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特開2024-113586レイアウト生成装置、レイアウト生成方法、及びプログラム
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024113586
(43)【公開日】2024-08-22
(54)【発明の名称】レイアウト生成装置、レイアウト生成方法、及びプログラム
(51)【国際特許分類】
G03F 1/00 20120101AFI20240815BHJP
G03F 1/36 20120101ALI20240815BHJP
G03F 1/74 20120101ALI20240815BHJP
H01L 21/82 20060101ALI20240815BHJP
【ＦＩ】
G03F1/00 M
G03F1/36
G03F1/74
H01L21/82 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】16
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023018679
(22)【出願日】2023-02-09
(71)【出願人】
【識別番号】318010018
【氏名又は名称】キオクシア株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003708
【氏名又は名称】弁理士法人鈴榮特許綜合事務所
(72)【発明者】
【氏名】木村 泰己
【テーマコード（参考）】
2H195
5F064
【Ｆターム（参考）】
2H195AC07
2H195BB02
5F064HH06
(57)【要約】
【課題】レイアウトの設計負荷の増加を抑制する。
【解決手段】一実施形態のレイアウト生成装置は、フォトマスクの設計データから複数の原点を抽出する抽出部と、複数の原点の各々に対応する領域を取得する取得部と、複数の原点を１又は複数のグループに分類するグループ化部と、１又は複数のグループの各々に対応する原点の分布を階層化する階層化部と、を備える。同一のグループには、対応する領域内のパターンが同等である原点の組が分類される。階層化部は、分布のうち最上の階層の第１分布から周期性を抽出することと、周期性に基づいて第１分布を第２分布に集約することと、第２分布を第１分布の上位に階層化することと、を繰り返すように構成される。
【選択図】図４
【解決手段】一実施形態のレイアウト生成装置は、フォトマスクの設計データから複数の原点を抽出する抽出部と、複数の原点の各々に対応する領域を取得する取得部と、複数の原点を１又は複数のグループに分類するグループ化部と、１又は複数のグループの各々に対応する原点の分布を階層化する階層化部と、を備える。同一のグループには、対応する領域内のパターンが同等である原点の組が分類される。階層化部は、分布のうち最上の階層の第１分布から周期性を抽出することと、周期性に基づいて第１分布を第２分布に集約することと、第２分布を第１分布の上位に階層化することと、を繰り返すように構成される。
【選択図】図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
フォトマスクの設計データから複数の原点を抽出する抽出部と、
前記複数の原点の各々に対応する領域を取得する取得部と、
前記複数の原点を１又は複数のグループに分類するグループ化部と、
前記１又は複数のグループの各々に対応する原点の分布を階層化する階層化部と、
を備え、
同一のグループには、対応する領域内のパターンが同等である原点の組が分類され、
前記階層化部は、
前記分布のうち最上の階層の第１分布から周期性を抽出することと、
前記周期性に基づいて前記第１分布を第２分布に集約することと、
前記第２分布を前記第１分布の上位に階層化することと、
を繰り返すように構成された、
レイアウト生成装置。
前記複数の原点の各々に対応する領域を取得する取得部と、
前記複数の原点を１又は複数のグループに分類するグループ化部と、
前記１又は複数のグループの各々に対応する原点の分布を階層化する階層化部と、
を備え、
同一のグループには、対応する領域内のパターンが同等である原点の組が分類され、
前記階層化部は、
前記分布のうち最上の階層の第１分布から周期性を抽出することと、
前記周期性に基づいて前記第１分布を第２分布に集約することと、
前記第２分布を前記第１分布の上位に階層化することと、
を繰り返すように構成された、
レイアウト生成装置。
【請求項2】
前記領域の中心は、対応する原点の位置であり、
前記領域のエッジは、前記中心から光学半径以上の距離に位置する、
請求項１記載のレイアウト生成装置。
前記領域のエッジは、前記中心から光学半径以上の距離に位置する、
請求項１記載のレイアウト生成装置。
【請求項3】
前記１又は複数のグループの各々に対応するパターンに対して、補助パターン生成処理を実行する補正部を更に備えた、
請求項１記載のレイアウト生成装置。
請求項１記載のレイアウト生成装置。
【請求項4】
前記補正部は、前記補助パターン生成処理に際してルールベース処理を適用するかモデルベース処理を適用するかを、前記１又は複数のグループの各々に対して独立に選択するように構成された、
請求項３記載のレイアウト生成装置。
請求項３記載のレイアウト生成装置。
【請求項5】
前記１又は複数のグループの各々に対応するパターンに対して、光近接効果補正処理を実行する補正部を更に備えた、
請求項１記載のレイアウト生成装置。
請求項１記載のレイアウト生成装置。
【請求項6】
前記補正部は、前記光近接効果補正処理に際してルールベース処理を適用するかモデルベース処理を適用するかを、前記１又は複数のグループの各々に対して独立に選択するように構成された、
請求項５記載のレイアウト生成装置。
請求項５記載のレイアウト生成装置。
【請求項7】
前記領域に対する前記原点の位置は、前記パターンに対する前記光近接効果補正処理の処理中心に対応する、
請求項５記載のレイアウト生成装置。
請求項５記載のレイアウト生成装置。
【請求項8】
前記１又は複数のグループの各々に対応するパターンに対して、リソグラフィシミュレーション処理を実行する検証部を更に備えた、
請求項１記載のレイアウト生成装置。
請求項１記載のレイアウト生成装置。
【請求項9】
前記領域に対する前記原点の位置は、前記パターンに対する前記リソグラフィシミュレーション処理の処理中心に対応する、
請求項８記載のレイアウト生成装置。
請求項８記載のレイアウト生成装置。
【請求項10】
同一の階層構造を有する第１グループ及び第２グループを統合する統合部を更に備えた、
請求項１記載のレイアウト生成装置。
請求項１記載のレイアウト生成装置。
【請求項11】
前記分布は、互いに交差する第１方向及び第２方向に広がる２次元分布であり、
前記階層化部は、前記第１方向に関する繰り返し単位と、前記第２方向に関する繰り返し単位とを交互に繰り返すように構成された、
請求項１記載のレイアウト生成装置。
前記階層化部は、前記第１方向に関する繰り返し単位と、前記第２方向に関する繰り返し単位とを交互に繰り返すように構成された、
請求項１記載のレイアウト生成装置。
【請求項12】
前記周期性は、所定の方向に等しい間隔で並ぶ原点の数、及び前記間隔を含むパラメータによって定義される、
請求項１記載のレイアウト生成装置。
請求項１記載のレイアウト生成装置。
【請求項13】
同一のグループには、前記複数の原点のうち対応する領域内のパターンが同一である、線対称である、又は回転対称である原点の組が分類される、
請求項１記載のレイアウト生成装置。
請求項１記載のレイアウト生成装置。
【請求項14】
フォトマスクの設計データから複数の原点を抽出することと、
前記複数の原点の各々に対応する領域を取得することと、
前記複数の原点を１又は複数のグループに分類することと、
前記１又は複数のグループの各々に対応する原点の分布を階層化することと、
を備え、
同一のグループには、対応する領域内のパターンが同等である原点の組が分類され、
