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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024115058
(43)【公開日】2024-08-26
(54)【発明の名称】洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液
(51)【国際特許分類】
C11D 7/50 20060101AFI20240819BHJP
C11D 7/32 20060101ALI20240819BHJP
C11D 7/36 20060101ALI20240819BHJP
C11D 7/26 20060101ALI20240819BHJP
C11D 7/24 20060101ALI20240819BHJP
H01L 21/304 20060101ALI20240819BHJP
【ＦＩ】
C11D7/50
C11D7/32
C11D7/36
C11D7/26
C11D7/24
H01L21/304 647A
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023020513
(22)【出願日】2023-02-14
(71)【出願人】
【識別番号】000123491
【氏名又は名称】化研テック株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001195
【氏名又は名称】弁理士法人深見特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】堀 薫夫
(72)【発明者】
【氏名】赤松 悠紀
(72)【発明者】
【氏名】谷口 悠希子
【テーマコード（参考）】
4H003
5F157
【Ｆターム（参考）】
4H003BA12
4H003DA09
4H003DA12
4H003DA15
4H003DB01
4H003DC02
4H003EB02
4H003EB04
4H003EB06
4H003EB07
4H003EB08
4H003EB09
4H003EB13
4H003EB14
4H003EB24
4H003ED02
4H003ED04
4H003ED28
4H003ED29
4H003ED31
4H003FA04
4H003FA06
4H003FA28
5F157AA75
5F157AA99
5F157BC03
5F157BC04
5F157BC07
5F157BC13
5F157BE12
5F157BF02
5F157BF22
5F157BF24
5F157BF32
5F157BF34
5F157BF48
5F157BF52
5F157BF54
5F157BF56
5F157BF58
5F157BF59
5F157BF72
5F157BF73
5F157BF96
5F157DB03
5F157DB18
(57)【要約】
【課題】本発明は、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れた洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液を提供することを目的とする。
【解決手段】第１化合物と、溶媒と、水とを含む洗浄剤組成物であって、前記第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は前記窒素原子含有有機酸の塩であり、前記窒素原子含有有機酸は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であり、
前記洗浄剤組成物のｐＨは６以上である、洗浄剤組成物。
【選択図】なし
【解決手段】第１化合物と、溶媒と、水とを含む洗浄剤組成物であって、前記第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は前記窒素原子含有有機酸の塩であり、前記窒素原子含有有機酸は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であり、
前記洗浄剤組成物のｐＨは６以上である、洗浄剤組成物。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１化合物と、溶媒と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
前記第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は前記窒素原子含有有機酸の塩であり、
前記窒素原子含有有機酸は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であり、
前記洗浄剤組成物のｐＨは６以上である、洗浄剤組成物。
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基又は水素原子を示し、Ｒ３は、炭素数１以上４以下のヒドロキシアルキル基又は水素原子を示す。）
（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に炭素数１以上３以下のアルキレン基を示す。）
（式（３）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立にホスホン酸基又は炭素数１以上３以下のホスホノアルキル基を示し、Ｒ９は、ヒドロキシ基又は炭素数１以上３以下のヒドロキシアルキル基を示し、Ｒ１０は、アミノ基又は炭素数１以上３以下のアミノアルキル基を示す。）
前記第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は前記窒素原子含有有機酸の塩であり、
前記窒素原子含有有機酸は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であり、
前記洗浄剤組成物のｐＨは６以上である、洗浄剤組成物。
【化1】
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基又は水素原子を示し、Ｒ３は、炭素数１以上４以下のヒドロキシアルキル基又は水素原子を示す。）
【化2】
（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に炭素数１以上３以下のアルキレン基を示す。）
【化3】
（式（３）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立にホスホン酸基又は炭素数１以上３以下のホスホノアルキル基を示し、Ｒ９は、ヒドロキシ基又は炭素数１以上３以下のヒドロキシアルキル基を示し、Ｒ１０は、アミノ基又は炭素数１以上３以下のアミノアルキル基を示す。）
【請求項2】
前記第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上４質量％以下である、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
【請求項3】
前記洗浄剤組成物のｐＨは、６以上１２以下である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項4】
前記溶媒は、グリコールエーテル、芳香族アルコール、エステル系化合物、炭化水素系化合物、及び脂肪族アルコールからなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項5】
前記グリコールエーテルは、親水性グリコールエーテル及び／又は疎水性グリコールエーテルであり、
前記親水性グリコールエーテルは、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、及びエチレングリコールモノプロピルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記疎水性グリコールエーテルは、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ベンジルグリコール、フェニルグリコール、フェニルジグリコール、フェニルプロピレングリコール、ヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルジグリコール、及びジプロピレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記芳香族アルコールは、ベンジルアルコール、４－イソプロピルベンジルアルコール、１－フェニルエタノール、フェネチルアルコール、γ－フェニルプロピルアルコール、α，α－ジメチルフェネチルアルコール、１－フェニル－１－プロパノール、及びシンナミルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記エステル系化合物は、グルタル酸ジメチル、マロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、ピメリン酸ジメチル、グルタル酸ジエチル、マロン酸ジエチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、ピメリン酸ジエチル、吉草酸メチル、ヘキサン酸メチル、ヘプタン酸メチル、吉草酸エチル、ヘキサン酸エチル、及びヘプタン酸エチルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記炭化水素系化合物の炭素数は、９以上１３以下であり、
前記脂肪族アルコールの炭素数は、５以上１０以下である、請求項４に記載の洗浄剤組成物。
前記親水性グリコールエーテルは、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、及びエチレングリコールモノプロピルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記疎水性グリコールエーテルは、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ベンジルグリコール、フェニルグリコール、フェニルジグリコール、フェニルプロピレングリコール、ヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルジグリコール、及びジプロピレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記芳香族アルコールは、ベンジルアルコール、４－イソプロピルベンジルアルコール、１－フェニルエタノール、フェネチルアルコール、γ－フェニルプロピルアルコール、α，α－ジメチルフェネチルアルコール、１－フェニル－１－プロパノール、及びシンナミルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記エステル系化合物は、グルタル酸ジメチル、マロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、ピメリン酸ジメチル、グルタル酸ジエチル、マロン酸ジエチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、ピメリン酸ジエチル、吉草酸メチル、ヘキサン酸メチル、ヘプタン酸メチル、吉草酸エチル、ヘキサン酸エチル、及びヘプタン酸エチルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記炭化水素系化合物の炭素数は、９以上１３以下であり、
前記脂肪族アルコールの炭素数は、５以上１０以下である、請求項４に記載の洗浄剤組成物。
【請求項6】
前記窒素原子含有有機酸は、イミノ二酢酸、（２－ヒドロキシエチルイミノ）二酢酸、グリシン、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）、及びアレンドロン酸からなる群より選択される少なくとも１種の化合物である、請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物。
【請求項7】
請求項１又は請求項２に記載の洗浄剤組成物用の原液であって、
前記第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上２０質量％以下であり、
前記溶媒の含有率は、１１質量％以上９９．８質量％以下であり、
水によって体積基準で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる、洗浄剤組成物用の原液。
前記第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上２０質量％以下であり、
前記溶媒の含有率は、１１質量％以上９９．８質量％以下であり、
水によって体積基準で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる、洗浄剤組成物用の原液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液に関する。
【背景技術】
【0002】
