特開 2023-84861 光学ユニット

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023084861

(43)【公開日】2023-06-20

(54)【発明の名称】光学ユニット

(51)【国際特許分類】

   G02B 7/04 20210101AFI20230613BHJP

   G03B 17/02 20210101ALI20230613BHJP

   G03B 5/00 20210101ALI20230613BHJP

   G02B 7/02 20210101ALI20230613BHJP

   G02B 7/18 20210101ALI20230613BHJP

   H04N 23/55 20230101ALI20230613BHJP

   H04N 23/68 20230101ALI20230613BHJP

【ＦＩ】

G02B7/04 E

G03B17/02

G03B5/00 J

G02B7/02 Z

G02B7/18

H04N5/225 400

H04N5/232 480

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021199219

(22)【出願日】2021-12-08

(71)【出願人】

【識別番号】000232302

【氏名又は名称】ニデック株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100168583

【弁理士】

【氏名又は名称】前井 宏之

(72)【発明者】

【氏名】岩瀬 敬之

(72)【発明者】

【氏名】江川 智浩

(72)【発明者】

【氏名】田中 元紀

【テーマコード（参考）】

2H043

2H044

2H100

2K005

5C122

【Ｆターム（参考）】

2H043BA00

2H043BB00

2H043BC08

2H043CA02

2H043CD03

2H043CE00

2H044AJ04

2H044BE02

2H044BE09

2H100EE01

2K005AA06

2K005CA23

2K005CA53

5C122DA09

5C122EA01

5C122EA41

5C122FB11

5C122GE06

5C122GE11

5C122GE18

5C122HA82

(57)【要約】      （修正有）

【課題】収容部に基板部を精度良く固定できる光学ユニットを提供すること。
【解決手段】光学ユニットは、可動部と、固定部とを有する。前記可動部は、光学要素を有する。前記固定部は、前記可動部を揺動可能に支持する。前記固定部は、基板部と、収容部とを有する。前記基板部は、前記可動部を揺動させるコイルが配置される。前記収容部は、前記基板部の少なくとも一部を収容する。前記収容部は、第１位置決め部を前記収容部の内側に有する。前記第１位置決め部は、前記基板部の位置を決める。前記第１位置決め部は、前記基板部の厚み方向に交差する方向に沿った両方向に前記基板部の位置を決める。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

光学要素を有する可動部と、
前記可動部を揺動可能に支持する固定部と
を有し、
前記固定部は、
前記可動部を揺動させるコイルが配置される基板部と、
前記基板部の少なくとも一部を収容する収容部と
を有し、
前記収容部は、前記基板部の位置を決める第１位置決め部を前記収容部の内側に有し、
前記第１位置決め部は、前記基板部の厚み方向に交差する方向に沿った両方向に前記基板部の位置を決める、光学ユニット。

【請求項2】

前記第１位置決め部は前記基板部を収容する窪みである、請求項１に記載の光学ユニット。

【請求項3】

前記可動部を支持する支持機構を更に有し、
前記収容部は、複数の壁部を更に有し、
前記複数の壁部のうちの１つの壁部は、前記支持機構が配置され、
前記複数の壁部のうちの他の１つの壁部は、前記基板部の少なくとも一部を支持し、
前記他の１つの壁部は、前記１つの壁部に接続される、請求項２に記載の光学ユニット。

【請求項4】

前記光学要素は、第１方向の一方側に進行する光を前記第１方向に対して交差する第２方向の一方側に反射し、
前記複数の壁部は、
前記第１方向の一方側に配置される第１壁部と、
前記第２方向の他方側に配置される第２壁部と、
前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに対して交差する第３方向の一方側に配置される第３壁部と、
前記第３方向の他方側に配置される第４壁部と
を有する、請求項３に記載の光学ユニット。

【請求項5】

前記基板部は、
前記第２壁部に支持される第１基板と、
前記第１基板から前記第２方向の一方側に向かって延び、前記第３壁部に支持される第２基板と、
前記第１基板から前記第２方向の一方側に向かって延び、前記第４壁部に支持される第３基板と
を有し
前記コイルは、
前記第１基板に配置される第１コイルと、
前記第２基板に配置される第２コイルと、
前記第３基板に配置される第３コイルと
を有する、請求項４に記載の光学ユニット。

【請求項6】

前記収容部は、
前記第３壁部から前記第２壁部に沿って伸びる第２位置決め部と、
前記第４壁部から前記第２壁部に沿って伸びる第３位置決め部と
を更に有し、
前記第２位置決め部は、前記第１基板と前記第２基板との位置を決め、
前記第３位置決め部は、前記第１基板と前記第３基板との位置を決める、請求項５に記載の光学ユニット。

【請求項7】

磁性体を更に有し、
前記可動部は、前記磁性体と引き合う磁石を有し、
前記収容部は、前記磁性体が配置される凹部を有し、
前記コイルは、前記磁石と前記磁性体との間に位置する、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光学ユニット。

【請求項8】

前記収容部は、前記収容部の内側と外側とを貫通する貫通孔を有し、
前記基板部は、少なくとも一部が前記貫通孔に配置される、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の光学ユニット。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光学ユニットに関する。

【背景技術】

【0002】

カメラによって静止画又は動画を撮影する際に手振れに起因して像ブレが生じることがある。そして、像ブレを抑制して鮮明な撮影を可能にするための手振れ補正装置が実用化されている。

【0003】

例えば、特許文献１には、反射部材と、ホルダと、第１のハウジングと基板とを有する反射モジュールが記載されている。ホルダには、反射部材が取り付けられる。第１のハウジングは、ホルダを収容する。ホルダは、第１のハウジング内で第１の軸及び第２の軸に対して自由に回転する。また、ホルダと第１のハウジングとの対向面には、互いに磁気的に引き付けられる第１ヨークと磁石とがそれぞれ配置される。基板は、第１のハウジングの外側に位置する。基板には、コイルが実装される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】米国特許出願公開第２０１８／０１０９６６０号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

特許文献１のような反射モジュールでは、第１のハウジングのような収容部に対して基板部が位置決めされないため、収容部に対して基板部の位置が変わることがある。例えば、特許文献１のような反射モジュールは、第１のハウジングのような収容部に対して基板部が位置決めされないため、落下などの衝撃に応じて、収容部に対して基板部の位置が変わることがある。更に、例えば、特許文献１のような反射モジュールは、基板部が正確に取り付けられていないことがある。

【0006】

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、収容部に基板部を精度良く固定できる光学ユニットを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の例示的な光学ユニットは、可動部と、固定部とを有する。前記可動部は、光学要素を有する。前記固定部は、前記可動部を揺動可能に支持する。前記固定部は、基板部と、収容部とを有する。前記基板部は、前記可動部を揺動させるコイルが配置される。前記収容部は、前記基板部の少なくとも一部を収容する。前記収容部は、第１位置決め部を前記収容部の内側に有する。前記第１位置決め部は、前記基板部の位置を決める。前記第１位置決め部は、前記基板部の厚み方向に交差する方向に沿った両方向に前記基板部の位置を決める。

