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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024115504
(43)【公開日】2024-08-26
(54)【発明の名称】光学センサ、製造方法
(51)【国際特許分類】
G01S 7/481 20060101AFI20240819BHJP
G01S 7/497 20060101ALI20240819BHJP
【ＦＩ】
G01S7/481 A
G01S7/497
【審査請求】未請求
【請求項の数】20
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023151638
(22)【出願日】2023-09-19
(31)【優先権主張番号】P 2023021054
(32)【優先日】2023-02-14
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000004260
【氏名又は名称】株式会社デンソー
(74)【代理人】
【氏名又は名称】矢作 和行
(74)【代理人】
【識別番号】100121991
【弁理士】
【氏名又は名称】野々部 泰平
(74)【代理人】
【識別番号】100145595
【弁理士】
【氏名又は名称】久保 貴則
(72)【発明者】
【氏名】青木 慶伸
【テーマコード（参考）】
5J084
【Ｆターム（参考）】
5J084AC02
5J084DA01
5J084DA07
5J084EA19
(57)【要約】
【課題】光軸の調整精度を確保する光学センサの提供。
【解決手段】光学センサは、投光位置決め面２２２を有し、投光ビームＢｐを発光面２２６から投光する投光光源モジュール２２と、投光光源モジュール２２に接着される投光接着面２６４を有し、投光光源モジュール２２からの投光ビームＢｐを投光光軸Ｏｐに沿って外界側へ導光する投光レンズモジュール２６と、投光位置決め面２２２をＹ軸に沿って位置決めする、投光ベース面１４２を有するセンサベース１４とを、備える。Ｘ軸に直交する投光調整方向Ｄｐが投光接着面２６４に沿って想定されるとすると、投光光源モジュール２２における発光面２２６の光学中心Ｃｐが投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して投光調整方向Ｄｐに偏位することにより、投光ベース面１４２とは直交するＸＺ平面上に投光光軸Ｏｐが調整される。
【選択図】図７
【解決手段】光学センサは、投光位置決め面２２２を有し、投光ビームＢｐを発光面２２６から投光する投光光源モジュール２２と、投光光源モジュール２２に接着される投光接着面２６４を有し、投光光源モジュール２２からの投光ビームＢｐを投光光軸Ｏｐに沿って外界側へ導光する投光レンズモジュール２６と、投光位置決め面２２２をＹ軸に沿って位置決めする、投光ベース面１４２を有するセンサベース１４とを、備える。Ｘ軸に直交する投光調整方向Ｄｐが投光接着面２６４に沿って想定されるとすると、投光光源モジュール２２における発光面２２６の光学中心Ｃｐが投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して投光調整方向Ｄｐに偏位することにより、投光ベース面１４２とは直交するＸＺ平面上に投光光軸Ｏｐが調整される。
【選択図】図７
【特許請求の範囲】
【請求項1】
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
投光位置決め面（２２２）を有し、前記投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
前記投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、前記投光光源モジュールからの前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
前記投光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、投光ベース面（１４２）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が前記投光接着面に沿って想定されるとすると、
前記投光光源モジュールにおける前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記投光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記投光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記投光光軸が調整される光学センサ。
投光位置決め面（２２２）を有し、前記投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
前記投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、前記投光光源モジュールからの前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
前記投光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、投光ベース面（１４２）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が前記投光接着面に沿って想定されるとすると、
前記投光光源モジュールにおける前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記投光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記投光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記投光光軸が調整される光学センサ。
【請求項2】
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
投光位置決め面（２２２）を有し、前記投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
前記投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、前記投光光源モジュールからの前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
前記投光位置決め面を位置決めする投光ベース面（１４２）を、前記Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が前記投光接着面に沿って想定されるとすると、
前記投光光源モジュールにおける前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記投光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する投光基準平面（Ｌｐ）上に前記投光光軸が調整される光学センサ。
投光位置決め面（２２２）を有し、前記投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
前記投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、前記投光光源モジュールからの前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
前記投光位置決め面を位置決めする投光ベース面（１４２）を、前記Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が前記投光接着面に沿って想定されるとすると、
前記投光光源モジュールにおける前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記投光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する投光基準平面（Ｌｐ）上に前記投光光軸が調整される光学センサ。
【請求項3】
前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光調整方向に偏位する偏位量（Δｐ，Δｐａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記投光ベース面に対する前記投光接着面の傾斜角（θｐ）に相関する請求項１又は２に記載の光学センサ。
【請求項4】
前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光調整方向に偏位する偏位量（Δｐ，Δｐａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記投光接着面での法線方向（Ｎｐ）の前記投光光軸に対する形成角（ψｐ，ψｐａ）に相関する請求項１又は２に記載の光学センサ。
【請求項5】
前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光調整方向に偏位する偏位量（Δｐ，Δｐａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の姿勢角偏差（ωｐ）に相関する請求項１又は２に記載の光学センサ。
【請求項6】
前記センサベースを含んで構成されるハウジング（２０１１）を、備え、
前記ハウジングは、前記投光光源モジュールを介して前記投光レンズモジュールを保持する前記センサベースから伝導した熱を前記外界へ放射する、放熱部（２０１６）を有する請求項１又は２に記載の光学センサ。
前記ハウジングは、前記投光光源モジュールを介して前記投光レンズモジュールを保持する前記センサベースから伝導した熱を前記外界へ放射する、放熱部（２０１６）を有する請求項１又は２に記載の光学センサ。
【請求項7】
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
前記センサベースは、前記受光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、受光ベース面（１４４）を有し、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記受光光軸が調整される請求項１に記載の光学センサ。
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
前記センサベースは、前記受光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、受光ベース面（１４４）を有し、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記受光光軸が調整される請求項１に記載の光学センサ。
【請求項8】
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
前記受光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、受光ベース面（１４４）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記受光光軸が調整される光学センサ。
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
前記受光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、受光ベース面（１４４）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記受光光軸が調整される光学センサ。
【請求項9】
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
前記センサベースは、前記受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、前記Ｙ軸に沿って有し、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に前記受光光軸が調整される請求項２に記載の光学センサ。
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
前記センサベースは、前記受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、前記Ｙ軸に沿って有し、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に前記受光光軸が調整される請求項２に記載の光学センサ。
【請求項10】
前記三次元座標系において前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように、前記投光位置決め面及び前記投光ベース面の間の投光位置決め箇所と、前記受光位置決め面及び前記受光ベース面の間の受光位置決め箇所とのうち、少なくとも一方に介装される位置決めシム（３４１１，４２１１）を、備える請求項９に記載の光学センサ。
【請求項11】
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
前記受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、前記Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に前記受光光軸が調整される光学センサ。
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
前記受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、前記Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に前記受光光軸が調整される光学センサ。
【請求項12】
前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光調整方向に偏位する偏位量（Δｒ，Δｒａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記受光ベース面に対する前記受光接着面の傾斜角（θｒ）に相関する請求項７～１１のいずれか一項に記載の光学センサ。
【請求項13】
前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光調整方向に偏位する偏位量（Δｒ，Δｒａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記受光接着面での法線方向（Ｎｒ）の前記受光光軸に対する形成角（ψｒ，ψｒａ）に相関する請求項７～１１のいずれか一項に記載の光学センサ。
【請求項14】
前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光調整方向に偏位する偏位量（Δｒ，Δｒａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の姿勢角偏差（ωｒ）に相関する請求項７～１１のいずれか一項に記載の光学センサ。
【請求項15】
前記センサベースを含んで構成されるハウジング（２０１１）を、備え、
前記ハウジングは、前記受光検出モジュールを介して前記受光レンズモジュールを保持する前記センサベースから伝導した熱を前記外界へ放射する、放熱部（２０１６）を有する請求項７～１１のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記ハウジングは、前記受光検出モジュールを介して前記受光レンズモジュールを保持する前記センサベースから伝導した熱を前記外界へ放射する、放熱部（２０１６）を有する請求項７～１１のいずれか一項に記載の光学センサ。
【請求項16】
請求項１に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を接着することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を接着することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
【請求項17】
請求項７又は８に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を接着することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を接着することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
【請求項18】
請求項１０に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記受光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を前記投光誤差角と前記受光誤差角との相関に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により直に位置決めして前記センサベースに固定することとを、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により前記受光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記受光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を前記投光誤差角と前記受光誤差角との相関に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により直に位置決めして前記センサベースに固定することとを、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により前記受光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
【請求項19】
請求項１０に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記投光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）を前記投光誤差角と前記受光誤差角との相関に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により前記投光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により直に位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記投光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）を前記投光誤差角と前記受光誤差角との相関に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により前記投光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により直に位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
【請求項20】
