特開 2023-86660 光ファイバフェルールの端面研磨装置、光ファイバフェルールの端面研磨装置の製造方法および光ファイバフェルールの端面研磨装置に使用する摺動板

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023086660

(43)【公開日】2023-06-22

(54)【発明の名称】光ファイバフェルールの端面研磨装置、光ファイバフェルールの端面研磨装置の製造方法および光ファイバフェルールの端面研磨装置に使用する摺動板

(51)【国際特許分類】

   B24B 7/16 20060101AFI20230615BHJP

【ＦＩ】

B24B7/16 Z

【審査請求】有

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022116861

(22)【出願日】2022-07-22

(11)【特許番号】

(45)【特許公報発行日】2023-01-19

(31)【優先権主張番号】P 2021200487

(32)【優先日】2021-12-10

(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP

(71)【出願人】

【識別番号】000147350

【氏名又は名称】株式会社精工技研

(74)【代理人】

【識別番号】100096703

【弁理士】

【氏名又は名称】横井 俊之

(72)【発明者】

【氏名】成田 武彦

(72)【発明者】

【氏名】澁谷 裕二

【テーマコード（参考）】

3C043

【Ｆターム（参考）】

3C043BC02

3C043CC03

3C043DD05

(57)【要約】

【課題】 光ファイバフェルールの端面研磨装置において、ターンテーブルやスラストリングの摩耗を抑制することで、端面研磨装置のメンテナンス性および製品寿命を向上させる。
【解決手段】光ファイバフェルールの端面研磨装置であって、光ファイバフェルールを着脱可能なホルダーを載置して保持する保持部と、保持部を上方に配置するためのベースプレートと、ベースプレートに対して高さ方向の相対位置が固定されたスラストリングと、スラストリングに載置され、スラストリングに対して摺動可能な状態で回転駆動されるターンテーブルとを有し、ターンテーブルとスラストリングとの間に第１の摺動板が配置され、ホルダーとベースプレートとの間に第２の摺動板が配置される構造を有する。
【選択図】 図８

【特許請求の範囲】

【請求項1】

光ファイバフェルールを着脱可能なホルダーを載置して保持する保持部と、
前記保持部を上方に配置するためのベースプレートと、
前記ベースプレートに対して高さ方向の相対位置が固定されたスラストリングと、
前記スラストリングに載置され、前記スラストリングに対して摺動可能な状態で回転駆動されるターンテーブルと、を有し、
前記ターンテーブルと前記スラストリングとの間に第１の摺動板が配置され、
前記ホルダーと前記ベースプレートとの間に第２の摺動板が配置されることを特徴とする光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項2】

前記第１の摺動板は、粘着剤により前記ターンテーブルの下面または前記スラストリングの上面に固定されることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項3】

前記第１の摺動板は、外形が円形であり中央に穴を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項4】

前記第１の摺動板と第２の摺動板が同じ材質の樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項5】

前記第１の摺動板の厚さと前記第２の摺動板の厚さの差異が０．１ｍｍ以内であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項6】

前記ターンテーブル上に載置される研磨盤をさらに有し、
前記研磨盤の上面には前記光ファイバフェルールを研磨するための研磨材が配置されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項7】

光ファイバフェルールの端面研磨装置の製造方法であって、
前記端面研磨装置は、
光ファイバフェルールを着脱可能なホルダーを載置して保持する保持部と、
前記保持部を上方に配置するためのベースプレートと、
前記ベースプレートに対して高さ方向の相対位置が固定されたスラストリングと、
前記スラストリングに載置され、前記スラストリングに対して摺動可能な状態で回転駆動されるターンテーブルと、を有し、
前記製造方法は、
前記ターンテーブルと前記スラストリングとの間に第１の摺動板を配置する工程と、
前記ホルダーと前記ベースプレートとの間に第２の摺動板を配置する工程と、を有することを特徴とする光ファイバフェルールの端面研磨装置の製造方法。

【請求項8】

光ファイバフェルールの端面研磨装置に使用する摺動板であって、
前記端面研磨装置は、
光ファイバフェルールを着脱可能なホルダーを載置して保持する保持部と、
前記保持部を上方に配置するためのベースプレートと、
前記ベースプレートに対して高さ方向の相対位置が固定されたスラストリングと、
前記スラストリングに載置され、前記スラストリングに対して摺動可能な状態で回転駆動されるターンテーブルと、を有し、
前記摺動板は、
前記ターンテーブルと前記スラストリングとの間に配置される第１の摺動板と、
前記ホルダーと前記ベースプレートとの間に配置される第２の摺動板と、を有することを特徴とする摺動板。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光ファイバフェルールの端面研磨装置、光ファイバフェルールの端面研磨装置の製造方法および光ファイバフェルールの端面研磨装置に使用する摺動板に関する。