【発明の効果】

【0008】

本発明の光学ユニットによれば、収容部に基板部を精度良く固定できる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本発明の実施形態に係る光学ユニットを備えたスマートフォンを模式的に示す斜視図である。

【図2】本実施形態に係る光学ユニットを示す斜視図である。

【図3】本実施形態に係る光学ユニットを可動部と固定部とに分解した分解斜視図である。

【図4】本実施形態に係る光学ユニットの可動部の分解斜視図である。

【図5】本実施形態に係る光学ユニットの固定部の分解斜視図である。

【図6】本実施形態に係る光学ユニットの収容部を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。

【0011】

本明細書では、理解の容易のため、互いに交差する第１方向Ｘ、第２方向Ｙ及び第３方向Ｚを適宜記載している。また、本明細書では、第１方向Ｘ、第２方向Ｙ及び第３方向Ｚは互いに直交しているが、直交していなくてもよい。また、第１方向の一方側を第１方向Ｘの一方側Ｘ１と記載し、第１方向の他方側を第１方向Ｘの他方側Ｘ２と記載する。また、第２方向の一方側を第２方向Ｙの一方側Ｙ１と記載し、第２方向の他方側を第２方向Ｙの他方側Ｙ２と記載する。また、第３方向の一方側を第３方向Ｚの一方側Ｚ１と記載し、第３方向の他方側を第３方向Ｚの他方側Ｚ２と記載する。また、便宜上、第１方向Ｘを上下方向として説明する場合がある。第１方向Ｘの一方側Ｘ１は下方向を示し、第１方向Ｘの他方側Ｘ２は上方向を示す。ただし、上下方向、上方向、及び下方向は、説明の便宜上定めるものであり、鉛直方向に一致する必要はない。また、あくまで説明の便宜のために上下方向を定義したに過ぎず、本発明に係る光学ユニット１の使用時及び組立時の向きを限定しない。

【0012】

なお、本明細書において、方位、線及び面のうちのいずれかと他のいずれかとの位置関係において、「平行」は、両者がどこまで延長しても全く交わらない状態のみならず、実質的に平行である状態を含む。また、「垂直」及び「直交」はそれぞれ、両者が互いに９０度で交わる状態のみならず、実質的に垂直である状態及び実質的に直交する状態を含む。つまり、「平行」、「垂直」及び「直交」はそれぞれ、両者の位置関係に本発明の効果を奏する程度の角度ずれがある状態を含み得ることは言うまでもない。

【0013】

まず、図１を参照して、光学ユニット１の用途の一例について説明する。図１は、本発明の実施形態に係る光学ユニット１を備えたスマートフォン２００を模式的に示す斜視図である。スマートフォン２００は、光学ユニット１を有する。光学ユニット１は、入射した光を特定の方向に反射する。図１に示すように、光学ユニット１は、例えばスマートフォン２００の光学部品として好適に用いられる。なお、光学ユニット１の用途は、スマートフォン２００に限定されず、デジタルカメラ及びビデオカメラなどの種々の装置に使用できる。

【0014】

スマートフォン２００は、光の入射するレンズ２０２を有する。スマートフォン２００では、光学ユニット１は、レンズ２０２よりも内側に配置される。光Ｌがレンズ２０２を介してスマートフォン２００の内部に入射すると、光Ｌは光学ユニット１によって進行方向が変更される。そして、光Ｌは、レンズユニット（図示せず）を介して撮像素子（図示せず）で撮像される。

【0015】

次に、図２から図５を参照して、光学ユニット１について説明する。図２は、本実施形態に係る光学ユニット１を示す斜視図である。図３は、本実施形態に係る光学ユニット１を可動部２と固定部３とに分解した分解斜視図である。図４は、本実施形態に係る光学ユニット１の可動部２の分解斜視図である。図５は、本実施形態に係る光学ユニット１の固定部３の分解斜視図である。

【0016】

図２及び図３に示すように、光学ユニット１は、可動部２と、固定部３と、揺動機構５と、支持機構７とを少なくとも有する。

【0017】

可動部２は、固定部３に支持される。可動部２は、光学要素１０を有する。

【0018】

図４に示すように、光学要素１０は、光の進行方向を変える。光学要素１０は、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に進行する光Ｌを、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙの一方側Ｙ１に反射する。光学要素１０は、プリズムからなる。プリズムは、空気よりも屈折率の高い透明な材料から形成される。なお、光学要素１０は、例えば、板状の鏡であってもよい。本実施形態では、光学要素１０は、略三角柱形状を有する。

【0019】

具体的には、光学要素１０は、光入射面１１と、光出射面１２と、反射面１３と、一対の側面１４とを有する。光入射面１１には、光Ｌが入射される。光出射面１２は、光入射面１１に接続する。光出射面１２は、光入射面１１に対して垂直に配置される。反射面１３は、光入射面１１及び光出射面１２に接続する。反射面１３は、光入射面１１及び光出射面１２のそれぞれに対して約４５度傾斜する。反射面１３は、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に進行する光Ｌを、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙの一方側Ｙ１に反射する。すなわち、光学要素１０は、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に進行する光Ｌを、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙの一方側Ｙ１に反射する。一対の側面１４は、光入射面１１、光出射面１２及び反射面１３に接続する。

【0020】

固定部３は、可動部２を揺動可能に支持する。固定部３は、揺動軸線Ａ２を中心として揺動可能に、可動部２を支持する。具体的には、固定部３は、支持機構７を介して可動部２を揺動可能に支持する。固定部３は、基板部８０と、収容部６０とを有する。

【0021】

基板部８０は、可動部２を揺動させるコイル５２が配置される。具体的には、基板部８０は、第２方向Ｙの一方側Ｙ１の側にコイル５２が配置される。基板部８０は、コイル５２に対して、所定のタイミングで電力を供給する。基板部８０は、例えばポリイミド基板からなる。基板部８０は、可撓性を有する。具体的には、基板部８０は、ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）である。

【0022】

収容部６０は、基板部８０の少なくとも一部を収容する。つまり、収容部６０の内側には、基板部８０が位置する。換言すると、収容部６０は、基板部８０の第２方向Ｙの他方側Ｙ２を覆う。また、収容部６０の内側には、可動部２が位置する。すなわち、収容部６０は、可動部２を介して、間接的に光学要素１０を支持する。

