特開 2024-11548 脱水装置の運転方法および脱水装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024011548

(43)【公開日】2024-01-25

(54)【発明の名称】脱水装置の運転方法および脱水装置

(51)【国際特許分類】

   C02F 11/125 20190101AFI20240118BHJP

   C02F 11/14 20190101ALI20240118BHJP

   B01D 29/17 20060101ALI20240118BHJP

【ＦＩ】

C02F11/125 ZAB

C02F11/14

B01D29/30 501

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022113618

(22)【出願日】2022-07-15

(71)【出願人】

【識別番号】591030651

【氏名又は名称】水ｉｎｇ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100118500

【弁理士】

【氏名又は名称】廣澤 哲也

(74)【代理人】

【識別番号】100091498

【弁理士】

【氏名又は名称】渡邉 勇

(72)【発明者】

【氏名】島本 仙

(72)【発明者】

【氏名】鎌田 晃人

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 真祐子

(72)【発明者】

【氏名】大津 秋人

【テーマコード（参考）】

4D059

4D116

【Ｆターム（参考）】

4D059AA03

4D059BE04

4D059BE13

4D059BE26

4D059BE47

4D059BE54

4D059BJ00

4D059CB06

4D059CB07

4D059EA03

4D059EB20

4D116BB01

4D116BC22

4D116BC48

4D116BC75

4D116DD06

4D116FF12B

4D116KK01

4D116KK04

4D116QA24C

4D116QA24G

4D116QB03

4D116QC20

4D116QC39

4D116VV12

(57)【要約】

【課題】汚泥濃度の変化に起因するリスクを低減させることができる脱水装置の運転方法が提供される。
【解決手段】脱水装置の運転方法は、汚泥の投入口２に投入された汚泥の高さを測定し、測定された汚泥の高さに応じて、少なくとも第２スクリュー４の回転速度を独立して制御する。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１スクリューおよび第２スクリューを備える同軸型の脱水装置の運転方法であって、
汚泥の投入口に投入された汚泥の高さを測定し、
前記測定された汚泥の高さに応じて、少なくとも前記第２スクリューの回転速度を独立して制御する、脱水装置の運転方法。

【請求項2】

前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度をより大きな回転速度に変更する場合、前記第２スクリューの回転速度を変更した後に、前記第１スクリューの回転速度を変更する、請求項１に記載の脱水装置の運転方法。

【請求項3】

前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度をより小さな回転速度に変更する場合、第１スクリューの回転速度を変更し、それと同時またはその後に、前記第２スクリューの回転速度を変更する、請求項１に記載の脱水装置の運転方法。

【請求項4】

前記汚泥の高さに応じて、前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を段階的に変化させる段階変化方式で前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を制御する、請求項１に記載の脱水装置の運転方法。

【請求項5】

前記汚泥の高さに応じて、前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を急峻に変化させる急峻変化方式で前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を制御する、請求項１に記載の脱水装置の運転方法。

【請求項6】

前記少なくとも前記第２スクリューの回転速度を独立して制御する制御方式は、
前記汚泥の高さに応じて、前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を段階的に変化させる段階変化方式と、
前記汚泥の高さに応じて、前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を急峻に変化させる急峻変化方式と、を有する、請求項１に記載の脱水装置の運転方法。

【請求項7】

互いに独立して回転速度を制御可能な第１スクリューおよび第２スクリューと、
汚泥の投入口に投入された汚泥の高さに相当する信号を検出するレベルセンサと、
前記レベルセンサによって検出された信号に基づいて、前記汚泥の高さを測定し、かつ測定された前記汚泥の高さに応じて、少なくとも前記第２スクリューの回転速度を独立して制御する制御装置と、を備える、脱水装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、脱水装置の運転方法および脱水装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来から、上下水処理場、し尿処理場などの液体処理施設から排出される汚泥（液体含有物）を圧搾して、汚泥から水を分離する装置として、スクリュープレス（すなわち、脱水装置）が知られている。

【0003】

このスクリュープレスは、スクリーン（多孔板）から形成されたろ過筒と、ろ過筒の内部に配置されたスクリューと、を備える。スクリューは、ろ過筒と同心状に配置されたスクリュー軸と、スクリュー軸の外面に固定されたスクリュー羽根と、を有している。スクリュー軸に連結された回転機構によって、スクリュー羽根を回転させることにより、ろ過筒に投入された汚泥を圧搾し、脱水する。

【0004】

ろ過筒の下流側開口端には、汚泥を堰き止める背圧板が配置され、この背圧板により、回転するスクリュー羽根により送られてくるケーキ（脱水された汚泥）を滞留させ、プラグケーキ（栓）を形成する。このプラグケーキが後から送り込まれるケーキに背圧を加えて、ケーキをさらに圧搾することにより、ろ過筒内の汚泥の含水率を低下させる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０１８－５１５８２号公報

【特許文献2】特開２００１－３４０９００号公報

【特許文献3】特開昭５８－０５４９９９号公報

【特許文献4】特開２０２１－１５９８７８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

特許文献１は、２軸型のスクリュープレスを開示している。このタイプのスクリュープレスは、ろ過筒内に直列に配列された第１スクリューおよび第２スクリューを備えている。これら第１スクリューと第２スクリューは、それぞれ別々の駆動装置によって異なる速度で回転するように構成されている。したがって、第１スクリューおよび第２スクリューの回転速度を独立して制御することで、背圧板を設けることなく、ろ過筒内にプラグケーキを形成し、ろ過筒内の汚泥を圧搾することができる。

【0007】

しかしながら、特許文献１に開示された２軸型のスクリュープレスは、背圧板を有していないため、汚泥濃度の変化の影響を大きく受ける。汚泥の供給量が低下した場合には、第２スクリューに空隙が生じてしまい、汚泥の含水率が上昇してしまうおそれがある。その一方で、汚泥の供給量が増加した場合には、汚泥の漏れが増加したり、ホッパレベルが上昇してしまうおそれがある。

【0008】

特許文献２は、テーパコーンのような背圧機能を有しないスクリュープレスにおけるホッパレベル監視制御方法を開示している。これは、背圧機能を持たないスクリュープレスにおいては、汚泥濃度の変化、特に濃度の減少にて空隙が生じやすくなり、結果として、汚泥の含水率が上昇するリスクが存在するためである。

【0009】

しかしながら、特許文献２は、プラグ部や背圧板などの背圧調整機構を有しない単一軸のスクリュープレスの運転方法を開示しているにすぎず、このような運転方法を単純に２軸型のスクリュープレスに適用することは困難である。

