特開 2024-113541 検査装置及び検査方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024113541

(43)【公開日】2024-08-22

(54)【発明の名称】検査装置及び検査方法

(51)【国際特許分類】

   G01N 21/88 20060101AFI20240815BHJP

   G02B 21/00 20060101ALN20240815BHJP

【ＦＩ】

G01N21/88 Z

G02B21/00

【審査請求】未請求

【請求項の数】3

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023018607

(22)【出願日】2023-02-09

(71)【出願人】

【識別番号】000219314

【氏名又は名称】東レエンジニアリング株式会社

(71)【出願人】

【識別番号】301014904

【氏名又は名称】東レエンジニアリング先端半導体ＭＩテクノロジー株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001427

【氏名又は名称】弁理士法人前田特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】高橋 朋也

(72)【発明者】

【氏名】大▲美▼ 英一

【テーマコード（参考）】

2G051

2H052

【Ｆターム（参考）】

2G051AA51

2G051AB01

2G051AB02

2G051EA23

2H052AA05

2H052AB01

2H052AD02

(57)【要約】

【課題】微分干渉顕微鏡にて被検査対象を投影して像を得た場合であっても、像内における光学情報のバラツキをシェーディング補正で好適に抑制し得る検査手法を提供する。
【解決手段】検査装置１は、互いに直交する２つの偏光Ｌａ，ＬｂのシャーＨを変化させるプリズム１１が設けられた微分干渉顕微鏡１０にて基板Ｗの表面Ｗａを投影して像Ｇを得るとともに、像Ｇに対してシェーディング補正を行って基板Ｗの表面Ｗａを検査する。プリズム１１は、複数のシャーＨに対応する複数のプリズム位置Ｋに移動可能である。検査装置１には、複数のプリズム位置Ｋに対応し且つシェーディング補正を行うための複数のシェーディング補正データＸが、保持されいる。シェーディング補正は、プリズム位置Ｋ毎に得られたシェーディング補正データＸに基づいて行われる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

互いに直交する２つの偏光のシャーを変化させるプリズムが設けられた微分干渉顕微鏡にて被検査対象を投影して像を得るとともに前記像に対してシェーディング補正を行って前記被検査対象を検査する検査装置であって、
前記プリズムは、複数の前記シャーに対応する複数のプリズム位置に移動可能であり、
複数の前記プリズム位置に対応し且つ前記シェーディング補正を行うための複数のシェーディング補正データが、保持されており、
前記シェーディング補正は、前記プリズム位置毎に得られた前記シェーディング補正データに基づいて行われる、検査装置。

【請求項2】

請求項１に記載の検査装置であって、
前記プリズムを複数の前記プリズム位置に移動させるプリズム移動機構を備え、
複数の前記シェーディング補正データは、前記プリズム移動機構における複数の出力値に対応している、検査装置。

【請求項3】

互いに直交する２つの偏光のシャーを変化させるプリズムが設けられた微分干渉顕微鏡にて被検査対象を投影して像を得るとともに前記像に対してシェーディング補正を行って前記被検査対象を検査する検査方法であって、
前記プリズムは、複数の前記シャーに対応する複数のプリズム位置に移動可能であり、
複数の前記プリズム位置に対応し且つ前記シェーディング補正を行うための複数のシェーディング補正データを、保持して、
前記シェーディング補正を、前記プリズム位置毎に得られた前記シェーディング補正データに基づいて行う、検査方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、検査装置及び検査方法に関する。

【背景技術】

【0002】

例えば特許文献１に示すように、微分干渉顕微鏡を用いて被検査対象（例えば基板の表面など）を検査する手法が知られている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開平５－２５６７９５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

微分干渉顕微鏡は、被検査対象（例えば基板の表面など）を投影して像を得る。微分干渉顕微鏡には、プリズムが設けられている。微分干渉顕微鏡では、光源から出射された光は、プリズムを通過して、互いに直交する２つの偏光に変換されるとともに、それらの光路間に微小なシャー（横方向のずれ）を発生させる。２つの偏光は、被検査対象における異なる２点へ入射して反射する。反射した２つの偏光は、プリズムを再び通過して同じ光路に合流する。

