(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024115831
(43)【公開日】2024-08-27
(54)【発明の名称】成膜装置
(51)【国際特許分類】
C23C 14/24 20060101AFI20240820BHJP
【ＦＩ】
C23C14/24 G
【審査請求】未請求
【請求項の数】17
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023021696
(22)【出願日】2023-02-15
(71)【出願人】
【識別番号】000146009
【氏名又は名称】株式会社昭和真空
(74)【代理人】
【識別番号】110000121
【氏名又は名称】ＩＡＴ弁理士法人
(72)【発明者】
【氏名】簗瀬 健介
(72)【発明者】
【氏名】中里 隼
(72)【発明者】
【氏名】村木 啓太
【テーマコード（参考）】
4K029
【Ｆターム（参考）】
4K029AA09
4K029AA11
4K029CA01
4K029DB21
4K029HA01
4K029HA02
4K029HA04
4K029JA03
4K029JA05
4K029JA06
4K029JA08
(57)【要約】
【課題】成膜対象物の成膜対象面全面に亘って均一な光学特性を得ることができる成膜装置を提供することにある。
【解決手段】この発明は、真空容器２内に公転パレット４を公転軸Ａ１周りに回転可能に配置し、公転パレット４に自転ホルダ５を自転軸Ａ２周りに回転可能に配置し、公転パレット４に、自転ホルダ５に保持される成膜対象物１０の成膜対象面１１の一部分を覆うマスク６を、配置する。この結果、この発明は、真空容器２内で自公転する成膜対象物１０の成膜対象面１１のうち、膜厚が厚く形成される部分をマスク６で覆って、膜厚部分に蒸着する蒸発物質３１を遮蔽することができる。これにより、この発明は、成膜対象物１０の成膜対象面１１に膜を全面に亘って均一に形成することができるので、成膜対象面１１全面に亘って均一な光学特性を得ることができる。
【選択図】 図１
【解決手段】この発明は、真空容器２内に公転パレット４を公転軸Ａ１周りに回転可能に配置し、公転パレット４に自転ホルダ５を自転軸Ａ２周りに回転可能に配置し、公転パレット４に、自転ホルダ５に保持される成膜対象物１０の成膜対象面１１の一部分を覆うマスク６を、配置する。この結果、この発明は、真空容器２内で自公転する成膜対象物１０の成膜対象面１１のうち、膜厚が厚く形成される部分をマスク６で覆って、膜厚部分に蒸着する蒸発物質３１を遮蔽することができる。これにより、この発明は、成膜対象物１０の成膜対象面１１に膜を全面に亘って均一に形成することができるので、成膜対象面１１全面に亘って均一な光学特性を得ることができる。
【選択図】 図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
成膜対象物の成膜対象面に膜を形成する成膜装置であって、
真空容器と、
前記真空容器内に配置されている蒸発源と、
前記真空容器内に公転軸周りに回転可能に配置されている少なくとも１枚の公転パレットと、
前記公転パレットを前記公転軸周りに回転させる公転駆動部と、
前記公転パレットに自転軸周りに回転可能に配置されていて、前記成膜対象物を保持する少なくとも１個の自転ホルダと、
前記自転ホルダを前記自転軸周りに回転させる自転駆動部と、
前記自転ホルダに保持される前記成膜対象物の前記成膜対象面の一部分を覆って、前記蒸発源から蒸発して前記成膜対象面に蒸着する蒸発物質の一部を遮蔽する少なくとも１個のマスクと、
を備える、
ことを特徴とする成膜装置。
真空容器と、
前記真空容器内に配置されている蒸発源と、
前記真空容器内に公転軸周りに回転可能に配置されている少なくとも１枚の公転パレットと、
前記公転パレットを前記公転軸周りに回転させる公転駆動部と、
前記公転パレットに自転軸周りに回転可能に配置されていて、前記成膜対象物を保持する少なくとも１個の自転ホルダと、
前記自転ホルダを前記自転軸周りに回転させる自転駆動部と、
前記自転ホルダに保持される前記成膜対象物の前記成膜対象面の一部分を覆って、前記蒸発源から蒸発して前記成膜対象面に蒸着する蒸発物質の一部を遮蔽する少なくとも１個のマスクと、
を備える、
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項2】
前記マスクは、前記自転軸に対して前記蒸発源と反対側に配置されていて、前記成膜対象物の前記成膜対象面のうち、前記自転軸に対して前記蒸発源と反対側の部分を覆って、前記蒸発源から蒸発して前記成膜対象面に蒸着する前記蒸発物質の一部を遮蔽する、
ことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
ことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項3】
前記マスクは、前記自転ホルダに保持される前記成膜対象物を挟んで前記自転ホルダと反対側に配置されていて、前記自転軸方向から見て、前記成膜対象物の前記成膜対象面のうち、前記自転軸に対応する部分から周辺の一部分にかけての範囲を覆って、前記蒸発源から蒸発して前記成膜対象面に蒸着する前記蒸発物質の一部を遮蔽する、
ことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
ことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
【請求項4】
前記公転パレットには、複数個の前記自転ホルダと複数個の前記マスクとが一対一の状態で配置されていて、
複数個の前記マスクは、
固定部と、
前記固定部にそれぞれ取り付けられていて、前記蒸発源との相対位置関係に基づいて前記蒸発物質の遮蔽面積を調整する取付部と、
を有する、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
複数個の前記マスクは、
固定部と、
前記固定部にそれぞれ取り付けられていて、前記蒸発源との相対位置関係に基づいて前記蒸発物質の遮蔽面積を調整する取付部と、
を有する、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項5】
前記固定部は、板部材であり、
前記取付部は、複数個の移動部材であり、前記固定部に移動可能に取り付けられていて、移動量を調整することにより前記遮蔽面積を調整する、
ことを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
前記取付部は、複数個の移動部材であり、前記固定部に移動可能に取り付けられていて、移動量を調整することにより前記遮蔽面積を調整する、
ことを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
【請求項6】
前記固定部は、板部材であり、
前記取付部は、少なくとも１枚の回転部材であり、前記固定部に回転可能に取り付けられていて、回転量を調整することにより前記遮蔽面積を調整する、
ことを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
前記取付部は、少なくとも１枚の回転部材であり、前記固定部に回転可能に取り付けられていて、回転量を調整することにより前記遮蔽面積を調整する、
ことを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
【請求項7】
前記固定部は、辺部に複数個の凹部が設けられている板部材であり、
前記取付部は、複数個の球部材であり、複数個の前記凹部に着脱可能に取り付けられていて、直径を調整することにより前記遮蔽面積を調整する、
ことを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
前記取付部は、複数個の球部材であり、複数個の前記凹部に着脱可能に取り付けられていて、直径を調整することにより前記遮蔽面積を調整する、
ことを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
【請求項8】
前記固定部は、磁性体、または、前記磁性体に磁力により着脱可能に着く磁石のいずれか一方であり、
複数個の前記取付部は、前記磁性体または前記磁石のいずれか他方である、
ことを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
複数個の前記取付部は、前記磁性体または前記磁石のいずれか他方である、
