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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023072465
(43)【公開日】2023-05-24
(54)【発明の名称】除菌システム
(51)【国際特許分類】
A61L 2/18 20060101AFI20230517BHJP
A61L 2/20 20060101ALI20230517BHJP
A61L 2/025 20060101ALI20230517BHJP
E03C 1/126 20060101ALI20230517BHJP
E03C 1/30 20060101ALI20230517BHJP
E03C 1/28 20060101ALI20230517BHJP
【ＦＩ】
A61L2/18
A61L2/20
A61L2/025
A61L2/18 100
A61L2/20 100
E03C1/126
E03C1/30
E03C1/28 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021185039
(22)【出願日】2021-11-12
(71)【出願人】
【識別番号】000010087
【氏名又は名称】ＴＯＴＯ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100094569
【弁理士】
【氏名又は名称】田中 伸一郎
(74)【代理人】
【識別番号】100103610
【弁理士】
【氏名又は名称】▲吉▼田 和彦
(74)【代理人】
【識別番号】100109070
【弁理士】
【氏名又は名称】須田 洋之
(74)【代理人】
【識別番号】100088694
【弁理士】
【氏名又は名称】弟子丸 健
(74)【代理人】
【識別番号】100098475
【弁理士】
【氏名又は名称】倉澤 伊知郎
(74)【代理人】
【識別番号】100130937
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 泰史
(74)【代理人】
【識別番号】100144451
【弁理士】
【氏名又は名称】鈴木 博子
(74)【代理人】
【識別番号】100159846
【弁理士】
【氏名又は名称】藤木 尚
(72)【発明者】
【氏名】岩端 智大
(72)【発明者】
【氏名】浦田 宗幸
(72)【発明者】
【氏名】音羽 勇哉
【テーマコード（参考）】
2D061
4C058
【Ｆターム（参考）】
2D061AA02
2D061AB06
2D061AB10
2D061AC05
2D061AE10
2D061DA01
2D061DD03
2D061DE30
4C058AA07
4C058BB04
4C058BB06
4C058BB07
4C058CC07
4C058DD07
4C058DD13
4C058JJ07
4C058JJ14
4C058JJ16
4C058JJ24
4C058JJ28
(57)【要約】
【課題】封水形成部の封水水位付近の内壁の汚れを超音波により落とした後で、除菌水又は除菌ガスを、洗浄後の内壁に供給でき、内壁における菌やカビの増殖を抑制できる除菌システムを提供する。
【解決手段】本発明の除菌システム２０は、封水形成部１４と、封水形成部内に流入する水により、封水形成部内の水位が第１水位から第１水位より高い第２水位Ｗ２まで上昇されやすくなるように形成されている水位上昇部２６と、超音波発振器６４と、除菌水又は除菌ガスを封水形成部内の水位高さの内壁１４ｅまで供給する除菌装置２２と、制御部２９と、を備え、制御部２９は、第１水位よりも水位が上昇している状態の少なくとも一部の期間において超音波照射器による超音波の照射を行わせると共に、第２水位に向かう水位上昇が少なくとも終わってから除菌装置２２による除菌水又は除菌ガスの供給を停止させる。
【選択図】図１１
【解決手段】本発明の除菌システム２０は、封水形成部１４と、封水形成部内に流入する水により、封水形成部内の水位が第１水位から第１水位より高い第２水位Ｗ２まで上昇されやすくなるように形成されている水位上昇部２６と、超音波発振器６４と、除菌水又は除菌ガスを封水形成部内の水位高さの内壁１４ｅまで供給する除菌装置２２と、制御部２９と、を備え、制御部２９は、第１水位よりも水位が上昇している状態の少なくとも一部の期間において超音波照射器による超音波の照射を行わせると共に、第２水位に向かう水位上昇が少なくとも終わってから除菌装置２２による除菌水又は除菌ガスの供給を停止させる。
【選択図】図１１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
浴室の洗い場床の下流側に設けられる封水形成部内を除菌する除菌システムであって、
第１水位で封水水位を形成する上記封水形成部と、
上記封水形成部内に流入する水により、上記封水形成部内の水位が上記第１水位から上記第１水位より高い第２水位まで上昇されやすくなるように形成されている水位上昇部と、
上記封水形成部内の水に超音波を照射する超音波発振器と、
除菌水又は除菌ガスを上記封水形成部内の水位高さの内壁まで供給する除菌装置と、
上記超音波発振器及び上記除菌装置を制御する制御部と、を備え、
上記制御部は、上記第１水位よりも水位が上昇している状態の少なくとも一部の期間において上記超音波発振器による超音波の照射を行わせると共に、上記第２水位に向かう水位上昇が少なくとも終わってから上記除菌装置による除菌水又は除菌ガスの供給を停止させる、除菌システム。
第１水位で封水水位を形成する上記封水形成部と、
上記封水形成部内に流入する水により、上記封水形成部内の水位が上記第１水位から上記第１水位より高い第２水位まで上昇されやすくなるように形成されている水位上昇部と、
上記封水形成部内の水に超音波を照射する超音波発振器と、
除菌水又は除菌ガスを上記封水形成部内の水位高さの内壁まで供給する除菌装置と、
上記超音波発振器及び上記除菌装置を制御する制御部と、を備え、
上記制御部は、上記第１水位よりも水位が上昇している状態の少なくとも一部の期間において上記超音波発振器による超音波の照射を行わせると共に、上記第２水位に向かう水位上昇が少なくとも終わってから上記除菌装置による除菌水又は除菌ガスの供給を停止させる、除菌システム。
【請求項2】
さらに、上記封水形成部に水を供給する給水装置を備え、
上記制御部は、上記除菌装置による除菌水又は除菌ガスの供給の停止後に、
上記給水装置により上記封水形成部に水を供給させる、請求項１に記載の除菌システム。
上記制御部は、上記除菌装置による除菌水又は除菌ガスの供給の停止後に、
上記給水装置により上記封水形成部に水を供給させる、請求項１に記載の除菌システム。
【請求項3】
上記除菌装置は、除菌ガスを吐出させる又は除菌水を吐出させた後この除菌水を気化させることにより除菌ガスを生じさせるように構成される、請求項１又は２に記載の除菌システム。
【請求項4】
上記制御部は、上記封水形成部への水の供給停止から所定時間経過前に、上記除菌装置により、除菌水又は除菌ガスを吐出させる、請求項３に記載の除菌システム。
【請求項5】
さらに、上記浴室内の水蒸気量を減少させる浴室乾燥装置を備え、
上記制御部は、上記浴室乾燥装置により上記浴室内の水蒸気量を減少させた後に、上記除菌装置により、除菌水又は除菌ガスを吐出させる、請求項３又は４に記載の除菌システム。
上記制御部は、上記浴室乾燥装置により上記浴室内の水蒸気量を減少させた後に、上記除菌装置により、除菌水又は除菌ガスを吐出させる、請求項３又は４に記載の除菌システム。
【請求項6】
さらに、上記封水形成部の上方且つ上記浴室の洗い場床に取付けられる排水カバーを備え、
上記除菌装置は、上記排水カバーよりも上方側から除菌水又は除菌ガスを吐出させるように構成され、
上記排水カバーは、上記封水形成部と連通する開口部を少なくとも２方向に向けて形成する、請求項３乃至５の何れか１項に記載の除菌システム。
上記除菌装置は、上記排水カバーよりも上方側から除菌水又は除菌ガスを吐出させるように構成され、
上記排水カバーは、上記封水形成部と連通する開口部を少なくとも２方向に向けて形成する、請求項３乃至５の何れか１項に記載の除菌システム。
【請求項7】
上記制御部は、上記除菌装置により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、上記超音波発振器により超音波の照射を行わせる、請求項６に記載の除菌システム。
【請求項8】
さらに、上記排水カバーに空気を送る送風装置を備え、
上記制御部は、上記除菌装置により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、上記送風装置により空気を上記排水カバーに送る、請求項６又は７に記載の除菌システム。
上記制御部は、上記除菌装置により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、上記送風装置により空気を上記排水カバーに送る、請求項６又は７に記載の除菌システム。
【請求項9】
さらに、上記封水形成部に向けて下方に傾斜した排水傾斜を有する洗い場床を備える、請求項１乃至８の何れか１項に記載の除菌システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、浴室を除菌する除菌システムに関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１に記載されているように、浴室の床に設けられる排水装置において超音波発振器が設けられることが知られている。この排水装置においては水位調整部が設けられ、水位調整部が水の流入に応じて排水本体部内の水位を上昇させ、封水水位付近の内壁の汚れを洗浄させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０２０－１７６４８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、上述した特許文献１に記載された装置においては、封水水位付近の内壁の汚れを落とせたとしても、その汚れが封水形成部に残り、封水水位付近の内壁に汚れが再付着するおそれがある。このように洗浄後の内壁に汚れが再付着した場合、内壁における菌やカビの増殖を生じるという問題があった。
【0005】
本発明は、従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、封水形成部の封水水位付近の内壁の汚れを超音波により落とした後で、除菌水又は除菌ガスを、洗浄後の内壁に供給でき、内壁における菌やカビの増殖を抑制できる除菌システムを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記の問題点を解決するために、本発明は、浴室の洗い場床の下流側に設けられる封水形成部内を除菌する除菌システムであって、第１水位で封水水位を形成する上記封水形成部と、上記封水形成部内に流入する水により、上記封水形成部内の水位が上記第１水位から上記第１水位より高い第２水位まで上昇されやすくなるように形成されている水位上昇部と、上記封水形成部内の水に超音波を照射する超音波発振器と、除菌水又は除菌ガスを上記封水形成部内の水面まで供給する除菌装置と、上記超音波発振器及び上記除菌装置を制御する制御部と、を備え、上記制御部は、上記第１水位よりも水位が上昇している状態の少なくとも一部の期間において上記超音波発振器による超音波の照射を行わせると共に、上記第２水位に向かう水位上昇が少なくとも終わってから上記除菌装置による除菌水又は除菌ガスの供給を停止させることを特徴としている。
このように構成された本発明の一実施形態においては、制御部は、第２水位に向かう水位上昇中の少なくとも一部の期間において上記超音波発振器による超音波の照射を行わせるので、封水形成部内の水位が封水水位である第１水位よりも高い水位まで上昇した状態において超音波を照射し、封水形成部において汚れやすく且つ封水水位のままでは洗浄しにくい封水の高さの内壁を超音波により効果的に洗浄できる。さらに、制御部は、第２水位に向かう水位上昇が少なくとも終わってから除菌装置による除菌水又は除菌ガスの供給を停止させるので、封水形成部の封水水位付近の内壁の汚れが超音波により落とされ、さらに水位上昇が終わった後に、除菌水又は除菌ガスを、洗浄後の内壁に供給できる。これにより、仮に超音波洗浄により剥離した汚れが内壁に再付着したとしても、内壁における菌やカビの増殖を抑制できる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、制御部は、第２水位に向かう水位上昇中の少なくとも一部の期間において上記超音波発振器による超音波の照射を行わせるので、封水形成部内の水位が封水水位である第１水位よりも高い水位まで上昇した状態において超音波を照射し、封水形成部において汚れやすく且つ封水水位のままでは洗浄しにくい封水の高さの内壁を超音波により効果的に洗浄できる。さらに、制御部は、第２水位に向かう水位上昇が少なくとも終わってから除菌装置による除菌水又は除菌ガスの供給を停止させるので、封水形成部の封水水位付近の内壁の汚れが超音波により落とされ、さらに水位上昇が終わった後に、除菌水又は除菌ガスを、洗浄後の内壁に供給できる。これにより、仮に超音波洗浄により剥離した汚れが内壁に再付着したとしても、内壁における菌やカビの増殖を抑制できる。
【0007】
本発明において、好ましくは、さらに、上記封水形成部に水を供給する給水装置を備え、上記制御部は、上記除菌装置による除菌水又は除菌ガスの供給の停止後に、上記給水装置により上記封水形成部に水を供給させる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、さらに、上記除菌装置による除菌水又は除菌ガスの供給の停止後に、上記封水形成部に水を供給する給水装置を備える。これにより、除菌装置により供給された除菌水又は除菌ガスにより除菌された菌やカビ等の汚れを排出でき、このような汚れが内壁に付着することを抑制でき、内壁における菌やカビの増殖をより抑制できる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、さらに、上記除菌装置による除菌水又は除菌ガスの供給の停止後に、上記封水形成部に水を供給する給水装置を備える。これにより、除菌装置により供給された除菌水又は除菌ガスにより除菌された菌やカビ等の汚れを排出でき、このような汚れが内壁に付着することを抑制でき、内壁における菌やカビの増殖をより抑制できる。