【0005】

２つの偏光が入射した２点間に高低差（勾配）がある場合、２つの偏光の位相が互いにずれて、２つの偏光は、合流時に干渉する。２つの偏光の干渉強度は、それらが入射した２点間の高低差の大きさによって、異なる。このため、被検査対象に高低差の分布があると、明暗のコントラストが発生して凹凸が強調される。このように、微分干渉顕微鏡では、通常の光学系（例えば同軸落射照明など）では視認できないような被検査対象における微小な段差を可視化する。

【0006】

プリズムは、そのプリズム位置を変化させることによって、２つの偏光同士のシャー（横方向のずれ）を変化させる。これにより、被検査対象における２つの偏光が入射する２点間の高低差が変化して、被検査対象を反射する２つの偏光の位相差が調整される。

【0007】

ところで、被検査対象を投影して得られる像では、像内の各領域間において光学情報（例えば輝度など）のバラツキ（ムラ）が生じることがある。このような像内における光学情報のバラツキを抑制するために、像に対してシェーディング補正が行われる。

【0008】

しかしながら、微分干渉顕微鏡によって被検査対象を投影して像を得た場合、像内における光学情報のバラツキの態様が、プリズムにおけるプリズム位置（２つの偏光のシャー、２つの偏光の位相差）毎に異なる。

【0009】

このため、微分干渉顕微鏡にて被検査対象を投影して像を得た場合には、像内における光学情報のバラツキをシェーディング補正で抑制するのが特に難しかった。

【0010】

本開示は斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、微分干渉顕微鏡にて被検査対象を投影して像を得た場合であっても、像内における光学情報のバラツキをシェーディング補正で好適に抑制し得る検査手法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0011】

本開示に係る検査装置は、互いに直交する２つの偏光のシャーを変化させるプリズムが設けられた微分干渉顕微鏡にて被検査対象を投影して像を得るとともに前記像に対してシェーディング補正を行って前記被検査対象を検査する検査装置であって、前記プリズムは、複数の前記シャーに対応する複数のプリズム位置に移動可能であり、複数の前記プリズム位置に対応し且つ前記シェーディング補正を行うための複数のシェーディング補正データが、保持されており、前記シェーディング補正は、前記プリズム位置毎に得られた前記シェーディング補正データに基づいて行われる。

【0012】

かかる構成によれば、微分干渉顕微鏡では、プリズムは、複数のプリズム位置を移動可能である。プリズムは、そのプリズム位置Ｋを変化させることによって、２つの偏光同士のシャーを変化させる。２つの偏光における複数のシャーは、プリズムにおける複数のプリズム位置に対応するように、複数パターンある。２つの偏光のシャーは、２つの偏光の位相差に関係する。

【0013】

ここで、微分干渉顕微鏡によって被検査対象を投影して像を得た場合、像内における光学情報のバラツキの態様は、プリズムにおけるプリズム位置（２つの偏光のシャー、２つの偏光の位相差）毎に異なる。

【0014】

そこで、検査装置は、複数のプリズム位置に対応するように、複数のシェーディング補正データを保持している。検査装置は、プリズムにおける実際のプリズム位置に応じて、複数のシェーディング補正データの中から、当該プリズム位置に対応するシェーディング補正データを得る。検査装置は、得られたシェーディング補正データに基づいて、像に対してシェーディング補正を行う。

【0015】

このように、プリズム位置毎に異なるシェーディング補正データを用意することによって、プリズムにおける実際のプリズム位置に応じて、すなわち像内における光学情報のバラツキの態様に応じて、像に対して最適なシェーディング補正を行って、像内における光学情報のバラツキを好適に抑制することができる。

