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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024108162
(43)【公開日】2024-08-09
(54)【発明の名称】光学フィルター
(51)【国際特許分類】
G02B 5/22 20060101AFI20240802BHJP
【ＦＩ】
G02B5/22
【審査請求】有
【請求項の数】23
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024011975
(22)【出願日】2024-01-30
(31)【優先権主張番号】10-2023-0011616
(32)【優先日】2023-01-30
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(71)【出願人】
【識別番号】509179087
【氏名又は名称】エルエムエス・カンパニー・リミテッド
【氏名又は名称原語表記】ＬＭＳ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．
(74)【代理人】
【識別番号】110000408
【氏名又は名称】弁理士法人高橋・林アンドパートナーズ
(72)【発明者】
【氏名】ジョン，ジュン ホ
(72)【発明者】
【氏名】カン，ナム ウ
(72)【発明者】
【氏名】キム，ソン ジョン
【テーマコード（参考）】
2H148
【Ｆターム（参考）】
2H148CA04
2H148CA12
2H148CA13
2H148CA17
(57)【要約】 （修正有）
【課題】不要な波長領域の光（例えば、紫外線と赤外線領域の光）を効果的に遮断しながらも、必要な波長領域（例えば、可視光領域）では高透過率を確保することができる光学フィルターおよびその用途を提供する。
【解決手段】基板と、上記基板の一面または両面に形成されている透過率制御層と、を含み、上記基板の屈折率に対する上記透過率制御層の屈折率の差の絶対値が、２％～１０％の範囲内であり、下記式１の△Ｔ１が、０．５％以上である光学フィルター：
［式１］
△Ｔ１＝１００×（ＴＦ１－ＴＳ１）／ＴＳ１
式１中、ＴＦ１は、上記光学フィルターの４８１ｎｍ～５６０ｎｍの波長範囲における平均透過率であり、ＴＳ１は、上記透過率制御層を含まない光学フィルターの４８１ｎｍ～５６０ｎｍの波長範囲における平均透過率である。
【選択図】図４
【解決手段】基板と、上記基板の一面または両面に形成されている透過率制御層と、を含み、上記基板の屈折率に対する上記透過率制御層の屈折率の差の絶対値が、２％～１０％の範囲内であり、下記式１の△Ｔ１が、０．５％以上である光学フィルター：
［式１］
△Ｔ１＝１００×（ＴＦ１－ＴＳ１）／ＴＳ１
式１中、ＴＦ１は、上記光学フィルターの４８１ｎｍ～５６０ｎｍの波長範囲における平均透過率であり、ＴＳ１は、上記透過率制御層を含まない光学フィルターの４８１ｎｍ～５６０ｎｍの波長範囲における平均透過率である。
【選択図】図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板と、
前記基板の一面または両面に形成されている透過率制御層と、を含み、
前記基板の屈折率に対する前記透過率制御層の屈折率の差の絶対値が、２％～１０％の範囲内であり、
下記式１の△Ｔ１が、０．５％以上である光学フィルター。
［式１］
△Ｔ１＝１００×（ＴＦ１－ＴＳ１）／ＴＳ１
式１中、ＴＦ１は、前記光学フィルターの４８１ｎｍ～５６０ｎｍの波長範囲における平均透過率であり、ＴＳ１は、前記透過率制御層を含まない光学フィルターの４８１ｎｍ～５６０ｎｍの波長範囲における平均透過率である。
前記基板の一面または両面に形成されている透過率制御層と、を含み、
前記基板の屈折率に対する前記透過率制御層の屈折率の差の絶対値が、２％～１０％の範囲内であり、
下記式１の△Ｔ１が、０．５％以上である光学フィルター。
［式１］
△Ｔ１＝１００×（ＴＦ１－ＴＳ１）／ＴＳ１
式１中、ＴＦ１は、前記光学フィルターの４８１ｎｍ～５６０ｎｍの波長範囲における平均透過率であり、ＴＳ１は、前記透過率制御層を含まない光学フィルターの４８１ｎｍ～５６０ｎｍの波長範囲における平均透過率である。
【請求項2】
前記式１のＴＦ１が、８０％以上である、請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項3】
前記基板が、ガラス基板である、請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項4】
前記ガラス基板が、１０重量％以下の割合で銅を含む、請求項３に記載の光学フィルター。
【請求項5】
前記透過率制御層が、環状オレフィン樹脂、ポリアリレート、ポリイソシアネート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリシラザンおよびポリシロキサンからなる群から選択された１つ以上を含む、請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項6】
前記基板の屈折率が、前記透過率制御層の屈折率に比べて大きく、前記基板の屈折率が、１．４８～１．６の範囲内にある、請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項7】
前記基板の両面に前記透過率制御層を含む、請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項8】
光吸収層をさらに含む、請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項9】
前記基板の屈折率に対する前記光吸収層の屈折率の差の絶対値が、０．２％～１０％の範囲内である、請求項８に記載の光学フィルター。
【請求項10】
前記光吸収層と前記基板の間に粘着層、接着層またはプライマー層をさらに含む、請求項８に記載の光学フィルター。
【請求項11】
前記透過率制御層が、前記基板の前記粘着層、接着層またはプライマー層が形成された表面とは反対側の表面または前記光吸収層の前記粘着層、接着層またはプライマー層が形成された表面とは反対側の表面に存在する、請求項１０に記載の光学フィルター。
【請求項12】
前記基板の屈折率に対する前記光吸収層の屈折率の差が、０．２％～２％の範囲内であり、
前記基板の屈折率に対する前記粘着層、接着層またはプライマー層の屈折率の差が、３％～１０％の範囲内であり、
前記透過率制御層の屈折率に対する前記粘着層、接着層またはプライマー層の屈折率の差が、８％～１５％の範囲内である、請求項１１に記載の光学フィルター。
前記基板の屈折率に対する前記粘着層、接着層またはプライマー層の屈折率の差が、３％～１０％の範囲内であり、
前記透過率制御層の屈折率に対する前記粘着層、接着層またはプライマー層の屈折率の差が、８％～１５％の範囲内である、請求項１１に記載の光学フィルター。
【請求項13】
前記基板の屈折率に対する前記透過率制御層の屈折率の差が、－２％～－１０％の範囲内である、請求項１２に記載の光学フィルター。
【請求項14】
前記光吸収層と前記粘着層、接着層またはプライマー層が、互いに直接接しており、前記粘着層、接着層またはプライマー層と前記基板が、互いに直接接しており、前記透過率制御層が、前記光吸収層または前記基板と直接接している、請求項１２に記載の光学フィルター。
【請求項15】
前記光吸収層として、互いに屈折率が異なる第１および第２光吸収層を含む、請求項８に記載の光学フィルター。
【請求項16】
前記第１光吸収層が、前記第２光吸収層に比べて低い屈折率を有し、前記第１光吸収層が、前記第２光吸収層と前記基板の間に存在する、請求項１５に記載の光学フィルター。
【請求項17】
前記基板の屈折率に対する前記第１光吸収層の屈折率の差が、－２％～－１０％の範囲内であり、前記基板の屈折率に対する前記第２光吸収層の屈折率の差が、２％～１０％の範囲内である、請求項１５に記載の光学フィルター。
【請求項18】
前記透過率制御層が、前記基板の前記第１光吸収層が形成された表面とは反対側の表面または前記第２光吸収層の前記第１光吸収層が形成された表面とは反対側の表面に存在する、請求項１５に記載の光学フィルター。
【請求項19】
前記基板の屈折率に対する前記透過率制御層の屈折率の差が、－２％～－１０％の範囲内である、請求項１５に記載の光学フィルター。
【請求項20】
前記第２光吸収層と前記第１光吸収層が、互いに直接接しており、前記第１光吸収層と前記基板が、互いに直接接しており、前記透過率制御層が、前記第２光吸収層または前記基板と直接接している、請求項１５に記載の光学フィルター。
【請求項21】
前記基板の一面または両面に形成された誘電体多層膜をさらに含む、請求項１に記載の光学フィルター。
【請求項22】
順次積層されている第１層、第２層、第３層および第４層を含み、
前記第１～第４層の屈折率が、それぞれｎ１、ｎ２、ｎ３およびｎ４であり、
前記第１～第４層のうちいずれか１つが、基板であり、
前記第１～第４層のうちいずれか１つが、透過率制御層であり、
前記屈折率ｎ１～ｎ４が、下記式４または５の関係を満たし、
前記第１～第４層の平均屈折率が、１．３～１．９の範囲内であり、
前記第１層と前記第３層の平均屈折率と前記第２層と前記第４層の平均屈折率の差の絶対値が、０～２の範囲内である光学フィルター。
［式４］
ｎ２＞ｎ１≧ｎ３＞ｎ４
［式５］
ｎ２＞ｎ３≧ｎ１＞ｎ４
前記第１～第４層の屈折率が、それぞれｎ１、ｎ２、ｎ３およびｎ４であり、
前記第１～第４層のうちいずれか１つが、基板であり、
前記第１～第４層のうちいずれか１つが、透過率制御層であり、
前記屈折率ｎ１～ｎ４が、下記式４または５の関係を満たし、
前記第１～第４層の平均屈折率が、１．３～１．９の範囲内であり、
前記第１層と前記第３層の平均屈折率と前記第２層と前記第４層の平均屈折率の差の絶対値が、０～２の範囲内である光学フィルター。
［式４］
ｎ２＞ｎ１≧ｎ３＞ｎ４
［式５］
ｎ２＞ｎ３≧ｎ１＞ｎ４
【請求項23】
順次積層されている第１層、第２層、第３層および第４層を含み、
前記第１～第４層の屈折率が、それぞれｎ１、ｎ２、ｎ３およびｎ４であり、
前記第１～第４層のうち少なくとも１つが、基板であり、
前記第１～第４層のうち少なくとも１つが、透過率制御層であり、
前記第１～第４層の平均屈折率ｎｖが、１．３～１．９の範囲内であり、
下記式６または式７を満たすフィルター。
［式６］
ｎｖ－ｎ１＞０、ｎｖ－ｎ２＜０、ｎｖ－ｎ３＞０およびｎｖ－ｎ４＜０
［式７］
ｎｖ－ｎ１＜０、ｎｖ－ｎ２＞０、ｎｖ－ｎ３＜０およびｎｖ－ｎ４＞０
前記第１～第４層の屈折率が、それぞれｎ１、ｎ２、ｎ３およびｎ４であり、
前記第１～第４層のうち少なくとも１つが、基板であり、
前記第１～第４層のうち少なくとも１つが、透過率制御層であり、
前記第１～第４層の平均屈折率ｎｖが、１．３～１．９の範囲内であり、
下記式６または式７を満たすフィルター。
［式６］
ｎｖ－ｎ１＞０、ｎｖ－ｎ２＜０、ｎｖ－ｎ３＞０およびｎｖ－ｎ４＜０
［式７］
ｎｖ－ｎ１＜０、ｎｖ－ｎ２＞０、ｎｖ－ｎ３＜０およびｎｖ－ｎ４＞０
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本出願は、光学フィルターおよび撮像装置に関する。
【背景技術】
【0002】
ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ－Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）やＣＭＯＳ（ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ ｍｅｔａｌ ｏｘｉｄｅ ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）イメージセンサーなどを用いた撮像装置において光学フィルターが用いられている。このような光学フィルターは、近赤外線カットフィルターとも呼ばれ、良好な色再現性と鮮明な画像を得るために用いられる。
【0003】
このような光学フィルターには様々な特性が要求される。
【0004】
上記光学フィルターは、紫外線および赤外線領域の光を効果的に遮断し、同時に可視光を高透過率で透過させなければならない。このために、遮断しようとする紫外線と可視光の境界と赤外線と可視光の境界に急激かつシャープな透過率の変化が必要である。
【0005】
光学フィルターは、上記のような透過および遮断特性が入射角が変化しても維持されることが必要である。広角カメラなどの開発に伴い、このような特性がより重要になり、さらに広い入射角でも透過および遮断特性が維持される光学フィルターの必要性が大きくなっている。
