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特開2024-100745フルオロエタン化合物の製造方法及びフルオロオレフィンの製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024100745
(43)【公開日】2024-07-26
(54)【発明の名称】フルオロエタン化合物の製造方法及びフルオロオレフィンの製造方法
(51)【国際特許分類】
C07C 17/354 20060101AFI20240719BHJP
C07C 19/08 20060101ALI20240719BHJP
C07C 21/18 20060101ALI20240719BHJP
C07C 17/25 20060101ALI20240719BHJP
C07B 61/00 20060101ALN20240719BHJP
【ＦＩ】
C07C17/354
C07C19/08
C07C21/18
C07C17/25
C07B61/00 300
【審査請求】有
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024003508
(22)【出願日】2024-01-12
(31)【優先権主張番号】P 2023003900
(32)【優先日】2023-01-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(31)【優先権主張番号】P 2023062394
(32)【優先日】2023-04-06
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000002853
【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000796
【氏名又は名称】弁理士法人三枝国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】高橋 一博
(72)【発明者】
【氏名】島田 朋生
(72)【発明者】
【氏名】平野 暁久
(72)【発明者】
【氏名】吉村 俊和
(72)【発明者】
【氏名】小松 雄三
(72)【発明者】
【氏名】茶木 勇博
【テーマコード（参考）】
4H006
4H039
【Ｆターム（参考）】
4H006AA02
4H006AC13
4H006BA23
4H006BA25
4H006BA55
4H006BD70
4H006BE20
4H006EA02
4H006EA03
4H039CB30
(57)【要約】
【課題】目的生成物であるフルオロエタン化合物を効率よく製造することができるフルオロエタン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】本開示のクロロフルオロエタン化合物を触媒の存在下で還元反応することでフルオロエタン化合物を含む生成物を得る工程Ａを含み、前記触媒は、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｕ及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されている。本開示の製造方法によれば、目的生成物であるフルオロエタン化合物を効率よく製造することができる。
【選択図】なし
【解決手段】本開示のクロロフルオロエタン化合物を触媒の存在下で還元反応することでフルオロエタン化合物を含む生成物を得る工程Ａを含み、前記触媒は、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｕ及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されている。本開示の製造方法によれば、目的生成物であるフルオロエタン化合物を効率よく製造することができる。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
クロロフルオロエタン化合物を触媒及び水素の存在下で還元反応することでフルオロエタン化合物を含む生成物を得る工程Ａを含み、
前記触媒は、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｕ及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されている、フルオロエタン化合物の製造方法。
前記触媒は、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｕ及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されている、フルオロエタン化合物の製造方法。
【請求項2】
前記フルオロエタン化合物は、１，１，２－トリフルオロエタンを含み、
前記クロロフルオロエタン化合物は、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタンを含む、請求項１に記載の製造方法。
前記クロロフルオロエタン化合物は、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタンを含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項3】
前記フルオロエタン化合物は、１，１，２－トリフルオロエタンを含み、
前記クロロフルオロエタン化合物は、１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタンを含む、請求項１に記載の製造方法。
前記クロロフルオロエタン化合物は、１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタンを含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項4】
前記フルオロエタン化合物は、１，１－ジフルオロエタンを含み、
前記クロロフルオロエタン化合物は、１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタンを含む、請求項１に記載の製造方法。
前記クロロフルオロエタン化合物は、１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタンを含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項5】
前記生成物は、クロロトリフルオロエチレン及びトリフルオロエチレンからなる群より選ばれる化合物を副生成物として含む、請求項２に記載の製造方法。
【請求項6】
前記１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタンをテトラクロロエチレンの液相フッ素化反応により得る工程を備える、請求項２に記載の製造方法。
【請求項7】
フルオロオレフィンの製造方法であって、
請求項１～６のいずれか１項に記載の製造方法によってフルオロエタン化合物を得る工程と、
当該工程で得られたフルオロエタン化合物の脱フッ化水素反応により、前記フルオロオレフィンを得る工程と、
を含む、フルオロオレフィンの製造方法。
請求項１～６のいずれか１項に記載の製造方法によってフルオロエタン化合物を得る工程と、
当該工程で得られたフルオロエタン化合物の脱フッ化水素反応により、前記フルオロオレフィンを得る工程と、
を含む、フルオロオレフィンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、フルオロエタン化合物の製造方法及びフルオロオレフィンの製造方法の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
１，１，２－トリフルオロエタン（以下、「ＨＦＣ－１４３」と表記することがある）に代表されるフルオロエタンは、各種冷媒を製造するための原料として知られている。ＨＦＣ－１４３等のフルオロエタンの製造方法としては種々の方法が提案されている。
【0003】
例えば、特許文献１では、水素化触媒の存在下、クロロトリフルオロエチレン等の水素化反応により、ＨＦＣ－１４３を製造する技術が提案されている。特許文献２では、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）と水素の反応によりＨＦＯ－１１２３を得るプロセスにおいて副生成物としてＨＦＣ－１４３及びＨＣＦＣ－１３３ｂが含まれることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開平１－２８７０４４号公報
【特許文献2】特開２０１６－１３０２３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本開示は、目的生成物であるフルオロエタン化合物を効率よく製造することを目的とする。
【0006】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、目的生成物であるフルオロエタン化合物を効率よく製造することができるフルオロエタン化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示は、例えば、以下の項に記載の発明を包含する。
項１
クロロフルオロエタン化合物を触媒及び水素の存在下で還元反応することでフルオロエタン化合物を含む生成物を得る工程Ａを含み、
前記触媒は、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｕ及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されている、フルオロエタン化合物の製造方法。
項２
前記フルオロエタン化合物は、１，１，２－トリフルオロエタンを含み、
前記クロロフルオロエタン化合物は、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタンを含む、項１に記載の製造方法。
項３
前記フルオロエタン化合物は、１，１，２－トリフルオロエタンを含み、