従来から、集積回路（ＩＣ）及びコンデンサ等の電子部品をプリント基板、カメラモジュール部品等にはんだ付けする際に、ソルダペーストからフラックスが飛散し、電極の周囲に残渣として付着することが知られている（以下、上述のフラックスの残渣を「フラックス残渣」という場合がある。）。
【0003】
フラックス残渣は、はんだ接合部における腐食等の原因となるほか、ワイヤボンディングを行う工程での接合不良及び、樹脂封止をする工程におけるモールド樹脂との密着不良等の原因となりうる。そのため、フラックス残渣は洗浄剤で除去する必要があり、従来から種々の洗浄剤が提案されている（特許文献１～特許文献５）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開ＷＯ２００７／１１９３９２号
【特許文献2】国際公開ＷＯ２００９／０２０１９９号
【特許文献3】特開２０１８－１９９８０８号公報
【特許文献4】特開２０１９－２１０４２７号公報
【特許文献5】国際公開ＷＯ２０２０／１１６５２４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
近年、洗浄剤組成物において、フラックス残渣の洗浄性の向上が求められている。例えば、Ｓｎ合金のはんだは、リフロー時に合金中のＳｎとフラックス中の活性剤成分（有機酸、有機ハロゲン化物など）との反応が生じ、フラックス残渣中にＳｎ塩が含まれることとなる。Ｓｎ塩は有機溶剤を使用した洗浄剤に難溶であり、これまで、Ｓｎ塩のフラックス残渣の除去性に優れた洗浄剤組成物が開発されていた（特許文献１～特許文献５）。
しかしながら、このような洗浄剤組成物は、Ｓｎ合金を含むはんだにおいて生じるＳｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性に優れる一方で、Ｉｎ合金を含むはんだにおいて生じるＩｎ塩のフラックス残渣及び／又はＢｉ合金を含むはんだにおいて生じるＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性が十分でない場合があった。また、Ｉｎ元素及びＢｉ元素は、Ｓｎ元素に比して、蒸発エンタルピー及び第１イオン化エネルギーの合計が相対的に低いことに起因して、Ｉｎ合金のはんだ及びＢｉ合金のはんだにおいて、金属塩（フラックス残渣）が生じ易い傾向があった。その為、フラックス残渣が生じ易いＩｎ合金を含むはんだ及びＢｉ合金を含むはんだに関し、優れた洗浄性を有する洗浄剤組成物の開発が求められていた。
しかしながら、このような洗浄剤組成物は、Ｓｎ合金を含むはんだにおいて生じるＳｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性に優れる一方で、Ｉｎ合金を含むはんだにおいて生じるＩｎ塩のフラックス残渣及び／又はＢｉ合金を含むはんだにおいて生じるＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性が十分でない場合があった。また、Ｉｎ元素及びＢｉ元素は、Ｓｎ元素に比して、蒸発エンタルピー及び第１イオン化エネルギーの合計が相対的に低いことに起因して、Ｉｎ合金のはんだ及びＢｉ合金のはんだにおいて、金属塩（フラックス残渣）が生じ易い傾向があった。その為、フラックス残渣が生じ易いＩｎ合金を含むはんだ及びＢｉ合金を含むはんだに関し、優れた洗浄性を有する洗浄剤組成物の開発が求められていた。
【0006】
また、特許文献１～特許文献５に開示された洗浄剤組成物は、Ｉｎ合金を含むはんだにおいて生じるＩｎ塩のフラックス残渣及び／又はＢｉ合金を含むはんだにおいて生じるＢｉ塩のフラックス残渣に対し、再付着防止性が十分でない場合があった。なお、ここで「再付着防止性」とは、洗浄剤組成物によって基板から洗浄されたフラックス残渣が、洗浄工程もしくはリンス工程で該基板に再度付着することを防ぐ性質を意味する。
【0007】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れた洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本開示の一態様に係る洗浄剤組成物は、
第１化合物と、溶媒と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
該第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は該窒素原子含有有機酸の塩であり、
該窒素原子含有有機酸は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であり、
該洗浄剤組成物のｐＨは６以上である。
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基又は水素原子を示し、Ｒ３は、炭素数１以上４以下のヒドロキシアルキル基又は水素原子を示す。）
（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に炭素数１以上３以下のアルキレン基を示す。）
（式（３）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立にホスホン酸基又は炭素数１以上３以下のホスホノアルキル基を示し、Ｒ９は、ヒドロキシ基又は炭素数１以上３以下のヒドロキシアルキル基を示し、Ｒ１０は、アミノ基又は炭素数１以上３以下のアミノアルキル基を示す。）
第１化合物と、溶媒と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
該第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は該窒素原子含有有機酸の塩であり、
該窒素原子含有有機酸は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であり、
該洗浄剤組成物のｐＨは６以上である。
【化1】
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基又は水素原子を示し、Ｒ３は、炭素数１以上４以下のヒドロキシアルキル基又は水素原子を示す。）
【化2】
（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に炭素数１以上３以下のアルキレン基を示す。）
【化3】
（式（３）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立にホスホン酸基又は炭素数１以上３以下のホスホノアルキル基を示し、Ｒ９は、ヒドロキシ基又は炭素数１以上３以下のヒドロキシアルキル基を示し、Ｒ１０は、アミノ基又は炭素数１以上３以下のアミノアルキル基を示す。）
【0009】
本開示の一態様に係る洗浄剤組成物用の原液は、上記の洗浄剤組成物用の原液であって、
該第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上２０質量％以下であり、
該溶媒の含有率は、１１質量％以上９９．８質量％以下であり、
水によって体積基準で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
該第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上２０質量％以下であり、
該溶媒の含有率は、１１質量％以上９９．８質量％以下であり、
水によって体積基準で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れた洗浄剤組成物、及び洗浄剤組成物用の原液を提供することが可能になる。
【発明を実施するための形態】
【0011】
［本開示の実施形態の説明］
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
［１］本開示の洗浄剤組成物は、
第１化合物と、溶媒と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
前記第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は前記窒素原子含有有機酸の塩であり、
前記窒素原子含有有機酸は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であり、
前記洗浄剤組成物のｐＨは６以上である。
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基又は水素原子を示し、Ｒ３は、炭素数１以上４以下のヒドロキシアルキル基又は水素原子を示す。）
（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に炭素数１以上３以下のアルキレン基を示す。）
（式（３）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立にホスホン酸基又は炭素数１以上３以下のホスホノアルキル基を示し、Ｒ９は、ヒドロキシ基又は炭素数１以上３以下のヒドロキシアルキル基を示し、Ｒ１０は、アミノ基又は炭素数１以上３以下のアミノアルキル基を示す。）
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
［１］本開示の洗浄剤組成物は、
第１化合物と、溶媒と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
前記第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は前記窒素原子含有有機酸の塩であり、
前記窒素原子含有有機酸は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であり、
前記洗浄剤組成物のｐＨは６以上である。
【化4】
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基又は水素原子を示し、Ｒ３は、炭素数１以上４以下のヒドロキシアルキル基又は水素原子を示す。）
【化5】
（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に炭素数１以上３以下のアルキレン基を示す。）
【化6】
（式（３）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立にホスホン酸基又は炭素数１以上３以下のホスホノアルキル基を示し、Ｒ９は、ヒドロキシ基又は炭素数１以上３以下のヒドロキシアルキル基を示し、Ｒ１０は、アミノ基又は炭素数１以上３以下のアミノアルキル基を示す。）
【0012】
これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0013】
［２］上記［１］において、前記第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上４質量％以下であることが好ましい。これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0014】
［３］上記［１］又は［２］において、前記洗浄剤組成物のｐＨは、６以上１２以下であることが好ましい。これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0015】
［４］上記［１］から［３］のいずれかにおいて、前記溶媒は、グリコールエーテル、芳香族アルコール、エステル系化合物、炭化水素系化合物、及び脂肪族アルコールからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0016】
［５］上記［４］において、
前記グリコールエーテルは、親水性グリコールエーテル及び／又は疎水性グリコールエーテルであり、
前記親水性グリコールエーテルは、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、及びエチレングリコールモノプロピルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記疎水性グリコールエーテルは、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ベンジルグリコール、フェニルグリコール、フェニルジグリコール、フェニルプロピレングリコール、ヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルジグリコール、及びジプロピレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記芳香族アルコールは、ベンジルアルコール、４－イソプロピルベンジルアルコール、１－フェニルエタノール、フェネチルアルコール、γ－フェニルプロピルアルコール、α，α－ジメチルフェネチルアルコール、１－フェニル－１－プロパノール、及びシンナミルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記エステル系化合物は、グルタル酸ジメチル、マロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、ピメリン酸ジメチル、グルタル酸ジエチル、マロン酸ジエチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、ピメリン酸ジエチル、吉草酸メチル、ヘキサン酸メチル、ヘプタン酸メチル、吉草酸エチル、ヘキサン酸エチル、及びヘプタン酸エチルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記炭化水素系化合物の炭素数は、９以上１３以下であり、
