▶ サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド．の特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023098660
(43)【公開日】2023-07-10
(54)【発明の名称】磁性粒子及び磁性部品
(51)【国際特許分類】
H01F 1/33 20060101AFI20230703BHJP
H01F 1/22 20060101ALI20230703BHJP
H01F 17/04 20060101ALI20230703BHJP
H01F 27/255 20060101ALI20230703BHJP
【ＦＩ】
H01F1/33
H01F1/22
H01F17/04 F
H01F27/255
【審査請求】未請求
【請求項の数】22
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022202038
(22)【出願日】2022-12-19
(31)【優先権主張番号】10-2021-0189222
(32)【優先日】2021-12-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(31)【優先権主張番号】10-2022-0099703
(32)【優先日】2022-08-10
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(31)【優先権主張番号】10-2022-0169924
(32)【優先日】2022-12-07
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(71)【出願人】
【識別番号】594023722
【氏名又は名称】サムソン エレクトロ－メカニックス カンパニーリミテッド．
(74)【代理人】
【識別番号】110000877
【氏名又は名称】弁理士法人ＲＹＵＫＡ国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】ジョン、ジョン オク
(72)【発明者】
【氏名】リム、ジョン ホ
(72)【発明者】
【氏名】ホン、ヒョ キ
(72)【発明者】
【氏名】パク、イル ジン
(72)【発明者】
【氏名】ユー、ヨン ソク
(72)【発明者】
【氏名】カン、イン ヨウン
【テーマコード（参考）】
5E041
5E070
【Ｆターム（参考）】
5E041AA01
5E041AA02
5E041AA04
5E041AA07
5E041AA11
5E041BD12
5E041BD13
5E041NN06
5E070AA01
5E070BB01
(57)【要約】 （修正有）
【課題】磁性部品の損失特性を改善する磁性粒子及び磁性部品を提供する。
【解決手段】磁性粒子は、金属磁性粒子１００及び金属磁性粒子１００の表面に形成された酸化膜１１０を含み、金属磁性粒子１００は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域を含み、酸化膜１１０は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域を含む。
【選択図】図１
【解決手段】磁性粒子は、金属磁性粒子１００及び金属磁性粒子１００の表面に形成された酸化膜１１０を含み、金属磁性粒子１００は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域を含み、酸化膜１１０は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域を含む。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
金属磁性粒子と、
前記金属磁性粒子の表面に形成された酸化膜と、を含み、
前記金属磁性粒子は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域を含み、
前記酸化膜は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域を含む、磁性粒子。
前記金属磁性粒子の表面に形成された酸化膜と、を含み、
前記金属磁性粒子は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域を含み、
前記酸化膜は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域を含む、磁性粒子。
【請求項2】
前記金属磁性粒子は、前記単結晶領域からなる、請求項１に記載の磁性粒子。
【請求項3】
前記金属磁性粒子は非晶質領域を含まない、請求項１に記載の磁性粒子。
【請求項4】
前記金属磁性粒子の断面における前記単結晶領域の面積割合は３０％以上である、請求項１に記載の磁性粒子。
【請求項5】
前記単結晶領域は、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｒを含む金属を含む、請求項１に記載の磁性粒子。
【請求項6】
前記単結晶領域はα－Ｆｅ相を含む、請求項１に記載の磁性粒子。
【請求項7】
前記α－Ｆｅ相は、Ｆｅ（００１）相、Ｆｅ（００２）相、Ｆｅ（０１１）相、Ｆｅ（１０１）相、Ｆｅ（１１１）相からなる群の少なくとも一つを含む、請求項６に記載の磁性粒子。
【請求項8】
前記酸化膜の非晶質領域は、Ｆｅ系金属酸化物を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の磁性粒子。
【請求項9】
前記酸化膜は、結晶領域をさらに含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の磁性粒子。
【請求項10】
前記酸化膜の断面における前記非晶質領域の面積割合は３０％以上である、請求項９に記載の磁性粒子。
【請求項11】
前記酸化膜の厚さは５から２０ｎｍである、請求項１から７のいずれか一項に記載の磁性粒子。
【請求項12】
直径が１０から９００ｎｍである、請求項１から７のいずれか一項に記載の磁性粒子。
【請求項13】
複数の磁性粒子を含む本体を含む磁性部品において、
前記複数の磁性粒子の少なくとも一つは、Ｆｅ成分を含む金属磁性粒子、及び前記金属磁性粒子の表面に形成された酸化膜を含み、
前記金属磁性粒子は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域を含み、
前記酸化膜は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域を含む、磁性部品。
前記複数の磁性粒子の少なくとも一つは、Ｆｅ成分を含む金属磁性粒子、及び前記金属磁性粒子の表面に形成された酸化膜を含み、
前記金属磁性粒子は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域を含み、
前記酸化膜は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域を含む、磁性部品。
【請求項14】
前記本体内に配置されたコイルをさらに含む、請求項１３に記載の磁性部品。
【請求項15】
前記単結晶領域を含む磁性粒子を単結晶粒子とすると、
前記本体内には、複数個の前記単結晶粒子が含まれ、
前記複数個の単結晶粒子は、直径のＤ５０が１００から３００ｎｍである、請求項１３または１４に記載の磁性部品。
前記本体内には、複数個の前記単結晶粒子が含まれ、
前記複数個の単結晶粒子は、直径のＤ５０が１００から３００ｎｍである、請求項１３または１４に記載の磁性部品。
【請求項16】
複数の磁性粒子を含む本体を含む磁性部品において、
前記複数の磁性粒子は、第１金属磁性粒子を含む第１磁性粒子と、第２金属磁性粒子を含む第２磁性粒子と、第３金属磁性粒子を含む第３磁性粒子とを含み、