前記クロロフルオロエタン化合物は、１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタンを含む、項１に記載の製造方法。
項４
前記フルオロエタン化合物は、１，１－ジフルオロエタンを含み、
前記クロロフルオロエタン化合物は、１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタンを含む、項１に記載の製造方法。
項５
前記生成物は、クロロトリフルオロエチレン及びトリフルオロエチレンからなる群より選ばれる化合物を副生成物として含む、項１～４のいずれか１項に記載の製造方法。
項６
前記１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタンをテトラクロロエチレンの液相フッ素化反応により得る工程を備える、項２に記載の製造方法。
項７
フルオロオレフィンの製造方法であって、
項１～６のいずれか１項に記載の製造方法によってフルオロエタン化合物を得る工程と、当該工程で得られたフルオロエタン化合物の脱フッ化水素反応により、前記フルオロオレフィンを得る工程と、
を含む、フルオロオレフィンの製造方法。
項１
クロロフルオロエタン化合物を触媒及び水素の存在下で還元反応することでフルオロエタン化合物を含む生成物を得る工程Ａを含み、
前記触媒は、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｕ及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されている、フルオロエタン化合物の製造方法。
項２
前記フルオロエタン化合物は、１，１，２－トリフルオロエタンを含み、
前記クロロフルオロエタン化合物は、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタンを含む、項１に記載の製造方法。
項３
前記フルオロエタン化合物は、１，１，２－トリフルオロエタンを含み、
前記クロロフルオロエタン化合物は、１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタンを含む、項１に記載の製造方法。
項４
前記フルオロエタン化合物は、１，１－ジフルオロエタンを含み、
前記クロロフルオロエタン化合物は、１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタンを含む、項１に記載の製造方法。
項５
前記生成物は、クロロトリフルオロエチレン及びトリフルオロエチレンからなる群より選ばれる化合物を副生成物として含む、項１～４のいずれか１項に記載の製造方法。
項６
前記１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタンをテトラクロロエチレンの液相フッ素化反応により得る工程を備える、項２に記載の製造方法。
項７
フルオロオレフィンの製造方法であって、
項１～６のいずれか１項に記載の製造方法によってフルオロエタン化合物を得る工程と、当該工程で得られたフルオロエタン化合物の脱フッ化水素反応により、前記フルオロオレフィンを得る工程と、
を含む、フルオロオレフィンの製造方法。
【発明の効果】
【0008】
本開示の製造方法によれば、目的生成物であるフルオロエタン化合物を効率よく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【発明を実施するための形態】
【0010】
クロロトリフルオロエチレンの水素化反応でフルオロエタン化合物を製造する場合、前述のように、クロロトリフルオロエチレンが高価であるため、最近ではさらに安価な原料を用い、かつ、効率よくフルオロエタン化合物を製造することが求められている。
【0011】
本発明者らは、目的生成物であるフルオロエタン化合物を高い転化率及び高い選択率で製造するという目的を達成すべく鋭意研究を重ねた。その結果、クロロフルオロエタン化合物を触媒の存在下で水素を用いた気相還元反応を行うことで、上記目的を達成できることを見出した。
【0012】
以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。なお、本明細書中において、「含有」及び「含む」なる表現については、「含有」、「含む」、「実質的にからなる」及び「のみからなる」という概念を含む。
【0013】
本明細書において「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を夫々最小値及び最大値として含む範囲を示す。本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある段階の数値範囲の上限値又は下限値は、他の段階の数値範囲の上限値又は下限値と任意に組み合わせることができる。本明細書に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値又は実施例から一義的に導き出せる値に置き換えてもよい。
【0014】
１．フルオロエタン化合物の製造方法
本開示のフルオロエタン化合物の製造方法は、下記の工程Ａを備える。
工程Ａ：クロロフルオロエタン化合物を触媒の存在下で還元反応することでフルオロエタン化合物を含む生成物を得る工程。
本開示のフルオロエタン化合物の製造方法は、下記の工程Ａを備える。
工程Ａ：クロロフルオロエタン化合物を触媒の存在下で還元反応することでフルオロエタン化合物を含む生成物を得る工程。
【0015】
本開示のフルオロエタン化合物の製造方法において、前記触媒は、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｕ及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されている。
【0016】
本開示の製造方法によれば、目的生成物であるフルオロエタン化合物を効率よく製造することができる。すなわち、本開示の製造方法は、転化率が高く、また、目的生成物であるフルオロエタン化合物への選択率も高い。
【0017】
以下、本明細書において、本開示のフルオロエタン化合物の製造方法を「本開示の製造方法１」と表記する。
【0018】
本開示の製造方法１において、工程Ａでは、クロロフルオロエタン化合物を含む原料を、触媒及び水素の存在下にて還元反応を行う。斯かる還元反応により、目的生成物であるフルオロエタン化合物を含む生成物が得られる。
【0019】
（原料）
工程Ａで使用する原料は、クロロフルオロエタン化合物を含む。クロロフルオロエタン化合物は、クロロ基及びフルオロ基の両方を有する炭素数２の化合物である。クロロフルオロエタン化合物において、フルオロ基は二個以上有することが好ましく、三個以上有することがより好ましく、三個であることがさらに好ましい。
工程Ａで使用する原料は、クロロフルオロエタン化合物を含む。クロロフルオロエタン化合物は、クロロ基及びフルオロ基の両方を有する炭素数２の化合物である。クロロフルオロエタン化合物において、フルオロ基は二個以上有することが好ましく、三個以上有することがより好ましく、三個であることがさらに好ましい。
【0020】
クロロフルオロエタン化合物の具体例として、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン（ＣＦＣ－１１３）、１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１３３ｂ）、１－クロロ－１－フルオロエタン（ＨＣＦＣ－１５１）、１，２－ジクロロ－１，２－ジフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１３２）、２－クロロ－１，１－ジフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１４２）、１－クロロ－１，２－ジフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１４２ａ）、２－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１３３）、２，２－ジクロロ－１，１，１－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１２３）、及び、１，２－ジクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１２３ａ）からなる群より選択される少なくとも１種が例示される。
【0021】
中でもクロロフルオロエタン化合物は、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン（ＣＦＣ－１１３）及び１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１３３ｂ）からなる群より選ばれる１種を含むことがさらに好ましく、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン（ＣＦＣ－１１３）を含むことが特に好ましい。すなわち、工程Ａで使用する原料は１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン（ＣＦＣ－１１３）を含むことが特に好ましい。この場合、フルオロエタン化合物を効率よく得ることができ、また、転化率もより高くすることができる。
【0022】
工程Ａで使用するクロロフルオロエタン化合物は、ＣＦＣ－１１３を５０質量％以上含むことが好ましく、８０質量％以上含むことがより好ましく、９０質量％以上含むことがさらに好ましく、９５質量％以上含むことが特に好ましい。工程Ａで使用するクロロフルオロエタン化合物は、ＣＦＣ－１１３のみとすることもできる。
【0023】
また、工程Ａで使用するクロロフルオロエタン化合物は、ＨＣＦＣ－１３３ｂを５０質量％以上含むことが好ましく、８０質量％以上含むことがより好ましく、９０質量％以上含むことがさらに好ましく、９５質量％以上含むことが特に好ましい。工程Ａで使用するクロロフルオロエタン化合物は、ＨＣＦＣ－１３３ｂのみとすることもできる。
【0024】
なお、工程Ａで使用する原料はクロロフルオロエタン化合物のみからなるものであってもよく、また、本開示の効果が阻害されない限りはクロロフルオロエタン化合物以外の他の成分を含有することもできる。