前記脂肪族アルコールの炭素数は、５以上１０以下であることが好ましい。これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
前記グリコールエーテルは、親水性グリコールエーテル及び／又は疎水性グリコールエーテルであり、
前記親水性グリコールエーテルは、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、及びエチレングリコールモノプロピルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記疎水性グリコールエーテルは、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ベンジルグリコール、フェニルグリコール、フェニルジグリコール、フェニルプロピレングリコール、ヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルジグリコール、及びジプロピレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記芳香族アルコールは、ベンジルアルコール、４－イソプロピルベンジルアルコール、１－フェニルエタノール、フェネチルアルコール、γ－フェニルプロピルアルコール、α，α－ジメチルフェネチルアルコール、１－フェニル－１－プロパノール、及びシンナミルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記エステル系化合物は、グルタル酸ジメチル、マロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、ピメリン酸ジメチル、グルタル酸ジエチル、マロン酸ジエチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、ピメリン酸ジエチル、吉草酸メチル、ヘキサン酸メチル、ヘプタン酸メチル、吉草酸エチル、ヘキサン酸エチル、及びヘプタン酸エチルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、
前記炭化水素系化合物の炭素数は、９以上１３以下であり、
前記脂肪族アルコールの炭素数は、５以上１０以下であることが好ましい。これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0017】
［６］上記［１］から［５］のいずれかにおいて、
前記窒素原子含有有機酸は、イミノ二酢酸、（２－ヒドロキシエチルイミノ）二酢酸、グリシン、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）、及びアレンドロン酸からなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
前記窒素原子含有有機酸は、イミノ二酢酸、（２－ヒドロキシエチルイミノ）二酢酸、グリシン、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）、及びアレンドロン酸からなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0018】
［７］また、本開示の洗浄剤組成物用の原液は、上述の［１］から［６］に記載の洗浄剤組成物用の原液であって、
前記第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上２０質量％以下であり、
前記溶媒の含有率は、１１質量％以上９９．８質量％以下であり、
水によって体積基準で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
前記第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上２０質量％以下であり、
前記溶媒の含有率は、１１質量％以上９９．８質量％以下であり、
水によって体積基準で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
【0019】
これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れた洗浄剤組成物用の原液を提供することが可能になる。
【0020】
［本開示の実施形態の詳細］
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）について説明する。ただし、本実施形態はこれに限定されるものではない。本明細書において「Ａ～Ｚ」という形式の表記は、範囲の上限下限（すなわちＡ以上Ｚ以下）を意味する。Ａにおいて単位の記載がなく、Ｚにおいてのみ単位が記載されている場合、Ａの単位とＺの単位とは同じである。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）について説明する。ただし、本実施形態はこれに限定されるものではない。本明細書において「Ａ～Ｚ」という形式の表記は、範囲の上限下限（すなわちＡ以上Ｚ以下）を意味する。Ａにおいて単位の記載がなく、Ｚにおいてのみ単位が記載されている場合、Ａの単位とＺの単位とは同じである。
【0021】
［実施形態１：洗浄剤組成物］
本開示の一実施形態に係る洗浄剤組成物について説明する。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）の洗浄剤組成物は、
第１化合物と、溶媒と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
該第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は該窒素原子含有有機酸の塩であり、
該窒素原子含有有機酸は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であり、
該洗浄剤組成物のｐＨは６以上である。
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基又は水素原子を示し、Ｒ３は、炭素数１以上４以下のヒドロキシアルキル基又は水素原子を示す。）
（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に炭素数１以上３以下のアルキレン基を示す。）
（式（３）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立にホスホン酸基又は炭素数１以上３以下のホスホノアルキル基を示し、Ｒ９は、ヒドロキシ基又は炭素数１以上３以下のヒドロキシアルキル基を示し、Ｒ１０は、アミノ基又は炭素数１以上３以下のアミノアルキル基を示す。）
本開示の一実施形態に係る洗浄剤組成物について説明する。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）の洗浄剤組成物は、
第１化合物と、溶媒と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
該第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は該窒素原子含有有機酸の塩であり、
該窒素原子含有有機酸は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であり、
該洗浄剤組成物のｐＨは６以上である。
【化7】
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基又は水素原子を示し、Ｒ３は、炭素数１以上４以下のヒドロキシアルキル基又は水素原子を示す。）
【化8】
（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に炭素数１以上３以下のアルキレン基を示す。）
【化9】
（式（３）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立にホスホン酸基又は炭素数１以上３以下のホスホノアルキル基を示し、Ｒ９は、ヒドロキシ基又は炭素数１以上３以下のヒドロキシアルキル基を示し、Ｒ１０は、アミノ基又は炭素数１以上３以下のアミノアルキル基を示す。）
【0022】
本開示によって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。その理由は、以下の通りと推察される。
【0023】
本実施形態に係る洗浄剤組成物は、第１化合物を含む洗浄剤組成物であって、該第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は該窒素原子含有有機酸の塩であり、該窒素原子含有有機酸は、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種であり、該洗浄剤組成物のｐＨは６以上である。このような窒素原子含有有機酸においては、ｐＨ６以上の環境下において、Ｎ原子と、Ｉｎイオン及びＢｉイオンとの反応性が高いことに起因して、該窒素原子含有有機酸は、Ｉｎイオンのキレート効果及びＢｉイオンのキレート効果に優れる。よって、本実施形態に係る洗浄剤組成物は、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れる。
【0024】
以上により、本実施形態によって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能である。
【0025】
≪洗浄剤組成物の組成≫
＜溶媒＞
上記洗浄剤組成物は、溶媒を含む。該溶媒は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。該溶媒は、市販品をそのまま用いてもよい。
＜溶媒＞
上記洗浄剤組成物は、溶媒を含む。該溶媒は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。該溶媒は、市販品をそのまま用いてもよい。
【0026】
上記溶媒の含有率は、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。これによって、フラックス残渣中の樹脂成分等を膨潤、溶解することができ、Ｉｎ塩又はＢｉ塩に対し第１化合物が近接し易くなる為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することができる。該溶媒の含有率の下限は、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１５質量％以上であることが更に好ましい。該溶媒の含有率の上限は、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることが更に好ましい。該溶媒の含有率は、１０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以上７０質量％以下であることが更に好ましい。
【0027】
上記溶媒の含有率は、ガスクロマトグラフィーによる分析で求めることができる。ガスクロマトグラフィーによる分析の条件は以下の通りである。
（分析の条件）
装置：ガスクトマログラフ ＧＣ－１４Ｂ（株式会社島津製作所製）
検出器：熱伝導度型検出器（ＴＣＤ）
カラム：Ｔｈｅｒｍｏｎ－３０００（信和化工株式会社製）
気化室温度：１６０℃
検出器温度：１６０℃
（分析の条件）
装置：ガスクトマログラフ ＧＣ－１４Ｂ（株式会社島津製作所製）
検出器：熱伝導度型検出器（ＴＣＤ）
カラム：Ｔｈｅｒｍｏｎ－３０００（信和化工株式会社製）
気化室温度：１６０℃
検出器温度：１６０℃
【0028】
該溶媒は、グリコールエーテル、芳香族アルコール、エステル系化合物、炭化水素系化合物、及び脂肪族アルコールからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0029】
上記グリコールエーテルは、二価アルコールのエーテル化合物を意味する。該グリコールエーテルは、親水性グリコールエーテル及び／又は疎水性グリコールエーテルであることが好ましい。ここで「親水性グリコールエーテル」とは、２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超えるグリコールエーテルを意味する。また、ここで「疎水性グリコールエーテル」とは、２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％以下であるグリコールエーテルを意味する。該親水性グリコールエーテルは、式（４）で表される化合物、又は式（５）で表される化合物であることが好ましい。また、該疎水性グリコールエーテルは、式（６）で表される化合物であることが好ましい。なお、本開示において「水の溶解度」とは、対象の化合物に対する水の溶解度を意味する。