前記第１磁性粒子は第１直径範囲の直径を有し、前記第２磁性粒子は前記第１直径範囲より小さい第２直径範囲の直径を有し、前記第３磁性粒子は前記第２直径範囲より小さい第３直径範囲の直径を有し、
前記第３金属磁性粒子は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域を含む、磁性部品。
前記複数の磁性粒子は、第１金属磁性粒子を含む第１磁性粒子と、第２金属磁性粒子を含む第２磁性粒子と、第３金属磁性粒子を含む第３磁性粒子とを含み、
前記第１磁性粒子は第１直径範囲の直径を有し、前記第２磁性粒子は前記第１直径範囲より小さい第２直径範囲の直径を有し、前記第３磁性粒子は前記第２直径範囲より小さい第３直径範囲の直径を有し、
前記第３金属磁性粒子は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域を含む、磁性部品。
【請求項17】
前記第１磁性粒子から前記第３磁性粒子の直径は、前記本体の断面で測定された直径である、請求項１６に記載の磁性部品。
【請求項18】
前記第１直径範囲は５から６１μｍであり、
前記第２直径範囲は０．６から４．５μｍであり、
前記第３直径範囲は１０から９００ｎｍである、請求項１７に記載の磁性部品。
前記第２直径範囲は０．６から４．５μｍであり、
前記第３直径範囲は１０から９００ｎｍである、請求項１７に記載の磁性部品。
【請求項19】
前記第２金属磁性粒子及び前記第３金属磁性粒子は、互いに異なる物質を含む、請求項１８に記載の磁性部品。
【請求項20】
前記本体の断面において、前記第１磁性粒子から前記第３磁性粒子の面積の合計に対する前記第１磁性粒子の面積割合は５０から９０％であり、前記第３磁性粒子の面積割合は７．６から１６％である、請求項１８に記載の磁性部品。
【請求項21】
前記第１直径範囲は５から６１μｍであり、
前記第２直径範囲は０．９から４．５μｍであり、
前記第３直径範囲は１０から８００ｎｍである、請求項１７から２０のいずれか一項に記載の磁性部品。
前記第２直径範囲は０．９から４．５μｍであり、
前記第３直径範囲は１０から８００ｎｍである、請求項１７から２０のいずれか一項に記載の磁性部品。
【請求項22】
前記第１磁性粒子から前記第３磁性粒子は、前記第１金属磁性粒子から前記第３金属磁性粒子の表面にそれぞれ形成された第１酸化膜から第３酸化膜をさらに含み、
前記第３酸化膜は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域を含む、請求項１６から２０のいずれか一項に記載の磁性部品。
前記第３酸化膜は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域を含む、請求項１６から２０のいずれか一項に記載の磁性部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、磁性粒子及び磁性部品に関するものである。
【背景技術】
【0002】
インダクタ、共通モードフィルタ（Ｃｏｍｍｏｎ Ｍｏｄｅ Ｆｉｌｔｅｒ）、ＬＣフィルタ、バラン（Ｂａｌｕｎ）、磁気記録媒体などの磁性部品の場合、一般的に本体内部に磁性粒子が含まれることで意図した磁気的特性を実現する。ここで、磁性粒子は、フェライト系列、金属系列磁性物質などで形成されることができる。
【0003】
磁性部品において、低い抵抗、高いＤＣバイアス特性、高い効率特性などを実現するためには、磁性粒子を微細化して充填率を高める一方、損失は低くする必要がある。但し、磁性部品の小型化の傾向により本体の大きさも小型化しており、これによって本体内に含まれ得る磁性粒子の量を増やすのに限界がある。また、磁性粒子の充填率を高めるために高い圧力で本体を成形する場合、磁性部品の変形をもたらすなどの問題がある。ここで、磁性粒子の特性の向上により磁性部品の損失を最小化することができる方案が求められる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明の目的の一つは、磁性部品の損失特性が改善されることができる磁性粒子を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
上述の課題を解決するための方法として、本発明は一例によって新規な磁性粒子を提案し、具体的には、金属磁性粒子及び上記金属磁性粒子の表面に形成された酸化膜を含み、上記金属磁性粒子は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域を含み、上記酸化膜はＦｅ成分を含む非晶質領域を含む。
【0006】
一実施形態において、上記金属磁性粒子は上記単結晶領域からなることができる。
【0007】
一実施形態において、上記金属磁性粒子は非晶質領域を含まないことができる。
【0008】
一実施形態において、上記金属磁性粒子の断面における上記単結晶領域の面積割合は３０％以上であることができる。
【0009】
一実施形態において、上記単結晶領域はＦｅ、Ｓｉ、Ｃｒを含む金属を含むことができる。
【0010】
一実施形態において、上記単結晶領域はα－Ｆｅ相を含むことができる。
【0011】
一実施形態において、上記α－Ｆｅ相は、Ｆｅ（００１）相、Ｆｅ（００２）相、Ｆｅ（０１１）相、Ｆｅ（１０１）相、Ｆｅ（１１１）相からなる群の少なくとも一つを含むことができる。
【0012】
一実施形態において、上記酸化膜の非晶質領域はＦｅ系金属酸化物を含むことができる。
【0013】
一実施形態において、上記酸化膜は結晶領域をさらに含むことができる。
【0014】
一実施形態において、上記酸化膜の断面における上記非晶質領域の面積割合は３０％以上であることができる。
【0015】
一実施形態において、上記酸化膜の厚さは５から２０ｎｍであることができる。
【0016】
一実施形態において、上記磁性粒子は直径が１０から９００ｎｍであることができる。
【0017】
本発明の他の側面は、複数の磁性粒子を含む本体を含む磁性部品において、上記複数の磁性粒子の少なくとも一つは、Ｆｅ成分を含む金属磁性粒子及び上記金属磁性粒子の表面に形成された酸化膜を含み、上記金属磁性粒子はＦｅ成分を含む単結晶領域を含み、上記酸化膜はＦｅ成分を含む非晶質領域を含む磁性部品を提供する。
【0018】
一実施形態において、上記複数の磁性粒子を含む本体と、上記本体内に配置されたコイルを含むことができる。
【0019】
一実施形態において、上記単結晶領域を含む磁性粒子を単結晶粒子とすると、上記本体内には上記単結晶粒子が複数個含まれ、上記複数個の単結晶粒子は直径のＤ５０が１００から３００ｎｍであることができる。
【0020】
本発明の他の側面は、
複数の磁性粒子を含む本体を含む磁性部品において、上記複数の磁性粒子は、それぞれ第１から第３金属磁性粒子を含む第１から第３磁性粒子を含み、上記第１磁性粒子は、第１直径範囲の直径を有し、上記第２磁性粒子は上記第１直径範囲より小さい第２直径範囲の直径を有し、上記第３磁性粒子は上記第２直径範囲より小さい第３直径範囲の直径を有し、上記第３金属磁性粒子は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域を含む磁性部品を提供する。
複数の磁性粒子を含む本体を含む磁性部品において、上記複数の磁性粒子は、それぞれ第１から第３金属磁性粒子を含む第１から第３磁性粒子を含み、上記第１磁性粒子は、第１直径範囲の直径を有し、上記第２磁性粒子は上記第１直径範囲より小さい第２直径範囲の直径を有し、上記第３磁性粒子は上記第２直径範囲より小さい第３直径範囲の直径を有し、上記第３金属磁性粒子は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域を含む磁性部品を提供する。
【0021】
一実施形態において、上記第１から第３磁性粒子の直径は、上記本体の断面で測定された直径であることができる。
【0022】
一実施形態において、上記第１直径範囲は５から６１μｍであり、上記第２直径範囲は０．６から４．５μｍであり、上記第３直径範囲は１０から９００ｎｍであることができる。
