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特開2024-116076感光性組成物、硬化物、電子部品、及び硬化物の製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024116076
(43)【公開日】2024-08-27
(54)【発明の名称】感光性組成物、硬化物、電子部品、及び硬化物の製造方法
(51)【国際特許分類】
G03F 7/029 20060101AFI20240820BHJP
G03F 7/004 20060101ALI20240820BHJP
G03F 7/037 20060101ALI20240820BHJP
G03F 7/20 20060101ALI20240820BHJP
【ＦＩ】
G03F7/029
G03F7/004 501
G03F7/004 505
G03F7/037
G03F7/20 501
G03F7/20 521
【審査請求】未請求
【請求項の数】20
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024003756
(22)【出願日】2024-01-15
(31)【優先権主張番号】P 2023021353
(32)【優先日】2023-02-15
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000003159
【氏名又は名称】東レ株式会社
(72)【発明者】
【氏名】谷垣 勇剛
(72)【発明者】
【氏名】荒木 斉
(72)【発明者】
【氏名】金木 貴之
【テーマコード（参考）】
2H197
2H225
【Ｆターム（参考）】
2H197CA05
2H197CE01
2H197HA02
2H197HA03
2H197HA04
2H197HA05
2H197HA10
2H225AC19
2H225AC31
2H225AC32
2H225AC34
2H225AC36
2H225AC38
2H225AC44
2H225AC45
2H225AC54
2H225AC63
2H225AC66
2H225AC70
2H225AC79
2H225AD01
2H225AD06
2H225AD07
2H225AE03P
2H225AE05P
2H225AE06P
2H225AE13P
2H225AF04P
2H225AM16P
2H225AM73P
2H225AM75P
2H225AM77P
2H225AM79P
2H225AM85P
2H225AM90P
2H225AM99P
2H225AN10P
2H225AN29P
2H225AN39P
2H225AN49P
2H225AN50P
2H225AN54P
2H225AN57P
2H225AN61P
2H225AN68P
2H225AN84P
2H225AN86P
2H225AN88P
2H225AN95P
2H225AN98P
2H225AP11P
2H225BA02P
2H225BA16P
2H225BA17P
2H225BA35P
2H225CA12
2H225CB06
2H225CC01
2H225CC03
2H225CC13
2H225CC21
(57)【要約】
【課題】パターン裾部の残渣抑制及び優れたハーフトーン特性を兼ね備えることができ、機械物性に優れる硬化物を提供できる。加えて、マイグレーション耐性に優れる電子部品に具備される硬化物を提供可能である。
【解決手段】（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物を含有し、さらに（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び／又は（Ｆ）架橋剤を含有する感光性組成物であって、該（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物が、特定の構造を有する、感光性組成物。
【選択図】図１
【解決手段】（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物を含有し、さらに（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び／又は（Ｆ）架橋剤を含有する感光性組成物であって、該（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物が、特定の構造を有する、感光性組成物。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物を含有し、さらに（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び／又は（Ｆ）架橋剤を含有する感光性組成物であって、該（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物が、
（Ｉａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（Ｉｂ）構造：オキシムエステルカルボニル構造、（Ｉｃ）構造：酸素原子、硫黄原子、窒素原子、若しくはリン原子を含む置換基が結合したアリールカルボニル構造、又は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくはジアリールスルフィド構造が結合したカルボニル構造、及び（Ｉｄ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、及び／又は、
（ＩＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（ＩＩｂ）構造：少なくとも２つのオキシムエステルカルボニル構造、及び（ＩＩｃ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、感光性組成物。
（Ｉａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（Ｉｂ）構造：オキシムエステルカルボニル構造、（Ｉｃ）構造：酸素原子、硫黄原子、窒素原子、若しくはリン原子を含む置換基が結合したアリールカルボニル構造、又は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくはジアリールスルフィド構造が結合したカルボニル構造、及び（Ｉｄ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、及び／又は、
（ＩＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（ＩＩｂ）構造：少なくとも２つのオキシムエステルカルボニル構造、及び（ＩＩｃ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、感光性組成物。
【請求項2】
前記（Ａ）バインダー樹脂が（Ａ１）弱酸性基含有樹脂を含み、該（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が（ＷＡ）弱酸性基：フェノール性水酸基、ヒドロキシイミド基、ヒドロキシアミド基、シラノール基、１，１－ビス（トリフルオロメチル）メチロール基、及びメルカプト基からなる群より選ばれる一種類以上の基を有する、請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項3】
さらに、ベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンからなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（１）の条件を満たす、請求項１に記載の感光性組成物。
（１）該感光性組成物中に占めるベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンの含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、１，０００質量ｐｐｍ以下
（１）該感光性組成物中に占めるベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンの含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、１，０００質量ｐｐｍ以下
【請求項4】
前記（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が（Ａ１ｘ）樹脂：樹脂の構造単位中にイミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及びシロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する樹脂を含む、請求項２に記載の感光性組成物。
【請求項5】
前記（Ａ１ｘ）樹脂が、（Ａ１ｘ－１）樹脂：ポリイミド、（Ａ１ｘ－２）樹脂：ポリイミド前駆体、（Ａ１ｘ－３）樹脂：ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１ｘ－４）樹脂：ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１ｘ－５）樹脂：ポリアミドイミド、（Ａ１ｘ－６）樹脂：ポリアミドイミド前駆体、（Ａ１ｘ－７）樹脂：ポリアミド、及びそれらの共重合体からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、
該（Ａ１ｘ）樹脂が、前記（ＷＡ）弱酸性基を含むアミン残基、及び／又は、前記（ＷＡ）弱酸性基を含むカルボン酸残基を有する、請求項４に記載の感光性組成物。
該（Ａ１ｘ）樹脂が、前記（ＷＡ）弱酸性基を含むアミン残基、及び／又は、前記（ＷＡ）弱酸性基を含むカルボン酸残基を有する、請求項４に記載の感光性組成物。
【請求項6】
前記（Ａ）バインダー樹脂が（Ａ１）弱酸性基含有樹脂を含み、該（Ａ１）弱酸性基含有樹脂がラジカル重合性基を有する、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項7】
前記（Ａ）バインダー樹脂が（Ａ１）弱酸性基含有樹脂を含み、該（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が（Ａ１ｙ）樹脂：樹脂の構造単位中にフェノール性水酸基を有する樹脂を含み、該（Ａ１ｙ）樹脂が、フェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、フェノール基含有エポキシ樹脂、及びフェノール基含有アクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、請求項２～５のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項8】
前記（Ａ）バインダー樹脂が、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂及び（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂を含有し、該（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が、（Ａ１ｘ）樹脂：樹脂の構造単位中にイミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及びシロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する樹脂、及び／又は、（Ａ１ｙ）樹脂：樹脂の構造単位中にフェノール性水酸基を有する樹脂を含み、
該（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂が、（Ａ２ｘ）樹脂：ラジカル重合性基を有する樹脂及び／又は（Ａ２ｙ）樹脂：ラジカル重合性基を有しない樹脂を含む、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
該（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂が、（Ａ２ｘ）樹脂：ラジカル重合性基を有する樹脂及び／又は（Ａ２ｙ）樹脂：ラジカル重合性基を有しない樹脂を含む、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項9】
前記（Ａ２ｘ）樹脂が、多環側鎖含有樹脂、酸変性エポキシ樹脂、及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、
前記（Ａ２ｙ）樹脂が、多環側鎖含有樹脂、酸変性エポキシ樹脂、及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、請求項８に記載の感光性組成物。
前記（Ａ２ｙ）樹脂が、多環側鎖含有樹脂、酸変性エポキシ樹脂、及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、請求項８に記載の感光性組成物。
【請求項10】
前記（Ａ）バインダー樹脂が、下記（Ｐ１α）の条件を満たす、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
（Ｐ１α）該（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ素元素の含有量が１０，０００質量ｐｐｍ以下
（Ｐ１α）該（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ素元素の含有量が１０，０００質量ｐｐｍ以下
【請求項11】
さらに有機黒色顔料を含有し、該有機黒色顔料が、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及びアゾメチン系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、
該ベンゾフラノン系黒色顔料が、ベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－２（３Ｈ）－オン構造又はベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－３（２Ｈ）－オン構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含み、
該ペリレン系黒色顔料が、３，４，９，１０－ペリレンテトラカルボン酸ビスベンゾイミダゾール構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含み、
該アゾメチン系黒色顔料が、アゾメチン構造及びカルバゾール構造を有する化合物又はその塩を含む、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
該ベンゾフラノン系黒色顔料が、ベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－２（３Ｈ）－オン構造又はベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－３（２Ｈ）－オン構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含み、
該ペリレン系黒色顔料が、３，４，９，１０－ペリレンテトラカルボン酸ビスベンゾイミダゾール構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含み、
該アゾメチン系黒色顔料が、アゾメチン構造及びカルバゾール構造を有する化合物又はその塩を含む、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項12】
さらに無機黒色顔料を含有し、該無機黒色顔料が、金属元素を含む窒化物、金属元素を含む炭化物、及び金属元素を含む酸窒化物からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、金属元素がジルコニウム、バナジウム、ニオブ、ハフニウム、及びタンタルからなる群より選ばれる一種類以上である、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項13】
さらに、酢酸、プロピオン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、メチル安息香酸、及びトリメチル安息香酸からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（２）の条件を満たす、及び／又は、さらに、アルドオキシム化合物及び／又はケトオキシム化合物を含有し、かつ下記（３）の条件を満たす、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
（２）該感光性組成物の全固形分に占める酢酸、プロピオン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、メチル安息香酸、及びトリメチル安息香酸の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下
（３）該感光性組成物の全固形分に占めるアルドオキシム化合物及びケトオキシム化合物の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下
（２）該感光性組成物の全固形分に占める酢酸、プロピオン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、メチル安息香酸、及びトリメチル安息香酸の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下
（３）該感光性組成物の全固形分に占めるアルドオキシム化合物及びケトオキシム化合物の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下
【請求項14】
さらに水を含有し、かつ下記（４）の条件を満たす、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
（４）該感光性組成物中に占める水の含有量が０．０１０質量％以上、３．０質量％以下
（４）該感光性組成物中に占める水の含有量が０．０１０質量％以上、３．０質量％以下
【請求項15】
下記（１α）の条件を満たす、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
（１α）該感光性組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下
（１α）該感光性組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下
【請求項16】
前記（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物が、前記（Ｉｂ）構造及び前記（ＩＩｂ）構造中のカルボニル構造を含む基と、オキシム構造の酸素原子を含む基との、オキシム構造のＣ＝Ｎ結合に対するシス－トランス異性体を含み、該シス－トランス異性体の合計１００質量％に占める、シス異性体又はトランス異性体の含有比率が９０．０～９９．９質量％である、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項17】
請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物を硬化した硬化物。
【請求項18】
請求項１７に記載の硬化物を具備する電子部品。
【請求項19】
（１）基板上に、請求項１～５のいずれかに記載の感光性組成物の塗膜を成膜する工程、（２）前記感光性組成物の塗膜にフォトマスクを介して活性化学線を照射する工程、（３）現像液を用いて現像し、前記感光性組成物のパターンを形成する工程、及び（４）前記パターンを加熱し、前記感光性組成物の硬化パターンを得る工程、を有する、硬化物の製造方法。
【請求項20】
硬化物を具備する電子部品であって、該硬化物が（Ｃ１ｘ－ＤＬ）カルボニル基含有化合物を含有し、該（Ｃ１ｘ－ＤＬ）カルボニル基含有化合物が、
（ＸＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造にカルボニル基が結合した構造、（ＸＩｃ）構造：酸素原子、硫黄原子、若しくは窒素原子を含む置換基が結合したアリールカルボニル構造、又は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくはジアリールスルフィド構造が結合したカルボニル構造、及び（ＸＩｄ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、及び／又は、
（ＸＩＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造にカルボニル基が結合した構造、及び（ＸＩＩｃ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、電子部品。
（ＸＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造にカルボニル基が結合した構造、（ＸＩｃ）構造：酸素原子、硫黄原子、若しくは窒素原子を含む置換基が結合したアリールカルボニル構造、又は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくはジアリールスルフィド構造が結合したカルボニル構造、及び（ＸＩｄ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、及び／又は、
（ＸＩＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造にカルボニル基が結合した構造、及び（ＸＩＩｃ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、感光性組成物、硬化物、電子部品、及び硬化物の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、半導体の製造工程の効率化によるコスト削減及び高集積化の取り組みがされており、多層の金属再配線を形成する半導体装置が注目されている。このような多層の金属再配線における層間絶縁層に用いられる材料には、多層化に伴う応力に耐えるための高い機械物性が求められる。さらにフォトリソグラフィーによるポジ型又はネガ型のパターン形成時の現像残渣抑制も両立する必要がある。加えて、半導体装置の高集積化に伴う配線微細化により、電気絶縁性に関する信頼性も求められるため、高いマイグレーション耐性も要求される。
【0003】
また有機エレクトロルミネッセンス（以下、「有機ＥＬ」）ディスプレイの製造において、発光材料成膜時の蒸着マスクの支持台となる膜厚の厚い領域（以下、「厚膜部」）と、厚膜部よりも膜厚の小さい薄膜部（以下、「薄膜部」）とを有する画素分割層における段差形状を、ハーフトーンフォトマスクを用いて一括形成するプロセスも適用される。そのため、画素分割層などに用いられる材料には、プロセスタイム削減及び歩留まり向上のため優れたハーフトーン特性が必要とされる。
【0004】
感光性組成物としては、例えば、ポリイミドと、特定構造の光重合開始剤とを含有するネガ型感光性組成物（例えば、特許文献１参照）が挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】国際公開第２０１８／１７３８４０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、特許文献１に記載の組成物は、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性、機械物性、及びマイグレーション耐性を兼ね備えるものではなく、更なる特性向上が望まれていた。本発明は、パターン裾部の残渣抑制と優れたハーフトーン特性とを兼ね備えつつ、優れた機械物性を有し、かつマイグレーション耐性に優れる電子部品に具備される硬化物を提供することを目的とする。また本発明の別の目的は、マイグレーション耐性に優れる電子部品を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上述した課題を解決するために、本発明の感光性組成物及び電子部品は、以下の［１］～［１８］の構成を有する。
【0008】
［１］（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物を含有し、さらに（Ｂ）ラジカル重合性化合物及び／又は（Ｆ）架橋剤を含有する感光性組成物であって、該（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物が、
（Ｉａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（Ｉｂ）構造：オキシムエステルカルボニル構造、（Ｉｃ）構造：酸素原子、硫黄原子、窒素原子、若しくはリン原子を含む置換基が結合したアリールカルボニル構造、又は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくはジアリールスルフィド構造が結合したカルボニル構造、及び（Ｉｄ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、及び／又は、
（ＩＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（ＩＩｂ）構造：少なくとも２つのオキシムエステルカルボニル構造、及び（ＩＩｃ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、感光性組成物。
（Ｉａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（Ｉｂ）構造：オキシムエステルカルボニル構造、（Ｉｃ）構造：酸素原子、硫黄原子、窒素原子、若しくはリン原子を含む置換基が結合したアリールカルボニル構造、又は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくはジアリールスルフィド構造が結合したカルボニル構造、及び（Ｉｄ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、及び／又は、
（ＩＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（ＩＩｂ）構造：少なくとも２つのオキシムエステルカルボニル構造、及び（ＩＩｃ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、感光性組成物。
【0009】
［２］前記（Ａ）バインダー樹脂が（Ａ１）弱酸性基含有樹脂を含み、該（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が（ＷＡ）弱酸性基：フェノール性水酸基、ヒドロキシイミド基、ヒドロキシアミド基、シラノール基、１，１－ビス（トリフルオロメチル）メチロール基、及びメルカプト基からなる群より選ばれる一種類以上の基を有する、［１］に記載の感光性組成物。
【0010】
［３］さらに、ベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンからなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（１）の条件を満たす、［１］又は［２］に記載の感光性組成物。
（１）該感光性組成物中に占めるベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンの含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、１，０００質量ｐｐｍ以下。
（１）該感光性組成物中に占めるベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンの含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、１，０００質量ｐｐｍ以下。
【0011】
［４］前記（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が（Ａ１ｘ）樹脂：樹脂の構造単位中にイミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及びシロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する樹脂を含む、［２］又は［３］に記載の感光性組成物。
【0012】
［５］前記（Ａ１ｘ）樹脂が、（Ａ１ｘ－１）樹脂：ポリイミド、（Ａ１ｘ－２）樹脂：ポリイミド前駆体、（Ａ１ｘ－３）樹脂：ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１ｘ－４）樹脂：ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１ｘ－５）樹脂：ポリアミドイミド、（Ａ１ｘ－６）樹脂：ポリアミドイミド前駆体、（Ａ１ｘ－７）樹脂：ポリアミド、及びそれらの共重合体からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、
該（Ａ１ｘ）樹脂が、前記（ＷＡ）弱酸性基を含むアミン残基、及び／又は、前記（ＷＡ）弱酸性基を含むカルボン酸残基を有する、［４］に記載の感光性組成物。
該（Ａ１ｘ）樹脂が、前記（ＷＡ）弱酸性基を含むアミン残基、及び／又は、前記（ＷＡ）弱酸性基を含むカルボン酸残基を有する、［４］に記載の感光性組成物。
【0013】
［６］前記（Ａ）バインダー樹脂が（Ａ１）弱酸性基含有樹脂を含み、該（Ａ１）弱酸性基含有樹脂がラジカル重合性基を有する、［１］～［５］のいずれかに記載の感光性組成物。
【0014】
［７］前記（Ａ）バインダー樹脂が（Ａ１）弱酸性基含有樹脂を含み、該（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が（Ａ１ｙ）樹脂：樹脂の構造単位中にフェノール性水酸基を有する樹脂を含み、該（Ａ１ｙ）樹脂が、フェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、フェノール基含有エポキシ樹脂、及びフェノール基含有アクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、［２］～［６］のいずれかに記載の感光性組成物。
【0015】
［８］前記（Ａ）バインダー樹脂が、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂及び（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂を含有し、該（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が、（Ａ１ｘ）樹脂：樹脂の構造単位中にイミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及びシロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する樹脂、及び／又は、（Ａ１ｙ）樹脂：樹脂の構造単位中にフェノール性水酸基を有する樹脂を含み、
該（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂が、（Ａ２ｘ）樹脂：ラジカル重合性基を有する樹脂及び／又は（Ａ２ｙ）樹脂：ラジカル重合性基を有しない樹脂を含む、［１］～［７］のいずれかに記載の感光性組成物。
該（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂が、（Ａ２ｘ）樹脂：ラジカル重合性基を有する樹脂及び／又は（Ａ２ｙ）樹脂：ラジカル重合性基を有しない樹脂を含む、［１］～［７］のいずれかに記載の感光性組成物。
【0016】
［９］前記（Ａ２ｘ）樹脂が、多環側鎖含有樹脂、酸変性エポキシ樹脂、及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、
前記（Ａ２ｙ）樹脂が、多環側鎖含有樹脂、酸変性エポキシ樹脂、及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、［８］に記載の感光性組成物。
前記（Ａ２ｙ）樹脂が、多環側鎖含有樹脂、酸変性エポキシ樹脂、及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有する、［８］に記載の感光性組成物。
【0017】
［１０］前記（Ａ）バインダー樹脂が、下記（Ｐ１α）の条件を満たす、［１］～［９］のいずれかに記載の感光性組成物。
（Ｐ１α）該（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ素元素の含有量が１０，０００質量ｐｐｍ以下。
（Ｐ１α）該（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ素元素の含有量が１０，０００質量ｐｐｍ以下。
【0018】
［１１］さらに有機黒色顔料を含有し、該有機黒色顔料が、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及びアゾメチン系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、
該ベンゾフラノン系黒色顔料が、ベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－２（３Ｈ）－オン構造又はベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－３（２Ｈ）－オン構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含み、
該ペリレン系黒色顔料が、３，４，９，１０－ペリレンテトラカルボン酸ビスベンゾイミダゾール構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含み、
該アゾメチン系黒色顔料が、アゾメチン構造及びカルバゾール構造を有する化合物又はその塩を含む、［１］～［１０］のいずれかに記載の感光性組成物。
該ベンゾフラノン系黒色顔料が、ベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－２（３Ｈ）－オン構造又はベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－３（２Ｈ）－オン構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含み、
該ペリレン系黒色顔料が、３，４，９，１０－ペリレンテトラカルボン酸ビスベンゾイミダゾール構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含み、
該アゾメチン系黒色顔料が、アゾメチン構造及びカルバゾール構造を有する化合物又はその塩を含む、［１］～［１０］のいずれかに記載の感光性組成物。
【0019】
［１２］さらに無機黒色顔料を含有し、該無機黒色顔料が、金属元素を含む窒化物、金属元素を含む炭化物、及び金属元素を含む酸窒化物からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、金属元素がジルコニウム、バナジウム、ニオブ、ハフニウム、及びタンタルからなる群より選ばれる一種類以上である、［１］～［１１］のいずれかに記載の感光性組成物。
【0020】
［１３］さらに、酢酸、プロピオン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、メチル安息香酸、及びトリメチル安息香酸からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（２）の条件を満たす、及び／又は、さらに、アルドオキシム化合物及び／又はケトオキシム化合物を含有し、かつ下記（３）の条件を満たす、［１］～［１２］のいずれかに記載の感光性組成物。
（２）該感光性組成物の全固形分に占める酢酸、プロピオン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、メチル安息香酸、及びトリメチル安息香酸の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下
（３）該感光性組成物の全固形分に占めるアルドオキシム化合物及びケトオキシム化合物の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下。
（２）該感光性組成物の全固形分に占める酢酸、プロピオン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、メチル安息香酸、及びトリメチル安息香酸の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下
（３）該感光性組成物の全固形分に占めるアルドオキシム化合物及びケトオキシム化合物の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下。
【0021】
［１４］さらに水を含有し、かつ下記（４）の条件を満たす、［１］～［１３］のいずれかに記載の感光性組成物。
（４）該感光性組成物中に占める水の含有量が０．０１０質量％以上、３．０質量％以下。
（４）該感光性組成物中に占める水の含有量が０．０１０質量％以上、３．０質量％以下。
【0022】
［１５］下記（１α）の条件を満たす、［１］～［１４］のいずれかに記載の感光性組成物。
（１α）該感光性組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下。
（１α）該感光性組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下。
【0023】
［１６］前記（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物が、前記（Ｉｂ）構造及び前記（ＩＩｂ）構造中のカルボニル構造を含む基と、オキシム構造の酸素原子を含む基との、オキシム構造のＣ＝Ｎ結合に対するシス－トランス異性体を含み、該シス－トランス異性体の合計１００質量％に占める、シス異性体又はトランス異性体の含有比率が９０．０～９９．９質量％である、［１］～［１５］のいずれかに記載の感光性組成物。
【0024】
［１７］［１］～［１６］のいずれかに記載の感光性組成物を硬化した硬化物。
【0025】
［１８］［１７］に記載の硬化物を具備する電子部品。
【0026】
［１９］（１）基板上に、［１］～［１６］のいずれかに記載の感光性組成物の塗膜を成膜する工程、（２）前記感光性組成物の塗膜にフォトマスクを介して活性化学線を照射する工程、（３）現像液を用いて現像し、前記感光性組成物のパターンを形成する工程、及び（４）前記パターンを加熱し、前記感光性組成物の硬化パターンを得る工程、を有する、硬化物の製造方法。
【0027】
［２０］硬化物を具備する電子部品であって、該硬化物が（Ｃ１ｘ－ＤＬ）カルボニル基含有化合物を含有し、該（Ｃ１ｘ－ＤＬ）カルボニル基含有化合物が、
（ＸＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造にカルボニル基が結合した構造、（ＸＩｃ）構造：酸素原子、硫黄原子、若しくは窒素原子を含む置換基が結合したアリールカルボニル構造、又は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくはジアリールスルフィド構造が結合したカルボニル構造、及び（ＸＩｄ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、及び／又は、
（ＸＩＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造にカルボニル基が結合した構造、及び（ＸＩＩｃ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、電子部品。
（ＸＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造にカルボニル基が結合した構造、（ＸＩｃ）構造：酸素原子、硫黄原子、若しくは窒素原子を含む置換基が結合したアリールカルボニル構造、又は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくはジアリールスルフィド構造が結合したカルボニル構造、及び（ＸＩｄ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、及び／又は、
（ＸＩＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造にカルボニル基が結合した構造、及び（ＸＩＩｃ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、電子部品。
【発明の効果】
【0028】
本発明の感光性組成物によれば、パターン裾部の残渣抑制及び優れたハーフトーン特性を兼ね備えることができ、機械物性に優れる硬化物を提供できる。加えて、マイグレーション耐性に優れる電子部品に具備される硬化物を提供可能である。また本発明の電子部品によれば、マイグレーション耐性に優れる電子部品を提供可能である。
【図面の簡単な説明】
【0029】
【図1】ハーフトーン特性評価に用いたハーフトーンフォトマスクにおける、透光部、遮光部、及び半透光部の、配置及び寸法を例示する概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0030】