請求項１０に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記投光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）前記投光誤差角に応じて調整することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記受光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を前記受光誤差角に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により前記投光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により前記受光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記投光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）前記投光誤差角に応じて調整することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記受光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を前記受光誤差角に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により前記投光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により前記受光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、光学センサ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、投光ビームを外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビームを受光することで、外界を検出する光学センサは、広く知られている。この種の光学センサとして特許文献１に開示される技術では、投光ビームを発生させる光源モジュールに対して、光源モジュールからの投光ビームを外界側へ導光するレンズモジュールの光軸が、姿勢調整されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１７－３９３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかし、特許文献１に開示の技術では、光源モジュールに対してレンズモジュールが三軸方向に限定して調心されている。このような調心技術では、各モジュール内及び各モジュール同士での傾きといった製造公差まで吸収することが困難なため、光軸の調整精度に限界が生じてしまう。
【0005】
以上より本開示の課題は、光軸の調整精度を確保する光学センサ及びその製造方法を、提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
以下、課題を解決するための本開示の技術的手段について、説明する。尚、特許請求の範囲及び本欄に記載された括弧内の符号は、後に詳述する実施形態に記載された具体的手段との対応関係を示すものであり、本開示の技術的範囲を限定するものではない。
【0007】
本開示の第一態様は、
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
投光位置決め面（２２２）を有し、投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、投光光源モジュールからの投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
投光位置決め面をＹ軸に沿って位置決めする、投光ベース面（１４２）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が投光接着面に沿って想定されるとすると、
投光光源モジュールにおける発光面の光学中心（Ｃｐ）が投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して投光調整方向に偏位することにより、三次元座標系において投光ベース面とは直交するＸＺ平面上に投光光軸が調整される。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
投光位置決め面（２２２）を有し、投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、投光光源モジュールからの投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
投光位置決め面をＹ軸に沿って位置決めする、投光ベース面（１４２）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が投光接着面に沿って想定されるとすると、
投光光源モジュールにおける発光面の光学中心（Ｃｐ）が投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して投光調整方向に偏位することにより、三次元座標系において投光ベース面とは直交するＸＺ平面上に投光光軸が調整される。
【0008】
本開示の第二態様は、第一態様の光学センサを製造する製造方法であって、
投光接着面に対する投光位置決め面のＸ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｐ）を、投光ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して発光面の光学中心（Ｃｐ）を投光調整方向に偏位させた状態の投光光源モジュールに対して、投光レンズモジュールの投光接着面を接着することと、
投光レンズモジュールの接着された投光光源モジュールにおいて投光位置決め面を、投光ベース面により位置決めしてセンサベースに固定することとを、含む。
投光接着面に対する投光位置決め面のＸ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｐ）を、投光ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して発光面の光学中心（Ｃｐ）を投光調整方向に偏位させた状態の投光光源モジュールに対して、投光レンズモジュールの投光接着面を接着することと、
投光レンズモジュールの接着された投光光源モジュールにおいて投光位置決め面を、投光ベース面により位置決めしてセンサベースに固定することとを、含む。
【0009】
このように第一及び第二態様では、投光レンズモジュールの投光接着面に接着される投光光源モジュールにおいて投光位置決め面が、センサベースの投光ベース面によりＹ軸に沿って位置決めされる。そこで第一及び第二態様によると、投光光源モジュールにおける発光面の光学中心が投光レンズモジュールの主点に対して、Ｘ軸に直交する投光調整方向に投光接着面に沿って偏位することで、投光ベース面とは直交するＸＺ平面上に投光光軸が調整される。こうした偏位構成によれば、各モジュール内及び各モジュール同士での傾きを含む製造公差を吸収しつつ、ＸＺ平面に合わせて投光光軸を調整することができる。故に、投光光軸の調整精度を確保することが、可能となる。
【0010】
さらに第二態様では、投光レンズモジュールの投光接着面が接着された投光光源モジュールにおいて投光位置決め面が、投光ベース面により位置決めされてセンサベースに固定される。そこで第二態様によると、投光接着面に対する投光位置決め面のＸ軸まわりでの姿勢角偏差を測定した測定値に相関する偏位量分、投光レンズモジュールの主点に対して発光面の光学中心を投光調整方向に偏位させた状態で、センサベースへの固定前にモジュール同士が接着させられる。これは換言すれば、投光接着面に対する投光位置決め面の姿勢角偏差は、ＸＺ平面に合わせた投光光軸を形成するための偏位量に対応した適正角度となり得ることを、意味する。故に、投光光軸を高精度に調整することが、可能となる。
【0011】
本開示の第三態様は、第一態様の光学センサにおいて、
受光位置決め面（４５２）を有し、反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、外界側からの反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
センサベースは、受光位置決め面をＹ軸に沿って位置決めする受光ベース面（１４４）を、有し、
Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が受光接着面に沿って想定されるとすると、
受光検出モジュールにおける検出面の光学中心（Ｃｒ）が受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して受光調整方向に偏位することにより、三次元座標系において受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に受光光軸が調整される。
受光位置決め面（４５２）を有し、反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、外界側からの反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
センサベースは、受光位置決め面をＹ軸に沿って位置決めする受光ベース面（１４４）を、有し、
Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が受光接着面に沿って想定されるとすると、
受光検出モジュールにおける検出面の光学中心（Ｃｒ）が受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して受光調整方向に偏位することにより、三次元座標系において受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に受光光軸が調整される。
【0012】
本開示の第四態様は、
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
受光位置決め面（４５２）を有し、反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、外界側からの反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
受光位置決め面をＹ軸に沿って位置決めする、受光ベース面（１４４）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が受光接着面に沿って想定されるとすると、
受光検出モジュールにおける検出面の光学中心（Ｃｒ）が受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して受光調整方向に偏位することにより、三次元座標系において受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に受光光軸が調整される。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
受光位置決め面（４５２）を有し、反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、外界側からの反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
受光位置決め面をＹ軸に沿って位置決めする、受光ベース面（１４４）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が受光接着面に沿って想定されるとすると、
受光検出モジュールにおける検出面の光学中心（Ｃｒ）が受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して受光調整方向に偏位することにより、三次元座標系において受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に受光光軸が調整される。
【0013】
本開示の第五態様は、第三又は第四態様の光学センサを製造する製造方法であって、
受光接着面に対する受光位置決め面のＸ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｒ）を、反射ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して検出面の光学中心（Ｃｒ）を受光調整方向に偏位させた状態の受光検出モジュールに対して、受光レンズモジュールの受光接着面を接着することと、
受光レンズモジュールの接着された受光検出モジュールにおいて受光位置決め面を、受光ベース面により位置決めしてセンサベースに固定することとを、含む。
受光接着面に対する受光位置決め面のＸ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｒ）を、反射ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して検出面の光学中心（Ｃｒ）を受光調整方向に偏位させた状態の受光検出モジュールに対して、受光レンズモジュールの受光接着面を接着することと、
受光レンズモジュールの接着された受光検出モジュールにおいて受光位置決め面を、受光ベース面により位置決めしてセンサベースに固定することとを、含む。
【0014】
これら第三～第五態様では、受光レンズモジュールの受光接着面に接着される受光検出モジュールにおいて受光位置決め面が、センサベースの受光ベース面によりＹ軸に沿って位置決めされる。そこで第三～第五態様によると、受光検出モジュールにおける検出面の光学中心が受光レンズモジュールの主点に対して、Ｘ軸に直交する受光調整方向に受光接着面に沿って偏位することで、受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に受光光軸が調整される。こうした偏位構成によれば、各モジュール内及び各モジュール同士での傾きを含む製造公差を吸収しつつ、ＸＺ平面に合わせて受光光軸を調整することができる。故に、受光光軸の調整精度を確保することが、可能となる。
【0015】
さらに第五態様では、受光レンズモジュールの受光接着面が接着された受光検出モジュールにおいて受光位置決め面が、受光ベース面により位置決めされてセンサベースに固定される。そこで第五態様によると、受光接着面に対する受光位置決め面のＸ軸まわりでの姿勢角偏差を測定した測定値に相関する偏位量分、受光レンズモジュールの主点に対して検出面の光学中心を受光調整方向に偏位させた状態で、センサベースへの固定前にモジュール同士が接着させられる。これは換言すれば、受光接着面に対する受光位置決め面の姿勢角偏差は、ＸＺ平面に合わせた受光光軸を形成するための偏位量に対応した適正角度となり得ることを、意味する。故に、受光光軸を高精度に調整することが、可能となる。
【0016】
本開示の第六態様は、
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
投光位置決め面（２２２）を有し、投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、投光光源モジュールからの投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
投光位置決め面を位置決めする投光ベース面（１４２）を、Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が投光接着面に沿って想定されるとすると、
投光光源モジュールにおける発光面の光学中心（Ｃｐ）が投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して投光調整方向に偏位することにより、三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する投光基準平面（Ｌｐ）上に投光光軸が調整される。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
投光位置決め面（２２２）を有し、投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、投光光源モジュールからの投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
投光位置決め面を位置決めする投光ベース面（１４２）を、Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が投光接着面に沿って想定されるとすると、
投光光源モジュールにおける発光面の光学中心（Ｃｐ）が投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して投光調整方向に偏位することにより、三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する投光基準平面（Ｌｐ）上に投光光軸が調整される。
【0017】
このような第六態様では、投光レンズモジュールの投光接着面に接着される投光光源モジュールにおいて投光位置決め面が、Ｙ軸に沿ったセンサベースの投光ベース面により位置決めされる。そこで第六態様によると、投光光源モジュールにおける発光面の光学中心が投光レンズモジュールの主点に対して、Ｘ軸に直交する投光調整方向に投光接着面に沿って偏位することで、ＹＺ平面とは直交する投光基準平面上に投光光軸が調整される。こうした偏位構成によれば、各モジュール内及び各モジュール同士での傾きを含む製造公差を吸収しつつ、投光基準平面に合わせて投光光軸を調整することができる。故に、投光光軸の調整精度を確保することが、可能となる。
【0018】
本開示の第七態様は、第六態様の光学センサにおいて、
受光位置決め面（４５２）を有し、反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、外界側からの反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
センサベースは、受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、Ｙ軸に沿って有し、
Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が受光接着面に沿って想定されるとすると、
受光検出モジュールにおける検出面の光学中心（Ｃｒ）が受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して受光調整方向に偏位することにより、三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に受光光軸が調整される。
受光位置決め面（４５２）を有し、反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、外界側からの反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
センサベースは、受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、Ｙ軸に沿って有し、
Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が受光接着面に沿って想定されるとすると、
