチル基、ピロリジニルエチル基、ジメチルアミノビニル基、ベンジルアミノビニル基、ピロリジニルビニル基、ジメチルアミノプロピル基、ベンジルアミノプロピル基、ピロリジニルプロピル基、ジメチルアミノアリル基、ベンジルアミノアリル基、ピロリジニルアリル基、アミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、３，５－ジメチル－４－ジメチルアミノフェニル基、３，５－ジ－ｉｓｏ－プロピル－４－ジメチルアミノフェニル基、ジュロリジニル基、テトラメチルジュロリジニル基、ピロリジニルフェニル基、ピロリルフェニル基、ピリジルフェニル基、キノリルフェニル基、イソキノリルフェニル基、インドリニルフェニル基、インドリルフェニル基、カルバゾリルフェニル基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルカルバゾリルフェニル基、ピロリル基、メチルピロリル基、フェニルピロリル基、ピリジル基、キノリル基、テトラヒドロキノリル基、ｉｓｏ－キノリル基、テトラヒドロ－ｉｓｏ－キノリル基、インドリル基、インドリニル基、カルバゾリル基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルカルバゾリル基、イミダゾリル基、ジメチルイミダゾリジニル基、ベンゾイミダソリル基、オキサゾリル基、オキサゾリジニル基、ベンゾオキサゾリル基が挙げられる。
【0027】
前記窒素含有基の中でも、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アリルアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリル基、ジメチルアミノメチル基、ベンジルアミノメチル基、ピロリジニルメチル基、ジメチルアミノエチル基、ピロリジニルエチル基、ジメチルアミノプロピル基、ピロリジニルプロピル基、ジメチルアミノアリル基、ピロリジニルアリル基、アミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、３，５－ジメチル－４－ジメチルアミノフェニル基、３，５－ジ－ｉｓｏ－プロピル－４－ジメチルアミノフェニル基、ジュロリジニル基、テトラメチルジュロリジニル基、ピロリジニルフェニル基、ピロリルフェニル基、カルバゾリルフェニル基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルカルバゾリルフェニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基、テトラヒドロキノリル基、ｉｓｏ－キノリル基、テトラヒドロ－ｉｓｏ－キノリル基、インドリル基、インドリニル基、カルバゾリル基、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルカルバゾリル基、イミダゾリル基、ジメチルイミダゾリジニル基、ベンゾイミダソリル基、オキサゾリル基、オキサゾリジニル基、ベンゾオキサゾリル基などが好ましく、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ジメチルアミノフェニル基、３，５－ジメチル－４－ジメチルアミノフェニル基、３，５－ジ－ｉｓｏ－プロピル－４－ジメチルアミノフェニル基、ジュロリジニル基、テトラメチルジュロリジニル基、ピロリジニルフェニル基、ピロリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、イミダゾリル基がより好ましい。
【0028】
前記硫黄含有基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ベンジルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、メチルチオメチル基、ベンジルチオメチル基、フェニルチオメチル基、ナフチルチオメチル基、メチルチオエチル基、ベンジルチオエチル基、フェニルチオエチル基、ナフチルチオエチル基、メチルチオビニル基、ベンジルチオビニル基、フェニルチオビニル基、ナフチルチオビニル基、メチルチオプロピル基、ベンジルチオプロピル基、フェニルチオプロピル基、ナフチルチオプロピル基、メチルチオアリル基、ベンジルチオアリル基、フェニルチオアリル基、ナフチルチオアリル基、メルカプトフェニル基、メチルチオフェニル基、チエニルフェニル基、メチルチエニルフェニル基、ベンゾチエニルフェニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、ベンゾジチエニルフェニル基、チエニル基、テトラヒドロチエニル基、メチルチエニル基、チエノフリル基、チエノチエニル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、チエノベンゾフリル基、ベンゾジチエニル基、ジチオラニル基、ジチアニル基、オキサチオラニル基、オキサチアニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、チアゾリジニル基が挙げられる。
【0029】
前記硫黄含有基の中でも、チエニル基、メチルチエニル基、チエノフリル基、チエノチエニル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、チエノベンゾフリル基、ベンゾジチエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。
【0030】
前記ヘテロ原子含有炭化水素基の他の例としては、後述する一般式（Ｑ１）中のＲとしての炭化水素基においてメチレン基の一部を－ＣＯ－、－ＣＨ（ＯＨ）－、－ＮＲ－（Ｒは、水素原子または炭化水素基（炭素数は例えば１～４である。）である。）、－Ｏ－、－Ｓ－、または－ＳＯ2－で表される構造に置き換えた基、および前記炭化水素基においてメチン基の一部を窒素原子、または≡ＳｉＨで表される構造に置き換えた基が挙げられる。
【0031】
＜Ｒ
2
およびＲ
3
＞
一般式（Ａ）において、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、アリール基である。
前記アリール基は、置換基を有していてもよく有していなくてもよい。
前記置換基の例としては、前記アリール基以外の炭化水素基が有することのある置換基、メチル基、および前記アリール基以外の炭化水素基が挙げられる。
一般式（Ａ）において、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、アリール基である。
前記アリール基は、置換基を有していてもよく有していなくてもよい。
前記置換基の例としては、前記アリール基以外の炭化水素基が有することのある置換基、メチル基、および前記アリール基以外の炭化水素基が挙げられる。
【0032】
前記アリール基の具体例としては、
フェニル基、トリル基（ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基）、キシリル基（２，３－ジメチルフェニル基、２，４－ジメチルフェニル基、２，５－ジメチルフェニル基、２，６－ジメチルフェニル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基）、メシチル基、クメニル基、ジュリル基、２，６－ジ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、アリルフェニル基、（ブタ－３－エン－１－イル）フェニル基、（ブタ－２－エン－１－イル）フェニル基、メタリルフェニル基、プレニルフェニル基、（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、ｎ－オクチルフェニル基、ｎ－デシルフェニル基、ｎ－ドデシルフェニル基、ｎ－オクタデシルフェニル基、アダマンチルフェニル基、３，５－ジ－アダマンチルフェニル基、トリメチルシリルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ｔｅｒフェニル基、ビナフチル基、アセナフタレニル基、フェナントリル基、アントラセニル基、ピレニル基、フェロセニル基が挙げられる。フェニル基が１つの置換基を有する場合、置換基の位置はオルト位、メタ位またはパラ位であり、好ましくはパラ位である。
フェニル基、トリル基（ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基）、キシリル基（２，３－ジメチルフェニル基、２，４－ジメチルフェニル基、２，５－ジメチルフェニル基、２，６－ジメチルフェニル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基）、メシチル基、クメニル基、ジュリル基、２，６－ジ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、アリルフェニル基、（ブタ－３－エン－１－イル）フェニル基、（ブタ－２－エン－１－イル）フェニル基、メタリルフェニル基、プレニルフェニル基、（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、ｎ－オクチルフェニル基、ｎ－デシルフェニル基、ｎ－ドデシルフェニル基、ｎ－オクタデシルフェニル基、アダマンチルフェニル基、３，５－ジ－アダマンチルフェニル基、トリメチルシリルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ｔｅｒフェニル基、ビナフチル基、アセナフタレニル基、フェナントリル基、アントラセニル基、ピレニル基、フェロセニル基が挙げられる。フェニル基が１つの置換基を有する場合、置換基の位置はオルト位、メタ位またはパラ位であり、好ましくはパラ位である。
【0033】
これらの中でも、フェニル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェニル基、４－ｎ－ヘキシルフェニル基、４－ｎ－オクチルフェニル基、４－ｎ－デシルフェニル基、４－ｎ－ドデシルフェニル基、４－ｎ－オクタデシルフェニル基が好ましく、
フェニル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェニル基、４－ｎ－ドデシルフェニル基、４－ｎ－オクタデシルフェニル基がより好ましい。
フェニル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェニル基、４－ｎ－ドデシルフェニル基、４－ｎ－オクタデシルフェニル基がより好ましい。
【0034】
また、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3のうちの２つ以上の基は、互いに結合して環を形成していてもよく、互いに結合していなくてもよい。製造の容易性等の観点からは、これらの基は好ましくは互いに結合していない。
【0035】
＜Ｒ
1
～Ｒ
3
の合計の炭素数＞
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計は１５以上であり、好ましくは２０以上、より好ましくは３０以上、さらに好ましくは４５以上である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計がこのような範囲にあるため、本発明の化合物（Ａ）は、炭化水素溶媒への高い溶解性を有する。炭素数Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計の上限は、たとえば１００であってもよい。
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計は１５以上であり、好ましくは２０以上、より好ましくは３０以上、さらに好ましくは４５以上である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計がこのような範囲にあるため、本発明の化合物（Ａ）は、炭化水素溶媒への高い溶解性を有する。炭素数Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の炭素数の合計の上限は、たとえば１００であってもよい。
【0036】
＜カチオンの例示＞
［Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＮＨ］+で表されるカチオンの具体例としては、下記式で表されるカチオンが挙げられる。
［Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＮＨ］+で表されるカチオンの具体例としては、下記式で表されるカチオンが挙げられる。
【0037】
【化1】
【0038】
【化2】
【0039】
（［ＢＱ
4
］
-
で表されるアニオン部）
一般式（Ａ）において、４つのＱは、それぞれ独立にアリール基である。
前記アリール基は、置換基を有していてもよく有していなくてもよい。
複数個のＱ同士は、互いに結合して環を形成していてもよく、互いに結合していなくてもよい。
一般式（Ａ）において、４つのＱは、それぞれ独立にアリール基である。
前記アリール基は、置換基を有していてもよく有していなくてもよい。
複数個のＱ同士は、互いに結合して環を形成していてもよく、互いに結合していなくてもよい。
【0040】
前記Ｑとしてのアリール基（以下「アリール基（Ｑ）」とも記載する。）としては、好ましくは下記一般式（Ｑ１）で表される炭素数６～２０のアリール基（以下「アリール基（Ｑ１）」とも記載する。）が挙げられる。
【0041】
【化3】
【0042】
〔一般式（Ｑ１）において、＊は、ホウ素原子への結合である。
複数個のＲは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基および炭化水素置換シリル基からなる群から選択される置換基（ｒｑ１）または水素原子であり、＊に隣接するＲ（すなわち、ホウ素原子との結合に対するオルト位のＲ）のうち少なくとも１つは、前記置換基（ｒｑ１）である。
前記置換基（ｒｑ１）が複数個存在する場合、複数個の置換基（ｒｑ１）同士は、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。複数個の置換基（ｒｑ１）同士は、互いに結合して、置換基を有していてもよい芳香族環を形成していてもよく、互いに結合していなくてもよい。〕
複数個のＲは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基および炭化水素置換シリル基からなる群から選択される置換基（ｒｑ１）または水素原子であり、＊に隣接するＲ（すなわち、ホウ素原子との結合に対するオルト位のＲ）のうち少なくとも１つは、前記置換基（ｒｑ１）である。
前記置換基（ｒｑ１）が複数個存在する場合、複数個の置換基（ｒｑ１）同士は、互いに同一であってもよく異なっていてもよい。複数個の置換基（ｒｑ１）同士は、互いに結合して、置換基を有していてもよい芳香族環を形成していてもよく、互いに結合していなくてもよい。〕
【0043】
前記Ｒとしてのハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。
【0044】
前記炭化水素基の例としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂環式炭化水素基は脂肪族炭化水素部を含んでいてもよく、芳香族炭化水素基は脂肪族炭化水素部および／または脂環式炭化水素部を含んでいてもよい。
前記炭化水素基は、不飽和結合を有していてもよく、有していなくてもよい。前記脂肪族炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐を有していてもよい。
前記炭化水素基は、不飽和結合を有していてもよく、有していなくてもよい。前記脂肪族炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐を有していてもよい。
【0045】
前記炭化水素基の具体例としては、
メチル基、および前記Ｒ1の具体例として挙げた直鎖状または分岐状のアルキル基；
ビニル基、アリル基、プロペニル基、ｉｓｏ－プロペニル基、アレニル基、ブタ－３－エン－１－イル基、クロチル基、ブタ－３－エン－２－イル基、メタリル基、ブタ－１，３－ジエニル基、ペンタ－４－エン－１－イル基、ペンタ－３－エン－１－イル基、ペンタ－２－エン－１－イル基、ｉｓｏ－ペンテニル基、２－メチルブタ－３－エン－１－イル基、ペンタ－４－エン－２－イル基、プレニル基、２－メチル－ブタ－２－エン－１－イル基、ペンタ－３－エン－２－イル基、２－メチル－ブタ－３－エン－２－イル基、ペンタ－１－エン－３－イル基、ペンタ－２，４－ジエン－１－イル基、ペンタ－１，３－ジエン－１－イル基、ペンタ－１，４－ジエン－３－イル基、ｉｓｏ－プレニル基（２－メチル－ブタ－１，３－ジエン－１－イル基）、ペンタ－２，４－ジエン－２－イル基、ヘキサ－５－エン－１－イル基、ヘキサ－４－エン－１－イル基、ヘキサ－３－エン－１－イル基、ヘキサ－２－エン－１－イル基、４－メチル－ペンタ－４－エン－１－イル基、３－メチル－ペンタ－４－エン－１－イル基、２－メチル－ペンタ－４－エン－１－イル基、ヘキサ－５－エン－２－イル基、４－メチル－ペンタ－３－エン－１－イル基、３－メチル－ペンタ－３－エン－１－イル基、２，３－ジメチル－ブタ－２－エン－１－イル基、２－メチルペンタ－４－エン－２－イル基、３－エチルペンタ－１－エン－３－イル基、ヘキサ－３，５－ジエン－１－イル基、ヘキサ－２，４－ジエン－１－イル基、４－メチルペンタ－１，３－ジエン－１－イル基、２，３－ジメチル－ブタ－１，３－ジエン－１－イル基、ヘキサ－１，３，５－トリエン－１－イル基、２－（シクロペンタジエニル）プロパン－２－イル基、２－（シクロペンタジエニル）エチル基などの直鎖状または分岐状のアルケニル基もしくは不飽和二重結合含有基；
エチニル基、プロパ－２－イン－１－イル基、プロパルギル基、ブタ－１－イン－１－イル基、ブタ－２－イン－１－イル基、ブタ－３－イン－１－イル基、ペンタ－１－イン－１－イル基、ペンタ－２－イン－１－イル基、ペンタ－３－イン－１－イル基、ペンタ－４－イン－１－イル基、３－メチル－ブタ－１－イン－１－イル基、ペンタ－３－イン－２－イル基、２－メチル－ブタ－３－イン－１－イル基、ペンタ－４－イン－２－イル基、ヘキサ－１－イン－１－イル基、３，３－ジメチル－ブタ－１－イン－１－イル基、２－メチル－ペンタ－３－イン－２－イル基、２，２－ジメチル－ブタ－３－イン－１－イル基、ヘキサ－４－イン－１－イル基、ヘキサ－５－イン－１－イル基などの直鎖状または分岐状のアルキニル基もしくは不飽和三重結合含有基；
ベンジル基、２－メチルベンジル基、４－メチルベンジル基、２，４，６－トリメチルベンジル基、３，５－ジメチルベンジル基、クミニル基、２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルベンジル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルベンジル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルベンジル基、１－フェニルエチル基、ベンズヒドリル基、クミル基（２－フェニルプロパン－２－イル基）、２－（４－メチルフェニル）プロパン－２－イル基、２－（３，５－ジメチルフェニル）プロパン－２－イル基、２－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）プロパン－２－イル基、２－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）プロパン－２－イル基、３－フェニルペンタン－３－イル基、４－フェニルヘプタ－１，６－ジエン－４－イル基、１，２，３－トリフェニルプロパン－２－イル基、１，１－ジフェニルエチル基、１，１－ジフェニルプロピル基、１，１－ジフェニル－ブタ－３－エン－１－イル基、１，１，２－トリフェニルエチル基、トリチル基（トリフェニルメチル基）、トリ－（４－メチルフェニル）メチル基、２－フェニルエチル基、スチリル基（２－フェニルビニル基）、２－（２－メチルフェニル）エチル基、２－（４－メチルフェニル）エチル基、２－（２，４，６－トリメチルフェニル）エチル基、２－（３，５－ジメチルフェニル）エチル基、２－（２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルフェニル）エチル基、２－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）エチル基、２－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）エチル基、２－メチル－１－フェニルプロパン－２－イル基、３－フェニルプロピル基、シンナミル基（３－フェニルアリル基）、ネオフィル基（２－メチル－２－フェニルプロピル基）、３－メチル－３－フェニルブチル基、２－メチル－４－フェニルブタン－２－イル基、シクロペンタジエニルジフェニルメチル基、２－（１－インデニル）プロパン－２－イル基、（１－インデニル）ジフェニルメチル基、２－（１－インデニル）エチル基、２－（テトラヒドロ－１－インダセニル）プロパン－２－イル基、（テトラヒドロ－１－インダセニル）ジフェニルメチル基、２－（テトラヒドロ－１－インダセニル）エチル基、２－（１－ベンゾインデニル）プロパン－２－イル基、（１－ベンゾインデニル）ジフェニルメチル基、２－（１－ベンゾインデニル）エチル基、２－（９－フルオレニル）プロパン－２－イル基、（９－フルオレニル）ジフェニルメチル基、２－（９－フルオレニル）エチル基、２－（１－アズレニル）プロパン－２－イル基、（１－アズレニル）ジフェニルメチル基、２－（１－アズレニル）エチル基などの芳香族含有直鎖状または分岐状アルキル基および不飽和二重結合含有基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、ｎ－ブチルシクロペンタジエニル基、ｎ－ブチル－メチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、１－メチルシクロペンチル基、１－アリルシクロペンチル基、１－ベンジルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキサジエニル基、１－メチルシクロヘキシル基、１－アリルシクロヘキシル基、１－ベンジルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘプテニル基、シクロヘプタトリエニル基、１－メチルシクロヘプチル基、１－アリルシクロヘプチル基、１－ベンジルシクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロオクテニル基、シクロオクタジエニル基、シクロオクタトリエニル基、１－メチルシクロオクチル基、１－アリルシクロオクチル基、１－ベンジルシクロオクチル基、４－シクロヘキシル－ｔｅｒｔ－ブチル基、ノルボルニル基、ノルボルネニル基、ノルボルナジエニル基、２－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン－２－イル基、７－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン－７－イル基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１－イル基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－２－イル基、１－アダマンチル基、２－アダマンチル基、１－（２－メチルアダマンチル）、１－（３－メチルアダマンチル）、１－（４－メチルアダマンチル）、１－（２－フェニルアダマンチル）、１－（３－フェニルアダマンチル）、１－（４－フェニルアダマンチル）、１－（３，５－ジメチルアダマンチル）、１－（３，５，７－トリメチルアダマンチル）、１－（３，５，７－トリフェニルアダマンチル）、ペンタレニル基、インデニル基、フルオレニル基、インダセニル基、テトラヒドロインダセニル基、ベンゾインデニル基、アズレニル基などの環状飽和および不飽和炭化水素基；