【0006】
上記のような機能の光学フィルターを製造するために、通常、光学フィルターは、多層構造を有するように製造される。すなわち、光学フィルターが所望の波長の光を透過させ、不要な光を遮断させるために、光学フィルターには、通常、誘電体多層膜および／または光吸収層が含まれる。
【0007】
上記で誘電体多層膜は、通常、高屈折率の誘電体材料と低屈折率の誘電体材料を反復積層して形成した膜であり、このような膜は、設計によって不要な波長の光を反射により遮断することができる。
【0008】
光吸収層は、多様な色素を用いて不要な波長の光を吸収により遮断するように設計した膜である。
【0009】
光学フィルターに上記のような誘電体多層膜および／または光吸収層を適切に形成することによって、目的とする波長で光を遮断することができる。
【0010】
しかしながら、多層構造で光学フィルターが形成されると、層と層間の界面に不要な反射および／または吸収が発生し、このような反射および吸収は、光学フィルターが高透過率を示さなければならない波長領域（例えば、可視光波長領域）で低透過率を示す原因となる。
【0011】
最近、基板として近赤外線吸収特性を有するいわゆる赤外線吸収ガラス（Ｂｌｕｅ ｇｌａｓｓとも呼ばれる）を適用した光学フィルターも知られている。赤外線吸収ガラスは、近赤外線波長領域の光を選択的に吸収するようにガラスにＣｕＯなどを添加したガラスフィルターである。
【0012】
このような赤外線吸収ガラスを用いる場合、不要な波長領域の光をより効果的に遮断できるという利点があるが、基板自体が吸収特性を示すので、上記層と層の間に発生する反射および／または吸収現象によって問題となる透過率低下問題がさらに大きくなるという短所がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0013】
本出願は、光学フィルターおよびその用途を提供することを目的とする。本出願では、不要な波長領域の光（例えば、紫外線と赤外線領域の光）を効果的に遮断しながらも、必要な波長領域（例えば、可視光領域）では高透過率を確保することができる光学フィルターおよびその用途を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0014】
本明細書において言及する物性のうち、測定温度が結果に影響を及ぼす物性は、特に明記しない限り、常温で測定した結果である。
【0015】
本明細書において常温は、加温および減温しない自然そのままの温度を意味し、例えば、１０℃～３０℃の範囲内のいずれか１つの温度、約２３℃または約２５℃程度の温度を意味する。また、本明細書において温度の単位は、別段の定めがない限り、摂氏（℃）である。
【0016】
本明細書において言及する物性のうち、測定圧力が結果に影響を及ぼす物性は、特に明記しない限り、常圧で測定した結果である。
【0017】
本明細書において常圧は、加圧および減圧しない自然そのままの圧力であり、通常、大気圧レベルの約７４０ｍｍＨｇ～７８０ｍｍＨｇ程度を意味する。
【0018】
本明細書において測定湿度が結果に影響を及ぼす物性の場合、当該物性は、上記常温および／または常圧状態で特に調節されない自然そのままの湿度で測定した物性である。
【0019】
本出願において言及する光学特性（例えば、屈折率）が波長によって変わる特性である場合に、別段の定めがない限り、当該光学特性は、５２０ｎｍ波長の光に対する特性である。
【0020】
本出願において用語透過率または反射率は、別段の定めがない限り、特定波長で確認した実際の透過率（実測透過率）または実際の反射率（実測反射率）を意味する。
【0021】
本明細書において用語透過率または反射率は、別段の定めがない限り、入射角０度を基準とする透過率または反射率である。
【0022】
本出願において用語平均透過率は、別段の定めがない限り、所定波長領域内における最短波長から波長を１ｎｍずつ増加させながら各波長の透過率を測定した後に測定された透過率の算術平均を求めた結果である。例えば、３５０ｎｍ～３６０ｎｍの波長範囲内の平均透過率は、３５０ｎｍ、３５１ｎｍ、３５２ｎｍ、３５３ｎｍ、３５４ｎｍ、３５５ｎｍ、３５６ｎｍ、３５７ｎｍ、３５８ｎｍ、３５９ｎｍおよび３６０ｎｍの波長で測定した透過率の算術平均である。
【0023】
本明細書において用語最大透過率は、所定波長領域内における最短波長から波長を１ｎｍずつ増加させながら、各波長の透過率を測定したときの最大透過率である。例えば、３５０ｎｍ～３６０ｎｍの波長範囲内の最大透過率は、３５０ｎｍ、３５１ｎｍ、３５２ｎｍ、３５３ｎｍ、３５４ｎｍ、３５５ｎｍ、３５６ｎｍ、３５７ｎｍ、３５８ｎｍ、３５９ｎｍおよび３６０ｎｍの波長で測定した透過率のうち最も高い透過率である。
【0024】
本明細書において用語最小透過率は、所定波長領域内における最短波長から波長を１ｎｍずつ増加させながら、各波長の透過率を測定したときの最小透過率である。例えば、３５０ｎｍ～３６０ｎｍの波長範囲内の最小透過率は、３５０ｎｍ、３５１ｎｍ、３５２ｎｍ、３５３ｎｍ、３５４ｎｍ、３５５ｎｍ、３５６ｎｍ、３５７ｎｍ、３５８ｎｍ、３５９ｎｍおよび３６０ｎｍの波長で測定した透過率のうち最も低い透過率である。
【0025】
本明細書において入射角は、評価対象表面の法線を基準とする角度である。例えば、光学フィルターの入射角０度における透過率または反射率は、上記光学フィルター表面の法線に実質的に平行な方向に入射した光に対する透過率を意味する。また、例えば、入射角４０度は、上記法線と時計または反時計回りの方向に実質的に４０度の角度を成す入射光に対する値である。このような入射角の定義は、透過率または反射率など他の特性でも同一に適用する。
【0026】
本出願の光学フィルターは、短波長可視光領域近辺の紫外光と長波長可視光領域近辺の赤外光を効率的かつ正確に遮断することができ、高透過率で可視光透過バンドを具現することができる。
【0027】
本出願の光学フィルターは、基板を含んでもよい。上記基板は、透明基板であってもよい。本明細書において或る基板または層が透明であるというのは、上記基板または層が約５５０ｎｍの波長で一定レベル以上の透過率を示す場合を意味する。例えば、上記透明な基板または透明な層の波長５５０ｎｍにおける透過率の下限は、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％または８５％程度であってもよく、その上限は、１００％、９５％、９０％、８５％、８０％、７５％、７０％、６５％または６０％程度であってもよい。上記透過率は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0028】
上記透明基板としては、特に制限されず、光学フィルターの基板に用いられる一般的な基板を用いることができる。通常、基板としては、適切な透過率を示し、光学フィルターの形状を維持できる適切な剛性を有するものが用いられ、例えば、ガラスや結晶などの無機材料や、樹脂などの有機材料からなる基板を用いることができる。
【0029】
透明基板に用いることができる樹脂材料としては、ＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））またはＰＢＴ（ｐｏｌｙ（ｂｕｔｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））などのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレンまたはＥＶＡ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ－ｖｉｎｙｌ ａｃｅｔａｔｅ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）などのポリオレフィン、ノルボルネンポリマー、ＰＭＭＡ（ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ））などのアクリルポリマー、ウレタンポリマー、塩化ビニルポリマー、フッ素ポリマー、ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールまたはポリイミドなどが例示できるが、これらに制限されるものではない。
【0030】
透明基板に用いることができるガラス材料としては、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラスまたは石英ガラスなどが挙げられる。
【0031】
透明基板に用いることができる結晶材料としては、水晶、ニオブ酸リチウムまたはサファイアなどの複屈折性結晶が挙げられる。
【0032】
必要な場合に、上記透明基板としていわゆる赤外線吸収基板を用いることもできる。赤外線吸収基板は、赤外線領域のうち少なくとも一部の領域で吸収特性を示す基板である。銅を含ませて上記特性を示すいわゆるブルーガラス（Ｂｌｕｅ Ｇｌａｓｓ）は、上記赤外線吸収基板の代表的な例である。このような赤外線吸収基板は、赤外線領域の光を遮断する光学フィルターを構成するに際して有用であるが、上記吸収特性によって可視光領域で高透過率を確保する観点から不利である。本出願では、赤外線吸収基板を選択して所望の紫外線および赤外線領域の光を効率的に遮断しつつ、可視光領域で高透過率特性を示す光学フィルターを提供することができる。
【0033】
赤外線吸収基板としては、いわゆる赤外線吸収ガラスと知られている基板を用いることができる。このようなガラスは、フッ化リン酸塩系ガラスやリン酸塩系ガラスなどにＣｕＯなどを添加して製造した吸収型ガラスである。したがって、一例示において本出願では、上記赤外線吸収基板としては、ＣｕＯ含有フッ化リン酸塩ガラス基板またはＣｕＯ含有リン酸塩ガラス基板を用いてもよい。上記でリン酸塩ガラスには、ガラスの骨格の一部がＳｉＯ２で構成されるケイリン酸塩ガラス（silicophosphate glass）も含まれる。このような吸収型ガラスは、公知となっており、例えば、韓国登録特許第１０－２０５６６１３号などに開示されたガラスやその他市販の吸収型ガラス（例えば、ホヤ、ショット、ＰＴＯＴ社などの市販製品）を用いることができる。
【0034】
上記透明基板（例えば、ガラス基板）は、銅を含んでもよい。例えば、上記透明基板が含む銅の含有量の上限は、１０重量％、９重量％、８重量％または７重量％程度であってもよく、その下限は、０重量％、１重量％、２重量％、３重量％、４重量％、５重量％、６重量％または７重量％程度であってもよい。上記銅含有量は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。透明基板（例えば、ガラス基板）が、一般基板、すなわち赤外線吸収基板でない場合に、銅が含まれていないので、上記銅の含有量の下限は、０重量％であってもよい。
【0035】
上記基板は、所定範囲の屈折率を有していてもよい。例えば、上記基板の屈折率の下限は、１．４８、１．５または１．５２程度であってもよく、その上限は、１．６、１．５８、１．５６、１．５４または１．５２程度であってもよい。上記屈折率は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0036】
上記のような透明基板の厚さは、通常、約０．０３ｍｍ～５ｍｍの範囲内で調節することができるが、これに制限されるものではない。
【0037】
本出願の光学フィルターは、上記基板と共に透過率制御層を含んでもよい。
【0038】
本明細書において用語透過率制御層は、当該層の存在の有無によって光学フィルターの透過率が変わる層を意味し、具体的には、上記透過率制御層は、上記基板と後述する所定の屈折率関係を有し、上記透過率制御層を有しない光学フィルターに比べて、上記透過率制御層を有する光学フィルターがさらに高い可視光透過率を示す層を意味し得る。この際、可視光透過率は、約４８１ｎｍ～５６０ｎｍの波長範囲における平均透過率である。
【0039】
１つの例示において上記透過率制御層は、上記基板の屈折率に対する上記透過率制御層の屈折率の差の絶対値が一定範囲にある層を意味し得る。本明細書において用語Ａの屈折率に対するＢの屈折率の差は、１００×（ｎＢ－ｎＡ）／ｎＡによって計算される差であり、上記でｎＡは、Ａの屈折率であり、ｎＢは、Ｂの屈折率である。
【0040】
上記基板の屈折率に対する上記透過率制御層の屈折率の差の絶対値の下限は、２％、３％または４％程度であってもよく、その上限は、１０％、９％、８％、７％、６％または５％程度であってもよい。上記絶対値は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0041】
