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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024103759
(43)【公開日】2024-08-01
(54)【発明の名称】基板処理装置
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20240725BHJP
H01L 21/027 20060101ALI20240725BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 648L
H01L21/30 564C
H01L21/30 569C
H01L21/304 651B
H01L21/304 643A
H01L21/304 648A
H01L21/304 648G
【審査請求】有
【請求項の数】18
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024091671
(22)【出願日】2024-06-05
(62)【分割の表示】P 2020192413の分割
【原出願日】2020-11-19
(31)【優先権主張番号】P 2020030382
(32)【優先日】2020-02-26
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000207551
【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス
(74)【代理人】
【識別番号】100093056
【弁理士】
【氏名又は名称】杉谷 勉
(74)【代理人】
【識別番号】100142930
【弁理士】
【氏名又は名称】戸高 弘幸
(74)【代理人】
【識別番号】100175020
【弁理士】
【氏名又は名称】杉谷 知彦
(74)【代理人】
【識別番号】100180596
【弁理士】
【氏名又は名称】栗原 要
(74)【代理人】
【識別番号】100195349
【弁理士】
【氏名又は名称】青野 信喜
(72)【発明者】
【氏名】澤島 隼
(72)【発明者】
【氏名】山口 貴大
(72)【発明者】
【氏名】宮川 紗希
(72)【発明者】
【氏名】小林 健司
(57)【要約】
【課題】処理筐体の気体を適切に排気できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板処理装置１は、処理筐体２３Ａ１と保持部３１と液供給部３３を備える。保持部３１は、処理筐体２３Ａ１に収容される。保持部３１は、基板Ｗを保持する。液供給部３３は、処理筐体２３Ａ１に収容される。液供給部３３は、保持部３１に保持される基板Ｗに処理液を供給する。基板処理装置１は、排気管４１Ａ、４２Ａを備える。排気管４１Ａ、４２Ａはそれぞれ、処理筐体２３Ａ１の側方に配置される。排気管４１Ａ、４２Ａはそれぞれ、気体を排出する。基板処理装置１は、切り換え機構５１Ａ１を備える。切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１と同じ高さ位置に配置される。切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１の排気路を排気管４１Ａ、４２Ａのひとつに切り換える。
【選択図】図１
【解決手段】基板処理装置１は、処理筐体２３Ａ１と保持部３１と液供給部３３を備える。保持部３１は、処理筐体２３Ａ１に収容される。保持部３１は、基板Ｗを保持する。液供給部３３は、処理筐体２３Ａ１に収容される。液供給部３３は、保持部３１に保持される基板Ｗに処理液を供給する。基板処理装置１は、排気管４１Ａ、４２Ａを備える。排気管４１Ａ、４２Ａはそれぞれ、処理筐体２３Ａ１の側方に配置される。排気管４１Ａ、４２Ａはそれぞれ、気体を排出する。基板処理装置１は、切り換え機構５１Ａ１を備える。切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１と同じ高さ位置に配置される。切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１の排気路を排気管４１Ａ、４２Ａのひとつに切り換える。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板処理装置であって、
第１処理筐体と、
前記第１処理筐体の内部に設置され、基板を保持する第１保持部と、
前記第１処理筐体の内部に設置され、前記第１保持部に保持される基板に処理液を供給する第１液供給部と、
前記第１処理筐体の下方に配置される第２処理筐体と、
前記第２処理筐体の内部に設置され、基板を保持する第２保持部と、
前記第２処理筐体の内部に設置され、前記第２保持部に保持される基板に処理液を供給する第２液供給部と、
前記第１処理筐体および前記第２処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第１排気管と、
前記第１処理筐体および前記第２処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第２排気管と、
前記第１処理筐体の排気路を前記第１排気管および前記第２排気管のひとつに切り換える第１切り換え機構と、
前記第２処理筐体の排気路を前記第１排気管および前記第２排気管のひとつに切り換える第２切り換え機構と、
前記第１処理筐体および前記第２処理筐体に隣接し、前記第１排気管および前記第２排気管を収容する第１配管スペースと、
を備え、
前記第２処理筐体は、平面視において、前記第１処理筐体と同じ位置に配置され、
前記第２切り換え機構は、平面視において、前記第１切り換え機構と同じ位置に配置される
基板処理装置。
第１処理筐体と、
前記第１処理筐体の内部に設置され、基板を保持する第１保持部と、
前記第１処理筐体の内部に設置され、前記第１保持部に保持される基板に処理液を供給する第１液供給部と、
前記第１処理筐体の下方に配置される第２処理筐体と、
前記第２処理筐体の内部に設置され、基板を保持する第２保持部と、
前記第２処理筐体の内部に設置され、前記第２保持部に保持される基板に処理液を供給する第２液供給部と、
前記第１処理筐体および前記第２処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第１排気管と、
前記第１処理筐体および前記第２処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第２排気管と、
前記第１処理筐体の排気路を前記第１排気管および前記第２排気管のひとつに切り換える第１切り換え機構と、
前記第２処理筐体の排気路を前記第１排気管および前記第２排気管のひとつに切り換える第２切り換え機構と、
前記第１処理筐体および前記第２処理筐体に隣接し、前記第１排気管および前記第２排気管を収容する第１配管スペースと、
を備え、
前記第２処理筐体は、平面視において、前記第１処理筐体と同じ位置に配置され、
前記第２切り換え機構は、平面視において、前記第１切り換え機構と同じ位置に配置される
基板処理装置。
【請求項2】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記第１切り換え機構は、平面視において、前記第１保持部と重ならない位置に配置される
基板処理装置。
前記第１切り換え機構は、平面視において、前記第１保持部と重ならない位置に配置される
基板処理装置。
【請求項3】
請求項１または２に記載の基板処理装置において、
前記第１排気管は、鉛直方向に延び、
前記第２排気管は、鉛直方向に延びる
基板処理装置。
前記第１排気管は、鉛直方向に延び、
前記第２排気管は、鉛直方向に延びる
基板処理装置。
【請求項4】
請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置において、
基板処理装置は、
水平な第１方向に延び、前記第１処理筐体および前記第２処理筐体に隣接する搬送スペースと、
前記搬送スペースに設置され、前記第１保持部および前記第２保持部に基板を搬送する搬送機構と、
を備え、
前記第１処理筐体と前記第１配管スペースは、前記第１方向に並び、
前記第１排気管と前記第２排気管は、前記第１方向と直交し、かつ、水平な第２方向に並ぶ
基板処理装置。
基板処理装置は、
水平な第１方向に延び、前記第１処理筐体および前記第２処理筐体に隣接する搬送スペースと、
前記搬送スペースに設置され、前記第１保持部および前記第２保持部に基板を搬送する搬送機構と、
を備え、
前記第１処理筐体と前記第１配管スペースは、前記第１方向に並び、
前記第１排気管と前記第２排気管は、前記第１方向と直交し、かつ、水平な第２方向に並ぶ
基板処理装置。
【請求項5】
請求項１から４のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第１切り換え機構の少なくとも一部は、前記第１配管スペースに設置され、
前記第２切り換え機構の少なくとも一部は、前記第１配管スペースに設置される
基板処理装置。
前記第１切り換え機構の少なくとも一部は、前記第１配管スペースに設置され、
前記第２切り換え機構の少なくとも一部は、前記第１配管スペースに設置される
基板処理装置。
【請求項6】
請求項１から５のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第１切り換え機構は、
前記第１処理筐体を前記第１排気管に連通させる位置と、前記第１処理筐体を前記第１排気管から遮断する位置に移動可能な第１開閉部と、
前記第１開閉部とは独立に、前記第１処理筐体を前記第２排気管に連通させる位置と、前記第１処理筐体を前記第２排気管から遮断する位置に移動可能な第２開閉部と、
を備える
基板処理装置。
前記第１切り換え機構は、
前記第１処理筐体を前記第１排気管に連通させる位置と、前記第１処理筐体を前記第１排気管から遮断する位置に移動可能な第１開閉部と、
前記第１開閉部とは独立に、前記第１処理筐体を前記第２排気管に連通させる位置と、前記第１処理筐体を前記第２排気管から遮断する位置に移動可能な第２開閉部と、
を備える
基板処理装置。
【請求項7】
請求項６に記載の基板処理装置において、
前記第１切り換え機構は、
前記第１処理筐体に接続され、前記第１開閉部および前記第２開閉部を収容する切り換え筐体と、
を備える
基板処理装置。
前記第１切り換え機構は、
前記第１処理筐体に接続され、前記第１開閉部および前記第２開閉部を収容する切り換え筐体と、
を備える
基板処理装置。
【請求項8】
請求項７に記載の基板処理装置において、
前記切り換え筐体は、
前記第１処理筐体に接続され、水平な第１方向に延びる導入部と、
前記導入部に接続され、前記第１方向と直交する水平な第２方向に延び、前記第１排気管および前記第２排気管の両方に接続され、かつ、前記第１開閉部および前記第２開閉部の両方を収容する分配部と、
を備える
基板処理装置。
前記切り換え筐体は、
前記第１処理筐体に接続され、水平な第１方向に延びる導入部と、
前記導入部に接続され、前記第１方向と直交する水平な第２方向に延び、前記第１排気管および前記第２排気管の両方に接続され、かつ、前記第１開閉部および前記第２開閉部の両方を収容する分配部と、
を備える
基板処理装置。
【請求項9】
請求項８に記載の基板処理装置において、
平面視において、前記導入部と、前記第１処理筐体に隣接する搬送スペースとの離隔距離は、前記第１保持部と前記搬送スペースとの離隔距離よりも小さい
基板処理装置。
平面視において、前記導入部と、前記第１処理筐体に隣接する搬送スペースとの離隔距離は、前記第１保持部と前記搬送スペースとの離隔距離よりも小さい
基板処理装置。
【請求項10】
請求項１から９のいずれかに記載の基板処理装置において、
基板処理装置は、
前記第１処理筐体および前記第２処理筐体に気体を供給する給気管と、
前記第１処理筐体および前記第２処理筐体に隣接し、前記給気管を収容する第２配管スペースと、
を備え、
前記第１配管スペースと前記第１処理筐体と前記第２配管スペースは、水平な第１方向に、この順番で並ぶ
基板処理装置。
基板処理装置は、
前記第１処理筐体および前記第２処理筐体に気体を供給する給気管と、
前記第１処理筐体および前記第２処理筐体に隣接し、前記給気管を収容する第２配管スペースと、
を備え、
前記第１配管スペースと前記第１処理筐体と前記第２配管スペースは、水平な第１方向に、この順番で並ぶ
基板処理装置。
【請求項11】
請求項１から１０のいずれかに記載の基板処理装置において、
基板処理装置は、
前記第１処理筐体と同じ高さ位置に配置される第３処理筐体と、
前記第３処理筐体の内部に設置され、基板を保持する第３保持部と、
前記第３処理筐体の内部に設置され、前記第３保持部に保持される基板に処理液を供給する第３液供給部と、
前記第３処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第３排気管と、
前記第３処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第４排気管と、
前記第３処理筐体と同じ高さ位置に配置され、前記第３処理筐体の排気路を前記第３排気管および前記第４排気管のひとつに切り換える第３切り換え機構と、
を備える
基板処理装置。
基板処理装置は、
前記第１処理筐体と同じ高さ位置に配置される第３処理筐体と、
前記第３処理筐体の内部に設置され、基板を保持する第３保持部と、
前記第３処理筐体の内部に設置され、前記第３保持部に保持される基板に処理液を供給する第３液供給部と、
前記第３処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第３排気管と、
前記第３処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第４排気管と、
前記第３処理筐体と同じ高さ位置に配置され、前記第３処理筐体の排気路を前記第３排気管および前記第４排気管のひとつに切り換える第３切り換え機構と、
を備える
基板処理装置。
【請求項12】
請求項１１に記載の基板処理装置において、
基板処理装置は、
前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力を計測する第１圧力センサと、
前記第１圧力センサの検出結果に基づいて、前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力を調整する第１圧力調整機構と、
前記第３切り換え機構の一次側の気体の圧力を計測する第３圧力センサと、
前記第３圧力センサの検出結果に基づいて、前記第３切り換え機構の一次側の気体の圧力を調整する第３圧力調整機構と、
を備える
基板処理装置。
基板処理装置は、
前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力を計測する第１圧力センサと、
前記第１圧力センサの検出結果に基づいて、前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力を調整する第１圧力調整機構と、
前記第３切り換え機構の一次側の気体の圧力を計測する第３圧力センサと、
前記第３圧力センサの検出結果に基づいて、前記第３切り換え機構の一次側の気体の圧力を調整する第３圧力調整機構と、
を備える
基板処理装置。
【請求項13】
請求項１２に記載の基板処理装置において、
前記第１圧力調整機構および前記第３圧力調整機構は、前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力と前記第３切り換え機構の一次側の気体の圧力を等しくさせる
基板処理装置。
前記第１圧力調整機構および前記第３圧力調整機構は、前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力と前記第３切り換え機構の一次側の気体の圧力を等しくさせる
基板処理装置。
【請求項14】
請求項１１から１３のいずれかに記載の基板処理装置において、
基板処理装置は、
前記第１排気管および前記第３排気管に接続され、前記第１排気管の気体および前記第３排気管の気体を排出する第５排気管と、
前記第２排気管および前記第４排気管に接続され、前記第２排気管の気体および前記第４排気管の気体を排出する第６排気管と、
を備える
基板処理装置。
基板処理装置は、
前記第１排気管および前記第３排気管に接続され、前記第１排気管の気体および前記第３排気管の気体を排出する第５排気管と、
前記第２排気管および前記第４排気管に接続され、前記第２排気管の気体および前記第４排気管の気体を排出する第６排気管と、
を備える
基板処理装置。
【請求項15】
請求項１４に記載の基板処理装置において、
基板処理装置は、
前記第５排気管の内部の気体の圧力を計測する第５圧力センサと、
前記第５圧力センサの検出結果に基づいて、前記第５排気管の内部の気体の圧力を調整する第５圧力調整機構と、
前記第６排気管の内部の気体の圧力を計測する第６圧力センサと、
前記第６圧力センサの検出結果に基づいて、前記第６排気管の内部の気体の圧力を調整する第６圧力調整機構と、
を備える
基板処理装置。
基板処理装置は、
前記第５排気管の内部の気体の圧力を計測する第５圧力センサと、
前記第５圧力センサの検出結果に基づいて、前記第５排気管の内部の気体の圧力を調整する第５圧力調整機構と、
前記第６排気管の内部の気体の圧力を計測する第６圧力センサと、
前記第６圧力センサの検出結果に基づいて、前記第６排気管の内部の気体の圧力を調整する第６圧力調整機構と、
を備える
基板処理装置。
【請求項16】
請求項１５に記載の基板処理装置において、
前記第５圧力センサは、前記第１排気管と前記第５排気管の接続位置、および、前記第３排気管および前記第５排気管の接続位置よりも下流に設置され、
前記第６圧力センサは、前記第２排気管と前記第６排気管の接続位置、および、前記第４排気管および前記第６排気管の接続位置よりも下流に設置される
基板処理装置。
前記第５圧力センサは、前記第１排気管と前記第５排気管の接続位置、および、前記第３排気管および前記第５排気管の接続位置よりも下流に設置され、
前記第６圧力センサは、前記第２排気管と前記第６排気管の接続位置、および、前記第４排気管および前記第６排気管の接続位置よりも下流に設置される
基板処理装置。
【請求項17】
請求項１から１６のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第１液供給部は、第１処理液と第２処理液を供給可能であり、
前記第１液供給部が前記第１処理液を供給するとき、前記第１切り換え機構は、前記第１処理筐体の排出路を前記第１排気管に切り換え、
前記第１液供給部が前記第２処理液を供給するとき、前記第１切り換え機構は、前記第１処理筐体の排出路を前記第２排気管に切り換える
基板処理装置。
前記第１液供給部は、第１処理液と第２処理液を供給可能であり、
前記第１液供給部が前記第１処理液を供給するとき、前記第１切り換え機構は、前記第１処理筐体の排出路を前記第１排気管に切り換え、
前記第１液供給部が前記第２処理液を供給するとき、前記第１切り換え機構は、前記第１処理筐体の排出路を前記第２排気管に切り換える
基板処理装置。
【請求項18】
請求項１から１７のいずれかに記載の基板処理装置において、
基板処理装置は、
前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力を計測する第１圧力センサと、
前記第１圧力センサの検出結果に基づいて、前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力を調整する第１圧力調整機構と、
前記第２切り換え機構の一次側の気体の圧力を計測する第２圧力センサと、
前記第２圧力センサの検出結果に基づいて、前記第２切り換え機構の一次側の気体の圧力を調整する第２圧力調整機構と、
を備える
基板処理装置。
基板処理装置は、
前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力を計測する第１圧力センサと、
前記第１圧力センサの検出結果に基づいて、前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力を調整する第１圧力調整機構と、
前記第２切り換え機構の一次側の気体の圧力を計測する第２圧力センサと、
前記第２圧力センサの検出結果に基づいて、前記第２切り換え機構の一次側の気体の圧力を調整する第２圧力調整機構と、
を備える
基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、基板に処理を行う基板処理装置に関する。基板は、例えば、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、有機ＥＬ(Electroluminescence)用基板、ＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板である。
【背景技術】
【0002】
特許文献１は、基板処理システムを開示する。以下では、特許文献１に記載される符号を、括弧書きで表記する。基板処理システム（１）は、ウエハ（Ｗ）を処理する処理ユニット（１６）を備える。処理ユニット（１６）は、チャンバ（２０）と基板保持機構（３０）と処理流体供給部（４０）を備える。チャンバ（２０）は、処理筐体である。基板保持機構（３０）と処理流体供給部（４０）は、チャンバ（２０）の内部に設置される。基板保持機構（３０）は、ウエハ（Ｗ）を保持する。処理流体供給部（４０）は、基板保持機構（３０）に保持されたウエハ（Ｗ）に処理流体を供給する。処理流体は、例えば、アルカリ性処理液と酸性処理液と有機処理液である。
【0003】
基板処理システム（１）は、第２排気管（２００）と排気切替ユニット（３００）と３本の個別排気管（１０１、１０２、１０３）を備える。第２排気管（２００）は、チャンバ（２０）と排気切替ユニット（３００）を接続する。第２排気管（２００）は、水平部（２０１）と上昇部（２０２）を備える。水平部（２０１）は、チャンバ（２０）に接続される。水平部（２０１）は、チャンバ（２０）から水平に延びる。上昇部（２０２）は、水平部（２０１）から上方に延びる。上昇部（２０２）は、上端を有する。上昇部（２０２）の上端は、排気切替ユニット（３００）に接続される。排気切替ユニット（３００）は、さらに、３本の個別排気管（１０１、１０２、１０３）と接続する。排気切替部（３００）は、第２排気管（２００）を、３本の個別排気管（１０１、１０２、１０３）のひとつに連通させる。チャンバ（２０）の気体は、第２排気管（２００）を介して、３本の個別排気管（１０１、１０２、１０３）のひとつに流入する。
【0004】
例えば、処理流体供給部（４０）がアルカリ性処理液を供給するとき、排気切替ユニット（３００）は、第２排気管（２００）を個別排気管（１０１）に連通させる。処理流体供給部（４０）が酸性処理液を供給するとき、排気切替ユニット（３００）は、第２排気管（２００）を個別排気管（１０２）に連通させる。処理流体供給部（４０）が有機処理液を供給するとき、排気切替ユニット（３００）は、第２排気管（２００）を個別排気管（１０３）に連通させる。これらの結果、アルカリ性処理液がチャンバ（２０）内で使用される時、個別排気管（１０１）がチャンバ（２０）の気体を排出する。酸性処理液がチャンバ（２０）内で使用されるとき、個別排気管（１０２）がチャンバ（２０）の気体を排出する。有機処理液がチャンバ（２０）内で使用される時、個別排気管（１０３）がチャンバ（２０）の気体を排出する。