【0008】
本発明において、好ましくは、上記除菌装置は、除菌ガスを吐出させる又は除菌水を吐出させた後この除菌水を気化させることにより除菌ガスを生じさせるように構成される。
このように構成された本発明の一実施形態においては、除菌装置は、除菌ガスを吐出させる又は除菌水を吐出させた後この除菌水を気化させることにより除菌ガスを生じさせるように構成される。仮に除菌水を液体のまま直接に封水形成部内の水面まで供給する場合には、封水形成部の内壁に到達するまでの経路で、例えば、床面などに残存している水や汚れなどにより、除菌水の濃度が減衰する可能性がある。それと比べて、本発明においては、除菌ガスを床面などに残存している水や汚れなどに接触させにくくすることができる。すなわち、濃度が比較的高い状態を保ちながら封水形成部内の水位高さの内壁まで除菌ガスを供給できる。これにより、除菌ガスをより効果的に活用して菌やカビの増殖をより抑制できる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、除菌装置は、除菌ガスを吐出させる又は除菌水を吐出させた後この除菌水を気化させることにより除菌ガスを生じさせるように構成される。仮に除菌水を液体のまま直接に封水形成部内の水面まで供給する場合には、封水形成部の内壁に到達するまでの経路で、例えば、床面などに残存している水や汚れなどにより、除菌水の濃度が減衰する可能性がある。それと比べて、本発明においては、除菌ガスを床面などに残存している水や汚れなどに接触させにくくすることができる。すなわち、濃度が比較的高い状態を保ちながら封水形成部内の水位高さの内壁まで除菌ガスを供給できる。これにより、除菌ガスをより効果的に活用して菌やカビの増殖をより抑制できる。
【0009】
本発明において、好ましくは、上記制御部は、上記封水形成部への水の供給停止から所定時間経過前に、上記除菌装置により、除菌水又は除菌ガスを吐出させる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、上記除菌装置は、上記水位上昇部により上記封水形成部内の水位が上昇されることにより濡れた状態となる上記第１水位より上方の上記封水形成部の内壁が乾燥状態になる前に、除菌水又は除菌ガスを吐出するように構成される。これにより、上記除菌装置は、第１水位より上方の上記封水形成部の内壁が濡れた状態となっている間に除菌ガスを封水形成部の内壁に供給できる。これにより、内壁が乾燥状態の場合と異なり、濡れた状態の内壁に除菌ガスを供給することができるため、除菌ガスを内壁の水分に溶解させることができる。従って、除菌ガスを、乾燥状態の内壁上の対象物に直接反応させるよりも、濡れた状態の内壁の水滴の表面積に応じて水分に溶解させることができ、対象物により有効に作用させやすくできる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、上記除菌装置は、上記水位上昇部により上記封水形成部内の水位が上昇されることにより濡れた状態となる上記第１水位より上方の上記封水形成部の内壁が乾燥状態になる前に、除菌水又は除菌ガスを吐出するように構成される。これにより、上記除菌装置は、第１水位より上方の上記封水形成部の内壁が濡れた状態となっている間に除菌ガスを封水形成部の内壁に供給できる。これにより、内壁が乾燥状態の場合と異なり、濡れた状態の内壁に除菌ガスを供給することができるため、除菌ガスを内壁の水分に溶解させることができる。従って、除菌ガスを、乾燥状態の内壁上の対象物に直接反応させるよりも、濡れた状態の内壁の水滴の表面積に応じて水分に溶解させることができ、対象物により有効に作用させやすくできる。
【0010】
本発明において、好ましくは、さらに、上記浴室内の水蒸気量を減少させる浴室乾燥装置を備え、上記制御部は、上記浴室乾燥装置により上記浴室内の水蒸気量を減少させた後に、上記除菌装置により、除菌水又は除菌ガスを吐出させる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、さらに、上記浴室内の水蒸気量を減少させる浴室乾燥装置を備え、上記制御部は、上記浴室乾燥装置により上記浴室内の水蒸気量を減少させた後に、上記除菌装置により、除菌水又は除菌ガスを吐出させる。これにより、除菌ガスが浴室内の水蒸気に溶解され、除菌ガスが封水水位付近の内壁に作用する効率が低下してしまうことを抑制できる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、さらに、上記浴室内の水蒸気量を減少させる浴室乾燥装置を備え、上記制御部は、上記浴室乾燥装置により上記浴室内の水蒸気量を減少させた後に、上記除菌装置により、除菌水又は除菌ガスを吐出させる。これにより、除菌ガスが浴室内の水蒸気に溶解され、除菌ガスが封水水位付近の内壁に作用する効率が低下してしまうことを抑制できる。
【0011】
本発明において、好ましくは、さらに、上記封水形成部の上方且つ上記浴室の洗い場床に取付けられる排水カバーを備え、上記除菌装置は、上記排水カバーよりも上方側から除菌水又は除菌ガスを吐出させるように構成され、上記排水カバーは、上記封水形成部と連通する開口部を少なくとも２方向に向けて形成する。
本実施形態と異なり、除菌装置が排水カバーよりも上方側から除菌水又は除菌ガスを吐出させる場合には、排水カバーの形態によっては、排水カバーにより除菌装置から供給された除菌ガス等が封水形成部に到達しにくくなる可能性がある。これに対し、このように構成された本発明の一実施形態においては、排水カバーは、上記封水形成部と連通する開口部を少なくとも２方向に向けて形成する。従って、排水カバーから封水形成部への空気の流れを形成しやすくできる。よって、排水カバーが設けられる場合であっても、除菌水又は除菌ガスを、封水形成部内の内壁に供給しやすくできる。
本実施形態と異なり、除菌装置が排水カバーよりも上方側から除菌水又は除菌ガスを吐出させる場合には、排水カバーの形態によっては、排水カバーにより除菌装置から供給された除菌ガス等が封水形成部に到達しにくくなる可能性がある。これに対し、このように構成された本発明の一実施形態においては、排水カバーは、上記封水形成部と連通する開口部を少なくとも２方向に向けて形成する。従って、排水カバーから封水形成部への空気の流れを形成しやすくできる。よって、排水カバーが設けられる場合であっても、除菌水又は除菌ガスを、封水形成部内の内壁に供給しやすくできる。
【0012】
本発明において、好ましくは、上記制御部は、上記除菌装置により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、上記超音波発振器により超音波の照射を行わせる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、上記制御部は、上記除菌装置により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、上記超音波発振器により超音波の照射を行わせる。これにより、封水形成部内の水面に超音波が照射されることにより、水面が波立ち、封水形成部内の空気の流動が促進されやすくなり、除菌ガスを封水形成部内の水位高さの内壁まで供給しやすくできる。また、封水形成部内の水面に超音波が照射されることにより、封水形成部内の水の水温が上昇され、水による上昇気流が生じやすくされ、封水形成部内の空気の流動が促進されやすくなり、除菌ガスを封水形成部内の水位高さの内壁まで供給しやすくできる。さらに、封水形成部内の水面が波立つことにより、封水水位よりも下方側の内壁にも除菌ガスが作用でき、菌やカビの増殖を抑制できる領域をより広げることができる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、上記制御部は、上記除菌装置により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、上記超音波発振器により超音波の照射を行わせる。これにより、封水形成部内の水面に超音波が照射されることにより、水面が波立ち、封水形成部内の空気の流動が促進されやすくなり、除菌ガスを封水形成部内の水位高さの内壁まで供給しやすくできる。また、封水形成部内の水面に超音波が照射されることにより、封水形成部内の水の水温が上昇され、水による上昇気流が生じやすくされ、封水形成部内の空気の流動が促進されやすくなり、除菌ガスを封水形成部内の水位高さの内壁まで供給しやすくできる。さらに、封水形成部内の水面が波立つことにより、封水水位よりも下方側の内壁にも除菌ガスが作用でき、菌やカビの増殖を抑制できる領域をより広げることができる。
【0013】
本発明において、好ましくは、さらに、上記排水カバーに空気を送る送風装置を備え、上記制御部は、上記除菌装置により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、上記送風装置により空気を上記排水カバーに送る。
このように構成された本発明の一実施形態においては、上記制御部は、上記除菌装置により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、上記送風装置により空気を上記排水カバーに送る。これにより、封水形成部内の空気の流動が促進されやすくなり、除菌ガスを封水形成部内の水位高さの内壁まで供給しやすくできる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、上記制御部は、上記除菌装置により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、上記送風装置により空気を上記排水カバーに送る。これにより、封水形成部内の空気の流動が促進されやすくなり、除菌ガスを封水形成部内の水位高さの内壁まで供給しやすくできる。
【0014】
本発明において、好ましくは、さらに、上記封水形成部に向けて下方に傾斜した排水傾斜を有する洗い場床を備える。
このように構成された本発明の一実施形態においては、さらに、上記封水形成部に向けて下方に傾斜した排水傾斜を有する洗い場床を備える。これにより、洗い場床の水が排水傾斜により封水形成部に排出されやすくでき、除菌ガスが洗い場床の水分に溶解され、除菌ガスが封水水位付近の内壁に作用する効率が低下してしまうことを抑制できる。
このように構成された本発明の一実施形態においては、さらに、上記封水形成部に向けて下方に傾斜した排水傾斜を有する洗い場床を備える。これにより、洗い場床の水が排水傾斜により封水形成部に排出されやすくでき、除菌ガスが洗い場床の水分に溶解され、除菌ガスが封水水位付近の内壁に作用する効率が低下してしまうことを抑制できる。
【発明の効果】
【0015】
本発明の除菌システムによれば、封水形成部の封水水位付近の内壁の汚れを超音波により落とした後で、除菌水又は除菌ガスを、洗浄後の内壁に供給でき、内壁における菌やカビの増殖を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】本発明の第１実施形態による除菌システムが使用される浴室を示す斜視図である。
【図2】本発明の第１実施形態による除菌システムが使用される浴室を浴室乾燥装置を省略した状態で示す上面図である。
【図7】吐水装置のノズル部を示す正面図である。
【図9】本発明の第１実施形態による除菌システムの浴室乾燥装置において、換気ダンパー開の状態を示す断面図である。
【図10】本発明の第１実施形態による除菌システムの浴室乾燥装置において、換気ダンパー閉の状態を示す断面図である。
【図11】本発明の第１実施形態による除菌システムによる動作を示すタイムチャートである。
【図12】本発明の第１実施形態による除菌システムによる動作を示すフローチャートである。
【図13】本発明の第１実施形態による除菌システムの原理の一部を説明するための線図である。
【図14】本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第１変形例における水位上昇部において可動堰が待機状態となっている様子を示す拡大断面図である。
【図15】本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第１変形例における水位上昇部において可動堰が上昇している状態となっている様子を示す拡大断面図である。
【図16】本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第２変形例における水位上昇部において可動堰が待機状態となっている様子を示す拡大断面図である。
【図17】本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第２変形例における水位上昇部において可動堰が下降している状態となっている様子を示す拡大断面図である。
【図18】本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第３変形例における水位上昇部を説明する断面図である。
【図19】本発明の第２実施形態による除菌システムが使用されるシャワールームの斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
最初に、図１及び図２により、本発明の第１実施形態による除菌システムが使用される浴室について説明する。図１は本発明の第１実施形態による除菌システムが使用される浴室を示す斜視図であり、図２は本発明の実施形態による除菌システムが使用される浴室を浴室乾燥装置を省略した状態で示す上面図である。