フェニル基、トリル基（ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基）、キシリル基（２，３－ジメチルフェニル基、２，４－ジメチルフェニル基、２，５－ジメチルフェニル基、２，６－ジメチルフェニル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基）、メシチル基、クメニル基、ジュリル基、２，６－ジ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基（例えば４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基）、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、アリルフェニル基、（ブタ－３－エン－１－イル）フェニル基、（ブタ－２－エン－１－イル）フェニル基、メタリルフェニル基、プレニルフェニル基、アダマンチルフェニル基（例えば４－アダマンチルフェニル基）、３，５－ジ－アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ｔｅｒフェニル基、ビナフチル基、アセナフタレニル基、フェナントリル基、アントラセニル基、ピレニル基、フェロセニル基などの芳香族炭化水素基などが挙げられる。フェニル基が１つの置換基を有する場合、置換基の位置はオルト位、メタ位またはパラ位であり、好ましくはパラ位である。
メチル基、および前記Ｒ1の具体例として挙げた直鎖状または分岐状のアルキル基；
ビニル基、アリル基、プロペニル基、ｉｓｏ－プロペニル基、アレニル基、ブタ－３－エン－１－イル基、クロチル基、ブタ－３－エン－２－イル基、メタリル基、ブタ－１，３－ジエニル基、ペンタ－４－エン－１－イル基、ペンタ－３－エン－１－イル基、ペンタ－２－エン－１－イル基、ｉｓｏ－ペンテニル基、２－メチルブタ－３－エン－１－イル基、ペンタ－４－エン－２－イル基、プレニル基、２－メチル－ブタ－２－エン－１－イル基、ペンタ－３－エン－２－イル基、２－メチル－ブタ－３－エン－２－イル基、ペンタ－１－エン－３－イル基、ペンタ－２，４－ジエン－１－イル基、ペンタ－１，３－ジエン－１－イル基、ペンタ－１，４－ジエン－３－イル基、ｉｓｏ－プレニル基（２－メチル－ブタ－１，３－ジエン－１－イル基）、ペンタ－２，４－ジエン－２－イル基、ヘキサ－５－エン－１－イル基、ヘキサ－４－エン－１－イル基、ヘキサ－３－エン－１－イル基、ヘキサ－２－エン－１－イル基、４－メチル－ペンタ－４－エン－１－イル基、３－メチル－ペンタ－４－エン－１－イル基、２－メチル－ペンタ－４－エン－１－イル基、ヘキサ－５－エン－２－イル基、４－メチル－ペンタ－３－エン－１－イル基、３－メチル－ペンタ－３－エン－１－イル基、２，３－ジメチル－ブタ－２－エン－１－イル基、２－メチルペンタ－４－エン－２－イル基、３－エチルペンタ－１－エン－３－イル基、ヘキサ－３，５－ジエン－１－イル基、ヘキサ－２，４－ジエン－１－イル基、４－メチルペンタ－１，３－ジエン－１－イル基、２，３－ジメチル－ブタ－１，３－ジエン－１－イル基、ヘキサ－１，３，５－トリエン－１－イル基、２－（シクロペンタジエニル）プロパン－２－イル基、２－（シクロペンタジエニル）エチル基などの直鎖状または分岐状のアルケニル基もしくは不飽和二重結合含有基；
エチニル基、プロパ－２－イン－１－イル基、プロパルギル基、ブタ－１－イン－１－イル基、ブタ－２－イン－１－イル基、ブタ－３－イン－１－イル基、ペンタ－１－イン－１－イル基、ペンタ－２－イン－１－イル基、ペンタ－３－イン－１－イル基、ペンタ－４－イン－１－イル基、３－メチル－ブタ－１－イン－１－イル基、ペンタ－３－イン－２－イル基、２－メチル－ブタ－３－イン－１－イル基、ペンタ－４－イン－２－イル基、ヘキサ－１－イン－１－イル基、３，３－ジメチル－ブタ－１－イン－１－イル基、２－メチル－ペンタ－３－イン－２－イル基、２，２－ジメチル－ブタ－３－イン－１－イル基、ヘキサ－４－イン－１－イル基、ヘキサ－５－イン－１－イル基などの直鎖状または分岐状のアルキニル基もしくは不飽和三重結合含有基；
ベンジル基、２－メチルベンジル基、４－メチルベンジル基、２，４，６－トリメチルベンジル基、３，５－ジメチルベンジル基、クミニル基、２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルベンジル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルベンジル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルベンジル基、１－フェニルエチル基、ベンズヒドリル基、クミル基（２－フェニルプロパン－２－イル基）、２－（４－メチルフェニル）プロパン－２－イル基、２－（３，５－ジメチルフェニル）プロパン－２－イル基、２－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）プロパン－２－イル基、２－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）プロパン－２－イル基、３－フェニルペンタン－３－イル基、４－フェニルヘプタ－１，６－ジエン－４－イル基、１，２，３－トリフェニルプロパン－２－イル基、１，１－ジフェニルエチル基、１，１－ジフェニルプロピル基、１，１－ジフェニル－ブタ－３－エン－１－イル基、１，１，２－トリフェニルエチル基、トリチル基（トリフェニルメチル基）、トリ－（４－メチルフェニル）メチル基、２－フェニルエチル基、スチリル基（２－フェニルビニル基）、２－（２－メチルフェニル）エチル基、２－（４－メチルフェニル）エチル基、２－（２，４，６－トリメチルフェニル）エチル基、２－（３，５－ジメチルフェニル）エチル基、２－（２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルフェニル）エチル基、２－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）エチル基、２－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）エチル基、２－メチル－１－フェニルプロパン－２－イル基、３－フェニルプロピル基、シンナミル基（３－フェニルアリル基）、ネオフィル基（２－メチル－２－フェニルプロピル基）、３－メチル－３－フェニルブチル基、２－メチル－４－フェニルブタン－２－イル基、シクロペンタジエニルジフェニルメチル基、２－（１－インデニル）プロパン－２－イル基、（１－インデニル）ジフェニルメチル基、２－（１－インデニル）エチル基、２－（テトラヒドロ－１－インダセニル）プロパン－２－イル基、（テトラヒドロ－１－インダセニル）ジフェニルメチル基、２－（テトラヒドロ－１－インダセニル）エチル基、２－（１－ベンゾインデニル）プロパン－２－イル基、（１－ベンゾインデニル）ジフェニルメチル基、２－（１－ベンゾインデニル）エチル基、２－（９－フルオレニル）プロパン－２－イル基、（９－フルオレニル）ジフェニルメチル基、２－（９－フルオレニル）エチル基、２－（１－アズレニル）プロパン－２－イル基、（１－アズレニル）ジフェニルメチル基、２－（１－アズレニル）エチル基などの芳香族含有直鎖状または分岐状アルキル基および不飽和二重結合含有基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、ｎ－ブチルシクロペンタジエニル基、ｎ－ブチル－メチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、１－メチルシクロペンチル基、１－アリルシクロペンチル基、１－ベンジルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキサジエニル基、１－メチルシクロヘキシル基、１－アリルシクロヘキシル基、１－ベンジルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘプテニル基、シクロヘプタトリエニル基、１－メチルシクロヘプチル基、１－アリルシクロヘプチル基、１－ベンジルシクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロオクテニル基、シクロオクタジエニル基、シクロオクタトリエニル基、１－メチルシクロオクチル基、１－アリルシクロオクチル基、１－ベンジルシクロオクチル基、４－シクロヘキシル－ｔｅｒｔ－ブチル基、ノルボルニル基、ノルボルネニル基、ノルボルナジエニル基、２－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン－２－イル基、７－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン－７－イル基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１－イル基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－２－イル基、１－アダマンチル基、２－アダマンチル基、１－（２－メチルアダマンチル）、１－（３－メチルアダマンチル）、１－（４－メチルアダマンチル）、１－（２－フェニルアダマンチル）、１－（３－フェニルアダマンチル）、１－（４－フェニルアダマンチル）、１－（３，５－ジメチルアダマンチル）、１－（３，５，７－トリメチルアダマンチル）、１－（３，５，７－トリフェニルアダマンチル）、ペンタレニル基、インデニル基、フルオレニル基、インダセニル基、テトラヒドロインダセニル基、ベンゾインデニル基、アズレニル基などの環状飽和および不飽和炭化水素基；
フェニル基、トリル基（ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基）、キシリル基（２，３－ジメチルフェニル基、２，４－ジメチルフェニル基、２，５－ジメチルフェニル基、２，６－ジメチルフェニル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基）、メシチル基、クメニル基、ジュリル基、２，６－ジ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基（例えば４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基）、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、アリルフェニル基、（ブタ－３－エン－１－イル）フェニル基、（ブタ－２－エン－１－イル）フェニル基、メタリルフェニル基、プレニルフェニル基、アダマンチルフェニル基（例えば４－アダマンチルフェニル基）、３，５－ジ－アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ｔｅｒフェニル基、ビナフチル基、アセナフタレニル基、フェナントリル基、アントラセニル基、ピレニル基、フェロセニル基などの芳香族炭化水素基などが挙げられる。フェニル基が１つの置換基を有する場合、置換基の位置はオルト位、メタ位またはパラ位であり、好ましくはパラ位である。
【0046】
前記直鎖状または分岐状のアルキル基の中でも、メチル基、エチル基、１－プロピル基、１－ブチル基、１－ペンチル基、１－ヘキシル基、１－ヘプチル基、１－オクチル基、１－ノニル基、１－デカニル基、１－ウンデカニル基、１－ドデカニル基、１－オクタデシル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ｉｓｏ－ペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ペンタン－３－イル基、ｉｓｏ－ヘキシル基、１，１－ジメチルブチル基、３，３－ジメチルブチル基、テキシル基、３－メチルペンタン－３－イル基、ヘプタン－４－イル基、２，４－ジメチルペンタン－２－イル基、３－エチルペンタン－３－イル基、４，４－ジメチルペンチル基、４－メチルヘプタン－４－イル基、４－プロピルヘプタン－４－イル基、２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル基などが好ましく、メチル基、エチル基、１－プロピル基、１－ブチル基、１－ペンチル基、１－ヘキシル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ネオペンチル基、２，４－ジメチルペンタン－２－イル基、２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル基、ｔｅｒｔ－オクチル基などの炭素数１～２０の炭化水素基がより好ましい。
【0047】
前記直鎖状または分岐状のアルケニル基もしくは不飽和二重結合含有基の中でも、ビニル基、アリル基、ブタ－３－エン－１－イル基、クロチル基、メタリル基、ペンタ－４－エン－１－イル基、プレニル基、ペンタ－１，４－ジエン－３－イル基、ヘキサ－５－エン－１－イル基、２－メチルペンタ－４－エン－２－イル基、２－（シクロペンタジエニル）プロパン－２－イル基、２－（シクロペンタジエニル）エチル基などが好ましく、ビニル基、アリル基、ブタ－３－エン－１－イル基、ペンタ－４－エン－１－イル基、プレニル基、ヘキサ－５－エン－１－イル基がより好ましい。
【0048】
前記直鎖状または分岐状のアルキニル基もしくは不飽和三重結合含有基の中でも、エチニル基、プロパ－２－イン－１－イル基、プロパルギル基、ブタ－２－イン－１－イル基、ブタ－３－イン－１－イル基、ペンタ－３－イン－１－イル基、ペンタ－４－イン－１－イル基、３－メチル－ブタ－１－イン－１－イル基、３，３－ジメチル－ブタ－１－イン－１－イル基、ヘキサ－４－イン－１－イル基、ヘキサ－５－イン－１－イル基などが好ましく、プロパ－２－イン－１－イル基、プロパルギル基、ブタ－２－イン－１－イル基、ブタ－３－イン－１－イル基がより好ましい。
【0049】
前記芳香族含有直鎖状または分岐状のアルキル基および不飽和二重結合含有基の中でも、ベンジル基、２－メチルベンジル基、４－メチルベンジル基、２，４，６－トリメチルベンジル基、３，５－ジメチルベンジル基、クミニル基、２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルベンジル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルベンジル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルベンジル基、ベンズヒドリル基、クミル基、１，１－ジフェニルエチル基、トリチル基、２－フェニルエチル基、２－（４－メチルフェニル）エチル基、２－（２，４，６－トリメチルフェニル）エチル基、２－（３，５－ジメチルフェニル）エチル基、２－（２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルフェニル）エチル基、２－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）エチル基、２－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）エチル基、スチリル基、２－メチル－１－フェニルプロパン－２－イル基、３－フェニルプロピル基、シンナミル基、ネオフィル基、シクロペンタジエニルジフェニルメチル基、２－（１－インデニル）プロパン－２－イル基、（１－インデニル）ジフェニルメチル基、２－（１－インデニル）エチル基、２－（９－フルオレニル）プロパン－２－イル基、（９－フルオレニル）ジフェニルメチル基、２－（９－フルオレニル）エチル基などが好ましく、ベンジル基、ベンズヒドリル基、クミル基、１，１－ジフェニルエチル基、トリチル基、２－フェニルエチル基、３－フェニルプロピル基、シンナミル基がより好ましい。
【0050】
前記環状飽和および不飽和炭化水素基の中でも、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、１－メチルシクロペンチル基、１－アリルシクロペンチル基、１－ベンジルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、１－メチルシクロヘキシル基、１－アリルシクロヘキシル基、１－ベンジルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘプテニル基、シクロヘプタトリエニル基、１－メチルシクロヘプチル基、１－アリルシクロヘプチル基、１－ベンジルシクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロオクテニル基、シクロオクタジエニル基、４－シクロヘキシル－ｔｅｒｔ－ブチル基、ノルボルニル基、２－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン－２－イル基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１－イル基、１－アダマンチル基、２－アダマンチル基、ペンタレニル基、インデニル基、フルオレニル基などが好ましく、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、１－メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、１－メチルシクロヘキシル基、１－アダマンチル基がより好ましい。
【0051】
前記芳香族炭化水素基の中でも、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、２，６－ジ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、アリルフェニル基、プレニルフェニル基、４－アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ビナフチル基、フェナントリル基、アントラセニル基、フェロセニル基などが好ましく、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、２，６－ジ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、２，４，６－トリ－ｉｓｏ－プロピルフェニル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、アリルフェニル基、４－アダマンチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、アントラセニル基がより好ましい。
【0052】
ヘテロ原子含有炭化水素基の例としては、
Ｒとしての前記炭化水素基中の水素原子の一部または全部をＲ1の説明の中で挙げたヘテロ原子含有基に置き換えたもの、
Ｒとしての前記炭化水素基においてメチレン基の一部を－ＣＯ－、－ＣＨ（ＯＨ）－、－ＮＲ－（Ｒは、水素原子または炭化水素基（炭素数は例えば１～４である。）である。）、－Ｏ－、－Ｓ－、または－ＳＯ2－で表される構造に置き換えた基、および
Ｒとしての前記炭化水素基においてメチン基の一部を窒素原子、または≡ＳｉＨで表される構造に置き換えた基
が挙げられ（ただし、一般式（Ｑ１）で表されるアリール基の炭素数が２０以下となる範囲で選択される。）が挙げられ、好ましくはハロゲン原子含有炭化水素基が挙げられる。このハロゲン原子含有炭化水素基におけるハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