【0005】
排気切替ユニット（３００）は、処理ユニット（１６）よりも高い位置に配置される。第２排気管（２００）の上昇部（２０２）は処理ユニット（１６）よりも高い位置まで延びる。このため、気体に含まれるミストは、上昇部（２０２）を上昇し難い。ミストは、排気切替ユニット（３００）まで上昇し難い。よって、排気切替ユニット（３００）をミストから保護できる。
【0006】
上述の通り、排気切替ユニット（３００）が処理ユニット（１６）よりも高い位置に配置される。このため、個別排気管（１０１、１０２、１０３）も、処理ユニット（１６）よりも高い位置に配置される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】特開２０１９－１６８１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
しかしながら、特許文献１に示される塗布現像装置（１）は、次のような問題を有する。チャンバ（２０）と排気切替ユニット（３００）は、第２排気管（２００）によって接続される。排気切替ユニット（３００）が処理ユニット（１６）よりも高い位置に配置されるので、第２排気管（２００）は上昇部（２０２）を備える。このため、第２排気管（２００）は、比較的に長い。
【0009】
チャンバ（２０）の気体は、必ず、第２排気管（２００）を流れる。例えば、アルカリ性処理液、酸性処理液および有機処理液のいずれがチャンバ（２０）内で使用されるときであっても、第２排気管（２００）はチャンバ（２０）の気体を排出する。
【0010】
このように、第２排気管（２００）は比較的に長く、かつ、種々の気体を排出するので、第２排気管（２００）は汚損され易い。例えば、結晶（塩）が第２排気管（２００）の内部で発生し易い。例えば、結晶が、第２排気管（２００）の内部に堆積し易い。
【0011】
第２排気管（２００）が汚損されると、気体は第２排気管（２００）を円滑に流れない。すなわち、第２排気管（２００）はチャンバ（２０）の気体を円滑に排出できない。このため、第２排気管（２００）のメンテナンスを定期的に行う必要がある。第２排気管（２００）のメンテナンスは、例えば、第２排気管（２００）を洗浄することや、第２排気管（２００）を交換することである。
【0012】
第２排気管（２００）のメンテナンスを行うとき、処理ユニット（１６）はウエハ（Ｗ）を処理できない。第２排気管（２００）のメンテナンスを行うとき、基板処理システム（１）はウエハ（Ｗ）の処理を停止する。このため、基板処理システム（１）のスループットが低下する。
【0013】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、処理筐体の気体を適切に排気できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0014】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明は、基板処理装置であって、第１処理筐体と、前記第１処理筐体の内部に設置され、基板を保持する第１保持部と、前記第１処理筐体の内部に設置され、前記第１保持部に保持される基板に処理液を供給する第１液供給部と、前記第１処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第１排気管と、前記第１処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第２排気管と、前記第１処理筐体と同じ高さ位置に配置され、前記第１処理筐体の排気路を前記第１排気管および前記第２排気管のひとつに切り換える第１切り換え機構と、を備える基板処理装置である。
【0015】
基板処理装置は、第１処理筐体と第１保持部と第１液供給部を備える。基板処理装置は、第１処理筐体の内部において、基板に処理液を供給する。すなわち、基板処理装置は、第１処理筐体の内部において、基板に液処理を行う。
【0016】
基板処理装置は、第１排気管と第２排気管と第１切り換え機構を備える。第１切り換え機構は、第１処理筐体の排気路を第１排気管および第２排気管のひとつに切り換える。
具体的には、第１切り換え機構は、第１処理筐体を第１排気管に連通させ、かつ、第１処理筐体を第２排気管から遮断した状態と、第１処理筐体を第２排気管に連通させ、かつ、第１処理筐体を第１排気管から遮断した状態に切り換える。第１処理筐体の排気路が第１排気管であるとき、第１排気管が第１処理筐体から気体を排出し、第２排気管は第１処理筐体から気体を排出しない。第１処理筐体の排気路が第２排気管であるとき、第２排気管が第１処理筐体から気体を排出し、第２排気管は第１処理筐体から気体を排出しない。
具体的には、第１切り換え機構は、第１処理筐体を第１排気管に連通させ、かつ、第１処理筐体を第２排気管から遮断した状態と、第１処理筐体を第２排気管に連通させ、かつ、第１処理筐体を第１排気管から遮断した状態に切り換える。第１処理筐体の排気路が第１排気管であるとき、第１排気管が第１処理筐体から気体を排出し、第２排気管は第１処理筐体から気体を排出しない。第１処理筐体の排気路が第２排気管であるとき、第２排気管が第１処理筐体から気体を排出し、第２排気管は第１処理筐体から気体を排出しない。
【0017】
第１切り換え機構は、第１処理筐体と同じ高さ位置に配置される。このため、第１処理筐体と第１切り換え機構の間の流路を好適に短くできる。よって、第１処理筐体と第１切り換え機構の間の流路が汚損されることを好適に抑制できる。したがって、気体は、第１処理筐体から第１切り換え機構に円滑に流れる。その結果、第１処理筐体の気体を適切に排気できる。
【0018】
第１排気管は、第１処理筐体の側方に配置される。このため、第１切り換え機構は、第１排気管と容易に接続できる。第２排気管は、第１処理筐体の側方に配置される。このため、第１切り換え機構は、第２排気管に容易に接続できる。
【0019】
以上のとおり、本基板処理装置は、第１処理筐体の気体を適切に排気できる。
【0020】
上述した基板処理装置において、前記第１切り換え機構は、前記第１保持部の上端と同等またはそれよりも低い位置に配置されることが好ましい。第１切り換え機構のサイズは比較的に小さい。よって、基板処理装置の大型化を好適に抑制できる。
【0021】
上述した基板処理装置において、前記第１切り換え機構は、平面視において、前記第１保持部と重ならない位置に配置されることが好ましい。第１切り換え機構と第１保持部の干渉を容易に回避できる。
【0022】
上述した基板処理装置において、前記第１排気管は、鉛直方向に延び、前記第２排気管は、鉛直方向に延びることが好ましい。平面視における第１排気管および第２排気管の設置スペースを好適に小さくできる。
【0023】
上述した基板処理装置において、基板処理装置は、水平な第１方向に延び、前記第１処理筐体に隣接する搬送スペースと、前記搬送スペースに設置され、前記第１保持部に基板を搬送する搬送機構と、前記第１処理筐体に隣接し、前記第１排気管および前記第２排気管を収容する第１配管スペースと、を備え、前記第１処理筐体と前記第１配管スペースは、前記第１方向に並び、前記第１排気管と前記第２排気管は、前記第１方向と直交し、かつ、水平な第２方向に並ぶことが好ましい。基板処理装置は、搬送スペースと搬送機構を備える。搬送スペースは第１処理筐体に隣接する。このため、搬送機構は第１保持部に基板を容易に搬送できる。基板処理装置は、第１配管スペースを備える。よって、第１排気管および第２排気管を好適に設置できる。第１配管スペースは、第１処理筐体に隣接する。このため、第１排気管および第２排気管を第１処理筐体の近傍に設置できる。搬送スペースは、第１方向に延びる。第１処理筐体と第１配管スペースは、第１方向に並ぶ。このため、第１処理筐体に隣接する搬送スペースおよび第１処理筐体に隣接する第１配管スペースをそれぞれ、好適に配置できる。よって、搬送機構が第１排気管および第２排気管と干渉することを好適に防止できる。第１配管スペースと第１処理筐体は、第１方向に並ぶ。第１排気管と第２排気管は、第２方向に並ぶ。このため、第１排気管および第２排気管をそれぞれ、第１処理筐体の近傍に設置できる。
【0024】
上述した基板処理装置において、前記第１切り換え機構の少なくとも一部は、前記第１配管スペースに設置されることが好ましい。第１切り換え機構を第１処理筐体の近傍に設置できる。
【0025】
上述した基板処理装置において、前記第１切り換え機構は、前記第１処理筐体を前記第１排気管に連通させる位置と、前記第１処理筐体を前記第１排気管から遮断する位置に移動可能な第１開閉部と、前記第１開閉部とは独立に、前記第１処理筐体を前記第２排気管に連通させる位置と、前記第１処理筐体を前記第２排気管から遮断する位置に移動可能な第２開閉部と、を備えることが好ましい。第１開閉部と第２開閉部は、互いに独立して移動可能である。このため、第１切り換え機構は、第１排気管と第２排気管を個別に、第１処理筐体に連通させることができる。切り換え機構は、第１排気管と第２排気管を個別に、第１処理筐体から遮断できる。
【0026】
上述した基板処理装置において、前記第１切り換え機構は、前記第１処理筐体に接続され、前記第１開閉部および前記第２開閉部を収容する切り換え筐体と、を備えることが好ましい。切り換え筐体は、第１処理筐体から第１開閉部および第２開閉部までの流路を好適に形成できる。
【0027】
上述した基板処理装置において、前記切り換え筐体は、前記第１処理筐体に接続され、前記第１方向に延びる導入部と、前記導入部に接続され、前記第２方向に延び、前記第１排気管および前記第２排気管の両方に接続され、かつ、前記第１開閉部および前記第２開閉部の両方を収容する分配部と、を備えることが好ましい。導入部は第１処理筐体に接続される。このため、第１処理筐体から切り換え筐体に気体を容易に導入できる。導入部は第１方向に延びる。上述の通り、搬送スペースは第１方向に延びる。このため、第１処理筐体に隣接する搬送スペースおよび第１処理筐体に接続される導入部をそれぞれ、好適に配置できる。よって、搬送機構が導入部と干渉することを好適に防止できる。分配部は、導入部に接続される。分配部は、第１排気管および第２排気管に接続される。このため、切り換え筐体から第１排気管および第２排気管に気体を容易に出すことができる。分配部は、第１開閉部および第２開閉部の両方を収容する。よって、第１切り換え機構は、第１処理筐体の排気路を、第１排気管と第２排気管の間で、容易に切り換えることができる。分配部は第２方向に延びる。上述の通り、第１排気管と第２排気管は、第２方向に並ぶ。よって、分配部は第１排気管および第２排気管と容易に接続できる。
【0028】
上述した基板処理装置において、平面視において、前記導入部と前記搬送スペースとの離隔距離は、前記第１保持部と前記搬送スペースとの離隔距離よりも小さいことが好ましい。導入部は、比較的に搬送スペースに近い位置に配置される。したがって、第１処理筐体から切り換え筐体に気体を円滑に導入できる。
【0029】
上述した基板処理装置において、基板処理装置は、前記第１処理筐体に気体を供給する給気管と、前記第１処理筐体に隣接し、前記給気管を収容する第２配管スペースと、を備え、前記第１配管スペースと前記第１処理筐体と前記第２配管スペースは、前記第１方向に、この順番で並ぶことが好ましい。基板処理装置は、給気管と第２配管スペースを備える。第２配管スペースは、第１処理筐体に隣接する。よって、給気管は、第１処理筐体に気体を容易に供給できる。第１配管スペースと第１処理筐体と第２配管スペースは、この順で、第１方向に並ぶ。このため、第１配管スペースと第２配管スペースは、第１処理筐体によって、隔てられている。よって、第１排気管および第２排気管の配置は、給気管によって、制限されない。すなわち、第１排気管および第２排気管の配置の自由度を好適に高められる。
【0030】
上述した基板処理装置において、基板処理装置は、前記第１処理筐体の下方に配置される前記第２処理筐体と、前記第２処理筐体の内部に設置され、基板を保持する第２保持部と、前記第２処理筐体の内部に設置され、前記第２保持部に保持される基板に処理液を供給する第２液供給部と、前記第２処理筐体と同じ高さ位置に配置され、前記第２処理筐体の排気路を前記第１排気管および前記第２排気管のひとつに切り換える第２切り換え機構と、を備えることが好ましい。
【0031】
基板処理装置は、第２処理筐体と第２保持部と第２液供給部を備える。このため、第２処理筐体の内部において液処理を基板に行うことができる。よって、基板処理装置のスループットを好適に向上できる。
【0032】
第２処理筐体は、第１処理筐体の下方に配置される。よって、基板処理装置のフットプリントの増大を好適に抑制できる。
【0033】
基板処理装置は、第２切り換え機構を備える。第２切り換え機構は、第２処理筐体の排気路を第１排気管および第２排気管のひとつに切り換える。具体的には、第２切り換え機構は、第２処理筐体を第１排気管に連通させ、かつ、第２処理筐体を第２排気管から遮断した状態と、第２処理筐体を第２排気管に連通させ、かつ、第２処理筐体を第１排気管から遮断した状態に切り換える。第２処理筐体の排気路が第１排気管であるとき、第１排気管が第２処理筐体から気体を排出し、第２排気管は第２処理筐体から気体を排出しない。第２処理筐体の排気路が第２排気管であるとき、第２排気管が第２処理筐体から気体を排出し、第１排気管は第２処理筐体から気体を排出しない。したがって、第１排気管は、第１処理筐体の気体に加えて、第２処理筐体の気体を排出する。第２排気管も、第１処理筐体の気体に加えて、第２処理筐体の気体を排出する。よって、基板処理装置の構造を簡素化できる。
【0034】
第２切り換え機構は、第２処理筐体と同じ高さ位置に配置される。このため、第２処理筐体と第２切り換え機構の間の流路を好適に短くできる。よって、第２処理筐体と第２切り換え機構の間の流路が汚損されることを好適に抑制できる。したがって、気体は、第２処理筐体から第２切り換え機構に円滑に流れる。その結果、第２処理筐体の気体を適切に排気できる。
【0035】
以上のとおり、本基板処理装置は、第１処理筐体の気体に加えて、第２処理筐体の気体を適切に排気できる。
【0036】
上述した基板処理装置において、前記第２処理筐体は、平面視において、前記第１処理筐体と同じ位置に配置され、前記第２切り換え機構は、平面視において、前記第１切り換え機構と同じ位置に配置され、前記第１排気管は、鉛直方向に延び、前記第２排気管は、鉛直方向に延びることが好ましい。第２処理筐体は、平面視において、第１処理筐体と同じ位置に配置される。第２切り換え機構は、平面視において、第１切り換え機構と同じ位置に配置される。このため、第２処理筐体と第２切り換え機構の相対的な位置は、第１処理筐体と第１切り換え機構の相対的な位置と略同じである。したがって、第１処理筐体と第２処理筐体の間で、気体を排出する条件を、容易に等しくできる。その結果、第１処理筐体と第２処理筐体の間で、基板に行う処理の品質を好適に等しくできる。第１排気管は、鉛直方向に延びる。よって、第１切り換え機構および第２切り換え機構はそれぞれ、第１排気管と容易に接続できる。第２排気管は、鉛直方向に延びる。よって、第１切り換え機構および第２切り換え機構はそれぞれ、第２排気管と容易に接続できる。
【0037】
上述した基板処理装置において、基板処理装置は、前記第１処理筐体と同じ高さ位置に配置される第３処理筐体と、前記第３処理筐体の内部に設置され、基板を保持する第３保持部と、前記第３処理筐体の内部に設置され、前記第３保持部に保持される基板に処理液を供給する第３液供給部と、前記第３処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第３排気管と、前記第３処理筐体の側方に設置され、気体を排出する第４排気管と、前記第３処理筐体と同じ高さ位置に配置され、前記第３処理筐体の排気路を前記第３排気管および前記第４排気管のひとつに切り換える第３切り換え機構と、を備えることが好ましい。
【0038】
基板処理装置は、第３処理筐体と第３保持部と第３液供給部を備える。このため、第３処理筐体の内部において液処理を基板に行うことができる。よって、基板処理装置のスループットを好適に向上できる。
【0039】
第３処理筐体は、第１処理筐体と同じ高さ位置に配置される。基板処理装置は、第３切り換え機構と第３排気管と第４排気管を備える。第３切り換え機構は、第３処理筐体の排気路を第３排気管および第４排気管のひとつに切り換える。具体的には、第３切り換え機構は、第３処理筐体を第３排気管に連通させ、かつ、第３処理筐体を第４排気管から遮断した状態と、第３処理筐体を第４排気管に連通させ、かつ、第３処理筐体を第３排気管から遮断した状態に切り換える。第３処理筐体の排気路が第３排気管であるとき、第３排気管が第３処理筐体から気体を排出し、第４排気管は第３処理筐体から気体を排出しない。第３処理筐体の排気路が第４排気管であるとき、第４排気管が第３処理筐体から気体を排出し、第３排気管は第３処理筐体から気体を排出しない。
【0040】
第３切り換え機構は、第３処理筐体と同じ高さ位置に配置される。このため、第３処理筐体と第３切り換え機構の間の流路を好適に短くできる。よって、第３処理筐体と第３切り換え機構の間の流路が汚損されることを好適に抑制できる。したがって、気体は、第３処理筐体から第３切り換え機構に円滑に流れる。その結果、第３処理筐体の気体を適切に排気できる。
【0041】
第３排気管は、第３処理筐体の側方に配置される。このため、第３切り換え機構は、第３排気管と容易に接続できる。第４排気管は、第３処理筐体の側方に配置される。このため、第３切り換え機構は第４排気管に容易に接続できる。
【0042】
以上のとおり、本基板処理装置は、第３処理筐体の気体を適切に排気できる。
【0043】
上述した基板処理装置において、基板処理装置は、前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力を計測する第１圧力センサと、前記第１圧力センサの検出結果に基づいて、前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力を調整する第１圧力調整機構と、前記第３切り換え機構の一次側の気体の圧力を計測する第３圧力センサと、前記第３圧力センサの検出結果に基づいて、前記第３切り換え機構の一次側の気体の圧力を調整する第３圧力調整機構と、を備えることが好ましい。基板処理装置は、第１圧力センサと第１圧力調整機構を備える。このため、第１切り換え機構の一次側の圧力を好適に調整できる。同様に、基板処理装置は、第３圧力センサと第３圧力調整機構を備える。このため、第３切り換え機構の一次側の圧力を好適に調整できる。
【0044】
上述した基板処理装置において、前記第１圧力調整機構および前記第３圧力調整機構は、前記第１切り換え機構の一次側の気体の圧力と前記第３切り換え機構の一次側の気体の圧力を等しくさせることが好ましい。第１処理筐体と第３処理筐体の間において、基板に行う処理の品質を好適に等しくできる。
【0045】
上述した基板処理装置において、基板処理装置は、前記第１排気管および前記第３排気管に接続され、前記第１排気管の気体および前記第３排気管の気体を排出する第５排気管と、前記第２排気管および前記第４排気管に接続され、前記第２排気管の気体および前記第４排気管の気体を排出する第６排気管と、を備えることが好ましい。基板処理装置の構造を簡素化できる。
【0046】
上述した基板処理装置において、基板処理装置は、前記第５排気管の内部の気体の圧力を計測する第５圧力センサと、前記第５圧力センサの検出結果に基づいて、前記第５排気管の内部の気体の圧力を調整する第５圧力調整機構と、前記第６排気管の内部の気体の圧力を計測する第６圧力センサと、前記第６圧力センサの検出結果に基づいて、前記第６排気管の内部の気体の圧力を調整する第６圧力調整機構と、を備えることが好ましい。基板処理装置は、第５圧力センサと第５切り換え機構を備える。このため、第５排気管の内部の圧力を好適に調整できる。同様に、基板処理装置は、第６圧力センサと第６切り換え機構を備える。このため、第６排気管の内部の圧力を好適に調整できる。
【0047】
上述した基板処理装置において、前記第５圧力センサは、前記第１排気管と前記第５排気管の接続位置、および、前記第３排気管および前記第５排気管の接続位置よりも下流に設置され、前記第６圧力センサは、前記第２排気管と前記第６排気管の接続位置、および、前記第４排気管および前記第６排気管の接続位置よりも下流に設置されることが好ましい。第５圧力センサは、第１排気管および第３排気管の全体の排気圧を好適に検出できる。第６圧力センサは、第２排気管および第４排気管の全体の排気圧を適切に検出できる。
【0048】
上述した基板処理装置において、前記第１液供給部は、第１処理液と第２処理液を供給可能であり、前記第１液供給部が前記第１処理液を供給するとき、前記第１切り換え機構は、前記第１処理筐体の排出路を前記第１排気管に切り換え、前記第１液供給部が前記第２処理液を供給するとき、前記第１切り換え機構は、前記第１処理筐体の排出路を前記第２排気管に切り換えることが好ましい。第１液供給部が第１処理液を供給するとき、第１排気管は第１処理筐体の気体を排出する。第１液供給部が第２処理液を供給するとき、第１排気管は第１処理筐体の気体を排出しない。よって、第１排気管の内部が汚損されることを好適に抑制できる。同様に、第１液供給部が第２処理液を供給するとき、第２排気管は第１処理筐体の気体を排出する。第１液供給部が第１処理液を供給するとき、第２排気管は第１処理筐体の気体を排出しない。よって、第２排気管の内部が汚損されることを好適に抑制できる。その結果、第１処理筐体の気体を一層、適切に排気できる。
【発明の効果】
【0049】
本発明の基板処理装置によれば、処理筐体の気体を適切に排気できる。
【図面の簡単な説明】
【0050】
【図1】実施形態の基板処理装置の内部を示す平面図である。
【図2】幅方向における基板処理装置の中央部の構成を示す右側面図である。
【図3】処理ブロックの正面図である。
【図4】基板処理装置の右部の構成を示す右側面図である。
【図5】基板処理装置の左部の構成を示す左側面図である。
【図6】処理ユニットの平面図である。
【図7】処理ユニットの側面図である。
【図8】切り換え機構の正面図である。
【図9】処理筐体からの排気路の系統図である。
【図10】処理ブロックの上部を示す平面図である。
【図11】基板処理装置の制御ブロック図である。
【図12】基板に処理を行う動作の手順を示すフローチャートである。
【図13】変形実施形態における処理ユニットの平面図である。
【図14】変形実施形態における処理ユニットの平面図である。
【図15】変形実施形態における処理ユニットの平面図である。
【図16】変形実施形態における処理ユニットの平面図である。
【図17】変形実施形態における基板処理装置の内部を示す平面図である。
【図18】変形実施形態の切り換え機構の正面図である。
【発明を実施するための形態】
【0051】
以下、図面を参照して本発明の基板処理装置を説明する。
【0052】
＜基板処理装置の概要＞
図１は、実施形態の基板処理装置の内部を示す平面図である。基板処理装置１は、基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗに処理を行う。