図１に示すように、浴室１は、ほぼ直方体の４つの側面を形成する第１壁２、第２壁４、第３壁６及び第４壁８を備えている。第２壁４の側には浴槽１０が設けられ、第４壁８と浴槽１０の間の下方には洗い場床１２が設けられている。この洗い場床１２の浴槽１０の近傍には封水形成部１４が設けられ、この封水形成部１４から水が外部に排出されるようになっている。浴室１は使用者が水により体を洗う部屋であり、シャワールームも含まれる。本実施形態において使用される用語「水」は、給水源又は外部の給湯機等において温度調節されて湯と水が混合された湯水のみならず、外部水道から温度調節されていない状態で給水された水、給水源からの水を適温まで加熱した湯水等も含む意味で使用されている。
図１に示すように、浴室１は、ほぼ直方体の４つの側面を形成する第１壁２、第２壁４、第３壁６及び第４壁８を備えている。第２壁４の側には浴槽１０が設けられ、第４壁８と浴槽１０の間の下方には洗い場床１２が設けられている。この洗い場床１２の浴槽１０の近傍には封水形成部１４が設けられ、この封水形成部１４から水が外部に排出されるようになっている。浴室１は使用者が水により体を洗う部屋であり、シャワールームも含まれる。本実施形態において使用される用語「水」は、給水源又は外部の給湯機等において温度調節されて湯と水が混合された湯水のみならず、外部水道から温度調節されていない状態で給水された水、給水源からの水を適温まで加熱した湯水等も含む意味で使用されている。
【0018】
第３壁６の側の一部にはカウンター１６が設けられている。第３壁６のカウンター１６の上方には、鏡が設けられている。カウンター１６の上段には、水を吐水する吐水部１８、シャワーホースを介したシャワー３４等の水栓装置などが設けられている。
【0019】
吐水部１８及びシャワー３４は、湯水混合栓７を介して、上流側において、給水源（図示せず）から水が供給される水給水路９及び、給水源（図示せず）に接続された給湯機等から湯が供給される湯給水路１１に接続される。湯水混合栓７は、使用者の操作や制御部の設定等に基づいて、水給水路９からの水と、湯給水路１１からの湯とを任意の割合で混合できる。カウンター１６の下面側には、本実施形態による除菌システム２０の一部を構成する除菌水及び水道水（水）を吐水するための吐水装置である除菌装置２２が設けられている。
【0020】
上述した第１壁２乃至第４壁８の上端には天井２４が取り付けられ、この天井２４には浴室乾燥装置２７が設けられている。さらに、浴室１の外部には、除菌システム２０を操作するための操作パネル２８と後述する制御部２９が設けられている。操作パネル２８は、使用者からの操作入力を受け付ける操作部を形成している。操作パネル２８はボタンを備えており、使用者がボタンを手動操作するような使用者からの手動操作入力を受け付けている。変形例として、操作パネル２８は、スマートフォンやリモコン等の電子機器の画面上に表示される操作画面として形成されてもよい。すなわち、操作パネル２８は、このような操作画面上の操作ボタンにおいて使用者からの操作入力を受け付ける操作部を形成していてもよい。このとき、スマートフォンやリモコン等の電子機器の操作パネル２８は、制御部２９とインターネットや赤外線通信等の無線通信により電気的に接続される。また、さらなる他の変形例として、操作パネル２８は、音声入力により使用者からの操作入力を受け付ける音声操作部や、使用者の手指等のジェスチャー操作入力により使用者からの操作入力を受け付ける（例えば使用者が手指等を所定の空間に一定時間かざすことにより使用者の手指等を検出して操作入力として検出し操作入力を受け付ける等）ジェスチャー操作部であってもよい。
【0021】
再び本実施形態に戻り、図５に示すように、カウンター１６は、天板１６ａと下カバー１６ｂとを有しており、洗い場床１２から上方に離間して設けられている。
【0022】
除菌システム２０は、浴室１の洗い場床１２の下流側に設けられる封水形成部１４内の少なくとも一部、例えば封水形成部１４に形成される封水の近傍の高さの内壁１４ｅを除菌する。除菌システム２０は、封水形成部１４に向けて下方に傾斜した排水傾斜を有する洗い場床１２と、浴室１内の水蒸気量を減少させる浴室乾燥装置２７と、第１水位で封水水位Ｗ０を形成する封水形成部１４と、封水形成部１４の上方且つ浴室の洗い場床１２に取付けられる排水カバー１５と、封水形成部１４内に流入する水により、封水形成部１４内の水位が第１水位から第１水位より高い第２水位まで上昇されやすくなるように形成されている水位上昇部２６と、封水形成部１４内の水に超音波を照射する超音波発振器６４と、除菌水又は除菌ガスを封水形成部１４内の水位高さの内壁１４ｅまで供給する除菌装置２２と、排水カバー１５に空気を送る送風装置６６と、超音波発振器６４及び除菌装置２２を制御する制御部２９と、を備える。
【0023】
浴室乾燥装置２７は、浴室１内の空気を換気して浴室１内の水蒸気量を減少させ、浴室１内を乾燥させることができる。浴室乾燥装置２７は、室内温度より温かい温風、室内温度とほぼ同じ温度の風、又は室内温度より冷たい冷風を送出することにより、浴室１内の水蒸気を気化させ、水蒸気量を減少させることができる。浴室乾燥装置２７は、また、後述するように、散水された除菌水を気化させる機能を有する。より好ましくは、浴室乾燥装置２７は、温風を送出することにより、浴室１内の温度を上昇させることができるため、浴室１内の空気の飽和水蒸気量を上昇させ水を水蒸気として気化させる機能を有する。
【0024】
封水形成部１４は、洗い場床１２の下部と接続される。封水形成部１４は、超音波洗浄機能付きの排水装置として形成されている。封水形成部１４は、洗い場床１２に吐水された水を排水するとともに、流入された水の一部を貯留させてその内部に封水水位Ｗ０で通常時（待機状態）の封水を形成する機能を有する。ここで「封水」とは、臭気などを遮断するために封水形成部１４内のトラップ内に形成される水をいう。また「通常時の封水」とは、浴室の吐水部から水の吐水を行なっていない吐水部の不使用時（待機状態）における封水をいう。
【0025】
図３に示すように、封水形成部１４は、封水水位Ｗ０に封水を形成するようなトラップ形状の流路を形成する。封水形成部１４は、洗い場床１２に開口するように接続される接続部１４ａと、排水トラップを形成するように下流側に向けて斜め上方に上昇する上昇流路である上昇部１４ｂと、上昇部１４ｂと下降部１４ｄとの間において排水トラップの上昇部１４ｂと接続する折り返し部分である頂部１４ｃと、上昇部１４ｂの下流側に設けられ且つ頂部１４ｃから下降する下降流路である下降部１４ｄとを備えている。よって、封水形成部１４は、上昇部１４ｂから下降部１４ｄに向けて折り返すトラップ形状の流路を形成する。頂部１４ｃは封水水位Ｗ０を規定する。下降部１４ｄは、頂部１４ｃより下降する流路を形成し、排水流路１７と接続される。封水形成部１４は、排水流路１７側の流路としての排水トラップの流路を形成し、流路の内径が小さい、流路の形状が複雑である、流路の深さが深い等の要素のいずれか又はこれらの要素の少なくとも一部の組合せ等を有することにより、網かご１９に比べて使用者が手指を入れて清掃しにくくなっている。
【0026】
封水形成部１４は、樹脂により形成されている。封水形成部１４は、下流側の排水流路１７と接続される。排水流路１７は、さらに下流側の排水配管（図示せず）に接続される。封水形成部１４には、洗い場床１２からの流路とは別の水の供給流路が接続されていてもよい。別の水の供給流路は、別の給水源（図示せず）又は本実施形態と同じ給水源に接続される。封水形成部１４内に流入する水には、洗い場床１２からの流路とは別の水の供給流路から封水形成部１４内に流入する水も含まれる。封水形成部１４内に流入する水には、使用者が体や洗い場床等を洗うのに使用した水や、洗剤、シャンプー、ボディーソープ等を含むような水等も含まれる。接続部１４ａと洗い場床１２との間には、網かご１９が配置されている。網かご１９は、網目を形成し、髪の毛等のごみを捕集しやすくされている。
【0027】
超音波発振器６４は、封水形成部１４の接続部１４ａの下方に設けられている。超音波発振器６４は、封水形成部１４の底部に設けられ、上方に向けて超音波を照射するように配置されている。超音波発振器６４は、制御部２９と電気的に接続されている。
【0028】
送風装置６６は、排水カバー１５から封水形成部１４内に流れ込む空気の流れを形成させる。送風装置６６は、浴室乾燥装置２７により形成されていてもよい。この場合、浴室乾燥装置２７は、送風装置６６としても機能する。
【0029】
排水カバー１５は、封水形成部１４の接続部１４ａ及び網かご１９の上方を覆うように形成されている。排水カバー１５は、四角に形成された脚部により洗い場床１２上に配置され、封水形成部１４と連通する開口部を少なくとも２方向、好ましくは４方向に向けて形成する。本実施形態では、排水カバー１５は、封水形成部１４との間に４方向に開口する開口部を形成している。
【0030】
除菌装置２２は、除菌ガスを封水形成部１４内の水位高さの内壁１４ｅまで供給するように構成される。除菌装置２２は、排水カバー１５よりも上方側から除菌水又は除菌ガスを吐出させるように構成される。本実施形態においては、除菌装置２２は、除菌水を吐出させ、この除菌水を気化させることにより、除菌ガスを生成させるように構成される。なお、変形例として、除菌装置２２は、除菌ガスを吐出させるように構成されてもよい。また、さらなる変形例として、除菌装置２２は、除菌ガスを直接吐出させるものに限られず、除菌水を液体のまま吐出させ、直接封水形成部１４内まで供給するように構成されてもよい。
【0031】
制御部２９は、ＣＰＵ及びメモリ等を内蔵し、メモリに記憶された所定の制御プログラム等に基づいて浴室乾燥装置２７、除菌装置２２、超音波発振器６４等の動作を制御する。なお、除菌装置２２からの水の吐水に限られず、流量センサが配置されることにより封水形成部１４に流入する水が検知され、制御部２９が、このような検知に基づいて超音波発振器６４による超音波の照射を開始する制御を行ってもよい。また、さらなる変形例として、流量センサが封水形成部１４から排出される水を検知するように配置され、制御部２９が、このような流量センサによる検知に基づいて超音波発振器６４による超音波の照射を開始する制御を行ってもよい。
【0032】
制御部２９は、上述した除菌装置２２及び浴室乾燥装置２７の動作を操作する。制御部２９は、第２水位Ｗ２に向かう水位上昇中の少なくとも一部の期間において超音波発振器６４による超音波の照射を行わせると共に、第２水位Ｗ２に向かう水位上昇が少なくとも終わってから除菌装置２２による除菌水又は除菌ガスの供給を停止させる。制御部２９は、除菌装置２２による除菌水又は除菌ガスの供給の停止後に、給水装置である除菌装置２２により封水形成部１４に水を供給させる。制御部２９は、封水形成部１４への水の供給停止（又は水位下降の開始）から所定時間経過前に（例えば、水位上昇部２６により封水形成部１４内の水位が上昇されることにより濡れた状態となる、第１水位である封水水位Ｗ０より上方の封水形成部１４の内壁１４ｅが乾燥状態になる前に）、除菌装置２２により、除菌水又は除菌ガスを吐出させる。制御部２９は、浴室乾燥装置２７により浴室１内の水蒸気量を減少させた後に、除菌装置２２により、除菌水又は除菌ガスを吐出させる。制御部２９は、除菌装置２２により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、超音波発振器６４により超音波の照射を行わせる。制御部２９は、除菌装置２２により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、送風装置により空気を排水カバー１５に送る。
【0033】
次に、図３及び図４により、封水形成部１４の水位上昇部について説明する。
水位上昇部２６は、例えば封水形成部１４内に流入する水が所定流量以上である場合に、封水形成部１４内に流入する水により、封水形成部１４内の水位が封水形成部１４内の第１水位である封水水位Ｗ０から封水形成部１４内の封水水位Ｗ０より高い第２水位Ｗ２までは上昇しやすくなるように形成されている。水位上昇部２６は、封水形成部１４内に配置されることにより水位を調整する。水位上昇部２６は、封水形成部１４内の水位が封水水位Ｗ０から第２水位Ｗ２までの間にある場合における下流側への排水量が、封水形成部１４内の水位が第２水位Ｗ２に到達して以後における下流側への排水量よりも少なくなるように形成される。
水位上昇部２６は、例えば封水形成部１４内に流入する水が所定流量以上である場合に、封水形成部１４内に流入する水により、封水形成部１４内の水位が封水形成部１４内の第１水位である封水水位Ｗ０から封水形成部１４内の封水水位Ｗ０より高い第２水位Ｗ２までは上昇しやすくなるように形成されている。水位上昇部２６は、封水形成部１４内に配置されることにより水位を調整する。水位上昇部２６は、封水形成部１４内の水位が封水水位Ｗ０から第２水位Ｗ２までの間にある場合における下流側への排水量が、封水形成部１４内の水位が第２水位Ｗ２に到達して以後における下流側への排水量よりも少なくなるように形成される。
【0034】
水位上昇部２６は、電動の電磁弁等による流路の開閉によらず、流路の構造により水位を調整する機能を有するので、使用者の操作等によらず、水の封水形成部１４内への流入に応じて自動的に水位を調整できる。
【0035】
水位上昇部２６は、封水形成部１４の排水トラップの封水水位Ｗ０を規定する封水水位規定部である頂部１４ｃに形成されている。より具体的には、水位上昇部２６は、頂部１４ｃから上方に突出するように形成されている。図４に示すように、水位上昇部２６は、封水形成部１４内の流路を狭める壁３０を備える。壁３０は、封水形成部１４内の流路の下部側を絞る絞り部を形成している。壁３０は、封水形成部１４内の流路の頂部１４ｃの底面から上方に立ち上がるように形成される。壁３０の後面３０ｂは下方に延びている。よって、壁３０は、流路の上流側から下流側を見る方向（前後方向）の断面において平板状に形成される。例えば、壁３０は、封水形成部１４の両側の側壁が内側に突出するようにして、頂部１４ｃから上方に向けて立ち上がるように形成される壁３０を形成していてもよい。
