特開 2024-104602 面評価方法及び面評価システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024104602

(43)【公開日】2024-08-05

(54)【発明の名称】面評価方法及び面評価システム

(51)【国際特許分類】

   G06Q 50/08 20120101AFI20240729BHJP

   G01N 15/02 20240101ALN20240729BHJP

【ＦＩ】

G06Q50/08

G01N15/02 Z

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023008908

(22)【出願日】2023-01-24

(71)【出願人】

【識別番号】000001373

【氏名又は名称】鹿島建設株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100088155

【弁理士】

【氏名又は名称】長谷川 芳樹

(74)【代理人】

【識別番号】100113435

【弁理士】

【氏名又は名称】黒木 義樹

(74)【代理人】

【識別番号】100122781

【弁理士】

【氏名又は名称】近藤 寛

(74)【代理人】

【識別番号】100182006

【弁理士】

【氏名又は名称】湯本 譲司

(72)【発明者】

【氏名】福島 陽

(72)【発明者】

【氏名】岡本 道孝

(72)【発明者】

【氏名】小原 隆志

(72)【発明者】

【氏名】松本 聡碩

(72)【発明者】

【氏名】岡本 遥河

【テーマコード（参考）】

5L049

5L050

【Ｆターム（参考）】

5L049CC07

5L050CC07

(57)【要約】

【課題】メッシュのサイズにかかわらず高精度な計測データを容易に取得することができる面評価方法及び面評価システムを提供する。
【解決手段】一実施形態に係る面評価方法は、対象面Ｘに沿って計測装置を移動させながら計測装置が一定時間ごとに対象面Ｘを計測して複数の計測データを取得する工程と、各計測データに各計測データが計測された位置である計測点Ｐを位置測位システムが対応付ける工程と、対象面ＸにメッシュＭを設定する工程と、対象面Ｘにおける計測点Ｐの周囲の領域を計測エリアＫとして計測エリアＫを設定する工程と、計測エリアＫが重なるメッシュＭに計測データを割り当てる周辺メッシュ割り当て工程と、割り当てられた計測データから対象面ＸをメッシュＭごとに評価する工程と、を備える。
【選択図】図６

【特許請求の範囲】

【請求項1】

計測対象の面である対象面を評価する面評価方法であって、
前記対象面に沿って計測装置を移動させながら前記計測装置が一定時間ごとに前記対象面を計測して複数の計測データを取得する工程と、
各前記計測データに、各前記計測データが計測された位置である計測点を位置測位システムが対応付ける工程と、
前記対象面にメッシュを設定する工程と、
前記対象面における前記計測点の周囲の領域を計測エリアとして前記計測エリアを設定する工程と、
前記計測エリアが重なる前記メッシュに前記計測データを割り当てる周辺メッシュ割り当て工程と、
割り当てられた前記計測データから前記対象面を前記メッシュごとに評価する工程と、
を備える、
面評価方法。

【請求項2】

前記計測点を含む前記メッシュに前記計測データを割り当てる単一メッシュ割り当て工程を更に備え、
前記周辺メッシュ割り当て工程及び前記単一メッシュ割り当て工程の双方を実行し、前記周辺メッシュ割り当て工程及び前記単一メッシュ割り当て工程の双方において前記計測データが割り当てられたメッシュから、前記周辺メッシュ割り当て工程において割り当てられた前記計測データ、及び前記単一メッシュ割り当て工程において割り当てられた前記計測データのいずれかを削除する、
請求項１に記載の面評価方法。

【請求項3】

前記周辺メッシュ割り当て工程では、前記メッシュの中心に前記計測エリアが重なる前記メッシュに前記計測データを割り当てる、
請求項１又は２に記載の面評価方法。

【請求項4】

前記計測エリアを設定する工程では、前記計測装置の計測感度に応じて前記計測エリアを設定する、
請求項１又は２に記載の面評価方法。

【請求項5】

前記計測エリアを設定する工程では、前記対象面における前記計測装置の進行方向に応じて前記計測エリアを設定する、
請求項１又は２に記載の面評価方法。

【請求項6】

前記対象面は、締固めが行われた盛立面である、
請求項１又は２に記載の面評価方法。

【請求項7】

前記周辺メッシュ割り当て工程では、前記計測装置が前記計測を行うごとに、前記メッシュに前記計測エリアが重なる領域の面積を算出し、
前記評価する工程では、前記メッシュの面積に対する前記重なる領域の面積の割合と前記計測データとの積の総和を、前記割合の総和で除した値を評価する、
請求項１又は２に記載の面評価方法。

【請求項8】

前記評価する工程では、前記計測エリアの内部の位置に応じた前記計測装置の計測感度を加味して前記対象面を前記メッシュごとに評価する、
請求項１又は２に記載の面評価方法。

【請求項9】

前記計測データを取得する工程では、前記計測装置が盛土の比抵抗を前記計測データとして取得する、
請求項１又は２に記載の面評価方法。

【請求項10】

前記計測データを取得する工程では、複数の前記計測装置の一方が盛土の比抵抗を前記計測データとして取得し、複数の前記計測装置の他方が比誘電率を前記計測データとして取得する、
請求項１又は２に記載の面評価方法。

【請求項11】

計測対象の面である対象面を評価する面評価システムであって、
前記対象面に沿って移動しながら一定時間ごとに前記対象面を計測して複数の計測データを取得する計測装置と、
各前記計測データに、各前記計測データが計測された位置である計測点を対応付ける位置測位システムと、
前記対象面にメッシュを設定するメッシュ設定部と、
前記対象面における前記計測点の周囲の領域を計測エリアとして前記計測エリアを設定する計測エリア設定部と、
前記計測エリアが重なる前記メッシュに前記計測データを割り当てる周辺メッシュ割り当て部と、
割り当てられた前記計測データから前記対象面を前記メッシュごとに評価する評価部と、
を備える、
面評価システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、計測対象の面である対象面を評価する面評価方法及び面評価システムに関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、運搬されて締固められる盛立工事の品質管理のための品質管理システムが記載されている。品質管理システムは、締固められ盛立構造物を形成する盛立材料の品質を管理する。品質管理システムは、盛立材料の品質情報を取得するステップと、品質管理の取得後、運搬された盛立材料の盛立位置情報及び締固め情報を取得するステップと、品質情報と盛立位置情報及び締固め情報とを照合するステップとを備える。

【0003】

締固め情報を取得するステップでは、締固め機械の移動経路から、複数の矩形状の締固め対象領域のそれぞれに対して締固め機械による転圧回数が算出される。転圧回数の取得では、締固め機械が締固め対象領域の各頂点に１回ずつ到達したときに当該締固め対象領域の転圧回数を１加算する。このように、複数の締固め対象領域のそれぞれに対して転圧回数が取得され、取得された転圧回数はリアルタイムで送信される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０２０－１９４２４０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