前記階層化することは、
前記分布のうち最上の階層の第１分布から周期性を抽出することと、
前記周期性に基づいて前記第１分布を第２分布に集約することと、
前記第２分布を前記第１分布の上位に階層化することと、
を繰り返すことを含む、
レイアウト生成方法。
前記複数の原点の各々に対応する領域を取得することと、
前記複数の原点を１又は複数のグループに分類することと、
前記１又は複数のグループの各々に対応する原点の分布を階層化することと、
を備え、
同一のグループには、対応する領域内のパターンが同等である原点の組が分類され、
前記階層化することは、
前記分布のうち最上の階層の第１分布から周期性を抽出することと、
前記周期性に基づいて前記第１分布を第２分布に集約することと、
前記第２分布を前記第１分布の上位に階層化することと、
を繰り返すことを含む、
レイアウト生成方法。
【請求項15】
コンピュータに、
フォトマスクの設計データから複数の原点を抽出することと、
前記複数の原点の各々に対応する領域を取得することと、
前記複数の原点を１又は複数のグループに分類することと、
前記１又は複数のグループの各々に対応する原点の分布を階層化することと、
を実行させるためのプログラムであって、
同一のグループには、対応する領域内のパターンが同等である原点の組が分類され、
前記階層化することは、
前記分布のうち最上の階層の第１分布から周期性を抽出することと、
前記周期性に基づいて前記第１分布を第２分布に集約することと、
前記第２分布を前記第１分布の上位に階層化することと、
を繰り返すことを含む、
プログラム。
フォトマスクの設計データから複数の原点を抽出することと、
前記複数の原点の各々に対応する領域を取得することと、
前記複数の原点を１又は複数のグループに分類することと、
前記１又は複数のグループの各々に対応する原点の分布を階層化することと、
を実行させるためのプログラムであって、
同一のグループには、対応する領域内のパターンが同等である原点の組が分類され、
前記階層化することは、
前記分布のうち最上の階層の第１分布から周期性を抽出することと、
前記周期性に基づいて前記第１分布を第２分布に集約することと、
前記第２分布を前記第１分布の上位に階層化することと、
を繰り返すことを含む、
プログラム。
【請求項16】
コンピュータに、
フォトマスクの設計データから複数の原点を抽出することと、
前記複数の原点の各々に対応する領域を取得することと、
前記複数の原点を１又は複数のグループに分類することと、
前記１又は複数のグループの各々に対応する原点の分布を階層化することと、
を実行させるためのプログラムであって、
同一のグループには、対応する領域内のパターンが同等である原点の組が分類され、
前記階層化することは、
前記分布のうち最上の階層の第１分布から周期性を抽出することと、
前記周期性に基づいて前記第１分布を第２分布に集約することと、
前記第２分布を前記第１分布の上位に階層化することと、
を繰り返すことを含むプログラムが記憶された、記憶媒体。
フォトマスクの設計データから複数の原点を抽出することと、
前記複数の原点の各々に対応する領域を取得することと、
前記複数の原点を１又は複数のグループに分類することと、
前記１又は複数のグループの各々に対応する原点の分布を階層化することと、
を実行させるためのプログラムであって、
同一のグループには、対応する領域内のパターンが同等である原点の組が分類され、
前記階層化することは、
前記分布のうち最上の階層の第１分布から周期性を抽出することと、
前記周期性に基づいて前記第１分布を第２分布に集約することと、
前記第２分布を前記第１分布の上位に階層化することと、
を繰り返すことを含むプログラムが記憶された、記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
実施形態は、レイアウト生成装置、レイアウト生成方法、及びプログラムに関する。
【背景技術】
【0002】
フォトマスクのレイアウトデータを生成するレイアウト生成装置が知られている。フォトマスクは、ＮＡＮＤフラッシュメモリ等のメモリデバイスの製造に使用される。メモリデバイスの高集積化に伴い、レイアウトデータの作成時間及びデータサイズは増加している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】米国特許第８４３８５０８号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
フォトマスクのレイアウトの設計負荷の増加を抑制する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
一態様のレイアウト生成装置は、抽出部と、取得部と、グループ化部と、階層化部と、を備える。上記抽出部は、フォトマスクの設計データから複数の原点を抽出する。上記取得部は、上記複数の原点の各々に対応する領域を取得する。上記グループ化部は、上記複数の原点を１又は複数のグループに分類する。上記階層化部は、上記１又は複数のグループの各々に対応する原点の分布を階層化する。同一のグループには、対応する領域内のパターンが同等である原点の組が分類される。上記階層化部は、上記分布のうち最上の階層の第１分布から周期性を抽出することと、上記周期性に基づいて上記第１分布を第２分布に集約することと、上記第２分布を上記第１分布の上位に階層化することと、を繰り返すように構成される。
【図面の簡単な説明】
【0006】
【図1】実施形態に係る回路パターン形成システムのハードウェア構成の一例を示すブロック図。
【図2】実施形態に係るレイアウト生成装置のハードウェア構成の一例を示すブロック図。
【図3】実施形態に係るレイアウト生成装置の機能構成の一例を示すブロック図。
【図4】実施形態に係る設計モジュールの機能構成の一例を示すブロック図。
【図5】実施形態に係るフラットデータの構成の一例を示す図。
【図6】実施形態に係る単位パターン及び単位パターンに対応するグループに属する原点の２次元分布の第１例を示す図。
【図7】実施形態に係る単位パターン及び単位パターンに対応するグループに属する原点の２次元分布の第２例を示す図。
【図8】実施形態に係る単位パターン及び単位パターンに対応するグループに属する原点の２次元分布の第３例を示す図。
【図9】実施形態に係る第１階層の切り出し原点の２次元分布が有する周期性の一例を示す図。
【図10】実施形態に係る第２階層の繰り返し原点の２次元分布が有する周期性の一例を示す図。
【図11】実施形態に係る第３階層の繰り返し原点の２次元分布が有する周期性の一例を示す図。
【図12】実施形態に係る第４階層の繰り返し原点の２次元分布が有する周期性の一例を示す図。
【図13】実施形態に係る第５階層の繰り返し原点の２次元分布が有する周期性の一例を示す図。
【図14】実施形態に係るレイアウト生成装置におけるレイアウトデータ生成処理の一例を示すフローチャート。
【図15】実施形態に係る設計モジュールにおける設計データ生成処理の一例を示すフローチャート。
【図16】実施形態に係る階層化データ生成部における階層化データ生成処理の一例を示すフローチャート。
【図17】実施形態に係る補正モジュール及び検証モジュールにおける補正及び検証処理の一例を示すフローチャート。
【図18】変形例に係る設計モジュールの機能構成の一例を示すブロック図。
【図19】変形例に係る設計モジュールにおける設計データ生成処理の一例を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【0007】
以下、図面を参照して実施形態について説明する。なお、以下の説明において、同一の機能及び構成を有する構成要素については、共通する参照符号を付す。
【0008】
１． 実施形態
１．１ 構成
１．１．１ フォトマスク製造システム
図１は、実施形態に係るフォトマスク製造システムのハードウェア構成の一例を示すブロック図である。フォトマスク製造システム１は、フォトマスクを製造するためのシステムである。フォトマスク製造システム１は、レイアウト生成装置２、及びマスク製造装置３を備える。
