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特開2024-110010マーク付き光ファイバ素線の製造方法、及び、光ファイバケーブル
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024110010
(43)【公開日】2024-08-15
(54)【発明の名称】マーク付き光ファイバ素線の製造方法、及び、光ファイバケーブル
(51)【国際特許分類】
G02B 6/44 20060101AFI20240807BHJP
【ＦＩ】
G02B6/44 391
G02B6/44 366
G02B6/44 371
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021101884
(22)【出願日】2021-06-18
(71)【出願人】
【識別番号】000005186
【氏名又は名称】株式会社フジクラ
(74)【代理人】
【識別番号】110000486
【氏名又は名称】弁理士法人とこしえ特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】倉光 諒
(72)【発明者】
【氏名】石田 格
(72)【発明者】
【氏名】大里 健
【テーマコード（参考）】
2H201
【Ｆターム（参考）】
2H201AX17
2H201BB06
2H201BB22
2H201BB67
2H201DD05
2H201DD14
2H201DD23
2H201DD26
2H201DD33
2H201KK37A
2H201KK37B
2H201KK63
2H201MM17
2H201MM23
(57)【要約】
【課題】製造の安定化を図ることが可能なマーク付き光ファイバ心線の製造方法を提供する。
【解決手段】マーク付き光ファイバ素線４０の製造方法は、光ファイバ裸線６０を樹脂層７０で覆うことで、光ファイバ素線５０を形成する被覆工程と、印刷ローラ１４０から樹脂層７０にインク１２１を転写することで、樹脂層７０にマーク４１を形成する形成工程と、を備え、被覆工程は、樹脂層７０の表面硬化度が５０％～９０％となるように、樹脂層７０を硬化することを含み、形成工程において、下記の（１）式及び（２）式を満たしており、下記の（１）式において、αは、樹脂層７０の表面に対するインク１２１の接触角であり、下記の（２）式において、Ｖは、光ファイバ素線５０の軸方向に沿った長さ１μｍ当たりのインク１２１の体積である。
α≦２２° ・・・ （１）
Ｖ≦２６００μｍ３ ・・・ （２）
【選択図】図４
【解決手段】マーク付き光ファイバ素線４０の製造方法は、光ファイバ裸線６０を樹脂層７０で覆うことで、光ファイバ素線５０を形成する被覆工程と、印刷ローラ１４０から樹脂層７０にインク１２１を転写することで、樹脂層７０にマーク４１を形成する形成工程と、を備え、被覆工程は、樹脂層７０の表面硬化度が５０％～９０％となるように、樹脂層７０を硬化することを含み、形成工程において、下記の（１）式及び（２）式を満たしており、下記の（１）式において、αは、樹脂層７０の表面に対するインク１２１の接触角であり、下記の（２）式において、Ｖは、光ファイバ素線５０の軸方向に沿った長さ１μｍ当たりのインク１２１の体積である。
α≦２２° ・・・ （１）
Ｖ≦２６００μｍ３ ・・・ （２）
【選択図】図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
光ファイバ素線と識別用のマークとを備えたマーク付き光ファイバ素線の製造方法であって、
コア及びクラッドを含む光ファイバ裸線を準備する準備工程と、
前記光ファイバ裸線を樹脂層で覆うことで、前記光ファイバ素線を形成する被覆工程と、
印刷ローラから前記樹脂層にインクを転写することで、前記樹脂層に前記マークを形成する形成工程と、を備え、
前記被覆工程は、前記樹脂層の表面硬化度が５０％～９０％となるように、前記樹脂層を硬化することを含み、
前記形成工程において、下記の（１）式及び（２）式を満たすマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
α≦２２° ・・・ （１）
Ｖ≦２６００μｍ３ ・・・ （２）
但し、上記の（１）式において、αは、前記樹脂層の表面に対する前記インクの接触角であり、上記の（２）式において、Ｖは、前記光ファイバ素線の軸方向に沿った長さ１μｍ当たりの前記インクの体積である。
コア及びクラッドを含む光ファイバ裸線を準備する準備工程と、
前記光ファイバ裸線を樹脂層で覆うことで、前記光ファイバ素線を形成する被覆工程と、
印刷ローラから前記樹脂層にインクを転写することで、前記樹脂層に前記マークを形成する形成工程と、を備え、
前記被覆工程は、前記樹脂層の表面硬化度が５０％～９０％となるように、前記樹脂層を硬化することを含み、
前記形成工程において、下記の（１）式及び（２）式を満たすマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
α≦２２° ・・・ （１）
Ｖ≦２６００μｍ３ ・・・ （２）
但し、上記の（１）式において、αは、前記樹脂層の表面に対する前記インクの接触角であり、上記の（２）式において、Ｖは、前記光ファイバ素線の軸方向に沿った長さ１μｍ当たりの前記インクの体積である。
【請求項2】
請求項１に記載のマーク付き光ファイバ素線の製造方法であって、
前記形成工程において、下記の（３）式を満たすマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
α≦１５° ・・・ （３）
前記形成工程において、下記の（３）式を満たすマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
α≦１５° ・・・ （３）
【請求項3】
請求項１又は２に記載のマーク付き光ファイバ素線の製造方法であって、
前記形成工程において、下記の（４）式を満たすマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
Ｖ≦１６００μｍ３ ・・・ （４）
前記形成工程において、下記の（４）式を満たすマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
Ｖ≦１６００μｍ３ ・・・ （４）
【請求項4】
請求項１～３のいずれか一項に記載のマーク付き光ファイバ素線の製造方法であって、
前記形成工程において、下記の（５）式を満たすマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