ところで、前述した締固め対象領域等、矩形状のメッシュが対象面に設定され、計測装置が走行しながら対象面を計測し、計測装置の計測点が位置する１つのメッシュに計測データを割り当ててメッシュごとに対象面を評価する方法が知られている。しかしながら、この方法では、実際に計測装置が対象面の広範囲を計測していたとしても、計測点が位置する１つのメッシュにしか計測データが割り当てられないため、狭い範囲での計測データしか得られないという問題が生じうる。特にメッシュのサイズが小さい場合にこの問題が顕著となる。この場合、全てのメッシュを埋め尽くすように計測装置を走行させる必要があるため、計測に多大な労力を要する。

【0006】

一方、メッシュのサイズが大きい場合には、比較的上記の問題は生じにくい。しかしながら、この場合、大きなメッシュの中に多くの計測点の計測データが割り当てられるため、メッシュに割り当てられる計測データの精度が低下するという問題が生じうる。従って、メッシュのサイズにかかわらず高精度な計測データを容易に取得できることが求められる。

【0007】

本開示は、メッシュのサイズにかかわらず高精度な計測データを容易に取得することができる面評価方法及び面評価システムを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本開示に係る面評価方法は、（１）計測対象の面である対象面を評価する面評価方法である。面評価方法は、対象面に沿って計測装置を移動させながら計測装置が一定時間ごとに対象面を計測して複数の計測データを取得する工程と、各計測データに、各計測データが計測された位置である計測点を位置測位システムが対応付ける工程と、対象面にメッシュを設定する工程と、対象面における計測点の周囲の領域を計測エリアとして計測エリアを設定する工程と、計測エリアが重なるメッシュに計測データを割り当てる周辺メッシュ割り当て工程と、割り当てられた計測データから対象面をメッシュごとに評価する工程と、を備える。

【0009】

この面評価方法では、計測装置が対象面上を移動しながら対象面を一定時間ごとに計測することによって複数の計測データが取得され、各計測データには計測された位置である計測点が対応付けられる。これにより、複数の計測点ごとの複数の計測データを得られる。対象面にはメッシュが設定され、対象面における計測点の周囲の領域が計測エリアとして設定される。そして、計測エリアが重なるメッシュに計測データが割り当てられる周辺メッシュ割り当て工程が実行され、割り当てられた計測データから対象面がメッシュごとに評価される。従って、計測点の周囲の複数のメッシュに計測データが割り当てられるため、広い範囲における計測データを得ることができる。よって、計測装置を多く走行させなくても多くのメッシュを埋め尽くすことができるので、対象面の計測を容易に行うことができる。この対象面の計測は、メッシュのサイズが小さい場合であっても容易に行うことができるので、メッシュのサイズにかかわらず高精度な計測データを容易に取得することができる。

【0010】

（２）上記（１）において、面評価方法は、計測点を含むメッシュに計測データを割り当てる単一メッシュ割り当て工程を更に備えてもよい。周辺メッシュ割り当て工程及び単一メッシュ割り当て工程の双方を実行し、周辺メッシュ割り当て工程及び単一メッシュ割り当て工程の双方において計測データが割り当てられたメッシュから、周辺メッシュ割り当て工程において割り当てられた計測データ、及び単一メッシュ割り当て工程において割り当てられた計測データのいずれかを削除してもよい。この場合、単一メッシュ割り当て工程と周辺メッシュ割り当て工程の双方が実行されることにより、メッシュのサイズがどのようなサイズであっても高精度な計測データを容易に取得することができる。

【0011】

（３）上記（１）又は（２）において、周辺メッシュ割り当て工程では、メッシュの中心に計測エリアが重なるメッシュに計測データを割り当ててもよい。この場合、メッシュの中心に計測エリアが重なるメッシュに計測データを割り当てることができる。

【0012】

（４）上記（１）～（３）のいずれかにおいて、計測エリアを設定する工程では、計測装置の計測感度に応じて計測エリアを設定してもよい。この場合、計測エリアの設定のときに計測装置の計測感度が加味されるので、より高精度な計測データを取得できる。

【0013】

（５）上記（１）～（４）のいずれかにおいて、計測エリアを設定する工程では、対象面における計測装置の進行方向に応じて計測エリアを設定してもよい。この場合、計測エリアの設定のときに計測装置の進行方向が加味されるので、より高精度な計測データを取得できる。

【0014】

（６）上記（１）～（５）のいずれかにおいて、対象面は、締固めが行われた盛立面であってもよい。この場合、盛立面の計測を容易に行うことができると共に、メッシュのサイズにかかわらず盛立面の高精度な計測データを取得することができる。

【0015】

（７）上記（１）～（６）のいずれかにおいて、周辺メッシュ割り当て工程では、計測装置が計測を行うごとに、メッシュに計測エリアが重なる領域の面積を算出してもよい。評価する工程では、メッシュの面積に対する重なる領域の面積の割合と計測データとの積の総和を、当該割合の総和で除した値を評価してもよい。この場合、計測エリアがメッシュに重なる領域の面積を重み付けしてメッシュに計測データを割り当てることができるので、更に高精度な計測データを取得できる。

【0016】

（８）上記（１）～（７）のいずれかにおいて、評価する工程では、計測エリアの内部の位置に応じた計測装置の計測感度を加味して対象面をメッシュごとに評価してもよい。この場合、メッシュに重なる計測エリアの計測感度が加味されて計測データが割り当てられるので、更に高精度な計測データを取得できる。

【0017】

（９）上記（１）～（８）のいずれかにおいて、計測データを取得する工程では、計測装置が盛土の比抵抗を計測データとして取得してもよい。この場合、盛土の比抵抗が取得されるので、締め固められた後の盛土の評価を容易に且つ高精度に行うことができる。

【0018】

（１０）上記（１）～（８）のいずれかにおいて、計測データを取得する工程では、複数の計測装置の一方が盛土の比抵抗を計測データとして取得し、複数の計測装置の他方が比誘電率を計測データとして取得してもよい。この場合、盛土の比抵抗及び比誘電率から盛土の乾燥密度及び含水比を算出できる。従って、盛土の評価を更に高精度に行うことができる。

