特開 2024-108325 電気光学装置、および電子機器

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024108325

(43)【公開日】2024-08-13

(54)【発明の名称】電気光学装置、および電子機器

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1339 20060101AFI20240805BHJP

   G02F 1/1333 20060101ALI20240805BHJP

   G02F 1/1368 20060101ALI20240805BHJP

【ＦＩ】

G02F1/1339 505

G02F1/1333 505

G02F1/1368

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023012634

(22)【出願日】2023-01-31

(71)【出願人】

【識別番号】000002369

【氏名又は名称】セイコーエプソン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100179475

【弁理士】

【氏名又は名称】仲井 智至

(74)【代理人】

【識別番号】100216253

【弁理士】

【氏名又は名称】松岡 宏紀

(74)【代理人】

【識別番号】100225901

【弁理士】

【氏名又は名称】今村 真之

(72)【発明者】

【氏名】後藤 祐紀

【テーマコード（参考）】

2H189

2H190

2H192

【Ｆターム（参考）】

2H189DA78

2H189DA81

2H189DA82

2H189DA83

2H189GA49

2H189GA53

2H189HA07

2H189JA05

2H189JA10

2H189JA12

2H189JA14

2H189LA03

2H189LA05

2H189LA10

2H189MA07

2H190HB03

2H190HB04

2H190HD08

2H192AA24

2H192DA12

2H192GA21

2H192JA06

2H192JA13

2H192JA17

2H192JA33

2H192JB02

(57)【要約】

【課題】表示品位の低下が抑制された電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置は、画像を表示する表示領域と、平面視で前記表示領域の外側に設けられる周辺領域とを有する電気光学装置であって、第１基板と、前記周辺領域に設けられるシール部材を介して、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層と、を備え、前記第１基板および前記第２基板のうちの一方の基板は、前記周辺領域に設けられ、互いに離間する複数の第１凹部を有し、前記第１基板および前記第２基板のうちの他方の基板は、前記周辺領域に設けられ、互いに離間する複数の第１凸部を有し、前記複数の第１凹部と、前記複数の第１凸部とは、前記シール部材を介して噛み合わされている。
【選択図】図５

【特許請求の範囲】

【請求項1】

画像を表示する表示領域と、平面視で前記表示領域の外側に設けられる周辺領域とを有する電気光学装置であって、
第１基板と、
前記周辺領域に設けられるシール部材を介して、前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層と、を備え、
前記第１基板および前記第２基板のうちの一方の基板は、前記周辺領域に設けられ、互いに離間する複数の第１凹部を有し、
前記第１基板および前記第２基板のうちの他方の基板は、前記周辺領域に設けられ、互いに離間する複数の第１凸部を有し、
前記複数の第１凹部と、前記複数の第１凸部とは、前記シール部材を介して噛み合わされている、
ことを特徴とする電気光学装置。

【請求項2】

前記複数の第１凹部のそれぞれは、平面視で前記シール部材に沿って枠状に設けられる溝であり、
前記複数の第１凸部のそれぞれは、平面視で前記シール部材に沿って枠状に設けられる突起である、
請求項１に記載の電気光学装置。

【請求項3】

前記第１基板は、第１基部と、前記第１基部と前記シール部材との間に配置され、無機ケイ素材料を含む第１無機絶縁層を有し、
前記第２基板は、第２基部と、前記第２基部と前記シール部材との間に配置され、無機ケイ素材料を含む第２無機絶縁層を有し、
前記第１無機絶縁層および前記第２無機絶縁層のうちの一方は、前記複数の第１凹部を有し、
前記第１無機絶縁層および前記第２無機絶縁層のうちの他方は、前記複数の第１凸部を有し、
前記第１無機絶縁層または前記第２無機絶縁層は、前記シール部材に接触する、
請求項１に記載の電気光学装置。

【請求項4】

前記第１基板は、第１基部と、前記第１基部と前記シール部材との間に配置され、無機ケイ素材料を含む第１無機絶縁層と、前記を有し、
前記第２基板は、第２基部と、前記第２基部と前記シール部材との間に配置され、無機ケイ素材料を含む第２無機絶縁層を有し、
前記第１無機絶縁層および前記第２無機絶縁層のうちの一方は、前記複数の第１凹部に対応する複数の第３凹部を有し、
前記第１無機絶縁層および前記第２無機絶縁層のうちの他方は、前記複数の第１凸部に対応する複数の第３凸部を有する、
請求項１に記載の電気光学装置。

【請求項5】

前記一方の基板は、平面視で前記複数の第１凹部の内側に設けられ、互いに離間する複数の第２凹部をさらに有し、
前記他方の基板は、平面視で前記複数の第１凸部の内側に設けられ、互いに離間する複数の第２凸部をさらに有し、
前記複数の第２凹部と前記複数の第２凸部とは、前記電気光学層の一部を介して噛み合わされている、
請求項１に記載の電気光学装置。

【請求項6】

前記複数の第２凹部のそれぞれは、平面視で前記シール部材に沿って枠状に設けられる溝であり、
前記複数の第２凸部のそれぞれは、平面視で前記シール部材に沿って枠状に設けられる突起である、
請求項５に記載の電気光学装置。

【請求項7】

前記第２凹部の数は、前記第１凹部の数よりも少なく、
前記第２凸部の数は、前記第１凸部の数よりも少ない、
請求項５または６に記載の電気光学装置。

【請求項8】

前記複数の第１凹部の各深さは、２μｍ以上８μｍ以下であり、
前記複数の第１凸部の各高さは、２μｍ以上８μｍ以下である、
請求項１に記載の電気光学装置。

【請求項9】

前記複数の第１凹部の数は、１０個以上１００個以下であり、
前記複数の第１凸部の数は、１０個以上１００個以下である、
請求項１に記載の電気光学装置。

【請求項10】

請求項１に記載の電気光学装置と、
前記電気光学装置の動作を制御する制御部と、を有することを特徴とする電子機器。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、電気光学装置、および電子機器に関する。

【背景技術】

【0002】

プロジェクター等の電子機器には、例えば、画素ごとに光学的特性を変更可能な液晶表示装置等の電気光学装置が用いられる。当該電気光学装置の例として、特許文献１に記載の電気光学装置が知られている。

【0003】

特許文献１に記載の電気光学装置では、第１の基板と第２の基板とがシール部材を介して対向配置されており、第１の基板と第２の基板との間に液晶が介在している。第１の基板と第２の基板との少なくとも一方には、配向膜と絶縁膜とが設けられる。絶縁膜は、配向膜の下層に設けられる。また、絶縁膜には、複数の溝が形成される。当該複数の溝が形成されることで、配向膜と絶縁膜との密着性が向上し、配向膜と絶縁膜との界面を介して外部の水分が液晶内に浸入することが抑制される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００７－１７８７２６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかし、当該文献の構成では、シール部材の内部を介して外部の水分が液晶内に浸入するおそれがあり、充分に水分の浸入を防ぐことが難しい。この結果、角シミの発生、液晶の配向不良、または比抵抗低下による表示ムラの各種問題が発生するおそれがある。よって、表示品位が低下するおそれがある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の電気光学装置の一態様は、画像を表示する表示領域と、平面視で前記表示領域の外側に設けられる周辺領域とを有する電気光学装置であって、第１基板と、前記周辺領域に設けられるシール部材を介して、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置され、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層と、を備え、前記第１基板および前記第２基板のうちの一方の基板は、前記周辺領域に設けられる複数の第１凹部を有し、前記第１基板および前記第２基板のうちの他方の基板は、前記周辺領域に設けられる複数の第１凸部を有し、前記複数の第１凹部と、前記複数の第１凸部とは、前記シール部材を介して噛み合わされている。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】実施形態に係る電気光学装置の平面図である。

【図2】図１に示す電気光学装置のＡ－Ａ線の断面図である。

【図3】図１の第１基板の電気的な構成を示す等価回路図である。

【図4】図２の電気光学装置の一部を拡大した図である。

【図5】図４の複数の第１凹部の平面的な配置を示す図である。

【図6】比較例における外部から表示領域への水分の浸入経路を示す図である。

【図7】本実施形態における表示領域から液晶層への水分の浸入経路を示す図である。

【図8】第２実施形態の電気光学装置の一部を示す断面図である。

【図9】第３実施形態の電気光学装置の一部を示す断面図である。

【図10】図９の複数の第１凹部および複数の第２凹部の平面的な配置を示す図である。

【図11】第４実施形態の電気光学装置の一部を断面図である。

【図12】第５実施形態の電気光学装置の一部を断面図である。

【図13】電子機器の一例であるパーソナルコンピューターを示す斜視図である。

【図14】電子機器の一例であるスマートフォンを示す平面図である。

【図15】電子機器の一例であるプロジェクターを示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

以下、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態を説明する。なお、図面において各部の寸法または縮尺は実際と適宜に異なり、理解を容易にするために模式的に示す部分もある。また、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られない。