【0023】

本実施形態の収容部６０は、第１位置決め部６５を有する。第１位置決め部６５は、基板部８０の位置を決める。第１位置決め部６５は、収容部６０の内側に位置する。第１位置決め部６５は、基板部８０の厚み方向に交差する方向に沿った両方向に基板部８０の位置を決める。したがって、収容部６０に対して、基板部８０の位置が変わることを抑制できる。この結果、収容部６０に基板部８０を精度良く固定できる。また、例えば、光学ユニット１に対して衝撃が加わったとしても、基板部８０は第１位置決め部６５に位置するため、収容部６０に対して基板部８０の位置が変わることを抑制できる。更に、第１位置決め部６５を目印にして、基板部８０を収容部６０に配置できる。よって基板部８０を正確に取り付けることが可能となる。

【0024】

本実施形態の第１位置決め部６５は、窪みである。つまり、基板部８０は窪みに収容される。したがって、基板部８０は窪みによって移動が制限される。この結果、収容部６０に基板部８０を更に精度良く固定できる。

【0025】

また、基板部８０の位置が変わることに起因して、コイル５２の位置が設計者の意図した位置から変わることを抑制できる。つまり、可動部２の揺動機能を設計者が望む性能とすることが可能となる。よって、複数の光学ユニット１を製造する際に、製造時の誤差に起因して光学ユニット１ごとに可動部２の揺動機能に差がでることを抑制できる。

【0026】

また、光学ユニット１を製造する作業者は、第１位置決め部６５を目印にして、基板部８０を収容部６０の内側に位置させることができる。つまり、第１位置決め部６５は、作業者に対して、収容部６０の内側に基板部８０を位置させるように促すことができる。

【0027】

また、図３に示すように、収容部６０は、揺動軸線Ａ１と交差する揺動軸線Ａ２を中心として揺動可能に、可動部２を支持する。また、収容部６０は、第１方向Ｘに可動部２を支持する。したがって、光学要素１０の第１方向Ｘの位置が変化することを抑制できるため、反射光（光学要素１０から出射する光Ｌ）の第１方向Ｘの位置が変化することを抑制できる。

【0028】

また、図５に示すように、収容部６０は、凹部Ｈ１を有する。凹部Ｈ１は、例えば、窪みであってもよいし貫通孔であってもよい。本実施形態では、凹部Ｈ１は矩形の貫通孔である。

【0029】

揺動機構５は可動部２を揺動する。図２及び図３に示すように、揺動機構５は、磁石５１とコイル５２と磁性体８４とを有する。

【0030】

磁石５１は、コイル５２と対向する。磁石５１は、可動部２に配置される。磁石５１は、磁性体８４と引き合う。

【0031】

磁性体８４は、磁石５１に対向する。コイル５２に通電しない状態において、磁石５１及び磁性体８４の間には引力が生じる。よって、可動部２は、揺動軸線Ａ１を中心とする回転方向及び揺動軸線Ａ２を中心とする回転方向において、基準位置に配置される。磁性体８４は、収容部６０の凹部に配置される。つまり、収容部６０は磁性体８４が配置される凹部を有する。

【0032】

コイル５２は、磁石５１と対向する。コイル５２は、固定部３に配置される。したがって、コイル５２に電流を流した際に生じる磁場に起因して、磁石５１に力が作用する。そして、可動部２は、固定部３に対して揺動する。よって、磁石５１及びコイル５２を用いた簡素な構成で可動部２を揺動できる。本実施形態では、磁石５１は、可動部２に配置される。コイル５２は、固定部３に配置される。コイル５２を固定部３に配置することによって、コイル５２は固定部３に対して揺動しない。したがって、コイル５２を例えば可動部２に配置する場合と比較して、コイル５２に対して容易に配線できる。

【0033】

また、コイル５２は、磁性体８４に対向する。本実施形態では、コイル５２は、磁石５１と磁性体８４との間に位置する。収容部６０の凹部Ｈ１に配置された磁性体８４は、第１方向Ｘの移動と第２方向Ｙの移動とが抑制される。したがって、磁性体８４の位置ずれを抑制できる。この結果、可動部２が揺動軸線Ａ１を中心とする回転方向及び揺動軸線Ａ２を中心とする回転方向に揺動しても、可動部２を精度良く基準位置に戻すことが可能となる。

【0034】

支持機構７は、可動部２を支持する。支持機構７は、可動部２を揺動可能に支持する。支持機構７は、可動部２と固定部３との間に位置する。支持機構７については、図５を参照して後述する。

【0035】

引き続き、図２～図５を参照して、光学ユニット１を更に詳しく説明する。図４に示すように、可動部２は、ホルダ２０と、支持体３０と、予圧部４０とを更に有する。

【0036】

ホルダ２０は、光学要素１０を保持する。ホルダ２０は、例えば樹脂からなる。ホルダ２０は、ホルダ本体２１と、一対の側面部２２とを有する。

【0037】

ホルダ本体２１は、第３方向Ｚに延びる。ホルダ本体２１は、光学要素１０を支持する。ホルダ本体２１は、光学要素１０の反射面１３に面し、一対の側面部２２に接続される。ホルダ本体２１は、光Ｌの入射方向に対して約４５度傾斜した傾斜面であり、傾斜面の略全域にわたって光学要素１０の反射面１３と接触する。光Ｌの入射方向は、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に向かう方向である。

【0038】

一対の側面部２２は、ホルダ本体２１から第３方向Ｚと交差する交差方向に延びる。交差方向は、例えば、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙを含む。一対の側面部２２は、ホルダ本体２１の第３方向Ｚの両端に配置される。一対の側面部２２は、第３方向Ｚに互いに対称な形状を有する。側面部２２は、対向側面２２ａと、軸上凹部２２ｂと、制限凹部２２ｃとを有する。

【0039】

対向側面２２ａは、一対の側面部２２のそれぞれに配置される。対向側面２２ａは、予圧部４０に対向する。

【0040】

軸上凹部２２ｂは、対向側面２２ａに配置される。軸上凹部２２ｂは、揺動軸線Ａ１上においてホルダ２０の内側に向かって窪む。軸上凹部２２ｂは、予圧部４０の軸上凸部４５の少なくとも一部を収容する。軸上凹部２２ｂは、凹状の球面の少なくとも一部を有する。

【0041】

制限凹部２２ｃは、予圧部４０が側面部２２に沿って所定距離以上移動することを制限する。より具体的には、制限凹部２２ｃは、第３方向Ｚにおいてホルダ２０の内側に向かって窪む。制限凹部２２ｃは、本実施形態では、例えば４つ設けられている。制限凹部２２ｃの数は、１つであってもよいが、複数であることが好ましい。