受光検出モジュールにおける検出面の光学中心（Ｃｒ）が受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して受光調整方向に偏位することにより、三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に受光光軸が調整される。
【0019】
本開示の第八態様は、
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
受光位置決め面（４５２）を有し、反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、外界側からの反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が受光接着面に沿って想定されるとすると、
受光検出モジュールにおける検出面の光学中心（Ｃｒ）が受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して受光調整方向に偏位することにより、三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に受光光軸が調整される。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
受光位置決め面（４５２）を有し、反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、外界側からの反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が受光接着面に沿って想定されるとすると、
受光検出モジュールにおける検出面の光学中心（Ｃｒ）が受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して受光調整方向に偏位することにより、三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に受光光軸が調整される。
【0020】
これら第七及び第八態様では、受光レンズモジュールの受光接着面に接着される受光検出モジュールにおいて受光位置決め面が、Ｙ軸に沿ったセンサベースの受光ベース面により位置決めされる。そこで第七及び第八態様によると、受光検出モジュールにおける検出面の光学中心が受光レンズモジュールの主点に対して、Ｘ軸に直交する受光調整方向に受光接着面に沿って偏位することで、ＹＺ平面とは直交する受光基準平面上に受光光軸が調整される。こうした偏位構成によれば、各モジュール内及び各モジュール同士での傾きを含む製造公差を吸収しつつ、受光基準平面に合わせて受光光軸を調整することができる。故に、受光光軸の調整精度を確保することが、可能となる。
【0021】
本開示の第九態様は、第七態様の光学センサにおいて、
三次元座標系において投光光軸と受光光軸とが互いに沿うように、投光位置決め面及び投光ベース面の間の投光位置決め箇所と、受光位置決め面及び受光ベース面の間の受光位置決め箇所とのうち、少なくとも一方に介装される位置決めシム（３４１１，４２１１）を、備える。
三次元座標系において投光光軸と受光光軸とが互いに沿うように、投光位置決め面及び投光ベース面の間の投光位置決め箇所と、受光位置決め面及び受光ベース面の間の受光位置決め箇所とのうち、少なくとも一方に介装される位置決めシム（３４１１，４２１１）を、備える。
【0022】
このように第九態様では、投光位置決め面及び投光ベース面の間の投光位置決め箇所と、受光位置決め面及び受光ベース面の間の受光位置決め箇所とのうち、少なくとも一方に位置決めシムが介装される。これによれば、接着時の硬化収縮に起因した偏位構成の製造公差に応じて投光光軸及び／又は受光光軸に誤差角が生じたとしても、それら光軸の方向を互いに合致させて当該製造公差を吸収することができる。故に、投光光軸及び受光光軸の調整精度を、相互間にて確保することが可能となる。
【0023】
本開示の第十態様は、第九態様の光学センサを製造する製造方法であって、
投光接着面に対する投光位置決め面のＸ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、投光ビームの合焦状態において測定することと、
投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して発光面の光学中心（Ｃｐ）を投光調整方向に偏位させた状態の投光光源モジュールに対して、投光レンズモジュールの投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
投光接着材の硬化により投光光源モジュールと接着された投光レンズモジュールの投光光軸に、三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
受光接着面に対する受光位置決め面のＸ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、反射ビームの合焦状態において測定することと、
受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して検出面の光学中心（Ｃｒ）を受光調整方向に偏位させた状態の受光検出モジュールに対して、受光レンズモジュールの受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
受光接着材の硬化により受光検出モジュールと接着された受光レンズモジュールの受光光軸に、三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
投光光軸と受光光軸とが互いに沿うように受光位置決め箇所に介装される位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を投光誤差角と受光誤差角との相関に応じて調整することと、
投光レンズモジュールの接着された投光光源モジュールにおいて投光位置決め面を、投光ベース面により直に位置決めしてセンサベースに固定することとを、
受光レンズモジュールの接着された受光検出モジュールにおいて受光位置決め面を、受光ベース面により受光位置決めシムを介して位置決めしてセンサベースに固定することとを、含む。
投光接着面に対する投光位置決め面のＸ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、投光ビームの合焦状態において測定することと、
投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して発光面の光学中心（Ｃｐ）を投光調整方向に偏位させた状態の投光光源モジュールに対して、投光レンズモジュールの投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
投光接着材の硬化により投光光源モジュールと接着された投光レンズモジュールの投光光軸に、三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
受光接着面に対する受光位置決め面のＸ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、反射ビームの合焦状態において測定することと、
受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して検出面の光学中心（Ｃｒ）を受光調整方向に偏位させた状態の受光検出モジュールに対して、受光レンズモジュールの受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
受光接着材の硬化により受光検出モジュールと接着された受光レンズモジュールの受光光軸に、三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
投光光軸と受光光軸とが互いに沿うように受光位置決め箇所に介装される位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を投光誤差角と受光誤差角との相関に応じて調整することと、
投光レンズモジュールの接着された投光光源モジュールにおいて投光位置決め面を、投光ベース面により直に位置決めしてセンサベースに固定することとを、
受光レンズモジュールの接着された受光検出モジュールにおいて受光位置決め面を、受光ベース面により受光位置決めシムを介して位置決めしてセンサベースに固定することとを、含む。
【0024】
このような第十態様では、第二態様に準じて投光姿勢角偏差を測定した測定値に相関する偏位量分、投光レンズモジュールの主点に対して発光面の光学中心を投光調整方向に偏位させた偏位構成の状態で、モジュール同士が接着させられる。それと共に第十態様では、第五態様に準じて受光姿勢角偏差を測定した測定値に相関する偏位量分、受光レンズモジュールの主点に対して検出面の光学中心を受光調整方向に偏位させた偏位構成の状態で、モジュール同士が接着させられる。
【0025】
但し第十態様では、投光接着材の硬化により投光光源モジュールと接着された投光レンズモジュールの投光光軸に、投光接着材の硬化収縮に起因する製造公差に応じた投光誤差角が、生じたとしても測定される。それと共に、受光接着材の硬化により受光検出モジュールと接着された受光レンズモジュールの受光光軸に、受光接着材の硬化収縮に起因する製造公差に応じた受光誤差角が、生じたとしても測定される。これらのことから、投光光軸と受光光軸との方向を互いに合致させるため、投光誤差角と受光誤差角との相関に応じて、受光位置決めシムの楔角が正確に調整され得る。
【0026】
そこで第十態様によると、投光位置決め面が投光ベース面により直に位置決め固定される一方、受光位置決め面が受光ベース面により受光位置決めシムを介して位置決め固定される。故に、投光光軸及び受光光軸の調整精度を、それら光軸方向同士の合致によって確保することが可能となる。
【0027】
本開示の第十一態様は、第九態様の光学センサを製造する製造方法であって、
投光接着面に対する投光位置決め面のＸ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、投光ビームの合焦状態において測定することと、
投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して発光面の光学中心（Ｃｐ）を投光調整方向に偏位させた状態の投光光源モジュールに対して、投光レンズモジュールの投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
投光接着材の硬化により投光光源モジュールと接着された投光レンズモジュールの投光光軸に、三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
受光接着面に対する受光位置決め面のＸ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、反射ビームの合焦状態において測定することと、
受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して検出面の光学中心（Ｃｒ）を受光調整方向に偏位させた状態の受光検出モジュールに対して、受光レンズモジュールの受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
受光接着材の硬化により受光検出モジュールと接着された受光レンズモジュールの受光光軸に、三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
投光光軸と受光光軸とが互いに沿うように投光位置決め箇所に介装される位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）を投光誤差角と受光誤差角との相関に応じて調整することと、
投光レンズモジュールの接着された投光光源モジュールにおいて投光位置決め面を、投光ベース面により投光位置決めシムを介して位置決めしてセンサベースに固定することと、
受光レンズモジュールの接着された受光検出モジュールにおいて受光位置決め面を、受光ベース面により直に位置決めしてセンサベースに固定することとを、含む。
投光接着面に対する投光位置決め面のＸ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、投光ビームの合焦状態において測定することと、
投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して発光面の光学中心（Ｃｐ）を投光調整方向に偏位させた状態の投光光源モジュールに対して、投光レンズモジュールの投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
投光接着材の硬化により投光光源モジュールと接着された投光レンズモジュールの投光光軸に、三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
受光接着面に対する受光位置決め面のＸ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、反射ビームの合焦状態において測定することと、
受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して検出面の光学中心（Ｃｒ）を受光調整方向に偏位させた状態の受光検出モジュールに対して、受光レンズモジュールの受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
受光接着材の硬化により受光検出モジュールと接着された受光レンズモジュールの受光光軸に、三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
投光光軸と受光光軸とが互いに沿うように投光位置決め箇所に介装される位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）を投光誤差角と受光誤差角との相関に応じて調整することと、
投光レンズモジュールの接着された投光光源モジュールにおいて投光位置決め面を、投光ベース面により投光位置決めシムを介して位置決めしてセンサベースに固定することと、
受光レンズモジュールの接着された受光検出モジュールにおいて受光位置決め面を、受光ベース面により直に位置決めしてセンサベースに固定することとを、含む。
【0028】
このような第十一態様では、第二態様に準じて姿勢角偏差を測定した測定値に相関する偏位量分、投光レンズモジュールの主点に対して発光面の光学中心を投光調整方向に偏位させた偏位構成の状態で、モジュール同士が接着させられる。それと共に第十一態様では、第五態様に準じて姿勢角偏差を測定した測定値に相関する偏位量分、受光レンズモジュールの主点に対して検出面の光学中心を受光調整方向に偏位させた偏位構成の状態で、モジュール同士が接着させられる。
【0029】
但し第十一態様では、投光接着材の硬化により投光光源モジュールと接着された投光レンズモジュールの投光光軸に、投光接着材の硬化収縮に起因する製造公差に応じた投光誤差角が、生じたとしても測定される。それと共に、受光接着材の硬化により受光検出モジュールと接着された受光レンズモジュールの受光光軸に、受光接着材の硬化収縮に起因する製造公差に応じた受光誤差角が、生じたとしても測定される。これらのことから、投光光軸と受光光軸との方向を互いに合致させるため、投光誤差角と受光誤差角との相関に応じて、投光位置決めシムの楔角が正確に調整され得る。
【0030】
そこで第十一態様によると、受光位置決め面が受光ベース面により直に位置決め固定される一方、投光位置決め面が投光ベース面により投光位置決めシムを介して位置決め固定される。故に、投光光軸及び受光光軸の調整精度を、それら光軸方向同士の合致によって確保することが可能となる。
【0031】
本開示の第十二態様は、第九態様の光学センサを製造する製造方法であって、
投光接着面に対する投光位置決め面のＸ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、投光ビームの合焦状態において測定することと、
投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して発光面の光学中心（Ｃｐ）を投光調整方向に偏位させた状態の投光光源モジュールに対して、投光レンズモジュールの投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
投光接着材の硬化により投光光源モジュールと接着された投光レンズモジュールの投光光軸に、三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
受光接着面に対する受光位置決め面のＸ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、反射ビームの合焦状態において測定することと、
受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して検出面の光学中心（Ｃｒ）を受光調整方向に偏位させた状態の受光検出モジュールに対して、受光レンズモジュールの受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
受光接着材の硬化により受光検出モジュールと接着された受光レンズモジュールの受光光軸に、三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
投光光軸と受光光軸とが互いに沿うように投光位置決め箇所に介装される位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）を投光誤差角に応じて調整することと、
投光光軸と受光光軸とが互いに沿うように受光位置決め箇所に介装される位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を受光誤差角に応じて調整することと、
投光レンズモジュールの接着された投光光源モジュールにおいて投光位置決め面を、投光ベース面により投光位置決めシムを介して位置決めしてセンサベースに固定することと、
受光レンズモジュールの接着された受光検出モジュールにおいて受光位置決め面を、受光ベース面により受光位置決めシムを介して位置決めしてセンサベースに固定することとを、含む。
投光接着面に対する投光位置決め面のＸ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、投光ビームの合焦状態において測定することと、
投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して発光面の光学中心（Ｃｐ）を投光調整方向に偏位させた状態の投光光源モジュールに対して、投光レンズモジュールの投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
投光接着材の硬化により投光光源モジュールと接着された投光レンズモジュールの投光光軸に、三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
受光接着面に対する受光位置決め面のＸ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、反射ビームの合焦状態において測定することと、
