特開 2024-101953 カセット昇降装置及びカセット昇降方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024101953

(43)【公開日】2024-07-30

(54)【発明の名称】カセット昇降装置及びカセット昇降方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20240723BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20240723BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 A

H01L21/304 642A

H01L21/304 648C

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023006206

(22)【出願日】2023-01-18

(71)【出願人】

【識別番号】000107734

【氏名又は名称】スピードファムクリーンシステム株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】240000327

【弁護士】

【氏名又は名称】弁護士法人クレオ国際法律特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】長岡 和俊

(72)【発明者】

【氏名】内田 智幸

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 晋

(72)【発明者】

【氏名】菖蒲 久衛

【テーマコード（参考）】

5F131

5F157

【Ｆターム（参考）】

5F131AA02

5F131AA03

5F131AA22

5F131BA37

5F131CA09

5F131DA05

5F131DA32

5F131DA43

5F131DA55

5F131GA03

5F131GA22

5F131GA33

5F131GA44

5F157AB03

5F157AB35

5F157AB36

5F157BB02

5F157DA43

5F157DB37

(57)【要約】

【課題】浸漬後の薄いウェーハを安定してロボット搬送できるようにするカセット昇降装置を提供する。
【解決手段】水槽に浸漬されたウェーハを引き上げて次工程に移行させるためのカセット昇降装置１である。
そして、ウェーハＷ，Ｗ１を収納するカセット２と、水槽４に対してカセットを昇降させるとともに、カセットを傾斜させることが可能な昇降装置３と、昇降装置の動作を制御する制御部とを備えている。
この制御部では、カセットを所定の角度で傾斜させて、ウェーハの後端以外が水面上に引き上げられた後に、ウェーハの後端が浸漬された状態で一定時間の停止をさせる制御を行う。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

水槽に浸漬されたウェーハを引き上げて次工程に移行させるためのカセット昇降装置であって、
ウェーハを収納するカセットと、
前記水槽に対して前記カセットを昇降させるとともに、前記カセットを傾斜させることが可能な昇降装置と、
前記昇降装置の動作を制御する制御部とを備え、
前記制御部では、前記カセットを所定の角度で傾斜させて、前記ウェーハの後端以外が水面上に引き上げられた後に、前記ウェーハの後端が浸漬された状態で一定時間の停止をさせる制御を行うことを特徴とするカセット昇降装置。

【請求項2】

前記カセットには、複数枚のウェーハが上下方向に間隔を置いて収納されることを特徴とする請求項１に記載のカセット昇降装置。

【請求項3】

水槽に浸漬されたウェーハを引き上げて次工程に移行させるためのカセット昇降方法であって、
水槽に浸漬されたウェーハを収納するカセットを、所定の角度で傾斜させた状態で引き上げる工程と、
前記ウェーハの後端以外が水面上に引き上げられた後に、前記ウェーハの後端が浸漬された状態で一定時間の停止をさせる工程と、
前記停止後に再び前記ウェーハを引き上げて、水面上に露出した前記ウェーハを次工程に移行させる工程とを備えたことを特徴とするカセット昇降方法。

【請求項4】

前記所定の角度は、4度以上45度以下であることを特徴とする請求項３に記載のカセット昇降方法。

【請求項5】

前記停止させる時間は、1秒以上であることを特徴とする請求項３又は４に記載のカセット昇降方法。

【請求項6】

前記ウェーハを側面視したときの前記後端の長さは、5mmから20mmであることを特徴とする請求項３又は４に記載のカセット昇降方法。

【請求項7】

前記ウェーハを側面視したときの前記後端の長さは、5mmから20mmであることを特徴とする請求項５に記載のカセット昇降方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、水槽に浸漬されたウェーハを引き上げて次工程に移行させるためのカセット昇降装置及びカセット昇降方法に関するものである。

【背景技術】

【0002】

基板処理工程において、シリコンウェーハ、表面に酸化膜等が成膜された成膜ウェーハ、ＳＯＩウェーハ、ＳｉＣウェーハ、その他半導体ウェーハ、ガラスウェーハ、石英ガラスウェーハ、水晶ウェーハ、サファイアウェーハ、セラミックウェーハ、酸化物ウェーハ等の薄板状のウェーハが処理される。