【0023】
一実施形態において、上記第２及び第３金属磁性粒子は互いに異なる物質を含むことができる。
【0024】
一実施形態において、上記本体の断面において、上記第１から第３磁性粒子の面積の合計に対する上記第１磁性粒子の面積割合は５０から９０％であり、上記第３磁性粒子の面積割合は７．６－１６％であることができる。
【0025】
一実施形態において、上記第１直径範囲は５から６１μｍであり、上記第２直径範囲は０．９から４．５μｍであり、上記第３直径範囲は１０から８００ｎｍであることができる。
【0026】
一実施形態において、上記第１から第３磁性粒子は、上記第１から第３金属磁性粒子の表面にそれぞれ形成された第１から第３酸化膜をさらに含み、上記第３酸化膜はＦｅ成分を含む非晶質領域を含むことができる。
【発明の効果】
【0027】
本発明の一例による磁性粒子の場合、保磁力を効果的に低減することができ、これによってこれを採用した磁性部品の損失を低減して効率が増加されることができる。
【図面の簡単な説明】
【0028】
【図1】本発明の一実施形態による磁性粒子を示し、（ａ）は透過斜視図、（ｂ）は断面図である。
【図2】変形された実施形態による磁性粒子を示した図面である。
【図3】変形された実施形態による磁性粒子を示した図面である。
【図4】金属磁性粒子のＨＲ－ＴＥＭ分析結果を示した図面である。
【図5】金属磁性粒子のＨＲ－ＴＥＭ分析結果を示した図面である。
【図6】金属磁性粒子のＨＲ－ＴＥＭ分析結果を示した図面である。
【図7】金属磁性粒子のＨＲ－ＴＥＭ分析結果を示した図面である。
【図8】金属磁性粒子のＨＲ－ＴＥＭ分析結果を示した図面である。
【図9】本発明の一実施形態による磁性部品を概略的に示した透過斜視図である。
【図14】巻線型コイル構造を有する磁性部品を示した図面である。
【図15】巻線型コイル構造を有する磁性部品を示した図面である。
【図16】巻線型コイル構造を有する磁性部品を示した図面である。
【図17】巻線型コイル構造を有する磁性部品を示した図面である。
【図18】巻線型コイル構造を有する磁性部品を示した図面である。
【発明を実施するための形態】
【0029】
以下では、具体的な実施形態及び添付の図面を参照して本発明の実施形態を説明する。しかし、本発明の実施形態は、いくつかの他の形態に変形することができ、本発明の範囲が以下説明する実施形態に限定されるものではない。また、本発明の実施形態は、通常の技術者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及びサイズなどはより明確な説明のために拡大縮小表示（または強調表示や簡略化表示）がされることがあり、図面上の同一の符号で示される要素は同一の要素である。
【0030】
図１は、本発明の一実施形態による磁性粒子を示し、（ａ）は透過斜視図、（ｂ）は断面図である。本実施形態の場合、磁性粒子１００は、金属磁性粒子１０１及びその表面に形成された酸化膜１１０を含む。ここで、金属磁性粒子１０１は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域１０２を含み、酸化膜１１０は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域を含む。後述するように、磁性粒子１００を構成する金属磁性粒子１０１と酸化膜１１０の結晶特性を本実施形態のように実現することで磁性粒子１００の保磁力を下げることができ、このように保磁力が低くなった磁性粒子１００を磁性部品に用いる場合、損失を低減することで効率特性が改善されることができる。
【0031】
金属磁性粒子１０１は、磁気的特性を確保するための物質、例えば、鉄（Ｆｅ）、シリコン（Ｓｉ）、クロム（Ｃｒ）、コバルト（Ｃｏ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、ニオブ（Ｎｂ）、銅（Ｃｕ）及びニッケル（Ｎｉ）からなる群から選択されたいずれか一つ以上を含むことができる。具体的には、金属磁性粒子１０１は、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｒを含む金属を含むことができる。さらに具体的な例として、金属磁性粒子１０１は、純鉄、Ｆｅ－Ｓｉ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ａｌ系合金、Ｆｅ－Ｎｉ系合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｍｏ系合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｍｏ－Ｃｕ系合金、Ｆｅ－Ｃｏ系合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｏ系合金、Ｆｅ－Ｃｒ系合金、Ｆｅ－Ｃｒ－Ｓｉ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｕ－Ｎｂ系合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｒ系合金、Ｆｅ－Ｃｒ－Ａｌ系合金の少なくとも一つを含むことができる。上述したように、金属磁性粒子１０１は単結晶領域１０２を含み、単結晶領域１０２はＦｅ－Ｓｉ－Ｃｒ系合金を含むことができる。ここで、上記Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ系合金におけるＳｉとＣｒの重量％は１５％以下であり、より具体的な例として、０．８０重量％＜Ｓｉ＜１２．５重量％、２．５重量％＜Ｃｒ＜１４．２重量％であることができる。
【0032】
単結晶領域１０２はα－Ｆｅ相を含むことができ、この場合、上記α－Ｆｅ相はＦｅ（００１）相、Ｆｅ（００２）相、Ｆｅ（０１１）相、Ｆｅ（１０１）相、Ｆｅ（１１１）相からなる群の少なくとも一つを含むことができる。単結晶領域１０２は、その内部に存在する結晶が一定の配向（ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ）を有するように形成された領域として定義されることができる。例えば、単結晶領域１０２がＦｅ（０１１）相で構成される場合、金属磁性粒子１０１内に存在する他のＦｅ相またはＦｅ酸化物相（例：Ｆｅ３Ｏ４相）などは単結晶領域１０２に含まれず、多結晶構造を形成するようになる。図示された形態から分かるように、金属磁性粒子１０１は単結晶領域１０２の一つからなることができる。また、金属磁性粒子１０１は、単結晶領域１０２以外に非晶質領域を含まないことができる。但し、図２の変形例のように、金属磁性粒子１０１は、単結晶領域１０２以外に非晶質領域１０３をさらに含むこともできる。このように金属磁性粒子１０１に単結晶領域１０２と非晶質領域１０３が共に存在する場合、金属磁性粒子１０１の断面における単結晶領域１０２の面積割合は３０％以上であり、ここで金属磁性粒子１０１の断面は、中心を含む断面であるか、等間隔で複数個の領域から得られることができる。また、単結晶領域１０２と非晶質領域１０３の面積の合計は５０％以上であることができる。
【0033】
このように金属磁性粒子１０１が実質的に単結晶領域１０２で構成される場合には、多結晶構造を有する場合よりも保磁力が低くなることがある。特に、金属磁性粒子１０１の大きさが比較的小さい超微粉の場合、非晶質で形成し難くて、保磁力を十分に下げることは難しいが、本実施形態のように金属磁性粒子１０１を単結晶構造で実現することで保磁力を著しく低減することができる。このように保磁力が低減された磁性粒子１００を用いる場合、磁性部品のＱ効率特性及び損失特性が改善されることができる。
【0034】