【0016】

以上、微分干渉顕微鏡にて被検査対象を投影して像を得た場合であっても、像内における光学情報のバラツキをシェーディング補正で好適に抑制し得る検査手法を提供することができる。

【0017】

一実施形態では、前記プリズムを複数の前記プリズム位置に移動させるプリズム移動機構を備え、複数の前記シェーディング補正データは、前記プリズム移動機構における複数の出力値に対応している。

【0018】

かかる構成によれば、複数のシェーディング補正データをプリズム移動機構における複数の出力値に対応させることによって、プリズムにおける複数のプリズム位置を直接的に測定しなくても、シェーディング補正データを得ることができる。

【0019】

本開示に係る検査方法は、互いに直交する２つの偏光のシャーを変化させるプリズムが設けられた微分干渉顕微鏡にて被検査対象を投影して像を得るとともに前記像に対してシェーディング補正を行って前記被検査対象を検査する検査方法であって、前記プリズムは、複数の前記シャーに対応する複数のプリズム位置に移動可能であり、複数の前記プリズム位置に対応し且つ前記シェーディング補正を行うための複数のシェーディング補正データを、保持して、前記シェーディング補正を、前記プリズム位置毎に得られた前記シェーディング補正データに基づいて行う。

【発明の効果】

【0020】

本開示によれば微分干渉顕微鏡にて被検査対象を投影して像を得た場合であっても、像内における光学情報のバラツキをシェーディング補正で好適に抑制し得る検査手法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0021】

【図1】図１は、検査装置を模式的に示す。

【図2】図２は、プリズムが第１プリズム位置にある場合において２つの偏光が基板の表面に入射したときの第１シャー及び第１高低差を示す。

【図3】図３は、プリズムが第２プリズム位置にある場合において２つの偏光が基板の表面に入射したときの第２シャー及び第２高低差を示す。

【図4】図４は、プリズムが第１プリズム位置にある場合に微分干渉顕微鏡によって基板の表面を投影して得られる第１像に対するシェーディング補正の態様を示す。

【図5】図５は、プリズムが第２プリズム位置にある場合に微分干渉顕微鏡によって基板の表面を投影して得られる第２像に対するシェーディング補正の態様を示す。

【発明を実施するための形態】

【0022】

以下、本開示の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本開示、その適用物あるいはその用途を制限することを意図するものでは全くない。

【0023】

（検査装置）
図１は、検査装置１を模式的に示す。検査装置１は、被検査対象としての基板Ｗの表面Ｗａを検査する。基板Ｗは、例えば半導体基板である。基板Ｗの表面Ｗａには、欠陥Ｎが形成されている。検査装置１は、欠陥Ｎを検出してもよい。

【0024】

欠陥Ｎとして、例えば、異物、クラック（傷、ひび割れ、裂け目、亀裂）、エッジリンス不良、スルーホール異常、塗膜ムラ、剥がれ、スクラッチ、ボンディングパッド異常、色ムラ、パターン異常、染み、変色、変形、などがある。本例では、欠陥Ｎとして、クラックを例示する。

【0025】

検査装置１は、微分干渉顕微鏡１０と、プリズム移動機構としてのアクチュエータ２０と、制御部としてのコントローラ３０と、を備える。

【0026】

検査装置１は、微分干渉顕微鏡１０にて、基板Ｗの表面Ｗａを投影して像Ｇを得る。微分干渉顕微鏡１０には、プリズム１１が設けられている。微分干渉顕微鏡１０では、光源（図示せず）から出射された光Ｌは、プリズム１１を通過して、互いに直交する２つの偏光Ｌａ，Ｌｂに変換されるとともに、それらの光路間に微小なシャー（横方向のずれ）Ｈを発生させる。

【0027】

ここで、横方向は、２つの偏光Ｌａ，Ｌｂの光路方向（進行方向）に直交する方向である。

【0028】

２つの偏光Ｌａ，Ｌｂは、基板Ｗの表面Ｗａにおける異なる２点Ｐａ，Ｐｂへ入射して反射する。反射した２つの偏光Ｌａ，Ｌｂは、プリズム１１を再び通過して同じ光路に合流して、受光器（図示せず）に至る。