Ｖ／ｒ≦１０μｍ２ ・・・ （５）
但し、上記の（５）式において、ｒは、前記光ファイバ素線の外径である。
前記形成工程において、下記の（５）式を満たすマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
Ｖ／ｒ≦１０μｍ２ ・・・ （５）
但し、上記の（５）式において、ｒは、前記光ファイバ素線の外径である。
【請求項5】
請求項１～４のいずれか一項に記載のマーク付き光ファイバ素線の製造方法であって、
下記の（６）式を満たすマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
ｒ≦２２０μｍ ・・・ （６）
但し、上記の（６）式において、ｒは、前記光ファイバ素線の外径である。
下記の（６）式を満たすマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
ｒ≦２２０μｍ ・・・ （６）
但し、上記の（６）式において、ｒは、前記光ファイバ素線の外径である。
【請求項6】
請求項１～５のいずれか一項に記載のマーク付き光ファイバ素線の製造方法であって、
前記印刷ローラは、前記インクを充填可能な凹部を有しており、
前記形成工程において、前記インクの粘度は、１０ｍＰａ・ｓ～５０ｍＰａ・ｓの範囲内であるマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
前記印刷ローラは、前記インクを充填可能な凹部を有しており、
前記形成工程において、前記インクの粘度は、１０ｍＰａ・ｓ～５０ｍＰａ・ｓの範囲内であるマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
【請求項7】
請求項１～６のいずれか一項に記載のマーク付き光ファイバ素線の製造方法であって、
前記マークの厚さは、２μｍ～２０μｍであるマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
前記マークの厚さは、２μｍ～２０μｍであるマーク付き光ファイバ素線の製造方法。
【請求項8】
光ファイバユニットと、
前記光ファイバユニットを覆うシースと、を備えた光ファイバケーブルであって、
前記光ファイバユニットは、請求項１～７のいずれか一項に記載の製造方法により製造された複数のマーク付き光ファイバ素線を含む光ファイバケーブル。
前記光ファイバユニットを覆うシースと、を備えた光ファイバケーブルであって、
前記光ファイバユニットは、請求項１～７のいずれか一項に記載の製造方法により製造された複数のマーク付き光ファイバ素線を含む光ファイバケーブル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光ファイバ素線を識別するためのマークを備えたマーク付き光ファイバ素線の製造方法、及び、当該マーク付き光ファイバ素線を備えた光ファイバケーブルに関するものである。
【背景技術】
【0002】
光ファイバケーブルを構成するそれぞれの光ファイバ心線を識別するために、光ファイバ素線上にインク層からなる識別層を設け、その上に着色層を設けた識別型光ファイバ心線が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２００４－７７５３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上記の識別型光ファイバ心線では、識別層の上に着色層が形成されているため、当該識別層を光ファイバ素線上に形成した後に、当該光ファイバ素線が着色層形成用のダイスを通過する。この際、光ファイバ素線に対する識別層の密着性が低かったり、当該識別層が肉厚である場合には、この識別層が削れたり光ファイバ素線が断線してしまい、長尺の光ファイバ心線の製造が不安定になってしまう場合がある、という問題がある。
【0005】
本発明が解決しようとする課題は、製造の安定化を図ることが可能なマーク付き光ファイバ素線の製造方法、及び、その製造方法により製造されたマーク付き光ファイバ素線を備えた光ファイバケーブルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
［１］本発明に係るマーク付き光ファイバ素線の製造方法は、光ファイバ素線と識別用のマークとを備えたマーク付き光ファイバ素線の製造方法であって、コア及びクラッドを含む光ファイバ裸線を準備する準備工程と、前記光ファイバ裸線を樹脂層で覆うことで、前記光ファイバ素線を形成する被覆工程と、印刷ローラから前記樹脂層にインクを転写することで、前記樹脂層に前記マークを形成する形成工程と、を備え、前記被覆工程は、前記樹脂層の表面硬化度が５０％～９０％となるように、前記樹脂層を硬化することを含み、前記形成工程において、下記の（１）式及び（２）式を満たすマーク付き光ファイバ素線の製造方法である。
α≦２２° ・・・ （１）
Ｖ≦２６００μｍ３ ・・・ （２）
但し、上記の（１）式において、αは、前記樹脂層の表面に対する前記インクの接触角であり、上記の（２）式において、Ｖは、前記光ファイバ素線の軸方向に沿った長さ１μｍ当たりの前記インクの体積である。
α≦２２° ・・・ （１）
Ｖ≦２６００μｍ３ ・・・ （２）
但し、上記の（１）式において、αは、前記樹脂層の表面に対する前記インクの接触角であり、上記の（２）式において、Ｖは、前記光ファイバ素線の軸方向に沿った長さ１μｍ当たりの前記インクの体積である。
【0007】
［２］上記発明において、前記形成工程において、下記の（３）式を満たしてもよい。
α≦１５° ・・・ （３）
α≦１５° ・・・ （３）
【0008】
［３］上記発明において、前記形成工程において、下記の（４）式を満たしてもよい。
Ｖ≦１６００μｍ３ ・・・ （４）
Ｖ≦１６００μｍ３ ・・・ （４）
【0009】
［４］上記発明において、前記形成工程において、下記の（５）式を満たしてもよい。
Ｖ／ｒ≦１０μｍ２ ・・・ （５）
但し、上記の（５）式において、ｒは、前記光ファイバ素線の外径である。
Ｖ／ｒ≦１０μｍ２ ・・・ （５）
但し、上記の（５）式において、ｒは、前記光ファイバ素線の外径である。
【0010】
［５］上記発明において、下記の（６）式を満たしてもよい。
ｒ≦２２０μｍ ・・・ （６）
ｒ≦２２０μｍ ・・・ （６）
【0011】
［６］上記発明において、前記印刷ローラは、前記インクを充填可能な凹部を有しており、前記形成工程において、前記インクの粘度は、１０ｍＰａ・ｓ～５０ｍＰａ・ｓの範囲内であってもよい。
【0012】