【0042】

支持体３０は、ホルダ２０を支持する。具体的には、図２に示すように、支持体３０は、揺動軸線Ａ２と交差する揺動軸線Ａ１を中心として揺動可能に、光学要素１０を保持したホルダ２０を支持する。揺動軸線Ａ１は、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに対して交差する第３方向Ｚに沿って延びる軸線である。また、支持体３０は、揺動軸線Ａ２を中心として揺動可能に、固定部３に支持される。揺動軸線Ａ２は、第１方向Ｘに沿って延びる軸線である。

【0043】

つまり、ホルダ２０は支持体３０に対して揺動可能であり、支持体３０は収容部６０に対して揺動可能である。したがって、揺動軸線Ａ１及び揺動軸線Ａ２のそれぞれを中心として光学要素１０を揺動できるため、揺動軸線Ａ１及び揺動軸線Ａ２のそれぞれを中心として光学要素１０の姿勢を補正できる。よって、２つの方向において像ブレを抑制できる。その結果、１つの揺動軸線のみを中心として光学要素１０を揺動させる場合に比べて、補正精度を向上できる。なお、揺動軸線Ａ１は、ピッチング軸とも呼ばれる。揺動軸線Ａ２は、ロール軸とも呼ばれる。

【0044】

したがって、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する揺動軸線Ａ１を中心として光学要素１０を揺動できる。また、第１方向Ｘに沿って延びる揺動軸線Ａ２を中心として光学要素１０を揺動できる。よって、光学要素１０の姿勢を適切に補正できる。また、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、光Ｌの進行方向に沿った方向である。つまり、光の進行方向である第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する揺動軸線Ａ１を中心として光学要素１０を揺動できる。したがって、光学要素１０の姿勢をより適切に補正できる。

【0045】

また、支持体３０は、第３方向Ｚにホルダ２０を支持する。したがって、支持体３０を、第３方向Ｚに沿って延びる揺動軸線Ａ１を中心として容易に揺動できる。具体的には、本実施形態では、支持体３０は、予圧部４０を介して第３方向Ｚにホルダ２０を支持する。

【0046】

支持体３０は、支持本体３１と、一対の側面部３２とを有する。

【0047】

支持本体３１は、一対の側面部３２を接続する。支持本体３１は、ホルダ２０に対して第１方向Ｘに対向する。

【0048】

支持本体３１は、収容穴３０３ａと、磁性体１５２とを有する。収容穴３０３ａは、磁性体１５２を収容する。磁性体１５２は、収容穴３０３ａに配置される。磁性体１５２は、磁性体からなる板状の部材である。

【0049】

一対の側面部３２は、支持本体３１の第３方向Ｚの両端に配置される。一対の側面部３２は、第３方向Ｚに互いに対称な形状を有する。側面部３２は、内側面３２ａを有する。内側面３２ａは、ホルダ２０に対して第３方向Ｚに対向する。一対の側面部３２は、揺動軸線Ａ１の軸線方向においてホルダ２０の両側に配置される。一対の側面部３２は、第３方向Ｚに互いに対称な形状を有する。側面部３２は、収容凹部３２ｆを有する。収容凹部３２ｆは、第３方向Ｚの外側を向く。収容凹部３２ｆは、揺動機構５の磁石５１の少なくとも一部を収容する。

【0050】

予圧部４０は、ホルダ２０と支持体３０とを接続する。予圧部４０は、弾性変形可能である。また、予圧部４０は、ホルダ２０及び支持体３０の少なくとも一方に配置される。予圧部４０は、ホルダ２０及び支持体３０の少なくとも他方に対して、揺動軸線Ａ１の軸線方向に予圧を付与する。したがって、ホルダ２０が支持体３０に対して揺動軸線Ａ１の軸線方向に位置ズレすることを抑制できる。また、各部材の寸法に製造誤差が生じた場合であっても、揺動軸線Ａ１の軸線方向にがたつき等が生じることを抑制できる。言い換えると、例えば、揺動軸線Ａ１の軸線方向にホルダ２０の位置が変位することを抑制できる。揺動軸線Ａ１の軸線方向は、第３方向Ｚに沿った方向である。なお、本明細書において「予圧を付与する」とは、予め荷重を与えることを意味する。

【0051】

予圧部４０は、ホルダ２０と支持体３０との間に配置される。予圧部４０は、ホルダ２０に対して揺動軸線Ａ１の軸線方向に予圧を付与する。本実施形態では、各予圧部４０は、単一の部材である。予圧部４０は、１枚の板部材を折り曲げることによって形成されている。予圧部４０は、本実施形態では板バネである。予圧部４０は、支持体３０に配置される。

【0052】

予圧部４０は、ホルダ２０側に位置する第１面部４１と、支持体３０側に位置する第２面部４２と、第１面部４１及び第２面部４２を接続する湾曲部４３とを有する。したがって、予圧部４０を揺動軸線Ａ１の軸線方向に容易に変形できる。その結果、湾曲部４３のたわみにより弾性力が生じるため、簡素な構成で、ホルダ２０に対して軸線方向に容易に予圧を付与できる。

【0053】

また、本実施形態では、予圧部４０は一対設けられている。つまり、光学ユニット１は、予圧部４０を一対有する。一対の予圧部４０は、ホルダ２０に対して揺動軸線Ａ１の軸線方向の両側に配置される。したがって、予圧部４０をホルダ２０の片側のみに配置する場合に比べて、ホルダ２０をより安定して支持できる。

【0054】

また、予圧部４０は、軸上凸部４５と、突出部４６と、取付部４７とを有する。

【0055】

軸上凸部４５は、ホルダ２０に向かって突出する。具体的には、軸上凸部４５は、ホルダ２０の軸上凹部２２ｂに接触する。更に具体的には、一対の予圧部４０の軸上凸部４５は、ホルダ２０の一対の軸上凹部２２ｂにそれぞれ接触する。ホルダ２０は、軸上凸部４５と接触する２つの接点で予圧部４０によって、揺動軸線Ａ１の軸線方向の両側から支持される。したがって、ホルダ２０は、２つの接点を通過する揺動軸線Ａ１を中心として揺動可能である。

【0056】

突出部４６は、第１面部４１及び第２面部４２の一方に配置されるとともに、ホルダ２０及び支持体３０の一方に向かって突出する。本実施形態では、突出部４６は、軸上凸部４５と同様、第１面部４１に配置される。突出部４６は、揺動軸線Ａ１に沿った方向において、ホルダ２０に向かって突出する。突出部４６は、制限凹部２２ｃに対応して設けられる。突出部４６は、各予圧部４０に例えば４つ設けられる。突出部４６の一部は、制限凹部２２ｃに収容される。突出部４６は、軸上凸部４５を囲うように配置される。言い換えると、軸上凸部４５は、４つの突出部４６を含む領域の内部に配置される。なお、突出部４６の数は、例えば、１つ～３つ、又は、５つ以上であってもよい。また、突出部４６は、第１面部４１の端部を折り曲げることによって形成されている。