【背景技術】

【0002】

光ファイバフェルールをホルダーに保持した状態で光ファイバフェルール研磨する光ファイバフェルールの端面研磨装置が知られている。このような装置では、ホルダーに固定された光ファイバフェルールに対してターンテーブルを回転させ、ターンテーブル上に配置された研磨材により光ファイバフェルールの端面を研磨する。ターンテーブルは、スラストリングの上に載置されスラストリングに対して摺動可能な状態で回転駆動される。ホルダーを端面研磨装置に装着する方法として、特許文献１の端面研磨装置は、端面研磨装置の上面に固定された保持部にホルダーを載置して装着する構造を有している。

【0003】

ターンテーブルがスラストリングの上で回転駆動されるとき、ターンテーブルとスラストリングとの間に摩擦が生じることで、ターンテーブルの下面やスラストリングの上面が摩耗する。ターンテーブルの下面やスラストリングの上面が摩耗すると、端面研磨装置の研磨性能に影響のある高さ方向の位置が変動し、光ファイバフェルールの研磨性能（曲率半径、偏心量、研磨角度等）に変動が生じる。一定量以上摩耗したターンテーブルやスラストリングは新しいものと交換する必要があり、ターンテーブルやスラストリングの摩耗は端面研磨装置の維持管理費を上昇させることになる。

【0004】

従来、ターンテーブルやスラストリングの摩耗を抑制する方法として、ターンテーブルとスラストリングとの摩擦面にグリースを塗付する方法が知られている。また、ターンテーブルの材料、硬度、コーティング等を改良することで、耐摩耗性の向上をはかる方法がある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特許第４０７４８１２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

グリースの塗付は、定期的に行う必要があるとともに、耐摩耗性の向上には限界があるという問題があった。ターンテーブルの材料、硬度、コーティング等の改良は、端面研磨装置の製造費を上昇させるという問題があった。また、特許文献１のような端面研磨装置の上面に固定された保持部にホルダーを載置して装着する構造の端面研磨装置においては、研磨性能に影響のある高さ方向の管理が重要であり、摩擦面に一定以上の厚みのある部材を配置して耐摩耗性を向上しようとした場合に高さ位置の調整が容易ではなかった。

【0007】

本発明は、端面研磨装置の上面に固定された保持部にホルダーを載置する構造の端面研磨装置において、ホルダーの高さ位置の追加調整が不要であり、メンテナンス性と製品寿命の向上が可能な光ファイバフェルールの端面研磨装置を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明の光ファイバフェルールの端面研磨装置は、光ファイバフェルールを着脱可能なホルダーを載置して保持する保持部と、前記保持部を上方に配置するためのベースプレートと、前記ベースプレートに対して高さ方向の相対位置が固定されたスラストリングと、前記スラストリングに載置され、前記スラストリングに対して摺動可能な状態で回転駆動されるターンテーブルと、を有し、前記ターンテーブルと前記スラストリングとの間に第１の摺動板が配置され、前記ホルダーと前記ベースプレートとの間に第２の摺動板が配置される構成としてある。
上記のように構成された端面研磨装置では、ターンテーブルとスラストリングの間に第１の摺動板を配置することで、ターンテーブルやスラストリングの磨耗を抑制する。また、ホルダーとベースプレートとの間に第２の摺動板を配置することでホルダーの高さ位置を上昇させている。これにより、第１の摺動板を追加することにより高さ位置が上昇したターンテーブルに対して、ホルダーの高さ位置の調整を不要としている。

【0009】

前記構成において、前記第１の摺動板は、粘着剤により前記ターンテーブルの下面または前記スラストリングの上面に固定される構成としてもよい。
上記のように構成された端面研磨装置では、粘着剤により第１の摺動板を固定することで、第１の摺動板の位置がずれることを防止している。

【0010】

前記構成において、前記第１の摺動板は、外形が円形であり中央に穴を有する構成としてもよい。
上記のように構成された端面研磨装置では、ターンテーブルとスラストリングの摺動面の部分にのみ第１の摺動板を配置している。

【0011】

前記第１の摺動板と第２の摺動板が同じ材質の樹脂で形成されている構成としてもよい。
上記のように構成された端面研磨装置では、第１の摺動板の厚さと第２の摺動板の厚さを容易に揃えることができる。

【0012】

前記構成において、前記第１の摺動板の厚さと前記第２の摺動板の厚さの差異が０．１ｍｍ以内である構成としてもよい。
上記のように構成された端面研磨装置では、第１の摺動板の厚さと第２の摺動板の厚さの差異を最小限とすることで、研磨性能に影響のある高さ位置のずれを最小限とすることができる。

【0013】

前記構成において、前記ターンテーブル上に載置される研磨盤をさらに有し、前記研磨盤の上面には前記光ファイバフェルールを研磨するための研磨材が配置されている構成としてもよい。
上記のように構成された端面研磨装置では、ターンテーブルに載置された研磨盤および研磨材がホルダーに対して一定の高さ位置に配置され、一定の圧力でフェルールを研磨することができる。