超微粉に該当する磁性粒子１００の大きさは、直径Ｄが１０から９００ｎｍの範囲であることができる。磁性粒子１００の直径Ｄは、中央部の断面で測定されることができる。例えば、磁性粒子１００の中心を通るＺ－Ｙ断面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ、Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて撮影してイメージを得て、この場合、ＳＥＭイメージにおいてイメージピクセルサイズ（ｉｍａｇｅ ｐｉｘｅｌ ｓｉｚｅ）は、１０ｎｍ×１０ｎｍに固定し、作業距離（ｗｏｒｋｉｎｇ ｄｉｓｔａｎｃｅ）は８ｍｍに固定することができる。そして、モードはバックスキャッタモード（ｂａｃｋ ｓｃａｔｔｅｒｅｄ ｍｏｄｅ）を用いることができる。この後、イメージ分析プログラム（例：ＯＲＳ社Ｄｅｅｐ ｌｅａｒｎｉｎｇ ｔｏｏｌ）を用いて直径Ｄを計算することができる。磁性粒子１００は、球形またはほぼ球形に近い形状であることができるが、これに制限されない。したがって、磁性粒子１００が球形を維持しない任意の形状である場合、上述した直径はフェレット直径（Ｆｅｒｅｔ Ｄｉａｍｅｔｅｒ）に置き換えて解釈することができ、直径の平均値もフェレット直径の平均値に置き換えて解釈することができる。直径平均値の計算方法として、イメージプロセッサソフトウェアのツール（ｔｏｏｌ）を活用することができ、各領域別に粒径分析によりサイズ分布を得ることができる。但し、これは磁性粒子１００のサイズを個別的に分析する方法の一例であり、後述するように、磁性部品２００、４００、５００に含まれた磁性粒子のサイズを分析する場合には、磁性部品２００、４００、５００の断面イメージを介して測定されることができる。
【0035】
酸化膜１１０は、金属磁性粒子１０１の表面に形成され、金属磁性粒子１０１を保護し、磁性粒子１０１が外部に対して電気的に絶縁された形態を有するようにすることができる。酸化膜１１０によって磁性粒子１００の渦電流損失などが低減されることができる。上述したように、酸化膜１１０は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域１１１を含む。この場合、非晶質領域１１１はＦｅ系金属酸化物、例えば、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｒなどを含む金属の酸化物を含むことができる。非晶質領域１１１は実質的に結晶構造の内部組織を有さず、本実施形態のように酸化膜１１０は実質的に非晶質領域１１１で構成されることができる。但し、図３の変形例のように、酸化膜１１０は、非晶質領域１１１以外に単結晶領域１１２を含むこともできる。ここで、単結晶領域１１２は、Ｆｅ３Ｏ４成分を含むことができる。この場合、酸化膜１１０の断面における非晶質領域１１１の面積割合は３０％以上であることができ、酸化膜１１０の断面は等間隔で複数個の領域で得られることができる。そして、酸化膜１１０の厚さＴは５から２０ｎｍであることができる。
【0036】
金属磁性粒子１０１が単結晶領域１０２を有するようにするための製造方法の一例において、ＲＦプラズマ工法を用いて原料を蒸発させた後、不活性ガスを用いて冷却して微粒粉末を形成することができる。この過程で原料の多結晶構造が単結晶構造に変化されることができる。この場合、得られた粉末を、気流を介して移動させる方法などで粒径が大きいものを分離する過程を経ることもできる。ここで、ＲＦプラズマ工程は、還元雰囲気（例えば、Ｈ２ガス雰囲気）で行われ、この過程で金属磁性粒子１０１の表面に非晶質領域１１１を有する酸化膜１１０が形成されることができる。酸化膜１１０の非晶質領域１１１は結晶質に対する磁性（ｍａｇｎｅｔｉｓｍ）を低下させる可能性があるが、超常磁性（Ｓｕｐｅｒ－Ｐａｒａｍａｇｎｅｔｉｓｍ）特性が実現されて金属磁性粒子１０１を磁化させる役割を果たすことができ、この場合、一般的な常磁性体の磁化率より高いことができる。金属磁性粒子１０１を、多結晶構造を有するように形成する場合、一般的なＮ２ガス雰囲気で製作されるため、金属磁性粒子１０１は角形の面（ｆａｃｅｔ）を有し、これによって酸化膜１１０は面成長（ｆａｃｅｔ ｇｒｏｗｔｈ）をして結晶質酸化膜の形態で形成されることができる。
【0037】
本発明の発明者らは、上述の内容に基づいて単結晶領域を有する磁性粒子を製造して断面分析を行った。図４から８は、金属磁性粒子のＨＲ－ＴＥＭ分析結果を示す。この場合、ＨＲ－ＴＥＭ分析のために製作されたサンプルをＦＩＢ（Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅａｍ）で前処理した。そして、ＨＲ－ＴＥＭはＪＥＯＬ社の２１００Ｆを用いた。まず、製造された磁性粒子は１０から９００ｎｍの直径範囲を有し、金属磁性粒子の成分の場合、Ｆｅが大部分であり、Ｓｉ、Ｃｒが添加されたことを確認した。そして、金属磁性粒子のＳＴＥＭ－ＥＤＳ分析の結果、内部にＦｅ－Ｓｉ－Ｃｒが均一な（ｕｎｉｆｏｒｍ）成分の分布を示すことが確認できた。また、金属磁性粒子を覆う酸化膜の場合、その厚さは５から２０ｎｍの範囲で形成された。
【0038】
図４を参照すると、金属磁性粒子の断面イメージに対する配向（ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ）を分析した結果、一つの配向角（ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ ａｎｇｌｅ）を有する単結晶領域で構成されたことが確認でき、この場合、Ｆｅを含む単結晶領域の主ピークは（０１１）であった。ここで、配向（ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ）分析の場合、ソフトウェア（例えば、Ｇａｔａｎ ｄｉｇｉｔａｌ ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ）を用いて断面イメージに対するＦａｓｔ Ｆｕｒｒｉｅｒ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ（ＦＦＴ）分析を行い、図４の右側に示された分析結果から分かるように、分析領域の全てがＦｅ（０１１）に配向された単結晶領域であることが確認できた。これ以外にも、Ｆｅを含む単結晶領域が異なる配向角を有する場合も確認されており、図５は、Ｆｅ（０１１）とＦｅ（００２）に配向された単結晶領域、図６は、Ｆｅ（１０１）に配向された単結晶領域、図７は、Ｆｅ（００１）に配向された単結晶領域、図８は、Ｆｅ（１１１）に配向された単結晶領域を含む。
【0039】
以下、上述した磁性粒子を含む磁性部品の一例を説明する。図９から図１１を参照すると、本実施形態の場合、複数の磁性粒子２１１を含む磁性部品２００はコイル部品に該当する。具体的には、磁性部品２００は本体２０１、支持部材２０２、コイルパターン２０３、外部電極２０５、２０６を含み、本体２０１は複数の磁性粒子２１１を含む。ここで、複数の磁性粒子２１１の少なくとも一つは、上述した単結晶構造を有し、具体的には、Ｆｅ成分を含む金属磁性粒子１０１及びその表面に形成された酸化膜１１０を含み、ここで、金属磁性粒子１０１は、Ｆｅ成分を含む単結晶領域１０２を含む。また、上述したように、酸化膜１１０は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域を含む。
【0040】
本体２０１は、支持部材２０２とコイル２０３の少なくとも一部を付着させて磁性部品２００の外観をなすことができる。また、本体２０１は、引き出しパターンＬの一部領域が外部に露出するように形成されることができる。図１０に示した形態のように、本体２０１は複数の磁性粒子２１１を含み、このような磁性粒子２１１は絶縁材２１０の内部に分散されることができる。絶縁材２１０は、エポキシ樹脂、ポリイミドなどの高分子成分を含むことができる。本体２０１は、複数の磁性粒子２１１を含み、これらの少なくとも一つは図１から図４で説明した単結晶構造（または実質的な単結晶構造）を有することができる。上述したように、金属磁性粒子１０１がＦｅ成分を含む単結晶領域１０２を有し、酸化膜１１０がＦｅ成分を含む非晶質領域１１１を含む形態の磁性粒子２１１は、保磁力が低減されることができ、これを用いた磁性部品２００の場合、Ｑ特性及び損失特性が向上することができる。磁性粒子２１１のうち、上述した単結晶領域１０２を含む磁性粒子２１１を単結晶粒子２１１とすると、本体２０１内には単結晶粒子２１１が複数個含まれ、複数個の単結晶粒子２１１は、直径のＤ５０が１００から３００ｎｍであることができる。この場合、Ｄ５０は、直径サイズの順に並べたときに最も中央に位置する値を意味する。