【0029】

２つの偏光Ｌａ，Ｌｂが入射した２点Ｐａ，Ｐｂ間に高低差（勾配）δがある場合、２つの偏光Ｌａ，Ｌｂの位相が互いにずれて、２つの偏光Ｌａ，Ｌｂは、合流時に干渉する。２つの偏光Ｌａ，Ｌｂの干渉強度は、それらが入射した２点Ｐａ，Ｐｂ間の高低差δの大きさによって、異なる。

【0030】

このため、基板Ｗの表面Ｗａに高低差δの分布があると、明暗のコントラストが発生して凹凸が強調される。このように、微分干渉顕微鏡１０では、通常の光学系（例えば同軸落射照明など）では視認できないような基板Ｗの表面Ｗａにおける微小な段差を可視化する。

【0031】

プリズム１１は、複数のプリズム位置Ｋに移動可能である。プリズム１１の移動方向は、横方向である。プリズム１１は、そのプリズム位置Ｋを変化させることによって、２つの偏光Ｌａ，Ｌｂ同士のシャーＨを変化させる。これにより、基板Ｗの表面Ｗａにおける２つの偏光Ｌａ，Ｌｂが入射する２点Ｐａ，Ｐｂ間の高低差δが変化して、基板Ｗの表面Ｗａを反射する２つの偏光Ｌａ，Ｌｂの位相差が調整される。

【0032】

２つの偏光Ｌａ，Ｌｂ同士のシャーＨは、プリズム１１におけるプリズム位置Ｋのパターン数に対応するように、複数パターンある。基板Ｗの表面Ｗａにおける２つの偏光Ｌａ，Ｌｂが入射する２点Ｐａ，Ｐｂ間の高低差δは、プリズム１１におけるプリズム位置Ｋのパターン数に対応するように、複数パターンある。２つの偏光Ｌａ，Ｌｂにおける位相差は、プリズム１１におけるプリズム位置Ｋのパターン数に対応するように、複数パターンある）。

【0033】

プリズム１１における複数のプリズム位置Ｋは、２つの偏光Ｌａ，Ｌｂ同士の複数のシャーＨに対応する。プリズム１１における複数のプリズム位置Ｋは、基板Ｗの表面Ｗａにおける２つの偏光Ｌａ，Ｌｂが入射する２点Ｐａ，Ｐｂ間の複数の高低差δに、対応する。プリズム１１における複数のプリズム位置Ｋは、２つの偏光Ｌａ，Ｌｂにおける複数の位相差に対応する。

【0034】

本例では、複数のプリズム位置Ｋとして第１プリズム位置Ｋ１及び第２プリズム位置Ｋ２を、複数のシャーＨとして第１シャーＨ１及び第２シャーＨ２を、複数の高低差δとして第１高低差δ１及び第２高低差δ２を、例示する。

【0035】

図２は、プリズム１１が第１プリズム位置Ｋ１にある場合において２つの偏光Ｌａ，Ｌｂが基板Ｗの表面Ｗａに入射したときの第１シャーＨ１及び第１高低差δ１を示す。図３は、プリズム１１が第２プリズム位置Ｋ２にある場合において２つの偏光Ｌａ，Ｌｂが基板Ｗの表面Ｗａに入射したときの第２シャーＨ２及び第２高低差δ２を示す。

【0036】

第１プリズム位置Ｋ１と第２プリズム位置Ｋ２とは、横方向において互いに異なる。第１シャーＨ１及び第１高低差δ１は、第１プリズム位置Ｋ１に対応している。第２シャーＨ２及び第２高低差δ２は、第２プリズム位置Ｋ２に対応している。第１シャーＨ１と第２シャーＨ２とは、互いに異なる。第１高低差δ１と第２高低差δ２とは、互いに異なる。