【0010】

特許文献４は、第１スクリューの回転のみでホッパレベルを調整する構成を開示しているが、第２スクリューの状態によってもホッパレベルは変化しうるため、第１スクリューの回転によって調整可能なホッパレベルの範囲は限定されるおそれがある。より具体的には、汚泥が十分に脱水されている条件下において、ある特定の第２スクリューの回転速度のときにホッパレベルを下げるために第１スクリューの回転速度を加速させた場合、汚泥の、第１スクリューとの供回りが進行するため、ホッパレベルは下がらない現象が確認されている。

【0011】

したがって、ホッパレベルを下げる目的で、第２スクリューの回転速度を上げる必要があり、これを前提に、画像解析および機械学習にて得られた結果に基づいて、スクリュープレスを調整する必要がある。特許文献４は、第１スクリューおよび第２スクリューを変更する順番を開示していないが、上記供回りを回避するために、変更する順番を十分に考慮する必要がある。

【0012】

本発明は、汚泥濃度の変化に起因するリスク（例えば、汚泥の含水率の上昇、ホッパレベルの上昇、ケーキのスクリューとの供回りなど）を低減させることができる脱水装置の運転方法および脱水装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0013】

一態様では、第１スクリューおよび第２スクリューを備える同軸型の脱水装置の運転方法が提供される。脱水装置の運転方法は、汚泥の投入口に投入された汚泥の高さを測定し、前記測定された汚泥の高さに応じて、少なくとも前記第２スクリューの回転速度を独立して制御する。

【0014】

一態様では、前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度をより大きな回転速度に変更する場合、前記第２スクリューの回転速度を変更した後に、前記第１スクリューの回転速度を変更する。
一態様では、前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度をより小さな回転速度に変更する場合、第１スクリューの回転速度を変更し、それと同時またはその後に、前記第２スクリューの回転速度を変更する。
一態様では、前記汚泥の高さに応じて、前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を段階的に変化させる段階変化方式で前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を制御する。

【0015】

一態様では、前記汚泥の高さに応じて、前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を急峻に変化させる急峻変化方式で前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を制御する。
一態様では、前記少なくとも前記第２スクリューの回転速度を独立して制御する制御方式は、前記汚泥の高さに応じて、前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を段階的に変化させる段階変化方式と、前記汚泥の高さに応じて、前記第１スクリューの回転速度および前記第２スクリューの回転速度を急峻に変化させる急峻変化方式と、を有する。

【0016】

一態様では、互いに独立して回転速度を制御可能な第１スクリューおよび第２スクリューと、汚泥の投入口に投入された汚泥の高さに相当する信号を検出するレベルセンサと、前記レベルセンサによって検出された信号に基づいて、前記汚泥の高さを測定し、かつ測定された前記汚泥の高さに応じて、少なくとも前記第２スクリューの回転速度を独立して制御する制御装置と、を備える、脱水装置が提供される。

【発明の効果】

【0017】

測定された汚泥の高さに応じて、第１スクリューの回転速度および第２スクリューの回転速度を独立して制御することにより、汚泥濃縮の変化に起因するリスクを低減させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】脱水システムを示す図である。

【図2】脱水装置の一実施形態を示す図である。

【図3】図３（ａ）および図３（ｂ）は、非接触型のレベルセンサを示す図である。

【図4】段階変化方式によるスクリュープレスの運転状態の一実施形態を示すグラフである。

【図5】段階変化方式によるスクリュープレスの運転状態の他の実施形態を示すグラフである。

【図6】段階変化方式における制御装置の制御フローを示す図である。

【図7】加速変化方式によるスクリュープレスの運転状態の一実施形態を示すグラフである。

【図8】加速変化方式によるスクリュープレスの運転状態の他の実施形態を示すグラフである。

【図9】加速変化方式における制御装置の制御フローを示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
図１は、脱水システムを示す図である。脱水システム２００は、有機性廃棄物としての汚泥（有機汚泥）に対して脱水処理を行うためのシステムである。図１に示すように、脱水システム２００は、汚泥を貯留する汚泥貯留槽２０１と、凝集汚泥を調製する凝集槽２０３と、汚泥貯留槽２０１内の汚泥を凝集槽２０３に供給する汚泥供給ポンプ２０２と、を備えている。

【0020】

脱水システム２００は、ポリマ剤（すなわち、凝集剤）が溶解されたポリマ溶解槽２０５と、ポリマ溶解槽２０５内のポリマ剤を凝集槽２０３に供給するポリマ供給ポンプ２０６と、を備えている。凝集槽２０３内の凝集汚泥は、ポリマ剤を汚泥に添加することによって、調製される。脱水システム２００は、凝集槽２０３で凝集された凝集汚泥から水分を分離して流動性の低い濃縮汚泥を生成する濃縮機２０４と、濃縮機２０４で濃縮された濃縮汚泥（液体含有物）を脱水する脱水装置１００と、を備えている。

【0021】

図２は、脱水装置の一実施形態を示す図である。図２に示すように、脱水装置１００は、円筒状のスクリーンケーシング（ろ過筒）１と、スクリーンケーシング１内で、スクリーンケーシング１と同心状に配置され、濃縮汚泥を所定の移送方向Ｄに移送する、同軸（２軸）の第１スクリュー３および第２スクリュー４と、第１スクリュー３を回転させる第１回転機構７と、第１スクリュー３とは独立に第２スクリュー４を回転させる第２回転機構２０と、を備えている。以下、脱水装置１００をスクリュープレス１００と呼ぶことがある。

【0022】

スクリーンケーシング１は、パンチングメタルなどのスクリーン（多孔板）から形成されており、外筒および内筒を有する二重構造を有している。スクリーンケーシング１の上流側端部には、汚泥の投入口（言い換えれば、ホッパ）２が形成されている。投入口２からスクリーンケーシング１に投入された汚泥は、回転する第１スクリュー３および第２スクリュー４により、スクリーンケーシング１内で所定の移送方向Ｄに移送される。

【0023】

脱水システム２００は、その構成要素としての装置の動作を制御する制御装置６を備えている。図１に示すように、制御装置６は、汚泥供給ポンプ２０２、ポリマ供給ポンプ２０６、凝集槽２０３、濃縮機２０４、およびスクリュープレス１００の動作を制御するように構成されている。より具体的には、制御装置６は、凝集槽２０３内のポリマ剤および汚泥の混合液を攪拌する攪拌機２０３ａの動作を制御するように構成されている。