【0041】
一方、本体２０１内に存在する磁性粒子２１１の直径は、本体２０１の断面で測定されることができる。具体的には、本体２０１の中心を通るＸ－Ｚ方向の断面に対して、Ｙ方向に等間隔の複数の領域（例：５個または１０個の領域）を、走査電子顕微鏡を用いて撮影した後、イメージ分析プログラムを用いて磁性粒子２１１の直径を得ることができる。この場合、本体２０１の外側領域は、圧着工程などにより磁性粒子２１１が変形されるか、酸化膜１１０が破壊されることができるため、これを除いて磁性粒子２１１の直径を測定することができる。例えば、本体２０１の表面から５％または１０％内の長さに該当する領域は除外することができる。
【0042】
一方、製造方法の一例に関して、本体２０１は積層工法で形成されることができる。具体的には、支持部材２０２上にめっきなどの方法を用いてコイル２０３を形成した後、本体２０１を製造するための単位積層体を多数個設けて、これを積層する。ここで、上記単位積層体は、金属などの磁性粒子２１１と熱硬化性樹脂、バインダー、及び溶剤などの有機物を混合してスラリーを製造し、上記スラリーをドクターブレード法でキャリアフィルム（ｃａｒｒｉｅｒ ｆｉｌｍ）上に数十μｍの厚さで塗布した後に乾燥してシート（ｓｈｅｅｔ）状に製造することができる。これにより、単位積層体は、磁性粒子がエポキシ樹脂またはポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）などの熱硬化性樹脂に分散した形態で製造されることができる。上述した単位積層体を複数個形成して、これをコイル２０３の上部及び下部で加圧積層して本体２０１を実現することができる。
【0043】
支持部材２０２はコイル２０３を支持し、ポリプロピレングリコール（ＰＰＧ）基板、フェライト基板または金属系軟磁性基板などで形成されることができる。図示された形態のように、支持部材２０２の中央部は貫通されて貫通孔が形成され、このような貫通孔には本体２０１の一部が充填されてマグネティックコア部Ｃを形成することができる。
【0044】
コイル２０３は本体２０１の内部に内設され、磁性部品２００のコイルから発現する特性により電子機器内で様々な機能を行う役割を果たす。例えば、磁性部品２００はパワーインダクタであることができ、この場合、コイル２０３は電気を磁場の形態で蓄えて出力電圧を維持して電源を安定させる役割などを行うことができる。この場合、コイル２０３をなすコイルパターンは、支持部材２０２の両面上にそれぞれ積層された形態として、第１コイル２０３ａ及び第２コイル２０３ｂを含むことができ、ここで、第１コイル２０３ａ及び第２コイル２０３ｂは、支持部材２０２を貫通する導電性ビアＶを介して電気的に連結されることができる。この場合、コイル２０３はパッド領域Ｐを含むことができる。コイル２０３は螺旋（ｓｐｉｒａｌ）状に形成されることができ、このような螺旋状の最外側には外部電極２０５、２０６との電気的な連結のために、本体２０１の外部に露出する引き出し部Ｔを含むことができる。但し、図示された形態とは異なって、コイル２０３は支持部材２０２の一つの面にのみ配置されることもできる。一方、コイル２０３をなすコイルパターンの場合、当技術分野で用いられるめっき工程、例えば、パターンめっき、異方めっき、等方めっきなどの方法を用いて形成されることができ、これらの複数の工程を利用して多層構造で形成されることもできる。但し、コイル２０３は巻線型コイル構造で実現されることもでき、この場合、支持部材２０２は本体２０１内に含まれないこともできる。巻線型コイル構造については、図１４の以下の実施形態で詳細に説明する。
【0045】
外部電極２０５、２０６は、本体２０１の外部に形成されて引き出し部Ｔと接続するように形成されることができる。外部電極２０５、２０６は、電気導電性に優れた金属を含むペーストを用いて形成することができ、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、スズ（Ｓｎ）または銀（Ａｇ）などの単独またはこれらの合金などを含む導電性ペーストであることができる。また、外部電極２０５、２０６上にめっき層をさらに形成することができる。この場合、上記めっき層は、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）及びスズ（Ｓｎ）からなる群から選択されたいずれか一つ以上を含むことができ、例えば、ニッケル（Ｎｉ）層及びスズ（Ｓｎ）層が順に形成されることができる。
【0046】
図１２及び図１３を参照して、他の実施形態による磁性部品を説明する。図１２及び図１３の実施形態は、図９から図１１の実施形態と本体内部に存在する磁性粒子において差異があり、他の構成要素は同様に採用できるため、重複する説明は省略する。本実施形態の場合、本体２０１は複数の磁性粒子３２１、３２２、３２３を含み、複数の磁性粒子３２１、３２２、３２３はそれぞれ第１から第３金属磁性粒子３０１、３０２、３０３を含む第１から第３磁性粒子３２１、３２２、３２３を含む。ここで、複数の磁性粒子３２１、３２２、３２３は、直径サイズが互いに異なる。具体的には、第１磁性粒子３２１は第１直径範囲の直径Ｄ１を有し、第２磁性粒子３２２は上記第１直径範囲より小さい第２直径範囲の直径Ｄ２を有し、第３磁性粒子３２３は、上記第２直径範囲より小さい第３直径範囲の直径Ｄ３を有する。具体的な例として、上記第１直径範囲は５から６１μｍであり、上記第２直径範囲は０．６から４．５μｍであることができる。さらに、上記第３直径範囲は１０から９００ｎｍであることができる。第１から第３磁性粒子３２１、３２２、３２３の直径は、本体２０１の断面で測定された直径であることができる。本実施形態の場合、最も大きさが小さい第３磁性粒子３２３は、保磁力が低減されるように単結晶構造、すなわち、Ｆｅ成分を含む単結晶領域３０４を含む構造を有し、これに応じて、Ｑ特性及び損失特性が向上することができる。一方、第２磁性粒子３２２と第３磁性粒子３２３は、直径範囲が一部重なることがあるが、この場合、第２及び第３金属磁性粒子３０２、３０３は互いに異なる物質を含むことができる。これにより、ＳＥＭ－ＥＤＳ、ＸＲＦなどの方法を用いて第２磁性粒子３２２と第３磁性粒子３２３を区別することができる。さらに、第１及び第３磁性粒子３２１、３２２、３２３をより明確に区分できるように、上記第１から第３直径範囲は互いに重なる範囲がないこともあり、例えば、上記第１直径範囲は５から６１μｍ、上記第２直径範囲は０．９から４．５μｍ、上記第３直径範囲は１０から８００ｎｍであることができる。
【0047】
本実施形態のように、互いに大きさが異なる複数種類の磁性粒子３２１、３２２、３２３を用いることで、本体２０１内に磁性粒子３２１、３２２、３２３の充填率が向上することができ、これから磁性部品２００の磁気的特性が向上することができる。また、サイズが比較的小さい超微粉の場合、非晶質で形成することが困難であり、保磁力を十分に下げることが難しいが、本実施形態のようにサイズが小さい第３金属磁性粒子３０３を単結晶構造で実現することで保磁力を著しく低減することができる。
【0048】