１．１ 構成
１．１．１ フォトマスク製造システム
図１は、実施形態に係るフォトマスク製造システムのハードウェア構成の一例を示すブロック図である。フォトマスク製造システム１は、フォトマスクを製造するためのシステムである。フォトマスク製造システム１は、レイアウト生成装置２、及びマスク製造装置３を備える。
【0009】
レイアウト生成装置２は、ＭＤＰ（Mask Data Preparation）処理を実行するように構成されたコンピュータである。レイアウト生成装置２は、レイアウトデータを生成する。レイアウトデータは、フォトマスクに形成されるパターンのレイアウトを示すデータである。
【0010】
マスク製造装置３は、電子線描画装置である。マスク製造装置３は、フォトマスクの材料である基板に電子線を照射することにより、レイアウト生成装置２で生成されたレイアウトデータに基づくパターンを描画する。その後、パターンが描画された基板は、現像処理及びエッチング処理によってフォトマスクに加工される。
【0011】
フォトマスクは、例えば、メモリデバイスの製造に用いられる。メモリデバイスは、例えば、３次元構造のメモリセルアレイを備えるＮＡＮＤフラッシュメモリである。メモリセルアレイは、複数のメモリピラー構造を有する。複数のメモリピラー構造の各々は、３次元に積層された複数のメモリセルによって構成される。
【0012】
１．１．２ レイアウト生成装置
図２は、実施形態に係るレイアウト生成装置のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。レイアウト生成装置２は、制御部１１、ユーザインタフェース１２、ストレージ１３、ドライブ１４、及び記憶媒体１５を含む。
図２は、実施形態に係るレイアウト生成装置のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。レイアウト生成装置２は、制御部１１、ユーザインタフェース１２、ストレージ１３、ドライブ１４、及び記憶媒体１５を含む。
【0013】
制御部１１は、レイアウト生成装置２の各構成要素を全体的に制御する回路である。制御部１１は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＡＭ（Random Access Memory）、及びＲＯＭ（Read Only Memory）等を含む。制御部１１のＲＯＭは、レイアウト生成装置２における各種処理で使用されるプログラム等を記憶する。制御部１１のＣＰＵは、制御部１１のＲＯＭに記憶されるプログラムにしたがって、レイアウト生成装置２の全体を制御する。制御部１１のＲＡＭは、制御部１１のＣＰＵの作業領域として使用される。
【0014】
ユーザインタフェース１２は、ユーザと制御部１１との間の通信を司るインタフェースである。ユーザインタフェース１２は、入力機器及び出力機器を含む。入力機器は、例えば、タッチパネル及び操作ボタン等を含む。出力機器は、例えば、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）又はＥＬ（Electroluminescence）ディスプレイを含む。ユーザインタフェース１２は、ユーザからの入力を電気信号に変換した後、制御部１１に送信する。ユーザインタフェース１２は、ユーザからの入力に基づく各種処理の実行結果を、ユーザに出力する。
【0015】
ストレージ１３は、例えば、ＨＤＤ（Hard Disk Drive）又はＳＳＤ（Solid State Drive）を含む。ストレージ１３は、レイアウト生成装置２における各種処理で使用されるデータが記憶される。
【0016】
ドライブ１４は、記憶媒体１５に記憶されたソフトウェアを読み込むための機器である。ドライブ１４は、例えば、ＣＤ（Compact Disk）ドライブ、及びＤＶＤ（Digital Versatile Disk）ドライブ等を含む。
【0017】
記憶媒体１５は、ソフトウェアを、電気的、磁気的、光学的、機械的又は化学的作用によって記憶する媒体である。記憶媒体１５は、レイアウト生成装置２における各種処理を実行するためのプログラムを記憶してもよい。
【0018】
図３は、実施形態に係るレイアウト生成装置の機能構成の一例を示すブロック図である。制御部１１のＣＰＵは、制御部１１のＲＯＭ又は記憶媒体１５に記憶されたプログラムを制御部１１のＲＡＭに展開する。そして、制御部１１のＣＰＵは、制御部１１のＲＡＭに展開されたプログラムを解釈及び実行する。これにより、レイアウト生成装置２は、設計モジュール２１、補正モジュール２２、及び検証モジュール２３を備えるコンピュータとして機能する。
【0019】
設計モジュール２１は、設計データを生成するための機能ブロックである。設計データは、フォトマスクを用いて基板に転写されることが期待される理想的なパターンのレイアウトを示すデータである。設計モジュール２１は、生成された設計データを補正モジュール２２に送信する。
【0020】
補正モジュール２２は、設計データを補正するための機能ブロックである。具体的には、補正モジュール２２は、設計モジュール２１によって生成された設計データ、又は検証モジュール２３によって修正された設計データに対して光近接効果補正（Optical Proximity Correction：ＯＰＣ）処理、及び微細補助パターン（Sub Resolution Assist Feature：ＳＲＡＦ）生成処理を実行する。ＯＰＣ処理は、逆リソグラフィ技術（Inverse Lithography Technology：ＩＬＴ）に基づく補正を含んでいてもよい。また、ＯＰＣ処理及びＳＲＡＦ生成処理の各々は、ルールベース処理であってもよいし、モデルベース処理であってもよい。補正モジュール２２は、補正された設計データを検証モジュール２３に送信する。
【0021】
検証モジュール２３は、補正モジュール２２によって補正された設計データを検証するための機能ブロックである。具体的には、検証モジュール２３は、補正された設計データに対してリソグラフィシミュレーションを実行する。リソグラフィシミュレーションによって、検証モジュール２３は、補正された設計データに基づくフォトマスクを用いたリソグラフィ処理によって、所望のパターンが得られるか否かを判定する。所望のパターンが得られない（検証ＮＧ）と判定される場合、検証モジュール２３は、設計データに対して修正処理を施し、修正された設計データを補正モジュール２２に送信する。所望のパターンが得られる（検証ＯＫ）と判定される場合、検証モジュール２３は、補正された設計データをレイアウトデータとしてマスク製造装置３にテープアウトする。
【0022】
１．１．３ 設計モジュール
図４は、実施形態に係る設計モジュールの機能構成の一例を示すブロック図である。設計モジュール２１は、フラットデータ生成部３１、原点抽出部３２、クリップデータ取得部３３、グループ化部３４、及び階層化データ生成部３５を含む。
図４は、実施形態に係る設計モジュールの機能構成の一例を示すブロック図である。設計モジュール２１は、フラットデータ生成部３１、原点抽出部３２、クリップデータ取得部３３、グループ化部３４、及び階層化データ生成部３５を含む。
【0023】
フラットデータ生成部３１は、フラットな設計データ（フラットデータ）を生成する。フラットデータ生成部３１は、生成されたフラットデータを原点抽出部３２に送信する。フラットデータは、ＣＡＤ（Computer-Aided Design）等で生成された、圧縮されていない状態の設計データである。フラットデータは、階層化されたデータ構造を有していない。このため、フラットデータのデータサイズは、非常に大きい。具体的には、例えば、メモリピラー構造のレイアウトに関するフラットデータのデータサイズは、ギガバイト（ＧＢ）オーダとなり得る。
【0024】