【0057】

取付部４７は、例えば第２面部４２に配置される。取付部４７は、第２面部４２の上端に配置される。取付部４７は、支持体３０の側面部３２の上端に取り付けられる。取付部４７は、例えば、側面部３２の上端を第１方向Ｘに挟み込むことにより、側面部３２に取り付けられる。なお、予圧部４０は、取付部４７を有しなくてもよく、例えば、接着剤等を用いて支持体３０に固定されてもよい。

【0058】

引き続き、図２～図５を参照して、収容部６０を更に詳しく説明する。図５に示すように、収容部６０は、複数の壁部Ｗを更に有する。複数の壁部Ｗのうちの１つの壁部は、後述する支持機構７が配置される。また、複数の壁部Ｗのうちの他の１つの壁部Ｗは、基板部８０の少なくとも一部を支持する。他の１つの壁部Ｗは、１つの壁部Ｗに接続される。したがって、収容部６０を簡素な構成としつつも、基板部８０を固定できる。この結果、簡素な構成で可動部２を揺動可能に支持できる。

【0059】

また、図５に示すように、複数の壁部Ｗは、支持本体６１と、第１側面部６２と、背面部６３と、第２側面部６４とを含む。

【0060】

支持本体６１は、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に配置される。支持本体６１は、「第１壁部」の一例に相当する。支持本体６１は、第１収容凹部６１ｂと、少なくとも２つの第２収容凹部６１ｃとを有する。本実施形態では、支持本体６１は、１つの第１収容凹部６１ｂと、２つの第２収容凹部６１ｃとを有する。なお、本実施形態では、収容部６０が第１収容凹部６１ｂ及び第２収容凹部６１ｃを有する例について説明するが、可動部２及び固定部３の一方が、可動部２及び固定部３の他方とは反対方向に窪む第１収容凹部及び第２収容凹部を有してもよい。また、例えば、可動部２及び固定部３の一方が第１収容凹部を有し、可動部２及び固定部３の他方が第２収容凹部を有してもよい。

【0061】

支持本体６１は、支持体３０の下面に対して第１方向Ｘに対向する。第１収容凹部６１ｂ及び第２収容凹部６１ｃは、第１方向Ｘにおいて可動部２とは反対方向に窪む。つまり、第１収容凹部６１ｂ及び第２収容凹部６１ｃは、第１方向Ｘの一方側Ｘ１に窪む。第１収容凹部６１ｂは、支持体３０の第１凹部３１ｆに対して第１方向Ｘに対向する。第１収容凹部６１ｂは、支持機構７の一部を収容する。また、支持本体６１には、磁石１５１ｐと磁石１５１ｑが配置される。

【0062】

背面部６３は、支持本体６１の第２方向Ｙの他方側Ｙ２の端部に配置される。背面部６３は、「第２壁部」の一例に相当する。

【0063】

背面部６３は、磁性体８４が配置される収容穴６３ａを有する。収容穴６３ａは、「凹部」の一例に相当する。収容穴６３ａは、背面部６３を厚み方向に貫通する。つまり、収容穴６３ａは、背面部６３を第２方向Ｙに貫通する。

【0064】

第１側面部６２は、支持本体６１の第３方向Ｚの一方側Ｚ１に配置される。第１側面部６２は、「第３壁部」の一例に相当する。第１側面部６２は、第２側面部６４と互いに対称な形状を有する。第１側面部６２は、第３方向Ｚの一方側Ｚ１で支持本体６１と背面部６３とに接続される。

【0065】

第１側面部６２は、磁性体８４が配置される収容穴６２ａを有する。収容穴６２ａは、「凹部」の一例に相当する。収容穴６２ａは、第１側面部６２を厚み方向に貫通する。つまり、収容穴６２ａは、第１側面部６２を第３方向Ｚに貫通する。

【0066】

第２側面部６４は、支持本体６１の第３方向Ｚの他方側Ｚ２に配置される。第２側面部６４は、「第４壁部」の一例に相当する。第２側面部６４は、第１側面部６２と対向する。したがって、可動部２を揺動可能に支持しつつ、支持本体６１と背面部６３と第１側面部６２と第２側面部６４とで基板部８０を支持できる。この結果、基板部８０の位置がずれることを抑制できる。

【0067】

第２側面部６４は、収容穴６４ａと貫通孔６７とを有する。収容穴６４ａは、磁性体８４が配置される収容穴６４ａは、「凹部」の一例に相当する。収容穴６４ａは、第２側面部６４を厚み方向に貫通する。つまり、収容穴６４ａは、第２側面部６４を第３方向Ｚに貫通する。

【0068】

貫通孔６７は、収容部６０の内側と外側とを貫通する。具体的には、第２側面部６４を厚み方向に貫通する。つまり、貫通孔６７は、第２側面部６４を第３方向Ｚに貫通する。

【0069】

引き続き、図２～図５を参照して、基板部８０を更に詳しく説明する。図５に示すように、基板部８０は、接続端子８２と、基板本体８１と、接続部８５とを有する。

【0070】

接続端子８２は、基板本体８１に配置される。接続端子８２は、図示しないホール素子の端子に電気的に接続される。なお、１つのホール素子に対して例えば４つの接続端子８２が配置される。

【0071】

基板本体８１は、第１基板８１ａと、第２基板８１ｂと、第３基板８１ｃとを有する。第１基板８１ａは、第２基板８１ｂと第３基板８１ｃとの間に位置する。第１基板８１ａは、第２方向Ｙの他方側Ｙ２に位置する。第１基板８１ａは、第３方向Ｚに沿って延びる。第１基板８１ａは、後述する第１コイル５２ａに電力を供給する。

【0072】

第２基板８１ｂは、第１基板８１ａに対して、第３基板８１ｃよりも第３方向Ｚの一方側Ｚ１に位置する。第２基板８１ｂは、第１基板８１ａから第２方向Ｙの一方側Ｙ１に沿って延びる。つまり、第２基板８１ｂは、第３方向Ｚに沿って延びる第１基板８１ａに対して第２方向Ｙの一方側Ｙ１に屈曲する。第２基板８１ｂは、後述する第２コイル５２ｂに電力を供給する。

【0073】

第３基板８１ｃは、第１基板８１ａに対して、第２基板８１ｂよりも第３方向Ｚの他方側Ｚ２に位置する。第３基板８１ｃは、第１基板８１ａから第２方向Ｙの一方側Ｙ１に沿って延びる。つまり、第３基板８１ｃは、第３方向Ｚに沿って延びる第１基板８１ａに対して第２方向Ｙの一方側Ｙ１に屈曲する。第３基板８１ｃは、第２基板８１ｂと対向する。第３基板８１ｃは、後述する第３コイル５２ｃに電力を供給する。