Ｒとしての前記炭化水素基中の水素原子の一部または全部をＲ1の説明の中で挙げたヘテロ原子含有基に置き換えたもの、
Ｒとしての前記炭化水素基においてメチレン基の一部を－ＣＯ－、－ＣＨ（ＯＨ）－、－ＮＲ－（Ｒは、水素原子または炭化水素基（炭素数は例えば１～４である。）である。）、－Ｏ－、－Ｓ－、または－ＳＯ2－で表される構造に置き換えた基、および
Ｒとしての前記炭化水素基においてメチン基の一部を窒素原子、または≡ＳｉＨで表される構造に置き換えた基
が挙げられ（ただし、一般式（Ｑ１）で表されるアリール基の炭素数が２０以下となる範囲で選択される。）が挙げられ、好ましくはハロゲン原子含有炭化水素基が挙げられる。このハロゲン原子含有炭化水素基におけるハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【0053】
前記ヘテロ原子含有炭化水素基に含まれるヘテロ原子（好ましくは、窒素原子）の一部または全部には、プロトンが配位結合していてもよい。
前記ハロゲン原子含有炭化水素基としては、好ましくはフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、４，４，４－トリフルオロブチル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基が挙げられ、これらの中でもトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等のパーフルオロ炭化水素基が好ましい。
前記ハロゲン原子含有炭化水素基としては、好ましくはフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、４，４，４－トリフルオロブチル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基が挙げられ、これらの中でもトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等のパーフルオロ炭化水素基が好ましい。
【0054】
前記炭化水素置換シリル基としては、好ましくはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基が挙げられる。
前記Ｒは、好ましくはハロゲン原子、またはヘテロ原子含有炭化水素基であり、特に好ましくは、フッ素原子、トリフルオロメチル基、またはパーフルオロフェニル基（ペンタフルオロフェニル基）である。
前記Ｒは、好ましくはハロゲン原子、またはヘテロ原子含有炭化水素基であり、特に好ましくは、フッ素原子、トリフルオロメチル基、またはパーフルオロフェニル基（ペンタフルオロフェニル基）である。
【0055】
前記アリール基の少なくとも１つのオルト位（ホウ素原子との結合に対するオルト位）にある置換基（ｒｑ１）は、好ましくは電子吸引基であり、より好ましくはハロゲン原子またはハロゲン原子含有炭化水素基であり、さらに好ましくはハロゲン原子である。オルト位に電子吸引基を有すると、本発明の化合物（Ａ）は、オレフィン重合用触媒における助触媒としての性能に優れる。
【0056】
複数の置換基（ｒｑ１）同士が結合して形成される芳香族環としては、例えばナフタレン、アントラセン、フェナントレンが挙げられる。この芳香族環は、置換基を有していてもよく、この置換基は、好ましくはハロゲン原子またはハロゲン化アルキル基であり、より好ましくはフッ素原子またはトリフルオロメチル基である。
【0057】
［ＢＱ4］-で表され、Ｑがそれぞれ独立に前記アリール基（Ｑ１）であるアニオンの具体例としては、
テトラキス（２，４－ジメチルフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（２，４，６－トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（１－ナフチル）ボレートイオン、
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートイオン（以下「[B(C6F5)4]-」とも記載する。）、
テトラキス（３，５－ビス（トリメチルシリル）トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリイソプロピルシリル）トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル）トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（パーフルオロビフェニル－２－イル）ボレートイオン、
（ペンタフルオロフェニル）トリス（パーフルオロビフェニル－２－イル）ボレートイオン、
ビス（ペンタフルオロフェニル）ビス（パーフルオロビフェニル－２－イル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（パーフルオロビフェニル－２－イル）ボレートイオン、
テトラキス（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
（ペンタフルオロフェニル）トリス（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
ビス（ペンタフルオロフェニル）ビス（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
テトラキス（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
（ペンタフルオロフェニル）トリス（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
ビス（ペンタフルオロフェニル）ビス（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
テトラキス（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
（ペンタフルオロフェニル）トリス（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
ビス（ペンタフルオロフェニル）ビス（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
ビス（３，４，５，６，３'，４'，５'，６'－オクタフルオロビフェニル－２，２'－ジイル）ボレートイオン、ならびに
これらのアニオン中のフッ素原子を塩素原子、臭素原子等の他のハロゲン原子に換えたものが挙げられる。
テトラキス（２，４－ジメチルフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（２，４，６－トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（１－ナフチル）ボレートイオン、
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートイオン（以下「[B(C6F5)4]-」とも記載する。）、
テトラキス（３，５－ビス（トリメチルシリル）トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリイソプロピルシリル）トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル）トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（パーフルオロビフェニル－２－イル）ボレートイオン、
（ペンタフルオロフェニル）トリス（パーフルオロビフェニル－２－イル）ボレートイオン、
ビス（ペンタフルオロフェニル）ビス（パーフルオロビフェニル－２－イル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（パーフルオロビフェニル－２－イル）ボレートイオン、
テトラキス（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
（ペンタフルオロフェニル）トリス（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
ビス（ペンタフルオロフェニル）ビス（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
テトラキス（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
（ペンタフルオロフェニル）トリス（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
ビス（ペンタフルオロフェニル）ビス（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
テトラキス（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
（ペンタフルオロフェニル）トリス（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
ビス（ペンタフルオロフェニル）ビス（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
ビス（３，４，５，６，３'，４'，５'，６'－オクタフルオロビフェニル－２，２'－ジイル）ボレートイオン、ならびに
これらのアニオン中のフッ素原子を塩素原子、臭素原子等の他のハロゲン原子に換えたものが挙げられる。
【0058】
これらの中でも、
[B(C6F5)4]-、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
テトラキス（２－パーフルオロビフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
テトラキス（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、および
ビス（３，４，５，６，３'，４'，５'，６'－オクタフルオロビフェニル－２，２'－ジイル）ボレートイオン
が好ましく、[B(C6F5)4]-、テトラキス（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、およびテトラキス（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオンが特に好ましい。
[B(C6F5)4]-、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）トリフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（パーフルオロビフェニル－３－イル）ボレートイオン、
テトラキス（２－パーフルオロビフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、
テトラキス（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、および
ビス（３，４，５，６，３'，４'，５'，６'－オクタフルオロビフェニル－２，２'－ジイル）ボレートイオン
が好ましく、[B(C6F5)4]-、テトラキス（α－パーフルオロナフチル）ボレートイオン、およびテトラキス（β－パーフルオロナフチル）ボレートイオンが特に好ましい。
【0059】
前記アリール基（Ｑ）としては、前記アリール基（Ｑ１）以外のアリール基（以下「アリール基（Ｑ２）」とも記載する。）も挙げられる。
アリール基（Ｑ２）の好ましい例としては、フェニル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２－ナフチル基、３－ビフェニル基、および４－ビフェニル基、３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５－ビス（トリフルオロメチル）－４－フルオロフェニル基、３－ヒドロキシフェニル基、４－ヒドロキシフェニル基、４－（４'－ヒドロキシフェニル）フェニル基、６－ヒドロキシ－２－ナフチル基、４－アミノフェニル基、４－ヒドロキシ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基、４－アミノ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基が挙げられる。
アリール基（Ｑ２）の好ましい例としては、フェニル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、３，４－ジメチルフェニル基、３，５－ジメチルフェニル基、２－ナフチル基、３－ビフェニル基、および４－ビフェニル基、３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５－ビス（トリフルオロメチル）－４－フルオロフェニル基、３－ヒドロキシフェニル基、４－ヒドロキシフェニル基、４－（４'－ヒドロキシフェニル）フェニル基、６－ヒドロキシ－２－ナフチル基、４－アミノフェニル基、４－ヒドロキシ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基、４－アミノ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル基が挙げられる。
【0060】
［ＢＱ4］-で表され、Ｑとして少なくとも１つの前記アリール基（Ｑ２）を有するアニオンの具体例としては、
テトラキスフェニルボレートイオン、
テトラキス（ｐ－トリル）ボレートイオン、
トリ（ｐ－トリル）（フェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（フェニル）ボレートイオン、
トリス（２，４－ジメチルフェニル）（フェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ジメチルフェニル）ボレートイオン、
トリス（３，５－ジメチルフェニル）（フェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートイオン、
トリス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）（フェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）－４－フルオロフェニル）ボレートイオン、
トリフェニル（３－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリフェニル（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
ジフェニル－ジ（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリフェニル（３，４－ジヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリ（ｐ－トリル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリス（２，４－ジメチルフェニル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリス（３，５－ジメチルフェニル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（４－（４'－ヒドロキシフェニル）フェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）－４－フルオロフェニル）ボレートイオン、
トリフェニル（４－アミノフェニル）ボレートイオン、
ジフェニル－ジ（４－アミノフェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（４－アミノフェニル）ボレートイオン、
テトラ（４－ヒドロキシ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラ（４－アミノ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル）ボレートイオン、これらのボレートイオン中のフッ素原子を塩素原子、臭素原子等の他のハロゲン原子に換えたものが挙げられる。
テトラキスフェニルボレートイオン、
テトラキス（ｐ－トリル）ボレートイオン、
トリ（ｐ－トリル）（フェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（フェニル）ボレートイオン、
トリス（２，４－ジメチルフェニル）（フェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ジメチルフェニル）ボレートイオン、
トリス（３，５－ジメチルフェニル）（フェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートイオン、
トリス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）（フェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）－４－フルオロフェニル）ボレートイオン、
トリフェニル（３－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリフェニル（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
ジフェニル－ジ（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリフェニル（３，４－ジヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリ（ｐ－トリル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリス（２，４－ジメチルフェニル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリス（３，５－ジメチルフェニル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（４－（４'－ヒドロキシフェニル）フェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（６－ヒドロキシ－２－ナフチル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（４－ヒドロキシフェニル）ボレートイオン、
テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）－４－フルオロフェニル）ボレートイオン、
トリフェニル（４－アミノフェニル）ボレートイオン、
ジフェニル－ジ（４－アミノフェニル）ボレートイオン、
トリス（ペンタフルオロフェニル）（４－アミノフェニル）ボレートイオン、
テトラ（４－ヒドロキシ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル）ボレートイオン、
テトラ（４－アミノ－２，３，５，６－テトラフルオロフェニル）ボレートイオン、これらのボレートイオン中のフッ素原子を塩素原子、臭素原子等の他のハロゲン原子に換えたものが挙げられる。
【0061】
これらの中では、テトラキス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレートイオン、テトラキス（ビス（３，５－ビス（トリフルオロメチル）－４－フルオロフェニル）ボレートイオンが好ましい。
【0062】
＜ホウ素含有化合物（Ａ）の具体例＞
本発明のホウ素含有化合物（Ａ）の具体例としては、下記式（Ａ－１）～（Ａ－５）、（Ａ－９）～（Ａ－１３）で表される化合物が挙げられる。
本発明のホウ素含有化合物（Ａ）の具体例としては、下記式（Ａ－１）～（Ａ－５）、（Ａ－９）～（Ａ－１３）で表される化合物が挙げられる。
【0063】
【化4】
【0064】
【化5】
【0065】
【化6】
【0066】
【化7】
【0067】
＜ホウ素含有化合物（Ａ）の製造方法＞
本発明に係るホウ素含有化合物（Ａ）の製造方法の例としては、米国特許出願公開第２０１９／０３３０３９２号明細書、米国特許第５４９３０５６号明細書、米国特許第７２９７６５３号明細書、米国特許第１１０４１０３１号明細書に記載の方法などを利用した方法が挙げられる。具体的には、化合物（Ａ）は、主に以下のような二段階からなる方法で製造することができる。
本発明に係るホウ素含有化合物（Ａ）の製造方法の例としては、米国特許出願公開第２０１９／０３３０３９２号明細書、米国特許第５４９３０５６号明細書、米国特許第７２９７６５３号明細書、米国特許第１１０４１０３１号明細書に記載の方法などを利用した方法が挙げられる。具体的には、化合物（Ａ）は、主に以下のような二段階からなる方法で製造することができる。
【0068】
一段階目は、一般式（Ａ’）：Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｎ（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ前記一般式（Ａ）におけるＲ1、Ｒ2およびＲ3と同義である。）で表されるアミンを溶媒（ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、トルエン等）に溶解させ、この溶液に塩化水素を添加することで、一般式（Ａ’’）：［Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＮＨ］+Ｃｌ-（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ前記一般式（Ａ）におけるＲ1、Ｒ2およびＲ3と同義である。）で表される塩（Ａ’’）を合成する。得られた塩（Ａ’’）は、濾過等により単離する。