【0025】
工程Ａで使用するクロロフルオロエタン化合物中の水分量は、クロロフルオロエタン化合物の全質量に対し、１００質量ｐｐｍ以下であることが好ましく、７０質量ｐｐｍ以下であることがより好ましく、６０質量ｐｐｍ以下であることがさらに好ましく、５０質量ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。この場合、触媒の劣化が抑制されるので、触媒寿命を向上させることができる。クロロフルオロエタン化合物中の水分量の下限値は、本開示の製造方法１の効果が阻害されない限りは特に限定されない。例えば、本開示の製造方法１において、反応器に導入するクロロフルオロエタン化合物は水を含まなくてもよい。あるいは、反応器に導入するクロロフルオロエタン化合物中の水の含有量の下限値は０．１質量ｐｐｍとすることができる。反応器に導入するクロロフルオロエタン化合物中の水を除去するための工程が複雑になりにくいという観点からは、反応器に導入する前記クロロフルオロエタン化合物中の水の含有量の下限値は１質量ｐｐｍとすることが好ましい。本開示の製造方法１で使用するクロロフルオロエタン中の水の含有量は、カール・フィッシャー水分測定法で得られた値を示す。
【0026】
（触媒）
本開示の製造方法１において、工程Ａでは、触媒を使用する。具体的に工程Ａでは、前述のように、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｕ及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されてなる触媒を使用する。中でも、フルオロエタン化合物をより効率よく得ることができる点で、触媒は、Ｐｄ，Ｐｔ及びＲｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されてなる触媒を使用することが好ましく、Ｐｄ及びＰｔからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されてなる触媒を使用することがより好ましく、Ｐｄが活性炭に担持されてなる触媒を使用することがさらに好ましい。
本開示の製造方法１において、工程Ａでは、触媒を使用する。具体的に工程Ａでは、前述のように、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｕ及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されてなる触媒を使用する。中でも、フルオロエタン化合物をより効率よく得ることができる点で、触媒は、Ｐｄ，Ｐｔ及びＲｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されてなる触媒を使用することが好ましく、Ｐｄ及びＰｔからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が活性炭に担持されてなる触媒を使用することがより好ましく、Ｐｄが活性炭に担持されてなる触媒を使用することがさらに好ましい。
【0027】
前記触媒において、金属の担持量は特に限定されない、フルオロエタン化合物が効率よく得られやすい点で、担体（活性炭）の全量に対する金属の含有割合が０．１質量％以上であることが好ましく、０．２質量％以上であることがより好ましく、０．５質量％以上であることが特に好ましい。また、フルオロエタン化合物がより効率よく得られやすい点で、担体（活性炭）の全量に対する金属の含有割合が１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以下であることが特に好ましい。
【0028】
前記触媒の調製方法については特に限定されず、公知の調製方法を広く使用することができる。例えば、担体である活性炭を、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｕ及びＲｈからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を含む溶液に浸漬することで該溶液を担体に含浸させ、この後、必要に応じて、中和及び焼成等を行う方法によって、前記触媒を得ることができる。この場合、溶液の濃度、含浸の時間等を調節することで、担体への貴金属の担持量を制御することができる。
【0029】
活性炭の種類は特に限定されず、例えば、種々市販されている活性炭を使用することができる。木炭系活性炭、石炭系活性炭、ヤシガラ活性炭、オイルカーボン活性炭、フェノール樹脂活性炭などの活性炭を主として好適に用いることができ、中でも木炭系活性炭、石炭系活性炭、ヤシガラ活性炭がより好適に用いられる。
【0030】
工程Ａにおいて、触媒の使用量は特に限定されず、例えば、公知の水素化反応と同様とすることができる。例えば、工程Ａの還元反応で使用する反応器の大きさ、使用する原料の量等に応じて適宜設定することができる。
【0031】
（還元反応）
工程Ａでは、クロロフルオロエタン化合物を含む原料を、触媒の存在下にて水素を用いた気相還元反応を行う。斯かる還元反応の一態様として、分子内のハロゲン元素を水素により置換し、ハロゲン化水素が脱離する、いわゆる水素化脱ハロゲン化水素反応を挙げることができる。還元反応の他の一態様として、分子内の２重結合に水素分子が付加してアルケンからアルカンを生成する反応である、いわゆる水素付加反応を挙げることができる。工程Ａにおいては上記反応のいずれか、もしくは両方が進行する。
工程Ａでは、クロロフルオロエタン化合物を含む原料を、触媒の存在下にて水素を用いた気相還元反応を行う。斯かる還元反応の一態様として、分子内のハロゲン元素を水素により置換し、ハロゲン化水素が脱離する、いわゆる水素化脱ハロゲン化水素反応を挙げることができる。還元反応の他の一態様として、分子内の２重結合に水素分子が付加してアルケンからアルカンを生成する反応である、いわゆる水素付加反応を挙げることができる。工程Ａにおいては上記反応のいずれか、もしくは両方が進行する。
【0032】
工程Ａの還元反応において、水素の使用量は特に限定されず、例えば、原料中のクロロフルオロエタン化合物１モルに対して、水素を３モル以上、６０モル以下とすることができる。ＨＦＣ－１４３の選択率が高くなり、かつ、触媒劣化を抑制する効果が期待できることから、原料に対して当量以上の水素を原料とともに反応器に供給することが好ましい。原料中のクロロフルオロエタン化合物１モルに対して、水素は５モル以上であることが好ましく、７モル以上であることがさらに好ましい。水素を適正な量使用することにより、ＨＦＣ－１４３の選択率が高く、触媒劣化を抑制する効果が期待できる。また、一方で、過剰量の水素の供給が水素やＨＦＣ－１４３のロスにつながることから、効率的にプラントを運転する観点では水素の過剰量は適度な範囲内とする必要がある。従って、原料中のクロロフルオロエタン化合物１モルに対して、水素は５５モル以下であることが好ましく、４０モル以下であることがより好ましく、２５モル以下であることがさらに好ましく、２１モル以下であることが特に好ましい。なお、前記したように、工程Ａで使用するクロロフルオロエタン化合物中の水分量が含まれる場合があり、当該水分量がクロロフルオロエタン化合物の全質量に対し１００質量ｐｐｍ以下である場合、触媒劣化が抑制されやすい点で、原料中のクロロフルオロエタン化合物１モルに対して、水素は１５モル以上であることが好ましく、２０モル以上であることがより好ましく、６０モル以下であることが好ましく、５５モル以下であることがより好ましく、４０モル以下であることがさらに好ましい。
【0033】
還元反応を行う方法は特に限定されない。例えば、反応器内に触媒を収容した状態で、クロロフルオロエタン化合物を含む原料と水素ガスとを反応器に導入して、当該触媒に接触させることで、気相還元反応が行われる。その後、反応器外にて目的のフルオロエタン化合物を含む生成物が、例えば混合ガスとして捕集される。当該混合ガス中には、目的生成物であるフルオロエタン化合物の他、後記する副生成物、及び、未反応原料等も含まれ得る。還元反応において、クロロフルオロエタン化合物を含む原料と水素ガスとは同一のライン（配管）から反応器内に導入してもよいし、異なるライン（配管）から反応器内に導入してもよい。
【0034】
還元反応において、反応温度（原料が触媒に接触するときの雰囲気温度）は特に限定的ではなく、例えば、５０～４００℃、好ましくは１００～３８０℃、さらに好ましくは１００～３５０℃、特に好ましくは１５０～３３０℃とすることがきる。
【0035】
還元反応の反応時間は特に限定されない。例えば、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）と、反応器に流入させるクロロフルオロエタン化合物及び水素ガスの全流量をＦとの比率：Ｗ／Ｆで表される接触時間を１～５０ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとすることができ、５ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ以上であることが好ましく、１０ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ以上であることがより好ましく、４０ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ以下であることが好ましく、３０ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ以上であることがより好ましく、２０ｇ・ｓｅｃ／ｃｃ以下であることがさらに好ましい。
【0036】
工程Ａの還元反応は、連続式及びバッチ式のいずれの方式を採用できる。また、工程Ａの（気相）還元反応は、減圧下、大気圧下及び加圧下のいずれで行ってもよい。例えば、反応性の観点から、反応時の圧力は、２ＭＰａＧ以下であることが好ましく、１．５ＭＰａＧ以下であることがより好ましく、１ＭＰａＧ以下であることが特に好ましい。なお、「ＭＰａＧ」のＧはゲージ圧であることを意味し、大気圧を基準（つまり、大気圧を０ＭＰａＧ）とした圧力計の表示値を示す。また、還元反応は、ヘリウム、窒素、アルゴンなどの不活性ガスを反応ガスに共存させて行うこともできる。
