(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023098666
(43)【公開日】2023-07-10
(54)【発明の名称】樹脂被覆ガラス基材の製造方法
(51)【国際特許分類】
C03C 17/32 20060101AFI20230703BHJP
【ＦＩ】
C03C17/32 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】14
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022204054
(22)【出願日】2022-12-21
(31)【優先権主張番号】P 2021213664
(32)【優先日】2021-12-28
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000003159
【氏名又は名称】東レ株式会社
(72)【発明者】
【氏名】宇田川 敬造
(72)【発明者】
【氏名】大橋 達也
(72)【発明者】
【氏名】井上 欣彦
【テーマコード（参考）】
4G059
【Ｆターム（参考）】
4G059AA01
4G059AB05
4G059AC16
4G059FA22
4G059FB05
(57)【要約】
【課題】ガラス基材の平面部及び側面部双方へ塗布した樹脂組成物の塗布膜厚の均一性や塗りムラのない均質な膜質の樹脂被覆膜の形成を実現して、生産性を低下させること無くガラス基材の強度に優れた樹脂被覆ガラス基材を提供する。
【解決手段】矩形の板状体であるガラス基材に対して樹脂組成物噴射手段により樹脂組成物を噴射し、前記樹脂組成物の塗布膜を前記ガラス基材上に塗布するガラス基材の製造方法であって、前記樹脂組成物噴射手段が、前記ガラス基材と非接触で前記樹脂組成物を噴射するノズルヘッドを具備し、前記ガラス基材と前記樹脂組成物噴射手段とを相対移動させ、前記樹脂組成物噴射手段が前記ガラス基材の少なくとも一辺と１０～８０°の角度で交差する方向に相対移動させることにより、前記ガラス基材の平面部の少なくとも一部位及び側面部の少なくとも一部位に前記ノズルヘッドから噴射される前記樹脂組成物を塗布、硬化して樹脂被覆膜を形成する樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【選択図】図１
【解決手段】矩形の板状体であるガラス基材に対して樹脂組成物噴射手段により樹脂組成物を噴射し、前記樹脂組成物の塗布膜を前記ガラス基材上に塗布するガラス基材の製造方法であって、前記樹脂組成物噴射手段が、前記ガラス基材と非接触で前記樹脂組成物を噴射するノズルヘッドを具備し、前記ガラス基材と前記樹脂組成物噴射手段とを相対移動させ、前記樹脂組成物噴射手段が前記ガラス基材の少なくとも一辺と１０～８０°の角度で交差する方向に相対移動させることにより、前記ガラス基材の平面部の少なくとも一部位及び側面部の少なくとも一部位に前記ノズルヘッドから噴射される前記樹脂組成物を塗布、硬化して樹脂被覆膜を形成する樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
矩形の板状体であるガラス基材に対して樹脂組成物噴射手段により樹脂組成物を噴射して前記樹脂組成物の塗布膜を前記ガラス基材上に塗布する樹脂被覆ガラス基材の製造方法であって、
前記樹脂組成物噴射手段が、前記ガラス基材と非接触で前記樹脂組成物を噴射するノズルヘッドを具備し、
前記ガラス基材と前記樹脂組成物噴射手段とを相対移動させ、前記樹脂組成物噴射手段が前記ガラス基材の少なくとも一辺と１０～８０°の角度で交差する方向に相対移動させることにより、前記ガラス基材の平面部の少なくとも一部位及び側面部の少なくとも一部位に前記ノズルヘッドから噴射される前記樹脂組成物を塗布、硬化して樹脂被覆膜を形成する樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
前記樹脂組成物噴射手段が、前記ガラス基材と非接触で前記樹脂組成物を噴射するノズルヘッドを具備し、
前記ガラス基材と前記樹脂組成物噴射手段とを相対移動させ、前記樹脂組成物噴射手段が前記ガラス基材の少なくとも一辺と１０～８０°の角度で交差する方向に相対移動させることにより、前記ガラス基材の平面部の少なくとも一部位及び側面部の少なくとも一部位に前記ノズルヘッドから噴射される前記樹脂組成物を塗布、硬化して樹脂被覆膜を形成する樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項2】
前記樹脂組成物噴射手段が前記ノズルヘッドを前記ガラス基材と非接触で前記ガラス基材の上部を前記ガラス基材の平面方向と略平行に移動する移動手段を具備する請求項１に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項3】
前記樹脂組成物噴射手段が前記ガラス基材の上部を平行移動しながら複数回往復移動する請求項１または２に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項4】
前記ガラス基材を３５℃～１００℃に加熱した状態で前記樹脂組成物を前記ガラス基材に噴射する請求項１または２に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項5】
前記樹脂組成物噴射手段と前記ガラス基材の相対移動速度をＶｎ（ｍｍ／ｓｅｃ）、前記ノズルヘッドからの前記樹脂組成物の噴射量をＭｒ（ｍｌ／ｓｅｃ）とした場合に、Ｖｎが１００～６５０（ｍｍ／ｓｅｃ）、Ｍｒが０．０１～０．１７（ｍｌ／ｓｅｃ）である請求項１または２に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項6】
前記ノズルヘッド先端部と前記ガラス基材表面との間隔が２０～１００ｍｍである請求項１または２に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項7】
前記ガラス基材の板厚が０．０５ｍｍ～０．５ｍｍであり、前記ガラス基材平面の面積（ｍｍ２）と前記板厚との比が１０～１５０００である請求項１または２に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項8】
前記樹脂被覆膜の膜厚が０．１～１５μｍである請求項１または２に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項9】
前記ガラス基材がリン酸塩系ガラスまたはフツリン酸塩系ガラスである請求項１または２に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項10】
前記樹脂組成物がシロキサン樹脂を含有する請求項１または２に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項11】
前記シロキサン樹脂が、ラジカル重合性基を有する請求項１０に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項12】
前記樹脂組成物が溶媒（Ｓ）を含有する請求項１または２に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項13】
前記溶媒（Ｓ）が、大気圧下で沸点が１００℃以上２００℃未満の溶媒（Ｓ１）及び大気圧下で沸点が２００℃以上２５０℃以下の溶媒（Ｓ２）を含有し、前記溶媒（Ｓ１）の含有量をＳｗ１（重量％）、前記溶媒（Ｓ２）の含有量をＳｗ２（重量％）とすると、Ｓｗ２／Ｓｗ１が１／９９～４／９６である請求項１２に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【請求項14】
前記溶媒（Ｓ）中、前記Ｓｗ１が９６～９９重量％、前記Ｓｗ２が１～４重量％含有する請求項１２に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ガラス基材に樹脂被覆膜を形成する樹脂被覆ガラス基材の製造方法に関する。
本発明は、電子機器用のガラス基材や電子機器用画像表示装置、スマートフォン等の電子機器用のカメラ内部に搭載されるＩＲカットフィルターに用いるガラス基材に樹脂被覆膜を形成する樹脂被覆ガラス基材の製造方法に関するものである。
本発明は、電子機器用のガラス基材や電子機器用画像表示装置、スマートフォン等の電子機器用のカメラ内部に搭載されるＩＲカットフィルターに用いるガラス基材に樹脂被覆膜を形成する樹脂被覆ガラス基材の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【0002】
近年、ＣＣＤやＣＭＯＳなどの固体撮像素子を内蔵した撮像装置がデジタルカメラやスマートフォン等に使用されている。これらの撮像装置は、固体撮像素子が近紫外域から近赤外域まで分光感度を有しているため、入射光の近赤外線をカットして、人間の視感度に近くなるように感度を補正する近赤外線カットフィルター（ＩＲカットフィルター）を備えている。
【0003】
ＩＲカットフィルターとしては、近赤外線を選択的に吸収できる、ＣｕＯ等が添加されたリン酸塩系ガラスやフツリン酸塩系ガラスが知られている。しかし、ＩＲカットフィルターは、薄型化や大型化が強く望まれており、強度が不足してガラスが割れやすい課題があった。特許文献１には、表裏に化学強化処理層を有し、且つ、その端部断面に電離放射線硬化性樹脂組成物からなる保護膜が施されてなるガラス基板が記載され、それにより、ガラス基板の表裏の強度に加えて、その端部断面の強度を向上させることができる効果が開示されている。
【0004】
特許文献２では、ノズルと基板を相対的に移動させながら、塗膜形成材料を溶剤に溶解した塗布液を前記ノズルから前記基板上に吐出し、塗布液膜を形成した後、この塗布液膜から溶剤を除去することによって塗膜を形成する方法が記載され、スキャン塗布法により均一な膜厚を有する塗膜を形成することができる効果が開示されている。
【0005】
特許文献３では、前記基板に対して縦横方向に処理液供給手段を移動させながら、前記基板の表面に処理液を供給する工程と、を具備し、前記供給工程において、前記処理液供給手段を移動させる順序を変更可能とした塗布方法が記載され、膜厚の均一性を確保することができ、ノズルが基板Ｇの外側を移動する際にはレジスト液の吐出量を小さく、レジストの節約を図ることができる効果が開示されている。
【0006】
特許文献４では、ラジカル反応性官能基を有するシロキサンポリマー組成物を、吐出ノズルと基板とを相対的に移動させつつ、基板上に塗布して塗膜を形成し、現像、加熱により硬化膜を形成する方法が記載され、吐出ノズル式塗布法に好適で、塗布ムラがなく外観に優れ、また高度な平坦性（膜厚均一性）及び高速塗布を達成できる効果が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特開２０１５－２１４４４４号公報
【特許文献2】特開２００３－２１１０７０号公報
【特許文献3】特開２００２－１１０５０６号公報
【特許文献4】特開２０１２－６８４１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
しかしながら、前述した文献にはガラス等の基材の平面部及び側面部双方への均質な塗膜を形成する技術思想の開示はなく、ガラス等の基材の強度を高めるために、その基材の平面部のみならず側面部にも樹脂組成物を塗布することは重要である。
【0009】
本発明は、ガラス基材の平面部及び側面部双方へ樹脂組成物を塗布することで、強度に優れた樹脂被覆ガラス基材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
上記課題を解決するために本発明は以下の手段を採用するものである。すなわち、
［１］矩形の板状体であるガラス基材に対して樹脂組成物噴射手段により樹脂組成物を噴射して前記樹脂組成物の塗布膜を前記ガラス基材上に塗布する樹脂被覆ガラス基材の製造方法であって、前記樹脂組成物噴射手段が、前記ガラス基材と非接触で前記樹脂組成物を噴射するノズルヘッドを具備し、前記ガラス基材と前記樹脂組成物噴射手段とを相対移動させ、前記樹脂組成物噴射手段が前記ガラス基材の少なくとも一辺と１０～８０°の角度で交差する方向に相対移動させることにより、前記ガラス基材の平面部の少なくとも一部位及び側面部の少なくとも一部位に前記ノズルヘッドから噴射される前記樹脂組成物を塗布、硬化して樹脂被覆膜を形成する樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
［１］矩形の板状体であるガラス基材に対して樹脂組成物噴射手段により樹脂組成物を噴射して前記樹脂組成物の塗布膜を前記ガラス基材上に塗布する樹脂被覆ガラス基材の製造方法であって、前記樹脂組成物噴射手段が、前記ガラス基材と非接触で前記樹脂組成物を噴射するノズルヘッドを具備し、前記ガラス基材と前記樹脂組成物噴射手段とを相対移動させ、前記樹脂組成物噴射手段が前記ガラス基材の少なくとも一辺と１０～８０°の角度で交差する方向に相対移動させることにより、前記ガラス基材の平面部の少なくとも一部位及び側面部の少なくとも一部位に前記ノズルヘッドから噴射される前記樹脂組成物を塗布、硬化して樹脂被覆膜を形成する樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0011】
［２］前記樹脂組成物噴射手段が前記ノズルヘッドを前記ガラス基材と非接触で前記ガラス基材の上部を前記ガラス基材の平面方向と略平行に移動する移動手段を具備する［１］に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0012】
［３］前記樹脂組成物噴射手段が前記ガラス基材の上部を平行移動しながら複数回往復移動する［１］または［２］に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0013】
［４］前記ガラス基材を３５℃～１００℃に加熱した状態で前記樹脂組成物を前記ガラス基材に噴射する［１］～［３］のいずれかに記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0014】
［５］前記樹脂組成物噴射手段と前記ガラス基材の相対移動速度をＶｎ（ｍｍ／ｓｅｃ）、前記ノズルヘッドからの前記樹脂組成物の噴射量をＭｒ（ｍｌ／ｓｅｃ）とした場合に、Ｖｎが１００～６５０（ｍｍ／ｓｅｃ）、Ｍｒが０．０１～０．１７（ｍｌ／ｓｅｃ）である［１］～［４］のいずれかに記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0015】
［６］前記ノズルヘッド先端部と前記ガラス基材表面との間隔が２０～１００ｍｍである［１］～［５］のいずれかに記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0016】