以下、本発明の感光性組成物について述べる。ただし、本発明は以下の各実施の形態に限定されるものではなく、発明の目的を達成でき、かつ発明の要旨を逸脱しない範囲内においての種々の変更は当然ありえる。なお樹脂の主鎖とは、構造単位を含む樹脂を構成する鎖のうち最も鎖長が長いものをいう。樹脂の側鎖とは、構造単位を含む樹脂を構成する鎖のうち、主鎖から分岐した又は主鎖に結合した、主鎖よりも鎖長が短いものをいう。樹脂の末端とは主鎖を封止する構造をいい、例えば、末端封止剤などに由来する構造である。また「ＸＸ結合」や「ＸＸ基」を含む、炭化水素基やアルキレン基とは、「ＸＸ結合」や「ＸＸ基」が結合した、炭化水素基やアルキレン基、又は、「ＸＸ結合」や「ＸＸ基」によって連結された、少なくとも２つの炭化水素基や少なくとも２つのアルキレン基をいう。「ＸＸ構造」や「ＸＸ原子」を含むＺＺ基とは、「ＸＸ構造」や「ＸＸ原子」が結合したＺＺ基、又は、「ＸＸ構造」や「ＸＸ原子」を構造中のいずれかに含むＺＺ基をいう。
【0031】
＜感光性組成物＞
本発明の感光性組成物は上記の［１］の構成を有する。上記の構成とすることで、本発明の感光性組成物は、パターン裾部の残渣抑制及び優れたハーフトーン特性を兼ね備えることができ、機械物性に優れる硬化物を提供できる。加えて、マイグレーション耐性に優れる電子部品に具備される硬化物を提供可能である。これは感光性組成物中に上記の特定の構造を有する（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物を含有させることで、当該化合物が膜全体に相溶化することに加え、当該化合物のＵＶ透過性及びフォトブリーチング性により、比較的少ない露光量で膜の深部までＵＶ硬化が進行すると推定される。その結果、膜の深部におけるラジカル発生量が制御され、また下地の基板によるＵＶ光の反射も低減されることで過剰なラジカル重合が抑制されるため、パターン裾部の残渣抑制の効果を奏功すると考えられる。加えて、膜の深部までＵＶ硬化が進行するため、優れたハーフトーン特性の効果を奏功すると推定される。また上記の（Ｉｂ）構造及び（Ｉｃ）構造、又は、（ＩＩｂ）構造におけるカルボニル構造中のπ電子や、上記の（Ｉｄ）構造又は（ＩＩｃ）構造における特定の炭素数の脂肪族基又は脂環式基による疎水性構造が、開口部（ネガ型の感光性を有する場合は未露光部、ポジ型の感光性を有する場合は露光部）における有機物の残渣成分と相互作用し、現像液に対して溶解促進するため、パターン裾部の残渣抑制の効果を奏功するとも考えられる。
本発明の感光性組成物は上記の［１］の構成を有する。上記の構成とすることで、本発明の感光性組成物は、パターン裾部の残渣抑制及び優れたハーフトーン特性を兼ね備えることができ、機械物性に優れる硬化物を提供できる。加えて、マイグレーション耐性に優れる電子部品に具備される硬化物を提供可能である。これは感光性組成物中に上記の特定の構造を有する（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物を含有させることで、当該化合物が膜全体に相溶化することに加え、当該化合物のＵＶ透過性及びフォトブリーチング性により、比較的少ない露光量で膜の深部までＵＶ硬化が進行すると推定される。その結果、膜の深部におけるラジカル発生量が制御され、また下地の基板によるＵＶ光の反射も低減されることで過剰なラジカル重合が抑制されるため、パターン裾部の残渣抑制の効果を奏功すると考えられる。加えて、膜の深部までＵＶ硬化が進行するため、優れたハーフトーン特性の効果を奏功すると推定される。また上記の（Ｉｂ）構造及び（Ｉｃ）構造、又は、（ＩＩｂ）構造におけるカルボニル構造中のπ電子や、上記の（Ｉｄ）構造又は（ＩＩｃ）構造における特定の炭素数の脂肪族基又は脂環式基による疎水性構造が、開口部（ネガ型の感光性を有する場合は未露光部、ポジ型の感光性を有する場合は露光部）における有機物の残渣成分と相互作用し、現像液に対して溶解促進するため、パターン裾部の残渣抑制の効果を奏功するとも考えられる。
【0032】
上記の特定の構造を有する（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物により、膜の表面から膜の深部まで効率的にＵＶ硬化が進行すると推定される。その結果、膜の架橋度向上に加え、膜中における架橋度の勾配が均一となるため、優れた機械物性の効果を奏功すると考えられる。また上記の特定の構造を有する（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物は、露光時や熱硬化時にラジカル発生をするだけでなく、露光時や熱硬化時に結合開裂をした後、架橋剤として樹脂などと架橋構造を形成すると推定される。そのため、上記の（Ｉａ）構造又は（ＩＩａ）構造が硬化物中における分極構造や電荷バランスの制御に寄与すると考えられる。その結果、電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物に起因するイオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションを抑制することで、優れたマイグレーション耐性の効果を奏功すると推定される。また配線中の金属のマイグレーション抑制や凝集抑制により、電子部品、半導体装置、表示装置、又は金属張積層板における高信頼性の効果も奏功すると推定される。
【0033】
＜（Ａ）バインダー樹脂＞
本発明の感光性組成物は（Ａ）バインダー樹脂を含有する。（Ａ）バインダー樹脂とは、組成物を硬化した硬化物中に少なくとも一部が残存する耐熱性を有する樹脂である。（Ａ）バインダー樹脂は、反応によって架橋構造が形成されて硬化する樹脂が好ましい。反応は、加熱によるもの、エネルギー線の照射によるもの等、特に限定されるものではなく、後述する（Ｆ）架橋剤によって架橋構造が形成されても構わない。（Ａ）バインダー樹脂は、熱硬化性樹脂が好ましい。
本発明の感光性組成物は（Ａ）バインダー樹脂を含有する。（Ａ）バインダー樹脂とは、組成物を硬化した硬化物中に少なくとも一部が残存する耐熱性を有する樹脂である。（Ａ）バインダー樹脂は、反応によって架橋構造が形成されて硬化する樹脂が好ましい。反応は、加熱によるもの、エネルギー線の照射によるもの等、特に限定されるものではなく、後述する（Ｆ）架橋剤によって架橋構造が形成されても構わない。（Ａ）バインダー樹脂は、熱硬化性樹脂が好ましい。
【0034】
（Ａ）バインダー樹脂は、酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂又は有機溶剤可溶性構造を有する有機溶剤可溶性樹脂が好ましい。（Ａ）バインダー樹脂は、後述する（Ｃ）感光剤によって組成物にポジ型又はネガ型の感光性が付与され、ポジ型又はネガ型のパターンを形成可能な溶解性を有する樹脂が好ましい。（Ａ）バインダー樹脂は樹脂の構造単位中に酸性基を有することがより好ましい。酸性基は、アルカリ現像液でのパターン加工性の観点から、フェノール性水酸基、ヒドロキシイミド基、ヒドロキシアミド基、シラノール基、１，１－ビス（トリフルオロメチル）メチロール基、メルカプト基、カルボキシ基、カルボン酸無水物基、又はスルホン酸基が好ましく、さらに露光時の感度向上及びパターン裾部の残渣抑制の観点から、カルボキシ基、カルボン酸無水物基、又はスルホン酸基がより好ましい。
【0035】
（Ａ）バインダー樹脂はラジカル重合性基を有することが好ましく、樹脂の構造単位中にラジカル重合性基を有することがより好ましい。ラジカル重合性基はエチレン性不飽和二重結合基を有することが好ましく、光反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、又は炭素数２～５のアルキニル基がより好ましい。光反応性基は、スチリル基、シンナモイル基、マレイミド基、ナジイミド基、又は（メタ）アクリロイル基が好ましく、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。一方、炭素数２～５のアルケニル基又は炭素数２～５のアルキニル基は、ビニル基、アリル基、２－メチル－２－プロペニル基、クロトニル基、２－メチル－２－ブテニル基、３－メチル－２－ブテニル基、２，３－ジメチル－２－ブテニル基、エチニル基、又は２－プロパルギル基が好ましく、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、ビニル基又はアリル基がより好ましい。
【0036】
＜（Ａ１）樹脂及び（Ａ２）樹脂＞
（Ａ）バインダー樹脂は、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂及び／又は（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂を含有することが好ましい。
（Ａ）バインダー樹脂は、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂及び／又は（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂を含有することが好ましい。
【0037】
（Ａ）バインダー樹脂は、ハーフトーン特性向上の観点から、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂を含み、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が（ＷＡ）弱酸性基：フェノール性水酸基、ヒドロキシイミド基、ヒドロキシアミド基、シラノール基、１，１－ビス（トリフルオロメチル）メチロール基、及びメルカプト基からなる群より選ばれる一種類以上の基を有することが好ましく、樹脂の構造単位中に（ＷＡ）弱酸性基を有することがより好ましい。（ＷＡ）弱酸性基は、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、フェノール性水酸基、シラノール基、又は１，１－ビス（トリフルオロメチル）メチロール基が好ましく、フェノール性水酸基がより好ましい。なお（Ａ）バインダー樹脂が後述する下記（Ｐ１α）及び／又は（Ｐ２α）の条件を満たす場合、又は、本発明の感光性組成物が後述する下記（１α）及び／又は（２α）の条件を満たす場合、（Ａ）バインダー樹脂が有する酸性基は、フェノール性水酸基、ヒドロキシイミド基、ヒドロキシアミド基、シラノール基、メルカプト基、カルボキシ基、カルボン酸無水物基、又はスルホン酸基が好ましく、（ＷＡ）弱酸性基は、フェノール性水酸基、ヒドロキシイミド基、ヒドロキシアミド基、シラノール基、及びメルカプト基からなる群より選ばれる一種類以上の基が好ましい。
【0038】
上記の（Ａ１）弱酸性基含有樹脂は、（ＷＡ）弱酸性基の適度な酸性度によりハーフトーン露光部が緩やかな現像膜減りをするため、溶解性が制御されることでハーフトーン特性向上の効果が顕著となる。（ＷＡ）弱酸性基のうちフェノール性水酸基は、アルカリ溶解促進作用により、パターン裾部の残渣抑制の効果が顕著となる。また組成物がネガ型の感光性を有する場合、（ＷＡ）弱酸性基のうちフェノール性水酸基は露光部における過度なＵＶ硬化を制御するとともに、露光量に対するＵＶ硬化度の勾配を緩やかにできるため、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性向上の効果が顕著となる。
【0039】
（Ａ）バインダー樹脂は、パターン裾部の残渣抑制の観点から、（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂を含むことが好ましい。（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂は（ＷＡ）弱酸性基とは異なる酸性基を有することが好ましく、樹脂の構造単位中に（ＷＡ）弱酸性基とは異なる酸性基を有することがより好ましい。（ＷＡ）弱酸性基とは異なる酸性基は、露光時の感度向上及びパターン裾部の残渣抑制の観点から、カルボキシ基、カルボン酸無水物基、又はスルホン酸基がより好ましい。
【0040】
（Ａ）バインダー樹脂は、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂を含み、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂がラジカル重合性基を有することが好ましい。ラジカル重合性基に関する例示及び好ましい記載は、上記の（Ａ）バインダー樹脂における記載の通りである。
【0041】
（Ａ）バインダー樹脂は、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂及び／又は（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂を含有し、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が、（Ａ１ｘ）樹脂：樹脂の構造単位中にイミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及びシロキサン構造（以下、「イミド構造等」）からなる群より選ばれる一種類以上を有する樹脂、及び／又は、（Ａ１ｙ）樹脂：樹脂の構造単位中にフェノール性水酸基を有する樹脂を含み、（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂が、（Ａ２ｘ）樹脂：ラジカル重合性基を有する樹脂及び／又は（Ａ２ｙ）樹脂：ラジカル重合性基を有しない樹脂を含むことが好ましい。
【0042】
（Ａ）バインダー樹脂は、ハーフトーン特性向上及びパターン裾部の残渣抑制の観点から、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂及び（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂を含有し、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が、（Ａ１ｘ）樹脂及び／又は（Ａ１ｙ）樹脂を含み、（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂が、（Ａ２ｘ）樹脂及び／又は（Ａ２ｙ）樹脂を含むことが好ましい。
【0043】
なお（Ａ１ｘ）樹脂、（Ａ１ｙ）樹脂、（Ａ２ｘ）樹脂、及び（Ａ２ｙ）樹脂は、これらの中でそれぞれが別の樹脂を構成する構造や基を有する場合は、以下の表１－１に示す分類方法によりいずれかに分類するものとする。ある樹脂が（Ａ１ｘ）樹脂、（Ａ１ｙ）樹脂、（Ａ２ｘ）樹脂、及び（Ａ２ｙ）樹脂のうち、２つ以上に該当しうる場合は、当該分類方法によりいずれの樹脂に該当するか決定する。
【0044】
【表1-1】
【0045】
（Ａ）バインダー樹脂は、（Ａ１ｘ）樹脂及び／又は（Ａ１ｙ）樹脂を含有することが好ましく、（Ａ１ｘ）樹脂を含有することがより好ましく、（Ａ１ｘ）樹脂及び（Ａ１ｙ）樹脂を含有することがさらに好ましい。また（Ａ）バインダー樹脂は、（Ａ１ｘ）樹脂及び／又は（Ａ１ｙ）樹脂を含有し、さらに（Ａ２ｘ）樹脂を含有することが好ましく、（Ａ１ｘ）樹脂、（Ａ１ｙ）樹脂、及び（Ａ２ｘ）樹脂を含有することがより好ましい。また（Ａ）バインダー樹脂は、（Ａ１ｘ）樹脂、（Ａ１ｙ）樹脂、又は（Ａ２ｘ）樹脂を含有し、さらに（Ａ２ｙ）樹脂を含有することも好ましい。また（Ａ）バインダー樹脂は、各樹脂による特性向上の観点から、（Ａ１ｘ）樹脂、（Ａ１ｙ）樹脂、（Ａ２ｘ）樹脂、及び（Ａ２ｙ）樹脂からなる群より選ばれる二種類以上を含有することも好ましい。
【0046】
＜（Ａ１ｘ）樹脂＞
（Ａ１）弱酸性基含有樹脂は、ハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、（Ａ１ｘ）樹脂：樹脂の構造単位中にイミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及びシロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する樹脂を含むことが好ましい。（Ａ１ｘ）樹脂は、ハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、（Ａ１ｘ－１）樹脂：ポリイミド、（Ａ１ｘ－２）樹脂：ポリイミド前駆体、（Ａ１ｘ－３）樹脂：ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１ｘ－４）樹脂：ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１ｘ－５）樹脂：ポリアミドイミド、（Ａ１ｘ－６）樹脂：ポリアミドイミド前駆体、（Ａ１ｘ－７）樹脂：ポリアミド、（Ａ１ｘ－８）樹脂：ポリシロキサン、マレイミド樹脂、マレイミド－スチレン樹脂、マレイミド－トリアジン樹脂、マレイミド－オキサジン樹脂、及びそれらの共重合体からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、（Ａ１ｘ－１）樹脂、（Ａ１ｘ－２）樹脂、（Ａ１ｘ－３）樹脂、（Ａ１ｘ－４）樹脂、（Ａ１ｘ－５）樹脂、（Ａ１ｘ－６）樹脂、（Ａ１ｘ－７）樹脂、及びそれらの共重合体（以下、「弱酸性基を有するポリイミド系の樹脂」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましい。（Ａ１ｘ）樹脂は、機械物性向上の観点から、（Ａ１ｘ－１）樹脂、（Ａ１ｘ－３）樹脂、及びそれらの共重合体を含有することがさらに好ましい。（Ａ１ｘ）樹脂は、露光時の感度向上の観点から、（Ａ１ｘ－２）樹脂、（Ａ１ｘ－４）樹脂、及びそれらの共重合体を含有することがさらに好ましい。（Ａ１ｘ）樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。
（Ａ１）弱酸性基含有樹脂は、ハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、（Ａ１ｘ）樹脂：樹脂の構造単位中にイミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及びシロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する樹脂を含むことが好ましい。（Ａ１ｘ）樹脂は、ハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、（Ａ１ｘ－１）樹脂：ポリイミド、（Ａ１ｘ－２）樹脂：ポリイミド前駆体、（Ａ１ｘ－３）樹脂：ポリベンゾオキサゾール、（Ａ１ｘ－４）樹脂：ポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ａ１ｘ－５）樹脂：ポリアミドイミド、（Ａ１ｘ－６）樹脂：ポリアミドイミド前駆体、（Ａ１ｘ－７）樹脂：ポリアミド、（Ａ１ｘ－８）樹脂：ポリシロキサン、マレイミド樹脂、マレイミド－スチレン樹脂、マレイミド－トリアジン樹脂、マレイミド－オキサジン樹脂、及びそれらの共重合体からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、（Ａ１ｘ－１）樹脂、（Ａ１ｘ－２）樹脂、（Ａ１ｘ－３）樹脂、（Ａ１ｘ－４）樹脂、（Ａ１ｘ－５）樹脂、（Ａ１ｘ－６）樹脂、（Ａ１ｘ－７）樹脂、及びそれらの共重合体（以下、「弱酸性基を有するポリイミド系の樹脂」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましい。（Ａ１ｘ）樹脂は、機械物性向上の観点から、（Ａ１ｘ－１）樹脂、（Ａ１ｘ－３）樹脂、及びそれらの共重合体を含有することがさらに好ましい。（Ａ１ｘ）樹脂は、露光時の感度向上の観点から、（Ａ１ｘ－２）樹脂、（Ａ１ｘ－４）樹脂、及びそれらの共重合体を含有することがさらに好ましい。（Ａ１ｘ）樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。
【0047】
上記の（Ａ１ｘ）樹脂は、樹脂の構造単位中にイミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、又はシロキサン構造を有することで、機械物性向上の効果が得られる。またこれらの構造が、電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物などを捕捉するため、イオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションが抑制され、マイグレーション耐性が向上すると推定される。
【0048】
一方、（Ａ２ｘ）樹脂及び（Ａ２ｙ）樹脂は、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性向上、及び機械物性向上の観点から、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリアミドイミド、ポリアミドイミド前駆体、ポリアミド、マレイミド樹脂、マレイミド－スチレン樹脂、マレイミド－トリアジン樹脂、マレイミド－オキサジン樹脂、及びそれらの共重合体からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリアミドイミド、ポリアミドイミド前駆体、ポリアミド、及びそれらの共重合体（以下、「弱酸性基を有しないポリイミド系の樹脂」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましい。