【0074】

本実施形態では、第１基板８１ａは、背面部６３に支持される。第２基板８１ｂは、第１側面部６２に支持される。第３基板８１ｃは、第２側面部６４に支持される。したがって、第２基板８１ｂが第１側面部６２の側に広がることを抑制でき、第３基板８１ｃが第２側面部６４の側に広がることを抑制できる。この結果、設計者が所望する位置から第２コイル５２ｂと第３コイル５２ｃとの位置が変わることを抑制できる。

【0075】

また、本実施形態では、第１基板８１ａは背面部６３に支持され、第２基板８１ｂは第１側面部６２に支持され、第３基板８１ｃは第２側面部６４に支持される。よって、第１基板８１ａ、第２基板８１ｂ、及び、第３基板８１ｃのそれぞれが撓むことを抑制できる。従来の光学のユニットでは、一般にＦＰＣが撓むことを抑制するために補強板と呼ばれる金属や樹脂製の薄い板が取り付けられる。ここで、本実施形態の光学ユニット１は従来の光学ユニットとは異なり、ＦＰＣ上に補強板を取り付けることを省略できる。つまり、第１基板８１ａ、第２基板８１ｂ、及び、第３基板８１ｃのそれぞれに補強板を配置しなくてもよい。よって、基板部８０を製造する際に、第１基板８１ａ、第２基板８１ｂ、及び、第３基板８１ｃのそれぞれに補強板を配置する工程を省略できる。

【0076】

また、図５に示すように、基板本体８１は、第１切欠き領域８８と、第２切欠き領域８９とを含む。第１切欠き領域８８は、第１コイル５２ａと第２コイル５２ｂとの間に位置する。第２切欠き領域８９は、第１コイル５２ａと第３コイル５２ｃとの間に位置する。第１切欠き領域８８と第２切欠き領域８９とは、基板本体８１の第１方向Ｘの一方側Ｘ１に位置する。したがって、基板本体８１の第１方向Ｘの一方側Ｘ１と基板本体８１の第１方向Ｘの他方側Ｘ２との形状を異ならせることができる。この結果、第１切欠き領域８８と第２切欠き領域８９とを目印にして、収容部６０の第１位置決め部６５に基板部８０を配置できる。

【0077】

接続部８５は、図示しない配線に接続される。接続部８５は、配線を介して電力が供給される。接続部８５は、第１基板８１ａと第２基板８１ｂと第３基板８１ｃとに電力を供給する。接続部８５は、第３基板８１ｃに位置する。具体的には、接続部８５は第３基板８１ｃの第１方向Ｘの一方側Ｘ１に位置する。

【0078】

接続部８５は、貫通孔６７に配置される。接続部８５は、「貫通孔６７に配置される少なくとも一部」の一例に相当する。基板部８０を第１位置決め部６５に位置させる際に接続部８５は貫通孔６７に配置される。したがって、接続部８５は収容部６０の外部に位置する。この結果、接続部８５を配線に接続することが容易となる。つまり、光学ユニット１への配線の取り回しが容易となる。

【0079】

引き続き、図５を参照して、光学ユニット１の支持機構７を説明する。支持機構７は、第１凸部７１と、複数の第２凸部７２とを有する。第１凸部７１は、可動部２及び固定部３に向かって突出する。具体的には、第１凸部７１は、支持体３０及び収容部６０に向かって突出する。つまり、可動部２及び固定部３は、第１凸部７１に接触する。第１凸部７１の一部は、第１収容凹部６１ｂに収容される。第１凸部７１は、揺動軸線Ａ２上に配置される。したがって、可動部２は、第１凸部７１を中心として揺動する。よって、可動部２と固定部３との接触位置から揺動中心までの長さを小さくできる。可動部２を揺動させる際に必要な力は、接触位置から揺動中心までの長さと摩擦力との積であるので、第１凸部７１を揺動軸線Ａ２上に配置することによって、可動部２を揺動させる際に必要な力を低減できる。つまり、光学ユニット１の駆動に必要な力を低減できる。なお、第１凸部７１の材質は、特に限定されるものではないが、第１凸部７１は、例えばセラミック、樹脂又は金属により形成される。

【0080】

また、第１凸部７１が揺動軸線Ａ２上に配置されることによって、可動部２と固定部３との接触位置は、第１凸部７１に対して移動しない。したがって、例えば、可動部２が揺動する際に可動部２及び固定部３の他方が第１凸部７１に対して摺動する場合に比べて、可動部２及び固定部３の他方と第１凸部７１との間の摩擦力を小さくできる。また、光軸Ｌ１０と揺動軸線Ａ２とが重なって配置されるため、可動部２を揺動させた際に光軸Ｌ１０が揺動軸線Ａ２からずれることを抑制できる。

【0081】

また、本実施形態では、第１凸部７１は固定部３に配置される。したがって、可動部２が揺動する際に第１凸部７１が回転することを抑制できる。よって、第１凸部７１によって可動部２を安定して支持できる。その結果、可動部２の揺動が安定する。

【0082】

複数の第２凸部７２は、可動部２及び固定部３に向かって突出する。具体的には、複数の第２凸部７２は、支持体３０及び収容部６０に向かって突出する。第２凸部７２の一部は、第２収容凹部６１ｃに収容される。複数の第２凸部７２は、揺動軸線Ａ２から離隔した位置に配置される。複数の第２凸部７２は、可動部２及び固定部３に接触する。

【0083】

第１凸部７１及び複数の第２凸部７２は、揺動軸線Ａ２と交差する同一平面上に配置される。したがって、同一平面上に配置される第１凸部７１及び複数の第２凸部７２によって、可動部２を支持できる。その結果、可動部２を安定して支持できる。また、第２凸部７２の材質は、特に限定されるものではないが、第２凸部７２は、例えばセラミック、樹脂又は金属により形成される。

【0084】

また、第２凸部７２の位置は、一定である。言い換えると、第２凸部７２は、可動部２及び固定部３の一方に対して移動しない。本実施形態では、第２凸部７２は、固定部３に対して移動しない。言い換えると、本実施形態では、可動部２が揺動した場合も、固定部３に対する第２凸部７２の位置は、一定である。したがって、可動部２をより安定して支持できる。

【0085】

また、本実施形態では、第２凸部７２の数は、２つである。したがって、３つの凸部（第１凸部７１及び第２凸部７２）で可動部２を支持するため、４つ以上の凸部によって可動部２を支持する場合に比べて、可動部２をより安定して支持できる。また、本実施形態では、３点で可動部２に対して点接触するため、可動部２を更に安定して支持できる。

【0086】

引き続き、図５を参照して、第１位置決め部６５を更に詳しく説明する。図５に示すように、第１位置決め部６５は、背面位置決め部６５ａと、第１側面位置決め部６５ｂと、第２側面位置決め部６５ｃとを有する。