［７］前記ガラス基材の板厚が０．０５ｍｍ～０．５ｍｍであり、前記ガラス基材平面の面積（ｍｍ２）と前記板厚との比が１０～１５０００である［１］～［６］のいずれかに記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0017】
［８］前記樹脂被覆膜の膜厚が０．１～１５μｍである［１］～［７］のいずれかに記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0018】
［９］前記ガラス基材がリン酸塩系ガラスまたはフツリン酸塩系ガラスである［１］～［８］のいずれかに記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0019】
［１０］前記樹脂組成物がシロキサン樹脂を含有する［１］～［９］のいずれかに記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0020】
［１１］前記シロキサン樹脂が、ラジカル重合性基を有する［１０］に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0021】
［１２］前記樹脂組成物が溶剤（Ｓ）をさらに含有する［１］～［１１］に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0022】
［１３］前記溶剤（Ｓ）が、大気圧下で沸点が１００℃以上２００℃未満の溶剤（Ｓ１）及び大気圧下で沸点が２００℃以上２５０℃以下の溶剤（Ｓ２）を含有し、前記溶剤（Ｓ１）の含有量をＳｗ１（重量％）、前記溶剤（Ｓ２）の含有量をＳｗ２（重量％）とすると、Ｓｗ２／Ｓｗ１が１／９９～４／９６である［１２］に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【0023】
［１４］前記溶剤（Ｓ）中、前記Ｓｗ１が９６～９９重量％、前記Ｓｗ２が１～４重量％含有する［１２］または［１３］に記載の樹脂被覆ガラス基材の製造方法。
【発明の効果】
【0024】
本発明の樹脂被覆ガラス基材の製造方法によれば、ガラス基材の平面部及び側面部双方へ塗布した樹脂組成物の塗布膜の膜厚均一性や塗りムラのない、均質な樹脂組成物の膜質の形成を実現して、生産性を低下させること無く強度に優れた樹脂被覆ガラス基材を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【0025】
【図1】本発明に係る樹脂被覆ガラス基材の製造方法における樹脂組成物を基材表面上に塗布する製造過程を示した斜視模式図である。
【図2】本発明に係る樹脂被覆ガラス基材の製造方法の製造過程を示した平面図である。
【図3】本発明に係る樹脂被覆ガラス基材の製造方法の製造過程を示した側面断面図である。
【図4】本発明に係る樹脂被覆ガラス基材の製造方法における樹脂組成物噴射手段の移動軌跡を示した平面図である。
【図5】本発明に係る樹脂被覆ガラス基材の製造方法における別の樹脂組成物噴射手段の移動軌跡を示した平面図である。
【図6】樹脂被覆ガラス基材の曲げ荷重を測定する装置の概略断面図である。
【図7】従来技術に係る樹脂被覆ガラス基材の製造過程を示した斜視模式図である。
【図8】従来技術に係る樹脂被覆ガラス基材の製造過程を示した平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0026】
以下、実施の形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は図や実施例に何ら限定されるものではない。
【0027】
本発明の樹脂被覆ガラス基材の製造方法は、図１の斜視図に示すように、矩形の板状体であるガラス基材１に対して樹脂組成物噴射手段２により樹脂組成物３を噴射し、樹脂組成物３の塗布膜４をガラス基材１上に塗布する樹脂被覆ガラス基材の製造方法であって、樹脂組成物噴射手段２がガラス基材１と非接触で樹脂組成物３を噴射するノズルヘッド５を具備し、ガラス基材１と樹脂組成物噴射手段２とを相対移動させ、樹脂組成物噴射手段２がガラス基材１の少なくとも一辺と１０～８０°の角度で交差する方向に相対移動させることにより、ガラス基材１の平面部１ａの少なくとも一部位及び側面部１ｂの少なくとも一部位にノズルヘッド５から噴射される樹脂組成物３を塗布、硬化して樹脂被覆膜を形成する樹脂被覆ガラス基材の製造方法である。
【0028】
本発明において、ガラス基材上に樹脂組成物３を噴射して膜を形成した際、樹脂組成物３の膜中に溶剤が残存している膜は塗布膜４、塗布膜４を乾燥した加熱硬化直前の膜は乾燥膜、乾燥膜を紫外線、可視光線、電子線、Ｘ線などの化学線を照射して露光した膜は露光膜、乾燥膜や露光膜を加熱硬化した膜は樹脂被覆膜という。
【0029】
本発明において、ガラス基材１の平面方向としてＸＹ平面、ガラス基材１の平面に対する垂直方向をＺ方向と称する場合がある。
【0030】
これにより、ガラス基材１の平面部１ａのみならず側面部１ｂに対しても均一な膜厚の塗布膜４を形成することができる。さらに、側面部１ｂにおいて樹脂組成物が帯状模様の不連続な状態の膜となる、いわゆる樹脂の液だれの形成を回避することができる。また、ガラス基材１上に塗布した際に樹脂組成物３の一部分が抜け落ちるいわゆるピンホールの発生を抑制することができ、ガラス基材１の平面部１ａ及び側面部１ｂ双方へ樹脂組成物３の均一な膜厚で塗りムラのない均質な樹脂組成物３の塗布膜４を形成することができる。
【0031】
樹脂組成物噴射手段２の移動の軌道とガラス基材１の一辺との交差角度の関係を図２の平面図に示す。ガラス基材１は四角形を例示し、ガラス基材１はステージに固定し、樹脂組成物噴射手段２を移動させる形態を例示した。基材を支持するステージは図示せず省略している。また、平面図であるが、樹脂組成物噴射手段２は図１の斜視図のものをそのまま用いている。
【0032】
本実施形態では、樹脂組成物噴射手段２に保持されているノズルヘッド５はガラス基材１の投影平面領域外から矢印７の一点鎖線で示す移動方向に沿って投影平面領域内に移動させる。この際、図３の側面図に示すようにノズルヘッド５はガラス基材１と非接触で一定の間隔を設け、また、ガラス基材１への樹脂組成物３の噴射方向はガラス基材１の平面に対して略垂直方向とすることが好ましい。
【0033】
ノズルヘッド５を具備する樹脂組成物噴射手段２はガラス基材１の直線部分の１辺１ｃを横切り、そのままガラス基材１の平面内を、樹脂組成物３を噴射しながら矢印７の方向に直線的に移動する。この移動時において、ガラス基材１の直線部分の１辺１ｃと樹脂組成物噴射手段２の移動方向７との交差角度６を１０～８０°とする。移動を一定の角度を持って１辺１ｃに対して斜め方向とすることにより、ノズルヘッド５から噴射される樹脂組成物３がガラス基材１の側面部１ｂへ均質に塗布された塗布膜４を形成することができる。これによりガラス基材１の側面部１ｂでの塗布膜４の膜厚を均一にし、膜表面が凸凹になるような塗りムラの発生を抑えることができる。ここでの交差角度６は鈍角の方ではなく、鋭角を指している。交差角度６が１０°未満または８０°を超えると、ガラス基材１の周辺の側面部１ｂにおいて、樹脂組成物３が液だれや一部の箇所において塗布されない不連続な塗布膜４が形成される場合がある。側面部１ｂに均質な塗布膜４が形成されないため、ガラス基材の強度向上効果が発現しにくい場合がある。交差角度６は、好ましくは２０～７０°、より好ましくは３０～６０°、さらに好ましくは４０～５０°である。
【0034】
これに対し、図７の従来技術の斜視図または図８の平面図に示すように、樹脂組成物噴射手段２の移動方向７をガラス基材１の直線部分の１辺１ｃとの角度を９０°とすると、ガラス基材１の側面部１ｂの長手面方向が、樹脂組成物噴射手段２の移動方向７と略平行となり、ノズルヘッド５から噴射される樹脂組成物３が側面部１ｂにおいて液だれを生じる場合があり、塗布膜４に塗りムラが生じたり、部分的に一部の樹脂組成物３が脱落する抜けが生じ易くなる場合がある。結果、均質な塗布膜４形成が困難となり、ガラス基材１の強度が低下する場合がある。
【0035】
ガラス基材１の形状としては、図１、図２または図３に示すように一定の板厚を有し平面形状は矩形状であり、その板厚よりも平面の一辺が長い形態の板状体であることが好ましく、その形は少なくとも一辺が直線状である。また、矩形状でその四隅が角状になっているもの以外にも四隅の角が丸みを帯びた形状のものも含まれる。矩形形状としては、４つの角がすべて等しい四角形であり、平行四辺形の性質をすべて満たすほか、４つの内角はすべて直角に等しく、２本の対角線は等しい長さを持つものが好ましい。
【0036】
図４の平面図に、四角形状のガラス基材１を例示して樹脂組成物噴射手段２の移動の状態を示す。ガラス基材１の投影平面領域外から矢印７の一点鎖線で示す移動方向に沿って投影平面領域内に移動させる。樹脂組成物噴射手段２を複数回往復移動させガラス基材１の必要な箇所に樹脂組成物３の塗布膜４を形成する。ガラス基材１の直線部分の１辺１ｃと樹脂組成物噴射手段２の移動方向７との交差角度６を前述した１０～８０°となる方向に移動させている。
【0037】
なお、上述したように、本実施形態では、ガラス基材１を固定し、樹脂組成物噴射手段２を移動させることにより、塗布時におけるガラス基材１と樹脂組成物噴射手段２とを相対移動を行う。しかしながら、本発明はこれに限定されず、ガラス基材１の方を移動させて上記相対移動を行ってもよく、あるいはガラス基材１と樹脂組成物噴射手段２との双方を移動させて上記相対移動を行ってもよい。また、ガラス基材１とノズルヘッド５との間隔は、図示しない駆動装置を介して調整する手段や、ノズルヘッド５あるいはガラス基材１のＸＹ平面に対する傾きを調整する手段や、ＸＹ平面内での回転角を調整する手段を備えてもよい。
【0038】
また、本発明において、樹脂組成物噴射手段２がノズルヘッド５をガラス基材１と非接触でガラス基材１の上部をガラス基材１の平面方向と略平行に移動する移動手段を具備する形態が好ましい。
【0039】
ガラス基材１はステージに固定し、樹脂組成物３を噴射するノズルヘッド５を、ガラス基材１と非接触で、ガラス基材１の上部をＸＹ平面方向へ走査するように樹脂組成物噴射手段２を移動させる形態が好ましい。平面方向と略平行とは、ＸＹ平面方向に対して上下方向±５°以内で走査することを意味する。このばらつきは、ノズルヘッド５の移動中にノズルヘッド５からガラス基材１へ樹脂組成物３が到達し、かつノズルヘッド５がガラス基材１と接触しないことが必要条件となる。
【0040】
これにより、樹脂組成物噴射手段を固定し基材を支持するステージを移動させるよりも、装置自体の大きさを小さくでき，駆動にかかるトルクも低減できる。
【0041】
また、本発明において、樹脂組成物噴射手段２がガラス基材１の上部を平行移動しながら複数回往復移動する形態が好ましい。
【0042】
樹脂組成物噴射手段２がＸＹ平面方向に対して平行に、かつガラス基材１のすべての一辺と１０～８０°の角度で交差する方向に相対移動するように、少なくとも樹脂組成物噴射手段２またはガラス基材１を複数回往復移動する構成とすることが好ましい。
【0043】
図４の平面図に示すように、樹脂組成物噴射手段２の移動の軌跡がガラス基材１のすべての一辺と一定の角度を持って斜め方向に交差することにより、ガラス基材１のすべての側面部で均質な樹脂組成物３の塗布膜４を形成することでき、ガラス基材１の強度を向上させることが可能となる。
【0044】
図５の平面図に示す長方形の矩形型状のガラス基材１を例示して樹脂組成物噴射手段２の移動の状態を説明する。出発点７ａから樹脂組成物噴射手段２をガラス基材１の投影平面領域外から矢印７の一点鎖線で示す移動方向に沿って投影平面領域内に移動させ、ガラス基材１のすべての１辺と１０～８０°の角度で交差するように終点７ｂまで複数回往復移動させガラス基材１の平面部及び側面部の必要なすべての箇所に樹脂組成物の塗布膜４を形成するものである。
また、本発明において、ガラス基材１を３５℃～１００℃に加熱した状態で樹脂組成物３をガラス基材１に噴射する形態が好ましい。
また、本発明において、ガラス基材１を３５℃～１００℃に加熱した状態で樹脂組成物３をガラス基材１に噴射する形態が好ましい。
【0045】
ガラス基材１を一定温度に加熱することにより、ガラス基材１上に噴射される樹脂組成物３が短時間で乾燥されて側面部での液だれが発生し難くなり、塗布膜４の膜厚の均質性を向上することができる。ガラス基材１を３５℃以上に加熱することにより、樹脂組成物３が短時間で乾燥されて側面部での液だれが発生し難くなり、膜厚の均質性を向上することができる。ガラス基材１を１００℃以下で加熱することにより、樹脂組成物３が濡れ広がらない現象の発生を回避することができる。ガラス基材１の加熱温度は好ましくは４０℃～９０℃、より好ましくは４５℃～７５℃、さらに好ましくは５０℃～６０℃である。
【0046】
加熱方法としては、ステージを加温することが好ましい。ヒーターの種類は特に制限はなく、赤外線ヒーター、電熱線、ＵＶランプ、ガス、熱風ドライヤーなど公知の方法から適宜選択して適用することが好ましい。中でも、電熱線、赤外線ヒーターによる加温が、安全性やエネルギー効率の点から好ましい。
【0047】
また、本発明において、樹脂組成物噴射手段２ガラス基材１との相対移動速度をＶｎ（ｍｍ／ｓｅｃ）、前記ノズルヘッドの前記樹脂組成物の噴射量をＭｒ（ｍｌ／ｓｅｃ）とすると、Ｖｎが１００～６５０（ｍｍ／ｓｅｃ）であり、Ｍｒが０．０１～０．１７（ｍｌ／ｓｅｃ）であることが好ましい。
【0048】
樹脂組成物３の単位時間当たりの噴射量及び樹脂組成物噴射手段２とガラス基材１との相対移動速度を一定範囲とすることにより、単位領域あたりの樹脂組成物の噴射量を一定範囲とすることができ、塗布膜４の膜厚の均一化を図れるとともに、側面部での樹脂組成物の液だれによるムラの発生を抑えることができる。
【0049】
Ｍｒは好ましくは、０．０２～０．１５、より好ましくは０．０３～０．０６、Ｖｎは好ましくは１５０～６００、より好ましくは２５０～４００である。また、本発明において、ノズルヘッド５先端部とガラス基材１表面との間隔８が２０～１００ｍｍであることが好ましい。
【0050】
図３の側面図において、ノズルヘッド５の先端とガラス基材１の平面部の表面との間隔８が２０ｍｍ未満となると液の跳ね返りが生じ易くなり、１００ｍｍを超えると塗布膜４に凹凸が生じる場合があり、塗布膜厚の均一性が阻害される場合がある。好ましくは３０～８０ｍｍ，より好ましくは３５～６０ｍｍ、さらに好ましくは４０～５０ｍｍである。
【0051】
また、本発明において、電子機器の小型化とガラス機材の最低限の強度を確保するために、ガラス基材１の板厚が０．０５ｍｍ～０．５ｍｍであり、ガラス基材１の平面の投影面積（ｍｍ２）と板厚との比が１０～１５０００であることが好ましい。
【0052】
ガラス基材１の最低限の強度を得るために板厚が０．０５ｍｍ以上、ガラス基材１の平面の投影面積（ｍｍ２）と板厚との比が１０以上とすることが好ましく、ガラス基材１を電子機器に搭載した場合の機器の小型化を確保するために０．５ｍｍ以下、ガラス基材１の平面の投影面積（ｍｍ２）と板厚との比が１５０００以下とすることが好ましい。