図１は、実施形態の基板処理装置の内部を示す平面図である。基板処理装置１は、基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗに処理を行う。
【0053】
基板Ｗは、例えば、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、有機ＥＬ(Electroluminescence)用基板、ＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板である。基板Ｗは、薄い平板形状を有する。基板Ｗは、平面視で略円形状を有する。
【0054】
基板処理装置１は、インデクサ部３と処理ブロック１１を備える。処理ブロック１１はインデクサ部３に接続される。インデクサ部３と処理ブロック１１は水平方向に並ぶ。インデクサ部３は、処理ブロック１１に基板Ｗを供給する。処理ブロック１１は、基板Ｗに処理を行う。インデクサ部３は、処理ブロック１１から基板Ｗを回収する。
【0055】
本明細書では、便宜上、インデクサ部３と処理ブロック１１が並ぶ水平方向を、「前後方向Ｘ」と呼ぶ。前後方向Ｘのうち、処理ブロック１１からインデクサ部３に向かう方向を「前方」と呼ぶ。前方と反対の方向を「後方」と呼ぶ。前後方向Ｘと直交する水平方向を、「幅方向Ｙ」と呼ぶ。「幅方向Ｙ」の一方向を適宜に「右方」と呼ぶ。右方とは反対の方向を「左方」と呼ぶ。水平方向に対して垂直な方向を「鉛直方向Ｚ」と呼ぶ。各図では、参考として、前、後、右、左、上、下を適宜に示す。
【0056】
「前方」、「後方」、「右方」および「左方」を特に区別しない場合には、「側方」と呼ぶ。
【0057】
インデクサ部３は、複数（例えば、４つ）のキャリア載置部４を備える。キャリア載置部４は幅方向Ｙに並ぶ。各キャリア載置部４はそれぞれ、１つのキャリアＣを載置する。キャリアＣは、複数枚の基板Ｗを収容する。キャリアＣは、例えば、ＦＯＵＰ（front opening unified pod）である。
【0058】
インデクサ部３は、搬送スペース５を備える。搬送スペース５は、キャリア載置部４の後方に配置される。搬送スペース５は、幅方向Ｙに延びる。
【0059】
インデクサ部３は、搬送機構６を備える。搬送機構６は、搬送スペース５に設置される。搬送機構６は、キャリア載置部４の後方に配置される。搬送機構６は、基板Ｗを搬送する。搬送機構６は、キャリア載置部４に載置されるキャリアＣにアクセス可能である。
【0060】
処理ブロック１１は、搬送スペース１２Ａを備える。搬送スペース１２Ａは、幅方向Ｙにおける処理ブロック１１の中央部に配置される。搬送スペース１２Ａは、前後方向Ｘに延びる。搬送スペース１２Ａの前部は、インデクサ部３の搬送スペース５とつながっている。
【0061】
処理ブロック１１は、基板載置部１４Ａを備える。基板載置部１４Ａは、搬送スペース１２Ａに設置される。基板載置部１４Ａは、搬送スペース１２Ａの前部に配置される。インデクサ部３の搬送機構６は、基板載置部１４Ａにもアクセス可能である。基板載置部１４Ａは、基板Ｗを載置する。
【0062】
処理ブロック１１は、搬送機構１６Ａを備える。搬送機構１６Ａは、搬送スペース１２Ａに設置される。搬送機構１６Ａは、基板Ｗを搬送する。搬送機構１６Ａは、基板載置部１４Ａにアクセス可能である。
【0063】
処理ブロック１１は、処理ユニット２１Ａ１、２１Ｂ１、２１Ｃ１、２１Ｄ１を備える。処理ユニット２１Ａ１、２１Ｂ１は、搬送スペース１２Ａの右方に配置される。処理ユニット２１Ａ１、２１Ｂ１は、前後方向Ｘに並ぶ。処理ユニット２１Ｂ１は、処理ユニット２１Ａ１の後方に配置される。処理ユニット２１Ｃ１、２１Ｄ１は、搬送スペース１２Ａの左方に配置される。処理ユニット２１Ｃ１、２１Ｄ１は、前後方向Ｘに並ぶ。処理ユニット２１Ｄ１は、処理ユニット２１Ｃ１の後方に配置される。
【0064】
処理ユニット２１Ａ１、２１Ｂ１、２１Ｃ１、２１Ｄ１を区別しない場合には、処理ユニット２１と呼ぶ。各処理ユニット２１は、基板Ｗに処理を行う。各処理ユニット２１が行う処理は、同じである。
【0065】
処理ユニット２１の構造を簡単に説明する。各処理ユニット２１は、処理筐体２３を備える。
【0066】
各処理ユニット２１は、保持部３１を備える。保持部３１は、処理筐体２３の内部に設置される。保持部３１は、基板Ｗを保持する。図１は、保持部３１に保持される基板Ｗを破線で示す。
【0067】
処理ユニット２１は、液供給部３３を備える。液供給部３３は、処理筐体２３の内部に設置される。液供給部３３は、保持部３１に保持される基板Ｗに処理液を供給する。
【0068】
搬送機構１６Ａは、各処理ユニット２１にアクセス可能である。具体的には、搬送機構１６Ａは、各処理ユニット２１の保持部３１にアクセス可能である。
【0069】
以下では、処理ユニット２１Ａ１の処理筐体２３を、適宜に処理筐体２３Ａ１と呼ぶ。同様に、処理ユニット２１Ｂ１、２１Ｃ１、２１Ｄ１の処理筐体２３を、適宜に処理筐体２３Ｂ１、２３Ｃ１、２３Ｄ１と呼ぶ。処理筐体２３Ａ１、２３Ｂ１、２３Ｃ１、２３Ｄ１は、同じ高さ位置に配置される。
【0070】
処理ブロック１１は、排気管４１Ａ、４２Ａ、４３Ａを備える。排気管４１Ａ、４２Ａ、４３Ａはいずれも、処理筐体２３の外部に設置される。排気管４１Ａ－４３Ａはそれぞれ、処理筐体２３Ａ１の側方に設置される。排気管４１Ａ－４３Ａはそれぞれ、処理筐体２３Ａ１の側方の位置を通過する。排気管４１Ａ－４３Ａはそれぞれ、気体を排出する。排気管４１Ａ－４３Ａは互いに連通されていない。排気管４１Ａ－４３Ａはそれぞれ、互いに分離された排気路を有する。
【0071】
同様に、処理ブロック１１は、排気管４１Ｂ－４３Ｂ、４１Ｃ－４３Ｃ、４１Ｄ－４３Ｄを備える。排気管４１Ｂ－４３Ｂ、４１Ｃ－４３Ｃ、４１Ｄ－４３Ｄはそれぞれ、処理筐体２３Ｂ１、２３Ｃ１、２３Ｄ１の側方に設置される。排気管４１Ｂ－４３Ｂ、４１Ｃ－４３Ｃ、４１Ｄ－４３Ｄはそれぞれ、気体を排出する。
【0072】
処理ブロック１１は、切り換え機構５１Ａ１、５１Ｂ１、５１Ｃ１、５１Ｄ１を備える。切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１と略同じ高さ位置に配置される。同様に、切り換え機構５１Ｂ１、５１Ｃ１、５１Ｄ１はそれぞれ、処理筐体２３Ｂ１、２３Ｃ１、２３Ｄ１と略同じ高さ位置に配置される。
【0073】
切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１の排気路を、排気管４１Ａ－４３Ａのひとつに切り換える。切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１からの気体の排気路を、排気管４１Ａ－４３Ａの間で、切り換える。
【0074】
具体的には、切り換え機構５１Ａ１は、第１状態と第２状態と第３状態に切り換える。第１状態では、切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１を排気管４１Ａに連通させ、かつ、処理筐体２３Ａ１を排気管４２Ａ、４３Ａから遮断する。第２状態では、切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１を排気管４２Ａに連通させ、かつ、処理筐体２３Ａ１を排気管４１Ａ、４３Ａから遮断する。第３状態では、切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１を排気管４３Ａに連通させ、かつ、処理筐体２３Ａ１を排気管４１Ａ、４２Ａから遮断する。このように、切り換え機構５１Ａ１は、排気管４１Ａ－４３Ａを個別に処理筐体２３Ａ１に連通させ、かつ、排気管４１Ａ－４３Ａを個別に処理筐体２３Ａ１から遮断するように構成される。
【0075】
同様に、切り換え機構５１Ｂ１は、処理筐体２３Ｂ１の排出路を、排気管４１Ｂ－４３Ｂのひとつに切り換える。切り換え機構５１Ｃ１は、処理筐体２３Ｃ１の排出路を、排気管４１Ｃ－４３Ｃのひとつに切り換える。切り換え機構５１Ｄ１は、処理筐体２３Ｄ１の排出路を、排気管４１Ｄ－４３Ｄのひとつに切り換える。
【0076】
図１では、切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１の排気路を排気管４１Ａに切り換える。切り換え機構５１Ｂ１は、処理筐体２３Ｂ１の排気路を排気管４１Ｂに切り換える。切り換え機構５１Ｃ１は、処理筐体２３Ｃ１の排気路を排気管４２Ｃに切り換える。切り換え機構５１Ｄ１は、処理筐体２３Ｄ１の排気路を排気管４３Ｄに切り換える。
【0077】
具体的には、切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１を排気管４１Ａに連通させ、かつ、処理筐体２３Ａ１を排気管４２Ａ、４３Ａから遮断する。排気管４１Ａは、処理筐体２３Ａ１から気体を排出する。排気管４２Ａ、４３Ａは処理筐体２３Ａ１から気体を排出しない。
【0078】
切り換え機構５１Ｂ１は、処理筐体２３Ｂ１を排気管４１Ｂに連通させ、かつ、処理筐体２３Ｂ１を排気管４２Ｂ、４３Ｂから遮断する。排気管４１Ｂは処理筐体２３Ｂ１から気体を排出する。排気管４２Ｂ、４３Ｂは処理筐体２３Ｂ１から気体を排出しない。
【0079】
切り換え機構５１Ｃ１は、処理筐体２３Ｃ１を排気管４２Ｃに連通させ、かつ、処理筐体２３Ｃ１を排気管４１Ｃ、４３Ｃから遮断する。排気管４２Ｃは処理筐体２３Ｃ１から気体を排出する。排気管４１Ｃ、４３Ｃは処理筐体２３Ｃ１から気体を排出しない。
【0080】
切り換え機構５１Ｄ１は、処理筐体２３Ｄ１を排気管４３Ｄに連通させ、かつ、処理筐体２３Ｄ１を排気管４１Ｄ、４２Ｄから遮断する。排気管４３Ｄは処理筐体２３Ｄ１から気体を排出する。排気管４１Ｄ、４２Ｄは処理筐体２３Ｄ１から気体を排出しない。
【0081】
ここで、処理筐体２３Ａ１は、本発明における第１処理筐体の例である。処理ユニット２１Ａ１の保持部３１は、本発明における第１保持部の例である。処理ユニット２１Ａ１の液供給部３３は、本発明における第１液供給部の例である。排気管４１Ａは、本発明における第１排気管の例である。排気管４２Ａは、本発明における第２排気管の例である。切り換え機構５１Ａ１は、本発明における第１切り換え機構の例である。
【0082】
処理筐体２３Ｂ１は、本発明における第３処理筐体の例である。処理ユニット２１Ｂ１の保持部３１は、本発明における第３保持部の例である。処理ユニット２１Ｂ１の液供給部３３は、本発明における第３液供給部の例である。排気管４１Ｂは、本発明における第３排気管の例である。排気管４２Ｂは、本発明における第４排気管の例である。切り換え機構５１Ｂ１は、本発明における第３切り換え機構の例である。
【0083】
基板処理装置１は、例えば、次のように動作する。搬送機構６は、キャリア載置部４上のキャリアＣから基板載置部１４Ａに基板Ｗを搬送する。搬送機構１６Ａは基板載置部１４Ａから処理ユニット２１に基板Ｗを搬送する。具体的には、搬送機構１６Ａは、保持部３１に基板Ｗを置く。処理ユニット２１は、処理筐体２３の内部において基板Ｗに液処理を行う。各処理ユニット２１は、一度に１枚の基板Ｗを処理する。具体的には、液供給部３３は、保持部３１に保持された基板Ｗに処理液を供給する。基板Ｗが処理された後、搬送機構１６Ａは、処理ユニット２１から基板載置部１４Ａに基板Ｗを搬送する。搬送機構６は基板載置部１４Ａからキャリア載置部４上のキャリアＣに基板Ｗを搬送する。
【0084】
１つの処理ユニット２１が基板Ｗに処理を行う時、他の処理ユニット２１が他の基板Ｗを処理してもよい。各基板Ｗが搬送される処理ユニット２１の数は、例えば、１つである。
【0085】
処理筐体２３の内部で基板Ｗに処理を行っているとき、切り換え機構５１は、処理筐体２３の排気路を切り換える。例えば、基板Ｗに処理を行っているとき、切り換え機構５１Ａ１は、１回以上、排気路を切り換える。例えば、１つの処理筐体２３内において１枚の基板Ｗに処理を行う期間は、第１期間、第２期間および第３期間の２つ以上を含んでもよい。ここで、第１期間は、第１排気管が処理筐体２３の気体を排気する期間である。第２期間は、第２排気管が処理筐体２３の気体を排気する期間である。第３期間は、第３排気管が処理筐体２３の気体を排気する期間である。
【0086】
上述の基板処理装置１によれば、次のような効果を得ることができる。すなわち、切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１と略同じ高さ位置に配置される。このため、処理筐体２３Ａ１と切り換え機構５１Ａ１の間の流路を好適に短くできる。
【0087】
さらに言うと、処理筐体２３Ａ１と切り換え機構５１Ａ１は、配管を介さずに、接続される。このため、処理筐体２３Ａ１と切り換え機構５１Ａ１の間の流路を好適に短くできる。
【0088】
処理筐体２３Ａ１と切り換え機構５１Ａ１の間の流路を好適に短くできるので、処理筐体２３Ａ１と切り換え機構５１Ａ１の間の流路が汚損されることを好適に抑制できる。したがって、気体は、処理筐体２３Ａ１から切り換え機構５１Ａ１に円滑に流れる。その結果、処理筐体２３Ａ１の気体を適切に排気できる。
【0089】
ところで、切り換えタイミングは、例えば、気体変化タイミングと遅延時間によって、決定される。ここで、切り換えタイミングは、切り換え機構５１が排出路を切り換えるタイミングである。気体変化タイミングは、処理筐体２３の気体の成分が変化するタイミングである。遅延時間は、気体が処理筐体２３から切り換え機構５１に到達するのに要する時間である。処理筐体２３と切り換え機構５１の間の流路が短いほど、遅延時間は短縮される。処理筐体２３と切り換え機構５１の間の流路が短いほど、遅延時間のばらつきは小さい。上述の通り、基板処理装置１によれば、処理筐体２３Ａ１と切り換え機構５１Ａ１の間の流路を好適に短くできる。このため、遅延時間を好適に短縮できる。さらに、遅延時間のばらつきを好適に抑制できる。よって、切り換えタイミングを的確に決定できる。したがって、切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１の排出路を的確なタイミングで切り換えることができる。
【0090】
切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１と略同じ高さ位置に配置されるので、処理筐体２３Ａ１と切り換え機構５１Ａ１の間の流路は、略水平方向に延びる。よって、気体は、処理筐体２３Ａ１から切り換え機構５１Ａ１に一層円滑に流れる。その結果、処理筐体２３Ａ１の気体を一層適切に排気できる。
【0091】
同様に、切り換え機構５１Ｂ１、５１Ｃ１、５１Ｄ１はそれぞれ、処理筐体２３Ｂ１、２３Ｃ１、２３Ｄ１と略同じ高さ位置に配置される。このため、処理筐体２３Ａ１、２３Ｃ１、２３Ｄ１の気体を適切に排気できる。
【0092】
排気管４１Ａは、処理筐体２３Ａ１の側方に配置される。このため、切り換え機構５１Ａ１は、排気管４１Ａと容易に接続できる。排気管４２Ａ、４３Ａも、処理筐体２３Ａ１の側方に配置される。このため、切り換え機構５１Ａ１は、排気管４２Ａ、４３Ａと容易に接続できる。
【0093】
同様に、排気管４１Ｂ－４３Ｂは、処理筐体２３Ｂ１の側方に配置される。このため、切り換え機構５１Ｂ１は、排気管４１Ｂ－４３Ｂと容易に接続できる。排気管４１Ｃ－４３Ｃは、処理筐体２３Ｃ１の側方に配置される。このため、切り換え機構５１Ｃ１は、排気管４１Ｃ－４３Ｃと容易に接続できる。排気管４１Ｄ－４３Ｄは、処理筐体２３Ｄ１の側方に配置される。このため、切り換え機構５１Ｄ１は、排気管４１Ｄ－４３Ｄと容易に接続できる。
【0094】
以下では、基板処理装置１の構造について、さらに詳しく説明する。
【0095】
＜インデクサ部３＞
図１、２を参照する。図２は、幅方向Ｙにおける基板処理装置１の中央部の構成を示す右側面図である。搬送機構６の構造について説明する。搬送機構６はハンド７とハンド駆動部８を備える。ハンド７は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。ハンド駆動部８は、ハンド７に連結される。ハンド駆動部８は、ハンド７を移動する。ハンド駆動部８は、ハンド７を前後方向Ｘ、幅方向Ｙおよび垂直方向Ｚに移動する。
図１、２を参照する。図２は、幅方向Ｙにおける基板処理装置１の中央部の構成を示す右側面図である。搬送機構６の構造について説明する。搬送機構６はハンド７とハンド駆動部８を備える。ハンド７は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。ハンド駆動部８は、ハンド７に連結される。ハンド駆動部８は、ハンド７を移動する。ハンド駆動部８は、ハンド７を前後方向Ｘ、幅方向Ｙおよび垂直方向Ｚに移動する。
【0096】
ハンド駆動部８の構造を例示する。ハンド駆動部８は、例えば、レール８ａと水平移動部８ｂと垂直移動部８ｃと回転部８ｄと進退移動部８ｅを備える。レール８ａは、固定的に設置される。レール８ａは、搬送スペース５の底部に配置される。レール８ａは、幅方向Ｙに延びる。水平移動部８ｂは、レール８ａに支持される。水平移動部８ｂは、レール８ａに対して幅方向Ｙに移動する。垂直移動部８ｃは、水平移動部８ｂに支持される。垂直移動部８ｃは、水平移動部８ｂに対して鉛直方向Ｚに移動する。回転部８ｄは、垂直移動部８ｃに支持される。回転部８ｄは、垂直移動部８ｃに対して回転する。回転部８ｄは、鉛直方向Ｚと平行な回転軸線回りに回転する。進退移動部８ｅは、回転部８ｄに対して移動する。進退移動部８ｅは、回転部８ｄの向きによって決まる水平な一方向に往復移動する。進退移動部８ｅは、ハンド７に接続される。ハンド駆動部８がこのような構成を備えるので、ハンド７は、鉛直方向Ｚに平行移動可能である。ハンド７は、水平な任意の方向に平行移動可能である。ハンド７は、水平面内で回転可能である。
【0097】
＜処理ブロック１１の概要＞
図２、３を参照する。図３は、処理ブロック１１の正面図である。図３は、基板載置部１４Ａなどの図示を省略する。処理ブロック１１は、搬送スペース１２Ａに加えて、搬送スペース１２Ｂを備える。搬送スペース１２Ｂは、搬送スペース１２Ａの下方に配置される。搬送スペース１２Ｂも、インデクサ部３の搬送スペース５とつながっている。図示を省略するが、搬送スペース１２Ｂは、平面視において、搬送スペース１２Ａと同じ位置に配置される。
図２、３を参照する。図３は、処理ブロック１１の正面図である。図３は、基板載置部１４Ａなどの図示を省略する。処理ブロック１１は、搬送スペース１２Ａに加えて、搬送スペース１２Ｂを備える。搬送スペース１２Ｂは、搬送スペース１２Ａの下方に配置される。搬送スペース１２Ｂも、インデクサ部３の搬送スペース５とつながっている。図示を省略するが、搬送スペース１２Ｂは、平面視において、搬送スペース１２Ａと同じ位置に配置される。
【0098】
搬送スペース１２Ａ、１２Ｂを区別しない場合には、搬送スペース１２と呼ぶ。
【0099】
処理ブロック１１は、１つの隔壁１３を備える。隔壁１３は、搬送スペース１２Ａの下方、かつ、搬送スペース１２Ｂの上方に配置される。隔壁１３は、水平な板形状を有する。隔壁１３は、搬送スペース１２Ａと搬送スペース１２Ｂを隔てる。
【0100】
図２を参照する。処理ブロック１１は、基板載置部１４Ａに加えて、基板載置部１４Ｂを備える。基板載置部１４Ｂは、基板Ｗを載置する。基板載置部１４Ｂは、基板載置部１４Ａの下方に配置される。基板載置部１４Ｂは、搬送スペース１２Ｂに設置される。基板載置部１４Ｂは、搬送スペース１２Ｂの前部に配置される。インデクサ部３の搬送機構６は、基板載置部１４Ｂにもアクセス可能である。搬送機構６は、例えば、基板載置部１４Ａ、１４Ｂに交互に基板Ｗを搬送する。
【0101】
処理ブロック１１は、搬送機構１６Ａに加えて、搬送機構１６Ｂを備える。搬送機構１６Ｂは、搬送スペース１２Ｂに設置される。搬送機構１６Ｂは、基板Ｗを搬送する。搬送機構１６Ｂは、基板載置部１４Ｂにアクセス可能である。
【0102】
搬送機構１６Ａ、１６Ｂを区別しない場合には、搬送機構１６と呼ぶ。
【0103】
図１、２、３を参照する。搬送機構１６の構造を説明する。搬送機構１６は、ハンド１７とハンド駆動部１８を備える。ハンド１７は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。ハンド駆動部１８は、ハンド１７に連結される。ハンド駆動部１８は、ハンド１７を移動する。ハンド駆動部１８は、ハンド１７を前後方向Ｘ、幅方向Ｙおよび垂直方向Ｚに移動する。
【0104】
ハンド駆動部１８の構造を例示する。ハンド駆動部１８は、例えば、２つの支柱１８ａと、垂直移動部１８ｂと水平移動部１８ｃと回転部１８ｄと進退移動部１８ｅを備える。支柱１８ａは、固定的に設置される。支柱１８ａは、搬送スペース１２の側部に配置される。２つの支柱１８ａは前後方向Ｘに並ぶ。各支柱１８ａは、鉛直方向Ｚに延びる。垂直移動部１８ｂは、支柱１８ａに支持される。垂直移動部１８ｂは、２つの支柱１８ａの間にわたって前後方向Ｘに延びる。垂直移動部１８ｂは、支柱１８ａに対して鉛直方向Ｚに移動する。水平移動部１８ｃは、垂直移動部１８ｂに支持される。水平移動部１８ｃは、垂直移動部１８ｂに対して前後方向Ｘに移動する。回転部１８ｄは、水平移動部１８ｃに支持される。回転部１８ｄは、水平移動部１８ｃに対して回転する。回転部１８ｄは、鉛直方向Ｚと平行な回転軸線回りに回転する。進退移動部１８ｅは、回転部１８ｄに対して移動する。進退移動部１８ｅは、回転部１８ｄの向きによって決まる水平な一方向に往復移動する。進退移動部１８ｅは、ハンド１７に接続される。ハンド駆動部１８がこのように構成されるので、ハンド１７は、鉛直方向Ｚに平行移動可能である。ハンド７は、水平な任意の方向に平行移動可能である。ハンド７は、水平面内で回転可能である。
【0105】
図４は、基板処理装置１の右部の構成を示す右側面図である。処理ブロック１１は、処理ユニット２１Ａ１に加えて、５つの処理ユニット２１Ａ２－２１Ａ６を備える。処理ユニット２１Ａ２－２１Ａ６はそれぞれ、処理筐体２３Ａ２－２３Ａ６を備える。処理筐体２３Ａ２－２３Ａ６は、処理筐体２３Ａ１の下方に配置される。処理筐体２３Ａ１－２３Ａ６は、上から下に向かって、並ぶ。処理筐体２３Ａ１－２３Ａ６は、鉛直方向Ｚに１列に並ぶ。図示を省略するが、処理筐体２３Ａ２－２３Ａ６はそれぞれ、平面視において、処理筐体２３Ａ１と同じ位置に配置される。処理筐体２３Ａ１－２３Ａ６は、互いに積層される。
【0106】
同様に、処理ブロック１１は、処理ユニット２１Ｂ１に加えて、処理ユニット２１Ｂ２－２１Ｂ６を備える。処理ユニット２１Ｂ２－２１Ｂ６はそれぞれ、処理筐体２３Ｂ２－２３Ｂ６を備える。処理筐体２３Ｂ１－２３Ｂ６の相対的な位置は、処理筐体２３Ａ１－２３Ａ６の相対的な位置と同じである。
【0107】
図５は、基板処理装置１の左部の構成を示す左側面図である。処理ブロック１１は、処理ユニット２１Ｃ１、２１Ｄ１に加えて、処理ユニット２１Ｃ２－２１Ｃ６、２１Ｄ２－２１Ｄ６を備える。処理ユニット２１Ｃ２－２１Ｃ６、２１Ｄ２－２１Ｄ６はそれぞれ、処理筐体２３Ｃ２－２３Ｃ６、２３Ｄ２－２３Ｄ６を備える。処理筐体２３Ｃ１－２３Ｃ６、２３Ｄ１－２３Ｄ６はそれぞれ、処理筐体２３Ａ１－２３Ａ６と同様に配置される。
【0108】
図３、４、５を参照する。上述の通り、処理筐体２３Ａ１、２３Ｂ１、２３Ｃ１、２３Ｄ１は、同じ高さ位置に配置される。処理筐体２３Ａ２－２３Ａ６、２３Ｂ２－２３Ｂ６、２３Ｃ２－２３Ｃ６、２３Ｄ２－２３Ｄ６も、同様に配置される。すなわち、処理筐体２３Ａｎ、２３Ｂｎ、２３Ｃｎ、２３Ｄｎは、同じ高さ位置に配置される。ここで、「ｎ」は１から６までの整数である。