【0087】

背面位置決め部６５ａは、背面部６３に位置する。背面位置決め部６５ａは、背面部６３の厚み方向に窪む。背面位置決め部６５ａは、第１基板８１ａの位置を決める。具体的には、背面位置決め部６５ａは、背面部６３を第２方向Ｙの他方側Ｙ２に窪む穴である。

【0088】

つまり、第１基板８１ａは、背面位置決め部６５ａに収容される。換言すると、背面位置決め部６５ａは第１基板８１ａを支持する。また、背面位置決め部６５ａは、背面位置決め部６５ａを超えて第１基板８１ａが第１方向Ｘの一方側Ｘ１と第１方向Ｘの他方側Ｘ２とに移動することを抑制できる。また、背面位置決め部６５ａは、第１基板８１ａが第２方向Ｙの他方側Ｙ２に移動することを抑制する。

【0089】

第１側面位置決め部６５ｂは、第１側面部６２に位置する。第１側面位置決め部６５ｂは、第１側面部６２の厚み方向に窪む。第１側面位置決め部６５ｂは、第２基板８１ｂの位置を決める。つまり、第１側面位置決め部６５ｂは、第１側面部６２を第３方向Ｚの一方側Ｚ１に窪む穴である。

【0090】

つまり、第２基板８１ｂは、第１側面位置決め部６５ｂに収容される。換言すると、第１側面位置決め部６５ｂは第２基板８１ｂを支持する。また、第１側面位置決め部６５ｂは、第１側面位置決め部６５ｂを超えて第２基板８１ｂが第１方向Ｘの一方側Ｘ１と第１方向Ｘの他方側Ｘ２とに移動することを抑制できる。また、第１側面位置決め部６５ｂは、第１側面位置決め部６５ｂを超えて第２基板８１ｂが第２方向Ｙの一方側Ｙ１に移動することに抑制できる。また、第１側面位置決め部６５ｂは、第２基板８１ｂが第３方向Ｚの一方側Ｚ１に移動することを抑制する。

【0091】

第１側面位置決め部６５ｂと背面位置決め部６５ａとは、第１側面位置決め部６５ｂを超えて第１基板８１ａが第３方向Ｚの一方側Ｚ１に移動することを抑制できる。背面位置決め部６５ａと第１側面位置決め部６５ｂとは、背面位置決め部６５ａを超えて第２基板８１ｂが第２方向Ｙの他方側Ｙ２に移動することを抑制できる。

【0092】

第２側面位置決め部６５ｃは、第２側面部６４に位置する。第２側面位置決め部６５ｃは、第３基板８１ｃの位置を決める。第２側面位置決め部６５ｃは、第２側面部６４の厚み方向に窪む。第２側面位置決め部６５ｃは、第３基板８１ｃの位置を決める。つまり、第２側面位置決め部６５ｃは、第２側面部６４を第３方向Ｚの他方側Ｚ２に窪む穴である。

【0093】

つまり、第３基板８１ｃは、第２側面位置決め部６５ｃに収容される。換言すると、第２側面位置決め部６５ｃは第３基板８１ｃを支持する。よって、第２側面位置決め部６５ｃは、第３基板８１ｃが第３方向Ｚの他方側Ｚ２に移動することを抑制する。

【0094】

また、第２側面位置決め部６５ｃは、第２側面位置決め部６５ｃを超えて第３基板８１ｃが第１方向Ｘの一方側Ｘ１と第１方向Ｘの他方側Ｘ２とに移動することを抑制できる。更に、第２側面位置決め部６５ｃは、第２側面位置決め部６５ｃを超えて第３基板８１ｃが第２方向Ｙの一方側Ｙ１に移動することを抑制できる。

【0095】

また、第２側面位置決め部６５ｃと背面位置決め部６５ａとは、第２側面位置決め部６５ｃを超えて第１基板８１ａが第３方向Ｚの他方側Ｚ２に移動することを抑制できる。更に、第２側面位置決め部６５ｃと背面位置決め部６５ａとは、背面位置決め部６５ａを超えて第３基板８１ｃが第２方向Ｙの他方側Ｙ２に移動することを抑制できる。

【0096】

引き続き、図２～図５を参照して、光学ユニット１の揺動機構５を詳しく説明する。

【0097】

図２に示すように、揺動機構５は、揺動軸線Ａ１を中心としてホルダ２０を支持体３０に対して揺動する。また、揺動機構５は、揺動軸線Ａ２を中心として支持体３０を収容部６０に対して揺動する。したがって、２つの揺動軸線（揺動軸線Ａ１及び揺動軸線Ａ２）のそれぞれを中心として光学要素１０を容易に揺動できる。

【0098】

図２に示すように、揺動機構５の磁石５１は、第１磁石５１ａと、第２磁石５１ｂと、第３磁石５１ｃとを含む。

【0099】

第１磁石５１ａは、ホルダ２０及び収容部６０の一方に配置される。本実施形態では、第１磁石５１ａは、ホルダ２０に配置される。具体的には、第１磁石５１ａは、ホルダ２０の背面２１ｂに配置される。すなわち、第１磁石５１ａは、ホルダ２０のうち第２方向Ｙの他方側Ｙ２の端部２０ａに配置される。第１磁石５１ａは、ｎ極からなるｎ極部と、ｓ極からなるｓ極部とを有する。第１磁石５１ａは、第１方向Ｘに分極されている。

【0100】

第２磁石５１ｂは、可動部２又は固定部３に配置される。本実施形態では、第２磁石５１ｂは、支持体３０及び収容部６０の一方に配置される。具体的には、第２磁石５１ｂは、支持体３０の側面部３２の収容凹部３２ｆに配置される。すなわち、第２磁石５１ｂは、第３方向Ｚの一方側Ｚ１に配置される。第２磁石５１ｂは、ｎ極からなるｎ極部と、ｓ極からなるｓ極部とを有する。第２磁石５１ｂは、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙに分極されている。したがって、光の入射方向に沿った揺動軸線Ａ２を中心として、可動部２を揺動できる。

【0101】

第３磁石５１ｃは、可動部２又は固定部３に配置される。本実施形態では、第３磁石５１ｃは、支持体３０及び収容部６０の一方に配置される。具体的には、第３磁石５１ｃは、支持体３０の側面部３２の収容凹部３２ｆに配置される。本実施形態では、第３磁石５１ｃは、第３方向Ｚの他方側Ｚ２に配置される。第３磁石５１ｃは、ｎ極からなるｎ極部と、ｓ極からなるｓ極部とを有する。第３磁石５１ｃは、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙに分極されている。したがって、光の入射方向に沿った揺動軸線Ａ２を中心として、可動部２を揺動できる。