【0019】

本開示に係る面評価システムは、（１１）計測対象の面である対象面を評価する面評価システムである。面評価システムは、対象面に沿って移動しながら一定時間ごとに対象面を計測して複数の計測データを取得する計測装置と、各計測データに、各計測データが計測された位置である計測点を対応付ける位置測位システムと、対象面にメッシュを設定するメッシュ設定部と、対象面における計測点の周囲の領域を計測エリアとして計測エリアを設定する計測エリア設定部と、計測エリアが重なるメッシュに計測データを割り当てる周辺メッシュ割り当て部と、割り当てられた計測データから対象面をメッシュごとに評価する評価部と、を備える。

【0020】

この面評価システムでは、計測装置が対象面上を移動しながら対象面を一定時間ごとに計測して複数の計測データを取得し、位置測位システムが各計測データに計測された位置である計測点を対応付けるので、複数の計測点ごとの複数の計測データを得られる。メッシュ設定部は対象面にメッシュを設定し、計測エリア設定部は対象面における計測点の周囲の領域を計測エリアとして設定する。周辺メッシュ割り当て部は計測エリアが重なるメッシュに計測データを割り当てて、評価部は割り当てられた計測データから対象面をメッシュごとに評価する。従って、計測点の周囲の複数のメッシュに計測データが割り当てられるため、広い計測データを得ることができるので、計測装置を多く走行させなくても多くのメッシュを埋め尽くすことができる。よって、対象面の計測を容易に行うことができる。更に、対象面の計測は、メッシュのサイズが小さい場合であっても容易に行うことができるので、メッシュのサイズにかかわらず高精度な計測データを容易に取得することができる。

【発明の効果】

【0021】

本開示によれば、メッシュのサイズにかかわらず高精度な計測データを容易に取得することができる。

【図面の簡単な説明】

【0022】

【図1】実施形態に係る面評価システムを示す図である。

【図2】図１の面評価システムの計測装置を示す図である。

【図3】図２の計測装置の計測原理を説明するための図である。

【図4】実施形態に係る面評価方法のメッシュの割り当てについて説明するための図である。

【図5】実施形態に係る面評価方法の単一メッシュ割り当て工程について説明するための図である。

【図6】実施形態に係る面評価方法の周辺メッシュ割り当て工程について説明するための図である。

【図7】実施形態に係る面評価方法の周辺メッシュ割り当て工程について説明するための図である。

【図8】（ａ）及び（ｂ）は、単一メッシュ割り当て工程、及び周辺メッシュ割り当て工程の双方を行う例を示す図である。

【図9】第１変形例に係る周辺メッシュ割り当て工程を説明するための図である。

【図10】第２変形例に係る周辺メッシュ割り当て工程を説明するための図である。

【図11】第３変形例に係る計測装置を模式的に示す図である。

【図12】第４変形例に係る計測装置による計測点を示す図である。

【図13】第５変形例に係る面評価システムを示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0023】

以下では、図面を参照しながら本開示に係る面評価方法及び面評価システムの実施形態について説明する。図面の説明において同一又は相当する要素には同一の符号を付し、重複する説明を適宜省略する。図面は、理解の容易化のため、一部を簡略化又は誇張して描いている場合があり、寸法比率等は図面に記載のものに限定されない。

【0024】

本実施形態に係る面評価システム１及び面評価方法は、例えば、ダムが構築される現場Ａにおいて用いられる。現場Ａでは、一例として、ダンプトラックによって土砂が搬送され、ブルドーザーによって搬送された土砂が敷き均され、敷き均された土砂が振動ローラによって締め固められる。振動ローラは、現場Ａにおいて複数回往復しながら土砂の締固めを行い、現場Ａにおける盛土Ｂの転圧を行う。

【0025】

例えば、面評価システム１は、振動ローラ等の締固め機械によって締め固められた後の転圧面である盛立面Ｓを進行しながら現場Ａの盛土Ｂ（土）の評価を行う盛土評価システムである。本実施形態において、盛立面Ｓは、面評価システム１の計測対象の面に相当する。盛立面Ｓは、締固めによって形成された施工面である。面評価システム１は、例えば、盛土Ｂの乾燥密度、及び盛土Ｂの含水比の少なくともいずれかを盛土Ｂの評価項目として算出する。

【0026】

例えば、面評価システム１は、盛土Ｂの乾燥密度、及び盛土Ｂの含水比を計測することによって盛土Ｂを評価し、例えば、締固め機械による締固めの効果を計測する。盛土Ｂは、例えば、ＣＳＧ、ＲＣＤ又は放射性処分事業の覆土によって構成されたものであってもよい。

【0027】

面評価システム１は、盛土Ｂの比抵抗を計測する比抵抗計測装置１０（計測装置）を有する。例えば、面評価システム１は、盛土Ｂの比抵抗の計測データを収集するデータ収集部３１を有していてもよい。一例として、データ収集部３１は、パーソナルコンピュータ等の情報端末である。例えば、面評価システム１は、比抵抗計測装置１０から延び出す線状体３を備える。一例として、線状体３は紐状体である。

【0028】

例えば、面評価システム１は、比抵抗計測装置１０を牽引するための牽引部３０を備える。牽引部３０は、例えば、複数の車輪３０ｂと、複数の車輪３０ｂの上部同士を連結する台部３０ｃと、台部３０ｃから上方に延びる取手部３０ｄとを有する。台部３０ｃは線状体３を介して比抵抗計測装置１０に連結されており、複数の車輪３０ｂが盛立面Ｓに載せられた状態で取手部３０ｄを手で持って盛立面Ｓで複数の車輪３０ｂを転動させることにより、牽引部３０及び比抵抗計測装置１０を盛立面Ｓ上で進行させることができる。一例として、データ収集部３１は、台部３０ｃに設けられる。しかしながら、データ収集部３１の場所は特に限定されない。

【0029】

図２は、比抵抗計測装置１０の概略を示す図である。図３は、比抵抗計測装置１０の電極２０の構成を模式的に示す図である。例えば、比抵抗計測装置１０は、持ち運びが可能な装置である。比抵抗計測装置１０は、締固め機械によって締め固められた後の盛立面Ｓを進行しながら現場Ａの盛土Ｂの比抵抗を計測する。

【0030】

比抵抗計測装置１０はキャパシタ電極である４つの電極２０を備える。例えば、比抵抗計測装置１０における電極２０の配置は、ダイポール・ダイポール法に準拠している。４つの電極２０は、一対の電位電極２１、及び一対の電流電極２２である。比抵抗計測装置１０は、４電極法を用いて盛土Ｂの比抵抗を計測する。電位電極２１及び電流電極２２のそれぞれは、盛立面Ｓに近接するように配置される。