第１から第３金属磁性粒子３０１、３０２、３０３は、純鉄、Ｆｅ－Ｓｉ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ａｌ系合金、Ｆｅ－Ｎｉ系合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｍｏ系合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｍｏ－Ｃｕ系合金、Ｆｅ－Ｃｏ系合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｏ系合金、Ｆｅ－Ｃｒ系合金、Ｆｅ－Ｃｒ－Ｓｉ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｕ－Ｎｂ系合金、Ｆｅ－Ｎｉ－Ｃｒ系合金、Ｆｅ－Ｃｒ－Ａｌ系合金の少なくとも一つを含むことができる。第１磁性粒子３２１は、第１金属磁性粒子３０１の表面に形成された第１酸化膜３１１を含むことができる。同様に、第２磁性粒子３２２は、第２金属磁性粒子３０２の表面に形成された第２酸化膜３１２を含むことができ、第３磁性粒子３２３は第３金属磁性粒子３０３の表面に形成された第３酸化膜３１３を含むことができる。第１から第３酸化膜３１１、３１２、３１３は、Ｆｅ酸化物、例えば、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４などを含むことができる。これ以外にも、第１から第３酸化膜３１１、３１２、３１３は、リン酸塩（ｐｈｏｓｐｈａｔｅ）やフェライト（例えば、ＮｉＺｎＣｕフェライト、ＮｉＺｎフェライト）などを含むことができ、これ以外にもＭｇＯ、Ａｌ２Ｏ３などの酸化物を含むこともできる。ここで、第３金属磁性粒子３０３が単結晶構造を有する場合、第３酸化膜３１３は、Ｆｅ成分を含む非晶質領域３１４を含むことができる。
【0049】
本発明の発明者らは、本体２０１内に存在する第１から第３磁性粒子３２１、３２２、３２３の相対的な含有量に応じて特性（透磁率、コア損失）の変化を実験し、表１から３にその結果を示した。上述したように、本体２０１内に存在する磁性粒子３２１、３２２、３２３の直径は、本体２０１の断面で測定されることができる。具体的には、本体２０１の中心を通るＸ－Ｚ方向の断面に対して、Ｙ方向に等間隔の複数の領域（例：５個または１０個の領域）を、走査電子顕微鏡を用いて撮影した後、イメージ分析プログラムを用いて磁性粒子３２１、３２２、３２３の直径を得ることができる。この場合、具体的な例として、ＳＥＭイメージにおいて、イメージピクセルサイズ（ｉｍａｇｅ ｐｉｘｅｌ ｓｉｚｅ）は、１０ｎｍ×１０ｎｍに固定し、作業距離（ｗｏｒｋｉｎｇ ｄｉｓｔａｎｃｅ）は、８ｍｍに固定することができる。そして、モードはバックスキャッタモード（ｂａｃｋ ｓｃａｔｔｅｒｅｄ ｍｏｄｅ）を用いることができる。この後、イメージ分析プログラム（例：ＯＲＳ社Ｄｅｅｐ ｌｅａｒｎｉｎｇ ｔｏｏｌ）を用いて直径の平均値を計算することができる。磁性粒子３２１、３２２、３２３は、球形またはほぼ球形に近い形状であることができるが、これに制限されない。すなわち、磁性粒子３２１、３２２、３２３は非球形の形状を有することもできる。磁性粒子３２１、３２２、３２３が球形を維持しない任意の形状である場合、上述した直径はフェレット直径（Ｆｅｒｅｔ Ｄｉａｍｅｔｅｒ）に置き換えて解釈することができ、直径の平均値もフェレット直径の平均値に置き換えて解釈することができる。直径平均値の計算方法として、イメージプロセッサソフトウェアのツール（ｔｏｏｌ）を活用することができ、各領域別に粒径分析によりサイズ分布を得ることができる。一方、本体２０１の外側領域は、圧着工程などによって磁性粒子３２１、３２２、３２３が変形されるか、酸化膜１１０が破壊されることがあるため、このような磁性粒子３２１、３２２、３２３は測定時に除外することができ、例えば、本体２０１の表面から５％または１０％内の長さに該当する領域は除外することができる。また、他の例として、破壊が発生していない３ヶ所の地点で測定した大きさにより破壊された粒子の大きさを類推することも可能である。また、上記説明においては、磁性部品において複数の断面を取って磁性粒子３２１、３２２、３２３の直径を測定するとしたが、複数の断面を取り難い場合には、一つの断面、例えば、磁性部品の中心を通るＸ－Ｙ断面で測定されることもできる。
【0050】
上述した方法などを用いて測定された直径に応じて直径範囲が５から６１μｍの場合は第１磁性粒子、直径範囲が０．６から４．５μｍの場合は第２磁性粒子、直径範囲が１０から９００ｎｍの場合は第３磁性粒子と分類した。そして、各サンプル別に、第１から第３磁性粒子の面積の合計に対する各磁性粒子の面積割合を％で表し、透磁率及びコア損失を測定した。
【0051】
まず、以下の表１は、第１磁性粒子のＤ５０が２１から３６μｍの範囲を有するサンプルに対する結果であり、＊で表したサンプル１、２、９は比較例に該当する。透磁率の場合、基準サンプルに対して５％以上増加する場合を「Ｏ」、そうでない場合を「Ｘ」と表した。ここで、上記基準サンプルは、第１及び第２磁性粒子の含有量の比を７６：２４とし、第３磁性粒子は含まない。そして、コア損失／Ｑの場合、上記基準サンプルに対して増加した透磁率から３０％以上Ｑが下落する際に不良（Ｘ）と示した（例：透磁率５増加時にＱ６．５以上が下落すると不良）。
【0052】
【表1】
【0053】
以下の表２は、第１磁性粒子のＤ５０が１２から２１μｍの範囲を有するサンプルに対する結果であり、＊で表したサンプル１０、１５、１６、２０は比較例に該当する。
【0054】
【表2】
【0055】
以下の表３は、第１磁性粒子のＤ５０が５から１２μｍの範囲を有するサンプルに対する結果であり、＊で表したサンプル２１、３１は比較例に該当する。
【0056】
【表3】
【0057】
上記実験結果によって、第１から第３磁性粒子の最適化された割合を導出することができ、具体的には、第１磁性粒子の面積割合は９０％以下、第３磁性粒子の面積割合は７．６から１６％である場合、透磁率及びコア損失の特性の面で良好な性能を示すことが確認できた。この場合、大きさが比較的大きい第１磁性粒子の割合が半分以下に低下する場合、磁性粒子の全体的な充填率が低下して透磁率損失が増加するという問題が発生する可能性がある。したがって、第１磁性粒子の面積割合は５０％以上であることが好ましい。
【0058】
以下、上述した磁性粒子を含む他の形態の磁性部品として巻線型コイル構造を有する磁性部品を説明する。まず、図１４、図１５、図１６を参照すると、磁性部品４００は、モールド部４５０、コイル部４３０、カバー部４６０、及び収容溝ｈ１、ｈ２を含み、外部電極４７０、４８０をさらに含む。本体Ｂは磁性部品４００の外観をなし、内部にコイル部４３０を埋設する。本体Ｂは、モールド部４５０及びカバー部４６０を含む。モールド部４５０はコア４２０を含むことができる。本体Ｂは、全体的に六面体状に形成されることができる。本体Ｂは、第１方向Ｘに互いに向かい合う第１面４０１と第２面４０２、第２方向Ｙに互いに向かい合う第３面４０３と第４面４０４、第３方向Ｚに向かい合う第５面５０５及び第６面５０６を含む。本体Ｂの第１から第４面４０１、４０２、４０３、４０４のそれぞれは、本体Ｂの第５面４０５と第６面４０６を連結する本体Ｂの壁面に該当する。以下において、本体Ｂの両端面は本体Ｂの第１面４０１及び第２面４０２を意味し、本体Ｂの両側面は本体Ｂの第３面４０３及び第４面４０４を意味することができる。
【0059】
