特開 2023-96860 ナノワイヤ製造治具、ナノワイヤ転写体、ナノワイヤ製造装置及びナノワイヤ製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023096860

(43)【公開日】2023-07-07

(54)【発明の名称】ナノワイヤ製造治具、ナノワイヤ転写体、ナノワイヤ製造装置及びナノワイヤ製造方法

(51)【国際特許分類】

   D06M 11/83 20060101AFI20230630BHJP

【ＦＩ】

D06M11/83

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021212883

(22)【出願日】2021-12-27

(71)【出願人】

【識別番号】000006208

【氏名又は名称】三菱重工業株式会社

(71)【出願人】

【識別番号】504409543

【氏名又は名称】国立大学法人秋田大学

(74)【代理人】

【識別番号】110002147

【氏名又は名称】弁理士法人酒井国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】村岡 幹夫

(72)【発明者】

【氏名】神原 信幸

(72)【発明者】

【氏名】▲高▼木 清嘉

(72)【発明者】

【氏名】加茂 宗太

(72)【発明者】

【氏名】石川 直元

(72)【発明者】

【氏名】堀苑 英毅

(72)【発明者】

【氏名】高柳 俊幸

【テーマコード（参考）】

4L031

【Ｆターム（参考）】

4L031AB01

4L031BA04

4L031CB13

4L031CB14

4L031DA15

(57)【要約】

【課題】ナノワイヤの製造コストの低減を図る。
【解決手段】ナノワイヤの製造に用いられるナノワイヤ製造治具であって、ロール方向に巻回可能なフィルム基材と、前記フィルム基材から突出して設けられ、前記ロール方向に直交する幅方向に延在して設けられると共に、前記ロール方向に所定の間隔を空けて設けられる複数の突起部と、前記フィルム基材及び複数の前記突起部に設けられ、隣接する前記突起部同士の間に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するための導電膜パターンと、を備える。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ナノワイヤの製造に用いられるナノワイヤ製造治具であって、
ロール方向に巻回可能なフィルム基材と、
前記フィルム基材から突出して設けられ、前記ロール方向に直交する幅方向に延在して設けられると共に、前記ロール方向に所定の間隔を空けて設けられる複数の突起部と、
前記フィルム基材及び複数の前記突起部に設けられ、隣接する前記突起部同士の間に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するための導電膜パターンと、を備えるナノワイヤ製造治具。

【請求項2】

前記突起部は、前記幅方向に直交する面で切った断面形状が、頂点を有する山形形状となっている請求項１に記載のナノワイヤ製造治具。

【請求項3】

前記突起部は、前記フィルム基材の一部を山折りして形成される部位であり、
前記フィルム基材は、製造された前記ナノワイヤを転写する転写フィルムとなっている請求項１または２に記載のナノワイヤ製造治具。

【請求項4】

前記フィルム基材に対向して設けられ、前記フィルム基材上に製造された前記ナノワイヤを転写する転写材を、さらに備える請求項１または２に記載のナノワイヤ製造治具。

【請求項5】

請求項３に記載のナノワイヤ製造治具を用いて製造された前記ナノワイヤが転写されたナノワイヤ転写体であって、
前記ナノワイヤ製造治具の前記フィルム基材を、前記ロール方向に引張して、山折りとなる前記突起部を、前記フィルム基材と面一となるように引張させ、隣接する前記突起部同士の間に形成された前記ナノワイヤが、前記フィルム基材に転写されてなるナノワイヤ転写体。

【請求項6】

請求項４に記載のナノワイヤ製造治具を用いて製造された前記ナノワイヤが転写されたナノワイヤ転写体であって、
前記フィルム基材から引き離すことで、転写された前記ナノワイヤを含む前記転写材であるナノワイヤ転写体。

【請求項7】

請求項１から４のいずれか１項に記載のナノワイヤ製造治具を用いて、前記ナノワイヤを製造するナノワイヤ製造装置であって、
前記ナノワイヤ製造治具は、前記ロール方向に巻回されており、
巻回された前記ナノワイヤ製造治具を前記ロール方向に供給する供給部と、
供給された前記ナノワイヤ製造治具に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するファイバ形成部と、
前記ナノファイバに金属薄膜を形成して、前記ナノワイヤとする薄膜形成部と、
前記ナノワイヤが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具をロール方向に巻回して回収する回収部と、を備えるナノワイヤ製造装置。

