特開2023-97770ウエハ保持装置および半導体装置の製造方法

発明の名称　ウエハ保持装置および半導体装置の製造方法

出願人　ルネサスエレクトロニクス株式会社　（識別番号 302062931）

　　　　特許公開件数ランキング 211 位（148件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 244 位（114件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2023-97770

公報発行日　2023年7月10

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-97770

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