【発明の効果】

【0014】

本発明によれば、端面研磨装置の本体に対して高さ方向の位置が固定された保持部にホルダーを載置する構造の端面研磨装置において、研磨性能に影響のある高さ位置の追加調整が不要であり、メンテナンス性と製品寿命の向上が可能な光ファイバフェルールの端面研磨装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】光ファイバフェルールを装着したホルダーを端面研磨装置に装着した状態の正面図である。

【図2】光ファイバフェルールを装着したホルダーの断面図である。

【図3】ホルダーが装着されていない状態の端面研磨装置の一部断面図である。

【図4】スラストリングの正面図および上面図である。

【図5】ターンテーブルの正面図および下面図である。

【図6】研磨フィルムを上面に装着した研磨盤の正面図である。

【図7】ホルダーが装着された状態の端面研磨装置の一部断面図である。

【図8】第１の摺動板および第２の摺動板を装着した状態の端面研磨装置上部の正面図である。

【図9】第１の摺動板および第２の摺動板の平面図である。

【図10】ベースプレートと保持台との間に配置されたスペーサの上部に第２の摺動板を装着した図である。

【図11】ベースプレートと保持台との間に配置されたスペーサの下部に第２の摺動板を装着した図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

以下、一例として示す図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。図１は、光ファイバフェルール２（以下、フェルール２）を装着した光ファイバフェルール研磨用ホルダー３（以下、ホルダー３）を光ファイバフェルール端面研磨装置１（以下、研磨装置１）に装着した状態の正面図である。図２は、フェルール２を装着したホルダー３の断面図である。ホルダー３は、平面視で略矩形状の板状の部材である。ホルダー３には、複数のフェルール２が着脱可能に装着される。フェルール２は、セラミックや樹脂等で構成され、光ファイバ芯線２Ａの先端部付近の周囲に装着されている。フェルール２は、アダプタ４に挿通されナット５によりアダプタ４に固定されている。アダプタ４の底部は円周方向の外側に広がっている。保持部材６は、スプリング７を介してアダプタ４の底部をホルダー３に押し付ける構造を有する。ボルト８を用いて保持部材６をホルダー３に固定することで、スプリング７がアダプタ４を押圧し、フェルール２がホルダー３に固定される。このとき、フェルール２はホルダー３に設けられた挿入孔３Ａに挿入され、フェルール２の端面はホルダー３の下面から下方に所定長さだけ突出する。フェルール２の端面の中央には、光ファイバ芯線２Ａの光ファイバ２Ｂが露出している。この状態でホルダー３を研磨装置１に装着し、フェルール２の端面を研磨装置１で研磨する。

【0017】

図３は、ホルダー３が装着されていない状態の研磨装置１の一部断面図である。図３を参照しながら研磨装置１の構造を説明する。研磨装置１は、後述する各部材を上方に配置するためのベースプレート２０を有する。ベースプレート２０の上面は、研磨装置１の下端から一定の高さ位置に位置する基準面２０Ａを有する。ベースプレート２０の基準面２０Ａの四隅付近には、ホルダー３を保持するための保持台１０がそれぞれ配置されている。保持台１０は円柱状の部材であり、下方に小径部が形成されている。保持台１０の小径部はベースプレート２０の基準面２０Ａに設けられた挿入孔に挿入され、ベースプレート２０に固定されている。各保持台１０の上面の中央には平面視で円形の凹部１０Ａが設けられており、凹部１０Ａの周囲がホルダー３を載置するためのホルダー載置面１０Ｂを構成する。ホルダー載置面１０Ｂは、基準面２０Ａから高さ方向に所定の距離を隔てた面である。つまり、ベースプレート２０に対してホルダー載置面１０Ｂの高さ方向の相対位置が固定されている。ホルダー載置面１０Ｂにホルダー３を載置することで、基準面２０Ａに対してホルダー３を所定の距離を隔てて平行に載置することができる。保持台１０の凹部１０Ａには、クランプピン１１が水平方向に回転可能に挿入されている。円柱状のクランプバー１２が、クランプピン１１を上部水平方向に貫通した状態でクランプピン１１に固定されている。クランプバー１２の一端側には、クランプバー１２を操作するときに使用者が掴むためのクランプレバー１３が固定されている。クランプレバー１３はクランプバー１２よりも大きな径を有した円柱状の部材であり、クランプバー１２の外周に挿通されている。クランプバー１２の他端側は、後述するように、ホルダー３を押圧、固定する機能を有する。