【0053】
また、本発明において、ガラス基材１に形成される塗布膜４を加熱硬化した樹脂被覆膜の膜厚が０．１～１５μｍであることが好ましい。
【0054】
膜厚の調整はノズルヘッド５からの樹脂組成物３の噴射量、ノズルヘッド５の移動速度、または塗布膜４の積層回数を変更することにより調整することができる。膜厚が０．１μｍ未満であるとガラス基材１の強度が低下する場合がある。膜厚が１５μｍを超えると樹脂組成物の塗りムラや膜厚の均一性が阻害される場合がある。膜厚は好ましくは０．４～１０μｍ、より好ましくは１～８μｍ、さらに好ましくは２～６μｍである。
【0055】
本発明において、樹脂組成物３をガラス基材１上に噴射して塗布膜４を形成する際、樹脂組成物噴射手段２を複数回往復させて塗布膜４が複数層積層した形態とすることが好ましく、その積層された積層数が２～４層であることが好ましい。これにより、側面部の樹脂組成物の膜厚が均一になるため、ガラスの強度を高めることができ、耐久性や信頼性を得ることができる。
【0056】
同じ膜厚でも単層で厚膜を形成する場合、側面部の塗布膜４に液だれが生じて膜厚均一性が悪化する場合があり、同じ膜厚を複数層の積層構成とすることにより側面部の塗布膜４の均質性をより高めることができる。積層数が１層だと、側面部の塗布膜４に液だれが生じて膜厚均一性が悪化する場合がある。積層数が４層を超えると生産性向上に課題がでる場合がある。
【0057】
また、本発明において、ガラス基材１の平面部に形成される塗布膜４の重ね幅が１～２０ｍｍであることが好ましい。一定の重ね幅とすることにより、樹脂組成物噴射手段２を移動させてガラス基材１の平面部及び側面部に塗布膜４を形成する際の往復移動時に、塗布膜４の未塗布部分を生じさせず、また、塗布膜４の凹凸を形成させないためにも、塗布膜４に一定量の重なりを設けることが好ましい。
【0058】
樹脂組成物噴射手段２としては、噴射ノズル式の塗布方法であって、噴射するノズルヘッド５を一定方向に掃引して基材１に塗布膜４を形成する塗布方法が好ましい。噴射式の塗布方法としては回転霧化方式、低圧霧化方式などが挙げられるが、均一な粒子径を安定的に噴霧でき、塗布された塗布膜４の乾燥速度が均一になることから低圧霧化方式が好ましい。
【0059】
また、樹脂組成物３を保管する容器と、一定の圧力を加えることで樹脂組成物３を先端から噴射するノズルヘッド５から構成されることが好ましいが、樹脂組成物３を保管した別離した容器からチューブ等の樹脂組成物輸送管をノズルヘッド５に連結する形態も好ましい。ノズルヘッド５からの樹脂組成物３の噴射は間欠式または連続式どちらでも構わないが、樹脂組成物が基材に着弾した後の跳ね返りを防止するためにも連続式が好ましい。
【0060】
また、本発明において、ガラス基材１の材質がリン酸塩系ガラスまたはフツリン酸塩系ガラスであることが好ましい。この材質のガラスの使用により赤外線吸収効果を発揮することができ、センサー用フィルターとして使用することによりセンサーに届く赤外光をカットすることができる。さらに後述するシロキサン樹脂を側面部に塗布することによりガラスの強度を高めることができ、耐久性や信頼性を得ることができる。
【0061】
本発明におけるリン酸塩系ガラスとは、必須成分としてのＰ、Ｏと、他の任意成分とを含むガラスであり、ＣｕＯを含むものが特に好ましい。リン酸塩系ガラスがＣｕＯを含むことにより、近赤外光をより効果的に吸収することができる。リン酸塩系ガラスの他の任意成分としては例えば、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓなどが挙げられる。
【0062】
本発明におけるフツリン酸塩系ガラスとは、必須成分としてのＰ、Ｏ、Ｆと、他の任意成分とを含むガラスであり、ＣｕＯを含むものが特に好ましい。フツリン酸塩系ガラスがＣｕＯを含むことにより、近赤外光をより効果的に吸収することができる。フツリン酸塩系ガラスの他の任意成分としては例えば、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓなどが挙げられる。なお、リン酸塩系ガラスおよびフツリン酸塩系ガラスには、ガラスの骨格の一部がＳｉＯ２で構成されるケイリン酸塩ガラスも含むものとする。
【0063】
上記リン酸塩系ガラスとしては、Ｐ２Ｏ５を１重量％以上７０重量％以下、Ａｌ２Ｏ３を１重量％以上４０重量％以下、ＲＯ（ただしＲは、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＣｓおよびＺｎから選択される少なくとも１種）を１重量％以上４０重量％以下、ＣｕＯを１重量％以上４０重量％以下含有することが好ましい。更には、Ｐ２Ｏ５を２０重量％以上６０重量％以下、Ａｌ２Ｏ３を１重量％以上１０重量％以下、ＲＯを１重量％以上１０重量％以下、ＣｕＯを１重量％以上１０重量％以下含有することがより好ましい。
【0064】
上記フツリン酸塩系ガラスとしては、Ｐ２Ｏ５を１重量％以上７０重量％以下、Ａｌ２Ｏ３を１重量％以上４０重量％以下、ＲＯを１重量％以上４０重量％以下、ＣｕＯを１重量％以上４０重量％以下、フッ化物を１重量％以上４０重量％以下含有することが好ましい。更には、Ｐ２Ｏ５を２０重量％以上６０重量％以下、Ａｌ２Ｏ３を１重量％以上１０重量％以下、ＲＯを１重量％以上１０重量％以下、ＣｕＯを１重量％以上１０重量％以下、フッ化物を１重量％以上３０重量％以下含有することがより好ましい。なお、上記フッ化物としては、ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＳｒＦ２等から選ばれる一種以上が挙げられる。
【0065】
Ｐ２Ｏ５は、ガラス骨格を形成する成分であり、Ｐ２Ｏ５の含有量が少なすぎると、ガラス化が不安定になる場合がある。一方、Ｐ２Ｏ５の含有量が多すぎると、耐候性が低下しやすくなることがある。
【0066】
Ａｌ２Ｏ３は、耐候性をより一層向上させる成分であり、Ａｌ２Ｏ３の含有量が少なすぎると、耐候性が十分でないことがある。一方、Ａｌ２Ｏ３の含有量が多すぎると、溶融性が低下して溶融温度が上昇する場合がある。なお、溶融温度が上昇すると、Ｃｕイオンが還元されてＣｕ２＋からＣｕ＋にシフトしやすくなるため、所望の光学特性が得られにくくなる場合がある。具体的には、近紫外～可視域における光透過率が低下したり、赤外線吸収特性が低下し易くなったりすることがある。
【0067】
ＲＯ（ただしＲは、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＣｓおよびＺｎから選択される少なくとも１種）は、耐候性を改善するとともに、溶融性を向上させる成分である。ＲＯの含有量が少なすぎると、耐候性及び溶融性が十分でない場合がある。一方、ＲＯの含有量が多すぎると、ガラスの安定性が低下し易く、ＲＯ成分起因の結晶が析出しやすくなることがある。
【0068】
ＣｕＯは、近赤外線を吸収するための成分である。ＣｕＯの含有量は、重量％で、好ましくは０．３～２０％であり、より好ましくは０．３～１５％であり、さらに好ましくは０．４～１３％である。ＣｕＯの含有量が少なすぎると、所望の近赤外線吸収特性が得られない場合がある。一方、ＣｕＯの含有量が多すぎると、紫外～可視域の光透過率が低下しやすくなることがある。また、ガラス化が不安定になる場合がある。なお、所望の光学特性を得るためＣｕＯの含有量は、板厚によって適宜調整することが好ましい。
【0069】
また、上記成分以外にも更に金属酸化物を含有しても良く、具体的には、Ｂ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｆｅ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＷＯ３、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５等が挙げられる。
【0070】
また、本発明において、樹脂組成物がシロキサン樹脂を含有することが好ましい。
樹脂組成物がシロキサン樹脂を含有し、前述したリン酸塩系のガラス基材の平面部及び側面部に塗布膜４を形成することによりガラス基材１の強度をより高めることができる。
また、本発明において、シロキサン樹脂が、ラジカル重合性基を有することが好ましい。
樹脂組成物がシロキサン樹脂を含有し、前述したリン酸塩系のガラス基材の平面部及び側面部に塗布膜４を形成することによりガラス基材１の強度をより高めることができる。
また、本発明において、シロキサン樹脂が、ラジカル重合性基を有することが好ましい。
【0071】
後述する光ラジカル重合開始剤とともにラジカル重合性基を有することにより、光照射により発生するラジカルによるラジカル重合反応の進行により、樹脂被覆膜の架橋度を高め、ガラス強度をより向上させることができる。
本発明におけるシロキサン樹脂とは、シロキサン骨格を有する繰り返し単位を有するポリマーを言い、オルガノシラン化合物の加水分解縮合物が好ましい。ただし、シロキサン樹脂がオキセタニル基を有する場合は、後述する「オキセタニル基を有するシロキサン化合物」に分類するものとする。
本発明におけるシロキサン樹脂とは、シロキサン骨格を有する繰り返し単位を有するポリマーを言い、オルガノシラン化合物の加水分解縮合物が好ましい。ただし、シロキサン樹脂がオキセタニル基を有する場合は、後述する「オキセタニル基を有するシロキサン化合物」に分類するものとする。
【0072】
本発明におけるシロキサン樹脂の重量平均分子量は、塗布性を向上させる観点から、２，０００～７，０００が好ましい。
ラジカル重合性基としては、例えば、ビニル基、α－メチルビニル基、アリル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。樹脂被覆膜の架橋度をより高める観点から、（メタ）アクリロイル基が好ましい。ラジカル重合性基を有するシロキサン樹脂としては、ラジカル重合性基を有するオルガノシラン化合物の加水分解縮合物が好ましい。ラジカル重合性基を有するオルガノシラン化合物と、その他のオルガノシラン化合物との加水分解縮合物でもよい。ラジカル重合性基を有するオルガノシラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリ（２－メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリエトキシシラン、ｐ－スチリルメチルジメトキシシラン、ｐ－スチリルメチルジエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシランなどが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。これらのうち、樹脂被覆膜の架橋度をより高めて、ガラス強度をより向上させる観点から、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシランが好ましい。
ラジカル重合性基としては、例えば、ビニル基、α－メチルビニル基、アリル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。樹脂被覆膜の架橋度をより高める観点から、（メタ）アクリロイル基が好ましい。ラジカル重合性基を有するシロキサン樹脂としては、ラジカル重合性基を有するオルガノシラン化合物の加水分解縮合物が好ましい。ラジカル重合性基を有するオルガノシラン化合物と、その他のオルガノシラン化合物との加水分解縮合物でもよい。ラジカル重合性基を有するオルガノシラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリ（２－メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリエトキシシラン、ｐ－スチリルメチルジメトキシシラン、ｐ－スチリルメチルジエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシランなどが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。これらのうち、樹脂被覆膜の架橋度をより高めて、ガラス強度をより向上させる観点から、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシランが好ましい。
【0073】
その他のオルガノシラン化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ｎ－ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、ｎ－オクチルトリメトキシシラン、ｎ－オクチルトリエトキシシラン、ｎ－デシルトリメトキシシラン、ｎ－デシルトリエトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－（１，３－ジメチルブチリデン）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、トリス（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、ビス（３－（トリエトキシシリル）プロピル）ジスルフィド、ビス（３－（トリエトキシシリル）プロピル）テトラスルフィド、３－トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３－トリエトキシシリルプロピルコハク酸無水物などが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
【0074】
本発明におけるシロキサン樹脂は、オルガノシラン化合物を加水分解縮合することにより得ることができる。例えば、オルガノシラン化合物を加水分解した後、得られるシラノール化合物を溶媒の存在下または無溶媒で縮合反応させることによって得ることができる。
【0075】
加水分解反応の各種条件は、反応スケール、反応容器の大きさ、形状などを考慮して適宜設定することができる。例えば、溶媒中、オルガノシラン化合物に酸触媒および水を１～１８０分間かけて添加した後、室温～１１０℃で１～１８０分間反応させることが好ましい。このような条件で加水分解反応を行うことにより、急激な反応を抑制することができる。反応温度は、より好ましくは３０～１０５℃である。
【0076】
加水分解反応は、酸触媒の存在下で行うことが好ましい。酸触媒としては、蟻酸、酢酸、リン酸を含む酸性水溶液が好ましい。酸触媒の添加量は、加水分解反応時に使用される全オルガノシラン化合物１００重量部に対して、０．１～５重量部が好ましい。酸触媒の量を上記範囲とすることにより、加水分解反応をより効率的に進めることができる。
【0077】