上記透過率制御層は、基板と上記のような屈折率の関係を示す限り、基板に比べて高い屈折率を有していてもよく、低い屈折率を有していてもよい。
【0042】
光学フィルターが上記透過率制御層を含むことで透過率が上昇する理由は、明確ではないが、上記透過率制御層の光学フィルター内における位置によって適切な高屈折領域と低屈折領域の反復積層構造が光学フィルター内に形成され、このような構造による消滅干渉などの現象によって層と層の間に発生する特定波長の光の反射および吸収が緩和、相殺、防止または抑制されるためと判断される。
【0043】
光学フィルターに上記透過率制御層が存在することによって、上記光学フィルターは、所定波長領域内で上記透明基板が有するものに比べて、さらに高い透過率を示すことができる。
【0044】
例えば、上記光学フィルターは、下記式１の△Ｔ１が所定範囲内になりうる。
【0045】
［式１］
△Ｔ１＝１００×（ＴＦ１－ＴＳ１）／ＴＳ１
△Ｔ１＝１００×（ＴＦ１－ＴＳ１）／ＴＳ１
【0046】
式１中、ＴＦ１は、上記透過率制御層を含む光学フィルターの４８１ｎｍ～５６０ｎｍの波長範囲における平均透過率であり、ＴＳ１は、上記透過率制御層を含まない光学フィルターの４８１ｎｍ～５６０ｎｍの波長範囲における平均透過率である。
【0047】
上記透過率ＴＳ１の光学フィルターは、上記透過率制御層を含まないことを除いて、上記透過率ＴＦ１の光学フィルターと同じ光学フィルターである。
【0048】
上記式１の△Ｔ１の下限は、０．５％、１％、１．５％、２％、２．５％または３％程度であってもよく、その上限は、１０％、９．５％、９％、８．５％、８％、７．５％、７％、６．５％、６％、５．５％、５％、４．５％、４％、３．５％、３％、２．５％、２％、１．５％または１％程度であってもよい。上記△Ｔ１は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0049】
上記式１中、ＴＦ１の下限は、８０％、８２％、８４％、８６％、８８％または８９％程度であってもよく、その上限は、１００％、９５％または９０％程度であってもよい。上記ＴＦ１は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0050】
例えば、上記光学フィルターは、下記式２の△Ｔ２が所定範囲内になりうる。
【0051】
［式２］
△Ｔ２＝１００×（ＴＦ２－ＴＳ２）／ＴＳ２
△Ｔ２＝１００×（ＴＦ２－ＴＳ２）／ＴＳ２
【0052】
式２中、ＴＦ２は、上記透過率制御層を含む光学フィルターの４６６ｎｍ～４８０ｎｍの波長範囲における平均透過率であり、ＴＳ２は、上記透過率制御層を含まない光学フィルターの４６６ｎｍ～４８０ｎｍの波長範囲における平均透過率である。
【0053】
上記透過率ＴＳ２の光学フィルターは、上記透過率制御層を含まないことを除いて、上記透過率ＴＦ２の光学フィルターと同じ光学フィルターである。
【0054】
上記式２の△Ｔ２の下限は、０．５％、１％、１．５％、２％、２．５％、３％または３．５％程度であってもよく、その上限は、１０％、９．５％、９％、８．５％、８％、７．５％、７％、６．５％、６％、５．５％、５％、４．５％、４％、３．５％、３％、２．５％、２％、１．５％または１％程度であってもよい。上記△Ｔ２は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0055】
上記式２中、ＴＦ２の下限は、８０％、８２％、８４％、８６％、８８％または８９％程度であってもよく、その上限は、１００％、９５％または９０％程度であってもよい。上記ＴＦ２は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0056】
例えば、上記光学フィルターは、下記式３の△Ｔ３が所定範囲内になりうる。
【0057】
［式３］
△Ｔ３＝１００×（ＴＦ３－ＴＳ３）／ＴＳ３
△Ｔ３＝１００×（ＴＦ３－ＴＳ３）／ＴＳ３
【0058】
式３中、ＴＦ３は、上記透過率制御層を含む光学フィルターの４２５ｎｍ～４６５ｎｍの波長範囲における平均透過率であり、ＴＳ３は、上記透過率制御層を含まない光学フィルターの４２５ｎｍ～４６５ｎｍの波長範囲における平均透過率である。
【0059】
上記透過率ＴＳ３の光学フィルターは、上記透過率制御層を含まないことを除いて、上記透過率ＴＦ３の光学フィルターと同じ光学フィルターである。
【0060】
上記式３の△Ｔ３の下限は、０．５％、１％、１．５％、２％、２．５％、３％または３．３％程度であってもよく、その上限は、１０％、９．５％、９％、８．５％、８％、７．５％、７％、６．５％、６％、５．５％、５％、４．５％、４％、３．５％、３％、２．５％、２％、１．５％または１％程度であってもよい。上記△Ｔ３は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0061】
上記式３中、ＴＦ3の下限は、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％または９０％程度であってもよく、その上限は、１００％、９５％、９０％、８５％、８０％または７５％程度であってもよい。上記ＴＦ３は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0062】
上記透過率制御層は、通常、光学フィルターに含まれる誘電体多層膜および光吸収層と異なる種類の層である。したがって、上記透過率制御層は、上記誘電体多層膜とは異なって、１つの単一層であってもよい。また、上記透過率制御層は、上記光吸収層とは異なって、いわゆる紫外線吸収剤および赤外線吸収剤のような吸収剤（色素など）を実質的に含まない。例えば、上記透過率制御層内の上記吸収剤の量は、１重量％以下、０．５重量％以下、０．１重量％以下、０．０５重量％以下、０．０１重量％以下、０．００５重量％以下または０．００１重量％以下であってもよく、その下限は、０重量％程度であってもよい。
【0063】
上記透過率制御層を形成する素材の種類は、前述した透明な層を形成することができ、また、基板と上述した屈折率関係を示す限り、特に制限されない。
【0064】
１つの例示において上記透過率制御層は、上記素材としては、ポリシラザン、シリカ（ＳｉＯｘ）、シラン化合物、環状オレフィン樹脂（ＣＯＰ：Ｃｙｃｌｉｃ Ｏｌｅｆｉｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ）、ポリシルセスキオキサン、ポリアリレート、ポリイソシアネート、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエチレンフタレート、エポキシ樹脂、ポリスルホン、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン、ポリシラン、ポリカルボシラン、フッ素樹脂およびシラン化合物からなる群から選択された１種または２種以上を含んでもよい。例えば、上記透過率制御層としては、上記ポリシラザンとして有機または無機ポリシラザンを含んでもよい。よく知られているように、ポリシラザンのケイ素原子または窒素原子に置換された官能基の炭素含有の有無によって無機および有機ポリシラザンを区別することができる。
【0065】
上記透過率制御層は、上記素材にさらに必要な添加剤、例えば、硬化剤や界面活性剤のようなその他添加剤を含んでもよい。
【0066】
上記透過率制御層は、適正範囲内の厚さを有していてもよい。例えば、上記透過率制御層の厚さの下限は、１ｎｍ、５ｎｍ、１０ｎｍ、１５ｎｍ、２０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ、１１０ｎｍまたは１２０ｎｍ程度であってもよく、その上限は、１０００ｎｍ、５００ｎｍ、２５０ｎｍ、２００ｎｍ、１５０ｎｍ、１００ｎｍ、８０ｎｍ、６０ｎｍ、４０ｎｍまたは２５ｎｍ程度であってもよい。上記厚さは、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0067】
上記のような透過率制御層は、上記基板の一面または両面に形成されていてもよい。また、上記透過率制御層は、上記基板と接して形成されていてもよく、上記基板と上記透過率制御層の間に他の層が存在していてもよい。
【0068】
本出願の光学フィルターは、上記基板と透過率制御層を含み、公知の層をさらに含むこともできる。例えば、上記光学フィルターは、上記基板および／または透過率制御層の一面または両面に形成された吸収層をさらに含んでもよい。上記吸収層は、光吸収層であり、例えば、赤外線および／または紫外線領域の少なくとも一部の波長範囲内の光を吸収する層である。このような吸収層は、光学フィルターに１層または２層以上形成されていてもよい。
【0069】
上記吸収層は、赤外線吸収層および／または紫外線吸収層であってもよい。上記吸収層は、また、赤外線吸収性と紫外線吸収性を全部有する層であってもよい。このような層は、通常、吸収剤（色素、顔料、染料など）と透明樹脂を含む層であり、近紫外線領域および／または近赤外線領域の光をカットして、よりシャープな透過率バンドを具現するために適用することができる。このような吸収層も、前述した透明な層であってもよい。
【0070】
１つの例示において上記紫外線吸収層は、約３００ｎｍ～３９０ｎｍの波長領域で吸収極大を示すように設計することができ、赤外線吸収層は、６００ｎｍ～８００ｎｍの波長領域で吸収極大を示すように設計することができる。
【0071】
１つの例示において上記光吸収層が紫外線および赤外線に対する吸収性を同時に示す層である場合に、上記光吸収層は、約３００ｎｍ～３９０ｎｍの波長領域で吸収バンドと６００ｎｍ～８００ｎｍの波長領域で吸収バンドを同時に示すように設計することができる。
【0072】
赤外線吸収層と紫外線吸収層は、１つの層で構成されてもよく、別途の層でそれぞれ構成されてもよい。例えば、１つの層が上記紫外線吸収層の吸収極大と赤外線吸収層の吸収極大を全部示すように設計したり、上記それぞれの吸収極大を示す２つの層を形成してもよい。また、複数の赤外線吸収層および／または紫外線吸収層が存在してもよい。
【0073】
各吸収層は、１種の吸収剤のみを含むこともでき、必要な場合、赤外線および／または紫外線の適切なカットのために、２種以上の吸収剤を含むこともできる。
【0074】
例えば、上記赤外線吸収層は、吸収極大波長が７００ｎｍ～７２０ｎｍの範囲内であり、半値幅が５０ｎｍ～６０ｎｍの範囲内である第１吸収剤；および吸収極大波長が７３０ｎｍ～７５０ｎｍの範囲内であり、半値幅が６０ｎｍ～７０ｎｍの範囲内である第２吸収剤を少なくとも含んでもよいし、紫外線吸収層は、吸収極大波長が３４０ｎｍ～３９０ｎｍの範囲内である吸収剤を少なくとも含んでもよい。
【0075】
上記赤外線および紫外線吸収層は、１層で構成されることもできる。
【0076】
吸収層を構成する材料および構成方法は、特に制限されず、公知の材料および構成方法を適用することができる。
【0077】
吸収層は、目的とする吸収極大を示すことができる吸収剤（染料または顔料など）を透明な樹脂と配合した材料を用いて形成する。
【0078】
例えば、紫外線吸収剤としては、約３００ｎｍ～３９０ｎｍの波長領域で吸収極大を示す公知の吸収剤を適用することができ、その例としては、Ｅｘｉｔｏｎ社のＡＢＳ４０７；ＱＣＲ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ Ｃｏｒｐ社のＵＶ３８１Ａ、ＵＶ３８１Ｂ、ＵＶ３８２Ａ、ＵＶ３８６Ａ、ＶＩＳ４０４Ａ；Ｈ．Ｗ．Ｓａｎｄｓ社のＡＤＡ１２２５、ＡＤＡ３２０９、ＡＤＡ３２１６、ＡＤＡ３２１７、ＡＤＡ３２１８、ＡＤＡ３２３０、ＡＤＡ５２０５、ＡＤＡ３２１７、ＡＤＡ２０５５、ＡＤＡ６７９８、ＡＤＡ３１０２、ＡＤＡ３２０４、ＡＤＡ３２１０、ＡＤＡ２０４１、ＡＤＡ３２０１、ＡＤＡ３２０２、ＡＤＡ３２１５、ＡＤＡ３２１９、ＡＤＡ３２２５、ＡＤＡ３２３２、ＡＤＡ４１６０、ＡＤＡ５２７８、ＡＤＡ５７６２、ＡＤＡ６８２６、ＡＤＡ７２２６、ＡＤＡ４６３４、ＡＤＡ３２１３、ＡＤＡ３２２７、ＡＤＡ５９２２、ＡＤＡ５９５０、ＡＤＡ６７５２、ＡＤＡ７１３０、ＡＤＡ８２１２、ＡＤＡ２９８４、ＡＤＡ２９９９、ＡＤＡ３２２０、ＡＤＡ３２２８、ＡＤＡ３２３５、ＡＤＡ３２４０、ＡＤＡ３２１１、ＡＤＡ３２２１、ＡＤＡ５２２０、ＡＤＡ７１５８；ＣＲＹＳＴＡＬＹＮ社のＤＬＳ ３８１Ｂ、ＤＬＳ ３８１Ｃ、ＤＬＳ ３８２Ａ、ＤＬＳ ３８６Ａ、ＤＬＳ ４０４Ａ、ＤＬＳ ４０５Ａ、ＤＬＳ ４０５Ｃ、ＤＬＳ ４０３Ａなどが挙げられるが、これらに制限されるものではない。
【0079】