ことを特徴とする請求項４に記載の成膜装置。
【請求項9】
前記公転パレットには、複数個の前記自転ホルダと複数個の前記マスクとが一対一の状態で配置されていて、
複数個の前記マスクの形状は、同一であり、
複数個の前記マスクは、前記蒸発源との相対位置関係に基づいて前記マスクと前記成膜対象面との間の距離を調整して前記蒸発物質の遮蔽面積を調整する距離調整機構を、有する、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
複数個の前記マスクの形状は、同一であり、
複数個の前記マスクは、前記蒸発源との相対位置関係に基づいて前記マスクと前記成膜対象面との間の距離を調整して前記蒸発物質の遮蔽面積を調整する距離調整機構を、有する、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項10】
前記距離調整機構は、固定部と、前記固定部に前記自転軸方向と平行な方向に移動可能に取り付けられていて、移動調整することにより前記マスクと前記成膜対象面との間の距離を調整する可動部と、を有する、
ことを特徴とする請求項９に記載の成膜装置。
ことを特徴とする請求項９に記載の成膜装置。
【請求項11】
前記距離調整機構は、固定部と、前記固定部に前記自転軸方向に対して交差する方向に移動可能に取り付けられていて、移動調整することにより前記マスクと前記成膜対象面との間の距離を調整する可動部と、を有する、
ことを特徴とする請求項９に記載の成膜装置。
ことを特徴とする請求項９に記載の成膜装置。
【請求項12】
前記自転ホルダは、第１ホルダ部と、前記第１ホルダ部に着脱可能に取り付けられることにより前記成膜対象物を位置出しして保持する第２ホルダ部とを、有し、
前記第１ホルダ部は、磁性体、または、前記磁性体に磁力により着脱可能に着く磁石のいずれか一方であり、
前記第２ホルダ部は、前記磁性体または前記磁石のいずれか他方である、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
前記第１ホルダ部は、磁性体、または、前記磁性体に磁力により着脱可能に着く磁石のいずれか一方であり、
前記第２ホルダ部は、前記磁性体または前記磁石のいずれか他方である、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項13】
前記公転パレットには、複数個の前記自転ホルダが配置されていて、
複数個の前記自転ホルダと前記自転駆動部との間には、前記自転駆動部の回転力を複数個の前記自転ホルダに伝達する回転力伝達機構が、設けられている、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
複数個の前記自転ホルダと前記自転駆動部との間には、前記自転駆動部の回転力を複数個の前記自転ホルダに伝達する回転力伝達機構が、設けられている、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項14】
前記回転力伝達機構は、Ｏリングである、
ことを特徴とする請求項１３に記載の成膜装置。
ことを特徴とする請求項１３に記載の成膜装置。
【請求項15】
前記回転力伝達機構は、非接触磁力回転体である、
ことを特徴とする請求項１３に記載の成膜装置。
ことを特徴とする請求項１３に記載の成膜装置。
【請求項16】
前記公転パレットは、板形状をなし、
前記公転パレットの一板面には、前記自転ホルダおよび前記マスクが配置されていて、
前記公転パレットの前記一板面は、前記公転軸に対して傾斜して、前記蒸発源に向いていて、
前記蒸発源は、前記公転軸に対してずれた位置に配置されている、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
前記公転パレットの一板面には、前記自転ホルダおよび前記マスクが配置されていて、
前記公転パレットの前記一板面は、前記公転軸に対して傾斜して、前記蒸発源に向いていて、
前記蒸発源は、前記公転軸に対してずれた位置に配置されている、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【請求項17】
複数枚の前記公転パレットは、板形状をなし、前記真空容器内に、前記公転軸上に頂点を有する角錐の側面に沿って配置されていて、
複数枚の前記公転パレットの一板面には、前記自転ホルダおよび前記マスクが配置されていて、
複数枚の前記公転パレットの前記一板面は、前記公転軸に対して傾斜して、前記蒸発源に向いていて、
前記蒸発源は、前記公転軸に対してずれた位置に配置されている、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
複数枚の前記公転パレットの一板面には、前記自転ホルダおよび前記マスクが配置されていて、
複数枚の前記公転パレットの前記一板面は、前記公転軸に対して傾斜して、前記蒸発源に向いていて、
前記蒸発源は、前記公転軸に対してずれた位置に配置されている、
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、成膜装置に関する。
【背景技術】
【0002】
成膜対象物の成膜対象面に膜を形成する成膜装置としては、たとえば、特許文献１に示すものがある。以下、特許文献１の膜形成装置について説明する。
【0003】
特許文献１の膜形成装置は、成膜室と、成膜室内に配置されているレンズ支持装置および蒸着源と、を含んでいる。レンズ支持装置は、自公転機構（プラネタリ機構）を備え、膜形成対象のレンズをレンズ光軸が蒸着源からの蒸着物質垂直上昇方向に対し傾斜する姿勢で支持し、レンズを公転駆動および自転駆動させる。蒸着源は、蒸着物質をレンズに蒸着させて、レンズ面に膜を形成する。
【0004】
かかる膜形成装置においては、レンズの品質を向上させるために、レンズ面に膜を、膜厚が全面に亘って均一になるように、形成することが重要である。
【0005】
近年、仮想現実（ＶＲ（Ｖｉｒｔｕａｌ Ｒｅａｌｉｔｙ））機器のヘッドマウントディスプレイに広く使用されるレンズは、曲率の大きいレンズである。このため、曲率の大きいレンズの品質の向上が求められている。曲率の大きいレンズとは、レンズ周縁部でのレンズ面の傾斜角度（レンズ光軸に垂直な面に対する傾斜角度）が大きいレンズのことを言う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開２００６-９１６００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、特許文献１の膜形成装置は、レンズをレンズ光軸が蒸着源からの蒸着物質垂直上昇方向に対し傾斜する姿勢で支持して公転駆動および自転駆動させ、蒸着源からの蒸着物質をレンズに蒸着させるものである。このため、特許文献１の膜形成装置は、レンズ面の中央部分、周辺部分、その中間部分の各位置において、レンズ面と蒸着源との向き合う角度、および、レンズ面と蒸着源との向き合う時間が、レンズの自公転に伴って変化し、蒸着物質をレンズ面に、蒸着物質の膜厚が全面に亘って均一になるように、蒸着させることが難しい。これにより、特許文献１の膜形成装置は、レンズ面において、反射率や透過率などの光学特性のバラツキが発生して、全面に亘って均一な光学特性を得ることが難しい。特に、曲率の大きいレンズの場合は、レンズ面の中央部分の蒸着物質の膜厚が厚く、レンズ面の周辺部分の蒸着物質の膜厚が薄くなる傾向にあり、レンズ面全面に亘って均一な光学特性を得ることがさらに難しい。
【0008】
この発明が解決しようとする課題は、成膜対象物（レンズ）の成膜対象面（レンズ面）全面に亘って均一な光学特性を得ることができる成膜装置を提供することにある。この発明が解決しようとする課題は、特に、曲率の大きいレンズの場合であっても、成膜対象物（レンズ）の成膜対象面（レンズ面）全面に亘って均一な光学特性を得ることができる成膜装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
この発明の第１の観点の成膜装置は、課題を解決するために、成膜対象物の成膜対象面に膜を形成する成膜装置であって、真空容器と、前記真空容器内に配置されている蒸発源と、前記真空容器内に公転軸周りに回転可能に配置されている少なくとも１枚の公転パレットと、前記公転パレットを前記公転軸周りに回転させる公転駆動部と、前記公転パレットに自転軸周りに回転可能に配置されていて、前記成膜対象物を保持する少なくとも１個の自転ホルダと、前記自転ホルダを前記自転軸周りに回転させる自転駆動部と、前記自転ホルダに保持される前記成膜対象物の前記成膜対象面の一部分を覆って、前記蒸発源から蒸発して前記成膜対象面に蒸着する蒸発物質の一部を遮蔽する少なくとも１個のマスクと、を備える、ことを特徴とする。