【0031】

一対の電位電極２１、及び一対の電流電極２２は、比抵抗計測装置１０の進行方向Ｄ１に沿って並ぶように配置されている。本実施形態では、複数の電極２０が並ぶ方向は比抵抗計測装置１０の進行方向Ｄ１と一致する。このように、複数の電極２０が並ぶ方向と進行方向Ｄ１との関係は予め紐付けられている。一例として、比抵抗計測装置１０の進行方向の後側に一対の電位電極２１が配置されると共に当該進行方向の前側に一対の電流電極２２が配置される。例えば、一対の電位電極２１、及び一対の電流電極２２は、ダイポール・ダイポール配置とされている。しかしながら、一対の電位電極２１、及び一対の電流電極２２の配置は、ダイポール・ダイポール配置以外の配置とされていてもよく、特に限定されない。

【0032】

比抵抗計測装置１０は、電極２０と、電極２０を保持する保持体４１と、保持体４１を盛立面Ｓから離隔させた状態で保持体４１を走行可能に支持する複数のキャスタ４２とを有する。比抵抗計測装置１０は、例えば、２台の保持体４１と、２台の保持体４１の間で進行方向Ｄ１に沿って延びる線状体４８とを有する。

【0033】

線状体４８は、例えば、保持体４１に対して着脱可能とされている。この線状体４８を備える場合、２台の保持体４１の一方（例えば電流電極２２を保持する保持体４１）を進行方向Ｄ１に牽引するときに、２台の保持体４１の一方及び他方を進行方向Ｄ１に沿って移動させることができる。また、互いに長さが異なる複数種類の線状体４８を用意しておき、複数種類の線状体４８から選択した線状体４８を取り付けることにより、電位電極２１と電流電極２２との距離を変更することができる。

【0034】

例えば、保持体４１は、一対の電位電極２１、及び一対の電流電極２２のそれぞれを盛土Ｂに向けた状態で保持する複数の電極保持部４３を備える。電極保持部４３は、電極２０を進行方向Ｄ１に交差する方向Ｄ２に沿って移動可能に保持する。方向Ｄ２は、例えば、鉛直方向である。

【0035】

電極保持部４３は、電極２０を盛土Ｂ側（下方）に付勢する複数のバネ機構４６を有する。保持体４１が走行して盛立面Ｓに不陸があった場合には、電極保持部４３及び電極２０が当該不陸に接触すると共に、電極２０が方向Ｄ２に移動する。このとき、バネ機構４６が電極２０を盛土Ｂに向けて付勢するので、盛立面Ｓに不陸があっても電極２０を当該不陸に追従させることが可能となる。

【0036】

電位電極２１及び電流電極２２は、例えば、盛立面Ｓの上に引き摺られる。電位電極２１及び電流電極２２のそれぞれは、盛立面Ｓに対向する誘電体２３と、誘電体２３に電気的に接続された導電体２４とを有する。誘電体２３は、例えば、合成樹脂によって構成された板状部材である。

【0037】

誘電体２３は、盛立面Ｓに接触しつつ盛立面Ｓの上で引き摺られるため、盛立面Ｓへの当接に耐えられる素材で構成されることが好ましい。誘電体２３は、例えば、高密度ポリエチレン、硬質ポリウレタン、及びＡＢＳ（Acrylonitrile Butadiene Styrene）樹脂の少なくともいずれかを含む。

【0038】

導電体２４は、導電性を有する金属を含む平板である。比抵抗計測装置１０は、更に、交流電源２５及び電位計２６を有する。交流電源２５は、各電流電極２２の導電体２４に電気的に接続されている。電位計２６は、各電位電極２１の導電体２４に電気的に接続されている。

【0039】

交流電源２５は、一対の電流電極２２の間に交流電圧を印加する。これにより、盛土Ｂに交流電流が流れる。例えば、盛立面Ｓに接触していない一対の電流電極２２の導電体２４に電圧が印加されると、導電体２４と盛土Ｂとの間に電荷が溜まり電流電極２２はキャパシタとなる。キャパシタとなった電流電極２２が充電又は放電しきる前に、交流電源２５が電圧の極性を切り替えれば、抵抗値を有する盛土Ｂに連続的に交流電流が流れる。電位計２６は、電流電極２２と同様にキャパシタとなった一対の電位電極２１の間の電位を計測する。

【0040】

比抵抗計測装置１０は、進行しながら（牽引部３０を走行させながら）一定のサンプリング周期で盛土Ｂの比抵抗を計測する。一例として、比抵抗計測装置１０は進行しながら１回／秒で盛土Ｂの比抵抗を計測する。比抵抗の計測に対して感度分析（例えばＦＥＭ解析）が行われると、１回の計測において一定範囲Ｅの比抵抗、及びその平均値が計測される。平面視において、一定範囲Ｅは、複数の電極２０が並ぶ方向に沿って延びる長軸を有する長円形状を呈する。例えば、一定範囲Ｅの長手方向は比抵抗計測装置１０の進行方向Ｄ１と一致している。このように、一定範囲Ｅの長手方向と比抵抗計測装置１０の進行方向Ｄ１とは予め紐付けられている。上記のように比抵抗計測装置１０の計測範囲は点ではなく一定範囲Ｅに及ぶ。しかしながら、計測された比抵抗のデータは、１つの計測点Ｐにおける計測結果としてデータ収集部３１に記憶される。

【0041】

図１及び図２に示されるように、面評価システム１は、計測対象の対象面Ｘである盛立面Ｓに沿って進行しながら盛立面Ｓを計測して複数の比抵抗の計測データを取得する比抵抗計測装置１０と、各計測データに各計測データが計測された位置である計測点Ｐ（位置情報）を対応付ける位置測位システム１５とを有する。位置測位システム１５は、例えば、面評価システム１に設けられたＧＮＳＳ（Global Navigation Satellite System）アンテナである。この場合、ＧＮＳＳアンテナによって計測された盛土Ｂの計測点Ｐごとに比抵抗の計測データがデータ収集部３１に記憶される。

【0042】

図１及び図４に示されるように、面評価システム１は、例えば、情報端末Ｔにインストールされた面評価アプリケーション５０を有する。情報端末Ｔは、例えば、パソコンであってもよい。情報端末Ｔは、一例として、オペレーティングシステム及びソフトウェア（アプリケーション）等を実行するプロセッサ（例えばＣＰＵ）と、ＲＯＭ及びＲＡＭによって構成される主記憶部と、フラッシュメモリ等によって構成される補助記憶部と、無線通信モジュール等によって構成される通信制御部と、入力装置と、ディスプレイ等の出力装置とを備える。但し、情報端末Ｔの構成は、上記に限定されず適宜変更可能である。