オルガノシラン化合物の加水分解反応によりシラノール化合物を得た後、反応液をそのまま５０℃以上、溶媒の沸点以下で１～１００時間加熱し、縮合反応を行うことが好ましい。また、シロキサン樹脂の重合度を上げるために、再加熱または塩基触媒添加を行ってもよい。オルガノシラン化合物の加水分解反応およびシラノール化合物の縮合反応に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｔ－ブタノール、ペンタノール、４－メチル－２－ペンタノール、３－メチル－２－ブタノール、３－メトキシ－１－ブタノール、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノール、１－ｔ－ブトキシ－２－プロパノール、ダイアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチルエーテルなどのエーテル類；メチルエチルケトン、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、２－ヘプタノンなどのケトン類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類；エチルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどのアセテート類；トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの芳香族あるいは脂肪族炭化水素、γ－ブチロラクトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシドなどを挙げることができる。有機膜（Ｃ）の透過率、耐クラック性などをより向上させる観点から、ダイアセトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、γ－ブチロラクトンなどが好ましく用いられる。
【0078】
加水分解反応によって溶媒が生成する場合には、無溶媒で加水分解させることも可能である。反応終了後に、さらに溶媒を添加することにより、組成物として適切な濃度に調整することも好ましい。また、目的に応じて加水分解後に、生成アルコールなどを加熱および／または減圧下にて適量を留出、除去し、その後好適な溶媒を添加してもよい。
【0079】
加水分解反応において使用する溶媒の量は、全オルガノシラン化合物１００重量部に対して８０～５００重量部が好ましい。溶媒の量を上記範囲とすることにより、加水分解反応をより効率的に進めることができる。
また、加水分解反応に用いる水は、イオン交換水が好ましい。水の量は、シラン原子１モルに対して、１．０～４．０モルが好ましい。
また、加水分解反応に用いる水は、イオン交換水が好ましい。水の量は、シラン原子１モルに対して、１．０～４．０モルが好ましい。
【0080】
樹脂組成物中におけるシロキサン樹脂の含有量は、強度と透明性をより向上させる観点から、全固形分中１５重量％以上が好ましく、２５重量％以上がより好ましい。一方、硬化のひび割れを防止する観点から、シロキサン樹脂の含有量は、全固形分中９０重量％以下が好ましく、８０重量％以下がより好ましい。ここで、全固形分とは、樹脂組成物を含有する組成物中における、溶媒以外の全成分をいう。
【0081】
樹脂組成物は、塗布性の観点から、溶媒（Ｓ）を含有することが好ましい。溶媒（Ｓ）を含有することにより、各成分を均一に溶解することができる。溶媒（Ｓ）としては、例えば、脂肪族炭化水素、カルボン酸エステル、ケトン、エーテル、アルコール類などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。各成分を均一に溶解し、得られる樹脂被覆膜の透明性を向上させる観点から、アルコール性水酸基を有する化合物、カルボニル基を有する環状化合物が好ましい。
【0082】
アルコール性水酸基を有する化合物としては、例えば、アセトール、３－ヒドロキシ－３－メチル－２－ブタノン、４－ヒドロキシ－３－メチル－２－ブタノン、５－ヒドロキシ－２－ペンタノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン（ダイアセトンアルコール）、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノｎ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｔ－ブチルエーテル、３－メトキシ－１－ブタノール、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノールなどが挙げられる。これらの中でも、保存安定性の観点から、ダイアセトンアルコール、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノールが好ましい。
【0083】
カルボニル基を有する環状化合物の具体例としては、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、δ－バレロラクトン、炭酸プロピレン、Ｎ－メチルピロリドン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノンなどが挙げられる。これらの中でも、γ－ブチロラクトンが特に好ましく用いられる。
【0084】
脂肪族炭化水素としては、例えば、キシレン、エチルベンゼン、ソルベントナフサなどが挙げられる。
【0085】
カルボン酸エステルとしては、例えば、ベンジルアセテート、エチルベンゾエート、γ－ブチロラクトン、メチルベンゾエート、マロン酸ジエチル、２－エチルヘキシルアセテート、２－ブトキシエチルアセテート、３－メトキシ－３－メチル－ブチルアセテート、シュウ酸ジエチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキシルアセテート、３－メトキシ－ブチルアセテート、アセト酢酸メチル、エチル－３－エトキシプロピオネート、２－エチルブチルアセテート、イソペンチルプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。
ケトンとしては、例えば、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。
エーテルとしては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコール誘導体などの脂肪族エーテル類などが挙げられる。
ケトンとしては、例えば、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。
エーテルとしては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコール誘導体などの脂肪族エーテル類などが挙げられる。
【0086】
樹脂組成物を基材に塗布する際の揮発性および乾燥特性を適度に調整し、塗布性を向上させる観点から、樹脂組成物は、大気圧下における沸点が１００℃以上２００℃未満の溶媒（Ｓ１）と、大気圧下における沸点が２００℃以上２５０℃以下の溶媒（Ｓ２）を含有することが好ましく、溶媒（Ｓ１）の含有量をＳｗ１（重量％）、溶媒（Ｓ２）の含有量をＳｗ２（重量％）とすると、Ｓｗ２／Ｓｗ１が１／９９～４／９６であることが、より好ましい。また、樹脂組成物の溶媒（Ｓ）中、Ｓｗ１が９６～９９重量％、Ｓｗ２が１～４重量％含有することが、さらに好ましい。
【0087】
樹脂組成物の溶媒（Ｓ）中、Ｓｗ１が９６～９９重量％、Ｓｗ２が１～４重量％含有することにより、ガラス基材の側面部の凹凸に樹脂組成物が浸透し、かつ、液だれの形成を回避することで、ガラス基材の強度を向上することができる。
【0088】
樹脂組成物の溶媒（Ｓ）中、液だれの形成を回避し、ガラス基材の強度を向上する観点から、Ｓｗ１とＳｗ２の総量は６０～１００重量％であることが好ましく、８０～１００重量％であることが好ましく、９０～１００重量％であることが好ましい。
【0089】
大気圧下における沸点が１００℃以上２００℃未満の溶媒（Ｓ１）としては、例えば、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン（ダイアセトンアルコール）（沸点＝１６８℃）、乳酸エチル（沸点＝１５４℃）、乳酸ブチル（沸点＝１７０℃）、プロピレングリコールモノｔ－ブチルエーテル（沸点＝１５２℃）、３－メトキシ－１－ブタノール（沸点＝１５８℃）、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノール（沸点＝１７３℃）、メチルベンゾエート（沸点＝１９９℃）、マロン酸ジエチル（沸点＝１９９℃）、２－ブトキシエチルアセテート（沸点＝１９２℃）、３－メトキシ－３－メチル－１－ブチルアセテート（沸点＝１８８℃）、シュウ酸ジエチル（沸点＝１８５℃）、アセト酢酸エチル（沸点＝１８１℃）、シクロヘキシルアセテート（沸点＝１７５℃）、３－メトキシブチルアセテート（沸点＝１７２℃）、アセト酢酸メチル（沸点＝１７０℃）、エチル－３－エトキシプロピオネート（沸点＝１７０℃）、イソペンチルプロピオネート（沸点＝１５６℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート（沸点＝１６１℃）、シクロヘキサノン（沸点＝１５６℃）、シクロヘプタノン（沸点＝１７９℃）、ｎ－プロピルアセテート（沸点＝１０２℃）、ブチルアセテート（沸点＝１２６℃）、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点＝１４５℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点＝１４６℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点＝１２０℃）、プロピレングリコールモノエチルエーテル（沸点＝１３３℃）、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル（沸点＝１３５℃）などが挙げられる。これらの中でも、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン（ダイアセトンアルコール）、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノール、３－メトキシ－３－メチル－１－ブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルが特に好ましく用いられる。
【0090】
大気圧下における沸点が２００℃以上２５０℃以下の溶媒（Ｓ２）としては、例えば、ベンジルアセテート（沸点＝２１３℃）、エチルベンゾエート（沸点＝２１２℃）、２－エチルヘキシルアセテート（沸点＝２００℃）、γ－ブチロラクトン（沸点＝２０４℃）、γ－バレロラクトン（沸点＝２０７℃）、δ－バレロラクトン（沸点＝２２０℃）、炭酸プロピレン（沸点＝２４２℃）、Ｎ－メチルピロリドン（沸点＝２０２℃）、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル（沸点＝２３１℃）、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（沸点＝２１３℃）などが挙げられる。これらの中でも、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートが特に好ましく用いられる。
【0091】
樹脂組成物は、シリカ粒子を含有することが好ましく、さらに他の成分を含有してもよい。樹脂組成物は、シリカ粒子を含有することにより、強度と透明性を高いレベルで両立することができる。樹脂組成物は、シリカ粒子の含有率が、全固形分中１０重量％以上４０重量％以下であることが好ましい。シリカ粒子の含有率を全固形分中１０重量％以上とすることにより、シロキサン樹脂とシリカ粒子とのシラノール縮合反応により架橋を促進し、樹脂被覆膜の架橋度を高め、ガラス強度をより向上させることができる。シリカ粒子の含有率を全固形分中４０重量％以下とすることにより、密着性がより良好な樹脂被覆膜を得ることができる。
【0092】
シリカ粒子の平均粒子径は、樹脂被覆膜の透明性をより向上させる観点から、１～２００ｎｍが好ましく、１～７０ｎｍがより好ましい。ここで、シリカ粒子の平均粒子径は、動的光散乱法によって求めることができる。具体的には、シリカ粒子濃度１０～３０重量％の分散液に対して、半導体レーザーにより波長７８０ｎｍの光を照射し、散乱光を測定した後、ＦＦＴ－ヘテロダイン法によって周波数解析することにより、平均粒子径を求めることができる。
【0093】
シリカ粒子としては、例えば、ｓｉｃａｓｔａｒ（コアフロント（株）製）、“レオロシール（登録商標）”（（株）トクヤマ製）などが挙げられる。これらを、ビーズミル等の分散機を用いて粉砕または分散させて用いてもよい。シリカ粒子の分散液としては、例えば、ＩＰＡ－ＳＴ、ＭＩＢＫ－ＳＴ、ＩＰＡ－ＳＴ－Ｌ、ＩＰＡ－ＳＴ－ＺＬ、ＰＧＭ－ＳＴ、ＰＭＡ－ＳＴ（いずれも日産化学工業（株）製）、“オスカル（登録商標）”１０１、“オスカル”１０５、“オスカル”１０６、“カタロイド（登録商標）”－Ｓ（いずれも日揮触媒化成（株）製）、“クォートロン（登録商標）”ＰＬ－１－ＩＰＡ、ＰＬ－１－ＴＯＬ、ＰＬ－２Ｌ－ＰＧＭＥ、ＰＬ－２Ｌ－ＭＥＫ、ＰＬ－２Ｌ、ＧＰ－２Ｌ（いずれも扶桑化学工業（株）製）などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【0094】
樹脂組成物は、光ラジカル重合開始剤を含有することが好ましく、ラジカル重合性基を有するシロキサン樹脂との組み合わせにより、光ラジカル重合反応により、樹脂被覆膜の架橋度を高め、強度をより向上させることができる。
【0095】
この場合、樹脂組成物中における光ラジカル重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性基の反応を十分に進めて強度をより向上させる観点から、全固形分中０．１重量％以上が好ましく、１重量％以上がより好ましい。一方、光ラジカル重合開始剤の含有量は、樹脂被覆膜の透明性をより向上させる観点から、全固形分中２０重量％以下が好ましく、１０重量％以下がより好ましい。
【0096】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、α－アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤やα－ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤などのアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤；アシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤；オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤；ベンゾフェノン系光ラジカル重合開始剤；オキサントン系光ラジカル重合開始剤；イミダゾール系光ラジカル重合開始剤；ベンゾチアゾール系光ラジカル重合開始剤；ベンゾオキサゾール系光ラジカル重合開始剤；カルバゾール系光ラジカル重合開始剤；トリアジン系光ラジカル重合開始剤；安息香酸エステル系光ラジカル重合開始剤；リン系光ラジカル重合開始剤；チタネート等の無機系光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【0097】