【0049】
（Ａ１ｘ）樹脂は、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、（Ａ１ｘ－１）樹脂、（Ａ１ｘ－２）樹脂、（Ａ１ｘ－３）樹脂、（Ａ１ｘ－４）樹脂、（Ａ１ｘ－５）樹脂、（Ａ１ｘ－６）樹脂、及びそれらの共重合体からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、（Ａ１ｘ）樹脂が、（ＷＡ）弱酸性基を含むアミン残基、及び／又は、（ＷＡ）弱酸性基を含むカルボン酸残基を有することが好ましい。
【0050】
（Ａ１ｘ－１）樹脂、（Ａ１ｘ－２）樹脂、（Ａ１ｘ－３）樹脂、（Ａ１ｘ－４）樹脂、（Ａ１ｘ－５）樹脂、（Ａ１ｘ－６）樹脂、及びそれらの共重合体からなる群より選ばれる一種類以上は、一般式（１１）で表されるアミン残基及び一般式（１３）で表されるアミン残基からなる群より選ばれる一種類以上、及び／又は、一般式（１１）、（１２）、及び（１４）で表されるカルボン酸残基からなる群より選ばれる一種類以上を有することがより好ましい。
【0051】
【化1】
【0052】
一般式（１１）～（１４）において、Ｒ３１～Ｒ３８は、それぞれ独立して、１，１－ビス（トリフルオロメチル）メチロール基、メルカプト基、又はスルホン酸基を表す。Ｒ３９～Ｒ４２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、又は炭素数１～６のハロゲン化アルキル基を表す。Ｒ６１～Ｒ６８は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数２～１０のアルケニルオキシ基、又は炭素数１～１０のアシル基を表す。Ｘ１１～Ｘ１６は、それぞれ独立して、直接結合、炭化水素基、エーテル結合を含む炭化水素基、又は炭化水素基が結合したアミド基を表す。Ｙ１１～Ｙ１４は、それぞれ独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、炭化水素基、エーテル結合を含む炭化水素基、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、カルボニルオキシ基を含む炭化水素基、又はカルボニルアミド基を含む炭化水素基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｆは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。ｇ、ｈ、ｉ、ｊ、ｍ、及びｎは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。ｋ及びｌは、それぞれ独立して、０～３の整数を表す。ｏ、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ、ｕ、及びｖは、それぞれ独立して、０～３の整数を表す。ｗ、ｘ、ｙ、及びｚは、それぞれ独立して、０～６の整数を表す。なお１≦ａ＋ｇ≦４、かつ、１≦ｂ＋ｈ≦４である。また１≦ｃ＋ｉ≦４、かつ、１≦ｄ＋ｊ≦４である。また１≦ｅ＋ｍ≦４、かつ、１≦ｆ＋ｎ≦４である。＊１～＊１３は、それぞれ独立して、樹脂中の結合点を表す。
【0053】
一般式（１１）～（１４）において、ハロゲン原子はフッ素原子が好ましい。ハロゲン化アルキル基はフッ化アルキル基が好ましい。Ｘ１１～Ｘ１６において、炭化水素基、エーテル結合を含む炭化水素基、及び炭化水素基が結合したアミド基における炭化水素基は、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数４～１０のシクロアルキレン基、炭素数６～１５のアリーレン基、又は炭素数１０～２０のアリールアルキレン基が好ましい。Ｙ１１～Ｙ１４において、炭化水素基及びエーテル結合を含む炭化水素基における炭化水素基は、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数４～１０のシクロアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基が好ましい。Ｙ１１～Ｙ１４において、カルボニルオキシ基を含む炭化水素基及びカルボニルアミド基を含む炭化水素基の炭素数は１～１５が好ましく、炭化水素基は脂肪族構造、脂環式構造、芳香族構造、縮合多環式構造、又は縮合多環式ヘテロ環構造が好ましい。上述した置換基及び構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。なお一般式（１３）で表されるアミン残基はベンゾオキサゾール環を形成することが好ましい。すなわち樹脂の構造単位中にベンゾオキサゾール環を有する樹脂において、ベンゾオキサゾール環が一般式（１３）で表されるアミン残基を有することが好ましい。また一般式（１１）で表されるアミン残基中のフェノール性水酸基が樹脂中の構造及び／又は基と反応してベンゾオキサゾール環を形成することも好ましい。
【0054】
それぞれの樹脂の全アミン残基に占める一般式（１１）及び一般式（１３）で表されるアミン残基の含有比率の合計、及び／又は、全カルボン酸残基に占める一般式（１１）、（１２）、及び（１４）で表されるカルボン酸残基の含有比率の合計は、上記の特性向上の観点から、１０ｍｏｌ％以上が好ましく、３０ｍｏｌ％以上がより好ましく、５０ｍｏｌ％以上がさらに好ましい。一方、一般式（１１）及び一般式（１３）で表されるアミン残基の含有比率の合計、及び／又は、一般式（１１）、（１２）、及び（１４）で表されるカルボン酸残基の含有比率の合計は、上記の特性向上の観点から、１００ｍｏｌ％以下が好ましく、９０ｍｏｌ％以下がより好ましく、７０ｍｏｌ％以下がさらに好ましい。
【0055】
（Ａ１ｘ）樹脂は、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、ラジカル重合性基を有することが好ましい。ラジカル重合性基に関する例示及び好ましい記載は、上記の（Ａ）バインダー樹脂における記載の通りである。ラジカル重合性基は、一般式（５１）、（５２）、（５３）、（５４）及び（５５）からなる群より選ばれる一種類以上であることが好ましい。ラジカル重合性基は、樹脂が有するフェノール性水酸基及び／又はカルボキシ基の一部を、ラジカル重合性基を有する化合物と反応させて得られるものが好ましい。
【0056】
【化2】
【0057】
一般式（５１）～（５５）において、Ｘ２１～Ｘ２４は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数４～１０のシクロアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。Ｘ２５は２～６価の有機基を表す。Ｘ２６は直接結合又は２～６価の有機基を表す。Ｒ１８１～Ｒ２０２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｅは、それぞれ独立して、０又は１を表す。ｆ及びｇは、それぞれ独立して、１～５の整数を表す。
【0058】
一般式（５１）～（５５）において、Ｘ２５は２～６価の脂肪族基が好ましく、２～６価の炭素数１～１０のアルキレン基がより好ましい。Ｘ２６は直接結合又は２～６価の脂肪族基が好ましく、２～６価の炭素数１～１０のアルキレン基がより好ましい。上述した置換基及び構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
【0059】
（Ａ１ｘ）樹脂は、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、ラジカル重合性基を有しない（Ａ１ｘ）樹脂、及び、ラジカル重合性基を有する（Ａ１ｘ）樹脂を含有することが好ましい。上記の構成とすることで、ラジカル重合性基を有しない（Ａ１ｘ）樹脂が、酸性基又は有機溶剤可溶性構造によるパターン裾部の残渣抑制と、金属不純物やイオン不純物などの捕捉能などを奏する一方、ラジカル重合性基を有する（Ａ１ｘ）樹脂が、露光時の感度向上及びラジカル重合促進による膜の架橋度向上などを奏すると考えられる。このような（Ａ１ｘ）樹脂における機能分離により、複数の特性向上の効果が顕著となる。
【0060】
（Ａ１ｘ）樹脂の酸当量は、露光時の感度向上の観点から、２００ｇ／ｍｏｌ以上が好ましい。一方、（Ａ１ｘ）樹脂の酸当量は、パターン裾部の残渣抑制の観点から、６００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましい。ここでいう露光とは、活性化学線（放射線）の照射のことであり、例えば、可視光線、紫外線、電子線、又はＸ線などの照射が挙げられる。以降、露光とは、活性化学線（放射線）の照射をいう。（Ａ１ｘ）樹脂の二重結合当量は、パターン裾部の残渣抑制の観点から、２００ｇ／ｍｏｌ以上が好ましい。一方、（Ａ１ｘ）樹脂の二重結合当量は、露光時の感度向上の観点から、３，０００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましい。
【0061】
＜ポリイミド系の樹脂＞
以下、（Ａ１ｘ）樹脂である弱酸性基を有するポリイミド系の樹脂と、（Ａ２ｘ）樹脂又は（Ａ２ｙ）樹脂である弱酸性基を有しないポリイミド系の樹脂についてまとめて記載する。これらの樹脂をまとめてポリイミド系の樹脂という場合もある。ポリイミド前駆体としては、例えば、ポリアミド酸、ポリアミド酸エステル、ポリアミド酸アミド、又はポリイソイミドが挙げられる。ポリイミドとしては、例えば、ポリイミド前駆体を脱水閉環させた樹脂が挙げられる。ポリベンゾオキサゾール前駆体としては、例えば、ポリヒドロキシアミドが挙げられる。ポリベンゾオキサゾールとしては、例えば、ポリベンゾオキサゾール前駆体を脱水閉環させた樹脂が挙げられる。ポリアミドイミド前駆体としては、例えば、トリカルボン酸無水物などと、ジアミンなどとを反応させることで得られる樹脂が挙げられる。ポリアミドイミドとしては、例えば、ポリアミドイミド前駆体を脱水閉環させた樹脂が挙げられる。ポリアミドとしては、例えば、ジカルボン酸塩化物などと、ジアミンなどとを反応させることで得られる樹脂が挙げられる。
以下、（Ａ１ｘ）樹脂である弱酸性基を有するポリイミド系の樹脂と、（Ａ２ｘ）樹脂又は（Ａ２ｙ）樹脂である弱酸性基を有しないポリイミド系の樹脂についてまとめて記載する。これらの樹脂をまとめてポリイミド系の樹脂という場合もある。ポリイミド前駆体としては、例えば、ポリアミド酸、ポリアミド酸エステル、ポリアミド酸アミド、又はポリイソイミドが挙げられる。ポリイミドとしては、例えば、ポリイミド前駆体を脱水閉環させた樹脂が挙げられる。ポリベンゾオキサゾール前駆体としては、例えば、ポリヒドロキシアミドが挙げられる。ポリベンゾオキサゾールとしては、例えば、ポリベンゾオキサゾール前駆体を脱水閉環させた樹脂が挙げられる。ポリアミドイミド前駆体としては、例えば、トリカルボン酸無水物などと、ジアミンなどとを反応させることで得られる樹脂が挙げられる。ポリアミドイミドとしては、例えば、ポリアミドイミド前駆体を脱水閉環させた樹脂が挙げられる。ポリアミドとしては、例えば、ジカルボン酸塩化物などと、ジアミンなどとを反応させることで得られる樹脂が挙げられる。
【0062】
ポリイミド前駆体は、機械物性向上の観点から、アミド酸エステル構造単位及び／又はアミド酸アミド構造単位を有することが好ましい。またポリイミド前駆体は、アミド酸構造単位、アミド酸エステル構造単位、又はアミド酸アミド構造単位の一部がイミド閉環したイミド閉環構造単位を有しても構わない。上記のポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリアミドイミド、及びポリアミドイミド前駆体は、ポリアミドとの共重合体であっても構わない。
【0063】
ポリイミド系の樹脂は、露光時の感度向上の観点から、フッ素原子を有するカルボン酸残基及び／又はフッ素原子を有するアミン残基を有することが好ましい。それぞれの樹脂の全カルボン酸残基及び全アミン残基に占める、フッ素原子を有するカルボン酸残基及びフッ素原子を有するアミン残基の含有比率の合計は１０～１００ｍｏｌ％が好ましく、３０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、５０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。全アミン残基に占めるフッ素原子を有するアミン残基の含有比率の合計及び全カルボン酸残基に占めるフッ素原子を有するカルボン酸残基の含有比率の合計に関する好ましい範囲も、それぞれ上記と同様である。
【0064】
ポリイミド系の樹脂は、保管安定性向上の観点から、樹脂の末端にモノアミン、ジカルボン酸無水物、又はモノカルボン酸誘導体で封止された構造を有することが好ましい。ポリイミド系の樹脂、は露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、樹脂の末端に、樹脂などと反応可能なラジカル重合性基又は架橋性基を有することが好ましく、マレイミド基又はナジイミド基を有することがより好ましい。これらの基を有する酸単量体としては、例えば、マレイン酸無水物又はナジック酸無水物が挙げられる。
【0065】
＜（Ａ）バインダー樹脂の構造中のフッ素元素の含有量＞
（Ａ）バインダー樹脂は、パターン裾部の残渣抑制及びマイグレーション耐性向上の観点から、下記（Ｐ１α）の条件を満たすことも好ましい。（Ａ）バインダー樹脂は、さらに下記（Ｐ２α）の条件を満たすことがより好ましい。（Ａ）バインダー樹脂がポリイミド系の樹脂である場合も同様に、パターン裾部の残渣抑制及びマイグレーション耐性向上の観点から、下記（Ｐ１α）の条件を満たすことも好ましく、さらに下記（Ｐ２α）の条件を満たすことがより好ましい。
（Ｐ１α）（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ素元素の含有量が１０，０００質量ｐｐｍ以下
（Ｐ２α）（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ化物イオンの含有量が１０，０００質量ｐｐｍ以下。
（Ａ）バインダー樹脂は、パターン裾部の残渣抑制及びマイグレーション耐性向上の観点から、下記（Ｐ１α）の条件を満たすことも好ましい。（Ａ）バインダー樹脂は、さらに下記（Ｐ２α）の条件を満たすことがより好ましい。（Ａ）バインダー樹脂がポリイミド系の樹脂である場合も同様に、パターン裾部の残渣抑制及びマイグレーション耐性向上の観点から、下記（Ｐ１α）の条件を満たすことも好ましく、さらに下記（Ｐ２α）の条件を満たすことがより好ましい。
（Ｐ１α）（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ素元素の含有量が１０，０００質量ｐｐｍ以下
（Ｐ２α）（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ化物イオンの含有量が１０，０００質量ｐｐｍ以下。
【0066】
（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ素元素の含有量は上記の発明の効果の観点から、０質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０１０質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０３０質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０５０質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．０７０質量ｐｐｍ以上が特に好ましく、０．１０質量ｐｐｍ以上が最も好ましい。一方、フッ素元素の含有量は上記の発明の効果の観点から、１０，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１，０００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、３００質量ｐｐｍ以下が特に好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が最も好ましい。さらにフッ素元素の含有量は、５０質量ｐｐｍ以下が好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、５質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、３質量ｐｐｍ以下が特に好ましく、１質量ｐｐｍ以下が最も好ましい。
【0067】
（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ化物イオンの含有量の好ましい範囲も、それぞれ上記の（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ素元素の含有量の好ましい範囲と同様である。
【0068】
（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ素元素の含有量は０質量ｐｐｍであっても構わない。（Ａ）バインダー樹脂の構造中に占めるフッ化物イオンの含有量も０質量ｐｐｍであっても構わない。
【0069】
感光性組成物中にフッ素元素の含有量が特定数値以下である（Ａ）バインダー樹脂を含有させることで、これらの樹脂中のフッ素元素やフッ化物イオン又はこれらの樹脂に由来するフッ素元素を含むアニオンの含有量が特定数値以下となるため、感光性組成物中の各成分の水素結合等の相互作用により、感光性組成物中のプロトンが局所的に活性化されると推定される。そのため、現像液に対する溶解促進作用により、パターン裾部の残渣抑制の効果が顕著になると考えられる。また意図的に樹脂中の上記の成分の含有量を特定数値以下とすることで、感光性組成物の硬化物中の上記の成分の含有量も低減され、硬化物中における分極構造や電荷バランスが制御されると考えられる。その結果、電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物に起因するイオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションを抑制することで、マイグレーション耐性が向上すると推定される。
【0070】
＜ポリシロキサン及びその他の樹脂＞
以下、弱酸性基を有しないポリイミド系の樹脂以外の（Ａ１ｘ）樹脂と、弱酸性基を有しないポリイミド系樹脂以外の（Ａ２ｘ）樹脂又は（Ａ２ｙ）樹脂についてまとめて記載する。なおポリシロキサンはシラノール基を有し、かつ樹脂の構造単位中にシロキサン構造を含むため（Ａ１ｘ）樹脂である。
以下、弱酸性基を有しないポリイミド系の樹脂以外の（Ａ１ｘ）樹脂と、弱酸性基を有しないポリイミド系樹脂以外の（Ａ２ｘ）樹脂又は（Ａ２ｙ）樹脂についてまとめて記載する。なおポリシロキサンはシラノール基を有し、かつ樹脂の構造単位中にシロキサン構造を含むため（Ａ１ｘ）樹脂である。
【0071】
ポリシロキサンは、アルカリ現像液でのパターン加工性の観点から、酸性基を含むオルガノシラン単位を有することが好ましく、ハーフトーン特性向上の観点から、（ＷＡ）弱酸性基を含むオルガノシラン単位を有することがより好ましい。酸性基及び（ＷＡ）弱酸性基に関する例示及び好ましい記載は、上記の（Ａ）バインダー樹脂における記載の通りである。ポリシロキサンは、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、ラジカル重合性基を有することが好ましく、ラジカル重合性基を含むオルガノシラン単位を有することがより好ましい。ラジカル重合性基に関する例示及び好ましい記載は、上記の（Ａ）バインダー樹脂における記載の通りである。ポリシロキサンは、ハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、又は芳香族構造を有することが好ましく、ナフチル基、アントラセニル基、ビフェニル基、フェニル基、トリル基、又はメトキシフェニル基を含むオルガノシラン単位を有することがより好ましい。
【0072】
マレイミド樹脂は少なくとも２つのマレイミド基を有する樹脂である。マレイミド－スチレン樹脂はマレイミド基と、スチレン誘導体に由来する単位を有する樹脂である。マレイミド－トリアジン樹脂はマレイミド基と、トリアジン構造を含む単位を有する樹脂である。マレイミド－オキサジン樹脂はマレイミド基と、オキサジン構造を含む単位を有する樹脂である。これらはポリイミド系の樹脂とは異なる樹脂である。
【0073】
＜（Ａ１ｙ）樹脂＞