【0037】

第１プリズム位置Ｋ１のプリズム１１を通過する２つの偏光Ｌａ，Ｌｂは、第２プリズム位置Ｋ２のプリズム１１を通過する２つの偏光Ｌａ，Ｌｂに比較して、早い段階（上流側）で斜めから真直（平行）に変化する。このため、第１シャーＨ１は、第２シャーＨ２よりも小さい。また、第１シャーＨ１が第２シャーＨ２よりも小さいので、基板Ｗの表面Ｗａにおける勾配が一定と仮定した場合、第１高低差δ１は、第２高低差δ２よりも小さい。

【0038】

アクチュエータ２０は、プリズム１１を複数のプリズム位置Ｋに移動させる。本例では、アクチュエータ２０は、プリズム１１を、第１プリズム位置Ｋ１と第２プリズム位置Ｋ２とに、移動させる。

【0039】

アクチュエータ２０は、例えば、電磁ソレノイドである。アクチュエータ２０（電磁ソレノイド）では、プランジャ（可動鉄心）２１が横方向に進退する。プランジャ２１の先端は、プリズム１１の横方向一端部に接続されている。アクチュエータ２０は、プランジャ２１を横方向に進退させることによって、プリズム１１を複数のプリズム位置Ｋ（第１プリズム位置Ｋ１及び第２プリズム位置Ｋ２）に移動させる。

【0040】

アクチュエータ２０における複数の出力値Ｑは、プリズム１１における複数のプリズム位置Ｋに対応する。本例では、複数の出力値Ｑとして、第１出力値Ｑ１及び第２出力値Ｑ２を例示する。第１出力値Ｑ１は、第１プリズム位置Ｋ１に対応する。第２出力値Ｑ２は、第２プリズム位置Ｋ２に対応する。第１出力値Ｑ１と第２出力値Ｑ２とは、互いに異なる。

【0041】

出力値Ｑ（第１出力値Ｑ１及び第２出力値Ｑ２）は、具体的には、アクチュエータ２０に与えられる電圧や、プランジャ２１の横方向位置（例えば突出寸法）など、様々ある。出力値Ｑは、センサ等によって検知される。

【0042】

ところで、基板Ｗの表面Ｗａを投影して得られる像Ｇでは、像Ｇ内の各領域間において光学情報としての輝度のバラツキ（ムラ）が生じることがある。なお、像Ｇは、複数の画素に分割されており、各画素には０～２５５の輝度の数値が与えられている。輝度の数値が大きいほど明るく、輝度の数値が小さいほど暗い。

【0043】

このような像Ｇ内における輝度のバラツキを抑制するために、コントローラ３０は、像Ｇに対してシェーディング補正を行う。なお、コントローラ３０は、例えばマイコン及びプログラムで構成されている。

【0044】

しかしながら、微分干渉顕微鏡１０によって基板Ｗの表面Ｗａを投影して像Ｇを得た場合に、像Ｇ内における輝度のバラツキの態様は、プリズム１１におけるプリズム位置Ｋ（２つの偏光のシャー、２つの偏光Ｌａ，Ｌｂの位相差）毎に異なる。

【0045】

図４は、プリズム１１が第１プリズム位置Ｋ１にある場合に微分干渉顕微鏡１０によって基板Ｗの表面Ｗａを投影して得られる第１像Ｇ１に対するシェーディング補正の態様を示す。図５は、プリズム１１が第２プリズム位置Ｋ２にある場合に微分干渉顕微鏡１０によって基板Ｗの表面Ｗａを投影して得られる第２像Ｇ２に対するシェーディング補正の態様を示す。第１像Ｇ１は、第１プリズム位置Ｋ１に対応する。第２像Ｇ２は、第２プリズム位置Ｋ２に対応する。