【0024】

図２に示すように、制御装置６は、第１回転機構７および第２回転機構２０の動作を制御するように構成されている。第２スクリュー４は、第１スクリュー３とは独立に回転可能なように、第１スクリュー３に連結されている。第１スクリュー３および第２スクリュー４は、スクリーンケーシング１および排出チャンバー３３をそれぞれ貫通して延びている。排出チャンバー３３は、スクリーンケーシング１に接続されている。この排出チャンバー３３に、後述するプラグケーキがスクリーンケーシング１から排出される。第２スクリュー４の軸方向の長さは、第１スクリューの軸方向の長さよりも短い。

【0025】

第１スクリュー３は、汚泥の移送方向Ｄにおける下流側に向かってその径が徐々に大きくなる円錐台形状（テーパ形状）の第１スクリュー軸３Ａと、第１スクリュー軸３Ａの外面に固定された第１スクリュー羽根３Ｂと、を有している。第２スクリュー４は、円筒形状の第２スクリュー軸４Ａと、第２スクリュー軸４Ａの外面に固定された第２スクリュー羽根４Ｂと、を有している。第２スクリュー４は、汚泥の移送方向Ｄにおいて第１スクリュー３の下流側に配置されている。

【0026】

スクリーンケーシング１の上流側の端部は閉塞壁８によって密封されている。第１スクリュー軸３Ａの一方の端部（移送方向Ｄにおける上流側端部）はこの閉塞壁８を貫通して延びている。この閉塞壁８には、閉塞壁８と第１スクリュー軸３Ａとの間の隙間をシールする水封装置１０が設置されている。閉塞壁８を貫通して延びる第１スクリュー軸３Ａの上流側端部は、ベース（図示せず）に設置された軸受１１，１２により軸方向の移動を拘束されながら回転自在に支持されている。なお、軸受１１，１２の一方を省略することができる。

【0027】

第１スクリュー軸３Ａの上流側端部は、第１スクリュー３を回転させるための第１回転機構７に連結されている。本実施形態では、第１回転機構７は、第１駆動機（例えば、電動機）１４と、第１駆動機１４の回転軸に固定されたスプロケット１５と、第１スクリュー軸３Ａに固定されたスプロケット１６と、これらスプロケット１５，１６に巻きかけられたチェーン１７と、を備える。

【0028】

スプロケット１６は、上記軸受１１，１２の間に位置している。第１回転機構７の第１駆動機１４を駆動すると、この第１駆動機１４の回転軸に固定されたスプロケット１５が回転し、チェーン１７を介して第１スクリュー軸３Ａに固定されたスプロケット１６を回転させる。その結果、第１スクリュー３が第１回転機構７により回転させられる。第１駆動機１４は、制御装置６に接続され、制御装置６は、第１駆動機１４の動作を制御することができるように構成されている。

【0029】

第２スクリュー４の第２スクリュー軸４Ａは、第１スクリュー軸３Ａと同心状に配置される。第２スクリュー軸４Ａの外径は第１スクリュー軸３Ａの最大径と同一である。第２スクリュー軸４Ａには、排出チャンバー３３の内壁３３Ａを貫通して延びる縮径部が形成されている。

【0030】

第２スクリュー軸４Ａの上流側端部は、図示しないすべり軸受を介して第１スクリュー軸３Ａに回転自在に支持され、第２スクリュー軸４Ａの下流側端部は、ベース（図示せず）に設置された軸受２２，２３により軸方向の移動を拘束されながら回転自在に支持されている。なお、軸受２３を省略することができる。

【0031】

第２スクリュー軸４Ａの下流側端部は、第２スクリュー４を回転させるための第２回転機構２０に連結されている。本実施形態では、第２回転機構２０は、第２駆動機（例えば、電動機）２４と、第２駆動機２４の回転軸に固定されたスプロケット２５と、第２スクリュー軸４Ａに固定されたスプロケット２６と、これらスプロケット２５，２６に巻きかけられたチェーン２７と、を備える。

【0032】

スプロケット２６は、軸受２２，２３の間の位置している。第２回転機構２０の第２駆動機２４を駆動すると、この第２駆動機２４の回転軸に固定されたスプロケット２５が回転し、チェーン２７を介して第２スクリュー軸４Ａに固定されたスプロケット２６を回転させる。その結果、第２スクリュー４が第２回転機構２０により回転させられる。

【0033】

第２駆動機２４は、制御装置６に接続される。第２駆動機２４には、インバータ（図示せず）が内蔵されており、制御装置６は、インバータを介して第２駆動機２４の動作を制御することができるように構成されている。すなわち、制御装置６は、インバータを介して第２駆動機２４の回転速度および回転方向を制御することができる。第２駆動機２４は、第２スクリュー４を第１スクリュー３とは独立して回転させることが可能である。なお、第１駆動機１４も、第１駆動機１４の回転速度および回転方向を変更可能なインバータを内蔵している。

【0034】

第１スクリュー羽根３Ｂは、第１スクリュー軸３Ａの軸方向に沿って螺旋状に延びており、第２スクリュー羽根４Ｂは、第２スクリュー軸４Ａの軸方向に沿って螺旋状に延びている。第１スクリュー羽根３Ｂが固定されている第１スクリュー３の部分と、第２スクリュー羽根４Ｂが固定されている第２スクリュー４の部分を合計した長さは、スクリーンケーシング１の軸方向の長さと同一か、または長い。

【0035】

スクリーンケーシング１（より具体的には、内筒）と第１スクリュー羽根３Ｂとの間には微小な隙間が形成されており、第１スクリュー羽根３Ｂはスクリーンケーシング１に接触することなく回転することができるようになっている。同様に、スクリーンケーシング１の内面と第２スクリュー羽根４Ｂとの間には微小な隙間が形成されており、第２スクリュー羽根４Ｂはスクリーンケーシング１に接触することなく回転することができるようになっている。

【0036】

回転する第１スクリュー羽根３Ｂおよび第２スクリュー羽根４Ｂは、スクリーンケーシング１の上流側端部に形成された投入口２からスクリーンケーシング１に投入された汚泥を排出チャンバー３３に向かって（すなわち、移送方向Ｄに）移送することができる。

【0037】

本実施形態では、第２スクリュー羽根４Ｂの巻き方向（すなわち、螺旋方向）は、第１スクリュー羽根３Ｂの巻き方向とは逆である。したがって、投入口２から投入された汚泥を、排出チャンバー３３へ送り出すときは、図２に示すように、第２スクリュー４を第１スクリュー３とは逆方向に回転させることになる。

【0038】

一実施形態では、第２スクリュー羽根４Ｂの巻き方向を、第１スクリュー羽根３Ｂの巻き方向と同一にしてもよい。この場合、投入口２から投入された汚泥を、排出チャンバー３３へ送り出すときは、第２スクリュー４を第１スクリュー３と同方向に回転させることになる。