［７］上記発明において、前記マークの厚さは、２μｍ～２０μｍであってもよい。
【0013】
［８］本発明に係る光ファイバケーブルは、光ファイバユニットと、前記光ファイバユニットを覆うシースと、を備えた光ファイバケーブルであって、前記光ファイバユニットは、上記の製造方法により製造された複数のマーク付き光ファイバ素線を含む光ファイバケーブルである。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、樹脂層を形成する際に、当該樹脂層の表面硬化度が５０％～９０％となるように樹脂材料を硬化すると共に、当該樹脂層上に印刷ローラを用いてマークを形成する際に、上記の（１）式及び（２）式を満たしている。これにより、光ファイバ素線に対してマークが十分に密着すると共に、マークの厚さを適切な範囲に制御することができるので、マークの削れや光ファイバ素線の断線の発生を抑制することができ、長尺の光ファイバ心線の製造の安定化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【発明を実施するための形態】
【0016】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【0017】
【0018】
本実施形態における光ファイバ着色素線３０は、図１に示すように、マーク付き光ファイバ素線４０と、当該マーク付き光ファイバ素線４０を覆う着色層３１と、を備えている。そして、マーク付き光ファイバ素線４０は、光ファイバ素線５０と、当該光ファイバ素線５０に形成された識別用のマーク４１と、を備えている。さらに、光ファイバ素線５０は、光ファイバ裸線（ベアファイバ）６０と、当該光ファイバ裸線６０を覆う樹脂層７０と、を備えている。
【0019】
この光ファイバ着色素線３０では、複数の光ファイバ着色素線３０の着色層３１の色を相互に異ならせておくことで、例えば光ファイバ着色素線３０を用いて後述する光ファイバテープ心線２０（図２（ａ）及び図２（ｂ）参照）を構成した際に、当該光ファイバ着色素線３０を個別に識別することが可能となっている。また、この光ファイバ着色素線３０では、光ファイバ素線５０にマーク４１を付与しておくことで、例えば光ファイバテープ心線２０を用いて後述する光ファイバケーブル１（図３参照）を構成した際に、当該光ファイバテープ心線２０を個別に識別することが可能となっている。なお、上記の着色層３１の色の数には限界があるため、例えば光ファイバテープ心線２０がより多くの本数の光ファイバ着色素線３０を備える場合に、光ファイバ素線５０に付与したマーク４１によって当該光ファイバ着色素線３０を個別に識別してもよい。
【0020】
光ファイバ裸線６０は、コア６１とクラッド６２を備えている。この光ファイバ裸線６０は、円形の断面形状を有していると共に、光ファイバ着色素線３０の軸方向に沿って延在している。クラッド６２は、コア６１覆っている。コア６１及びクラッド６２は、石英ガラスを主成分とした材料から構成されており、必要に応じて不純物が添加されることで、これらの屈折率が調整されている。コア６１の屈折率は、クラッド６２の屈折率よりも高くなっている。
【0021】
樹脂層７０は、プライマリ層７１とセカンダリ層７２から構成された２層構造を有している。プライマリ層７１の外側にセカンダリ層７２が位置している。このプライマリ層７１及びセカンダリ層７２は、上述の光ファイバ裸線６０のクラッド６２の外周面に樹脂材料を塗布して硬化させることで形成されている。こうしたプライマリ層７１及びセカンダリ層７２を構成する樹脂材料としては、紫外線硬化型樹脂材料や熱硬化型樹脂材料を例示することができる。なお、樹脂層７０を構成する層の数は、上記の２層に限定されず、樹脂層７０を一層構造としてもよいし、３以上の層で樹脂層７０を構成してもよい。
【0022】
本実施形態では、この光ファイバ素線５０は、２３９μｍ以下の直径を有している。この光ファイバ素線５０が細径の光ファイバであってもよく、この場合には、光ファイバ素線の直径は、２２０μｍ以下であることが好ましい。
【0023】
以上に説明したコア６１、クラッド６２及び樹脂層７０から構成される光ファイバ素線５０には、識別用のマーク４１が形成されている。このマーク４１は、後述する印刷法により、光ファイバ素線５０の樹脂層７０にインクを転写して硬化させることで形成されている。このマーク４１を構成する材料としては、紫外線硬化型樹脂材料や熱硬化型樹脂材料を例示することができる。このマーク４１は、光ファイバ素線５０の軸方向に沿って所定の長さを有しており、複数のマーク４１は当該軸方向に沿って間欠的に並べられている（図２（ａ）参照）。
【0024】
本実施形態では、このマーク４１の厚さｄは、２μｍ～２１μｍである（２μｍ≦ｄ≦２１μｍ）。マーク４１の厚さｄが２μｍ以上であることで、着色層３１を介して当該マーク４１を十分に視認することができる。また、後述するように、このマーク４１を形成した後、着色層３１を形成するために、マーク付き光ファイバ素線４０が着色ダイス１７０（図４参照）を通過するが、マーク４１の厚さｄが２１μｍ以下であることで、着色層３１を形成する際にマーク付き光ファイバ素線４０と着色ダイス１７０のファイバ挿通孔との間にクリアランスを確保することができる。また、マーク４１の厚さｄは、２０μｍ以下であることが好ましい（ｄ≦２０μｍ）。これにより、マーク付き光ファイバ素線４０と着色ダイス１７０との間に十分なクリアランスを確保することができ、長尺の光ファイバ着色素線３０を安定して製造することができる。なお、マイクロベンディングロスの発生を抑制するために、マーク４１の厚さは小さい方が好ましい。
【0025】
そして、このマーク４１を有するマーク付き光ファイバ素線４０が着色層３１で覆われることで、光ファイバ着色素線３０が構成されている。この着色層３１は、上記のマーク４１の色とは異なる色を有していると共に、上述のように、同一の光ファイバテープ心線２０を構成する他の光ファイバ着色素線３０とも異なる色を有している。この着色層３１は、マーク付き光ファイバ素線４０の表面に樹脂材料を塗布して硬化させることで形成されている。こうした着色層３１を構成する樹脂材料としては、紫外線硬化型樹脂材料や熱硬化型樹脂材料を例示することができる。
【0026】
また、この着色層３１は、３～１０μｍの厚さｔを有している（３μｍ≦ｔ≦１０μｍ）。着色層３１の厚さをこの範囲内とすることで、当該着色層３１を介して外部からマーク４１を視認することが可能であると共に、マーク４１の存在により光ファイバ着色素線３０の表面への凹凸の発生を抑制することができる。
【0027】