【0003】

例えば、特許文献１に開示されているように、ウェーハをカセットに収納して水槽に浸漬させた状態で洗浄又は待機をさせ、次工程となる洗浄工程や乾燥工程などに移行させるためのロボット搬送が行われる。

【0004】

ここで、水槽に浸漬されたウェーハは、水上に引き上げられて次工程のためにロボット搬送されることになるが、ウェーハをそのまま水上に引き上げると、ウェーハ上に大量の水が残ることがある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０１０－６２２１４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかしながら、ウェーハ上に大量に水が残ると、水の重量が加わることで薄いウェーハがたわみ、形状が変化することになる。水の残る量にばらつきがあると、ウェーハのたわみ量もばらつき、ロボット搬送する際に、ウェーハ搬送が可能な位置範囲に収まらないなど、搬送ミスやウェーハの破損に繋がるおそれがある。

【0007】

そこで、本発明は、浸漬後の薄いウェーハを安定してロボット搬送できるようにするカセット昇降装置及びカセット昇降方法を提供することを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0008】

前記目的を達成するために、本発明のカセット昇降装置は、水槽に浸漬されたウェーハを引き上げて次工程に移行させるためのカセット昇降装置であって、ウェーハを収納するカセットと、前記水槽に対して前記カセットを昇降させるとともに、前記カセットを傾斜させることが可能な昇降装置と、前記昇降装置の動作を制御する制御部とを備え、前記制御部では、前記カセットを所定の角度で傾斜させて、前記ウェーハの後端以外が水面上に引き上げられた後に、前記ウェーハの後端が浸漬された状態で一定時間の停止をさせる制御を行うことを特徴とする。

【0009】

また、カセット昇降方法の発明は、水槽に浸漬されたウェーハを引き上げて次工程に移行させるためのカセット昇降方法であって、水槽に浸漬されたウェーハを収納するカセットを、所定の角度で傾斜させた状態で引き上げる工程と、前記ウェーハの後端以外が水面上に引き上げられた後に、前記ウェーハの後端が浸漬された状態で一定時間の停止をさせる工程と、前記停止後に再び前記ウェーハを引き上げて、水面上に露出した前記ウェーハを次工程に移行させる工程とを備えたことを特徴とする。

【発明の効果】

【0010】

このように構成された本発明のカセット昇降装置は、ウェーハを収納するカセットを傾斜させて昇降させることが可能な昇降装置の動作を制御する制御部が、傾斜したウェーハの後端が浸漬された状態で一定時間の停止をさせる制御を行う。

【0011】

このため、水槽から引き上げられたウェーハの水残り量が少なく、ウェットな状態の薄いウェーハを安定してロボット搬送させることができるようになる。また、極薄のウェーハであれば残り水の重量によってたわむことが考えられるが、水残り量を安定して減らせることで、極薄のウェーハであっても、たわみ量を低減させることができるようになる。

【0012】

また、カセット昇降方法の発明は、ウェーハを収納するカセットを所定の角度で傾斜させた状態で引き上げる際に、ウェーハの後端以外が水面上に引き上げられた後に、ウェーハの後端が浸漬された状態で一定時間の停止をさせる工程を行う。

【0013】

この一定時間の停止の際に、ウェーハ上に残る水を水面に伝わらせて水槽の水に吸収させることで、ウェーハ上の水残り量を減らすことができる。このため、ウェットな状態の薄いウェーハを、安定して次工程に向けてロボット搬送させることができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】本実施の形態のカセット昇降装置の動作を説明する図であって、（ａ）は水槽にウェーハが浸漬した状態を示す説明図、（ｂ）は最上層のウェーハの後端以外が水面上に引き上げられた状態を示す説明図である。

【図2】本実施の形態のカセット昇降装置の全体構成を示した説明図である。

【図3】カセットを傾斜させる仕組みを示した説明図である。

【図4】最上層のウェーハの後端以外が水面上に引き上げられた状態を拡大して示した説明図である。

【図5】ウェーハ上の水残り量を測定した結果を示した説明図である。

【図6】ウェーハの後端だけ浸漬させて一時停止させた場合の水残り状況を、傾斜角度を変えて観察した結果を示した説明図である。

【図7】ウェーハの後端だけ浸漬させて一時停止させた場合の水残り量の実験結果を示した説明図である。

【図8】本実施の形態のカセット昇降方法を説明するフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0015】