【0102】

図３に示すように、揺動機構５のコイル５２は、第１コイル５２ａと、第２コイル５２ｂと、第３コイル５２ｃとを含む。

【0103】

第１コイル５２ａは、第１磁石５１ａに対して第２方向Ｙに対向する。本実施形態では、第１コイル５２ａは、第１基板８１ａに配置される。第１コイル５２ａが配置された第１基板８１ａは、背面位置決め部６５ａに配置される。よって、第１コイル５２ａが収容部６０に対して揺動することを抑制できる。

【0104】

第１コイル５２ａに通電することによって、第１コイル５２ａの周辺に磁場が生じる。そして、第１磁石５１ａには磁場に起因する力が作用する。その結果、ホルダ２０及び光学要素１０は、揺動軸線Ａ１を中心として、支持体３０及び収容部６０に対して揺動する。

【0105】

第２コイル５２ｂは、第２磁石５１ｂに対向する。具体的には、第２コイル５２ｂは、第２磁石５１ｂに対して第３方向Ｚの一方側Ｚ１に対向する。本実施形態では、第２コイル５２ｂは、第２基板８１ｂに配置される。第２コイル５２ｂが配置された第２基板８１ｂは、第１側面位置決め部６５ｂに配置される。よって、第２コイル５２ｂは収容部６０に対して揺動することを抑制できる。

【0106】

第３コイル５２ｃは、第３磁石５１ｃに対向する。具体的には、第３コイル５２ｃは、第３磁石５１ｃに対して第３方向Ｚの他方側Ｚ２に対向する。本実施形態では、第３コイル５２ｃは、第３基板８１ｃに配置される。第３コイル５２ｃが配置された第３基板８１ｃは、第２側面位置決め部６５ｃに配置される。よって、第３コイル５２ｃは収容部６０に対して揺動することを抑制できる。

【0107】

第２コイル５２ｂと第３コイル５２ｃとが通電することによって、第２コイル５２ｂの周辺と第３コイル５２ｃの周辺とに磁場が生じる。そして、第２磁石５１ｂと第３磁石５１ｃとには磁場に起因する力が作用する。その結果、支持体３０、ホルダ２０及び光学要素１０は、揺動軸線Ａ２を中心として、収容部６０に対して揺動する。

【0108】

図５に示すように、揺動機構５の磁性体８４は、第１磁性体８４ａと、第２磁性体８４ｂと、第３磁性体８４ｃとを含む。

【0109】

第１磁性体８４ａは、第１磁石５１ａに対向する。第１磁性体８４ａは、背面部６３の収容穴６３ａに配置される。第１コイル５２ａに通電しない状態において、第１磁石５１ａ及び第１磁性体８４ａの間には引力が生じる。よって、可動部２は、揺動軸線Ａ１を中心とする回転方向において、基準位置に配置される。また、第１磁石５１ａ及び第１磁性体８４ａの間に引力が生じることによって、第２方向Ｙの一方側Ｙ１にホルダ２０が抜け出ることを抑制できる。

【0110】

第２磁性体８４ｂは、第２磁石５１ｂに対向する。第２磁性体８４ｂは、第１側面部６２の収容穴６２ａに配置される。第２コイル５２ｂに通電しない状態において、第２磁石５１ｂ及び第２磁性体８４ｂの間には引力が生じる。よって、可動部２は、揺動軸線Ａ２を中心とする回転方向において、基準位置に配置される。

【0111】

第３磁性体８４ｃは、第３磁石５１ｃに対向する。第３磁性体８４ｃは、第２側面部６４の収容穴６４ａに配置される。第３コイル５２ｃに通電しない状態において、第３磁石５１ｃ及び第３磁性体８４ｃの間には引力が生じる。よって、可動部２は、揺動軸線Ａ２を中心とする回転方向において、基準位置に配置される。

【0112】

次に、図６を参照して本実施形態に係る収容部６０を更に詳しく説明する。図６は、本実施形態に係る光学ユニット１の収容部６０を示す図である。本実施形態の収容部６０は、第２位置決め部６８と、第３位置決め部６９とを有する。

【0113】

第２位置決め部６８は、第１側面部６２から背面部６３に沿って伸びる。つまり、第２位置決め部６８は、第３方向Ｚの他方側Ｚ２に向かって伸びる。第２位置決め部６８は、第１基板８１ａと第２基板８１ｂとの位置を決める。

【0114】

第３位置決め部６９は、第２側面部６４から背面部６３に沿って伸びる。つまり、第３位置決め部６９は、第３方向Ｚの一方側Ｚ１に向かって伸びる。第３位置決め部６９は、第１基板８１ａと第３基板８１ｃとの位置を決める。したがって、第２位置決め部６８と第３位置決め部６９とによって、第１基板８１ａが位置決めされる。そして、第２位置決め部６８によって第２基板８１ｂが位置決めされる。更に、第３位置決め部６９によって第３基板８１ｃが位置決めされる。この結果、基板部８０を更に精度良く収容部６０に配置できる。

【0115】

また、基板部８０が収容部６０に収容される場合、第２位置決め部６８は図５に示す第１切欠き領域８８に位置する。したがって、第２位置決め部６８は、第３方向Ｚへの基板部８０の移動と第２方向Ｙへの基板部８０の移動を抑制できる。また、基板部８０が収容部６０に収容される場合、第３位置決め部６９は図５に示す第２切欠き領域８９に位置する。したがって、第３位置決め部６９は、第３方向Ｚへの基板部８０の移動と第２方向Ｙへの基板部８０の移動を抑制できる。この結果、基板部８０を高精度に位置決めできる。

【0116】

以上、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明した。但し、本発明は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施することが可能である。また、図面は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚み、長さ、個数、間隔等は、図面作成の都合上から実際とは異なる。また、上記の実施形態で示す各構成要素の材質、形状、寸法等は一例であって、特に限定されるものではなく、本発明の構成から実質的に逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

【0117】

例えば、上記した実施形態では、磁性体８４を凹部Ｈ１に配置する例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、磁性体８４は、基板部８０に配置されてもよい。なお、磁性体８４は凹部Ｈ１に収容される。

【産業上の利用可能性】

【0118】

本発明は、光学ユニットを提供するものであり、産業上の利用可能性を有する。

【符号の説明】

【0119】

１ ：光学ユニット
２ ：可動部
３ ：固定部
７ ：支持機構
１０ ：光学要素
５１ ：磁石
５２ ：コイル
６０ ：収容部
６５ ：第１位置決め部
６７ ：貫通孔
６８ ：第２位置決め部
６９ ：第３位置決め部
８０ ：基板部
８１ａ ：第１基板
８１ｂ ：第２基板
８１ｃ ：第３基板
８４ ：磁性体
Ｈ１ ：凹部
Ｌ ：光
Ｗ ：壁部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】