この光ファイバ着色素線３０は、２５０μｍ以下の直径を有している。上記の光ファイバ素線５０が細径の光ファイバである場合には、この光ファイバ着色素線３０の直径は、２３０μｍ以下であることが好ましい。
【0028】
次に、以上に説明した光ファイバ着色素線３０を用いた光ファイバテープ心線２０の構成について、図２（ａ）及び図２（ｂ）を参照しながら説明する。図２（ａ）は本実施形態における光ファイバテープ心線２０を示す斜視図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）のIIB-IIB線に沿った断面図である。
【0029】
本実施形態の光ファイバテープ心線２０は、いわゆる間欠固定型のテープ心線である。この光ファイバテープ心線２０は、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、複数（本実施形態では１２本）の上述した光ファイバ着色素線３０と、連結部２１と、を備えている。
【0030】
具体的には、複数の光ファイバ着色素線３０は、相互に実質的に平行に延在するように、同一平面上に配置されている。そして、相互に隣り合う光ファイバ着色素線３０同士が、光ファイバテープ心線２０の長手方向において所定間隔を空けて連結部２１で固定されていると共に、当該連結部２１同士が、光ファイバテープ心線２０の長手方向において相互にずれて配置されている。この連結部２１は、紫外線硬化型樹脂等の樹脂材料によって構成されている。
【0031】
なお、光ファイバテープ心線２０を構成する光ファイバ着色素線３０の本数は、特に上記に限定されない。また、光ファイバテープ心線２０の構成は、特に上記に限定されない。例えば、連結部２１が、間欠的ではなく、光ファイバテープ心線２０の長手方向の全域に亘って設けられていてもよい。或いは、連結部２１に代えて、複数の光ファイバ着色素線３０を樹脂層によって一括して被覆し、この樹脂層によって当該複数の光ファイバ着色素線３０を連結してもよい。
【0032】
【0033】
本実施形態における光ファイバケーブル１は、いわゆるスロットレス型の光ファイバケーブルである。この光ファイバケーブル１は、図３に示すように、光ファイバユニット１０と、押さえ巻き８０と、シース９０と、を備えている。なお、光ファイバケーブル１の構成は、スロットレス型に特に限定されず、例えば、ルースチューブ型やスロット型であってもよい。
【0034】
光ファイバユニット１０は、上述した複数の光ファイバテープ心線２０を撚り合わせることで形成されている。複数の光ファイバテープ心線２０の撚り合わせ方の具体例としては、ＳＺ撚りや一方向撚りを挙げることができる。
【0035】
なお、光ファイバユニット１０の構成は、特に上記に限定されない、例えば、複数の光ファイバテープ心線２０を束ね若しくは撚り合わせることでユニット中間体を形成し、複数の当該ユニット中間体を束ね若しくは撚り合わせることで光ファイバユニット１０を構成してもよい。或いは、光ファイバテープ心線２０に代えて、複数の光ファイバ着色素線３０を束ね若しくは撚り合わることで光ファイバユニット１０を構成してもよい。或いは、複数の光ファイバ着色素線３０を束ね若しくは撚り合わることでユニット中間体を形成し、複数の当該ユニット中間体を束ね若しくは撚り合わせることで光ファイバユニット１０を構成してもよい。
【0036】
この光ファイバユニット１０は押さえ巻き８０によって包まれている。本実施形態では、この押さえ巻き８０は、押さえ巻きテープを光ファイバユニット１０の外周に縦添え巻きすることで形成されている。なお、押さえ巻きテープの巻き方は、特に上記に限定されず、例えば、横巻き（螺旋巻き）であってもよい。
【0037】
シース（外被）９０は、押さえ巻き８０の外周を覆っている筒状の部材である。押さえ巻き８０に包まれた光ファイバユニット１０は、このシース９０の内孔に収容されている。このシース９０に、抗張力体９５とリップコード９６が埋設されている。
【0038】
【0039】
本実施形態における光ファイバ着色素線３０の製造方法は、光ファイバ裸線６０を準備する準備工程と、当該光ファイバ裸線６０を樹脂層７０で覆う第１の被覆工程と、当該樹脂層７０にマーク４１を形成するマーク形成工程と、マーク付き光ファイバ素線４０を着色層３１で覆う第２の被覆工程と、を備えている。
【0040】
具体的には、先ず、準備工程（線引工程／紡糸工程）において、特に図示しないが、光ファイバ母材（プリフォーム）を加熱ヒータにより加熱溶融して糸状に引き延ばすことで、コア６１とクラッド６２を備えた光ファイバ裸線６０を形成する。この光ファイバ母材から引き出された光ファイバ裸線６０は、冷却装置によって冷却される。なお、冷却装置を用いずに、自然冷却によって光ファイバ裸線６０を冷却してもよい。
【0041】
次いで、第１の被覆工程において、特に図示しないが、この光ファイバ裸線６０がコーティングダイを通過することで当該光ファイバ裸線６０を樹脂材料で被覆した後、紫外線照射装置から紫外線を照射して樹脂材料を硬化させることで、樹脂層７０が形成される。ここまでの工程（準備工程、及び、第１の被覆工程）により、光ファイバ素線５０が形成される。なお、樹脂層７０が熱硬化型樹脂材料で構成される場合には、紫外線照射装置に代えて、ヒータ等の加熱装置が用いられる。
【0042】
本実施形態では、この第１の被覆工程において、樹脂層７０のセカンダリ層７２の表面硬化度ＣＤが５０％～９０％となるように（５０％≦ＣＤ≦９０％）、紫外線照射装置により硬化する。この表面硬化度ＣＤは、例えば、セカンダリ層７２を形成する樹脂材料を硬化させる際の当該樹脂材料に対する紫外線照射装置による紫外線の照射量により調整することができる。このように、セカンダリ層７２の表面硬化度ＣＤを５０％以上とすることで、製造システム１００のパスライン上で未硬化のセカンダリ層７２自体が剥がれてしまうのを抑制することができる。また、セカンダリ層７２の表面硬化度ＣＤを９０％以下とすることで、このセカンダリ層７２の表面と、マーク４１を形成するインク１２１（後述）との間の密着力を高めることができる。
【0043】
ここで、樹脂層７０の表面硬化度ＣＤとは、樹脂層７０の最外層の表面の硬化の度合いを示す値である。例えば、樹脂層７０が二層構造を有している場合には、上記のように最外側であるセカンダリ層７２の表面の硬化度を意味する。一方、樹脂層７０が一層のみを有している場合には、当該一層の表面の硬化度を意味する。そして、樹脂材料が硬化を開始する前の状態（例えば、紫外線を照射する前の状態）における硬化度が０％であり、樹脂材料が完全に硬化した状態（例えば、最大量の紫外線を照射した状態）における硬化度が１００％である。
【0044】