【0037】
還元反応で使用する反応器は、例えば、管型の流通型反応器等を用いることができる。流通型反応器としては、例えば、断熱反応器、及び、熱媒体を用いて加熱して温度調節できると共に反応熱を除熱することにより反応温度を調節できる多管型反応器等を用いることができる。反応器は、腐食作用に抵抗性がある材料によって形成されていることが好ましく、特に、ステンレス（ＳＵＳ）、ハステロイ（ＨＡＳＴＡＬＬＯＹ）、インコネル（ＩＮＣＯＮＥＬ）、モネル（ＭＯＮＥＬ）等で形成されていることが好ましい。
【0038】
反応器は、反応器内の温度を調節するためのジャケットを備えることもでき、ジャケット内には、例えば、熱媒等を流通させることができる。これにより、反応器内のガス（例えば、原料であるクロロフルオロエタン化合物及び水素並びに反応生成物である塩化水素、フルオロエタン類、フルオロエチレン類等）の温度を調節することができる。
【0039】
以上の工程Ａにおける還元反応を行って得られる混合ガスを捕集することで、目的物であるフルオロエタン化合物を得ることができる。本開示の製造方法１は、工程Ａの他、必要に応じて他の工程を具備することもできる。反応器出口ガスは、未反応原料であるクロロフルオロエタン、水素のほか、反応生成物である塩化水素、フルオロエタン類、フルオロエチレン類等を含む。従って、本開示の製造方法１は、これらのガスを分離しやすくするための工程、例えば、ガスを昇圧する圧縮工程、分離するための冷却工程、蒸留工程、脱酸、脱水工程等を含むことができる。
【0040】
（生成物）
本開示の製造方法１の生成物は、前記フルオロエタン化合物を含む。本明細書において、フルオロエタン化合物とは、炭素数が２であり一つ以上のフッ素を含む飽和炭化水素である。工程Ａで使用するクロロフルオロエタン化合物の種類に応じたものである限り、その種類は特に限定されない。なお、前記フルオロエタン化合物は、クロロ基を有することができ、すなわち、フルオロエタン化合物は、クロロフルオロエタン化合物であってもよいが、前記フルオロエタン化合物は、クロロ基を有さないことが好ましい。
本開示の製造方法１の生成物は、前記フルオロエタン化合物を含む。本明細書において、フルオロエタン化合物とは、炭素数が２であり一つ以上のフッ素を含む飽和炭化水素である。工程Ａで使用するクロロフルオロエタン化合物の種類に応じたものである限り、その種類は特に限定されない。なお、前記フルオロエタン化合物は、クロロ基を有することができ、すなわち、フルオロエタン化合物は、クロロフルオロエタン化合物であってもよいが、前記フルオロエタン化合物は、クロロ基を有さないことが好ましい。
【0041】
本開示の製造方法１では、１種又は２種以上の前記フルオロエタン化合物が生成する。つまり、本開示の製造方法１において、生成物は、１種又は２種以上の前記フルオロエタン化合物を含む。
【0042】
本開示の製造方法１で得られるクロロフルオロエタン化合物及び／又はフルオロエタン化合物の具体例としては、１，１，２－トリフルオロエタン（ＨＦＣ－１４３）、フルオロエタン（ＨＦＣ－１６１）、１，２－ジフルオロエタン（ＨＦＣ－１５２）、１，１－ジフルオロエタン（ＨＦＣ－１５２ａ）、２－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１３３）、１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１３３ｂ）、２，２－ジクロロ－１，１，１－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１２３）、１，２－ジクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１２３ａ）、１，１，１－トリフルオロエタン（ＨＦＣ－１４３ａ）、１，１，２－トリフルオロエタン（ＨＦＣ－１４３）、１，１，２，２－テトラフルオロエタン（ＨＦＣ－１３４）及び１，１，１，２－テトラフルオロエタン（ＨＦＣ－１３４ａ）等を挙げることができる。
【0043】
なお、念のために注記するにすぎないが、製造方法１において、工程Ａで使用する原料と生成物とは異なる原料である。例えば、工程Ａで使用する原料がＨＣＦＣ－１３３ｂである場合は、生成物はＨＣＦＣ－１３３ｂ以外の化合物である。
【0044】
本開示の製造方法１で得られるフルオロエタン化合物は、１，１，２－トリフルオロエタン（ＨＦＣ－１４３）を含むことが好ましく、とりわけ本開示の製造方法１で得られるフルオロエタン化合物は、ＨＦＣ－１４３が主生成物であることが好ましい。１，１，２－トリフルオロエタンが主生成物であれば、転化率及び選択率が特に高くなるからである。ＨＦＣ－１４３が主生成物である場合、原料であるクロロフルオロエタン化合物は、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン（ＣＦＣ－１１３）又は１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１３３ｂ）である。
【0045】
なお、本明細書でいう主生成物とは、生成物中に５０モル％以上含まれる成分であることを意味する。
【0046】
ＨＦＣ－１４３が主生成物である場合、生成物中のＨＦＣ－１４３の含有割合は、６０モル％以上であることが好ましく、７０モル％以上であることがより好ましい。
【0047】
本開示の製造方法１で得られるフルオロエタン化合物は、１，１－ジフルオロエタン（ＨＦＣ－１５２ａ）であってもよい。すなわち、本開示の製造方法１で得られるフルオロエタン化合物は、ＨＦＣ－１５２ａが主生成物であってもよい。ＨＦＣ－１５２ａが主生成物ある場合、原料であるクロロフルオロエタン化合物は、１－クロロ－１，１，２－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１３３ｂ）である。
【0048】
本開示の製造方法１で得られる生成物には、副生成物及び未反応原料等が含まれていてもよい。本開示の製造方法１で得られる生成物において、前記副生成物の含有割合は、例えば、生成物の全量を基準として４０モル％以下とすることができ、３０モル％以下であることがより好ましく、２０モル％以下であることがさらに好ましい。
【0049】
前記副生成物の種類は特に限定されない。例えば、前記副生成物は、クロロトリフルオロエチレン及びトリフルオロエチレンからなる群より選ばれる化合物を含み得る。すなわち、工程Ａで得られる前記生成物は、クロロトリフルオロエチレン及びトリフルオロエチレンからなる群より選ばれる化合物を副生成物として含み得る。
【0050】
例えば、原料であるクロロフルオロエタン化合物としてＣＦＣ－１１３を使用した場合、主生成物はＨＦＣ－１４３であり、このときの副生成物としてはクロロトリフルオロエチレン及びトリフルオロエチレンからなる群より選ばれる化合物が生成しやすい。なお、クロロトリフルオロエチレン及びトリフルオロエチレンは、例えば、ＣＦＣ－１１３からＨＦＣ－１４３を得るための還元反応おける中間体である。
【0051】
より具体的には、本開示の製造方法１で得られる生成物中の主成分がＨＦＣ－１４３である場合、副生成物として１，２－ジクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１２３ａ）が生成し得る。ＨＦＣ－１４３が主生成物である場合、生成物中の副生成物の含有割合は、４０モル％未満であることが好ましく、３０モル％未満であることがより好ましく、２０モル％未満であることがさらに好ましい。
【0052】
また、本開示の製造方法１で得られる生成物中の主成分がＨＦＣ－１５２ａである場合、副生成物として１，２－ジクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン（ＨＣＦＣ－１２３ａ）が生成し得る。ＨＦＣ－１５２ａが主生成物である場合、生成物中の副生成物の含有割合は、４０モル％未満であることが好ましく、３０モル％未満であることがより好ましく、２０モル％未満であることがさらに好ましい。
【0053】
副生成物がクロロトリフルオロエチレン及びトリフルオロエチレンからなる群より選ばれる化合物を含む場合、クロロトリフルオロエチレン及びトリフルオロエチレンの総含有割合は、生成物の全量を基準として４０モル％未満とすることができ、３０モル％未満であることがより好ましく、２０モル％未満であることがさらに好ましい。
【0054】
本開示の製造方法１で得られた生成物は、精製して目的化合物の純度を高めてもよいし、精製せずに得られた生成物を目的化合物として使用してもよい。また、生成物中に未反応の原料を含む場合、原料を適宜の方法で分離することで、再度、反応用の原料として使用することができる。つまり、製造方法１において、粗生成物を原料としてリサイクルすることができる。
【0055】
本開示の製造方法１により、例えば、ＨＦＣ－１４３と、ＨＣＦＣ－１２３ａを含む組成物を得ることができる。斯かる組成物において、ＨＦＣ－１４３の含有割合は、ＨＦＣ－１４３及びＨＣＦＣ－１２３ａの全量に対し、６０モル％以上であることが好ましく、７０モル％以上であることがより好ましい。ＨＣＦＣ－１２３ａの含有割合は、ＨＦＣ－１４３及びＨＣＦＣ－１２３ａの全量に対し、４０モル％未満とすることができ、３０モル％未満であることがより好ましく、２０モル％未満であることがさらに好ましい。
【0056】
また、本開示の製造方法１により、例えば、ＨＦＣ－１５２ａと、ＨＣＦＣ－１２３ａを含む組成物を得ることができる。斯かる組成物において、ＨＦＣ－１５２ａの含有割合は、ＨＦＣ－１５２ａ及びＨＣＦＣ－１２３ａの全量に対し、６０モル％以上であることが好ましく、７０モル％以上であることがより好ましい。ＨＣＦＣ－１２３ａの含有割合は、ＨＦＣ－１５２ａ及びＨＣＦＣ－１２３ａの全量に対し、４０モル％未満とすることができ、３０モル％未満であることがより好ましく、２０モル％未満であることがさらに好ましい。
【0057】
（原料の製造方法）