【0109】
図３を参照する。処理筐体２３Ａ１－２３Ａ３、２３Ｂ１－２３Ｂ３、２３Ｃ１－２３Ｃ３、２３Ｄ１－２３Ｄ３はそれぞれ、搬送スペース１２Ａと同じ高さ位置に配置される。このため、搬送機構１６Ａは、処理筐体２３Ａ１－２３Ａ３、２３Ｂ１－２３Ｂ３、２３Ｃ１－２３Ｃ３、２３Ｄ１－２３Ｄ３にアクセス可能である。
【0110】
処理筐体２３Ａ４－２３Ａ６、２３Ｂ４－２３Ｂ６、２３Ｃ４－２３Ｃ６、２３Ｄ４－２３Ｄ６は、搬送スペース１２Ｂと同じ高さ位置に配置される。このため、搬送機構１６Ｂは、処理筐体２３Ａ４－２３Ａ６、２３Ｂ４－２３Ｂ６、２３Ｃ４－２３Ｃ６、２３Ｄ４－２３Ｄ６にアクセス可能である。
【0111】
処理ユニット２１Ａ１－２１Ａ６を区別しない場合、処理ユニット２１Ａと呼ぶ。処理ユニット２１Ｂ１－２１Ｂ６を区別しない場合、処理ユニット２１Ｂと呼ぶ。処理ユニット２１Ｃ１－２１Ｃ６を区別しない場合、処理ユニット２１Ｃと呼ぶ。処理ユニット２１Ｄ１－２１Ｄ６を区別しない場合、処理ユニット２１Ｄと呼ぶ。処理ユニット２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ、２１Ｄを区別しない場合、処理ユニット２１と呼ぶ。
【0112】
処理筐体２３Ａ１－２３Ａ６を区別しない場合、処理筐体２３Ａと呼ぶ。処理筐体２３Ｂ１－２３Ｂ６を区別しない場合、処理筐体２３Ｂと呼ぶ。処理筐体２３Ｃ１－２３Ｃ６を区別しない場合、処理筐体２３Ｃと呼ぶ。処理筐体２３Ｄ１－２３Ｄ６を区別しない場合、処理筐体２３Ｄと呼ぶ。処理筐体２３Ａ、２３Ｂ、２３Ｃ、２３Ｄを区別しない場合、処理筐体２３と呼ぶ。
【0113】
図１を参照する。各処理筐体２３はそれぞれ、搬送スペース１２に隣接する。各処理筐体２３Ａ、２３Ｂはそれぞれ、搬送スペース１２の右方に配置される。各処理筐体２３Ｃ、２３Ｄはそれぞれ、搬送スペース１２の左方に配置される。
【0114】
処理ブロック１１は、第１配管スペース４４Ａ、４４Ｂと第２配管スペース４６Ａ、４６Ｂを備える。第１配管スペース４４Ａ、４４Ｂと第２配管スペース４６Ａ、４６Ｂはそれぞれ、搬送スペース１２に隣接する。第１配管スペース４４Ａ、４４Ｂと第２配管スペース４６Ａ、４６Ｂは、搬送スペース１２の右方に配置される。
【0115】
第１配管スペース４４Ａと処理筐体２３Ａと第２配管スペース４６Ａは、前後方向Ｘに並ぶ。第１配管スペース４４Ａと処理筐体２３Ａと第２配管スペース４６Ａは、この順で並ぶ。第１配管スペース４４Ａは、処理筐体２３Ａの前方に配置される。第１配管スペース４４Ａは、処理筐体２３Ａに隣接する。第２配管スペース４６Ａは、処理筐体２３Ａの後方に配置される。第２配管スペース４６Ａは、処理筐体２３Ａに隣接する。
【0116】
処理筐体２３Ｂと第１配管スペース４４Ｂと第２配管スペース４６Ｂの相対的な位置は、処理筐体２３Ａと第１配管スペース４４Ａと第２配管スペース４６Ａの相対的な位置と同じである。第１配管スペース４４Ｂは、第２配管スペース４６Ａの後方に配置される。第１配管スペース４４Ｂは、第２配管スペース４６Ａに隣接する。
【0117】
処理ブロック１１は、第１配管スペース４４Ｃ、４４Ｄと第２配管スペース４６Ｃ、４６Ｄを備える。第１配管スペース４４Ｃ、４４Ｄと第２配管スペース４６Ｃ、４６Ｄはそれぞれ、搬送スペース１２に隣接する。第１配管スペース４４Ｃ、４４Ｄと第２配管スペース４６Ｃ、４６Ｄは、搬送スペース１２の左方に配置される。処理筐体２３Ｃと第１配管スペース４４Ｃと第２配管スペース４６Ｃの相対的な位置は、処理筐体２３Ａと第１配管スペース４４Ａと第２配管スペース４６Ａの相対的な位置と、向きが違うだけである。処理筐体２３Ｃと第１配管スペース４４Ｃと第２配管スペース４６Ｃの相対的な位置は、処理筐体２３Ａと第１配管スペース４４Ａと第２配管スペース４６Ａの相対的な位置を鉛直方向Ｚと平行な軸線回りに１８０度、回転したものに相当する。このため、第１配管スペース４４Ｃは、処理筐体２３Ｃの後方に配置される。第２配管スペース４６Ｃは、処理筐体２３Ｃの前方に配置される。このように、処理筐体２３Ｃと第１配管スペース４４Ｃと第２配管スペース４６Ｃの相対的な位置は、処理筐体２３Ａと第１配管スペース４４Ａと第２配管スペース４６Ａの相対的な位置と同じである。処理筐体２３Ｃ、第１配管スペース４４Ｃおよび第２配管スペース４６Ｃは、処理筐体２３Ａ、第１配管スペース４４Ａおよび第２配管スペース４６Ａと、設置される向きが異なるだけである。処理筐体２３Ｄと第１配管スペース４４Ｄと第２配管スペース４６Ｄの相対的な位置も、処理筐体２３Ａと第１配管スペース４４Ａと第２配管スペース４６Ａの相対的な位置と同じである。処理筐体２３Ｄ、第１配管スペース４４Ｄおよび第２配管スペース４６Ｄは、処理筐体２３Ａ、第１配管スペース４４Ａおよび第２配管スペース４６Ａと、設置される向きが異なるだけである。
【0118】
第１配管スペース４４Ａは、排気管４１Ａ－４３Ａを収容する。言い換えれば、排気管４１Ａ－４３Ａは、第１配管スペース４４Ａに設置される。同様に、第１配管スペース４４Ｂは、排気管４１Ｂ－４３Ｂを収容する。第１配管スペース４４Ｃは、排気管４１Ｃ－４３Ｃを収容する。第１配管スペース４４Ｄは、排気管４１Ｄ－４３Ｄを収容する。
【0119】
排気管４１Ａ－４３Ａは、処理筐体２３Ａの前方に配置される。排気管４１Ｂ－４３Ｂは、処理筐体２３Ｂの前方に配置される。排気管４１Ｃ－４３Ｃは、処理筐体２３Ｃの後方に配置される。排気管４１Ｄ－４３Ｄは、処理筐体２３Ｄの後方に配置される。
【0120】
排気管４１Ａ－４３Ａは、幅方向Ｙに並ぶ。排気管４１Ａ－４３Ａはそれぞれ、処理筐体２３Ａに隣接する。同様に、排気管４１Ｂ－４３Ｂは、幅方向Ｙに並ぶ。排気管４１Ｂ－４３Ｂはそれぞれ、処理筐体２３Ｂに隣接する。排気管４１Ｃ－４３Ｃは、幅方向Ｙに並ぶ。排気管４１Ｃ－４３Ｃはそれぞれ、処理筐体２３Ｃに隣接する。排気管４１Ｄ－４３Ｄは、幅方向Ｙに並ぶ。排気管４１Ｄ－４３Ｄはそれぞれ、処理筐体２３Ｃに隣接する。
【0121】
処理ブロック１１は、給気管４８Ａ、４８Ｂ、４８Ｃ、４８Ｄを備える。給気管４８Ａは、第２配管スペース４６Ａに設置される。給気管４８Ａは、処理筐体２３Ａに気体（例えば、清浄空気）を供給する。同様に、給気管４８Ｂ、４８Ｃ、４８Ｄはそれぞれ、第２配管スペース４６Ｂ、４６Ｃ、４６Ｃに収容される。給気管４８Ｂ、４８Ｃ、４８Ｄはそれぞれ、処理筐体２３Ｂ、２３Ｃ、２３Ｄに気体を供給する。
【0122】
図３、４、５を参照する。排気管４１Ａ－４３Ａはそれぞれ、鉛直方向Ｚに延びる。排気管４１Ａ－４３Ａはそれぞれ、処理筐体２３Ａ１の高さ位置から、処理筐体２３Ａ６の高さ位置にわたって延びる。同様に、排気管４１Ｂ－４３Ｂ、４１Ｃ－４３Ｃ、４１Ｄ－４１Ｄはそれぞれ、鉛直方向Ｚに延びる。
【0123】
図４、５を参照する。給気管４８Ａ－４８Ｄはそれぞれ、鉛直方向に延びる。給気管４８Ａ－４８Ｄはそれぞれ、処理筐体２３Ａ－２３Ｄの側方に設置される。
【0124】
前後方向Ｘは、本発明における第１方向の例である。幅方向Ｙは、本発明における第２方向の例である。
【0125】
排気管４１Ａ－４１Ｄを区別しない場合には、排気管４１と呼ぶ。排気管４２Ａ－４２Ｄを区別しない場合には、排気管４２と呼ぶ。排気管４３Ａ－４３Ｄを区別しない場合には、排気管４３と呼ぶ。第１配管スペース４４Ａ、４４Ｂ、４４Ｃ、４４Ｄを区別しない場合には、第１配管スペース４４と呼ぶ。第２配管スペース４６Ａ、４６Ｂ、４６Ｃ、４６Ｄを区別しない場合には、第２配管スペース４６と呼ぶ。給気管４８Ａ－４８Ｄを区別しない場合には、給気管４８と呼ぶ。
【0126】
第１配管スペース４４は、処理筐体２３に気体を供給する配管を収容しない。第１配管スペース４４は、処理ユニット２１（液供給部３３）に処理液を供給する配管を収容しない。第１配管スペース４４は、処理ユニット２１から処理液を排出する配管を収容しない。
【0127】
第２配管スペース４６は、例えば、処理ユニット２１（液供給部３３）に処理液を供給する配管を収容してもよい。第２配管スペース４６は、例えば、処理ユニット２１から処理液を排出する配管を収容してもよい。
【0128】
図３、４を参照する。上述の通り、切り換え機構５１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１と略同じ高さ位置に配置される。切り換え機構５１Ａ１は、正面視において、処理筐体２３Ａ１と重なる。具体的には、切り換え機構５１Ａ１の全体は、正面視において、処理筐体２３Ａ１と重なる。切り換え機構５１Ｂ１と処理筐体２３Ｂ１の相対的な位置は、切り換え機構５１Ａ１と処理筐体２３Ａ１の相対的な位置と同じである。切り換え機構５１Ｃ１、５１Ｄ１と処理筐体２３Ｃ１、２３Ｄ１の相対的な位置も、切り換え機構５１Ａ１と処理筐体２３Ａ１の相対的な位置と同じである。
【0129】
処理ブロック１１は、切り換え機構５１Ａ１に加えて、切り換え機構５１Ａ２－５１Ａ６を備える。切り換え機構５１Ａ２と処理筐体２３Ａ２の相対的な位置は、切り換え機構５１Ａ１と処理筐体２３Ａ１の相対的な位置と同じである。具体的には、切り換え機構５１Ａ２は、処理筐体２３Ａ２と略同じ高さ位置に配置される。切り換え機構５１Ａ２は、正面視において、処理筐体２３Ａ２と重なる。同様に、切り換え機構５１Ａ３－５１Ａ６と処理筐体２３Ａ３－２３Ａ６の相対的な位置は、切り換え機構５１Ａ１と処理筐体２３Ａ１の相対的な位置と同じである。
【0130】
切り換え機構５１Ａ２は、処理筐体２３Ａ２の排気路を、排気管４１Ａ－４３Ａのひとつに切り換える。同様に、切り換え機構５１Ａ３－５１Ａ６はそれぞれ、処理筐体２３Ａ３－２３Ａ６の排気路を、排気管４１Ａ－４３Ａのひとつに切り換える。したがって、排気管４１Ａ－４３Ａはそれぞれ、処理筐体２３Ａ１－２３Ａ６から気体を排出する。
【0131】
図４を参照する。処理ブロック１１は、切り換え機構５１Ｂ１に加えて、切り換え機構５１Ｂ２－５１Ｂ６を備える。切り換え機構５１Ｂ２－５１Ｂ６と処理筐体２３Ｂ２－２３Ｂ６の相対的な位置は、切り換え機構５１Ｂ１と処理筐体２３Ｂ１の相対的な位置と同じである。切り換え機構５１Ｂ２－５１Ｂ６はそれぞれ、処理筐体２３Ｂ２－２３Ｂ６の排気路を、排気管４１Ｂ－４３Ｂの１つに切り換える。したがって、排気管４１Ｂ－４３Ｂはそれぞれ、処理筐体２３Ｂ１－２３Ｂ６から気体を排出する。
【0132】
図５を参照する。処理ブロック１１は、切り換え機構５１Ｃ１に加えて、切り換え機構５１Ｃ２－５１Ｃ６を備える。切り換え機構５１Ｃ２－５１Ｃ６と処理筐体２３Ｃ２－２３Ｃ６の相対的な位置は、切り換え機構５１Ｃ１と処理筐体２３Ｃ１の相対的な位置と同じである。切り換え機構５１Ｃ２－５１Ｃ６はそれぞれ、処理筐体２３Ｃ２－２３Ｃ６の排気路を、排気管４１Ｃ－４３Ｃのひとつに切り換える。したがって、排気管４１Ｃ－４３Ｃはそれぞれ、処理筐体２３Ｃ１－２３Ｃ６から気体を排出する。
【0133】
処理ブロック１１は、切り換え機構５１Ｄ１に加えて、切り換え機構５１Ｄ２－５１Ｄ６を備える。切り換え機構５１Ｄ２－５１Ｄ６と処理筐体２３Ｄ２－２３Ｄ６の相対的な位置は、切り換え機構５１Ｄ１と処理筐体２３Ｄ１の相対的な位置と同じである。切り換え機構５１Ｄ２－５１Ｄ６はそれぞれ、処理筐体２３Ｄ２－２３Ｄ６の排気路を、排気管４１Ｄ－４３Ｄのひとつに切り換える。したがって、排気管４１Ｄ－４３Ｄは、処理筐体２３Ｄ１－２３Ｄ６から気体を排出する。
【0134】
図示を省略するが、切り換え機構５１Ａ２－５１Ａ６はそれぞれ、平面視において、切り換え機構５１Ａ１と同じ位置に配置される。同様に、切り換え機構５１Ｂ２－５１Ｂ６はそれぞれ、平面視において、切り換え機構５１Ｂ１と同じ位置に配置される。切り換え機構５１Ｃ２－５１Ｃ６はそれぞれ、平面視において、切り換え機構５１Ｂ１と同じ位置に配置される。切り換え機構５１Ｄ２－５１Ｄ６はそれぞれ、平面視において、切り換え機構５１Ｂ１と同じ位置に配置される。
【0135】
切り換え機構５１Ａ１－５１Ａ６を区別しない場合には、切り換え機構５１Ａと呼ぶ。切り換え機構５１Ｂ１－５１Ｂ６を区別しない場合には、切り換え機構５１Ｂと呼ぶ。切り換え機構５１Ｃ１－５１Ｃ６を区別しない場合には、切り換え機構５１Ｃと呼ぶ。切り換え機構５１Ｄ１－５１Ｄ６を区別しない場合には、切り換え機構５１Ｄと呼ぶ。切り換え機構５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、５１Ｄを区別しない場合には、切り換え機構５１と呼ぶ。
【0136】
図１を参照する。切り換え機構５１は、平面視において、保持部３１と重ならない位置に設置される。切り換え機構５１の少なくとも一部は、処理筐体２３の外部に設置される。切り換え機構５１の少なくとも一部は、処理筐体２３の側方に設置される。切り換え機構５１の少なくとも一部は、第１配管スペース４４に設置される。各切り換え機構５１Ａの少なくとも一部は、第１配管スペース４４Ａに設置される。各切り換え機構５１Ｂの少なくとも一部は、第１配管スペース４４Ｂに設置される。各切り換え機構５１Ｃの少なくとも一部は、第１配管スペース４４Ｃに設置される。各切り換え機構５１Ｄの少なくとも一部は、第１配管スペース４４Ｄに設置される。
【0137】
＜処理ユニット２１の構造＞
図６は、処理ユニット２１の平面図である。図７は、処理ユニット２１の側面図である。各処理ユニット２１は、上述の通り、処理筐体２３と保持部３１と液供給部３３を備える。なお、図１は液供給部３３を便宜上、簡略に示したので、図６に示す液供給部３３は、図１に示す液供給部３３と若干異なる。
図６は、処理ユニット２１の平面図である。図７は、処理ユニット２１の側面図である。各処理ユニット２１は、上述の通り、処理筐体２３と保持部３１と液供給部３３を備える。なお、図１は液供給部３３を便宜上、簡略に示したので、図６に示す液供給部３３は、図１に示す液供給部３３と若干異なる。
【0138】
処理筐体２３の構造を説明する。処理筐体２３は、略箱形状を有する。処理筐体２３は、平面視、正面視および側面視において、略矩形形状を有する。
【0139】
各処理筐体２３は、４つの側壁２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄと上板２５ｅと底板２５ｆとを備える。側壁２５ａ－２５ｄはそれぞれ、略垂直な板形状である。上板２５ｅと底板２５ｆは、略水平な板形状を有する。
【0140】
各処理筐体２３は、その内部に処理スペース２４を有する。基板Ｗは、処理スペース２４において処理される。処理スペース２４は、側壁２５ａ－２５ｄと上板２５ｅと底板２５ｆによって、区画される。
【0141】
側壁２５ａ、２５ｃは、平面視において、前後方向Ｘに延びる。側壁２５ｃは、側壁２５ａの反対に設けられる。側壁２５ｂ、２５ｄは、平面視において、幅方向Ｙに延びる。側壁２５ｂ、２５ｄはそれぞれ、側壁２５ａから側壁２５ｃまで延びる。側壁２５ｄは、側壁２５ｂの反対に設けられる。
【0142】
処理筐体２３Ｂは、処理筐体２３Ａと同じ構造を有する。処理筐体２３Ｃ、２３Ｄも、処理筐体２３Ａと同じ構造を有する。処理筐体２３Ｃ、２３Ｄは、処理筐体２３Ａと、設置される向きが異なるだけである。処理筐体２３Ｃ、２３Ｄは、処理筐体２３Ａを、鉛直方向Ｚと平行な軸線回りに１８０度、回転したものに相当する。したがって、処理筐体２３Ａ－２３Ｄのいずれにおいても、側壁２５ａは搬送スペース１２と接する。処理筐体２３Ａ－２３Ｄのいずれにおいても、側壁２５ｂは第１配管スペース４４に接する。処理筐体２３Ａ－２３Ｄのいずれにおいても、側壁２５ｄは第２配管スペース４６に接する。
【0143】
処理筐体２３は、基板搬送口２７を有する。基板搬送口２７は、側壁２５ａに形成される。基板Ｗは、基板搬送口２７を通過可能である。基板Ｗは、基板搬送口２７を通じて、処理筐体２３の外部と処理筐体２３の内部の間で、移動する。具体的には、基板Ｗは、基板搬送口２７を通じて、搬送スペース１２と処理スペース２４の間で、移動する。
【0144】
各処理ユニット２１は、不図示のシャッターを備えてもよい。シャッターは、側壁２５ａに取り付けられる。シャッターは、基板搬送口２７を開閉する。
【0145】
保持部３１は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持する。保持部３１は、上面３１ａを有する。上面３１ａは、略水平である。基板Ｗは、上面３１ａの上に載置される。
【0146】
図６、７は、中心点Ｇを示す。中心点Ｇは、基板Ｗが保持部３１に保持されるときの基板Ｗの中心の位置である。
【0147】
図７を参照する。各処理ユニット２１は、さらに、回転駆動部３２を備える。回転駆動部３２は、処理筐体２３の内部に設置される。回転駆動部３２は、保持部３１に連結される。回転駆動部３２は、保持部３１を回転させる。保持部３１に保持される基板Ｗは、保持部３１と一体に回転する。保持部３１および基板Ｗは、回転軸線Ａｗ回りに回転する。回転軸線Ａｗは、例えば、鉛直方向Ｚと平行な仮想線である。回転軸線Ａｗは、例えば、中心点Ｇを通る。
【0148】
図６を参照する。液供給部３３は、第１処理液と第２処理液と第３処理液を供給する。第１処理液と第２処理液と第３処理液は互いに、種類が異なる。すなわち、液供給部３３は、複数（３つ）の種類の処理液を供給する。
【0149】
第１処理液は、例えば、酸性液に分類される。第１処理液は、例えば、フッ酸（フッ化水素酸）、塩酸過酸化水素水、硫酸、硫酸過酸化水素水、フッ硝酸（フッ酸と硝酸との混合液）、および、塩酸の少なくとも１つを含む。
【0150】
第２処理液は、例えば、アルカリ液に分類される。第２処理液は、例えば、アンモニア過酸化水素水（ＳＣ１）、アンモニア水、フッ化アンモニウム溶液、および、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）の少なくとも１つを含む。
【0151】
第３処理液は、例えば、有機液に分類される。有機液は、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、メタノール、エタノール、ハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）、および、アセトンの少なくとも１つを含む。
【0152】
液供給部３３は、ノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃを備える。ノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃはそれぞれ、処理液を吐出する。ノズル３４Ａは、例えば、第１処理液を吐出する。ノズル３４Ｂは、例えば、第２処理液を吐出する。ノズル３４Ｃは、例えば、第３処理液を吐出する。
【0153】
各ノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃは、直線的に延びる管形状を有する。ノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃはそれぞれ、先端部３５Ａ、３５Ｂ、３５Ｃと基端部３６Ａ、３６Ｂ、３６Ｃを備える。先端部３５Ａ、３５Ｂ、３５Ｃはそれぞれ、処理液を吐出する不図示の吐出口を有する。
【0154】
液供給部３３は、ベース部３７Ａ、３７Ｂ、３７Ｃを備える。ベース部３７Ａ、３７Ｂ、３７Ｃはそれぞれ、ノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃを支持する。具体的には、ベース部３７Ａ、３７Ｂ、３７Ｃは、基端部３６Ａ、３６Ｂ、３６Ｃと接続する。
【0155】
ベース部３７Ａは、さらに、ノズル３４Ａを移動させる。例えば、ベース部３７Ａは、ベース部３７Ａを通り、鉛直方向Ｚと平行な回転軸線回りにノズル３４Ａを回転する。同様に、ベース部３７Ｂ、３７Ｃはそれぞれ、ノズル３４Ｂ、３４Ｃを移動させる。
【0156】
ベース部３７Ａによって、ノズル３４Ａは、処理位置と退避位置に移動可能である。ノズル３４Ａが処理位置にあるとき、先端部３５Ａ（吐出口）は、保持部３１に保持される基板Ｗの上方に位置する。ノズル３４Ａが処理位置にあるとき、先端部３５Ａ（吐出口）は、平面視において、保持部３１に保持される基板Ｗと重なる。ノズル３４Ａが退避位置にあるとき、ノズル３４Ａの全体は、平面視において、保持部３１に保持される基板Ｗと重ならない。同様に、ノズル３４Ｂ、３４Ｃはそれぞれ、処理位置と退避位置に移動可能である。図６は、退避位置にあるノズル３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃを示す。
【0157】
ベース部３７Ａ－３７Ｃはそれぞれ、側壁２５ｃの近傍に配置される。ベース部３７Ａは、側壁２５ｃと側壁２５ｂが接続する角部に配置される。ベース部３７Ｂ、３７Ｃは、側壁２５ｃと側壁２５ｄが接続する角部に配置される。
【0158】
各処理ユニット２１は、カップ３８を備える。カップ３８は、保持部３１の周囲に配置される。カップ３８は、保持部３１に保持される基板Ｗの側方を囲む。カップ３８は、保持部３１に保持される基板Ｗから飛散した処理液を受け止める。
【0159】
図７を参照する。各処理ユニット２１は、吹出ユニット３９を備える。吹出ユニット３９は、処理スペース２４に気体を供給する。吹出ユニット３９は、上板２５ｅに取り付けられる。吹出ユニット３９は、保持部３１の上方に配置される。吹出ユニット３９は、気体（例えば、清浄空気）を下方に吹き出す。
【0160】
吹出ユニット３９は、給気管４８に接続される。給気管４８は、吹出ユニット３９に気体を供給する。
【0161】
処理筐体２３と保持部３１と液供給部３３の相対的な位置は、処理ユニット２１Ａ－２１Ｄの間で同じである。処理ユニット２１Ｃ、２１Ｄにおける処理筐体２３と保持部３１と液供給部３３の相対的な位置は、処理ユニット２１Ａにおける処理筐体２３と保持部３１と液供給部３３の相対的な位置と、向きが異なるだけである。
【0162】
＜切り換え機構５１の構造＞
図６、７を参照する。切り換え機構５１は、切り換え筐体５３を備える。切り換え筐体５３のサイズは、処理筐体２３よりも小さい。切り換え筐体５３は、処理筐体２３に接続される。切り換え筐体５３は、さらに、排気管４１－４３に接続される。各切り換え筐体５３は、水平方向に延びる。各切り換え筐体５３は、平面視において、略Ｌ字状に屈曲する。切り換え筐体５３は、その内部に切り換えスペース５４を有する。
図６、７を参照する。切り換え機構５１は、切り換え筐体５３を備える。切り換え筐体５３のサイズは、処理筐体２３よりも小さい。切り換え筐体５３は、処理筐体２３に接続される。切り換え筐体５３は、さらに、排気管４１－４３に接続される。各切り換え筐体５３は、水平方向に延びる。各切り換え筐体５３は、平面視において、略Ｌ字状に屈曲する。切り換え筐体５３は、その内部に切り換えスペース５４を有する。
【0163】
各切り換え筐体５３は、導入部５５を備える。導入部５５は、処理筐体２３に接続される。導入部５５は、処理筐体２３の側壁２５ｂに接続される。
【0164】
導入部５５は、処理筐体２３から前後方向Ｘに延びる。導入部５５は、第１端５５ａと第２端５５ｂを有する。第１端５５ａは、切り換えスペース５４の上流端に相当する。切り換えスペース５４は、第１端５５ａにおいて、処理スペース２４に開放される。このように、切り換え筐体５３は、導入部５５において、処理筐体２３と連通する。気体は、処理筐体２３から、第１端５５ａ１を通じて、切り換えスペース５４に流入する。
【0165】