本体Ｂは、例示的に、後述する外部電極４７０、４８０が形成された本実施形態による磁性部品４００が２．０ｍｍの長さ、１．２ｍｍの幅及び０．６ｍｍの厚さを有するように形成されることができるが、これに制限されるものではない。一方、本体Ｂはモールド部４５０及びカバー部４６０を含むが、カバー部４６０は、図１を基準にモールド部４５０の上部に配置され、モールド部４５０の下面を除いた全ての表面を囲む。したがって、本体Ｂの第１から第５面１０１、１０２、１０３、１０４、１０５はカバー部４６０によって形成され、本体Ｂの第６面１０６はモールド部４５０及びカバー部４６０により形成される。モールド部４５０は、互いに向かい合う一面及び他面を有する。モールド部４５０の一面は、モールド部４５０の下面に該当する面であり、後述する収容溝ｈ１、ｈ２が配置される一領域を意味する。後述するように、収容溝ｈ１、ｈ２はモールド部４５０の内部に加工されるため、収容溝ｈ１、ｈ２の底面はモールド部４５０の一面と他面との間の領域に配置されることができる。モールド部４５０は、支持部４１０及びコア４２０を含む。コア４２０は、コイル部４３０を貫通する形態で支持部４１０の他面の中央部に配置される。上記の理由から、本明細書上において、モールド部４５０の一面及び他面は、それぞれ支持部４１０の一面及び他面と同じ意味で使用される。モールド部４５０は、金型に図１３の金属磁性粒子３２１、３２２、３２３と絶縁樹脂を含む複合物質を充填することで形成されることができる。ここで、上記絶縁樹脂は、エポキシ（ｅｐｏｘｙ）、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、液晶結晶性ポリマー（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｐｏｌｙｍｅｒ）などを単独または混合して含むことができるが、これに限定されるものではない。
【0060】
コイル部４３０は本体Ｂに埋設され、磁性部品４００の特性を発現する。例えば、本実施形態の磁性部品４００がパワーインダクタとして活用される場合、コイル部４３０は、電界を磁場に蓄積して出力電圧を維持することによって電子機器の電源を安定させる役割を果たすことができる。コイル部４３０は、モールド部４５０の他面に配置される。具体的には、コイル部４３０は、コア４２０を中心に巻線された形態で、支持部４１０の他面に配置される。コイル部４３０は空心コイルであり、平角コイルで構成されることができる。コイル部４３０は、表面が絶縁物質で被覆された銅ワイヤーなどの金属ワイヤーをスパイラル（ｓｐｉｒａｌ）状に巻いて形成されることができる。コイル部４３０は複数の層で構成されることができる。コイル部４３０の各層は平面螺旋状に形成され、複数のターン（ｔｕｒｎ）数を有することができる。すなわち、コイル部４３０は、モールド部４５０の一面の中央部から外側に最内側ターンＴ１、少なくとも一つの中間ターンＴ２及び最外側ターンＴ３を形成することができる。
【0061】
カバー部４６０は、モールド部４５０及びコイル部４３０上に配置されることができる。カバー部４６０は、モールド部４５０及びコイル部４３０を覆う。カバー部４６０は、モールド部４５０の支持部４１０と、コア４２０及びコイル部４３０上に配置された後に加圧されてモールド部４５０に結合されることができる。モールド部４５０及びカバー部４６０の少なくとも一つは、図１３の金属磁性粒子３２１、３２２、３２３を含み、本実施形態の場合、モールド部４５０及びカバー部４６０はそれぞれ図１３の金属磁性粒子３２１、３２２、３２３を含む。
【0062】
第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２は、モールド部４５０の一面に互いに離隔して形成され、第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２には、後述するコイル部４３０の両端部が配置される。一例として、第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２は、モールド部４５０の一面にそれぞれ形成され、長さ方向Ｘに沿って互いに離隔する。第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２は、モールド部４５０の一面のうちコア４２０に対応される領域の外側に配置されることができるが、これに制限されない。第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２のそれぞれは、モールド部４５０の一面において一方向に沿って延びるように形成されることができるが、コイル部４３０の両端部を効果的に露出させることができる構造であれば、制限されない形態で形成されることができる。
【0063】
本体Ｂは、モールド部４５０及びカバー部４６０を含む領域であるため、本体Ｂの一面は、モールド部４５０及びカバー部４６０を含む領域の一面を意味する。コイル部４３０は、外部に引き出され、それぞれ第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２に配置された第１及び第２引き出し部を含む。第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２は、コイル部４３０の両端部を外部電極４７０、４８０に引き出す領域であるため、第１及び第２外部電極４７０、４８０にそれぞれ対応されるように互いに離隔して本体Ｂの一面に形成される。
【0064】
一例として、貫通溝Ｈ１、Ｈ２は、モールド部４５０を形成する際に金型により形成されることができ、第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２は、金属磁性粒子を含む磁性シートを積層及び圧着してカバー部４６０を形成する工程でモールド部４５０に形成されることができる。モールド部４５０を形成するための金型には、貫通溝Ｈ１、Ｈ２に対応される突出部が形成され、金型の形状に対応される形態で製造されるモールド部４５０に貫通溝Ｈ１、Ｈ２が形成されることができる。また、第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２は、モールド部４５０を形成するための工程で形成されず、モールド部４５０上にカバー部４６０を形成するための工程で形成されることができる。すなわち、モールド部４５０の貫通溝Ｈ１、Ｈ２を介してモールド部４５０の一面に突出配置されているコイル部の３００の両端部は、上記磁性シート圧着工程でモールド部４５０の内側に埋め込まれることができる。これにより、モールド部４５０の一面に第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２が形成されることができる。または、第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２及び貫通溝Ｈ１、Ｈ２は、金型を用いてモールド部４５０を形成する工程で形成されることもできる。この場合、モールド部４５０の形成に用いられる金型には、第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２及び貫通溝Ｈ１、Ｈ２に対応される突出部が形成されることができる。
【0065】
コイル部４３０の両端部は、それぞれモールド部４５０の一面を貫通して第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２のそれぞれに配置されることができる。コイル部４３０の端部が収容溝ｈ１、ｈ２に配置された形態は制限されないため、第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２の幅は貫通溝Ｈ１、Ｈ２の幅と同一であることもでき、異なることもできる。コイル部４３０の両端部は、モールド部４５０の一面、すなわち本体Ｂの第６面４０６に露出する。モールド部４５０の一面に露出したコイル部４３０の両端部は、本体Ｂの第６面４０６に互いに離隔して形成された第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２に配置される。コイル部４３０の両端部は、モールド部４５０の支持部４１０を貫通して支持部４１０の一面に露出することができる。具体的には図示していないが、コイル部４３０の両端部はコイル部４３０の厚さと同一であるため、コイル部４３０の厚さに該当する分だけ支持部４１０の一面に突出された形態であることができる。しかしながら、後述する外部電極４７０、４８０を形成するためのめっきレジストの開口部を研磨する過程で上記突出された端部も一緒に研磨できるため、支持部４１０の一面に露出したコイル部４３０の端部は実質的にコイル部４３０の厚さより小さいことができる。
【0066】