（式（４）中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ１４は、炭素数１～１１の鎖状及び／又は環状の炭化水素基、或いはベンジル基を示し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよい。）
（式（５）中、Ｒ１５及びＲ１６は、それぞれ独立に水素原子又はメトキシ基を示し、該Ｒ１５及び該Ｒ１６のいずれかはメトキシ基であり、Ｒ１７は水素原子又はメチル基を示す。）
（式（６）中、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ２１は、炭素数１～１１の鎖状及び／又は環状の炭化水素基、フェニル基、或いはベンジル基を示し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよい。）
【化10】
（式（４）中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ１４は、炭素数１～１１の鎖状及び／又は環状の炭化水素基、或いはベンジル基を示し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよい。）
【化11】
（式（５）中、Ｒ１５及びＲ１６は、それぞれ独立に水素原子又はメトキシ基を示し、該Ｒ１５及び該Ｒ１６のいずれかはメトキシ基であり、Ｒ１７は水素原子又はメチル基を示す。）
【化12】
（式（６）中、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、又はエチル基を示し、Ｒ２１は、炭素数１～１１の鎖状及び／又は環状の炭化水素基、フェニル基、或いはベンジル基を示し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよい。）
【0030】
上記グリコールエーテルは、親水性グリコールエーテル及び／又は疎水性グリコールエーテルであり、該親水性グリコールエーテルは、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、及びエチレングリコールモノプロピルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であり、該疎水性グリコールエーテルは、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ベンジルグリコール、フェニルグリコール、フェニルジグリコール、フェニルプロピレングリコール、ヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルジグリコール、及びジプロピレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。これによって、フラックス残渣中の樹脂成分等を膨潤、溶解することができ、Ｉｎ塩又はＢｉ塩に対し第１化合物が近接しやすくなる為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することができる。
【0031】
上記グリコールエーテルの含有率は、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。これによって、フラックス残渣中の樹脂成分等を膨潤、溶解し、Ｉｎ塩又はＢｉ塩に対し第１化合物が近接し易くすることができる。該グリコールエーテルの含有率の下限は、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１５質量％以上であることが更に好ましい。該グリコールエーテルの含有率の上限は、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることが更に好ましい。該グリコールエーテルの含有率は、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以上７０質量％以下であることが更に好ましい。
【0032】
上記グリコールエーテルの含有率は、上記溶媒の含有率と同様の方法により求めることができる。
【0033】
本開示において「芳香族アルコール」は、式（７）で表される化合物であることが好ましい。
（式（７）中、Ｒ２２は炭素数１～６の２価の炭化水素基を示し、Ｒ２３は水素原子、又は炭素数１～３の炭化水素基を示し、前記２価の炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよい。）
【化13】
（式（７）中、Ｒ２２は炭素数１～６の２価の炭化水素基を示し、Ｒ２３は水素原子、又は炭素数１～３の炭化水素基を示し、前記２価の炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよい。）
【0034】
上記芳香族アルコールは、ベンジルアルコール、４－イソプロピルベンジルアルコール、１－フェニルエタノール、フェネチルアルコール、γ－フェニルプロピルアルコール、α，α－ジメチルフェネチルアルコール、１－フェニル－１－プロパノール、及びシンナミルアルコールからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。これによって、フラックス残渣中の樹脂成分等を膨潤、溶解することができ、Ｉｎ塩又はＢｉ塩に対し第１化合物が近接し易くなる為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することができる。
【0035】
上記芳香族アルコールの含有率は、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。これによって、フラックス残渣中の樹脂成分等を膨潤、溶解し、Ｉｎ塩又はＢｉ塩に対し第１化合物が近接し易くすることができる。該芳香族アルコールの含有率の下限は、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１５質量％以上であることが更に好ましい。該芳香族アルコールの含有率の上限は、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることが更に好ましい。該芳香族アルコールの含有率は、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以上７０質量％以下であることが更に好ましい。
【0036】
上記芳香族アルコールの含有率は、上記溶媒の含有率と同様の方法により求めることができる。
【0037】
本開示において「エステル系化合物」とは、エステル結合を有する化合物を意味し、「エステル」と同義である。本開示において「エステル系化合物」としては、例えば、式（８）で表される化合物、及び式（９）で表される化合物等が挙げられる。
（式（８）中、Ｒ２４は炭素数１～５の鎖状の炭化水素基を示し、Ｒ２５及びＲ２６は、それぞれ独立に、メチル基、又はエチル基を示す。）
（式（９）中、Ｒ２７は炭素数４～６の鎖状の炭化水素基を示し、Ｒ２８は、メチル基、又はエチル基を示す。）
【化14】
（式（８）中、Ｒ２４は炭素数１～５の鎖状の炭化水素基を示し、Ｒ２５及びＲ２６は、それぞれ独立に、メチル基、又はエチル基を示す。）
【化15】
（式（９）中、Ｒ２７は炭素数４～６の鎖状の炭化水素基を示し、Ｒ２８は、メチル基、又はエチル基を示す。）
【0038】
上記エステル系化合物は、グルタル酸ジメチル、マロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、ピメリン酸ジメチル、グルタル酸ジエチル、マロン酸ジエチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、ピメリン酸ジエチル、吉草酸メチル、ヘキサン酸メチル、ヘプタン酸メチル、吉草酸エチル、ヘキサン酸エチル、及びヘプタン酸エチルからなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。これによって、フラックス残渣中の樹脂成分等を膨潤、溶解することができ、Ｉｎ塩又はＢｉ塩に対し第１化合物が近接し易くなる為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することができる。
【0039】
上記エステル系化合物の含有率は、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。これによって、フラックス残渣中の樹脂成分等を膨潤、溶解し、Ｉｎ塩又はＢｉ塩に対し第１化合物が近接し易くすることができる。該エステル系化合物の含有率の下限は、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１５質量％以上であることが更に好ましい。該エステル系化合物の含有率の上限は、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることが更に好ましい。該エステル系化合物の含有率は、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以上７０質量％以下であることが更に好ましい。
【0040】
上記エステル系化合物の含有率は、上記溶媒の含有率と同様の方法により求めることができる。
【0041】
本開示において「炭化水素系化合物」とは、炭素と水素とからなる化合物を意味し、「炭化水素」と同義である。本開示において「炭化水素系化合物」の炭素数は、９以上１３以下であることが好ましい。これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。また、動粘度の関係で隙間洗浄性に優れ、揮発性の関係で揮発消費量の少ない洗浄剤組成物を提供することが可能になる。例えば、炭素数が１０である炭化水素系化合物として、デカン、１－デセン、１－デシン、デカヒドロナフタレン、１，４―ジエチルベンゼン等が挙げられる。該炭化水素系化合物の炭素数の下限は、９以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましい。該炭化水素系化合物の炭素数の上限は、１３以下であることが好ましく、１２以下であることがより好ましく、１１以下であることが更に好ましい。該炭化水素系化合物の炭素数は、９以上１２以下であることがより好ましく、９以上１１以下であることが更に好ましい。
【0042】
上記炭化水素系化合物の含有率は、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。これによって、隙間に存在するフラックス残渣中の樹脂成分等を膨潤、溶解することができ、Ｉｎ塩又はＢｉ塩に対し第１化合物が近接し易くなる為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することができる。該炭化水素系化合物の含有率の下限は、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１５質量％以上であることが更に好ましい。該炭化水素系化合物の含有率の上限は、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることが更に好ましい。該炭化水素系化合物の含有率は、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以上７０質量％以下であることが更に好ましい。
【0043】
上記炭化水素系化合物の含有率は、上記溶媒の含有率と同様の方法により求めることができる。
【0044】
本開示において「脂肪族アルコール」の炭素数は、５以上１０以下であることが好ましい。これによって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に更に優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。また、動粘度の関係で隙間洗浄性に優れ、揮発性の関係で揮発消費量の少ない洗浄剤組成物を提供することが可能になる。例えば、炭素数が６である脂肪族アルコールとして、１－ヘキサノール、２－ヘキサノール、３－ヘキサノール等が挙げられる。該脂肪族アルコールの炭素数の下限は、５以上であることが好ましく、６以上であることがより好ましい。該脂肪族アルコールの炭素数の上限は、１０以下であることが好ましく、９以下であることがより好ましく、８以下であることが更に好ましい。該脂肪族アルコールの炭素数は、５以上９以下であることがより好ましく、５以上８以下であることが更に好ましい。
【0045】