【0009】

１．電気光学装置
Ａ．第１実施形態
Ａ－１．基本構成
図１は、実施形態に係る電気光学装置１００の平面図である。図２は、図１に示す電気光学装置１００のＡ－Ａ線の断面図である。以下では、説明の便宜上、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を適宜用いて説明する。また、Ｘ軸に沿う一方向をＸ１方向と表記し、Ｘ１方向とは反対の方向をＸ２方向と表記する。同様に、Ｙ軸に沿う一方向をＹ１方向と表記し、Ｙ１方向とは反対の方向をＹ２方向と表記する。Ｚ軸に沿う一方向をＺ１方向と表記し、Ｚ１方向とは反対の方向をＺ２方向と表記する。

【0010】

また、要素αと要素βとの「電気的な接続」は、要素αと要素βとが直接的に接合されることで導通する構成のほか、要素αと要素βとが他の導電体を介して間接的に導通する構成も含む。また、要素αと要素βとが「噛み合う」は、要素αと要素βとが接触している構成のほか、要素αと要素βとが他の要素を介して間接的に接触している構成も含む。

【0011】

図１および図２に示す電気光学装置１００は、アクティブマトリクス駆動方式の透過型の電気光学装置である。図２に示すように、電気光学装置１００は、第１基板２と、第２基板３と、枠状のシール部材４と、液晶層５とを有する。本実施形態では、第１基板２が「一方の基板」に相当し、第２基板３が「他方の基板」に相当する。また、図２に示すように、第１基板２、液晶層５および第２基板３は、この順にＺ１方向に並ぶ。なお、第１基板２、液晶層５および第２基板３の重なる方向であるＺ１方向またはＺ２方向から見ることを「平面視」とする。また、図１に示す電気光学装置１００の平面形状は四角形であるが、四角形以外の多角形または円形であってもよい。

【0012】

図２に示す電気光学装置１００は透過型であって、第１基板２および第２基板３は、透光性を有する。入射光ＬＬが第２基板３に入射した後、第１基板２から出射される間に変調することにより、画像が表示される。なお、第１基板２に入射した光が第２基板３から出射される間に変調することにより、画像が表示されてもよい。また、「透光性」とは、可視光に対する透過性を意味し、好ましくは可視光の透過率が５０％以上であることをいう。

【0013】

第１基板２は、第１基部２１と、第１無機絶縁層２０と、複数の画素電極２２と、複数のダミー画素電極２２ｄと、周辺電極２８と、透明導電膜２７と、配向膜２９とを有する。第１基部２１、第１無機絶縁層２０、複数の画素電極２２および配向膜２９は、この順にＺ１方向に積層される。複数の画素電極２２、複数のダミー画素電極２２ｄ、周辺電極２８および透明導電膜２７は、同層に配置される。なお、周辺電極２８と透明導電膜２７とは別体であるが、一体であってもよい。ダミー画素電極２２ｄおよび周辺電極２８は省略してもよい。

【0014】

第１基部２１は、透光性および絶縁性を有する平板であり、例えばガラス基板または石英基板で構成される。第１無機絶縁層２０は、第１基部２１と液晶層５との間、および第１基部２１とシール部材４との間に配置される。第１無機絶縁層２０は、詳細な図示はしないが、透光性および絶縁性を有する複数の絶縁膜を含む。各絶縁膜は、無機ケイ素材料を含む。無機ケイ素材料は、例えば酸化ケイ素および酸窒化ケイ素等のケイ素を含む無機化合物である。当該無機ケイ素材料には、ＢＳＧ膜およびＮＳＧ膜等が含まれる。また、詳細な図示はしないが、第１無機絶縁層２０には、トランジスターおよび各種配線等が設けられる。

【0015】

複数の画素電極２２は、液晶層５に電界を与える。複数のダミー画素電極２２ｄは、表示には寄与しないものの、複数の画素電極２２と同様に駆動制御される。例えば、複数のダミー画素電極２２ｄは、複数の画素電極２２に書き込まれる画像信号のノイズ対策等のために用いられる。複数のダミー画素電極２２ｄは、複数の画素電極２２を平面視で囲む。周辺電極２８は、液晶層５中のイオン性不純物をトラップするイオントラップ用の電極である。透明導電膜２７は、複数の画素電極２２、複数のダミー画素電極２２ｄおよび複数の周辺電極２８の外側に配置され、これらを平面視で囲む。また、透明導電膜２７は、平面視でシール部材４と重なる。複数の画素電極２２、複数のダミー画素電極２２ｄ、周辺電極２８、および透明導電膜２７のそれぞれは、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）およびＦＴＯ（Fluorine-doped tin oxide）等の透明導電材料を含む。複数の画素電極２２、複数のダミー画素電極２２ｄ、周辺電極２８および透明導電膜２７は、例えば、当該透明導電材料を含む導電膜をエッチングにすることにより一括で形成される。

【0016】

配向膜２９は、透光性および絶縁性を有する。配向膜２９は、液晶層５に接触しており、液晶層５が有する液晶分子を配向させる。配向膜２９は、複数の画素電極２２、複数のダミー画素電極２２ｄ、および周辺電極２８を覆うように配置される。配向膜２９は、透明導電膜２７上には設けられていない。配向膜２９の材料は、例えば酸化ケイ素等であり、配向膜２９は例えば斜方蒸着により形成される。

【0017】

また、図１に示すように、第１基板２には、駆動回路１０と複数の外部端子１３とが配置される。駆動回路１０は、走査線駆動回路１１と信号線駆動回路１２とを含む。複数の外部端子１３の一部は、走査線駆動回路１１または信号線駆動回路１２から引き回される図示省略された配線に接続される。また、複数の外部端子１３は、定電位Ｖｃｏｍが印加させる端子を含む。

【0018】

図２に示すように、第２基板３は、第１基板２に対向する。第２基板３は、第２基部３１と、第２無機絶縁層３０と、対向電極３２と、配向膜３９と、見切り３８とを有する。第２基部３１、第２無機絶縁層３０、対向電極３２および配向膜３９は、この順にＺ２方向に積層される。

【0019】

図２に示す第２基部３１は、透光性および絶縁性を有する平板であり、例えばガラス基板または石英基板で構成される。第２無機絶縁層３０は、第２基部３１と液晶層５との間、および第２基部３１とシール部材４との間に配置される。第２無機絶縁層３０は、透光性および絶縁性を有しており、無機ケイ素材料を含む。無機ケイ素材料は、例えば酸化ケイ素および酸窒化ケイ素等のケイ素を含む無機化合物である。当該無機ケイ素材料には、ＢＳＧ膜およびＮＳＧ膜等が含まれる。また、第２無機絶縁層３０には、見切り３８が設けられる。見切り３８は、詳細な図示はしないが、平面視で複数の画素電極２２を囲む遮光性の見切りとして機能する。なお、「遮光性」とは、可視光に対する遮光性を意味し、好ましくは可視光の透過率が５０％未満であることをいい、より好ましくは１０％以下であることをいう。なお、図示はしないが、第２無機絶縁層３０は、例えば、複数のマイクロレンズを有してもよい。

【0020】

対向電極３２は、液晶層５に電界を与える。対向電極３２は、透光性および導電性を有する。対向電極３２は、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯおよびＦＴＯ等の透明導電材料を含む。配向膜３９は、透光性および絶縁性を有する。配向膜３９は、液晶層５に接触しており、液晶層５が有する液晶分子を配向させる。配向膜３９は、対向電極３２上に配置される。配向膜３９の材料は、例えば酸化ケイ素等であり、配向膜３９は例えば斜方蒸着により形成される。

【0021】

また、図１に示すように、第２基板３には、複数の基板間導通材６が設けられる。複数の基板間導通材６は、第１基板２との第２基板３とを電気的に接続するための導通材である。基板間導通材６は、第１基板２に配置される図示省略された引き回し配線を介して、複数の外部端子１３のうち定電位Ｖｃｏｍが印加させる端子に接続される。よって、対向電極３２には、定電位Ｖｃｏｍが印加させる。

【0022】

シール部材４は、第１基板２と第２基板３との間に配置される。シール部材４は、例えばエポキシ樹脂等のＵＶ硬化性材料を含む。ＵＶは、ultravioletの略称であり、特に、波長１００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の光をいう。また、シール部材４は、ガラス等の無機材料で構成されるギャップ材を含んでもよい。

【0023】

液晶層５は、第１基板２、第２基板３およびシール部材４によって囲まれる領域内に配置される。液晶層５は、電界に応じて光学的特性が変化する電気光学層である。液晶層５は、正または負の誘電異方性を有する液晶分子を含む。液晶分子の配向は、液晶層５に印加される電圧に応じて変化する。