外部電極４７０、４８０は、本体Ｂの一面、すなわち第６面１０６に互いに離隔配置されることができる。具体的には、外部電極４７０、４８０は、モールド部４５０の一面上に互いに離隔配置され、第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２に配置されたコイル部４３０の両端部とそれぞれ連結されることができる。第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２の底面に沿ってコイル部４３０の両端部が配置され、コイル部４３０の両端部に沿って外部電極４７０、４８０が塗布されるため、外部電極は、第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２の形態に対応されるように形成されることができる。一例として、銀（Ａｇ）などの導電性粒子を含む導電性樹脂を第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２上に塗布して外部電極４７０、４８０を形成することができる。外部電極４７０、４８０は、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、スズ（Ｓｎ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉛（Ｐｂ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、またはこれらの合金などの導電性物質で形成されることができるが、これに限定されるものではない。外部電極４７０、４８０は、単層または複数層の構造で形成されることができる。本実施形態によると、外部電極４７０、４８０は、コイル部４３０の両端部に接触連結される第１層と、第１層を覆う第２層を含むことができる。一例として、第１層は、銀（Ａｇ）粒子を含む導電性樹脂で形成されることができるが、これに制限されずに銅（Ｃｕ）を含む先めっき層によって形成されることもできる。具体的には示されていないが、第２層は第１層上に配置されて第１層を覆うことができる。第２層はニッケル（Ｎｉ）及び／またはスズ（Ｓｎ）を含むことができる。第２層は電解めっきで形成されることができるが、これに制限されるものではない。
【0067】
一方、本実施形態による磁性部品４００は、コイル部４３０の表面を囲む絶縁層４９０をさらに含むことができる。絶縁層４９０を形成する方式には制限はないが、例えば、パリレン樹脂などをコイル部４３０の表面に化学気相蒸着することで形成することができ、スクリーン印刷法、フォトレジスト（ｐｈｏｔｏ ｒｅｓｉｓｔ、ＰＲ）の露光、現像による工程、スプレー（ｓｐｒａｙ）塗布、ディッピング（ｄｉｐｐｉｎｇ）工程など公知の方法で形成することができる。絶縁層４９０は、薄膜で形成できるものであれば特に制限はないが、例えば、フォトレジスト（ＰＲ）、エポキシ（ｅｐｏｘｙ）系樹脂などを含んで形成されることができる。
【0068】
一方、図示してはいないが、本実施形態による磁性部品４００は、本体Ｂの第６面４０６のうち外部電極４７０、４８０が配置された領域を除いた領域に追加絶縁層をさらに含むことができる。追加絶縁層は、電解めっきで外部電極４７０、４８０を形成する際にめっきレジストとして用いられることができるが、これに制限されるものではない。また、追加絶縁層は、本体Ｂの第１から第５面４０１、４０２、４０３、４０４、４０５の少なくとも一部に配置されて、他の電子部品と外部電極４７０、４８０との間の電気的ショートを防止することができる。一方、貫通溝Ｈ１、Ｈ２がモールド部４５０の内側でモールド部４５０を貫通することを示しているが、これは例示に過ぎない。すなわち、本実施形態の変形例として、貫通溝Ｈ１、Ｈ２は、モールド部４５０の側面に形成されて、モールド部４５０の一面に配置された第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２と連通されることができる。この場合、コイル部４３０の両端部は、モールド部４５０の側面とモールド部４５０の一面に沿って配置されることができる。なお、本実施形態では、磁性部品４００が図１３の磁性粒子を含んでいるが、図１１の磁性粒子を含むこともでき、これは以下の実施形態においても同様である。
【0069】
図１７及び図１８を参照して、変形例による磁性部品を説明する。まず、図１７の実施形態において磁性部品５００は、コイル部４３０が本体Ｂの外部に引き出される方式が上述の実施形態とは異なり、その他に重複される構成に関しては説明を省略する。本実施形態において磁性部品５００の支持部４１０には、巻線コイル４３０の第１及び第２引き出し部４３１、４３２を収容することができるように第１及び第２引き出し部４３１、４３２と対応される形状に形成された第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２を含むことができる。第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２は、それぞれ支持部４１０の一側面において厚さ方向（Ｔ方向）に沿って形成され、支持部４１０の他面４０６において第２方向（Ｙ方向）に延びて形成されることができる。第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２は、第１方向（Ｘ方向）に互いに並んで配置されることができる。したがって、カバー部４６０に磁性物質が含まれた場合、カバー部４６０の磁性物質と同じ成分が第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２内に配置されることができる。第１及び第２引き出し部４３１、４３２は、それぞれ支持部４１０の第１及び第２収容溝ｈ１、ｈ２に沿って収容され、一端は巻回部に連結され、他端は本体Ｂの第６面４０６に露出して第１及び第２外部電極４７０、４８０とそれぞれ連結される。この場合、第１外部電極４７０は、本体Ｂの第６面４０６を覆う領域５１０及び第２面４０２を覆う領域５２０を含むことができ、第２外部電極４８０は、本体Ｂの第６面４０６を覆う領域５３０及び第１面４０１を覆う領域５４０を含むことができる。
【0070】
次に、図１８の実施形態の場合、磁性部品６００の支持部４１０には別の収容溝が形成されていない構造である。ここで、巻線コイル４３０の第１及び第２引き出し部４３１、４３２は、それぞれ本体Ｂの互いに向かい合う側面に露出することができる。例えば、第１引き出し部４３１は本体Ｂの第１面４０１に、第２引き出し部４３２は本体Ｂの第２面４０２に露出して、それぞれ第１及び第２外部電極４７０、４８０と連結されることができる。
【0071】
本発明は、上述した実施形態及び添付された図面によって限定されるものではなく、添付された特許請求の範囲によって限定しようとする。したがって、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で当技術分野の通常の知識を有する者によって多様な形態の置換、変形及び変更が可能であり、これもまた本発明の範囲に属するといえる。
【符号の説明】
【0072】
１００、２１１、３２１、３２２、３２３ 磁性粒子
１０１、３０１、３０２、３０３ 金属磁性粒子
１０２、３０４ 単結晶領域
１０３、３１４ 非晶質領域
１１０、３１１、３１２、３１３ 酸化膜
１１１ 非晶質領域
１１２ 単結晶領域
２０１ 本体
２０２ 支持部材
２０３ コイル
２０５、２０６ 外部電極
２１０ 絶縁材
Ｃ コア部
Ｐ パッド領域
Ｖ 導電性ビア
１０１、３０１、３０２、３０３ 金属磁性粒子
１０２、３０４ 単結晶領域
１０３、３１４ 非晶質領域
１１０、３１１、３１２、３１３ 酸化膜
１１１ 非晶質領域
１１２ 単結晶領域
２０１ 本体
２０２ 支持部材
２０３ コイル
２０５、２０６ 外部電極
２１０ 絶縁材
Ｃ コア部
Ｐ パッド領域
Ｖ 導電性ビア
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】