また、赤外線吸収剤として、６００ｎｍ～８００ｎｍの波長領域で吸収極大を示す適切な染料または顔料などを用いることができ、例えば、スクアリリウム（ｓｑｕａｒｙｌｉｕｍ）系染料、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物またはジチオール系金属錯体系化合物などを用いることができるが、これらに制限されるものではない。
【0080】
また、吸収層に適用される透明樹脂は、公知の樹脂を用いることができ、例えば、環状オレフィン系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリパラフェニレン樹脂、ポリアリレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂および多様な有機・無機ハイブリッド系の樹脂のうち１種以上を用いることができる。
【0081】
また、このような吸収層は、上記基板と所定の屈折率関係を有するように形成されていてもよい。例えば、上記基板の屈折率に対する上記光吸収層の屈折率の差の絶対値の下限は、０．２％、０．４％、０．６％、０．８％、１％、２％、３％、４％、５％または６％程度であってもよく、その上限は、１０％、９％、８％、７％、６％、５％、４％、３％、２％、１％または０．７％程度であってもよい。上記絶対値は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0082】
上記光吸収層は、基板と上記のような屈折率の関係を示す限り、基板に比べて高い屈折率を有していてもよく、低い屈折率を有していてもよい。
【0083】
このような光吸収層は、通常、約１μｍ～２０μｍ程度の範囲内の厚さを有するように形成されるが、光吸収層の厚さがこれに制限されるものではない。
【0084】
上記光吸収層は、光学フィルターに１層または２層以上を含んでもよいし、光吸収層が２層以上含む場合に、各層の吸収特性は、互いに同じでも、異なっていてもよい。
【0085】
本出願の光学フィルターは、さらなる層としていわゆる誘電体多層膜を含んでもよい。このような多層膜は、基板、透過率制御層および／または光吸収層の一面または両面に形成されていてもよい。
【0086】
このような誘電体多層膜は、通常、それぞれ互いに屈折率が異なる少なくとも２種のサブ層を含む多層構造であってもよく、上記２種のサブ層が繰り返して積層された多層構造を含んでもよい。例えば、上記誘電体多層膜は、互いに屈折率が異なる第１および第２サブ層が反復積層された構造を含んでもよい。
【0087】
上記第１および第２サブ層は、相互間の屈折率の差によって区分されるサブ層である。
【0088】
誘電体多層膜は、低屈折率の誘電体材料と高屈折率の誘電体材料を反復積層して構成された膜であり、いわゆるＩＲ反射層およびＡＲ（Ａｎｔｉ－ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層を形成するために用いられ、本出願でも、このような公知のＩＲ反射層やＡＲ層の形成のための誘電体多層膜を適用することができる。
【0089】
誘電体多層膜を形成する材料、すなわち上記各サブ層を形成する材料の種類は、特に制限されず、公知の材料を適用することができる。通常、低屈折サブ層の製造には、ＳｉＯ２またはＮａ５Ａｌ３Ｆ１４、Ｎａ３ＡｌＦ６またはＭｇＦ２などのフッ化物を適用し、高屈折サブ層の製造には、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｎＳまたはＺｎＳｅなどを適用することができるが、本出願において適用する材料が上記に制限されるものではない。
【0090】
誘電体多層膜を形成するための上記低屈折および高屈折サブ層材料の選択、それらの配置や厚さなどには、特別な制限はなく、例えば、公知のＩＲ反射層およびＡＲ（Ａｎｔｉ－ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層またはその他誘電体多層膜の形成のために適用する設計形態を制限なしで適用することができる。
【0091】
上記誘電体多層膜を形成する方法も、特に制限されず、例えば、公知の蒸着方法を適用して形成することができる。当業界では、サブ層の蒸着厚さや層数などを勘案して、当該誘電体多層膜の反射や透過特性を制御する方法が知られており、本出願では、このような公知の方法によって目的とする特性を示す誘電体多層膜を形成することができる。
【0092】
光学フィルターは、また、さらなる層であり、粘着層、接着層および／またはプライマー層を含んでもよい。このような層は、通常、光学フィルターにおいて層と層間の密着性を改善するために適用する。本出願では、公知の材料を用いて上記粘着層、接着層および／またはプライマー層を形成することができる。
【0093】
光学フィルターは、上述した層の他にも、目的に応じて多様な公知の層を含んでもよい。
【0094】
光学フィルターが含む層の種類と構成によって上記透過率制御層の位置および光学フィルターの各層間の屈折率を上述した屈折率関係などの範囲内で制御することができる。
【0095】
例えば、上記粘着層、接着層またはプライマー層が含まれる場合に、上記粘着層、接着層またはプライマー層は、上記光吸収層と基板の間に含まれてもよい。このような場合に、上記透過率制御層の位置は、特別な制限はないが、上記基板の粘着層等が形成された表面とは反対側の表面または光吸収層の上記粘着層等が形成された表面とは反対側の表面に存在してもよい。
【0096】
図１は、上記吸収層３００、粘着層等４００、基板１００および透過率制御層２００が順次積層された場合の断面模式図であり、図２は、上記透過率制御層２００、吸収層３００、粘着層等４００および基板１００が順次積層された場合の断面模式図である。
【0097】
上記図１および図２のような積層形態では、上記基板の屈折率ｎ１００に対する上記光吸収層の屈折率ｎ３００の差１００×（ｎ３００－ｎ１００）／ｎ１００の下限は、０．２％、０．４％または０．６％程度であってもよく、その上限は、２％、１．５％、１％、０．９％、０．８％または０．７％程度であってもよい。上記屈折率の差は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0098】
上記図１および図２のような積層形態では、上記基板の屈折率ｎ１００に対する上記粘着層等の屈折率ｎ４００の差１００×（ｎ４００－ｎ１００）／ｎ１００の下限は、３％、４％または５％程度であってもよく、その上限は、１０％、８％または６％程度であってもよい。上記屈折率の差は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0099】
上記図１および図２のような積層形態では、上記透過率制御層の屈折率ｎ２００に対する上記粘着層等の屈折率ｎ４００の差１００×（ｎ４００－ｎ２００）／ｎ２００の下限は、８％、９％または１０％程度であってもよく、その上限は、１５％、１３％または１１％程度であってもよい。上記屈折率の差は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0100】
また、上記図１および図２のような積層形態では、上記基板の屈折率ｎ１００に対する上記透過率制御層の屈折率ｎ２００の差１００×（ｎ２００－ｎ１００）／ｎ１００の下限は、－１０％、－８％、－６％または－５％程度であってもよく、その上限は、－２％または－４％程度であってもよい。上記屈折率の差は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0101】
【0102】
特に制限されるものではないが、上記のような構造では、上記光吸収層と粘着層等は、互いに直接接しており、上記粘着層等と基板は、互いに直接接しており、上記透過率制御層は、光吸収層または基板と直接接していてもよい。
【0103】
上記光学フィルターは、場合によっては、２層以上の光吸収層を含んでもよい。例えば、上記光学フィルターは、上記光吸収層として、互いに屈折率が異なる第１および第２光吸収層を含んでもよい。
【0104】
このような場合に、さらに低い屈折率を有する光吸収層が、他の光吸収層に比べて基板に近く存在してもよい。例えば、上記第１および第２光吸収層のうち、第１光吸収層が第２光吸収層に比べて低い屈折率を有する場合、上記第１光吸収層が上記第２光吸収層と透明基板の間に存在してもよい。
【0105】
このような場合に、上記透過率制御層は、上記透過率制御層と上記第１光吸収層の間に上記第２光吸収層が存在するように位置してもよい。図３は、このような構造を示し、上記透過率制御層２００、第２光吸収層３０２、第１光吸収層３０１および基板１００が順次形成された場合を示す。
【0106】
図３のような構造の場合には、上記基板１００の屈折率ｎ１００に対する上記第１光吸収層３０１の屈折率ｎ３０１の差１００×（ｎ３０１－ｎ１００）／ｎ１００の下限は、－１０％、－８％、－６％または－５％程度であってもよく、その上限は、－２％、－４％または－４．５％程度であってもよい。上記屈折率の差は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0107】
図３のような構造の場合には、上記基板１００の屈折率ｎ１００に対する上記第２光吸収層３０２の屈折率ｎ３０２の差１００×（ｎ３０２－ｎ１００）／ｎ１００の下限は、２％、４％または６％程度であってもよく、その上限は、１０％、９％、８％または７％程度であってもよい。上記屈折率の差は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0108】
上記構造において上記透過率制御層２００は、基板１００の第１光吸収層３０１が形成された表面とは反対側の表面に存在するか、または図３のように第２光吸収層３０２の第１光吸収層３０１が形成された表面とは反対側の表面に存在してもよい。
【0109】
このような場合に、基板の屈折率ｎ１００に対する上記透過率制御層の屈折率ｎ２００の差１００×（ｎ２００－ｎ１００）／ｎ１００の下限は、－１０％、－８％、－６％または－５％程度であってもよく、その上限は、－２％または－４％程度であってもよい。上記屈折率の差は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0110】
図３などのように２種の光吸収層を含む構造において上記のような屈折率関係を有する場合に、目的とする透過率が確保される光学フィルターを得ることができる。
【0111】
上記のように光吸収層、基板、透過率制御層および粘着層等の屈折率関係を制御する方法は、特に制限されない。例えば、通常、上記光吸収層、基板、透過率制御層および粘着層等を形成できるもの知られた素材のうち、目的に応じて適切な素材を選択し、上記屈折率を満足させることができ、必要な場合に、低屈折の確保が可能な低屈折粒子（例えば、中空粒子）および／または高屈折の確保が可能な高屈折粒子（ＴｉＯ２など）などを適用し、屈折率を調整することができる。
【0112】
特に制限されるものではないが、上記構造では、上記第２光吸収層と第１光吸収層は、互いに直接接していてもよく、上記第１光吸収層と基板は、互いに直接接しており、透過率制御層は、上記第２光吸収層または基板と直接接していてもよい。
【0113】
上記光学フィルターは、順次積層されている第１層、第２層、第３層および第４層を含んでもよい。
【0114】
上記構造において第１～第４層のうちいずれか１つは、上述した基板であり、また、上記第１～第４層のうちいずれか１つは、上記透過率制御層であってもよい。また、上記構造において上記第１～第４層のうち、上記基板および透過率制御層でない層は、前述した光吸収層、粘着層、接着層および／またはプライマー層であってもよい。
【0115】
【0116】
したがって、１つの例示において上記構造において第１層または第２層が上述した光吸収層であり、第２層または第３層が上述した粘着層等であり、第３層または第４層が上記基板であり、第１層または第４層が上記透過率制御層であってもよい。上記光吸収層、基板、透過率制御層および粘着層等に対する詳細な内容は、前述した通りである。
【0117】
上記のような構造において各層の屈折率の関係を制御することができる。
【0118】
例えば、上記第１層の屈折率をｎ１、第２層の屈折率をｎ２、第３層の屈折率をｎ３、第４層の屈折率をｎ４とすれば、上記屈折率ｎ１～ｎ４は、下記式４または式５の関係を満たすことができる。
【0119】
［式４］
ｎ２＞ｎ１≧ｎ３＞ｎ４
ｎ２＞ｎ１≧ｎ３＞ｎ４
【0120】
［式５］
ｎ２＞ｎ３≧ｎ１＞ｎ４
ｎ２＞ｎ３≧ｎ１＞ｎ４
【0121】
上記のような構造において上記第１～第４層の平均屈折率（ｎ１、ｎ２、ｎ３およびｎ４の算術平均）の下限は、１．３、１．４または１．５程度であってもよく、その上限は、１．９、１．８、１．７または１．６程度であってもよい。上記平均屈折率は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0122】