受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して検出面の光学中心（Ｃｒ）を受光調整方向に偏位させた状態の受光検出モジュールに対して、受光レンズモジュールの受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
受光接着材の硬化により受光検出モジュールと接着された受光レンズモジュールの受光光軸に、三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
投光光軸と受光光軸とが互いに沿うように投光位置決め箇所に介装される位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）を投光誤差角に応じて調整することと、
投光光軸と受光光軸とが互いに沿うように受光位置決め箇所に介装される位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を受光誤差角に応じて調整することと、
投光レンズモジュールの接着された投光光源モジュールにおいて投光位置決め面を、投光ベース面により投光位置決めシムを介して位置決めしてセンサベースに固定することと、
受光レンズモジュールの接着された受光検出モジュールにおいて受光位置決め面を、受光ベース面により受光位置決めシムを介して位置決めしてセンサベースに固定することとを、含む。
【0032】
このような第十二態様では、第二態様に準じて姿勢角偏差を測定した測定値に相関する偏位量分、投光レンズモジュールの主点に対して発光面の光学中心を投光調整方向に偏位させた偏位構成の状態で、モジュール同士が接着させられる。それと共に第十二態様では、第五態様に準じて姿勢角偏差を測定した測定値に相関する偏位量分、受光レンズモジュールの主点に対して検出面の光学中心を受光調整方向に偏位させた偏位構成の状態で、モジュール同士が接着させられる。
【0033】
但し第十二態様では、投光接着材の硬化により投光光源モジュールと接着された投光レンズモジュールの投光光軸に、投光接着材の硬化収縮に起因する製造公差に応じた投光誤差角が、生じたとしても測定される。それと共に、受光接着材の硬化により受光検出モジュールと接着された受光レンズモジュールの受光光軸に、受光接着材の硬化収縮に起因する製造公差に応じた受光誤差角が、生じたとしても測定される。これらのことから、投光光軸と受光光軸との方向を互いに合致させるため、投光誤差角と受光誤差角とのそれぞれに応じて、投光位置決めシムの楔角と受光位置決めシムの楔角とが正確に調整され得る。
【0034】
そこで第十二態様によると、投光位置決め面が投光ベース面により投光位置決めシムを介して位置決め固定されると共に、受光位置決め面が受光ベース面により受光位置決めシムを介して位置決め固定される。故に、投光光軸及び受光光軸の調整精度を、それら光軸方向同士の合致によって確保することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0035】
【図1】第一実施形態による光学センサの全体構成を部分断面にて示す模式図である。
【図2】第一実施形態による投光ユニットを示す斜視図である。
【図3】第一実施形態による投光ユニットを模式的に示すＸＹ平面視図である。
【図4】第一実施形態による受光ユニットを示す斜視図である。
【図5】第一実施形態による受光ユニットを模式的に示すＸＹ平面視図である。
【図6】第一実施形態による光学センサの詳細構成を部分断面にて示すＹＺ平面視図である。
【図7】第一実施形態による投光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ平面視図である。
【図8】第一実施形態による投光ユニットの製造方法を示すフローチャートである。
【図9】第一実施形態による投光ユニットの製造方法を説明するための模式図である。
【図10】第一実施形態による投光ユニットの製造方法を説明するための模式図である。
【図11】第一実施形態による投光ユニットの製造方法を説明するための模式図である。
【図12】第一実施形態による受光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ平面視図である。
【図13】第一実施形態による受光ユニットの製造方法を示すフローチャートである。
【図14】第一実施形態による受光ユニットの製造方法を説明するための模式図である。
【図15】第一実施形態による受光ユニットの製造方法を説明するための模式図である。
【図16】第一実施形態による受光ユニットの製造方法を説明するための模式図である。
【図17】第二実施形態による光学センサの詳細構成を部分断面にて示すＹＺ平面視図である。
【図18】第三実施形態による光学センサの詳細構成を部分断面にて示すＹＺ平面視図である。
【図19】第三実施形態による投光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ平面視図である。
【図20】第三実施形態による受光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ平面視図である。
【図21】第三実施形態による光学センサの製造方法を示すフローチャートである。
【図22】第三実施形態による光学センサの製造方法のうち投光シーケンスを説明するための模式図である。
【図23】第三実施形態による光学センサの製造方法のうち投光シーケンスを説明するための模式図である。
【図24】第三実施形態による光学センサの製造方法のうち受光シーケンスを説明するための模式図である。
【図25】第三実施形態による光学センサの製造方法のうち受光シーケンスを説明するための模式図である。
【図26】第四実施形態による光学センサの詳細構成を部分断面にて示すＹＺ平面視図である。
【図27】第四実施形態による投光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ平面視図である。
【図28】第四実施形態による受光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ平面視図である。
【図29】第四実施形態による光学センサの製造方法を示すフローチャートである。
【図30】第五実施形態による光学センサの詳細構成を部分断面にて示すＹＺ平面視図である。
【図31】第五実施形態による投光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ平面視図である。
【図32】第五実施形態による受光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ平面視図である。
【図33】第五実施形態による光学センサの製造方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0036】
（第一実施形態）
図１に示すように、本開示の第一実施形態による光学センサ１０は、移動体に配置されて外界を光学的に検出するための、ＬｉＤＡＲ（Light Detection and Ranging/Laser Imaging Detection and Ranging）である。光学センサ１０の配置対象となる移動体は、手動運転、自動運転、及び遠隔運転のうち少なくとも一種類の運転が可能な、例えば自動車等の車両である。尚、以下の説明では断り書きがない限り、前、後、上、下、左、及び右が示す各方向は、水平面上の車両を基準として定義される。また、以下の説明において水平方向及び鉛直方向とは、それぞれ水平面上の車両における、当該水平面に対しての平行方向及び垂直方向を意味する。
図１に示すように、本開示の第一実施形態による光学センサ１０は、移動体に配置されて外界を光学的に検出するための、ＬｉＤＡＲ（Light Detection and Ranging/Laser Imaging Detection and Ranging）である。光学センサ１０の配置対象となる移動体は、手動運転、自動運転、及び遠隔運転のうち少なくとも一種類の運転が可能な、例えば自動車等の車両である。尚、以下の説明では断り書きがない限り、前、後、上、下、左、及び右が示す各方向は、水平面上の車両を基準として定義される。また、以下の説明において水平方向及び鉛直方向とは、それぞれ水平面上の車両における、当該水平面に対しての平行方向及び垂直方向を意味する。
【0037】
光学センサ１０は、例えば前方部、左右の側方部、後方部、及び上部ルーフ等のうち、車両における少なくとも一箇所に配置される。光学センサ１０は、外界のうち車両での配置箇所に応じた検出領域Ａｄへと向けて、投光ビームＢｐを投光する。光学センサ１０は、外界において投光ビームＢｐが検出領域Ａｄの物標により反射されることで戻ってくる戻り光を、反射ビームＢｒとして検出する。こうして反射ビームＢｒとなる投光ビームＢｐには、人間から視認困難な近赤外域の光が選択される。
【0038】
光学センサ１０は、投光ビームＢｐに対して反射された反射ビームＢｒを受光することで、外界のうち検出領域Ａｄに存在する物標を、検出する。こうした外界物標の検出とは、例えば光学センサ１０から物標までの距離、物標が存在する方向、及び物標からの反射ビームＢｒの反射強度等のうち、少なくとも距離を含む一種類又は複数種類の検出である。車両に適用の光学センサ１０において代表的な検出対象となる物標は、例えば歩行者、サイクリスト、人間以外の動物、及び他車両等の移動物体のうち、少なくとも一種類であってもよい。車両に適用の光学センサ１０において代表的な検出対象となる物標は、例えばガードレール、道路標識、道路脇の構造物、及び道路上の落下物等の静止物体のうち、少なくとも一種類であってもよい。
【0039】
光学センサ１０には、互いに直交した三軸となるＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により、三次元座標系が定義されている。特に光学センサ１０の三次元座標系では、Ｙ軸方向が車両の鉛直方向に沿って規定されていると共に、Ｘ軸方向及びＺ軸方向がそれぞれ車両の相異なる水平方向に沿って規定されている。これにより水平面上の車両では、三次元座標系のＸＹ平面及びＹＺ平面が水平面に垂直な鉛直面に沿うと共に、ＸＺ平面が水平面に沿うこととなる。尚、図１においてＹ軸方向に沿う一点鎖線よりも左側部分（後述の光学窓１３側）は、実際には当該一点鎖線よりも右側部分（後述のユニット２１，４１側）に対して垂直な断面を図示している。
【0040】
光学センサ１０は、ハウジング１１、投光ユニット２１、走査ユニット３１、受光ユニット４１、及び制御ユニット５１を備えている。外界と内部とを仕切るハウジング１１は、外郭本体１２、及び光学窓１３を含んで構成されている。遮光性の外郭本体１２は、例えば金属又は樹脂等により箱状に形成されている。外郭本体１２は、投光ユニット２１、走査ユニット３１、受光ユニット４１、及び制御ユニット５１を内部に収容している。ハウジング１１は、光学窓１３により閉塞された開口部を、有している。透光性の光学窓１３は、例えば樹脂又はガラス等により、板状に形成されている。
【0041】
図１，２に示すように投光ユニット２１は、投光光源モジュール２２、及び投光レンズモジュール２６を含んで構成されている。図３に示すように投光光源モジュール２２は、複数の投光光源２４が基板２２０上においてアレイ状に実装されることで、構築されている。特に本実施形態の各投光光源２４は、Ｙ軸方向に沿って単列に配列された、レーザダイオードである。各投光光源２４は、制御ユニット５１からの制御信号に従うことで、それぞれ投光ビームＢｐの一部となるレーザ光を、パルス状に生成する。各投光光源２４は、エッジエミッタレーザであってもよいし、垂直共振器面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ：Vertical Cavity Surface Emitting Laser）であってもよい。
【0042】
図１，３に示すように投光光源モジュール２２は、各投光光源２４の発光により投光ビームＢｐを投射する発光面２２６を、基板２２０の片面側に形成している。発光面２２６は、各投光光源２４におけるレーザ発振部の集合によって擬似的に、Ｙ軸方向に長手且つＸ軸方向に短手の長方形輪郭に規定される。各投光光源２４のレーザ発振部から投射されるレーザ光は、検出領域Ａｄにおいては上下に長いライン状に整形される投光ビームＢｐとして、発光面２２６から投射される。
【0043】
図１，２に示すように投光レンズモジュール２６は、少なくとも一つの投光レンズ２６０が投光鏡筒２６１によって保持される構造に、構築されている。透光性の投光レンズ２６０は、例えば樹脂又はガラス等の基材を主体として、発揮する光学作用に応じたレンズ形状に形成されている。投光レンズ２６０は、例えば集光、コリメート、及び整形等のうち少なくとも一種類の光学作用を、投光光源モジュール２２からの投光ビームＢｐに対して発揮する。投光レンズ２６０は、例えば金属又は樹脂等により筒状形成された遮光性の投光鏡筒２６１内に、位置決めされている。
【0044】
こうした構成の投光レンズモジュール２６は、投光光軸Ｏｐを形成するように、投光光源モジュール２２と位置合わせされている。そこで、投光光源モジュール２２から投射された投光ビームＢｐは、投光レンズモジュール２６からの光学作用により、ＸＺ平面上の投光光軸Ｏｐに沿って車両の外界側へと導光される。
【0045】
図１に示すように走査ユニット３１は、走査ミラー３２、及び走査モータ３５を含んで構成されている。走査ミラー３２は、基材の片面である反射面３３に反射膜が蒸着された板状に、形成されている。走査ミラー３２は、Ｙ軸方向の回転中心線まわりに回転駆動可能に、ハウジング１１によって支持されている。走査ミラー３２は、機械的又は電気的なストッパにより有限となる駆動範囲内において、揺動運動する。走査モータ３５は、例えばボイスコイルモータ、ブラシ付きＤＣモータ、又はステッピングモータ等である。走査モータ３５の出力軸は、走査ミラー３２に対して直接的に、又は例えば減速機等の駆動機構を介して間接的に、結合されている。走査モータ３５は、出力軸と共に走査ミラー３２を回転駆動可能に、ハウジング１１によって保持されている。走査モータ３５は、制御ユニット５１からの制御信号に従うことで、走査ミラー３２を有限の駆動範囲内にて回転駆動（即ち、揺動駆動）する。
【0046】
走査ミラー３２は、投光ユニット２１から入射する投光ビームＢｐを、反射面３３により反射して光学窓１３を通して検出領域Ａｄへと照射することで、当該領域Ａｄを走査モータ３５の回転角度に応じて走査する。このとき検出領域Ａｄに対しての投光ビームＢｐによる走査は、走査ミラー３２の回転駆動に従って、本実施形態では水平方向での走査に実質制限される。
【0047】
走査ミラー３２は、検出領域Ａｄの物標から光学窓１３を通して入射してくる反射ビームＢｒを、反射面３３により走査モータ３５の回転角度に応じて受光ユニット４１側へと反射する。このとき走査ミラー３２の回転運動速度に対しては、投光ビームＢｐ及び反射ビームＢｒの速度が十分に大きい。これにより反射ビームＢｒは、投光ビームＢｐに対する角度が実質同一回転角度と擬制可能な走査ミラー３２から反射作用を受けることで、投光ビームＢｐとは逆行するように受光ユニット４１側へと導光される。
【0048】
図１，４に示すように受光ユニット４１は、受光レンズモジュール４２、及び受光検出モジュール４５を含んで構成されている。受光レンズモジュール４２は、少なくとも一つの受光レンズ４２０が受光鏡筒４２１によって保持される構造に、構築されている。透光性の受光レンズ４２０は、例えば樹脂又はガラス等の基材を主体として、発揮する光学作用に応じたレンズ形状に形成されている。受光レンズ４２０は、走査ミラー３２からの反射ビームＢｒを受光検出モジュール４５へ結像させるように、光学作用を発揮する。受光レンズ４２０は、例えば金属又は樹脂等により筒状形成された遮光性の受光鏡筒４２１内に、位置決めされている。
【0049】
こうした構成の受光レンズモジュール４２は、受光光軸Ｏｒを形成するように、受光検出モジュール４５と位置合わせされている。ここで受光レンズモジュール４２の受光光軸Ｏｒは、投光レンズモジュール２６の投光光軸Ｏｐに対してＹ軸方向にずらされている。これにより、走査ミラー３２の反射面３３からＹ軸方向にずれて反射されてくる反射ビームＢｒは、受光レンズモジュール４２からの光学作用により、ＸＺ平面上の受光光軸Ｏｒに沿って受光検出モジュール４５側へと導光される。
【0050】
図５に示すように受光検出モジュール４５は、複数の受光画素４６が基板４５０上においてアレイ状に実装されることで、構築されている。各受光画素４６は、少なくともＹ軸方向に配列されている。各受光画素４６はさらに、それぞれ複数ずつの受光素子４６０としての、例えばシングルフォトンアバランシェダイオード（Single Photon Avalanche Diode）等から形成されている。
【0051】
図１，５に示すよう受光検出モジュール４５は、検出面４５６を、基板４５０の片面側に形成している。検出面４５６は、各受光画素４６における入射面の集合により、Ｙ軸方向に長手且つＸ軸方向に短手の長方形輪郭に構成されている。各受光画素４６は、受光レンズモジュール４２から検出面４５６へと入射したライン状の反射ビームＢｒを、受光光軸Ｏｒに沿って受光する。
【0052】
図１に示すように受光検出モジュール４５は、出力回路４７を有している。出力回路４７は、投光光源モジュール２２による投光ビームＢｐの投光周期に同期した、走査ミラー３２の回転角度に対応付けられる走査ライン別の検出フレームにおいて、制御ユニット５１からの制御信号に従う制御周期毎にサンプリング処理を実行する。このとき出力回路４７は、制御周期毎に各受光画素４６の受光素子４６０からの応答出力を合成することで、検出信号を生成する。こうして生成された検出信号は、出力回路４７から走査ライン別に制御ユニット５１へと出力される。
【0053】
制御ユニット５１は、外界の検出領域Ａｄに対する物標検出を、制御する。制御ユニット５１は、プロセッサ及びメモリを含むコンピュータの、少なくとも一つを主体として構築されている。制御ユニット５１は、投光光源モジュール２２、走査モータ３５、及び受光検出モジュール４５と接続されている。制御ユニット５１は、投光周期毎に投光ビームＢｐを生成するように、投光光源モジュール２２を制御する。それと共に制御ユニット５１は、投光光源モジュール２２による投光周期に同期した走査ミラー３２による走査及び反射を制御するように、走査モータ３５を制御する。さらに制御ユニット５１は、投光光源モジュール２２による投光周期、並びに走査ミラー３２による走査及び反射に合わせて受光検出モジュール４５から出力される検出信号を処理することで、検出領域Ａｄにおける物標の検出データを生成する。
【0054】
（詳細構成）
次に、ハウジング１１の詳細構成を説明する。ハウジング１１は、図６に示すセンサベース１４を、さらに含んで構成されている。
次に、ハウジング１１の詳細構成を説明する。ハウジング１１は、図６に示すセンサベース１４を、さらに含んで構成されている。
【0055】
遮光性のセンサベース１４は、例えば樹脂又は金属等の基材を主体として、外郭本体１２内を二分する隔壁状に形成されている。センサベース１４は、外郭本体１２により外周側から囲まれて保持されることで、光学窓１３の内面に片面を向き合わせて位置決めされている。このような位置決め状態においてセンサベース１４には、上述した定義の三次元座標系が想定されている。
【0056】
センサベース１４は、投光ユニット２１を位置決めするための投光ベース面１４２を、有している。投光ベース面１４２は、センサベース１４において光学窓１３側を向く片面からＸ軸方向へブロック状に突出する凸部の、側面に形成されている。投光ベース面１４２は、ＸＹ平面に沿って広がる平面状に、規定されている。即ち投光ベース面１４２は、Ｘ軸及びＹ軸に沿って広がっている。