原点抽出部３２は、フラットデータから複数の切り出し原点を抽出する。原点抽出部３２は、抽出された複数の切り出し原点の各々の座標情報をクリップデータ取得部３３に送信する。切り出し原点は、補正モジュール２２によるＯＰＣ処理及び検証モジュール２３によるリソグラフィシミュレーションにおける処理中心に対応する。具体的には、例えば、マスクパターンがライン系である場合、原点抽出部３２は、当該マスクパターンをジョグ分割した際のエッジ中心を切り出し原点として抽出する。また、例えば、マスクパターンがホール系である場合、原点抽出部３２は、当該マスクパターンの中心を切り出し原点として抽出する。すなわち、マスクパターンの形状がホール系である場合、原点抽出部３２は、マスクパターンの数に対応した数の切り出し原点を抽出する。
【0025】
クリップデータ取得部３３は、複数の切り出し原点の各々の座標情報に基づき、フラットデータからクリップデータを取得する。すなわち、クリップデータ取得部３３は、切り出し原点の数に対応した数のクリップデータを取得する。クリップデータ取得部３３は、取得された複数のクリップデータをグループ化部３４に送信する。クリップデータは、フラットデータのうち、切り出し原点の座標情報を中心とし、かつ中心から光学半径以上の距離に位置するエッジを有する領域に対応するマスクパターンのデータである。すなわち、クリップデータは、パターンの一例である。
【0026】
図５は、実施形態に係るフラットデータ及びクリップデータの構成の一例を示す図である。図５では、フラットデータの具体例として、ＸＹ平面上に配置される１８個のホール系のマスクパターンＭ１～Ｍ１８が実線で示される。また、図５では、マスクパターンＭ８の切り出し原点Ｐ８に対応するクリップデータＣ８が一点鎖線で示される。なお、ＸＹ平面とは、互いに交差するＸ方向とＹ方向によって形成される平面である。
【0027】
原点抽出部３２は、マスクパターンＭ８の中心の座標を、マスクパターンＭ８に対応する切り出し原点Ｐ８として抽出する。クリップデータ取得部３３は、切り出し原点Ｐ８を中心とする、一辺の長さが光学半径Ｒの２倍となる矩形領域をクリップデータＣ８として取得する。図５の例では、クリップデータＣ８内に５個のマスクパターンＭ５、Ｍ６、Ｍ８、Ｍ１１、及びＭ１２が含まれている。
【0028】
再び図４を参照して、設計モジュール２１の機能構成について説明する。
【0029】
グループ化部３４は、複数のクリップデータを１又は複数のグループに分類する。同一のグループに分類される複数のクリップデータは、互いに同一とみなされる。ここで、「互いに同一とみなされるクリップデータ」とは、互いに完全に同一なクリップデータ、互いに線対称であるクリップデータ、及び互いに回転対称であるクリップデータのいずれかである。以下では、「同一とみなされる」ことを「同等である」とも呼ぶ。
【0030】
グループ化部３４による分類の結果、各グループには、１個のユニークな（他のグループに対応づけられるクリップデータと識別可能な）クリップデータと、当該ユニークなクリップデータが取得される複数の切り出し原点と、が対応づけられる。以下では、各グループに対応づけられるユニークなクリップデータを、「単位パターン」とも呼ぶ。グループ化部３４は、グループに属する単位パターン及び複数の切り出し原点の組を、グループ毎に階層化データ生成部３５に送信する。
【0031】
図６は、実施形態に係る単位パターン及び単位パターンに対応するグループに属する切り出し原点の２次元分布の第１例を示す図である。図７は、実施形態に係る単位パターン及び単位パターンに対応するグループに属する切り出し原点の２次元分布の第２例を示す図である。図８は、実施形態に係る単位パターン及び単位パターンに対応するグループに属する切り出し原点の２次元分布の第３例を示す図である。図６の部分（Ａ）、図７の部分（Ａ）、及び図８の部分（Ａ）には、図５に示されるフラットデータから抽出されるクリップデータをグループ化して得られる３種類の単位パターンが示される。図６の部分（Ｂ）、図７の部分（Ｂ）、及び図８の部分（Ｂ）にはそれぞれ、図６の部分（Ａ）に示される単位パターン、図７の部分（Ａ）に示される単位パターン、及び図８の部分（Ａ）に示される単位パターンに対応するグループに属する切り出し原点の２次元分布が示される。
【0032】
図６に示される第１例の単位パターンは、単位パターン内に５個のマスクパターンが含まれる。フラットデータから取得される１８個のクリップデータのうち、８個の切り出し原点Ｐ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１１、Ｐ１２、Ｐ１３、及びＰ１４から取得される８個のクリップデータが、第１例の単位パターンと同等である。このため、グループ化部３４は、第１例の単位パターンと、８個の切り出し原点Ｐ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１１、Ｐ１２、Ｐ１３、及びＰ１４の組とを１個のグループに分類する。
【0033】
図７に示される第２例の単位パターンは、単位パターン内に３個のマスクパターンが含まれる。フラットデータから取得される１８個のクリップデータのうち、８個の切り出し原点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ４、Ｐ９、Ｐ１０、Ｐ１５、Ｐ１７、及びＰ１８から取得される８個のクリップデータが、第２例の単位パターンと同等である。このため、グループ化部３４は、第２例の単位パターンと、８個の切り出し原点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ４、Ｐ９、Ｐ１０、Ｐ１５、Ｐ１７、及びＰ１８の組とを１個のグループに分類する。
【0034】
図８に示される第３例の単位パターンは、単位パターン内に２個のマスクパターンが含まれる。フラットデータから取得される１８個のクリップデータのうち、２個の切り出し原点Ｐ３、及びＰ１６から取得される２個のクリップデータが、第３例の単位パターンと同等である。このため、グループ化部３４は、第３例の単位パターンと、２個の切り出し原点Ｐ３、及びＰ１６の組とを１個のグループに分類する。
【0035】
再び図４を参照して、設計モジュール２１の機能構成について説明する。
【0036】
階層化データ生成部３５は、階層化された設計データ（階層化データ）を生成する。階層化データ生成部３５は、生成された階層化データを設計データとして補正モジュール２２に送信する。階層化データは、フラットデータが圧縮された状態の設計データであり、階層化されたデータ構造を有している。このため、階層化データのデータサイズは、フラットデータに対して小さい。具体的には、例えば、メモリピラー構造のレイアウトに関する階層化データのデータサイズは、メガバイト（ＭＢ）オーダとなり得る。
【0037】
階層化データ生成部３５は、周期性抽出部３５ａ、集約部３５ｂ、及び階層化部３５ｃを含む。
【0038】
周期性抽出部３５ａは、グループ毎に、グループに属する複数の原点の２次元分布から周期性を抽出する。周期性抽出部３５ａは、抽出された周期性を示す情報を集約部３５ｂに送信する。周期性とは、原点の２次元座標が或る方向に等間隔で分布する性質を意味する。例えば、ｍ個の原点がＸ方向に間隔Ｄｘで分布する場合、当該ｍ個の原点は、Ｘ方向に周期性（Ｄｘ，ｍ）を有する。また、例えば、ｎ個の原点がＹ方向に間隔Ｄｙで分布する場合、当該ｎ個の原点は、Ｙ方向に周期性（Ｄｙ，ｎ）を有する。
【0039】
集約部３５ｂは、グループ毎に、周期性抽出部３５ａによって抽出された周期性に基づき、グループに属する複数の原点の２次元分布を、より少ない数の原点の２次元分布に集約する。集約部３５ｂは、集約された後の分布と、集約される前の分布と、の組を階層化部３５ｃに送信する。
【0040】
階層化部３５ｃは、集約される前の原点の２次元分布を下位の階層とし、集約された後の原点の２次元分布を上位の階層として、互いに関連づけることにより、原点の２次元分布を階層化する。階層化部３５ｃは、階層化によって得られた上位の階層の原点の２次元分布を、周期性抽出部３５ａに送信する。
【0041】