【0069】
二段階目で、塩（Ａ’’）と、前記一般式［ＢＱ4］-で表されるアニオンを包含するアルカリ金属塩（リチウムボレート塩、ナトリウムアルミネート塩等）とを溶媒（シクロヘキサン、ジクロロメタン、メチルシクロヘキサン等）中で混合することにより、化合物（Ａ）と副生成物のアルカリ金属塩化物とを合成でき、後者を濾過等により除去することで化合物（Ａ）を単離することができる。
【0070】
［オレフィン重合用触媒］
本発明のオレフィン重合用触媒は、上述した本発明の化合物（Ａ）および遷移金属錯体（Ｂ）を含んでいる。
本発明のオレフィン重合用触媒は、上述した本発明の化合物（Ａ）および遷移金属錯体（Ｂ）を含んでいる。
【0071】
（遷移金属錯体（Ｂ））
遷移金属錯体（Ｂ）としては、特に制限はなく、たとえば従来公知のオレフィン重合用触媒に用いられる遷移金属錯体が挙げられる。
前記遷移金属錯体（Ｂ）の例としては、下記一般式（Ｂ１）で表される化合物（非架橋型メタロセン化合物）および一般式（Ｂ２）で表される化合物（架橋型メタロセン化合物）から選ばれる少なくとも１種のメタロセン化合物が挙げられる。
遷移金属錯体（Ｂ）としては、特に制限はなく、たとえば従来公知のオレフィン重合用触媒に用いられる遷移金属錯体が挙げられる。
前記遷移金属錯体（Ｂ）の例としては、下記一般式（Ｂ１）で表される化合物（非架橋型メタロセン化合物）および一般式（Ｂ２）で表される化合物（架橋型メタロセン化合物）から選ばれる少なくとも１種のメタロセン化合物が挙げられる。
【0072】
【化8】
【0073】
式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｍは周期表第４族または第５族の原子を示す。Ｍの具体例としては、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子、バナジウム原子、ニオブ原子、タンタル原子が挙げられ、好ましくはチタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子が挙げられる。
【0074】
式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｑはハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基（すなわち、前記炭化水素基が有する少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子で置換された基）、中性の共役もしくは非共役ジエン、アニオン配位子または孤立電子対で配位可能な中性配位子を示す。
【0075】
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１～３０、好ましくは１～２０、さらに好ましくは１～１０の直鎖状または分岐状の脂肪族炭化水素基；炭素原子数３～３０、好ましくは３～２０、さらに好ましくは３～１０の脂環族炭化水素基；炭素原子数６～３０、好ましくは６～２０、さらに好ましくは６～１０の芳香族炭化水素基が挙げられる。
炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１～３０、好ましくは１～２０、さらに好ましくは１～１０の直鎖状または分岐状の脂肪族炭化水素基；炭素原子数３～３０、好ましくは３～２０、さらに好ましくは３～１０の脂環族炭化水素基；炭素原子数６～３０、好ましくは６～２０、さらに好ましくは６～１０の芳香族炭化水素基が挙げられる。
【0076】
脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ネオペンチル基、１，１－ジメチルプロピル基、１，１－ジエチルプロピル基、１－エチル－１－メチルプロピル基、１，１，２，２－テトラメチルプロピル基、１，１－ジメチルブチル基、１，１，３－トリメチルブチル基などの炭素原子数１～３０、好ましくは１～２０、さらに好ましくは１～１０の直鎖状または分岐状のアルキル基；ビニル基、アリル基、イソプロペニル基などの炭素原子数２～３０、好ましくは２～２０、さらに好ましくは２～１０の直鎖状または分岐状のアルケニル基；エチニル基、プロパルギル基などの炭素原子数２～３０、好ましくは２～２０、さらに好ましくは２～１０の直鎖状または分岐状のアルキニル基が挙げられる。
【0077】
脂環族炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１－メチル－１－シクロヘキシル基、アダマンチル基などの炭素原子数３～３０、好ましくは３～２０、さらに好ましくは３～１０の環状飽和炭化水素基；シクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニル基などの炭素原子数５～３０の環状不飽和炭化水素基が挙げられる。
【0078】
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ターフェニル基、フェナントリル基、アントラセニル基などの炭素原子数６～３０、好ましくは６～２０、さらに好ましくは６～１０の非置換アリール基；トリル基、ジメチルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｔ－ブチルフェニル基、ジ－ｔ－ブチルフェニル基などのアルキル基置換アリール基；などのアリール基が挙げられる。
【0079】
炭化水素基は、少なくとも一つの水素原子が他の炭化水素基で置換されていてもよい。少なくとも一つの水素原子が他の炭化水素基で置換された炭化水素基としては、例えば、ベンジル基、クミル基などのアリール基置換アルキル基、シクロヘキシルメチル基などの環状飽和炭化水素基置換アルキル基が挙げられる。
【0080】
ハロゲン化炭化水素基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基などの炭素原子数１～３０、好ましくは１～２０、さらに好ましくは１～１０のハロゲン化炭化水素基が挙げられる。
【0081】
中性の共役または非共役ジエンとしては、例えば、炭素原子数４～２０の中性の共役または非共役ジエンが挙げられる。具体的には、ｓ－シス－またはｓ－トランス－η4－１，３－ブタジエン、ｓ－シス－またはｓ－トランス－η4－１，４－ジフェニル－１，３－ブタジエン、ｓ－シス－またはｓ－トランス－η4－３－メチル－１，３－ペンタジエン、ｓ－シス－またはｓ－トランス－η4－１，４－ジベンジル－１，３－ブタジエン、ｓ－シス－またはｓ－トランス－η4－２，４－ヘキサジエン、ｓ－シス－またはｓ－トランス－η4－１，３－ペンタジエン、ｓ－シス－またはｓ－トランス－η4－１，４－ジトリル－１，３－ブタジエン、ｓ－シス－またはｓ－トランス－η4－１，４－ビス（トリメチルシリル）－１，３－ブタジエンが挙げられる。
【0082】
アニオン配位子としては、例えば、メトキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシなどのアルコキシ基；フェノキシなどのアリーロキシ基；アセテート、ベンゾエートなどのカルボキシレート基；メシレート、トシレートなどのスルホネート基が挙げられる。
【0083】
孤立電子対で配位可能な中性配位子としては、例えば、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルメチルホスフィンなどの有機リン化合物；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、１，２－ジメトキシエタンなどのエーテル類が挙げられる。
【0084】
式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、ｊは１～４の整数、好ましくは２～４の整数、さらに好ましくは２または３を示す。ｊが２以上の整数の場合は複数あるＱはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
【0085】
式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｃｐ1およびＣｐ2は、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｍと共にサンドイッチ構造を形成することができるシクロペンタジエニル基または置換シクロペンタジエニル基を示す。置換シクロペンタジエニル基とは、シクロペンタジエニル基が有する少なくとも１つの水素原子が置換基で置換された基である。
【0086】
置換シクロペンタジエニル基における置換基としては、例えば、炭化水素基（好ましくは炭素原子数１～２０の炭化水素基、以下「炭化水素基（ｆ１）」として参照することがある。）またはケイ素含有基（好ましくは炭素原子数１～２０のケイ素含有基、以下「ケイ素含有基（ｆ２）」として参照することがある。）が挙げられる。その他、置換シクロペンタジエニル基における置換基としては、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基などのヘテロ原子含有基（ケイ素含有基（ｆ２）を除く）を挙げることもできる。
【0087】
炭化水素基（ｆ１）としては、好ましくは炭素原子数１～２０の炭化水素基であり、例えば、直鎖状または分岐状の炭化水素基（例：アルキル基、アルケニル基、アルキニル基）、環状飽和炭化水素基（例：シクロアルキル基）、環状不飽和炭化水素基（例：アリール基）が挙げられる。炭化水素基（ｆ１）としては、前記例示の基のうち互いに隣接する炭素原子に結合した任意の二つの水素原子が同時に置換されて脂環または芳香環を形成している基も含む。
【0088】
炭化水素基（ｆ１）としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デカニル基、アリル（ａｌｌｙｌ）基などの直鎖状の脂肪族炭化水素基；イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、３－メチルペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジエチルプロピル基、１，１－ジメチルブチル基、１－メチル－１－プロピルブチル基、１，１－プロピルブチル基、１，１－ジメチル－２－メチルプロピル基、１－メチル－１－イソプロピル－２－メチルプロピル基などの分岐状の脂肪族炭化水素基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などの環状飽和炭化水素基；フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、アントラセニル基などの環状不飽和炭化水素基およびこれらの核アルキル置換体；ベンジル基、クミル基などの、飽和炭化水素基が有する少なくとも１つの水素原子がアリール基で置換された基が挙げられる。
【0089】
ケイ素含有基（ｆ２）としては、好ましくは炭素原子数１～２０のケイ素含有基であり、例えば、シクロペンタジエニル基の環炭素にケイ素原子が直接共有結合している基が挙げられ、具体的には、アルキルシリル基（例：トリメチルシリル基）、アリールシリル基（例：トリフェニルシリル基）が挙げられる。
【0090】
ヘテロ原子含有基（ケイ素含有基（ｆ２）を除く）としては、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、Ｎ－メチルアミノ基、トリフルオロメチル基、トリブロモメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基が挙げられる。
【0091】
炭化水素基（ｆ１）の中でも、炭素原子数１～２０の直鎖状または分岐状の脂肪族炭化水素基、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ネオペンチル基などが好適な例として挙げられる。
【0092】
置換シクロペンタジエニル基は、インデニル基、フルオレニル基、アズレニル基およびこれらが有する一つ以上の水素原子が上記炭化水素基で置換された基も包含し、インデニル基、フルオレニル基、アズレニル基の場合はシクロペンタジエニル基に縮合する不飽和環の二重結合の一部または全部が水添されていてもよい。
【0093】
式（Ｂ２）中、Ｙは炭素原子数１～３０の２価の炭化水素基、炭素原子数１～２０の２価のハロゲン化炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基、２価のスズ含有基、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ2－、－Ｇｅ－、－Ｓｎ（スズ）－、－ＮＲa－、－Ｐ（Ｒa）－、－Ｐ（Ｏ）（Ｒa）－、－ＢＲa－または－ＡｌＲa－を示す。ただし、Ｒaは炭素原子数１～２０の炭化水素基、炭素原子数１～２０のハロゲン化炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子または窒素原子に炭素原子数１～２０の炭化水素基が１個または２個結合した窒素化合物残基（－ＮＲＨまたは－ＮＲ2；Ｒは炭素原子数１～２０の炭化水素基）である。
【0094】
一般式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表されるメタロセン化合物としては、一般式（Ｂ２）で表される化合物が好ましく、国際公開第０１／２７１２４号パンフレットに開示されているような、一般式（Ｉ）で表される架橋型メタロセン化合物（以下「架橋型メタロセン化合物（Ｂ２ａ）」ともいう。）がさらに好ましい。
【0095】
【化9】
【0096】
架橋型メタロセン化合物（Ｂ２ａ）は、構造上、次の特徴［ｍ１］～［ｍ３］を備える。
［ｍ１］二つの配位子のうち、一つは置換基を有していてもよいシクロペンタジエニル基であり、他の一つは置換基を有していてもよいフルオレニル基である。
［ｍ２］二つの配位子が、炭素原子またはケイ素原子からなる共有結合架橋部（以下「架橋部」ともいう。）によって結合されている。
［ｍ３］メタロセン化合物を構成する遷移金属（Ｍ）が周期表第４族の原子、具体的には、チタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子である。
［ｍ１］二つの配位子のうち、一つは置換基を有していてもよいシクロペンタジエニル基であり、他の一つは置換基を有していてもよいフルオレニル基である。
［ｍ２］二つの配位子が、炭素原子またはケイ素原子からなる共有結合架橋部（以下「架橋部」ともいう。）によって結合されている。
［ｍ３］メタロセン化合物を構成する遷移金属（Ｍ）が周期表第４族の原子、具体的には、チタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム原子である。
【0097】
以下、架橋型メタロセン化合物（Ｂ２ａ）が有する、シクロペンタジエニル基、フルオレニル基、架橋部およびその他特徴について、順次説明する。
（シクロペンタジエニル基）
式（Ｂ２ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ケイ素含有基またはケイ素含有基以外のヘテロ原子含有基を示し、水素原子、炭化水素基またはケイ素含有基が好ましく、隣接する二つの基同士は互いに結合して環を形成していてもよい。
（シクロペンタジエニル基）
式（Ｂ２ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ケイ素含有基またはケイ素含有基以外のヘテロ原子含有基を示し、水素原子、炭化水素基またはケイ素含有基が好ましく、隣接する二つの基同士は互いに結合して環を形成していてもよい。
【0098】
例えば、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は全て水素原子であるか、またはＲ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のいずれか一つ以上が炭化水素基（好ましくは炭素原子数１～２０の炭化水素基）またはケイ素含有基（好ましくは炭素原子数１～２０のケイ素含有基）である。その他、ハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基などのヘテロ原子含有基を挙げることもできる。
【0099】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちの二つ以上が水素原子以外の置換基である場合は、前記置換基は互いに同一でも異なっていてもよく；Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちの隣接する二つの基同士は互いに結合して脂環または芳香環を形成していてもよい。
【0100】
Ｒ1～Ｒ4における炭化水素基の例示および好ましい基としては、上記置換シクロペンタジエニル基の箇所にて定義した炭化水素基（ｆ１）が挙げられる。Ｒ1～Ｒ4におけるケイ素含有基の例示および好ましい基としては、上記置換シクロペンタジエニル基の箇所にて定義したケイ素含有基（ｆ２）が挙げられる。Ｒ1～Ｒ4におけるヘテロ原子含有基としては、上記置換シクロペンタジエニル基の箇所にて例示した基が挙げられる。
【0101】
（フルオレニル基）
式（Ｂ２ａ）中、Ｒ5、Ｒ8、Ｒ9およびＲ12はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ケイ素含有基またはケイ素含有基以外のヘテロ原子含有基を示し、水素原子、炭化水素基またはケイ素含有基が好ましい。Ｒ6およびＲ11は水素原子、炭化水素基、ケイ素含有基およびケイ素含有基以外のヘテロ原子含有基から選ばれる同一の原子または同一の基であり、水素原子、炭化水素基およびケイ素含有基が好ましく；Ｒ7およびＲ10は水素原子、炭化水素基、ケイ素含有基およびケイ素含有基以外のヘテロ原子含有基から選ばれる同一の原子または同一の基であり、水素原子、炭化水素基およびケイ素含有基が好ましく；Ｒ6およびＲ7は互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ10およびＲ11は互いに結合して環を形成していてもよい。
式（Ｂ２ａ）中、Ｒ5、Ｒ8、Ｒ9およびＲ12はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ケイ素含有基またはケイ素含有基以外のヘテロ原子含有基を示し、水素原子、炭化水素基またはケイ素含有基が好ましい。Ｒ6およびＲ11は水素原子、炭化水素基、ケイ素含有基およびケイ素含有基以外のヘテロ原子含有基から選ばれる同一の原子または同一の基であり、水素原子、炭化水素基およびケイ素含有基が好ましく；Ｒ7およびＲ10は水素原子、炭化水素基、ケイ素含有基およびケイ素含有基以外のヘテロ原子含有基から選ばれる同一の原子または同一の基であり、水素原子、炭化水素基およびケイ素含有基が好ましく；Ｒ6およびＲ7は互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ10およびＲ11は互いに結合して環を形成していてもよい。
【0102】
重合活性の視点からみるとＲ6およびＲ11がいずれも水素原子ではないか、Ｒ7およびＲ10がいずれも水素原子ではないことが好ましく、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ10およびＲ11がいずれも水素原子ではないことがさらに好ましい。また、Ｒ6およびＲ11が炭化水素基およびケイ素含有基から選ばれる同一の基であるか、Ｒ7とＲ10が炭化水素基およびケイ素含有基から選ばれる同一の基であることが特に好ましい。さらに、Ｒ6およびＲ7が互いに結合して脂環または芳香環を形成し、Ｒ10およびＲ11が互いに結合して脂環または芳香環を形成していることがもっとも好ましい。
【0103】
Ｒ5～Ｒ12における炭化水素基の例示および好ましい基としては、上記置換シクロペンタジエニル基の箇所にて定義した炭化水素基（ｆ１）が挙げられる。Ｒ5～Ｒ12におけるケイ素含有基の例示および好ましい基としては、上記置換シクロペンタジエニル基の箇所にて定義したケイ素含有基（ｆ２）が挙げられる。Ｒ5～Ｒ12におけるヘテロ原子含有基としては、上記置換シクロペンタジエニル基の箇所にて例示した基が挙げられる。
【0104】
Ｒ6およびＲ7（Ｒ10およびＲ11）が互いに結合して脂環または芳香環を形成した場合の置換フルオレニル基としては、後述する一般式［Ｉ］～［ＶＩ］で表される化合物に由来する構造の基が好適な例として挙げられる。
【0105】
（架橋部）
式（Ｂ２ａ）中、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を示し、Ｙは炭素原子またはケイ素原子を示す。架橋部の架橋原子Ｙに、互いに同一でも異なっていてもよいアルキル基またはアリール基［Ｒ13およびＲ14］が結合していることである。さらに、Ｒ13およびＲ14が互いに結合して環構造を形成してもよい。
式（Ｂ２ａ）中、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を示し、Ｙは炭素原子またはケイ素原子を示す。架橋部の架橋原子Ｙに、互いに同一でも異なっていてもよいアルキル基またはアリール基［Ｒ13およびＲ14］が結合していることである。さらに、Ｒ13およびＲ14が互いに結合して環構造を形成してもよい。
【0106】
アルキル基としては上記置換シクロペンタジエニル基の箇所にて定義した炭化水素基（ｆ１）が挙げられる。Ｒ13およびＲ14が互いに結合した環構造としてはＹ1が炭素原子の場合、シクロヘキシル基やシクロペンチル基等が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基およびこれらが有する芳香族水素（ｓｐ２型水素）の一つ以上が置換基で置換された基が挙げられる。置換基としては、上記置換シクロペンタジエニル基の箇所にて定義した炭化水素基（ｆ１）およびケイ素含有基（ｆ２）や、ハロゲン原子およびハロゲン化炭化水素基が挙げられる。