【0057】
センサベース１４は、受光ユニット４１を位置決めするための受光ベース面１４４を、有している。受光ベース面１４４は、センサベース１４において光学窓１３側を向く片面からＸ軸方向へブロック状に突出する凸部の、側面に形成されている。受光ベース面１４４は、ＸＹ平面に沿って広がる平面状に、規定されている。即ち受光ベース面１４４は、Ｘ軸及びＹ軸に沿って広がっている。受光ベース面１４４は、投光ベース面１４２とは分離した、分離面状に構築されていてもよい。受光ベース面１４４は、投光ベース面１４２と連続する、連続面状に構築されていてもよい。尚、図６は、分離面状に構築されたベース面１４２，１４４の例を示している。
【0058】
次に、投光ユニット２１の詳細構成を説明する。図６，７に示すように投光ユニット２１において投光レンズモジュール２６は、Ｚ軸方向において投光光源モジュール２２に接着されている。
【0059】
具体的に投光レンズモジュール２６における投光鏡筒２６１は、投光光源モジュール２２とはＺ軸方向に対向する端面により、投光接着面２６４を形成している。投光光源モジュール２２において投光光源２４（図２参照）の複数実装された基板２２０を保持する投光ホルダ２２１は、投光レンズモジュール２６とはＺ軸方向に対向する端面により、投光接着面２２４を形成している。ここで遮光性の投光ホルダ２２１は、例えば樹脂又は金属等の基材を主体として筒状形成され、基板２２０を保持している。
【0060】
投光鏡筒２６１の投光接着面２６４と投光ホルダ２２１の投光接着面２２４との間には、投光光軸Ｏｐまわりの全周に連続して投光接着材２１０が介装されている。投光接着材２１０は、紫外線照射と加熱とのうち少なくとも前者により硬化可能な、例えばエポキシ樹脂等の紫外線熱併用型接着材である。硬化した投光接着材２１０を介して各モジュール２６，２２は、それぞれの投光接着面２６４，２２４にて互いに接着されている。
【0061】
投光ホルダ２２１は、センサベース１４に対する位置決め用の構造として、投光位置決め面２２２を有している。投光位置決め面２２２は、Ｙ軸及びＸ軸に沿って投光ベース面１４２により位置決めされている。そこで投光位置決め面２２２は、投光ベース面１４２との面接触によりセンサベース１４に直に位置決め支持されることで、Ｙ軸及びＸ軸に沿って広がる（即ちＸＹ平面上に広がる）平面状に、規定されている。
【0062】
投光ホルダ２２１は、投光ベース面１４２とは直交するＸＺ平面上に投光光軸Ｏｐを調整するように、センサベース１４の複数箇所に対して螺子留めされている。これにより、センサベース１４を含むハウジング１１は、投光光源モジュール２２を直接的に保持していると共に、当該投光光源モジュール２２を介して間接的に投光レンズモジュール２６を保持している。
【0063】
投光ユニット２１のうち投光鏡筒２６１においては、図７に示すようにＸ軸に直交する投光調整方向Ｄｐが、投光接着面２６４に沿って幾何学的に想定される。そこで投光ユニット２１では、投光光源モジュール２２における発光面２２６の光学中心Ｃｐが、投光レンズモジュール２６における投光レンズ２６０の主点Ｐｐに対して、投光調整方向Ｄｐに偏位するように構成されている。こうした偏位構成により投光光源モジュール２２と投光レンズモジュール２６とは、Ｙ軸方向に沿う投光ベース面１４２及び投光位置決め面２２２に対しては直交するＸＺ平面上に、投光光軸Ｏｐを共同して形成している。即ち投光ユニット２１に構築される偏位構成は、三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する投光基準平面Ｌｐ（図６参照）上としての、第一実施形態ではＸＺ平面上に、投光光軸Ｏｐを調整しているといえる。
【0064】
投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して発光面２２６の光学中心Ｃｐが投光調整方向Ｄｐに偏位する偏位量Δｐは、投光レンズモジュール２６の焦点距離を係数値ｆｐとした、下記の数１～３を満たしているとよい。ここで主点Ｐｐは、単一の投光レンズ２６０に関して、又は複数のうち代表的な少なくとも一つの投光レンズ２６０に関して、定義される。また、焦点距離を表す係数値ｆｐは、単一の投光レンズ２６０に関する単独値、又は複数の投光レンズ２６０に関する合成値（即ち、合成焦点距離）に、定義される。
【数1】
【数2】
【数3】
【0065】
具体的に数１は、Ｘ軸まわりにおいて投光ベース面１４２に対する投光接着面２６４の傾斜角θｐに相関する偏位量Δｐを、表している。一方で数２は、Ｘ軸まわりにおいて投光接着面２６４での法線方向Ｎｐの投光光軸Ｏｐに対する形成角ψｐに相関する偏位量Δｐを、表している。さらに数３は、Ｘ軸まわりにおいて投光接着面２６４に対する投光位置決め面２２２の姿勢角偏差ωｐに相関する偏位量Δｐを、表している。
【0066】
ここで傾斜角θｐ、形成角ψｐ、及び姿勢角偏差ωｐは、図７のＹＺ平面視において時計まわりを正且つ反時計まわりを負とする符号付き角度にいずれも定義されることで、下記数４を満たす相関関係にある。そこで、正のθｐ，ψｐ且つ負のωｐに対して偏位量Δｐは、図７のＹＺ平面視における投光調整方向Ｄｐでは主点Ｐｐから光学中心Ｃｐが右側に偏位している状態を表した、正の値を取る。一方、負のθｐ，ψｐ且つ正のωｐに対して偏位量Δｐは、ＹＺ平面視における投光調整方向Ｄｐでは主点Ｐｐから光学中心Ｃｐが左側に偏位している状態を表した、負の値を取る。尚、正負の符号は、これらの定義のうち少なくとも一つに関して、上記説明とは逆に定義されてもよい。
【数4】
【0067】
以下、第一実施形態による光学センサ１０の製造方法のうち、投光ユニット２１を製造する方法を、図８に示す製造フローに従って説明する。尚、図８の製造フローにおいて「Ｓ」は、投光ユニット２１を製造するための「製造工程」を、意味している。
【0068】
Ｓ１０１の投光セット工程は、投光レンズモジュール２６において投光レンズ２６０を保持する投光鏡筒２６１を、図９に示す製造装置１の固定治具２により位置固定する。それと共に投光セット工程は、投光光源モジュール２２において基板２２０を保持する投光ホルダ２２１の投光位置決め面２２２を、図９に示す製造装置１の可動ステージ３における可動ベース面３ａに一体駆動可能に取り付ける。さらに投光セット工程は、各モジュール２６，２２の投光接着面２６４，２２４間に、例えばゲル状等の未硬化状態にある投光接着材２１０を挟持させる。
【0069】
このとき投光接着材２１０の挟持下、投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して投光光源モジュール２２での発光面２２６の光学中心Ｃｐは、投光接着面２６４に沿ってＸ軸と直交する投光調整方向Ｄｐにおいて、可動ステージ３の駆動により位置合わせされる。そこで、図９の如き投光セット工程による初期状態の光学中心Ｃｐは、投光接着面２６４の法線方向Ｎｐにおいて主点Ｐｐと並ぶ初期中心Ｃｐ０に、設定される。
【0070】
次に、図８に示すＳ１０２の投光測定工程は、投光レンズモジュール２６における投光接着面２６４に対して、投光光源モジュール２２における投光位置決め面２２２の姿勢角偏差ωｐを、図１０に示す投光ビームＢｐの合焦状態においてＸ軸まわりに測定する。そのために投光測定工程では、投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐから設定距離のスクリーンにおいて投光ビームＢｐの、例えば結像サイズ等といった集光度合いを評価するデフォーカスにより、当該スクリーンの位置での合焦状態が探索される。ここで合焦状態とは、ライン状投光ビームＢｐが長手方向において全体的に許容錯乱円の範囲で合焦する状態を、意味するとよい。
【0071】
投光測定工程では、投光レンズモジュール２６に対する投光光源モジュール２２の相対姿勢が、投光接着面２６４に沿って初期中心Ｃｐ０上に想定されるＸ軸まわりに可動ステージ３によって微調整されることで、最適姿勢を与える合焦状態の探索が可能となる。そこで投光測定工程では、探索された合焦状態にある各モジュール２６，２２のＸ軸まわりでの相対姿勢を表す物理量として、投光接着面２６４に対する投光位置決め面２２２の姿勢角偏差ωｐが測定される。このとき姿勢角偏差ωｐの測定値は、可動ステージ３における可動ベース面３ａのＸ軸まわりでの姿勢角誤差により、補正されてもよい。
【0072】
次に、図８に示すＳ１０３の投光接着工程は、Ｓ１０２による姿勢角偏差ωｐの測定値に相関する偏位量Δｐ分、投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して投光光源モジュール２２での発光面２２６の光学中心Ｃｐを、図１１に示すように初期中心Ｃｐ０から投光調整方向Ｄｐに偏位させる。さらに投光接着工程は、投光接着面２６４，２２４間に挟持された投光接着材２１０を硬化させることで、そうした偏位状態の投光光源モジュール２２に対して投光レンズモジュール２６の投光接着面２６４を、当該投光接着材２１０を介して接着する。このとき投光接着材２１０は、少なくとも投光光軸Ｏｐまわりの外周側からの紫外線照射によって硬化する。投光接着材２１０は、こうした紫外線硬化に加えて、加熱硬化されてもよい。
【0073】
次に、図８に示すＳ１０４の投光位置決め工程は、Ｓ１０３により投光レンズモジュール２６の接着された投光光源モジュール２２における投光位置決め面２２２を、図７に示すように投光ベース面１４２により位置決めしてセンサベース１４に固定する。このとき、先の接着により投光ユニット２１として一体化された各モジュール２６，２２は、Ｓ１０２で測定の姿勢角偏差ωｐに応じたＳ１０３での偏位量Δｐに従う偏位構成によってＸ軸まわりに調整される投光光軸Ｏｐを、投光ベース面１４２と直交するＸＺ平面上に共同形成可能となる。
【0074】
次に、受光ユニット４１の詳細構成を説明する。図６，１２に示すように受光ユニット４１において受光レンズモジュール４２は、Ｚ軸方向において受光検出モジュール４５に接着されている。
【0075】
具体的に受光レンズモジュール４２における受光鏡筒４２１は、受光検出モジュール４５とはＺ軸方向に対向する端面により、受光接着面４２４を形成している。受光検出モジュール４５において受光画素４６（図５参照）の複数配列された基板４５０を保持する受光ホルダ４５１は、受光レンズモジュール４２とはＺ軸方向に対向する端面により、受光接着面４５４を形成している。ここで遮光性の受光ホルダ４５１は、例えば樹脂又は金属等の基材を主体として筒状形成され、基板４５０を保持している。
【0076】
受光鏡筒４２１の受光接着面４２４と受光ホルダ４５１の受光接着面４５４との間には、受光光軸Ｏｒまわりの全周に連続して受光接着材４１０が介装されている。受光接着材４１０も、紫外線照射と加熱とのうち少なくとも前者により硬化可能な、例えばエポキシ樹脂等の紫外線熱併用型接着材である。硬化した受光接着材４１０を介して各モジュール４２，４５は、それぞれの接着面４２４，４５４にて互いに接着されている。
【0077】
受光ホルダ４５１は、センサベース１４に対する位置決め用の構造として、受光位置決め面４５２を有している。受光位置決め面４５２は、Ｙ軸及びＸ軸のうち少なくともＹ軸に沿って受光ベース面１４４により位置決めされている。そこで受光位置決め面４５２は、受光ベース面１４４との間に複数シム４１１を介してセンサベース１４に位置決め支持されることで、Ｙ軸及びＸ軸のうち少なくともＹ軸に沿って広がる平面状に、規定されている。ここで各シム４１１は、例えば金属又は樹脂等により形成されて、Ｘ軸方向に並ぶ個別厚さの平板状を呈している。尚、図６，１２は、ＹＺ平面視（即ちＸ軸方向視）において、最も手前に位置するシム４１１のみを代表的に図示している。
【0078】
受光ホルダ４５１は、受光ベース面１４４とは直交するＸＺ平面上に受光光軸Ｏｒを調整するように、センサベース１４の複数箇所に対して螺子留めされている。これにより、センサベース１４を含むハウジング１１は、受光検出モジュール４５を直接的に保持していると共に、当該受光検出モジュール４５を介して間接的に受光レンズモジュール４２を保持している。
【0079】
受光ユニット４１のうち受光鏡筒４２１においては、図１２に示すようにＸ軸に直交する受光調整方向Ｄｒが、受光接着面４２４に沿って幾何学的に想定される。そこで受光ユニット４１では、受光検出モジュール４５における検出面４５６の光学中心Ｃｒが、受光レンズモジュール４２における受光レンズ４２０の主点Ｐｒに対して、受光調整方向Ｄｒに偏位するように構成されている。こうした偏位構成により受光検出モジュール４５と受光レンズモジュール４２とは、Ｙ軸方向に沿う受光ベース面１４４及び受光位置決め面４５２に対しては直交するＸＺ平面上に、受光光軸Ｏｒを共同して形成している。即ち受光ユニット４１に構築される偏位構成は、三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面Ｌｒ（図６参照）として、第一実施形態ではＸＺ平面上に、受光光軸Ｏｒを調整しているといえる。
【0080】
受光レンズモジュール４２の主点Ｐｒに対して検出面４５６の光学中心Ｃｒが受光調整方向Ｄｒに偏位する偏位量Δｒは、受光レンズモジュール４２の焦点距離を係数値ｆｒとした、下記の数５～７を満たしているとよい。ここで主点Ｐｒは、単一の受光レンズ４２０に関して、又は複数のうち代表的な少なくとも一つの受光レンズ４２０に関して、定義される。また、焦点距離を表す係数値ｆｒは、単一の受光レンズ４２０に関する単独値、又は複数の受光レンズ４２０に関する合成値（即ち、合成焦点距離）に、定義される。
【数5】
【数6】
【数7】
【0081】
具体的に数５は、Ｘ軸まわりにおいて受光ベース面１４４に対する受光接着面４２４の傾斜角θｒに相関する偏位量Δｒを、表している。一方で数６は、Ｘ軸まわりにおいて受光接着面４２４での法線方向Ｎｒの受光光軸Ｏｒに対する形成角ψｒに相関する偏位量Δｒを、表している。さらに数７は、Ｘ軸まわりにおいて受光接着面４２４に対する受光位置決め面４５２の姿勢角偏差ωｒに相関する偏位量Δｒを、表している。
【0082】
ここで傾斜角θｒ、形成角ψｒ、及び姿勢角偏差ωｒは、図１２のＹＺ平面視において時計まわりを正且つ反時計まわりを負とする符号付き角度にいずれも定義されることで、下記数８を満たす相関関係にある。そこで、負のθｒ，ψｒ且つ正のωｒに対して偏位量Δｒは、図１２のＹＺ平面視における受光調整方向Ｄｒでは主点Ｐｒから光学中心Ｃｒが左側に偏位している状態を表した、負の値を取る。一方、正のθｒ，ψｒ且つ負のωｒに対して偏位量Δｒは、ＹＺ平面視における受光調整方向Ｄｒでは主点Ｐｒから光学中心Ｃｒが右側に偏位している状態を表した、正の値を取る。尚、正負の符号は、これらの定義のうち少なくとも一つに関して、上記説明とは逆に定義されてもよい。
【数8】
【0083】
以下、第一実施形態による光学センサ１０の製造方法のうち、受光ユニット４１を製造する方法を、図１３に示す製造フローに従って説明する。尚、図１３の製造フローにおいて「Ｓ」は、受光ユニット４１を製造するための「製造工程」を、意味している。
【0084】
Ｓ２０１の受光セット工程は、受光レンズモジュール４２において受光レンズ４２０を保持する受光鏡筒４２１を、図１４に示す製造装置１の固定治具２により位置固定する。それと共に受光セット工程は、受光検出モジュール４５において基板４５０を保持する受光ホルダ４５１の受光位置決め面４５２を、図１４に示す製造装置１の可動ステージ３における可動ベース面３ａに一体駆動可能に取り付ける。さらに受光セット工程は、各モジュール４２，４５の受光接着面４２４，４５４間に、例えばゲル状等の未硬化状態にある受光接着材４１０を挟持させる。
【0085】
このとき受光接着材４１０の挟持下、受光レンズモジュール４２の主点Ｐｒに対して受光検出モジュール４５での検出面４５６の光学中心Ｃｒは、受光接着面４２４に沿ってＸ軸と直交する受光調整方向Ｄｒにおいて、可動ステージ３の駆動により位置合わせされる。そこで、図１４の如き受光セット工程による初期状態の光学中心Ｃｒは、受光接着面４２４の法線方向Ｎｒにおいて主点Ｐｒと並ぶ初期中心Ｃｒ０に、設定される。
【0086】
次に、図１３に示すＳ２０２の受光測定工程は、受光レンズモジュール４２における受光接着面４２４に対して、受光検出モジュール４５における受光位置決め面４５２の姿勢角偏差ωｒを、図１５に示す反射ビームＢｒの合焦状態においてＸ軸まわりに測定する。そのために受光測定工程では、受光検出モジュール４５の検出面４５６において反射ビームＢｒの、例えば結像サイズ又はエネルギー等といった集光度合いを評価するデフォーカスにより、当該検出面４５６の位置での合焦状態が探索される。ここで合焦状態とは、ライン状反射ビームＢｒが長手方向において全体的に許容錯乱円の範囲で合焦する状態を、意味するとよい。
【0087】
受光測定工程では、受光レンズモジュール４２に対する受光検出モジュール４５の相対姿勢が、受光接着面４２４に沿って初期中心Ｃｒ０上に想定されるＸ軸まわりに可動ステージ３によって微調整されることで、最適姿勢を与える合焦状態の探索が可能となる。そこで受光測定工程では、探索された合焦状態にある各モジュール４５，４２のＸ軸まわりでの相対姿勢を表す物理量として、受光接着面４２４に対する受光位置決め面４５２の姿勢角偏差ωｒが測定される。このとき姿勢角偏差ωｒの測定値は、可動ステージ３における可動ベース面３ａのＸ軸まわりでの姿勢角誤差により、補正されてもよい。
【0088】
次に、図１３に示すＳ２０３の受光接着工程は、Ｓ２０２による姿勢角偏差ωｒの測定値に相関する偏位量Δｒ分、受光レンズモジュール４２の主点Ｐｒに対して受光検出モジュール４５での検出面４５６の光学中心Ｃｒを、図１６に示すように初期中心Ｃｒ０から受光接着面４２４に沿った受光調整方向Ｄｒに偏位させる。そこでさらに受光接着工程は、受光接着面４２４，４５４間に挟持された受光接着材４１０を硬化させることで、そうした偏位状態の受光検出モジュール４５に対して受光レンズモジュール４２の受光接着面４２４を、当該受光接着材４１０を介して接着する。このとき受光接着材４１０は、少なくとも受光光軸Ｏｒまわりの外周側からの紫外線照射によって硬化する。受光接着材４１０は、こうした紫外線硬化に加えて、加熱硬化されてもよい。
【0089】
次に、図１３に示すＳ２０４の受光位置決め工程は、Ｓ２０３により受光レンズモジュール４２の接着された受光検出モジュール４５における受光位置決め面４５２を、図１２に示すように受光ベース面１４４により位置決めしてセンサベース１４に固定する。このとき、先の接着により受光ユニット４１として一体化された各モジュール４２，４５は、Ｓ２０２で測定の姿勢角偏差ωｒに応じたＳ２０３での偏位量Δｒに従う偏位構成によってＸ軸まわりに調整される受光光軸Ｏｒを、受光ベース面１４４と直交するＸＺ平面上に共同形成可能となる。
【0090】
ここで受光位置決め工程では、受光ユニット４１における受光光軸ＯｒのＹ軸まわり及びＺ軸まわりでの姿勢が、先に製造された投光ユニット２１における投光光軸ＯｐのＹ軸まわり及びＺ軸まわりでの姿勢に、合致させられる。そこで特に、受光検出モジュール４５の受光位置決め面４５２と受光ベース面１４４との間には、図１２に示すように受光光軸ＯｒのＹ軸まわりでの姿勢に応じた個別厚さの複数シム４１１が挟持されることになる。
【0091】
（作用効果）
ここまで説明した第一実施形態の作用効果を、以下に説明する。
ここまで説明した第一実施形態の作用効果を、以下に説明する。
【0092】