導入部５５は、処理筐体２３を貫通する。第１端５５ａは、処理筐体２３の内部に配置される。すなわち、第１端５５ａは、処理スペース２４に配置される。第２端５５ｂは、処理筐体２３の外部に配置される。具体的には、第２端５５ｂは、第１配管スペース４４に配置される。
【0166】
導入部５５は、側壁２５ａに近い位置に配置される。これに対して、ベース部３７Ａ－３７Ｃは、側壁２５ｃに近い位置に配置される。言い換えれば、導入部５５は、搬送スペース１２に近い位置に配置される。ベース部３７Ａ－３７Ｃは、搬送スペース１２から遠い位置に配置される。
【0167】
側壁２５ａを基準として、導入部５５などの位置を、説明する。図６は、距離Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４を示す。距離Ｄ１は、平面視における導入部５５と側壁２５ａとの離隔距離である。距離Ｄ２は、平面視における保持部３１と側壁２５ａとの離隔距離である。距離Ｄ３は、平面視における中心点Ｇと側壁２５ａとの離隔距離である。距離Ｄ４は、平面視におけるベース部３７Ａと側壁２５ａの離隔距離である。距離Ｄ１は、距離Ｄ２よりも小さい。距離Ｄ２は、距離Ｄ３よりも小さい。距離Ｄ３は、距離Ｄ４よりも小さい。
【0168】
ここで、側壁２５ａは、搬送スペース１２と接する。このため、上述した距離Ｄ１－Ｄ４は、搬送スペース１２を基準とした距離と近似する。すなわち、距離Ｄ１は、平面視における導入部５５と搬送スペース１２との離隔距離と近似する。距離Ｄ２は、平面視における保持部３１と搬送スペース１２との離隔距離と近似する。距離Ｄ３は、平面視における中心点Ｇと搬送スペース１２との離隔距離と近似する。距離Ｄ４は、平面視におけるベース部３７Ａと搬送スペース１２の離隔距離と近似する。したがって、平面視において、導入部５５と搬送スペース１２との離隔距離は、保持部３１と搬送スペース１２との離隔距離よりも小さい。平面視において、保持部３１と搬送スペース１２との離隔距離は、中心点Ｇと搬送スペース１２との離隔距離よりも小さい。平面視において、中心点Ｇと搬送スペース１２との離隔距離は、ベース部３７Ａと搬送スペース１２の離隔距離よりも小さい。
【0169】
各切り換え筐体５３は、分配部５６を備える。分配部５６は、導入部５５に接続される。分配部５６は、導入部５５の第２端５５ｂに接続される。分配部５６は、幅方向Ｙに延びる。
【0170】
分配部５６は、処理筐体２３の外部に配置される。分配部５６は、第１配管スペース４４に配置される。分配部５６は、排気管４１－４３の近傍に配置される。
【0171】
排気管４１－４３はそれぞれ、処理筐体２３に接する。排気管４１－４３は、平面視において、処理筐体２３と分配部５６の間に配置される。具体的には、排気管４１－４３はそれぞれ、処理筐体２３の側壁２５ｂに接する。排気管４１－４３は、側壁２５ｂと分配部５６の間に配置される。
【0172】
分配部５６は、排気管４１－４３に接続される。分配部５６は、排気管４１－４３の外側面に接続される。切り換え筐体５３は、分配部５６において、排気管４１－４３に連通する。
【0173】
具体的には、排気管４１は、開口４１ｋを有する。開口４１ｋは、排気管４１の外側面に形成される。開口４１ｋは、排気管４１内の流路と連通する。分配部５６は、開口４１ｋの周囲に位置する排気管４１の部分と接続する。これにより、切り換えスペース５４は、開口４１ｋを通じて、排気管４１内の流路と連通する。同様に、排気管４２、４３はそれぞれ、開口４２ｋ、４３ｋを有する。分配部５６は、開口４２ｋ、４３ｋの周囲において、排気管４２、４３と接続する。
【0174】
図６、８を参照する。図８は、切り換え機構５１の正面図である。図８は、便宜上、切り換え筐体５３を破線で示す。各切り換え筐体５３は、３つの開閉部６１、６２、６３を備える。開閉部６１－６３はそれぞれ、切り換え筐体５３の内部に設置される。すなわち、切り換え筐体５３は、開閉部６１－６３を収容する。具体的には、開閉部６１－６３はそれぞれ、分配部５６の内部に設置される。開閉部６１－６３は、処理筐体２３の外部に設置される。開閉部６１－６３は、第１配管スペース４４に設置される。開閉部６１，６２、６３はそれぞれ、開口４１ｋ、４２ｋ、４３ｋに対向する位置に配置される。開閉部６１、６２、６３はそれぞれ、開口４１ｋ、４２ｋ、４３ｋを開放する位置と、開口４１ｋ、４２ｋ、４３ｋを閉塞する位置に移動可能である。
【0175】
図６、８では、開閉部６１は開口４１ｋを開放する位置にあり、開閉部６２、６３はそれぞれ、開口４２ｋ、４３ｋを閉塞する位置にある。
【0176】
開閉部６１が開口４１ｋを開放するとき、排気管４１は処理筐体２３と連通する。開閉部６１が開口４１ｋを閉塞するとき、排気管４１は処理筐体２３から遮断される。このように、開口４１ｋを開放する開閉部６１の位置は、処理筐体２３を排気管４１に連通させる開閉部６１の位置に相当する。開口４１ｋを閉塞する開閉部６１の位置は、処理筐体２３を排気管４１から遮断する開閉部６１の位置に相当する。
【0177】
同様に、開閉部６２、６３がそれぞれ開口４２ｋ、４３ｋを開放するとき、排気管４２、４３はそれぞれ、処理筐体２３と連通する。開閉部６２、６３がそれぞれ開口４２ｋ、４３ｋを閉塞するとき、排気管４２、４３はそれぞれ、処理筐体２３から遮断される。このように、開口４２ｋ、４３ｋを開放する開閉部６２、６３の位置はそれぞれ、処理筐体２３を排気管４２－４３に連通させる開閉部６２、６３の位置に相当する。開口４２ｋ、４３ｋを閉塞する開閉部６２、６３の位置はそれぞれ、処理筐体２３を排気管４２－４３から遮断する開閉部６２、６３の位置に相当する。
【0178】
開閉部６１、６２、６３は、互いに独立して移動可能である。このため、排気管４１、４２、４３は、個別に、処理筐体２３に連通可能である。排気管４１、４２、４３は、個別に、処理筐体２３から遮断可能である。
【0179】
開閉部６１、６２、６３は、例えば、以下の構造を有する。開閉部６１は、略垂直な平板形状を有する。開閉部６１は、回転軸心Ａ１回りに揺動可能に設置される。回転軸心Ａ１は、鉛直方向Ｚと平行な仮想線である。回転軸線Ａ１は、開閉部６１の第１端を通る。開閉部６１は、回転軸線Ａ１回りに揺動する。開閉部６２、６３も、開閉部６１と同じ構造を有する。開閉部６２、６３はそれぞれ、回転軸心Ａ２、Ａ３回りに揺動する。
【0180】
開閉部６１、６２、６３は、不図示の動力源（例えば、電動モータ）によって、移動する。ここで、動力源は、切り換え機構５１の要素でない。動力源は、切り換え機構５１の外部要素である。動力源は、例えば、切り換え筐体５３の外部に配置されてもよい。
【0181】
開閉部６１は、本発明における第１開閉部の例である。開閉部６２は、本発明における第２開閉部の例である。
【0182】
上述の通り、切り換え機構５１は、平面視において、保持部３１と重ならない位置に配置される。切り換え機構５１の平面視における位置を詳しく説明する。
【0183】
図６は、仮想円Ｅ３ｒを一点鎖線で示す。仮想円Ｅ３ｒは、中心点Ｇを中心とする。仮想円Ｅ３ｒの半径は、基板Ｗの半径の３倍である。切り換え機構５１は、平面視において、仮想円Ｅ３ｒの外に配置される。すなわち、中心点Ｇから切り換え機構５１までの距離は、平面視において、基板Ｗの半径の３倍よりも大きい。
【0184】
図６は、仮想円Ｅ５ｒを一点鎖線で示す。仮想円Ｅ５ｒは、中心点Ｇを中心とする。仮想円Ｅ５ｒの半径は、基板Ｗの半径の５倍である。切り換え機構５１は、平面視において、仮想円Ｅ５ｒの内に配置される。すなわち、中心点Ｇから切り換え機構５１までの距離は、平面視において、基板Ｗの半径の５倍よりも小さい。
【0185】
上述の通り、切り換え機構５１は、処理筐体２３と略同じ高さ位置に配置される。切り換え機構５１の高さ位置をさらに詳しく説明する。
【0186】
図７を参照する。切り換え機構５１は、上端Ｐ１と下端Ｑ１を有する。上端Ｐ１および下端Ｑ１はそれぞれ、切り換え筐体５３の上端、下端に相当する。処理筐体２３は、上端Ｐ２と下端Ｑ２を有する。上端Ｐ２は、上板２５ｅの上面に相当する。下端Ｑ２は、底板２５ｆの下面に相当する。上端Ｐ１は、上端Ｐ２と同等またはそれよりも低い位置に配置される。具体的には、上端Ｐ１は、上端Ｐ２よりも低い位置に配置される。下端Ｑ１は、下端Ｑ２と同等またはそれよりも高い位置に配置される。具体的には、下端Ｑ１は、下端Ｑ２よりも高い位置に配置される。
【0187】
切り換え機構５１は、保持部３１の上面３１ａと同等またはそれよりも低い位置に配置される。すなわち、上端Ｐ１は、上面３１ａと同等またはそれよりも低い位置に配置される。具体的には、上端Ｐ１は、上面３１ａよりも低い位置に配置される。ここで、保持部３１の上面３１ａは、本発明における保持部３１の上端の例である。
【0188】
＜排気路の構成＞
図９は、処理筐体２３からの排気路の系統図である。基板処理装置１は、圧力センサ７１Ａ１を備える。圧力センサ７１Ａ１は、排気圧を検出する。具体的には、圧力センサ７１Ａ１は、切り換え機構５１Ａ１の一次側（上流側）の気体の圧力を計測する。圧力センサ７１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１から切り換え機構５１Ａ１に流入する気体の圧力を計測する。
図９は、処理筐体２３からの排気路の系統図である。基板処理装置１は、圧力センサ７１Ａ１を備える。圧力センサ７１Ａ１は、排気圧を検出する。具体的には、圧力センサ７１Ａ１は、切り換え機構５１Ａ１の一次側（上流側）の気体の圧力を計測する。圧力センサ７１Ａ１は、処理筐体２３Ａ１から切り換え機構５１Ａ１に流入する気体の圧力を計測する。
【0189】
基板処理装置１は、圧力調整機構７３Ａ１を備える。圧力調整機構７３は、排気圧を調整する。具体的には、圧力調整機構７３Ａ１は、切り換え機構５１Ａ１の一次側の気体の圧力を調整する。より具体的には、圧力調整機構７３Ａ１は、圧力センサ７１Ａ１の検出結果に基づいて、切り換え機構５１の一次側の気体の圧力を調整する。
【0190】
同様に、基板処理装置１は、圧力センサ７１Ａ２－７１Ａ６、７１Ｂ１－７１Ｂ６、７１Ｃ１－７１Ｃ６、７１Ｄ１－７１Ｄ６を備える。圧力センサ７１Ａ１－７１Ａ６、７１Ｂ１－７１Ｂ６、７１Ｃ１－７１Ｃ６、７１Ｄ１－７１Ｄ６を区別しない場合には、圧力センサ７１と呼ぶ。各圧力センサ７１はそれぞれ、排気圧を検出する。各圧力センサ７１はそれぞれ、切り換え機構５１の一次側の気体の圧力を計測する。
【0191】
基板処理装置１は、圧力調整機構７３Ａ２－７３Ａ６、７３Ｂ１－７３Ｂ６、７３Ｃ１－７３Ｃ６、７３Ｄ１－７３Ｄ６を備える。圧力調整機構７３Ａ１－７３Ａ６、７３Ｂ１－７３Ｂ６、７３Ｃ１－７３Ｃ６、７３Ｄ１－７３Ｄ６を区別しない場合には、圧力調整機構７３と呼ぶ。各圧力調整機構７３は、圧力センサ７１の検出結果に基づいて、切り換え機構５１の一次側の圧力を調整する。
【0192】
基板処理装置１は、排気管８１Ａ、８２Ａ、８３Ａを備える。排気管８１Ａは、排気管４１Ａ、４１Ｂに接続される。排気管８１Ａは、排気管４１Ａの気体および排気管４１Ｂの気体を排出する。排気管８２Ａは、排気管４２Ａ、４２Ｂに接続される。排気管８２Ａは、排気管４２Ａの気体および排気管４２Ｂの気体を排出する。排気管８３Ａは、排気管４３Ａ、４３Ｂに接続される。排気管８３Ａは、排気管４３Ａの気体および排気管４３Ｂの気体を排出する。
【0193】
同様に、基板処理装置１は、排気管８１Ｂ、８２Ｂ、８３Ｂを備える。排気管８１Ｂ－８３Ｂと排気管４１Ｃ－４３Ｃ、４１Ｄ－４３Ｄの接続関係は、排気管８１Ａ－８３Ａと排気管４１Ａ－４３Ａ、４１Ｂ－４３Ｂの接続関係と同じである。
【0194】
基板処理装置１は、圧力センサ８４Ａを備える。圧力センサ８４Ａは、排気圧を検出する。具体的には、圧力センサ８４Ａは、排気管８１Ａの内部の気体を計測する。
【0195】
基板処理装置１は、圧力調整機構８７Ａを備える。圧力調整機構８７Ａは、排気圧を調整する。具体的には、圧力調整機構８７Ａは、排気管８１Ａの内部の気体の圧力を調整する。より具体的には、圧力調整機構８７Ａは、圧力センサ８４Ａの検出結果に基づいて、排気管８１Ａの内部の気体の圧力を調整する。
【0196】
同様に、基板処理装置１は、圧力センサ８５Ａ、８６Ａ、８４Ｂ、８５Ｂ、８６Ｂを備える。圧力センサ８５Ａ－８６Ａ、８４Ｂ－８６Ｂはそれぞれ、排気圧を検出する。圧力センサ８５Ａ－８６Ａ、８４Ｂ－８６Ｂはそれぞれ、排気管８２Ａ－８３Ａ、８１Ｂ－８３Ｂの内部の気体を計測する。
【0197】
基板処理装置１は、圧力調整機構８８Ａ、８９Ａ、８７Ｂ、８８Ｂ、８９Ｂを備える。圧力調整機構８８Ａ－８９Ａ、８７Ｂ－８９Ｂはそれぞれ、圧力センサ８５Ａ－８６Ａ、８４Ｂ－８６Ｂの検出結果に基づいて、排気管８２Ａ－８３Ａ、８１Ｂ－８３Ｂの内部の気体の圧力を調整する。
【0198】
排気管８１Ａ、８１Ｂを区別しない場合には、排気管８１と呼ぶ。排気管８２Ａ、８２Ｂを区別しない場合には、排気管８２と呼ぶ。排気管８３Ａ、８３Ｂを区別しない場合には、排気管８３と呼ぶ。圧力センサ８４Ａ、８４Ｂを区別しない場合には、圧力センサ８４と呼ぶ。圧力センサ８５Ａ、８５Ｂを区別しない場合には、圧力センサ８５と呼ぶ。圧力センサ８６Ａ、８６Ｂを区別しない場合には、圧力センサ８６と呼ぶ。圧力調整機構８７Ａ、８７Ｂを区別しない場合には、圧力調整機構８７と呼ぶ。圧力調整機構８８Ａ、８８Ｂを区別しない場合には、圧力調整機構８８と呼ぶ。圧力調整機構８９Ａ、８９Ｂを区別しない場合には、圧力調整機構８９と呼ぶ。
【0199】
図６を参照する。圧力センサ７１は、例えば、処理筐体２３と切り換え機構５１の間の流路に設置される。圧力センサ７１は、例えば、切り換え筐体５３の内部（すなわち、切り換えスペース５４）に設置される。圧力センサ７１は、例えば、導入部５５に設置される。圧力センサ７１は、例えば、分配部５６の一次側に設置される。圧力センサ７１は、例えば、開閉部６１－６３の一次側に設置される。
【0200】
圧力調整機構７３は、例えば、処理筐体２３と切り換え機構５１の間の流路に設置される。圧力調整機構７３は、例えば、切り換え筐体５３の内部（すなわち、切り換えスペース５４）に設置される。圧力調整機構７３は、例えば、導入部５５に設置される。圧力調整機構７３は、例えば、分配部５６の一次側に設置される。圧力調整機構７３は、例えば、開閉部６１－６３の一次側に設置される。圧力調整機構７３は、例えば、圧力センサ７１の近傍に設置される。圧力調整機構７３は、例えば、圧力センサ７１の二次側（下流側）に配置される。圧力調整機構７３は、例えば、圧力センサ７１の一次側に配置される。
【0201】
圧力調整機構７３は、例えば、気体の流量を調整することによって、気体の圧力を調整してもよい。圧力調整機構７３は、例えば、ダンパ、または、ファンである。
【0202】
なお、図７は、圧力センサ７１および圧力調整機構７３の図示を省略する。
【0203】
図３、４、５を参照する。排気管８１－８３はそれぞれ、処理筐体２３よりも高い位置に配置される。各排気管８１は、処理筐体２３よりも高い位置で、２本の排気管４１と接続される。各排気管８２は、処理筐体２３よりも高い位置で、２本の排気管４２と接続される。各排気管８３は、処理筐体２３よりも高い位置で、２本の排気管４３と接続される。
【0204】
排気管４１－４３はそれぞれ、処理筐体２３よりも高い位置まで延びる。気体は、排気管４１－４３内を上方に流れる。排気管４１－４３は、それぞれ下端を有する。排気管４１－４３の下端はそれぞれ、閉塞されている。
【0205】
図３を参照する。排気管８１Ａ－８３Ａは、処理筐体２３Ａ、２３Ｂの上方に配置される。排気管８１Ａ―８３Ａは、幅方向Ｙに並ぶ。排気管８１Ａ－８３Ａは、同じ高さ位置に配置される。排気管８１Ｂ－８３Ｂは、処理筐体２３Ｃ、２３Ｄの上方に配置される。排気管８１Ｂ－８３Ｂは、幅方向Ｙに並ぶ。排気管８１Ｂ－８３Ｂは、同じ高さ位置に配置される。排気管８１Ｂ－８３Ｂは、排気管８１Ａ－８３Ａと同じ高さ位置に配置される。
【0206】
図１０は、処理ブロック１１の上部を示す平面図である。排気管８１Ａ－８３Ａ、８１Ｂ－８３Ｂはそれぞれ、前後方向Ｘに延びる。排気管８１Ａ－８３Ａは、同じ長さを有する。排気管８１Ｂ－８３Ｂは、同じ長さを有する。排気管８１Ｂ－８３Ｂは、排気管８１Ａ－８３Ａよりも短い。
【0207】
排気管８１Ａ、８２Ａ、８３Ａはそれぞれ、前端８１Ａｆ、８２Ａｆ、８３Ａｆを有する。排気管８１Ｂ、８２Ｂ、８３Ｂはそれぞれ、前端８１Ｂｆ、８２Ｂｆ、８３Ｂｆを有する。前端８１Ａｆ－８３Ａｆは、前端８１Ｂｆ－８３Ｂｆよりも前方に配置される。前端８１Ａｆ－８３Ａｆは、インデクサ部３よりも後方に配置される。
【0208】
排気管８１は、処理ブロック１１よりも後方の位置まで延び、不図示の第１排気処理整備に連通接続される。第１排気処理設備は、排気管８１から気体を回収する。同様に、排気管８２、８３はそれぞれ、処理ブロック１１よりも後方の位置まで延び、不図示の第２、第３排気処理整備に連通接続される。第２、第３排気処理設備はそれぞれ、排気管８２、８３から気体を回収する。第１－第３排気処理設備はいずれも、基板処理装置１の外部要素である。第１－第３排気処理設備はそれぞれ、例えば、基板処理装置１が設置される工場に設けられる。
【0209】
気体は、排気管８１－８３内を後方に流れる。前端８１Ａｆ－８３Ａｆ、８１Ｂｆ－８３Ｂｆはそれぞれ、排気管８１Ａ－８３Ａ、８１Ｂ－８３Ｂの上流端に相当する。
【0210】
前端８１Ａｆ－８３Ａｆ、８１Ｂｆ－８３Ｂｆは、基板処理装置１の外部に開放される。例えば、前端８１Ａｆ－８３Ａｆ、８１Ｂｆ－８３Ｂｆは、基板処理装置１が設置されるクリーンルームに開放される。
【0211】
圧力センサ８４は、排気管８１に設置される。圧力センサ８４は、排気管８１と排気管４１との接続位置よりも下流に設置される。例えば、圧力センサ８４Ａは、排気管８１Ａと排気管４１Ａとの接続位置、および、排気管８１Ａと排気管４１Ｂとの接続位置よりも下流に設置される。圧力センサ８４Ａは、排気管８１Ａと排気管４１Ａとの接続位置、および、排気管８１Ａと排気管４１Ｂとの接続位置よりも後方に設置される。
【0212】
同様に、圧力センサ８５、８６はそれぞれ、排気管８２、８３に設置される。
【0213】
圧力調整機構８７は、排気管８１に設置される。圧力調整機構８７は、圧力センサ８４よりも上流に設置される。圧力調整機構８７は、排気管８１と排気管４１との接続位置よりも上流に設けられる。例えば、圧力調整機構８７Ａは、排気管８１Ａと排気管４１Ａとの接続位置、および、排気管８１Ａと排気管４１Ｂとの接続位置よりも上流に設けられる。圧力調整機構８７Ａは、排気管８１Ａと排気管４１Ａとの接続位置、および、排気管８１Ａと排気管４１Ｂとの接続位置よりも前方に設置される。圧力調整機構８７Ａは、排気管８１Ａの前端８１Ａｆに設置される。圧力調整機構８７Ａは、排気管８１Ａの前端８１Ａｆを通じて基板処理装置１の外部から排気管８１Ａに流入する気体の流量を調整する。
【0214】
同様に、圧力調整機構８８、８９はそれぞれ、排気管８２、８３に設置される。
【0215】
圧力調整機構８７－８９は、例えば、気体の流量を調整することによって、気体の圧力を調整してもよい。圧力調整機構８７－８９は、例えば、ダンパ、または、ファンである。
【0216】
＜基板処理装置１の制御＞
図１を参照する。基板処理装置１は、制御部９１を備える。制御部９１は、例えば、インデクサ部３に設置される。制御部９１は、基板処理装置１を制御する。
図１を参照する。基板処理装置１は、制御部９１を備える。制御部９１は、例えば、インデクサ部３に設置される。制御部９１は、基板処理装置１を制御する。
【0217】
図１１は、基板処理装置１の制御ブロック図である。制御部９１は、搬送機構６、１６を制御する。具体的には、制御部９１は、ハンド駆動部８、１８を制御する。制御部９１は、処理ユニット２１を制御する。具体的には、制御部９１は、保持部３１、回転駆動部３２、液供給部３３、カップ３８および吹出ユニット３９を制御する。制御部９１は、切り換え機構５１を制御する。具体的には、制御部９１は、開閉部６１－６３を制御する。制御部９１は、圧力センサ７１、８４、８５、８６の検出結果を取得する。制御部９１は、圧力調整機構７３、８７、８８、８９を制御する。制御部９１は、これらの要素と通信可能に接続される。
【0218】
制御部９１は、各種処理を実行する中央演算処理装置（ＣＰＵ）、演算処理の作業領域となるＲＡＭ（Random-Access Memory）、固定ディスク等の記憶媒体等によって実現されている。記憶媒体は、各種の情報を予め格納している。記憶媒体は、例えば、各処理ユニット２１が行う処理に関する動作条件を規定した情報（処理レシピ）を記憶する。記憶媒体は、例えば、切り換え機構５１が行う排気路の切り換えに関する動作条件を規定した情報を記憶する。記憶媒体は、圧力調整機構７３、８７－８９が行う排気圧の調整に関する動作条件を規定した情報を記憶する。
【0219】
ここで、処理筐体２３Ａ２は、本発明における第２処理筐体の例である。処理ユニット２１Ａ２の保持部３２は、本発明における第２保持部の例である。処理ユニット２１Ａ２の液供給部３３は、本発明における第２液供給部の例である。切り換え機構５１Ａ２は、本発明における第２切り換え機構の例である。
【0220】
圧力センサ７１Ａ１は、本発明における第１圧力センサの例である。圧力センサ７１Ｂ１は、本発明における第３圧力センサの例である。圧力調整機構７３Ａ１は、本発明における第１圧力調整機構の例である。圧力調整機構７３Ｂ１は、本発明における第３圧力調整機構の例である。
【0221】
排気管８１Ａは、本発明における第５排気管の例である。排気管８２Ａは、本発明における第６排気管の例である。圧力センサ８４Ａは、本発明における第５圧力センサの例である。圧力センサ８５Ａは、本発明における第６圧力センサの例である。圧力調整機構８７Ａは、本発明における第５圧力調整機構の例である。圧力調整機構８８Ａは、本発明における第６圧力調整機構の例である。
【0222】
＜基板処理装置１の動作例＞
図１２は、基板Ｗに処理を行う動作の手順を示すフローチャートである。１つの処理ユニット２１に関連する動作例を説明する。基板Ｗは、既に保持部３１に保持されているものとする。各要素は、制御部９１による制御に従って、動作するものとする。
図１２は、基板Ｗに処理を行う動作の手順を示すフローチャートである。１つの処理ユニット２１に関連する動作例を説明する。基板Ｗは、既に保持部３１に保持されているものとする。各要素は、制御部９１による制御に従って、動作するものとする。
【0223】
＜＜ステップＳ１＞＞
液供給部３３が第１処理液を供給する。具体的には、ノズル３４Ａが退避位置から処理位置に移動する。ノズル３４Ａが保持部３１に保持される基板Ｗに第１処理液を供給する。処理筐体２３内の気体は、第１処理液に由来する成分を含む。
液供給部３３が第１処理液を供給する。具体的には、ノズル３４Ａが退避位置から処理位置に移動する。ノズル３４Ａが保持部３１に保持される基板Ｗに第１処理液を供給する。処理筐体２３内の気体は、第１処理液に由来する成分を含む。
【0224】
切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を、排気管４１に切り換える。具体的には、切り換え機構５１は、処理筐体２３を、排気管４１に連通させる。気体は、処理筐体２３から切り換え機構５１を介して排気管４１に流れる。排気管４１は、処理筐体２３の気体を排出する。気体は、さらに、排気管４１から排気管８１に流れる。排気管８１は、排気管４１から気体を排出する。
【0225】
なお、ステップＳ１を実行しているとき、排気管４２、４３の少なくともいずれかは、他の処理筐体２３の気体を排出してもよい。後述するステップＳ２、Ｓ３においても、同様である。