【0036】
壁３０は、水位上昇部２６に到達する主たる水の流れ方向に対して左右方向に延び、さらに、壁３０には、その上端３０ｃから下方に延びる切欠き３０ｄが形成されている。この切欠き３０ｄの左右方向の幅Ａ１は、上下方向においてほぼ一定である。切欠き３０ｄの下部は、頂部１４ｃにより形成されている。切欠き３０ｄは前後方向においては前面から後面まで延びている。従って、図４に示すように、封水形成部１４内の流路は、左右方向の横断面においてＴ字形状に形成されている。
【0037】
吐水部１８、シャワー３４又は除菌装置２２から吐水される吐水量（封水形成部１４に流入する単位時間あたりの流入量）に対し、切欠き３０ｄを通過しきれない水が、封水形成部１４内の水位を上昇させ、水位が上端３０ｃを超えた場合には、壁３０部分の幅方向全体の上端３０ｃを超える流れを形成する。壁３０は水位が上端３０ｃ以下の高さにある場合には切欠き３０ｄを通過する単位時間の排水量を制限すると共に、水位が上端３０ｃを超えた高さである場合には上端３０ｃを超える流れを形成する特殊な堰を形成している。切欠き３０ｄの第１領域Ｂ１（切欠き３０ｄにより切り欠かれた領域）を通過する単位時間あたりの排水量（排水流量）は、切欠き３０ｄの幅Ａ１と水位の高さｈ１（頂部１４ｃからの実際の水位の高さ）により決定される。また、第２領域Ｂ２を通過する単位時間あたりの排水量（排水流量）は、封水形成部１４の流路の幅Ａ２と上端３０ｃより上方の水位の高さｈ２（上端３０ｃからの実際の水位の高さ）により決定される。第２領域Ｂ２は壁３０の上端３０ｃより上方の領域である。
【0038】
水位が上端３０ｃを超えた場合には、吐水部６ｂから吐水される吐水量（封水形成部１４に流入する単位時間あたりの流入量）に対し、切欠き３０ｄの第１領域Ｂ１を通過しきれない水が、壁３０部分の上端３０ｃを超える流れを形成するので、水位の上昇が抑制される。このように、水位が上端３０ｃを超えた場合には、封水形成部１４に流入する単位時間あたりの流入量に対し、水位上昇部２６により、切欠き３０ｄの第１領域Ｂ１を通過する単位時間あたりの排水量と第２領域Ｂ２を通過する単位時間あたりの排水量との合計の第２排水量が排出される。
【0039】
このように、切欠き３０ｄの第１領域Ｂ１が比較的小さく形成されているので、水位が切欠き３０ｄの頂部、すなわち上端３０ｃの高さの第２水位Ｗ２まで上昇されやすくなっている。水位が第２水位Ｗ２を超える場合には、第２排水量の排出により水位上昇が抑制される。水位が第２水位Ｗ２を超えたとしても、水位が第３水位Ｗ３に到達し、封水形成部１４に流入する単位時間あたりの流入量と、第１領域Ｂ１を通過する単位時間あたりの排水量と第２領域Ｂ２を通過する単位時間あたりの排水量との合計の第２排水量とが同じになる場合、水位上昇がほぼ停止される。超音波洗浄水位は、第１水位である封水水位Ｗ０より上方の水位、例えば第２水位Ｗ２として規定されている。超音波洗浄水位は、第３水位Ｗ３であってもよい。
【0040】
水位上昇部２６の上端３０ｃにより規定される第２水位Ｗ２は、網かごの下端よりも上方に位置する。また、水位上昇部２６の上端３０ｃにより規定される第２水位Ｗ２は、封水水位Ｗ０の位置の接続部１４ａの周壁よりも上方に位置している。なお、変形例として第２水位Ｗ２は、網かごの下端よりも下方に位置してもよい。
【0041】
次に、図５乃至図８により、本実施形態の除菌装置２２について説明する。
図６に示すように、カウンター１６の内部（天板１６ａと下カバー１６ｂとの間）には、除菌装置２２が設けられ、この除菌装置２２は、カウンター１６の下カバー１６ｂから下方に突出するノズル部３２を備えている。図５に示すように、ノズル部３２は、カウンター１６の下部に、洗い場床１２から離間した位置に配置され、さらに、ノズル部３２は、カウンター１６の横方向における中央付近、すなわち、洗い場床１２の横方向における中央付近に設けられている。除菌装置２２のノズル部３２は、排水カバー１５よりも上方側に設けられている。
図６に示すように、カウンター１６の内部（天板１６ａと下カバー１６ｂとの間）には、除菌装置２２が設けられ、この除菌装置２２は、カウンター１６の下カバー１６ｂから下方に突出するノズル部３２を備えている。図５に示すように、ノズル部３２は、カウンター１６の下部に、洗い場床１２から離間した位置に配置され、さらに、ノズル部３２は、カウンター１６の横方向における中央付近、すなわち、洗い場床１２の横方向における中央付近に設けられている。除菌装置２２のノズル部３２は、排水カバー１５よりも上方側に設けられている。
【0042】
図６に戻り、除菌装置２２は、第１ストレーナ３６と、第１電磁弁３８と、第２電磁弁４０と、調圧弁４２と、バキュームブレーカ４４と、逆止弁４６と、除菌水生成部４８と、第２ストレーナ５０と、が設けられている。第１ストレーナ３６は、湯水混合栓７を介して外部の給水管（水給水路９等）と接続されており、第１ストレーナ３６の下流において、水道水の流路は２つに分岐している。
【0043】
第１ストレーナ３６の下流側の一方の流路５１は、第１電磁弁３８を介して、水道水を直接的にノズル部３２に供給するようになっている。第１ストレーナ３６は、湯水混合栓７を介して、水給水路９及び湯給水路１１に接続されている。第１ストレーナ３６は、別の経路により水道等に接続されていてもよい。第１電磁弁３８を開くことにより水道水がノズル部３２に供給されるようになっている。この一方の流路５１に設けられた第１電磁弁３８及びノズル部３２が、洗い場床１２に水道水を散水して、洗い場床１２に残留水を形成する。
【0044】
第１ストレーナ３６の下流側の他方の流路５２には、上流側から順に、第２電磁弁４０、調圧弁４２、バキュームブレーカ４４、逆止弁４６、除菌水生成部４８、第２ストレーナ５０が接続されており、除菌水をノズル部３２に供給するようになっている。なお、バキュームブレーカ４４は設けなくても良い。
【0045】
第１電磁弁３８及び第２電磁弁４０は、それぞれ、水道水の上述した流路５１、５２を開く動作、及び、水道水の流路５１、５２を閉じる動作、を行うようになっている。なお、流路５１、５２には、吐水される水の単位時間あたりの流量を検知できる流量センサが設けられ、吐水がなされることが検知されてもよい。
【0046】
調圧弁４２は、供給される水道水の圧力を制御するようになっている。これにより、詳細は後述する除菌水生成部４８に供給される水道水の流量を所望の値に調整することができる。除菌水生成部４８に供給される水道水の流量を調整することにより、ノズル部３２に供給される除菌水の流量が調整される。なお、調圧弁４２の代わりに、あるいは、調圧弁４２に加えて、第２電磁弁４０により水道水の流量を調整してもよい。
【0047】
除菌水生成部４８は、陽極と陰極とを有する電解室（電解槽）である。除菌水生成部４８は、陽極と陰極との間に電圧を印加して、それら電極の間を流れる水道水を電気分解することにより、次亜塩素酸を含む除菌水を生成するようになっている。水道水は、塩化物イオンを含んでいるため、その塩化物イオンを電気分解することによって、次亜塩素酸が生成される。
【0048】
第１電磁弁３８、第２電磁弁４０、調圧弁４２及び除菌水生成部４８は、制御部２９により適宜に制御されるようになっている。これにより、ノズル部３２からの水道水の散水と、ノズル部３２からの除菌水の散水と、を互いに独立に制御できるようになっている。
【0049】
具体的には、第１電磁弁３８及び第２電磁弁４０は、制御部２９からの信号に基づいて、水道水の流路５１、５２の開閉を行う。これにより、下流側に供給される水道水の流量が制御される。また、除菌水生成部４８は、制御部２９からの信号に基づいて、電解室のＯＮ／ＯＦＦ等を切り替える。このようにして制御部２９は、除菌水における各種構成成分の濃度、吐水される水道水及び除菌水の瞬間流量（単位時間当たりの流量）、吐水される除菌水の総水量、を制御することができる。また、制御部２９は、第１電磁弁３８、第２電磁弁４０、それぞれの開状態を認識できるため、制御部２９は、第１電磁弁３８、第２電磁弁４０、から吐水がされているか否かを認識できる。
【0050】
上述した除菌水は、菌や黴、酵母を減少させる機能を有する機能水であり、例えば、次亜塩素酸を含む水である。水道水は、塩化物イオンを含んでいるため、その塩化物イオンを電気分解することによって、次亜塩素酸が生成される。その結果、電気分解された水は、次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）を含む液に変化する。この次亜塩素酸が気化して一酸化二塩素（Ｃｌ2Ｏ）となる。この一酸化二塩素が、除菌ガスである。
除菌水は、金属イオン水（例えば、銀イオン、銅イオンまたは亜鉛イオンなどの金属イオンを含む水）またはオゾンを含む水であってもよい。例えば、水道水が電気分解される際、陰極においては酸（Ｈ+）が消費され、陰極の近傍ではｐＨが上昇する。すなわち、陰極の近傍では、アルカリ水が生成される。一方、陽極においてはアルカリ（ＯＨ-）が消費され、陽極の近傍ではｐＨが下降する。すなわち、陽極の近傍では、酸性水が生成される。除菌水生成部４８における流量を変化させることにより、除菌水に含まれる成分の濃度を制御することができる。
なお、上述した除菌水生成部４８では、電気分解して除菌水を生成しているが、これに限定されことなく、例えば、除菌剤を水道水に溶解させて除菌水を生成するようにしてもよい。
除菌ガスは、菌や黴、酵母を減少させる機能を有するガスである。除菌ガスは、微粒子状の除菌水を含んでもよい。ここで、「微粒子状」とは、気流にのって浮遊できる程度の大きさの液体粒子の状態である。このような微粒子状の除菌水を含む除菌ガスはミスト状になっている。なお、除菌ガスの菌や黴、酵母を減少させる機能は、ガス中の気体によって奏されてもよいし、ガス中に含まれる液体によって奏されてもよいし、気体及び液体の両方によって奏されてもよい。
除菌ガスは、例えば、有効成分として一酸化二塩素を含むガスである。一酸化二塩素を含むガスは、例えば、前述の通り、次亜塩素酸を気化させることにより、生成することができる。除菌ガスは、例えば、次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）を含む水を微粒子化させることにより生成されてもよい。除菌ガスは、例えば、金属イオン水（例えば、銀イオン、銅イオンまたは亜鉛イオンなどの金属イオンを含む水）を含むガスであってもよい。この場合、金属イオン水は微粒子状の除菌水である。 また、除菌ガスは、オゾン（Ｏ3）を含むガスであってもよい。
なお、前述のように、変形例として、除菌装置２２は、除菌ガスを直接吐出させるように構成されてもよい。このように除菌ガスを直接吐出する場合、例えば、除菌装置２２は、タンクに貯められた除菌水に浸された吸水性フィルタを備え、そのフィルタに風を当てることで、除菌ガスを生成且つ吐出させるように構成されてもよい。また、他に例えば、除菌装置２２は、酸素を含む空気に紫外線を照射して、生成したオゾン（除菌ガス）を浴室内に吐出するように構成されてもよい。
除菌水は、金属イオン水（例えば、銀イオン、銅イオンまたは亜鉛イオンなどの金属イオンを含む水）またはオゾンを含む水であってもよい。例えば、水道水が電気分解される際、陰極においては酸（Ｈ+）が消費され、陰極の近傍ではｐＨが上昇する。すなわち、陰極の近傍では、アルカリ水が生成される。一方、陽極においてはアルカリ（ＯＨ-）が消費され、陽極の近傍ではｐＨが下降する。すなわち、陽極の近傍では、酸性水が生成される。除菌水生成部４８における流量を変化させることにより、除菌水に含まれる成分の濃度を制御することができる。
なお、上述した除菌水生成部４８では、電気分解して除菌水を生成しているが、これに限定されことなく、例えば、除菌剤を水道水に溶解させて除菌水を生成するようにしてもよい。
除菌ガスは、菌や黴、酵母を減少させる機能を有するガスである。除菌ガスは、微粒子状の除菌水を含んでもよい。ここで、「微粒子状」とは、気流にのって浮遊できる程度の大きさの液体粒子の状態である。このような微粒子状の除菌水を含む除菌ガスはミスト状になっている。なお、除菌ガスの菌や黴、酵母を減少させる機能は、ガス中の気体によって奏されてもよいし、ガス中に含まれる液体によって奏されてもよいし、気体及び液体の両方によって奏されてもよい。
除菌ガスは、例えば、有効成分として一酸化二塩素を含むガスである。一酸化二塩素を含むガスは、例えば、前述の通り、次亜塩素酸を気化させることにより、生成することができる。除菌ガスは、例えば、次亜塩素酸（ＨＯＣｌ）を含む水を微粒子化させることにより生成されてもよい。除菌ガスは、例えば、金属イオン水（例えば、銀イオン、銅イオンまたは亜鉛イオンなどの金属イオンを含む水）を含むガスであってもよい。この場合、金属イオン水は微粒子状の除菌水である。 また、除菌ガスは、オゾン（Ｏ3）を含むガスであってもよい。
なお、前述のように、変形例として、除菌装置２２は、除菌ガスを直接吐出させるように構成されてもよい。このように除菌ガスを直接吐出する場合、例えば、除菌装置２２は、タンクに貯められた除菌水に浸された吸水性フィルタを備え、そのフィルタに風を当てることで、除菌ガスを生成且つ吐出させるように構成されてもよい。また、他に例えば、除菌装置２２は、酸素を含む空気に紫外線を照射して、生成したオゾン（除菌ガス）を浴室内に吐出するように構成されてもよい。
【0051】
本実施形態において、気化した除菌水の有効成分における「有効」とは、例えば対象物に付着している菌や黴、酵母の減菌率が１０％以上であることを示す。詳述すると、対象物に付着していた菌や黴、酵母の量に対して、気化した除菌水によって、該対象物に付着している菌や黴、酵母の量の割合が、９０％以下になった場合、気化した除菌水が有効であったと定義する。除菌水や除菌ガスは、例えば対象物に付着している菌や黴、酵母の減菌率が１０％以上、より好ましくは２０％以上である除菌水や除菌ガスである。