第一実施形態では、投光レンズモジュール２６の投光接着面２６４に接着される投光光源モジュール２２において投光位置決め面２２２が、センサベース１４の投光ベース面１４２によりＹ軸に沿って位置決めされる。そこで、投光光源モジュール２２における発光面２２６の光学中心Ｃｐが投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して、Ｘ軸に直交する投光調整方向Ｄｐに投光接着面２６４に沿って偏位することで、投光ベース面１４２とは直交するＸＺ平面上に投光光軸Ｏｐが調整される。こうした偏位構成によれば、各モジュール２６，２２内及び各モジュール２６，２２同士での傾きを含む製造公差を吸収しつつ、ＸＺ平面に合わせて投光光軸Ｏｐを調整することができる。故に、投光光軸Ｏｐの調整精度を確保することが、可能となる。
【0093】
第一実施形態によると、投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して発光面２２６の光学中心Ｃｐが投光調整方向Ｄｐに偏位する偏位量Δｐは、Ｘ軸まわりにおいて投光ベース面１４２に対する投光接着面２６４の傾斜角θｐに相関する。これは換言すれば、投光ベース面１４２に対する投光接着面２６４の傾斜角θｐが、ＸＺ平面に合わせた投光光軸Ｏｐを形成するための偏位量Δｐに対応した適正角度となり得ることを、意味する。故に、投光光軸Ｏｐを高精度に調整することが、可能となる。
【0094】
第一実施形態によると、投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して発光面２２６の光学中心Ｃｐが投光調整方向Ｄｐに偏位する偏位量Δｐは、Ｘ軸まわりにおいて投光接着面２６４における法線方向Ｎｐの投光光軸Ｏｐに対する形成角ψｐに相関する。これは換言すれば、投光接着面２６４における法線方向Ｎｐの投光光軸Ｏｐに対する形成角ψｐが、ＸＺ平面に合わせた投光光軸Ｏｐを形成するための偏位量Δｐに対応した適正角度となり得ることを、意味する。故に、投光光軸Ｏｐを高精度に調整することが、可能となる。
【0095】
第一実施形態によると、投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して発光面２２６の光学中心Ｃｐが投光調整方向Ｄｐに偏位する偏位量Δｐは、Ｘ軸まわりにおいて投光接着面２６４に対する投光位置決め面２２２の姿勢角偏差ωｐに相関する。これは換言すれば、投光接着面２６４に対する投光位置決め面２２２の姿勢角偏差ωｐが、ＸＺ平面に合わせた投光光軸Ｏｐを形成するための偏位量Δｐに対応した適正角度となり得ることを、意味する。故に、投光光軸Ｏｐを高精度に調整することが、可能となる。
【0096】
第一実施形態の製造方法では、投光レンズモジュール２６の投光接着面２６４が接着された投光光源モジュール２２において投光位置決め面２２２が、投光ベース面１４２により位置決めされてセンサベース１４に固定される。そこで、投光接着面２６４に対する投光位置決め面２２２のＸ軸まわりでの姿勢角偏差ωｐを測定した測定値に相関する偏位量Δｐ分、投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して発光面２２６の光学中心Ｃｐを投光調整方向Ｄｐに偏位させた状態で、センサベース１４への固定前にモジュール２６，２２同士が接着させられる。これは換言すれば、投光接着面２６４に対する投光位置決め面２２２の姿勢角偏差ωｐが、ＸＺ平面に合わせた投光光軸Ｏｐを形成するための偏位量Δｐに対応した適正角度となり得ることを、意味する。故に、投光光軸Ｏｐを高精度に調整することが、可能となる。
【0097】
さて第一実施形態では、受光レンズモジュール４２の受光接着面４２４に接着される受光検出モジュール４５において受光位置決め面４５２が、センサベース１４の受光ベース面１４４によりＹ軸に沿って位置決めされる。そこで、受光検出モジュール４５における検出面４５６の光学中心Ｃｒが受光レンズモジュール４２の主点Ｐｒに対して、Ｘ軸に直交する受光調整方向Ｄｒに受光接着面４２４に沿って偏位することで、受光ベース面１４４とは直交するＸＺ平面上に受光光軸Ｏｒが調整される。こうした偏位構成によれば、各モジュール４２，４５内及び各モジュール４２，４５同士での傾きを含む製造公差を吸収しつつ、ＸＺ平面に合わせて受光光軸Ｏｒを調整することができる。故に、受光光軸Ｏｒの調整精度を確保することが、可能となる。
【0098】
第一実施形態によると、受光レンズモジュール４２の主点Ｐｒに対して検出面４５６の光学中心Ｃｒが受光調整方向Ｄｒに偏位する偏位量Δｒは、Ｘ軸まわりにおいて受光ベース面１４４に対する受光接着面４２４の傾斜角θｒに相関する。これは換言すれば、受光ベース面１４４に対する受光接着面４２４の傾斜角θｒが、ＸＺ平面に合わせた受光光軸Ｏｒを形成するための偏位量Δｒに対応した適正角度となり得ることを、意味する。故に、受光光軸Ｏｒを高精度に調整することが、可能となる。
【0099】
第一実施形態によると、受光レンズモジュール４２の主点Ｐｒに対して検出面４５６の光学中心Ｃｒが受光調整方向Ｄｒに偏位する偏位量Δｒは、Ｘ軸まわりにおいて受光接着面４２４における法線方向Ｎｒの受光光軸Ｏｒに対する形成角ψｒに相関する。これは換言すれば、受光接着面４２４における法線方向Ｎｒの受光光軸Ｏｒに対する形成角ψｒが、ＸＺ平面に合わせた受光光軸Ｏｒを形成するための偏位量Δｒに対応した適正角度となり得ることを、意味する。故に、受光光軸Ｏｒを高精度に調整することが、可能となる。
【0100】
第一実施形態によると、受光レンズモジュール４２の主点Ｐｒに対して検出面４５６の光学中心Ｃｒが受光調整方向Ｄｒに偏位する偏位量Δｒは、Ｘ軸まわりにおいて受光接着面４２４に対する受光位置決め面４５２の姿勢角偏差ωｒに相関する。これは換言すれば、受光接着面４２４に対する受光位置決め面４５２の姿勢角偏差ωｒが、ＸＺ平面に合わせた受光光軸Ｏｒを形成するための偏位量Δｒに対応した適正角度となり得ることを、意味する。故に、受光光軸Ｏｒを高精度に調整することが、可能となる。
【0101】
さらに第一実施形態の製造方法では、受光レンズモジュール４２の受光接着面４２４が接着された受光検出モジュール４５において受光位置決め面４５２が、受光ベース面１４４により位置決めされてセンサベース１４に固定される。そこで、受光接着面４２４に対する受光位置決め面４５２のＸ軸まわりでの姿勢角偏差ωｒを測定した測定値に相関する偏位量Δｒ分、受光レンズモジュール４２の主点Ｐｒに対して検出面４５６の光学中心Ｃｒを受光調整方向Ｄｒに偏位させた状態で、センサベース１４への固定前にモジュール４２，４５同士が接着させられる。これは換言すれば、受光接着面４２４に対する受光位置決め面４５２の姿勢角偏差ωｒが、ＸＺ平面に合わせた受光光軸Ｏｒを形成するための偏位量Δｒに対応した適正角度となり得ることを、意味する。故に、受光光軸Ｏｒを高精度に調整することが、可能となる。
【0102】
（第二実施形態）
第二実施形態は、第一実施形態の変形例である。
第二実施形態は、第一実施形態の変形例である。
【0103】
図１７に示すように第二実施形態のハウジング２０１１は、内部のセンサベース１４から伝導した熱を外界へ放射するために、放熱部２０１６を有している。放熱部２０１６は、ハウジング２０１１の外郭本体１２において外界側へ平板状に突出する、複数の放熱フィンから構成されている。
【0104】
このような第二実施形態によると、センサベース１４を含んで構成されるハウジング２０１１の放熱部２０１６は、投光光源モジュール２２を介して投光レンズモジュール２６を保持するセンサベース１４から伝導した熱を、外界へ放射する。これによれば、投光光源モジュール２２の熱を効率的に放射して、投光レンズモジュール２６の熱変形に起因する投光光軸Ｏｐのずれを抑制することができる。しかも、比較的重い投光光源モジュール２２を介した、比較的軽い投光レンズモジュール２６の保持によれば、それらモジュール２２，２６の荷重バランスに応じた相対姿勢変化に起因する投光光軸Ｏｐのずれも、抑制することができる。故に、投光光軸Ｏｐの調整精度を継続的に確保することが、可能となる。
【0105】
同様に第二実施形態によると、ハウジング２０１１の放熱部２０１６は、受光検出モジュール４５を介して受光レンズモジュール４２を保持するセンサベース１４から伝導した熱を、外界へ放射する。これによれば、受光検出モジュール４５の熱を効率的に放射して、受光レンズモジュール４２の熱変形に起因する受光光軸Ｏｒのずれを抑制することができる。しかも、比較的重い受光検出モジュール４５を介した、比較的軽い受光レンズモジュール４２の保持によれば、それらモジュール４５，４２の荷重バランスに応じた相対姿勢変化に起因する受光光軸Ｏｒのずれも、抑制することができる。故に、受光光軸Ｏｒの調整精度を継続的に確保することが、可能となる。
【0106】
（第三実施形態）
第三実施形態は、第一実施形態の変形例である。
第三実施形態は、第一実施形態の変形例である。
【0107】
図１８，１９に示すように第三実施形態の投光光軸Ｏｐは、三次元座標系において投光ユニット２１に生じた投光誤差角δψｐに応じて、ＸＺ平面に対しては傾斜する投光基準平面Ｌｐ上に、調整されている。こうした投光誤差角δψｐは、投光接着材２１０の硬化収縮に起因する製造公差として、想定される。そこで、投光光軸Ｏｐに投光誤差角δψｐの生じた第三実施形態の受光ユニット４１における偏位構成は、第一実施形態の数１～数４に代えて、下記の数９～１２を満たしているとよい。
【数9】
【数10】
【数11】
【数12】
【0108】
ここで数９～１１のΔｐａは、投光接着材２１０の硬化収縮が想定される場合に、第一実施形態に準じた硬化収縮前における偏位量Δｐ（後述の図２２参照）に対して、硬化収縮後における偏位量Δｐａを意味する。それと共に数９～１１のΔψｐａは、投光接着材２１０の硬化収縮が想定される場合に、第一実施形態に準じた硬化収縮前における法線方向Ｎｐの投光光軸Ｏｐに対する形成角ψｐに対して、硬化収縮後における形成角ψｐａを意味する。尚、以下の説明では、数１２を構成する姿勢角偏差ωｐを特に、投光姿勢角偏差ωｐという。
【0109】
図１８，２０に示すように第三実施形態の受光光軸Ｏｒは、三次元座標系において受光ユニット４１に生じた受光誤差角δψｒと、上述した投光誤差角δψｐとの相関に応じて、ＸＺ平面に対しては傾斜する受光基準平面Ｌｒ上に、調整されている。こうした受光誤差角δψｒは、受光接着材４１０の硬化収縮に起因する製造公差として、想定される。そこで、受光光軸Ｏｒに受光誤差角δψｒの生じた第三実施形態の受光ユニット４１における偏位構成は、第一実施形態の数５～数８に代えて、下記の数１３～１６を満たしているとよい。
【数13】
【数14】
【数15】
【数16】
【0110】
ここで数１３～１５のΔｒａは、受光接着材４１０の硬化収縮が想定される場合に、第一実施形態に準じた硬化収縮前における偏位量Δｒ（後述の図２４参照）に対して、硬化収縮後における偏位量Δｒａを意味する。それと共に数１３～１５のΔψｒａは、受光接着材４１０の硬化収縮が想定される場合に、第一実施形態に準じた硬化収縮前における法線方向Ｎｒの受光光軸Ｏｒに対する形成角ψｒに対して、硬化収縮後における形成角ψｒａを意味する。尚、以下の説明では、数１５を構成する姿勢角偏差ωｒを特に、受光姿勢角偏差ωｒという。
【0111】
図１８～２０に示すように、第三実施形態において投光光軸Ｏｐの調整は、数９～１２を満たす偏位構成下、投光位置決め面２２２及び投光ベース面１４２間の投光位置決め箇所に構築された、直接的な位置決め構造により実現されている。一方、第三実施形態において受光光軸Ｏｒの調整は、数１３～１６を満たす偏位構成下、受光位置決め面４５２及び受光ベース面１４４間の受光位置決め箇所に受光位置決めシム３４１１を介装された、間接的な位置決め構造により実現されている。この間接的位置決め構造を与える受光位置決めシム３４１１は、三次元座標系での投光誤差角δψｐと受光誤差角δψｒとの相関に応じた楔角ρｒを、受光位置決め面４５２及び受光ベース面１４４間に形成している。これらの複合的な位置決め構造により、互いに実質平行となる投光基準平面Ｌｐ上と受光基準平面Ｌｒ上とにおいては、それぞれ投光光軸Ｏｐと受光光軸Ｏｒとが互いに沿って実質同方向に調整されている。
【0112】
図２１に示すように、第三実施形態による光学センサ１０の製造方法は、投光ユニット２１を製造する投光シーケンスと、受光ユニット４１を製造する受光シーケンスとを、互いに関連付けて実行する。尚、図２１の製造フローにおいて「Ｓ」は、投光シーケンスの「製造工程」と受光シーケンスの「製造工程」とを、それぞれ意味している。
【0113】
投光シーケンスにおいてＳ１０１～Ｓ１０３は、第一実施形態と同様に実行される。次に、投光シーケンスにおいて追加されるＳ３１０４の投光測定工程は、投光接着材２１０の硬化により投光光源モジュール２２と接着された投光レンズモジュール２６の投光光軸Ｏｐに、図２２に示すＳ１０２での測定状態から、図２３に示すように生じた投光誤差角δψｐを測定する。そこで追加の投光測定工程では、投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐから設定距離のスクリーンにおいて投光ビームＢｐの合焦状態が第一実施形態のＳ１０２に準じて三次元探索されることで、当該合焦状態のズレに応じた投光光軸Ｏｐの投光誤差角δψｐが三次元測定される。
【0114】
このとき投光誤差角δψｐの測定値は、可動ステージ３における可動ベース面３ａの三次元での姿勢角誤差により、補正されてもよい。但し、Ｓ３１０４においてＳ１０２とは異なる可動ステージ３により、Ｓ１０２での可動ベース面３ａの姿勢が再現されるような場合には、Ｓ１０２，Ｓ３１０４の各々における可動ベース面３ａの姿勢角誤差により、補正されるとよい。
【0115】
次に、図２１に示す投光シーケンスにおいてＳ３１０５の投光位置決め工程は、第一実施形態のＳ１０４に準ずる。即ちＳ３１０５の投光位置決め工程は、Ｓ１０３により投光レンズモジュール２６の接着された投光光源モジュール２２における投光位置決め面２２２を、図１９の如く投光ベース面１４２により直に位置決めしてセンサベース１４に固定する。但しこのとき、一体化された各モジュール２６，２２は、Ｓ１０２で測定の投光姿勢角偏差ωｐとＳ３１０４で測定の投光誤差角δψｐとに応じて偏位量Δｐａが上述の数９～１２を満たす偏位構成下、投光光軸Ｏｐを投光基準平面Ｌｐ上に共同形成可能となる。
【0116】
一方、受光シーケンスにおけるＳ２０１～Ｓ２０３は、第一実施形態と同様に実行される。次に、受光シーケンスにおいて追加されるＳ３２０４の受光測定工程は、受光接着材４１０の硬化により受光検出モジュール４５と接着された受光レンズモジュール４２の受光光軸Ｏｒに、図２４に示すＳ２０２での測定状態から、図２５に示すように生じた受光誤差角δψｒを測定する。そこで追加の受光測定工程では、受光検出モジュール４５の検出面４５６において反射ビームＢｒの合焦状態が第一実施形態のＳ２０２に準じて三次元探索されることで、当該合焦状態のズレに応じた受光光軸Ｏｒの受光誤差角δψｒが三次元測定される。
【0117】
このとき受光誤差角δψｒの測定値は、可動ステージ３における可動ベース面３ａの三次元での姿勢角誤差により、補正されてもよい。但し、Ｓ３２０４においてＳ２０２とは異なる可動ステージ３により、Ｓ２０２での可動ベース面３ａの姿勢が再現されるような場合には、Ｓ２０２，Ｓ３２０４の各々における可動ベース面３ａの姿勢角誤差により、補正されるとよい。
【0118】
次に、図２１に示す受光シーケンスにおいてＳ３２０５の受光シム調整工程は、投光光軸Ｏｐと受光光軸Ｏｒとが互いに沿うように受光位置決め面４５２及び受光ベース面１４４間の受光位置決め箇所に介装される、受光位置決めシム３４１１の楔角ρｒを調整する。
【0119】
このとき、投光シーケンスのＳ３１０４で測定の投光誤差角δψｐと、受光シーケンスのＳ３２０４で測定の受光誤差角δψｒとが、それらＳ３１０４，Ｓ３２０４の各工程から申し送りされる。そこで受光シム調整工程は、下記の数１７に基づくことにより、投光誤差角δψｐと受光誤差角δψｒとの相関として、受光誤差角δψｒからの投光誤差角δψｐの差分となる相対誤差角に、受光位置決めシム３４１１の楔角ρｒ（図２０参照）を調整する。
【数17】
【0120】
次に、図２１に示す受光シーケンスにおいてＳ３２０６の受光位置決め工程は、第一実施形態のＳ２０４とは異なっている。即ちＳ３２０６の受光位置決め工程は、Ｓ２０３により受光レンズモジュール４２の接着された受光検出モジュール４５における受光位置決め面４５２を、図２０の如く受光位置決めシム３４１１を介して受光ベース面１４４により位置決めしてセンサベース１４に固定する。このとき、一体化された各モジュール４２，４５は、Ｓ２０２で測定の受光姿勢角偏差ωｒとＳ３２０４で測定の受光誤差角δψｒとに応じて偏位量Δｒａが上述の数１３～１６を満たす偏位構成下、受光光軸Ｏｒを受光基準平面Ｌｒ上に共同形成可能となる。
【0121】
このように第三実施形態では、受光位置決め面４５２及び受光ベース面１４４の間の受光位置決め箇所に、受光位置決めシム３４１１が介装される。これによれば、接着時の硬化収縮に起因した偏位構成の製造公差に応じて投光光軸Ｏｐ及び／又は受光光軸Ｏｒに、投光誤差角δψｐ及び／又は受光誤差角δψｒが生じたとしても、それら光軸Ｏｐ，Ｏｒの方向を互いに合致させて当該製造公差を吸収することができる。故に、投光光軸Ｏｐ及び受光光軸Ｏｒの調整精度を、相互間にて確保することが可能となる。
【0122】
さらに第三実施形態の製造方法では、投光姿勢角偏差ωｐを測定した測定値に相関する偏位量Δｐ分、投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して発光面２２６の光学中心Ｃｐを投光調整方向Ｄｐに偏位させた状態で、モジュール２６，２２同士が接着させられる。それと共に第三実施形態の製造方法では、受光姿勢角偏差ωｒを測定した測定値に相関する偏位量Δｒ分、受光レンズモジュール４２の主点Ｐｒに対して検出面４５６の光学中心Ｃｒを受光調整方向Ｄｒに偏位させた状態で、モジュール４２，４５同士が接着させられる。
【0123】
但し第三実施形態の製造方法では、投光接着材２１０の硬化により投光光源モジュール２２と接着された投光レンズモジュール２６の投光光軸Ｏｐに、投光接着材２１０の硬化収縮に起因する製造公差に応じた投光誤差角δψｐが、生じたとしても測定される。それと共に、受光接着材４１０の硬化により受光検出モジュール４５と接着された受光レンズモジュール４２の受光光軸Ｏｒに、受光接着材４１０の硬化収縮に起因する製造公差に応じた受光誤差角δψｒが、生じたとしても測定される。これらのことから、投光光軸Ｏｐと受光光軸Ｏｒとの方向を互いに合致させるため、投光誤差角δψｐと受光誤差角δψｒとの相関に応じて、受光位置決めシム３４１１の楔角ρｒが正確に調整され得る。
【0124】
そこで第三実施形態の製造方法によると、投光位置決め面２２２が投光ベース面１４２により直に位置決め固定される一方、受光位置決め面４５２が受光ベース面１４４により受光位置決めシム３４１１を介して位置決め固定される。故に、投光光軸Ｏｐ及び受光光軸Ｏｒの調整精度を、それら光軸Ｏｐ，Ｏｒの方向同士の合致によって確保することが可能となる。
【0125】
（第四実施形態）
第四実施形態は、第一実施形態の変形例である。
第四実施形態は、第一実施形態の変形例である。
【0126】