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
図１は、本実施の形態のカセット昇降装置１の動作を説明する図である。また、図２，図３は、本実施の形態のカセット昇降装置１の構成を説明する図である。

【0016】

本実施の形態のカセット昇降装置１に収納されるウェーハとしては、シリコンウェーハ、表面に酸化膜等が成膜された成膜ウェーハ、ＳＯＩウェーハ、ＳｉＣウェーハ、その他半導体ウェーハ、ガラスウェーハ、石英ガラスウェーハ、水晶ウェーハ、サファイアウェーハ、セラミックウェーハ、酸化物ウェーハ等が該当する。本実施の形態のカセット昇降装置１及びカセット昇降方法は、特に薄いウェーハ（極薄ウェーハ）の昇降に適している。例えば、シリコンウェーハであれば約775μm程度の厚さがあるが、それよりも薄い350μm以下や100μm以下の厚さのウェーハ等であれば、極薄ウェーハと言える。

【0017】

基板処理工程において、図１に示すように、ウェーハＷをカセット２に収納して水槽４に浸漬させた状態で洗浄又は待機をさせ、次工程となる洗浄工程や乾燥工程などに移行させることが行われる。これらの工程は、ロボット搬送によって行われる。

【0018】

すなわち水槽４に浸漬されたウェーハＷは、次工程のために水上に引き上げられて、ロボットハンドでカセット２から取り出されて、搬送されることになる。本実施の形態のカセット昇降装置１は、ウェーハＷを水面４１から引き上げる際の制御に特徴を有している。

【0019】

本実施の形態のカセット昇降装置１は、ウェーハＷを収納するカセット２と、水槽４に対してカセット２を昇降及び傾斜させることが可能な昇降装置３と、昇降装置３の動作を制御する制御部とを備えている。

【0020】

図２は、本実施の形態のカセット昇降装置１の全体構成を説明するための図である。カセット昇降装置１のカセット２には、複数枚のウェーハＷがセットされ、水槽４への浸漬が行われる。ここで、複数枚のウェーハＷが積層されたカセット２の最上層に位置するものをウェーハＷ１とする。

【0021】

昇降装置３は、カセット２を鉛直方向の上下に昇降させるための昇降シリンダ３１を備えている。ロッドが上下する昇降シリンダ３１のロッドの先端には、昇降アーム３２が取り付けられる。

【0022】

昇降アーム３２の張り出された側には、鉛直方向に延びる支柱３２１が形成されており、その支柱３２１の先端には、水平方向に向けてシャフト３２２が架け渡されている。すなわち、支柱３２１は、図２の紙面直交方向に間隔をおいて一対が設けられており、一対の支柱３２１間にカセット２を載せる荷台枠３３が配置される。

【0023】

そして、側面視Ｌ字状の荷台枠３３の上端が、支柱３２１間に架け渡されたシャフト３２２に連結される。カセット２は、シャフト３２２の回転に伴って回動する荷台枠３３によって傾斜させることができる。

【0024】

図３は、荷台枠３３に載せたカセット２が傾斜した状態を示している。荷台枠３３の上端が固定されるシャフト３２２には、傾斜調整棒３４の上端も固定されていて、傾斜調整棒３４の下部は、荷台枠３３のカセット２を載せる底面よりも下方まで延伸されている。

【0025】

この傾斜調整棒３４の下部には、昇降アーム３２の上面に取り付けられた押出しシリンダ３５のロッドの先端が接続されている。押出しシリンダ３５のロッドが伸長すると、それに押された傾斜調整棒３４が傾くことでシャフト３２２が回転し、そのシャフト３２２の回転に伴って荷台枠３３が傾くことになる。

【0026】

押出しシリンダ３５による傾斜調整棒３４の回動は、ストッパ３６Ａ，３６Ｂによって制限されることになる。すなわち、ストッパ３６Ｂに傾斜調整棒３４の側面が当たる位置が、カセット２を傾斜させることができる最大の傾斜角度になる。一方、図２に示すように、ストッパ３６Ａに傾斜調整棒３４の反対側の側面が当たる位置で、カセット２に積載されたウェーハＷは水平になる。