【0046】

図４，５に示すように、プリズム１１が第１プリズム位置Ｋ１にある場合におけるシェーディング補正前（原画像）での第１像Ｇ１である補正前第１像Ｇ１ａ内における輝度のバラツキの態様と、プリズム１１が第２プリズム位置Ｋ２にある場合におけるシェーディング補正前での第２像Ｇ２である補正前第２像Ｇ２ａ内における輝度のバラツキの態様とは、互いに異なる。補正前第１像Ｇ１ａは、第１プリズム位置Ｋ１に対応する。補正前第２像Ｇ２ａは、第２プリズム位置Ｋ２に対応する。

【0047】

第１プリズム位置Ｋ１での補正前第１像Ｇ１ａは、全体的にやや暗く、四隅が若干明るい。第２プリズム位置Ｋ２での補正前第２像Ｇ２ａは、補正前第１像Ｇ１ａに比較して全体的に明るく、特に四隅が顕著に明るい。

【0048】

微分干渉顕微鏡１０にて基板Ｗの表面Ｗａを投影して像Ｇを得た場合には、像Ｇ内における輝度のバラツキをシェーディング補正で抑制するのが特に難しかった。

【0049】

本実施形態では、以下の工夫を施すことによって、微分干渉顕微鏡１０にて基板Ｗの表面Ｗａを投影して像Ｇを得た場合であっても、像Ｇ内における輝度のバラツキをシェーディング補正で好適に抑制し得る検査手法を提供する。

【0050】

（シェーディング補正データ）
図１に示すように、検査装置１のコントローラ３０には、複数のシェーディング補正データＸが、保持（保存、格納、登録）されている。複数のシェーディング補正データＸは、複数のプリズム位置Ｋに対応する。換言すると、複数のシェーディング補正データＸは、アクチュエータ２０における複数の出力値Ｑに対応する。

【0051】

シェーディング補正データＸは、像Ｇに対してシェーディング補正を行うためにある。複数のシェーディング補正データＸは、検査装置１のコントローラ３０の記憶部に予め保持されている。

【0052】

シェーディング補正データＸは、複数の画素に分割されており、各画素には０～２５５の輝度の数値が与えられている。

【0053】

図４，５に示すように、本例では、複数のシェーディング補正データＸとして、第１シェーディング補正データＸ１及び第２シェーディング補正データＸ２を、例示する。第１シェーディング補正データＸ１は、第１プリズム位置Ｋ１に対応する。第２シェーディング補正データＸ２は、第２プリズム位置Ｋ２に対応する。第１シェーディング補正データＸ１は、第１出力値Ｑ１に対応する。第２シェーディング補正データＸ２は、第２出力値Ｑ２に対応する。

【0054】

第１プリズム位置Ｋ１では、第１シェーディング補正データＸ１は、補正前第１像Ｇ１ａに対して適用される。第１シェーディング補正データＸ１は、補正前第１像Ｇ１ａと逆の関係にある。第１シェーディング補正データＸ１は、全体的にやや明るく、四隅が若干暗い。

【0055】

第２プリズム位置Ｋ２では、第２シェーディング補正データＸ２は、補正前第２像Ｇ２ａに対して適用される。第２シェーディング補正データＸ２は、補正前第２像Ｇ２ａと逆の関係にある。第２シェーディング補正データＸ２は、第１シェーディング補正データＸ１に比較して全体的に暗く、特に四隅が顕著に暗い。

【0056】

第１シェーディング補正データＸ１は、例えば、以下のように設定される。ユーザは、プリズム１１を第１プリズム位置Ｋ１に動かすとともに、第１プリズム位置Ｋ１での微分干渉顕微鏡１０にて基板Ｗの表面Ｗａを投影することによって、補正前第１像Ｇ１を得る。ユーザは、得られた補正前第１像Ｇ１と逆の関係になるように、第１シェーディング補正データＸ１を作成する。ユーザは、作成された第１シェーディング補正データＸ１を、検査装置１のコントローラ３０に対して入力して記憶させる。第２シェーディング補正データＸ２についても、同様である。