【0010】
また、上述の発明においては、前記マスクは、前記自転軸に対して前記蒸発源と反対側に配置されていて、前記成膜対象物の前記成膜対象面のうち、前記自転軸に対して前記蒸発源と反対側の部分を覆って、前記蒸発源から蒸発して前記成膜対象面に蒸着する前記蒸発物質の一部を遮蔽する、ことが望ましい。
【0011】
また、上述の発明においては、前記マスクは、前記自転ホルダに保持される前記成膜対象物を挟んで前記自転ホルダと反対側に配置されていて、前記自転軸方向から見て、前記成膜対象物の前記成膜対象面のうち、前記自転軸に対応する部分から周辺の一部分にかけての範囲を覆って、前記蒸発源から蒸発して前記成膜対象面に蒸着する蒸発物質の一部を遮蔽する、ことが望ましい。
【0012】
また、上述の発明においては、前記公転パレットには、複数個の前記自転ホルダと複数個の前記マスクとが一対一の状態で配置されていて、複数個の前記マスクは、固定部と、前記固定部にそれぞれ取り付けられていて、前記蒸発源との相対位置関係に基づいて前記蒸発物質の遮蔽面積を調整する取付部と、を有する、ことが望ましい。
【0013】
また、上述の発明においては、前記固定部は、板部材であり、前記取付部は、複数個の移動部材であり、前記固定部に移動可能に取り付けられていて、移動量を調整することにより前記遮蔽面積を調整する、ことが望ましい。
【0014】
また、上述の発明においては、前記固定部は、板部材であり、前記取付部は、少なくとも１枚の回転部材であり、前記固定部に回転可能に取り付けられていて、回転量を調整することにより前記遮蔽面積を調整する、ことが望ましい。
【0015】
また、上述の発明においては、前記固定部は、辺部に複数個の凹部が設けられている板部材であり、
前記取付部は、複数個の球部材であり、複数個の前記凹部に着脱可能に取り付けられていて、直径を調整することにより前記遮蔽面積を調整する、ことが望ましい。
前記取付部は、複数個の球部材であり、複数個の前記凹部に着脱可能に取り付けられていて、直径を調整することにより前記遮蔽面積を調整する、ことが望ましい。
【0016】
また、上述の発明においては、前記固定部は、磁性体、または、前記磁性体に磁力により着脱可能に着く磁石のいずれか一方であり、複数個の前記取付部は、前記磁性体または前記磁石のいずれか他方である、ことが望ましい。
【0017】
また、上述の発明においては、前記公転パレットには、複数個の前記自転ホルダと複数個の前記マスクとが一対一の状態で配置されていて、複数個の前記マスクの形状は、同一であり、複数個の前記マスクは、前記蒸発源との相対位置関係に基づいて前記マスクと前記成膜対象面との間の距離を調整して前記蒸発物質の遮蔽面積を調整する距離調整機構を、有する、ことが望ましい。
【0018】
また、上述の発明においては、前記距離調整機構は、固定部と、前記固定部に前記自転軸方向と平行な方向に移動可能に取り付けられていて、移動調整することにより前記マスクと前記成膜対象面との間の距離を調整する可動部と、を有する、ことが望ましい。
【0019】
また、上述の発明においては、前記距離調整機構は、固定部と、前記固定部に前記自転軸方向に対して交差する方向に移動可能に取り付けられていて、移動調整することにより前記マスクと前記成膜対象面との間の距離を調整する可動部と、を有する、ことが望ましい。
【0020】
また、上述の発明においては、前記自転ホルダは、第１ホルダ部と、前記第１ホルダ部に着脱可能に取り付けられることにより前記成膜対象物を位置出しして保持する第２ホルダ部とを、有し、前記第１ホルダ部は、磁性体、または、前記磁性体に磁力により着脱可能に着く磁石のいずれか一方であり、
前記第２ホルダ部は、前記磁性体または前記磁石のいずれか他方である、ことが望ましい。
前記第２ホルダ部は、前記磁性体または前記磁石のいずれか他方である、ことが望ましい。
【0021】
また、上述の発明においては、前記公転パレットには、複数個の前記自転ホルダが配置されていて、複数個の前記自転ホルダと前記自転駆動部との間には、前記自転駆動部の回転力を複数個の前記自転ホルダに伝達する回転力伝達機構が、設けられている、ことが望ましい。
【0022】
また、上述の発明においては、前記回転力伝達機構は、Ｏリングである、ことが望ましい。
【0023】
また、上述の発明においては、前記回転力伝達機構は、非接触磁力回転体である、ことが望ましい。
【0024】
また、上述の発明においては、前記公転パレットは、板形状をなし、前記公転パレットの一板面には、前記自転ホルダおよび前記マスクが配置されていて、前記公転パレットの前記一板面は、前記公転軸に対して傾斜して、前記蒸発源に向いていて、前記蒸発源は、前記公転軸に対してずれた位置に配置されている、ことが望ましい。
【0025】
また、上述の発明においては、複数枚の前記公転パレットは、板形状をなし、前記真空容器内に、前記公転軸上に頂点を有する角錐の側面に沿って配置されていて、複数枚の前記公転パレットの一板面には、前記自転ホルダおよび前記マスクが配置されていて、複数枚の前記公転パレットの前記一板面は、前記公転軸に対して傾斜して、前記蒸発源に向いていて、前記蒸発源は、前記公転軸に対してずれた位置に配置されている、ことが望ましい。
【発明の効果】
【0026】
この発明の成膜装置は、成膜対象物の成膜対象面全面に亘って均一な光学特性を得ることができる。また、この発明の成膜装置は、特に、曲率の大きいレンズの場合であっても、成膜対象物の成膜対象面全面に亘って均一な光学特性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【0027】
【発明を実施するための形態】
【0028】
以下、この発明にかかる成膜装置の実施形態（実施例）の５例を図面に基づいて説明する。なお、図面は、この発明にかかる成膜装置を示す概略図であるから、この発明にかかる成膜装置の主要部品を図示し、主要部品以外の部品の図示を省略する。また、ハッチングの一部が省略されている。図３においては、成膜対象物（レンズ）、自転ホルダおよびマスクを省略している。
【0029】
【0030】
（成膜装置１の説明）
この実施形態１にかかる成膜装置１は、図１に示すように、真空容器（チャンバー）２と、蒸発源３および電子銃３０と、８枚の公転パレット４と、公転駆動部４０と、１枚の公転パレット４にそれぞれ６個ずつ配置されている自転ホルダ５と、自転駆動部５０と、１枚の公転パレット４にそれぞれ６個ずつ自転ホルダ５と一対一の状態で配置されているマスク６と、を備える。成膜装置１は、成膜対象物１０の成膜対象面１１に膜（後記の蒸発物質３１）を形成する。
この実施形態１にかかる成膜装置１は、図１に示すように、真空容器（チャンバー）２と、蒸発源３および電子銃３０と、８枚の公転パレット４と、公転駆動部４０と、１枚の公転パレット４にそれぞれ６個ずつ配置されている自転ホルダ５と、自転駆動部５０と、１枚の公転パレット４にそれぞれ６個ずつ自転ホルダ５と一対一の状態で配置されているマスク６と、を備える。成膜装置１は、成膜対象物１０の成膜対象面１１に膜（後記の蒸発物質３１）を形成する。
【0031】
成膜対象物１０は、図１、図２、図４から図９に示すように、円形の凸レンズであって、鍔形状の周縁部（レンズ周縁部）１２を有する。成膜対象物１０は、この例では、樹脂部材から構成されている。なお、成膜対象物１０は、樹脂部材以外の部材、たとえば、ガラスから構成されていても良い。また、成膜対象物１０は、この例では、仮想現実（ＶＲ（Ｖｉｒｔｕａｌ Ｒｅａｌｉｔｙ））機器のヘッドマウントディスプレイに広く使用されるレンズであって、曲率の大きい凸レンズである。また、成膜対象面１１は、この例では、曲率の大きい凸曲面のレンズ面である。成膜対象面１１の直径は、この例では、５０ｍｍである。成膜対象面１１の曲率は、この例では、Ｒ２５である。成膜対象面１１の直径によらずこの発明の効果が得られるが、直径が３０ｍｍ以上で特に有効である。
【0032】
なお、成膜対象面１１は、前記の曲率の大きい凸曲面以外の面、凹曲面、球面、非球面、平面、もしくは、これらの面を組み合わせた面などであっても良い。また、成膜対象物１０の成膜対象面１１に対して反対側の面は、接眼側の面１３であって、周縁部１２側の面であり、この例では、凹曲面をなしている。
【0033】
（真空容器２の説明）
真空容器２は、図１に示すように、天井と、床と、壁（この例では、４枚の壁）とにより、部屋２０を形成する。真空容器２の部屋２０は、真空状態にある。