上記脂肪族アルコールの含有率は、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。これによって、隙間に存在するフラックス残渣中の樹脂成分等を膨潤、溶解することができ、Ｉｎ塩又はＢｉ塩に対し第１化合物が近接し易くなる為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。該脂肪族アルコールの含有率の下限は、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１５質量％以上であることが更に好ましい。該脂肪族アルコールの含有率の上限は、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることが更に好ましい。該脂肪族アルコールの含有率は、５質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以上７０質量％以下であることが更に好ましい。
【0046】
上記脂肪族アルコールの含有率は、上記溶媒の含有率と同様の方法により求めることができる。
【0047】
＜第１化合物＞
上記洗浄剤組成物は、第１化合物を含む。該第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は該窒素原子含有有機酸の塩である。本開示において「窒素原子含有有機酸」とは、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種である。
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基又は水素原子を示し、Ｒ３は、炭素数１以上４以下のヒドロキシアルキル基又は水素原子を示す。）
（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に炭素数１以上３以下のアルキレン基を示す。）
（式（３）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立にホスホン酸基又は炭素数１以上３以下のホスホノアルキル基を示し、Ｒ９は、ヒドロキシ基又は炭素数１以上３以下のヒドロキシアルキル基を示し、Ｒ１０は、アミノ基又は炭素数１以上３以下のアミノアルキル基を示す。）
上記洗浄剤組成物は、第１化合物を含む。該第１化合物は、窒素原子含有有機酸及び／又は該窒素原子含有有機酸の塩である。本開示において「窒素原子含有有機酸」とは、式（１）で表される化合物、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種である。
【化16】
（式（１）中、Ｒ１は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基を示し、Ｒ２は、炭素数２以上４以下のカルボキシアルキル基又は水素原子を示し、Ｒ３は、炭素数１以上４以下のヒドロキシアルキル基又は水素原子を示す。）
【化17】
（式（２）中、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、それぞれ独立に炭素数１以上３以下のアルキレン基を示す。）
【化18】
（式（３）中、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立にホスホン酸基又は炭素数１以上３以下のホスホノアルキル基を示し、Ｒ９は、ヒドロキシ基又は炭素数１以上３以下のヒドロキシアルキル基を示し、Ｒ１０は、アミノ基又は炭素数１以上３以下のアミノアルキル基を示す。）
【0048】
該窒素原子含有有機酸は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。該窒素原子含有有機酸は、市販品をそのまま用いてもよい。
【0049】
上記窒素原子含有有機酸は、イミノ二酢酸、（２－ヒドロキシエチルイミノ）二酢酸、グリシン、ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）、及びアレンドロン酸からなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。これによって、Ｉｎイオン及びＢｉイオンに対するキレート効果が向上する為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0050】
該窒素原子含有有機酸の塩は、特に制限されないが、例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、アミン塩等が挙げられる。
【0051】
上記第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上４質量％以下であることが好ましい。これによって、Ｉｎイオン及びＢｉイオンに対するキレート効果が向上する為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。なお、本開示において、有機酸換算での第１化合物の含有率とは、洗浄剤組成物中の第１化合物が窒素原子含有有機酸の塩として存在している場合において、該塩の質量を該窒素原子含有有機酸の質量に置き換えた上で求められる、第１化合物の含有率を意味する。第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上であることが好ましく、０．５質量％以上であることがより好ましく、１．０質量％以上であることが更に好ましい。第１化合物の含有率は、有機酸換算で４質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、２質量％以下であることが更に好ましい。第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．５質量％以上３質量％以下であることがより好ましく、１．０質量％以上２質量％以下であることが更に好ましい。
【0052】
有機酸換算での第１化合物の含有率は、電位差滴定法により求めることができる。該電位差滴定法による分析の条件は以下の通りである。
（条件）
装置：電位差自動滴定装置 Ｍｏｄｅｌ ＡＴ－７１０Ｍ（京都電子工業株式会社製）
測定温度：２０℃
（条件）
装置：電位差自動滴定装置 Ｍｏｄｅｌ ＡＴ－７１０Ｍ（京都電子工業株式会社製）
測定温度：２０℃
【0053】
＜水＞
上記洗浄剤組成物は、水を含む。該水は、各種工業製品の原料として用いられる水、水道水等であれば特に制限はない。該水は、蒸留水であってもよいし、イオン交換水であってもよい。本実施形態の一側面において、該水は、その電気伝導率が１～３００μＳ／ｃｍであってもよいし、１～１００μＳ／ｃｍであってもよい。
上記洗浄剤組成物は、水を含む。該水は、各種工業製品の原料として用いられる水、水道水等であれば特に制限はない。該水は、蒸留水であってもよいし、イオン交換水であってもよい。本実施形態の一側面において、該水は、その電気伝導率が１～３００μＳ／ｃｍであってもよいし、１～１００μＳ／ｃｍであってもよい。
【0054】
上記水の含有率は、１０質量％以上９５質量％以下であることが好ましい。これによって、第１化合物のＩｎ塩及びＢｉ塩へのキレート効果が向上する為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。該水の含有率の下限値は、１０質量％以上であることが好ましく、２０質量％以上であることがより好ましく、３０質量％以上であることが更に好ましい。該水の含有率の上限値は、９５質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましく、８０質量％以下であることが更に好ましい。該水の含有率は、２０質量％以上９０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以上８０質量％以下であることが更に好ましい。
【0055】
該水の含有率は、カールフィッシャー水分計による分析で求めることができる。カールフィッシャー水分計による分析の条件は以下の通りである。
（カールフィッシャー水分計の分析条件）
装置：カールフィッシャー水分計 ＭＫＳ－５００（京都電子工業株式会社製）
測定方法：容量滴定法
測定温度：２０℃
（カールフィッシャー水分計の分析条件）
装置：カールフィッシャー水分計 ＭＫＳ－５００（京都電子工業株式会社製）
測定方法：容量滴定法
測定温度：２０℃
【0056】
＜アルカリ＞
上記洗浄剤組成物は、更に、アルカリを含み得る。これによって、該洗浄剤組成物のｐＨを所望の範囲内に調整し易くなる。なお、本開示において「アルカリ」とは、例えば、後述する親水性アミン、疎水性アミン、及び親水性第４級アンモニウム塩等である。なお、該アルカリは、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。該アルカリは、市販品をそのまま用いてもよい。
上記洗浄剤組成物は、更に、アルカリを含み得る。これによって、該洗浄剤組成物のｐＨを所望の範囲内に調整し易くなる。なお、本開示において「アルカリ」とは、例えば、後述する親水性アミン、疎水性アミン、及び親水性第４級アンモニウム塩等である。なお、該アルカリは、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。該アルカリは、市販品をそのまま用いてもよい。
【0057】
上記アルカリの含有率は、「洗浄剤組成物のｐＨは６以上である」ことを充足する限りにおいて特に制限されないが、例えば１．０質量％以上２０質量％以下、２．０質量％以上１０質量％以下、３．０質量％以上５．０質量％以下とすることができる。
【0058】
上記アルカリの含有率は、電位差滴定法により求めることができる。該電位差滴定法による分析の条件は、上述の「有機酸換算での第１化合物の含有率」の分析条件と同一である。
【0059】
上記アルカリは、親水性アミン、疎水性アミン、及び親水性第４級アンモニウム塩からなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。これによって、第１化合物のＩｎ塩及びＢｉ塩へのキレート効果が向上する為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。
【0060】
本開示において「親水性アミン」とは、２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超えるアミンを意味する。「親水性アミン」として、例えばＮ－ブチルジエタノールアミン、Ｎ－エチルエタノールアミン、及びトリエタノールアミン等が挙げられる。
【0061】
本開示において「疎水性アミン」とは、２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％以下であるアミンを意味する。「疎水性アミン」として、例えばＮ，Ｎ－ジメチルステアリルアミン等が挙げられる。
【0062】
本開示において「親水性第４級アンモニウム塩」とは、２０℃の環境下において、水の溶解度が５０質量％を超える第４級アンモニウム塩を意味する。「親水性第４級アンモニウム塩」として、例えばテトラエチルアンモニウムヒドロキシド等が挙げられる。
【0063】
＜その他の成分＞
本実施形態に係る洗浄剤組成物は、本発明の効果が奏される限り、その他の成分を更に含んでいてもよい。該その他の成分としては、例えば、界面活性剤、防錆剤、キレート剤、増粘剤、湿潤剤、蒸発遅延剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、香料及び防腐剤等が挙げられる。
本実施形態に係る洗浄剤組成物は、本発明の効果が奏される限り、その他の成分を更に含んでいてもよい。該その他の成分としては、例えば、界面活性剤、防錆剤、キレート剤、増粘剤、湿潤剤、蒸発遅延剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、香料及び防腐剤等が挙げられる。
【0064】
≪洗浄剤組成物の特性≫
＜ｐＨ＞
上記洗浄剤組成物のｐＨは６以上である。これによって、上記第１化合物とＩｎイオン及びＢｉイオンとの反応性が向上する為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。該ｐＨの下限値は、６以上であることが好ましく、７以上であることがより好ましく、８以上であることが更に好ましい。該ｐＨの上限値は、１２以下であることが好ましく、１１以下であることがより好ましく、１０以下であることが更に好ましい。該ｐＨは、６以上１２以下であることが好ましく、７以上１１以下であることがより好ましく、８以上１０以下であることが更に好ましい。
＜ｐＨ＞
上記洗浄剤組成物のｐＨは６以上である。これによって、上記第１化合物とＩｎイオン及びＢｉイオンとの反応性が向上する為、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性により優れた洗浄剤組成物を提供することが可能になる。該ｐＨの下限値は、６以上であることが好ましく、７以上であることがより好ましく、８以上であることが更に好ましい。該ｐＨの上限値は、１２以下であることが好ましく、１１以下であることがより好ましく、１０以下であることが更に好ましい。該ｐＨは、６以上１２以下であることが好ましく、７以上１１以下であることがより好ましく、８以上１０以下であることが更に好ましい。
【0065】
該ｐＨは、以下の方法により求めることができる。すなわち、洗浄剤組成物を水（蒸留水）で１００倍に希釈することにより、水（蒸留水）で１００倍希釈された洗浄剤組成物を得た後、該「水で１００倍希釈された洗浄剤組成物」に対し、ｐＨ計（Ｄｏｃｕ－ＰＨ ザルトリウス株式会社製）を用いて、測定温度２５℃の条件で測定することにより求めることができる。