【0107】
アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、ビフェニル基などの炭素原子数６～１４、好ましくは６～１０の非置換アリール基；トリル基、ジメチルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｔ－ブチルフェニル基などのアルキル基置換アリール基；シクロヘキシルフェニル基などのシクロアルキル基置換アリール基；クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジクロロフェニル基、ジブロモフェニル基などのハロゲン化アリール基；（トリフルオロメチル）フェニル基、ビス（トリフルオロメチル）フェニル基などのハロゲン化アルキル基置換アリール基が挙げられる。置換基の位置は、メタ位および／またはパラ位が好ましい。これらの中でも、置換基がメタ位および／またはパラ位に位置する置換フェニル基がさらに好ましい。
【0108】
（架橋型メタロセン化合物のその他の特徴）
式（Ｂ２ａ）中、Ｑはハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭素原子数４～２０の中性の共役もしくは非共役ジエン、アニオン配位子または孤立電子対で配位可能な中性配位子を示し、ｊは１～４の整数を示し、ｊが２以上の整数の場合は複数あるＱはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
式（Ｂ２ａ）中、Ｑはハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭素原子数４～２０の中性の共役もしくは非共役ジエン、アニオン配位子または孤立電子対で配位可能な中性配位子を示し、ｊは１～４の整数を示し、ｊが２以上の整数の場合は複数あるＱはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
【0109】
Ｑにおけるハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭素原子数４～２０の中性の共役もしくは非共役ジエン、アニオン配位子または孤立電子対で配位可能な中性配位子としては、式（Ｂ１）および（Ｂ２）中におけるＱと同様の原子または基を挙げることができる。
【0110】
（好ましい架橋型メタロセン化合物（Ｂ２ａ）の例示）
以下に架橋型メタロセン化合物（Ｂ２ａ）の具体例を示すが、特にこれによって本発明の範囲が限定されるものではない。なお、例示化合物中、オクタメチルオクタヒドロジベンゾフルオレニルとは式［Ｉ］で示される構造の化合物に由来する基を指し、テトラメチルドデカヒドロジベンゾフルオレニルとは式［ＩＩ］で示される構造の化合物に由来する基を指し、オクタメチルテトラヒドロジシクロペンタフルオレニルとは式［ＩＩＩ］で示される構造の化合物に由来する基を指し、ジベンゾフルオレニルとは式［ＩＶ］で示される構造の化合物に由来する基を指し、１，１'，３，６，８，８'－ヘキサメチル－２，７－ジヒドロジシクロペンタフルオレニルとは式［Ｖ］で示される構造の化合物に由来する基を指し、１，３，３'，６，６'，８－ヘキサメチル－２，７－ジヒドロジシクロペンタフルオレニルとは式［ＶＩ］で示される構造の化合物に由来する基を指す。
以下に架橋型メタロセン化合物（Ｂ２ａ）の具体例を示すが、特にこれによって本発明の範囲が限定されるものではない。なお、例示化合物中、オクタメチルオクタヒドロジベンゾフルオレニルとは式［Ｉ］で示される構造の化合物に由来する基を指し、テトラメチルドデカヒドロジベンゾフルオレニルとは式［ＩＩ］で示される構造の化合物に由来する基を指し、オクタメチルテトラヒドロジシクロペンタフルオレニルとは式［ＩＩＩ］で示される構造の化合物に由来する基を指し、ジベンゾフルオレニルとは式［ＩＶ］で示される構造の化合物に由来する基を指し、１，１'，３，６，８，８'－ヘキサメチル－２，７－ジヒドロジシクロペンタフルオレニルとは式［Ｖ］で示される構造の化合物に由来する基を指し、１，３，３'，６，６'，８－ヘキサメチル－２，７－ジヒドロジシクロペンタフルオレニルとは式［ＶＩ］で示される構造の化合物に由来する基を指す。
【0111】
【化10】
【0112】
一般式（Ｂ１）、（Ｂ２）または（Ｂ２ａ）で表されるメタロセン化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／１６１８３３号の［００７８］～［００７９］に挙げられた化合物、国際公開第２０１４／１２３２１２号の［０２５９］～［０２６２］に挙げられた化合物が挙げられる。
前記遷移金属錯体（Ｂ）としては、下記一般式（Ｂ３）で表される化合物（Ｂ３）も挙げられる。
前記遷移金属錯体（Ｂ）としては、下記一般式（Ｂ３）で表される化合物（Ｂ３）も挙げられる。
【0113】
【化11】
【0114】
〈Ｒ
1
からＲ
16
〉
式（Ｂ３）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基またはケイ素含有基であり、Ｒ1からＲ16までの置換基のうち、任意の２つの置換基は互いに結合して環を形成していてもよい。
式（Ｂ３）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基またはケイ素含有基であり、Ｒ1からＲ16までの置換基のうち、任意の２つの置換基は互いに結合して環を形成していてもよい。
【0115】
Ｒ1からＲ16における炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基およびケイ素含有基としては、上述した式（Ｂ２ａ）におけるＲ1～Ｒ14として例示した炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基およびケイ素含有基が挙げられる。
【0116】
Ｒ1からＲ16までの置換基のうち、隣接した２つの置換基（例：Ｒ1とＲ2、Ｒ2とＲ3、Ｒ4とＲ6、Ｒ4とＲ7、Ｒ5とＲ6、Ｒ5とＲ7、Ｒ6とＲ8、Ｒ7とＲ8、Ｒ9とＲ10、Ｒ10とＲ11、Ｒ11とＲ12、Ｒ13とＲ14、Ｒ14とＲ15、Ｒ15とＲ16）が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ4およびＲ5が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ6およびＲ7が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ1およびＲ8が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ3およびＲ4が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ3およびＲ5が互いに結合して環を形成していてもよい。前記環形成は、分子中に２箇所以上存在してもよい。
【0117】
本明細書において、２つの置換基が互いに結合して形成された環（付加的な環）としては、例えば、脂環、芳香環、ヘテロ環が挙げられる。具体的には、シクロヘキサン環；ベンゼン環；水素化ベンゼン環；シクロペンテン環；フラン環、チオフェン環等のヘテロ環およびこれに対応する水素化ヘテロ環が挙げられ、好ましくはシクロヘキサン環；ベンゼン環および水素化ベンゼン環である。また、このような環構造は、環上にアルキル基等の置換基をさらに有していてもよい。
【0118】
Ｒ1およびＲ3は、水素原子であることが好ましい。
Ｒ2は、炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基またはケイ素含有基であることが好ましく、炭化水素基であることがさらに好ましく、炭素数１～２０の炭化水素基であることがより好ましく、アリール基ではないことがさらに好ましく、直鎖状炭化水素基、分岐状炭化水素基または環状飽和炭化水素基であることがとりわけ好ましく、遊離原子価を有する炭素（シクロペンタジエニル環に結合する炭素）が３級炭素である置換基であることが特に好ましい。
Ｒ2は、炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基またはケイ素含有基であることが好ましく、炭化水素基であることがさらに好ましく、炭素数１～２０の炭化水素基であることがより好ましく、アリール基ではないことがさらに好ましく、直鎖状炭化水素基、分岐状炭化水素基または環状飽和炭化水素基であることがとりわけ好ましく、遊離原子価を有する炭素（シクロペンタジエニル環に結合する炭素）が３級炭素である置換基であることが特に好ましい。
【0119】
Ｒ2としては、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert－ブチル基、tert－ペンチル基、tert－アミル基、１－メチルシクロヘキシル基、１－アダマンチル基が例示でき、より好ましくはtert－ブチル基、tert－ペンチル基、１－メチルシクロヘキシル基、１－アダマンチル基等の遊離原子価を有する炭素が３級炭素である置換基であり、特に好ましくは１－アダマンチル基、tert－ブチル基である。
Ｒ4は、前記遷移金属錯体（３）を下記一般式（Ｂ３'）で表した場合に、水素原子であることが好ましい形態の一つである。
Ｒ4は、前記遷移金属錯体（３）を下記一般式（Ｂ３'）で表した場合に、水素原子であることが好ましい形態の一つである。
【0120】
【化12】
【0121】
この場合、前記遷移金属錯体（３）は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、一般式（Ｂ３'）で表される遷移金属錯体の全ての鏡像異性体、例えば一般式（Ｂ３"）で表される遷移金属錯体を包含する。
【0122】
【化13】
【0123】
式（Ｂ３'）および（Ｂ３"）の表記において、ＭＱj部分が紙面手前に、架橋部が紙面奥側に存在するものとする。すなわち、これらの遷移金属錯体では、シクロペンタジエン環のα位（架橋部位が置換した炭素原子を基準とする）に、中心金属側に向いた水素原子（Ｒ4）が存在する。
【0124】
一方、上述した一般式（Ｂ３）においては、ＭＱj部分および架橋部が紙面手前に存在するのか、紙面奥側に存在するかは特定されていない。すなわち一般式（Ｂ３）で表される化合物（Ｂ３）は、特定の構造の遷移金属化合物とその鏡像異性体とを包含している。
【0125】
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7から選ばれる少なくとも１つは、炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基またはケイ素含有基であることが好ましく、Ｒ4、Ｒ5が水素原子または炭化水素基であることがより好ましく、Ｒ5が直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基等のアルキル基、シクロアルキル基またはシクロアルケニル基であることがさらに好ましく、炭素数1～10のアルキル基であることがとりわけ好ましい。また、合成上の観点からはＲ4、Ｒ5が共にアルキル基であることも好ましい形態の一つであり、炭素数1～10のアルキル基が特に好ましい。また同様に合成上の観点からは、Ｒ6およびＲ7は水素原子であることも好ましい。Ｒ5およびＲ7が互いに結合して環を形成していることがより好ましく、当該環がシクロヘキサン環等の６員環であることが特に好ましい。
【0126】
Ｒ8は、炭化水素基であることが好ましく、メチル基等のアルキル基であることが特に好ましい。
一般式（Ｂ３）において、フルオレン環部分は公知のフルオレン誘導体から得られる構造であれば特に制限されない。Ｒ9、Ｒ12、Ｒ13およびＲ16は、好ましくは水素原子である。
一般式（Ｂ３）において、フルオレン環部分は公知のフルオレン誘導体から得られる構造であれば特に制限されない。Ｒ9、Ｒ12、Ｒ13およびＲ16は、好ましくは水素原子である。
【0127】
Ｒ10、Ｒ11、Ｒ14およびＲ15は、好ましくは水素原子、炭化水素基、酸素原子含有炭化水素基または窒素原子含有炭化水素基であり、より好ましくは炭化水素基であり、さらに好ましくは炭素数１～２０の炭化水素基であり、たとえば、2,7-ジ-tert-ブチルフルオレニル基、3,6-ジ-tert-ブチルフルオレニル基, 2,7-ジフェニル-3,6-ジ-tert-ブチルフルオレニル基が挙げられ、特に好ましくは2,7-ジ-tert-ブチルフルオレニル基である。
【0128】
Ｒ10とＲ11が互いに結合して環を形成し、かつＲ14とＲ15が互いに結合して環を形成していてもよい。このような置換フルオレニル基としては、例えば、ベンゾフルオレニル基、ジベンゾフルオレニル基、オクタヒドロジベンゾフルオレニル基、1,1,4,4,7,7,10,10-オクタメチル-2,3,4,7,8,9,10,12-オクタヒドロ-1H-ジベンゾ[b,h]フルオレニル基、1,1,3,3,6,6,8,8-オクタメチル-2,3,6,7,8,10-ヘキサヒドロ-1H-ジシクロペンタ[b,h]フルオレニル基、1',1',3',6',8',8'-ヘキサメチル-1'H,8'H-ジシクロペンタ［b,h］フルオレニル基が挙げられ、特に好ましくは1,1,4,4,7,7,10,10-オクタメチル-2,3,4,7,8,9,10,12-オクタヒドロ-1H-ジベンゾ[b,h]フルオレニル基が挙げられる。
【0129】
〈Ｍ、Ｑ、ｊ〉
式（Ｂ３）において、Ｍは、第４族遷移金属であり、好ましくはＴｉ、ＺｒまたはＨｆであり、より好ましくはＺｒまたはＨｆであり、特に好ましくはＺｒである。
式（Ｂ３）において、Ｍは、第４族遷移金属であり、好ましくはＴｉ、ＺｒまたはＨｆであり、より好ましくはＺｒまたはＨｆであり、特に好ましくはＺｒである。
【0130】
Ｑはハロゲン原子、炭化水素基、アニオン配位子または孤立電子対で配位可能な中性配位子である。
Ｑにおけるハロゲン原子、炭化水素基、アニオン配位子および孤立電子対で配位可能な中性配位子としては、上述した式（Ｂ２ａ）におけるハロゲン原子、炭化水素基、アニオン配位子および孤立電子対で配位可能な中性配位子として例示したものが挙げられる。
Ｑにおけるハロゲン原子、炭化水素基、アニオン配位子および孤立電子対で配位可能な中性配位子としては、上述した式（Ｂ２ａ）におけるハロゲン原子、炭化水素基、アニオン配位子および孤立電子対で配位可能な中性配位子として例示したものが挙げられる。
【0131】
ｊは１～４の整数であり、好ましくは２である。ｊが２以上の整数であるとき、Ｑは同一または異なる組合せで選んでもよい。
前記化合物（Ｂ３）の具体例としては、国際公開第２００６／６８３０８号の第１１～１５頁に列挙された化合物、国際公開第２０１４／５０８１６号の［００７５］－［００８６］に列挙された化合物、特開２００８／０４５００８号の［００７２］－［００８４］に列挙された化合物が挙げられる。
前記化合物（Ｂ３）の具体例としては、国際公開第２００６／６８３０８号の第１１～１５頁に列挙された化合物、国際公開第２０１４／５０８１６号の［００７５］－［００８６］に列挙された化合物、特開２００８／０４５００８号の［００７２］－［００８４］に列挙された化合物が挙げられる。
【0132】
前記遷移金属錯体（Ｂ）としては、特開平１１－３１５１０９号公報、特開２０００－２３９３１２号公報、国際公開第２００１／５５２３１号、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ誌２０１１年１１１巻２３６３－２４４９項に記載されているような下記一般式（Ｂ４）で表される化合物（Ｂ４）も挙げられる。
【0133】
【化14】
【0134】
一般式（Ｂ４）中、Ｍは周期律表第４～１０族の遷移金属原子を示し、
ｍは、１～６の整数を示し、
Ｒ19～Ｒ24は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、
また、ｍが２以上の場合にはＲ19～Ｒ24で示される基のうち２個の基が連結されていてもよく、
ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
ｍは、１～６の整数を示し、
Ｒ19～Ｒ24は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、
また、ｍが２以上の場合にはＲ19～Ｒ24で示される基のうち２個の基が連結されていてもよく、
ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
【0135】
具体的には、ビス｛Ｎ－（５－アダマンチル－３－メチルサリチリデン）－２－メチルシクロヘキシルアミナト｝ジルコニウム（ＩＶ）ジクロリド、ビス｛Ｎ－（３－ｔｅｒｔ－ブチルサリチリデン）－２，３，４，５，６－ペンタフルオロアニリナト｝チタニウム（ＩＶ）ジクロリドなどが例示できる。
【0136】
前記遷移金属錯体（Ｂ）としては、国際公開第２００９／５００３号、特開２０１１－１７８６８２号公報、特開２０１１－１９５５８４号公報に記載されているような下記一般式（Ｂ５）で表される化合物（Ｂ５）も挙げられる。
【0137】
【化15】
【0138】
一般式（Ｂ５）中、Ｒ25～Ｒ30は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、これらのうち２個以上が互いに連結していてもよい。また、Ｒ25はＺと連結していてもよい。
【0139】
Ｍは、周期律表第３～１０族から選ばれる遷移金属原子を示す。
ｎはＭの原子価を示す。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｘで示される原子や基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される基は互いに結合して環を形成してもよい。
ｎはＭの原子価を示す。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示し、Ｘで示される原子や基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される基は互いに結合して環を形成してもよい。
【0140】
Ｙは、酸素原子、窒素原子、リン原子または硫黄原子を示す。
Ｚは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示し、ＹとＮとを結ぶ最短結合数は４～６である。
Ｚは、置換基を有していてもよい炭化水素基またはヘテロ環式化合物残基を示し、ＹとＮとを結ぶ最短結合数は４～６である。
【0141】
ＹとＺとを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよく、ＹとＲ25とを結ぶ結合は二重結合もしくは三重結合であってもよい。また式中、点線表示は配位結合を示す。
一般式（Ｂ５）で表される化合物（Ｂ５）としては、トリクロロ｛６－［（２'－メトキシ－κＯ1－ビフェニル－２－イル）イミノ－κＮ1－メチル］－４－メチル－２－（トリシクロ［３．３．１．１3,7］デカン－１－イル）フェノラト｝チタン（IV）が挙げられる。
一般式（Ｂ５）で表される化合物（Ｂ５）としては、トリクロロ｛６－［（２'－メトキシ－κＯ1－ビフェニル－２－イル）イミノ－κＮ1－メチル］－４－メチル－２－（トリシクロ［３．３．１．１3,7］デカン－１－イル）フェノラト｝チタン（IV）が挙げられる。
【0142】
前記遷移金属錯体（Ｂ）としては、例えば、米国特許第５２７２２３６号明細書等に記載されている下記一般式（Ｂ６）で表される化合物（Ｂ６）も挙げられる。
Ｌ1Ｍ1Ｘn …（Ｂ６）
Ｌ1Ｍ1Ｘn …（Ｂ６）
【0143】
一般式（Ｂ６）中、Ｍ1は、周期表第４族またはランタニド系列の金属であり、
Ｌ1は、非局在化π結合基の誘導体であり、金属Ｍ1活性サイトに拘束幾何形状を付与しており、
Ｘは、それぞれ独立に水素、ハロゲン、または炭素数１～２０の炭化水素基、シリル基もしくはゲルミル基である。
Ｌ1は、非局在化π結合基の誘導体であり、金属Ｍ1活性サイトに拘束幾何形状を付与しており、
Ｘは、それぞれ独立に水素、ハロゲン、または炭素数１～２０の炭化水素基、シリル基もしくはゲルミル基である。
【0144】
ｎは１～２の整数であり、Ｍの価数およびＸの種類に応じて、化合物（Ｂ６）全体として電気的に中性になるように選択される。
前記化合物（Ｂ６）の中でも、下記一般式（Ｂ６ａ）で示される化合物が好ましい。
前記化合物（Ｂ６）の中でも、下記一般式（Ｂ６ａ）で示される化合物が好ましい。
【0145】
【化16】
【0146】
式（Ｂ６ａ）中、Ｍ1はチタン、ジルコニウムまたはハフニウムであり、Ｘは、上記と同様である。ＣｐはＭ1にπ結合しており、かつ置換基Ｚを有する置換シクロペンタジエニル基である。Ｚは酸素、イオウ、ホウ素または周期表第１４族の元素（たとえばケイ素、ゲルマニウムまたは錫）であり、Ｙは窒素、リン、酸素またはイオウを含む配位子であり、ＺとＹとで縮合環を形成してもよい。
【0147】
一般式（Ｂ６ａ）で示される化合物の具体例としては、［ジメチル（t-ブチルアミド）（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）シラン］チタンジクロリド等の、特表２０１７－５１１３９６の［００６２］に記載された化合物、ならびにこれらの化合物において、チタンを、ジルコニウム、またはハフニウムに置き換えた化合物、およびこれらの化合物において上記式（Ｂ６ａ）中の２つのＸを１つの共役または非共役ジエン（たとえば、ｓ－シス－またはｓ－トランス－η4－１，３－ペンタジエン））に置き換えた化合物が挙げられる。
遷移金属錯体（Ｂ）は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
遷移金属錯体（Ｂ）は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0148】
（化合物（Ｃ））