【0024】

図１に示すように、電気光学装置１００は、表示領域Ａ１０と周辺領域Ａ２０とを有する。表示領域Ａ１０は、画像が表示される領域である。表示領域Ａ１０には、行列状に配列される複数の画素Ｐが設けられる。複数の画素Ｐに対して複数の画素電極２２が１対１で配置される。前述の対向電極３２は、複数の画素Ｐで共通に設けられる。

【0025】

周辺領域Ａ２０は、平面視で表示領域Ａ１０の外側に設けられる。周辺領域Ａ２０は、平面視で表示領域Ａ１０を囲む枠状である。周辺領域Ａ２０は、ダミー画素領域Ａ２１と、周辺電極領域Ａ２２と、シール領域Ａ２４とを含む。これら領域の各平面形状は、枠状である。ダミー画素領域Ａ２１には、複数のダミー画素電極２２ｄが配置される。周辺電極領域Ａ２２には、複数の周辺電極２８が配置される。シール領域Ａ２４には、シール部材４が配置される。したがって、シール部材４は、複数の画素電極２２の外側に設けられる。また、ダミー画素領域Ａ２１、および周辺電極領域Ａ２２には、見切り３８が配置される。また、周辺領域Ａ２０には、走査線駆動回路１１、信号線駆動回路１２および複数の外部端子１３が配置される。また、表示領域Ａ１０におけるまた第１基板２と第２基板３との間の距離、すなわちセルギャップは、例えば、２μｍ程度である。

【0026】

また、電気光学装置１００は、例えば、後述するパーソナルコンピューターおよびスマートフォン等のカラー表示を行う表示装置に適用される。当該表示装置に適用される場合、電気光学装置１００に対してカラーフィルターが適宜用いられる。また、電気光学装置１００は、例えば、後述する投射型のプロジェクターに適用される。この場合、電気光学装置１００は、ライトバルブとして機能する。なお、この場合、電気光学装置１００に対してカラーフィルターが省略される。

【0027】

Ａ－２．第１基板２の電気的な構成
図３は、図１の第１基板２の電気的な構成を示す等価回路図である。図３に示すように、第１基板２は、複数のトランジスター２３とｎ本の走査線２４１とｍ本の信号線２４２とｎ本の定電位線２４３とを有する。これらは、図２の第１無機絶縁層２０に配置される。ｎおよびｍはそれぞれ２以上の整数である。また、ｎ本の走査線２４１とｍ本の信号線２４２との各交差に対応してトランジスター２３が配置される。各トランジスター２３は、例えばスイッチング素子として機能するＴＦＴ（Thin Film Transistor）である。各トランジスター２３は、ゲート、ソースおよびドレインを含む。

【0028】

ｎ本の走査線２４１のそれぞれはＸ１方向に延在し、ｎ本の走査線２４１はＹ１方向に等間隔で並ぶ。ｎ本の走査線２４１のそれぞれは、対応する複数のトランジスター２３のゲートに電気的に接続される。ｎ本の走査線２４１は、図１に示す走査線駆動回路１１に電気的に接続される。１～ｎ本の走査線２４１には、走査線駆動回路１１から走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、およびＧｎが線順次で供給される。

【0029】

図３に示すｍ本の信号線２４２のそれぞれはＹ１方向に延在し、ｍ本の信号線２４２はＸ１方向に等間隔で並ぶ。ｍ本の信号線２４２のそれぞれは、対応する複数のトランジスター２３のソースに電気的に接続される。ｍ本の信号線２４２は、図１に示す信号線駆動回路１２に電気的に接続される。１～ｍ本の信号線２４２には、信号線駆動回路１２から画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、およびＳｍが並行に供給される。

【0030】

図３に示すｎ本の走査線２４１とｍ本の信号線２４２とは、互いに電気的に絶縁されており、平面視で格子状に配置される。隣り合う２つの走査線２４１と隣り合う２つの信号線２４２とで囲まれる領域が画素Ｐに対応する。画素Ｐごとにトランジスター２３、画素電極２２および蓄積容量２４が設けられる。画素電極２２は、トランジスター２３に対して１対１で設けられる。各画素電極２２は、対応するトランジスター２３のドレインに電気的に接続される。

【0031】

ｎ本の定電位線２４３のそれぞれはＸ１方向に延在し、ｎ本の定電位線２４３はＹ１方向に等間隔で並ぶ。また、ｎ本の定電位線２４３は、ｎ本の走査線２４１およびｍ本の信号線２４２に対して電気的に絶縁されており、これらに対して間隔をもって配置される。各定電位線２４３には、定電位Ｖｃｏｍが印加される。ｎ本の定電位線２４３のそれぞれは、対応する蓄積容量２４が有する２つの電極のうちの一方に電気的に接続される。各蓄積容量２４は、画素電極２２の電位を保持するための保持容量である。蓄積容量２４は、トランジスター２３に対して１対１で設けられる。また、各蓄積容量２４が有する２つの電極のうちの他方は、対応する画素電極２２に電気的に接続される。したがって、蓄積容量２４の一方の電極には定電位Ｖｃｏｍが印加され、他方の電極はトランジスター２３のドレインに電気的に接続される。

【0032】

走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、およびＧｎが順次アクティブとなり、ｎ本の走査線２４１が順次選択されると、選択される走査線２４１に接続されるトランジスター２３がオン状態となる。すると、ｍ本の信号線２４２を介して表示すべき階調に応じた大きさの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、およびＳｍの応じた電位が、選択される走査線２４１に対応する画素Ｐの画素電極２２に印加される。これにより、画素電極２２と対向電極３２との間に形成される液晶容量に、表示すべき階調に応じた電圧が印加され、印加される電圧に応じて液晶分子の配向が変化する。また、蓄積容量２４によって、印加される電圧が保持される。このような液晶分子の配向の変化によって光が変調され階調表示が可能となる。

【0033】

１Ｃ．周辺領域Ａ２０
図４は、図２の電気光学装置１００の一部を拡大した図である。図４には、電気光学装置１００の周辺領域Ａ２０の一部が示されている。図５は、図４の複数の第１凹部２５の平面的な配置を示す図である。なお、図２では、周辺領域Ａ２０の構成を簡略化している。

【0034】

図４および図５に示すように、第１基板２は、複数の第１凹部２５を有する。各第１凹部２５は、第１基板２の液晶層５を向く面に形成される凹みである。複数の第１凹部２５は、周辺領域Ａ２０のうちのシール領域Ａ２４に設けられる。よって、複数の第１凹部２５は、平面視でシール部材４に重なる。また、各第１凹部２５は、シール部材４の内縁に沿って形成される枠状の溝である。複数の第１凹部２５は、互いに離間し、表示領域Ａ１０から外側に向かって並ぶ。なお、本実施形態では、複数の第１凹部２５は、等間隔で並ぶが、等間隔で並んでいなくてもよい。

【0035】

第１無機絶縁層２０は、複数の第３凹部２０１を有する。複数の第３凹部２０１は、複数の第１凹部２５に対応する。複数の第３凹部２０１は、第１無機絶縁層２０の液晶層５を向く面に形成される凹みである。

【0036】

第１無機絶縁層２０上には、透明導電膜２７が配置される。透明導電膜２７は、第１無機絶縁層２０とシール部材４との間に配置され、第１無機絶縁層２０およびシール部材４に接触する。透明導電膜２７は、複数の第３凹部２０１に沿って配置され、複数の第３凹部２０１に接触する。透明導電膜２７は、複数の第３凹部２０１に沿った複数の凹部を有する。本実施形態では、当該複数の凹部が、複数の第１凹部２５に相当する。また、透明導電膜２７は、平面視で、枠状であり、シール部材４に重なる。

【0037】

第２基板３は、平板部３００と複数の第１凸部３５とを有する。平板部３００は、第２基板３のうち平板状の部分であり、第２基部３１と第２無機絶縁層３０の一部とで構成される。各第１凸部３５は、平板部３００からシール部材４に向かって突出する突起である。また、複数の第１凸部３５は、周辺領域Ａ２０のうちのシール領域Ａ２４に設けられる。よって、複数の第１凸部３５は、平面視でシール部材４に重なる。各第１凸部３５は、シール部材４の内縁に沿って形成される枠状の突起である。複数の第１凸部３５は、互いに離間し、表示領域Ａ１０から外側に向かって並ぶ。なお、本実施形態では、複数の第１凸部３５は、等間隔で並ぶが、等間隔で並んでいなくてもよい。