【0043】

情報端末Ｔの各機能要素は、情報端末Ｔのプロセッサ又は記憶部（例えば前述した主記憶部又は補助記憶部）に面評価アプリケーション５０のソフトウェアを読み込ませて当該ソフトウェアを実行することによって実現される。プロセッサは、当該ソフトウェアに従って、前述した通信制御部、入力装置又は出力装置を動作させ、記憶部におけるデータの読み出し及び書き出しを行う。情報端末Ｔの処理に用いられるデータ又はデータベースは記憶部に格納される。

【0044】

面評価アプリケーション５０は、データ収集部３１に記憶された計測データ（計測点Ｐが紐付けられた計測データ）を評価する。面評価アプリケーション５０は、機能要素として、対象面Ｘ（例えば盛立面Ｓ）にメッシュＭを設定するメッシュ設定部５１と、計測点Ｐを含むメッシュＭに比抵抗等の計測データを割り当てる単一メッシュ割り当て部５２と、割り当てられた計測データから対象面Ｘを評価する評価部５３とを有する。

【0045】

メッシュ設定部５１は、例えば、情報端末ＴのディスプレイＴ１に対象面Ｘと共にメッシュＭを表示する。メッシュＭは、長方形状（一例として正方形状）を呈する。メッシュＭの一辺の長さ（対象面ＸのうちメッシュＭによって囲まれた部分の一辺の長さ、メッシュＭのサイズ）は、例えば、０．５ｍ以上且つ２ｍ以下である。メッシュＭのサイズは、予め決定された値とされている。

【0046】

単一メッシュ割り当て部５２は、計測データに紐付けられた計測点Ｐを用いて当該計測点Ｐを含むメッシュＭに計測データを割り当てる。ところで、比抵抗計測装置１０を真っ直ぐに進行させたつもりでも、比抵抗計測装置１０が進行した軌跡のブレ、速度のバラツキ、又はＧＮＳＳのバラツキ等の影響により、比抵抗計測装置１０が進行した経路はある程度ジグザグした経路になる。

【0047】

評価部５３は、メッシュＭごとに割り当てられた計測データを評価する。評価部５３は、メッシュＭごとに割り当てられた複数の計測データに統計処理を施してメッシュＭごとに計測データの代表値を算出する。例えば、評価部５３は、メッシュＭに割り当てられた体積含水率及び比抵抗から当該メッシュＭにおける盛土Ｂの密度と含水比を算出する。

【0048】

前述したように単一メッシュ割り当て部５２が計測点Ｐを含むメッシュに計測データを割り当てる場合、比抵抗計測装置１０は一定範囲Ｅを計測しているにもかかわらず、計測点Ｐを含むメッシュＭのみに計測データが割り当てられる。よって、比抵抗の計測の特徴とは相反し、比抵抗計測装置１０の実計測に即した対象面Ｘの評価ができていないという現状があった。

【0049】

例えば、図４及び図５に示されるようにメッシュＭのサイズ（メッシュサイズ）が小さい場合、比抵抗計測装置１０は周囲のメッシュＭを含んだ平均的な比抵抗を計測しているにもかかわらず、評価部５３がメッシュＭの代表値を算出すると、限られた狭い範囲しか計測していないような結果となる。すなわち、実際の比抵抗計測装置１０による計測範囲Ｙに対し、計測点Ｐを含むメッシュＭにしか計測データが割り当てられないため、評価部５３が評価する計測データの範囲（図５では色彩が付与されたメッシュＭの面積の合計）は非常に狭くなってしまうということが起こりうる。従って、全てのメッシュＭを評価するためには、全てのメッシュＭを埋め尽くすように比抵抗計測装置１０を何回も進行させなければならないため、計測に多大な労力と時間を要する。

【0050】

上記の問題を解決するため、本実施形態に係る面評価システム１（面評価アプリケーション５０）は、図１及び図６に示されるように、対象面Ｘにおける計測点Ｐの周囲の領域を計測エリアＫとして計測エリアＫを設定する計測エリア設定部５４と、計測エリアＫが重なるメッシュＭに計測データを割り当てる周辺メッシュ割り当て部５５とを有する。

【0051】

計測エリア設定部５４は、例えば、比抵抗計測装置１０の感度分析を基に計測点Ｐの比抵抗計測に基づいて計測エリアＫを設定する。例えば、計測エリア設定部５４は、比抵抗計測装置１０の進行方向Ｄ１に応じて計測エリアＫを設定する。具体例として、計測エリア設定部５４は、進行方向Ｄ１に延びる一対の長辺Ｋ１と、平面視において進行方向Ｄ１に直交する直交方向Ｄ３に延びる一対の短辺Ｋ２とを有する長方形状の計測エリアＫを設定する。一例として、長辺Ｋ１の長さは３ｍであり、短辺Ｋ２の長さは２ｍである。

【0052】

上記のように計測エリア設定部５４が長方形状の計測エリアＫを設定する場合、メッシュＭに割り当てられた計測データの演算及び評価を簡易に行うことができるという利点がある。しかしながら、計測エリア設定部５４が設定する計測エリアの形状は、楕円形状、長円形状、円形状又は多角形状であってもよく特に限定されない。

【0053】

周辺メッシュ割り当て部５５は、計測エリアＫが重なるメッシュＭに計測データを割り当てる。例えば、周辺メッシュ割り当て部５５はメッシュＭの中心Ｎに計測エリアＫが重なる全てのメッシュＭに計測データを割り当てる。「メッシュの中心」は、例えば、メッシュの重心である。すなわち、長方形状等、多角形状を呈するメッシュ等の図形において中心は重心と一致する。図６の例では、メッシュＭ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６に計測データを割り当てる。これにより、１つの計測データが計測点Ｐの周囲の複数のメッシュＭに割り当てられる。

【0054】

周辺メッシュ割り当て部５５が１つの計測データを計測点Ｐの周囲の複数のメッシュＭに割り当てることにより、より比抵抗計測装置１０の実計測に即した対象面Ｘの評価が可能となる。従って、比抵抗計測装置１０による周囲のメッシュＭを含んだ比抵抗の計測に応じた対象面Ｘの評価が可能となるため、評価部５３が評価する計測データの範囲をメッシュサイズにかかわらず広くすることができる。

【0055】

以下では、単一メッシュ割り当て部５２による計測データの割り当てを単一メッシュ割り当て法、周辺メッシュ割り当て部５５による計測データの割り当てを周辺メッシュ配分法、と称することがある。表１は、単一メッシュ割り当て法によるメッシュサイズごとの要約統計量を示している。表２は、周辺メッシュ配分法によるメッシュサイズごとの要約統計量を示している。各要約統計量の算出において、生データのデータ数は２２９８、最大値は２．３８、最小値は１．６８、平均値は２．０５、標準偏差は０．１６１、変動係数は０．０７９であった。