【0226】
圧力センサ７１は、切り換え機構５１の一次側の気体の圧力を計測する。圧力調整機構７３は、圧力センサ７１の検出結果に基づいて、切り換え機構５１の一次側の圧力を調整する。
【0227】
圧力調整機構７３のより詳しい動作を以下に例示する。後述するステップＳ２、Ｓ３においても、圧力調整機構７３は、以下の動作例を実行してもよい。各圧力調整機構７３はそれぞれ、例えば、排気圧が一定となるように、調整する。各圧力調整機構７３はそれぞれ、例えば、圧力センサ７１の検出結果が一定となるように、調整する。圧力調整機構７３Ａ１、７３Ａ２は、例えば、切り換え機構５１Ａ１の一次側の気体の圧力と切り換え機構５１Ａ２の一次側の気体の圧力を互いに等しくさせる。圧力調整機構７３Ａ１－７３Ａ６は、例えば、切り換え機構５１Ａ１－５１Ａ６の一次側の気体の圧力を等しくさせる。圧力調整機構７３Ａ１、７３Ｂ１は、例えば、切り換え機構５１Ａ１、５１Ｂ１の一次側の気体の圧力を等しくさせる。圧力調整機構７３Ａ１、７３Ｂ１、７３Ｃ１、７３Ｄ１は、例えば、切り換え機構５１Ａ１、５１Ｂ１、５１Ｃ１、５１Ｄ１の一次側の気体の圧力を等しくさせる。圧力調整機構７３は、例えば、各切り換え機構５１の一次側の気体の圧力を等しくさせる。
【0228】
圧力センサ８４－８６はそれぞれ、排気管８１－８３の内部の気体を計測する。圧力調整機構８７－８９はそれぞれ、圧力センサ８４－８６の検出結果に基づいて、排気管８１－８３の内部の気体の圧力を調整する。
【0229】
圧力調整機構８７－８９のより詳しい動作を以下に例示する。なお、後述するステップＳ２、Ｓ３においても、圧力調整機構８７－８９は、以下の動作例を実行してもよい。各圧力調整機構８７－８９はそれぞれ、例えば、排気圧が一定となるように、調整する。例えば、圧力調整機構８７Ａは、圧力センサ８４Ａの検出結果が一定となるように、調整する。圧力調整機構８７Ａ－８９Ａは、例えば、排気管８１Ａ－８３Ａの内部の気体の圧力を互いに等しくさせる。圧力調整機構８７Ａ、８７Ｂは、例えば、排気管８１Ａ、８１Ｂの内部の気体の圧力を等しくさせる。圧力調整機構８７Ａ－８９Ａ、８７Ｂ－８９Ｂは、例えば、排気管８１Ａ－８３Ａ、８１Ｂ－８３Ｂの内部の気体の圧力を等しくさせる。
【0230】
＜＜ステップＳ２＞＞
液供給部３３が第２処理液を供給する。具体的には、ノズル３４Ａが処理位置から退避位置に移動し、ノズル３４Ｂが退避位置から処理位置に移動する。ノズル３４Ｂが保持部３１に保持される基板Ｗに第２処理液を供給する。処理筐体２３内の気体は、第２処理液に由来する成分を含む。
液供給部３３が第２処理液を供給する。具体的には、ノズル３４Ａが処理位置から退避位置に移動し、ノズル３４Ｂが退避位置から処理位置に移動する。ノズル３４Ｂが保持部３１に保持される基板Ｗに第２処理液を供給する。処理筐体２３内の気体は、第２処理液に由来する成分を含む。
【0231】
切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を、排気管４２に切り換える。具体的には、切り換え機構５１は、処理筐体２３を、排気管４２に連通させる。気体は、処理筐体２３から切り換え機構５１を介して排気管４２に流れる。排気管４２は、処理筐体２３の気体を排出する。気体は、さらに、排気管４２から排気管８２に流れる。排気管８２は、排気管４２から気体を排出する。
【0232】
圧力センサ７１は、切り換え機構５１の一次側の気体の圧力を計測する。圧力調整機構７３は、圧力センサ７１の検出結果に基づいて、切り換え機構５１の一次側の圧力を調整する。
【0233】
圧力センサ８４－８６はそれぞれ、排気管８１－８３の内部の気体を計測する。圧力調整機構８７－８９はそれぞれ、圧力センサ８４－８６の検出結果に基づいて、排気管８１－８３の内部の気体の圧力を調整する。
【0234】
＜＜ステップＳ３＞＞
液供給部３３が第３処理液を供給する。具体的には、ノズル３４Ｂが処理位置から退避位置に移動し、ノズル３４Ｃが退避位置から処理位置に移動する。ノズル３４Ｃが保持部３１に保持される基板Ｗに第３処理液を供給する。処理筐体２３内の気体は、第３処理液に由来する成分を含む。
液供給部３３が第３処理液を供給する。具体的には、ノズル３４Ｂが処理位置から退避位置に移動し、ノズル３４Ｃが退避位置から処理位置に移動する。ノズル３４Ｃが保持部３１に保持される基板Ｗに第３処理液を供給する。処理筐体２３内の気体は、第３処理液に由来する成分を含む。
【0235】
切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を、排気管４３に切り換える。具体的には、切り換え機構５１は、処理筐体２３を、排気管４３に連通させる。気体は、処理筐体２３から切り換え機構５１を介して排気管４３に流れる。排気管４３は、処理筐体２３の気体を排出する。気体は、さらに、排気管４３から排気管８３に流れる。排気管８３は、排気管４３から気体を排出する。
【0236】
圧力センサ７１は、切り換え機構５１の一次側の気体の圧力を計測する。圧力調整機構７３は、圧力センサ７１の検出結果に基づいて、切り換え機構５１の一次側の圧力を調整する。
【0237】
圧力センサ８４－８６はそれぞれ、排気管８１－８３の内部の気体を計測する。圧力調整機構８７－８９はそれぞれ、圧力センサ８４－８６の検出結果に基づいて、排気管８１－８３の内部の気体の圧力を調整する。
【0238】
＜実施形態の効果＞
上述した通り、基板処理装置１によれば、切り換え機構５１は処理筐体２３と略同じ高さ位置に配置される、よって、切り換え機構５１と処理筐体２３の間の流路を好適に短くできる。その結果、処理筐体２３から気体を適切に排出できる。
上述した通り、基板処理装置１によれば、切り換え機構５１は処理筐体２３と略同じ高さ位置に配置される、よって、切り換え機構５１と処理筐体２３の間の流路を好適に短くできる。その結果、処理筐体２３から気体を適切に排出できる。
【0239】
さらに、基板処理装置１は、次のような効果を得ることができる。
【0240】
切り換え機構５１の少なくとも一部は、処理筐体２３の側方に配置される。このため、処理筐体２３と切り換え機構５１の全体の高さを抑えることができる。このため、基板処理装置１の高さを低く抑えることができる。さらに、鉛直方向Ｚに並ぶ処理筐体２３の数を容易に増加できる。このように、基板処理装置１の大型化を抑制しつつ、基板処理装置１のスループットを好適に向上できる。ここで、「高さ」は、鉛直方向Ｚの長さである。
【0241】
切り換え機構５１の上端Ｐ１は、処理筐体２３の上端Ｐ２と同等またはそれよりも低い。切り換え機構５１の下端Ｑ１は、処理筐体２３の下端Ｑ２と同等またはそれも高い。このように、切り換え機構５１の全体は、上端Ｐ２と同等またはそれよりも低く、下端Ｑ２と同等またはそれよりも高い位置に配置される。このため、切り換え機構５１と処理筐体２３の間の流路を好適に短くできる。
【0242】
切り換え筐体５３は、保持部３１の上面３１ａと同等またはそれよりも低い位置に配置される。このため、切り換え機構５１のサイズは比較的に小さい。具体的には、切り換え機構５１の高さは、処理筐体２３の高さに比べて小さい。よって、基板処理装置１の大型化を好適に抑制できる。
【0243】
切り換え機構５１は、平面視において、保持部３１と重ならない位置に配置される。このため、保持部３１と切り換え機構５１の干渉を容易に回避できる。
【0244】
中心点Ｇから切り換え機構５１までの距離は、平面視において、基板Ｗの半径の３倍よりも大きい。すなわち、切り換え機構５１は、平面視において、中心点Ｇからの距離が基板Ｗの半径の３倍よりも大きなエリアに配置される。よって、保持部３１と切り換え機構５１の干渉を確実に回避できる。
【0245】
中心点Ｇから切り換え機構５１までの距離は、平面視において、基板Ｗの半径の５倍よりも小さい。すなわち、切り換え機構５１は、平面視において、中心点Ｇからの距離が基板Ｗの半径の５倍よりも小さなエリアに配置される。このため、切り換え機構５１と処理筐体２３の間の流路を効果的に短くできる。さらに、切り換え機構５１は、平面視において、比較的に小さい。よって、基板処理装置１のフットプリントの増大を好適に抑制できる。
【0246】
排気管４１－４３はそれぞれ、鉛直方向Ｚに延びる。このため、平面視における排気管４１－４３の設置面積を好適に小さくできる。よって、基板処理装置１のフットプリントの増大を好適に抑制できる。
【0247】
基板処理装置１は、第１配管スペース４４を備える。このため、排気管４１－４３を好適に設置できる。
【0248】
搬送機構１６は、保持部３１に基板Ｗを搬送する。搬送機構１６は、搬送スペース１２に設置される。搬送スペース１２は、処理筐体２３に隣接する。よって、搬送機構１６は、保持部３１に基板Ｗを容易に搬送できる。
【0249】
基板処理装置１は、第１配管スペース４４を備える。このため、排気管４１－４３を好適に設置できる。
【0250】
第１配管スペース４４は、処理筐体２３に隣接する。このため、排気管４１－４３を処理筐体２３の近傍に設置できる。
【0251】
搬送スペース１２は、前後方向Ｘに延びる。処理筐体２３と第１配管スペース４４は、前後方向Ｘに並ぶ。このため、処理筐体２３に隣接する搬送スペース１２および処理筐体２３に隣接する第１配管スペース４４をそれぞれ、好適に配置できる。よって、搬送機構１６が排気管４１－４３と干渉することを好適に防止できる。
【0252】
第１配管スペース４４と処理筐体２３は、前後方向Ｘに並ぶ。排気管４１－４３は、幅方向Ｙに並ぶ。このため、排気管４１－４３をそれぞれ、処理筐体２３の近傍に設置できる。
【0253】
切り換え機構５１の少なくとも一部は、第１配管スペース４４に設置される。このため、切り換え機構５１を処理筐体２３の近傍に設置できる。さらに、切り換え機構５１は、排気管４１－４３と容易に接続できる。
【0254】
切り換え機構５１は、開閉部６１、６２、６３を備える。開閉部６１は、処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置と、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に移動可能である。開閉部６２は、処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置と、処理筐体２３を排気管４２から遮断する位置に移動可能である。開閉部６３は、処理筐体２３を排気管４３に連通させる位置と、処理筐体２３を排気管４３から遮断する位置に移動可能である。開閉部６１、６２、６３は、互いに独立して移動可能である。このため、切り換え機構５１は、排気管４１－４３を個別に、処理筐体２３に連通させることができる。切り換え機構５１は、排気管４１－４３を個別に、処理筐体２３から遮断できる。
【0255】
切り換え機構５１は、切り換え筐体５３を備える。切り換え筐体５３は、処理筐体２３に接続される。切り換え筐体５３は、開閉部６１－６３を収容する。このため、切り換え筐体５３は、処理筐体２３から開閉部６１―６３までの流路を好適に形成できる。
【0256】
切り換え筐体５３は、処理筐体２３および排気管４１に接続される。このため、切り換え筐体５３は、処理筐体２３から排気管４１までの流路を好適に形成できる。さらに、切り換え筐体５３は、排気管４２、４３に接続される。このため、切り換え筐体５３は、処理筐体２３から排気管４２、４３までの流路を好適に形成できる。
【0257】
開閉部６１－６３は、１つの切り換え筐体５３内に設置される。このため、処理筐体２３から開閉部６１―６３までの流路を一層短くできる。
【0258】
開閉部６１－６３は、１つの切り換えスペース５４に設置される。このため、開閉部６１－６３は、同じ条件下で、排気管４１－４３の開口４１ｋ－４３ｋを開閉できる。よって排気管４１－４３の間で、処理筐体２３から気体を排出する条件を、容易に等しくできる。例えば、排気管４１－４３の間で、排気圧力がばらつくことを抑制できる。例えば、排気管４１－４３の間で、排気流量がばらつくことを抑制できる。よって、処理筐体２３内において基板Ｗに行う処理の品質を好適に向上できる。
【0259】
切り換え筐体５３は、導入部５５を備える。導入部５５は、処理筐体２３に接続される。このため、処理筐体２３から切り換え筐体５３に気体を容易に導入できる。
【0260】
導入部５５は、前後方向Ｘに延びる。上述の通り、搬送スペース１２は前後方向Ｘに延びる。このため、処理筐体２３に隣接する搬送スペース１２および処理筐体２３に接続される導入部をそれぞれ、好適に配置できる。よって、搬送機構１６が導入部５５と干渉することを好適に防止できる。
【0261】
切り換え筐体５３は、分配部５６を備える。分配部５６は、導入部５５に接続される。分配部５６は、排気管４１－４３に接続される。このため、切り換え筐体５３から排気管４１－４３に気体を容易に出すことができる。
【0262】
分配部５６は、排気管４１－４３に接続される。分配部５６は、開閉部６１－６３を収容する。よって、切り換え機構５１は、処理筐体２３の排気路を、排気管４１－４３の間で、容易に切り換えることができる。
【0263】
分配部５６は、幅方向Ｙに延びる。上述のとおり、排気管４１－４３は、幅方向Ｙに並ぶ。このように、分配部５６が延びる方向は、排気管４１－４３が並ぶ方向と平行である。よって、分配部５６は、排気管４１－４３と容易に接続できる。
【0264】
導入部５５は、搬送スペース１２に比較的に近い位置に配置される。具体的には、平面視において、導入部５５と搬送スペース１２との離隔距離は、保持部３１と搬送スペース１２との離隔距離よりも小さい。このため、導入部５５は、処理筐体２３内に設置される部材（たとえば、ベース部３７Ａ－３７Ｃ）と干渉することを容易に防止できる。よって、処理筐体２３から導入部５５に気体を円滑に導入できる。例えば、処理筐体２３から導入部５５に入る気体の流れが、処理筐体２３内に設置される部材によって、乱れることを好適に回避できる。
【0265】
給気管４８は、処理筐体２３に気体を供給する。第２配管スペース４６は、給気管４８を収容する。第２配管スペース４６は、処理筐体２３に隣接する。よって、給気管４８は、処理筐体２３に気体を容易に供給できる。
【0266】
第１配管スペース４４Ａと処理筐体２３Ａと第２配管スペース４６は、この順で、前後方向Ｘに並ぶ。このため、第１配管スペース４４と第２配管スペース４６は、処理筐体２３によって、隔てられている。よって、排気管４１－４３の配置は、給気管４８によって、制限されない。すなわち、排気管４１－４３の配置の自由度を好適に高められる。例えば、排気管４１－４３を処理筐体２３の近傍に容易に設置できる。
【0267】
処理筐体２３Ａを例にとって、説明する。基板処理装置１は、処理筐体２３Ａ２を備える。処理筐体２３Ａ２は、処理筐体２３Ａ１の下方に配置される。このため、平面視における処理筐体２３Ａ１、２３Ａ２の設置面積を好適に小さくできる。よって、基板処理装置１のフットプリントの増大を好適に抑制できる。
【0268】
基板処理装置１は、切り換え機構５１Ａ２を備える。切り換え機構５１Ａ２は、処理筐体２３Ａ２の排気路を、排気管４１Ａ－４３Ａのひとつに切り換える。したがって、排気管４１Ａ－４３Ａはそれぞれ、処理筐体２３Ａ１の気体に加えて、処理筐体２３Ａ２の気体を排出する。よって、基板処理装置１の構造を簡素化できる。
【0269】
切り換え機構５１Ａ２は、処理筐体２３Ａ２と略同じ高さ位置に配置される。このため、処理筐体２３Ａ２と切り換え機構５１Ａ２の間の流路を好適に短くできる。その結果、処理筐体２３Ａ２から気体を適切に排出できる。
【0270】
処理筐体２３Ａ２は、平面視において、処理筐体２３Ａ１と同じ位置に配置される。切り換え機構５１Ａ２は、平面視において、切り換え機構５１Ａ１と同じ位置に配置される。このため、処理筐体２３Ａ２と切り換え機構５１Ａ２の相対的な位置は、処理筐体２３Ａ１と切り換え機構５１Ａ１の相対的な位置と略同じである。よって、処理筐体２３Ａ２と切り換え機構５１Ａ２の間の流路は、処理筐体２３Ａ１と切り換え機構５１Ａ１の間の流路と、同じ長さおよび同じ形状を有する。したがって、処理筐体２３Ａ１、２３Ａ２の間で、気体を排出する条件を、容易に等しくできる。例えば、処理筐体２３Ａ１、２３Ａ２の間で、排気圧力がばらつくことを抑制できる。例えば、処理筐体２３Ａ１、２３Ａ２の間で、排気流量がばらつくことを抑制できる。その結果、処理筐体２３Ａ１、２３Ａ２の間で、基板Ｗに行う処理の品質を好適に等しくできる。
【0271】
切り換え機構５１Ａ２は、平面視において、切り換え機構５１Ａ１と同じ位置に配置される。排気管４１Ａは、鉛直方向Ｚに延びる。よって、切り換え機構５１Ａ１、５１Ａ２はそれぞれ、排気管４１Ａと容易に接続できる。同様に、排気管４２Ａ、４３Ａはそれぞれ、鉛直方向Ｚに延びる。よって、切り換え機構５１Ａ１、５１Ａ２はそれぞれ、排気管４２Ａ、４３Ａと容易に接続できる。
【0272】
同様に、基板処理装置１は、処理筐体２３Ａ３－２３Ａ６を備える。処理筐体２３Ａ３－２３Ａ６はそれぞれ、処理筐体２３Ａ１の下方に配置される。って、基板処理装置１のフットプリントの増大を一層、好適に抑制できる。
【0273】
基板処理装置１は、切り換え機構５１Ａ３－５１Ａ６を備える。切り換え機構５１Ａ３－５１Ａ６はそれぞれ、処理筐体２３Ａ３－２３Ａ６の排気路を、排気管４１Ａ－４３Ａのひとつに切り換える。したがって、排気管４１Ａ－４３Ａはそれぞれ、処理筐体２３Ａ１－２３Ａ６の気体を排出する。よって、基板処理装置１の構造を一層、簡素化できる。
【0274】
処理筐体２３Ａ３－２３Ａ６は、平面視において、処理筐体２３Ａ１と同じ位置に配置される。切り換え機構５１Ａ３－５１Ａ６はそれぞれ、平面視において、切り換え機構５１Ａ１と同じ位置に配置される。このため、処理筐体２３Ａ３－２３Ａ６と切り換え機構５１Ａ３－５１Ａ６の相対的な位置は、処理筐体２３Ａ１と切り換え機構５１Ａ１の相対的な位置と略同じである。その結果、処理筐体２３Ａ１－２３Ａ６の間で、基板Ｗに行う処理の品質を好適に等しくできる。
【0275】
切り換え機構５１Ａ３－５１Ａ６はそれぞれ、平面視において、切り換え機構５１Ａ１と同じ位置に配置される。排気管４１Ａ－４３Ａはそれぞれ、鉛直方向Ｚに延びる。よって、切り換え機構５１Ａ３－５１Ａ６はそれぞれ、排気管４１Ａ－４３Ａと容易に接続できる。
【0276】
圧力センサ７１は、切り換え機構５１の一次側の気体の圧力を計測する。圧力調整機構７３は、圧力センサ７１の検出結果に基づいて、切り換え機構５１の一次側の気体の圧力を調整する。このため、切り換え機構５１の一次側の圧力を好適に調整できる。よって、処理筐体２３内において基板Ｗに行う処理の品質を好適に向上できる。
【0277】
圧力調整機構７３は、例えば、排気圧が一定となるように調整する。これにより、処理筐体２３内において基板Ｗに処理を行うときに、排気圧が変動することを抑制できる。よって、処理筐体２３内において基板Ｗに行う処理の品質を好適に向上できる。
【0278】
圧力調整機構７３Ａ１、７３Ａ２は、例えば、切り換え機構５１Ａ１、５１Ａ２の一次側の気体の圧力を等しくさせる。これにより、処理筐体２３Ａ１において基板Ｗに処理を行うときの排気圧と、処理筐体２３Ａ２において基板Ｗに処理を行うときの排気圧を、好適に等しくできる。よって、鉛直方向Ｚに並ぶ処理筐体２３Ａ１、２３Ａ２の間において、基板Ｗに行う処理の品質を好適に等しくできる。
【0279】
圧力調整機構７３Ａ１－７３Ａ６は、例えば、切り換え機構５１Ａ１－５１Ａ６の一次側の気体の圧力を互いに等しくさせる。これにより、鉛直方向Ｚに並ぶ全ての処理筐体２３Ａ１－２３Ａ６の間において、基板Ｗに行う処理の品質を好適に等しくできる。
【0280】
圧力調整機構７３Ａ１、７３Ｂ１は、例えば、切り換え機構５１Ａ１、５１Ｂ１の一次側の気体の圧力を等しくさせる。これにより、同じ高さ位置に配置される処理筐体２３Ａ１、２３Ｂ１の間において、基板Ｗに行う処理の品質を好適に等しくできる。
【0281】
圧力調整機構７３Ａ１、７３Ｂ１、７３Ｃ１、７３Ｄ１は、例えば、切り換え機構５１Ａ１、５１Ｂ１、５１Ｃ１、５１Ｄ１の一次側の気体の圧力を等しくさせる。これにより、同じ高さ位置に配置される全ての処理筐体２３Ａ１、２３Ｂ１、２３Ｃ１、２３Ｄ１の間において、基板Ｗに行う処理の品質を好適に等しくできる。
【0282】
圧力調整機構７３は、例えば、各切り換え機構５１の一次側の気体の圧力を等しくさせる。これにより、全ての処理筐体２３の間において、基板Ｗに行う処理の品質を好適に等しくできる。
【0283】
排気管８１Ａは、排気管４１Ａ、４１Ｂに接続される。排気管８１Ａは、排気管４１Ａ、４１Ｂから気体を排出する。このように、２本の排気管４１Ａ、４１Ｂを１本の排気管８１Ａに集約する。このため、基板処理装置１の構造を簡素化できる。
【0284】
同様に、排気管８２Ａは、排気管４２Ａ、４２Ｂに接続される。排気管８２Ａは、排気管４１Ａ、４２Ｂの気体を排出する。排気管８３Ａは、排気管４３Ａ、４３Ｂに接続される。排気管８３Ａは、排気管４３Ａ、４３Ｂの気体を排出する。このため、基板処理装置１の構造を一層簡素化できる。
【0285】
圧力センサ８４は、排気管８１の内部の気体の圧力を計測する。圧力調整機構８７は、圧力センサ８４の検出結果に基づいて、排気管８１の内部の気体の圧力を調整する。このため、排気管８１の内部の圧力を好適に調整できる。よって、処理筐体２３内において基板Ｗに行う処理の品質を一層好適に向上できる。
【0286】
同様に、圧力センサ８５、８６は、排気管８２、８３の内部の気体の圧力を計測する。圧力調整機構８８、８９は、圧力センサ８５、８６の検出結果に基づいて、排気管８２、８３の内部の気体の圧力を調整する。このため、排気管８２、８３の内部の圧力を好適に調整できる。よって、処理筐体２３内において基板Ｗに行う処理の品質を好適に向上できる。
【0287】
排気管８１Ａを例にとって、説明する。圧力センサ８４Ａは、排気管８１Ａと排気管４１Ａとの接続位置、および、排気管８１Ａと排気管４１Ｂとの接続位置よりも下流に設置される。排気管８１Ａと排気管４１Ａとの接続位置、および、排気管８１Ａと排気管４１Ｂとの接続位置よりも下流の位置では、排気管４１Ａからの気体および排気管４１Ｂからの気体の両方が流れる。よって、圧力センサ８４Ａは、排気管４１Ａ、４１Ｂの全体の排気圧を好適に検出できる。
【0288】
同様に、圧力センサ８５Ａは、排気管８２Ａと排気管４２Ａとの接続位置、および、排気管８２Ａと排気管４２Ｂとの接続位置よりも下流に設置される。よって、圧力センサ８５Ａは、排気管４２Ａ、４２Ｂの全体の排気圧を好適に検出できる。圧力センサ８６Ａは、排気管８３Ａと排気管４３Ａとの接続位置、および、排気管８３Ａと排気管４３Ｂとの接続位置よりも下流の位置に設置される。よって、圧力センサ８６Ａは、排気管４３Ａ、４３Ｂの全体の排気圧を好適に検出できる。
【0289】
例えば、圧力調整機構８７は、排気圧が一定となるように調整する。同様に、圧力調整機構８８、８９は、排気圧が一定となるように調整する。これにより、処理筐体２３内において基板Ｗに処理を行うときに、排気圧が変動することを抑制できる。よって、処理筐体２３内において基板Ｗに行う処理の品質を好適に向上できる。
【0290】
圧力調整機構８７Ａ－８９Ａは、例えば、排気管８１Ａ－８３Ａの内部の気体の圧力を等しくさせる。これにより、排気管４１Ａ－４３Ａ、４１Ｂ－４３Ｂの間で、排気圧を好適に等しくできる。よって、処理筐体２３Ａ、２３Ｂの排気路を切り換えたときに、排気圧が変動することを抑制できる。よって、処理筐体２３Ａ、２３Ｂ内において基板Ｗに行う処理の品質を好適に向上できる。