真空容器２は、図１に示すように、天井と、床と、壁（この例では、４枚の壁）とにより、部屋２０を形成する。真空容器２の部屋２０は、真空状態にある。
【0034】
（蒸発源３および電子銃３０の説明）
蒸発源３および電子銃３０は、図１および図３に示すように、真空容器２内の床に配置されている。蒸発源３は、後記の公転軸Ａ１に対してずれた位置に配置されている。蒸発源３には、蒸着物質が収容されている。電子銃３０は、電子ビーム３２を蒸発源３の蒸着物質に照射する。蒸発物質は、電子銃３０からの電子ビーム３２により、蒸発源３から蒸発物質３１として蒸発する。
蒸発源３および電子銃３０は、図１および図３に示すように、真空容器２内の床に配置されている。蒸発源３は、後記の公転軸Ａ１に対してずれた位置に配置されている。蒸発源３には、蒸着物質が収容されている。電子銃３０は、電子ビーム３２を蒸発源３の蒸着物質に照射する。蒸発物質は、電子銃３０からの電子ビーム３２により、蒸発源３から蒸発物質３１として蒸発する。
【0035】
（公転パレット４の説明）
８枚の公転パレット４は、図１から図４に示すように、真空容器２内に公転軸Ａ１周りに回転可能に配置されている。８枚の公転パレット４は、それぞれ、板形状をなし、真空容器２内に、公転軸Ａ１上に頂点を有する角錐の側面に沿って配置されている。８枚の公転パレット４の一板面には、自転ホルダ５およびマスク６が配置されている。８枚の公転パレット４の一板面は、公転軸Ａ１に対して傾斜して、蒸発源３に向いている。
８枚の公転パレット４は、図１から図４に示すように、真空容器２内に公転軸Ａ１周りに回転可能に配置されている。８枚の公転パレット４は、それぞれ、板形状をなし、真空容器２内に、公転軸Ａ１上に頂点を有する角錐の側面に沿って配置されている。８枚の公転パレット４の一板面には、自転ホルダ５およびマスク６が配置されている。８枚の公転パレット４の一板面は、公転軸Ａ１に対して傾斜して、蒸発源３に向いている。
【0036】
【0037】
（公転駆動部４０の説明）
公転駆動部４０は、図１に示すように、真空容器２の天井に配置されている。公転駆動部４０は、公転軸Ａ１周りに回転する公転軸部４１と、公転軸部４１に固定されている公転回転板４２と、を有する。公転回転板４２には、８枚の公転パレット４の一端部（上端部）が、それぞれ、固定されている。公転回転板４２の板面と８枚の公転パレット４の板面とは、それぞれ、任意の角度で傾斜している。このため、８枚の公転パレット４は、それぞれ、公転軸Ａ１に対して任意の角度で傾斜している。公転駆動部４０は、８枚の公転パレット４を公転軸Ａ１周りに回転させる。
公転駆動部４０は、図１に示すように、真空容器２の天井に配置されている。公転駆動部４０は、公転軸Ａ１周りに回転する公転軸部４１と、公転軸部４１に固定されている公転回転板４２と、を有する。公転回転板４２には、８枚の公転パレット４の一端部（上端部）が、それぞれ、固定されている。公転回転板４２の板面と８枚の公転パレット４の板面とは、それぞれ、任意の角度で傾斜している。このため、８枚の公転パレット４は、それぞれ、公転軸Ａ１に対して任意の角度で傾斜している。公転駆動部４０は、８枚の公転パレット４を公転軸Ａ１周りに回転させる。
【0038】
（自転ホルダ５の説明）
自転ホルダ５は、図１、図２、図６から図８に示すように、公転パレット４に公転軸Ａ１に対して交差する自転軸Ａ２周りに回転可能に配置されている。自転軸Ａ２は、公転パレット４の板面に対して直角（垂直）である。ここで、自転軸Ａ２を蒸発源３からの蒸発物質３１の飛散方向に対して傾斜させることで、成膜対象物１０の成膜対象面１１に堆積する膜（蒸発物質３１）の厚さや品質が変化するため、自転軸Ａ２の蒸発物質３１の飛散方向に対する傾斜角度を最適化する必要がある。成膜対象物１０の形状や搭載数、要求仕様に合わせて自転軸Ａ２の蒸発物質３１の飛散方向に対する傾斜角度を調整すれば良く、自転軸Ａ２を公転軸Ａ１に交差させなくても良い。自転ホルダ５は、この例では、１枚の公転パレット４に対して、上下三段に６個配置されている。すなわち、上段には１個、中段には左側１個右側１個、下段には左外側１個中央（中間）１個右外側１個である。自転ホルダ５は、第１ホルダ部５１と、第２ホルダ部５２と、を有する。
自転ホルダ５は、図１、図２、図６から図８に示すように、公転パレット４に公転軸Ａ１に対して交差する自転軸Ａ２周りに回転可能に配置されている。自転軸Ａ２は、公転パレット４の板面に対して直角（垂直）である。ここで、自転軸Ａ２を蒸発源３からの蒸発物質３１の飛散方向に対して傾斜させることで、成膜対象物１０の成膜対象面１１に堆積する膜（蒸発物質３１）の厚さや品質が変化するため、自転軸Ａ２の蒸発物質３１の飛散方向に対する傾斜角度を最適化する必要がある。成膜対象物１０の形状や搭載数、要求仕様に合わせて自転軸Ａ２の蒸発物質３１の飛散方向に対する傾斜角度を調整すれば良く、自転軸Ａ２を公転軸Ａ１に交差させなくても良い。自転ホルダ５は、この例では、１枚の公転パレット４に対して、上下三段に６個配置されている。すなわち、上段には１個、中段には左側１個右側１個、下段には左外側１個中央（中間）１個右外側１個である。自転ホルダ５は、第１ホルダ部５１と、第２ホルダ部５２と、を有する。
【0039】
第１ホルダ部５１は、直径が成膜対象物１０の直径とほぼ同一の円板形状をなす。第１ホルダ部５１の一面（下面）の中心には、自転軸部５３の一端（上端）が一体に固定されている。第２ホルダ部５２は、外径が成膜対象物１０の直径とほぼ同一であり、かつ、内径が成膜対象面１１の直径とほぼ同一の円環形状をなす。第１ホルダ部５１の直径と第２ホルダ部５２の外径と成膜対象物１０の周縁部１２の直径とは、一致もしくはほぼ一致する。また、第２ホルダ部５２の内径と成膜対象物１０の成膜対象面１１の直径とは、一致もしくはほぼ一致する。
【0040】
自転ホルダ５は、第１ホルダ部５１と第２ホルダ部５２とにより、成膜対象物１０を着脱可能に保持する。すなわち、第１ホルダ部５１の他面（上面）に成膜対象物１０の接眼側の面１３を載置させる。成膜対象物１０の成膜対象面１１に第２ホルダ部５２を嵌め込み、成膜対象物１０の周縁部１２を第１ホルダ部５１と第２ホルダ部５２との間に挟み込む。第１ホルダ部５１に第２ホルダ部５２を着脱可能に取り付けることにより、成膜対象物１０を自転ホルダ５に着脱可能に保持することができる。成膜対象物１０を自転ホルダ５に着脱可能に保持したとき、自転ホルダ５の自転軸Ａ２は、成膜対象物１０の成膜対象面１１の中心Ｐ１（図９を参照）を通る。なお、第２ホルダ部５２を、円環形状と円板形状の２つの部材で構成し、２つの部材の間に成膜対象物１０の周縁部１２を挟み込んで固定しても良い。円環形状は、外径が成膜対象物１０の直径とほぼ同一であり、かつ、内径が成膜対象面１１の直径とほぼ同一であり、円板形状は直径が成膜対象物１０の直径とほぼ同一である。第１ホルダ部５１に第２ホルダ部５２の円板形状を取付固定する際、第１ホルダ部５１に対する第２ホルダ部５２の位置出しをすることで、自転ホルダ５に対する成膜対象面１１の位置出しすることができる。
【0041】
この例において、第１ホルダ部５１は、磁性体、または、磁性体に磁力により着脱可能に着く磁石のいずれか一方から構成されている。また、第２ホルダ部５２は、磁性体または磁石のいずれか他方から構成されている。この結果、自転ホルダ５は、磁力により、成膜対象物１０を着脱可能に保持することができる。なお、自転ホルダ５は、磁力によらずに、機械的に、成膜対象物１０を着脱可能に保持するものであっても良い。
【0042】
（自転駆動部５０の説明）
自転駆動部５０は、図１に示すように、８枚の公転パレット４の一端部（上端部）に、それぞれ、固定されている。自転駆動部５０と６個の自転ホルダ５の自転軸部５３との間には、後記の回転力伝達機構８、８０、８１が設けられている。回転力伝達機構８、８０、８１は、自転駆動部５０の回転力を６個の自転ホルダ５の自転軸部５３にそれぞれ伝達する。これにより、１枚の公転パレット４に搭載される全ての自転ホルダ５が同時に自転軸Ａ２周りに同方向に回転する。
自転駆動部５０は、図１に示すように、８枚の公転パレット４の一端部（上端部）に、それぞれ、固定されている。自転駆動部５０と６個の自転ホルダ５の自転軸部５３との間には、後記の回転力伝達機構８、８０、８１が設けられている。回転力伝達機構８、８０、８１は、自転駆動部５０の回転力を６個の自転ホルダ５の自転軸部５３にそれぞれ伝達する。これにより、１枚の公転パレット４に搭載される全ての自転ホルダ５が同時に自転軸Ａ２周りに同方向に回転する。
【0043】
（マスク６の説明）