【請求項8】

請求項１から４のいずれか１項に記載のナノワイヤ製造治具を用いて、前記ナノワイヤを製造するナノワイヤ製造方法であって、
前記ナノワイヤ製造治具は、前記ロール方向に巻回されており、
巻回された前記ナノワイヤ製造治具を前記ロール方向に供給するステップと、
供給された前記ナノワイヤ製造治具に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するステップと、
前記ナノファイバに金属薄膜を形成して、前記ナノワイヤとするステップと、
前記ナノワイヤが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具をロール方向に巻回して回収するステップと、を備えるナノワイヤ製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、ナノワイヤ製造治具、ナノワイヤ転写体、ナノワイヤ製造装置及びナノワイヤ製造方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来、ナノワイヤを製造する製造方法として、ナノ粒子を含む電界紡糸合成溶液に電界紡糸法によってナノファイバーナノ粒子複合体を生成して乾燥させ、乾燥したナノファイバーナノ粒子複合体を、水熱合成法を用いてナノ粒子からナノワイヤを成長させる方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。この製造方法では、電界紡糸合成溶液を、注射器ポンプを介してコレクタへ向けて放射することで、ナノファイバーナノ粒子複合体を生成している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特表２０１９－５０５７００号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ナノワイヤの製造に用いられるコレクタは、一般的に、面積が小さいものとなっていることから、ナノワイヤを効率よく製造することが難しく、ナノワイヤの低コスト化を阻む要因となっている。

【0005】

そこで、本開示は、ナノワイヤの製造コストの低減を図ることができるナノワイヤ製造治具、ナノワイヤ転写体、ナノワイヤ製造装置及びナノワイヤ製造方法を提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本開示のナノワイヤ製造治具は、ナノワイヤの製造に用いられるナノワイヤ製造治具であって、ロール方向に巻回可能なフィルム基材と、前記フィルム基材から突出して設けられ、前記ロール方向に直交する幅方向に延在して設けられると共に、前記ロール方向に所定の間隔を空けて設けられる複数の突起部と、前記フィルム基材及び複数の前記突起部に設けられ、隣接する前記突起部同士の間に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するための導電膜パターンと、を備える。

【0007】

本開示のナノワイヤ転写体は、上記のナノワイヤ製造治具を用いて製造された前記ナノワイヤが転写されたナノワイヤ転写体であって、前記ナノワイヤ製造治具の前記フィルム基材を、前記ロール方向に引張して、山折りとなる前記突起部を、前記フィルム基材と面一となるように引張させ、隣接する前記突起部同士の間に形成された前記ナノワイヤが、前記フィルム基材に転写されてなる。

【0008】

本開示の他のナノワイヤ転写体は、上記のナノワイヤ製造治具を用いて製造された前記ナノワイヤが転写されたナノワイヤ転写体であって、前記フィルム基材から引き離すことで、転写された前記ナノワイヤを含む前記転写材である。

【0009】

本開示のナノワイヤ製造装置は、上記のナノワイヤ製造治具を用いて、前記ナノワイヤを製造するナノワイヤ製造装置であって、前記ナノワイヤ製造治具は、前記ロール方向に巻回されており、巻回された前記ナノワイヤ製造治具を前記ロール方向に供給する供給部と、供給された前記ナノワイヤ製造治具に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するファイバ形成部と、前記ナノファイバに金属薄膜を形成して、前記ナノワイヤとする薄膜形成部と、前記ナノワイヤが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具をロール方向に巻回して回収する回収部と、を備える。

【0010】

本開示のナノワイヤ製造方法は、上記のナノワイヤ製造治具を用いて、前記ナノワイヤを製造するナノワイヤ製造方法であって、前記ナノワイヤ製造治具は、前記ロール方向に巻回されており、巻回された前記ナノワイヤ製造治具を前記ロール方向に供給するステップと、供給された前記ナノワイヤ製造治具に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するステップと、前記ナノファイバに金属薄膜を形成して、前記ナノワイヤとするステップと、前記ナノワイヤが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具をロール方向に巻回して回収するステップと、を備える。