これらのうち、樹脂被覆膜の架橋度を高めて強度をより向上させる観点から、α－アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤、アシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤、オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤、アミノ基を有するベンゾフェノン系光ラジカル重合開始剤、アミノ基を有する安息香酸エステル系光ラジカル重合開始剤が好ましい。
【0098】
α－アミノアルキルフェノン系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、２－メチル－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチルベンジル）－１－（４－モルフォリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１などが挙げられる。アシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，４，６－トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－（２，４，４－トリメチルペンチル）－フォスフィンオキサイドなどが挙げられる。オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）オキシム、１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、１－フェニル－１，２－ブタジオン－２－（ｏ－メトキシカルボニル）オキシム、１，３－ジフェニルプロパントリオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）オキシム、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）などが挙げられる。アミノ基を有するベンゾフェノン系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、４，４－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられる。アミノ基を有する安息香酸エステル系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチル、２－エチルヘキシル－ｐ－ジメチルアミノベンゾエート、ｐ－ジエチルアミノ安息香酸エチルなどが挙げられる。
【0099】
樹脂組成物は、さらに、ラジカル重合性基を２個以上有する化合物を含有することが好ましい。ラジカル重合性基を２個以上有する化合物を含有することにより、シロキサン樹脂に含有されるラジカル重合性基とのラジカル重合反応により、樹脂被覆膜の架橋度を高めて強度をより向上させることができる。
ラジカル重合性基としては、シロキサン樹脂が有するラジカル重合性基として例示したものが挙げられる。
ラジカル重合性基としては、シロキサン樹脂が有するラジカル重合性基として例示したものが挙げられる。
【0100】
ラジカル重合性基を２個以上有する化合物としては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。多官能（メタ）アクリレートとは、２つ以上の（メタ）アクリレート基を有する化合物をいい、例えば、２，２－［９Ｈ－フルオレン－９，９－ジイルビス（１，４－フェニレン）ビスオキシ］ジエタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートなどの２つの（メタ）アクリレート基を有する化合物；トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸のアクリル酸エステル、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、ペンタペンタエリスリトールウンデカ（メタ）アクリレート、ペンタペンタエリスリトールドデカ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【0101】
樹脂組成物中のラジカル重合性基を２個以上有する化合物の含有量は、樹脂被覆膜の架橋度を高めて強度をより向上させる観点から、全固形分中５重量％以上が好ましく、１０重量％以上がより好ましい。一方、ラジカル重合性基を２個以上有する化合物の含有量は、樹脂被覆膜の透明性をより向上させる観点から、全固形分中５０重量％以下が好ましく、３０重量％以下がより好ましい。
【0102】
樹脂組成物は、オキセタニル基を有するシロキサン化合物を含有してもよい。オキセタニル基を有するシロキサン化合物を含有することにより、オキセタン環の開環反応により樹脂被覆膜の応力が緩和され、支持体と樹脂被覆膜との密着性を向上させることができる。
オキセタニル基を有するシロキサン化合物としては、例えば下記一般式（１）で示される化合物等が挙げられる。
オキセタニル基を有するシロキサン化合物としては、例えば下記一般式（１）で示される化合物等が挙げられる。
【0103】
【化1】
【0104】
上記一般式（１）中、Ｒ１～Ｒ４は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基または下記一般式（２）で表される基を表す。ただし、Ｒ１～Ｒ４の少なくとも１つは下記一般式（２）で表される基である。ｗは１～１０の整数を表す。反応性の観点から、アルキル基の炭素数は１～６が好ましく、シクロアルキル基の炭素数は３～６が好ましい。
【0105】
【化2】
【0106】
上記一般式（２）中、Ｒ５～Ｒ９は水素原子、フッ素原子、炭素数１～４のアルキル基、フェニル基または炭素数１～４のパーフルオロアルキル基を表す。ｐは１～６の整数を表す。
前記一般式（１）で示されるシロキサン化合物は、オキセタニル基を有するアルコキシシラン化合物を、必要に応じてオキセタニル基を有しないアルコキシシラン化合物とともに加水分解することにより得ることができる。
前記一般式（１）で示されるシロキサン化合物は、オキセタニル基を有するアルコキシシラン化合物を、必要に応じてオキセタニル基を有しないアルコキシシラン化合物とともに加水分解することにより得ることができる。
【0107】
オキセタニル基を有するアルコキシシラン化合物としては、例えば、（オキセタン－３－イル）メチルトリメトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルトリエトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルトリ－ｎ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルトリ－ｉ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルトリアセトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルメチルジメトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルメチルジエトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルメチルジ－ｎ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルメチルジ－ｉ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルメチルジアセトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルエチルジメトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルエチルジエトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルエチルジ－ｎ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルエチルジ－ｉ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルエチルジアセトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルフェニルジメトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルフェニルジエトキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルフェニルジ－ｎ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルフェニルジ－ｉ－プロピルオキシシラン、（オキセタン－３－イル）メチルフェニルジアセトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルジメトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルジエトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルジ－ｎ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルジ－ｉ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルジアセトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルメチルメトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルメチルエトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルメチル－ｎ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルメチル－ｉ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルメチルアセトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルエチルメトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルエチルエトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルエチル－ｎ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルエチル－ｉ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルエチルアセトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルフェニルメトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルフェニルエトキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルフェニル－ｎ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルフェニル－ｉ－プロピルオキシシラン、ジ（オキセタン－３－イル）メチルフェニルアセトキシシラン、トリ（オキセタン－３－イル）メチルメトキシシラン、トリ（オキセタン－３－イル）メチルエトキシシラン、トリ（オキセタン－３－イル）メチル－ｎ－プロピルオキシシラン、トリ（オキセタン－３－イル）メチル－ｉ－プロピルオキシシラン、トリ（オキセタン－３－イル）メチルアセトキシシランなどが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
【0108】
また、オキセタニル基を有しないアルコキシシラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、トリメチルシラノール、トリエチルシラノール、トリプロピルシラノール、トリブチルシラノール、トリフェニルシラノール、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリプロピルメトキシシラン、トリプロピルエトキシシラン、トリメチルシリルアセテート、トリメチルシリルベンゾエート、トリエチルシリルアセテート、トリエチルシリルベンゾエート、ベンジルジメチルメトキシシラン、ベンジルジメチルエトキシシラン、ジフェニルメトキシメチルシラン、ジフェニルエトキシメチルシラン、アセチルトリフェニルシラン、エトキシトリフェニルシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジメチルジシロキサン、ヘキサプロピルジシロキサン、１，３－ジブチル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、１，３－ジフェニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、１，３－ジメチル－１，１，３，３－テトラフェニルジシロキサンなどが挙げられる。これらを２種以上用いてもよい。
【0109】
オキセタニル基を有するシロキサン化合物としては、例えば、“アロンオキセタン（登録商標）”ＯＸＴ－１９１（商品名、東亞合成（株）製）（一般式（１）におけるＲ１～Ｒ４が（３－エチル－３－オキセタニル）メチル基、ｗが平均５）や、下記一般式（３）または（６）で示される化合物などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【0110】
【化3】
【0111】
前記一般式（３）中、Ｒ１０およびＲ１２は水素原子、フッ素原子、炭素数１～６個のアルキル基、炭素数１～６個のフルオロアルキル基、炭素数６～１８のアリール基、フリル基またはチエニル基を表す。Ｒ１１は下記一般式（４）で示される基を表す。ｄは０～３の整数を表す。炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられる。炭素数１～６のフルオロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基などが挙げられる。炭素数６～１８のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
【0112】