【0291】
圧力調整機構８７Ａ、８７Ｂは、例えば、排気管８１Ａ、８１Ｂの内部の気体の圧力を等しくさせる。これにより、排気管８１Ａ、８１Ｂが互いに異なる長さを有していても、排気管８１Ａ、８１Ｂの間で排気圧がばらつくことを抑制できる。よって、排気路４１Ａ、４１Ｂと、排気路４１Ｃ、４１Ｄの間で、排気圧を等しくできる。したがって、処理筐体２３Ａ、２３Ｂと処理筐体２３Ｃ、２３Ｄの間において、基板Ｗに行う処理の品質Ｗを好適に等しくできる。
【0292】
圧力調整機構８７Ａ－８９Ａ、８７Ｂ－８９Ｂは、例えば、排気管８１Ａ－８３Ａ、８１Ｂ－８３Ｂの内部の気体の圧力を等しくさせる。これにより、排気管８１Ａ－８３Ａ、８１Ｂ－８３Ｂが互いに異なる長さを有していても、排気管８１Ａ－８３Ａ、８１Ｂ－８３Ｂの間で、排気圧がばらつくことを抑制できる。よって、排気路４１Ａ－４３Ａ、４１Ｂ－４３Ｂ、４１Ｃ－４３Ｃ、４１Ｄ－４３Ｄの間で、排気圧を等しくできる。したがって、処理筐体２３Ａ、２３Ｂ、２３Ｃ、２３Ｄの間において、基板Ｗに行う処理の品質を一層好適に等しくできる。
【0293】
液供給部３３は、第１処理液と第２処理液と第３処理液を供給可能である。液供給部３３は、第１処理液と第２処理液と第３処理液の間で、供給する処理液を切り換える。処理筐体２３内において使用される処理液の切り換えに応じて、切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を排気管４１－４３の間で切り換える。液供給部３３が第１処理液を供給するとき、切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を、排気管４１に切り換える。液供給部３３が第２処理液を供給するとき、切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を、排気管４２に切り換える。液供給部３３が第３処理液を供給するとき、切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を、排気管４３に切り換える。この結果、液供給部３３が第１処理液を供給するとき、排気管４１が処理筐体２３の気体を排出する。液供給部３３が第２処理液または第３処理液を供給するとき、排気管４１は処理筐体２３の気体を排出しない。よって、排気管４１の内部が汚損されることを好適に抑制できる。同様の理由により、排気管４２、４３の内部が汚損されることも好適に抑制できる。したがって、気体は、排気管４１－４３を円滑に流れる。その結果、処理筐体２３の気体を一層、適切に排出できる。
【0294】
さらに、排気管８１－８３の内部が汚損されることを好適に抑制できる。したがって、気体は、排気管８１－８３を円滑に流れる。その結果、処理筐体２３の気体を一層、適切に排出できる。
【0295】
本発明は、実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【0296】
実施形態では、切り換え機構５１は、処理筐体２３の気体の排気路を、排気管４１－４３のひとつに切り換える。すなわち、切り換え機構５１は、３本の排気管（具体的には、排気管４１－４３）の間で切り換える。但し、これに限られない。切り換え機構５１は、２本の排気管の間で切り換えてもよい。例えば、排気管４３を省略してもよい。この場合、切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を、排気管４１、４２のひとつに切り換える。切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を、排気管４１、４２の間で切り換える。切り換え機構５１は、４本以上の排気管の間で切り換えてもよい。例えば、基板処理装置１は、排気管４１－４３に加えて、追加排気管を備えてもよい。この場合、切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を、排気管４１－４３および追加排気管のひとつに切り換える。切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を、排気管４１－４３と追加排気管の間で切り換える。
【0297】
実施形態では、排気管４１－４３は、平面視において、処理筐体２３と分配部５６の間に配置される。但し、これに限られない。分配部５６は、平面視において、排気管４１－４３と処理筐体２３の間に配置されてもよい。
【0298】
図１３は、変形実施形態における処理ユニット２１の平面図である。なお、実施形態と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。
【0299】
基板処理装置１は、切り換え機構１０１を備える。切り換え機構１０１は、切り換え筐体１０３を備える。切り換え筐体１０３は、分配部１０６を備える。分配部１０６は、処理筐体２３の外部に設置される。分配部１０６は、第１配管スペース４４に設置される。分配部１０６は、処理筐体２３に接する。分配部１０６は、平面視において、処理筐体２３と排気管４１－４３の間に配置される。具体的には、分配部１０６は、処理筐体２３の側壁２５ｂに接する。分配部１０６は、側壁２５ｂと排気管４１－４３の間に配置される。
【0300】
実施形態では、切り換え機構５１の一部（例えば、第１端５５ａ）は、処理筐体２３の内部に配置される。但し、これに限られない。切り換え機構５１の全部が、処理筐体２３の外部に配置されてもよい。同様に、実施形態では、切り換え筐体５３の一部（例えば、第１端５５ａ）は、処理筐体２３の内部に配置される。但し、これに限られない。切り換え筐体５３の全部が、処理筐体２３の外部に配置されてもよい。
【0301】
図１３を参照する。切り換え機構１０１は、導入部１０５を備える。導入部１０５は、前後方向Ｘに延びる。導入部１０５は、第１端１０５ａと第２端１０５ｂを有する。第１端１０５ａは、切り換えスペース５４の上流端に相当する。第１端１０５ａは、処理筐体２３の側壁２５ｂに配置される。第１端１０５ａは、処理筐体２３の側壁２５ｂに接続される。第１端１０５ａは、処理筐体２３の内部に配置されていない。第２端１０５ｂは、処理筐体２３の外部に設置される。このため、導入部１０５の全体は、処理筐体２３の外部に設置される。この結果、切り換え筐体１０３の全体は、処理筐体２３の外部に設置される。切り換え機構１０１の全体は、処理筐体２３の外部に設置される。ここで、処理筐体２３の外部は、具体的には、第１配管スペース４４である。
【0302】
実施形態では、切り換え機構５１の一部（例えば、第１端５５ａ）は、処理筐体２３の内部に設置される。但し、これに限られない。切り換え機構５１の全部が、処理筐体２３の内部に設置されてもよい。同様に、実施形態では、切り換え筐体５３の一部は、処理筐体２３の内部に配置される。但し、これに限られない。切り換え筐体５３の全部が、処理筐体２３の内部に配置されてもよい。実施形態では、開閉部６１－６３は、処理筐体２３の外部に配置される。但し、これに限られない。開閉部６１－６３が、処理筐体２３の内部に配置されてもよい。
【0303】
【0304】
排気管４１－４３は、第１配管スペース４４に設置される。排気管４１－４３の開口ｋ１－ｋ３はそれぞれ、処理筐体２３（具体的には側壁２５ｂ）と接する。
【0305】
基板処理装置１は、切り換え機構１１１を備える。切り換え機構１１１は、開閉部１１３、１１４、１１５を備える。開閉部１１３－１１５はそれぞれ、処理筐体２３の内部に設置される。開閉部１１３－１１５はそれぞれ、側壁２５ｂの近傍に設置される。開閉部１１３－１１５はそれぞれ、開口４１ｋ－４３ｋに対向する位置に配置される。
【0306】
各開閉部１１３－１１５はそれぞれ、開閉部６１－６３と同じ構造を有する。開閉部１１３は、処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置と、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に移動可能である。開閉部１１４は、処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置と、処理筐体２３を排気管４２から遮断する位置に移動可能である。開閉部１１５は、処理筐体２３を排気管４３に連通させる位置と、処理筐体２３を排気管４３から遮断する位置に移動可能である。
【0307】
このように、切り換え１１１の全部は、処理筐体２３の内部に設置される。
【0308】
図１４に示す変形実施形態では、切り換え機構１１１は、切り換え筐体を備えてもよいし、切り換え筐体を備えなくてもよい。切り換え機構１１１が切り換え筐体を備える場合、切り換え機構１１１の切り換え筐体の全体が、処理筐体２３の内部に設置されてもよい。
【0309】
実施形態では、切り換え機構５１は切り換え筐体５３を備える。但し、これに限られない。図１４の変形実施形態で例示したように、切り換え筐体５３を適宜に省略してもよい。
【0310】
実施形態では、切り換え筐体５３は、カップ３８に接続されない。但し、これに限られない。切り換え筐体５３は、カップ３８に接続されてもよい。切り換え筐体５３は、カップ３８の内部から排気管４１－４３までの流路を形成してもよい。
【0311】
実施形態では、開閉部６１が処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置にあるとき、開閉部６１は、処理筐体２３を排気管４２、４３から遮断しない。但し、これに限られない。開閉部６１が処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置にあるとき、開閉部６１は、処理筐体２３を排気管４２、４３から遮断してもよい。同様に、実施形態では、開閉部６２が処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置にあるとき、開閉部６２は、処理筐体２３を排気管４３から遮断しない。但し、これに限られない。開閉部６２が処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置にあるとき、開閉部６２は、処理筐体２３を排気管４３から遮断してもよい。
【0312】
図１５は、変形実施形態における処理ユニット２１の平面図である。なお、実施形態と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。
【0313】
基板処理装置１は、切り換え機構１２１を備える。切り換え機構１２１は、開閉部１２３、１２４を備える。開閉部１２３、１２４は、切り換え筐体５３の内部に設置される。すなわち、開閉部１２３、１２４は、切り換えスペース５４に設置される。開閉部１２３、１２４はそれぞれ、開口４１ｋ、４２ｋに対向する位置に配置される。開閉部１２３は、開口４１ｋを開閉する。開閉部１２４は、開口４２ｋを開閉する。なお、切り換え機構１２１は、開閉部６３に相当する部材を備えていない。
【0314】
気体は、切り換えスペース５４を一方向に流れる。気体は、導入部５５から分配部５６に流れる。開口４１ｋ、４２ｋ、４３ｋはそれぞれ、切り換えスペース５４に連通する。開口４２ｋと切り換えスペース５４が連通する位置は、開口４１ｋと切り換えスペース５４が連通する位置よりも下流である。開口４３ｋと切り換えスペース５４が連通する位置は、開口４２ｋと切り換えスペース５４が連通する位置よりも下流である。
【0315】
ここで、切り換えスペース５４を、仮想的な境界Ｂ１、Ｂ２によって、第１区域１２６と第２区域１２７と第３区域１２８に分ける。図１５は、境界Ｂ１、Ｂ２の位置を、一点鎖線で例示する。境界Ｂ１は、開口４１ｋと切り換えスペース５４が連通する位置よりも下流、かつ、開口４２ｋと切り換えスペース５４が連通する位置よりも上流に位置する。境界Ｂ２は、開口４２ｋと切り換えスペース５４が連通する位置よりも下流、かつ、開口４３ｋと切り換えスペース５４が連通する位置よりも上流に位置する。第１区域１２６は、境界Ｂ１よりも上流に位置する切り換えスペース５４の部分である。第２区域１２７は、境界Ｂ１よりも下流、かつ、境界Ｂ２よりも上流に位置する切り換えスペース５４の部分である。第３区域１２８は、境界Ｂ２よりも下流に位置する切り換えスペース５４の部分である。
【0316】
開閉部１２３は、処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置と、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に移動可能である。図１５は、処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置にある開閉部１２３を実線で示す。図１５は、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置にある開閉部１２３を破線で示す。
【0317】
開閉部１２３が処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置にあるとき、開閉部１２３は、開口４１ｋを開放するのに加え、第１区域１２６を第２区域１２７から遮断する。すなわち、開閉部１２３が処理筐体２３を排気管４１に連通させるとき、開閉部１２３は、処理筐体２３を排気管４２、４３から遮断する。開閉部１２３が処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置にあるとき、開閉部１２３は、開口４１ｋを閉塞するのに加え、第１区域１２６を第２区域１２７に連通させる。すなわち、開閉部１２３が処理筐体２３を排気管４１から遮断するとき、開閉部１２３は、処理筐体２３を排気管４２、４３から遮断しない。
【0318】
開閉部１２４は、処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置と、処理筐体２３を排気管４２から遮断する位置に移動可能である。図１５は、処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置にある開閉部１２４を実線で示す。図１５は、処理筐体２３を排気管４２から遮断する位置にある開閉部１２４を破線で示す。
【0319】
開閉部１２４が処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置にあるとき、開閉部１２４は、開口４２ｋを開放するのに加え、第２区域１２７を第３区域１２８から遮断する。すなわち、開閉部１２４が処理筐体２３を排気管４２に連通させるとき、開閉部１２４は、処理筐体２３を排気管４３から遮断する。開閉部１２４が処理筐体２３を排気管４２から遮断する位置にあるとき、開閉部１２４は、開口４２ｋを閉塞するのに加え、第２区域１２７を第３区域１２８に連通させる。すなわち、開閉部１２４が処理筐体２３を排気管４２から遮断するとき、開閉部１２４は、処理筐体２３を排気管４３から遮断しない。
【0320】
切り換え機構１２１が処理筐体２３の排気路を排気管４１に切り換える場合、開閉部１２３は、処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置に移動する。開閉部１２４は、処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置、および、処理筐体２３を排気管４２から遮断する位置のいずれに移動してもよい。
【0321】
切り換え機構１２１が処理筐体２３の排気路を排気管４２に切り換える場合、開閉部１２３は、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に移動する。開閉部１２４は、処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置に移動する。
【0322】
切り換え機構１２１が処理筐体２３の排気路を排気管４３に切り換える場合、開閉部１２３は、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に移動する。開閉部１２４は、処理筐体２３を排気管４２から遮断する位置に移動する。
【0323】
本変形実施形態によれば、開閉部６３に相当する部材を省略することができる。すなわち、開閉部１２３、１２４の数は、排気管４１－４３の数よりも、ひとつ少なくて足りる。よって、切り換え機構１２１の構造を簡素化できる。
【0324】
切り換え機構１２１が処理筐体２３の排気路を排気管４１に切り換えるとき、気体が第２区域１２７および第３区域１２８に流れることを防止でき、気体が第２区域１２７および第３区域１２８に滞留することを好適に防止できる。よって、処理筐体２３の気体を一層適切に排出できる。
【0325】
切り換え機構１２１が処理筐体２３の排気路を排気管４２に切り換えるとき、気体が第３区域１２８に流れることを防止でき、気体が第３区域１２８に滞留することを好適に防止できる。よって、処理筐体２３の気体を一層適切に排出できる。
【0326】
実施形態では、開閉部６１の回転軸線Ａ１は、開閉部６１の第１端を通る。但し、これに限られない。開閉部６１の回転軸線Ａ１の位置を、適宜に変更できる。
【0327】
図１６は、変形実施形態における処理ユニット２１の平面図である。なお、実施形態と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。
【0328】
基板処理装置１は、切り換え機構１３１を備える。切り換え機構１３１は、開閉部１３３、１３４を備える。開閉部１３３、１３４は、切り換え筐体５３の内部に設置される。開閉部１３３、１３４はそれぞれ、開口４１ｋ、４２ｋに対向する位置に配置される。開閉部１３３は、開口４１ｋを開閉する。開閉部１３４は、開口４２ｋを開閉する。なお、切り換え機構１３１は、開閉部６３に相当する部材を備えていない。
【0329】
開閉部１３３は、平面視において、略Ｔ字形状を有する。開閉部１３３は、プレート部１３３ａと基部１３３ｂとを備える。プレート１３３ａは、略垂直な平板形状を有する。基部１３３ｂは、平面視において、プレート部１３３ａの中央部に接続される。基部１３３ｂは、プレート部１３３ａから水平方向に突出する。開閉部１３３は、回転軸線Ａ４回りに揺動する。回転軸心Ａ４は、鉛直方向Ｚと平行な仮想線である。回転軸線Ａ４は、基部１３３ｂを通る。回転軸線Ａ４は、プレート部１３３ａを通らない。開閉部１３３は、回転軸線Ａ４回りに揺動する。
【0330】
開閉部１３４は、開閉部１３３と同じ構造を有する。すなわち、開閉部１３４は、プレート部１３４ａと基部１３４ｂとを備える。開閉部１３４は、回転軸心Ａ５回りに揺動する。
【0331】
開閉部１３３は、処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置と、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に移動可能である。図１６は、処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置にある開閉部１３３を実線で示す。図１６は、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置にある開閉部１３３を破線で示す。
【0332】
開閉部１３４は、処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置と、処理筐体２３を排気管４２から遮断する位置に移動可能である。図１６は、処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置にある開閉部１３４を破線で示す。図１６は、処理筐体２３を排気管４２から遮断する位置にある開閉部１３４を実線で示す。
【0333】
開閉部１３３、１３４は、図１５に示す開閉部１２３、１２４と同様の機能を有する。例えば、開閉部１３３が処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置にあるとき、開閉部１３３は、処理筐体２３を排気管４２、４３から遮断する。開閉部１３４が処理筐体２３を排気管４２に連通させる位置にあるとき、開閉部１３４は、処理筐体２３を排気管４３から遮断する。
【0334】
実施形態では、液供給部３３は、第１処理液と第２処理液と第３処理液を供給する。すなわち、液供給部３３が供給可能な処理液の種類の数は、３つである。但し、これに限られない。液供給部３３が供給可能な処理液の種類の数は、３つ未満であってもよい。液供給部３３が供給可能な処理液の種類の数は、３つよりも多くてもよい。
【0335】
例えば、液供給部３３は、第４処理液を供給可能であってもよい。第４処理液は、例えば、リンス液に分類される。第４処理液は、例えば、純水、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水、および、希釈された塩酸水の少なくとも１つを含む。
【0336】
実施形態において、処理ユニット２１は、さらに、処理ガス供給部を備えてもよい。処理ガス供給部は、処理筐体２３の内部に設置される。処理ガス供給部は、保持部３１に保持される基板Ｗに処理ガスを供給する。処理ガス供給部は、少なくとも１種類以上の処理ガスを供給する。処理ガスは、例えば、清浄空気以外のガスである。
【0337】
処理ユニット２１が処理ガス供給部を備える場合、切り換え機構５１は、以下のように、動作してもよい。処理筐体２３内における処理ガスの使用および不使用の間における切り換えに応じて、切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を切り換えてもよい。処理筐体２３内において使用する処理ガスを複数の種類の処理ガスの間で切り換える場合、処理ガスの種類の切り換えに応じて、切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を切り換えてもよい。処理液の供給と処理ガスの供給の間における切り換えに応じて、切り換え機構５１は、処理筐体２３の排出路を切り換えてもよい。
【0338】
実施形態では、液供給部３３は、保持部３１に保持される基板Ｗに、第１処理液と第２処理液と第３処理液をこの順に供給する。但し、これに限られない。第１処理液と第２処理液と第３処理液を供給する順序を、適宜に変更してもよい。
【0339】
実施形態では、略同じ高さ位置に設置される処理筐体２３の数は、４つである。但し、これに限られない。略同じ高さ位置に設置される処理筐体２３の数は、４つ未満、または、４つよりも多くてもよい。上述した実施形態では、鉛直方向Ｚに並ぶ処理筐体２３の数は、６つである。但し、これに限られない。鉛直方向Ｚに並ぶ処理筐体２３の数は、６つ未満、または、６つよりも多くてもよい。
【0340】
実施形態では、基板処理装置１は、２つの搬送スペース１２Ａ、１２Ｂを備える。すなわち、搬送スペース１２の数は、２つである。但し、これに限られない。例えば、搬送スペース１２の数は、１つでもよい。例えば、搬送スペース１２Ｂを省略してもよい。例えば、搬送スペース１２の数は、３つ以上でもよい。
【0341】
実施形態では、１つの搬送スペース１２に設置される搬送機構１６の数は１つである。但し、これに限られない。例えば、１つの搬送スペース１２に設置される搬送機構１６の数は２つ以上でもよい。
【0342】