マスク６は、図１、図２、図４から図６に示すように、８枚の公転パレット４に、それぞれ、６個の自転ホルダ５と一対一の状態で配置されている。すなわち、マスク６は、この例では、１枚の公転パレット４に対して、上段には１個、中段には左側１個右側１個、下段には左外側１個中央（中間）１個右外側１個、合計で６個配置されている。マスク６は、蒸発源３から蒸発して成膜対象面１１に蒸着する蒸発物質３１の一部を遮蔽する。
マスク６は、図１、図２、図４から図６に示すように、８枚の公転パレット４に、それぞれ、６個の自転ホルダ５と一対一の状態で配置されている。すなわち、マスク６は、この例では、１枚の公転パレット４に対して、上段には１個、中段には左側１個右側１個、下段には左外側１個中央（中間）１個右外側１個、合計で６個配置されている。マスク６は、蒸発源３から蒸発して成膜対象面１１に蒸着する蒸発物質３１の一部を遮蔽する。
【0044】
マスク６は、自転軸Ａ２に対して蒸発源３と反対側（蒸発源３に対して上側）に配置されていて、成膜対象物１０の成膜対象面１１のうち、自転軸Ａ２に対して蒸発源３と反対側の部分を覆って、蒸発源３から蒸発して成膜対象面１１に蒸着する蒸発物質３１の一部を遮蔽する。
【0045】
マスク６は、成膜対象物１０を挟んで自転ホルダ５と反対側に配置されている。マスク６は、自転軸Ａ２方向から見て、自転ホルダ５に保持されている成膜対象物１０の成膜対象面１１のうち、自転軸Ａ２に対応する部分（中心部分、中央部分）から周辺（周縁部１２）の一部分にかけての範囲を覆い隠す。これにより、マスク６は、蒸発源３から蒸発して成膜対象面１１に蒸着する蒸発物質３１の一部を遮蔽する。
【0046】
マスク６は、固定部６０と、取付部としての９個の移動部材６１と、を有する。固定部６０は、この例では、幅が成膜対象面１１の直径とほぼ同一である板部材から構成されている。固定部６０は、一面（下面）から一体に突出した固定柱６２により、公転パレット４に固定されている。取付部は、９個の移動部材６１から構成されていて、９個の移動部材６１は、幅が成膜対象面１１の直径の９分の１であり、かつ、長さが成膜対象面１１の直径よりも短い直方体形状をなす。
【0047】
固定部６０の他面（上面）には、９本のガイド凹部６３が、自転軸Ａ２に対して直交する方向に設けられている。一方、９個の移動部材６１の一面（下面）には、ガイド凸部６４が、それぞれ、自転軸Ａ２に対して直交する方向に設けられている。９個の移動部材６１のガイド凸部６４は、固定部６０の９本のガイド凹部６３に、それぞれ、自転軸Ａ２に対して直交する方向（図２および図５中の実線矢印を参照）に、移動可能に取り付けられている。マスク６は、９個の移動部材６１の固定部６０に対する移動量を調整することにより蒸発物質３１の遮蔽面積を調整することができる。
【0048】
１枚の公転パレット４において、６個のマスク６は、それぞれ、蒸発源３との相対位置関係に基づいて、９個の移動部材６１の固定部６０に対する移動量を調整することにより蒸発物質３１の遮蔽面積を調整することができる。すなわち、上段の１個のマスク６は、図５（Ａ）に示すように、９個の移動部材６１を固定部６０に対して移動させる。中段の左右両側２個のマスク６は、図５（Ｂ）に示すように、９個の移動部材６１を固定部６０に対して移動させる。下段の左右両外側２個のマスク６は、図５（Ｃ）に示すように、９個の移動部材６１を固定部６０に対して移動させる。下段の中央の１個のマスク６は、図５（Ｄ）に示すように、９個の移動部材６１を固定部６０に対して移動させる。
【0049】
マスク６の移動量、すなわち、９個の移動部材６１の固定部６０に対する移動量は、成膜対象面１１において実際に測定して得られた膜厚および屈折率を含む光学特性に基づいて、設定されていて、データ化されている。また、成膜対象面１１の膜厚および屈折率を含む光学特性は、８枚の公転パレット４の１回転を基準（トータル）として、実測されている。これは、公転パレット４の回転位置の違いにより、マスク６の蒸発物質３１の遮蔽面積が異なるのを矯正するためである。すなわち、図１に示すように、蒸発源３が８枚の公転パレット４の公転軸Ａ１に対してずれた位置に配置されているため、蒸発源３の真上に位置する公転パレット４（例えば、図１中の右側の公転パレット４）におけるマスク６の蒸発物質３１の遮蔽面積と、蒸発源３の対角に位置する公転パレット４（例えば、図１中の左側の公転パレット４）におけるマスク６の蒸発物質３１の遮蔽面積とは、異なっていて、この異なる遮蔽面積を矯正するものである。通常、蒸発源を備える成膜装置の場合、公転パレット内全面での分布を調整する目的で、蒸発源と成膜対象物との間に膜厚補正板と呼ばれる膜厚調整用の遮蔽部材を配置することが一般的である。複数の成膜対象物に同時に成膜する場合、堆積膜が均一化するように膜厚補正板を設計するが、成膜対象物の数が増えるほど設計は難しくなる。この実施形態において、マスク６の移動部材６１の形状を成膜対象物１０毎に最適化することで、膜厚補正板の機能を兼ね備え、膜厚補正板を省略することができる。
【0050】
この例において、固定部６０は、磁性体、または、磁性体に磁力により着脱可能に着く磁石のいずれか一方から構成されている。また、９個の移動部材６１は、磁性体または磁石のいずれか他方から構成されている。この結果、マスク６は、磁力により、９個の移動部材６１を固定部６０に対して移動させて任意の位置に停止させること、すなわち、９個の移動部材６１の固定部６０に対する移動量を調整することができる。なお、マスク６は、磁力によらずに、機械的に、９個の移動部材６１を固定部６０に対して移動させて任意の位置に停止させて、９個の移動部材６１の固定部６０に対する移動量を調整するものであっても良い。
【0051】
（実施形態１の作用の説明）
この実施形態１にかかる成膜装置１は、以上のごとき構成からなり、以下、その作用について説明する。
この実施形態１にかかる成膜装置１は、以上のごとき構成からなり、以下、その作用について説明する。
【0052】
８枚の公転パレット４のそれぞれの６個の自転ホルダ５に成膜対象物１０を着脱可能に保持させる。１枚の公転パレット４における６個のマスク６のそれぞれの９個の移動部材６１の固定部６０に対する移動量を調整する。この移動量の調整は、成膜対象面１１への蒸発物質３１の厚さ分布（膜厚分布）が均一となる前記のデータに基づいて調整される。
【0053】
公転駆動部４０を駆動させて、８枚の公転パレット４を公転軸Ａ１周りに回転させる。これと同時に、自転駆動部５０を駆動させて、８枚の公転パレット４のそれぞれの６個の自転ホルダ５を自転軸Ａ２周りに回転させる。この状態において、電子銃３０から電子ビーム３２を蒸発源３の蒸着物質に照射させる。すると、蒸発源３の蒸着物質は、電子銃３０からの電子ビーム３２により、蒸発源３から蒸発物質３１として蒸発する。
【0054】
蒸発物質３１は、８枚の公転パレット４および６個の自転ホルダ５を介して、公転軸Ａ１周りに回転すると共に、自転軸Ａ２周りに回転する成膜対象物１０の成膜対象面１１に蒸着する。これにより、成膜対象面１１には、膜が形成される。マスク６は、蒸発物質３１のみでなく、熱を遮蔽する効果を有する。この発明の機構（マスク６）を用いることで、所望の堆積膜を得るのみでなく、樹脂基板など低温成膜が要求される基板の処理も可能となる。
【0055】
（実施形態１の効果の説明）
この実施形態１にかかる成膜装置１は、以上のごとき構成および作用からなり、以下、その効果について説明する。
この実施形態１にかかる成膜装置１は、以上のごとき構成および作用からなり、以下、その効果について説明する。
【0056】
この実施形態１にかかる成膜装置１は、真空容器２内に公転パレット４を公転軸Ａ１周りに回転可能に配置し、公転パレット４に自転ホルダ５を自転軸Ａ２周りに回転可能に配置し、公転パレット４に、自転ホルダ５に保持される成膜対象物１０の成膜対象面１１の一部分を覆うマスク６を、配置したものである。この結果、この実施形態１にかかる成膜装置１は、真空容器２内で自公転する成膜対象物１０の成膜対象面１１のうち、膜厚が厚く形成される部分（以下、「膜厚部分」と称する）をマスク６で覆って、膜厚部分に蒸着する蒸発物質３１を遮蔽することができる。これにより、この実施形態１にかかる成膜装置１は、成膜対象物１０の成膜対象面１１に膜を全面に亘って均一に形成することができるので、成膜対象物１０の成膜対象面１１全面に亘って均一な光学特性、この例では、図１０に示す反射率を得ることができる。また、この実施形態１にかかる成膜装置１は、特に、曲率が大きい成膜対象物１０であっても、成膜対象面１１全面に亘って均一な光学特性を得ることができる。ここで、成膜対象面１１全面に亘って均一に得ることができる光学特性とは、前記の反射率や透過率、屈折率、膜厚等を言う。