上記の場合、上記第１層と第３層の平均屈折率（ｎ１およびｎ３の算術平均）と上記第２層と第４層の平均屈折率（ｎ２およびｎ４の算術平均）の差の絶対値の下限は、０、０．１、０．２、０．３、０．４または０．５程度であってもよく、その上限は、２、１．５、１、０．５、０．４、０．３、０．２または０．１程度であってもよい。上記差は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0123】
このような関係を満たすように層を選択し、配置することによって、目的とする特性の光学フィルターを得ることができる。
【0124】
他の例示において上記第１層～第４層を含む光学フィルターは、下記式６または式７の関係を満たすことができる。上記構造において第１～第４層のうちいずれか１つは、上述した基板であり、また、上記第１～第４層のうちいずれか１つは、上記透過率制御層であってもよい。また、上記構造において上記第１～第４層のうち上記基板および透過率制御層でない層は、前述した光吸収層、粘着層、接着層および／またはプライマー層であってもよい。
【0125】
式６または式７を満たす光学フィルターは、図３に例示された光学フィルターであってもよい。したがって、上記の場合、第１層は、上記透過率制御層であり、第２層と第３層は、上記光吸収層であり、第４層は、上記基板であってもよい。
【0126】
［式６］
ｎｖ－ｎ１＞０、ｎｖ－ｎ２＜０、ｎｖ－ｎ３＞０およびｎｖ－ｎ４＜０
ｎｖ－ｎ１＞０、ｎｖ－ｎ２＜０、ｎｖ－ｎ３＞０およびｎｖ－ｎ４＜０
【0127】
［式７］
ｎｖ－ｎ１＜０、ｎｖ－ｎ２＞０、ｎｖ－ｎ３＜０およびｎｖ－ｎ４＞０
ｎｖ－ｎ１＜０、ｎｖ－ｎ２＞０、ｎｖ－ｎ３＜０およびｎｖ－ｎ４＞０
【0128】
上記式６および式７中、ｎ１、ｎ２、ｎ３およびｎ４は、それぞれ第１層、第２層、第３層および第４層の屈折率であり、ｎｖは、上記ｎ１、ｎ２、ｎ３およびｎ４の算術平均であってもよい。
【0129】
上記ｎｖの下限は、１．３、１．４または１．５程度であってもよく、その上限は、１．９、１．８、１．７または１．６程度であってもよい。上記平均屈折率は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0130】
また、上記ｎｖ－ｎ１、ｎｖ－ｎ２、ｎｖ－ｎ３およびｎｖ－ｎ４のそれぞれの範囲の下限は、正数の場合に、０、０．０１、０．０２、０．０３ ０．０４、０．０５または０．０５程度であってもよく、その上限は、１、０．５、０．１、０．０９、０．０８、０．０７または０．０６５程度であってもよい。上記範囲は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0131】
また、上記ｎｖ－ｎ１、ｎｖ－ｎ２、ｎｖ－ｎ３およびｎｖ－ｎ４のそれぞれの範囲の下限は、負数である場合に、－１、－０．５、－０．１、－０．０５または－０．０３程度であってもよく、その上限は、０、－０．５、－０．３、－０．１、－０．０５または－０．０３程度であってもよい。上記範囲は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0132】
このような関係を満たすように層を選択し、配置することによって、目的とする特性の光学フィルターを得ることができる。
【0133】
本出願の光学フィルターは、卓越した光学特性を示すことができる。
【0134】
例えば、上記光学フィルターは、Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｎ波長が約３８０ｎｍ～４２５ｎｍの範囲内の透過バンドを示すことができる。上記Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｎ波長は、３５０ｎｍ～４２５ｎｍの波長範囲内で５０％の透過率を示す波長のうち最短波長である。上記５０％の透過率を示す波長は、上記３８０ｎｍ～４２５ｎｍの範囲内に１つまたは２つ以上存在してもよく、１つが存在する場合に、当該波長、２つ以上存在する場合に、それらのうち最短波長が、上記Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｎ波長となる。上記Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｎ波長は、３８５ｎｍ以上、３９０ｎｍ以上、３９５ｎｍ以上、４００ｎｍ以上、４０５ｎｍ以上または４１０ｎｍ以上の範囲内および／または４２０ｎｍ以下、４１５ｎｍ以下、４１０ｎｍ以下、４０５ｎｍ以下または４００ｎｍ以下の範囲内でさらに調節することができる。
【0135】
上記光学フィルターは、Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｆｆ波長が約５９０ｎｍ～６８０ｎｍの範囲内の透過バンドを示すことができる。上記Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｆｆ波長は、５６０ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲内で５０％の透過率を示す波長のうち最長波長である。上記５０％の透過率を示す波長は、上記５６０ｎｍ～７００ｎｍの範囲内に１つまたは２つ以上存在してもよく、１つが存在する場合に、当該波長、２つ以上存在する場合に、最長波長が、上記Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｆｆ波長となる。上記Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｆｆ波長は、６００ｎｍ以上、６１０ｎｍ以上、６２０ｎｍ以上、６３０ｎｍ以上または６４０ｎｍ以上の範囲内および／または６７０ｎｍ以下、６６０ｎｍ以下、６５０ｎｍ以下または６４０ｎｍ以下の範囲内でさらに調節することができる。
【0136】
上記光学フィルターの、４２５ｎｍ～４６５ｎｍの範囲内における平均透過率の下限は、７０％または７５％程度であってもよく、その上限は、１００％、９５％、９０％、８５％または８０％程度であってもよい。上記透過率は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0137】
上記光学フィルターの、４６６ｎｍ～４８０ｎｍの範囲内における平均透過率の下限は、７０％、７５％、８０％または８５％程度であってもよく、その上限は、１００％、９５％または９０％程度であってもよい。上記透過率は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0138】
上記光学フィルターの、４８１ｎｍ～５６０ｎｍの範囲内における平均透過率の下限は、７０％、７５％、８０％、８５％または９０％程度であってもよく、その上限は、１００％、９５％または９０％程度であってもよい。上記透過率は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0139】
上記光学フィルターの、８５０ｎｍ～１０５０ｎｍの範囲内における平均透過率の下限は、０％、５％、１５％、２０％または２５％程度であってもよく、その上限は、３０％、２５％、２０％、１５％、１０％、５％または１％程度であってもよい。上記透過率は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0140】
上記光学フィルターの９５０ｎｍにおける透過率の下限は、０％、５％、１５％、２０％または２５％程度であってもよく、その上限は、３０％、２５％、２０％、１５％、１０％、５％、１％または０．５％程度であってもよい。上記透過率は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0141】
上記光学フィルターの１０５０ｎｍにおける透過率の下限は、０％、５％または１５％程度であってもよく、その上限は、２０％、１５％、１０％、５％、１％または０．５％程度であってもよい。上記透過率は、上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であるか、または上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満であるか、または上述した下限のうち任意のいずれか１つの下限以上または超過であり、かつ上述した上限のうち任意のいずれか１つの上限以下または未満の範囲内であってもよい。
【0142】
本出願の光学フィルターは、上記光学特性のうちいずれか１つ、２つ以上の組み合わせを示すことができ、好適には、上述した光学特性を全部満たすことができる。
【0143】
本出願は、また、上記光学フィルターを含む撮像装置に関する。この際、上記撮像装置の構成方法や上記光学フィルターの適用方法は、特に制限されず、公知の構成と適用方法を適用することができる。
【0144】
また、本出願の光学フィルターの用途が上記撮像装置に制限されるものではなく、その他近赤外線カットが必要な多様な用途（例えば、ＰＤＰなどのディスプレイ装置など）に適用することができる。
【発明の効果】
【0145】
本出願は、光学フィルターおよびその用途を提供することができる。本出願では、不要な波長領域の光（例えば、紫外線と赤外線領域の光）を効果的に遮断しながらも、必要な波長領域（例えば、可視光領域）では高透過率を確保することができる光学フィルターおよびその用途を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0146】
【発明を実施するための形態】
【0147】
以下、実施例に基づいて本出願の光学フィルターを具体的に説明するが、本出願の光学フィルターの範囲が下記実施例によって制限されるものではない。
【0148】
１．透過率の評価
透過率は、測定対象を横および縦がそれぞれ１０ｍｍおよび１０ｍｍとなるように裁断して得た試験片に対して分光光度計（製造社：Ｐｅｒｋｉｎｅｌｍｅｒ社、製品名：Ｌａｍｂｄａ７５０分光光度計）を用いて測定した。透過率は、上記装置のマニュアルによって波長別および入射角別に測定した。試験片を分光光度計の測定ビームとディテクターの間の直線上に位置させ、測定ビームの入射角を０度から４０度まで変更しながら透過率を確認した。特に明記しない限り、本実施例においていう透過率の結果は、上記入射角が０度である場合の結果である。入射角０度は、試験片の表面法線方向に実質的に平行な方向である。
透過率は、測定対象を横および縦がそれぞれ１０ｍｍおよび１０ｍｍとなるように裁断して得た試験片に対して分光光度計（製造社：Ｐｅｒｋｉｎｅｌｍｅｒ社、製品名：Ｌａｍｂｄａ７５０分光光度計）を用いて測定した。透過率は、上記装置のマニュアルによって波長別および入射角別に測定した。試験片を分光光度計の測定ビームとディテクターの間の直線上に位置させ、測定ビームの入射角を０度から４０度まで変更しながら透過率を確認した。特に明記しない限り、本実施例においていう透過率の結果は、上記入射角が０度である場合の結果である。入射角０度は、試験片の表面法線方向に実質的に平行な方向である。
【0149】
透過率において所定波長領域内における平均透過率または平均反射率は、上記波長領域内で最短波長から波長を１ｎｍずつ増加させながら、各波長別の透過率を測定した後に測定された透過率の算術平均を求めた結果であり、最小透過率は、上記１ｎｍずつ波長を増加させながら測定した透過率のうち最小透過率である。例えば、３５０ｎｍ～３６０ｎｍの波長範囲内の平均透過率は、３５０ｎｍ、３５１ｎｍ、３５２ｎｍ、３５３ｎｍ、３５４ｎｍ、３５５ｎｍ、３５６ｎｍ、３５７ｎｍ、３５８ｎｍ、３５９ｎｍおよび３６０ｎｍの波長で測定した透過率の算術平均であり、３５０ｎｍ～３６０ｎｍの波長範囲内の最小透過率は、３５０ｎｍ、３５１ｎｍ、３５２ｎｍ、３５３ｎｍ、３５４ｎｍ、３５５ｎｍ、３５６ｎｍ、３５７ｎｍ、３５８ｎｍ、３５９ｎｍおよび３６０ｎｍの波長で測定した透過率のうち最も低い透過率である。
【0150】
２．銅含有量の評価
ガラス基板の銅含有量は、Ｘ線蛍光分析装置（ＷＤ ＸＲＦ、Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ－Ｒａｙ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）を用いて確認した。上記装置を用いて試験片（ガラス基板）にＸ線を照射すると、上記試験片の個別元素から特徴的な二次Ｘ線が発生し、上記装置は、上記二次Ｘ線を各元素の波長によって検出する。上記二次Ｘ線の強度は、元素含有量に比例し、したがって、上記元素の波長によって測定された二次Ｘ線の強度を用いて定量分析を行うことができる。