【発明の効果】

【0011】

本開示によれば、ナノワイヤの製造コストの低減を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】図１は、実施形態１に係るナノワイヤ製造装置を示す概略構成図である。

【図2】図２は、実施形態１に係るナノワイヤ製造治具を模式的に示す斜視図である。

【図3】図３は、実施形態１に係るナノワイヤ転写体に関する説明図である。

【図4】図４は、実施形態１に係るナノワイヤ製造方法に関する一例のフローチャートである。

【図5】図５は、実施形態２に係るナノワイヤ製造装置を示す概略構成図である。

【図6】図６は、実施形態２に係るナノワイヤ転写体に関する説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下に、本開示に係る実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施形態における構成要素には、当業者が置換可能かつ容易なもの、あるいは実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能であり、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせることも可能である。

【0014】

［実施形態１］
実施形態１に係るナノワイヤ製造治具１０は、ナノワイヤを製造するナノワイヤ製造装置１及びナノワイヤ製造方法に用いられ、製造されたナノワイヤＮＷは、ナノワイヤ転写体２０として製品化され提供される。

【0015】

図１は、実施形態１に係るナノワイヤ製造装置を示す概略構成図である。図２は、実施形態１に係るナノワイヤ製造治具を模式的に示す斜視図である。図３は、実施形態１に係るナノワイヤ転写体に関する説明図である。図４は、実施形態１に係るナノワイヤ製造方法に関する一例のフローチャートである。先ず、図１及び図２を参照して、ナノワイヤ製造装置１について説明する。

【0016】

（ナノワイヤ製造装置）
ナノワイヤ製造装置１は、ナノワイヤ製造治具１０を用いたロール・トゥ・ロール（Roll to Roll）方式によって、ナノワイヤＮＷを製造する装置となっている。図２に示すように、ナノワイヤＮＷは、ナノファイバＮＦを芯材として、ナノファイバＮＦに金属薄膜ＭＦが形成されたものである。ナノワイヤ製造装置１は、供給部４と、ファイバ形成部５と、薄膜形成部６と、回収部７と、を備える。ここで、ナノワイヤ製造装置１に用いられるナノワイヤ製造治具１０は、ロール方向に巻回されたロール体となっており、ロール体となるナノワイヤ製造治具１０が供給部４にセットされている。

【0017】

供給部４は、ロール体となるナノワイヤ製造治具１０をロール方向に繰り出すことで、回収部７へ向けて供給する。供給部４は、ナノワイヤ製造治具１０のロール軸を保持すると共に、ロール軸を中心に回転することで、ナノワイヤ製造治具１０をロール方向に繰り出している。

【0018】

ファイバ形成部５は、エレクトロスピニング法（電界紡糸法）を用いて、芯材となるナノファイバＮＷを、ナノワイヤ製造治具１０上に形成する。ファイバ形成部５は、ロール方向に繰り出されたナノワイヤ製造治具１０と対向して設けられる。ファイバ形成部５は、ナノワイヤ製造治具１０をコレクタとして機能させる。ナノファイバＮＷは、その繊維方向がロール方向に沿うようにナノワイヤ製造治具１０上に形成される。

【0019】

薄膜形成部６は、ナノワイヤ製造治具１０上に形成されたナノファイバＮＷに対して、スパッタまたは蒸着等により金属薄膜ＭＦを形成して、ナノワイヤＮＷをする。薄膜形成部６は、ロール方向に繰り出されたナノワイヤ製造治具１０と対向して設けられ、ロール方向において、ファイバ形成部５の下流側に設けられる。

【0020】

回収部７は、ナノワイヤＮＷが製造された後のナノワイヤ製造治具１０をロール方向に巻回して回収する。実施形態１において、回収部７は、製造されたナノワイヤＮＷと共にナノワイヤ製造治具１０を回収している。回収部７は、回収後のナノワイヤ製造治具１０を保持するロール軸を中心に回転することで、ナノワイヤ製造治具１０をロール方向に巻き取ることで、ロール体とする。