【0052】
本実施形態において、詳細は後述するが、ノズル部３２は、電動モータ５３によって回転駆動されるようになっている。電動モータ５３は、例えばステッピングモータからなる。電動モータ５３は、制御部２９によって制御されるようになっている。これにより、ノズル部３２は、制御部２９からの信号に基づいて電動モータ５３が制御されることにより、回転角度や回転速度が変化するようになっている。また、制御部２９には、除菌作業を開始するためのスイッチを備えた操作パネル２８が接続されていて、浴室利用者が除菌作業以外についても適宜の操作を行うことができるようになっている。
【0053】
図７及び図８に示すように、ノズル部３２は、滞留水通水部５４と、第２通水部（除菌水通水部）５６と、滞留水通水部５４に形成された滞留水用ノズル開口５８と、除菌水通水部５６に形成された除菌水用ノズル開口６０と、を有している。
【0054】
第１電磁弁３８を通過した水道水は、滞留水通水部５４内に供給され、第１ノズル開口である滞留水用ノズル開口５８から吐水されるようになっている。除菌水生成部４８によって生成された除菌水は、除菌水通水部５６内に供給され、第２ノズル開口である除菌水用ノズル開口６０から吐水されるようになっている。滞留水用ノズル開口５８から水道水が垂直方向に広がるように吐水され、除菌水用ノズル開口６０から除菌水が垂直方向に広がるように吐水される。さらに、ノズル部３２が電動モータ５３により軸線を中心に回転することにより、水平方向の広い範囲に水道水及び除菌水を吐水することができるようになっている。上述のように除菌装置２２は、封水形成部１４に水を供給する給水装置としても機能する。なお、除菌システムは、除菌装置２２の他に、封水形成部１４に水を供給する給水装置を別途設けてもよい。例えば、洗い場床１２を介さずに封水形成部１４内に水を直接供給する給水経路を形成している給水装置を備えていてもよい。
【0055】
次に、図９及び図１０により、浴室１の天井２４に設けられた浴室乾燥装置２７について説明する。図９は浴室乾燥装置２７により浴室１内を換気している状態を示し、図１０は入浴前の暖房、入浴中の暖房、及び、本実施形態による除菌システム２０により「除菌水吐水」が実行されるときの状態を示している。なお、図中の矢印は、空気の流れの様子を示している。
【0056】
図９に示すように、浴室乾燥装置２７は、ハウジング７０を備え、このハウジング７０の下部は開口７２を介して浴室１の内部に連通している。ハウジング７０内には、ファン７４が設けられ、電動モータにより回転し、このファン７４の回転により、浴室１内の空気を吸引するようになっている。さらに、ハウジング７０内のファン７４の下流側には、排気ダンパー７６とヒーター７８が設けられている。さらに、排気ダンパー７６の下流側には、排出口８０が設けられている。
【0057】
図９に示すように、浴室乾燥装置２７により浴室１内を換気する場合には、排気ダンパー７６が開操作され、ファン７４により吸引された浴室１内の空気が排出口８０から外部に排出されるようになっている。
【0058】
次に、図１０に示すように、先ず、入浴前及び入浴中に浴室１内を暖房する場合には、排気ダンパー７６が閉操作され、ファン７４により吸引された浴室１内の空気はヒーター７８により温められ、この温められた空気が開口７２から浴室１内に戻るようになっている。このようにして、浴室１内の空気が浴室乾燥装置２７との間で循環され、浴室１内の空気が所望の温度（例えば２０℃）に維持されるようになっている。
【0059】
本実施形態による除菌システム２０により除菌水吐水を行う場合も、図１０に示すように、排気ダンパー７６が閉操作され、ファン７４により吸引された浴室１内の空気はヒーター７８により温められ、この温められた空気が開口７２から浴室１内に戻り、浴室１内の空気が浴室乾燥装置２７との間で循環されるようになっている。このとき、浴室１内は換気されていないので、浴室１内の空気は浴室１内に閉じ込められている。
【0060】
次に、図１１及び図１２により、本実施形態による除菌システム２０の動作について説明する。図１１は本発明の第１実施形態による除菌システムによる動作を示すタイムチャートであり、図１２は本発明の第１実施形態による除菌システムによる動作を示すフローチャートである。
【0061】
先ず、図１１に示すように、制御部２９が操作パネル２８の入力を受けて浴室乾燥装置２７及び除菌装置２２を駆動させ、浴室乾燥装置２７は運転開始から１２分間の間、浴室１内の空気の換気を行い（図９参照）、この状態で、除菌装置２２は、浴室１の洗い場床１２に向けて水を散水して「予洗い」を実行する。除菌装置２２が洗い場床１２に向けて水を吐水するので、図１１に示すように除菌装置２２からの吐水流量[L/min]は３[L/min]まで上昇され、その後一定に保たれる。
【0062】
洗い場床１２に吐水された水が封水形成部１４に流入すると、水位上昇部２６により封水形成部１４内の水位が封水水位Ｗ０から第２水位Ｗ２を超えて第３水位Ｗ３まで上昇される。このように、封水形成部１４内の水位が第１水位よりも上昇している状態で、後述するように制御部２９は、超音波発振器６４を駆動させる。
【0063】
制御部２９は、除菌装置２２による吐水開始から所定時間経過後に、超音波発振器６４の超音波振動子を発振させ、超音波発振器６４は、１３分の間駆動され、超音波を照射させ、封水形成部１４内の水が接している内壁１４ｅ等の超音波洗浄を実行する。このとき、超音波発振器６４は、間欠的に駆動される。例えば、超音波発振器６４は、時刻ｔ１にＯＮ状態とされた後、時刻ｔ２にＯＦＦ状態とされ、次いで、時刻ｔ３にＯＮ状態とされた後、時刻ｔ４にＯＦＦ状態とされる。以後同様に、時刻ｔ５乃至ｔ８において、超音波発振器６４は、ＯＮ状態とＯＦＦ状態とが切り替わるように制御される。制御部２９は、超音波発振器６４を封水形成部１４内の水位が上昇する前に駆動開始させているが、水位が上昇を開始した後駆動開始させてもよい。水位が封水水位Ｗ０よりも上昇された状態で超音波発振器６４が駆動されるので、封水形成部１４において汚れやすく且つ封水水位Ｗ０のままでは洗浄しにくい封水水位Ｗ０の高さ近傍の内壁１４ｅを超音波により効果的に洗浄できる。
【0064】
次に、開始から１２分経過したら、３４分の間、浴室乾燥装置２７は、排気ダンパー７６を閉じて換気を停止し（図１０参照）、その状態でヒーター７８をＯＮとして浴室１内の空気を温め、温まった空気を循環させる。
除菌装置２２は、開始から１２分経過したら、４分の間、除菌装置２２による水の吐水を停止して、待機する。その後、３０分の間、除菌装置２２は、間欠的に「除菌水吐水」を行い、その後、「除菌水吐水」を終了する。
除菌装置２２は、開始から１２分経過したら、４分の間、除菌装置２２による水の吐水を停止して、待機する。その後、３０分の間、除菌装置２２は、間欠的に「除菌水吐水」を行い、その後、「除菌水吐水」を終了する。
【0065】
除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水により、吐水流量[L/min]は０．５[L/min]まで上昇され、その後一定に保たれる。除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水により、封水形成部１４内の水位が封水水位Ｗ０から第２水位Ｗ２に向けてわずかに上昇される。
【0066】
制御部２９は、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水を開始してから所定期間にわたって超音波発振器６４を駆動させずに待機状態とする。
【0067】
制御部２９は、除菌装置により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、超音波発振器６４により超音波の照射を行わせる。例えば、制御部２９は、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水を実行中に、時刻ｔ１０において超音波発振器６４を駆動させる。超音波発振器６４の駆動は、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水の終了（時刻ｔ１１）を超えて継続している。超音波発振器６４の駆動は、時刻ｔ１２において終了する。超音波発振器６４が時刻ｔ１１から時刻ｔ１２まで駆動されることにより、水面が波立ち、封水形成部内の空気の流動が促進されやすくなり、除菌ガスを封水形成部内の水面まで供給しやすくできる。また、封水形成部１４内の水面に超音波が照射されることにより、封水形成部１４内の水の水温が上昇され、水による上昇気流が生じやすくされ、封水形成部１４内の空気の流動が促進されやすくなり、除菌ガスを封水形成部１４内の水位高さの内壁１４ｅまで供給しやすくできる。さらに、封水形成部１４内の水面が波立つことにより、波立ちによって露出される封水水位よりも下方側の周壁にも除菌ガスが作用でき、菌や黴の増殖を抑制できる領域をより広げることができる。所定期間は、例えば、除菌水が吐出開始された時刻ｔ９から除菌ガスを浴室内で作用させるために十分な時刻ｔ１３までの期間であり、好ましくは除菌水等の吐出開始から約１時間（５６分間）である。所定期間は、約１時間から約２時間程度の時間とされてもよく、浴室乾燥装置２７の換気運転の始まるまでの時間として設定されていてもよい。
【0068】
除菌装置２２が「除菌水吐水」を行っているとき、浴室乾燥装置２７は、排気ダンパー７６を閉じて換気を停止し、ヒーター７８により浴室１内の空気を温め、温まった空気を循環させるようにしているので、この循環空気により、吐水された除菌水は揮発して気化する。暖まった空気の循環は、除菌水の気化に有効であるが、ヒーター７８をＯＦＦにして、単に送風させるだけでも、除菌水を気化させることができる。浴室乾燥装置２７は、その後、２６分の間、排気ダンパー７６を閉じて換気を停止した状態を継続し、ヒーター７８をＯＦＦにして浴室１内の空気を循環させる。よって、時刻ｔ９において除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水を開始してから浴室乾燥装置２７のヒーター７８をＯＦＦにした状態の空気循環が終了するまで（時刻ｔ１３まで）の間に、除菌ガスが浴室内の手指等では清掃しにくいところまで供給され、封水形成部１４内の水位高さの内壁１４ｅまで供給される。除菌ガスが対象物（例えば封水水位近傍の内壁１４ｅ）に付着している水に溶解することにより、対象物に付着している菌や黴、酵母を有効に除菌できる。
【0069】
制御部２９は、浴室乾燥装置２７のヒーター７８をＯＦＦにした状態の空気循環を終了させた後、時刻ｔ１３から除菌装置２２により再び洗い場床１２に向けて「後洗い」の水を散水する。制御部２９は、除菌装置２２により「予洗い」と同程度の吐水流量３[L/min]の吐水を行う。除菌装置２２による吐水流量は変更されてもよい。制御部２９は、除菌装置２２により５分間の吐水を実行させた後、時刻ｔ１４において吐水を停止させ、待機状態とさせる。
【0070】
浴室乾燥装置２７は、ｔ１１以後、２６分の間、排気ダンパー７６を閉じて換気を停止した状態を継続し、ヒーター７８をＯＦＦにして浴室１内の空気を循環させる。その後、２４時間の間、浴室乾燥装置２７は、排気ダンパー７６を開いて浴室１内の空気の換気を行い（図９参照）、その後、換気を終了する。
【0071】
次に、図１２により、本実施形態による除菌システムにより実行される制御フローを説明する。図１２に示される制御フローと、上述した図１１による説明とは、基本動作は同じである。なお、図１２において、「Ｓ」は各ステップを示す。
【0072】
図１２に示すように、Ｓ１において、操作パネル２８に設けられた除菌システムの運転を開始するためのスイッチをＯＮとする。Ｓ２に進み、制御部２９は、浴槽乾燥装置（乾燥装置）２６による換気運転を開始させ、同時に、除菌装置２２による「予洗い」運転も開始させる。
【0073】
制御部２９は、Ｓ２を実行後、Ｓ３を実行させると共に、独自に並行してＳ４も実行させる。
先ず、Ｓ３において、制御部２９は、Ｓ２の実行開始後、１分経過したか否かを判定する。１分経過までは、封水形成部１４内の水位の上昇が開始されておらず超音波発振器６４の超音波により封水水位Ｗ０よりも高い位置を洗浄しにくいと判断するので、水位の上昇の開始まで待機するため、Ｓ３の判定を継続する。
Ｓ３において、制御部２９は、１分経過したと判定した場合には、封水形成部１４内の水位の上昇が開始され超音波発振器６４の超音波により封水水位Ｗ０よりも高い位置を洗浄しやすい状態となったと判断できるので、Ｓ５に進み、超音波発振器６４を駆動させ、超音波洗浄を実行する。
Ｓ５においては、制御部２９は、超音波発振器６４を間欠的に駆動させる。具体的には、制御部２９は、超音波発振器６４を所定時間（例えばｔ１～ｔ２）駆動した後、所定時間（例えばｔ２～ｔ３）停止され、その後、再び所定時間（例えばｔ３～ｔ４）駆動される。
次に、制御部２９は、Ｓ６に進み、１３分経過したか否かを判定する。１３分経過までは、Ｓ６の運転を継続する。制御部２９は、Ｓ６において、１３分経過したと判定した場合には、封水形成部１４内の水が接している壁等の超音波洗浄を実行するのに十分な時間が経過したと判断できるので、Ｓ７に進み、超音波発振器６４の駆動を停止させる。
先ず、Ｓ３において、制御部２９は、Ｓ２の実行開始後、１分経過したか否かを判定する。１分経過までは、封水形成部１４内の水位の上昇が開始されておらず超音波発振器６４の超音波により封水水位Ｗ０よりも高い位置を洗浄しにくいと判断するので、水位の上昇の開始まで待機するため、Ｓ３の判定を継続する。
Ｓ３において、制御部２９は、１分経過したと判定した場合には、封水形成部１４内の水位の上昇が開始され超音波発振器６４の超音波により封水水位Ｗ０よりも高い位置を洗浄しやすい状態となったと判断できるので、Ｓ５に進み、超音波発振器６４を駆動させ、超音波洗浄を実行する。