次いで、マーク形成工程において、図４に示す製造システム１００が有する印刷装置１１０及び硬化装置１６０を用いて、光ファイバ素線５０の樹脂層７０にインク１２１を印刷することで、マーク４１を形成する。
【0045】
この印刷装置１１０は、凹版印刷方式の印刷機であり、図４に示すように、インク槽１２０と、供給ローラ（掻き揚げローラ）１３０と、印刷ローラ１４０と、ドクタブレード１５０と、を備えている。こうした印刷装置１１０として、特開２０１５－１４５１２８号公報や特開２０１９－１８１７２９号公報に記載されている印刷装置を用いることができる。光ファイバ素線５０は、当該光ファイバ素線５０がボビンに巻回された状態で、この印刷装置１１０に供給される。なお、光ファイバ素線５０が、当該光ファイバ素線５０がボビンに巻回されることなく、上述の線引工程から製造システム１００に連続的に供給されてもよい。
【0046】
具体的には、インク槽１２０は、マーク４１を形成するインク１２１を収容している容器（インクパン）である。このインク槽１２０に収容されたインク１２１には、供給ローラ１３０の下部が浸されている。供給ローラ１３０が矢印Ａの方向に回転することで、当該供給ローラ１３０がインク槽１２０からインク１２１を掻き揚げて印刷ローラ１４０に供給する。
【0047】
この際、本実施形態では、インクの粘度ＩＶは、１０ｍＰａ・ｓ～５０ｍＰａ・ｓの範囲内（１０ｍＰａ・ｓ≦ＩＶ≦５０ｍＰａ・ｓ）に設定されていることが好ましい。また、インク１２１として、下記の（７）式を満たす接触角αを有するインクが選定されている。また、このインク１２１の接触角αは、下記の（８）式を満たしていることが好ましい。
【0048】
α≦２２° ・・・ （７）
α≦１５° ・・・ （８）
α≦１５° ・・・ （８）
【0049】
なお、上記のインク１２１の接触角αは、樹脂層７０のセカンダリ層７２の表面に対するインク１２１の濡れ性を示す指標である。この接触角αと表面張力との間には下記の（９）式（ヤングの式）の関係が成立しており、この接触角αは、インク１２１の液滴とセカンダリ層７２の表面とのなす角度である。この接触角αは、市販の接触角計を用いることで測定することができる。但し、下記の（９）式において、γＳは、セカンダリ層７２の表面張力であり、γＬは、インク１２１の表面張力であり、γＳＬは、セカンダリ層７２／インク１２１間の界面張力である。
【0050】
【数1】
【0051】
上記の接触角αを小さくすることで、セカンダリ層７２の表面に対してインク１２１が濡れ易くなるため、マーク４１の厚さを小さくすることができる。このため、上記の（７）式のように、接触角αを２２°以下とすることで、着色層３１を形成する際にマーク付き光ファイバ素線４０と着色ダイス１７０との間にクリアランスを確保することができ、断線することなく光ファイバ着色素線３０を製造することができる。また、上記の（８）式のように、接触角αを１５°以下とすることで、マーク付き光ファイバ素線４０と着色ダイス１７０との間に十分なクリアランスを確保することができ、長尺の光ファイバ着色素線３０を安定して製造することができる。
【0052】
印刷ローラ１４０には、マーク４１に対応した形状を有する凹状の印刷パターン１４１が形成されている。この印刷ローラ１４０は、供給ローラ１３０の回転方向とは反対の矢印Ｂの方向に回転し、供給ローラ１３０からインク１２１を受け取る。そして、印刷ローラ１４０の表面に付着した余剰なインク１２１をドクタブレード１５０が掻き落とした後、印刷パターン１４１に充填されたインク１２１を樹脂層７０に転写することで、光ファイバ素線５０にマーク４１が印刷される。この際、光ファイバ素線５０は、矢印Ｃの方向に搬送されながら、マーク４１が印刷される。
【0053】
ここで、本実施形態では、下記の（１０）式を満たすように、インク１２１が印刷ローラ１４０から光ファイバ素線５０の樹脂層７０に転写される。また、下記の（１１）式を満たすように、インク１２１が印刷ローラ１４０から光ファイバ素線５０の樹脂層７０に転写されることが好ましい。
【0054】
Ｖ≦２６００μｍ３ ・・・ （１０）
Ｖ≦１６００μｍ３ ・・・ （１１）
Ｖ≦１６００μｍ３ ・・・ （１１）
【0055】
但し、上記の（１０）式及び（１１）式において、Ｖは、光ファイバ素線５０に付着したインク１２１の体積であり、光ファイバ素線５０の軸方向に沿った長さ１μｍ当たりのインク１２１の体積（以下単に「インク体積Ｖ」とも称する）である。なお、このインク体積Ｖは、インク１２１の粘度や印刷パターン１４１の形状等により調整することができる。
【0056】
上記のインク体積Ｖを小さくすると、マーク４１の厚さを小さくすることができる。
このため、上記の（１０）式のように、インク体積Ｖを２６００μｍ３以下とすることで、着色層３１を形成する際にマーク付き光ファイバ素線４０と着色ダイス１７０との間にクリアランスを確保することができ、断線することなく光ファイバ着色素線３０を製造することができる。また、上記の（１１）式のように、インク体積Ｖを１６００μｍ３以下とすることで、マーク付き光ファイバ素線４０と着色ダイス１７０との間に十分なクリアランスを確保することができ、長尺の光ファイバ着色素線３０を安定して製造することができる。
このため、上記の（１０）式のように、インク体積Ｖを２６００μｍ３以下とすることで、着色層３１を形成する際にマーク付き光ファイバ素線４０と着色ダイス１７０との間にクリアランスを確保することができ、断線することなく光ファイバ着色素線３０を製造することができる。また、上記の（１１）式のように、インク体積Ｖを１６００μｍ３以下とすることで、マーク付き光ファイバ素線４０と着色ダイス１７０との間に十分なクリアランスを確保することができ、長尺の光ファイバ着色素線３０を安定して製造することができる。
【0057】
また、本実施形態では、光ファイバ素線５０の直径ｒとインク体積Ｖとが、下記の（１２）式を満たしていることが好ましい。特に、光ファイバ素線５０が細径の光ファイバである場合には、当該光ファイバ素線５０の曲率半径が小さくなるため、光ファイバ素線５０の直径ｒがマーク４１の厚さに与える影響が大きくなる。これに対し、下記の（１２）式を満たしていることで、光ファイバ素線５０の直径ｒを考慮して、インク体積Ｖを制御することができる。
【0058】
Ｖ／ｒ≦１０μｍ２ ・・・ （１２）
【0059】
印刷装置１１０によりマーク４１が印刷された光ファイバ素線５０は、硬化装置１６０により照射された紫外線によりマーク４１が硬化する。ここまでの工程（準備工程、第１の被覆工程、及び、マーク形成工程）により、マーク付き光ファイバ素線４０が形成される。なお、マーク４１が熱硬化型樹脂材料で構成される場合には、紫外線照射装置に代えて、ヒータ等の加熱装置が用いられる。