本発明のオレフィン重合用触媒は、好ましくは以下の化合物（Ｃ）を含む。
化合物（Ｃ）（以下「成分（Ｃ）」と記載することもある。）は、
（C-1）有機金属化合物（以下「成分（C-1）」ともいう。）、好ましくは下記一般式（C-1a）で表される有機アルミニウム化合物（C-1a）、下記一般式（C-1b）で表される第１族金属とアルミニウムとの錯アルキル化物（C-1b）、または下記一般式（C-1c）で表される第２族または第１２族金属のジアルキル化合物（C-1c）、
Ｒa mＡｌ（ＯＲb)n Ｈp Ｘq … （C-1a）
〔一般式（C-1a）中、Ｒa およびＲb は、炭素原子数が１～１５の炭化水素基を示し、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である。〕
本発明のオレフィン重合用触媒は、好ましくは以下の化合物（Ｃ）を含む。
化合物（Ｃ）（以下「成分（Ｃ）」と記載することもある。）は、
（C-1）有機金属化合物（以下「成分（C-1）」ともいう。）、好ましくは下記一般式（C-1a）で表される有機アルミニウム化合物（C-1a）、下記一般式（C-1b）で表される第１族金属とアルミニウムとの錯アルキル化物（C-1b）、または下記一般式（C-1c）で表される第２族または第１２族金属のジアルキル化合物（C-1c）、
Ｒa mＡｌ（ＯＲb)n Ｈp Ｘq … （C-1a）
〔一般式（C-1a）中、Ｒa およびＲb は、炭素原子数が１～１５の炭化水素基を示し、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である。〕
【0149】
Ｍa ＡｌＲa
4 … （C-1b）
〔一般式（C-1b）中、Ｍa はＬｉ、ＮａまたはＫを示し、Ｒa は炭素原子数が１～１５（好ましくは１～４）の炭化水素基を示す。〕
〔一般式（C-1b）中、Ｍa はＬｉ、ＮａまたはＫを示し、Ｒa は炭素原子数が１～１５（好ましくは１～４）の炭化水素基を示す。〕
【0150】
Ｒa
rＭbＲb
s
Ｘt … （C-1c）
〔一般式（C-1c）中、Ｒa およびＲb は、炭素原子数が１～１５の炭化水素基を示し、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｍb は、Ｍｇ、ＺｎおよびＣｄから選ばれ、Ｘはハロゲン原子を示し、rは０＜r≦２、ｓは０≦ｓ≦１、ｔは０≦ｔ≦１であり、かつｒ＋ｓ＋ｔ＝２である。〕、および
（C-2）有機アルミニウムオキシ化合物（以下「成分（C-2）」ともいう。）
からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である。
〔一般式（C-1c）中、Ｒa およびＲb は、炭素原子数が１～１５の炭化水素基を示し、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｍb は、Ｍｇ、ＺｎおよびＣｄから選ばれ、Ｘはハロゲン原子を示し、rは０＜r≦２、ｓは０≦ｓ≦１、ｔは０≦ｔ≦１であり、かつｒ＋ｓ＋ｔ＝２である。〕、および
（C-2）有機アルミニウムオキシ化合物（以下「成分（C-2）」ともいう。）
からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である。
【0151】
《有機金属化合物（C-1）》
有機アルミニウム化合物（C-1a）としては、
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ-n-ブチルアルミニウム、トリ-n-ヘキシルアルミニウム、トリ-n-オクチルアルミニウムなどのトリ-n-アルキルアルミニウム、
トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリsec-ブチルアルミニウム、トリ-t-ブチルアルミニウム、トリ-2-メチルブチルアルミニウム、トリ-3-メチルヘキシルアルミニウム、トリ-2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリ分岐状アルキルアルミニウム、
トリシクロヘキシルアルミニウム、トリシクロオクチルアルミニウムなどのトリシクロアルキルアルミニウム、
トリフェニルアルミニウム、トリ（4-メチルフェニル）アルミニウムなどのトリアリールアルミニウム、
ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイドライド、
一般式(i-C4H9)xAly(C5H10)z（式中、x、y、zは正の数であり、z≦2xである。）で表されるイソプレニルアルミニウムなどのアルケニルアルミニウム、
イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニウムエトキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド、
ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド、
エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド、
一般式Ｒa 2.5Ａｌ(ＯＲb)0.5などで表される平均組成を有する部分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム、
ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシド)などのアルキルアルミニウムアリーロキシド、
ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルアルミニウムハライド、
エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド、
エチルアルミニウムジクロリドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム、
エチルアルミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアルミニウムジヒドリドおよびその他の部分的に水素化されたアルキルアルミニウム、
エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムなどを例示することができる。また、上記一般式Ｒa mＡｌ(ＯＲb)nＨpＸqで表される化合物に類似する化合物も使用することができ、例えば窒素原子を介して２以上のアルミニウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物を挙げることができる。このような化合物として具体的には、(C2H5)2AlN(C2H5)Al(C2H5)2などを挙げることができる。
有機アルミニウム化合物（C-1a）としては、
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ-n-ブチルアルミニウム、トリ-n-ヘキシルアルミニウム、トリ-n-オクチルアルミニウムなどのトリ-n-アルキルアルミニウム、
トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリsec-ブチルアルミニウム、トリ-t-ブチルアルミニウム、トリ-2-メチルブチルアルミニウム、トリ-3-メチルヘキシルアルミニウム、トリ-2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリ分岐状アルキルアルミニウム、
トリシクロヘキシルアルミニウム、トリシクロオクチルアルミニウムなどのトリシクロアルキルアルミニウム、
トリフェニルアルミニウム、トリ（4-メチルフェニル）アルミニウムなどのトリアリールアルミニウム、
ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイドライド、
一般式(i-C4H9)xAly(C5H10)z（式中、x、y、zは正の数であり、z≦2xである。）で表されるイソプレニルアルミニウムなどのアルケニルアルミニウム、
イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニウムエトキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド、
ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド、
エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド、
一般式Ｒa 2.5Ａｌ(ＯＲb)0.5などで表される平均組成を有する部分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム、
ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジエチルアルミニウム(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノキシド)などのアルキルアルミニウムアリーロキシド、
ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウムクロリドなどのジアルキルアルミニウムハライド、
エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド、
エチルアルミニウムジクロリドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム、
エチルアルミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアルミニウムジヒドリドおよびその他の部分的に水素化されたアルキルアルミニウム、
エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムなどを例示することができる。また、上記一般式Ｒa mＡｌ(ＯＲb)nＨpＸqで表される化合物に類似する化合物も使用することができ、例えば窒素原子を介して２以上のアルミニウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物を挙げることができる。このような化合物として具体的には、(C2H5)2AlN(C2H5)Al(C2H5)2などを挙げることができる。
【0152】
第１族金属とアルミニウムとの錯アルキル化物（C-1b）としては、例えば、ＬｉＡｌ（Ｃ2Ｈ5）4、ＬｉＡｌ（Ｃ7Ｈ15）4が挙げられる。
第２族または第１２族金属のジアルキル化合物（C-1c）としては、例えば、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジｎ－ブチルマグネシウム、エチルｎ－ブチルマグネシウム、ジフェニルマグネシウム、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジｎ－ブチル亜鉛、ジフェニル亜鉛が挙げられる。
これらの中では、前記有機アルミニウム化合物（C-1a）が好ましい。
有機金属化合物（C-1）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
第２族または第１２族金属のジアルキル化合物（C-1c）としては、例えば、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジｎ－ブチルマグネシウム、エチルｎ－ブチルマグネシウム、ジフェニルマグネシウム、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジｎ－ブチル亜鉛、ジフェニル亜鉛が挙げられる。
これらの中では、前記有機アルミニウム化合物（C-1a）が好ましい。
有機金属化合物（C-1）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0153】
《有機アルミニウムオキシ化合物（C-2）》
有機アルミニウムオキシ化合物（C-2）としては、例えば、従来公知のアルミノキサンであってもよく、特開平２－７８６８７号公報に例示されているようなベンゼンに対して不溶性または難溶性の有機アルミニウムオキシ化合物であってもよい。従来公知のアルミノキサンは、例えば、下記（１）～（４）の方法によって製造することができ、通常、炭化水素溶媒の溶液として得られる。
有機アルミニウムオキシ化合物（C-2）としては、例えば、従来公知のアルミノキサンであってもよく、特開平２－７８６８７号公報に例示されているようなベンゼンに対して不溶性または難溶性の有機アルミニウムオキシ化合物であってもよい。従来公知のアルミノキサンは、例えば、下記（１）～（４）の方法によって製造することができ、通常、炭化水素溶媒の溶液として得られる。
【0154】
（１）吸着水を含有する化合物または結晶水を含有する塩類、例えば、塩化マグネシウム水和物、硫酸銅水和物、硫酸アルミニウム水和物、硫酸ニッケル水和物、塩化第１セリウム水和物等の炭化水素媒体懸濁液に、トリアルキルアルミニウム等の有機アルミニウム化合物を添加して、吸着水または結晶水と有機アルミニウム化合物とを反応させる方法。
【0155】
（２）ベンゼン、トルエン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の媒体中で、トリアルキルアルミニウム等の有機アルミニウム化合物に、直接水、氷または水蒸気を作用させる方法。
【0156】
（３）デカン、ベンゼン、トルエン等の媒体中で、トリアルキルアルミニウム等の有機アルミニウム化合物に、ジメチルスズオキシド、ジブチルスズオキシド等の有機スズ酸化物を反応させる方法。
【0157】
（４）トリアルキルアルミニウム等の有機アルミニウムと、３級アルコール、ケトン、およびカルボン酸等の炭素－酸素結合を持つ有機化合物とを反応させて生成する化合物を、熱分解反応等の非加水分解的転化をする方法。
【0158】
なお、上記アルミノキサンは、少量の有機金属成分を含有してもよい。また、回収された上記アルミノキサンの溶液から溶媒または未反応有機アルミニウム化合物を蒸留して除去した後、溶媒に再溶解またはアルミノキサンの貧溶媒に懸濁させてもよい。
【0159】
アルミノキサンを調製する際に用いられる有機アルミニウム化合物としては、具体的には、有機アルミニウム化合物（C-1a）として例示したものと同一の有機アルミニウム化合物が挙げられる。これらの中でも、トリアルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウムが好ましく、トリメチルアルミニウムが特に好ましい。
【0160】
その他、有機アルミニウムオキシ化合物（C-2）としては、例えば、修飾メチルアルミノキサンが挙げられる。修飾メチルアルミノキサンとは、トリメチルアルミニウムとトリメチルアルミニウム以外のアルキルアルミニウムとを用いて調製されるアルミノキサンである。このような化合物は、一般にＭＭＡＯと呼ばれている。ＭＭＡＯは、米国特許第４９６０８７８号明細書および米国特許第５０４１５８４号明細書で挙げられている方法で調製することができる。また、東ソー・ファインケム（株）社等からもトリメチルアルミニウムとトリイソブチルアルミニウムとを用いて調製された、Ｒがイソブチル基であるアルミノキサンが、ＭＭＡＯやＴＭＡＯといった名称で商業生産されている。
【0161】
このようなＭＭＡＯは、各種溶媒への溶解性および保存安定性を改良したアルミノキサンであり、具体的には上記のようなベンゼンに対して不溶性または難溶性のものとは違い、脂肪族炭化水素や脂環族炭化水素に溶解するという特徴を持つ。
【0162】
さらに、有機アルミニウムオキシ化合物（C-2）としては、例えば、ホウ素原子を含む有機アルミニウムオキシ化合物や、国際公開第２００５／０６６１９１号、国際公開第２００７／１３１０１０号に例示されているようなハロゲンを含むアルミノキサン、国際公開第２００３／０８２８７９号に例示されているようなイオン性アルミノキサンを挙げることもできる。
有機アルミニウムオキシ化合物（C-2）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
有機アルミニウムオキシ化合物（C-2）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【0163】
〈有機化合物成分（Ｄ）〉
本発明のオレフィン重合用触媒は、さらに有機化合物成分（Ｄ）を含んでいてもよい。
有機化合物成分（Ｄ）は、必要に応じて、重合性能および生成ポリマーの物性を向上させる目的で使用される。有機化合物成分（Ｄ）としては、例えば、アルコール類、フェノール性化合物、カルボン酸、リン化合物、アミド、ポリエーテルおよびスルホン酸塩等が挙げられる。
本発明のオレフィン重合用触媒は、さらに有機化合物成分（Ｄ）を含んでいてもよい。
有機化合物成分（Ｄ）は、必要に応じて、重合性能および生成ポリマーの物性を向上させる目的で使用される。有機化合物成分（Ｄ）としては、例えば、アルコール類、フェノール性化合物、カルボン酸、リン化合物、アミド、ポリエーテルおよびスルホン酸塩等が挙げられる。
【0164】
〈各成分の使用法および添加順序〉
オレフィン重合の際には、各成分の使用法、添加順序は任意に選ばれるが、以下のような方法が例示される。以下では、本発明の化合物（Ａ）、遷移金属錯体（Ｂ）、化合物（Ｃ）を、それぞれ「成分（Ａ）」、「成分（Ｂ）」、「成分（Ｃ）」と記載する。
（１）成分（Ａ）および成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（２）成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
オレフィン重合の際には、各成分の使用法、添加順序は任意に選ばれるが、以下のような方法が例示される。以下では、本発明の化合物（Ａ）、遷移金属錯体（Ｂ）、化合物（Ｃ）を、それぞれ「成分（Ａ）」、「成分（Ｂ）」、「成分（Ｃ）」と記載する。
（１）成分（Ａ）および成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
（２）成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
【0165】
［オレフィン重合体の製造方法］
本発明のオレフィン重合体の製造方法は、上述のオレフィン重合用触媒の存在下でオレフィン（エチレン、炭素数３～２０のα－オレフィンなど）を重合する工程［Ｐ］を有することを特徴としている。ここで「重合」とは、単独重合および共重合の総称である。また「オレフィン重合用触媒の存在下でオレフィンを重合する」とは、上記（１）～（４）の各方法のように任意の方法でオレフィン重合用触媒の各成分を重合器に添加して前記オレフィンを重合する態様を包含する。
本発明のオレフィン重合体の製造方法は、上述のオレフィン重合用触媒の存在下でオレフィン（エチレン、炭素数３～２０のα－オレフィンなど）を重合する工程［Ｐ］を有することを特徴としている。ここで「重合」とは、単独重合および共重合の総称である。また「オレフィン重合用触媒の存在下でオレフィンを重合する」とは、上記（１）～（４）の各方法のように任意の方法でオレフィン重合用触媒の各成分を重合器に添加して前記オレフィンを重合する態様を包含する。
【0166】
本発明では、重合は、溶液重合、懸濁重合等の液相重合法または気相重合法のいずれにおいても実施できる。液相重合法において用いられる不活性炭化水素媒体としては、例えば、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油等の脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン等の脂環族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素が挙げられる。不活性炭化水素媒体は１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、重合に供給されうる液化オレフィン自身を溶媒として用いる、いわゆるバルク重合法を用いることもできる。
【0167】
オレフィン重合用触媒を用いてオレフィンの重合を行うに際して、オレフィン重合用触媒を構成し得る各成分の使用量は以下のとおりである。また、オレフィン重合用触媒において、各成分の含有量を以下のとおりに調節することができる。
【0168】
本発明の化合物（Ａ）（成分（Ａ））は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）中の全遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ａ）／（Ｍ）〕が通常１～１００、好ましくは１～２０となるような量で用いることができる。モル比が前記範囲にあると、成分（Ｂ）と接触するサイトを２つ以上有する成分（Ａ）の割合が低く、成分（Ａ）は、オレフィン重合用触媒を炭化水素媒体中で使用する際に炭化水素媒体との親和性が低いため、触媒の固定化および活性化性能に優れる。
【0169】
成分（Ｂ）は、反応容積１リットル当り、通常１×１０-10～１×１０-2モル、好ましくは１×１０-8～１×１０-3モルとなるような量で用いられる。
【0170】
成分（C-1）は、成分（C-1）と成分（Ｂ）中の全遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（C-1）／Ｍ〕が通常１～５０，０００、好ましくは１０～２０，０００となるような量で用いることができる。
成分（C-2）は、成分（C-2）中のアルミニウム原子と成分（Ｂ）中の全遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔Ａｌ／Ｍ〕が通常１０～５，０００、好ましくは２０～２，０００となるような量で用いることができる。
成分（C-2）は、成分（C-2）中のアルミニウム原子と成分（Ｂ）中の全遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔Ａｌ／Ｍ〕が通常１０～５，０００、好ましくは２０～２，０００となるような量で用いることができる。