ガラス基板の銅含有量は、Ｘ線蛍光分析装置（ＷＤ ＸＲＦ、Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ－Ｒａｙ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）を用いて確認した。上記装置を用いて試験片（ガラス基板）にＸ線を照射すると、上記試験片の個別元素から特徴的な二次Ｘ線が発生し、上記装置は、上記二次Ｘ線を各元素の波長によって検出する。上記二次Ｘ線の強度は、元素含有量に比例し、したがって、上記元素の波長によって測定された二次Ｘ線の強度を用いて定量分析を行うことができる。
【0151】
３．屈折率の評価
屈折率は、ＡＴＡＧＯ社の測定装置（ＡＴＡＧＯ、ＮＡＲ－４Ｔ）を用いて波長５２０ｎｍに対して測定した。
屈折率は、ＡＴＡＧＯ社の測定装置（ＡＴＡＧＯ、ＮＡＲ－４Ｔ）を用いて波長５２０ｎｍに対して測定した。
【0152】
製造例１．吸収層材料Ａの製造
吸収層材料Ａは、色素およびバインダー樹脂（ポリアクリレート系、Ｓｕｍｉｔｏｍｏ社、Ｓｕｍｉｐｅｘ）を溶媒（ＭＥＫ、Ｍｅｔｈｙｌ Ｅｔｈｙｌ Ｋｅｔｏｎｅ）に分散させて製造した。上記過程でバインダー樹脂、色素および溶媒の混合割合は、重量比（バインダー樹脂：色素：溶媒）で１．５４：０．２：８．４４程度とした。
吸収層材料Ａは、色素およびバインダー樹脂（ポリアクリレート系、Ｓｕｍｉｔｏｍｏ社、Ｓｕｍｉｐｅｘ）を溶媒（ＭＥＫ、Ｍｅｔｈｙｌ Ｅｔｈｙｌ Ｋｅｔｏｎｅ）に分散させて製造した。上記過程でバインダー樹脂、色素および溶媒の混合割合は、重量比（バインダー樹脂：色素：溶媒）で１．５４：０．２：８．４４程度とした。
【0153】
上記色素としては、色素１（ＩＲＡ１０３２、Ｅｘｃｉｔｏｎ、ジインモニウム系化合物、吸収極大波長範囲：９００ｎｍ～１２００ｎｍ）、色素２（ＩＲＡ７０５、Ｅｘｃｉｔｏｎ、スクアリリウム系化合物、吸収極大波長範囲：７００ｎｍ～８００ｎｍ）および色素３（ＡＤＡ３２３２、ＨＷ．ＳＡＮＤＳ、吸収極大波長範囲：３００ｎｍ～４００ｎｍ）の混合物を用いた。上記色素の混合物は、上記３種の色素を３．８：３．３：２．９の重量比（色素１：色素２：色素３）で含む。
【0154】
上記吸収層材料Ａを適正な方法でコートし、熱処理（約１３５℃で約２時間）して、吸収層を形成することができる。
【0155】
例えば、上記吸収層材料Ａを用いて形成された吸収層の屈折率は、上記吸収層材料Ａを基板（ガラス基板）にスピンコーターでコートし、１３５℃で約２時間硬化させて、厚さが約３．５μｍ程度の吸収層を形成し、上記吸収層に対して上記に示した方法によって評価することができる。このような方法で評価した屈折率は、約１．５３程度であった。
【0156】
製造例２．吸収層材料Ｂの製造
吸収層材料Ｂは、上記製造例１の色素１とバインダー樹脂を溶媒（ＭＥＫ、Ｍｅｔｈｙｌ Ｅｔｈｙｌ Ｋｅｔｏｎｅ）に分散させて製造することができる。上記でバインダー樹脂としては、シロキサンオリゴマー（Ｓｉｌｏｘａｎｅ Ｏｌｉｇｏｍｅｒ）（３－ｇｌｙｃｉｄｏｘｙｐｒｏｐｙｌｔｒｉｍｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅの部分加水分解縮合物）を用いた。上記で吸収剤とバインダー樹脂および溶媒の混合割合は、重量比（色素：バインダー樹脂：溶媒）で１：７５：２４程度とした。
吸収層材料Ｂは、上記製造例１の色素１とバインダー樹脂を溶媒（ＭＥＫ、Ｍｅｔｈｙｌ Ｅｔｈｙｌ Ｋｅｔｏｎｅ）に分散させて製造することができる。上記でバインダー樹脂としては、シロキサンオリゴマー（Ｓｉｌｏｘａｎｅ Ｏｌｉｇｏｍｅｒ）（３－ｇｌｙｃｉｄｏｘｙｐｒｏｐｙｌｔｒｉｍｅｔｈｏｘｙｓｉｌａｎｅの部分加水分解縮合物）を用いた。上記で吸収剤とバインダー樹脂および溶媒の混合割合は、重量比（色素：バインダー樹脂：溶媒）で１：７５：２４程度とした。
【0157】
上記吸収層材料Ｂをコートし、熱処理（約１４０℃で約２時間）して、吸収層を形成することができる。
【0158】
例えば、上記吸収層材料Ｂで形成した吸収層の屈折率は、上記材料Ｂをガラス基板にスピンコーターでコートし、１４０℃で２時間維持して、厚さが約５μｍ程度の吸収層を形成し、上記吸収層に対して評価した。このような方法で評価した屈折率は、約１．４５程度である。
【0159】
製造例３．吸収層材料Ｃの製造
吸収層材料Ｃは、色素とバインダー樹脂（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）を溶媒（ＧＢＬ、ｇａｍｍａ ｂｕｔｙｒｏｌａｃｔｏｎｅ）に分散させて製造した。上記で色素とバインダー樹脂および溶媒の混合割合は、重量比（色素：バインダー樹脂:溶媒）で０．１：７０：２９．９程度とした。なお、上記色素としては、製造例１の色素２と色素３を４．９：５．１の重量比（色素２：色素３）で混合した混合物を用いた。
吸収層材料Ｃは、色素とバインダー樹脂（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）を溶媒（ＧＢＬ、ｇａｍｍａ ｂｕｔｙｒｏｌａｃｔｏｎｅ）に分散させて製造した。上記で色素とバインダー樹脂および溶媒の混合割合は、重量比（色素：バインダー樹脂:溶媒）で０．１：７０：２９．９程度とした。なお、上記色素としては、製造例１の色素２と色素３を４．９：５．１の重量比（色素２：色素３）で混合した混合物を用いた。
【0160】
上記吸収層材料Ｃを適正な方法でコートし、熱処理（約１４０℃で約２時間）して、吸収層を形成することができる。
【0161】
上記吸収層材料Ｃをガラス基板にスピンコーターでコートし、１４０℃で２時間維持して、厚さが約６μｍ程度の吸収層を形成し、上記吸収層に対して屈折率を評価した。このような方法で評価した屈折率は、約１．６２程度である。
【0162】
実施例１．
樹脂層（透過率制御層）を屈折率が約１．５２程度のガラス基板（厚さ：約０．２１ｍｍ）の両面に形成した。上記樹脂層（透過率制御層）は、溶媒（Ｄｉｂｕｔｙｌ ｅｔｈｅｒ）および無機ポリシラザン（製造社：三和化学、製品名：１０３５）を９．５：０．５の重量比（溶媒：無機ポリシラザン）で混合したコーティング液を用いて製造した。上記コーティング液を上記ガラス基板にスピンコートし、１４０℃で２時間維持して、厚さが約２０ｎｍ程度の樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層（透過率制御層）の屈折率は、約１．４５程度であった。
樹脂層（透過率制御層）を屈折率が約１．５２程度のガラス基板（厚さ：約０．２１ｍｍ）の両面に形成した。上記樹脂層（透過率制御層）は、溶媒（Ｄｉｂｕｔｙｌ ｅｔｈｅｒ）および無機ポリシラザン（製造社：三和化学、製品名：１０３５）を９．５：０．５の重量比（溶媒：無機ポリシラザン）で混合したコーティング液を用いて製造した。上記コーティング液を上記ガラス基板にスピンコートし、１４０℃で２時間維持して、厚さが約２０ｎｍ程度の樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層（透過率制御層）の屈折率は、約１．４５程度であった。
【0163】
上記のような樹脂層（透過率制御層）を上記ガラス基板の両面に形成した。
【0164】
実施例２．
ガラス基板としては、実施例１と同じガラス基板を適用し、上記ガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層（透過率制御層）は、溶媒（Ｄｉｂｕｔｙｌ ｅｔｈｅｒ）と有機ポリシラザン（製造社：三和化学、製品名：１００１－５）を９．５：０．５の重量比（溶媒：有機ポリシラザン）で混合したコーティング液を用いて製造した。上記コーティング液をガラス基板にスピンコートし、１４０℃で約２時間維持して、厚さが約７６ｎｍ程度の上記樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層（透過率制御層）の屈折率は、約１．４５程度であった。
ガラス基板としては、実施例１と同じガラス基板を適用し、上記ガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層（透過率制御層）は、溶媒（Ｄｉｂｕｔｙｌ ｅｔｈｅｒ）と有機ポリシラザン（製造社：三和化学、製品名：１００１－５）を９．５：０．５の重量比（溶媒：有機ポリシラザン）で混合したコーティング液を用いて製造した。上記コーティング液をガラス基板にスピンコートし、１４０℃で約２時間維持して、厚さが約７６ｎｍ程度の上記樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層（透過率制御層）の屈折率は、約１．４５程度であった。
【0165】
実施例３．
実施例２のコーティング液を用いてガラス基板の両面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。この際、樹脂層の形成方法は、実施例２と同一であり、また、ガラス基板として、実施例２と同じガラス基板を用いた。
実施例２のコーティング液を用いてガラス基板の両面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。この際、樹脂層の形成方法は、実施例２と同一であり、また、ガラス基板として、実施例２と同じガラス基板を用いた。
【0166】
実施例１～３に対する評価結果を下記表１に整理して記載した。下記表１で、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、表１で、屈折率は、各実施例で形成された樹脂層（透過率制御層）の屈折率であり、Ｒｅｆは、実施例１～３で用いたガラス基板自体の透過率である。
【0167】
【表1】
【0168】
表１の結果より、各実施例の透過率Ｔｍｉｎ、Ｔａｖｅの増減率（単位：％）を確認し、下記表２に整理して記載した。上記増減率は、ガラス基板の各透過率ＲｅｆをＴ１といい、樹脂層（透過率制御層）が形成されたガラス基板の各透過率をＴ２というとき、式１００×（Ｔ２－Ｔ１）／Ｔ１によって計算した。
【0169】
【表2】
【0170】
表１および表２の結果を見ると、実施例１～３において樹脂層（透過率制御層）によりガラス基板自体の透過率に比べて高い透過率が確保されることが分かる。
【0171】
実施例４．
透明基板としては、赤外線に対して吸収特性を有するリン酸塩系赤外線吸収ガラス基板（ＨＯＹＡ社、厚さ：約０．２１ｍｍ）を用いた。上記赤外線吸収ガラス基板に対して測定された銅含有量は、約２．８９重量％であった。上記ガラス基板の一面に実施例２において用いたものと同じコーティング液を用いて樹脂層（透過率制御層）を形成した。この際、樹脂層は、実施例２と同じ方法で形成し、厚さも同一に調節した。
透明基板としては、赤外線に対して吸収特性を有するリン酸塩系赤外線吸収ガラス基板（ＨＯＹＡ社、厚さ：約０．２１ｍｍ）を用いた。上記赤外線吸収ガラス基板に対して測定された銅含有量は、約２．８９重量％であった。上記ガラス基板の一面に実施例２において用いたものと同じコーティング液を用いて樹脂層（透過率制御層）を形成した。この際、樹脂層は、実施例２と同じ方法で形成し、厚さも同一に調節した。
【0172】
実施例５
実施例４において用いたものと同じ透明基板の両面に実施例３と同じ方法で樹脂層（透過率制御層）を形成した。
実施例４において用いたものと同じ透明基板の両面に実施例３と同じ方法で樹脂層（透過率制御層）を形成した。
【0173】
実施例４および５に対する評価結果を下記表３に整理して記載した。下記表３で、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、下記表３で、Ｒｅｆは、実施例７および８で用いたガラス基板自体の透過率である。また、下記表３で、増減率は、ガラス基板の各透過率ＲｅｆをＴ１といい、樹脂層が形成されたガラス基板の各透過率をＴ２というとき、式１００×（Ｔ２－Ｔ１）／Ｔ１によって計算した結果であり、その単位は、％である。
【0174】
【表3】
【0175】
実施例６．
ガラス基板としては、赤外線に対して吸収特性を有するリン酸塩系赤外線吸収ガラス基板（ＨＯＹＡ社、厚さ：約０．２１ｍｍ、屈折率：約１．５７、銅含有量：９．５重量％）を用いた。上記樹脂層（透過率制御層）は、実施例２において用いたものと同じコーティング液を用いて製造した。上記樹脂層材料であるコーティング液で形成された樹脂層の屈折率も、実施例２と同一に評価し、その結果、樹脂層の屈折率は、約１．４５程度であった。上記コーティング液を上記ガラス基板の一面にスピンコーティング法でコートし、１４０℃で約２時間維持して、厚さが約７６ｎｍ程度の樹脂層を形成した。