図２６～２８に示すように、第四実施形態において受光光軸Ｏｒの調整は、第三実施形態に準じて数１３～１６を満たす偏位構成下、受光位置決め面４５２及び受光ベース面１４４間の受光位置決め箇所に構築された、直接的な位置決め構造により実現されている。一方、第四実施形態において投光光軸Ｏｐの調整は、第三実施形態に準じて数９～１２を満たす偏位構成下、投光位置決め面２２２及び投光ベース面１４２間の投光位置決め箇所に投光位置決めシム４２１１を介装された、間接的な位置決め構造により実現されている。この間接的位置決め構造を与える投光位置決めシム４２１１は、三次元座標系での投光誤差角δψｐと受光誤差角δψｒとの相関に応じた楔角ρｐを、投光位置決め面２２２及び投光ベース面１４２間に形成している。これらの複合的な位置決め構造により、互いに実質平行となる投光基準平面Ｌｐ上と受光基準平面Ｌｒ上とにおいては、それぞれ投光光軸Ｏｐと受光光軸Ｏｒとが互いに沿って実質同方向に調整されている。
【0127】
図２９に示すように、第四実施形態による光学センサ１０の製造方法では、受光シーケンスにおいて第三実施形態から、Ｓ３２０５が省かれると共に、Ｓ３２０６がＳ４２０５の受光位置決め工程に変更される。具体的にＳ４２０５の受光位置決め工程は、Ｓ２０３により受光レンズモジュール４２の接着された受光検出モジュール４５における受光位置決め面４５２を、図２８の如く受光ベース面１４４により直に位置決めしてセンサベース１４に固定する。このとき、一体化された各モジュール４２，４５は、Ｓ２０２で測定の受光姿勢角偏差ωｒとＳ３２０４で測定の受光誤差角δψｒとに応じて偏位量Δｒａが数１３～１６を満たす偏位構成下、受光光軸Ｏｒを受光基準平面Ｌｒ上に共同形成可能となる。
【0128】
図２９に示すように、第四実施形態による光学センサ１０の製造方法では、投光シーケンスにおいて、第三実施形態からＳ３１０５がＳ４１０６の投光位置決め工程に変更され、さらにＳ３１０４と当該Ｓ４１０６との間にＳ４１０５の投光シム調整工程が追加される。具体的にＳ４１０５の投光シム調整工程は、投光光軸Ｏｐと受光光軸Ｏｒとが互いに沿うように投光位置決め面２２２及び投光ベース面１４２間の投光位置決め箇所に介装される、投光位置決めシム４２１１の楔角ρｐを調整する。
【0129】
このとき、投光シーケンスのＳ３１０４で測定の投光誤差角δψｐと、受光シーケンスのＳ３２０４で測定の受光誤差角δψｒとが、それらＳ３１０４，Ｓ３２０４の各工程から申し送りされる。そこで投光シム調整工程は、下記の数１８に基づくことにより、投光誤差角δψｐと受光誤差角δψｒとの相関として、投光誤差角δψｐからの受光誤差角δψｒの差分となる相対誤差角に、投光位置決めシム４２１１の楔角ρｐ（図２７参照）を調整する。
【数18】
【0130】
さらにＳ４１０６の投光位置決め工程は、Ｓ１０３により投光レンズモジュール２６の接着された投光光源モジュール２２における投光位置決め面２２２を、図２７の如く投光位置決めシム４２１１を介して投光ベース面１４２により位置決めしてセンサベース１４に固定する。このとき、一体化された各モジュール２６，２２は、Ｓ１０２で測定の投光姿勢角偏差ωｐとＳ３１０４で測定の投光誤差角δψｐとに応じて偏位量Δｐａが数９～１２を満たす偏位構成下、投光光軸Ｏｐを投光基準平面Ｌｐ上に共同形成可能となる。
【0131】
このように第四実施形態では、投光位置決め面２２２及び投光ベース面１４２の間の投光位置決め箇所に、投光位置決めシム４２１１が介装される。これによれば、接着時の硬化収縮に起因した偏位構成の製造公差に応じて投光光軸Ｏｐ及び／又は受光光軸Ｏｒに、投光誤差角δψｐ及び／又は受光誤差角δψｒが生じたとしても、それら光軸Ｏｐ，Ｏｒの方向を互いに合致させて当該製造公差を吸収することができる。故に、投光光軸Ｏｐ及び受光光軸Ｏｒの調整精度を、相互間にて確保することが可能となる。
【0132】
さらに第四実施形態の製造方法では、投光姿勢角偏差ωｐを測定した測定値に相関する偏位量Δｐ分、投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して発光面２２６の光学中心Ｃｐを投光調整方向Ｄｐに偏位させた状態で、モジュール２６，２２同士が接着させられる。それと共に第四実施形態の製造方法では、受光姿勢角偏差ωｒを測定した測定値に相関する偏位量Δｒ分、受光レンズモジュール４２の主点Ｐｒに対して検出面４５６の光学中心Ｃｒを受光調整方向Ｄｒに偏位させた状態で、モジュール４２，４５同士が接着させられる。
【0133】
但し第四実施形態の製造方法では、投光接着材２１０の硬化により投光光源モジュール２２と接着された投光レンズモジュール２６の投光光軸Ｏｐに、投光接着材２１０の硬化収縮に起因する製造公差に応じた投光誤差角δψｐが、生じたとしても測定される。それと共に、受光接着材４１０の硬化により受光検出モジュール４５と接着された受光レンズモジュール４２の受光光軸Ｏｒに、受光接着材４１０の硬化収縮に起因する製造公差に応じた受光誤差角δψｒが、生じたとしても測定される。これらのことから、投光光軸Ｏｐと受光光軸Ｏｒとの方向を互いに合致させるため、投光誤差角δψｐと受光誤差角δψｒとの相関に応じて、投光位置決めシム４２１１の楔角ρｐが正確に調整され得る。
【0134】
そこで第四実施形態の製造方法によると、受光位置決め面４５２が受光ベース面１４４により直に位置決め固定される一方、投光位置決め面２２２が投光ベース面１４２により投光位置決めシム４２１１を介して位置決め固定される。故に、投光光軸Ｏｐ及び受光光軸Ｏｒの調整精度を、それら光軸Ｏｐ，Ｏｒの方向同士の合致によって確保することが可能となる。
【0135】
（第五実施形態）
第五実施形態は、第三実施形態と第四実施形態とを組み合わせて、さらに変形を加えた変形例である。
第五実施形態は、第三実施形態と第四実施形態とを組み合わせて、さらに変形を加えた変形例である。
【0136】
図３０～３２に示すように、第五実施形態において投光光軸Ｏｐの調整は、第三実施形態に準じて数９～１２を満たす偏位構成下、投光位置決め面２２２及び投光ベース面１４２間の投光位置決め箇所に投光位置決めシム４２１１を介装された、間接的な位置決め構造により実現されている。但し、この間接的位置決め構造を与える投光位置決めシム４２１１は、三次元座標系での投光誤差角δψｐのみに応じた楔角ρｐを、投光位置決め面２２２及び投光ベース面１４２間に形成している。
【0137】
一方、第五実施形態において受光光軸Ｏｒの調整は、第三実施形態に準じて数１３～１６を満たす偏位構成下、受光位置決め面４５２及び受光ベース面１４４間の受光位置決め箇所に受光位置決めシム３４１１を介装された、間接的な位置決め構造により実現されている。但し、この間接的位置決め構造を与える受光位置決めシム３４１１は、三次元座標系での受光誤差角δψｒのみに応じた楔角ρｒを、受光位置決め面４５２及び受光ベース面１４４間に形成している。
【0138】
このような第五実施形態の複合的な位置決め構造によっても、互いに実質平行となる投光基準平面Ｌｐ上と受光基準平面Ｌｒ上とにおいては、それぞれ投光光軸Ｏｐと受光光軸Ｏｒとが互いに沿って実質同方向に調整されている。ここで投光基準平面Ｌｐと受光基準平面Ｌｒとはいずれも、ＸＺ平面に沿って規定される。これにより投光光軸Ｏｐと受光光軸Ｏｒとは、Ｙ軸方向に互いにずれたＸＺ平面上にそれぞれ調整されて、互いに沿う関係を実現している。
【0139】
図３３に示すように、第五実施形態による光学センサ１０の製造方法では、投光シーケンスにおいて第四実施形態から、Ｓ４１０５がＳ５１０５の投光シム調整工程に変更される。具体的にＳ５１０５の投光シム調整工程には、投光シーケンスのＳ３１０４で測定の投光誤差角δψｐが、申し送りされる。そこで投光シム調整工程は、下記の数１９に基づくことにより、投光誤差角δψｐのみと相関する角度に、投光位置決めシム４２１１の楔角ρｐ（図３１参照）を調整する。尚、この調整後におけるＳ４１０６の投光位置決め工程は、第四実施形態に準ずる。
【数19】
【0140】
また図３３に示すように、第五実施形態による光学センサ１０の製造方法では、受光シーケンスにおいて第三実施形態から、Ｓ３２０５がＳ５２０５の受光シム調整工程に変更される。具体的にＳ５２０５の受光シム調整工程には、受光シーケンスのＳ３２０４で測定の受光誤差角δψｒが、申し送りされる。そこで受光シム調整工程は、下記の数２０に基づくことにより、受光誤差角δψｒのみと相関する角度に、受光位置決めシム３４１１の楔角ρｒ（図３２参照）を調整する。尚、この調整後におけるＳ３２０６の受光位置決め工程は、第三実施形態に準ずる。
【数20】
【0141】
このように第五実施形態では、投光位置決め面２２２及び投光ベース面１４２の間の投光位置決め箇所と、受光位置決め面４５２及び受光ベース面１４４の間の受光位置決め箇所とにそれぞれ、投光位置決めシム４２１１と受光位置決めシム３４１１とが介装される。これによれば、接着時の硬化収縮に起因した偏位構成の製造公差に応じて投光光軸Ｏｐ及び／又は受光光軸Ｏｒに、投光誤差角δψｐ及び／又は受光誤差角δψｒが生じたとしても、それら光軸Ｏｐ，Ｏｒの方向を互いに合致させて当該製造公差を吸収することができる。故に、投光光軸Ｏｐ及び受光光軸Ｏｒの調整精度を、相互間にて確保することが可能となる。
【0142】
さらに第五実施形態の製造方法では、投光姿勢角偏差ωｐを測定した測定値に相関する偏位量Δｐ分、投光レンズモジュール２６の主点Ｐｐに対して発光面２２６の光学中心Ｃｐを投光調整方向Ｄｐに偏位させた状態で、モジュール２６，２２同士が接着させられる。それと共に第四実施形態の製造方法では、受光姿勢角偏差ωｒを測定した測定値に相関する偏位量Δｒ分、受光レンズモジュール４２の主点Ｐｒに対して検出面４５６の光学中心Ｃｒを受光調整方向Ｄｒに偏位させた状態で、モジュール４２，４５同士が接着させられる。
【0143】
但し第五実施形態の製造方法では、投光接着材２１０の硬化により投光光源モジュール２２と接着された投光レンズモジュール２６の投光光軸Ｏｐに、投光接着材２１０の硬化収縮に起因する製造公差に応じた投光誤差角δψｐが、生じたとしても測定される。それと共に、受光接着材４１０の硬化により受光検出モジュール４５と接着された受光レンズモジュール４２の受光光軸Ｏｒに、受光接着材４１０の硬化収縮に起因する製造公差に応じた受光誤差角δψｒが、生じたとしても測定される。これらのことから、投光光軸Ｏｐと受光光軸Ｏｒとの方向を互いに合致させるため、投光誤差角δψｐと受光誤差角δψｒとのそれぞれに応じて、投光位置決めシム４２１１の楔角ρｐと受光位置決めシム３４１１の楔角ρｒとが正確に調整され得る。
【0144】
そこで第五実施形態の製造方法によると、投光位置決め面２２２が投光ベース面１４２により投光位置決めシム４２１１を介して位置決め固定されると共に、受光位置決め面４５２が受光ベース面１４４により受光位置決めシム３４１１を介して位置決め固定される。故に、投光光軸Ｏｐ及び受光光軸Ｏｒの調整精度を、それら光軸Ｏｐ，Ｏｒの方向同士の合致によって確保することが可能となる。
【0145】
（他の実施形態）
以上、複数の実施形態について説明したが、本開示は、それらの実施形態に限定して解釈されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲内において種々の実施形態及び組み合わせに適用することができる。
以上、複数の実施形態について説明したが、本開示は、それらの実施形態に限定して解釈されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲内において種々の実施形態及び組み合わせに適用することができる。
【0146】
第一及び第二実施形態に関する変形例では、数４が成立しないことで、数１～３のいずれかが成立していなくてもよい。第一及び第二実施形態に関する変形例では、数８が成立しないことで、数５～７のいずれかが成立していなくてもよい。第一及び第二実施形態に関する変形例では、ユニット２１，４１のうちいずれか一方が、上述した偏位構成を備えていなくてもよい。
【0147】
第三～第五実施形態に関する変形例では、第一実施形態で説明の数１２が成立しないことで、数９～１１のいずれかが成立していなくてもよい。第三～第五実施形態に関する変形例では、第一実施形態で説明の数１６が成立しないことで、数１３～１５のいずれかが成立していなくてもよい。第三～第五実施形態に関する変形例では、第二実施形態が適用されてもよい。
【0148】
第一～第五実施形態に関する変形例では、水平方向に沿うＹ軸方向と、鉛直方向に沿うＸ軸方向とが、規定されてもよい。第一～第五実施形態に関する変形例では、光学センサ１０の適用対象となる移動体は、例えば走行をリモート制御可能な走行ロボット等であってもよい。変形例において光学センサ１０の適用対象は、移動体以外、例えば静止構造物等であってもよい。
【0149】
（付言）
本明細書には、以下に列挙する複数の技術的思想と、それらの複数の組み合わせが開示されている。
本明細書には、以下に列挙する複数の技術的思想と、それらの複数の組み合わせが開示されている。
【0150】
（技術的思想１）
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
投光位置決め面（２２２）を有し、前記投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
前記投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、前記投光光源モジュールからの前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
前記投光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、投光ベース面（１４２）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が前記投光接着面に沿って想定されるとすると、
前記投光光源モジュールにおける前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記投光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記投光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記投光光軸が調整される光学センサ。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
投光位置決め面（２２２）を有し、前記投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
前記投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、前記投光光源モジュールからの前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
前記投光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、投光ベース面（１４２）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が前記投光接着面に沿って想定されるとすると、
前記投光光源モジュールにおける前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記投光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記投光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記投光光軸が調整される光学センサ。
【0151】
（技術的思想２）
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
投光位置決め面（２２２）を有し、前記投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
前記投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、前記投光光源モジュールからの前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
前記投光位置決め面を位置決めする投光ベース面（１４２）を、前記Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が前記投光接着面に沿って想定されるとすると、
前記投光光源モジュールにおける前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記投光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する投光基準平面（Ｌｐ）上に前記投光光軸が調整される光学センサ。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
投光位置決め面（２２２）を有し、前記投光ビームを発光面（２２６）から投光する投光光源モジュール（２２）と、
前記投光光源モジュールに接着される投光接着面（２６４）を有し、前記投光光源モジュールからの前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）と、
前記投光位置決め面を位置決めする投光ベース面（１４２）を、前記Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する投光調整方向（Ｄｐ）が前記投光接着面に沿って想定されるとすると、
前記投光光源モジュールにおける前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記投光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する投光基準平面（Ｌｐ）上に前記投光光軸が調整される光学センサ。
【0152】
（技術的思想３）
前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光調整方向に偏位する偏位量（Δｐ，Δｐａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記投光ベース面に対する前記投光接着面の傾斜角（θｐ）に相関する技術的思想１又は２に記載の光学センサ。
前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光調整方向に偏位する偏位量（Δｐ，Δｐａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記投光ベース面に対する前記投光接着面の傾斜角（θｐ）に相関する技術的思想１又は２に記載の光学センサ。
【0153】
（技術的思想４）
前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光調整方向に偏位する偏位量（Δｐ，Δｐａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記投光接着面での法線方向（Ｎｐ）の前記投光光軸に対する形成角（ψｐ，ψｐａ）に相関する技術的思想１～３のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光調整方向に偏位する偏位量（Δｐ，Δｐａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記投光接着面での法線方向（Ｎｐ）の前記投光光軸に対する形成角（ψｐ，ψｐａ）に相関する技術的思想１～３のいずれか一項に記載の光学センサ。
【0154】
（技術的思想５）