【0018】

クランプレバー１３を水平方向に回転させることにより、クランプレバー１３に固定されたクランプバー１２とクランプピン１１とがクランプレバー１３に連動して水平方向に回転する。ホルダー３をホルダー載置面１０Ｂに載置した状態でクランプレバー１３を回転させることにより、クランプバー１２の先端がホルダー３を上方から保持台１０に向けて押圧する。これにより、ホルダー３をホルダー載置面１０Ｂに載置してホルダー３を研磨装置１に保持することができる。なお、クランプレバー１３を反対方向に回転させることにより、ホルダー３の保持台１０に対する固定を解除することができる。本実施例においては、保持台１０およびクランプバー１２等のホルダー３を固定する機構が保持部に該当する。

【0019】

ベースプレート２０の基準面２０Ａには、ベースプレート２０に対して高さ方向の相対位置が固定された状態でスラストリング３０が固定されている。スラストリング３０の上面にターンテーブル４０が載置される。スラストリング３０の上面には、図４に示すように環状の摺動面３０Ａ（斜線部）が形成されている。また、ターンテーブル４０の下面には、図５に示すように円形状の摺動面４０Ａ（斜線部）が形成されている。摺動面３０Ａおよび摺動面４０Ａは、基準面２０Ａから高さ方向に所定の距離を隔てた面である。スラストリング３０は、摺動面３０Ａでターンテーブル４０を支持している。ターンテーブル４０は、摺動面４０Ａでスラストリング３０に支持されている。ターンテーブル４０の下方には、ターンテーブル４０を水平方向に回転駆動する回転機構５０が設けられる。回転機構５０は、ターンテーブル４０を自転させる自転機構５１およびターンテーブル４０を公転させる公転機構５２を有する。回転機構５０、自転機構５１、公転機構５２の構造や作動についての詳細な説明は省略するが、回転機構５０がターンテーブル４０を回転駆動すると、ターンテーブル４０の摺動面４０Ａがスラストリング３０の摺動面３０Ａ上を摺動する。つまり、ターンテーブル４０はスラストリング３０に対して摺動可能な状態でスラストリング３０上に載置される。

【0020】

ターンテーブル４０の上面は、平面視で円形の外形を有し、中央部に円形の凹部４１を有する。凹部４１には、凹部４１よりも若干小径の円盤状に形成された研磨盤（パッド）４２が載置される。図６に示すように、研磨盤４２の上面には、研磨フィルム４３が装着される。例えば、研磨フィルム４３の上面には、フェルール２を研磨するための研磨材４４が塗布される場合もある。研磨フィルム４３を交換することにより、研磨粗さ等を変更することができる。研磨盤４２は、ゴムや樹脂等の弾性部材で形成されており、フェルール２を研磨する際に弾性力により研磨フィルム４３をフェルール２に押し付けて、球面形状に研磨する。また、研磨盤４２は、ガラス等の非弾性部材で形成されている場合もあり、その場合はフェルール２を平面形状に研磨する。

【0021】

図７は、研磨装置１にホルダー３および研磨盤４２を装着した状態の研磨装置１の一部断面図である。ターンテーブル４０の凹部４１に研磨盤４２が載置され、研磨盤４２の上面には研磨フィルム４３（研磨材４４）が配置されている。フェルール２がホルダー３に装着された状態で、ホルダー３は保持台１０のホルダー載置面１０Ｂに載置される。クランプレバー１３を水平方向に回転させて、クランプバー１２の先端によりホルダー３を下方に押圧すると、ホルダー３は保持台１０に固定される。このとき、フェルール２の端面はホルダー３の下面から下方に突出し、研磨フィルム４３に対して所定の圧力で押圧される。この状態で、ターンテーブル４０を回転駆動する。これにより、研磨フィルム４３の表面でフェルール２の端面を研磨することができる。フェルール２の端面がホルダー３の下面から最適な長さだけ突出することでフェルール２の端面が研磨盤４２に対して最適な圧力で押圧されるように、保持台１０の高さが設定されている。つまり、基準面２０Ａに対するホルダー載置面１０Ｂの高さ位置が設定されている。

【0022】

保持台１０とスラストリング３０とがともにベースプレート２０の基準面２０Ａに固定されているため、基準面２０Ａに対する保持台１０とスラストリング３０の高さ方向の相対位置は一定である。つまり、保持台１０のホルダー載置面１０Ｂとスラストリング３０の摺動面３０Ａとの高さ方向の相対位置は一定である。言い換えると、スラストリング３０の摺動面３０Ａは、保持台１０のホルダー載置面１０Ｂに対して高さ方向の相対位置が固定されている。ターンテーブル４０はスラストリング３０に載置されるため、ターンテーブル４０の摺動面４０Ａも、保持台１０のホルダー載置面１０Ｂに対して高さ方向の相対位置が固定されている。これにより、研磨フィルム４３の表面とフェルール２の端面との距離が一定となり、フェルール２の端面を一定の圧力で押圧しながら研磨することができる。