【0060】
次いで、第２の被覆工程において、図４に示す製造システム１００が有する着色ダイス１７０及び硬化装置１８０を用いて、マーク付き光ファイバ素線４０を着色層３１で覆う。
【0061】
具体的には、先ず、マーク付き光ファイバ素線４０が着色ダイス１７０を通過することで、当該マーク付き光ファイバ素線４０を樹脂材料で被覆する。この際、マーク付き光ファイバ素線４０は、着色ダイス１７０が有するファイバ挿通孔（不図示）を通過するが、上記の（７）式及び（１０）式を満たしていることで、マーク付き光ファイバ素線４０と着色ダイス１７０との間にクリアランスを確保することができ、断線することなく光ファイバ着色素線３０を製造することができる。また、上記の（８）式或いは（１１）式を満たしていることで、マーク付き光ファイバ素線４０と着色ダイス１７０との間に十分なクリアランスを確保することができ、長尺の光ファイバ着色素線３０を安定して製造することができる。
【0062】
次いで、硬化装置１８０から照射された紫外線により当該樹脂材料を硬化させることで、着色層３１が形成される。これにより、光ファイバ着色素線３０が形成される。なお、着色層３１が熱硬化型樹脂材料で構成される場合には、紫外線照射装置に代えて、ヒータ等の加熱装置が用いられる。
【0063】
この第２の被覆工程の後、特に図示しないが、光ファイバ着色素線３０がテープ化装置に連続的に供給されることで、上述の光ファイバテープ心線２０が形成される。なお、第２の被覆工程の後に光ファイバ着色素線３０をボビンに一旦巻回した後に、当該ボビンをテープ化装置に供給してもよい。
【0064】
以上のように、本実施形態では、セカンダリ層７２を形成する際に、当該セカンダリ層７２の表面硬化度が５０％～９０％となるように樹脂材料を硬化すると共に、当該樹脂層７０上に印刷ローラ１４０を用いてマーク４１を形成する際に、上記の（７）式及び（１０）式を満たしている。これにより、光ファイバ素線５０に対してマーク４１が十分に密着すると共に、マーク４１の厚さを適切な範囲に制御することができるので、マーク４１の削れや光ファイバ素線５０の断線の発生を抑制することができ、長尺の光ファイバテープ心線２０の製造の安定化を図ることができる。
【0065】
なお、以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【実施例0066】
以下に、本発明を具体化した実験例１～３を示して、本発明の効果について説明する。
【0067】
＜実験例１＞
実験例１では、図４に示す製造システムを用いて、１２本の光ファイバ着色素線を備えた光ファイバテープ心線である５個の試料（試料１～５）を作製した。この際、光ファイバ着色素線が備える光ファイバ素線として、１９３μｍの直径ｒを有する光ファイバ素線を用いた。また、プライマリ層及びセカンダリ層を構成する樹脂材料として、紫外線硬化型のウレタンアクリレート系樹脂を用いた。また、マークを構成するインクとして、紫外線硬化型のウレタンアクリレート系樹脂を用い、インク体積Ｖが１６００μｍ３となるように印刷装置によりインクを光ファイバ素線の樹脂層に転写した。また、マークを形成するインクとして、セカンダリ層に対するインクの接触角αが１５°となるインクを採用した。また、個々のマークの光ファイバ素線の軸方向に沿った長さを２５ｍｍとし、当該軸方向に沿って相互に隣り合うマーク同士の間隔を１５０ｍｍとした。さらに、製造システムにおける光ファイバ素線の搬送速度（線速）を、１３０ｍ／ｍｉｎ～１２００ｍ／ｍｉｎとした。
実験例１では、図４に示す製造システムを用いて、１２本の光ファイバ着色素線を備えた光ファイバテープ心線である５個の試料（試料１～５）を作製した。この際、光ファイバ着色素線が備える光ファイバ素線として、１９３μｍの直径ｒを有する光ファイバ素線を用いた。また、プライマリ層及びセカンダリ層を構成する樹脂材料として、紫外線硬化型のウレタンアクリレート系樹脂を用いた。また、マークを構成するインクとして、紫外線硬化型のウレタンアクリレート系樹脂を用い、インク体積Ｖが１６００μｍ３となるように印刷装置によりインクを光ファイバ素線の樹脂層に転写した。また、マークを形成するインクとして、セカンダリ層に対するインクの接触角αが１５°となるインクを採用した。また、個々のマークの光ファイバ素線の軸方向に沿った長さを２５ｍｍとし、当該軸方向に沿って相互に隣り合うマーク同士の間隔を１５０ｍｍとした。さらに、製造システムにおける光ファイバ素線の搬送速度（線速）を、１３０ｍ／ｍｉｎ～１２００ｍ／ｍｉｎとした。
【0068】
この実験例１では、試料１～５について、光ファイバ素線のセカンダリ層を形成する際の紫外線照射量を調整することで、下記の表１に示すように、当該セカンダリ層の表面硬化度を異ならせた。そして、試料１～５について、光ファイバ着色素線におけるマークの削れの有無を目視により確認した。
【0069】
この実験例１では、フーリエ変換赤外線分光光度計（ＦＴＩＲ）を用いて、以下のような手順でセカンダリ層の表面硬化度の測定を行った。すなわち、先ず、光ファイバ素線から樹脂層を片刃カミソリで削ぎ取り、セカンダリ層の表面側の極表面にＡＴＲ素子を当て、吸収スペクトルを測定した。そして、アクリレートに含まれる反応に関与しないエステル基に起因する不変の第１のピーク（波数：１７３６ｃｍ－１）の高さに対する、アクリレートの重合反応によって消失する二重結合に起因して変化する第２のピーク（波数：１４０６ｃｍ－１付近）の高さの比率（［第２のピークの高さ］／［第１のピーク高さ］）（以下単に「ピーク高さ比率」とも称する）を規格化した。この際、セカンダリ層を形成することとなる液体状態の樹脂材料のピーク高さ比率を表面硬化度「０％」とし、飽和値まで紫外線を照射した状態のセカンダリ層のピーク高さ比率の表面硬化度「１００％」として、実際のセカンダリ層の表面硬化度を求めた。なお、この測定の際の条件としては、分解能が２ｃｍ－１以下であり、積算回数が１２８回以上である。
【0070】
なお、第２のピークとして、反応に起因して変化する他の波数のピークを用いてもよい。例えば、この実験例１では、反応の進行に従って強度が減少するピークを第２のピークとして用いたが、反応の進行に伴って強度が増加するピークを第２のピークとして用いてもよい。この場合にも、この第２のピークの高さに対する第１のピーク高さの比率を規格化することで、セカンダリ層の表面硬化度を測定する。
【0071】
【表1】
【0072】