【0066】
≪洗浄剤組成物の製造方法≫
本実施形態に係る洗浄剤組成物の製造方法は、上記溶媒と、上記第１化合物と、上記水とを準備する工程と、該溶媒と、該第１化合物とを、該水に添加する工程を含む。当該添加する工程は、どのような手法を用いてもよい。添加する工程としては、例えば、フラスコに該溶媒、該第１化合物、及び該水を加えること、及び化学プラント等において、工業的規模で該溶媒、該第１化合物、及び該水を加えること等が挙げられる。
本実施形態に係る洗浄剤組成物の製造方法は、上記溶媒と、上記第１化合物と、上記水とを準備する工程と、該溶媒と、該第１化合物とを、該水に添加する工程を含む。当該添加する工程は、どのような手法を用いてもよい。添加する工程としては、例えば、フラスコに該溶媒、該第１化合物、及び該水を加えること、及び化学プラント等において、工業的規模で該溶媒、該第１化合物、及び該水を加えること等が挙げられる。
【0067】
≪洗浄対象物の洗浄方法≫
本実施形態に係る洗浄対象物の洗浄方法は、洗浄対象物の洗浄方法であって、上記洗浄剤組成物を該洗浄対象物の表面又は隙間に接触させることを含む。
本実施形態に係る洗浄対象物の洗浄方法は、洗浄対象物の洗浄方法であって、上記洗浄剤組成物を該洗浄対象物の表面又は隙間に接触させることを含む。
【0068】
上記洗浄剤組成物を上記洗浄対象物の表面又は隙間に接触させる方法は特に制限されない。当該方法は、例えば、浸漬、塗布、及びスプレー又はシャワーによる噴霧などの方法によって、大気中、減圧下、又は加圧下で常温下又は加熱下で接触させることが挙げられる。浸漬によって該洗浄剤組成物を該洗浄対象物の表面又は隙間に接触させる場合、必要に応じて、撹拌処理、超音波処理、バブリング処理、揺動等の操作を行ってもよい。当該方法は、加温した該洗浄剤組成物が投入された洗浄剤槽に、該洗浄対象物を浸漬して、洗浄することが好ましい。浸漬する時間は、１分間～６０分間であることが好ましい。
【0069】
本実施形態の一側面において、上記洗浄対象物の隙間を洗浄する場合、撹拌されている上記洗浄剤組成物に該洗浄対象物を浸漬することが好ましい。この場合、シャワー洗浄及び超音波洗浄のときと比較して、洗浄対象物への負荷が低減される傾向がある。
【0070】
本実施形態の洗浄対象物の洗浄方法は、上記洗浄剤組成物の温度を２０～７０℃とすることが好ましく、３０～６０℃とすることがより好ましく、４０～５０℃とすることが更に好ましい。
【0071】
その後、水、含水アルコール、又は含水グリコールエーテルによるリンスを行って、乾燥で洗浄剤組成物を、上記洗浄対象物から除去すればよい。
【0072】
本実施形態に係る洗浄剤組成物は、フラックス残渣を除去するために好適に用いることができる。すなわち、上記洗浄剤組成物は、フラックス残渣洗浄用であることが好ましい。上記洗浄剤組成物は、Ｉｎ塩のフラックス残渣洗浄用、及び／又はＢｉ塩のフラックス残渣洗浄用であることがより好ましい。
【0073】
［実施形態２：洗浄剤組成物用の原液］
本開示の一実施形態に係る洗浄剤組成物用の原液について説明する。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）の洗浄剤組成物用の原液は、
本実施形態１に係る洗浄剤組成物用の原液であって、
該第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上２０質量％以下であり、
該溶媒の含有率は、１１質量％以上９９．８質量％以下であり、
水によって体積基準で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
本開示の一実施形態に係る洗浄剤組成物用の原液について説明する。
本開示の一実施形態（以下、「本実施形態」とも記す。）の洗浄剤組成物用の原液は、
本実施形態１に係る洗浄剤組成物用の原液であって、
該第１化合物の含有率は、有機酸換算で０．１質量％以上２０質量％以下であり、
該溶媒の含有率は、１１質量％以上９９．８質量％以下であり、
水によって体積基準で１．１倍以上２０倍以下に希釈して用いられる。
【0074】
本開示によって、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れ、且つＢｉ塩のフラックス残渣に対し、洗浄性及び再付着防止性に優れた洗浄剤組成物用の原液を提供することが可能になる。なお、上記洗浄剤組成物用原液を上述の倍率（体積比率）で希釈することで、実施形態１に係る洗浄剤組成物を得ることができる。
【実施例0075】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0076】
［実施例１］
≪洗浄剤組成物の作製≫
以下のようにして、試料１－１～試料１５、及び試料１０１～試料１１５に係る洗浄剤組成物を作製した。
≪洗浄剤組成物の作製≫
以下のようにして、試料１－１～試料１５、及び試料１０１～試料１１５に係る洗浄剤組成物を作製した。
【0077】
＜準備する工程＞
試料１－１～試料１５、及び試料１０１～試料１１５に係る洗浄剤組成物を作製する為の原料として、以下の溶媒と、以下の有機酸と、以下のアルカリと、以下の水とを準備した。
（有機酸）
イミノ二酢酸：東京化成工業株式会社製
（２－ヒドロキシエチルイミノ）二酢酸ジナトリウム：キレスト株式会社製
グリシン：東京化成工業株式会社製
ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）：東京化成工業株式会社製
アレンドロン酸：東京化成工業株式会社製
クエン酸：富士フィルム和光純薬株式会社製
ヒドロキシ酢酸：東京化成工業株式会社製
無水マレイン酸：東京化成工業株式会社製
フマル酸：東京化成工業株式会社製
エチドロン酸：東京化成工業株式会社製
（溶媒）
エチレングリコールモノプロピルエーテル：東京化成工業株式会社製
３－メトキシ－３－メチルブタノール：株式会社クラレ製
ジエチレングリコールモノブチルエーテル：東京化成工業株式会社製
ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル：東京化成工業株式会社製
ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル：富士フィルム和光純薬株式会社製
ジプロピレングリコールモノブチルエーテル：関東化学株式会社製
ベンジルアルコール：東京応化工業株式会社製
グルタル酸ジメチル：東京化成工業株式会社製
デカン：東京化成工業株式会社製
１－ヘキサノール：東京化成工業株式会社製
（アルカリ）
Ｎ－ブチルジエタノールアミン：東京化成工業株式会社製
Ｎ－エチルエタノールアミン：東京化成工業株式会社製
トリエタノールアミン：東京化成工業株式会社製
テトラエチルアンモニウムヒドロキシド：東京化成工業株式会社製
Ｎ，Ｎ－ジメチルステアリルアミン：富士フィルム和光純薬株式会社製
（水）
蒸留水
試料１－１～試料１５、及び試料１０１～試料１１５に係る洗浄剤組成物を作製する為の原料として、以下の溶媒と、以下の有機酸と、以下のアルカリと、以下の水とを準備した。
（有機酸）
イミノ二酢酸：東京化成工業株式会社製
（２－ヒドロキシエチルイミノ）二酢酸ジナトリウム：キレスト株式会社製
グリシン：東京化成工業株式会社製
ニトリロトリス（メチレンホスホン酸）：東京化成工業株式会社製
アレンドロン酸：東京化成工業株式会社製
クエン酸：富士フィルム和光純薬株式会社製
ヒドロキシ酢酸：東京化成工業株式会社製
無水マレイン酸：東京化成工業株式会社製
フマル酸：東京化成工業株式会社製
エチドロン酸：東京化成工業株式会社製
（溶媒）
エチレングリコールモノプロピルエーテル：東京化成工業株式会社製
３－メトキシ－３－メチルブタノール：株式会社クラレ製
ジエチレングリコールモノブチルエーテル：東京化成工業株式会社製
ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル：東京化成工業株式会社製
ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル：富士フィルム和光純薬株式会社製
ジプロピレングリコールモノブチルエーテル：関東化学株式会社製
ベンジルアルコール：東京応化工業株式会社製
グルタル酸ジメチル：東京化成工業株式会社製
デカン：東京化成工業株式会社製
１－ヘキサノール：東京化成工業株式会社製
（アルカリ）
Ｎ－ブチルジエタノールアミン：東京化成工業株式会社製
Ｎ－エチルエタノールアミン：東京化成工業株式会社製
トリエタノールアミン：東京化成工業株式会社製
テトラエチルアンモニウムヒドロキシド：東京化成工業株式会社製
Ｎ，Ｎ－ジメチルステアリルアミン：富士フィルム和光純薬株式会社製
（水）
蒸留水
【0078】
＜添加する工程＞
次に、上記原料のうち該蒸留水（水）以外の原料を、表１～表７に記載された組成で、該蒸留水（水）に添加した。なお、表１～表７の「配合組成［質量％］」の欄において、「－」で示されている成分は、試料に含まれていないことを意味する。
次に、上記原料のうち該蒸留水（水）以外の原料を、表１～表７に記載された組成で、該蒸留水（水）に添加した。なお、表１～表７の「配合組成［質量％］」の欄において、「－」で示されている成分は、試料に含まれていないことを意味する。
【0079】
【表1】
【0080】
【表2】
【0081】
【表3】
【0082】
【表4】
【0083】
【表5】
【0084】
【表6】
【0085】
【表7】
【0086】
以上の工程を実行することにより、表１～表７に示した構成を有する試料１－１～試料１５、及び試料１０１～試料１１５に係る洗浄剤組成物を作製した。
【0087】
≪洗浄剤組成物の特性評価≫
各試料に係る洗浄剤組成物について、「ｐＨ」を測定し、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する「洗浄性」、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する「再付着防止性」、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する「洗浄性」、及びＢｉ塩のフラックス残渣に対する「再付着防止性」を評価した。
各試料に係る洗浄剤組成物について、「ｐＨ」を測定し、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する「洗浄性」、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する「再付着防止性」、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する「洗浄性」、及びＢｉ塩のフラックス残渣に対する「再付着防止性」を評価した。
【0088】
＜ｐＨ＞
各試料に係る洗浄剤組成物について、ｐＨを上記実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果をそれぞれ表１～表７の「ｐＨ（水で１００倍に希釈された場合）」の欄に記す。
各試料に係る洗浄剤組成物について、ｐＨを上記実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果をそれぞれ表１～表７の「ｐＨ（水で１００倍に希釈された場合）」の欄に記す。
【0089】
＜Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性＞
各試料に係る洗浄剤組成物について、以下の手順でＩｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価した。
各試料に係る洗浄剤組成物について、以下の手順でＩｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価した。
【0090】
（評価サンプルの調整）
以下の手順でＩｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価するための評価サンプルを準備した。先ず、ＪＩＳ２型くし形電極基板（株式会社サトーセン製）を用意した。次に、該ＪＩＳ２型くし形電極基板にメタルマスクをかぶせ、該メタルマスクの上から評価ソルダペースト（株式会社弘輝製の「ＳＢ６Ｎ５８－Ｍ５００ＳＩ」）を印刷した。その後、該ＪＩＳ２型くし形電極基板を２５０℃のホットプレート上で３分間静置することでリフローを行った。
以下の手順でＩｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価するための評価サンプルを準備した。先ず、ＪＩＳ２型くし形電極基板（株式会社サトーセン製）を用意した。次に、該ＪＩＳ２型くし形電極基板にメタルマスクをかぶせ、該メタルマスクの上から評価ソルダペースト（株式会社弘輝製の「ＳＢ６Ｎ５８－Ｍ５００ＳＩ」）を印刷した。その後、該ＪＩＳ２型くし形電極基板を２５０℃のホットプレート上で３分間静置することでリフローを行った。
【0091】
（評価サンプルの洗浄）