【0039】

図２に示すように、スクリーンケーシング１は、第１スクリュー３が配置された脱水領域１Ａと、第２スクリュー４が配置されたプラグ形成領域１Ｂと、に分割される。脱水領域１Ａで汚泥が移送される空間は、スクリーンケーシング１の内面と、第１スクリュー羽根３Ｂと、第１スクリュー軸３Ａと、によって形成される。

【0040】

この移送空間の断面積は、図２に示すように、汚泥の移送方向Ｄに沿って漸次減少する。したがって、投入口２から投入された汚泥がこの移送空間を第１スクリュー羽根３Ｂによって移送されるに従って、汚泥は圧搾され、脱水される。スクリーンケーシング１のスクリーン（多孔板）を通過したろ液は、スクリーンケーシング１の下方に配置されたろ液受け３８によって回収される。ろ液受け３８には、ドレイン３９が接続されており、ろ液受け３８によって回収されたろ液は、ドレイン３９を介してスクリュープレス１００から排出される。

【0041】

プラグ形成領域１Ｂで汚泥が移送される空間は、スクリーンケーシング１の内面と、第２スクリュー羽根４Ｂと、第２スクリュー軸４Ａと、によって形成される。図２に示すように、この移送空間の断面積は一定である。プラグ形成領域１Ｂでは、脱水領域１Ａで脱水された汚泥（すなわち、ケーキ）によって、プラグケーキが形成される。

【0042】

プラグ形成領域１Ｂ内のケーキは、第２スクリュー羽根４Ｂによって移動を妨げられることで圧搾され、低含水率のケーキとなる。この低含水率のケーキが、後続のケーキの移動を妨げるプラグケーキを形成する。第２スクリュー軸４Ａの周りに形成されたプラグケーキによって、後続のケーキには背圧が加えられ、後続のケーキはさらに圧搾される。プラグ形成領域１Ｂでプラグケーキから分離された液体は、ろ液受け３８によって回収され、ドレイン３９を介してスクリュープレス１００から排出される。

【0043】

プラグケーキを形成した後、制御装置６は、第２回転機構２０を駆動させて、第２スクリュー４を回転させる（または第２回転機構２０を操作して、第２スクリュー４の回転速度を大きくする）。第２スクリュー４を第１スクリュー３の回転方向とは逆方向に回転させることにより、プラグケーキは、少しずつ排出チャンバー３３に送り出される（すなわち、排出される）。このように、プラグケーキの形成とプラグケーキの排出とが連続的に行なわれるので、常にプラグ形成領域１Ｂにプラグケーキが存在する状態で、スクリュープレス１００を運転することができる。

【0044】

従来のスクリュープレスでは、円筒形状に圧搾されたプラグケーキが硬くなりすぎると、この硬化したプラグケーキがスクリーンケーシングを閉塞させ、スクリーンケーシングから排出できなくなる。さらに、この硬化したプラグケーキがスクリューと供回りしてしまうおそれがある。結果として、スクリュープレスの運転が継続できなくなる。

【0045】

プラグケーキの、スクリューとの供回りの他、スクリーンケーシング１に投入された汚泥の含水率の上昇、ホッパレベル（すなわち、投入口２に投入された汚泥の高さ）の上昇など、汚泥濃度の変化に起因するリスクが存在する。そこで、以下、このようなリスクを低減させる構成について、説明する。

【0046】

スクリュープレス１００は、ホッパレベルに相当する信号を検出するレベルセンサ５０を備えている。制御装置６は、レベルセンサ５０に電気的に接続されており、レベルセンサ５０によって検出された信号に基づいて、ホッパレベルを測定し、かつ測定されたホッパレベルに応じて、第１スクリュー３の回転速度および第２スクリュー４の回転速度を独立して制御するように構成されている。

【0047】

図２に示す実施形態では、レベルセンサ５０は、非接触型の計測器（例えば、レーザー距離計）である。このようなレベルセンサ５０は、第１スクリュー羽根３Ｂよりも低い位置の汚泥の高さ（すなわち、信号）を検出することができ、結果として、制御装置６は、ホッパレベルの範囲を幅広く測定することができる。一実施形態では、レベルセンサ５０は、接触型の計測器（例えば、ガイドパルス、電極棒）であってもよい。

【0048】

図３（ａ）および図３（ｂ）は、非接触型のレベルセンサを示す図である。図３（ａ）および図３（ｂ）に示すように、レベルセンサ５０は、投入口２の内壁２ａに付着した汚泥の影響により、ホッパレベルに相当する信号を精度よく検出することができないおそれがある。そこで、レベルセンサ５０は、投入口２の内壁２ａから離間した位置に配置されることが望ましい。

【0049】

制御装置６は、ホッパレベルに応じて、第１スクリュー３の回転速度および第２スクリュー４の回転速度を段階的に変化させる段階変化方式と、ホッパレベルに応じて、第１スクリュー３の回転速度および第２スクリュー４の回転速度を急峻に（すなわち、加速度的に）変化させる急峻（加速）変化方式と、に基づいて、第１スクリュー３の回転速度および第２スクリュー４の回転速度を制御するように構成されている。

【0050】

段階変化方式および加速変化方式のそれぞれでは、制御装置６は、ホッパレベルを複数のレベルに設定（分割）可能である。本実施形態では、制御装置６は、ホッパレベルを４つのレベル（Ｈ，ＭＨ，ＭＬ，Ｌ）に設定している。レベルＨは最も高いレベルである。レベルＬは最も低いレベルである。レベルＭＨおよびレベルＭＬはレベルＨとレベルＬとの間のレベルであり、レベルＭＨはレベルＭＬよりも高いレベルである。一実施形態では、制御装置６は、レベルＨよりも高いレベルＨＨを設定し、ホッパレベルがレベルＨＨに到達した場合には、スクリュープレス１００に異常が発生していることを決定し、すべての装置（すなわち、脱水システム２００の全体）の運転を停止してもよい。

【0051】

ホッパレベルがレベルＨに到達すると、汚泥の、スクリュープレス１００への供給が停止され、スクリュープレス１００による汚泥の脱水運転が継続される。このような構成により、新たな汚泥が投入口２に供給されることなく、投入口２内の汚泥が徐々に排出される。結果として、ホッパレベルは徐々に低下する。ホッパレベルがレベルＨ以下のレベル（例えば、レベルＭＨ）に到達すると、汚泥の供給停止は解除される。なお、汚泥の供給停止の解除のトリガとなるレベルは、レベルＭＨに限定されず、新たな専用レベルを設定可能である。

【0052】

ここで、汚泥の供給停止は、汚泥供給ポンプ２０２の運転停止、ポリマ供給ポンプ２０６の運転停止、および凝集槽２０３の攪拌機２０３ａの運転停止を意味する。この場合、濃縮機２０４の運転は停止されてもよく、または継続されてもよい。