Ｓ５においては、制御部２９は、超音波発振器６４を間欠的に駆動させる。具体的には、制御部２９は、超音波発振器６４を所定時間（例えばｔ１～ｔ２）駆動した後、所定時間（例えばｔ２～ｔ３）停止され、その後、再び所定時間（例えばｔ３～ｔ４）駆動される。
次に、制御部２９は、Ｓ６に進み、１３分経過したか否かを判定する。１３分経過までは、Ｓ６の運転を継続する。制御部２９は、Ｓ６において、１３分経過したと判定した場合には、封水形成部１４内の水が接している壁等の超音波洗浄を実行するのに十分な時間が経過したと判断できるので、Ｓ７に進み、超音波発振器６４の駆動を停止させる。
【0074】
制御部２９は、Ｓ２を実行後、Ｓ３と独立して、Ｓ４も実行させ、Ｓ４において、Ｓ２の実行開始後、１２分経過したか否かを判定する。１２分経過までは、Ｓ２の実行を継続しつつＳ４の判定を継続する。
【0075】
この除菌装置２２による「予洗い」運転により、洗い場床１２に、必要な量の残留水を形成することができ、この残留水に後述する除菌ガスが溶解して、さらなる除菌効果を得ることができる。また、「予洗い」運転により、封水形成部１４内の水位を上昇させ、封水形成部１４内の封水水位Ｗ０から第３水位Ｗ３までの高さの内壁１４ｅに水を付着させた状態（濡れた状態）とすることができる。よって、この水に除菌ガスが溶解して、さらなる除菌効果を得ることができる。
【0076】
Ｓ４において、１２分経過したと判定した場合には、Ｓ８に進み、浴室乾燥装置２７による換気運転は停止し（排気ダンパーが閉じられる）、且つ、除菌装置２２による「予洗い」運転も停止する。
【0077】
次に、Ｓ９に進み、除菌装置２２が「予洗い」運転を停止して４分待機したか否かを判定する。４分待機するまでは、Ｓ１０に進み、浴室内温度が２０℃以上か否かを判定し、２０℃以上でない場合には、Ｓ１１に進み、浴室乾燥装置２７のヒーター７８をＯＮとし、浴室内の空気を暖めて循環させる循環運転を行う。このＳ１１における動作は、浴室室内の温度が２０℃以上でない場合には、Ｓ８において乾燥装置の排気停止が行われた後直ぐに実行される。さらに、Ｓ１０において、浴室内温度が２０℃以上であると判定された場合には、Ｓ１２に進み、乾燥装置は、排気ダンパーを閉じた状態で、空気を循環させる循環運転を行う。
【0078】
Ｓ９において、除菌装置２２が４分待機したと判定された場合には、Ｓ１３に進み、除菌装置２２により「除菌水吐水」を開始する。除菌装置２２から「除菌水吐水」された除菌水には、浴室乾燥装置２７により暖まった循環空気が作用し、これにより、除菌水が気化し、除菌水が気化することで生成された除菌ガスが上述した洗い場床１２上に残留した残留水や封水形成部１４内の内壁に付着した水に溶解して、除菌効果を向上させている。なお、浴室内の温度が２０℃以上の場合には、ヒーター７８をＯＦＦしても、除菌水を容易に気化させることができる。
【0079】
制御部２９は、Ｓ１３を実行後、Ｓ１４を実行させると共に、独自に並行してＳ１５も実行させる。
先ず、Ｓ１４において、制御部２９は、Ｓ１３の実行開始後、２５分経過したか否かを判定する。制御部２９は、除菌ガスが対象物に付着している水に溶解することにより、対象物に付着している菌や黴、酵母をより有効に除菌するために、２５分経過までは待機する必要があると判断するのでＳ１４の判定を継続する。なお、２５分経過前でも除菌効果は十分に得られるが、より除菌効果を得るため制御部２９は、Ｓ１４において、２５分経過の判定を行っている。Ｓ１４において、制御部２９は、２５分経過したと判定した場合には、除菌ガスが対象物に付着している水に溶解することにより、対象物に付着している菌や黴、酵母をより有効に除菌できたと判断できるので、Ｓ１６に進み、超音波発振器６４を駆動させ、超音波洗浄を実行する。Ｓ１６においては、制御部２９は、超音波発振器６４を時刻ｔ１０から時刻ｔ１２まで継続して駆動させる。
先ず、Ｓ１４において、制御部２９は、Ｓ１３の実行開始後、２５分経過したか否かを判定する。制御部２９は、除菌ガスが対象物に付着している水に溶解することにより、対象物に付着している菌や黴、酵母をより有効に除菌するために、２５分経過までは待機する必要があると判断するのでＳ１４の判定を継続する。なお、２５分経過前でも除菌効果は十分に得られるが、より除菌効果を得るため制御部２９は、Ｓ１４において、２５分経過の判定を行っている。Ｓ１４において、制御部２９は、２５分経過したと判定した場合には、除菌ガスが対象物に付着している水に溶解することにより、対象物に付着している菌や黴、酵母をより有効に除菌できたと判断できるので、Ｓ１６に進み、超音波発振器６４を駆動させ、超音波洗浄を実行する。Ｓ１６においては、制御部２９は、超音波発振器６４を時刻ｔ１０から時刻ｔ１２まで継続して駆動させる。
【0080】
次に、制御部２９は、Ｓ１７に進み、１０分（時刻ｔ１０から時刻ｔ１２まで）経過したか否かを判定する。１０分経過までは、Ｓ１７の運転を継続する。制御部２９は、Ｓ１７において、１０分経過したと判定した場合には、封水形成部内の空気を流動させるのに十分な時間が経過したと判断できるので、Ｓ１８に進み、超音波発振器６４の駆動を停止させる。
【0081】
制御部２９は、Ｓ１３を実行後、Ｓ１４と独立して、Ｓ１５も実行させ、Ｓ１５において、Ｓ１３の実行開始後、３０分経過したか否かを判定する。３０分経過までは、Ｓ１９に進み、浴室内温度が２０℃以上か否かを判定し、２０℃以上でない場合には、Ｓ２０に進み、浴室乾燥装置２７のヒーター７８をＯＮとし、浴室内の空気を暖めて循環させる循環運転を行う。さらに、Ｓ１９において、浴室内温度が２０℃以上であると判定された場合には、Ｓ２１に進み、乾燥装置は、排気ダンパーを閉じた状態で、空気を循環させる循環運転を行う。
【0082】
Ｓ１５において、除菌装置２２による除菌水の吐水が３０分継続したと判定された場合には、Ｓ２２に進み、制御部２９は、浴室乾燥装置２７のヒーター７８をＯＦＦとし、循環運転を停止させる。また、制御部２９は、除菌装置２２による除菌水の吐水を停止させる。
【0083】
次に、Ｓ２３において、制御部２９は、Ｓ２２の実行後、２６分経過したか否かを判定する。制御部２９は、除菌ガスが対象物に付着している水に溶解することにより、対象物に付着している菌や黴、酵母をさらに有効に除菌するために、さらに２６分経過するまで待機すると判断するのでＳ２３の判定を継続する。なお、２６分経過前でも除菌効果は十分に得られるが、さらに除菌効果を得るため制御部２９は、Ｓ２３において、２６分経過の判定を行っている。制御部２９は、Ｓ２３において、２６分経過したと判定した場合には、Ｓ２４を実行させると共に、独自に並行してＳ２５も実行させる。
Ｓ２４において、除菌装置２２が「後洗い」運転を開始させる。この除菌装置２２による「後洗い」運転により、洗い場床１２や封水形成部１４内の除菌された菌等を洗い流してさらに除菌効果を高めることができる。
Ｓ２４において、除菌装置２２が「後洗い」運転を開始させる。この除菌装置２２による「後洗い」運転により、洗い場床１２や封水形成部１４内の除菌された菌等を洗い流してさらに除菌効果を高めることができる。
【0084】
Ｓ２４の実行開始後、Ｓ２６において５分経過したか否かを判定する。５分経過までは、Ｓ２４の実行を継続しつつＳ２６の判定を継続する。Ｓ２６において、５分経過したと判定した場合には、Ｓ２７に進み、制御部２９は、除菌装置２２による「後洗い」運転を停止させる。
【0085】
Ｓ２５において、浴室乾燥装置２７によるダンパー７６を閉じた状態での循環運転は停止され、Ｓ２８に進む。制御部２９は、Ｓ２８において、浴室乾燥装置２７の２４時間換気運転を開始させる。制御部２９は、浴室乾燥装置２７において、排気ダンパー７６を開いた状態で、換気運転を２４時間継続させる。これにより、本実施形態による除菌システムによる浴室の除菌動作は終了する。
【0086】
図１１に示すような本実施形態による除菌システム２０の動作や、図１２に示すような本実施形態による除菌システムにより実行される制御フローの動作における変形例について説明する。
上述の第１実施形態においては、除菌装置２２が洗い場床１２に向けて吐水を開始するタイミング（時刻ｔ０）よりもやや遅れた時点（時刻ｔ１）から超音波発振器６４の駆動が開始されている。これに対し、変形例として、超音波発振器６４の駆動開始が除菌装置２２の吐水開始よりも前の時点であってもよく、また、超音波発振器６４の駆動開始が除菌装置２２の吐水開始と同時の時点であってもよい。
また、本実施形態においては、超音波発振器６４の駆動が終了されるタイミング（時刻ｔ８）は、除菌装置２２の予洗いの吐水の終了の時点よりも遅い時点となっている。これに対し、変形例として、超音波発振器６４の駆動が終了されるタイミングは除菌装置２２の予洗いの吐水の終了の時点よりも早い時点であってもよく、また、除菌装置２２の予洗いの吐水の終了の時点と同時の時点であってもよい。さらに、超音波発振器６４の駆動が終了されるタイミングは除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水を開始して以後の時点であってもよい。
また、本実施形態においては、超音波発振器６４は、駆動開始から駆動終了まで間欠的に駆動されている。これに対し、変形例においては、超音波発振器６４は、駆動開始（時刻ｔ１）から駆動終了（時刻ｔ８）まで継続的に駆動されていてもよい。
上述の第１実施形態においては、除菌装置２２が洗い場床１２に向けて吐水を開始するタイミング（時刻ｔ０）よりもやや遅れた時点（時刻ｔ１）から超音波発振器６４の駆動が開始されている。これに対し、変形例として、超音波発振器６４の駆動開始が除菌装置２２の吐水開始よりも前の時点であってもよく、また、超音波発振器６４の駆動開始が除菌装置２２の吐水開始と同時の時点であってもよい。
また、本実施形態においては、超音波発振器６４の駆動が終了されるタイミング（時刻ｔ８）は、除菌装置２２の予洗いの吐水の終了の時点よりも遅い時点となっている。これに対し、変形例として、超音波発振器６４の駆動が終了されるタイミングは除菌装置２２の予洗いの吐水の終了の時点よりも早い時点であってもよく、また、除菌装置２２の予洗いの吐水の終了の時点と同時の時点であってもよい。さらに、超音波発振器６４の駆動が終了されるタイミングは除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水を開始して以後の時点であってもよい。
また、本実施形態においては、超音波発振器６４は、駆動開始から駆動終了まで間欠的に駆動されている。これに対し、変形例においては、超音波発振器６４は、駆動開始（時刻ｔ１）から駆動終了（時刻ｔ８）まで継続的に駆動されていてもよい。
【0087】
また、本実施形態においては、制御部２９は、浴室乾燥装置２７のヒーター７８をＯＦＦにした状態の空気循環を終了させた後、時刻ｔ１３から除菌装置２２により再び洗い場床１２に向けて「後洗い」の水を散水する。これに対し、変形例として、制御部２９は、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水終了の直後から、除菌装置２２により再び洗い場床１２に向けて「後洗い」の水を散水してもよく、また、浴室乾燥装置２７のヒーター７８をＯＦＦにした状態の空気循環を実行している途中において、除菌装置２２により再び洗い場床１２に向けて「後洗い」の水を散水してもよい。
【0088】
また、本実施形態においては、制御部２９は、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水を実行中に、時刻ｔ１０において超音波発振器６４を駆動させ、「除菌水吐水」の吐水の終了後に、超音波発振器６４の駆動を終了させている。これに対し、変形例として、制御部２９は、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水を実行中に、超音波発振器６４の駆動を開始させ、「除菌水吐水」の吐水の終了前に、超音波発振器６４の駆動を終了させてもよい。また、別の変形例として、制御部２９は、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水終了以後に、超音波発振器６４の駆動を開始させ、ヒーター７８をＯＦＦにした浴室１内の空気循環の終了前に、超音波発振器６４の駆動を終了させてもよい。
本実施形態においては、超音波発振器６４は、駆動開始（時刻ｔ１０）から駆動終了（時刻ｔ１２）まで継続的に駆動されている。これに対し、変形例においては、超音波発振器６４は、駆動開始から駆動終了まで間欠的に駆動されていてもよい。
本実施形態においては、超音波発振器６４は、駆動開始（時刻ｔ１０）から駆動終了（時刻ｔ１２）まで継続的に駆動されている。これに対し、変形例においては、超音波発振器６４は、駆動開始から駆動終了まで間欠的に駆動されていてもよい。
【0089】
本実施形態においては、制御部２９は、除菌装置２２により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、送風装置６６として機能する浴室乾燥装置２７のヒーター７８をＯＦＦにした状態の空気循環により空気を排水カバー１５に送る。これに対し、変形例として、制御部２９は、除菌装置２２により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、浴室乾燥装置２７とは別に設けられた送風装置６６により空気を排水カバー１５に送ってもよい。除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水中に送風装置の駆動が開始され、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水が終了するまでに送風装置の駆動が終了されてもよい。なお、さらなる変形例として、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水中に送風装置の駆動が開始され、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水終了以後に送風装置の駆動が終了されてもよい。また、さらなる変形例として、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水終了以後に送風装置の駆動が開始され、ヒーター７８をＯＦＦにした浴室１内の空気循環の終了までに、送風装置６６の駆動が終了されてもよい。なお、除菌装置２２からの「除菌水吐水」の吐水終了以後に送風装置６６の駆動が終了されてもよい。