【0038】

第２無機絶縁層３０は、複数の第３凸部３０１を有する。複数の第３凸部３０１は、複数の第１凸部３５に対応する。複数の第３凸部３０１は、第２無機絶縁層３０のうちの平板状の部分からシール部材４に向かって突出する突起である。

【0039】

第２無機絶縁層３０上には、対向電極３２が配置される。対向電極３２は、第２無機絶縁層３０とシール部材４との間に配置される部分を有し、第２無機絶縁層３０およびシール部材４に接触する。対向電極３２の一部は、複数の第３凸部３０１に沿って配置され、複数の第３凸部３０１に接触する。本実施形態では、複数の第３凸部３０１と、対向電極３２のうち複数の第３凸部３０１に沿って設けられる部分とで、複数の第１凸部３５が構成される。

【0040】

前述の複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とは、シール部材４に接触し、シール部材４を介して互いに噛み合う。複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とは、１対１で設けられており、１つの第１凹部２５内には１つの第１凸部３５が設けられている。別の言い方をすれば、複数の第１凹部２５内に複数の第１凸部３５に設けられ、複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とは互いに対向している。また、別の見方をすると、複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とは、互いに組み合わされており、矩形波形状をなす。複数の第１凸部３５は複数の第１凹部２５にはめ込まれており、複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とは、ジグザグに対向している。

【0041】

図６は、比較例における外部から表示領域Ａ１０への水分の浸入経路Ｒｘを示す図である。図７は、本実施形態における外部から表示領域Ａ１０への水分の浸入経路Ｒを示す図である。

【0042】

図７に示す本実施形態の電気光学装置１００では、複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とが噛み合わせている。これに対し、図６に示す比較例の電気光学装置１００ｘは、複数の第１凹部２５および複数の第１凸部３５を有していない。電気光学装置１００ｘが有する第１基板２ｘの液晶層５を向く面は、一様に平坦である。電気光学装置１００ｘが有する第２基板３ｘの液晶層５を向く面は、一様に平坦である。

【0043】

図６に示すように、外部の水分は、第１基板２ｘと第２基板３ｘとの間のシール部材４を介して表示領域Ａ１０に浸入する。比較例では、外部から表示領域Ａ１０への水分の浸入経路Ｒｘは、一直線状である。一方、図７に示すように、本実施形態では、複数の第１凹部２５および複数の第１凸部３５が設けられていることで、外部から表示領域Ａ１０への水分の浸入経路Ｒは、一直線状ではない。浸入経路Ｒは、浸入経路Ｒｘに比べて長くなっている。

【0044】

図６および図７から分かるように、本実施形態によれば、比較例に比べて外部から表示領域Ａ１０までの経路を長くすることができる。すなわち、複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とがシール部材４を介して噛み合わされることで、２つの平坦面同士がシール部材４を介して接続される場合に比べ、水分の浸入経路を長くすることができる。このため、シール部材４の内部を介して外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれを抑制することができる。また、本実施形態では、複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とがシール部材４を介して噛み合わされることで、シール部材４と第１基板２との界面、およびシール部材４と第２基板３との界面を介して外部の水分が表示領域Ａ１０５に浸入するおそれを抑制することができる。よって、外部の水分が液晶層５の表示領域Ａ１０に浸入するおそれを抑制することができる。この結果、角シミの発生、液晶分子の配向不良、または比抵抗低下による表示ムラが発生するおそれが抑制される。よって、表示品位の低下を抑制することができる。

【0045】

さらに、複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とが噛み合わされることで、複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とが噛み合っていない場合に比べ、シール領域Ａ２４における第１基板２と第２基板３との間の距離を短くすることができる。よって、外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれを抑制することができる。

【0046】

また、第１基板２は、１つの第１凹部２５ではなく、複数の第１凹部２５を有する。同様に、第２基板３は、１つの第１凸部３５ではなく、複数の第１凸部３５を有する。そして、複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とがシール部材４を介して噛み合わされている。複数の第１凹部２５および複数の第１凸部３５が設けられることで、１個の第１凹部２５および１個の第１凸部３５が設けられる場合に比べ、水分の浸入経路を長くすることができる。よって、外部の水分が液晶層５の表示領域Ａ１０に浸入するおそれをより効果的に抑制することができる。

【0047】

本実施形態では、複数の第１凹部２５として４個の第１凹部２５が設けられるが、第１凹部２５の数は、４に限定されず、２、３または５以上でもよい。複数の第１凸部３５として４個の第１凸部３５が設けられるが、第１凸部３５の数は、４に限定されず、２、３または５以上でもよい。外部の水分の液晶層５への浸入を抑制する観点から、第１凹部２５の数、および第１凸部３５の数は出来るだけ多い方がよい。水分の浸入の抑制と製造の容易性の観点から、第１凹部２５の数、および第１凸部３５の数は、それぞれ、例えば、１０個以上１００個以下であることが特に好ましい。

【0048】

また、図５に示すように、各第１凹部２５は、平面視でシール部材４の内縁に沿って枠状に設けられる溝である。同様に、各第１凸部３５は、平面視でシール部材４の内縁に枠状に沿って設けられる突起である。このため、電気光学装置１００の全周において外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入し難い。よって、液晶分子の配向不良等の各種問題が生じ難い。

【0049】

なお、各第１凹部２５および各第１凸部３５は枠状でなくてもよい。複数の第１凹部２５は例えば点在していてもよい。同様に、複数の第１凸部３５は例えば点在していてもよい。

【0050】

また、前述のように、第１無機絶縁層２０には、複数の第１凹部２５に対応する複数の第３凹部２０１が設けられる。第２無機絶縁層３０には、複数の第１凸部３５に対応する複数の第３凸部３０１が設けられる。第１無機絶縁層２０および第２無機絶縁層３０のそれぞれは、無機ケイ素材料を含む。無機ケイ素材料を含む第１無機絶縁層２０および第２無機絶縁層３０は、厚さを厚く形成し易い。特に、厚さを厚く形成し易く、かつ透光性の観点から、酸化ケイ素および酸窒化ケイ素等の酸素を含む無機ケイ素材料であることが好ましい。このため、図４に示す各第３凹部２０１の深さ、および各第３凸部３０１の高さのそれぞれを大きくし易い。よって、各第１凹部２５の深さＤ、および各第１凸部３５の高さＴを大きくすることが容易である。深さＤおよび高さＴを大きくすることで、水分の浸入経路Ｒを長くすることができる。

【0051】

深さＤおよび高さＴのそれぞれは、特に限定されないが、例えば、２μｍ以上８μｍ以下であることが好ましい。シール部材４の厚み以上であり、かつ、複数の画素電極２２または対向電極３２とこれらよりも下層の各種配線との導通を図るためのコンタクトホールの加工制約により、上記範囲内であることが好ましい。また、深さＤおよび高さＴは、同じであってもよいし、互いに異なっていてもよい。

【0052】

また、複数の第１凹部２５と複数の第１凸部３５とがシール部材４を介して噛み合わされているため、各第１凹部２５の幅Ｗ１は、各第１凸部３５の幅Ｗ２よりも大きい。幅Ｗ１と幅Ｗ２とを?み合わせた時の片側の隙間はシール部材４を構成する材料、例えばシール部材４に含まれるギャップ材の最大径よりも大きくするのが望ましい。つまり、幅Ｗ１は幅Ｗ２と使用するギャップ材の径×２を足した値以上の大きさであることが望ましい。かかる範囲内であることで、範囲外である場合に比べ、電気光学装置１００の平面積を過度に厚くせず、かつ多くの第１凹部２５および第１凸部３５を設けることができるので水分の浸入経路Ｒを長くすることができる。

【0053】

以上説明したように、電気光学装置１００によれば、複数の第１凹部２５および複数の第１凸部３５を有するため、外部の水分が液晶層５に浸入するおそれを抑制することができる。よって、角シミの発生、液晶分子の配向不良、または比抵抗低下による表示ムラが発生するおそれが抑制される。それゆえ、表示品位の低下を抑制することができる。

【0054】

Ｂ．第２実施形態
第２実施形態を説明する。なお、以下の各例示において機能が第１実施形態と同様である要素については、第１実施形態の説明で使用した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。

【0055】

図８は、第２実施形態の電気光学装置１００Ａの一部を断面図である。本実施形態の電気光学装置１００Ａは、第１基板２Ａが複数の第１凸部２６を有し、第２基板３Ａが複数の第１凹部３６を有することが第１実施形態の電気光学装置１００と主に異なる。