【0053】

仮に、汚泥の供給が停止され、スクリュープレス１００による汚泥の脱水運転が行われても、ホッパレベルが低下しない場合には、ケーキの、第１スクリュー３（および／または第２スクリュー４）との供回りが発生している可能性がある。

【0054】

そこで、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＨに到達した後、所定時間の間、ホッパレベルが低下しない場合には、上記供回りが発生していると決定し、第２スクリュー４（および／または第１スクリュー３）の回転速度を現在の回転速度よりも一時的に大きくしてもよい。このような構成により、ケーキを速やかに排出することができ、上記供回りを解消することができる。

【0055】

一実施形態では、制御装置６は、第２スクリュー４の回転速度を一時的に第１スクリュー３の回転速度と同程度、または、第１スクリュー３の回転速度よりも大きくしてもよい（第２スクリュー４の回転速度≧第１スクリュー３の回転速度）。例えば、第１スクリュー３の回転速度を大きくしつつ、第２スクリュー４の回転速度も大きくしてもよいが、好ましくは、第１スクリュー３の回転速度を維持しつつ、第２スクリュー４の回転速度だけを大きくする。

【0056】

ホッパレベルがレベルＬに到達すると、スクリュープレス１００による汚泥の排出運転が停止され、汚泥のスクリュープレス１００への供給が継続される。このような構成により、新たな汚泥が投入口２に供給され、投入口２内の汚泥が徐々に蓄積される。結果として、ホッパレベルは徐々に上昇する。ホッパレベルがレベルＬ以上のレベル（例えば、レベルＭＬ）に到達すると、汚泥の排出運転の停止は解除される。なお、汚泥の排出運転停止の解除のトリガとなるレベルは、レベルＭＬに限定されず、新たな専用レベルを設定可能である。

【0057】

図４は、段階変化方式によるスクリュープレスの運転状態の一実施形態を示すグラフである。図４において、横軸は時間を示しており、縦軸はホッパレベルを示している。段階変化方式は、ホッパレベルが所定のレベルに到達し、かつ所定の時間が経過した後に、第１スクリュー３および第２スクリュー４の運転を切り替える運転方式である。

【0058】

図４に示すように、例えば、レベルＭＨとレベルＭＬとの間のホッパレベルがレベルＭＬまで低下した場合、制御装置６は、第１スクリュー３の回転速度を高設定値Ｒ１－Ｈ（すなわち、第１回転速度）から低設定値Ｒ１－Ｌ（すなわち、第２回転速度）まで低下させる。その後、制御装置６は、第２スクリュー４の回転速度を高設定値Ｒ２－Ｈ（すなわち、第１回転速度）から低設定値Ｒ２－Ｌ（すなわち、第２回転速度）まで低下させる。なお、第１回転速度は第２回転速度よりも大きな回転速度である。

【0059】

制御装置６は、第１スクリュー３の回転速度および第２スクリュー４の回転速度をより小さな回転速度に変更する場合、第１スクリュー３の回転速度を変更し、所定の待機時間の経過後、第２スクリュー４の回転速度を変更する。このような順序により、第１スクリュー３と第２スクリュー４との間の速度差を小さくすることができ、プラグ形成領域１Ｂ内のケーキに加えられる背圧を低減することができる。

【0060】

一実施形態では、所定の待機時間は、第２駆動機２４のインバータの設定変更時間（例えば、５秒程度）に相当する。一実施形態では、待機時間は、第２スクリュー４の１回転分に相当する時間であってもよい。待機時間を形成することにより、第１スクリュー３と第２スクリュー４との間の切り替わり部分におけるケーキは、十分に入れ替わる。結果として、極端に硬いケーキの形成に起因する供回りのリスクを低減することができる。

【0061】

待機時間があまりに長いと、汚泥の含水率が高くなってしまう。そこで、一実施形態では、待機時間は、第２スクリュー４の回転速度よりも大きな回転速度を有する第１スクリュー３の１回転分に相当する時間であってもよい。一実施形態では、待機時間は、第１スクリュー３の０．５回転分に相当する時間から１回転分に相当する時間までの時間であってもよい。

【0062】

図４に示すように、第１スクリュー３の回転速度を低設定値Ｒ１－Ｌに変更し、かつ第２スクリュー４の回転速度を低設定値Ｒ２－Ｌに変更した後、さらにホッパレベルがレベルＬまで低下した場合には、制御装置６は、スクリュープレス１００（より具体的には、スクリュー３，４）の運転を停止する。スクリュープレス１００の運転停止は、第１スクリュー３の減速および第２スクリュー４の減速に相当する。したがって、この場合、制御装置６は、第１スクリュー３の運転を停止し、所定の待機時間が経過した後、第２スクリュー４の運転を停止することが望ましい。一実施形態では、待機時間は、０秒を含んでもよい。この場合、制御装置６は、第１スクリュー３の運転および第２スクリュー４の運転を同時に停止する。

【0063】

スクリュープレス１００の運転が停止されると、汚泥が投入口２に蓄積されるため、ホッパレベルが上昇する。ホッパレベルの上昇により、ホッパレベルがレベルＭＬに到達すると、制御装置６は、スクリュー３，４の回転速度を低設定値（Ｒ１－Ｌ，Ｒ２－Ｌ）に決定し、スクリュープレス１００の運転を再開する。

【0064】

この場合、制御装置６は、第２スクリュー４の運転を開始し、所定の待機時間が経過した後、第１スクリュー３の運転を開始する。このような順序により、第１スクリュー３と第２スクリュー４との間の速度差を小さくすることができ、プラグ形成領域１Ｂ内のケーキに加えられる背圧を低減することができる。待機時間は、上述した待機時間と同一であってもよい。

【0065】

スクリュープレス１００の運転が再開した後、ホッパレベルがレベルＭＨまで上昇した場合には、第２スクリュー４の回転速度を低設定値Ｒ２－Ｌから高設定値Ｒ２－Ｈに変更し、所定の待機時間が経過した後、第１スクリュー３の回転速度を低設定値Ｒ１－Ｌから高設定値Ｒ１－Ｈに変更する。この変更によっても、ホッパレベルがレベルＨに到達した場合には、制御装置６は、汚泥の供給停止を決定する。

【0066】

制御装置６は、汚泥の供給を停止しつつ、スクリュープレス１００の運転を継続するため、ホッパレベルは低下する。ホッパレベルがレベルＭＨまで低下した場合、制御装置６は、汚泥の供給停止を解除する。より具体的には、制御装置６は、汚泥供給ポンプ２０２の運転、ポリマ供給ポンプ２０６の運転、および凝集槽２０３の攪拌機２０３ａの運転を再開する。一実施形態では、汚泥の供給停止を解除するためのホッパレベルは、レベルＭＨには限定されず、任意のレベルであってもよい。