【化4】
【0113】
上記一般式（４）中、Ｒ１３、Ｒ１５、Ｒ１６およびＲ１８は、炭素数１～４のアルキル基、炭素数６～１８のアリール基を表し、Ｒ１４およびＲ１７は炭素数１～４のアルキル基、炭素数６～１８のアリール基または下記一般式（５）で表される基を表す。ｕは、０～２００の整数を表す。ｕが２以上の場合、複数のＲ１４およびＲ１７は、同じでも異なってもよい。
【0114】
【化5】
【0115】
上記一般式（５）中、Ｒ１９～Ｒ２３は、炭素数１～４のアルキル基または炭素数６～１８のアリール基を表す。Ｚは、０～１００の整数を表す。ｚが２以上の場合、複数のＲ１９およびＲ２３は、同じでも異なってもよい。
【0116】
【化6】
【0117】
前記一般式（６）中、Ｒ２４は水素原子、フッ素原子、炭素数１～６個のアルキル基、炭素数１～６個のフルオロアルキル基、炭素数６～１８のアリール基、フリル基またはチエニル基を表し、Ｒ２５は、３～１０価の有機基を表す。例えば、下記一般式（７）～（９）のいずれかで表される線状、分枝状またはかご状ポリシロキサン含有基等が挙げられる。一般式（６）中、ｊは、Ｒ２５の価数に等しい３～１０の整数を表す。
【0118】
【化7】
【0119】
前記一般式（９）で表されるかご状のオキセタニル基を有するシロキサン化合物としては、例えば、シルセスキオキサン誘導体ＯＸ－ＳＱ ＴＸ－１００、ＯＸ－ＳＱ ＳＩ－２０（以上、商品名、東亞合成（株）製）などが挙げられる。
【0120】
これらの中でも、オキセタニル基を複数有するものが好ましい。オキセタニル基を複数有することにより、オキセタン環の開環反応による樹脂被覆膜の応力緩和効果が向上し、ガラス基材との密着性をより向上させることができる。
【0121】
樹脂組成物におけるオキセタニル基を有するシロキサン化合物の含有量は、樹脂被覆膜の応力をより緩和して密着性をより向上させる観点から、全固形分中０．１重量％以上が好ましく、０．５重量％以上がより好ましい。一方、オキセタニル基を有するシロキサン化合物の含有量は、シロキサン樹脂の含有量を増やすことで樹脂被覆膜の応力を向上させて強度をより向上させる観点から、全固形分中１０重量％以下が好ましく、６重量％以下がより好ましい。
【0122】
樹脂組成物は、下記一般式（１０）で表される金属キレート化合物を含有してもよい。金属キレート化合物がシロキサン樹脂のシラノール縮合反応の触媒として働くことから、樹脂被覆膜の架橋度が高くなり、強度をより向上させることができる。
【0123】
【化8】
【0124】
上記一般式（１０）中、Ｍは金属原子を表す、Ｒ２６は水素、アルキル基、アリール基またはアルケニル基を表し、Ｒ２７およびＲ２８はそれぞれ独立に水素、アルキル基、アリール基、アルケニル基またはアルコキシ基を表す。ただし、アルキル基、アリール基、アルケニル基またはアルコキシ基は、置換基により置換されていてもよい。ｅは金属原子Ｍの原子価を表し、ｆは０～ｅの整数を表す。反応性の観点から、ｅ－ｆは０が好ましい。
【0125】
金属原子Ｍとしては樹脂被覆膜の透明性の観点から、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、亜鉛、コバルト、モリブデン、ランタン、バリウム、ストロンチウム、マグネシウム、カルシウムが好ましく、ジルコニウム、アルミニウムがより好ましい。
【0126】
Ｒ２６としては、例えば、水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－オクタデシル基、フェニル基、ビニル基、アリル基、オレイル基などが挙げられる。
【0127】
Ｒ２７およびＲ２８としては、例えば、水素、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、フェニル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－オクタデシル基、ベンジルオキシ基などが挙げられる。
【0128】
金属原子Ｍがジルコニウムであるジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムテトラｎ－プロポキシド、ジルコニウムテトラｎ－ブトキシド、ジルコニウムテトラ－ｓｅｃ－ブトキシド、ジルコニウムテトラフェノキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラ（２，２，６，６－テトラメチル－３，５－ヘプタンジオネート）、ジルコニウムテトラメチルアセトアセテート、ジルコニウムテトラエチルアセトアセテート、ジルコニウムテトラメチルマロネート、ジルコニウムテトラエチルマロネート、ジルコニウムテトラベンゾイルアセトネート、ジルコニウムテトラジベンゾイルメタネート、ジルコニウムモノｎ－ブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムモノｎ－ブトキシエチルアセトアセテートビス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムモノｎ－ブトキシトリス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムモノｎ－ブトキシトリス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムジ（ｎ－ブトキシ）ビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムジ（ｎ－ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムジ（ｎ－ブトキシ）ビス（エチルマロネート）、ジルコニウムジ（ｎ－ブトキシ）ビス（ベンゾイルアセトネート）、ジルコニウムジ（ｎ－ブトキシ）ビス（ジベンゾイルメタネート）などが挙げられる。
【0129】
金属原子Ｍがアルミニウムであるアルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムトリスイソプロポキシド、アルミニウムトリスｎ－プロポキサイド、アルミニウムトリスｓｅｃ－ブトキシド、アルミニウムトリスｎ－ブトキシド、アルミニウムトリスフェノキシド、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムトリス（２，２，６，６－テトラメチル－３，５－ヘプタンジオネート）、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムトリスメチルアセトアセテート、アルミニウムトリスメチルマロネート、アルミニウムトリスエチルマロネート、アルミニウムエチルアセテートジ（イソプロポキシド）、アルミニウムアセチルアセトネート）ジ（イソプロポキシド）、アルミニウムメチルアセトアセテートジ（イソプロポキシド）、アルミニウムオクタデシルアセトアセテートジ（イソプロピレート）、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）などが挙げられる。
【0130】
これらの中でも、各種溶媒への溶解性や化合物の安定性の観点から、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシド、ジルコニウムテトラノルマルブトキシド、ジルコニウムテトラフェノキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラ（２，２，６，６－テトラメチル－３，５－ヘプタンジオネート）、ジルコニウムテトラメチルマロネート、ジルコニウムテトラエチルマロネート、ジルコニウムテトラエチルアセトアセテート、ジルコニウムジノルマルブトキシビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムモノノルマルブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムトリス（２，２，６，６－テトラメチル－３，５－ヘプタンジオネート）、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムトリスメチルアセトアセテート、アルミニウムトリスメチルマロネート、アルミニウムトリスエチルマロネート、アルミニウムエチルアセテートジ（イソプロポキシド）、アルミニウムアセチルアセトネート）ジ（イソプロポキシド）、アルミニウムメチルアセトアセテートジ（イソプロポキシド）、アルミニウムオクタデシルアセトアセテートジ（イソプロピレート）、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）が好ましい。
【0131】
樹脂組成物における金属キレート化合物の含有量は、樹脂被覆膜の架橋度をより向上させて強度をより向上させる観点から、全固形分中０．１重量％以上が好ましく、０．５重量％以上がより好ましい。一方、金属キレート化合物の含有量は、樹脂組成物の経時安定性の観点から、全固形分中１０重量％以下が好ましく、７重量％以下がより好ましい。
【0132】
樹脂組成物は、密着改良剤を含有してもよい。密着改良剤を含有することにより、樹脂被覆膜と支持体との密着性をより向上させることができる。
【0133】
密着改良剤としては、例えば、ビニル基、エポキシ基、スチリル基、（メタ）アクリロキシ基、アミノ基等の官能基を有するシランカップリング剤が挙げられる。具体的には、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２－メトキシエトキシ）シラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ｐ－スリチルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、ｐ－スリチルトリメトキシシランなどが好ましい。
【0134】
樹脂組成物における密着改良剤の含有量は、樹脂被覆膜と支持体との密着性をより向上させる観点から、全固形分中０．１重量％以上が好ましく、０．５重量％以上がより好ましい。一方、樹脂組成物の経時安定性の観点から、全固形分中１０重量％以下が好ましく、５重量％以下がより好ましい。
【0135】
樹脂組成物は、各種の架橋剤を含有してもよく、架橋を促進または容易にすることができる。架橋剤としては、例えば、窒素含有有機物、シリコーン樹脂架橋剤、イソシアネート化合物やその重合体、メチロール化メラミン誘導体、メチロール化尿素誘導体などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。なかでも、架橋性と経時安定性の観点から、メチロール化メラミン誘導体、メチロール化尿素誘導体が好ましく用いられる。
【0136】
シロキサン樹脂は酸により硬化が促進されるので、樹脂組成物に熱酸発生剤や光酸発生剤などの硬化触媒を含有してもよい。熱酸発生剤としては、例えば、ＳＩ－６０、ＳＩ－８０、ＳＩ－１００、ＳＩ－１１０、ＳＩ－１４５、ＳＩ－１５０、ＳＩ－６０Ｌ、ＳＩ－８０Ｌ、ＳＩ－１００Ｌ、ＳＩ－１１０Ｌ、ＳＩ－１４５Ｌ、ＳＩ－１５０Ｌ、ＳＩ－１６０Ｌ、ＳＩ－１８０Ｌ（以上、三新化学工業（株）製）、４－ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジル－４－ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、２－メチルベンジル－４－ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４－アセトキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４－アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４－メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、ベンジル－４－メトキシカルボニルオキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナートなどが挙げられる。
【0137】
光酸発生剤としては、例えば、ＳＩ－１００、ＳＩ－１０１、ＳＩ－１０５、ＳＩ－１０６、ＳＩ－１０９、ＰＩ－１０５、ＰＩ－１０６、ＰＩ－１０９、ＮＡＩ－１００、ＮＡＩ－１００２、ＮＡＩ－１００３、ＮＡＩ－１００４、ＮＡＩ－１０１、ＮＡＩ－１０５、ＮＡＩ－１０６、ＮＡＩ－１０９、ＮＤＩ－１０１、ＮＤＩ－１０５、ＮＤＩ－１０６、ＮＤＩ－１０９、ＰＡＩ－０１、ＰＡＩ－１０１、ＰＡＩ－１０６、ＰＡＩ－１００１（以上、みどり化学（株）製）、ＳＰ－０７７、ＳＰ－０８２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＴＰＳ－ＰＦＢＳ（以上、東洋合成工業（株）製）、ＭＤＴ（以上、ヘレウス社製）、ＷＰＡＧ－２８１、ＷＰＡＧ－３３６、ＷＰＡＧ－３３９、ＷＰＡＧ－３４２、ＷＰＡＧ－３４４、ＷＰＡＧ－３５０、ＷＰＡＧ－３７０、ＷＰＡＧ－３７２、ＷＰＡＧ－４４９、ＷＰＡＧ－４６９、ＷＰＡＧ－５０５、ＷＰＡＧ－５０６（以上、和光純薬工業（株）製）などが挙げられる。
【0138】
樹脂組成物における熱酸発生剤や光酸発生剤などの硬化触媒の含有量は、樹脂被覆膜の架橋度を向上させて強度をより向上させる観点から、全固形分中０．１重量％以上が好ましく、０．３重量％以上がより好ましい。一方、樹脂組成物を含有する組成物の経時安定性の観点から、熱酸発生剤や光酸発生剤などの硬化触媒の含有量は、全固形分中５重量％以下が好ましく、３重量％以下がより好ましい。
【0139】
樹脂組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤を含有することにより、経時安定性を向上させることができる。重合禁止剤としては、例えば、フェノール、カテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン、４－ｔ－ブチルカテコール、２，６－ジ（ｔ－ブチル）－ｐ－クレゾール、フェノチアジン、４－メトキシフェノールなどが挙げられる。
【0140】
樹脂組成物における重合禁止剤の含有量は、全固形分中０．０１重量％以上が好ましく、０．１重量％以上がより好ましい。一方、樹脂被覆膜の架橋を阻害しない観点から、全固形分中５重量％以下が好ましく、１重量％以下がより好ましい。
【0141】
樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤を含有することにより、樹脂被覆膜の耐光性を向上させることができる。紫外線吸収剤としては、透明性、非着色性の面から、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物が好ましく用いられる。
【0142】