【0027】

このように構成される昇降装置３の動作を制御する制御部では、カセット２を所定の角度で傾斜させた状態で維持させることができる。カセット２の傾斜角度は、ウェーハＷが水平となる傾斜角度0°（度）から、最大45°（度）まで設定することができるが、傾斜角度の上限をストッパ３６Ｂの取り付け位置によって調整することができる。例えば傾斜角度の上限を、10°程度に設定する。

【0028】

図４は、カセット２に収納された最上層のウェーハＷ１の後端以外が、水面４１より上に引き上げられた状態を示している。ここで、寸法として図示したLは、水面４１下に浸漬しているウェーハＷ１の後端の長さを示している。

【0029】

本実施の形態のカセット昇降装置１の制御部では、ウェーハＷ１の後端（長さL）が水面４１下に浸漬された状態で、一定時間の停止をさせる制御を行うことができる。ここで、停止させる時間については、任意に設定することができる。

【0030】

また、カセット２を上昇させる速度や距離は、制御部による昇降シリンダ３１の制御によって行われる。例えば、昇降シリンダ３１を何mm延ばした後に、何秒停止させる、という制御によって、最上層のウェーハＷ１を所望する位置で、所望する時間だけ停止させておくことができる。

【0031】

以下では、実験結果を参照しながら、ウェーハＷを傾斜させる角度と一時停止させる時間について説明する。図５は、ウェーハＷ上の水残り量を測定した結果を、一覧表にまとめて示した説明図である。

【0032】

実験に使用したウェーハＷは、直径が6インチで、厚さは素材によって350μmと200μmのものを用意した。ウェーハＷの素材は、シリコン（Si）、タンタル酸リチウム（LT）、ニオブ酸リチウム（LN）の３種類を用意した。

【0033】

水残り量を測定する実験は、カセット２に収納したウェーハＷを純水に浸漬させ、傾斜させた状態で水上に引き上げた際に、ウェーハＷの上に残っている水重量を電子秤で測定することで行った。

【0034】

ウェーハＷを傾斜させる角度（傾斜角度）については、2°、6°、10°の３段階で行った。また、カセット２を引き上げる速度については、5mm/sec、10mm/sec、30mm/secの３段階で行った。ここで、通常、カセット２の引き上げ速度は、5mm/secから10mm/sec程度で、30mm/secは極端に速い速度であると言える。

【0035】

図５に示した実験結果からわかるように、いずれの素材であっても、引き上げ速度が遅く、傾斜角度が大きいほど、水残り量(単位：g)が少なくなることがわかる。例えば、傾斜角度が10°で引き上げ速度が5mm/secの場合、Siウェーハでは2.23g、LTウェーハでは2.38g、LNウェーハでは2.36g（厚さ350μm）と2.32g（厚さ200μm）という水残り量になった。

【0036】

一方、カセット２には、複数枚のウェーハＷが同時に収納されるので、上下のウェーハ間に残る水残り量についても検討する必要がある。この実験では、傾斜角度が2°の場合に、上下のウェーハ間に水膜状に大量の水が残ることが判明したため、複数枚のウェーハＷをカセット２に収納する場合は、傾斜角度を4°（度）以上に設定することにする。なお、水残り量をできるだけ減らすことを考えると、傾斜角度の上限は45°となるが、実機への適用を考えると、10°程度までの角度が適切になる。

【0037】

続いて、ウェーハＷ１の後端（長さL）だけ水面４１下に浸漬された状態で、一定時間の停止をさせることについての効果を検討する。引き上げ速度については、遅い方がウェーハＷ上の水残り量を減らすことができるので、引き上げ速度を30mm/secとした設定で実験を行った。

【0038】

図６は、ウェーハＷの後端だけ浸漬させて一時停止させた場合の水残り状況を観察した結果を示している。ウェーハＷの傾斜角度は、2°、6°、10°の３段階の設定にした。実験に使用したウェーハＷは、厚さ350μmのSiウェーハと、厚さ200μmのLNウェーハである。

【0039】

水残り状況の観察は、ウェーハＷの上面に残っている水と、カセット２のスリット部に残っている水とを、目視で確認することで行った。実験の結果、傾斜角度が2°の場合、ウェーハＷの後端だけ浸漬させた状態で停止しても、水残り量が変化しないことが判明した。