【0067】

図４に示す実施形態では、スクリュープレス１００は、低設定値と停止との間で運転されている。本実施形態では、制御装置６は、第１スクリュー３の回転速度および第２スクリュー４の回転速度を２段階の設定値（すなわち、低設定値および高設定値）で変更するように構成されているが、３段階以上の設定値で変更してもよい。なお、スクリュープレス１００の運転開始時の設定値は任意の値に設定されてもよい。

【0068】

図５は、段階変化方式によるスクリュープレスの運転状態の他の実施形態を示すグラフである。図５において、横軸は時間を示しており、縦軸はホッパレベルを示している。図５に示す実施形態では、ホッパレベルがレベルＭＬまで低下した場合、制御装置６は、第１スクリュー３の回転速度を高設定値Ｒ１－Ｈから低設定値Ｒ１－Ｌまで低下させた後、第２スクリュー４の回転速度を高設定値Ｒ２－Ｈから低設定値Ｒ２－Ｌまで低下させる。

【0069】

その後、ホッパレベルがレベルＭＨまで上昇した場合、制御装置６は、第２スクリュー４の回転速度を低設定値Ｒ２－Ｌから高設定値Ｒ２－Ｈまで上昇させた後、第１スクリュー３の回転速度を低設定値Ｒ１－Ｌから高設定値Ｒ１－Ｈまで上昇させる。このように、図５に示す実施形態では、スクリュープレス１００は、高設定値と低設定値との間で運転される。

【0070】

図６は、段階変化方式における制御装置の制御フローを示す図である。図６に示すように、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＭＨとレベルＭＬとの間のレベルであるときに、段階変化方式による制御を開始する。まず、制御装置６は、スクリュー３，４の回転速度を低設定値に決定する（ステップＳ１０１参照）。

【0071】

制御装置６は、ホッパレベルがレベルＬ以下であるか否かを判定し（ステップＳ１０２参照）、ホッパレベルがレベルＬ以下である場合（ステップＳ１０２の「Ｙｅｓ」参照）、スクリュー３，４の運転を停止する（ステップＳ１０３参照）。その後、汚泥が投入口２に蓄積され、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＭＨ以下であるか否かを判定する（ステップＳ１０４参照）。ホッパレベルがレベルＭＨ以下である場合（ステップＳ１０４の「Ｙｅｓ」参照）、制御装置６は、再び、ステップＳ１０１を実行する。ホッパレベルがレベルＭＨ以下でない場合（ステップＳ１０４の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、スクリュー３，４の運転停止を継続する。

【0072】

ホッパレベルがレベルＬ以下でない場合（ステップＳ１０２の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＭＨ以上であるか否かを判定し（ステップＳ１０５参照）、ホッパレベルがレベルＭＨ以上でない場合（ステップＳ１０５の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ステップＳ１０１を継続する。

【0073】

ホッパレベルがレベルＭＨ以上である場合（ステップＳ１０５の「Ｙｅｓ」参照）、制御装置６は、スクリュー３，４の回転速度を低設定値から高設定値に変更する（ステップＳ１０６参照）。その後、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＨ以上であるか否かを判定し（ステップＳ１０７参照）、ホッパレベルがレベルＨ以上である場合には（ステップＳ１０７の「Ｙｅｓ」参照）、汚泥の供給を停止する（ステップＳ１０８参照）。このとき、制御装置６は、スクリュー３，４の運転を継続する。

【0074】

制御装置６は、スクリュー３，４の運転を継続した状態で、所定時間の間、ホッパレベルがレベルＨ以上であるか否かを判定する（ステップＳ１０９参照）。所定時間が経過しても、ホッパレベルがレベルＨ以上である場合には（ステップＳ１０９の「Ｙｅｓ」参照）、制御装置６は、供回りが発生していると決定し、汚泥の排出運転を実行する（ステップＳ１１０参照）。より具体的には、制御装置６は、第２スクリュー４（および／または第１スクリュー３）の回転速度を現在の回転速度よりも一時的に大きくする。本実施形態では、制御装置６は、第２スクリュー４（および／または第１スクリュー３）の回転速度を高設定値よりも高い設定値に変更し、供回りの原因となる汚泥を速やかに排出する。

【0075】

ホッパレベルがレベルＨ以上でない場合（ステップＳ１０９の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＭＨ以下であるか否かを判定し（ステップＳ１１１参照）、ホッパレベルがレベルＭＨ以下である場合（ステップＳ１１１の「Ｙｅｓ」参照）、制御装置６は、ステップＳ１０６を実行する。ホッパレベルがレベルＭＨ以下でない場合（ステップＳ１１１の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ステップＳ１０８を実行する。

【0076】

ステップＳ１０７において、ホッパレベルがレベルＨ以上でない場合（ステップＳ１０７の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＭＬ以下であるか否かを判定する（ステップＳ１１２参照）。ホッパレベルがレベルＭＬ以下である場合（ステップＳ１１２の「Ｙｅｓ」参照）、制御装置６は、ステップＳ１０１を実行する。ホッパレベルがレベルＭＬ以下でない場合には（ステップＳ１１２の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ステップＳ１０６を実行する。

【0077】

本実施形態では、制御装置６は、ホッパレベルに応じて、スクリュー３，４の回転速度を制御するように構成されている。一実施形態では、制御装置６は、ホッパレベルに応じて、汚泥流量、ポリマ流量、凝集槽２０３の攪拌機２０３ａの回転速度、濃縮機２０４の回転速度に関する高設定値および低設定値を設定してもよい。

【0078】

本実施形態では、制御装置６は、高設定値と、低設定値と、スクリュー３，４の停止に相当する設定値と、を有しているが、必ずしも、すべての設定値を有する必要はない。一実施形態では、制御装置６は、高設定値と、低設定値と、スクリュー３，４の停止に相当する設定値と、のうち、一部の設定値を有してもよい。

【0079】

図７は、加速変化方式によるスクリュープレスの運転状態の一実施形態を示すグラフである。図８は、加速変化方式によるスクリュープレスの運転状態の他の実施形態を示すグラフである。図７および図８のそれぞれにおいて、横軸は時間を示しており、縦軸はホッパレベルを示している。図７は汚泥の濃度変化が極端に大きい場合におけるホッパレベルの変化を示しており、図８は汚泥の濃度変化が比較的小さい場合におけるホッパレベルの変化を示している。