前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光調整方向に偏位する偏位量（Δｐ，Δｐａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の姿勢角偏差（ωｐ）に相関する技術的思想１～４のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）が前記投光調整方向に偏位する偏位量（Δｐ，Δｐａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の姿勢角偏差（ωｐ）に相関する技術的思想１～４のいずれか一項に記載の光学センサ。
【0155】
（技術的思想６）
前記センサベースを含んで構成されるハウジング（２０１１）を、備え、
前記ハウジングは、前記投光光源モジュールを介して前記投光レンズモジュールを保持する前記センサベースから伝導した熱を前記外界へ放射する、放熱部（２０１６）を有する技術的思想１～５のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記センサベースを含んで構成されるハウジング（２０１１）を、備え、
前記ハウジングは、前記投光光源モジュールを介して前記投光レンズモジュールを保持する前記センサベースから伝導した熱を前記外界へ放射する、放熱部（２０１６）を有する技術的思想１～５のいずれか一項に記載の光学センサ。
【0156】
（技術的思想７）
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
前記センサベースは、前記受光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、受光ベース面（１４４）を有し、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記受光光軸が調整される技術的思想１、及び技術的思想１に従属する技術的思想３～６のうちいずれか一項に記載の光学センサ。
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
前記センサベースは、前記受光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、受光ベース面（１４４）を有し、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記受光光軸が調整される技術的思想１、及び技術的思想１に従属する技術的思想３～６のうちいずれか一項に記載の光学センサ。
【0157】
（技術的思想８）
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
前記受光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、受光ベース面（１４４）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記受光光軸が調整される光学センサ。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
前記受光位置決め面を前記Ｙ軸に沿って位置決めする、受光ベース面（１４４）を有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系において前記受光ベース面とは直交するＸＺ平面上に前記受光光軸が調整される光学センサ。
【0158】
（技術的思想９）
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
前記センサベースは、前記受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、前記Ｙ軸に沿って有し、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に前記受光光軸が調整される技術的思想２、及び技術的思想２に従属する技術的思想３～６のうちいずれか一項に記載の光学センサ。
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）とを、備え、
前記センサベースは、前記受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、前記Ｙ軸に沿って有し、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に前記受光光軸が調整される技術的思想２、及び技術的思想２に従属する技術的思想３～６のうちいずれか一項に記載の光学センサ。
【0159】
（技術的思想１０）
前記三次元座標系において前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように、前記投光位置決め面及び前記投光ベース面の間の投光位置決め箇所と、前記受光位置決め面及び前記受光ベース面の間の受光位置決め箇所とのうち、少なくとも一方に介装される位置決めシム（３４１１，４２１１）を、備える技術的思想９に記載の光学センサ。
前記三次元座標系において前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように、前記投光位置決め面及び前記投光ベース面の間の投光位置決め箇所と、前記受光位置決め面及び前記受光ベース面の間の受光位置決め箇所とのうち、少なくとも一方に介装される位置決めシム（３４１１，４２１１）を、備える技術的思想９に記載の光学センサ。
【0160】
（技術的思想１１）
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
前記受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、前記Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に前記受光光軸が調整される光学センサ。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサであって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
受光位置決め面（４５２）を有し、前記反射ビームを検出面（４５６）において受光することにより、前記外界を検出する受光検出モジュール（４５）と、
前記受光検出モジュールに接着される受光接着面（４２４）を有し、前記外界側からの前記反射ビームを受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記受光検出モジュール側へ導光する受光レンズモジュール（４２）と、
前記受光位置決め面を位置決めする受光ベース面（１４４）を、前記Ｙ軸に沿って有するセンサベース（１４）とを、備え、
前記Ｘ軸に直交する受光調整方向（Ｄｒ）が前記受光接着面に沿って想定されるとすると、
前記受光検出モジュールにおける前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記受光調整方向に偏位することにより、前記三次元座標系においてＹＺ平面とは直交する受光基準平面（Ｌｒ）上に前記受光光軸が調整される光学センサ。
【0161】
（技術的思想１２）
前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光調整方向に偏位する偏位量（Δｒ，Δｒａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記受光ベース面に対する前記受光接着面の傾斜角（θｒ）に相関する技術的思想７～１１のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光調整方向に偏位する偏位量（Δｒ，Δｒａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記受光ベース面に対する前記受光接着面の傾斜角（θｒ）に相関する技術的思想７～１１のいずれか一項に記載の光学センサ。
【0162】
（技術的思想１３）
前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光調整方向に偏位する偏位量（Δｒ，Δｒａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記受光接着面での法線方向（Ｎｒ）の前記受光光軸に対する形成角（ψｒ，ψｒａ）に相関する技術的思想７～１２のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光調整方向に偏位する偏位量（Δｒ，Δｒａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記受光接着面での法線方向（Ｎｒ）の前記受光光軸に対する形成角（ψｒ，ψｒａ）に相関する技術的思想７～１２のいずれか一項に記載の光学センサ。
【0163】
（技術的思想１４）
前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光調整方向に偏位する偏位量（Δｒ，Δｒａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の姿勢角偏差（ωｒ）に相関する技術的思想７～１３のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）が前記受光調整方向に偏位する偏位量（Δｒ，Δｒａ）は、前記Ｘ軸まわりにおいて前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の姿勢角偏差（ωｒ）に相関する技術的思想７～１３のいずれか一項に記載の光学センサ。
【0164】
（技術的思想１５）
前記センサベースを含んで構成されるハウジング（２０１１）を、備え、
前記ハウジングは、前記受光検出モジュールを介して前記受光レンズモジュールを保持する前記センサベースから伝導した熱を前記外界へ放射する、放熱部（２０１６）を有する技術的思想７～１４のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記センサベースを含んで構成されるハウジング（２０１１）を、備え、
前記ハウジングは、前記受光検出モジュールを介して前記受光レンズモジュールを保持する前記センサベースから伝導した熱を前記外界へ放射する、放熱部（２０１６）を有する技術的思想７～１４のいずれか一項に記載の光学センサ。
【0165】
（技術的思想１６）
技術的思想１～７のいずれか一項に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を接着することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
技術的思想１～７のいずれか一項に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を接着することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
【0166】
（技術的思想１７）
技術的思想７～１５のいずれか一項に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を接着することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
技術的思想７～１５のいずれか一項に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
当該姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を接着することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
【0167】
（技術的思想１８）
技術的思想１０、及び技術的思想１０に従属する技術的思想１２～１５のうちいずれか一項に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記受光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を前記投光誤差角と前記受光誤差角との相関に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により直に位置決めして前記センサベースに固定することとを、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により前記受光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
技術的思想１０、及び技術的思想１０に従属する技術的思想１２～１５のうちいずれか一項に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記受光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を前記投光誤差角と前記受光誤差角との相関に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により直に位置決めして前記センサベースに固定することとを、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により前記受光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
【0168】
（技術的思想１９）
技術的思想１０、及び技術的思想１０に従属する技術的思想１２～１５のうちいずれか一項に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記投光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）を前記投光誤差角と前記受光誤差角との相関に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により前記投光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により直に位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
技術的思想１０、及び技術的思想１０に従属する技術的思想１２～１５のうちいずれか一項に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記投光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）を前記投光誤差角と前記受光誤差角との相関に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により前記投光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により直に位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
【0169】
（技術的思想２０）
技術的思想１０、及び技術的思想１０に従属する技術的思想１２～１５のうちいずれか一項に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記投光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）を前記投光誤差角に応じて調整することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記受光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を前記受光誤差角に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により前記投光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により前記受光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
技術的思想１０、及び技術的思想１０に従属する技術的思想１２～１５のうちいずれか一項に記載の光学センサを製造する製造方法であって、
前記投光接着面に対する前記投光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの投光姿勢角偏差（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｐ）分、前記投光レンズモジュールの主点（Ｐｐ）に対して前記発光面の光学中心（Ｃｐ）を前記投光調整方向に偏位させた状態の前記投光光源モジュールに対して、前記投光レンズモジュールの前記投光接着面を投光接着材（２１０）を介して接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（δψｐ）を、測定することと、
前記受光接着面に対する前記受光位置決め面の前記Ｘ軸まわりでの受光姿勢角偏差（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光姿勢角偏差の測定値に相関する偏位量（Δｒ）分、前記受光レンズモジュールの主点（Ｐｒ）に対して前記検出面の光学中心（Ｃｒ）を前記受光調整方向に偏位させた状態の前記受光検出モジュールに対して、前記受光レンズモジュールの前記受光接着面を受光接着材（４１０）を介して接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（δψｒ）を、測定することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記投光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、投光位置決めシム（４２１１）の楔角（ρｐ）を前記投光誤差角に応じて調整することと、
前記投光光軸と前記受光光軸とが互いに沿うように前記受光位置決め箇所に介装される前記位置決めシムである、受光位置決めシム（３４１１）の楔角（ρｒ）を前記受光誤差角に応じて調整することと、
前記投光レンズモジュールの接着された前記投光光源モジュールにおいて前記投光位置決め面を、前記投光ベース面により前記投光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することと、
前記受光レンズモジュールの接着された前記受光検出モジュールにおいて前記受光位置決め面を、前記受光ベース面により前記受光位置決めシムを介して位置決めして前記センサベースに固定することとを、含む製造方法。
【符号の説明】
【0170】
１０：光学センサ、１４：センサベース、２２：投光光源モジュール、２６：投光レンズモジュール、４２：受光レンズモジュール、４５：受光検出モジュール、１４２：投光ベース面、１４４：受光ベース面、２１０：投光接着材、２２２：投光位置決め面、２２６：発光面、２６４：投光接着面、４１０：受光接着材、４２４：受光接着面、４５２：受光位置決め面、４５６：検出面、２０１１：ハウジング、２０１６：放熱部、３４１１：受光位置決めシム、４２１１：投光位置決めシム、Ｂｐ：投光ビーム、Ｂｒ：反射ビーム、Ｃｐ，Ｃｒ：光学中心、Ｄｐ：投光調整方向、Ｄｒ：受光調整方向、Ｎｐ，Ｎｒ：法線方向、Ｌｐ：投光基準面、Ｌｒ：受光基準面、Ｏｐ：投光光軸、Ｏｒ：受光光軸、Ｐｐ，Ｐｒ：主点、Δｐ，Δｒ：偏位量、δψｐ：投光誤差角、δψｒ：受光誤差角、θｐ，θｒ：傾斜角、ψｐ，ψｒ：形成角、ρｐ，ρｒ：楔角、ωｐ，ωｒ：姿勢角偏差
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】