周期性抽出部３５ａによる周期性の抽出、集約部３５ｂによる原点の２次元分布の集約、及び階層化部３５ｃによる階層化の組は、繰り返される。これにより、各グループに属する複数の原点の２次元分布は、多重階層化される。
【0042】
すなわち、複数の切り出し原点の２次元分布に基づいて最初の階層化処理が行われる場合、周期性抽出部３５ａは、グループ毎に、グループに属する複数の切り出し原点の２次元分布から周期性を抽出する。集約部３５ｂは、グループ毎に、周期性抽出部３５ａによって抽出された周期性に基づき、グループに属する複数の切り出し原点の２次元分布を、より少ない数の繰り返し原点の２次元分布に集約する。階層化部３５ｃは、集約される前の切り出し原点の２次元分布を下位の階層とし、集約された後の繰り返し原点の２次元分布を上位の階層として、互いに関連づけることにより、原点の２次元分布を階層化する。ここで、上位の階層に対応する繰り返し原点の２次元分布は、下位の階層に対応する切り出し原点の２次元分布に対して独立に定義される。
【0043】
また、複数の繰り返し原点の２次元分布に基づいて２回目以降の階層化処理が行われる場合、周期性抽出部３５ａは、グループ毎に、グループに属する複数の繰り返し原点の２次元分布から周期性を抽出する。集約部３５ｂは、グループ毎に、周期性抽出部３５ａによって抽出された周期性に基づき、グループに属する複数の繰り返し原点の２次元分布を、より少ない数の新たな繰り返し原点の２次元分布に集約する。階層化部３５ｃは、集約される前の繰り返し原点の２次元分布を下位の階層とし、集約された後の新たな繰り返し原点の２次元分布を上位の階層として、互いに関連づけることにより、原点の２次元分布を階層化する。ここで、上位の階層に対応する繰り返し原点の２次元分布は、下位の階層に対応する繰り返し原点の２次元分布に対して独立に定義される。
【0044】
以下では、切り出し原点と繰り返し原点を特に区別しない場合、単に“原点”と呼ぶ場合がある。
【0045】
図９は、実施形態に係る第１階層の切り出し原点の２次元分布が有する周期性の一例を示す図である。図１０は、実施形態に係る第２階層の繰り返し原点の２次元分布が有する周期性の一例を示す図である。図１１は、実施形態に係る第３階層の繰り返し原点の２次元分布が有する周期性の一例を示す図である。図１２は、実施形態に係る第４階層の繰り返し原点の２次元分布が有する周期性の一例を示す図である。図１３は、実施形態に係る第５階層の繰り返し原点の２次元分布が有する周期性の一例を示す図である。図９～図１３では、フラットデータから取得された或るグループにおける切り出し原点の２次元分布がこの順に階層化される様子が示される。図９では、第ｉ階層における切り出し原点Ｐｋが、“Ｐｋ＿Ｌｉ”のように示される（ｋ及びｉは、自然数）。また、図１０～図１３では、第ｉ階層における繰り返し原点Ｐｋが周期性（Ｄｘ，ｍ）を有する場合、当該繰り返し原点Ｐｋが、“Ｐｋ＿Ｌｉ（Ｄｘ，ｍ）”のように示される。なお、図９～図１３に示される原点の２次元分布は、図５～図８に示されるフラットデータとは関連していない。
【0046】
図９では、第１階層（すなわち、最も下位の階層）における２５個の切り出し原点Ｐ１＿Ｌ１～Ｐ２５＿Ｌ１の２次元分布が黒塗りの丸で示される。
【0047】
５個の切り出し原点Ｐ１＿Ｌ１、Ｐ２＿Ｌ１、Ｐ３＿Ｌ１、Ｐ４＿Ｌ１、及びＰ５＿Ｌ１は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｘ、Ｄ２ｘ、Ｄ３ｘ、及びＤ３ｘでＸ方向に並ぶ。５個の切り出し原点Ｐ６＿Ｌ１、Ｐ７＿Ｌ１、Ｐ８＿Ｌ１、Ｐ９＿Ｌ１、及びＰ１０＿Ｌ１は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｘ、Ｄ２ｘ、Ｄ３ｘ、及びＤ３ｘでＸ方向に並ぶ。５個の切り出し原点Ｐ１１＿Ｌ１、Ｐ１２＿Ｌ１、Ｐ１３＿Ｌ１、Ｐ１４＿Ｌ１、及びＰ１５＿Ｌ１は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｘ、Ｄ２ｘ、Ｄ３ｘ、及びＤ３ｘでＸ方向に並ぶ。５個の切り出し原点Ｐ１６＿Ｌ１、Ｐ１７＿Ｌ１、Ｐ１８＿Ｌ１、Ｐ１９＿Ｌ１、及びＰ２０＿Ｌ１は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｘ、Ｄ２ｘ、Ｄ３ｘ、及びＤ３ｘでＸ方向に並ぶ。５個の切り出し原点Ｐ２１＿Ｌ１、Ｐ２２＿Ｌ１、Ｐ２３＿Ｌ１、Ｐ２４＿Ｌ１、及びＰ２５＿Ｌ１は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｘ、Ｄ２ｘ、Ｄ３ｘ、及びＤ３ｘでＸ方向に並ぶ。
【0048】
５個の切り出し原点Ｐ１＿Ｌ１、Ｐ６＿Ｌ１、Ｐ１１＿Ｌ１、Ｐ１６＿Ｌ１、及びＰ２１＿Ｌ１は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｙ、Ｄ２ｙ、Ｄ３ｙ、及びＤ３ｙでＹ方向に並ぶ。５個の切り出し原点Ｐ２＿Ｌ１、Ｐ７＿Ｌ１、Ｐ１２＿Ｌ１、Ｐ１７＿Ｌ１、及びＰ２２＿Ｌ１は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｙ、Ｄ２ｙ、Ｄ３ｙ、及びＤ３ｙでＹ方向に並ぶ。５個の切り出し原点Ｐ３＿Ｌ１、Ｐ８＿Ｌ１、Ｐ１３＿Ｌ１、Ｐ１８＿Ｌ１、及びＰ２３＿Ｌ１は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｙ、Ｄ２ｙ、Ｄ３ｙ、及びＤ３ｙでＹ方向に並ぶ。５個の切り出し原点Ｐ４＿Ｌ１、Ｐ９＿Ｌ１、Ｐ１４＿Ｌ１、Ｐ１９＿Ｌ１、及びＰ２４＿Ｌ１は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｙ、Ｄ２ｙ、Ｄ３ｙ、及びＤ３ｙでＹ方向に並ぶ。５個の切り出し原点Ｐ５＿Ｌ１、Ｐ１０＿Ｌ１、Ｐ１５＿Ｌ１、Ｐ２０＿Ｌ１、及びＰ２５＿Ｌ１は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｙ、Ｄ２ｙ、Ｄ３ｙ、及びＤ３ｙでＹ方向に並ぶ。
【0049】
周期性抽出部３５ａは、図９に示される第１階層の切り出し原点Ｐ１＿Ｌ１～Ｐ２５＿Ｌ１の２次元分布から、Ｘ方向の周期性を抽出する。具体的には、周期性抽出部３５ａは、切り出し原点Ｐ１＿Ｌ１及びＰ２＿Ｌ１の組、切り出し原点Ｐ６＿Ｌ１及びＰ７＿Ｌ１の組、切り出し原点Ｐ１１＿Ｌ１及びＰ１２＿Ｌ１の組、切り出し原点Ｐ１６＿Ｌ１及びＰ１７＿Ｌ１の組、並びに切り出し原点Ｐ２１＿Ｌ１及びＰ２２＿Ｌ１の組からＸ方向の周期性（Ｄ１ｘ，２）を抽出する。また、周期性抽出部３５ａは、切り出し原点Ｐ３＿Ｌ１、Ｐ４＿Ｌ１、及びＰ５＿Ｌ１の組、切り出し原点Ｐ８＿Ｌ１、Ｐ９＿Ｌ１、及びＰ１０＿Ｌ１の組、切り出し原点Ｐ１３＿Ｌ１、Ｐ１４＿Ｌ１、及びＰ１５＿Ｌ１の組、切り出し原点Ｐ１８＿Ｌ１、Ｐ１９＿Ｌ１、及びＰ２０＿Ｌ１の組、並びに切り出し原点Ｐ２３＿Ｌ１、Ｐ２４＿Ｌ１、及びＰ２５＿Ｌ１の組からＸ方向の周期性（Ｄ３ｘ，３）を抽出する。
【0050】
集約部３５ｂは、Ｘ方向の周期性（Ｄ１ｘ，２）に基づき、切り出し原点Ｐ１＿Ｌ１及びＰ２＿Ｌ１の組、切り出し原点Ｐ６＿Ｌ１及びＰ７＿Ｌ１の組、切り出し原点Ｐ１１＿Ｌ１及びＰ１２＿Ｌ１の組、切り出し原点Ｐ１６＿Ｌ１及びＰ１７＿Ｌ１の組、並びに切り出し原点Ｐ２１＿Ｌ１及びＰ２２＿Ｌ１の組をそれぞれ繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ２、Ｐ３＿Ｌ２、Ｐ５＿Ｌ２、Ｐ７＿Ｌ２、及びＰ９＿Ｌ２に集約する。また、集約部３５ｂは、Ｘ方向の周期性（Ｄ３ｘ，３）に基づき、切り出し原点Ｐ８＿Ｌ１、Ｐ９＿Ｌ１、及びＰ１０＿Ｌ１の組、切り出し原点Ｐ１３＿Ｌ１、Ｐ１４＿Ｌ１、及びＰ１５＿Ｌ１の組、切り出し原点Ｐ１８＿Ｌ１、Ｐ１９＿Ｌ１、及びＰ２０＿Ｌ１の組、並びに切り出し原点Ｐ２３＿Ｌ１、Ｐ２４＿Ｌ１、及びＰ２５＿Ｌ１の組をそれぞれ繰り返し原点Ｐ２＿Ｌ２、Ｐ４＿Ｌ２、Ｐ６＿Ｌ２、Ｐ８＿Ｌ２、及びＰ１０＿Ｌ２に集約する。
【0051】