【0056】

図８に示すように、第１基板２Ａは、平板部２００と複数の第１凸部２６とを有する。平板部２００は、第１基板２Ａのうち平板状の部分であり、第１基部２１と第１無機絶縁層２０Ａの一部とで構成される。各第１凸部２６は、平板部２００からシール部材４に向かって突出する突起である。また、複数の第１凸部２６は、周辺領域Ａ２０のうちのシール領域Ａ２４に設けられる。よって、複数の第１凸部２６は、平面視でシール部材４に重なる。各第１凸部２６は、シール部材４の内縁に沿って形成される枠状の突起である。複数の第１凸部２６は、互いに離間し、表示領域Ａ１０から外側に向かって並ぶ。なお、本実施形態では、複数の第１凸部２６は、等間隔で並ぶが、等間隔で並んでいなくてもよい。

【0057】

第１無機絶縁層２０Ａは、複数の第３凸部２０２を有する。複数の第３凸部２０２は、複数の第１凸部２６に対応する。複数の第３凸部２０２は、第１無機絶縁層２０Ａのうちの平板状の部分からシール部材４に向かって突出する突起である。

【0058】

第１無機絶縁層２０Ａ上には、透明導電膜２７Ａが配置される。透明導電膜２７Ａは、複数の第３凸部２０２に沿って配置され、複数の第３凸部２０２に接触する。本実施形態では、複数の第３凸部２０２と透明導電膜２７Ａとで、複数の第１凸部２６が構成される。

【0059】

第２基板３Ａは、複数の第１凹部３６を有する。各第１凹部３６は、第２基板３Ａのシール部材４を向く面に形成される凹みである。複数の第１凹部３６は、周辺領域Ａ２０のうちのシール領域Ａ２４に設けられる。よって、複数の第１凹部３６は、平面視でシール部材４に重なる。また、各第１凹部３６は、シール部材４の内縁に沿って形成される枠状の溝である。複数の第１凹部３６は、互いに離間し、表示領域Ａ１０から外側に向かって並ぶ。なお、本実施形態では、複数の第１凹部３６は、等間隔で並ぶが、等間隔で並んでいなくてもよい。

【0060】

第２無機絶縁層３０Ａは、複数の第３凹部３０２を有する。複数の第３凹部３０２は、複数の第１凹部３６に対応する。複数の第３凹部３０２は、第２無機絶縁層３０Ａの液晶層５を向く面に形成される凹みである。

【0061】

第２無機絶縁層３０Ａ上には、対向電極３２Ａが配置される。対向電極３２Ａの一部は、複数の第３凹部３０２に沿って配置され、複数の第３凹部３０２に接触する。対向電極３２Ａは、複数の第３凹部３０２に沿った複数の凹部を有する。本実施形態では、当該複数の凹部が、複数の第１凹部３６に相当する。

【0062】

前述の複数の第１凸部２６と複数の第１凹部３６とは、シール部材４に接触し、シール部材４を介して互いに噛み合う。複数の第１凸部２６と複数の第１凹部３６とは、１対１で設けられており、１つの第１凹部３６内には１つの第１凸部２６が設けられている。別の言い方をすれば、複数の第１凹部３６内に複数の第１凸部２６に設けられ、複数の第１凹部３６と複数の第１凸部２６とは互いに対向している。

【0063】

本実施形態によれば、複数の第１凸部２６と複数の第１凹部３６とがシール部材４を介して噛み合わされることで、２つの平坦面同士がシール部材４を介して接続される場合に比べ、水分の浸入経路を長くすることができる。このため、シール部材４の内部を介して外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれを抑制することができる。また、本実施形態では、複数の第１凸部２６と複数の第１凹部３６とがシール部材４を介して噛み合わされることで、シール部材４と第１基板２Ａとの界面、およびシール部材４と第２基板３Ａとの界面を介して外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれを抑制することができる。よって、外部の水分が液晶層５の表示領域Ａ１０に浸入するおそれを抑制することができる。この結果、角シミの発生、液晶分子の配向不良、または比抵抗低下による表示ムラが発生するおそれが抑制される。よって、表示品位の低下を抑制することができる。

【0064】

さらに、複数の第１凸部２６と複数の第１凹部３６とが噛み合わされることで、複数の第１凸部２６と複数の第１凹部３６とが噛み合っていない場合に比べ、シール領域Ａ２４における第１基板２Ａと第２基板３Ａとの間の距離を短くすることができる。よって、外部の水分が液晶層５に浸入するおそれを抑制することができる。

【0065】

また、第１基板２は、１つの第１凸部２６ではなく、複数の第１凸部２６を有する。同様に、第２基板３は、１つの第１凹部３６ではなく、複数の第１凹部３６を有する。そして、複数の第１凸部２６と複数の第１凹部３６とがシール部材４を介して噛み合わされている。複数の第１凸部２６および複数の第１凹部３６が設けられることで、１個の第１凸部２６および１個の第１凹部３６が設けられる場合に比べ、水分の浸入経路Ｒを長くすることができる。よって、外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれをより効果的に抑制することができる。

【0066】

本実施形態では、複数の第１凸部２６として４個の第１凸部２６が設けられるが、第１凸部２６の数は、４に限定されず、２、３または５以上でもよい。複数の第１凹部３６として４個の第１凹部３６が設けられるが、第１凹部３６の数は、４に限定されず、２、３または５以上でもよい。外部の水分の表示領域Ａ１０への浸入を抑制する観点から、第１凸部２６の数、および第１凹部３６の数は出来るだけ多い方がよい。水分の浸入の抑制と製造の容易性の観点から、第１凸部２６の数、および第１凹部３６の数は、それぞれ、例えば、１０個以上１００個以下であることが特に好ましい。

【0067】

また、各第１凸部２６は、平面視でシール部材４の内縁に沿って枠状に設けられる突起である。同様に、各第１凹部３６は、平面視でシール部材４の内縁に枠状に沿って設けられる溝である。このため、電気光学装置１００Ａの全周において外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入し難い。よって、液晶分子の配向不良等の各種問題が生じ難い。

【0068】

なお、各第１凸部２６および各第１凹部３６は枠状でなくてもよい。複数の第１凸部２６は例えば点在していてもよい。同様に、複数の第１凹部３６は例えば点在していてもよい。

【0069】

また、第１凸部２６の高さＴの具体的な数値は、第１実施形態の第１凸部３５の高さＴと同様である。また、第１凹部３６の深さＤの具体的な数値は、第１実施形態の第１凹部２５の深さＤと同様である。また、複数の第１凹部３６と複数の第１凸部２６とがシール部材４を介して噛み合わされているため、各第１凹部３６の幅Ｗ１は、各第１凸部２６の幅Ｗ２よりも大きい。第１凹部３６の幅Ｗ１の具体的な数値は、第１実施形態の第１凹部２５の幅Ｗ１と同様である。また、第１凸部２６の幅Ｗ２の具体的な数値は、第１実施形態の第１凸部３５の幅Ｗ２と同様である。

【0070】

また、前述のように、第１無機絶縁層２０Ａには、複数の第１凸部２６に対応する複数の第３凸部２０２が設けられる。第２無機絶縁層３０Ａには、複数の第１凹部３６に対応する複数の第３凹部３０２が設けられる。第１無機絶縁層２０Ａおよび第２無機絶縁層３０Ａのそれぞれは、無機ケイ素材料を含む。無機ケイ素材料を含む第１無機絶縁層２０Ａおよび第２無機絶縁層３０Ａは、厚さを厚く形成し易い。このため、各第３凸部２０２の高さ、および各第３凹部３０２の深さのそれぞれを大きくし易い。よって、各第１凸部２６の高さＴ、および各第１凹部３６の深さＤを大きくすることが容易である。深さＤおよび高さＴを大きくすることで、水分の浸入経路Ｒを長くすることができる。

【0071】

以上説明したように、電気光学装置１００Ａによれば、複数の第１凸部２６および複数の第１凹部３６を有するため、外部の水分が液晶層５の表示領域Ａ１０に浸入するおそれを抑制することができる。よって、角シミの発生、液晶分子の配向不良、または比抵抗低下による表示ムラが発生するおそれが抑制される。それゆえ、表示品位の低下を抑制することができる。

【0072】

Ｃ．第３実施形態
第３実施形態を説明する。なお、以下の各例示において機能が第１実施形態と同様である要素については、第１実施形態の説明で使用した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。

【0073】

図９は、第３実施形態の電気光学装置１００Ｂの一部を示す断面図である。図１０は、図９の複数の第１凹部２５および複数の第２凹部２５０の平面的な配置を示す図である。本実施形態では、複数の第２凹部２５０および複数の第２凸部３５０が設けられることが第１実施形態と異なる。