【0090】
次に、図１３を参酌して、本実施形態による除菌システムの基本原理について説明する。図１３は本発明の実施形態による除菌システムの原理の一部を説明するための線図である。
図１３に示すように、従来は、塩素濃度Ａの除菌水がノズルから散水され、除菌水が除菌対象の到達点に達したときに、「効果を発揮する濃度Ｂ」であることが必要であり、さらに、除菌水の到達点における「着水量」と「作用時間」も重要であった。
図１３に示すように、従来は、塩素濃度Ａの除菌水がノズルから散水され、除菌水が除菌対象の到達点に達したときに、「効果を発揮する濃度Ｂ」であることが必要であり、さらに、除菌水の到達点における「着水量」と「作用時間」も重要であった。
【0091】
この従来技術においては、ノズルから散水された除菌水が到達点に到達するまでの間に、揮発（気化）し、それにより、除菌水の濃度が低下するという問題があった。そのため、到着点における「濃度×着水量×作用時間」を考慮して除菌水を散水する必要があり、広い範囲で浴室を除菌することが難しかった。
【0092】
ここで、除菌水がノズルから到達点に到達するまでの間に、除菌水を揮発（気化）して生成された除菌ガスは何ら除菌作業に活用されていないので、本発明者らは、この除菌ガスを除菌作業に活用することを見出した。即ち、除菌ガスを、上述した「予洗い」動作により洗い場床や浴槽エプロン、カウンター裏、壁等に残った残水に、溶解させ、これにより、除菌ガスを活用し、広範囲な除菌を可能としたのである。
【0093】
以下、本実施形態による除菌システムによる作用効果を説明する。
一般的には、浴室１に滞留した水（残水）があると菌・カビ汚れの原因となるので好ましくない。しかしながら、本実施形態においては、あえて浴室１に残水を残し、この状態で、浴室１に除菌水を吐水し、この吐水された除菌水を浴室乾燥装置２７により気化させている。これにより、除菌水を気化することで生成された除菌ガスを残水に溶解させるので、直接除菌水を付着させることができない部位（隅部、継ぎ目、カウンタ裏面、天井、壁の上部、収納棚等）にまで除菌効果を得ることができる。この結果、本実施形態によれば、浴室内を広い範囲で除菌することができる。
一般的には、浴室１に滞留した水（残水）があると菌・カビ汚れの原因となるので好ましくない。しかしながら、本実施形態においては、あえて浴室１に残水を残し、この状態で、浴室１に除菌水を吐水し、この吐水された除菌水を浴室乾燥装置２７により気化させている。これにより、除菌水を気化することで生成された除菌ガスを残水に溶解させるので、直接除菌水を付着させることができない部位（隅部、継ぎ目、カウンタ裏面、天井、壁の上部、収納棚等）にまで除菌効果を得ることができる。この結果、本実施形態によれば、浴室内を広い範囲で除菌することができる。
【0094】
本実施形態による除菌システム２０は、さらに、封水形成部１４に向けて下方に傾斜した排水傾斜を有する洗い場床１２を備える。これにより、洗い場床１２の水が排水傾斜により封水形成部１４に排出されやすくでき、除菌ガスが洗い場床の水分に溶解され、除菌ガスが封水水位付近の周壁に作用する効率が低下してしまうことを抑制できる。
【0095】
上述した本実施形態においては、浴室１に吐水された除菌水を浴室乾燥装置２７の空気の流れ又は加温された空気の流れにより、気化させて、この気化した除菌ガスを浴室１内に残る残留水に溶解させるようにしている。しかしながら、本実施形態においては、除菌水の全てが気化する必要はなく、微粒化した状態の除菌水（除菌ガス）と気体状の除菌ガスの混合物であってもよい。また、他の変形例として、除菌装置２２は、微粒子状の除菌水を含むミスト状の除菌ガスを吐出するようにしていてもよい。
【0096】
このように構成された本発明の第１実施形態の構造によれば、制御部２９は、第２水位Ｗ２に向かう水位上昇中の少なくとも一部の期間において超音波発振器６４による照射を行わせるので、封水形成部１４内の水位が第１水位である封水水位Ｗ０よりも高い水位まで上昇した状態において超音波を照射し、封水形成部１４において汚れやすく且つ封水水位Ｗ０のままでは洗浄しにくい封水の高さの内壁１４ｅを超音波により効果的に洗浄できる。さらに、制御部２９は、第２水位Ｗ２に向かう水位上昇が少なくとも終わってから除菌装置２２による除菌水又は除菌ガスの供給を停止させるので封水形成部１４の封水水位Ｗ０付近の内壁１４ｅの汚れが超音波により落とされ、さらに水位上昇が終わった後に、除菌水又は除菌ガスを、洗浄後の内壁に供給できる。これにより、仮に超音波洗浄により剥離した汚れが内壁１４ｅに再付着したとしても、内壁１４ｅにおける菌やカビの増殖を抑制できる。
【0097】
このように構成された本発明の第１実施形態の構造によれば、さらに、除菌装置２２による除菌水又は除菌ガスの供給の停止後に、封水形成部１４に水を供給する給水装置を備える。これにより、除菌装置２２により供給された除菌水又は除菌ガスにより除菌された菌やカビ等の汚れを排出でき、このような汚れが内壁１４ｅに付着することを抑制でき、内壁１４ｅにおける菌やカビの増殖をより抑制できる。
【0098】
このように構成された本発明の第１実施形態の構造によれば、除菌装置２２は、除菌ガスを吐出させる又は除菌水を吐出させた後この除菌水を気化させることにより除菌ガスを生じさせるように構成される。仮に除菌水を液体のまま直接に封水形成部１４内の水面まで供給する場合には、封水形成部１４の内壁１４ｅに到達するまでの経路で、例えば、床面などに残存している水や汚れなどにより、除菌水の減衰する可能性がある。それと比べて、本発明においては、除菌ガスを床面などに残存している水や汚れなどに接触させにくくすることができる。すなわち、濃度が比較的高い状態を保ちながら封水形成部１４内の水位高さの内壁１４ｅまで除菌ガスを供給できる。これにより、除菌ガスをより効果的に活用して菌やカビの増殖をより抑制できる。
【0099】
このように構成された本発明の第１実施形態の構造によれば、除菌装置２２は、水位上昇部２６により封水形成部１４内の水位が上昇されることにより濡れた状態となる第１水位より上方の封水形成部１４の内壁１４ｅが乾燥状態になる前に、除菌水又は除菌ガスを吐出するように構成される。これにより、除菌装置２２は、第１水位より上方の封水形成部１４の内壁１４ｅが濡れた状態となっている間に除菌ガスを封水形成部１４の内壁１４ｅに供給できる。これにより、内壁１４ｅが乾燥状態の場合と異なり、濡れた状態の内壁１４ｅに除菌ガスを供給することができるため、除菌ガスを内壁１４ｅの水分に溶解させることができる。従って、除菌ガスを、乾燥状態の内壁１４ｅ上の対象物に直接反応させるよりも、濡れた状態の内壁１４ｅの水滴の表面積に応じて水分に溶解させることができ、対象物により有効に作用させやすくできる。
【0100】
このように構成された本発明の第１実施形態の構造によれば、さらに、浴室内の水蒸気量を減少させる浴室乾燥装置２７を備え、制御部２９は、浴室乾燥装置２７により浴室内の水蒸気量を減少させた後に、除菌装置２２により、除菌水又は除菌ガスを吐出させる。これにより、除菌ガスが浴室内の水蒸気に溶解され、除菌ガスが封水水位Ｗ０付近の内壁１４ｅに作用する効率が低下してしまうことを抑制できる。
【0101】
本実施形態と異なり、除菌装置２２が排水カバー１５よりも上方側から除菌水又は除菌ガスを吐出させる場合には、排水カバー１５の形態によっては、排水カバー１５により除菌装置２２から供給された除菌ガス等が封水形成部１４に到達しにくくなる可能性がある。
このように構成された本発明の第１実施形態の構造によれば、排水カバー１５は、上記封水形成部１４と連通する開口部を少なくとも２方向に向けて形成する。従って、排水カバー１５から封水形成部１４への空気の流れを形成しやすくできる。よって、排水カバー１５が設けられる場合であっても除菌水又は除菌ガスを、封水形成部１４内の内壁１４ｅに供給しやすくできる。
このように構成された本発明の第１実施形態の構造によれば、排水カバー１５は、上記封水形成部１４と連通する開口部を少なくとも２方向に向けて形成する。従って、排水カバー１５から封水形成部１４への空気の流れを形成しやすくできる。よって、排水カバー１５が設けられる場合であっても除菌水又は除菌ガスを、封水形成部１４内の内壁１４ｅに供給しやすくできる。
【0102】
このように構成された本発明の第１実施形態の構造によれば、制御部２９は、除菌装置２２により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、超音波発振器６４により超音波の照射を行わせる。これにより、封水形成部１４内の水面に超音波が照射されることにより、水面が波立ち、封水形成部１４内の空気の流動が促進されやすくなり、除菌ガスを封水形成部１４内の水位高さの内壁１４ｅまで供給しやすくできる。また、封水形成部１４内の水面に超音波が照射されることにより、封水形成部１４内の水の水温が上昇され、水による上昇気流が生じやすくされ、封水形成部１４内の空気の流動が促進されやすくなり、除菌ガスを封水形成部１４内の水位高さの内壁１４ｅまで供給しやすくできる。さらに、封水形成部１４内の水面が波立つことにより、封水水位Ｗ０よりも下方側の内壁１４ｅにも除菌ガスが作用でき、菌やカビの増殖を抑制できる領域をより広げることができる。
【0103】
このように構成された本発明の第１実施形態の構造によれば、制御部２９は、除菌装置２２により除菌水又は除菌ガスが吐出開始された後の所定期間内のいずれかの期間において、送風装置６６により空気を排水カバー１５に送る。これにより、封水形成部１４内の空気の流動が促進されやすくなり、除菌ガスを封水形成部１４内の水位高さの内壁１４ｅまで供給しやすくできる。
【0104】
このように構成された本発明の第１実施形態の構造によれば、さらに、封水形成部１４に向けて下方に傾斜した排水傾斜を有する洗い場床１２を備える。これにより、洗い場床１２の水が排水傾斜により封水形成部１４に排出されやすくでき、除菌ガスが洗い場床１２の水分に溶解され、除菌ガスが封水水位Ｗ０付近の内壁１４ｅに作用する効率が低下してしまうことを抑制できる。
【0105】
次に、図１４及び図１５により、上述した本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第１変形例を説明する。本発明の第１実施形態による除菌システムの変形例について、第１実施形態による除菌システム２０と異なる点のみを説明し、同一部分には同一符号を付して説明を省略する。本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の変形例の動作（作用）については、第１実施形態による除菌システムの水位上昇の動作（作用）と同様であるので説明を省略する。図１４は、本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第１変形例における水位上昇部において可動堰が待機状態となっている様子を示す拡大断面図である。図１５は、本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第１変形例における水位上昇部において可動堰が上昇している状態となっている様子を示す拡大断面図である。
【0106】
第１変形例においては、水位上昇部２６は、頂部１４ｃに可動堰３１を備える点が、本実施形態において水位上昇部２６の壁３０が、封水形成部１４内の流路の下部側を絞る絞り部を形成している構造と異なっている。
【0107】
本変形例においては、水位上昇部２６は、頂部１４ｃに設けられた可動堰３１を備えている。水位上昇部２６は、電動式の流路調整弁等により形成することができる。封水水位Ｗ０は頂部１４ｃにより規定されている。このような水位上昇部２６は、流路の封水水位を規定する頂部１４ｃの高さを上昇させるように構成されている。可動堰３１は、頂部１４ｃに設けられた軸部３１ａの周りを回動する可動壁３１ｂを備えている。可動堰３１は、左右方向に延び、封水形成部１４の側壁と合わせて流路の堰となるような壁部（流路に対して左右方向に延びるような壁部）を形成する。可動堰３１は、制御部２９と電気的に接続され、制御部２９の指令により駆動されるようになっている。図１４に示すように、可動堰３１の可動壁３１ｂが水平に延びる水平姿勢をとるとき、封水水位Ｗ０は、この水平に延びる可動堰３１の高さとなる。一方で、図１５に示すように。可動堰３１の可動壁３１ｂが垂直に立つ垂直姿勢を取るとき、封水水位は、この垂直に延びる可動堰３１の頂部３１ｃの高さ（第２水位Ｗ２）となる。
【0108】
制御部２９は、第１電磁弁３８又は第２電磁弁４０が開状態となる等、封水形成部１４内に水が流入すると判断した場合に、制御部２９は、可動堰３１を水平から上昇させるように回動させる。従って、水位上昇部２６は、封水形成部１４内に流入する水により、封水形成部１４内の水位が第１水位である封水水位Ｗ０から封水水位Ｗ０より高い第２水位Ｗ２まで上昇されやすくなるように形成されている。制御部２９が吐水の開始を判断したことに基づいて、制御部２９が可動堰３１を回動させて封水形成部１４内の水位を上昇させ、水位を第２水位Ｗ２に向けて上昇させるように制御されてもよい。さらに、例えば、制御部２９が、水位が第２水位Ｗ２まで上昇された後、水が洗い場床１２側に逆流しないように、この可動堰３１等を元に戻す等の制御を行って封水形成部１４内の水位上昇を抑制してもよい。
【0109】
次に、図１６及び図１７により、上述した本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第２変形例を説明する。