これにより、階層化部３５ｃは、図１０に示されるような、１０個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ２～Ｐ１０＿Ｌ２の２次元分布を、第２階層の２次元分布として第１階層の２次元分布上に階層化することができる。図１０では、第２階層における１０個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ２～Ｐ１０＿Ｌ２が黒塗りの三角形で示される。
【0052】
２個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ２及びＰ２＿Ｌ２は、この順に間隔（Ｄ１ｘ＋Ｄ２ｘ）でＸ方向に並ぶ。２個の繰り返し原点Ｐ３＿Ｌ２及びＰ４＿Ｌ２は、この順に間隔（Ｄ１ｘ＋Ｄ２ｘ）でＸ方向に並ぶ。２個の繰り返し原点Ｐ５＿Ｌ２及びＰ６＿Ｌ２は、この順に間隔（Ｄ１ｘ＋Ｄ２ｘ）でＸ方向に並ぶ。２個の繰り返し原点Ｐ７＿Ｌ２及びＰ８＿Ｌ２は、この順に間隔（Ｄ１ｘ＋Ｄ２ｘ）でＸ方向に並ぶ。２個の繰り返し原点Ｐ９＿Ｌ２及びＰ１０＿Ｌ２は、この順に間隔（Ｄ１ｘ＋Ｄ２ｘ）でＸ方向に並ぶ。
【0053】
５個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ２、Ｐ３＿Ｌ２、Ｐ５＿Ｌ２、Ｐ７＿Ｌ２、及びＰ９＿Ｌ２は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｙ、Ｄ２ｙ、Ｄ３ｙ、及びＤ３ｙでＹ方向に並ぶ。５個の繰り返し原点Ｐ２＿Ｌ２、Ｐ４＿Ｌ２、Ｐ６＿Ｌ２、Ｐ８＿Ｌ２、及びＰ１０＿Ｌ２は、この順にそれぞれ間隔Ｄ１ｙ、Ｄ２ｙ、Ｄ３ｙ、及びＤ３ｙでＹ方向に並ぶ。
【0054】
周期性抽出部３５ａは、図１０に示される第２階層の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ２～Ｐ１０＿Ｌ２の２次元分布から、Ｙ方向の周期性を抽出する。具体的には、周期性抽出部３５ａは、繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ２及びＰ３＿Ｌ２の組、並びに繰り返し原点Ｐ２＿Ｌ２及びＰ４＿Ｌ２の組からＹ方向の周期性（Ｄ１ｙ，２）を抽出する。また、周期性抽出部３５ａは、繰り返し原点Ｐ５＿Ｌ２、Ｐ７＿Ｌ２、及びＰ９＿Ｌ２の組、並びに繰り返し原点Ｐ６＿Ｌ２、Ｐ８＿Ｌ２、及びＰ１０＿Ｌ２の組からＹ方向の周期性（Ｄ３ｙ，３）を抽出する。
【0055】
集約部３５ｂは、Ｙ方向の周期性（Ｄ１ｙ，２）に基づき、繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ２及びＰ３＿Ｌ２の組、並びに繰り返し原点Ｐ２＿Ｌ２及びＰ４＿Ｌ２の組をそれぞれ新たな繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ３及びＰ２＿Ｌ３に集約する。また、集約部３５ｂは、Ｙ方向の周期性（Ｄ３ｙ，３）に基づき、繰り返し原点Ｐ５＿Ｌ２、Ｐ７＿Ｌ２、及びＰ９＿Ｌ２の組、並びに繰り返し原点Ｐ６＿Ｌ２、Ｐ８＿Ｌ２、及びＰ１０＿Ｌ２の組をそれぞれ新たな繰り返し原点Ｐ３＿Ｌ３及びＰ４＿Ｌ３に集約する。
【0056】
これにより、階層化部３５ｃは、図１１に示されるような、４個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ３～Ｐ４＿Ｌ３の２次元分布を、第３階層の２次元分布として第２階層の２次元分布上に階層化することができる。図１１では、第３階層における４個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ３～Ｐ４＿Ｌ３が黒塗りの四角形で示される。
【0057】
２個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ３及びＰ２＿Ｌ３は、この順に間隔（Ｄ１ｘ＋Ｄ２ｘ）でＸ方向に並ぶ。２個の繰り返し原点Ｐ３＿Ｌ３及びＰ４＿Ｌ３は、この順に間隔（Ｄ１ｘ＋Ｄ２ｘ）でＸ方向に並ぶ。
【0058】
２個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ３及びＰ３＿Ｌ３は、この順に間隔（Ｄ１ｙ＋Ｄ２ｙ）でＹ方向に並ぶ。２個の繰り返し原点Ｐ２＿Ｌ３及びＰ４＿Ｌ３は、この順に間隔（Ｄ１ｙ＋Ｄ２ｙ）でＹ方向に並ぶ。
【0059】
周期性抽出部３５ａは、図１１に示される第３階層の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ３～Ｐ４＿Ｌ３の２次元分布から、Ｘ方向の周期性を抽出する。具体的には、周期性抽出部３５ａは、繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ３及びＰ２＿Ｌ３の組、並びに繰り返し原点Ｐ３＿Ｌ３及びＰ４＿Ｌ３の組からＸ方向の周期性（Ｄ１ｘ＋Ｄ２ｘ，２）を抽出する。
【0060】
集約部３５ｂは、Ｘ方向の周期性（Ｄ１ｘ＋Ｄ２ｘ，２）に基づき、繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ３及びＰ２＿Ｌ３の組、並びに繰り返し原点Ｐ３＿Ｌ３及びＰ４＿Ｌ３の組をそれぞれ新たな繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ４及びＰ２＿Ｌ４に集約する。
【0061】
これにより、階層化部３５ｃは、図１２に示されるような、２個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ４及びＰ２＿Ｌ４の２次元分布を、第４階層の２次元分布として第３階層の２次元分布上に階層化することができる。図１２では、第４階層における２個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ４及びＰ２＿Ｌ４が黒塗りの五角形で示される。
【0062】
２個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ４及びＰ２＿Ｌ４は、この順に間隔（Ｄ１ｙ＋Ｄ２ｙ）でＹ方向に並ぶ。
【0063】
周期性抽出部３５ａは、図１２に示される第４階層の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ４及びＰ２＿Ｌ４の２次元分布から、Ｙ方向の周期性を抽出する。具体的には、周期性抽出部３５ａは、繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ４及びＰ２＿Ｌ４の組からＹ方向の周期性（Ｄ１ｙ＋Ｄ２ｙ，２）を抽出する。
【0064】
集約部３５ｂは、Ｙ方向の周期性（Ｄ１ｙ＋Ｄ２ｙ，２）に基づき、繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ４及びＰ２＿Ｌ４の組を新たな繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ５に集約する。
【0065】
これにより、階層化部３５ｃは、図１３に示されるような、１個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ５の２次元分布を、第５階層の２次元分布として第４階層の２次元分布上に階層化することができる。図１３では、第５階層における１個の繰り返し原点Ｐ１＿Ｌ５が黒塗りの星形で示される。
【0066】
【0067】
ユーザからレイアウトデータ生成開始の指示を受けると（開始）、設計モジュール２１は、設計データ生成処理を実行する（Ｓ１１）。これにより、設計モジュール２１は、設計データを生成する。設計データ生成処理の詳細は、後述する。
【0068】
補正モジュール２２及び検証モジュール２３は、Ｓ１１の処理で生成された設計データに対して、補正及び検証処理を実行する（Ｓ１２）。補正及び検証処理の詳細は、後述する。
【0069】
Ｓ１２の処理が終了すると、レイアウトデータ生成処理は終了となる（終了）。
【0070】
１．２．２ 設計データ生成処理
図１５は、実施形態に係る設計モジュールにおける設計データ生成処理の一例を示すフローチャートである。図１５に示されるＳ２１～Ｓ２７の処理は、図１４に示されるＳ１１の処理の詳細に対応する。