【0021】

上記のようなナノワイヤ製造装置１は、供給部４からナノワイヤ製造治具１０を繰り出すと、繰り出されたナノワイヤ製造治具１０に対して、ファイバ形成部５が、エレクトロスピニング法によりナノファイバＮＦを形成する。この後、ナノワイヤ製造装置１は、ナノワイヤ製造治具１０に形成されたナノファイバＮＦに対して、薄膜形成部６が、金属薄膜ＭＦを形成することで、ナノワイヤＮＷを製造する。そして、ナノワイヤ製造装置１は、回収部７により、製造されたナノワイヤＮＷと共に、ナノワイヤ製造治具１０を巻き取る。

【0022】

（ナノワイヤ製造治具）
次に、図２を参照して、ナノワイヤ製造治具１０について説明する。ナノワイヤ製造治具１０は、フィルム基材１１と、複数の突起部１２と、導電膜パターン１３と、を備える。

【0023】

フィルム基材１１は、ロール方向に巻回可能な可撓性を有する材料が用いられており、例えば、ＰＥＴ等の樹脂を用いた透明なフィルムとなっている。また、フィルム基材１１は、ナノワイヤ製造治具１０上に製造されたナノワイヤＮＷを転写する転写フィルムとしても機能している。つまり、フィルム基材１１は、ナノワイヤＮＷが接触することで、ナノワイヤＮＷを保持可能なフィルムとなっている。フィルム基材１１は、幅方向における長さＬ１が、例えば、２５０ｍｍ程度となっている。

【0024】

突起部１２は、フィルム基材１１から突出して設けられ、フィルム基材１１の一部を山折りして形成される部位となっている。突起部１２は、ロール方向に直交する幅方向に延在して設けられる。なお、突起部１２は、幅方向において、フィルム基材１１の幅方向端部から、所定の間隔を空けて配置されている。また、突起部１２は、ロール方向に所定の間隔を空けて複数並べて設けられる。突起部１２は、幅方向に直交する面で切った断面形状が、頂点を有する山形形状となっている。突起部１２は、フィルム基材１１からの高さが、例えば、１ｍｍ程度となっており、ナノファイバＮＦの形成に必要となる最小の高さとなっている。また、ロール方向に隣接する突起部１２同士の間隔Ｌ２が、例えば、２０ｍｍ程度となっている。

【0025】

導電膜パターン１３は、ナノワイヤ製造治具１０をコレクタとして機能させるため、つまり、ロール方向に隣接する突起部１２同士の間にナノファイバＮＦを形成するために設けられている。導電膜パターン１３は、フィルム基材１１に設けられる第１パターン１３ａと、突起部１２に設けられる第２パターン１３ｂとを含んでいる。第１パターン１３ａは、フィルム基材１１の幅方向の両側に一対設けられ、ロール方向に亘って設けられている。第２パターン１３ｂは、各突起部１２の頂部に設けられ、幅方向に亘って設けられる。第２パターン１３ｂは、幅方向の両側が、一対の第１パターン１３ａにそれぞれ接続されている。

【0026】

上記のようなナノワイヤ製造治具１０には、幅方向の両側に谷折り線１５及び複数の切込み１６が形成されている。谷折り線１５は、フィルム基材１１の幅方向の両側に一対設けられ、ロール方向に亘って設けられている。また、谷折り線１５は、幅方向両端から所定の隙間を空けて形成されている。なお、幅方向において、フィルム基材１１の端部から谷折り線１５までの長さＬ３は、例えば、５ｍｍ程度となっている。複数の切込み１６は、ロール方向において、複数の突起部１２と同じ位置に設けられている。切込み１６は、幅方向において、フィルム基材１１の端部から突起部１２まで形成されている。

【0027】

フィルム基材１１は、ロール方向に隣接する切込み１６同士の間において、谷折り線１５に沿って谷折りされることで、ロール方向における剛性が高められる。これにより、谷折りされた部位は、ロール方向に隣接する突起部１２同士の間隔を保持する。なお、形成されたナノワイヤＮＷをフィルム基材１１に転写する際は、フィルム基材１１の谷折りを元に戻す。