【0074】

図９および図１０に示すように、第１基板２Ｂは、複数の第２凹部２５０を有する。各第２凹部２５０は、第１基板２の液晶層５を向く面に形成される凹みである。複数の第２凹部２５０は、平面視で、複数の第１凹部２５の内側に配置されており、複数の第１凹部２５と表示領域Ａ１０との間に配置される。複数の第２凹部２５０は、平面視で、シール部材４と重ならず、シール部材４よりも内側に配置される。また、各第２凹部２５０は、シール部材４の内縁に沿って形成される枠状の溝である。複数の第２凹部２５０は、互いに離間し、表示領域Ａ１０から外側に向かって並ぶ。なお、本実施形態では、複数の第２凹部２５０は、等間隔で並ぶが、等間隔で並んでいなくてもよい。

【0075】

第１無機絶縁層２０Ｂは、複数の凹部２０３を有する。複数の凹部２０３は、複数の第２凹部２５０に対応する。複数の凹部２０３は、第１無機絶縁層２０Ｂの液晶層５を向く面に形成される凹みである。

【0076】

第１無機絶縁層２０Ｂ上には、透明導電膜２７Ｂが配置される。透明導電膜２７Ｂは、複数の第３凹部２０１および複数の凹部２０３に沿って配置され、複数の第３凹部２０１および複数の凹部２０３に接触する。透明導電膜２７Ｂは、複数の凹部２０３に沿った複数の凹部を有する。本実施形態では、当該複数の凹部が、複数の第２凹部２５０に相当する。なお、本実施形態では、周辺電極２８は省略される。透明導電膜２７Ｂは、イオントラップ用の電極としての機能を有する。

【0077】

第２基板３Ｂは、複数の第２凸部３５０を有する。各第２凸部３５０は、平板部３００から液晶層５に向かって突出する突起である。また、複数の第２凸部３５０は、平面視で、複数の第１凸部３５の内側に配置されており、複数の第１凸部３５と表示領域Ａ１０との間に配置される。複数の第２凸部３５０は、平面視で、シール部材４と重ならず、シール部材４の内側に配置される。各第２凸部３５０は、シール部材４の内縁に沿って形成される枠状の突起である。複数の第２凸部３５０は、互いに離間し、表示領域Ａ１０から外側に向かって並ぶ。なお、本実施形態では、複数の第２凸部３５０は、等間隔で並ぶが、等間隔で並んでいなくてもよい。

【0078】

第２無機絶縁層３０Ｂは、複数の凸部３０３を有する。複数の凸部３０３は、複数の第２凸部３５０に対応する。複数の凸部３０３は、第２無機絶縁層３０Ｂのうちの平板状の部分から液晶層５に向かって突出する突起である。

【0079】

第２無機絶縁層３０Ｂ上には、対向電極３２Ｂが配置される。対向電極３２Ｂの一部は、複数の第３凸部３０１および複数の凸部３０３に沿って配置され、複数の第３凸部３０１および複数の凸部３０３に接触する。本実施形態では、複数の凸部３０３と、対向電極３２Ｂのうち複数の凸部３０３に沿って設けられる部分とで、複数の第２凸部３５０が構成される。

【0080】

前述の複数の第２凹部２５０と複数の第２凸部３５０とは、液晶層５に接触し、液晶層５を介して互いに噛み合う。複数の第２凹部２５０と複数の第２凸部３５０とは、１対１で設けられており、１つの第２凹部２５０内には１つの第２凸部３５０が設けられている。別の言い方をすれば、複数の第２凹部２５０内に複数の第２凸部３５０に設けられ、複数の第２凹部２５０と複数の第２凸部３５０とは互いに対向している。

【0081】

本実施形態では、複数の第２凹部２５０と複数の第２凸部３５０とが設けられていることで、これらが設けられていない場合に比べ、水分の浸入経路をより長くすることができる。このため、シール部材４の内部を介して外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれをより効果的に抑制することができる。また、シール部材４と第１基板２Ｂとの界面、およびシール部材４と第２基板３Ｂとの界面を介して外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれをより効果的に抑制することができる。よって、外部の水分が液晶層５の表示領域Ａ１０に浸入するおそれを抑制することができる。この結果、角シミの発生、液晶分子の配向不良、または比抵抗低下による表示ムラが発生するおそれが抑制される。よって、表示品位の低下を抑制することができる。

【0082】

さらに、複数の第２凹部２５０と複数の第２凸部３５０とが噛み合わされることで、複数の第２凹部２５０と複数の第２凸部３５０とが噛み合っていない場合に比べ、外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれを抑制することができる。

【0083】

また、第１基板２Ｂは、１つの第２凹部２５０ではなく、複数の第２凹部２５０を有する。同様に、第２基板３Ｂは、１つの第２凸部３５０ではなく、複数の第２凸部３５０を有する。そして、複数の第２凹部２５０と複数の第２凸部３５０とが液晶層５の一部を介して噛み合わされている。複数の第２凹部２５０および複数の第２凸部３５０が設けられることで、１個の第２凹部２５０および１個の第２凸部３５０が設けられる場合に比べ、水分の浸入経路を長くすることができる。よって、外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれをより抑制することができる。また、複数の第２凹部２５０および複数の第２凸部３５０が設けられることで、シール部材４から表示領域Ａ１０までの距離を長くすることができる。よって、シール部材４から液晶層５中に溶出する不純物が表示領域Ａ１０に到達することを防ぎ、この結果、シミやムラを抑制することができる。

【0084】

本実施形態では、複数の第２凹部２５０として２個の第２凹部２５０が設けられるが、第２凹部２５０の数は、２に限定されず、３以上でもよい。同様に、複数の第２凸部３５０として２個の第２凸部３５０が設けられるが、第２凸部３５０の数は、２に限定されず、３以上でもよい。外部の水分の表示領域Ａ１０への浸入を抑制する観点から、第２凹部２５０の数、および第２凸部３５０の数は出来るだけ多い方がよい。水分の浸入の抑制と製造の容易性の観点から、第２凹部２５０の数、および第２凸部３５０の数は、それぞれ、例えば、１０個以上５０個以下であることが特に好ましい。

【0085】

図示の例では、第２凹部２５０の数は、第１凹部２５の数よりも少ないが、第１凹部２５の数以上でもよい。同様に、第２凸部３５０の数は、第１凸部３５の数よりも少ないが、第１凸部３５の数以上でもよい。ただし、表示領域Ａ１０の平面積が過度に狭くならず、かつ、シール部材４の幅が過度に小さくならないよう、第２凹部２５０の数は、第１凹部２５の数よりも少ないことが好ましい。同様の観点から、第２凸部３５０の数は、第１凸部３５の数よりも少ないことが好ましい。

【0086】

また、前述のように、各第２凹部２５０は、平面視でシール部材４の内縁に沿って枠状に設けられる溝である。同様に、各第２凸部３５０は、平面視でシール部材４の内縁に枠状に沿って設けられる突起である。このため、電気光学装置１００Ｂの全周において外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入し難い。よって、液晶分子の配向不良等の各種問題が生じ難い。

【0087】

なお、各第２凹部２５０および各第２凸部３５０は枠状でなくてもよい。複数の第２凹部２５０は例えば点在していてもよい。同様に、複数の第２凸部３５０は例えば点在していてもよい。

【0088】

図示の例では、第２凹部２５０の幅は、第１凹部２５の幅Ｗ１よりも小さいが、幅Ｗ１以上でもよい。第２凸部３５０の幅は、第１凸部３５の幅Ｗ２よりも小さいが、幅Ｗ２以上でもよい。第２凹部２５０の深さは、第１凹部２５の深さＤと同じであるが、深さＤよりも大きくても小さくてもよい。第２凸部３５０の高さは、第１凸部３５の高さＴと同じであるが、高さＴよりも大きくても小さくてもよい。

【0089】

以上説明したように、本実施形態の電気光学装置１００Ｂによれば、第１実施形態の電気光学装置１００に比べ、外部の水分が液晶層５の表示領域Ａ１０に浸入するおそれをより抑制することができる。それゆえ、表示品位の低下をより抑制することができる。

【0090】

Ｄ．第４実施形態
第４実施形態を説明する。なお、以下の各例示において機能が第２実施形態と同様である要素については、第２実施形態の説明で使用した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。

【0091】

図１１は、第４実施形態の電気光学装置１００Ｃの一部を示す断面図である。本実施形態では、複数の第２凸部２６０および複数の第２凹部３６０が設けられることが第２実施形態と異なる。

【0092】

図１１に示すように、第１基板２Ｃは、複数の第２凸部２６０を有する。各第２凸部２６０は、平板部２００からシール部材４に向かって突出する突起である。また、複数の第２凸部２６０は、平面視で、複数の第１凸部２６の内側に配置されており、複数の第１凸部２６と表示領域Ａ１０との間に配置される。複数の第２凸部２６０は、平面視で、シール部材４とは重なっておらず、シール部材４の内側に配置される。各第２凸部２６０は、シール部材４の内縁に沿って形成される枠状の突起である。複数の第２凸部２６０は、互いに離間し、表示領域Ａ１０から外側に向かって並ぶ。なお、本実施形態では、複数の第２凸部２６０は、等間隔で並ぶが、等間隔で並んでいなくてもよい。