図１５は、実施形態に係る設計モジュールにおける設計データ生成処理の一例を示すフローチャートである。図１５に示されるＳ２１～Ｓ２７の処理は、図１４に示されるＳ１１の処理の詳細に対応する。
【0071】
設計データ生成処理が開始すると（開始）、フラットデータ生成部３１は、フラットデータを生成する（Ｓ２１）。
【0072】
原点抽出部３２は、Ｓ２１の処理で生成されたフラットデータから、複数の切り出し原点を抽出する（Ｓ２２）。
【0073】
クリップデータ取得部３３は、Ｓ２２の処理で抽出された複数の切り出し原点の各々についてクリップデータを取得する（Ｓ２３）。
【0074】
グループ化部３４は、Ｓ２３の処理で複数の切り出し原点毎に取得されたクリップデータのうち、同等なクリップデータに対応する切り出し原点の集合をグループ化する（Ｓ２４）。
【0075】
階層化データ生成部３５は、Ｓ２４の処理で分類されたグループのうちの１個を選択する（Ｓ２５）。
【0076】
階層化データ生成部３５は、Ｓ２５の処理で選択されたグループに対する階層化データ生成処理を実行する（Ｓ２６）。これにより、Ｓ２５の処理で選択されたグループに属する複数の切り出し原点の２次元分布が階層化された階層化データが生成される。階層化データ生成処理の詳細については、後述する。
【0077】
Ｓ２６の処理の後、階層化データ生成部３５は、全てのグループが選択されたか否かを判定する（Ｓ２７）。
【0078】
未選択のグループが存在する場合（Ｓ２７；ｎｏ）、階層化データ生成部３５は、未選択のグループのうちの１個を選択する（Ｓ２５）。そして、後続するＳ２６及びＳ２７の処理が実行される。このように、全てのグループが選択されるまで、Ｓ２５～Ｓ２７の処理が繰り返される。
【0079】
全てのグループが選択された場合（Ｓ２７；ｙｅｓ）、階層化データ生成部３５は、グループ毎の階層化データの集合を設計データとして補正モジュール２２に送信する。
【0080】
以上により、設計データ生成処理は終了となる（終了）。
【0081】
１．２．３ 階層化データ生成処理
図１６は、実施形態に係る階層化データ生成部における階層化データ生成処理の一例を示すフローチャートである。図１６に示されるＳ３１～Ｓ３７の処理は、図１５に示されるＳ２６の処理の詳細に対応する。
図１６は、実施形態に係る階層化データ生成部における階層化データ生成処理の一例を示すフローチャートである。図１６に示されるＳ３１～Ｓ３７の処理は、図１５に示されるＳ２６の処理の詳細に対応する。
【0082】
階層化データ生成処理が開始されると（開始）、階層化データ生成部３５は、変数ｉを例えば“１”に初期化する（Ｓ３１）。
【0083】
周期性抽出部３５ａは、Ｓ２５の処理で選択されたグループの第ｉ階層の原点の２次元分布がＸ方向に周期性を有するか否かを判定する（Ｓ３２）。
【0084】
第ｉ階層の原点の２次元分布がＸ方向に周期性を有する場合（Ｓ３２；ｙｅｓ）、集約部３５ｂは、Ｓ３２の処理で有すると判定されたＸ方向の周期性に基づいて、原点の２次元分布を集約する。そして、階層化部３５ｃは、第ｉ階層の原点の２次元分布に対して、集約された２次元分布を第（ｉ＋１）階層の原点の２次元分布として階層化する（Ｓ３３）。
【0085】
Ｓ３３の処理の後、階層化データ生成部３５は、変数ｉをインクリメントする（Ｓ３４）。
【0086】
第ｉ階層の原点の２次元分布がＸ方向に周期性を有しない場合（Ｓ３２；ｎｏ）、又はＳ３４の処理の後、周期性抽出部３５ａは、Ｓ２５の処理で選択されたグループの第ｉ階層の原点の２次元分布がＹ方向に周期性を有するか否かを判定する（Ｓ３５）。
【0087】
第ｉ階層の原点の２次元分布がＹ方向に周期性を有する場合（Ｓ３５；ｙｅｓ）、集約部３５ｂは、Ｓ３５の処理で有すると判定されたＹ方向の周期性に基づいて、原点の２次元分布を集約する。そして、階層化部３５ｃは、第ｉ階層の原点の２次元分布に対して、集約された２次元分布を第（ｉ＋１）階層の原点の２次元分布として階層化する（Ｓ３６）。
【0088】
Ｓ３６の処理の後、階層化データ生成部３５は、変数ｉをインクリメントする（Ｓ３７）。
【0089】
Ｓ３７の処理の後、周期性抽出部３５ａは、Ｓ２５の処理で選択されたグループの第ｉ階層の原点の２次元分布がＸ方向に周期性を有するか否かを判定する（Ｓ３２）。そして、後続するＳ３３～Ｓ３７の処理が実行される。このように、Ｓ２５の処理で選択されたグループに属する最も上位の階層における原点の２次元分布がＸ方向の周期性、及びＹ方向の周期性のいずれも有さなくなるまで、Ｓ３２～Ｓ３７の処理が繰り返される。
【0090】
第ｉ階層の原点の２次元分布がＹ方向に周期性を有さない場合（Ｓ３５；ｎｏ）、階層化データ生成処理は終了となる（終了）。
【0091】
１．２．４ 補正及び検証処理
図１７は、実施形態に係る補正モジュール及び検証モジュールにおける補正及び検証処理の一例を示すフローチャートである。図１７に示されるＳ４１～Ｓ４７の処理は、図１４に示されるＳ１２の処理の詳細に対応する。
図１７は、実施形態に係る補正モジュール及び検証モジュールにおける補正及び検証処理の一例を示すフローチャートである。図１７に示されるＳ４１～Ｓ４７の処理は、図１４に示されるＳ１２の処理の詳細に対応する。
【0092】
補正及び検証処理が開始されると（開始）、補正モジュール２２は、Ｓ２４の処理で分類されたグループのうちの１個を選択する（Ｓ４１）。
【0093】
補正モジュール２２は、Ｓ４１の処理で選択されたグループに対応する単位パターンを取得する（Ｓ４２）。
【0094】
補正モジュール２２は、Ｓ４２の処理で取得された単位パターンに対して補正処理を実行する（Ｓ４３）。具体的には、補正モジュール２２は、Ｓ４２の処理で取得された単位パターンに対してＯＰＣ処理及び／又はＳＲＡＦ生成処理を実行する。ＯＰＣ処理及び／又はＳＲＡＦ生成処理は、モデルベース処理であってもよいし、ルールベース処理であってもよい。
【0095】
検証モジュール２３は、Ｓ４３の処理で補正された単位パターンに対して検証処理を実行する（Ｓ４４）。具体的には、検証モジュール２３は、Ｓ４３の処理で補正された単位パターンに対してリソグラフィシミュレーションを実行する。
【0096】
検証モジュール２３は、Ｓ４４の検証処理の結果が検証ＯＫであるか否かを判定する（Ｓ４５）。
【0097】
検証ＮＧである場合（Ｓ４５；ｎｏ）、検証モジュール２３は、検証ＮＧとなった単位パターンを修正する（Ｓ４６）。
【0098】
補正モジュール２２は、Ｓ４６の処理で修正された単位パターンに対して、補正処理を実行する（Ｓ４３）。このように、検証ＯＫとなるまで、Ｓ４３～Ｓ４６の処理が繰り返される。
【0099】
検証ＯＫの場合（Ｓ４５；ｙｅｓ）、補正モジュール２２は、全てのグループが選択されたか否かを判定する（Ｓ４７）。
【0100】
選択されていないグループが存在する場合（Ｓ４７；ｎｏ）、補正モジュール２２は、選択されていないグループを選択する（Ｓ４１）。このように、全てのグループが選択されるまで、Ｓ４１～Ｓ４７の処理が繰り返される。なお、Ｓ４３のＯＰＣ処理及び／又はＳＲＡＦ生成処理は、ルールベース処理を適用するか、モデルベース処理を適用するかを選択されるグループ毎に切り替えてもよい。
【0101】
全てのグループが選択された場合（Ｓ４７；ｙｅｓ）、補正及び検証処理は終了となる（終了）。
【0102】
１．３ 実施形態に係る効果
実施形態によれば、周期性抽出部３５ａは、同一のグループに分類された原点の２次元分布のうち、最上の階層の第１分布（階層化されていない場合は、同一のグループに分類された切り出し原点の２次元分布）から周期性を抽出する。集約部３５ｂは、周期性抽出部３５ａによって抽出された周期性に基づいて、第１分布を、より少ない数の新たな繰り返し原点の第２分布に集約する。階層化部３５ｃは、集約される前の第１分布の上位に、集約された後の第２分布を階層化する。階層化データ生成部３５は、周期性抽出部３５ａ、集約部３５ｂ、及び階層化部３５ｃによる上記処理の組を繰り返す。これにより、同一のグループに分類された原点の２次元分布が、周期性に基づく階層構造に多重化される。このため、数ＧＢオーダのフラットデータに対して、階層化データのデータサイズを数ＭＢオーダに低減させることができる。したがって、後続する補正及び検証処理の結果をレイアウトデータ全体に展開する際の処理負荷を低減させることができる。