【0040】

一方、傾斜角度が6°の場合、ウェーハＷの素材（LNウェーハ）によっては、ウェーハＷの後端だけを浸漬させた状態での一時停止によって、水残り量を減らすことができることが分かった。さらに、傾斜角度を10°と大きくした場合は、いずれの素材についても、水残り量を減らすことができた。この結果からも、傾斜角度は、4°（度）以上、好ましくは6°（度）以上に設定する。

【0041】

図７は、ウェーハＷの傾斜角度を10°にして、ウェーハＷの後端だけ浸漬させた状態で一時停止をさせるか否かによって変化する水残り量を、水重量として測定した実験結果を示している。

【0042】

実験は、LNウェーハを使用して、引き上げ速度を30mm/secに設定して行った。条件が「連続引上げ」は、一定の引き上げ速度（30mm/sec）で停止させずに引き上げたケースで、条件が「後端を水中に漬けたまま一時停止」は、ウェーハＷの後端だけ浸漬させた状態で引き上げを停止させたケースである。

【0043】

この実験の結果、ウェーハＷの後端を浸漬させた状態で3秒から4秒の一時停止をさせただけで、水重量が、停止させなかったときの5.91gから2.67gへと半減することが判明した。

【0044】

また、３回の実験を行った結果を見ても、ウェーハＷの後端を浸漬させた状態で一時停止したときの方が、結果にばらつきが出ないことが分かった。これらの結果から、ウェーハＷを引き上げる際には、後端を浸漬させた状態で、1秒から4秒程度の停止時間を設けることが、ウェーハＷ上の水残り量を減らしたり、水残り量のばらつきを抑えたりするのには有効であると言える。なお、停止時間の4秒は上限を示すものではなく、生産タクトに時間の制限がない、あるいは時間に余裕があるのであれば、30秒や60秒といった停止時間に設定することもできる。

【0045】

ここで、一時停止の際に、水面４１下に浸漬させるウェーハＷ１の後端の長さL（図４参照）については、ウェーハＷの大きさにもよるが、5mmから20mm、好ましくは5mmから15mmに設定する。例えば、ウェーハＷ１の浸漬させる後端の長さLを、10mm程度にするのがよい。

【0046】

次に、本実施の形態のカセット昇降方法について、図８のフローチャートを参照しながら説明する。本実施の形態では、カセット昇降方法を実施する際に、上述したカセット昇降装置１を使用する。

【0047】

まずステップＳ１では、複数枚のウェーハＷが収納されたカセット２を、カセット昇降装置１に搭載する。なお、カセット昇降装置１に搭載されたカセット２に、ウェーハＷを収納する手順であってもよい。

【0048】

そして、複数枚のウェーハＷが収納されて昇降装置３の荷台枠３３に載せられたカセット２を、水平状態のまま、昇降装置３の昇降シリンダ３１を収縮させることで、水槽４の中に下降させる（ステップＳ２）。

【0049】

続いてステップＳ３では、水中に浸漬したカセット２を、押出しシリンダ３５の伸長によって所定の角度に傾斜した状態にさせる。ここでは、例えばウェーハＷの傾斜角度が10°になるようにカセット２を傾斜させる。

【0050】

要するに、カセット２は、最上層のウェーハＷ１が水面４１より下に位置するまで水槽４に浸漬された状態になる（図１（ａ）参照）。水槽４に浸漬されたウェーハＷ１，Ｗは、水槽４内で洗浄されたり、次工程に移行するまでの間、ウェットな状態が維持されたりすることになる。

【0051】

最上層のウェーハＷ１を次工程に移行させる段階になると、カセット２が傾斜した状態で、昇降装置３の昇降シリンダ３１を伸長させることで、カセット２を引き上げる（ステップＳ４）。カセット２の引き上げは、設定された一定の引き上げ速度（例えば5mm/secから10mm/sec程度）で行われる。

【0052】

そして、傾斜した最上層のウェーハＷ１の上端（前端）が水面４１上に露出し、後端のみが浸漬した状態となったときに、カセット２の引き上げを停止する（ステップＳ５）。例えば図４に示すように、最上層のウェーハＷ１の後端の長さLが浸漬した状態になるカセット２の位置を制御部で設定しておき、昇降シリンダ３１の伸長がその長さに到達した時点で引き上げを停止する。