【0057】
図１０は、この実施形態１にかかる成膜装置１により、膜を形成した成膜対象物１０の成膜対象面１１における光学特性としての反射率を示す説明図であって、縦軸は、反射率を示す。横軸は、光の波長を示す。図１０中の符号「Ｄ」は、設計反射率を示す曲線である。図１０中の符号「Ｒ１～Ｒ１３」は、図９に示す１３個所Ｐ１～Ｐ１３において実際に測定した反射率を示す曲線である。
【0058】
図１０に示すように、１３本の曲線Ｒ１～Ｒ１３の隙間が密であるから、成膜対象面１１の１３個所Ｐ１～Ｐ１３における反射率は、バラツキが無く均一である。また、１３本の曲線Ｒ１～Ｒ１３は、設計反射率の曲線Ｄに近接しているので、設計通りの反射率が得られる。なお、図１０に示す１３本の曲線Ｒ１～Ｒ１３は、１３本の曲線を判別できるように曲線間の隙間を開けて図示されていて、実際に測定した１３本の曲線は、曲線間の隙間が密となっている。
【0059】
図９は、この実施形態１にかかる成膜装置１により、膜を形成した成膜対象物１０の成膜対象面１１における反射率を実際に測定した１３箇所Ｐ１～Ｐ１３を示す説明図である。図９（Ａ）は、成膜対象物１０の成膜対象面１１を示す正面図である。図９（Ｂ）は、成膜対象物１０の成膜対象面１１を示す側面図（図９（Ａ）におけるＢ矢視図）である。図９（Ｃ）は、成膜対象物１０の成膜対象面１１を示す断面図（図９（Ａ）におけるＣ－Ｃ線断面図）である。
【0060】
図９において、Ｐ１は、成膜対象面１１の中心（自転軸Ａ２）である。Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５は、成膜対象面１１の直径３０ｍｍ（φ３０）の円周上の左、下、右、上である。Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ９、Ｐ１０、Ｐ１１、Ｐ１２、Ｐ１３は、成膜対象面１１の直径４０ｍｍ（φ４０）の円周上の左、左下、下、右下、右、右上、上、左上である。
【0061】
この実施形態１にかかる成膜装置１は、マスク６を自転軸Ａ２に対して蒸発源３と反対側に配置し、このマスク６により、成膜対象物１０の成膜対象面１１のうち、自転軸Ａ２に対して蒸発源３と反対側の部分を覆うものである。この結果、この実施形態１にかかる成膜装置１は、成膜対象面１１の中央部分と外周部分とに堆積する膜（蒸発物質３１）の品質（膜厚、膜密度、屈折率等）の均一化を図ることができる。すなわち、成膜対象面１１の中央部分に対して外周部分において、自転軸Ａ２に対して蒸発源３と反対側の部分における蒸発源３からの蒸発物質３１の入射角は、自転軸Ａ２に対して蒸発源３側の部分における蒸発源３からの蒸発物質３１の入射角と比較して、大きい。このため、成膜対象面１１の自転軸Ａ２に対して蒸発源３と反対側の部分に堆積する膜（蒸発物質３１）の品質が、成膜対象面１１の自転軸Ａ２に対して蒸発源３側の部分に堆積する膜（蒸発物質３１）の品質に対して劣る。成膜対象面１１の自転軸Ａ２に対して蒸発源３と反対側の部分には、膜密度が小さく、屈折率の低い膜が形成される。ここで、成膜対象物１０が自転軸Ａ２周りに回転するため、成膜対象面１１の外周部分全体の品質が劣る。そこで、この実施形態１にかかる成膜装置１は、マスク６を自転軸Ａ２に対して蒸発源３と反対側に配置することにより、このマスク６で成膜対象面１１の自転軸Ａ２に対して蒸発源３と反対側の部分を覆って、蒸発源３から蒸発して成膜対象面１１に蒸着する蒸発物質３１の一部を遮蔽する。これにより、マスク６は、成膜対象面１１の外周部分に堆積する膜（蒸発物質３１）の品質の劣化を防止して、成膜対象面１１の中央部分と外周部分とに堆積する膜（蒸発物質３１）の品質の均一化を図ることができる。
【0062】
この実施形態１にかかる成膜装置１は、マスク６を成膜対象物１０を挟んで自転ホルダ５と反対側に配置し、このマスク６により、自転軸Ａ２方向から見て、成膜対象物１０の成膜対象面１１のうち、自転軸Ａ２に対応する部分（中心部分）から周辺の一部分にかけての範囲を覆うものである。この結果、この実施形態１にかかる成膜装置１は、成膜対象面１１の中心部分のマスク６による遮蔽時間を、成膜対象面１１の周辺部分のマスク６による遮蔽時間よりも長く調整することができる。これにより、この実施形態１にかかる成膜装置１は、成膜対象面１１の中心部分の膜厚が成膜対象面１１の周辺部分の膜厚よりも厚くなる傾向にある凸曲面の成膜対象面１１に膜を全面に亘って均一に形成することができるので、前記の通り、成膜対象物１０の成膜対象面１１全面に亘って均一な膜厚または屈折率を得ることができる。また、この実施形態１にかかる成膜装置１は、特に、曲率が大きい成膜対象物１０であっても、成膜対象面１１全面に亘って均一な膜厚または屈折率を得ることができる。
【0063】
この実施形態１にかかる成膜装置１は、１枚の公転パレット４に、自転ホルダ５とマスク６とを一対一の状態で複数個配置し、複数個のマスク６が、それぞれ、固定部６０と取付部としての移動部材６１とを有し、蒸発源３との相対位置関係に基づいて蒸発物質３１の遮蔽面積を調整する、ものである。この結果、この実施形態１にかかる成膜装置１は、１枚の公転パレット４において、複数個の成膜対象物１０の成膜対象面１１に膜を同時に全面に亘って均一に形成することができる。なお、実施形態１では説明のため６個を図示するが、量産装置では１枚の公転パレット４に数十から数百個の自転ホルダ５が搭載される。
【0064】
その上、この実施形態１にかかる成膜装置１は、固定部６０を、磁性体、または、磁性体に磁力により着脱可能に着く磁石のいずれか一方で構成し、複数個の移動部材６１を、磁性体または磁石のいずれか他方で構成したものであるから、パーティクルの発生を抑制することができる。
【0065】
さらに、この実施形態１にかかる成膜装置１は、自転ホルダ５の第１ホルダ部５１と第２ホルダ部５２により、成膜対象物１０を位置出しして保持することができるので、成膜対象面１１に膜を高精度に均一に形成することができる。また、この実施形態１にかかる成膜装置１は、第１ホルダ部５１を、磁性体、または、磁性体に磁力により着脱可能に着く磁石のいずれか一方で構成し、第２ホルダ部５２を、磁性体または磁石のいずれか他方で構成したものであるから、パーティクルの発生を抑制することができる。
【0066】
しかも、この実施形態１にかかる成膜装置１は、真空容器２内に複数枚の公転パレット４を配置したものであるから、合計で、大量の成膜対象物１０の成膜対象面１１に膜を同時に全面に亘って均一に形成することができるので、量産性が向上される。
【0067】
さらに、この実施形態１にかかる成膜装置１は、固定部６０と複数個の移動部材６１とを、ガイド凸部６４と複数本のガイド凹部６３とにより、移動可能に取り付けたものであるから、固定部６０に対して複数個の移動部材６１を円滑に移動させることができる。
【0068】
（実施形態２の構成、作用、効果の説明）
図１１および図１２は、この発明にかかる成膜装置の実施形態２を示す。以下、この実施形態２にかかる成膜装置の構成、作用、効果について説明する。図中、図１から図１０中の符号と同一の符号は、同一の物を示す。
図１１および図１２は、この発明にかかる成膜装置の実施形態２を示す。以下、この実施形態２にかかる成膜装置の構成、作用、効果について説明する。図中、図１から図１０中の符号と同一の符号は、同一の物を示す。
【0069】
前記の実施形態１にかかる成膜装置１のマスク６は、固定部６０と取付部としての９個の移動部材６１とを有するものである。これに対して、この実施形態２にかかる成膜装置のマスク６００は、固定部６０１と取付部としての２枚の回転部材６０２とを有するものである。
【0070】
固定部６０１は、この例では、適宜の大きさの板部材から構成されている。固定部６０１は、固定柱により、公転パレットに固定されている。２枚の回転部材６０２は、１辺の長さが成膜対象面１１の半径よりも長い正方形の板形状の部材から構成されている。２枚の回転部材６０２の一つの角部には、円形の回転部６０３が、それぞれ、設けられている。
【0071】
固定部６０１の一面（上面）には、軸部６０４の一端（下端）が固定されている。軸部６０４は、自転軸Ａ２と一致する。軸部６０４には、２枚の回転部材６０２の回転部６０３が、それぞれ、回転可能に取り付けられている。軸部６０４の他端（上端）には、止め部６０５が固定されている。これにより、２枚の回転部材６０２は、固定部６０１に自転軸Ａ２周りに回転可能に取り付けられる。２枚の回転部材６０２の回転量を調整することにより、蒸発物質３１の遮蔽面積を調整することができる。
【0072】