この実験例１では、上記の表１に示すように、セカンダリ層の表面硬化度が９５％である試料５の場合、光ファイバ着色素線にマークの削れを確認することができ、製造システムのパスライン上において当該削れたマークの小片が確認された。これは、セカンダリ層の表面硬化度が高い程、マークとセカンダリ層との間での共有結合の割合が少なくなり、マークとセカンダリ層との密着力が弱いためと考えられる。
【0073】
また、セカンダリ層の表面硬化度が３０％である試料１の場合、セカンダリ層が未硬化であったため、製造ラインのパスライン上で樹脂層自体が剥がれてしまい、十分な品質の光ファイバ着色素線を製造することができなかった。
【0074】
これに対し、セカンダリ層の表面硬化度が５０％～９０％の範囲内である試料２～４の場合、樹脂層が剥がれたりマークが削れてしまうことはなかった。
【0075】
＜実験例２＞
実験例２では、図４に示す製造システムを用いて、１２本の光ファイバ着色素線を備えた光ファイバテープ心線である４個の試料（試料６～９）を作製した。この際、全ての試料６～９について、セカンダリ層の表面硬化度を同一した点と、インクの接触角αを異ならせた点とを除いて、上述の実験例１の試料１～５と同様の条件で作製した。
実験例２では、図４に示す製造システムを用いて、１２本の光ファイバ着色素線を備えた光ファイバテープ心線である４個の試料（試料６～９）を作製した。この際、全ての試料６～９について、セカンダリ層の表面硬化度を同一した点と、インクの接触角αを異ならせた点とを除いて、上述の実験例１の試料１～５と同様の条件で作製した。
【0076】
この実験例２では、試料６～９について、インクの粘度を調整することで、下記の表２に示すように、当該インクの接触角αを異ならせた。そして、試料６～９について、マークの厚さｄを測定した。
【0077】
なお、インクの接触角αとして、セカンダリ層を構成する樹脂材料と同じ樹脂材料で平らなシート片を形成し、当該シート片上にインクを滴下して、接触角計を用いてシート片上におけるインクの接触角を測定した値を用いた。また、このマークの厚さｄは、マークにおいて最も厚い部分の厚さを測定し、光ファイバテープ心線を構成する１２本の光ファイバ着色素線のマークの厚さを平均することで算出した。
【0078】
【表2】
【0079】
この実験例２では、上記の表２に示すように、インクの接触角αが３０°である試料９の場合、マークの厚さが２７．０μｍであり、光ファイバ素線と着色ダイスとの間のクリアランスよりも大きくなってしまい、着色ダイスで光ファイバ素線の断線が多発したため、十分な品質の光ファイバ着色素線を製造することができなかった。
【0080】
なお、着色層の厚みは一般的に最大１０μｍであり、着色ダイスのファイバ挿通孔と光ファイバ素線との上記のクリアランスは最大でも２５μｍである。この最大クリアランスは、着色層２層分の厚みである２０μｍ（＝１０μｍ×２）に、マージン（余裕代）として５μｍを加算した値である。
【0081】
また、インクの接触角αが２２°である試料８の場合、マークの厚さが２０．３μｍであり、上記のクリアランスよりも小さいため、マークが削れることはなく光ファイバ着色素線を製造することができた。しかしながら、光ファイバ素線の線ブレの影響により、着色ダイスを通過する際に断線が生じる場合があり、長尺の光ファイバ着色素線の製造の安定性が劣った。
【0082】
これに対し、インク接触角αが１５°以下である試料６及び試料７の場合には、マークの厚さが２０μｍ以下であり、上記のクリアランスよりも十分に小さいため、着色ダイスで断線が生じることがなく、長尺の光ファイバ素線を安定して製造することができた。
【0083】
＜実験例３＞
実験例３では、先ず、図４に示す製造システムを用いて、１２本の光ファイバ着色素線を備えた光ファイバテープ心線である１６個の試料（試料１０～２５）を作製した。この際、１６個の試料の中で、４個の試料（試料１０～１３）については、光ファイバ着色素線が備える光ファイバ素線として、２３９μｍの直径ｒを有する光ファイバ素線を用いた。また、他の６個の試料（試料１４～１９）については、光ファイバ着色素線が備える光ファイバ素線として、１９３μｍの直径ｒを有する光ファイバ素線を用いた。さらに、残りの６個の試料（試料２０～２５）については、光ファイバ着色素線が備える光ファイバ素線として、１６０μｍの直径ｒを有する光ファイバ素線を用いた。
実験例３では、先ず、図４に示す製造システムを用いて、１２本の光ファイバ着色素線を備えた光ファイバテープ心線である１６個の試料（試料１０～２５）を作製した。この際、１６個の試料の中で、４個の試料（試料１０～１３）については、光ファイバ着色素線が備える光ファイバ素線として、２３９μｍの直径ｒを有する光ファイバ素線を用いた。また、他の６個の試料（試料１４～１９）については、光ファイバ着色素線が備える光ファイバ素線として、１９３μｍの直径ｒを有する光ファイバ素線を用いた。さらに、残りの６個の試料（試料２０～２５）については、光ファイバ着色素線が備える光ファイバ素線として、１６０μｍの直径ｒを有する光ファイバ素線を用いた。
【0084】
そして、いずれの試料（試料１０～２５）についても、セカンダリ層の表面硬化度を同一した点と、上記のように光ファイバ素線の直径ｒを異ならせた点と、インク体積Ｖを異ならせた点とを除いて、上述の実験例１の試料１～５と同様の条件で作製した。なお、インクの濡れ性を調整するために、試料１６～２５におけるセカンダリ層を構成する樹脂材料として、試料１０～１５におけるセカンダリ層を構成する樹脂材料とは異なるものを用いた。
【0085】
そして、試料１０～２５について、印刷ローラの印刷パターンの形状を調整することで、図５に示すように、インク体積Ｖを３００μｍ３～２２５０μｍ２の範囲内で変化させ、マークの厚さｄを測定した。この図５から、光ファイバ素線の直径ｒが小さい（光ファイバ素線の曲率が大きい）ほど、マークの厚さｄが大きくなる傾向があることが分かる。なお、この図５は、実験例３におけるインク体積Ｖとマークの厚さｄとの関係を示すグラフである。
【0086】
また、上記の傾向を検証するために、マーク体積Ｖを幾何学的に数式化した。この際、マーク体積Ｖは、上述のように、光ファイバ素線５０の軸方向に沿った長さ１μｍ（単位長さ）当たりのインクの体積であるので、図１に示すマーク４１の断面積Ｓを算出した。また、図１に示すように、光ファイバ素線５０の断面形状を真円に近似すると共に、当該光ファイバ素線５０上のマーク４１の断面形状を楕円の一部に近似した。その結果を、下記の（１３）式及び（１４）式に示す。なお、以下の（１３）式～（１８）式は、光ファイバ素線５０の中心ＣＰ（下記の（１５）式で示される真円Ｃ１及び下記の（１６）式で示される楕円Ｃ２の両方の中心ＣＰ）を原点としたＸＹ平面座標系に従う。