【表1】

【表2】

【0056】

表１及び表２に示されるように、単一メッシュ割り当て法（表１）では、メッシュサイズが小さいほど計測データが割り当てられるメッシュの数の割合が少なくなるため、メッシュサイズによる標準偏差の変化が大きい。単一メッシュ割り当て法では、メッシュサイズが小さいとき（１ｍであるとき）、標準偏差が０．０９６となっている。一方、周辺メッシュ配分法（表２）では、メッシュサイズによる標準偏差の変化が緩和されている。周辺メッシュ配分法では、メッシュサイズが小さくでも、計測データが複数のメッシュに割り当てられるため、メッシュサイズによる影響が緩和される。

【0057】

なお、図７に示されるように、周辺メッシュ配分法の場合、メッシュサイズに対して計測エリアＫが著しく大きい場合、中心Ｎに計測エリアＫが重なるメッシュＭがないことにより、どのメッシュＭにも計測データが割り当てられないということが生じうる。

【0058】

本実施形態に係る面評価方法では、上記のことを回避するために、図８（ａ）及び図８（ｂ）に示されるように、単一メッシュ割り当て法による計測データの割り当て、及び周辺メッシュ配分法による計測データの割り当て、の双方が行われる。以下では、本実施形態に係る面評価方法の工程の例について説明する。

【0059】

まず、図４に示されるように、盛立面Ｓに沿って比抵抗計測装置１０を移動させながら比抵抗計測装置１０が一定時間ごとに盛立面Ｓを計測して複数の比抵抗の計測データを取得する（計測データを取得する工程）。このとき、各計測データに、各計測データが計測された位置である計測点Ｐを位置測位システム１５が対応付ける（対応付ける工程）。計測点Ｐが紐付けられた複数の計測データが取得された後には、メッシュ設定部５１が対象面ＸにメッシュＭを設定する（メッシュを設定する工程）。

【0060】

次に、図８（ａ）に示されるように、計測点Ｐを含むメッシュＭに計測データを割り当てる単一メッシュ割り当て工程を実行する。このとき、単一メッシュ割り当て部５２が単一メッシュ割り当て法によって計測点Ｐを含むメッシュＭ（メッシュＭ１）に計測データを割り当てる。

【0061】

その後、図８（ｂ）に示されるように、周辺メッシュ配分法を実行する。より具体的には、計測エリア設定部５４が対象面Ｘにおける計測点Ｐの周囲の領域を計測エリアＫとして設定する（計測エリアを設定する工程）。例えば、計測エリア設定部５４は、比抵抗計測装置１０の計測感度に応じて計測エリアＫを設定する。

【0062】

一例として、計測エリア設定部５４は、比抵抗計測装置１０の計測範囲にである一定範囲Ｅに応じた（例えば平面視における一定範囲Ｅと類似した形状の）計測エリアＫを設定してもよい。また、計測エリア設定部５４は、比抵抗計測装置１０の進行方向Ｄ１に応じて計測エリアＫを設定してもよい。一例として、計測エリア設定部５４は、進行方向Ｄ１に沿って延びる長辺Ｋ１を有する長方形状の計測エリアＫを設定してもよい。

【0063】

計測エリアＫが設定された後には、計測エリアＫが重なるメッシュＭに周辺メッシュ割り当て部５５が計測データを割り当てる（周辺メッシュ割り当て工程）。このとき、メッシュＭの中心に計測エリアＫが重なるメッシュＭに計測データを割り当てる。一例として、周辺メッシュ割り当て部５５はメッシュＭ１～Ｍ６に計測データを割り当てる。このように、単一メッシュ割り当て法及び周辺メッシュ配分法の双方を実行した後には、評価部５３によるメッシュＭごとの評価が実行される。

【0064】

評価部５３は、周辺メッシュ配分法及び単一メッシュ割り当て法の双方において計測データが割り当てられたメッシュＭから、周辺メッシュ配分法において割り当てられた計測データ、及び単一メッシュ割り当て法において割り当てられた計測データのいずれかを削除する。すなわち、同じメッシュＭに二度割り当てられた計測データのうちの一方を評価部５３が削除する。図８（ａ）及び図８（ｂ）の例では、評価部５３はメッシュＭ１に割り当てられた計測データの一方を削除する。その後、メッシュＭに割り当てられた計測データから評価部５３が対象面Ｘの評価（評価する工程）をメッシュＭごとに行って、一連の工程が完了する。

【0065】

次に、本実施形態に係る面評価システム１及び面評価方法から得られる作用効果について詳細に説明する。本実施形態に係る面評価システム１及び面評価方法では、比抵抗計測装置１０が対象面Ｘ上を移動しながら対象面Ｘを一定時間ごとに計測することによって複数の計測データが取得され、各計測データには計測された位置である計測点Ｐが対応付けられる。これにより、複数の計測点Ｐごとの複数の計測データを得られる。

【0066】

対象面ＸにはメッシュＭが設定され、対象面Ｘにおける計測点Ｐの周囲の領域が計測エリアＫとして設定される。そして、計測エリアＫが重なるメッシュＭに計測データが割り当てられる周辺メッシュ割り当て工程が実行され、割り当てられた計測データから対象面ＸがメッシュＭごとに評価される。従って、計測点Ｐの周囲の複数のメッシュＭに計測データが割り当てられるため、広い範囲における計測データを得ることができる。よって、比抵抗計測装置１０を長距離走行させなくても多くのメッシュＭを埋め尽くすことができるので、対象面Ｘの計測を容易に行うことができる。この対象面Ｘの計測は、メッシュＭのサイズが小さい場合であっても容易に行うことができるので、メッシュＭのサイズにかかわらず高精度な計測データを容易に取得することができる。

【0067】

本実施形態に係る面評価方法は、計測点Ｐを含むメッシュＭに計測データを割り当てる単一メッシュ割り当て工程を更に備える。周辺メッシュ割り当て工程及び単一メッシュ割り当て工程の双方を実行し、周辺メッシュ割り当て工程及び単一メッシュ割り当て工程の双方において計測データが割り当てられたメッシュＭ（メッシュＭ１）から、周辺メッシュ割り当て工程において割り当てられた計測データ、及び単一メッシュ割り当て工程において割り当てられた計測データのいずれかを削除する。このように、単一メッシュ割り当て工程と周辺メッシュ割り当て工程の双方が実行されることにより、メッシュＭがどのようなサイズであっても高精度な計測データを容易に取得することができる。図７のようにメッシュＭのサイズが著しく大きい場合であっても、単一メッシュ割り当て法によって少なくとも１つのメッシュＭに計測データを割り当てることができる。