（Ａ１）弱酸性基含有樹脂は、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性向上、及び機械物性向上の観点から、（Ａ１ｙ）樹脂：樹脂の構造単位中にフェノール性水酸基を有する樹脂を含むことが好ましい。（Ａ１ｙ）樹脂は、フェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、フェノール基含有エポキシ樹脂、及びフェノール基含有アクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ａ１ｙ）樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。
（Ａ１）弱酸性基含有樹脂は、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性向上、及び機械物性向上の観点から、（Ａ１ｙ）樹脂：樹脂の構造単位中にフェノール性水酸基を有する樹脂を含むことが好ましい。（Ａ１ｙ）樹脂は、フェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、フェノール基含有エポキシ樹脂、及びフェノール基含有アクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ａ１ｙ）樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。
【0074】
（Ａ１ｙ）樹脂は、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、（ｙ１）構造単位：フェノール性水酸基を少なくとも２つ含む構造単位；（ｙ２）構造単位：フェノール性水酸基、及び芳香族基を含む構造単位；並びに（ｙ３）構造単位：フェノール性水酸基を含む構造単位、及び第二の芳香族基を含む構造単位；からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましく、（ｙ１）構造単位及び／又は（ｙ２）構造単位を有することがより好ましい。また（Ａ１ｙ）樹脂は、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、（ｙ１）構造単位を有することが好ましい。
【0075】
（ｙ１）構造単位における少なくとも２つのフェノール性水酸基は、同一の芳香環又は異なる芳香環に結合しており、異なる芳香環に結合していることが好ましく、縮合多環式構造における異なる芳香環に結合していることも好ましい。ここで（ｙ２）構造単位における芳香族基は、フェノール性水酸基が結合する芳香環とは別の芳香族基である。また（ｙ３）構造単位における第二芳香族基は、フェノール性水酸基が結合する芳香環を除く芳香族基である。第二芳香族基とは、（ｙ２）構造単位における芳香族基（フェノール性水酸基が結合する芳香環とは別の芳香族基をいう）と区別するための呼称である。
【0076】
フェノール樹脂は、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、又はフェノールアラルキル樹脂が好ましい。フェノール樹脂は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、芳香族構造、又はヘテロ環構造を有することが好ましい。
【0077】
ポリヒドロキシスチレンは、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、又は芳香族構造を含む（メタ）アクリル酸エステル誘導体に由来する単位、又は、スチレン誘導体に由来する単位を有することが好ましい。
【0078】
フェノール基含有エポキシ樹脂としては、例えば、多官能エポキシ化合物と、エポキシ反応性基を有するフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂が挙げられ、フェノール基含有カルド系樹脂又はフェノール基含有エポキシ変性樹脂が好ましい。フェノール基含有エポキシ変性樹脂はフェノール基含有エポキシエステル樹脂が好ましい。フェノール基含有カルド系樹脂は、縮合多環式構造又は縮合多環式ヘテロ環構造を有することが好ましい。フェノール基含有エポキシ樹脂は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、又は芳香族構造を有することが好ましい。
【0079】
フェノール基含有アクリル樹脂としては、例えば、後述するアクリル樹脂に、さらに付加反応性基を有するフェノール化合物を反応させて得られる樹脂が挙げられる。またフェノール性水酸基を有する共重合成分と、（メタ）アクリル酸誘導体などのその他の共重合成分とをラジカル共重合させて得られる樹脂も挙げられる。なおフェノール基含有アクリル樹脂はポリヒドロキシスチレンとは異なる樹脂である。フェノール基含有アクリル樹脂は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくは芳香族構造を含む（メタ）アクリル酸エステル誘導体に由来する単位、又は、スチレン誘導体に由来する単位を有することが好ましい。
【0080】
これらの樹脂における縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、芳香族構造、又はヘテロ環構造は、フルオレン構造、アントラセン構造、ナフタレン構造、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン構造、アダマンタン構造、キサンテン構造、イソインドリノン構造、ビフェニル構造、ベンゼン構造、ビスフェノールＡ構造、ビスフェノールＦ構造、ビスフェノールＡＦ構造、イソシアヌル酸構造、又はトリアジン構造が好ましい。
【0081】
＜（Ａ２ｘ）樹脂及び（Ａ２ｙ）樹脂＞
（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂は、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、及び機械物性向上の観点から、（Ａ２ｘ）樹脂を含むことが好ましく、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、さらに（Ａ２ｙ）樹脂を含むことが好ましい。（Ａ２ｘ）樹脂は、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、及び機械物性向上の観点から、多環側鎖含有樹脂、酸変性エポキシ樹脂、及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ａ２ｘ）樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。一方、（Ａ２ｙ）樹脂は、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、多環側鎖含有樹脂、酸変性エポキシ樹脂、及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ａ２ｙ）樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。
（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂は、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、及び機械物性向上の観点から、（Ａ２ｘ）樹脂を含むことが好ましく、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、さらに（Ａ２ｙ）樹脂を含むことが好ましい。（Ａ２ｘ）樹脂は、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、及び機械物性向上の観点から、多環側鎖含有樹脂、酸変性エポキシ樹脂、及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ａ２ｘ）樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。一方、（Ａ２ｙ）樹脂は、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、多環側鎖含有樹脂、酸変性エポキシ樹脂、及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ａ２ｙ）樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。
【0082】
（Ａ）バインダー樹脂が、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂及び（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂を含有し、（Ａ１）弱酸性基含有樹脂が（Ａ１ｘ）樹脂及び／又は（Ａ１ｙ）樹脂を含み、（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂が（Ａ２ｘ）樹脂及び／又は（Ａ２ｙ）樹脂を含む場合、（Ａ２ｘ）樹脂及び（Ａ２ｙ）樹脂に関する例示及び好ましい記載も、それぞれ上記の通りである。
【0083】
多環側鎖含有樹脂は、マイグレーション耐性向上の観点から、縮合多環式構造又は縮合多環式ヘテロ環構造を有するカルド系樹脂が好ましい。酸変性エポキシ樹脂は、マイグレーション耐性向上の観点から、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、又は芳香族構造を有するエポキシ（メタ）アクリレート樹脂が好ましい。アクリル樹脂は、マイグレーション耐性向上の観点から、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、又は芳香族構造を含む（メタ）アクリル酸エステル誘導体に由来する単位、又は、スチレン誘導体に由来する単位を有することが好ましい。またエポキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステル誘導体に由来する単位を有することも好ましい。これらの樹脂における縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、又は芳香族構造は、フルオレン構造、アントラセン構造、ナフタレン構造、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン構造、アダマンタン構造、キサンテン構造、イソインドリノン構造、ビフェニル構造、又はベンゼン構造が好ましい。
【0084】
（Ａ）バインダー樹脂の合計１００質量％に占める、（Ａ１ｘ）樹脂の含有比率の合計は、ハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、１０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上がさらに好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。一方、（Ａ１ｘ）樹脂の含有比率の合計は、パターン裾部の残渣抑制の観点から、１００質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８０質量％以下がさらに好ましい。また（Ａ１ｙ）樹脂の含有比率の合計は、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性向上、及び機械物性向上の観点から、５．０質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましく、３０質量％以上が特に好ましい。一方、（Ａ１ｙ）樹脂の含有比率の合計は、機械物性向上の観点から、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下がさらに好ましい。また（Ａ２ｘ）樹脂及び（Ａ２ｘ）樹脂の含有比率の合計は、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性向上、及び機械物性向上の観点から、５．０質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましく、３０質量％以上が特に好ましい。一方、（Ａ２ｘ）樹脂及び（Ａ２ｙ）樹脂の含有比率の合計は、機械物性向上の観点から、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下がさらに好ましい。
【0085】
本発明の感光性組成物の全固形分に占める（Ａ）バインダー樹脂の含有比率は、各樹脂による特性向上の観点から、１０質量％以上が好ましい。一方、（Ａ）バインダー樹脂の含有比率は、各樹脂による特性向上の観点から、７５質量％以下が好ましい。なお組成物の全固形分とは、組成物中の溶剤を除く全ての成分の質量の合計をいう。また固形分濃度は、組成物１ｇを１５０℃で３０分間加熱して蒸発乾固させ、加熱後に残存した質量を測定し、加熱前後の質量から算出される固形分濃度として算出できる。
【0086】
＜（Ｂ）ラジカル重合性化合物＞
本発明の感光性組成物は、（Ｂ）ラジカル重合性化合物（以下、「（Ｂ）化合物」）及び／又は（Ｆ）架橋剤を含有する。（Ｂ）化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物をいう。ラジカル重合性基に関する例示及び好ましい記載は、上記の（Ａ）バインダー樹脂における記載の通りである。ラジカル重合性基は、ラジカル重合促進、露光時の感度向上、及び機械物性向上の観点から、（メタ）アクリロイル基が好ましい。（Ｂ）化合物が有するラジカル重合性基数は、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましい。一方、ラジカル重合性基数は、機械物性向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、１２個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、８個以下がさらに好ましく、６個以下が特に好ましい。
本発明の感光性組成物は、（Ｂ）ラジカル重合性化合物（以下、「（Ｂ）化合物」）及び／又は（Ｆ）架橋剤を含有する。（Ｂ）化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物をいう。ラジカル重合性基に関する例示及び好ましい記載は、上記の（Ａ）バインダー樹脂における記載の通りである。ラジカル重合性基は、ラジカル重合促進、露光時の感度向上、及び機械物性向上の観点から、（メタ）アクリロイル基が好ましい。（Ｂ）化合物が有するラジカル重合性基数は、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましい。一方、ラジカル重合性基数は、機械物性向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、１２個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、８個以下がさらに好ましく、６個以下が特に好ましい。
【0087】
本発明の感光性組成物が（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｂ）化合物を含有する場合、（Ａ）バインダー樹脂の含有量は、（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、ハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、２５質量部以上が好ましく、３５質量部以上がより好ましく、４５質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ａ）バインダー樹脂の含有量は、露光時の感度向上及びパターン裾部の残渣抑制の観点から、８５質量部以下が好ましく、８０質量部以下がより好ましく、７５質量部以下がさらに好ましい。また（Ｂ）化合物の含有量は（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、上記の特性向上の観点から、１５質量部以上が好ましい。一方、（Ｂ）化合物の含有量は、上記の特性向上の観点から、７５質量部以下が好ましい。
【0088】
＜（Ｂ１）化合物～（Ｂ５）化合物＞
本発明の感光性組成物は、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、以下の条件（δ）、条件（ε）、及び条件（ζ）のうち少なくとも１つを満たすことが好ましい。
（δ）（Ｂ）化合物が、以下の（Ｂ１）化合物及び（Ｂ２）化合物を含有する
（ε）（Ｂ）化合物が、以下の（Ｂ３）化合物及び（Ｂ４）化合物を含有する
（ζ）（Ｂ）化合物が、以下の（Ｂ１）化合物又は（Ｂ２）化合物を含有し、さらに、以下の（Ｂ３）化合物又は（Ｂ４）化合物を含有する
（Ｂ１）化合物：（Ｉ－ｂ１）構造：縮合多環脂環式構造、脂環式構造、又はヘテロ環構造を含む構造を有し、さらに少なくとも２つのラジカル重合性基を有する化合物
（Ｂ２）化合物：（Ｉ－ｂ２）構造：縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、又は芳香族構造を含む構造及び（ＩＩ－ｂ２）構造：脂肪族構造を含む構造を有し、さらに少なくとも２つのラジカル重合性基を有する化合物
（Ｂ３）化合物：少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有し、さらに（Ｉ－ｂ３）構造：少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基間を最小原子数４～１０個で連結し、かつ、脂肪族構造を含む構造を有する化合物
（Ｂ４）化合物：少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有し、さらに（Ｉ－ｂ４）構造：少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基間を最小原子数１１～４５個で連結し、かつ、脂肪族構造を含む構造を有する化合物。
本発明の感光性組成物は、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、以下の条件（δ）、条件（ε）、及び条件（ζ）のうち少なくとも１つを満たすことが好ましい。
（δ）（Ｂ）化合物が、以下の（Ｂ１）化合物及び（Ｂ２）化合物を含有する
（ε）（Ｂ）化合物が、以下の（Ｂ３）化合物及び（Ｂ４）化合物を含有する
（ζ）（Ｂ）化合物が、以下の（Ｂ１）化合物又は（Ｂ２）化合物を含有し、さらに、以下の（Ｂ３）化合物又は（Ｂ４）化合物を含有する
（Ｂ１）化合物：（Ｉ－ｂ１）構造：縮合多環脂環式構造、脂環式構造、又はヘテロ環構造を含む構造を有し、さらに少なくとも２つのラジカル重合性基を有する化合物
（Ｂ２）化合物：（Ｉ－ｂ２）構造：縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、又は芳香族構造を含む構造及び（ＩＩ－ｂ２）構造：脂肪族構造を含む構造を有し、さらに少なくとも２つのラジカル重合性基を有する化合物
（Ｂ３）化合物：少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有し、さらに（Ｉ－ｂ３）構造：少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基間を最小原子数４～１０個で連結し、かつ、脂肪族構造を含む構造を有する化合物
（Ｂ４）化合物：少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基を有し、さらに（Ｉ－ｂ４）構造：少なくとも２つの（メタ）アクリロイル基間を最小原子数１１～４５個で連結し、かつ、脂肪族構造を含む構造を有する化合物。
【0089】
（Ｂ１）化合物において（Ｉ－ｂ１）構造は、機械物性向上の観点から、縮合多環脂環式構造が好ましく、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン構造又はアダマンタン構造がより好ましい。また上記の（Ｉ－ｂ１）構造は、機械物性向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、ヘテロ環構造が好ましく、含窒素環状構造がより好ましく、窒素原子を少なくとも２つ有する環状構造がさらに好ましく、イソシアヌル酸構造又はトリアジン構造が特に好ましい。上記の（Ｉ－ｂ１）構造におけるヘテロ環構造が有する窒素原子数は、１個以上が好ましく、２個以上がより好ましく、３個以上がさらに好ましい。一方、窒素原子数は、６個以下が好ましく、４個以下がより好ましい。
【0090】