【0053】

この停止させておく時間についても、制御部で設定をしておく。例えば、2秒から4秒程度、引き上げを停止し、ウェーハＷ１の後端（例えばL=10mm）が浸漬した状態を維持する（ステップＳ６）。このとき、水上に露出したウェーハＷ１の上面の残り水は、水槽４の水面４１の水に引き寄せられるように伝わり、吸収されることでウェーハＷ１上から取り除かれることになる。

【0054】

一定時間の停止後のステップＳ７では、再びカセット２を引き上げて、最上層のウェーハＷ１のすべてが、水面４１より上に露出された状態にする。なお、傾斜させていたカセット２を水平にする動作によっても、最上層のウェーハＷ１のすべてを水面４１上に露出させることができる。

【0055】

続くステップＳ８では、カセット２の姿勢を、必要に応じて水平にするなどして調整し、次工程の受け渡し位置まで移動させる。次工程の受け渡し位置では、最上層のウェーハＷ１のみが、次工程のロボットハンドなどによってカセット２から引き出される。

【0056】

ステップＳ９では、最上層のウェーハＷ１が搬出されたカセット２を、再び水槽４の所定の位置に戻し、水平状態のカセット２を水槽４の中に下降させる。要するに、残りのウェーハＷを、次工程への引き渡しまでの間、水槽４に浸漬させておくことになる。カセット２の２枚目以降のウェーハＷについても、最上層のウェーハＷ１と同様の工程を経て、次工程に受け渡される。

【0057】

次に、本実施の形態のカセット昇降装置１及びカセット昇降方法の作用について説明する。
このように構成された本実施の形態のカセット昇降装置１は、ウェーハＷ（Ｗ１）を収納するカセット２を傾斜させて昇降させることが可能な昇降装置３の動作を制御する制御部が、最上層の傾斜したウェーハＷ１の後端（長さL）が浸漬された状態で一定時間の停止をさせる制御を行う。

【0058】

ここで、水槽４に浸漬されていたウェーハＷを引き上げる際に、ウェーハＷの端部においては、表面張力によって水が溜まりやすい状況になる。それはたとえウェーハＷを傾けていたとしても、後端の部分には多くの水が残ることになる。そこで、本実施の形態のカセット昇降装置１では、傾斜したウェーハＷ１の後端（長さL）が浸漬された状態で一定時間の停止をさせる制御を行うことで、ウェーハＷ１上の水を水槽４側に回収させることにした。

【0059】

このため、水槽４から引き上げられたウェーハＷ１の水残り量が少なく、ウェットな状態の薄いウェーハＷ１を、安定してロボット搬送させることができるようになる。また、極薄のウェーハＷ（Ｗ１）であれば水残り重量によってたわむことが考えられるが、水残り量を安定して減らせることで、極薄のウェーハＷ（Ｗ１）であっても、たわみ量を低減させることができるようになる。

【0060】

また、カセット昇降方法の発明は、ウェーハＷ（Ｗ１）を収納するカセット２を、例えば4度以上45度以下の所定の角度で傾斜させた状態で引き上げる際に、ウェーハＷ１の後端以外が水面４１より上に引き上げられた後に、ウェーハＷ１の後端（例えば長さLが5mmから20mm）が浸漬された状態で、一定時間（例えば1秒から4秒）の停止をさせる工程を行う。

【0061】

この一定時間の停止の際に、ウェーハＷ１上に残る水を水面４１に伝わらせて水槽４の水に吸収させることで、ウェーハＷ１上の水残り量を減らすことができる。このため、ウェットな状態の薄いウェーハＷ１を、安定して次工程に向けてロボット搬送させることができるようになる。

【0062】

以上、図面を参照して、本発明の実施の形態を詳述してきたが、具体的な構成は、この実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱しない程度の設計的変更は、本発明に含まれる。

【0063】

例えば、前記実施の形態では、複数枚のウェーハＷ，Ｗ１が上下方向に間隔を置いてカセット２に収納された場合について説明したが、これに限定されるものではなく、１枚のウェーハを水槽４から引き上げる際にも、本発明を適用することができる。

【符号の説明】

【0064】

１ ：カセット昇降装置
２ ：カセット
３ ：昇降装置
４ ：水槽
４１ ：水面
Ｗ，Ｗ１：ウェーハ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】