【0068】

本実施形態において、計測エリアを設定する工程では、比抵抗計測装置１０の計測感度に応じて計測エリアＫを設定してもよい。この場合、計測エリアＫの設定のときに比抵抗計測装置１０の計測感度（例えば、比抵抗計測装置１０の計測が及ぶ領域を示す一定範囲Ｅ）が加味されるので、より高精度な計測データを取得できる。

【0069】

本実施形態において、周辺メッシュ割り当て工程では、メッシュＭの中心に計測エリアＫが重なるメッシュＭに計測データを割り当てる。この場合、メッシュＭの中心に計測エリアＫが重なるメッシュＭに計測データを割り当てることができる。

【0070】

本実施形態において、計測エリアを設定する工程では、対象面Ｘにおける比抵抗計測装置１０の進行方向Ｄ１に応じて計測エリアＫを設定してもよい。この場合、計測エリアＫの設定のときに比抵抗計測装置１０の進行方向Ｄ１が加味されるので、より高精度な計測データを取得できる。

【0071】

本実施形態において、対象面Ｘは、締固めが行われた盛立面Ｓである。従って、盛立面Ｓの計測を容易に行うことができると共に、メッシュＭのサイズにかかわらず盛立面Ｓの高精度な計測データを取得することができる。

【0072】

本実施形態において、計測データを取得する工程では、比抵抗計測装置１０が盛土Ｂの比抵抗を計測データとして取得する。従って、盛土Ｂの比抵抗が取得されるので、締め固められた後の盛土Ｂの評価を容易に且つ高精度に行うことができる。

【0073】

次に、本開示に係る面評価方法及び面評価システムの種々の変形例について説明する。変形例に係る面評価方法の一部の工程は、前述した実施形態に係る面評価方法の一部の工程と同一である。変形例に係る面評価システムの一部の構成は、前述した面評価システム１の一部の構成と同一である。従って、既出の説明と同一の説明については同一の符号を付して適宜省略する。

【0074】

（第１変形例）
図９に示されるように、例えば、評価部５３は、周辺メッシュ割り当て工程において、比抵抗計測装置１０が計測を行うごとに、メッシュＭに計測エリアＫが重なる領域Ｆの面積を算出する。評価部５３は、メッシュＭの面積に対する重なる領域Ｆの面積の割合と計測データとの積の総和を、当該割合の総和で除した値を評価する。具体例として、第１の計測において、計測データの値がＣ１、メッシュＭの面積に対する重なる領域Ｆの面積の割合がｗ１であり、第２の計測において、計測データの値がＣ２、メッシュＭの面積に対する重なる領域Ｆの面積の割合がｗ２であるときに、式（１）によって評価値を算出する。
評価値＝（（Ｃ１×ｗ１）＋（Ｃ２×ｗ２））／ｗ１＋ｗ２
評価部５３は、この評価値をメッシュＭに割り当てられた計測データとして前述した評価を行う。

【0075】

以上、第１変形例に係る面評価方法において、周辺メッシュ割り当て工程では、比抵抗計測装置１０が計測を行うごとに、メッシュＭに計測エリアが重なる領域Ｆの面積を算出する。評価する工程では、メッシュＭの面積に対する重なる領域Ｆの面積の割合と計測データとの積の総和を、当該割合の総和で除した値を評価する。よって、計測エリアＫがメッシュＭに重なる領域Ｆの面積を重み付けしてメッシュＭに計測データを割り当てることができるので、更に高精度な計測データを取得できる。

【0076】

（第２変形例）
図１０に示されるように、例えば、評価部５３は、評価する工程において、計測エリアＫの内部の位置に応じた比抵抗計測装置１０の計測感度Ｇを加味して対象面ＸをメッシュＭごとに評価する。例えば、計測感度Ｇは、平面視における比抵抗計測装置１０の中央から離隔するに従って低下する。第２変形例では、周辺メッシュ割り当て部５５は、比抵抗計測装置１０の中央に近いメッシュＭに大きな影響度を持つように計測データを割り当てて、比抵抗計測装置１０の中央から離隔したメッシュＭに小さな影響度を持つように計測データを割り当てる。

【0077】

例えば、評価部５３は、感度分布を計測エリアＫがメッシュＭに重なる領域Ｆ（図９参照）の面積で面積分し、その値を重みとして重み付け平均してもよい。このように、第２変形例では、評価する工程において、計測エリアＫの内部の位置に応じた計測感度Ｇを加味して対象面ＸをメッシュＭごとに評価する。よって、メッシュＭに重なる計測エリアＫの計測感度Ｇが加味されて計測データが割り当てられるので、更に高精度な計測データを取得できる。

【0078】

（第３変形例）
図１１に示されるように、第３変形例に係る面評価方法では、比抵抗計測装置６０の位置測位システム６５の構成が前述した位置測位システム１５とは異なっている。位置測位システム６５は、２個のＧＮＳＳアンテナ６６を備える。位置測位システム６５は、２個のＧＮＳＳアンテナ６６の相対位置から進行方向Ｄ１を算出する。このように、第３変形例に係る位置測位システム６５では、進行方向Ｄ１を算出できるので、計測エリア設定部５４による進行方向Ｄ１を加味した計測エリアＫの設定をより適切に行うことができる。なお、第３変形例に係る位置測位システム６５は、２個のＧＮＳＳアンテナ６６に代えてＧＰＳコンパスを備えていてもよい。この場合も上記と同様の効果が得られる。

【0079】

（第４変形例）
第４変形例に係る面評価方法では、図１２に示されるように、位置測位システムが１つの計測点Ｐ１の前後の計測点Ｐ２，Ｐ３の位置座標を算出し、算出した位置座標の変化率から進行方向Ｄ１を算出する。この場合も位置測位システムによって進行方向Ｄ１を算出できるので、計測エリア設定部５４による進行方向Ｄ１を加味した計測エリアＫの設定をより適切に行うことができる。

【0080】

（第５変形例）
図１３は、第５変形例に係る面評価システム７１を示す斜視図である。面評価システム７１は複数の計測装置を備え、複数の計測装置は比抵抗計測装置１０と比誘電率計測装置７５とによって構成される。更に、面評価システム７１は、盛土Ｂの乾燥密度、及び盛土Ｂの含水比を算出する盛土評価項目算出部８２を備える。

【0081】

面評価システム７１は、比抵抗計測装置１０及び比誘電率計測装置７５を互いに接続する線状体７２を有する。比誘電率計測装置７５は、比誘電率計測部８６と、走行体８７と、走行体８７の下面に取り付けられた状態で比誘電率計測部８６を保持する保持部８８とを有する。走行体８７は、複数の車輪８７ｂと、複数の車輪８７ｂの上部に設けられた台部８７ｃとを有する。