（Ｂ１）化合物は、さらに（ＩＩ－ｂ１）構造：脂肪族構造を含む構造を有することが好ましい。（Ｂ１）化合物が有する（ＩＩ－ｂ１）構造における脂肪族構造、（Ｂ２）化合物が有する上記の（ＩＩ－ｂ２）構造における脂肪族構造、（Ｂ３）化合物が有する上記の（Ｉ－ｂ３）構造、及び（Ｂ４）化合物が有する（Ｉ－ｂ４）構造における脂肪族構造は、それぞれ独立して、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、アルキレン基、オキシアルキレン基、ヒドロキシ基を含むアルキレン基、ヒドロキシ基を含むオキシアルキレン基、アルキレンカルボニル基、オキシアルキレンカルボニル基、又はアミノアルキレンカルボニル基が好ましい。これらの脂肪族構造は脂肪族多官能アルコールに由来する構造が好ましい。なお（Ｂ３）化合物及び（Ｂ４）化合物は、上記の（Ｂ１）化合物及び（Ｂ２）化合物とは異なる化合物であり、縮合多環脂環式構造、脂環式構造、又はヘテロ環構造を含む構造と、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、又は芳香族構造を含む構造とをいずれも有しない。
【0091】
（Ｂ２）化合物の（Ｉ－ｂ２）構造における縮合多環式構造は、ハーフトーン特性向上及び機械物性向上の観点から、フルオレン構造、インダン構造、又はナフタレン構造が好ましい。また上記の（Ｉ－ｂ２）構造における縮合多環式ヘテロ環構造は、機械物性向上の観点から、キサンテン構造、インドリノン構造、又はイソインドリノン構造が好ましい。また上記の（Ｉ－ｂ２）構造における芳香族構造は、ハーフトーン特性向上及び機械物性向上の観点から、ベンゼン構造又はビフェニル構造が好ましい。
【0092】
（Ｂ３）化合物又は（Ｂ４）化合物が２つの（メタ）アクリロイル基を有する場合、上記の（Ｉ－ｂ３）構造又は（Ｉ－ｂ４）構造における最小原子数とは、２つの（メタ）アクリロイル基のカルボニル炭素間における炭素原子及びヘテロ原子を含む最小原子数をいう。なおカルボニル炭素間における炭素原子及びヘテロ原子に結合する原子は、最小原子数の計算には含めない。例えば、カルボニル炭素間に酸素原子、プロピレン基、及び酸素原子が存在する場合、最小原子数は５個である。また（Ｂ３）化合物又は（Ｂ４）化合物が３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する場合、上記の最小原子数とは、全ての（メタ）アクリロイル基のカルボニル炭素を連結する炭素原子及びヘテロ原子を含む最小原子数をいう。同様に、カルボニル炭素を連結する炭素原子及びヘテロ原子に結合する原子は、最小原子数の計算には含めない。
【0093】
（Ｂ３）化合物は、上記の（Ｉ－ｂ３）構造における最小原子数を特定範囲とすることで、硬化物中の（Ｂ）化合物由来の低分子をより低減でき、マイグレーション耐性が向上すると推定される。上記の（Ｉ－ｂ３）構造における最小原子数は、５個以上が好ましく、６個以上がより好ましい。一方、上記の（Ｉ－ｂ３）構造における最小原子数は、９個以下が好ましく、８個以下がより好ましい。一方、（Ｂ４）化合物は、上記の（Ｉ－ｂ４）構造における最小原子数を特定範囲とすることで、分子運動性向上により（メタ）アクリロイル基同士や、（メタ）アクリロイル基と他のラジカル重合性基との衝突確率が向上し、露光時の感度向上の効果が顕著となる。上記の（Ｉ－ｂ４）構造における最小原子数は、１３個以上が好ましく、１５個以上がより好ましく、１７個以上がさらに好ましく、２０個以上が特に好ましい。一方、上記の（Ｉ－ｂ４）構造における最小原子数は、４０個以下が好ましく、３５個以下がより好ましく、３０個以下がさらに好ましく、２５個以下が特に好ましい。
【0094】
上記の（Ｂ）化合物は、露光時や加熱時のラジカル発生により硬化物の架橋度向上の効果が得られることに加え、樹脂の側鎖や末端のラジカル重合性基との反応による架橋度向上の効果が得られるため、機械物性向上の効果が顕著となる。また上記の（ＩＩ－ｂ１）構造、（ＩＩ－ｂ２）構造、（Ｉ－ｂ３）構造、又は（Ｉ－ｂ４）構造における脂肪族構造を有する（Ｂ）化合物は、硬化物中の（Ｂ）化合物由来の低分子成分低減により、イオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションが抑制され、マイグレーション耐性が向上すると推定される。
【0095】
（Ｂ）化合物は、ハーフトーン特性向上及び機械物性向上の観点から、さらに（Ｂ５）化合物：縮合多環式構造又は縮合多環式ヘテロ環構造を含む構造を有し、さらに少なくとも２つのラジカル重合性基を有する化合物を含有することも好ましい。なお（Ｂ５）化合物は上記の（Ｂ２）化合物とは異なる化合物であり、上記の（ＩＩ－ｂ２）構造を有しない。（Ｂ５）化合物において上記の縮合多環式構造は、フルオレン構造、インダン構造、又はナフタレン構造が好ましい。また（Ｂ５）化合物において上記の縮合多環式ヘテロ環構造は、キサンテン構造、インドリノン構造、又はイソインドリノン構造が好ましい。
【0096】
（Ｂ）化合物は、上記の（Ｂ１）化合物、（Ｂ２）化合物、（Ｂ３）化合物、（Ｂ４）化合物、及び（Ｂ５）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することも好ましい。これらの（Ｂ）化合物の好ましい含有量も、それぞれ上記と同様である。
【0097】
＜（Ｃ）感光剤＞
本発明の感光性組成物は（Ｃ）感光剤を含有する。（Ｃ）感光剤とは、露光によって結合開裂、反応、又は構造変化して別の化合物を発生させることで、組成物にポジ型又はネガ型の感光性を付与する化合物をいう。（Ｃ）感光剤は、（Ｃ１）光重合開始剤（以下、「（Ｃ１）化合物」）、（Ｃ２）ナフトキノンジアジド化合物（以下、「（Ｃ２）化合物」）、（Ｃ３）光酸発生剤（以下、「（Ｃ３）化合物」）、及び（Ｃ４）光塩基発生剤（以下、「（Ｃ４）化合物」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。組成物にネガ型の感光性を付与する場合、（Ｃ１）化合物を含有することが好ましい。組成物にポジ型の感光性を付与する場合、（Ｃ２）化合物を含有することが好ましい。（Ｃ２）化合物とは、露光によって構造変化してインデンカルボン酸及び／又はスルホインデンカルボン酸を発生する化合物をいう。（Ｃ３）化合物とは、露光によって結合開裂及び／又は反応して酸を発生する化合物をいう。（Ｃ４）化合物とは、露光によって結合開裂及び／又は反応して塩基を発生する化合物をいう。
本発明の感光性組成物は（Ｃ）感光剤を含有する。（Ｃ）感光剤とは、露光によって結合開裂、反応、又は構造変化して別の化合物を発生させることで、組成物にポジ型又はネガ型の感光性を付与する化合物をいう。（Ｃ）感光剤は、（Ｃ１）光重合開始剤（以下、「（Ｃ１）化合物」）、（Ｃ２）ナフトキノンジアジド化合物（以下、「（Ｃ２）化合物」）、（Ｃ３）光酸発生剤（以下、「（Ｃ３）化合物」）、及び（Ｃ４）光塩基発生剤（以下、「（Ｃ４）化合物」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。組成物にネガ型の感光性を付与する場合、（Ｃ１）化合物を含有することが好ましい。組成物にポジ型の感光性を付与する場合、（Ｃ２）化合物を含有することが好ましい。（Ｃ２）化合物とは、露光によって構造変化してインデンカルボン酸及び／又はスルホインデンカルボン酸を発生する化合物をいう。（Ｃ３）化合物とは、露光によって結合開裂及び／又は反応して酸を発生する化合物をいう。（Ｃ４）化合物とは、露光によって結合開裂及び／又は反応して塩基を発生する化合物をいう。
【0098】
（Ｃ）感光剤の含有量は（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上の観点から、１．０質量部以上が好ましい。一方、（Ｃ）感光剤の含有量は、パターン裾部の残渣抑制の観点から、３０質量部以下が好ましい。
【0099】
＜（Ｃ１）光重合開始剤＞
本発明の感光性組成物は（Ｃ１）光重合開始剤を含有する。（Ｃ１）光重合開始剤とは、露光によって結合開裂及び／又は反応してラジカルを発生する化合物をいう。（Ｃ１）光重合開始剤を含有させることがネガ型のパターン形成に好適であり、露光時の感度向上の効果が顕著となる。
本発明の感光性組成物は（Ｃ１）光重合開始剤を含有する。（Ｃ１）光重合開始剤とは、露光によって結合開裂及び／又は反応してラジカルを発生する化合物をいう。（Ｃ１）光重合開始剤を含有させることがネガ型のパターン形成に好適であり、露光時の感度向上の効果が顕著となる。
【0100】
本発明の感光性組成物は、（Ｃ１）光重合開始剤が（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物（以下、「（Ｃ１－１）化合物」）を含有する。（Ｃ１－１）化合物とは、分子中に露光によって結合開裂及び／又は反応してラジカルを発生する構造として、オキシムエステル構造を有する化合物をいう。（Ｃ１－１）化合物を含有することで、露光時の感度向上及び機械物性向上の効果が顕著となる。
【0101】
（Ｃ１－１）化合物の含有量は、（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、１．０質量部以上が好ましく、３．０質量部以上がより好ましく、５．０質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ｃ１－１）化合物の含有量は、パターン裾部の残渣抑制の観点から、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましく、２０質量部以下がさらに好ましい。
【0102】
＜（Ｃ１－１）化合物；特定の構造を有する化合物＞
本発明の感光性組成物は、（Ｃ１－１）化合物が、
（Ｉａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（Ｉｂ）構造：オキシムエステルカルボニル構造、（Ｉｃ）構造：酸素原子、硫黄原子、窒素原子、若しくはリン原子を含む置換基が結合したアリールカルボニル構造、又は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくはジアリールスルフィド構造が結合したカルボニル構造、及び（Ｉｄ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、及び／又は、
（ＩＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（ＩＩｂ）構造：少なくとも２つのオキシムエステルカルボニル構造、及び（ＩＩｃ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する。これらの構造を有する（Ｃ１－１）化合物をまとめて特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物という場合もある。
本発明の感光性組成物は、（Ｃ１－１）化合物が、
（Ｉａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（Ｉｂ）構造：オキシムエステルカルボニル構造、（Ｉｃ）構造：酸素原子、硫黄原子、窒素原子、若しくはリン原子を含む置換基が結合したアリールカルボニル構造、又は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくはジアリールスルフィド構造が結合したカルボニル構造、及び（Ｉｄ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する、及び／又は、
（ＩＩａ）構造：縮合多環式ヘテロ環構造、縮合多環式構造、又はジアリールスルフィド構造、（ＩＩｂ）構造：少なくとも２つのオキシムエステルカルボニル構造、及び（ＩＩｃ）構造：炭素数１～２０の脂肪族基及び／又は炭素数４～２０の脂環式基、を有する。これらの構造を有する（Ｃ１－１）化合物をまとめて特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物という場合もある。
【0103】
特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物において、上記の（Ｉａ）構造及び（ＩＩａ）構造における縮合多環式ヘテロ環構造は、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、カルバゾール構造、ジベンゾフラン構造、ジベンゾチオフェン構造、ベンゾカルバゾール構造、インドール構造、インドリン構造、ベンゾインドール構造、ベンゾインドリン構造、フェノチアジン構造、又はフェノチアジンオキシド構造が好ましい。上記の（Ｉａ）構造及び（ＩＩａ）構造における縮合多環式構造は、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性向上、及び機械物性向上の観点から、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、インデン構造、インダン構造、ベンゾインデン構造、又はベンゾインダン構造が好ましい。上記の（Ｉａ）構造及び（ＩＩａ）構造におけるジアリールスルフィド構造は、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、ジフェニルスルフィド構造、ナフチルフェニルスルフィド構造、又はジナフチルスルフィド構造が好ましい。
【0104】
特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物において、上記の（Ｉａ）構造及び（ＩＩａ）構造は、フォトブリーチング性を有する観点から、インドール構造、ベンゾインドール構造、フェノチアジン構造、フェノチアジンオキシド構造、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、又はジフェニルスルフィド構造が好ましい。上記の（Ｉｂ）構造は、フォトブリーチング性を有する観点から、上記の（Ｉａ）構造に結合していることが好ましい。上記の（ＩＩｂ）構造は、フォトブリーチング性を有する観点から、上記の（ＩＩａ）構造に結合していることが好ましい。特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物がフォトブリーチング性を有することで、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、及びハーフトーン特性向上の効果が顕著となる。また硬化物中の（Ｃ１－１）化合物由来の低分子成分低減により、イオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションが抑制され、マイグレーション耐性が向上すると推定される。なおフォトブリーチング性とは、露光によって結合開裂及び／又は反応することで、紫外領域の波長（例えば、４００ｎｍ以下）の吸光度及び／又は可視光線の波長（３８０～７８０ｎｍ）の吸光度が低下することをいう。
【0105】
特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物において、上記の（Ｉｂ）構造及び（ＩＩｂ）構造におけるオキシムエステルカルボニル構造中のオキシムエステル骨格はアシル基を有することが好ましい。アシル基は、露光時の感度向上の観点から、炭素数１～６のアルキル基、炭素数４～７のシクロアルキル基、又は炭素数６～１０のアリール基を含むアシル基が好ましく、アセチル基又はプロパノイル基がより好ましい。一方、アシル基は、パターン裾部の残渣抑制の観点から、炭素数６～１０のアリール基を含むアシル基が好ましく、ベンゾイル基がより好ましい。
【0106】
特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物において上記の（Ｉｃ）構造は、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、上記の（Ｉａ）構造に結合していることが好ましい。上記の（Ｉｃ）構造における酸素原子、硫黄原子、窒素原子、若しくはリン原子を含む置換基は、脂肪族基、脂環式基、芳香族基、エーテル結合を含む炭化水素基、エーテル結合とカルボニル基を含む炭化水素基、カルボニル基を含む炭化水素基、複素環基、複素環オキシ基、又は複素環を含むアルキル基が結合した置換基であって、カルボニルオキシ基、スルホニルオキシ基、カルボニルアミド基、又はホスホリルオキシ基であることが好ましい。カルボニルアミド基における窒素原子は、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基が結合していることが好ましい。脂肪族基、脂環式基、芳香族基、エーテル結合を含む炭化水素基、エーテル結合とカルボニル基を含む炭化水素基、カルボニル基を含む炭化水素基、複素環基、複素環オキシ基、又は複素環を含むアルキル基は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数４～２０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数４～２０の（シクロアルキル）アルキル基、炭素数７～２０のアリールアルキル基、炭素数７～２０のアルキルアリール基、炭素数８～２０のジアルキルアリール基、炭素数９～２０のトリアルキルアリール基、炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数１～２０のハロゲン化アルコキシ基、炭素数２～２０のアルコキシアルキル基、炭素数３～２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数４～１０の複素環基、炭素数４～１０の複素環オキシ基、炭素数５～２０の複素環を含むアルキル基、又は炭素数１～１０のアシル基が好ましい。複素環基は、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子を含む複素環基が好ましい。
【0107】
上記の（Ｉｃ）構造におけるアリールカルボニル構造は、炭素数７～１６のアリールカルボニル構造が好ましく、炭素数７～１１のアリールカルボニル構造がより好ましい。アリールカルボニル構造は、フェニレンカルボニル基、ナフチレンカルボニル基、又はアントラセニレンカルボニル基が好ましい。上記の（Ｉｃ）構造における縮合多環式構造は、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、インデン構造、インダン構造、ベンゾインデン構造、又はベンゾインダン構造が好ましい。上記の（Ｉｃ）構造における縮合多環式ヘテロ環構造は、カルバゾール構造、ジベンゾフラン構造、ジベンゾチオフェン構造、ベンゾカルバゾール構造、インドール構造、インドリン構造、ベンゾインドール構造、ベンゾインドリン構造、フェノチアジン構造、又はフェノチアジンオキシド構造が好ましい。上記の（Ｉｃ）構造におけるジアリールスルフィド構造は、ジフェニルスルフィド構造、ナフチルフェニルスルフィド構造、又はジナフチルスルフィド構造が好ましい。
【0108】
特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物において上記の（Ｉｄ）構造は、露光時の感度向上及びパターン裾部の残渣抑制の観点から、上記の（Ｉａ）構造及び／又は（Ｉｂ）構造に結合していることが好ましい。上記の（ＩＩｃ）構造は、露光時の感度向上及びパターン裾部の残渣抑制の観点から、上記の（ＩＩａ）構造及び／又は（ＩＩｂ）構造に結合していることが好ましい。上記の（Ｉｄ）構造及び（ＩＩｃ）構造における脂肪族基及び／又は脂環式基は、露光時の感度向上及びパターン裾部の残渣抑制の観点から、炭素数４以上が好ましく、炭素数６以上がより好ましく、炭素数８以上がさらに好ましい。一方、上記の（Ｉｄ）構造及び（ＩＩｃ）構造における脂肪族基及び／又は脂環式基は、露光時の感度向上及びパターン裾部の残渣抑制の観点から、炭素数１８以下が好ましく、炭素数１５以下がより好ましく、炭素数１２以下がさらに好ましい。脂肪族基は、直鎖又は分岐のアルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基が好ましい。脂環式基は、直鎖又は分岐のシクロアルキル基、シクロアルケニル基、又はシクロアルキニル基が好ましい。上記の（Ｉｄ）構造及び（ＩＩｃ）構造における脂肪族基及び／又は脂環式基は、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、ハロゲン原子で置換された基を有することが好ましく、フッ素原子で置換された基を有することがより好ましい。ハロゲン原子で置換された基は、トリフルオロメチル基、トリフルオロプロピル基、トリクロロプロピル基、テトラフルオロプロピル基、フルオロシクロペンチル基、フルオロフェニル基、又はペンタフルオロフェニル基が好ましい。上記のポリイミド系の樹脂がフッ素原子を有するカルボン酸残基及び／又はフッ素原子を有するアミン残基を有する場合、（Ｃ１－１）化合物がハロゲン原子で置換された基を有することが好ましい。
【0109】
特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物において上記の（Ｉｂ）構造及び（Ｉｃ）構造は、各構造による特性向上の観点から、上記の（Ｉａ）構造に結合していることが好ましく、上記の（Ｉｂ）構造、（Ｉｃ）構造、及び（Ｉｄ）構造が、上記の（Ｉａ）構造に結合していることがより好ましい。特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物において上記の（ＩＩｂ）構造及び（ＩＩｃ）構造は、各構造による特性向上の観点から、上記の（ＩＩａ）構造に結合していることが好ましい。