実施形態によれば、周期性抽出部３５ａは、同一のグループに分類された原点の２次元分布のうち、最上の階層の第１分布（階層化されていない場合は、同一のグループに分類された切り出し原点の２次元分布）から周期性を抽出する。集約部３５ｂは、周期性抽出部３５ａによって抽出された周期性に基づいて、第１分布を、より少ない数の新たな繰り返し原点の第２分布に集約する。階層化部３５ｃは、集約される前の第１分布の上位に、集約された後の第２分布を階層化する。階層化データ生成部３５は、周期性抽出部３５ａ、集約部３５ｂ、及び階層化部３５ｃによる上記処理の組を繰り返す。これにより、同一のグループに分類された原点の２次元分布が、周期性に基づく階層構造に多重化される。このため、数ＧＢオーダのフラットデータに対して、階層化データのデータサイズを数ＭＢオーダに低減させることができる。したがって、後続する補正及び検証処理の結果をレイアウトデータ全体に展開する際の処理負荷を低減させることができる。
【0103】
また、階層化データ生成部３５は、Ｘ方向の周期性に関する繰り返し単位と、Ｙ方向の周期性に関する繰り返しと、を交互に繰り返す。これにより、２次元分布の任意の方向に関する周期性を考慮することができる。
【0104】
また、周期性は、所定の方向に等しい間隔で並ぶ原点の数、及び当該間隔を含むパラメータによって定義される。これにより、集約部３５ｂは、等間隔で並ぶ任意の数の原点を、１個の原点に集約することができる。
【0105】
２． 変形例
上述の実施形態には、種々の変形が適用され得る。
上述の実施形態には、種々の変形が適用され得る。
【0106】
上述の実施形態では、単位パターンのサイズが１個のクリップデータと等しい場合について説明したが、これに限られない。例えば、単位パターンは、複数のクリップデータを統合したものであってもよい。以下では、実施形態と異なる構成及び動作について主に説明する。実施形態と同等の構成及び動作については、適宜説明を省略する。
【0107】
２．１ 設計モジュール
図１８は、変形例に係る設計モジュールの機能構成の一例を示すブロック図である。図１８は、実施形態における図４に対応する。図１８に示される設計モジュール２１は、フラットデータ生成部３１、原点抽出部３２、クリップデータ取得部３３、グループ化部３４、階層化データ生成部３５、及び統合部３６を含む。
図１８は、変形例に係る設計モジュールの機能構成の一例を示すブロック図である。図１８は、実施形態における図４に対応する。図１８に示される設計モジュール２１は、フラットデータ生成部３１、原点抽出部３２、クリップデータ取得部３３、グループ化部３４、階層化データ生成部３５、及び統合部３６を含む。
【0108】
変形例に係るフラットデータ生成部３１、原点抽出部３２、クリップデータ取得部３３、グループ化部３４、及び階層化データ生成部３５の構成は、実施形態に係るフラットデータ生成部３１、原点抽出部３２、クリップデータ取得部３３、グループ化部３４、及び階層化データ生成部３５の構成と同等であるため、説明を省略する。
【0109】
統合部３６は、階層化データの階層構造に基づき、複数のグループを１個のグループに統合する。具体的には、統合部３６は、階層化データの階層構造をグループ毎に比較し、同一の階層構造を有する複数のグループを１個のグループに統合する。グループを統合する際、統合部３６は、統合対象の複数のグループにそれぞれ対応する複数の単位パターンを重ね合わせることにより、１個の単位パターンを合成する。
【0110】
以上のような構成により、同じ周期性の繰り返しパターンを有する複数の単位パターンを、クリップデータよりも大きいサイズの１個の単位パターンにまとめることができる。
【0111】
【0112】
【0113】
全てのグループが選択された場合（Ｓ２７；ｙｅｓ）、統合部３６は、複数のグループのうち、同一の階層構造を有する複数のグループを１個のグループに統合する（Ｓ２８）。統合されたグループに対応する単位パターンは、統合対象の複数のグループにそれぞれ対応する複数のクリップデータを重ね合わせたパターンとなる。
【0114】
Ｓ２８の処理が終了すると、設計データ生成処理は終了となる（終了）。
【0115】
２．３ 変形例に係る効果
変形例によれば、統合部３６は、同一の階層構造を有する複数のグループを１個のグループに統合する。統合されたグループの単位パターンは、統合対象の複数のグループの単位パターンを重ね合わせたパターンとなる。これにより、同一の階層構造を有する複数のグループに対して、補正及び検証処理を同時に実行することができる。このため、補正及び検証処理の負荷を更に低減することができる。また、レイアウトパターン内の最も基本的な繰り返しパターンのうち、最大のパターンを把握することができる。
変形例によれば、統合部３６は、同一の階層構造を有する複数のグループを１個のグループに統合する。統合されたグループの単位パターンは、統合対象の複数のグループの単位パターンを重ね合わせたパターンとなる。これにより、同一の階層構造を有する複数のグループに対して、補正及び検証処理を同時に実行することができる。このため、補正及び検証処理の負荷を更に低減することができる。また、レイアウトパターン内の最も基本的な繰り返しパターンのうち、最大のパターンを把握することができる。
【0116】
３． その他
なお、上述した実施形態及び変形例には、種々の変形が適用可能である。
なお、上述した実施形態及び変形例には、種々の変形が適用可能である。
【0117】
上述した実施形態及び変形例では、階層化データ生成処理において、Ｘ方向の周期性に基づく階層化処理と、Ｙ方向の周期性に基づく階層化処理とが互いに異なる階層構造に対応する場合について説明したが、これに限られない。例えば、Ｘ方向の周期性に基づく階層化処理と、Ｙ方向に周期性に基づく階層化処理との組は、同一の階層構造に対応づけられてもよい。すなわち、互いに隣り合う２階層がＸ方向の周期性に基づく階層化処理によって形成された階層と、Ｙ方向の周期性に基づく階層化処理によって形成された階層である場合、これら２階層は、１階層に集約されてもよい。
【0118】
上述した実施形態及び変形例では、設計データ生成処理、階層化データ生成処理、及びレイアウトデータ生成処理を実行するプログラムが、レイアウト生成装置２で実行される場合について説明したが、これに限られない。例えば、設計データ生成処理、階層化データ生成処理、及びレイアウトデータ生成処理を実行するプログラムは、クラウド上の計算リソースで実行されてもよい。
【0119】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【0120】
１…フォトマスク製造システム
２…レイアウト生成装置
３…マスク製造装置
１１…制御部
１２…ユーザインタフェース
１３…ストレージ
１４…ドライブ
１５…記憶媒体
２１…設計モジュール
２２…補正モジュール
２３…検証モジュール
３１…フラットデータ生成部
３２…原点抽出部
３３…クリップデータ取得部
３４…グループ化部
３５…階層化データ生成部
３５ａ…周期性抽出部
３５ｂ…集約部
３５ｃ…階層化部
３６…統合部
２…レイアウト生成装置
３…マスク製造装置
１１…制御部
１２…ユーザインタフェース
１３…ストレージ
１４…ドライブ
１５…記憶媒体
２１…設計モジュール
２２…補正モジュール
２３…検証モジュール
３１…フラットデータ生成部
３２…原点抽出部
３３…クリップデータ取得部
３４…グループ化部
３５…階層化データ生成部
３５ａ…周期性抽出部
３５ｂ…集約部
３５ｃ…階層化部
３６…統合部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