【0171】
本発明の製造方法において、重合温度は、通常－５０～＋２００℃、好ましくは０～２００℃、より好ましくは４０～１５０℃であり、重合圧力は、通常常圧～１０ＭＰａゲージ圧、好ましくは常圧～５ＭＰａゲージ圧である。重合反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うことができる。さらに重合を反応条件の異なる二段以上に分けて行うこともできる。得られるオレフィン重合体の分子量は、重合系に水素等を存在させるか、重合温度を変化させるか、または成分（Ｃ）の使用量により調節することができる。
【0172】
特に水素は、触媒の重合活性を向上させる効果や、重合体の分子量を増加または低下させる効果が得られることがあり、好ましい添加物であるといえる。系内に水素を添加する場合、その量はオレフィン１モルあたり０．００００１～１００ＮＬ程度が適当である。系内の水素濃度は、水素の供給量を調整する以外にも、水素を生成または消費する反応を系内で行う方法や、膜を利用して水素を分離する方法、水素を含む一部のガスを系外に放出することによっても調整することができる。
【0173】
本発明の製造方法で得られたオレフィン重合体（たとえば、エチレン単独重合体、エチレン／α－オレフィン共重合体）に対しては、オレフィン重合体を上記方法で合成した後に、必要に応じて公知の触媒失活処理工程、触媒残渣除去工程、乾燥工程等の後処理工程を行ってよい。
【0174】
〈オレフィン〉
本発明の製造方法の一つの態様において、重合反応に供給されるオレフィンとしては、
エチレンおよび炭素数３～２０のα－オレフィンが挙げられる。
本発明の製造方法の一つの態様において、重合反応に供給されるオレフィンとしては、
エチレンおよび炭素数３～２０のα－オレフィンが挙げられる。
【0175】
この態様においては、エチレンを単独重合してもよく、エチレンと炭素数３～２０のα－オレフィンとを共重合してもよく、炭素数３～２０のα－オレフィンを単独重合または共重合してもよい。
【0176】
前記α－オレフィンとしては、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、3-メチル-1-ブテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エイコセン、ビニルシクロヘキサンなどの炭素数３から２０の直鎖状または分岐状のα－オレフィンを例示することができる。α－オレフィンとしては、炭素数３～１０のα－オレフィン、例えば炭素数３から１０の直鎖状または分岐状のα－オレフィンが好ましく、プロピレン、1-ブテン、1-ヘキセンおよび1-オクテンがより好ましく、プロピレンがさらに好ましい。これらのα－オレフィンは１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
【0177】
また、エチレンないし炭素数３～２０のα－オレフィンと共に非共役ポリエンを共重合してもよい。
【実施例0178】
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
＜測定方法＞
［ホウ素含有化合物の同定］
ホウ素含有化合物の構造は、２７０ＭＨｚ 1Ｈ－ＮＭＲ（日本電子製ＧＳＨ－２７０）等を用いて常法に従って測定し、決定した。
＜測定方法＞
［ホウ素含有化合物の同定］
ホウ素含有化合物の構造は、２７０ＭＨｚ 1Ｈ－ＮＭＲ（日本電子製ＧＳＨ－２７０）等を用いて常法に従って測定し、決定した。
【0179】
［ホウ素含有化合物のメチルシクロヘキサンへの溶解度］
２０ｍＬのガラス容器に、ホウ素含有化合物１００μｍｍоｌ、メチルシクロヘキサン１０ｍＬを加え、超音波を３０分照射した。その後、２５℃環境下でろ過を行い、ろ液の溶媒を減圧留去し、残渣重量を測定した。残渣重量をホウ素含有化合物のメチルシクロヘキサン１０ｍＬへの溶解量と見なし、ホウ素含有化合物のメチルシクロヘキサンへの溶解度を算出した。
２０ｍＬのガラス容器に、ホウ素含有化合物１００μｍｍоｌ、メチルシクロヘキサン１０ｍＬを加え、超音波を３０分照射した。その後、２５℃環境下でろ過を行い、ろ液の溶媒を減圧留去し、残渣重量を測定した。残渣重量をホウ素含有化合物のメチルシクロヘキサン１０ｍＬへの溶解量と見なし、ホウ素含有化合物のメチルシクロヘキサンへの溶解度を算出した。
【0180】
［オレフィン重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）］
オレフィン重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求めた。Ｗａｔｅｒｓ社製「Ａｌｌｉａｎｃｅ ＧＰＣ ２０００」ゲル浸透クロマトグラフ（高温サイズ排除クロマトグラフ）により得られる分子量分布曲線から計算したものであり、操作条件は下記の通りである：
オレフィン重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により求めた。Ｗａｔｅｒｓ社製「Ａｌｌｉａｎｃｅ ＧＰＣ ２０００」ゲル浸透クロマトグラフ（高温サイズ排除クロマトグラフ）により得られる分子量分布曲線から計算したものであり、操作条件は下記の通りである：
【0181】
操作条件
測定装置；ゲル浸透クロマトグラフ ａｌｌｉａｎｃｅＧＰＣ２０００型（Ｗａｔｅｒｓ社）
解析ソフト；クロマトグラフィデータシステム Ｅｍｐｏｗｅｒ（商標、Ｗａｔｅｒｓ社）
カラム；ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨ６－ＨＴ×２ ＋ ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨ６－ＨＴ×２（内径７．５ｍｍ×長さ３０ｃｍ，東ソー社）
移動相；ｏ－ジクロロベンゼン〔ОＤＣＢ〕（富士フイルム和光純薬 特級）
検出器；示差屈折計（装置内蔵）
カラム温度；１４０℃
流速；１．０ｍＬ／分
注入量；４００μＬ
サンプリング時間間隔；１秒
試料濃度；０．１５％（ｗ／ｖ）
分子量較正 単分散ポリスチレン（東ソー社）／分子量４９５から分子量２０６０万
測定装置；ゲル浸透クロマトグラフ ａｌｌｉａｎｃｅＧＰＣ２０００型（Ｗａｔｅｒｓ社）
解析ソフト；クロマトグラフィデータシステム Ｅｍｐｏｗｅｒ（商標、Ｗａｔｅｒｓ社）
カラム；ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨ６－ＨＴ×２ ＋ ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨ６－ＨＴ×２（内径７．５ｍｍ×長さ３０ｃｍ，東ソー社）
移動相；ｏ－ジクロロベンゼン〔ОＤＣＢ〕（富士フイルム和光純薬 特級）
検出器；示差屈折計（装置内蔵）
カラム温度；１４０℃
流速；１．０ｍＬ／分
注入量；４００μＬ
サンプリング時間間隔；１秒
試料濃度；０．１５％（ｗ／ｖ）
分子量較正 単分散ポリスチレン（東ソー社）／分子量４９５から分子量２０６０万
【0182】
＜１－オクテン含有率＞
エチレン／１－オクテン共重合体における１－オクテン含有率は、ＦＴ－ＩＲ（日本分光製ＦＴ－ＩＲ４１０型赤外分光光度計）により測定した。
エチレン／１－オクテン共重合体における１－オクテン含有率は、ＦＴ－ＩＲ（日本分光製ＦＴ－ＩＲ４１０型赤外分光光度計）により測定した。
【0183】
測定方法
ＦＴ－ＩＲは、実施例等で得られた重合体を１３５℃に加熱し、ホットプレスにて溶解延伸後、室温下加圧冷却することで得られたフィルムを測定サンプルとして用い、検量線を利用して１－オクテン構造単位含有率を測定した。検量線作成用のエチレン／１－オクテン共重合体のサンプルの１－オクテン構造単位含有率も、上記条件と同条件の13Ｃ－ＮＭＲ測定によって特定した。
ＦＴ－ＩＲは、実施例等で得られた重合体を１３５℃に加熱し、ホットプレスにて溶解延伸後、室温下加圧冷却することで得られたフィルムを測定サンプルとして用い、検量線を利用して１－オクテン構造単位含有率を測定した。検量線作成用のエチレン／１－オクテン共重合体のサンプルの１－オクテン構造単位含有率も、上記条件と同条件の13Ｃ－ＮＭＲ測定によって特定した。
【0184】
＜ホウ素含有化合物（Ａ）の合成＞
［実施例Ａ１］
（ホウ素含有化合物（Ａ－１）の合成）
Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミン、１－ブロモヘキサン、ジメチルスルホキシド（以下「ＤＭＳＯ」と記載する。）、ジエチルエーテル、ジクロロメタンは富士フイルム和光純薬株式会社より、１Ｍの塩化水素のジエチルエーテル溶液、リチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックスとして、東京化成工業株式会社より購入したものをそのまま使用した。また、水酸化カリウムはＭｅｒｃｋ社より購入したものを嫌気下で砕き、粉末状態にして使用した。
［実施例Ａ１］
（ホウ素含有化合物（Ａ－１）の合成）
Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミン、１－ブロモヘキサン、ジメチルスルホキシド（以下「ＤＭＳＯ」と記載する。）、ジエチルエーテル、ジクロロメタンは富士フイルム和光純薬株式会社より、１Ｍの塩化水素のジエチルエーテル溶液、リチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックスとして、東京化成工業株式会社より購入したものをそのまま使用した。また、水酸化カリウムはＭｅｒｃｋ社より購入したものを嫌気下で砕き、粉末状態にして使用した。
【0185】
充分に乾燥、窒素置換した３０ｍＬの反応器に、水酸化カリウム粉末２．０ｇ、１－ブロモヘキサン３．８ｍＬ、ＤＭＳＯ５．０ｍＬを加え攪拌した。その後、Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミン３．０ｇをＤＭＳＯ１０ｍＬに溶解させ、その溶液を滴下し、９０℃で一晩撹拌を続けた。得られた懸濁液を水１００ｍＬでクエンチし、ジクロロメタン１００ｍＬで２回に分けて抽出を行い、有機層を水１００ｍＬで２回、Ｂｒｉｎｅ１００ｍＬで１回洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製し、下記式（Ａ－１’）で示される化合物２．８ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８７（３Ｈ，ｓ），１．３０（６Ｈ，ｍ），１．６６（２Ｈ，ｍ），３．６８（２Ｈ，ｔ），６．９０－７．２９（１０Ｈ，ｍ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８７（３Ｈ，ｓ），１．３０（６Ｈ，ｍ），１．６６（２Ｈ，ｍ），３．６８（２Ｈ，ｔ），６．９０－７．２９（１０Ｈ，ｍ） ｐｐｍ
【0186】
【化17】
【0187】
続いて、十分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、上記式（Ａ－１’）で示される化合物２．０ｇ、ジエチルエーテル１５ｍＬを加え撹拌した。その後、氷浴下で１Ｍの塩化水素のジエチルエーテル溶液１１ｍＬを滴下したのち、室温に戻し２時間撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物を濾過により回収し、減圧乾燥することにより、下記式（Ａ－１’’）で示される化合物０．４ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ０．８５（３Ｈ，ｓ），１．２６（６Ｈ，ｍ），１．８４（２Ｈ，ｍ），３．７７（２Ｈ，ｍ），７．２７（４Ｈ，ｔ），７．４２（４Ｈ，ｔ），７．５６－７．５９（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ ０．８５（３Ｈ，ｓ），１．２６（６Ｈ，ｍ），１．８４（２Ｈ，ｍ），３．７７（２Ｈ，ｍ），７．２７（４Ｈ，ｔ），７．４２（４Ｈ，ｔ），７．５６－７．５９（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
【0188】
【化18】
【0189】
充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、リチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックス１．４ｇ、ジクロロメタン１０ｍＬを加え攪拌した。その後、上記式（Ａ－１’’）で示される化合物０．４ｇを加え、室温で２時間撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物をガラスフィルター上のセライトを通すことで除去し、溶媒を留去した。残渣をヘキサンと水を用いて超音波処理により洗浄した後、濾過と減圧乾燥をすることにより、下記式（Ａ－１）で示されるホウ素含有化合物０．５ｇ得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８３（３Ｈ，ｓ），１．２３（４Ｈ，ｍ），１．３６（２Ｈ，ｍ），１．６１（２Ｈ，ｍ），３．９９（２Ｈ，ｍ），７．２６－７．３４（４Ｈ，ｍ），７．４２（４Ｈ，ｔ），７．５３－７．６１（６Ｈ，ｍ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８３（３Ｈ，ｓ），１．２３（４Ｈ，ｍ），１．３６（２Ｈ，ｍ），１．６１（２Ｈ，ｍ），３．９９（２Ｈ，ｍ），７．２６－７．３４（４Ｈ，ｍ），７．４２（４Ｈ，ｔ），７．５３－７．６１（６Ｈ，ｍ） ｐｐｍ
【0190】
【化19】
【0191】
［実施例Ａ２］
（ホウ素含有化合物（Ａ－２）の合成）
１－ブロモオクタデカンは、富士フイルム和光純薬株式会社より購入したものをそのまま使用した。
（ホウ素含有化合物（Ａ－２）の合成）
１－ブロモオクタデカンは、富士フイルム和光純薬株式会社より購入したものをそのまま使用した。
【0192】
充分に乾燥、窒素置換した１００ｍＬの反応器に、水酸化カリウム粉末１．３ｇ、１－ブロモオクタデカン４．０ｍＬ、ＤＭＳＯ１５ｍＬを加え攪拌した。その後、Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミン２．０ｇをＤＭＳＯ５ｍＬに溶解させ、その溶液を滴下し、５０℃で一晩撹拌を続けた。得られた懸濁液を水１００ｍＬでクエンチし、ジクロロメタン５０ｍＬで４回に分けて抽出を行い、有機層をＢｒｉｎｅ１００ｍＬで３回、水１００ｍＬで１回洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製し、下記式（Ａ－２’）で示される化合物３．５ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８８（３Ｈ，ｓ），１．２６（３０Ｈ，ｍ），１．６５（２Ｈ，ｍ），３．６７（２Ｈ，ｔ），６．９０－６．９９（４Ｈ，ｍ），７．２２－７．２８（６Ｈ，ｍ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８８（３Ｈ，ｓ），１．２６（３０Ｈ，ｍ），１．６５（２Ｈ，ｍ），３．６７（２Ｈ，ｔ），６．９０－６．９９（４Ｈ，ｍ），７．２２－７．２８（６Ｈ，ｍ） ｐｐｍ
【0193】
【化20】
【0194】
続いて、充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、上記式（Ａ－２’）で示される化合物２．０ｇ、ジエチルエーテル１０ｍＬを加え攪拌した。その後、氷浴下で１Ｍの塩化水素のジエチルエーテル溶液１２ｍＬを滴下したのち、室温に戻し１時間撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物を濾過により回収し、減圧乾燥することにより、下記式（Ａ－２’’）で示される化合物１．６ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８８（３Ｈ，ｓ），１．２５（３０Ｈ，ｍ），１．７１（２Ｈ，ｍ），３．６７（２Ｈ，ｔ），７．０４（２Ｈ，ｔ），７．１５－７．１８（４Ｈ，ｄ），７．２７－７．３３（４Ｈ，ｔ），ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８８（３Ｈ，ｓ），１．２５（３０Ｈ，ｍ），１．７１（２Ｈ，ｍ），３．６７（２Ｈ，ｔ），７．０４（２Ｈ，ｔ），７．１５－７．１８（４Ｈ，ｄ），７．２７－７．３３（４Ｈ，ｔ），ｐｐｍ
【0195】
【化21】
【0196】
続いて、充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、リチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックス１．１ｇ、ジクロロメタン１０ｍＬを加え攪拌した。その後、上記式（Ａ－２’’）で示される化合物０．５ｇをジクロロメタン５ｍＬに溶解させたのちに滴下し、室温で終夜撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物をガラスフィルター上のセライトを通すことで除去し、溶媒を留去した。この残渣をジクロロメタン/ヘキサン（＝ １/１）溶液で洗浄することで、未反応のリチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックスが沈殿するので、沈殿物を濾過により除去した。濾液を乾固した後、ヘキサンを用いて超音波処理しながら洗浄を行い、デカンテーションすることで、沈殿した白色固体を回収した。これを減圧乾燥することにより、下記式（Ａ－２）で示されるホウ素含有化合物０．７ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８７（３Ｈ，ｍ），１．２４（３０Ｈ，ｍ），１．６１（２Ｈ，ｍ），４．００（２Ｈ，ｔ），７．３０－７．３３（４Ｈ，ｍ），７．５７－７．５９（６Ｈ，ｍ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．８７（３Ｈ，ｍ），１．２４（３０Ｈ，ｍ），１．６１（２Ｈ，ｍ），４．００（２Ｈ，ｔ），７．３０－７．３３（４Ｈ，ｍ），７．５７－７．５９（６Ｈ，ｍ） ｐｐｍ
【0197】
【化22】
【0198】
［実施例Ａ３］
（ホウ素含有化合物（Ａ－３）の合成）
ビス（４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェニル）アミンはＦｌｕｏｒｏｃｈｅｍ社より購入したものをそのまま使用した。
（ホウ素含有化合物（Ａ－３）の合成）
ビス（４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェニル）アミンはＦｌｕｏｒｏｃｈｅｍ社より購入したものをそのまま使用した。
【0199】
充分に乾燥、窒素置換した１００ｍＬの反応器に、水酸化カリウム粉末０．５ｇ、１－ブロモオクタデカン１．７ｇ、ＤＭＳＯ１０ｍＬを加え攪拌した。その後、ビス（４－ｔｅｒｔ－オクチル）ジフェニルアミン０．７ｇをＤＭＳＯ５ｍＬに溶解させ、その溶液を滴下し、５０℃で７時間撹拌を続けた。得られた懸濁液を水１００ｍＬでクエンチし、ジクロロメタン５０ｍＬで２回に分けて抽出を行い、有機層をＢｒｉｎｅ１００ｍＬで２回、水１００ ｍＬで２回洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製し、下記式（Ａ－３’）で示される化合物１．４ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．７４（１８Ｈ，ｓ），０．８８（３Ｈ，ｄ），１．２６（３２Ｈ，ｍ），１．３５（１２Ｈ，ｓ），１．６９（４Ｈ，ｓ），３．６３（２Ｈ，ｔ），６．８６－６．８９（４Ｈ，ｄ），７．２０－７．２３（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．７４（１８Ｈ，ｓ），０．８８（３Ｈ，ｄ），１．２６（３２Ｈ，ｍ），１．３５（１２Ｈ，ｓ），１．６９（４Ｈ，ｓ），３．６３（２Ｈ，ｔ），６．８６－６．８９（４Ｈ，ｄ），７．２０－７．２３（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
【0200】
【化23】
【0201】
続いて、充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、上記式（Ａ－３’）で示される化合物１．４ｇ、ジエチルエーテル２０ｍＬを加え攪拌した。その後、氷浴下で１Ｍの塩化水素のジエチルエーテル溶液１２ｍＬを滴下したのち、室温に戻し２時間撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物を濾過により回収し、減圧乾燥することにより、下記式（Ａ－３’’）で示される化合物１．４ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６７（１８Ｈ，ｓ），０．８７（３Ｈ，ｄ），１．２０（３２Ｈ，ｍ），１．３４（１２Ｈ，ｓ），１．７１（４Ｈ，ｓ），３．７４（２Ｈ，ｍ），７．４２－７．４５（４Ｈ，ｄ），７．６５－７．６８（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６７（１８Ｈ，ｓ），０．８７（３Ｈ，ｄ），１．２０（３２Ｈ，ｍ），１．３４（１２Ｈ，ｓ），１．７１（４Ｈ，ｓ），３．７４（２Ｈ，ｍ），７．４２－７．４５（４Ｈ，ｄ），７．６５－７．６８（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
【0202】
【化24】
【0203】