【0082】

保持部８８は、内部に比誘電率計測部８６を保持した状態で台部８７ｃの下面に取り付けられている。保持部８８は、例えば、金属製である。保持部８８は、比誘電率計測部８６が収容される凹部を有し、当該凹部の下面部が盛立面Ｓに接触する。比誘電率計測部８６は当該下面部を介して盛立面Ｓに接触した状態で盛土Ｂの比誘電率を計測する。

【0083】

比誘電率計測部８６は、盛土Ｂに対向した状態で盛土Ｂの比誘電率を計測する。比誘電率計測部８６は、比抵抗計測装置１０の移動と同時に、又は比抵抗計測装置１０の移動後に続けて盛立面Ｓ上で移動して比誘電率を計測する。比誘電率計測部８６は、例えば、地中レーダーである。この場合、比誘電率計測部８６は盛土Ｂに対して下方に電磁波を送信する送信部と、電磁波を受信する受信部とを有する。比誘電率計測部８６は、電磁波を照射してから、電磁波が比誘電率計測部８６に返ってくるまでの時間を計測する。

【0084】

盛土Ｂの施工層の厚さを予め計測し、比誘電率計測部８６は上記の時間と当該厚さから電磁波の速度を算出する。当該厚さは、比誘電率計測部８６に手入力されてもよいし、ＧＮＳＳによって計測された層厚データが比誘電率計測部８６に自動入力されてもよい。

【0085】

上記の電磁波の速度と比誘電率は１対１の関係である。よって、当該関係を用いて比誘電率計測部８６は電磁波の速度から比誘電率を算出する。例えば、予め室内試験で比誘電率と盛土Ｂの体積含水率との関係を取得しておくことにより、当該関係を用いて面評価システム７１は比誘電率から盛土Ｂの体積含水率を算出する。例えば、面評価システム７１は、盛土Ｂの体積含水率及び比抵抗から盛土Ｂの密度と含水比を推定する。

【0086】

以上、面評価システム７１では、計測データを取得する工程において、比抵抗計測装置１０が盛土Ｂの比抵抗を計測データとして取得し、比誘電率計測装置７５が比誘電率を計測データとして取得する。よって、盛土Ｂの比抵抗及び比誘電率から盛土Ｂの乾燥密度及び含水比を算出できる。従って、盛土Ｂの評価を更に高精度に行うことができる。

【0087】

なお、比誘電率計測装置７５に代えて体積含水率計測装置が設けられていてもよく、比誘電率計測部８６に代えて散乱型ＲＩ水分計が設けられていてもよい。この場合、散乱型ＲＩ水分計は、盛立面Ｓから下方に速中性子線を照射し、盛土Ｂの水素原子に速中性子線が衝突して返ってきた熱中性子線を検出することによって盛土Ｂの体積含水率を計測できる。この場合、散乱型ＲＩ水分計を盛立面Ｓに載せて盛土Ｂの体積含水率を計測できるので、盛土Ｂにおける水分の計測を容易に且つ高精度に行うことができる。

【0088】

以上、本開示に係る面評価方法及び面評価システムの実施形態及び種々の変形例について説明した。しかしながら、本開示に係る面評価方法及び面評価システムは、前述した実施形態又は変形例に限られず、特許請求の範囲に記載した要旨の範囲内において適宜変更可能である。すなわち、面評価方法の工程の内容及び順序、並びに、面評価システムの各部の構成、形状、大きさ、材料、数及び配置態様は、前述した実施形態又は変形例に限られず適宜変更可能である。

【0089】

例えば、前述した実施形態では、メッシュＭの中心Ｎに計測エリアＫが重なる全てのメッシュＭに計測データを割り当てる周辺メッシュ割り当て部５５について説明した。しかしながら、メッシュＭの中心Ｎとは異なる位置が計測エリアＫに重なるメッシュＭに計測データが割り当てられてもよく、計測データが割り当てられるメッシュＭの条件は適宜変更可能である。

【0090】

前述の実施形態では、計測データとして比抵抗の平均値が計測される例について説明した。しかしながら、計測データは、平均値に限られず、エラー値の一律棄却又は１σ棄却がなされた計測データ、機械学習により計測データ群から代表値を抽出するモデルによって得られた計測データであってもよい。更に、計測データは、比抵抗以外の計測データであってもよく、前述したように、比誘電率又は体積含水率の計測データにも前述した面評価方法及び面評価システム１を適用可能である。

【0091】

前述した実施形態では、単一メッシュ割り当て法及び周辺メッシュ配分法の双方を実行する例について説明した。しかしながら、状況によっては、単一メッシュ割り当て法を省略してもよい。この場合、単一メッシュ割り当て部５２を省略することも可能である。更に、前述の実施形態では、対象面Ｘが盛立面Ｓである例について説明した。しかしながら、対象面は、例えば、コンクリートの表面であってもよく、適宜変更可能である。

【符号の説明】

【0092】

１…面評価システム、３…線状体、１０…比抵抗計測装置（計測装置）、１５…位置測位システム、２０…電極、２１…電位電極、２２…電流電極、２３…誘電体、２４…導電体、２５…交流電源、２６…電位計、３０…牽引部、３０ｂ…車輪、３０ｃ…台部、３０ｄ…取手部、３１…データ収集部、４１…保持体、４２…キャスタ、４３…電極保持部、４６…バネ機構、４８…線状体、５０…面評価アプリケーション、５１…メッシュ設定部、５２…単一メッシュ割り当て部、５３…評価部、５４…計測エリア設定部、５５…周辺メッシュ割り当て部、６０…比抵抗計測装置、６５…位置測位システム、６６…ＧＮＳＳアンテナ、７１…面評価システム、７２…線状体、７５…比誘電率計測装置、８２…盛土評価項目算出部、８６…比誘電率計測部、８７…走行体、８７ｂ…車輪、８７ｃ…台部、８８…保持部、Ａ…現場、Ｂ…盛土、Ｄ１…進行方向、Ｄ２…方向、Ｄ３…直交方向、Ｅ…一定範囲、Ｆ…領域、Ｇ…計測感度、Ｋ…計測エリア、Ｋ１…長辺、Ｋ２…短辺、Ｍ，Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６…メッシュ、Ｎ…中心、Ｐ，Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３…計測点、Ｓ…盛立面、Ｔ…情報端末、Ｔ１…ディスプレイ、Ｘ…対象面、Ｙ…計測範囲。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】