【0057】

検査装置１のコントローラ３０は、プリズム位置Ｋ毎に得られたシェーディング補正データＸに基づいて、シェーディング補正を行う。検査装置１のコントローラ３０は、プリズム１１における実際（現在）のプリズム位置Ｋに関する情報を得て（呼び出して）、得られたプリズム位置Ｋに対応するシェーディング補正データＸに基づいて、像Ｇに対してシェーディング補正を行う。

【0058】

図４に示すように、検査装置１のコントローラ３０は、プリズム１１が第１プリズム位置Ｋ１にあるとき、補正前第１像Ｇ１ａに対して第１シェーディング補正データＸ１を適用して、補正後第１像Ｇ１ｂを得る。補正後第１像Ｇ１ｂでは、輝度のバラツキが無く一様である。

【0059】

図５に示すように、検査装置１のコントローラ３０は、プリズム１１が第２プリズム位置Ｋ２にあるとき、補正前第２像Ｇ２ａに対して第２シェーディング補正データＸ２を適用して、補正後第２像Ｇ２ｂを得る。補正後第２像Ｇ２ｂでは、輝度のバラツキが無く一様である。

【0060】

（作用効果）
本実施形態によれば、微分干渉顕微鏡１０では、プリズム１１は、複数のプリズム位置Ｋ（第１プリズム位置Ｋ１、第２プリズム位置Ｋ２）を移動可能である。プリズム１１は、そのプリズム位置Ｋを変化させることによって、２つの偏光Ｌａ，Ｌｂ同士のシャーＨ（第１シャーＨ１、第２シャーＨ２）を変化させる。

【0061】

２つの偏光Ｌａ，Ｌｂにおける複数のシャーＨ（第１シャーＨ１、第２シャーＨ２）は、プリズム１１における複数のプリズム位置Ｋ（第１プリズム位置Ｋ１、第２プリズム位置Ｋ２）に対応するように、複数パターンある。２つの偏光Ｌａ，ＬｂのシャーＨは、２つの偏光Ｌａ，Ｌｂの位相差に関係する。

【0062】

ここで、微分干渉顕微鏡１０によって基板Ｗの表面Ｗａを投影して像Ｇ（補正前第１像Ｇ１ａ、補正前第２像Ｇ２ａ）を得た場合、像Ｇ内における輝度のバラツキの態様は、プリズム１１におけるプリズム位置Ｋ（第１プリズム位置Ｋ１、第２プリズム位置Ｋ２）毎に異なる。

【0063】

そこで、検査装置１は、複数のプリズム位置Ｋ（第１プリズム位置Ｋ１、第２プリズム位置Ｋ２）に対応するように、複数のシェーディング補正データＸ（第１シェーディング補正データＸ１、第２シェーディング補正データＸ２）を保持している。

【0064】

検査装置１は、プリズム１１における実際のプリズム位置Ｋ（第１プリズム位置Ｋ１、第２プリズム位置Ｋ２）に応じて、複数のシェーディング補正データＸ（第１シェーディング補正データＸ１、第２シェーディング補正データＸ２）の中から、当該プリズム位置Ｋに対応するシェーディング補正データＸを得る。

【0065】

検査装置１は、得られたシェーディング補正データＸ（第１シェーディング補正データＸ１、第２シェーディング補正データＸ２）に基づいて、像Ｇ（補正前第１像Ｇ１ａ、補正前第２像Ｇ２ａ）に対してシェーディング補正を行う。

【0066】

このように、検査装置１は、プリズム位置Ｋ（第１プリズム位置Ｋ１、第２プリズム位置Ｋ２）毎に異なるシェーディング補正データＸ（第１シェーディング補正データＸ１、第２シェーディング補正データＸ２）を用意する。