ガラス基板としては、赤外線に対して吸収特性を有するリン酸塩系赤外線吸収ガラス基板（ＨＯＹＡ社、厚さ：約０．２１ｍｍ、屈折率：約１．５７、銅含有量：９．５重量％）を用いた。上記樹脂層（透過率制御層）は、実施例２において用いたものと同じコーティング液を用いて製造した。上記樹脂層材料であるコーティング液で形成された樹脂層の屈折率も、実施例２と同一に評価し、その結果、樹脂層の屈折率は、約１．４５程度であった。上記コーティング液を上記ガラス基板の一面にスピンコーティング法でコートし、１４０℃で約２時間維持して、厚さが約７６ｎｍ程度の樹脂層を形成した。
【0176】
実施例７．
樹脂層の形成時に、スピンコーティング後、コーティング液の維持温度を９０℃とし、樹脂層を約７０ｎｍ程度の厚さで形成したことを除いて、実施例６と同一に樹脂層を形成した。
樹脂層の形成時に、スピンコーティング後、コーティング液の維持温度を９０℃とし、樹脂層を約７０ｎｍ程度の厚さで形成したことを除いて、実施例６と同一に樹脂層を形成した。
【0177】
実施例６および７に対する評価結果を下記表４に整理して記載した。下記表４で、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、表４で、Ｒｅｆは、実施例９および１０において用いたガラス基板自体の透過率である。また、表４で、増減率は、ガラス基板の各透過率ＲｅｆをＴ１といい、樹脂層が形成されたガラス基板の各透過率をＴ２というとき、式１００×（Ｔ２－Ｔ１）／Ｔ１によって計算した結果であり、その単位は、％である。
【0178】
【表4】
【0179】
表４の結果より、実施例６および７は、同じ種類の材料で樹脂層（透過率制御層）を形成したにもかかわらず、硬化温度が１４０℃レベルの実施例６が、硬化温度が９０℃レベルの実施例７に比べて優れた効果を示した。このような結果は、上記硬化温度の差によって樹脂層の硬化度の差が発生し、その差によって、実施例７の場合、実施例６と異なる屈折率の層が形成されたためと判断される。
【0180】
実施例８
ガラス基板としては、実施例２と同じガラス基板を適用し、上記ガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。この際、樹脂層は、実施例２において適用したコーティング液を用いて形成した。上記樹脂層の形成方法と形成厚さは、実施例２の場合と同様であった。
ガラス基板としては、実施例２と同じガラス基板を適用し、上記ガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。この際、樹脂層は、実施例２において適用したコーティング液を用いて形成した。上記樹脂層の形成方法と形成厚さは、実施例２の場合と同様であった。
【0181】
次に、上記ガラス基板の上記樹脂層（透過率制御層）が形成されていない面に粘着層と吸収層を順次形成して、光学フィルターを製造した。
【0182】
上記粘着層は、公知のアクリル系粘着剤を用いて約１７０ｎｍ程度の厚さで形成した。この粘着層の屈折率は、約１．６０レベルであった。上記粘着層を形成する粘着剤をガラス基板にスピンコートし、１４０℃で３０分程度維持して、粘着層を形成した。次に、上記粘着層上に製造例１の吸収層材料Ａをスピンコートし、１３５℃で約２時間維持して、厚さが約３．５μｍ程度の吸収層を形成した。
【0183】
図４は、上記光学フィルターの透過率特性を示す図である。（同図で、ｘ軸が波長（ｎｍ）であり、ｙ軸が透過率（％）である）。同図で点線で示された部分は、樹脂層（高透過層）が形成される前の光学フィルターに対する結果であり、実線で示された部分は、上記実施例８の光学フィルターに対する結果である。
【0184】
表５は、上記光学フィルターに対する評価結果であり、表５で、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、下記表５で、Ｒｅｆは、樹脂層（透過率制御層）が形成されていない、光学フィルター（すなわち、吸収層／粘着層／ガラス基板の構造のフィルター）に対する値である。表５で、Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｎは、３５０ｎｍ～４２５ｎｍの波長領域内で５０％の透過率を示す最短波長（単位：ｎｍ）であり、Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｆｆは、６００ｎｍ～９００ｎｍの波長領域内で５０％の透過率を示す最長波長（単位：ｎｍ）であり、Ｔ１０％ｃｕｔ ｏｆｆは、６００ｎｍ～９００ｎｍの波長領域内で１０％の透過率を示す最長波長（単位：ｎｍ）である。
【0185】
【表5】
【0186】
実施例９
ガラス基板としては、実施例２と同じガラス基板を適用した。上記ガラス基板の一面に製造例２の材料を用いた第１吸収層、製造例３の材料を用いた第２吸収層および樹脂層（透過率制御層）を順次形成して、光学フィルターを製造した（すなわち、ガラス基板／第１吸収層／第２吸収層／樹脂層の構造）。
ガラス基板としては、実施例２と同じガラス基板を適用した。上記ガラス基板の一面に製造例２の材料を用いた第１吸収層、製造例３の材料を用いた第２吸収層および樹脂層（透過率制御層）を順次形成して、光学フィルターを製造した（すなわち、ガラス基板／第１吸収層／第２吸収層／樹脂層の構造）。
【0187】
第１吸収層は、製造例２の吸収層材料を上記ガラス基板上にスピンコートし、１４０℃で約２時間維持して、厚さが約５μｍ程度となるように形成し、第２吸収層は、上記第１吸収層上に製造例３の吸収層材料をスピンコートし、１４０℃で約２時間維持して、厚さが約６μｍ程度となるように形成した。
【0188】
次に、上記第２吸収層上に実施例２と同じ方法で同一厚さの樹脂層（透過率制御層）を形成した。
【0189】
図５は、上記製造された光学フィルターの透過率特性を示す図である（同図でｘ軸が波長（ｎｍ）であり、ｙ軸が透過率（％）である）。同図で点線で示された部分は、樹脂層（透過率制御層）が形成される前の光学フィルターに対する結果であり、実線で示された部分は、上記実施例９の光学フィルターに対する結果である。
【0190】
下記表６は、上記光学フィルターに対する評価結果であり、下記表６で、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、下記表６で、Ｒｅｆは、樹脂層（透過率制御層）が形成されていない、光学フィルター（すなわち、第２吸収層／第１吸収層／ガラス基板の構造のフィルター）に対する値である。
【0191】
下記表６で、Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｎは、３５０ｎｍ～４２５ｎｍの波長領域内で５０％の透過率を示す最短波長（単位：ｎｍ）であり、Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｆｆは、６００ｎｍ～９００ｎｍの波長領域内で５０％の透過率を示す最長波長（単位：ｎｍ）であり、Ｔ１０％ｃｕｔ ｏｆｆは、６００ｎｍ～９００ｎｍの波長領域内で１０％の透過率を示す最長波長（単位：ｎｍ）である。
【0192】
【表6】
【0193】
実施例１０
実施例９の光学フィルターの両面に誘電体多層膜を形成して、光学フィルターを製造した。誘電体多層膜は、イオンビームアシスト蒸着（Ｉｏｎ－ｂｅａｍ ａｓｓｉｓｔｅｄ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）方法でサブ層を蒸着して形成した。蒸着時に、真空度および温度条件は、それぞれ５．０Ｅ－５ Ｔｏｒｒおよび１２０℃とし、ＩＢＳ（Ｉｏｎ Ｂｅａｍ Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）ソース（ｓｏｕｒｃｅ）電圧３５０Ｖおよび電流８５０ｍＡの条件に設定した。上記方法で高屈折層としてのＴｉＯ２層（屈折率約２．６１）と低屈折層としてのＳｉＯ２層（屈折率約１．４６）を交互に形成して、誘電体多層膜を形成した。
実施例９の光学フィルターの両面に誘電体多層膜を形成して、光学フィルターを製造した。誘電体多層膜は、イオンビームアシスト蒸着（Ｉｏｎ－ｂｅａｍ ａｓｓｉｓｔｅｄ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）方法でサブ層を蒸着して形成した。蒸着時に、真空度および温度条件は、それぞれ５．０Ｅ－５ Ｔｏｒｒおよび１２０℃とし、ＩＢＳ（Ｉｏｎ Ｂｅａｍ Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）ソース（ｓｏｕｒｃｅ）電圧３５０Ｖおよび電流８５０ｍＡの条件に設定した。上記方法で高屈折層としてのＴｉＯ２層（屈折率約２．６１）と低屈折層としてのＳｉＯ２層（屈折率約１．４６）を交互に形成して、誘電体多層膜を形成した。
【0194】
下記表７は、光学フィルターの樹脂層（透過率制御層）の表面に形成された誘電体多層膜の各サブ層の厚さを表示し、表８は、光学フィルターのガラス基板の上記樹脂層（透過率制御層）が形成された面とは反対側の表面に形成された各サブ層の厚さを表示する。
【0195】
表７および表８で、番号１は、樹脂層（透過率制御層）またはガラス基板上に最初に形成される層である。
【0196】
【表7】
【0197】
【表8】
【0198】
下記表９は、上記光学フィルターに対する評価結果であり、下記表９で、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、下記表９で、Ｒｅｆは、樹脂層（透過率制御層）が形成されていない、光学フィルター（すなわち、誘電体多層膜／第２吸収層／第１吸収層／ガラス基板／誘電体多層膜の構造のフィルター）に対する値である。
【0199】
表９で、Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｎは、３５０ｎｍ～４２５ｎｍの波長領域内で５０％の透過率を示す最短波長（単位：ｎｍ）であり、Ｔ５０％ｃｕｔ ｏｆｆは、６００ｎｍ～９００ｎｍの波長領域内で５０％の透過率を示す最長波長（単位：ｎｍ）であり、Ｔ１０％ｃｕｔ ｏｆｆは、６００ｎｍ～９００ｎｍの波長領域内で１０％の透過率を示す最長波長（単位：ｎｍ）である。
【0200】
【表9】
【0201】
実施例１１．
実施例６と同じ方法でガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記ガラス基板と樹脂層を形成する材料としては、実施例９と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約１５００ｒｐｍに制御して、上記樹脂層の厚さが約７５．９ｎｍ程度となるようにした。上記樹脂層の厚さを変更したことを除いて、樹脂層の形成方法は、実施例６と同一である。
実施例６と同じ方法でガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記ガラス基板と樹脂層を形成する材料としては、実施例９と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約１５００ｒｐｍに制御して、上記樹脂層の厚さが約７５．９ｎｍ程度となるようにした。上記樹脂層の厚さを変更したことを除いて、樹脂層の形成方法は、実施例６と同一である。
【0202】
実施例１２．
実施例６と同じ方法でガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記ガラス基板と樹脂層を形成する材料としては、実施例６と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約１０５０ｒｐｍに制御して、上記樹脂層の厚さが約１２１ｎｍ程度となるようにした。
実施例６と同じ方法でガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記ガラス基板と樹脂層を形成する材料としては、実施例６と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約１０５０ｒｐｍに制御して、上記樹脂層の厚さが約１２１ｎｍ程度となるようにした。
【0203】
実施例１３．
実施例６と同じ方法でガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記ガラス基板と樹脂層を形成する材料としては、実施例６と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約２０００ｒｐｍに制御した。このような場合に、上記樹脂層が非常に薄く形成され、厚さの測定が不可能であった。