【0110】
特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物は、一般式（１５）、（１６）、及び（１７）で表される化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。
【0111】
【化3】
【0112】
一般式（１５）～（１７）において、Ｒ１０１～Ｒ１０３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数４～２０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数２～２０のアルコキシアルキル基、炭素数３～２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数４～１０の複素環基、炭素数４～１０の複素環オキシ基、炭素数１～１０のアシル基、又は、炭素数１～１０のアシル基及び炭素数１～２０の炭化水素基を有するオキシムエステルカルボニル構造を表す。Ｒ１０４～Ｒ１０７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。Ｒ１０８及びＲ１０９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数４～２０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数４～２０の（シクロアルキル）アルキル基、炭素数７～２０のアリールアルキル基、炭素数７～２０のアルキルアリール基、炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のヒドロキシアルキル基、炭素数２～２０のアルコキシアルキル基、炭素数３～２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数４～１０の複素環基、炭素数４～１０の複素環オキシ基、炭素数５～２０の複素環を含むアルキル基、又は炭素数１～１０のアシル基を表す。Ｒ１１０～Ｒ１１５は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、又は環を形成する基を表す。なお複数のＲ１１０又は複数のＲ１１１による環員の炭素数は４～１０である。複数のＲ１１２又は複数のＲ１１３による環員の炭素数は４～１０である。複数のＲ１１４又は複数のＲ１１５による環員の炭素数は４～１０である。Ｒ１１６～Ｒ１１９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数４～２０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数４～２０の（シクロアルキル）アルキル基、炭素数７～２０のアリールアルキル基、炭素数７～２０のアルキルアリール基、炭素数８～２０のジアルキルアリール基、炭素数９～２０のトリアルキルアリール基、炭素数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基、炭素数１～２０のアルコキシ基、炭素数２～２０のアルコキシアルキル基、炭素数３～２０のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数４～１０の複素環基、炭素数４～１０の複素環オキシ基、炭素数１～１０のアシル基、又はニトロ基を表す。Ｒ１２０～Ｒ１２５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、又は環を形成する基を表す。なおＲ１２０及びＲ１２１で環を形成する場合、Ｒ１２０及びＲ１２１による環員の炭素数は０～４である。またＲ１２２及びＲ１２３で環を形成する場合、Ｒ１２２及びＲ１２３による環員の炭素数は０～４である。またＲ１２４及びＲ１２５で環を形成する場合、Ｒ１２４及びＲ１２５による環員の炭素数は０～４である。Ｒ１２６及びＲ１２７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。Ｗ１及びＷ２は、それぞれ独立して、炭素数６～１５のアリーレン基、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、又は炭素数６～１５のアリーレン基が２つ結合したスルフィド構造を表す。Ｘ１～Ｘ７は、それぞれ独立して、直接結合、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数４～１０のシクロアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。Ｘ８は、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数４～１０のシクロアルキレン基、又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。Ｙ１～Ｙ３は、それぞれ独立して、炭素原子、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を表す。Ｙ４及びＹ５は、それぞれ独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子を表す。Ｙ６及びＹ７は、それぞれ独立して、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｙ８及びＹ９は、それぞれ独立して、直接結合、酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、窒素原子、又はホスホリル基を表す。Ｙ１、Ｙ２、又はＹ３が炭素原子の場合、対応するａ、ｂ、又はｃは２である。Ｙ１、Ｙ２、又はＹ３が窒素原子の場合、対応するａ、ｂ、又はｃは１である。Ｙ１、Ｙ２、又はＹ３が酸素原子又は硫黄原子の場合、対応するａ、ｂ、又はｃは０である。ｄ及びｅは、それぞれ独立して、０～２の整数を表す。ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊ、及びｋは、それぞれ独立して、０～３の整数を表す。ｌ、ｍ、ｎ、及びｏは、それぞれ独立して、１～１０の整数を表す。Ｙ４又はＹ５が直接結合、酸素原子、又は硫黄原子の場合、対応するｐ又はｑは０である。Ｙ４又はＹ５が窒素原子の場合、対応するｐ又はｑは１である。Ｙ８又はＹ９が直接結合、酸素原子、硫黄原子、又はスルホニル基の場合、対応するｒ又はｓは０である。Ｙ８又はＹ９が窒素原子の場合、対応するｒ又はｓは１である。Ｙ８又はＹ９がホスホリル基の場合、対応するｒ又はｓは２である。ｔ、ｕ、及びｖは、それぞれ独立して、０又は１であって、ｔ＋ｕ＋ｖは０又は１である。ｔ＋ｕ＋ｖが０の場合、ｗは０である。ｔ＋ｕ＋ｖが１の場合、ｗは１である。ｔが０の場合、ｙは１である。ｔが１の場合、ｙは０である。ｕが０の場合、ｓは上記の通りである。ｕが１の場合、ｓは０である。ｖが０の場合、ｂは上記の通りである。ｖが０の場合、ｂは０である。ｘは０～４の整数を表す。＊１～＊３は、それぞれ独立して、＊４との結合点を表す。複数のＲ１１０若しくは複数のＲ１１１；複数のＲ１１２若しくは複数のＲ１１３；又は複数のＲ１１４若しくは複数のＲ１１５で形成される炭素数４～１０の環は、ベンゼン環、シクロヘキサン環、又はシクロペンタン環が好ましい。上述した置換基及び構造はヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
【0113】
（Ｃ１－１）化合物は、（Ｉｂ）構造及び（ＩＩｂ）構造中のカルボニル構造を含む基と、オキシム構造の酸素原子を含む基との、オキシム構造のＣ＝Ｎ結合に対するシス－トランス異性体を含み、シス－トランス異性体の合計１００質量％に占める、シス異性体又はトランス異性体の含有比率は、上記の特性向上の観点から、９０．０質量％以上が好ましく、９５．０質量％以上がより好ましく、９７．０質量％以上がさらに好ましく、９９．０質量％以上が特に好ましい。一方、シス異性体（Ｚ体）又はトランス異性体（Ｅ体）の含有比率は、上記の特性向上の観点から、１００．０質量％以下が好ましく、９９．９質量％以下がより好ましく、９９．５質量％以下がさらに好ましい。当該トランス異性体の含有比率は特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物における含有比率であることが好ましい。
【0114】
上記の特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物は、加熱時のラジカル発生やオキシムエステルカルボニル構造による相互作用により、硬化物の架橋度向上や樹脂の閉環反応促進の効果が得られ、機械物性向上の効果が顕著となる。また上記の（Ｉｂ）構造及び（Ｉｃ）構造、又は、（ＩＩｂ）構造におけるカルボニル構造中のπ電子が、硬化物中における分極構造や電荷バランスの制御に寄与するため、マイグレーション耐性が向上すると推定される。
【0115】
＜（Ｃ１－１）化合物；別の構造を有する化合物＞
本発明の感光性組成物は（Ｃ１－１）化合物が、さらに別の構造を有することも好ましい。（Ｃ１－１）化合物が、さらに特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物とは異なる（Ｃ１－１）化合物「以下、別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物」を含有することも好ましい。
本発明の感光性組成物は（Ｃ１－１）化合物が、さらに別の構造を有することも好ましい。（Ｃ１－１）化合物が、さらに特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物とは異なる（Ｃ１－１）化合物「以下、別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物」を含有することも好ましい。
【0116】
別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物は、機械物性向上の観点から、（Ｃａ）構造：縮合多環式構造、縮合多環式へテロ環構造、ジアリールスルフィド構造、又はベンゼン構造に、少なくとも１つのオキシムエステル構造又は少なくとも１つのオキシムエステルカルボニル構造が結合した構造を有することが好ましく、露光時の感度向上の観点から、（Ｃｂ）構造：ニトロ基、ハロゲン原子で置換された基、ナフチルカルボニル構造、トリメチルベンゾイル構造、チオフェニルカルボニル構造、フリルカルボニル構造、少なくとも２つのオキシムエステル構造、及び少なくとも２つのオキシムエステルカルボニル構造が結合した構造、からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物は、露光時の感度向上、ハーフトーン特性向上、及び機械物性向上の観点から、（Ｃａ）構造及び（Ｃｂ）構造を有することがより好ましく、（Ｃａ）構造中の縮合多環式構造、縮合多環式へテロ環構造、ジアリールスルフィド構造、又はベンゼン構造に、（Ｃｂ）構造が結合していることがさらに好ましい。
【0117】
（Ｃａ）構造中の縮合多環式構造、縮合多環式へテロ環構造、及びジアリールスルフィド構造に関する例示及び好ましい記載は、上記の特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物における（Ｉａ）構造及び（ＩＩａ）構造に関する例示及び好ましい記載の通りである。
【0118】
別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物は、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、ハロゲン原子で置換された基を有することが好ましく、フッ素原子で置換された基を有することがより好ましい。ハロゲン原子で置換された基は、トリフルオロメチル基、トリフルオロプロピル基、トリクロロプロピル基、テトラフルオロプロピル基、フルオロシクロペンチル基、フルオロフェニル基、又はペンタフルオロフェニル基が好ましい。
【0119】
別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物は、フォトブリーチング性を有する観点から、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、インドール構造、ベンゾインドール構造、フェノチアジン構造、フェノチアジンオキシド構造、又はジフェニルスルフィド構造を有することが好ましく、縮合多環式構造、縮合多環式へテロ環構造、ジフェニルスルフィド構造、又はベンゼン構造に、少なくとも１つのオキシムエステルカルボニル構造が結合した構造を有することも好ましい。別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物がフォトブリーチング性を有することで、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、及びハーフトーン特性向上の効果が顕著となる。
【0120】
上記の別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物は、加熱時のラジカル発生やオキシムエステル構造による相互作用により、硬化物の架橋度向上や樹脂の閉環反応促進の効果が得られるため、機械物性向上の効果が顕著となる。
【0121】
特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物の含有量は、（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、１．０質量部以上が好ましく、３．０質量部以上がより好ましく、５．０質量部以上がさらに好ましい。一方、特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物の含有量は、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましく、２０質量部以下がさらに好ましい。
【0122】
別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物の含有量は、（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上、ハーフトーン特性向上、及び機械物性向上の観点から、１．０質量部以上が好ましく、３．０質量部以上がより好ましく、５．０質量部以上がさらに好ましい。一方、別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物の含有量は、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましく、２０質量部以下がさらに好ましい。
【0123】
（Ｃ１－１）化合物の合計１００質量％に占める、特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物の含有比率は、露光時の感度向上、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性向上、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、１０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上がさらに好ましく、６０質量％以上がさらにより好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。一方、特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物の含有比率は、露光時の感度向上及びハーフトーン特性向上の観点から、１００質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８０質量％以下がさらに好ましく、７５質量％以下が特に好ましい。
【0124】
（Ｃ１－１）化合物の合計１００質量％に占める、別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物の含有比率は、上記の特性向上の観点から、０質量％以上が好ましい。一方、別の構造を有する（Ｃ１－１）化合物の含有比率は、上記の特性向上の観点から、９０質量％以下が好ましい。
【0125】
＜その他の光重合開始剤＞
本発明の感光性組成物は、さらにその他の光重合開始剤を含有することも好ましい。その他の光重合開始剤は、ベンジルケタール系化合物、α－ヒドロキシケトン系化合物、α－アミノケトン系化合物、ビイミダゾール系化合物、ホスフィンオキシド系化合物、アクリジン系化合物、チタノセン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、芳香族ケトエステル系化合物、又は安息香酸エステル系化合物が好ましく、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、α－ヒドロキシケトン系化合物、α－アミノケトン系化合物、ビイミダゾール系化合物、又はホスフィンオキシド系化合物が好ましい。これらの（Ｃ）感光剤の好ましい含有量も、それぞれ上記と同様である。
本発明の感光性組成物は、さらにその他の光重合開始剤を含有することも好ましい。その他の光重合開始剤は、ベンジルケタール系化合物、α－ヒドロキシケトン系化合物、α－アミノケトン系化合物、ビイミダゾール系化合物、ホスフィンオキシド系化合物、アクリジン系化合物、チタノセン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、芳香族ケトエステル系化合物、又は安息香酸エステル系化合物が好ましく、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、α－ヒドロキシケトン系化合物、α－アミノケトン系化合物、ビイミダゾール系化合物、又はホスフィンオキシド系化合物が好ましい。これらの（Ｃ）感光剤の好ましい含有量も、それぞれ上記と同様である。
【0126】
上記のα－ヒドロキシケトン系化合物、α－アミノケトン系化合物、ビイミダゾール系化合物、及びホスフィンオキシド系化合物は、加熱時のラジカル発生や、ヒドロキシ基、アミノ基、イミダゾール構造、又はホスフィンオキシド構造による相互作用により、硬化物の架橋度向上や樹脂の閉環反応促進の効果が得られるため、機械物性向上の効果が顕著となる。
【0127】
＜（Ｄ）着色剤＞
本発明の感光性組成物は、さらに（Ｄ）着色剤を含有することも好ましい。（Ｄ）着色剤とは、可視光線の波長の光を吸収することで着色させる化合物をいう。（Ｄ）着色剤は顔料又は染料が好ましい。（Ｄ）着色剤は、外光反射抑制の観点から、黒色剤又は二色以上の着色剤混合物を含有することが好ましい。黒色剤は有機黒色顔料及び／又は無機黒色顔料を含有することが好ましい。（Ｄ）着色剤における黒色とは、国際公開第２０１９／０８７９８５号の段落［０２８４］～段落［０２８５］に記載の通りである。
本発明の感光性組成物は、さらに（Ｄ）着色剤を含有することも好ましい。（Ｄ）着色剤とは、可視光線の波長の光を吸収することで着色させる化合物をいう。（Ｄ）着色剤は顔料又は染料が好ましい。（Ｄ）着色剤は、外光反射抑制の観点から、黒色剤又は二色以上の着色剤混合物を含有することが好ましい。黒色剤は有機黒色顔料及び／又は無機黒色顔料を含有することが好ましい。（Ｄ）着色剤における黒色とは、国際公開第２０１９／０８７９８５号の段落［０２８４］～段落［０２８５］に記載の通りである。
【0128】
本発明の感光性組成物の全固形分に占める（Ｄ）着色剤の含有比率は、外光反射抑制及び素子の信頼性向上の観点から、５．０質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましい。一方、（Ｄ）着色剤の含有比率は、露光時の感度向上及びパターン裾部の残渣抑制の観点から、７０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。
【0129】
本発明の感光性組成物は、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性、及びマイグレーション耐性向上の観点から、さらに有機黒色顔料を含有し、有機黒色顔料が、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及びアゾメチン系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、ベンゾフラノン系黒色顔料が、ベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－２（３Ｈ）－オン構造又はベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－３（２Ｈ）－オン構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含み、ペリレン系黒色顔料が、３，４，９，１０－ペリレンテトラカルボン酸ビスベンゾイミダゾール構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含み、アゾメチン系黒色顔料が、アゾメチン構造及びカルバゾール構造を有する化合物又はその塩を含むことがより好ましい。上記の有機黒色顔料は紫外領域の波長の透過率が高いため、露光時の感度向上の効果が顕著となる。