【0067】

これにより、検査装置１は、プリズム１１における実際のプリズム位置Ｋ（第１プリズム位置Ｋ１、第２プリズム位置Ｋ２）に応じて、すなわち像Ｇ（補正前第１像Ｇ１ａ、補正前第２像Ｇ２ａ）内における輝度のバラツキの態様に応じて、像Ｇに対して最適なシェーディング補正を行って、像Ｇ内における輝度のバラツキを好適に抑制することができる。

【0068】

以上、微分干渉顕微鏡１０にて基板Ｗの表面Ｗａを投影して像Ｇを得た場合であっても、像Ｇ内における輝度のバラツキをシェーディング補正で好適に抑制し得る検査手法を提供することができる。

【0069】

複数のシェーディング補正データＸ（第１シェーディング補正データＸ１、第２シェーディング補正データＸ２）をアクチュエータ２０における複数の出力値Ｑ（第１出力値Ｑ１、第２出力値Ｑ２）に対応させることによって、プリズム１１における複数のプリズム位置Ｋ（第１プリズム位置Ｋ１、第２プリズム位置Ｋ２）を直接的に測定しなくても、シェーディング補正データＸを得ることができる。

【0070】

（その他の実施形態）
以上、本開示を好適な実施形態により説明してきたが、こうした記述は限定事項ではなく、勿論、種々の改変が可能である。

【0071】

アクチュエータ（プリズム移動機構）２０は、ボールねじ機構やシリンダ機構などでもよい。

【0072】

プリズム１１における複数のプリズム位置Ｋを、位置センサ等によって、直接的に測定してもよい。

【0073】

被検査対象Ｗは、基板Ｗに限定されない。被検査対象は、板材でなくてもよい。被検査対象は、半導体に限定されず、例えば、ガラスや金属や樹脂その他でもよい。

【0074】

光学情報として、輝度以外の指標を用いてもよい。光学情報として、輝度の他に、例えば、色相、明度、暗度、彩度、光度、照度などがある。

【0075】

本開示に係る検査方法は、互いに直交する２つの偏光Ｌａ，ＬｂのシャーＨを変化させるプリズム１１が設けられた微分干渉顕微鏡１０にて被検査対象（基板Ｗ）の表面Ｗａを投影して像Ｇを得るとともに、像Ｇに対してシェーディング補正を行って被検査対象（基板Ｗ）の表面Ｗａを検査する。

【0076】

この検査方法では、プリズム１１は、複数のシャーＨに対応する複数のプリズム位置Ｋに移動可能である。この検査方法では、複数のプリズム位置Ｋに対応し且つシェーディング補正を行うための複数のシェーディング補正データＸを、保持して、シェーディング補正を、プリズム位置Ｋ毎に得られたシェーディング補正データＸに基づいて行う。

【産業上の利用可能性】

【0077】

本開示は、検査装置及び検査方法に適用できるので、極めて有用であり、産業上の利用可能性が高い。

【符号の説明】

【0078】

Ｗ 基板（被検査対象）
Ｗａ 表面
Ｎ 欠陥
Ｇ 像
Ｇ１ 第１像
Ｇ１ａ 補正前第１像
Ｇ１ｂ 補正後第１像
Ｇ２ 第２像
Ｇ２ａ 補正前第２像
Ｇ２ｂ 補正後第２像
Ｌ 光
Ｌａ 偏光
Ｌｂ 偏光
Ｐａ 点
Ｐｂ 点
Ｈ シャー
Ｈ１ 第１シャー
Ｈ２ 第２シャー
δ 高低差
δ１ 第１高低差
δ２ 第２高低差
Ｋ プリズム位置
Ｋ１ 第１プリズム位置
Ｋ２ 第２プリズム位置
Ｑ 出力値
Ｑ１ 第１出力値
Ｑ２ 第２出力値
Ｘ シェーディング補正データ
Ｘ１ 第１シェーディング補正データ
Ｘ２ 第２シェーディング補正データ
１ 検査装置
１０ 微分干渉顕微鏡
１１ プリズム
２０ アクチュエータ（プリズム移動機構）
２１ プランジャ
３０ コントローラ（制御部）

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】