この例において、固定部６０１、２枚の回転部材６０２のうち、少なくとも一つは、磁性体、または、磁性体に磁力により着脱可能に着く磁石のいずれか一方から構成されている。また、固定部６０１、２枚の回転部材６０２のうち、残りは、磁性体または磁石のいずれか他方から構成されている。
【0073】
なお、この実施形態２のマスク６００は、前記の実施形態１のマスク６と同様に、磁力によらずに、機械的に、２枚の回転部材６０２を固定部６０１に対して移動させて任意の位置に停止させて、２枚の回転部材６０２の固定部６０１に対する移動量を調整するものであっても良い。
【0074】
この実施形態２にかかる成膜装置のマスク６００は、以上の如き構成からなるので、前記の実施形態１にかかる成膜装置１のマスク６と同様の作用、効果を達成することができる。なお、この実施形態２にかかる成膜装置のマスク６００は、２枚の回転部材６０２を使用するものであるが、回転部材は、１枚、３枚以上であっても良い。
【0075】
（実施形態３の構成、作用、効果の説明）
図１３から図１６は、この発明にかかる成膜装置の実施形態３を示す。以下、この実施形態３にかかる成膜装置の構成、作用、効果について説明する。図中、図１から図１２中の符号と同一の符号は、同一の物を示す。
図１３から図１６は、この発明にかかる成膜装置の実施形態３を示す。以下、この実施形態３にかかる成膜装置の構成、作用、効果について説明する。図中、図１から図１２中の符号と同一の符号は、同一の物を示す。
【0076】
前記の実施形態１にかかる成膜装置１のマスク６は、固定部６０と取付部としての９個の移動部材６１とを有するものである。また、前記の実施形態２にかかる成膜装置のマスク６００は、固定部６０１と取付部としての２枚の回転部材６０２とを有するものである。これに対して、この実施形態３にかかる成膜装置のマスク６１０は、固定部６１１と取付部としての複数個、この例では、９個の球部材６１２、６１３とを有するものである。
【0077】
固定部６１１は、この例では、隣り合う２辺６１４の長さが成膜対象面１１の半径よりも長い五角形の板部材から構成されている。固定部６１１は、固定柱により、公転パレットに固定されている。固定部６１１の隣り合う２辺６１４の縁（辺部）には、９個の円形の凹部６１５が設けられている。
【0078】
球部材６１２、６１３は、直径が大きい球部材６１２と直径が小さい球部材６１３とを有する。９個の球部材６１２、６１３は、固定部６１１の９個の凹部６１５に着脱可能に取り付けられていて、図１３に示すように、直径を調整することにより、９個の球部材６１２、６１３が固定部６１１の隣り合う２辺６１４から突出する量を調整することができ、蒸発物質３１の遮蔽面積を調整することができる。また、球部材６１２、６１３の直径の違いにより、マスク６１０の厚み方向の高さが異なり、成膜対象面１１に対して蒸発物質３１が影となる面積が異なる。例えば、蒸発源３の真上に位置する公転パレット４（例えば、図１中の右側の公転パレット４）において、球部材６１２、６１３は蒸発物質３１を遮蔽しないが、蒸発源３の対角に位置する公転パレット４（例えば、図１中の左側の公転パレット４）において、球部材６１２、６１３が影となり、蒸発物質３１が遮蔽される。球部材の直径が大きいほど遮蔽面積が大きくなる。なお、球部材６１２、６１３の直径は、前記の大小の２種類以外に、３種類以上であっても良い。
【0079】
この例において、固定部６１１は、磁性体、または、磁性体に磁力により着脱可能に着く磁石のいずれか一方から構成されている。また、９個の球部材６１２、６１３は、磁性体または磁石のいずれか他方から構成されている。
【0080】
なお、この実施形態３のマスク６１０は、前記の実施形態１、２のマスク６、６００と同様に、磁力によらずに、機械的に、９個の凹部６１５に９個の球部材６１２、６１３を着脱可能に取り付けて、９個の球部材６１２、６１３の直径を調整して、９個の球部材６１２、６１３の固定部６１１の隣り合う２辺６１４からの突出量または高さを調整するものであっても良い。
【0081】
この実施形態３にかかる成膜装置のマスク６１０は、以上の如き構成からなるので、前記の実施形態１、２にかかる成膜装置１のマスク６、６００と同様の作用、効果を達成することができる。
【0082】
（実施形態４の構成、作用、効果の説明）
図１７から図２０は、この発明にかかる成膜装置の実施形態４を示す。以下、この実施形態４にかかる成膜装置の構成、作用、効果について説明する。図中、図１から図１６中の符号と同一の符号は、同一の物を示す。
図１７から図２０は、この発明にかかる成膜装置の実施形態４を示す。以下、この実施形態４にかかる成膜装置の構成、作用、効果について説明する。図中、図１から図１６中の符号と同一の符号は、同一の物を示す。
【0083】
前記の実施形態１、２、３にかかる成膜装置１のマスク６、６００、６１０は、固定部６０、６０１、６１１と、固定部６０、６０１、６１１にそれぞれ取り付けられていて、蒸発源３との相対位置関係に基づいて蒸発物質３１の遮蔽面積を調整する取付部としての移動部材６１、回転部材６０２、球部材６１２、６１３と、を有する、ものである。これに対して、この実施形態４にかかる成膜装置の複数個のマスク６Ａの形状は、同一であり、複数個のマスク６Ａは、蒸発源３との相対位置関係に基づいてマスク６Ａと成膜対象面１１との間の距離を調整して蒸発物質３１の遮蔽面積を調整する距離調整機構７を、有するものである。
【0084】
マスク６Ａは、前記の実施形態３のマスク６１０の固定部６１１とほぼ同様に、隣り合う２辺６０Ａの長さが成膜対象面１１の半径よりも長い五角形の板部材から構成されている。２辺６０Ａには、９個の凸部６１Ａが設けられている。９個の凸部６１Ａは、大小２種類の半円形形状をなしていて、大小交互に設けられている。なお、凸部６１Ａは、半円形形状に限定されず、また、設けなくても良い。
【0085】
距離調整機構７は、固定部７０と、可動部７１と、を有する。固定部７０は、この例では、公転パレット４である。固定部７０には、長孔７２が自転軸Ａ２に対して交差する方向（直交する方向、垂直方向）に設けられている。なお、固定部７０は、この例では、公転パレット４であるから、複数個のマスク６Ａに対して１個である。一方、長孔７２および可動部７１は、複数個のマスク６Ａと一対一の状態で、複数個設けられている。
【0086】
可動部７１は、可動部材７３と、止め部材７４と、を有する。可動部材７３は、棒形状をなしている。可動部材７３の一端部（下端部）は、長孔７２中に、自転軸Ａ２に対して交差する方向、および、自転軸Ａ２と平行な方向に、それぞれ、移動可能に挿入されている。可動部材７３の他端部（上端部）は、マスク６Ａの一面（下面）に固定されている。
【0087】
止め部材７４は、この例では、ナットから構成されている。可動部材７３の一端部には、ネジが設けられている。止め部材７４は、可動部材７３の一端部のネジに上下２個ネジ止めされている。２個の止め部材７４を固定部７０（公転パレット４）の両側から挟み込むことにより、可動部７１を固定部７０に固定することができる。また、止め部材７４を固定部７０から緩めることにより、可動部７１を固定部７０に対して、自転軸Ａ２の交差方向、および、自転軸Ａ２の平行方向に、それぞれ、無段階に移動させることができる。
【0088】
この実施形態４にかかる成膜装置は、可動部７１を固定部７０に対して、自転軸Ａ２の交差方向、および、自転軸Ａ２の平行方向に、それぞれ、移動させることにより、マスク６Ａと成膜対象面１１との間の距離を調整することができ、蒸発物質３１の遮蔽面積を調整することができる。すなわち、マスク６Ａと成膜対象面１１との間の距離を短く調整することにより、蒸発物質３１の遮蔽面積を広く調整することができ、マスク６Ａと成膜対象面１１との間の距離を長く調整することにより、蒸発物質３１の遮蔽面積を狭く調整することができる。この結果、この実施形態４にかかる成膜装置は、前記の実施形態１、２、３にかかる成膜装置１の効果と同様の効果を達成することができる。
【0089】
この実施形態４にかかる成膜装置のマスク６Ａと成膜対象面１１との間の距離は、前記の実施形態１、２、３にかかる成膜装置１のマスク６、６００、６１０の移動量と同様に、成膜対象面１１において実際に測定して得られた膜厚および屈折率を含む光学特性に基づいて、設定されている。
【0090】
なお、この実施形態４にかかる成膜装置のマスク６Ａにおいては、１個のマスク６Ａに対して、２本の長孔７２と２個の可動部７１が設けられている。しかしながら、この発明においては、１個のマスク６Ａに対して、１本の長孔７２と１個の可動部７１が、または、３本以上の長孔７２と３個以上の可動部７１が、設けられているものであっても良い。