工程Ａで原料として使用するクロロフルオロエタン化合物の製造方法は特に限定されず、例えば、公知の製造方法を広く採用することができる。中でも、クロロフルオロエタン化合物は、テトラクロロエチレンと、フッ素化剤とを反応させる工程Ａ０を備える方法で製造することが好ましい。この場合、例えば、クロロフルオロエタン化合物として、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン（ＣＦＣ－１１３）が製造されやすい。
工程Ａで原料として使用するクロロフルオロエタン化合物の製造方法は特に限定されず、例えば、公知の製造方法を広く採用することができる。中でも、クロロフルオロエタン化合物は、テトラクロロエチレンと、フッ素化剤とを反応させる工程Ａ０を備える方法で製造することが好ましい。この場合、例えば、クロロフルオロエタン化合物として、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン（ＣＦＣ－１１３）が製造されやすい。
【0058】
工程Ａ０において、テトラクロロエチレンと、フッ素化剤との反応は、例えば、液相フッ素化反応である。すなわち、本開示の製造方法１は、前記１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタンをテトラクロロエチレンの液相フッ素化反応により得る工程を備えることもできる。
【0059】
工程Ａ０において、フッ素化剤としては特に限定されず、例えば、ＨＦや金属ハロゲン化物などのフッ素化剤（フッ素化触媒）が使用される。フッ素化剤（フッ素化触媒）の例として、ＳｂＣｌ５、ＳｂＣｌ３、ＳｎＣｌ４、ＴａＣｌ５、ＴｉＣｌ４、ＮｂＣｌ５、ＭｏＣｌ６、ＦｅＣｌ３、およびこれらのフッ素化剤と結合しているＣｌの一部又は全部をフッ素に置換したもの、およびこれらの混合物、またはこれらの組み合わせによるものである。この中では五塩化アンチモンおよび５塩化アンチモンのＣｌの一部をフッ素に置換したものが好ましく、ＨＦとともに用いる液相フッ素化反応が本反応に好適に用いられる。この反応は、液相フッ素化反応を例にとれば、反応温度５０℃～２００℃、反応圧力０．２～１．５ＭＰａＧの反応圧力で実施される。フッ素化剤であるアンチモンの価数を５に維持するため、適宜塩素を添加することもできる。反応器から流出する反応ガスは、目的物であるＣＦＣ－１１３のほか、未反応のＨＦ、ＨＣｌ、中間体であるＣＦＣ－１１２、塩素などを含みうる。工程Ａ０で行う反応は、一般的に用いられる耐食材料等の反応器を使用することができる。例えば、ハステロイ、インコネル、モネルなどのニッケルを含む材料が好適に用いられる。
【0060】
以上のように、本開示の製造方法１は、工程Ａの前に工程Ａ０を備えることができる。
【0061】
２．フルオロオレフィンの製造方法
本開示の製造方法１で得られたフルオロエタン化合物を用いて、これを脱ハロゲン化水素反応することによりフルオロオレフィンを得ることもできる。すなわち、本開示は、本開示の製造方法１で得られたフルオロエタン化合物の脱フッ化水素工程により、フルオロオレフィンを製造する方法も包含する。以下、斯かる製造方法を「本開示の製造方法２」と表記する。また、本開示の製造方法２で行われる前記脱フッ化水素工程を「工程Ｂ」と表記する。
本開示の製造方法１で得られたフルオロエタン化合物を用いて、これを脱ハロゲン化水素反応することによりフルオロオレフィンを得ることもできる。すなわち、本開示は、本開示の製造方法１で得られたフルオロエタン化合物の脱フッ化水素工程により、フルオロオレフィンを製造する方法も包含する。以下、斯かる製造方法を「本開示の製造方法２」と表記する。また、本開示の製造方法２で行われる前記脱フッ化水素工程を「工程Ｂ」と表記する。
【0062】
本開示の製造方法２によれば、例えば、下記一般式（４）
ＣＸ１１Ｘ２１＝ＣＸ３１Ｘ４１ （４）
（式（４）中、Ｘ１１、Ｘ２１、Ｘ３１及びＸ４１は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｘ１１、Ｘ２１、Ｘ３１及びＸ４１のうちの少なくとも一つは水素原子を示し、Ｘ１１、Ｘ２１、Ｘ３１及びＸ４１のうちの少なくとも一つはフッ素原子を示す）
で表されるフルオロオレフィンを得ることができる。
ＣＸ１１Ｘ２１＝ＣＸ３１Ｘ４１ （４）
（式（４）中、Ｘ１１、Ｘ２１、Ｘ３１及びＸ４１は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示し、Ｘ１１、Ｘ２１、Ｘ３１及びＸ４１のうちの少なくとも一つは水素原子を示し、Ｘ１１、Ｘ２１、Ｘ３１及びＸ４１のうちの少なくとも一つはフッ素原子を示す）
で表されるフルオロオレフィンを得ることができる。
【0063】
脱フッ化水素工程において、脱フッ化水素反応の方法は特に限定されず、例えば、公知の脱フッ化水素反応と同様の条件で行うことができる。例えば、脱フッ化水素反応は、脱フッ化水素用触媒の存在下、気相で行うことができる。
【0064】
本開示の製造方法２において、フルオロエタンとして、１，１，２－トリフルオロエタン（ＨＦＣ－１４３）を用いた場合の脱フッ化水素反応は以下の反応式に従う。
ＣＦ２ＨＣＦＨ２ → ＣＨＦ＝ＣＨＦ ＋ ＨＦ
ＣＦ２ＨＣＦＨ２ → ＣＨＦ＝ＣＨＦ ＋ ＨＦ
【0065】
前記脱フッ化水素用触媒は、特に限定されず、公知の触媒を広く使用することができ、例えば、酸化クロム、フッ化酸化クロム、酸化アルミニウム、フッ化酸化アルミニウム等を挙げることができる。
【0066】
前記脱フッ化水素用触媒媒は、担体に担持されていてもよい。担体としては、例えば、炭素、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、ジルコニア（ＺｒＯ２）、シリカ（ＳｉＯ２）、チタニア（ＴｉＯ２）等が挙げられる。炭素としては、活性炭、不定形炭素、グラファイト、ダイヤモンド等を用いることができる。
【0067】
本開示の製造方法２において、脱フッ化水素反応は、酸化剤の存在下で行うこともできる。脱フッ化水素反応において触媒劣化の抑制に効果が高まりやすい点で、酸化剤は反応ガスに同伴させて供給することが好ましい。酸化剤としては、例えば、酸素、塩素、臭素又はヨウ素等を挙げることができ、酸素が特に好ましい。酸化剤の濃度は特に限定されず、例えば公知の脱フッ化水素反応と同様とすることができる。
【0068】
脱フッ化水素反応の反応温度も特に限定されず、公知の脱フッ化水素反応と同様とすることができ、例えば、３００℃以上とすることができ、好ましくは３２０℃以上、さらに好ましくは３４０℃以上、特に好ましくは３５０℃以上とすることができる。また、脱フッ化水素反応の反応温度は、６００℃以下とすることができ、好ましくは５５０℃以下、さらに好ましくは５００℃以下、特に好ましくは４５０℃以下とすることができる。
【0069】
脱フッ化水素反応の反応時間、反応時の圧力も特に限定されず、公知の条件を広く採用できる。脱フッ化水素反応は、不活性ガスの存在下及び空気、または酸素の存在下のいずれの存在下で行うこともできる。脱フッ化水素反応は、連続及びバッチ式のいずれの方式を採用してもよい。
【0070】
本開示の製造方法２は、脱フッ化水素工程の他、必要に応じて他の工程を具備することもできる。なお、製造方法２においても、製造方法２で得られた粗生成物から原料を分離してリサイクルすることができる。
【0071】
脱フッ化水素工程によって、本開示の製造方法２の目的物であるフルオロオレフィン、例えば、一般式（４）で表される化合物が得られる。脱フッ化水素工程によって得られるフルオロオレフィンは１種又は２種以上である。
【0072】
得られるフルオロオレフィンは、脱フッ化水素工程で使用するフルオロエタンによって決まり得る。フルオロオレフィンとしては、１，２－ジフルオロエチレン（ＨＦＯ－１１３２）、１，１－ジフルオロエチレン（ＨＦＯ－１１３２ａ）及びトリフルオロエチレン（ＨＦＯ－１１２３）、フルオロエチレン（ＨＦＯ－１１４１）等が例示される。
【0073】
本開示の製造方法２において、フルオロエタンとしてＨＦＣ－１４３を用いた場合、得られるフルオロオレフィンはＨＦＯ－１１３２である。本開示の製造方法２において、フルオロエタンとしてＨＦＣ－１４３ａを用いた場合、得られるフルオロオレフィンはＨＦＯ－１１３２ａである。本開示の製造方法２において、フルオロエタンとしてＨＦＣ－１３４ａを用いた場合、得られるフルオロオレフィンはＨＦＯ－１１２３である。ＨＦＯ－１１３２には、トランス－１，２－ジフルオロエチレン［（Ｅ）－ＨＦＯ－１１３２］、シス－１，２－ジフルオロエチレン［（Ｚ）－ＨＦＯ－１１３２］が含まれ得る。
【0074】
以上の本開示の製造方法２によってフルオロオレフィンを得る場合、前述した本開示の製造方法１と、本開示の製造方法２とを連続的に行ってもよいし、あるいは、それぞれ独立に行ってもよい。本開示の製造方法２は、前記工程Ａによりフルオロエタン化合物を含む生成物を得た後、当該フルオロエタン化合物の脱フッ化水素工程により、フルオロオレフィンを製造することができる。
【0075】
以上のように、本開示の製造方法２は、フルオロオレフィンの製造方法であって、本開示の製造方法１によってフルオロエタン化合物を得る工程と、当該工程で得られたフルオロエタン化合物の脱フッ化水素反応により、前記フルオロオレフィンを得る工程とを含むものである。
【0076】
３．総合プロセス
本開示は、上述した工程Ａ０、工程Ａ及び工程Ｂを備える総合プロセスを包含する。斯かる総合プロセスを「総合プロセス１」と表記する。総合プロセス１の概念を図１に示す。なお、図１においてＰＣＥはパークロロエチレン（テトラクロロエチレン）を意味する。また、本図は総合プロセス１の概念図であるため、すべての流れ、工程を示すものではない。
本開示は、上述した工程Ａ０、工程Ａ及び工程Ｂを備える総合プロセスを包含する。斯かる総合プロセスを「総合プロセス１」と表記する。総合プロセス１の概念を図１に示す。なお、図１においてＰＣＥはパークロロエチレン（テトラクロロエチレン）を意味する。また、本図は総合プロセス１の概念図であるため、すべての流れ、工程を示すものではない。
【0077】
総合プロセスの他の実施形態として、前記工程Ａ０と、工程Ａ´と、工程Ａ２と、工程Ｂを含むことができる。斯かる総合プロセスの他の実施形態を「総合プロセス２」と表記する。総合プロセス２の概念を図２に示す。なお、図２においてＰＣＥはパークロロエチレン（テトラクロロエチレン）を意味する。また、本図は総合プロセス２の概念図であるため、すべての流れ、工程を示すものではない。