【0080】

加速変化方式は、ホッパレベルが所定のレベルの範囲内にある場合、所定の時間が経過した後に、第１スクリュー３および第２スクリュー４の運転の変化を繰り返す運転方式である。ホッパレベルがレベルＭＨとレベルＭＬとの間のレベルに位置している場合、スクリュー３，４の回転速度の設定値を変化させず、そのまま、スクリュー３，４の運転を継続する。ホッパレベルがレベルＭＬとレベルＬとの間のレベルに到達すると、制御装置６は、所定の時間が経過した後に、所定の変更単位に基づいて、スクリュー３，４の回転速度を小さくする。一実施形態では、変更単位は、所定の数値であってもよく、スクリュープレス１００の過去の運転結果に基づいて作成された関係式（例えば、検量線、変更表）であってもよい。

【0081】

以下、変更単位が数値である場合について説明する。なお、加速変化方式においても、プラグ形成領域１Ｂ内のケーキに加えられる背圧を低減するために、スクリュー３，４の回転速度の変更順序は、上述した実施形態（段階変化方式）と同一である。

【0082】

ホッパレベルがレベルＭＬとレベルＬとの間のレベルに到達し、かつ所定の時間が経過した後、制御装置６は、現在設定値Ｒ１－０から減速設定値Ｒ１－Ｄを減算した目標設定値（（Ｒ１－０）－（Ｒ１－Ｄ））で第１スクリュー３を回転させ、その後、現在設定値Ｒ２－０から減速設定値Ｒ２－Ｄを減算した目標設定値（（Ｒ２－０）－（Ｒ２－Ｄ））で第２スクリュー４を回転させる。

【0083】

さらに所定時間が経過した後、制御装置６は、第１スクリュー３の回転速度の現在設定値（（Ｒ１－０）－（Ｒ１－Ｄ））をさらに変更した目標設定値（（Ｒ１－０）－（Ｒ１－Ｄ）×２）で第１スクリュー３を回転させ、その後、第２スクリュー４の回転速度の現在設定値（（Ｒ２－０）－（Ｒ２－Ｄ））をさらに変更した目標設定値（（Ｒ２－０）－（Ｒ２－Ｄ）×２）で第２スクリュー４を回転させる。

【0084】

このように、制御装置６は、時間の経過とともに、スクリュー３，４の回転速度を急峻に（すなわち、加速度的に）変化（減少）させる。制御装置６は、ホッパレベルがレベルＭＬとレベルＬとの間の範囲から外れるまで、このような加速度的な変化を繰り返す。なお、本実施形態では、スクリュー３，４の回転速度を加速度的に減少させる場合、制御装置６は、時間の経過とともに、現在設定値から減速設定値の倍数（ｎ倍）を減算しているが、スクリュー３，４の回転速度を加速度的に減少させる方法は特に限定されない。

【0085】

ホッパレベルがレベルＬまで低下した場合には、制御装置６は、スクリュー３，４の運転を停止する。すると、投入口２には、汚泥が蓄積されるため、ホッパレベルが上昇する。ホッパレベルがレベルＭＬに到達した場合には、制御装置６は、スクリュー３，４の運転停止直前の回転速度でスクリュー３，４の運転を再開する。なお、この場合であっても、制御装置６は、まず、第２スクリュー４の運転を開始し、その後に、第１スクリュー３の運転を開始する。一実施形態では、スクリュー３，４の運転停止を解除するトリガとしてのホッパレベルは、レベルＭＬには限定されず、レベルＬ以上の任意のレベルであってもよく、運転再開のための新たな設定値が設定されてもよい。

【0086】

ホッパレベルがレベルＨとレベルＭＨとの間のレベルに位置している場合、制御装置６は、所定の時間が経過した後、所定の変更単位に基づいて、スクリュー３，４の回転速度の設定値をより大きな設定値に変更する。例えば、制御装置６は、現在設定値Ｒ２－０から加速設定値Ｒ２－Ｕを加算した目標設定値（（Ｒ２－０）＋（Ｒ２－Ｕ））で第２スクリュー４を回転させ、その後、現在設定値Ｒ１－０から加速設定値Ｒ１－Ｕを加算した目標設定値（（Ｒ１－０）＋（Ｒ１－Ｕ））で第１スクリュー３を回転させる。

【0087】

さらに所定時間が経過した後、制御装置６は、第２スクリュー４の回転速度の現在設定値（（Ｒ２－０）＋（Ｒ２－Ｕ））をさらに変更した目標設定値（（Ｒ２－０）＋（Ｒ２－Ｕ）×２）で第２スクリュー４を回転させ、その後、第１スクリュー３の回転速度の目標設定値（（Ｒ１－０）＋（Ｒ１－Ｕ））をさらに変更した目標設定値（（Ｒ１－０）＋（Ｒ１－Ｕ）×２）で第１スクリュー３を回転させる。

【0088】

このように、制御装置６は、時間の経過とともに、スクリュー３，４の回転速度を加速度的に変化（増加）させる。制御装置６は、ホッパレベルがレベルＨとレベルＭＨとの間の範囲から外れるまで、このような加速度的な変化を繰り返す。なお、本実施形態では、スクリュー３，４の回転速度を加速度的に増加させる場合、制御装置６は、時間の経過とともに、現在設定値から加速設定値の倍数（ｎ倍）を加算しているが、スクリュー３，４の回転速度を加速度的に増加させる方法は特に限定されない。

【0089】

ホッパレベルがレベルＨまで上昇した場合には、制御装置６は、汚泥の供給停止を決定する。制御装置６は、汚泥の供給を停止しつつ、スクリュープレス１００の運転を継続するため、ホッパレベルは低下する。ホッパレベルがレベルＭＨまで低下した場合には、制御装置６は、汚泥の供給停止を解除しつつ、汚泥供給ポンプ２０２およびポリマ供給ポンプ２０６を駆動して、汚泥およびポリマの供給を再開する。一実施形態では、汚泥の供給停止を解除するトリガとしてのホッパレベルは、レベルＭＨには限定されず、レベルＭＨ以下の任意のレベルであってもよい。

【0090】

本実施形態では、制御装置６は、ホッパレベルに応じて、スクリュー３，４の回転速度を制御するように構成されているが、一実施形態では、制御装置６は、汚泥流量、ポリマ流量、凝集槽２０３の攪拌機２０３ａの回転速度、濃縮機２０４の回転速度に関する設定値（すなわち、減速設定値、加速設定値）を設定してもよい。

【0091】

一実施形態では、制御装置６は、スクリュー３，４の継続運転に相当する設定値と、加速設定値と、減速設定値と、スクリュー３，４の停止に相当する設定値と、のうち、一部の設定値を有してもよい。