【0023】

ターンテーブル４０はスラストリング３０に載置され、ターンテーブル４０の摺動面４０Ａがスラストリング３０の摺動面３０Ａの上を摺動する。この摺動に伴う摩擦を低減するため、図８に示すように、ターンテーブル４０の下面（摺動面４０Ａ）には、第１の摺動板６１が配置される。摺動板とは、摺動を円滑にするために摺動面に配置される板状の部材を包括的に意味する。板という用語は、所定の厚さと面積を有する部材という意味で用いているに過ぎず、材質や厚さを限定するために用いていない。第１の摺動板６１は、超高分子量ポリエチレンの層にアクリル系の粘着剤の層が重ねられた２層の薄板（シート）状の材料である。第１の摺動板６１の一方の面に超高分子量ポリエチレンの層が露出し、他方の面に粘着剤の層が露出している。粘着剤により第１の摺動板６１はターンテーブル４０の摺動面４０Ａに接着、固定される。第１の摺動板６１は粘着剤の層も含めて所定の厚さＴ１を有する。本実施例においては、所定の厚さＴ１は、第１の摺動板６１の全領域において均一であり、０．１８ｍｍである。第１の摺動板６１の外形は、図９に示すように、ターンテーブル４０の摺動面４０Ａに合わせた円形である。第１の摺動板６１は、スラストリング３０の摺動面３０Ａと接触する可能性のある部分のみに固定すればよいため、第１の摺動板６１の中央には円形の穴６１Ａが設けられている。第１の摺動板６１を摺動面４０Ａに固定したとき、超高分子量ポリエチレンの層がスラストリング３０の摺動面３０Ａと接触して摺動する。

【0024】

ターンテーブル４０の摺動面４０Ａに第１の摺動板６１を追加すると、図８に示すように、ベースプレート２０の基準面２０Ａから研磨フィルム４３の上面までの距離Ｄ１が第１の摺動板６１の所定の厚さＴ１の分だけ増加する。第１の摺動板６１を追加する前と同様の条件で研磨を行うためには、研磨フィルム４３の上面とフェルール２の端面（ホルダー３の下面）との高さ方向の相対位置を同じにする必要がある。つまり、ベースプレート２０の基準面２０Ａから保持台１０とホルダー載置面１０Ｂまでの距離Ｄ２を所定の厚さＴ１の分だけ増加させる必要がある。そこで、ホルダー３と保持台１０のホルダー載置面１０Ｂとの間に第２の摺動板６２を配置する。第２の摺動板６２は、第１の摺動板６１と同様に、超高分子量ポリエチレンの層にアクリル系の粘着剤の層が重ねられた２層の薄板（シート）状の材料である。第２の摺動板６２の一方の面に超高分子量ポリエチレンの層が露出し、他方の面に粘着剤の層が露出している。粘着剤により第２の摺動板６２は保持台１０のホルダー載置面１０Ｂに接着、固定される。第２の摺動板６２は粘着剤の部分も含めて所定の厚さＴ２を有する。第２の摺動板６２の外形は、図９に示すように、保持台１０の外形に合わせた円形である。第２の摺動板６２の中央にはクランプピン１１を挿通するための円形の穴６２Ａが設けられている。

【0025】

所定の厚さＴ１と所定の厚さＴ２を同一（Ｔ１＝Ｔ２）に設定することで、距離Ｄ１の増加量と距離Ｄ２の増加量を同一にすることができる。第１の摺動板６１の厚さＴ１と第２の摺動板６２の厚さＴ２の差異が若干存在していても構わないが、差異（Ｔ２－Ｔ１）が０．１ｍｍ以内であることが好ましい。厚さの差異を最小限にするために、第１の摺動板６１と第２の摺動板６２とは、同じ材質の樹脂で形成することが好ましい。同じ材質の樹脂であっても、製造ロットおよび部位によって厚さのばらつきがある可能性があるため、同一の製造ロットの部材であってなるべく近接した部位を使用して第１の摺動板６１と第２の摺動板６２を形成することがより好ましい。

【0026】

以上説明したように、本発明の研磨装置１では、ターンテーブル４０とスラストリング３０の摺動に伴う摩擦による摩耗を低減するため、ターンテーブル４０の摺動面４０Ａに第１の摺動板６１が固定される。これにより、ターンテーブル４０は、第１の摺動板６１の部分でスラストリング３０の摺動面３０Ａと接して摺動することになる。第１の摺動板６１は超高分子量ポリエチレンで形成されているため、摩擦係数が低く耐摩耗性に優れている。また、たとえ第１の摺動板６１が摩耗した場合でも、第１の摺動板６１を交換すればよい。そのため、ターンテーブル４０やスラストリング３０が摩耗してこれらの部品を交換する必要が生じる場合と比較して、メンテナンスのコストを大幅に削減することができる。