実施例６と同じ方法でガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記ガラス基板と樹脂層を形成する材料としては、実施例６と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約２０００ｒｐｍに制御した。このような場合に、上記樹脂層が非常に薄く形成され、厚さの測定が不可能であった。
【0204】
下記表１０は、上記実施例１１～１３に対する評価結果であり、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、下記表１０で、Ｒｅｆは、樹脂層（透過率制御層）が形成されていない、ガラス基板に対する値である。
【0205】
【表10】
【0206】
実施例１４．
実施例６において用いたものと同じガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層は、ＤＢＥ（Ｄｉｂｕｔｙｌ ｅｔｈｅｒ）および無機ポリシラザン（製造社：ＤＮＦ、製品名：ＤＨＣ－１９Ｄ）を８．１：１．９の重量比（ＤＢＥ： 無機ポリシラザン）で混合したコーティング液をスピンコートし、１４０℃で約２時間維持して形成した。上記スピンコーティング時には、回転速度を約１７００ｒｐｍに制御して、上記樹脂層の厚さが約２９．６ｎｍ程度となるようにした。
実施例６において用いたものと同じガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層は、ＤＢＥ（Ｄｉｂｕｔｙｌ ｅｔｈｅｒ）および無機ポリシラザン（製造社：ＤＮＦ、製品名：ＤＨＣ－１９Ｄ）を８．１：１．９の重量比（ＤＢＥ： 無機ポリシラザン）で混合したコーティング液をスピンコートし、１４０℃で約２時間維持して形成した。上記スピンコーティング時には、回転速度を約１７００ｒｐｍに制御して、上記樹脂層の厚さが約２９．６ｎｍ程度となるようにした。
【0207】
実施例１５．
実施例６において用いたものと同じガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層を形成する材料としては、実施例１４と同じものを用いた。上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に回転速度を約１８００ｒｐｍに制御して、上記樹脂層の厚さが約２７．１ｎｍ程度になるようにした。上記樹脂層の厚さを変更したことを除いて、樹脂層の形成方法は、実施例１４と同一である。
実施例６において用いたものと同じガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層を形成する材料としては、実施例１４と同じものを用いた。上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に回転速度を約１８００ｒｐｍに制御して、上記樹脂層の厚さが約２７．１ｎｍ程度になるようにした。上記樹脂層の厚さを変更したことを除いて、樹脂層の形成方法は、実施例１４と同一である。
【0208】
実施例１６．
実施例６において用いたものと同じガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層を形成する材料としては、実施例１４と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約２０００ｒｐｍに制御して、上記樹脂層の厚さが約２５．１ｎｍ程度となるようにした。上記樹脂層の厚さを変更したことを除いて、樹脂層の形成方法は、実施例１４と同一である。
実施例６において用いたものと同じガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層を形成する材料としては、実施例１４と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約２０００ｒｐｍに制御して、上記樹脂層の厚さが約２５．１ｎｍ程度となるようにした。上記樹脂層の厚さを変更したことを除いて、樹脂層の形成方法は、実施例１４と同一である。
【0209】
表１１は、上記実施例１４～１６に対する結果である。表１１で、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、下記表１１で、Ｒｅｆは、樹脂層（透過率制御層）が形成されていない、ガラス基板に対する値である。
【0210】
【表11】
【0211】
実施例１７．
実施例６において用いたものと同じガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層を形成する材料としては、実施例１と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約１５００ｒｐｍに制御した。上記樹脂層のスピンコーティング時の回転速度を変更したことを除いて、樹脂層の形成方法は、実施例１と同一である。
実施例６において用いたものと同じガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層を形成する材料としては、実施例１と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約１５００ｒｐｍに制御した。上記樹脂層のスピンコーティング時の回転速度を変更したことを除いて、樹脂層の形成方法は、実施例１と同一である。
【0212】
実施例１８．
実施例６において用いたものと同じガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層を形成する材料としては、実施例１と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約１７００ｒｐｍに制御した。上記樹脂層のスピンコーティング時の回転速度を変更したことを除いて、樹脂層の形成方法は、実施例１と同一である。
実施例６において用いたものと同じガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。上記樹脂層を形成する材料としては、実施例１と同じものを用いた。ただし、上記樹脂層を形成するための上記コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約１７００ｒｐｍに制御した。上記樹脂層のスピンコーティング時の回転速度を変更したことを除いて、樹脂層の形成方法は、実施例１と同一である。
【0213】
表１２は、上記実施例１７および１８に対する評価結果である。表１２で、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、下記表１２で、Ｒｅｆは、樹脂層（透過率制御層）が形成されていない、ガラス基板に対する値である。
【0214】
【表12】
【0215】
実施例１９
ガラス基板としては、実施例２と同じガラス基板を適用し、上記ガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。この際、樹脂層は、実施例２において適用したコーティング液を用いて形成した。上記樹脂層の形成方法と形成厚さは、実施例２の場合と同様であった。ただし、コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約１０５０ｒｐｍに調節して、最終樹脂層の厚さが１２１ｎｍ程度となるように調整した。次に、上記ガラス基板の上記樹脂層（透過率制御層）が形成されていない面に接着層と吸収層を順次形成して、光学フィルターを製造した。上記接着層と吸収層は、実施例８と同じ方法で形成した。
ガラス基板としては、実施例２と同じガラス基板を適用し、上記ガラス基板の一面に樹脂層（透過率制御層）を形成した。この際、樹脂層は、実施例２において適用したコーティング液を用いて形成した。上記樹脂層の形成方法と形成厚さは、実施例２の場合と同様であった。ただし、コーティング液のスピンコーティング時に、回転速度を約１０５０ｒｐｍに調節して、最終樹脂層の厚さが１２１ｎｍ程度となるように調整した。次に、上記ガラス基板の上記樹脂層（透過率制御層）が形成されていない面に接着層と吸収層を順次形成して、光学フィルターを製造した。上記接着層と吸収層は、実施例８と同じ方法で形成した。
【0216】
実施例１９に対する評価結果を下記表１３に整理して記載した。下記表１３で、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、下記表１３で、Ｒｅｆは、樹脂層（透過率制御層）が形成されていない光学フィルターに対する透過率である。
【0217】
また、下記表１３で、括弧内の数値は、Ｒｅｆ対比増減率（単位：％）である。
【0218】
【表13】
【0219】
実施例２０
実施例９と同様の方法でガラス基板／第１吸収層／第２吸収層／樹脂層の構造の光学フィルターを製造した。上記光学フィルターは、実施例９と同じ材料を用いて同じ方法で製造し、ただし、樹脂層の形成のためのコーティング液のスピンコーティング時に回転速度を約１０５０ｒｐｍに調節して、最終樹脂層の厚さが１２１ｎｍ程度となるように調整した。
実施例９と同様の方法でガラス基板／第１吸収層／第２吸収層／樹脂層の構造の光学フィルターを製造した。上記光学フィルターは、実施例９と同じ材料を用いて同じ方法で製造し、ただし、樹脂層の形成のためのコーティング液のスピンコーティング時に回転速度を約１０５０ｒｐｍに調節して、最終樹脂層の厚さが１２１ｎｍ程度となるように調整した。
【0220】
実施例２１～２８
樹脂層の形成時に、スピンコーティングの回転速度と樹脂層の厚さを下記表１４のように変更したことを除いて、実施例２０と同一に光学フィルターを形成した。実施例２８の場合、樹脂層が非常に薄く形成され、正確な厚さを測定しにくかった。
樹脂層の形成時に、スピンコーティングの回転速度と樹脂層の厚さを下記表１４のように変更したことを除いて、実施例２０と同一に光学フィルターを形成した。実施例２８の場合、樹脂層が非常に薄く形成され、正確な厚さを測定しにくかった。
【0221】
【表14】
【0222】
上記実施例２０～２８に対する評価結果を下記表１５に整理して記載した。下記表１５で、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、下記表１５で、Ｒｅｆは、樹脂層（透過率制御層）が形成されていない光学フィルターに対する透過率である。
【0223】
【表15】
【0224】
表１５の結果をＲｅｆ対比増減率（単位：％）に変換した結果は、下記表１６の通りである。
【0225】
【表16】
【0226】
実施例２９
実施例２０と同様の方法で光学フィルターを形成し、かつ光学フィルターの積層順序を変更して、光学フィルターを製造した。すなわち、ガラス基板／第１吸収層／第２吸収層／樹脂層の構造の光学フィルターである実施例２０の構造を変更して、樹脂層／ガラス基板／第１吸収層／第２吸収層の構造で光学フィルターを形成した。積層順序を上記のように変更したことを除いて、各層の形成のための材料と形成方法は、実施例２０と同一にした。
実施例２０と同様の方法で光学フィルターを形成し、かつ光学フィルターの積層順序を変更して、光学フィルターを製造した。すなわち、ガラス基板／第１吸収層／第２吸収層／樹脂層の構造の光学フィルターである実施例２０の構造を変更して、樹脂層／ガラス基板／第１吸収層／第２吸収層の構造で光学フィルターを形成した。積層順序を上記のように変更したことを除いて、各層の形成のための材料と形成方法は、実施例２０と同一にした。
【0227】
実施例３０～３７
樹脂層の形成時に、スピンコーティングの回転速度と樹脂層の厚さを下記表１７のように変更したことを除いて、実施例２９と同一に光学フィルターを形成した。実施例３７の場合、樹脂層が非常に薄く形成され、正確な厚さを測定しにくかった。
樹脂層の形成時に、スピンコーティングの回転速度と樹脂層の厚さを下記表１７のように変更したことを除いて、実施例２９と同一に光学フィルターを形成した。実施例３７の場合、樹脂層が非常に薄く形成され、正確な厚さを測定しにくかった。
【0228】
【表17】
【0229】
実施例２９～３７に対する評価結果を下記表１８に整理して記載した。下記表１８で、Ｔｍｉｎは、当該波長領域における最小透過率（単位：％）であり、Ｔａｖｅは、当該波長領域における平均透過率（単位：％）である。また、下記表１８で、Ｒｅｆは、樹脂層（透過率制御層）が形成されていない光学フィルターに対する透過率である。
【0230】
【表18】
【0231】
表１８の結果をＲｅｆ対比増減率（単位：％）に変換した結果は、下記表１９の通りである。
【0232】
【表19】
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