先ず、リンス剤として、水を準備した。なお、該水として、上記原料として記載された水を用いた。次に、上記評価サンプルを各試料に係る洗浄剤組成物に５０℃、１０分、５００ｒｐｍの条件で撹拌浸漬した。次に、該撹拌浸漬された評価サンプルに対し、該リンス剤でリンスし（常温、１０分×２回）、循風オーブンにて乾燥させた（１００℃、１０分）。次に、乾燥後の評価サンプルに対し実体顕微鏡を用いて６０倍の倍率で該評価サンプルの表面を観察し、以下の基準に照らして、各試料に係る洗浄剤組成物の洗浄性を評価した。なお、該評価基準において、「有機酸非含有の組成」の試料は、表１～表７に記載された試料１０１～１１５である。試料１－１～試料１－５に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０１である。試料２－１～試料２－２に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０２である。試料３に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０３である。試料４に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０４である。試料５に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０５である。試料６に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０６である。試料７に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０７である。試料８に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０８である。試料９に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０９である。試料１０に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１０である。試料１１－１～１１－３に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１１である。試料１２に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１２である。試料１３に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１３である。試料１４に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１４である。試料１５に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１５である。得られた結果を表１～表７の「洗浄性（Ｉｎ塩）」の欄に記す。
（評価基準）
Ａ：有機酸非含有の組成に対して洗浄性が２倍以上向上した
Ｂ：有機酸非含有の組成に対して洗浄性が１．５倍以上向上した
Ｃ：有機酸非含有の組成に対して洗浄性が変わらなかった
先ず、リンス剤として、水を準備した。なお、該水として、上記原料として記載された水を用いた。次に、上記評価サンプルを各試料に係る洗浄剤組成物に５０℃、１０分、５００ｒｐｍの条件で撹拌浸漬した。次に、該撹拌浸漬された評価サンプルに対し、該リンス剤でリンスし（常温、１０分×２回）、循風オーブンにて乾燥させた（１００℃、１０分）。次に、乾燥後の評価サンプルに対し実体顕微鏡を用いて６０倍の倍率で該評価サンプルの表面を観察し、以下の基準に照らして、各試料に係る洗浄剤組成物の洗浄性を評価した。なお、該評価基準において、「有機酸非含有の組成」の試料は、表１～表７に記載された試料１０１～１１５である。試料１－１～試料１－５に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０１である。試料２－１～試料２－２に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０２である。試料３に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０３である。試料４に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０４である。試料５に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０５である。試料６に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０６である。試料７に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０７である。試料８に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０８である。試料９に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０９である。試料１０に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１０である。試料１１－１～１１－３に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１１である。試料１２に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１２である。試料１３に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１３である。試料１４に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１４である。試料１５に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１５である。得られた結果を表１～表７の「洗浄性（Ｉｎ塩）」の欄に記す。
（評価基準）
Ａ：有機酸非含有の組成に対して洗浄性が２倍以上向上した
Ｂ：有機酸非含有の組成に対して洗浄性が１．５倍以上向上した
Ｃ：有機酸非含有の組成に対して洗浄性が変わらなかった
【0092】
試料１－１～試料１５に係る洗浄剤組成物は実施例に相当する。試料１０１～試料１１５に係る洗浄剤組成物は比較例に相当する。試料１－１～試料１５に係る洗浄剤組成物は、試料１－１～試料１５に係る洗浄剤組成物それぞれに対応する「有機酸非含有の組成」の試料に係る洗浄剤組成物（試料１０１～試料１１５に係る洗浄剤組成物）に比して、格別に優れたＩｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を有することが分かった。
【0093】
＜Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性＞
各試料に係る洗浄剤組成物について、以下の手順でＩｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を評価した。
各試料に係る洗浄剤組成物について、以下の手順でＩｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を評価した。
【0094】
先ず、評価ソルダペースト（株式会社弘輝製の「ＳＢ６Ｎ５８－Ｍ５００ＳＩ」）を２８０℃で加熱し、フラックス残渣を取り出した。次に、該フラックス残渣を各試料に係る洗浄剤組成物に１質量％の濃度で溶解させた。該フラックス残渣を１質量％の濃度で溶解させた洗浄剤組成物を、イオン交換水に１質量％の濃度で溶解させた後、そこにガラエポ基板を１０秒浸漬させ、該ガラエポ基板を取り出した。次に、１００℃で循風オーブンにて、該ガラエポ基板を５分乾燥させた後、乾燥後のガラエポ基板の表面を、６０倍の倍率で実体顕微鏡を用いて観察することにより、各試料に係る洗浄剤組成物について、以下の基準に照らして、Ｉｎ塩のフラックス残渣の再付着性防止を評価した。なお、該評価基準において、「有機酸非含有の組成」の試料は、表１～表７に記載された試料１０１～１１５である。試料１－１～試料１－５に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０１である。試料２－１～試料２－２に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０２である。試料３に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０３である。試料４に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０４である。試料５に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０５である。試料６に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０６である。試料７に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０７である。試料８に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０８である。試料９に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１０９である。試料１０に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１０である。試料１１－１～１１－３に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１１である。試料１２に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１２である。試料１３に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１３である。試料１４に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１４である。試料１５に対応する「有機酸非含有の組成」の試料は、試料１１５である。得られた結果を表１～表７の「再付着防止性（Ｉｎ塩）」の欄に記す。
（評価基準）
Ａ：有機酸非含有の組成に対して再付着性が少なかった
Ｂ：有機酸非含有の組成に対して再付着性が変わらなかった
（評価基準）
Ａ：有機酸非含有の組成に対して再付着性が少なかった
Ｂ：有機酸非含有の組成に対して再付着性が変わらなかった
【0095】
試料１－１～試料１５に係る洗浄剤組成物は、試料１－１～試料１５に係る洗浄剤組成物それぞれに対応する「有機酸非含有の組成」の試料に係る洗浄剤組成物（試料１０１～試料１１５に係る洗浄剤組成物）に比して、格別に優れたＩｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を有することが分かった。
【0096】
＜Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性＞
各試料に係る洗浄剤組成物について、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価するための評価サンプルを準備した点と、評価ソルダペースト（千住金属工業株式会社製の「Ｍ４０－ＬＳ７２０Ｖ」）を用いた点とを除いては、実施例１で示された「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性」の評価方法と同様の方法で、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価した。得られた結果を表１～表７の「洗浄性（Ｂｉ塩）」の欄に記す。
各試料に係る洗浄剤組成物について、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価するための評価サンプルを準備した点と、評価ソルダペースト（千住金属工業株式会社製の「Ｍ４０－ＬＳ７２０Ｖ」）を用いた点とを除いては、実施例１で示された「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性」の評価方法と同様の方法で、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価した。得られた結果を表１～表７の「洗浄性（Ｂｉ塩）」の欄に記す。
【0097】
試料１－１～試料１５に係る洗浄剤組成物は、試料１－１～試料１５に係る洗浄剤組成物それぞれに対応する「有機酸非含有の組成」の試料に係る洗浄剤組成物（試料１０１～試料１１５に係る洗浄剤組成物）に比して、格別に優れたＢｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を有することが分かった。
【0098】
＜Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性＞