【0027】

また、本発明の研磨装置１では、ホルダー３と保持台１０のホルダー載置面１０Ｂとの間に第２の摺動板６２を配置する。これにより、ホルダー３やホルダー載置面１０Ｂの摩耗を低減することができる。また、ターンテーブル４０とスラストリング３０の間に第１の摺動板６１を配置することで、研磨フィルム４３の高さ位置が基準面２０Ａに対して所定の厚さＴ１分だけ上昇する。第２の摺動板６２を配置することで、ホルダー３の下面の位置を所定の厚さＴ２分だけ上昇させることができる。Ｔ１＝Ｔ２となるように第１の摺動板６１と第２の摺動板６２を製作することで、第１の摺動板６１を追加したことによる研磨フィルム４３の高さ位置の変化に係らず、ホルダー３の高さ位置の調整をすることなく研磨装置１を使用することができる。保持台１０にホルダー３を載置する構造を有する本願の研磨装置１においては、ホルダー３の高さ位置の調整範囲が小さく第１の摺動板６１の所定の厚さＴ１分だけホルダー３の高さ位置を調整することが難しい構造であるため、第２の摺動板６２を配置することが特に有効である。

【0028】

本発明の研磨装置１の製造方法について説明する。粘着剤によりターンテーブル４０の摺動面４０Ａに第１の摺動板６１を固定する。スラストリング３０の摺動面３０Ａに第１の摺動板６１を固定してもよい。粘着力を考慮すると、ターンテーブル４０の摺動面４０Ａに第１の摺動板６１を固定する方が好ましい。また、粘着剤により保持台１０のホルダー載置面１０Ｂに第２の摺動板６２を固定する。第２の摺動板６２をホルダー載置面１０Ｂに固定せずに、ホルダー載置面１０Ｂに載置するだけでもよい。以上のような簡単な工程により、本発明の研磨装置１を製造することができる。本発明の研磨装置１を使用することにより、ホルダー３の高さ位置の追加調整が不要であるにも係わらず、ターンテーブル４０やスラストリング３０のメンテナンス性や寿命を向上できる。

【0029】

本発明の研磨装置１の耐久試験を行った結果を表１に示す。２４時間稼働で研磨を行った前提で３０日（１カ月）経過後相当時と３６５日（１年）経過後相当時における研磨結果である。表１に示す値は、２０個のサンプルの平均値、最大値、最小値である。２４時間稼働で約１年相当の耐久試験の後であっても、各数値は問題ない範囲内であることが確認された。本発明の研磨装置１は、定期的なグリースの塗布等のメンテナンスをしなくても長期間の使用に耐えることが確認された。

【表1】

【0030】

図１０は、ベースプレート２０と保持台１０との間に配置されたスペーサ２１の上部に第２の摺動板６２を装着した図である。第２の摺動板６２を保持台１０のホルダー載置面１０Ｂに配置する代わりに、図１０に示す実施例では、第２の摺動板６２を保持台１０の下部に配置する。ベースプレート２０と保持台１０との間にはスペーサ２１が配置されているが、このスペーサ２１の上部に第２の摺動板６２を配置する。つまり、保持台１０とスペーサ２１との間に第２の摺動板６２を配置する。これにより、第１の摺動板６１を配置したことにより研磨フィルム４３の高さ位置が所定の厚さＴ１分だけ増加したことに対して、ホルダー３の下面の位置を所定の厚さＴ２分だけ上昇させることができる。つまり、第１の摺動板６１を追加した場合のホルダー３の位置の調整が容易となる。なお、第２の摺動板６２の装着方法等は、第２の摺動板６２を保持台１０のホルダー載置面１０Ｂに配置する場合と同様であるので説明を省略する。

【0031】

図１１は、ベースプレート２０と保持台１０との間に配置されたスペーサ２１の下部に第２の摺動板６２を装着した図である。図１１に示す実施例においては、図１０に示す実施例と同様に第２の摺動板６２を保持台１０の下部に配置するが、スペーサ２１の下部に第２の摺動板６２を配置する点で図１０に示す実施例と異なる。つまり、スペーサ２１とベースプレート２０との間に第２の摺動板６２を配置する。この場合も、第１の摺動板６１を配置したことにより研磨フィルム４３の高さ位置が所定の厚さＴ１分だけ増加したことに対して、ホルダー３の下面の位置を所定の厚さＴ２分だけ上昇させることができる。

【0032】

図１０および図１１に示したように、第２の摺動板６２を保持台１０の下部に配置することも可能である。つまり、第２の摺動板６２は、保持台１０の上部に配置されてもよく、保持台１０の下部に配置されてもよい。つまり、第２の摺動板６２は、ホルダー３とベースプレート２０との間に配置される限り本願の効果を発揮することができる。なお、第２の摺動板６２を保持台１０の下部に配置する場合、第２の摺動板６２の上下には可動部品が配置されないため、第２の摺動板６２は、必ずしも摺動を円滑にするための摺動面を有していなくてもよい。つまり本発明において、摺動板とは必ずしも摺動部に設けられて摺動性能を向上する機能を有する板のみを示さない。単に高さ方向の位置調整のための機能を有する板（スペーサ）も本発明では摺動板と呼称する。摺動性能を向上する機能が必要ない場合であっても、第１の摺動板６１との高さ位置を合わせるため、第１の摺動板６１と同じ材質を第２の摺動板６２に使用してもよい。