【0028】

（ナノワイヤ転写体）
次に、図３を参照して、ナノワイヤ転写体２０を製造する動作について説明する。実施形態１では、ナノワイヤ製造治具１０上に製造されたナノワイヤＮＷを、フィルム基材１１に転写することで、ナノワイヤ転写体２０を製造している。図３は、幅方向に直交する面で切ったナノワイヤ製造治具１０の図である。

【0029】

先ず、図３に示すように、ナノワイヤ製造治具１０には、ロール方向に隣接する突起部１２同士の間に架け渡されるようにナノワイヤＮＷが形成される（ステップＳ１１）。ステップＳ１１の状態から、ナノワイヤ製造治具１０が引張されると、山折りとなっている突起部１２が引き延ばされる（ステップＳ１２）。ステップＳ１２から、ナノワイヤ製造治具１０がさらに引張されると、突起部１２が、フィルム基材１１とほぼ面一となることで、ナノワイヤＮＷがフィルム基材１１に接触する（ステップＳ１３）。ステップＳ１３において、フィルム基材１１に接触したナノワイヤＮＷがフィルム基材１１に保持されることで、フィルム基材１１にナノワイヤＮＷが転写されたナノワイヤ転写体２０となる。

【0030】

（ナノワイヤ製造方法）
次に、図４を参照して、ナノワイヤ製造装置１を用いて製造されるナノワイヤＮＷの製造方法の一例について説明する。

【0031】

ナノワイヤ製造方法では、上記のナノワイヤ製造治具１０を用いて、ナノワイヤＮＷを製造する。ナノワイヤ製造治具１０は、ロール体となっており、供給部４にセットされると共に、供給部４から繰り出されたナノワイヤ製造治具１０の先端側が、回収部７にセットされている。この状態において、ナノワイヤ製造方法では、先ず、供給部４からナノワイヤ製造治具１０をロール方向に繰り出して、巻回されたナノワイヤ製造治具１０を供給する（ステップＳ１）。続いて、ナノワイヤ製造方法では、供給されたナノワイヤ製造治具１０に対して、ファイバ形成部５によりナノファイバＮＦを形成する（ステップＳ２）。この後、ナノワイヤ製造方法では、ナノワイヤ製造治具１０に形成されたナノファイバＮＦに対して、薄膜形成部６により金属薄膜ＭＦを形成することで、ナノワイヤＮＷを製造する（ステップＳ３）。そして、ナノワイヤ製造方法では、ナノワイヤ製造治具１０を引張させることで、製造されたナノワイヤＮＷをフィルム基材１１に転写して、ナノワイヤ製造治具１０をナノワイヤ転写体２０とする（ステップＳ４）。この後、ナノワイヤ製造方法では、ナノワイヤＮＷが製造された後のナノワイヤ製造治具１０、つまり、ナノワイヤ転写体２０を、回収部７によりロール方向に巻き取って回収する（ステップＳ５）。ナノワイヤ製造方法では、ナノワイヤ製造治具１０の供給が停止するまで、連続的にナノワイヤＮＷを製造し、ナノワイヤ製造治具１０の供給停止とともに一連の処理を終了する。

【0032】

［実施形態２］
次に、図５及び図６を参照して、実施形態２について説明する。なお、実施形態２では、重複した記載を避けるべく、実施形態１と異なる部分について説明し、実施形態１と同様の構成である部分については、同じ符号を付して説明する。図５は、実施形態２に係るナノワイヤ製造装置を示す概略構成図である。図６は、実施形態２に係るナノワイヤ転写体に関する説明図である。

【0033】

実施形態１では、製造したナノワイヤＮＷを、ナノワイヤ製造治具１０のフィルム基材１１に転写して、ナノワイヤ転写体２０としたが、実施形態２では、製造したナノワイヤＮＷを、ナノワイヤ製造治具１０の転写材３５に転写して、ナノワイヤ転写体４０としている。