ベンゾトリアゾール系化合物としては、例えば、２－（２Ｈベンゾトリアゾール－２－イル）フェノール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ｔ－ペンチルフェノール、２－（２Ｈベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール、２（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－ドデシル－４－メチルフェノール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－メタクリロキシエチルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
【0143】
ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
トリアジン系化合物としては、例えば、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノールなどが挙げられる。
トリアジン系化合物としては、例えば、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノールなどが挙げられる。
【0144】
樹脂組成物における紫外線吸収剤の含有量は、樹脂被覆膜と支持体との密着性を向上させる観点から、全固形分中１０重量％以下が好ましく、５重量％以下がより好ましい。
【0145】
樹脂組成物は、界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤を含有することにより、塗布時のフロー性を向上させることができる。界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤；シリコーン系界面活性剤；含フッ素熱分解性界面活性剤；ポリエーテル変性シロキサン系界面活性剤；ポリアルキレンオキシド系界面活性剤；ポリ（メタ）アクリレート系界面活性剤；ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールアミンなどの陰イオン界面活性剤；ステアリルアミンアセテート、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドなどの陽イオン界面活性剤；ラウリルジメチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリウムベタインなどの両性界面活性剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ソルビタンモノステアレートなどの非イオン界面活性剤などが挙げられる。これらを２種以上含有してもよい。
【0146】
これらの中でも、はじき等の塗布性不良を抑制するとともに、表面張力を低減し塗布膜４の乾燥時のムラを抑制する観点から、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、含フッ素熱分解性界面活性剤、ポリエーテル変性シロキサン系界面活性剤が好ましく、含フッ素熱分解性界面活性剤がより好ましい。
【0147】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、“メガファック（登録商標）”Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ４４５、同Ｆ４７０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＮＢＸ－１５、ＦＴＸ－２１８（（株）ネオス製）などが挙げられる。シリコーン系界面活性剤の市販品としては、例えば、“ＢＹＫ（登録商標）”－３３３、ＢＹＫ－３０１、ＢＹＫ－３３１、ＢＹＫ－３４５、ＢＹＫ－３０７（ビックケミー・ジャパン（株）製）などが挙げられる。含フッ素熱分解性界面活性剤の市販品としては、例えば、“メガファック（登録商標）”ＤＳ－２１（ＤＩＣ（株）製）などが挙げられる。ポリエーテル変性シロキサン系界面活性剤の市販品としては、例えば、“ＢＹＫ（登録商標）”－３４５、ＢＹＫ－３４６、ＢＹＫ－３４７、ＢＹＫ－３４８、ＢＹＫ－３４９（以上、ビックケミー・ジャパン（株）製）、“シルフェイス（登録商標）”ＳＡＧ００２、同ＳＡＧ００５、同ＳＡＧ０５０３Ａ、同ＳＡＧ００８（以上、日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
【0148】
界面活性剤の含有量は、樹脂組成物を均一に塗布する観点から、全樹脂組成物中、０．００１重量％以上が好ましく、０．００５重量％以上がより好ましい。一方、表面均一性を向上させる観点から、全樹脂組成物中、０．１重量％以下が好ましく、０．０３重量％以下がより好ましい。
【0149】
次に、樹脂組成物の製造方法について、以下に説明する。
樹脂組成物の製造方法としては、シロキサン樹脂と、必要に応じて、シリカ粒子、光ラジカル重合開始剤、ラジカル重合性を２個以上有する化合物、溶媒などのその他原料を所定量混合し、撹拌する方法が一般的である。
樹脂組成物の製造方法としては、シロキサン樹脂と、必要に応じて、シリカ粒子、光ラジカル重合開始剤、ラジカル重合性を２個以上有する化合物、溶媒などのその他原料を所定量混合し、撹拌する方法が一般的である。
【0150】
次に、ガラス基材１上に形成した塗布膜４が乾燥、硬化した樹脂被覆膜の製造方法について、以下に説明する。
【0151】
ノズルヘッド５から噴射された樹脂組成物３を乾燥して、乾燥膜を得る。乾燥方法としては、例えば、加熱乾燥、風乾、減圧乾燥、赤外線照射等が挙げられる。加熱乾燥装置としては、例えば、オーブン、ホットプレートなどが挙げられる。乾燥温度は５０～１５０℃が好ましく、乾燥時間は１～６０分間が好ましい。
【0152】
得られた乾燥膜に、紫外線、可視光線、電子線、Ｘ線などの化学線を照射して、露光膜を得ることが好ましい。樹脂組成物３に光ラジカル重合開始剤を含有する場合は、化学線を照射することにより、乾燥膜の架橋を促進することができる。水銀灯のｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）を照射することが好ましい。
【0153】
得られた乾燥膜や露光膜を加熱処理（ポストベイク）することにより、シロキサン樹脂の架橋が進行し、乾燥膜や露光膜が硬化した樹脂被覆膜を得ることができる。加熱処理は、空気中、窒素雰囲気下、真空状態のいずれで行ってもよい。加熱温度は１４０～３００℃が好ましく、加熱時間は０．２５～５時間が好ましい。加熱温度を連続的に変化させてもよいし、段階的に変化させてもよい。
【実施例0154】
本実施例で使用するシロキサン樹脂を含有した樹脂組成物及びその製造方法について説明する。
【0155】
（シロキサン樹脂（ＰＳ－１）の合成）
５００ｍＬの三口フラスコにメチルトリメトキシシラン４７．６７ｇ（０．３５ｍｏｌ）、フェニルトリメトキシシラン３９．６６ｇ（０．２０ｍｏｌ）、３－トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物２６．２３ｇ（０．１０ｍｏｌ）、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン８２．０４ｇ（０．３５ｍｏｌ）、ダイアセトンアルコール（以下、「ＤＡＡ」）１８２．８８ｇを仕込み、４０℃のオイルバスに漬けて撹拌しながら、水５５．８ｇにリン酸０．３９１ｇ（仕込みモノマーに対して０．２重量部）を溶かしたリン酸水溶液を滴下ロートで１０分間かけて添加した。４０℃で１時間撹拌した後、オイルバス温度を７０℃に設定して１時間撹拌し、さらにオイルバスを３０分間かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱撹拌した（内温は１００～１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール及び水が合計１２０ｇ留出した。得られたシロキサン樹脂のＤＡＡ溶液に、ポリマー濃度が４０重量％となるようにＤＡＡを加えてシロキサン樹脂（ＰＳ－１）溶液を得た。なお、得られたシロキサン樹脂（ＰＳ－１）の重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」）をＧＰＣにより測定したところ５，０００（ポリスチレン換算）であった。
５００ｍＬの三口フラスコにメチルトリメトキシシラン４７．６７ｇ（０．３５ｍｏｌ）、フェニルトリメトキシシラン３９．６６ｇ（０．２０ｍｏｌ）、３－トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物２６．２３ｇ（０．１０ｍｏｌ）、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン８２．０４ｇ（０．３５ｍｏｌ）、ダイアセトンアルコール（以下、「ＤＡＡ」）１８２．８８ｇを仕込み、４０℃のオイルバスに漬けて撹拌しながら、水５５．８ｇにリン酸０．３９１ｇ（仕込みモノマーに対して０．２重量部）を溶かしたリン酸水溶液を滴下ロートで１０分間かけて添加した。４０℃で１時間撹拌した後、オイルバス温度を７０℃に設定して１時間撹拌し、さらにオイルバスを３０分間かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱撹拌した（内温は１００～１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール及び水が合計１２０ｇ留出した。得られたシロキサン樹脂のＤＡＡ溶液に、ポリマー濃度が４０重量％となるようにＤＡＡを加えてシロキサン樹脂（ＰＳ－１）溶液を得た。なお、得られたシロキサン樹脂（ＰＳ－１）の重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」）をＧＰＣにより測定したところ５，０００（ポリスチレン換算）であった。
【0156】
（シロキサン樹脂（ＰＳ－２）の合成）
５００ｍＬの三口フラスコにメチルトリメトキシシラン５４．４８ｇ（０．４０ｍｏｌ）、フェニルトリメトキシシラン９９．１５ｇ（０．５０ｍｏｌ）、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン２４．６４ｇ（０．１０ｍｏｌ）、ＤＡＡを１６３．３５ｇ仕込み、４０℃のオイルバスに漬けて撹拌しながら、水５４．０ｇにリン酸０．５３５ｇ（仕込みモノマに対して０．３重量部）を溶かしたリン酸水溶液を滴下ロートで１０分間かけて添加した。４０℃で１時間撹拌した後、オイルバス温度を７０℃に設定して１時間撹拌し、さらにオイルバスを３０分間かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱撹拌した（内温は１００～１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール及び水が合計１２０ｇ留出した。得られたシロキサン樹脂のＤＡＡ溶液に、ポリマー濃度が４０重量％となるようにＤＡＡを加えてシロキサン樹脂（ＰＳ－２）溶液を得た。なお、得られたシロキサン樹脂（ＰＳ－２）のＭｗをＧＰＣにより測定したところ５，０００（ポリスチレン換算）であった。
５００ｍＬの三口フラスコにメチルトリメトキシシラン５４．４８ｇ（０．４０ｍｏｌ）、フェニルトリメトキシシラン９９．１５ｇ（０．５０ｍｏｌ）、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン２４．６４ｇ（０．１０ｍｏｌ）、ＤＡＡを１６３．３５ｇ仕込み、４０℃のオイルバスに漬けて撹拌しながら、水５４．０ｇにリン酸０．５３５ｇ（仕込みモノマに対して０．３重量部）を溶かしたリン酸水溶液を滴下ロートで１０分間かけて添加した。４０℃で１時間撹拌した後、オイルバス温度を７０℃に設定して１時間撹拌し、さらにオイルバスを３０分間かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱撹拌した（内温は１００～１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール及び水が合計１２０ｇ留出した。得られたシロキサン樹脂のＤＡＡ溶液に、ポリマー濃度が４０重量％となるようにＤＡＡを加えてシロキサン樹脂（ＰＳ－２）溶液を得た。なお、得られたシロキサン樹脂（ＰＳ－２）のＭｗをＧＰＣにより測定したところ５，０００（ポリスチレン換算）であった。
【0157】
（シロキサン樹脂を含有する樹脂組成物（ＧＲ－１）の調製）
黄色灯下にてフェニルビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（商品名「“Ｏｍｎｉｒａｄ（登録商標）”８１９」；ＩＧＭ社製）（以下、「Ｏｍｎｉｒａｄ８１９」）１．５２ｇと、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート（商品名「“オルガチックス（登録商標）”ＺＣ－１５０」；マツモトファインケミカル（株）製）（以下、「ＺＣ－１５０」）１．３０ｇを、ＤＡＡ２３．９６ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」）１．５３ｇ、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノール（以下、「ＭＭＢ」）１４．８０ｇの混合溶媒に溶解させ、オキセタニル基を有するシロキサン化合物「“アロンオキセタン（登録商標）”ＯＸＴ－１９１」；東亞合成（株）製）（以下、「ＯＸＴ－１９１」）０．９８ｇ、３－アミノプロピルトリメトキシシラン（商品名「ＫＢＭ－９０３」；信越化学工業（株）製）（以下、「ＫＢＭ－９０３」）０．４３ｇ、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸のアクリル酸エステル（商品名「“アロニックス（登録商標）”Ｍ－３１５」；東亞合成（株）製）（以下、「Ｍ－３１５」）４．３５ｇ、シリカ粒子のＰＧＭＥＡ３０重量％分散液（平均粒子径＝２０～３０ｎｍ、商品名「ＰＭＡ－ＳＴ」；日産化学工業（株）製）（以下、「ＰＭＡ－ＳＴ」）２８．９９ｇ、シロキサン樹脂（ＰＳ－１）溶液２１．７４ｇ、含フッ素熱分解性界面活性剤（商品名「ＤＳ－２１」；ＤＩＣ（株）製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）、シリコーン変性アクリル系界面活性剤（商品名「“ＢＹＫ（登録商標）”－３５５０」；ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）を加え、撹拌した。次いで１．００μｍのフィルターでろ過を行い、固形分濃度２６重量％のシロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－１）を調製した。