【0093】

第１無機絶縁層２０Ｃは、複数の凸部２０４を有する。複数の凸部２０４は、複数の第２凸部２６０に対応する。複数の凸部２０４は、第１無機絶縁層２０Ｃのうちの平板状の部分からシール部材４に向かって突出する突起である。

【0094】

第１無機絶縁層２０Ｃ上には、透明導電膜２７Ｃが配置される。透明導電膜２７Ａは、複数の第３凸部２０２および複数の凸部２０４に沿って配置され、複数の第３凸部２０２および複数の凸部２０４に接触する。本実施形態では、複数の凸部２０４と透明導電膜２７Ｃの一部とで、複数の第２凸部２６０が構成される。なお、本実施形態では、周辺電極２８は省略される。透明導電膜２７Ｃは、イオントラップ用の電極としての機能を有する。

【0095】

第２基板３Ｃは、複数の第２凹部３６０を有する。各第２凹部３６０は、第２基板３Ｃの液晶層５を向く面に形成される突起である。複数の第２凹部３６０は、平面視で、複数の第１凹部３６の内側に配置されており、複数の第１凹部３６と表示領域Ａ１０との間に配置される。複数の第２凹部３６０は、平面視で、シール部材４と重なっておらず、シール部材４の内側に配置される。また、各第２凹部３６０は、シール部材４の内縁に沿って形成される枠状の溝である。複数の第２凹部３６０は、互いに離間し、表示領域Ａ１０から外側に向かって並ぶ。なお、本実施形態では、複数の第２凹部３６０は、等間隔で並ぶが、等間隔で並んでいなくてもよい。

【0096】

第２無機絶縁層３０Ｃは、複数の凹部３０４を有する。複数の凹部３０４は、複数の第２凹部３６０に対応する。複数の凹部３０４は、第２無機絶縁層３０Ｃの液晶層５を向く面に形成される凹みである。

【0097】

第２無機絶縁層３０Ｃ上には、対向電極３２Ｃが配置される。対向電極３２Ｃの一部は、複数の第３凹部３０２および複数の凹部３０４に沿って配置され、複数の第３凹部３０２および複数の凹部３０４に接触する。対向電極３２Ｃは、複数の凹部３０４に沿った複数の凹部を有する。本実施形態では、当該複数の凹部が、複数の第２凹部３６０に相当する。

【0098】

前述の複数の第２凸部２６０と複数の第２凹部３６０とは、シール部材４に接触し、液晶層５を介して互いに噛み合う。複数の第２凸部２６０と複数の第２凹部３６０とは、１対１で設けられており、１つの第２凹部３６０内には１つの第２凸部２６０が設けられている。別の言い方をすれば、複数の第２凹部３６０内に複数の第２凸部２６０に設けられ、複数の第２凹部３６０と複数の第２凸部２６０とは互いに対向している。

【0099】

本実施形態では、複数の第２凸部２６０と複数の第２凹部３６０とが設けられていることで、これらが設けられていない場合に比べ、水分の浸入経路をより長くすることができる。このため、シール部材４の内部を介して外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれをより効果的に抑制することができる。また、シール部材４と第１基板２Ｃとの界面、およびシール部材４と第２基板３Ｃとの界面を介して外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれをより効果的に抑制することができる。よって、外部の水分が液晶層５の表示領域Ａ１０に浸入するおそれを抑制することができる。この結果、角シミの発生、液晶分子の配向不良、または比抵抗低下による表示ムラが発生するおそれが抑制される。よって、表示品位の低下を抑制することができる。

【0100】

さらに、複数の第２凸部２６０と複数の第２凹部３６０とが噛み合わされることで、複数の第２凸部２６０と複数の第２凹部３６０とが噛み合っていない場合に比べ、外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれを抑制することができる。

【0101】

また、第１基板２Ｃは、１つの第２凸部２６０ではなく、複数の第２凸部２６０を有する。同様に、第２基板３Ｃは、１つの第２凹部３６０ではなく、複数の第２凹部３６０を有する。そして、複数の第２凸部２６０と複数の第２凹部３６０とが液晶層５の一部を介して噛み合わされている。複数の第２凸部２６０と複数の第２凹部３６０とが設けられることで、１個の第２凸部２６０および１個の第２凹部３６０が設けられる場合に比べ、水分の浸入経路を長くすることができる。よって、外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入するおそれをより抑制することができる。また、複数の第２凸部２６０と複数の第２凹部３６０とが設けられることで、シール部材４から表示領域Ａ１０までの距離を長くすることができる。よって、シール部材４から液晶層５中に溶出する不純物が表示領域Ａ１０に到達することを防ぎ、この結果、シミやムラを抑制することができる。

【0102】

本実施形態では、複数の第２凸部２６０として２個の第２凸部２６０が設けられるが、第２凸部２６０の数は、２に限定されず、３以上でもよい。複数の第２凹部３６０として２個の第２凹部３６０が設けられるが、第２凹部３６０の数は、２に限定されず、３以上でもよい。外部の水分の液晶層５への浸入を抑制する観点から、第２凸部２６０の数、および第２凹部３６０の数は出来るだけ多い方がよい。水分の浸入の抑制と製造の容易性の観点から、第２凸部２６０の数、および第２凹部３６０の数は、それぞれ、例えば、１０個以上５０個以下であることが特に好ましい。

【0103】

図示の例では、第２凸部２６０の数は、第１凸部２６の数よりも少ないが、第１凸部２６の数以上でもよい。同様に、第２凹部３６０の数は、第１凹部３６の数よりも少ないが、第１凹部３６の数以上でもよい。ただし、表示領域Ａ１０の平面積が過度に狭くならず、かつ、シール部材４の幅が過度に小さくならないよう、第２凸部２６０の数は、第１凸部２６の数よりも少ないことが好ましい。同様の観点から、第２凹部３６０の数は、第１凹部３６の数よりも少ないことが好ましい。

【0104】

また、前述のように、各第２凸部２６０は、平面視でシール部材４の内縁に沿って枠状に設けられる突起である。同様に、各第２凹部３６０は、平面視でシール部材４の内縁に枠状に沿って設けられる溝である。このため、電気光学装置１００Ｃの全周において外部の水分が表示領域Ａ１０に浸入し難い。よって、液晶分子の配向不良等の各種問題が生じ難い。

【0105】

なお、各第２凸部２６０および各第２凹部３６０は枠状でなくてもよい。複数の第２凸部２６０は例えば点在していてもよい。同様に、複数の第２凹部３６０は例えば点在していてもよい。

【0106】

図示の例では、第２凸部２６０の幅は、第１凸部２６の幅Ｗ１よりも小さいが、幅Ｗ１以上でもよい。第２凹部３６０の幅は、第１凹部３６の幅Ｗ２よりも小さいが、幅Ｗ２以上でもよい。第２凸部２６０の高さは、第１凸部２６の高さＴと同じであるが、高さＴよりも大きくても小さくてもよい。第２凹部３６０の深さＤは、第１凹部３６の深さＤと同じであるが、深さＤよりも大きくても小さくてもよい。

【0107】

以上説明したように、本実施形態の電気光学装置１００Ｃによれば、第２実施形態の電気光学装置１００Ａに比べ、外部の水分が液晶層５の表示領域Ａ１０に浸入するおそれをより抑制することができる。それゆえ、表示品位の低下をより抑制することができる。

【0108】

Ｅ．第５実施形態
第５実施形態を説明する。なお、以下の各例示において機能が第１実施形態と同様である要素については、第１実施形態の説明で使用した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。

【0109】

図１２は、第５実施形態の電気光学装置１００Ｄの一部を示す断面図である。本実施形態では、透明導電膜２７が省略されていること、および対向電極３２の代わりに対向電極３２Ｄが設けられていることが第１実施形態と異なる。

【0110】

図１２に示すように、第１基板２Ｄは、透明導電膜２７を有していない。このため、第１無機絶縁層２０は、シール部材４と接触する。また、複数の第１凹部２５Ｄは、第３凹部２０１で構成される。

【0111】

第２基板３Ｄが有する対向電極３２Ｄは、平面視でシール部材４と重ならず、シール部材４と接触していない。このため、第２無機絶縁層３０は、シール部材４と接触する。また、複数の第１凸部３５Ｄは、複数の第３凸部３０１で構成される。