【0078】
総合プロセス２において、工程Ａ´及び工程Ａ２は下記のとおりである。
工程Ａ´：前記工程Ａの還元反応における中間体として、フルオロエチレン化合物を取り出す工程。
工程Ａ２：前記フルオロエチレン化合物の気相水素化反応により、フルオロエタン化合物を得る工程。
工程Ａ´：前記工程Ａの還元反応における中間体として、フルオロエチレン化合物を取り出す工程。
工程Ａ２：前記フルオロエチレン化合物の気相水素化反応により、フルオロエタン化合物を得る工程。
【0079】
なお、総合プロセス２において、工程Ａ０は、総合プロセス１の工程Ａ０と同様であり、また、工程Ｂは、総合プロセス１の工程Ｂと同様である。
【0080】
工程Ａ´において、フルオロエチレン化合物は、フルオロエチレン（ＨＦＯ－１１４１）、１，２－ジクロロ－１，２－ジフルオロエチレン（ＣＦＯ－１１１２）、１，１－ジフルオロエチレン（ＨＦＯ－１１３２ａ）、１，２－ジフルオロエチレン（ＨＦＯ－１１３２）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ、ＣＦＯ－１１１３）、トリフルオロエチレン（ＨＦＯ－１１２３）、２－クロロ－１，１－ジフルオロエチレン（ＨＣＦＯ－１１２２）、１－クロロ－１，２－ジフルオロエチレン（ＨＣＦＯ－１１２２ａ）、テトラフルオロエチレン（ＦＯ－１１１４）からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。これらのうち、前記フルオロエチレンは、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ、ＣＦＯ－１１１３）及びテトラフルオロエチレン（ＦＯ－１１１４）からなる群より選択される少なくとも１種を含むことがより好ましく、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ、ＣＦＯ－１１１３）を含むことが特に好ましい。
【0081】
工程Ａ２において、前記フルオロエチレン化合物の気相水素化反応により、フルオロエタン化合物を製造する方法は特に限定されず、公知の気相水素化反応を広く採用することができる。例えば、触媒が充填された反応器内に工程Ａ´で得たフルオロエチレン化合物及び水素ガスを流入させ、触媒と接触させることで水素化反応を行うことができる。これにより、フルオロエタン化合物が得られる。斯かるフルオロエタン化合物の種類は、前述の工程Ａの還元反応で生成するフルオロエタン化合物の種類と同様である。工程Ａ´でクロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ、ＣＦＯ－１１１３）の気相水素化反応を行った場合は、フルオロエタン化合物としてＨＦＣ－１４３が得られる。
【0082】
前記工程Ａ２で得られたフルオロエタン化合物は、前述の工程Ｂにより、脱ハロゲン化水素反応することで、フルオロオレフィンを得ることができる。
【0083】
本開示に包含される発明を特定するにあたり、本開示の各実施形態で説明した各構成（性質、構造、機能等）は、どのように組み合わせられてもよい。すなわち、本開示には、本明細書に記載される組み合わせ可能な各構成のあらゆる組み合わせからなる主題が全て包含される。
【実施例0084】
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例の態様に限定されるものではない。
【0085】
（実施例１）
内径が１．５ｃｍで、長さ５０ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）０．５質量％担持した触媒１０ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、ＣＦＣ－１１３、及び、水素を前記反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で２０ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比９：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が９）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を３ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過するときの温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を３００℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は９７％、ＨＦＣ－１４３の選択率は７７％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８５％であった。
内径が１．５ｃｍで、長さ５０ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）０．５質量％担持した触媒１０ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、ＣＦＣ－１１３、及び、水素を前記反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で２０ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比９：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が９）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を３ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過するときの温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を３００℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は９７％、ＨＦＣ－１４３の選択率は７７％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８５％であった。
【0086】
（実施例２）
触媒を、活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例１と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。転化率は９８％、ＨＦＣ－１４３の選択率は９５％であった。
触媒を、活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例１と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。転化率は９８％、ＨＦＣ－１４３の選択率は９５％であった。
【0087】
（実施例３）
触媒を、活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）３質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例１と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。転化率は９９％、ＨＦＣ－１４３の選択率は９８％であった。
触媒を、活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）３質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例１と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。転化率は９９％、ＨＦＣ－１４３の選択率は９８％であった。
【0088】
（実施例４～９）
表１に示すように、反応温度及び水素／ＣＦＣ－１１３モル比を設定したこと以外は実施例２と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。
表１に示すように、反応温度及び水素／ＣＦＣ－１１３モル比を設定したこと以外は実施例２と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。
【0089】
（実施例１０）
触媒を、活性炭に対してＰｔを２質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例４と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。
触媒を、活性炭に対してＰｔを２質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例４と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。
【0090】
（実施例１１）
触媒を、活性炭に対してＲｕを２質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例４と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。
触媒を、活性炭に対してＲｕを２質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例４と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。
【0091】
（実施例１２）
触媒を、活性炭に対してＲｈを２質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例４と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。
触媒を、活性炭に対してＲｈを２質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例４と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。