黄色灯下にてフェニルビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（商品名「“Ｏｍｎｉｒａｄ（登録商標）”８１９」；ＩＧＭ社製）（以下、「Ｏｍｎｉｒａｄ８１９」）１．５２ｇと、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート（商品名「“オルガチックス（登録商標）”ＺＣ－１５０」；マツモトファインケミカル（株）製）（以下、「ＺＣ－１５０」）１．３０ｇを、ＤＡＡ２３．９６ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」）１．５３ｇ、３－メチル－３－メトキシ－１－ブタノール（以下、「ＭＭＢ」）１４．８０ｇの混合溶媒に溶解させ、オキセタニル基を有するシロキサン化合物「“アロンオキセタン（登録商標）”ＯＸＴ－１９１」；東亞合成（株）製）（以下、「ＯＸＴ－１９１」）０．９８ｇ、３－アミノプロピルトリメトキシシラン（商品名「ＫＢＭ－９０３」；信越化学工業（株）製）（以下、「ＫＢＭ－９０３」）０．４３ｇ、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸のアクリル酸エステル（商品名「“アロニックス（登録商標）”Ｍ－３１５」；東亞合成（株）製）（以下、「Ｍ－３１５」）４．３５ｇ、シリカ粒子のＰＧＭＥＡ３０重量％分散液（平均粒子径＝２０～３０ｎｍ、商品名「ＰＭＡ－ＳＴ」；日産化学工業（株）製）（以下、「ＰＭＡ－ＳＴ」）２８．９９ｇ、シロキサン樹脂（ＰＳ－１）溶液２１．７４ｇ、含フッ素熱分解性界面活性剤（商品名「ＤＳ－２１」；ＤＩＣ（株）製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）、シリコーン変性アクリル系界面活性剤（商品名「“ＢＹＫ（登録商標）”－３５５０」；ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）を加え、撹拌した。次いで１．００μｍのフィルターでろ過を行い、固形分濃度２６重量％のシロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－１）を調製した。
【0158】
（シロキサン樹脂を含有する樹脂組成物（ＧＲ－２）の調製）
黄色灯下にてトリフルオロメタンスルホン酸エステル（商品名「ＭＤＴ」ヘレウス社製）０．３６ｇを、ＤＡＡ４．００ｇ、ＰＧＭＥＡ８．８０ｇ、３－メトキシ－３－メチル－１－ブチルアセテート（以下、「ＭＭＢ－ＡＣ」）２２．２０ｇの混合溶媒に溶解させ、シラン変性イソシアヌル酸エステル系化合物（商品名「ＫＢＭ－９６５９」信越化学工業（株）製）０．５４ｇ、ＰＭＡ－ＳＴ２３．８９ｇ、シロキサン樹脂（ＰＳ－２）溶液３９．８２ｇ、含フッ素熱分解性界面活性剤（商品名「ＤＳ－２１」ＤＩＣ（株）製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）、シリコーン変性アクリル系界面活性剤（商品名「“ＢＹＫ（登録商標）”－３５５０」ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）を加え、撹拌した。次いで１．００μｍのフィルターでろ過を行い、固形分濃度２４重量％のシロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－２）を調製した。
黄色灯下にてトリフルオロメタンスルホン酸エステル（商品名「ＭＤＴ」ヘレウス社製）０．３６ｇを、ＤＡＡ４．００ｇ、ＰＧＭＥＡ８．８０ｇ、３－メトキシ－３－メチル－１－ブチルアセテート（以下、「ＭＭＢ－ＡＣ」）２２．２０ｇの混合溶媒に溶解させ、シラン変性イソシアヌル酸エステル系化合物（商品名「ＫＢＭ－９６５９」信越化学工業（株）製）０．５４ｇ、ＰＭＡ－ＳＴ２３．８９ｇ、シロキサン樹脂（ＰＳ－２）溶液３９．８２ｇ、含フッ素熱分解性界面活性剤（商品名「ＤＳ－２１」ＤＩＣ（株）製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）、シリコーン変性アクリル系界面活性剤（商品名「“ＢＹＫ（登録商標）”－３５５０」ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）を加え、撹拌した。次いで１．００μｍのフィルターでろ過を行い、固形分濃度２４重量％のシロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－２）を調製した。
【0159】
（シロキサン樹脂を含有する樹脂組成物（ＧＲ－３）の調整）
黄色灯下にて１．５２ｇのＯｍｎｉｒａｄ８１９と、１．３０ｇのＺＣ－１５０を、ＤＡＡ２３．９６ｇ、ＰＧＭＥＡ１．５３ｇ、ＭＭＢ１４．０６ｇ、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（以下、「ＤＰＭＡ」）０．７４ｇの混合溶媒に溶解させ、０．９８ｇのＯＸＴ－１９１、０．４３ｇのＫＢＭ－９０３、４．３５ｇのＭ－３１５、ＰＭＡ－ＳＴ２８．９９ｇ、シロキサン樹脂（ＰＳ－１）溶液２１．７４ｇ、含フッ素熱分解性界面活性剤（商品名「ＤＳ－２１」；ＤＩＣ（株）製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）、シリコーン変性アクリル系界面活性剤（商品名「“ＢＹＫ（登録商標）”－３５５０」；ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）を加え、撹拌した。次いで１．００μｍのフィルターでろ過を行い、固形分濃度２６重量％のシロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－３）を調製した。
黄色灯下にて１．５２ｇのＯｍｎｉｒａｄ８１９と、１．３０ｇのＺＣ－１５０を、ＤＡＡ２３．９６ｇ、ＰＧＭＥＡ１．５３ｇ、ＭＭＢ１４．０６ｇ、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（以下、「ＤＰＭＡ」）０．７４ｇの混合溶媒に溶解させ、０．９８ｇのＯＸＴ－１９１、０．４３ｇのＫＢＭ－９０３、４．３５ｇのＭ－３１５、ＰＭＡ－ＳＴ２８．９９ｇ、シロキサン樹脂（ＰＳ－１）溶液２１．７４ｇ、含フッ素熱分解性界面活性剤（商品名「ＤＳ－２１」；ＤＩＣ（株）製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）、シリコーン変性アクリル系界面活性剤（商品名「“ＢＹＫ（登録商標）”－３５５０」；ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）を加え、撹拌した。次いで１．００μｍのフィルターでろ過を行い、固形分濃度２６重量％のシロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－３）を調製した。
【0160】
（シロキサン樹脂を含有する樹脂組成物（ＧＲ－４）の調整）
黄色灯下にて１．５２ｇのＯｍｎｉｒａｄ８１９と、１．３０ｇのＺＣ－１５０を、ＤＡＡ２３．９６ｇ、ＰＧＭＥＡ１．５３ｇ、ＭＭＢ１１．８４ｇ、ＤＰＭＡ２．９６ｇの混合溶媒に溶解させ、０．９８ｇのＯＸＴ－１９１、０．４３ｇのＫＢＭ－９０３、４．３５ｇのＭ－３１５、ＰＭＡ－ＳＴ２８．９９ｇ、シロキサン樹脂（ＰＳ－１）溶液２１．７４ｇ、含フッ素熱分解性界面活性剤（商品名「ＤＳ－２１」；ＤＩＣ（株）製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）、シリコーン変性アクリル系界面活性剤（商品名「“ＢＹＫ（登録商標）”－３５５０」；ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）を加え、撹拌した。次いで１．００μｍのフィルターでろ過を行い、固形分濃度２６重量％のシロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－４）を調製した。
黄色灯下にて１．５２ｇのＯｍｎｉｒａｄ８１９と、１．３０ｇのＺＣ－１５０を、ＤＡＡ２３．９６ｇ、ＰＧＭＥＡ１．５３ｇ、ＭＭＢ１１．８４ｇ、ＤＰＭＡ２．９６ｇの混合溶媒に溶解させ、０．９８ｇのＯＸＴ－１９１、０．４３ｇのＫＢＭ－９０３、４．３５ｇのＭ－３１５、ＰＭＡ－ＳＴ２８．９９ｇ、シロキサン樹脂（ＰＳ－１）溶液２１．７４ｇ、含フッ素熱分解性界面活性剤（商品名「ＤＳ－２１」；ＤＩＣ（株）製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）、シリコーン変性アクリル系界面活性剤（商品名「“ＢＹＫ（登録商標）”－３５５０」；ビックケミー社製）のＰＧＭＥＡ５重量％溶液０．２０ｇ（濃度１００ｐｐｍに相当）を加え、撹拌した。次いで１．００μｍのフィルターでろ過を行い、固形分濃度２６重量％のシロキサン樹脂を含有する組成物（ＧＲ－４）を調製した。
【0161】
（実施例１）
シロキサン樹脂を含有する樹脂組成物ＧＲ－１を図１～図４における樹脂組成物３として、図１～図４に示す構成の方法を用いて、ガラス基材１に塗布膜４を形成した。図示しない容量タンクに保管された樹脂組成物３（ＧＲ－１）を図示しない送液管を通じて樹脂組成物噴射手段２である噴射ノズル式のスプレーノズル２に送り、ノズルヘッド５から樹脂組成物３（ＧＲ－１）を噴射してガラス基材１にスプレー塗布した。
シロキサン樹脂を含有する樹脂組成物ＧＲ－１を図１～図４における樹脂組成物３として、図１～図４に示す構成の方法を用いて、ガラス基材１に塗布膜４を形成した。図示しない容量タンクに保管された樹脂組成物３（ＧＲ－１）を図示しない送液管を通じて樹脂組成物噴射手段２である噴射ノズル式のスプレーノズル２に送り、ノズルヘッド５から樹脂組成物３（ＧＲ－１）を噴射してガラス基材１にスプレー塗布した。
【0162】
ガラス基材１として、フツリン酸塩ガラス（Ｓｃｈｏｔｔ社製“ＢＧ６６”）を使用した。これは板厚０．２１ｍｍ、７７×４０ｍｍの四角形のガラスで、投影面積（２８００ｍｍ２）と前記板厚（０．２１ｍｍ）との比は１４６６７であった。
【0163】
ガラス基材１は図示しないステージに固定し、ノズルヘッド５とガラス基材１との間隔は４５ｍｍとし、樹脂組成物噴射手段２をＸＹ平面方向に移動させた。樹脂組成物噴射手段２であるスプレーコートの相対移動速度Ｖｎは３００ｍｍ／ｓｅｃ、ノズルヘッド５からの噴射量Ｍｒは０．０５ｍｌ／ｓｅｃであった。
【0164】
ガラス基材１は図示しない電熱線により加温して基材加熱温度を５５℃とした。移動は図４に示すように、域外から始めて、ガラス基材１の左側の域内上部をガラス基材１の一辺１ｃに対して交差角度４５°で突入させた。ノズルヘッド５から樹脂組成物３の噴射方向はガラス基材１のＸＹ平面に対して略垂直に噴射させた。噴射圧力は０．０３ＭＰａで、ノズルヘッド５を往復移動させた際の塗布膜４の重ね幅は５ｍｍで積層数が２層となるように往復移動させた。ノズルヘッド５として、噴射口の大きさはΦ０．６ｍｍであり、低圧霧化方式の微少吐出エアスプレイノズルを用いた。得られた塗布膜４を、１００℃のホットプレートを用いて２分間プリベイクし、乾燥膜を得た。その後、大日本スクリーン（株）製露光機“ＸＧ－５０００”を用いて５００ｍＪ／ｃｍ２（ｉ線換算）で露光し、露光膜を得た。得られた露光膜を、１８０℃の熱風オーブンを用いて４０分間キュアし、膜厚４μｍの樹脂被覆膜を得た。
【0165】
【表1】
【0166】
次に、樹脂被覆膜を形成した樹脂被覆ガラス基材の強度の評価方法である４点曲げ試験の実施の状態を図６の側面断面図に示す。支持棒１３を具備した下側の置き台１２と押込棒１０を具備した上側の降下台９とから構成され、支持棒１３の上にガラス基材１を載せ、降下台９を矢印１６の方向に降下させ、押込棒１０によりガラス基材１に荷重を掛けて最大曲げ荷重（Ｎ）を測定した。支持棒１３と押込棒１０の先端の曲率半径は５ｍｍ、降下台９の下降速度１５は１ｍｍ／ｍｉｎ、押込棒１０の間隔１１は２０ｍｍ、支持棒１３の間隔１４は５０ｍｍ、ガラス基材１の１辺は７７ｍｍである。測定結果を（表２）に示す。
（実施例２～１４）
実施例１と同様に、表１の条件を用いて樹脂被覆膜を形成した樹脂被覆ガラス基材を作製して、評価を行った。各実施例の評価結果を表２に示す。なお、ＧＲ－１～ＧＲ－４の組成物におけるＳｗ１とＳｗ２の比率をまとめたものを表３に示す。
（比較例１～２）
比較例１として図７または図８に示す構成で、表１に示す条件で、ガラス基材１に樹脂被覆膜を形成した。作製した樹脂被覆ガラス基材を評価し、評価結果を表２に示す。
（実施例２～１４）
実施例１と同様に、表１の条件を用いて樹脂被覆膜を形成した樹脂被覆ガラス基材を作製して、評価を行った。各実施例の評価結果を表２に示す。なお、ＧＲ－１～ＧＲ－４の組成物におけるＳｗ１とＳｗ２の比率をまとめたものを表３に示す。
（比較例１～２）
比較例１として図７または図８に示す構成で、表１に示す条件で、ガラス基材１に樹脂被覆膜を形成した。作製した樹脂被覆ガラス基材を評価し、評価結果を表２に示す。
【0167】
樹脂組成物噴射手段２の移動は図７に示すように、域外から始めて、ガラス基材１の域内上部をガラス基材１の一辺１ｃに対して交差角度８５°で突入させた。そうすると、ガラス基材１の側面部１ｂにおいて塗布膜４の塗布状態が一部に液だれが生じて塗りムラが発生した。
表１に示す条件以外の部分は、実施例１と同様である。
（比較例２）
比較例１と同様に表１に記載する条件で樹脂被覆膜を形成した樹脂被覆ガラス基材を作製して、評価した。評価結果を表２に示す。
表１に示す条件以外の部分は、実施例１と同様である。
（比較例２）
比較例１と同様に表１に記載する条件で樹脂被覆膜を形成した樹脂被覆ガラス基材を作製して、評価した。評価結果を表２に示す。
【0168】
【表2】
【0169】
【表3】
【0170】
実施例１～１４では最大曲げ荷重（Ｎ）は２以上と高い強度を保持し、実使用上問題ないレベルであった。それに対して比較例１、２では最大曲げ荷重（Ｎ）は１～２程度と低い値となり、実使用上強度的に課題を有する結果となった。
【産業上の利用可能性】
【0171】
本発明の製造方法は、近赤外線ガラスへの樹脂被覆膜形成に利用でき、またそれによって得られた樹脂被覆ガラス基材は、写像装置等に用いられる赤外線カットフィルター用のガラス基材として好適に利用できる。
【符号の説明】
【0172】
１：ガラス基材
１ａ：ガラス基材の平面部
１ｂ：ガラス基材の側面部
１ｃ：ガラス基材の直線部分の１辺
２：樹脂組成物噴射手段
３：樹脂組成物
４：塗布膜
５：ノズルヘッド
６：交差角度
７：移動方向
７ａ：出発点
７ｂ：終点
８：ノズルヘッド先端部とガラス基材表面との間隔
９：降下台
１０：押込棒
１１：押込棒の間隔
１２：置き台
１３：支持棒
１４：指示棒の間隔
１５：降下台の下降速度
１ａ：ガラス基材の平面部
１ｂ：ガラス基材の側面部
１ｃ：ガラス基材の直線部分の１辺
２：樹脂組成物噴射手段
３：樹脂組成物
４：塗布膜
５：ノズルヘッド
６：交差角度
７：移動方向
７ａ：出発点
７ｂ：終点
８：ノズルヘッド先端部とガラス基材表面との間隔
９：降下台
１０：押込棒
１１：押込棒の間隔
１２：置き台
１３：支持棒
１４：指示棒の間隔
１５：降下台の下降速度
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】