実施形態では、第１配管スペース４４Ａは、処理筐体２３Ａの前方に配置される。第２配管スペース４６Ａは、処理筐体２３Ａの後方に配置される。但し、これに限られない。処理筐体２３Ａと第１配管スペース４４Ａと第２配管スペース４６Ａの相対的な位置を、適宜に変更してもよい。
【0343】
図１７は、変形実施形態における基板処理装置１４１の内部を示す平面図である。なお、実施形態と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。
【0344】
基板処理装置１４１では、第１配管スペース４４Ａは、処理筐体２３Ａの後方に配置される。第２配管スペース４６Ａは、処理筐体２３Ａの前方に配置される。
【0345】
さらに、基板処理装置１４１では、第１配管スペース４４Ｂは、処理筐体２３Ｂの後方に配置される。第２配管スペース４６Ｂは、処理筐体２３Ｂの前方に配置される。第１配管スペース４４Ｃは、処理筐体２３Ｃの前方に配置される。第２配管スペース４６Ｃは、処理筐体２３Ｃの後方に配置される。第１配管スペース４４Ｄは、処理筐体２３Ｄの前方に配置される。第２配管スペース４６Ｄは、処理筐体２３Ｄの後方に配置される。
【0346】
基板処理装置１４１においても、処理筐体２３Ｂと第１配管スペース４４Ｂと第２配管スペース４６Ｂの相対的な位置は、処理筐体２３Ａと第１配管スペース４４Ａと第２配管スペース４６Ａの相対的な位置と同じである。処理筐体２３Ｃと第１配管スペース４４Ｃと第２配管スペース４６Ｃの相対的な位置は、処理筐体２３Ａと第１配管スペース４４Ａと第２配管スペース４６Ａの相対的な位置と同じである。処理筐体２３Ｄと第１配管スペース４４Ｄと第２配管スペース４６Ｄの相対的な位置は、処理筐体２３Ａと第１配管スペース４４Ａと第２配管スペース４６Ａの相対的な位置と同じである。
【0347】
実施形態では、排気管４１Ａ－４３Ａは処理筐体２３Ａの前方に配置される。但し、これに限られない。
【0348】
図１７を参照する。基板処理装置１４１では、排気管４１Ａ－４３Ａは、処理筐体２３Ａの後方に配置される。
【0349】
さらに、基板処理装置１４１では、排気管４１Ｂ－４３Ｂは、処理筐体２３Ｂの後方に配置される。排気管４１Ｃ－４３Ｃは、処理筐体２３Ｃの前方に配置される。排気管４１Ｄ－４３Ｄは、処理筐体２３Ｄの前方に配置される。
【0350】
実施形態では、インデクサ部３の搬送機構６の構造を例示する。但し、これに限られない。搬送機構６の構造を適宜に変更してもよい。
【0351】
図１７を参照する。インデクサ部３は、搬送機構１４６を備える。搬送機構１４６は、ハンド１４７とハンド駆動部１４８を備える。ハンド１４７は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持する。ハンド駆動部１４８は、ハンド１４７に連結される。ハンド駆動部１４８は、ハンド１４７を移動する。ハンド駆動部８は、ハンド７を前後方向Ｘ、幅方向Ｙおよび垂直方向Ｚに移動する。
【0352】
ハンド駆動部１４８は、第１駆動部１４８ａと第２駆動部１４８ｂを備える。第２駆動部１４８ｂは、第１駆動部１４８ａに支持される。第１駆動部１４８ａは、鉛直方向Ｚに第２駆動部１４８ｂを移動させる。第１駆動部１４８ａは、さらに、鉛直方向Ｚと平行な回転軸線回りに第２駆動部１４８ｂを回転させる。但し、第１駆動部１４８ａは、第２駆動部１４８ｂを水平方向に移動させない。第１駆動部１４８ａ自体、水平方向に移動不能である。第２駆動部１４８ｂは、第１駆動部１４８ａに対して、水平方向に移動する。第２駆動部１４８ｂは、例えば、多関節アームで構成される。第２駆動部１４８ｂは、ハンド１４７に接続される。ハンド駆動部１４８がこのような構成を備えるので、ハンド１４７は、鉛直方向Ｚに平行移動可能である。ハンド１４７は、水平な任意の方向に平行移動可能である。ハンド１４７は、水平面内で回転可能である。
【0353】
実施形態では、処理ブロック１１の搬送機構１６の構造を例示する。但し、これに限られない。搬送機構１６の構造を適宜に変更してもよい。例えば、搬送機構１６は、上述した搬送機構１４６と同様の構造を有してもよい。
【0354】
実施形態では、図８に示す通り、開閉部６１は、正面視において、略矩形形状を有する。但し、これに限られない。開閉部６１の形状を適宜に変更してもよい。同様に、開閉部６２、６３の形状を適宜に変更してもよい。
【0355】
【0356】
図１８を参照する。基板処理装置１は、切り換え機構１４１を備える。切り換え機構１４１は、開閉部１４２、１４３、１４４を備える。開閉部１４２－１４４はそれぞれ、切り換え筐体５３の内部に設置される。開閉部１４２－１４４はそれぞれ、略円形形状を有する。
【0357】
開閉部１４２は、回転軸心Ａ６回りに揺動可能である。回転軸心Ａ６は水平な仮想線である。回転軸心Ａ６は、幅方向Ｙと平行である。回転軸心Ａ６は、開閉部１４２の上方に配置される。回転軸心Ａ６は、開閉部１４２の中心を通らない。開閉部１４２が回転軸心Ａ６回りに揺動することによって、開閉部１４２は、処理筐体２３を第１排気管４１に連通させる位置と、処理筐体２３を第１排気管４１から遮断する位置に移動する。同様に、開閉部１４３、１４４はそれぞれ、回転軸心Ａ７、Ａ８回りに揺動可能である。
【0358】
図１８では、開閉部１４２は、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に配置される。同様に、開閉部１４３、１４４はそれぞれ、処理筐体２３を排気管４２、４３から遮断する位置に配置される。
【0359】
図１９（ａ）では、開閉部１４２は、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に配置される。開閉部１４２は、排気管４１の開口４１ｋを閉じる。図１９（ｂ）では、開閉部１４２は、処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置に配置される。開閉部１４２は開口４１ｋを開く。
【0360】
図１９（ａ）、１９（ｂ）を参照する。開閉部１４２は、切り換え筐体５３に支持される。開閉部１４２は、分配部５６に支持される。具体的には、切り換え機構１４１は、ステー１４６と取付部材１４７を備える。ステー１４６は、切り換え筐体５３に固定される。ステー１４６は、分配部５６に固定される。取付部材１４７は、ステー１４６に支持される。取付部材１４７は、ステー１４６に対して回転軸心Ａ６回りに回転可能である。取付部材１４７は、開閉部１４２に固定される。
【0361】
図１８を参照する。開閉部１４２と同様に、開閉部１４３、１４４はそれぞれ、取付部材１４８、１４９に固定される。
【0362】
実施形態では、開閉部６１－６３を移動する機構を具体的に例示しない。そこで、図１９（ａ）、１９（ｂ）を参照して、開閉部１４２を移動する機構を例示する。
【0363】
処理ブロック１１は、開閉部１４２を移動させる駆動部１５１を備える。なお、駆動部１５１は、切り換え機構１４１の要素ではない。
【0364】
駆動部１５１は、アクチュエータ１５２を備える。アクチュエータ１５２は、開閉部１４２を移動させる動力を発生する。アクチュエータ１５２は、例えば、エアシリンダー、油圧シリンダーまたは電動モータである。アクチュエータ１５２は、切り換え筐体５３の外部に配置される。アクチュエータ１５２は、第１配管スペース４４に配置される。アクチュエータ１５２は、切り換え筐体５３の上方に配置される。アクチュエータ１５２は、分配部５６の上方に配置される。
【0365】
駆動部１５１は、ロッド１５３を備える。ロッド１５３は、アクチュエータ１５２に連結される。ロッド１５３は、アクチュエータ１５２から下方に延びる。ロッド１５３は、切り換え筐体５３を貫通する。ロッド１５３の少なくとも一部は、切り換え筐体５３の内部に配置される。アクチュエータ１５２は、ロッド１５３を鉛直方向Ｚに移動させる。
【0366】
駆動部１５１は、リンク１５４を備える。リンク１５４は、切り換え筐体５３の内部に配置される。リンク１５４は、ロッド１５３と取付部材１４８を連結する。リンク１５４は、ロッド１５３に対して、軸心Ａ１１回りに回転可能である。リンク１５４は、取付部材１４８に対して、軸心Ａ１２回りに回転可能である。軸心Ａ１１、Ａ１２はそれぞれ、水平な仮想線である。軸心Ａ１１、Ａ１２はそれぞれ、幅方向Ｙと平行である。
【0367】
アクチュエータ１５２がロッド１５３を鉛直方向Ｚに移動させるとき、開閉部１４２は回転軸線Ａ６回りに回転する。アクチュエータ１５２がロッド１５３を上方に移動させるとき、開閉部１４２は、処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置に移動する。アクチュエータ１５２がロッド１５３を下方に移動させるとき、開閉部１４２は、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に移動する。
【0368】
実施形態において、さらに、処理筐体２３の排気路における気体のリークを検知してもよい。例えば、開閉部６１－６３からの気体のリークを検出してもよい。
【0369】
図１８、１９（ａ）、１９（ｂ）を参照する。処理ブロック１１は、風速センサ１６２、１６３、１６４を備える。風速センサ１６２は、開閉部１４２の近傍に配置される。風速センサ１６２は、例えば、切り換え筐体５３の内部に配置される。風速センサ１６２は、例えば、分配部５６の内部に配置される。回転軸心Ａ６が開閉部１４２の上方に配置されるとき、風速センサ１６２は開閉部１４２の下方に配置されることが好ましい。同様に、風速センサ１６３、１６４は、開閉部１４３、１４４の近傍に配置される。
【0370】
風速センサ１６２は、開閉部１４２の近傍における気体の風速（具体的には、気体の移動速度）を検出する。同様に、風速センサ１６３、１６４は、開閉部１４３、１４４の近傍における気体の風速を検出する。風速センサ１６２－１６４は、例えば、熱線式風速計である。
【0371】
風速センサ１６２は、さらに、開閉部１４２の近傍における気体の風向（具体的には、気体の移動方向）を検出してもよい。同様に、風速センサ１６３、１６４は、さらに、開閉部１４３、１４４の近傍における気体の風向を検出してもよい。
【0372】
図示を省略するが、制御部９１は、風速センサ１６２－１６４と通信可能に接続される。制御部９１は、風速センサ１６２－１６４の検出結果を取得する。
【0373】
制御部９１は、風速センサ１６２の検出結果に基づいて、開閉部１４２からの気体のリークの有無を判定する。開閉部１４２からの気体のリークとは、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に開閉部１４２が配置されるときに開閉部１４２が処理筐体２３から排気管４１に気体をリークすることである。
【0374】
具体的には、制御部９１は、風速センサ１６２の検出結果に基づいて、開閉部１４２の近傍における気体の風速を算出する。算出された開閉部１４２の近傍における気体の風速を、「実測値」と呼ぶ。
【0375】
処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に開閉部１４２が配置されるとき、実測値が所定の条件を満たすか否かを、制御部９１は監視する。所定の条件は、例えば、実測値が予め設定される第１基準値未満であることである。所定の条件は、例えば、単位時間当たりの実測値の変化が第２基準値未満であることである。そして、処理筐体２３を排気管４１から遮断する位置に開閉部１４２が配置されるときに実測値が所定の条件を満たさない場合、開閉部１４２からの気体のリークが生じている、と制御部９１は判定する。
【0376】
ここで、第１基準値および第２基準値の少なくともいずれかは、例えば、変数であることが好ましい。第１基準値および第２基準値の少なくともいずれかは、例えば、他の開閉部１４３、１４４の位置に応じて、変化してもよい。第１基準値および第２基準値の少なくともいずれかは、例えば、他の切り換え機構５１に属する開閉部１４２の位置に応じて、変化してもよい。第１基準値および第２基準値の少なくともいずれかは、例えば、他の切り換え機構５１に属する開閉部１４２、１４３、１４４の位置に応じて、変化してもよい。これによれば、開閉部１４２の近傍における気体の風速が外乱を受け易い場合であっても、制御部９１は、開閉部１４２からの気体のリークの有無を精度良く判定できる。
【0377】
あるいは、第１基準値および第２基準値の少なくともいずれかは、定数であってもよい。
【0378】
同様に、制御部９１は、風速センサ１６３、１６４の検出結果に基づいて、開閉部１４３、１４４からの気体のリークの有無を判定する。
【0379】
本変形実施形態によれば、処理筐体２３の排気路が、排気管４１－４３の間で、正常に切り換わっているか否かを好適に監視できる。
【0380】
さらに、風速センサ１６２－１６４は、微小な気体の流れを好適に検知できる。よって、処理筐体２３の排気路が、排気管４１－４３の間で、正常に切り換わっているか否かを精度良く監視できる。
【0381】
本変形実施形態では、さらに、制御部９１が排気路における気体のリークを検知した場合、制御部９１は、警報の発報、および、液供給部３３の動作の停止の少なくともいずれかを実行してもよい。制御部９１が警報を発報する場合、排気路における気体のリークを、基板処理装置１のユーザーに速やかに報知できる。制御部９１が液供給部３３の動作を停止する場合、処理筐体２３内の気体に含まれる、処理液に由来する成分の量を、速やかに抑制できる。いずれの場合であっても、排気管４１－４３の内部が汚損されることを好適に抑制できる。例えば、排気管４１－４３の内部において結晶（塩）が発生することを、好適に抑制できる。例えば、排気管４１－４３の内部に結晶が堆積することを、好適に抑制できる。
【0382】
図１８、１９（ａ）、１９（ｂ）に示す変形実施形態では、風速センサ１６２－１６４は、切り換え筐体５３の内部に配置される。但し、これに限られない。
【0383】
例えば、風速センサ１６２は、排気管４１の内部に配置されてもよい。風速センサ１６２が排気管４１の内部に配置される場合であっても、予め適切な基準値を設定することができる。よって、制御部９１は、開閉部１４２からの気体のリークの有無を適切に判定できる。風速センサ１６３、１６４の配置についても、同様に変更してもよい。
【0384】
例えば、風速センサ１６２は、処理筐体２３の内部に配置されてもよい。風速センサ１６２が処理筐体２３の内部に配置される場合であっても、予め適切な基準値を設定することができる。よって、制御部９１は、開閉部１４２からの気体のリークの有無を適切に判定できる。風速センサ１６３、１６４の配置についても、同様に変更してもよい。
【0385】
図面を参照して、風速センサ１６２－１６４の配置を例示する。図２０（ａ）は、風速センサの配置例を図６に描き加えた平面図である。図２０（ｂ）は、風速センサの配置例を図１３に描き加えた平面図である。図２１（ａ）は、風速センサの配置例を図１５に描き加えた平面図である。図２１（ｂ）は、風速センサの配置例を図１６に描き加えた平面図である。なお、実施形態と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。
【0386】
図２０（ａ）を参照する。風速センサ１６２は、風速センサ１６２ａ、１６２ｂの少なくともいずれかを含む。風速センサ１６２ａ、１６２ｂはそれぞれ、開閉部６１の近傍に配置される。風速センサ１６２ａは、排気管４１の内部に配置される。風速センサ１６２ａは、開口４１ｋの近傍に配置される。風速センサ１６２ｂは、切り換え筐体５３の内部に配置される。同様に、風速センサ１６３は、風速センサ１６３ａ、１６３ｂの少なくともいずれかを含む。風速センサ１６４は、風速センサ１６４ａ、１６４ｂの少なくともいずれかを含む。
【0387】
図２０（ｂ）を参照する。風速センサ１６２は、風速センサ１６２ｃ、１６２ｄの少なくともいずれかを含む。風速センサ１６２ｃ、１６２ｄはそれぞれ、開閉部１１３の近傍に配置される。風速センサ１６２ｃは、処理筐体２３の内部に配置される。風速センサ１６２ｄは、排気管４１の内部に配置される。風速センサ１６２ｄは、開口４１ｋの近傍に配置される。同様に、風速センサ１６３は、風速センサ１６３ｃ、１６３ｄの少なくともいずれかを含む。風速センサ１６４は、風速センサ１６４ｃ、１６４ｄの少なくともいずれかを含む。
【0388】
図２１（ａ）を参照する。風速センサ１６２は、風速センサ１６２ｅ、１６２ｆ、１６２ｇの少なくともいずれかを含む。風速センサ１６２ｅ－１６２ｇはそれぞれ、開閉部１２３の近傍に配置される。風速センサ１６２ｅは、排気管４１の内部に配置される。風速センサ１６２ｅは、開口４１ｋの近傍に配置される。風速センサ１６２ｆ、１６２ｇはそれぞれ、切り換え筐体５３の内部に配置される。上述の通り、開閉部１２３が処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置に配置されるとき、開閉部１２３は第１区域１２６を第２区域１２７から遮断する。このとき、開閉部１２３からの気体のリークを検知するために、風速センサ１６２ｇが設けられている。開閉部１２３が処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置に配置されるとき、開閉部１２３が第１区域１２６から第２区域１２７にリークする気体の量を、風速センサ１６２ｇは好適に検出できる。同様に、風速センサ１６３は、風速センサ１６３ｅ、１６３ｆ、１６３ｇの少なくともいずれかを含む。風速センサ１６３ｇは、風速センサ１６２ｇと類似の目的で、設けられる。風速センサ１６４は、風速センサ１６４ｅ、１６４ｆの少なくともいずれかを含む。
【0389】
図２１（ｂ）を参照する。風速センサ１６２は、風速センサ１６２ｈ、１６２ｉ、１６２ｊ、１６２ｋ、１６２ｌの少なくともいずれかを含む。風速センサ１６２ｈ－１６２ｌはそれぞれ、開閉部１２３の近傍に配置される。風速センサ１６２ｈ、１６２ｉは、排気管４１の内部に配置される。風速センサ１６２ｈ、１６２ｉは、開口４１ｋの近傍に配置される。風速センサ１６２ｊ－１６２ｌはそれぞれ、切り換え筐体５３の内部に配置される。上述の通り、開閉部１３３が処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置に配置されるとき、開閉部１３３は処理筐体２３を排気管４２、４３から遮断する。このとき、開閉部１２３からの気体のリークを検知するために、風速センサ１６２ｋ、１６２ｌが設けられている。開閉部１３３が処理筐体２３を排気管４１に連通させる位置に配置されるとき、開閉部１２３が処理筐体２３から排気管４２、４３にリークする気体の量を、風速センサ１６２ｋ、１６２ｌは好適に検出できる。同様に、風速センサ１６３は、風速センサ１６３ｈ、１６３ｉ、１６３ｊ、１６３ｋ、１６３ｌの少なくともいずれかを含む。風速センサ１６３ｋ、１６３ｌは、風速センサ１６２ｋ、１６２ｌと類似の目的で、設けられる。風速センサ１６４は、風速センサ１６４ｈ、１６４ｉ、１６４ｊの少なくともいずれかを含む。
【0390】
実施形態および各変形実施形態については、さらに各構成を他の変形実施形態の構成に置換または組み合わせるなどして適宜に変更してもよい。
【符号の説明】
【0391】
１、１４１ … 基板処理装置
１１ … 処理ブロック
１２Ａ、１２Ｂ、１２ … 搬送スペース
１６Ａ、１６Ｂ、１６ … 搬送機構
２１ … 処理ユニット
２３ … 処理筐体
２３Ａ１ … 処理筐体（第１処理筐体）
２３Ａ２ … 処理筐体（第２処理筐体）
２３Ｂ１ … 処理筐体（第３処理筐体）
２４ … 処理スペース
３１ … 保持部（第１保持部、第２保持部、第３保持部）
３３ … 液供給部（第１液供給部、第２液供給部、第３液供給部）
４１、４２、４３ … 排気管
４１Ａ … 排気管（第１排気管）
４２Ａ … 排気管（第２排気管）
４１Ｂ … 排気管（第３排気管）
４２Ｂ … 排気管（第４排気管）
４４ … 第１配管スペース
４６ … 第２配管スペース
４８ … 給気管
５１、１０１、１１１、１２１、１３１、１４１ … 切り換え機構
５１Ａ１ … 切り換え機構（第１切り換え機構）
５１Ａ２ … 切り換え機構（第２切り換え機構）
５１Ｂ１ … 切り換え機構（第３切り換え機構）
５３、１０３、 … 切り換え筐体
５４ … 切り換えスペース
５５、１０５ … 導入部
５６、１０６ … 分配部
６１－６３、１１３－１１５、１２３－１２４、１３３－１３４、１４２－１４４ … 開閉部
６１、１１３、１２３、１３３、１４２ … 開閉部（第１開閉部）
６２、１１４、１２４、１３４、１４３ … 開閉部（第２開閉部）
７１ … 圧力センサ
７１Ａ１ … 圧力センサ（第１圧力センサ）
７１Ｂ１ … 圧力センサ（第３圧力センサ）
７３ … 圧力調整機構
７３Ａ１ … 圧力調整機構（第１圧力調整機構）
７３Ｂ１ … 圧力調整機構（第３圧力調整機構）
８１、８２、８３ … 排気管
８１Ａ … 排気管（第５排気管）
８２Ａ … 排気管（第６排気管）
８４－８６ … 圧力センサ
８４Ａ … 圧力センサ（第５圧力センサ）
８５Ａ … 圧力センサ（第６圧力センサ）
８７－８９ … 圧力調整機構
８７Ａ … 圧力調整機構（第５圧力調整機構）
８８Ａ … 圧力調整機構（第６圧力調整機構）
９１ … 制御部
Ｗ … 基板
Ｘ … 前後方向（第１方向）
Ｙ … 幅方向（第２方向）
Ｚ … 鉛直方向
１１ … 処理ブロック
１２Ａ、１２Ｂ、１２ … 搬送スペース
１６Ａ、１６Ｂ、１６ … 搬送機構
２１ … 処理ユニット
２３ … 処理筐体
２３Ａ１ … 処理筐体（第１処理筐体）
２３Ａ２ … 処理筐体（第２処理筐体）
２３Ｂ１ … 処理筐体（第３処理筐体）
２４ … 処理スペース
３１ … 保持部（第１保持部、第２保持部、第３保持部）
３３ … 液供給部（第１液供給部、第２液供給部、第３液供給部）
４１、４２、４３ … 排気管
４１Ａ … 排気管（第１排気管）
４２Ａ … 排気管（第２排気管）
４１Ｂ … 排気管（第３排気管）
４２Ｂ … 排気管（第４排気管）
４４ … 第１配管スペース
４６ … 第２配管スペース
４８ … 給気管
５１、１０１、１１１、１２１、１３１、１４１ … 切り換え機構
５１Ａ１ … 切り換え機構（第１切り換え機構）
５１Ａ２ … 切り換え機構（第２切り換え機構）
５１Ｂ１ … 切り換え機構（第３切り換え機構）
５３、１０３、 … 切り換え筐体
５４ … 切り換えスペース
５５、１０５ … 導入部
５６、１０６ … 分配部
６１－６３、１１３－１１５、１２３－１２４、１３３－１３４、１４２－１４４ … 開閉部
６１、１１３、１２３、１３３、１４２ … 開閉部（第１開閉部）
６２、１１４、１２４、１３４、１４３ … 開閉部（第２開閉部）
７１ … 圧力センサ
７１Ａ１ … 圧力センサ（第１圧力センサ）
７１Ｂ１ … 圧力センサ（第３圧力センサ）
７３ … 圧力調整機構
７３Ａ１ … 圧力調整機構（第１圧力調整機構）
７３Ｂ１ … 圧力調整機構（第３圧力調整機構）
８１、８２、８３ … 排気管
８１Ａ … 排気管（第５排気管）
８２Ａ … 排気管（第６排気管）
８４－８６ … 圧力センサ
８４Ａ … 圧力センサ（第５圧力センサ）
８５Ａ … 圧力センサ（第６圧力センサ）
８７－８９ … 圧力調整機構
８７Ａ … 圧力調整機構（第５圧力調整機構）
８８Ａ … 圧力調整機構（第６圧力調整機構）
９１ … 制御部
Ｗ … 基板
Ｘ … 前後方向（第１方向）
Ｙ … 幅方向（第２方向）
Ｚ … 鉛直方向
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】