【0092】
（比較例１）
触媒を、酸化アルミニウムに対してＰｄを２質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例１と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。この場合の転化率は６４％、選択率は４０％であった。なお、３６時間の反応で転化率は４０％、選択率は３２％まで低下した。
触媒を、酸化アルミニウムに対してＰｄを２質量％担持した触媒に変更したこと以外は実施例１と同様の方法でＨＦＣ－１４３を得た。この場合の転化率は６４％、選択率は４０％であった。なお、３６時間の反応で転化率は４０％、選択率は３２％まで低下した。
【0093】
表１には、各実施例で実施した反応において、反応条件（反応温度、水素／ＣＦＣ－１１３モル比）並びに反応後の添加率及び選択率を示している。
【0094】
【表1】
【0095】
（実施例１３）
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒２ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が４１．８質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で４．７ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比１２：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が１２）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を２ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を２８５℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は１００％、ＨＦＣ－１４３の選択率は８０％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８０％であった。また本条件における触媒寿命は約４６時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約０．４か月であった。
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒２ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が４１．８質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で４．７ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比１２：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が１２）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を２ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を２８５℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は１００％、ＨＦＣ－１４３の選択率は８０％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８０％であった。また本条件における触媒寿命は約４６時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約０．４か月であった。
【0096】
（実施例１４）
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．７６ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が４１．８質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で３．１ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比２０：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が２０）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を１．６５ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を１７５℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は１００％、ＨＦＣ－１４３の選択率は５６％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８８．５％であった。また本条件における触媒寿命は約９０３時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約９．１か月であった。
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．７６ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が４１．８質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で３．１ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比２０：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が２０）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を１．６５ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を１７５℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は１００％、ＨＦＣ－１４３の選択率は５６％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８８．５％であった。また本条件における触媒寿命は約９０３時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約９．１か月であった。
【0097】
（実施例１５）
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．７６ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が４１．８質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で１．４ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比２５：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が２５）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を３ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を３００℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は１００％、ＨＦＣ－１４３の選択率は８７％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は９１．３％であった。また本条件における触媒寿命は約９５２時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約９．５か月であった。
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．７６ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が４１．８質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で１．４ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比２５：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が２５）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を３ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を３００℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は１００％、ＨＦＣ－１４３の選択率は８７％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は９１．３％であった。また本条件における触媒寿命は約９５２時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約９．５か月であった。
【0098】
（実施例１６）
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．７６ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が４１．８質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で０．７ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比５１：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が５１）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を３ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を３００℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は１００％、ＨＦＣ－１４３の選択率は８３％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８６．１％であった。また本条件における触媒寿命は約１１２０時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約１１．２か月であった。