【0087】
【数2】
【0088】
なお、上記の（１３）式におけるｆ（ｘ、ｙ）は、光ファイバ素線５０の外周を示す真円Ｃ１の関数であり、下記の（１５）式で示される。また、上記の（１３）式におけるｇ（ｘ、ｙ）は、マーク４１の外縁と重なる楕円Ｃ２の関数であり、下記の（１６）式で示される。また、上記の（１３）式におけるθは、直線Ｌ１と直線Ｌ２との成す角度である。ここで、直線Ｌ１は、中心ＣＰと交点ＩＰ１（－ｘ０，ｙ０）とを通過する直線であり、直線Ｌ２は、当該中心ＣＰと交点ＩＰ２（ｘ０，ｙ０）とを通過する直線であり、交点ＩＰ１，ＩＰ２は、下記の（１５）式の真円Ｃ１と（１６）式の楕円Ｃ２との交点である。
【0089】
【数3】
【0090】
また、上記の（１４）式におけるｔａｎＡ及びｔａｎＢは、下記の（１７）式及び（１８）式で示される。下記の（１７）式におけるＡは、直線Ｌ３と直線Ｌ４との成す角度であり、下記の（１８）式におけるＢは、直線Ｌ３と直線Ｌ５との成す角度である。ここで、直線Ｌ３は、交点ＩＰ１，ＩＰ２を通過する直線であり、直線Ｌ４は、（１５）式の真円Ｃ１上の交点ＩＰ１における接線であり、直線Ｌ５は、（１６）式の楕円Ｃ２上の交点ＩＰ１における接線である。
【0091】
【数4】
【0092】
上記の（１３）式及び（１４）式によれば、インクの断面積Ｓとインクの接触角αからマークの厚さｄを算出することができる。従って、インク体積Ｖとインクの接触角αを調整することで、マークの厚さｄを調整することが可能であると共に、インク体積Ｖを大きくするほどマークの厚さｄも大きくなる傾向があることが分かる。
【0093】
さらに、上記の（１３）式及び（１４）式に基づいて、図５に示す実測値に対してフィッテイングを行った。その結果、図５においてフィッティング直線ＦＬ１に示すように、光ファイバ素線の直径が２３９μｍである試料１０～１３については、接触角αを１２°とした場合に、実測値に近い直線を得ることができた。また、図５においてフィッティング直線ＦＬ２，ＦＬ３に示すように、光ファイバ素線の直径が１９３μｍ或いは１６０μｍである試料１４～２５については、接触角αが１５°とした場合に、実測値に近い直線を得ることができた。
【0094】
さらに、この実験例３では、図４に示す製造システムを用いて、１２本の光ファイバ着色素線を備えた光ファイバテープ心線である１２個の試料（試料２６～３７）を作製した。１２個の試料の中で、４個の試料（試料２６～２９）については、光ファイバ着色素線が備える光ファイバ素線として、２３９μｍの直径ｒを有する光ファイバ素線を用いた。また、他の４個の試料（試料３０～３３）については、光ファイバ着色素線が備える光ファイバ素線として、１９３μｍの直径ｒを有する光ファイバ素線を用いた。さらに、残りの４個の試料（試料３４～３７）については、光ファイバ着色素線が備える光ファイバ素線として、１６０μｍの直径ｒを有する光ファイバ素線を用いた。
【0095】
また、いずれの試料２６～３７についても、セカンダリ層の表面硬化度を同一した点と、上記の光ファイバ素線の直径ｒを異ならせた点と、インク体積Ｖを異ならせた点とを除いて、上述の実験例１の試料１～５と同様の条件で作製した。
【0096】
そして、試料２６～３７について、印刷ローラの印刷パターンの形状を調整することで、下の表３に示すように、インク体積Ｖを６００μｍ３～３６００μｍ２の範囲内で変化させ、マークの厚さｄを測定した。
【0097】
【表3】
【0098】
上記の表３に示すように、インク体積Ｖが３６００μｍ３である試料２９、試料３３、及び、試料３７では、いずれもマークの厚さｄが２５μｍを超えており、光ファイバ素線と着色ダイスとの間のクリアランスよりも大きくなってしまい、着色ダイスで光ファイバ素線の断線が多発したため、十分な品質の光ファイバ着色素線を製造することができなかった。なお、このクリアランスは、実験例２でも述べたように、２５μｍである。
【0099】
また、インク体積Ｖが２６００μｍ３である試料２８、試料３２、及び、試料３６では、いずれもマークの厚さｄが２０～２５μｍの範囲内であり、上記のクリアランスよりも小さいため、マークが削れることはなく光ファイバ着色素線を製造することができた。しかしながら、光ファイバ素線の線ブレの影響により、着色ダイスを通過する際に断線が生じる場合があり、長尺の光ファイバ着色素線の製造の安定性が劣った。
【0100】
これに対し、インク体積Ｖが１６００μｍ３以下である試料２６、試料２７、試料３０、試料３１、試料３４、及び、試料３５では、いずれもマークの厚さｄが２０μｍ以下であり、上記のクリアランスよりも十分に小さいため、着色ダイスで断線が生じることがなく、長尺の光ファイバ素線を安定して製造することができた。また、上記の表３より、インク体積Ｖが大きいほど、マークの厚さｄが大きくなる傾向があることが分かる。
【0101】
さらに、上記の表３に示すように、光ファイバ素線の直径ｒに対するインク体積Ｖの比（Ｖ／ｒ）が１０以下の場合に、光ファイバ素線が細径の光ファイバである場合にもマークの厚さを適切にすることができ、長尺の光ファイバ素線を安定して製造することができた。
【符号の説明】
【0102】
１…光ファイバケーブル
１０…光ファイバユニット
２０…光ファイバテープ心線
２１…連結部
３０…光ファイバ着色素線
３１…着色層
４０…マーク付き光ファイバ素線
４１…マーク
５０…光ファイバ素線
６０…光ファイバ裸線
６１…コア
６２…クラッド
７０…樹脂層
７１…プライマリ層
７２…セカンダリ層
８０…押さえ巻き
９０…シース
９５…抗張力体
９６…リップコード
１００…製造システム
１１０…印刷装置
１２０…インク槽
１２１…インク
１３０…供給ローラ
１４０…印刷ローラ
１４１…印刷パターン
１５０…ドクタブレード
１６０…硬化装置
１７０…着色ダイス
１８０…硬化装置
１０…光ファイバユニット
２０…光ファイバテープ心線
２１…連結部
３０…光ファイバ着色素線
３１…着色層
４０…マーク付き光ファイバ素線
４１…マーク
５０…光ファイバ素線
６０…光ファイバ裸線
６１…コア
６２…クラッド
７０…樹脂層
７１…プライマリ層
７２…セカンダリ層
８０…押さえ巻き
９０…シース
９５…抗張力体
９６…リップコード
１００…製造システム
１１０…印刷装置
１２０…インク槽
１２１…インク
１３０…供給ローラ
１４０…印刷ローラ
１４１…印刷パターン
１５０…ドクタブレード
１６０…硬化装置
１７０…着色ダイス
１８０…硬化装置
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】