【0033】

前記実施例において、ナット５を使用してフェルール２をホルダー３に固定する構造を説明したが、フェルール２をホルダー３に保持する構造はこれに限られない。フェルールをプレート状のホルダーに固定する構造である限り、本発明を適用することが可能である。例えば、光コネクタの状態でフェルール２をホルダー３に保持する構造を使用してもよい。

【0034】

前記実施例において、保持台１０の上にホルダー３を載置してクランプバー１２によりホルダー３を保持台に固定する構造を説明したが、保持部の構造はこれに限られない。基準面２０Ａ、摺動面３０Ａ、摺動面４０Ａに対して高さ方向の相対位置が固定された載置面にホルダーを載置する構造である限り、本発明を適用することが可能である。例えば、クランプバーを上下方向に回転させる構造、クランプバーを使用せずにホルダーを固定する構造であってもよい。

【0035】

前記実施例において、クランプバー１２によりフェルール２と研磨盤４２との間に押圧力を発生させる構造を説明したが、研磨面に押圧力を発生させる構造はこれに限られない。例えば、ホルダーに付勢手段を設けた構造や研磨装置にモーターやエアシリンダー等を設けた構造を採用することも可能である。

【0036】

前記実施例において、スラストリング３０がベースプレート２０に固定された構造を説明したが、ベースプレート２０に対してスラストリング３０が可動する構造を有する研磨装置にも本発明を適用することが可能である。保持部のホルダー載置面がターンテーブルとスラストリングの摺動面に対して高さ方向に所定の位置に配置されて研磨を行う構造である限り、スラストリングが可動する構造であっても本発明を適用することが可能である。

【0037】

前記実施例において、第１の摺動板６１をターンテーブル４０の下面（摺動面４０Ａ）に固定する構造を説明したが、第１の摺動板６１を固定する場所はターンテーブル４０の下面に限られない。ターンテーブル４０とスラストリング３０との間に第１の摺動板６１が配置される限り本発明を適用することが可能である。例えば、第１の摺動板６１をスラストリング３０の上面（摺動面３０Ａ）に固定することも可能である。

【0038】

前記実施例において、第２の摺動板６２を保持台１０のホルダー載置面１０Ｂに固定する構造および保持台１０の下部に固定する構造を説明したが、第２の摺動板６２を固定する場所はこれらに限られない。ホルダー３とベースプレート２０との間に配置される限り本発明を適用することが可能である。例えば、第２の摺動板６２をホルダー３の下面に固定することも可能であるし、第２の摺動板６２を必ずしも固定する必要はない。第２の摺動板６２をホルダー載置面１０Ｂや保持台１０の下部に載置して固定しない構造も本発明に含まれる。

【0039】

前記実施例において、第１の摺動板６１および第２の摺動板６２を超高分子量ポリエチレンで形成する構造を説明したが、第１の摺動板６１および第２の摺動板６２の材質はこれに限られない。ポリエチレン系樹脂以外に、フッ素系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等を使用することが可能である。摩擦係数が低く摺動性の高い材質を使用する限り、様々な樹脂を使用することが可能である。また、金属、セラミック等、樹脂以外の材質を使用することも可能である。なお、第１の摺動板６１と第２の摺動板６２を別の材質で形成することも可能である。

【0040】

前記実施例において、アクリル系の粘着剤を使用したが、粘着剤の種類はこれに限られない。様々な種類の粘着剤を使用することが可能である。また、粘着剤以外の方法で第１の摺動板６１および第２の摺動板６２を固定することも可能である。また、第１の摺動板６１および第２の摺動板６２が必ずしも２層の構造を有していなくてもよい。

【0041】

前記実施例において、第１の摺動板６１および第２の摺動板６２の外形が円形である構造を説明したが、第１の摺動板６１および第２の摺動板６２の外形は、厳密に円形である必要はない。摺動面３０Ａ、摺動面４０Ａ、ホルダー載置面１０Ｂの大部分を覆うことができる形状である限り、様々な形状を採用することが可能である。

【0042】

前記実施例において、第１の摺動板６１の厚さＴ１および第２の摺動板６２の厚さＴ２が０．１８ｍｍである例を説明したが、厚さＴ１および厚さＴ２の値はこれに限られない。厚さＴ１および厚さＴ２の値が０．０１ｍｍ～２．００ｍｍ程度の範囲内にあればよい。