評価ソルダペーストとして、千住金属工業株式会社製の「Ｍ４０－ＬＳ７２０Ｖ」を用いた点を除いては、実施例１で示された「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性」の評価方法と同様の方法で、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を評価した。得られた結果を表１～表７の「再付着防止性（Ｂｉ塩）」の欄に記す。
評価ソルダペーストとして、千住金属工業株式会社製の「Ｍ４０－ＬＳ７２０Ｖ」を用いた点を除いては、実施例１で示された「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性」の評価方法と同様の方法で、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を評価した。得られた結果を表１～表７の「再付着防止性（Ｂｉ塩）」の欄に記す。
【0099】
試料１－１～試料１５に係る洗浄剤組成物は、試料１－１～試料１５に係る洗浄剤組成物それぞれに対応する「有機酸非含有の組成」の試料に係る洗浄剤組成物（試料１０１～試料１１５に係る洗浄剤組成物）に比して、格別に優れたＢｉ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を有することが分かった。
【0100】
以上により、試料１－１～試料１５に係る洗浄剤組成物は、格別に優れたＩｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性、格別に優れたＩｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性、格別に優れたＢｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性、及び格別に優れたＢｉ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を兼備することが確認された。
【0101】
［実施例２］
≪洗浄剤組成物の作製≫
実施例１で示された原料のうち蒸留水（水）以外の原料を、「表８」に記載された組成で、該蒸留水（水）に添加した」点を除いては、実施例１で示された方法と同様の方法により、試料１－１、及び試料２０１～試料２０７に係る洗浄剤組成物を作製した。なお、表８の「配合組成［質量％］」の欄において、「－」で示されている成分は、試料に含まれていないことを意味する。
≪洗浄剤組成物の作製≫
実施例１で示された原料のうち蒸留水（水）以外の原料を、「表８」に記載された組成で、該蒸留水（水）に添加した」点を除いては、実施例１で示された方法と同様の方法により、試料１－１、及び試料２０１～試料２０７に係る洗浄剤組成物を作製した。なお、表８の「配合組成［質量％］」の欄において、「－」で示されている成分は、試料に含まれていないことを意味する。
【0102】
【表8】
【0103】
≪洗浄剤組成物の特性評価≫
各試料に係る洗浄剤組成物について、「ｐＨ」を測定し、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する「洗浄性」、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する「再付着防止性」、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する「洗浄性」、及びＢｉ塩のフラックス残渣に対する「再付着防止性」を評価した。
各試料に係る洗浄剤組成物について、「ｐＨ」を測定し、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する「洗浄性」、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する「再付着防止性」、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する「洗浄性」、及びＢｉ塩のフラックス残渣に対する「再付着防止性」を評価した。
【0104】
＜ｐＨ＞
各試料に係る洗浄剤組成物について、ｐＨを上記実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果をそれぞれ表８の「ｐＨ（水で１００倍に希釈された場合）」の欄に記す。
各試料に係る洗浄剤組成物について、ｐＨを上記実施形態１に記載の方法により求めた。得られた結果をそれぞれ表８の「ｐＨ（水で１００倍に希釈された場合）」の欄に記す。
【0105】
＜Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性＞
各試料に係る洗浄剤組成物について、以下の手順でＩｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価した。
各試料に係る洗浄剤組成物について、以下の手順でＩｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価した。
【0106】
（評価サンプルの調整）
実施例１で示された方法と同様の方法により、評価サンプルの調整を実行した。
実施例１で示された方法と同様の方法により、評価サンプルの調整を実行した。
【0107】
（評価サンプルの洗浄）
評価基準が以下の通りである点を除いては、実施例１に示された「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性」の評価方法と同様の方法で、各試料に係る洗浄剤組成物の洗浄性を評価した。
（評価基準）
Ｃ：試料１－１に対して洗浄性が変わらなかった
Ｄ：試料１－１に対して洗浄性が低下した
評価基準が以下の通りである点を除いては、実施例１に示された「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性」の評価方法と同様の方法で、各試料に係る洗浄剤組成物の洗浄性を評価した。
（評価基準）
Ｃ：試料１－１に対して洗浄性が変わらなかった
Ｄ：試料１－１に対して洗浄性が低下した
【0108】
試料１－１に係る洗浄剤組成物は実施例に相当する。試料２０１～試料２０７に係る洗浄剤組成物は比較例に相当する。試料１－１に係る洗浄剤組成物は、試料２０１～試料２０７に係る洗浄剤組成物に比して、格別に優れたＩｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を有することが分かった。
【0109】
＜Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性＞
評価基準が以下の通りである点を除いては、実施例１で示された「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性」の評価方法と同様の方法で、各試料に係る洗浄剤組成物について、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を評価した。
（評価基準）
Ｂ：試料１－１に対して再付着性が変わらなかった
Ｃ：試料１－１に対して再付着性が多かった
評価基準が以下の通りである点を除いては、実施例１で示された「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性」の評価方法と同様の方法で、各試料に係る洗浄剤組成物について、Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を評価した。
（評価基準）
Ｂ：試料１－１に対して再付着性が変わらなかった
Ｃ：試料１－１に対して再付着性が多かった
【0110】
試料１－１に係る洗浄剤組成物は、試料２０４及び試料２０６に係る洗浄剤組成物に比して、格別に優れたＩｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を有することが分かった。
【0111】
＜Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性＞
各試料に係る洗浄剤組成物について、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価するための評価サンプルを準備した点と、評価ソルダペースト（千住金属工業株式会社製の「Ｍ４０－ＬＳ７２０Ｖ」）を用いた点とを除いては、実施例１で示された「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性」の評価方法と同様の方法で、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価した。得られた結果を表８の「洗浄性（Ｂｉ塩）」の欄に記す。
各試料に係る洗浄剤組成物について、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価するための評価サンプルを準備した点と、評価ソルダペースト（千住金属工業株式会社製の「Ｍ４０－ＬＳ７２０Ｖ」）を用いた点とを除いては、実施例１で示された「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性」の評価方法と同様の方法で、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を評価した。得られた結果を表８の「洗浄性（Ｂｉ塩）」の欄に記す。
【0112】
試料１－１に係る洗浄剤組成物は、試料２０２～試料２０４、及び試料２０６に係る洗浄剤組成物に比して、格別に優れたＢｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性を有することが分かった。
【0113】
＜Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性＞
評価ソルダペーストとして、千住金属工業株式会社製の「Ｍ４０－ＬＳ７２０Ｖ」を用いた点を除いては、「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性」の評価方法と同様の方法で、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を評価した。得られた結果を表８の「再付着防止性（Ｂｉ塩）」の欄に記す。
評価ソルダペーストとして、千住金属工業株式会社製の「Ｍ４０－ＬＳ７２０Ｖ」を用いた点を除いては、「Ｉｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性」の評価方法と同様の方法で、Ｂｉ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を評価した。得られた結果を表８の「再付着防止性（Ｂｉ塩）」の欄に記す。
【0114】
試料１－１に係る洗浄剤組成物は、試料２０２～試料２０４、及び試料２０６に係る洗浄剤組成物に比して、格別に優れたＢｉ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を有することが分かった。
【0115】
以上により、試料１－１に係る洗浄剤組成物は、格別に優れたＩｎ塩のフラックス残渣に対する洗浄性、格別に優れたＩｎ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性、格別に優れたＢｉ塩のフラックス残渣に対する洗浄性、及び格別に優れたＢｉ塩のフラックス残渣に対する再付着防止性を兼備することが確認された。
【0116】
なお、実施例において、溶媒として「エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ベンジルグリコール、フェニルグリコール、フェニルジグリコール、フェニルプロピレングリコール、ヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルジグリコール、４－イソプロピルベンジルアルコール、１－フェニルエタノール、フェネチルアルコール、γ－フェニルプロピルアルコール、α，α－ジメチルフェネチルアルコール、１－フェニル－１－プロパノール、シンナミルアルコール、マロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、ピメリン酸ジメチル、グルタル酸ジエチル、マロン酸ジエチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、ピメリン酸ジエチル、吉草酸メチル、ヘキサン酸メチル、ヘプタン酸メチル、吉草酸エチル、ヘキサン酸エチル、ヘプタン酸エチル、炭素数が９又は１１以上１３以下である炭化水素系化合物、炭素数が５又は７以上１０以下である脂肪族アルコール」は記載されていないが、これらの溶媒に関し、実施例で実際に効果が確認された溶媒と同様の挙動を示すことが確認されている。
【0117】
以上のように本発明の実施形態及び実施例について説明を行なったが、上述の各実施形態及び各実施例の構成を適宜組み合わせることも当初から予定している。
【0118】
今回開示された実施の形態及び実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した実施の形態及び実施例ではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。