【0034】

（ナノワイヤ製造装置）
実施形態２のナノワイヤ製造装置３１は、実施形態１のナノワイヤ製造治具１０に加えて、転写部３３をさらに備える。

【0035】

転写部３３は、複数の転写ロール３４を有しており、転写材３５をナノワイヤ製造治具１０と対向させて、転写材３５をロール方向へ向けて供給する。転写部３３は、ロール方向において、薄膜形成部６の下流側に設けられる。転写部３３は、ナノワイヤ製造治具１０とほぼ同じ供給速度で、転写材３５を供給している。

【0036】

（ナノワイヤ製造治具）
実施形態２のナノワイヤ製造治具１０は、実施形態１のナノワイヤ製造治具１０に加えて、転写材３５をさらに備える。転写材３５は、ナノワイヤ製造治具１０上に製造されたナノワイヤＮＷを転写する転写フィルムとなっている。なお、転写材は、転写フィルムに限らず、平板形状のものであってもよく、ナノワイヤＮＷを転写可能なものであれば、何れであってもよい。また、実施形態２の場合、図６に示すように、ナノワイヤ製造治具１０の突起部１２は、山折りによって形成する必要がなく、例えば、フィルム基材１１上に別途形成したものであってもよい。

【0037】

（ナノワイヤ転写体）
次に、図６を参照して、ナノワイヤ転写体２０を製造する動作について説明する。実施形態２では、ナノワイヤ製造治具１０上に製造されたナノワイヤＮＷを、転写材３５に転写することで、ナノワイヤ転写体４０を製造している。図６は、幅方向に直交する面で切ったナノワイヤ製造治具１０の図である。

【0038】

先ず、図６に示すように、ナノワイヤ製造治具１０には、ロール方向に隣接する突起部１２同士の間に架け渡されるようにナノワイヤＮＷが形成される（ステップＳ２１）。ステップＳ２１の状態から、ナノワイヤ製造治具１０上に転写材３５が接触すると、転写材３５にナノワイヤＮＷが転写される（ステップＳ２２）。ステップＳ２２から、転写材３５とフィルム基材１１とが引き離されると、転写材３５に接触したナノワイヤＮＷが転写材３５に保持されることで、転写材３５にナノワイヤＮＷが転写されたナノワイヤ転写体２０となる。

【0039】

（ナノワイヤ製造方法）
実施形態２のナノワイヤ製造方法では、図４のステップＳ４において、ナノワイヤ製造治具１０に転写材３５を接触させた後、ナノワイヤ製造治具１０から転写材３５を引き離して、転写材３５をナノワイヤ転写体２０とする。

【0040】

以上のように、実施形態に記載のナノワイヤ製造治具１０、ナノワイヤ転写体２０，４０、ナノワイヤ製造装置１，３１及びナノワイヤ製造方法は、例えば、以下のように把握される。

【0041】

第１の態様に係るナノワイヤ製造治具１０は、ナノワイヤＮＷの製造に用いられるナノワイヤ製造治具１０であって、ロール方向に巻回可能なフィルム基材１１と、前記フィルム基材１１から突出して設けられ、前記ロール方向に直交する幅方向に延在して設けられると共に、前記ロール方向に所定の間隔を空けて設けられる複数の突起部１２と、前記フィルム基材１１及び複数の前記突起部１２に設けられ、隣接する前記突起部１２同士の間に、前記ナノワイヤＮＷの芯材となるナノファイバＮＦを形成するための導電膜パターン１３と、を備える。

【0042】

この構成によれば、ナノワイヤ製造治具１０にナノワイヤＮＷを連続的に製造することができるため、ナノワイヤＮＷの製造コストの低減を図ることができる。

【0043】

第２の態様として、前記突起部１２は、前記幅方向に直交する面で切った断面形状が、頂点を有する山形形状となっている。

【0044】

この構成によれば、突起部１２同士の間においてナノファイバＮＦを好適に形成することができる。

【0045】

第３の態様として、前記突起部１２は、前記フィルム基材１１の一部を山折りして形成される部位であり、前記フィルム基材１１は、製造された前記ナノワイヤＮＷを転写する転写フィルムとなっている。