【0112】

前述のように、第１無機絶縁層２０は、複数の第１凹部２５Ｄを有し、かつシール部材４と接触している。このため、第１実施形態における透明導電膜２７と第１無機絶縁層２０との界面が存在していない。よって、当該界面を介した水分の表示領域Ａ１０への浸入が生じない。それゆえ、第１実施形態に比べ、表示領域Ａ１０への水分の浸入をより抑制することができる。同様に、第２無機絶縁層３０が、複数の第１凸部３５Ｄを有し、かつシール部材４と接触している。このため、第１実施形態における対向電極３２と第２無機絶縁層３０との界面が存在していない。よって、当該界面を介した水分の表示領域Ａ１０への浸入が生じない。それゆえ、第１実施形態に比べ、表示領域Ａ１０への水分の浸入をより抑制することができる。

【0113】

なお、第２実施形態において、シール部材４と第１無機絶縁層２０Ａとが接触し、シール部材４と第２無機絶縁層３０Ａとが接触していてもよい。同様に、第３実施形態において、シール部材４と第１無機絶縁層２０Ｂとが接触し、シール部材４と第２無機絶縁層３０Ｂとが接触していてもよい。また、第４実施形態において、シール部材４と第１無機絶縁層２０Ｃとが接触し、シール部材４と第２無機絶縁層３０Ｃとが接触していてもよい。これらの場合であっても、前述の効果と同様に、界面の数を減らすことができるので、液晶層５への水分の浸入を抑制する効果を高めることができる。

【0114】

Ｅ．変形例
以上に例示した実施形態は多様に変形され得る。前述の実施形態に適用され得る具体的な変形の態様を以下に例示する。以下の例示から任意に選択された２以上の態様は、相互に矛盾しない範囲で適宜に併合され得る。

【0115】

前述の実施形態では、配向膜２９および３９はシール領域Ａ２４に設けられていないが、これらはシール領域Ａ２４に設けられていてもよい。また、電気光学装置１００の周囲は、アルミナ等を含む防湿材で覆われていてもよい。

【0116】

前述の各実施形態では、アクティブマトリクス方式の電気光学装置１００が例示されるが、これに限定されず、電気光学装置１００の駆動方式は、例えば、パッシブマトリクス方式等でもよい。

【0117】

「電気光学装置」の駆動方式は、縦電界方式に限定されず、横電界方式でもよい。なお、横電界方式としては、例えばＩＰＳ（In Plane Switching）モードが挙げられる。また、縦電界方式としては、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Virtical Alignment）、ＰＶＡモードおよびＯＣＢ（Optically Compensated Bend）モードが挙げられる。

【0118】

また、前述した説明では、「電気光学装置」のの一例として液晶表示装置について説明したが、「電気光学装置」のはこれに限定されない。例えば、「電気光学装置」のは、イメージセンサー等にも適用することができる。

【0119】

２．電子機器
電気光学装置１００は、各種電子機器に用いることができる。

【0120】

図１３は、電子機器の一例であるパーソナルコンピューター２０００を示す斜視図である。パーソナルコンピューター２０００は、各種の画像を表示する電気光学装置１００と、電源スイッチ２００１およびキーボード２００２が設置される本体部２０１０と、制御部２００３と、を有する。制御部２００３は、例えばプロセッサーおよびメモリーを含み、電気光学装置１００の動作を制御する。

【0121】

図１４は、電子機器の一例であるスマートフォン３０００を示す平面図である。スマートフォン３０００は、操作ボタン３００１と、各種の画像を表示する電気光学装置１００と、制御部３００２と、を有する。操作ボタン３００１の操作に応じて電気光学装置１００に表示される画面内容が変更される。制御部３００２は、例えばプロセッサーおよびメモリーを含み、電気光学装置１００の動作を制御する。

【0122】

図１５は、電子機器の一例であるプロジェクターを示す模式図である。投射型表示装置４０００は、例えば、３板式のプロジェクターである。電気光学装置１ｒは、赤色の表示色に対応する電気光学装置１００であり、電気光学装置１ｇは、緑の表示色に対応する電気光学装置１００であり、電気光学装置１ｂは、青色の表示色に対応する電気光学装置１００である。すなわち、投射型表示装置４０００は、赤、緑および青の表示色に各々対応する３個の電気光学装置１ｒ、１ｇ、１ｂを有する。制御部４００５は、例えばプロセッサーおよびメモリーを含み、電気光学装置１００の動作を制御する。

【0123】

照明光学系４００１は、光源である照明装置４００２からの出射光のうち赤色成分ｒを電気光学装置１ｒに供給し、緑色成分ｇを電気光学装置１ｇに供給し、青色成分ｂを電気光学装置１ｂに供給する。各電気光学装置１ｒ、１ｇ、１ｂは、照明光学系４００１から供給される各単色光を表示画像に応じて変調するライトバルブ等の光変調器として機能する。投射光学系４００３は、各電気光学装置１ｒ、１ｇ、１ｂからの出射光を合成して投射面４００４に投射する。

【0124】

以上の電子機器は、前述の電気光学装置１００と、制御部２００３、３００２または４００５と、を備える。前述の電気光学装置１００は表示品位の低下が抑制されている。このため、よって、電気光学装置１００を備えることで、パーソナルコンピューター２０００、スマートフォン３０００または投射型表示装置４０００の表示品位の低下を抑制することができる。なお、電気光学装置１００の代わりに、電気光学装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃまたは１００Ｄを適用した場合にも同様の効果が得られる。

【0125】

なお、本発明の電気光学装置が適用される電子機器としては、例示した機器に限定されず、例えば、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、車載用の表示器、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、およびＰＯＳ（Point of sale）端末等が挙げられる。さらに、本発明が適用される電子機器としては、プリンター、スキャナー、複写機、ビデオプレーヤー、またはタッチパネルを備えた機器等が挙げられる。

【0126】

以上、好適な実施形態に基づいて本発明を説明したが、本発明は前述の実施形態に限定されない。また、本発明の各部の構成は、前述の実施形態の同様の機能を発揮する任意の構成に置換でき、また、任意の構成を付加できる。

【符号の説明】

【0127】

１ｂ…電気光学装置、１ｇ…電気光学装置、１ｒ…電気光学装置、２…第１基板、２Ａ…第１基板、２Ｂ…第１基板、２Ｃ…第１基板、２Ｄ…第１基板、２ｘ…第１基板、３…第２基板、３Ａ…第２基板、３Ｂ…第２基板、３Ｃ…第２基板、３Ｄ…第２基板、３ｘ…第２基板、４…シール部材、５…液晶層、６…基板間導通材、１０…駆動回路、１１…走査線駆動回路、１２…信号線駆動回路、１３…外部端子、２０…第１無機絶縁層、２０Ａ…第１無機絶縁層、２０Ｂ…第１無機絶縁層、２０Ｃ…第１無機絶縁層、２１…第１基部、２２…画素電極、２２ｄ…ダミー画素電極、２３…トランジスター、２４…蓄積容量、２５…第１凹部、２５Ｄ…第１凹部、２６…第１凸部、２７…透明導電膜、２７Ａ…透明導電膜、２７Ｂ…透明導電膜、２７Ｃ…透明導電膜、２８…周辺電極、２９…配向膜、３０…第２無機絶縁層、３０Ａ…第２無機絶縁層、３０Ｂ…第２無機絶縁層、３０Ｃ…第２無機絶縁層、３１…第２基部、３２…対向電極、３２Ａ…対向電極、３２Ｂ…対向電極、３２Ｃ…対向電極、３２Ｄ…対向電極、３５…第１凸部、３５Ｄ…第１凸部、３６…第１凹部、３８…見切り、３９…配向膜、１００…電気光学装置、１００Ａ…電気光学装置、１００Ｂ…電気光学装置、１００Ｃ…電気光学装置、１００Ｄ…電気光学装置、１００ｘ…電気光学装置、２００…平板部、２０１…第３凹部、２０２…第３凸部、２０３…凹部、２０４…凸部、２４１…走査線、２４２…信号線、２４３…定電位線、２５０…第２凹部、２６０…第２凸部、３００…平板部、３０１…第３凸部、３０２…第３凹部、３０３…凸部、３０４…凹部、３５０…第２凸部、３６０…第２凹部、２０００…パーソナルコンピューター、２００１…電源スイッチ、２００２…キーボード、２００３…制御部、２０１０…本体部、３０００…スマートフォン、３００１…操作ボタン、３００２…制御部、４０００…投射型表示装置、４００１…照明光学系、４００２…照明装置、４００３…投射光学系、４００４…投射面、４００５…制御部、Ａ１０…表示領域、Ａ２０…周辺領域、Ａ２１…ダミー画素領域、Ａ２２…周辺電極領域、Ａ２４…シール領域、ＬＬ…入射光、Ｐ…画素、Ｒ…浸入経路、Ｒｘ…浸入経路、Ｔ…高さ、Ｄ…深さ、Ｗ１…幅、Ｗ２…幅。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】