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．７６ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が４１．８質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で０．７ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比５１：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が５１）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を３ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を３００℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は１００％、ＨＦＣ－１４３の選択率は８３％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８６．１％であった。また本条件における触媒寿命は約１１２０時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約１１．２か月であった。
【0099】
（実施例１７）
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．４２ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が５１０質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で４．１ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比１０：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が１０）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を１．７２ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を１７５℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は８５％、ＨＦＣ－１４３の選択率は５０％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８６％であった。また本条件における触媒寿命は約５４０時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約５．２か月であった。
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．４２ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が５１０質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で４．１ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比１０：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が１０）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を１．７２ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を１７５℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は８５％、ＨＦＣ－１４３の選択率は５０％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８６％であった。また本条件における触媒寿命は約５４０時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約５．２か月であった。
【0100】
（実施例１８）
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．４２ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が１７３質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で４．１ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比１０：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が１０）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を１．７２ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を１７５℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は９９．９％、ＨＦＣ－１４３の選択率は５７．５％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８９．１％であった。また本条件における触媒寿命は約４５５時間であり、Ｗ／Ｆ１２とした場合は約４．４か月であった。
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．４２ｇを充填した。この反応器の原料供給口から、水分量が１７３質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で４．１ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比１０：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が１０）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を１．７２ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を１７５℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は９９．９％、ＨＦＣ－１４３の選択率は５７．５％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８９．１％であった。また本条件における触媒寿命は約４５５時間であり、Ｗ／Ｆ１２とした場合は約４．４か月であった。
【0101】
（実施例１９）
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．４６ｇを充填した。反応管内の圧力を０．２０ＭＰａＧに調整し反応器の原料供給口から、水分量が１７３質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で４．７ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比１０：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が１０）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を１．７０ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を１７５℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は９９．９％、ＨＦＣ－１４３の選択率は５０．９％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８９．８％であった。また本条件における触媒寿命は約５６９時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約５．６か月であった。
内径が０．９７ｃｍで、長さ５５ｃｍの反応器を１個準備し、この反応器に活性炭に対してパラジウム（Ｐｄ）２．０質量％担持した触媒１．４６ｇを充填した。反応管内の圧力を０．２０ＭＰａＧに調整し反応器の原料供給口から、水分量が１７３質量ｐｐｍであるＣＦＣ－１１３、及び、水素を反応器内に供給し、触媒を通過させ、還元反応を行った。斯かる還元反応において、ＣＦＣ－１１３は、ガス状態で４．７ｍｌ／ｍｉｎの流量で供給し、また、水素：ＣＦＣ－１１３のモル比１０：１（すなわち、水素／ＣＦＣ－１１３モル比が１０）となるように水素ガスを供給させた。上記還元反応では、反応器内の触媒の充填量をＷ（ｇ）、反応器に流入させるＣＦＣ－１１３及び水素ガスの全流量をＦ（２５℃、０．１０１３ＭＰａにおける流量）として、Ｗ／Ｆで表される接触時間を１．７０ｇ・ｓｅｃ／ｃｃとし、また、ＣＦＣ－１１３及び水素が触媒を通過する時の温度（反応温度、すなわち、反応器内温度）を１７５℃とした。これによりＨＦＣ－１４３が得られ、転化率は９９．９％、ＨＦＣ－１４３の選択率は５０．９％であった。ＨＦＣ－１４３に転化できる中間体を含めた有用化合物の選択率は８９．８％であった。また本条件における触媒寿命は約５６９時間であり、Ｗ／Ｆを１２とした場合は約５．６か月であった。
【図1】
【図2】