充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、リチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックス１．０ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加え攪拌した。その後、上記式（Ａ－３’’）で示される化合物１．４ｇを加え、室温で一晩撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物をガラスフィルター上のセライトを通すことで除去し、溶媒を留去した。この残渣にヘキサンで超音波処理をしながら洗浄および上澄みのデカンテーションを３回繰り返すことで、未反応の塩酸塩を除去した。続いてこの上澄み液を乾固し、ジクロロメタン/ヘキサン＝１/４で再沈殿を行い、濾過することで、未反応のリチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックスを除去した。この濾液を乾固し、下記式（Ａ－３）で示されるホウ素含有化合物１．０ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６７（１８Ｈ，ｓ），０．８８（３Ｈ，ｄ），１．２５（３２Ｈ，ｍ），１．３７（１２Ｈ，ｓ），１．７４（４Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｔ），７．１５－７．１８（４Ｈ，ｄ），７．５３－７．５６（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６７（１８Ｈ，ｓ），０．８８（３Ｈ，ｄ），１．２５（３２Ｈ，ｍ），１．３７（１２Ｈ，ｓ），１．７４（４Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｔ），７．１５－７．１８（４Ｈ，ｄ），７．５３－７．５６（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
【0204】
【化25】
【0205】
［実施例Ａ４］
（ホウ素含有化合物（Ａ－４）の合成）
ビス（４－ｔｅｒｔ－オクチル）ジフェニルアミンは、東京化成工業株式会社より購入したものをそのまま使用した。
（ホウ素含有化合物（Ａ－４）の合成）
ビス（４－ｔｅｒｔ－オクチル）ジフェニルアミンは、東京化成工業株式会社より購入したものをそのまま使用した。
【0206】
充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチル）ジフェニルアミン４．７ｇ、ジエチルエーテル１０ｍＬを加え攪拌した。その後、氷浴下で１Ｍの塩化水素のジエチルエーテル溶液２５ｍＬを滴下したのち、室温に戻し２時間撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物を濾過により回収し、減圧乾燥することにより、下記式（Ａ－４’）で示される化合物４．８ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２７（１８Ｈ，ｓ），７．３６－７．４０（４Ｈ，ｄ），７.５０－７．５３（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２７（１８Ｈ，ｓ），７．３６－７．４０（４Ｈ，ｄ），７.５０－７．５３（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
【0207】
【化26】
【0208】
続いて、充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、リチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックス０．９ｇ、ジクロロメタン１５ｍＬを加え攪拌した。その後、上記式（Ａ－４’）で示される化合物０．３ｇを加え、室温で終夜撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物をガラスフィルター上のセライトを通すことで除去し、溶媒を留去した。この残渣にヘキサンで超音波処理しながら洗浄を行い、上澄み液をデカンテーションすることで、沈殿した白色固体を回収した。これを減圧乾燥することにより、下記式（Ａ－４）で示されるホウ素含有化合物０．２ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２７（１８Ｈ，ｓ），７．１６－７．１９（４Ｈ，ｄ），７.５８－７．６１（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２７（１８Ｈ，ｓ），７．１６－７．１９（４Ｈ，ｄ），７.５８－７．６１（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
【0209】
【化27】
【0210】
［実施例Ａ５］
（ホウ素含有化合物（Ａ－５）の合成）
充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、ビス（４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェニル）アミン０．３ｇ、ジエチルエーテル１０ｍＬを加え攪拌した。その後、氷浴下で１Ｍの塩化水素のジエチルエーテル溶液１．２ｍＬを滴下したのち、室温に戻し２時間撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物を濾過により回収し、減圧乾燥することにより、下記式（Ａ－５’）で示される化合物０．３ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．７１（１８Ｈ，ｓ），１．３３（１２Ｈ，ｓ），１．７１（２Ｈ，ｓ），７．３３－７．３６（８Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
（ホウ素含有化合物（Ａ－５）の合成）
充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、ビス（４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェニル）アミン０．３ｇ、ジエチルエーテル１０ｍＬを加え攪拌した。その後、氷浴下で１Ｍの塩化水素のジエチルエーテル溶液１．２ｍＬを滴下したのち、室温に戻し２時間撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物を濾過により回収し、減圧乾燥することにより、下記式（Ａ－５’）で示される化合物０．３ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．７１（１８Ｈ，ｓ），１．３３（１２Ｈ，ｓ），１．７１（２Ｈ，ｓ），７．３３－７．３６（８Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
【0211】
【化28】
【0212】
続いて、充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、リチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックス０．７ｇ、ジクロロメタン１５ｍＬを加え攪拌した。その後、上記式（Ａ－５’）で示される化合物塩酸塩０．３ｇを加え、室温で２時間撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物をガラスフィルター上のセライトを通すことで除去し、溶媒を留去した。この残渣にジクロロメタン/ヘキサン＝１/２で再沈殿を行い、濾過することで、未反応のリチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックスを除去した。この操作を３回繰り返し、濾液を乾固することにより、下記式（Ａ－５）で示されるホウ素含有化合物０．８ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６９（１８Ｈ，ｓ），１．３８（１２Ｈ，ｓ），１．７６（４Ｈ，ｓ），７．１２－７．１５（４Ｈ，ｄ），７．５５－７．５８（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６９（１８Ｈ，ｓ），１．３８（１２Ｈ，ｓ），１．７６（４Ｈ，ｓ），７．１２－７．１５（４Ｈ，ｄ），７．５５－７．５８（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
【0213】
【化29】
【0214】
［比較例ａ６］
（ホウ素含有化合物（ａ－６）の合成）
充分に乾燥、窒素置換した１００ｍＬの反応器に、水酸化カリウム粉末０．５ｇ、ヨードメタン１．４ｇ、ＤＭＳＯ１０ｍＬを加え攪拌した。その後、ビス（４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェニル）アミン０．７ｇをＤＭＳＯ５ｍＬに溶解させ、その溶液を滴下し、５０℃で７時間撹拌を続けた。得られた懸濁液を水１００ｍＬでクエンチし、ジクロロメタン５０ｍＬで２回に分けて抽出を行い、有機層をＢｒｉｎｅ１００ｍＬで２回、水１００ｍＬで２回洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製し、下記式（ａ－６’）で示される化合物０．６ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．７５（１８Ｈ，ｓ），１．３６（１２Ｈ，ｓ），１．６９（４Ｈ，ｓ），３．２８（３Ｈ，ｓ），６．８８－６．９１（４Ｈ，ｄ），７．２２－７．２５（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
（ホウ素含有化合物（ａ－６）の合成）
充分に乾燥、窒素置換した１００ｍＬの反応器に、水酸化カリウム粉末０．５ｇ、ヨードメタン１．４ｇ、ＤＭＳＯ１０ｍＬを加え攪拌した。その後、ビス（４－（２，４，４－トリメチルペンタン－２－イル）フェニル）アミン０．７ｇをＤＭＳＯ５ｍＬに溶解させ、その溶液を滴下し、５０℃で７時間撹拌を続けた。得られた懸濁液を水１００ｍＬでクエンチし、ジクロロメタン５０ｍＬで２回に分けて抽出を行い、有機層をＢｒｉｎｅ１００ｍＬで２回、水１００ｍＬで２回洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン）で精製し、下記式（ａ－６’）で示される化合物０．６ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．７５（１８Ｈ，ｓ），１．３６（１２Ｈ，ｓ），１．６９（４Ｈ，ｓ），３．２８（３Ｈ，ｓ），６．８８－６．９１（４Ｈ，ｄ），７．２２－７．２５（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
【0215】
【化30】
【0216】
続いて、充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、上記式（ａ－６’）で示される化合物０．６ｇ、ジエチルエーテル２０ｍＬを加え攪拌した。その後、氷浴下で１Ｍの塩化水素のジエチルエーテル溶液１２ｍＬを滴下したのち、室温に戻し２時間撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物を濾過により回収し、減圧乾燥することにより、下記式（ａ－６’’）で示される化合物０．６ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６７（１８Ｈ，ｓ），１．３５（１２Ｈ，ｓ），１．７１（４Ｈ，ｓ），３．６３（３Ｈ，ｓ），７．４２－７．４５（４Ｈ，ｄ），７．６５－７．６８（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６７（１８Ｈ，ｓ），１．３５（１２Ｈ，ｓ），１．７１（４Ｈ，ｓ），３．６３（３Ｈ，ｓ），７．４２－７．４５（４Ｈ，ｄ），７．６５－７．６８（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
【0217】
【化31】
【0218】
充分に乾燥、窒素置換した５０ｍＬの反応器に、リチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックス１．０ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加え攪拌した。その後、上記式（ａ－６’’）で示される化合物０．６ｇを加え、室温で一晩撹拌を続けた。得られた懸濁液中の不溶物をガラスフィルター上のセライトを通すことで除去し、溶媒を留去した。この残渣にヘキサンで超音波処理をしながら洗浄・上澄みのデカンテーションを３回繰り返すことで、未反応の塩酸塩を除去した。続いてこの上澄み液を乾固し、ジクロロメタン/ヘキサン＝１/４で再沈殿を行い、濾過することで、未反応のリチウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラートエチルエーテルコンプレックスを除去した。この濾液を乾固し、下記式（ａ－６）で示されるホウ素含有化合物０．４ｇを得た。
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６７（１８Ｈ，ｓ），１．３６（１２Ｈ，ｓ），１．７４（４Ｈ，ｓ），３．６５（３Ｈ，ｓ），７．１５－７．１８（４Ｈ，ｄ），７．５３－７．５６（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
1Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．６７（１８Ｈ，ｓ），１．３６（１２Ｈ，ｓ），１．７４（４Ｈ，ｓ），３．６５（３Ｈ，ｓ），７．１５－７．１８（４Ｈ，ｄ），７．５３－７．５６（４Ｈ，ｄ） ｐｐｍ
【0219】
【化32】
（ホウ素含有化合物（ａ－７）の合成）
ホウ素含有化合物（ａ－７）として、東京化成工業株式会社より購入したＮ，Ｎ－ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートをそのまま使用した。
【0220】
［比較例Ａ８］
（ホウ素含有化合物（ａ－８）の合成）
ホウ素含有化合物（ａ－８）として、ジ硬化牛脂アルキルメチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを、特開２０１９－５９７９５号公報に記載の方法で合成した。
（ホウ素含有化合物（ａ－８）の合成）
ホウ素含有化合物（ａ－８）として、ジ硬化牛脂アルキルメチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを、特開２０１９－５９７９５号公報に記載の方法で合成した。
【0221】
＜遷移金属化合物（Ｂ）＞
遷移金属化合物（Ｂ）として、従来公知の方法で製造した下記式（Ｂ－１）～（Ｂ－２）で表される遷移金属化合物を使用した。
遷移金属化合物（Ｂ）として、従来公知の方法で製造した下記式（Ｂ－１）～（Ｂ－２）で表される遷移金属化合物を使用した。
【0222】
【化33】
【0223】
＜ホウ素含有化合物（Ａ）を用いたエチレン重合＞
［実施例Ｘ１］
充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのガラス製反応器に、トルエン２５０ｍＬを装入し、エチレン１００リットル／ｈｒで液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウムをアルミニウム原子換算で０．２０ｍｍｏｌ、引き続き、上記遷移金属化合物（Ｂ－１）を０．０１５μｍｏｌ、実施例Ａ１で得られたホウ素含有化合物（Ａ－１）０．０６０μｍｏｌを加え重合を開始した。エチレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、５０℃で５分間重合を行った後、少量のメタノールを添加することにより重合を停止した。重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール溶媒中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃で１０時間真空乾燥し、オレフィン重合体１．６２ｇを得た。
［実施例Ｘ１］
充分に窒素置換した内容積５００ｍＬのガラス製反応器に、トルエン２５０ｍＬを装入し、エチレン１００リットル／ｈｒで液相及び気相を飽和させた。その後、トリイソブチルアルミニウムをアルミニウム原子換算で０．２０ｍｍｏｌ、引き続き、上記遷移金属化合物（Ｂ－１）を０．０１５μｍｏｌ、実施例Ａ１で得られたホウ素含有化合物（Ａ－１）０．０６０μｍｏｌを加え重合を開始した。エチレンを１００リットル／ｈｒで連続的に供給し、常圧下、５０℃で５分間重合を行った後、少量のメタノールを添加することにより重合を停止した。重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール溶媒中に加えてポリマーを析出させた。メタノールで洗浄後、８０℃で１０時間真空乾燥し、オレフィン重合体１．６２ｇを得た。
【0224】
［実施例Ｘ２～Ｘ５］
ホウ素含有化合物（Ａ－１）の代わりに、実施例Ａ２～Ａ５で得られたホウ素含有化合物（Ａ－２）～（Ａ－５）を用いたこと以外は、実施例Ｘ１と同様の方法で重合を行い、オレフィン重合体を得た。得られた重合体の重量を表１に示す。
ホウ素含有化合物（Ａ－１）の代わりに、実施例Ａ２～Ａ５で得られたホウ素含有化合物（Ａ－２）～（Ａ－５）を用いたこと以外は、実施例Ｘ１と同様の方法で重合を行い、オレフィン重合体を得た。得られた重合体の重量を表１に示す。
【0225】
［比較例Ｘ６～Ｘ８］
ホウ素含有化合物（Ａ－１）の代わりに、比較例Ａ６～Ａ８で得られたホウ素含有化合物（ａ－６）～（ａ－８）を用いたこと以外は、実施例Ｘ１と同様の方法で重合を行い、オレフィン重合体を得た。得られた重合体の重量を表１に示す。
ホウ素含有化合物（Ａ－１）の代わりに、比較例Ａ６～Ａ８で得られたホウ素含有化合物（ａ－６）～（ａ－８）を用いたこと以外は、実施例Ｘ１と同様の方法で重合を行い、オレフィン重合体を得た。得られた重合体の重量を表１に示す。
【0226】
実施例Ｘ１～Ｘ５および比較例Ｘ６～Ｘ８の評価結果等を表１に示す。
【0227】
【表1】
【0228】
本発明のホウ素含有化合物（Ａ－１）～（Ａ－５）は、比較例Ｘ７のホウ素含有化合物（ａ－７）同等以上の重合活性を示しながら、脂肪族炭化水素であるメチルシクロヘキサンに対する高い溶解度を示した。
【0229】
前記一般式（Ａ）におけるＲ1がアリール基以外の炭化水素基の場合には、炭化水素基がより長くなるほどメチルシクロヘキサンに対する溶解度が顕著に向上した。
また、前記一般式（Ａ）におけるＲ1が水素の場合には、Ｒ1がアルキル基の場合と比べ重合活性が向上した。
また、前記一般式（Ａ）におけるＲ1が水素の場合には、Ｒ1がアルキル基の場合と比べ重合活性が向上した。
【0230】
＜ホウ素含有化合物（Ａ）を用いたエチレン／１－オクテン共重合＞
［実施例Ｘ９］
充分に窒素置換した内容積１リットルのＳＵＳ製オートクレーブに、窒素雰囲気下、ヘプタン４７０ｍＬ、１－オクテン３０ｍＬ、トリイソブチルアルミニウム０．３０ｍｍｏｌを添加した後、エチレンを流通させ反応器内をエチレンで飽和させた。次に、撹拌しながらエチレンにて８０℃、０．８ＭＰａＧに昇温昇圧し、上記遷移金属化合物（Ｂ－２）を０．０５０μｍｏｌ、続いて実施例Ａ３で得られたホウ素含有化合物（Ａ－３）０．５０μｍｏｌを挿入し、１０分間重合を行い、少量のメタノールを添加することにより重合を停止した。重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール／アセトン＝（１／３）混合溶媒中に加えてポリマーを析出させた。同溶媒で洗浄後、８０℃で１０時間真空乾燥し、オレフィン重合体５.４２ｇを得た。得られた重合体のＭｗは６，８４０，０００、１－オクテン含有率は１９．４ｍоｌ％であった。
［実施例Ｘ９］
充分に窒素置換した内容積１リットルのＳＵＳ製オートクレーブに、窒素雰囲気下、ヘプタン４７０ｍＬ、１－オクテン３０ｍＬ、トリイソブチルアルミニウム０．３０ｍｍｏｌを添加した後、エチレンを流通させ反応器内をエチレンで飽和させた。次に、撹拌しながらエチレンにて８０℃、０．８ＭＰａＧに昇温昇圧し、上記遷移金属化合物（Ｂ－２）を０．０５０μｍｏｌ、続いて実施例Ａ３で得られたホウ素含有化合物（Ａ－３）０．５０μｍｏｌを挿入し、１０分間重合を行い、少量のメタノールを添加することにより重合を停止した。重合終了後、反応物を少量の塩酸を含む１リットルのメタノール／アセトン＝（１／３）混合溶媒中に加えてポリマーを析出させた。同溶媒で洗浄後、８０℃で１０時間真空乾燥し、オレフィン重合体５.４２ｇを得た。得られた重合体のＭｗは６，８４０，０００、１－オクテン含有率は１９．４ｍоｌ％であった。
【0231】
［実施例Ｘ１０］
ホウ素含有化合物（Ａ－３）の代わりに、実施例Ａ５で得られたホウ素含有化合物（Ａ５）を用いたこと以外は、実施例Ｘ９と同様の方法で重合を行い、オレフィン重合体を得た。得られた重合体の重量を表２に示す。
ホウ素含有化合物（Ａ－３）の代わりに、実施例Ａ５で得られたホウ素含有化合物（Ａ５）を用いたこと以外は、実施例Ｘ９と同様の方法で重合を行い、オレフィン重合体を得た。得られた重合体の重量を表２に示す。
【0232】
［比較例Ｘ１１］
ホウ素含有化合物（Ａ－３）の代わりに、比較例Ａ８で得られたホウ素含有化合物（ａ－８）を用いたこと以外は、実施例Ｘ９と同様の方法で重合を行い、オレフィン重合体を得た。得られた重合体の重量を表２に示す。
ホウ素含有化合物（Ａ－３）の代わりに、比較例Ａ８で得られたホウ素含有化合物（ａ－８）を用いたこと以外は、実施例Ｘ９と同様の方法で重合を行い、オレフィン重合体を得た。得られた重合体の重量を表２に示す。
【0233】
実施例Ｘ９～Ｘ１０および比較例Ｘ１１の評価結果等を表２に示す。
【0234】
【表2】