【0091】
（実施形態５の構成、作用、効果の説明）
図２１および図２２は、この発明にかかる成膜装置の実施形態５を示す。以下、この実施形態５にかかる成膜装置の構成、作用、効果について説明する。図中、図１から図２０中の符号と同一の符号は、同一の物を示す。
図２１および図２２は、この発明にかかる成膜装置の実施形態５を示す。以下、この実施形態５にかかる成膜装置の構成、作用、効果について説明する。図中、図１から図２０中の符号と同一の符号は、同一の物を示す。
【0092】
前記の実施形態４にかかる成膜装置の距離調整機構７は、可動部７１を固定部７０に対して、自転軸Ａ２の交差方向、および、自転軸Ａ２の平行方向に、それぞれ、無段階に移動させるものである。これに対して、この実施形態５にかかる成膜装置の距離調整機構７Ａは、マスク６Ａを自転軸Ａ２の交差方向に有段階に移動させるものである。なお、この実施形態５にかかる成膜装置の距離調整機構７Ａは、前記の実施形態４にかかる成膜装置の距離調整機構７と同様に、可動部７１Ａを固定部７０Ａに対して、自転軸Ａ２の平行方向に無段階に移動させる。
【0093】
マスク６Ａの左右両側には、それぞれ、３個の孔６２Ａが、自転軸Ａ２の交差方向に並ばれて設けられている。
【0094】
距離調整機構７Ａは、固定部７０Ａ（公転パレット４）と、可動部７１Ａと、を有する。固定部７０Ａには、孔７２Ａが設けられている。
【0095】
可動部７１Ａは、可動部材７３Ａと、第１止め部材７４Ａと、載置部７５Ａと、第２止め部材７６Ａと、を有する。可動部材７３Ａの一端部（下端部）は、孔７２Ａ中に、自転軸Ａ２と平行な方向に移動可能に挿入されている。可動部材７３Ａの他端部（上端部）には、載置部７５Ａが固定されている。可動部材７３Ａの他端部には、マスク６Ａの左右の孔６２Ａが嵌め込まれている。
【0096】
第１止め部材７４Ａおよび第２止め部材７６Ａは、この例では、ナットから構成されている。可動部材７３Ａの一端部および他端部には、ネジが設けられている。第１止め部材７４Ａは、可動部材７３Ａの一端部のネジに上下２個ネジ止めされている。２個の第１止め部材７４Ａを固定部７０Ａの両側から挟み込むことにより、可動部７１Ａを固定部７０Ａに固定することができる。また、第１止め部材７４Ａを固定部７０Ａから緩めることにより、可動部７１Ａを固定部７０Ａに対して、自転軸Ａ２の平行方向に無段階に移動させることができる。
【0097】
第２止め部材７６Ａは、可動部材７３Ａの他端部のネジにネジ止めされている。第２止め部材７６Ａをネジ込むことにより、マスク６Ａを、載置部７５Ａと第２止め部材７６Ａの間で挟み込んで固定することができる。また、第２止め部材７６Ａを可動部材７３Ａの他端部から外して、可動部材７３Ａの他端部に嵌め込むマスク６Ａの孔６２Ａの位置を変えて、第２止め部材７６Ａを可動部材７３Ａの他端部にネジ込むことにより、マスク６Ａを自転軸Ａ２の交差方向に有段階に移動させることができる。
【0098】
この実施形態５にかかる成膜装置は、以上の如き構成からなるものであるから、前記の実施形態４にかかる成膜装置の作用、効果と同様の作用、効果を達成することができる。
【0099】
【0100】
回転力伝達機構８は、複数個の自転ホルダ５と自転駆動部５０との間に設けられていて、自転駆動部５０の回転力を複数個の自転ホルダ５に伝達するものである。
【0101】
図２３に示す回転力伝達機構８は、複数個の自転ホルダ５の自転軸部５３の間に掛け回されているＯリング８０である。なお、図２３において、公転パレット４には、追加公転パレット４３が追加配置されている。また、図２３において、１個の自転ホルダ５の自転軸部５３には、自転駆動部５０が連結されている。なお、１個の自転ホルダ５の自転軸部５３と自転駆動部５０との間にＯリング８０を掛け回しても良い。
【0102】
図２４および図２５に示す回転力伝達機構８は、複数個の自転ホルダ５の自転軸部５３に設けられている非接触磁力回転体８１である。なお、図２４および図２５において、公転パレット４には、追加自転軸部５４が追加自転軸Ａ３周りに回転可能に追加配置されている。この追加自転軸部５４にも、非接触磁力回転体８１が設けられている。この追加自転軸部５４は、自転駆動部５０に連結されている。なお、この追加自転軸部５４を設けずに、１個の自転ホルダ５の自転軸部５３を自転駆動部５０に連結しても良い。
【0103】
回転力伝達機構８は、Ｏリング８０、非接触磁力回転体８１から構成されているものであるから、ギヤ、タイミングベルト、プーリーなどと比較して、パーティクルの発生を抑制することができる。なお、回転力伝達機構８は、ギヤ、タイミングベルト、プーリーなどであっても良い。
【0104】
（実施形態以外の例の説明）
なお前記の実施形態１においては、真空容器２内に８枚の公転パレット４を配置した例を説明するものである。しかしながら、この発明においては、公転パレット４の枚数は、限定しない。また、前記の実施形態１においては、１枚の公転パレット４に６個の自転ホルダ５とマスク６と９個の移動部材６１を配置した例を説明するものである。しかしながら、この発明においては、自転ホルダ５とマスク６と移動部材６１の個数は、限定しない。１枚の公転パレット４に複数個の自転ホルダ５とマスク６を配置することで、量産性に優れると言う効果がある。
なお前記の実施形態１においては、真空容器２内に８枚の公転パレット４を配置した例を説明するものである。しかしながら、この発明においては、公転パレット４の枚数は、限定しない。また、前記の実施形態１においては、１枚の公転パレット４に６個の自転ホルダ５とマスク６と９個の移動部材６１を配置した例を説明するものである。しかしながら、この発明においては、自転ホルダ５とマスク６と移動部材６１の個数は、限定しない。１枚の公転パレット４に複数個の自転ホルダ５とマスク６を配置することで、量産性に優れると言う効果がある。
【符号の説明】
【0105】
１ 成膜装置
１０ 成膜対象物
１１ 成膜対象面
１２ 周縁部
１３ 接眼側の面
２ 真空容器
２０ 部屋
３ 蒸発源
３０ 電子銃
３１ 蒸発物質
３２ 電子ビーム
４ 公転パレット
４０ 公転駆動部
４１ 公転軸部
４２ 公転回転板
４３ 追加公転パレット
５ 自転ホルダ
５０ 自転駆動部
５１ 第１ホルダ部
５２ 第２ホルダ部
５３ 自転軸部
５４ 追加自転軸部
６、６００、６１０ マスク
６０、６０１、６１１ 固定部
６１ 移動部材（取付部）
６２ 固定柱
６３ ガイド凹部
６４ ガイド凸部
６０２ 回転部材（取付部）
６０３ 回転部
６０４ 軸部
６０５ 止め部
６１２、６１３ 球部材（取付部）
６１４ ２辺
６１５ 凹部
６Ａ マスク
６０Ａ ２辺
６１Ａ 凸部
６２Ａ 孔
７ 距離調整機構
７０ 固定部
７１ 可動部
７２ 長孔
７３ 可動部材
７４ 止め部材
７Ａ 距離調整機構
７０Ａ 固定部
７１Ａ 可動部
７２Ａ 孔
７３Ａ 可動部材
７４Ａ 第１止め部材
７５Ａ 載置部
７６Ａ 第２止め部材
８ 回転力伝達機構
８０ Ｏリング
８１ 非接触磁力回転体
Ａ１ 公転軸
Ａ２ 自転軸
Ａ３ 追加自転軸
Ｄ 設計反射率を示す曲線
Ｐ１～Ｐ１３ 反射率を実際に測定した箇所
Ｒ１～Ｒ１３ 実際に測定した反射率を示す曲線
１０ 成膜対象物
１１ 成膜対象面
１２ 周縁部
１３ 接眼側の面
２ 真空容器
２０ 部屋
３ 蒸発源
３０ 電子銃
３１ 蒸発物質
３２ 電子ビーム
４ 公転パレット
４０ 公転駆動部
４１ 公転軸部
４２ 公転回転板
４３ 追加公転パレット
５ 自転ホルダ
５０ 自転駆動部
５１ 第１ホルダ部
５２ 第２ホルダ部
５３ 自転軸部
５４ 追加自転軸部
６、６００、６１０ マスク
６０、６０１、６１１ 固定部
６１ 移動部材（取付部）
６２ 固定柱
６３ ガイド凹部
６４ ガイド凸部
６０２ 回転部材（取付部）
６０３ 回転部
６０４ 軸部
６０５ 止め部
６１２、６１３ 球部材（取付部）
６１４ ２辺
６１５ 凹部
６Ａ マスク
６０Ａ ２辺
６１Ａ 凸部
６２Ａ 孔
７ 距離調整機構
７０ 固定部
７１ 可動部
７２ 長孔
７３ 可動部材
７４ 止め部材
７Ａ 距離調整機構
７０Ａ 固定部
７１Ａ 可動部
７２Ａ 孔
７３Ａ 可動部材
７４Ａ 第１止め部材
７５Ａ 載置部
７６Ａ 第２止め部材
８ 回転力伝達機構
８０ Ｏリング
８１ 非接触磁力回転体
Ａ１ 公転軸
Ａ２ 自転軸
Ａ３ 追加自転軸
Ｄ 設計反射率を示す曲線
Ｐ１～Ｐ１３ 反射率を実際に測定した箇所
Ｒ１～Ｒ１３ 実際に測定した反射率を示す曲線
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】