【0092】

図９は、加速変化方式における制御装置の制御フローを示す図である。図９に示すように、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＭＨとレベルＭＬとの間のレベルであるときに、加速変化方式による制御を開始する。まず、制御装置６は、スクリュー３，４の運転を継続した状態で、すなわち、何もしない状態で（ステップＳ２０１参照）、レベルセンサ５０からの信号の受信を継続する。その後、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＬに到達したか否かを判定し（ステップＳ２０２参照）、ホッパレベルがレベルＬに到達した場合（ステップＳ２０２の「Ｙｅｓ」参照）、スクリュー３，４の運転を停止する（ステップＳ２０３参照）。

【0093】

その後、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＭＬに到達したか否かを判定し（ステップＳ２０４参照）、ホッパレベルがレベルＭＬに到達した場合（ステップＳ２０４の「Ｙｅｓ」参照）、スクリュー３，４の運転停止を解除し（ステップＳ２０５参照）、ステップＳ２０１を実行する。ホッパレベルがレベルＭＬに到達していない場合（ステップＳ２０４の「Ｎｏ」参照）、ステップＳ２０４を継続する。

【0094】

ホッパレベルがレベルＬに到達していない場合（ステップＳ２０２の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＭＬとレベルＬとの間のレベルであるか否かを判定する（ステップＳ２０６参照）。ホッパレベルがレベルＭＬとレベルＬとの間のレベルである場合（ステップＳ２０６の「Ｙｅｓ」参照）、制御装置６は、スクリュー３，４を加速度的に減速し（ステップＳ２０７参照）、その運転を継続する（ステップＳ２０１参照）。

【0095】

ホッパレベルがレベルＭＬとレベルＬとの間のレベルでない場合（ステップＳ２０６の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＨ以上であるか否かを判定する（ステップＳ２０８参照）。ホッパレベルがレベルＨ以上である場合（ステップＳ２０８の「Ｙｅｓ」参照）、制御装置６は、汚泥の供給停止を実行する（ステップＳ２０９参照）。その後、制御装置６は、所定時間が経過しても、ホッパレベルがレベルＨ以上であるか否かを判定する（ステップＳ２１０参照）。

【0096】

所定時間が経過しても、ホッパレベルがレベルＨ以上である場合には（ステップＳ２１０の「Ｙｅｓ」参照）、制御装置６は、供回りが発生していると決定し、汚泥の排出運転を実行する（ステップＳ２１１参照）。所定時間が経過した後、ホッパレベルがレベルＨ以上でない場合には（ステップＳ２１０の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＭＨに到達したか否かを判定する（ステップＳ２１２参照）。ホッパレベルがレベルＭＨに到達していない場合には（ステップＳ２１２の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ステップＳ２０９を実行する。

【0097】

ホッパレベルがレベルＭＨに到達した場合には（ステップＳ２１２の「Ｙｅｓ」参照）、制御装置６は、汚泥の供給停止を解除し（ステップＳ２１３参照）、スクリュー３，４の運転を継続する（ステップＳ２０１参照）。

【0098】

ホッパレベルがレベルＨ以上でない場合（ステップＳ２０８の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ホッパレベルがレベルＭＨとレベルＨとの間のレベルであるか否かを判定する（ステップＳ２１４参照）。ホッパレベルがレベルＭＨとレベルＨとの間のレベルである場合には（ステップＳ２１４の「Ｙｅｓ」参照）、制御装置６は、スクリュー３，４を加速度的に加速（増速）し（ステップＳ２１５参照）、その運転を継続する（ステップＳ２０１参照）。ホッパレベルがレベルＭＨとレベルＨとの間のレベルでない場合には（ステップＳ２１４の「Ｎｏ」参照）、制御装置６は、ステップＳ２０２を実行する。

【0099】

上述した実施形態では、制御装置６は、段階変化方式および加速変化方式において、ホッパレベルに応じて、スクリュー３，４の回転速度を変化させるように構成されているが、一実施形態では、制御装置６は、ホッパレベルに応じて、汚泥供給量を変化させるように構成されてもよい。より具体的には、制御装置６は、ホッパレベルに応じて、脱水システム２００の構成要素に含まれる装置（汚泥供給ポンプ２０２、ポリマ供給ポンプ２０６、凝集槽２０３の攪拌機２０３ａの回転速度、濃縮機２０４の回転速度）を動作させてもよい。

【0100】

汚泥の供給量を減少させる場合、制御装置６は、汚泥供給ポンプ２０２およびポリマ供給ポンプ２０６を操作して、汚泥の供給量およびポリマの供給量を低下させた後、凝集槽２０３の攪拌機２０３ａの回転速度および濃縮機２０４の回転速度を小さくする。その一方で、汚泥の供給量を増加させる場合、制御装置６は、濃縮機２０４の回転速度を大きくした後、凝集槽２０３の攪拌機２０３ａの回転速度を大きくし、その後、汚泥供給ポンプ２０２およびポリマ供給ポンプ２０６を操作して、汚泥の供給量およびポリマの供給量を低下させる。このような運転方法により、濃縮機２０４に対する一時的な汚泥の供給量の増加を防ぐことができ、濃縮機２０４の安定運転を実現することができる。待機時間は、上述した実施形態と同一であってもよい。

【0101】

一実施形態では、制御装置６は、段階変化方式および加速変化方式の組み合わせを採用してもよい。例えば、制御装置６は、ホッパレベルに応じて、段階変化方式および加速変化方式を交互に実行して、スクリュー３，４の回転速度を変化させてもよい。

【0102】

上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうることである。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。

【符号の説明】

【0103】

１ スクリーンケーシング
２ 投入口
３ 第１スクリュー
３Ａ 第１スクリュー軸
３Ｂ 第１スクリュー羽根
４ 第２スクリュー
４Ａ 第２スクリュー軸
４Ｂ 第２スクリュー羽根
６ 制御装置
７ 第１回転機構
８ 閉塞壁
１０ 水封装置
１１，１２ 軸受
１４ 第１駆動機
１５，１６ スプロケット
１７ チェーン
２０ 第２回転機構
２２，２３ 軸受
２４ 第２駆動機
２５，２６ スプロケット
２７ チェーン
３３ 排出チャンバー
３８ ろ液受け
３９ ドレイン
５０ レベルセンサ
１００ 脱水装置（スクリュープレス）
２００ 脱水システム
２０１ 汚泥貯留槽
２０２ 汚泥供給ポンプ
２０３ 凝集槽
２０３ａ 攪拌機
２０４ 濃縮機
２０５ ポリマ溶解槽
２０６ ポリマ供給ポンプ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】