本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第２変形例について、第１実施形態による除菌システム２０の水位上昇部と異なる点のみを説明し、同一部分には同一符号を付して説明を省略する。本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の変形例の動作（作用）については、第１実施形態による除菌システムの水位上昇の動作（作用）と同様であるので説明を省略する。図１６は、本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第２変形例における水位上昇部において可動堰が待機状態となっている様子を示す拡大断面図である。図１７は、本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第２変形例における水位上昇部において可動堰が下降している状態となっている様子を示す拡大断面図である。
本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第２変形例について、第１実施形態による除菌システム２０の水位上昇部と異なる点のみを説明し、同一部分には同一符号を付して説明を省略する。本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の変形例の動作（作用）については、第１実施形態による除菌システムの水位上昇の動作（作用）と同様であるので説明を省略する。図１６は、本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第２変形例における水位上昇部において可動堰が待機状態となっている様子を示す拡大断面図である。図１７は、本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第２変形例における水位上昇部において可動堰が下降している状態となっている様子を示す拡大断面図である。
【0110】
この第２変形例においては、水位上昇部２６は、封水形成部１４内に流路の開度を変更できるような弁体３３を備えている点が、本実施形態において水位上昇部２６の壁３０が、封水形成部１４内の流路の下部側を絞る絞り部を形成している構造と異なっている。
【0111】
本変形例においては、水位上昇部２６は、封水形成部１４内に可動式の弁体３３を備えている。弁体は制御部２９と電気的に接続され、制御部２９からの制御指令を受けて封水形成部１４内の流路の開度を変更できる。このような水位上昇部２６は、流路の通水面積を一時的に減少させることにより封水形成部１４内の水位を上昇させやすくするように構成されている。可動式の弁体３３は、封水形成部１４内に取付けられる軸部３３ａの周りを回動する可動壁３３ｂを備えている。可動壁３３ｂは、左右方向に延び、封水形成部１４の側壁と合わせて流路に対して左右方向に延びる壁部を形成する。弁体３３は、頂部１４ｃより上流側の管路の頂部に設けられている。弁体３３は、頂部１４ｃより下流側の管路に設けられていてもよく、また、管路の頂部に限られず、側部又は底部に設けられていてもよい。弁体３３は、制御部２９と電気的に接続され、制御部２９の指令により駆動されるようになっている。
【0112】
図１６に示すように、弁体３３の可動壁３３ｂが軸部３３ａから水平に延びるとき、封水形成部１４内の流路は狭められていない状態となっている。このとき、封水水位Ｗ０は、頂部１４ｃの高さとなっている。一方で、図１７に示すように。弁体３３の可動壁３３ｂが封水形成部１４内の流路を狭めるような位置まで移動されるとき、通水面積が一時的に減少されることにより、封水形成部１４内の水位が上昇されやすくなる。制御部２９は、第１電磁弁３８又は第２電磁弁４０が開状態となる等、封水形成部１４内に水が流入すると判断した場合に、制御部２９は、弁体３３を封水形成部１４内の流路を狭めるように回動させる。従って、水位上昇部２６は、封水形成部１４内に流入する水により、封水形成部１４内の水位が第１水位である封水水位Ｗ０から封水水位Ｗ０より高い第２水位Ｗ２まで上昇されやすくなるように形成されている。制御部２９が吐水の開始を判断したことに基づいて、制御部２９が弁体３３を回動させて封水形成部１４内の水位を上昇させ、水位を第２水位Ｗ２に向けて上昇させるように制御されてもよい。さらに、例えば、制御部２９が、水位が第２水位Ｗ２まで上昇された後水が洗い場床１２側に逆流しないように、この弁体３３等を元に戻す等の制御を行って封水形成部１４内の水位上昇を抑制してもよい。
【0113】
次に、図１８により、上述した本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第３変形例を説明する。本発明の一第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の変形例について、第１実施形態による除菌システム２０の水位上昇部と異なる点のみを説明し、同一部分には同一符号を付して説明を省略する。本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第３変形例の動作（作用）については、第１実施形態による除菌システムの水位上昇の動作（作用）と同様であるので説明を省略する。図１８は、本発明の第１実施形態による除菌システムの水位上昇部の第３変形例における水位上昇部を説明する断面図である。
【0114】
この第３変形例においては、水位上昇部２６は、壁３０を備えていなく、封水形成部１４が浴槽１０の排水流路２１と接続されている構造となっている点が、本実施形態において水位上昇部２６の壁３０が、封水形成部１４内の流路の下部側を絞る絞り部を形成している構造と異なっている。
【0115】
本変形例においては、水位上昇部２６は、排水流路２１を備え、封水形成部１４が浴槽１０の排水流路２１と接続され、浴槽１０からの比較的大流量の排水により水位が上昇するようになっている。浴槽１０内に貯水されていた水を排水するときに、浴槽１０から封水形成部１４に供給される水の単位時間当たりの流量が、封水形成部１４から下流側に排出される単位時間当たりの流量を超えるので、封水形成部１４内の水位が上昇される。水位上昇部２６は、通常想定される浴槽１０内の貯水量による排水流量により水位を上昇させるように構成される。よって、水位上昇部２６は、封水形成部１４内に流入する水により、封水形成部１４内の水位が第１水位である封水水位Ｗ０から封水水位Ｗ０より高い第２水位Ｗ２まで上昇されやすくなるように形成されている。第２水位Ｗ２は、想定される浴槽１０からの排水流量と封水形成部１４から下流側に排出される排水流量とのバランスにより規定されてもよいし、封水形成部１４を含む排水流路内の構造により規定されてもよい。
【0116】
次に、図１９により、本発明の第２実施形態による除菌システムを備えたシャワールーム装置を説明する。第２実施形態は、本発明による除菌システムをシャワールームに適用した例である。図１９は本発明の第２実施形態による除菌システムを備えたシャワールーム装置の斜視図である。
【0117】
第２実施形態による除菌システムは、上述した第１実施形態による除菌システムと基本構造が類似しているため、本発明の第２実施形態の第１実施形態とは異なる点のみを説明し、同様な部分については図面に同じ参照符号を付する又は図示を省略して説明を省略する。本発明の第２実施形態によるシャワールーム装置の動作（作用）や各測定方法等については、第１実施形態による浴槽装置の動作（作用）や各測定方法等と同様であるので説明を省略する。
【0118】
図１９に示すように、シャワールーム１０１は、ほぼ直方体の４つの側面を形成する第１壁１０２、第２壁１０４、第３壁１０６及び第４壁１０８を備えている。シャワールーム１０１の下方には洗い場床１１２が設けられている。この洗い場床１１２の下方には封水形成部１１４が設けられ、この封水形成部１１４から湯水が外部に排出されるようになっている。洗い場床１１２は封水形成部１１４に向けて下方に傾斜した排水傾斜を有する。
【0119】
第３壁１０６の側の一部には腰掛け形状のカウンタ１１６が設けられている。カウンタ１１６は第３壁１０６から水平方向に延び、使用者が腰掛けることができるようになっている。第２壁１０４には、湯水を吐水する吐水部１８、シャワー３４等の水栓装置などが設けられている。
【0120】
カウンター１１６の下面側には、本実施形態による除菌システム２０の一部を構成する除菌水及び水道水（水）を吐水するための吐水装置である除菌装置２２が設けられている。カウンター１１６は、洗い場床１１２から上方に離間して設けられている。
【0121】
除菌システム１２０は、シャワールーム１０１の洗い場床１１２の下流側に設けられる封水形成部１１４内に形成される封水の高さ近傍の内壁１４ｅを除菌する。
除菌システム１２０は、封水形成部１１４に向けて下方に傾斜した排水傾斜を有する洗い場床１１２と、第１水位で封水水位Ｗ０を形成する封水形成部１１４と、封水形成部１１４内に流入する水により、封水形成部１１４内の水位が第１水位である封水水位Ｗ０から第１水位より高い第２水位Ｗ２まで上昇されやすくなるように形成されている水位上昇部２６と、除菌水又は除菌ガスを封水形成部１１４内の水位高さの内壁１４ｅまで供給する除菌装置２２と、超音波発振器６４及び除菌装置２２を制御する制御部２９と、を備える。
除菌システム１２０は、封水形成部１１４に向けて下方に傾斜した排水傾斜を有する洗い場床１１２と、第１水位で封水水位Ｗ０を形成する封水形成部１１４と、封水形成部１１４内に流入する水により、封水形成部１１４内の水位が第１水位である封水水位Ｗ０から第１水位より高い第２水位Ｗ２まで上昇されやすくなるように形成されている水位上昇部２６と、除菌水又は除菌ガスを封水形成部１１４内の水位高さの内壁１４ｅまで供給する除菌装置２２と、超音波発振器６４及び除菌装置２２を制御する制御部２９と、を備える。
【0122】
封水形成部１１４は、洗い場床１１２の下部と接続される。封水形成部１１４は、超音波洗浄機能付きの排水装置として形成されている。封水形成部１１４は、洗い場床１１２に吐水された水を排水するとともに、流入された水の一部を貯留させてその内部に封水水位Ｗ０で通常時（待機状態）の封水を形成する機能を有する。図２０に示すように、封水形成部１４は、封水水位Ｗ０に封水を形成するようなトラップ形状の流路を形成する。封水形成部１１４には、洗い場床１１２からの流路とは別の水の供給流路が接続されていてもよい。
【0123】
除菌装置２２は、除菌ガスを封水形成部１１４内の水位高さの内壁１４ｅまで供給するように構成される。除菌装置２２は、排水カバー１５よりも上方側から除菌水又は除菌ガスを吐出させるように構成される。
【0124】
次に、図２０により、封水形成部１１４の水位上昇部について説明する。
水位上昇部２６は、例えば封水形成部１１４内に流入する水が所定流量以上である場合に、封水形成部１１４内に流入する水により、封水形成部１１４内の水位が封水形成部１１４内の第１水位である封水水位Ｗ０から封水形成部１１４内の封水水位Ｗ０より高い第２水位Ｗ２までは上昇しやすくなるように形成されている。水位上昇部２６は、封水形成部１１４内に配置されることにより水位を調整する。水位上昇部２６は、封水形成部１４内の水位が封水水位Ｗ０から第２水位Ｗ２までの間にある場合における下流側への排水量が、封水形成部１１４内の水位が第２水位Ｗ２に到達して以後における下流側への排水量よりも少なくなるように形成される。水位上昇部２６は、封水形成部１１４の排水トラップの封水水位Ｗ０を規定する封水水位規定部である頂部１４ｃに形成されている。
水位上昇部２６は、例えば封水形成部１１４内に流入する水が所定流量以上である場合に、封水形成部１１４内に流入する水により、封水形成部１１４内の水位が封水形成部１１４内の第１水位である封水水位Ｗ０から封水形成部１１４内の封水水位Ｗ０より高い第２水位Ｗ２までは上昇しやすくなるように形成されている。水位上昇部２６は、封水形成部１１４内に配置されることにより水位を調整する。水位上昇部２６は、封水形成部１４内の水位が封水水位Ｗ０から第２水位Ｗ２までの間にある場合における下流側への排水量が、封水形成部１１４内の水位が第２水位Ｗ２に到達して以後における下流側への排水量よりも少なくなるように形成される。水位上昇部２６は、封水形成部１１４の排水トラップの封水水位Ｗ０を規定する封水水位規定部である頂部１４ｃに形成されている。
【0125】
次に、図１９に示すように、カウンター１１６の内部には、除菌装置２２が設けられ、この除菌装置２２は、カウンター１６の下カバー１６ｂから下方に突出するノズル部３２を備えている。
第２実施形態による除菌システム１２０の動作及び効果等については、第１実施形態による除菌システム２０の動作及び効果等と同様であるので説明を省略する。
第２実施形態による除菌システム１２０の動作及び効果等については、第１実施形態による除菌システム２０の動作及び効果等と同様であるので説明を省略する。
【符号の説明】
【0126】
１ ：浴室
１２ ：洗い場床
１４ ：封水形成部
１４ｂ ：上昇部
１５ ：排水カバー
２０ ：除菌システム
２２ ：除菌装置
２６ ：水位上昇部
２７ ：浴室乾燥装置
２９ ：制御部
３０ ：壁
６２ ：水位上昇部
６４ ：超音波発振器
６６ ：送風装置
１１２ ：洗い場床
１１４ ：封水形成部
１２０ ：除菌システム
Ｗ０ ：封水水位
Ｗ２ ：第２水位
１２ ：洗い場床
１４ ：封水形成部
１４ｂ ：上昇部
１５ ：排水カバー
２０ ：除菌システム
２２ ：除菌装置
２６ ：水位上昇部
２７ ：浴室乾燥装置
２９ ：制御部
３０ ：壁
６２ ：水位上昇部
６４ ：超音波発振器
６６ ：送風装置
１１２ ：洗い場床
１１４ ：封水形成部
１２０ ：除菌システム
Ｗ０ ：封水水位
Ｗ２ ：第２水位
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】