【0046】

この構成によれば、フィルム基材１１を引張することで、ナノワイヤＮＷをフィルム基材１１に転写させることができる。

【0047】

第４の態様として、前記フィルム基材１１に対向して設けられ、前記フィルム基材１１上に製造された前記ナノワイヤＮＷを転写する転写材３５を、さらに備える。

【0048】

この構成によれば、ナノワイヤＮＷを転写材３５に転写させることができる。

【0049】

第５の態様に係るナノワイヤ転写体は、上記のナノワイヤ製造治具１０を用いて製造された前記ナノワイヤＮＷが転写されたナノワイヤ転写体２０であって、前記ナノワイヤ製造治具１０の前記フィルム基材１１を、前記ロール方向に引張して、山折りとなる前記突起部１２を、前記フィルム基材１１と面一となるように引張させ、隣接する前記突起部１２同士の間に形成された前記ナノワイヤＮＷが、前記フィルム基材１１に転写されてなる。

【0050】

この構成によれば、ナノワイヤ製造治具１０をナノワイヤ転写体２０として兼用することができる。

【0051】

第６の態様に係るナノワイヤ転写体は、上記のナノワイヤ製造治具１０を用いて製造された前記ナノワイヤＮＷが転写されたナノワイヤ転写体４０であって、前記フィルム基材１１から引き離すことで、転写された前記ナノワイヤＮＷを含む前記転写材３５である。

【0052】

この構成によれば、ナノワイヤ製造治具１０を別途回収して再利用することができる。

【0053】

第７の態様に係るナノワイヤ製造装置は、上記のナノワイヤ製造治具１０を用いて、前記ナノワイヤＮＷを製造するナノワイヤ製造装置１，３１であって、前記ナノワイヤ製造治具１０は、前記ロール方向に巻回されており、巻回された前記ナノワイヤ製造治具１０を前記ロール方向に供給する供給部４と、供給された前記ナノワイヤ製造治具１０に、前記ナノワイヤＮＷの芯材となるナノファイバＮＦを形成するファイバ形成部５と、前記ナノファイバＮＦに金属薄膜ＭＦを形成して、前記ナノワイヤＮＷとする薄膜形成部６と、前記ナノワイヤＮＷが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具１０をロール方向に巻回して回収する回収部７と、を備える。

【0054】

この構成によれば、ナノワイヤ製造治具１０にナノワイヤＮＷを連続的に製造することができるため、ナノワイヤＮＷの製造コストの低減を図ることができる。

【0055】

第８の態様に係るナノワイヤ製造方法は、上記のナノワイヤ製造治具１０を用いて、前記ナノワイヤＮＷを製造するナノワイヤ製造方法であって、前記ナノワイヤ製造治具１０は、前記ロール方向に巻回されており、巻回された前記ナノワイヤ製造治具１０を前記ロール方向に供給するステップＳ１と、供給された前記ナノワイヤ製造治具１０に、前記ナノワイヤＮＷの芯材となるナノファイバＮＦを形成するステップＳ２と、前記ナノファイバＮＦに金属薄膜ＭＦを形成して、前記ナノワイヤＮＷとするステップＳ３と、前記ナノワイヤＮＷが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具１０をロール方向に巻回して回収するステップＳ５と、を備える。

【0056】

この構成によれば、ナノワイヤ製造治具１０にナノワイヤＮＷを連続的に製造することができるため、ナノワイヤＮＷの製造コストの低減を図ることができる。

【符号の説明】

【0057】

１ ナノワイヤ製造装置
４ 供給部
５ ファイバ形成部
６ 薄膜形成部
７ 回収部
１０ ナノワイヤ製造治具
１１ フィルム基材
１２ 突起部
１３ 導電膜パターン
１５ 谷折り線
１６ 切込み
２０ ナノワイヤ転写体
３１ ナノワイヤ製造装置
３３ 転写部
３４ 転写ロール
３５ 転写材
４０ ナノワイヤ転写体
ＮＷ ナノワイヤ
ＮＦ ナノファイバ
ＭＦ 金属薄膜

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】