【0043】

前記実施例において、第１の摺動板６１の厚さＴ１および第２の摺動板６２の厚さＴ２がそれぞれ均一である例を説明したが、厚さＴ１および厚さＴ２は全領域において必ずしも均一である必要はない。例えば第１の摺動板６１の厚さＴ１が一部の領域においてＴ１よりも薄いＴ１’（Ｔ１’＜Ｔ１）の領域を形成し、厚さＴ１’の領域が磨耗し始めたときに第１の摺動板６１を交換するといったスリップサインのような機能を設けることも可能である。

【0044】

前記実施例において、第１の摺動板６１と第２の摺動板６２を有する研磨装置１について説明したが、本発明は研磨装置としての構成に限られない。本発明の第１の摺動板６１と第２の摺動板６２を提供することで、既存の研磨装置のメンテナンス性と製品寿命を向上させることも可能である。

【0045】

なお、本発明は前記実施例に限られるものでないことは言うまでもない。当業者であれば言うまでもないことであるが、
・前記実施例の中で開示した相互に置換可能な部材および構成等を適宜その組み合わせを変更して適用すること
・前記実施例の中で開示されていないが、公知技術であって前記実施例の中で開示した部材および構成等と相互に置換可能な部材および構成等を適宜置換し、またその組み合わせを変更して適用すること
・前記実施例の中で開示されていないが、公知技術等に基づいて当業者が前記実施例の中で開示した部材および構成等の代用として想定し得る部材および構成等と適宜置換し、またその組み合わせを変更して適用すること
は本発明の一実施例として開示されるものである。

【符号の説明】

【0046】

１…光ファイバフェルール端面研磨装置、２…光ファイバフェルール、３…光ファイバフェルール研磨用ホルダー、４…アダプタ、５…ナット、６…保持部材、７…スプリング、８…ボルト、１０…保持台、１１…クランプピン、１２…クランプバー、１３…クランプレバー、２０…ベースプレート、２１…スペーサ、３０…スラストリング、４０…ターンテーブル、４１…凹部、４２…研磨盤、４３…研磨フィルム、４４…研磨材、５０…回転機構、６１…第１の摺動板、６２…第２の摺動板。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【手続補正書】

【提出日】2022-11-14

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

光ファイバフェルールを着脱可能なホルダーを載置して保持する保持部と、
前記保持部を上方に配置するためのベースプレートと、
前記ベースプレートに対して高さ方向の相対位置が固定されたスラストリングと、
前記スラストリングに載置され、前記スラストリングに対して摺動可能な状態で回転駆動されるターンテーブルと、を有し、
前記ターンテーブルと前記スラストリングとの間に第１の摺動板が配置され、
前記ホルダーと前記ベースプレートとの間に第２の摺動板が配置されることを特徴とする光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項2】

前記第１の摺動板は、粘着剤により前記ターンテーブルの下面または前記スラストリングの上面に固定されることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項3】

前記第１の摺動板は、外形が円形であり中央に穴を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項4】

前記第１の摺動板と第２の摺動板が同じ材質の樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項5】

前記第１の摺動板の厚さと前記第２の摺動板の厚さの差異が０．１ｍｍ以内であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項6】

前記ターンテーブル上に載置される研磨盤をさらに有し、
前記研磨盤の上面には前記光ファイバフェルールを研磨するための研磨材が配置されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光ファイバフェルールの端面研磨装置。

【請求項7】

光ファイバフェルールの端面研磨装置の製造方法であって、
前記端面研磨装置は、
光ファイバフェルールを着脱可能なホルダーを載置して保持する保持部と、
前記保持部を上方に配置するためのベースプレートと、
前記ベースプレートに対して高さ方向の相対位置が固定されたスラストリングと、
前記スラストリングに載置され、前記スラストリングに対して摺動可能な状態で回転駆動されるターンテーブルと、を有し、
前記製造方法は、
前記ターンテーブルと前記スラストリングとの間に第１の摺動板を配置する工程と、
前記ホルダーと前記ベースプレートとの間に第２の摺動板を配置する工程と、を有することを特徴とする光ファイバフェルールの端面研磨装置の製造方法。

【請求項8】

光ファイバフェルールの端面研磨装置に使用する摺動板であって、
前記端面研磨装置は、
光ファイバフェルールを着脱可能なホルダーを載置して保持する保持部と、
前記保持部を上方に配置するためのベースプレートと、
前記ベースプレートに対して高さ方向の相対位置が固定されたスラストリングと、
前記スラストリングに載置され、前記スラストリングに対して摺動可能な状態で回転駆動されるターンテーブルと、を有し、
前記摺動板は、
前記ターンテーブルと前記スラストリングとの間に配置される第１の摺動板と、
前記ホルダーと前記ベースプレートとの間に配置される第２の摺動板と、を有し、
前記第１の摺動板は、粘着剤により前記ターンテーブルの下面または前記スラストリングの上面に固定されることを特徴とする摺動板。