【0130】
有機黒色顔料は、アントラキノン系黒色顔料、アニリン系黒色顔料、アゾ系黒色顔料、又はカーボンブラックも好ましい。カーボンブラックは、樹脂被覆、染料被覆、酸化処理、イオン性基を有する有機基で表面修飾、又はスルホン酸基で表面処理されていることが好ましい。
【0131】
本発明の感光性組成物は、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性の観点から、さらに、二色以上の着色顔料混合物及び／又は二色以上の着色染料混合物を含有することが好ましく、二色以上が、青色及び／又は紫色を含み、かつ、赤色及び橙色を含み、着色顔料が、アントラキノン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、ペリレン系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、イミダゾロン系顔料、キナクリドン系顔料、ピランスロン系顔料、フタロシアニン系顔料、インダントロン系顔料、又はジオキサジン系顔料であって、着色染料が、スクアリリウム系染料、キサンテン系染料、トリアリールメタン系染料、又はフタロシアニン系染料であることがより好ましい。
【0132】
顔料の平均一次粒子径は、素子の信頼性向上の観点から、２０ｎｍ以上が好ましい。一方、顔料の平均一次粒子径は、外光反射抑制及び素子の信頼性向上の観点から、１５０ｎｍ以下が好ましい。
【0133】
本発明の感光性組成物は、パターン裾部の残渣抑制及びハーフトーン特性の観点から、さらに無機黒色顔料を含有し、無機黒色顔料が、金属元素を含む窒化物、金属元素を含む炭化物、及び金属元素を含む酸窒化物（以下、「特定の無機黒色顔料」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、金属元素がジルコニウム、バナジウム、ニオブ、ハフニウム、及びタンタルからなる群より選ばれる一種類以上であることが好ましく、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、ハフニウム、若しくはタンタルの窒化物、炭化物、及び酸窒化物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましく、さらに露光時の感度向上の観点から、ジルコニウムの窒化物、ジルコニウムの炭化物、及びジルコニウムの酸窒化物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがさらに好ましい。ジルコニウムの窒化物、ジルコニウムの炭化物、及びジルコニウムの酸窒化物は紫外領域の波長の透過率が高いため、露光時の感度向上の効果が顕著となる。
【0134】
特定の無機黒色顔料は、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、ハフニウム、又はタンタルを主成分の元素に含むことが好ましい。なお主成分の元素とは、構成元素において質量を基準として最も多く含まれる元素をいう。特定の無機黒色顔料は、外光反射抑制及び素子の信頼性向上の観点から、主成分の元素とは異なる元素を含むことが好ましく、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、又はＡｇを含むことがより好ましい。
【0135】
特定の無機黒色顔料に含まれる窒化ジルコニウム粒子などの各化合物粒子は、ＣｕＫα線をＸ線源としたＸ線回折スペクトルにおける（１１１）面に由来するピークの半値幅から結晶子サイズを計算できる。結晶子サイズは、外光反射抑制及び素子の信頼性向上の観点から、５．０ｎｍ以上が好ましい。一方、結晶子サイズは、露光時の感度向上及び外光反射抑制の観点から、６０ｎｍ以下が好ましい。なお粒子粉体の結晶子サイズ、分散液中の粒子の結晶子サイズ、及び膜中の粒子の結晶子サイズは、国際公開第２０２１／１８２４９９号の段落［０１７２］～段落［０１７９］に記載の各方法に基づき、求めることができる。
【0136】
本発明の感光性組成物は、顔料が被覆層を有することも好ましい。被覆層とは、顔料表面を被覆する層をいい、例えば、シランカップリング剤による表面処理又は樹脂による被覆処理などで形成される層が挙げられる。顔料が被覆層を有することで、パターン裾部の残渣抑制、ハーフトーン特性、及びマイグレーション耐性向上の効果が顕著となる。被覆層は、シリカ被覆層、金属酸化物被覆層、及び金属水酸化物被覆層からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。
【0137】
＜（Ｅ）分散剤＞
本発明の感光性組成物は、さらに（Ｅ）分散剤を含有することも好ましい。（Ｅ）分散剤とは、顔料表面と相互作用する構造と、顔料同士の接近を阻害する構造とを有する化合物をいう。（Ｅ）分散剤は、顔料の分散安定性向上の観点から、塩基性基、酸性基、又はそれらの塩構造を有することが好ましく、塩基性基又はその塩構造を有することがより好ましい。
本発明の感光性組成物は、さらに（Ｅ）分散剤を含有することも好ましい。（Ｅ）分散剤とは、顔料表面と相互作用する構造と、顔料同士の接近を阻害する構造とを有する化合物をいう。（Ｅ）分散剤は、顔料の分散安定性向上の観点から、塩基性基、酸性基、又はそれらの塩構造を有することが好ましく、塩基性基又はその塩構造を有することがより好ましい。
【0138】
＜（Ｆ）架橋剤＞
本発明の感光性組成物は、（Ｂ）化合物及び／又は（Ｆ）架橋剤を含有する。（Ｆ）架橋剤とは、樹脂などと反応可能な架橋性基、カチオン重合性基、又はアニオン重合性基を有する化合物をいう。（Ｆ）架橋剤は、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、エポキシ基、オキセタニル基、及びブロックイソシアネート基（以下、「特定の架橋性基」）からなる群より選ばれる一種類以上の基を有することが好ましい。アルコキシアルキル基はアルコキシメチル基又はアルコキシエチル基が好ましく、メトキシメチル基又はメトキシエチル基がより好ましい。ヒドロキシアルキル基はメチロール基又はエチロール基が好ましい。（Ｆ）架橋剤が有する特定の架橋性基数は、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましく、６個以上が特に好ましい。一方、特定の架橋性基数は、機械物性向上の観点から、１２個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、８個以下がさらに好ましい。
本発明の感光性組成物は、（Ｂ）化合物及び／又は（Ｆ）架橋剤を含有する。（Ｆ）架橋剤とは、樹脂などと反応可能な架橋性基、カチオン重合性基、又はアニオン重合性基を有する化合物をいう。（Ｆ）架橋剤は、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、エポキシ基、オキセタニル基、及びブロックイソシアネート基（以下、「特定の架橋性基」）からなる群より選ばれる一種類以上の基を有することが好ましい。アルコキシアルキル基はアルコキシメチル基又はアルコキシエチル基が好ましく、メトキシメチル基又はメトキシエチル基がより好ましい。ヒドロキシアルキル基はメチロール基又はエチロール基が好ましい。（Ｆ）架橋剤が有する特定の架橋性基数は、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましく、６個以上が特に好ましい。一方、特定の架橋性基数は、機械物性向上の観点から、１２個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、８個以下がさらに好ましい。
【0139】
（Ｆ）架橋剤の含有量は（Ａ）バインダー樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上及び機械物性向上の観点から、１．０質量部以上が好ましい。一方、（Ｆ）架橋剤の含有量は、パターン裾部の残渣抑制及び機械物性向上の観点から、３０質量部以下が好ましい。
【0140】
（Ｆ）架橋剤は、パターン裾部の残渣抑制及び機械物性向上の観点から、（Ｆ１）化合物：少なくとも２つのフェノール性水酸基、及び、少なくとも２つの特定の架橋性基を有する化合物及び／又は（Ｆ２）化合物：ヘテロ環構造を含む構造、及び、少なくとも２つの特定の架橋性基を有する化合物を含有することが好ましい。これらの（Ｆ）架橋剤の好ましい含有量も、それぞれ上記と同様である。
【0141】
（Ｆ１）化合物は、機械物性向上の観点から、１つの芳香族構造に、フェノール性水酸基及び特定の架橋性基が結合した構造、を少なくとも２つ有することが好ましく、１つの芳香族構造に、フェノール性水酸基及び少なくとも２つの特定の架橋性基が結合した構造、を少なくとも２つ有することがより好ましい。（Ｆ２）化合物におけるヘテロ環構造は、機械物性向上の観点から、含窒素環状構造が好ましく、窒素原子を少なくとも２つ有する環状構造がより好ましく、イソシアヌル酸構造、トリアジン構造、グリコールウリル構造、イミダゾリドン構造、ピラゾール構造、イミダゾール構造、トリアゾール構造、テトラゾール構造、又はプリン構造がさらに好ましい。（Ｆ２）化合物におけるヘテロ環構造が有する窒素原子数は、１個以上が好ましく、２個以上がより好ましく、３個以上がさらに好ましい。一方、窒素原子数は、６個以下が好ましく、４個以下がより好ましい。
【0142】
＜（Ｇ）無機粒子＞
本発明の感光性組成物は、マイグレーション耐性向上の観点から、さらに（Ｇ）無機粒子を含有することが好ましい。（Ｇ）無機粒子とは、金属元素、半金属元素、及び半導体元素からなる群より選ばれる元素を主成分に含む粒子をいう。なお主成分とは、構成成分において質量を基準として最も多く含まれる成分をいう。（Ｇ）無機粒子は、マイグレーション耐性向上の観点から、粒子表面にヒドロキシ基及び／又はシラノール基を有することが好ましい。（Ｇ）無機粒子は、マイグレーション耐性向上の観点から、シリカ粒子、アルミナ粒子、チタニア粒子、酸化バナジウム粒子、酸化クロム粒子、酸化鉄粒子、酸化コバルト粒子、酸化銅粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化ニオブ粒子、酸化スズ粒子、及び酸化セリウム粒子からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、さらに外光反射抑制の観点から、シリカ粒子を含有することがより好ましい。
本発明の感光性組成物は、マイグレーション耐性向上の観点から、さらに（Ｇ）無機粒子を含有することが好ましい。（Ｇ）無機粒子とは、金属元素、半金属元素、及び半導体元素からなる群より選ばれる元素を主成分に含む粒子をいう。なお主成分とは、構成成分において質量を基準として最も多く含まれる成分をいう。（Ｇ）無機粒子は、マイグレーション耐性向上の観点から、粒子表面にヒドロキシ基及び／又はシラノール基を有することが好ましい。（Ｇ）無機粒子は、マイグレーション耐性向上の観点から、シリカ粒子、アルミナ粒子、チタニア粒子、酸化バナジウム粒子、酸化クロム粒子、酸化鉄粒子、酸化コバルト粒子、酸化銅粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化ニオブ粒子、酸化スズ粒子、及び酸化セリウム粒子からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、さらに外光反射抑制の観点から、シリカ粒子を含有することがより好ましい。
【0143】
シリカ粒子は、ハーフトーン特性向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、粒子表面にラジカル重合性基、熱反応性基、ヒドロキシ基、シラノール基、アルコキシシリル基、アルキルシリル基、ジアルキルシリル基、トリアルキルシリル基、フェニルシリル基、又はジフェニルシリル基を有することが好ましく、さらにハーフトーン特性向上の観点から、粒子表面にラジカル重合性基又は熱反応性基を有することがより好ましい。ラジカル重合性基に関する例示及び好ましい記載は、上記の（Ａ）バインダー樹脂における記載の通りである。
【0144】
シリカ粒子の平均一次粒子径は、マイグレーション耐性向上の観点から、５．０ｎｍ以上が好ましい。一方、シリカ粒子の平均一次粒子径は、パターン裾部の残渣抑制及び外光反射抑制の観点から、２００ｎｍ以下が好ましい。またシリカ粒子の平均一次粒子径は、高弾性率化及び低熱膨張率化の観点から、０．２０μｍ超過が好ましい。一方、シリカ粒子の平均一次粒子径は、パターン裾部の残渣抑制の観点から、１００μｍ以下が好ましい。
【0145】
上記の顔料及びシリカ粒子の一次粒子径とは一次粒子における長軸径をいう。膜中の顔料及びシリカ粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡（以下、「ＴＥＭ」）を用いて膜の断面を撮像及び解析し、一次粒子３０個を測定した平均値として算出できる。また顔料分散液中及びシリカ粒子分散液中の平均一次粒子径の好ましい範囲は、膜中の平均一次粒子径の好ましい範囲の通りである。顔料分散液中及びシリカ粒子分散液中の平均一次粒子径は、動的光散乱法により粒度分布を測定して求められる。測定器としては、例えば、動的光散乱法は堀場製作所社製のＳＺ－１００が挙げられ、レーザー回折・散乱法は島津製作所社製のＳＬＤ３１００又は堀場製作所社製のＬＡ－９２０若しくはその同等品が挙げられる。
【0146】
上記のシリカ粒子は、粒子表面のヒドロキシ基及び／又はシラノール基の酸性度や負電荷により、電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物などを捕捉すると考えられる。また粒子の堅牢な構造によって熱処理や電圧印加をしても捕捉した不純物を保持し続けるため、マイグレーション耐性が向上すると推定される。また硬化物の表面に偏在するシリカ粒子により、入射した外光の反射・散乱が低減されると考えられる。
【0147】
シリカ粒子に占めるナトリウム元素の含有量は、マイグレーション耐性向上の観点から、１．０質量ｐｐｍ以上が好ましい。一方、シリカ粒子に占めるナトリウム元素の含有量は、マイグレーション耐性向上の観点から、１，０００質量ｐｐｍ以下が好ましい。ナトリウム元素の存在形態としては、例えば、イオン（Ｎａ＋）又はシラノール基との塩（Ｓｉ－ＯＮａ）が挙げられる。
【0148】
本発明の感光性組成物の全固形分に占める（Ｇ）無機粒子の含有比率は、マイグレーション耐性向上の観点から、５．０質量％以上が好ましい。一方、（Ｇ）無機粒子の含有比率は、パターン裾部の残渣抑制の観点から、９０質量％以下が好ましい。
【0149】
＜その他の添加剤及び溶剤＞
本発明の感光性組成物は、さらに、熱発色剤、酸化発色剤、溶解促進剤、撥インク剤、増感剤、連鎖移動剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、又は界面活性剤を含有することも好ましい。これらの添加剤は公知のものを用いても構わない。本発明の感光性組成物は、さらに溶剤を含有することも好ましい。本発明の感光性組成物が顔料を含有し、さらに分散剤を含有する場合、溶剤は、顔料の分散安定性向上の観点から、アセテート結合、プロピオネート結合、又はブチレート結合を有する化合物が好ましい。
本発明の感光性組成物は、さらに、熱発色剤、酸化発色剤、溶解促進剤、撥インク剤、増感剤、連鎖移動剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、又は界面活性剤を含有することも好ましい。これらの添加剤は公知のものを用いても構わない。本発明の感光性組成物は、さらに溶剤を含有することも好ましい。本発明の感光性組成物が顔料を含有し、さらに分散剤を含有する場合、溶剤は、顔料の分散安定性向上の観点から、アセテート結合、プロピオネート結合、又はブチレート結合を有する化合物が好ましい。
【0150】
＜特定の芳香族化合物の含有量＞
本発明の感光性組成物は、パターン裾部の残渣抑制、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、さらに、ベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレン（以下、「特定の芳香族化合物」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（１）の条件を満たすことが好ましい。
（１）感光性組成物中に占めるベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンの含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、１，０００質量ｐｐｍ以下。
本発明の感光性組成物は、パターン裾部の残渣抑制、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、さらに、ベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレン（以下、「特定の芳香族化合物」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（１）の条件を満たすことが好ましい。
（１）感光性組成物中に占めるベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンの含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、１，０００質量ｐｐｍ以下。
【0151】
感光性組成物中に占める特定の芳香族化合物の含有量の合計は、パターン裾部の残渣抑制、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、０．０３０質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０５０質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０７０質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．１０質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、特定の芳香族化合物の含有量の合計は、パターン裾部の残渣抑制、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、５００質量ｐｐｍ以下が好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、５０質量ｐｐｍ以下が好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、５．０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、３．０質量ｐｐｍ以下が特に好ましく、１．０質量ｐｐｍ以下が最も好ましい。
【0152】
上記の特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物の合計１０，０００質量部に対する、特定の芳香族化合物の含有量の合計は、パターン裾部の残渣抑制、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、０．０１０質量部以上が好ましく、０．０３０質量部以上がより好ましく、０．０５０質量部以上がさらに好ましく、０．０７０質量部以上がさらにより好ましく、０．１０質量部以上が特に好ましい。一方、特定の芳香族化合物の含有量の合計は、パターン裾部の残渣抑制、機械物性向上、及びマイグレーション耐性向上の観点から、１，０００質量部以下が好ましく、５００質量部以下がより好ましく、３００質量部以下がさらに好ましく、１００質量部以下が特に好ましい。さらに、５０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましく、１０質量部以下がさらに好ましく、５．０質量部以下がさらにより好ましく、３．０質量部以下が特に好ましく、１．０質量部以下が最も好ましい。
【0153】
上記の特定の芳香族化合物を微量含有させることで、感光性組成物のパターン形成時に開口部表面が表面改質されるため、配線表面への残渣付着防止により、パターン裾部の残渣抑制の効果が顕著となる。また特定の芳香族化合物と、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、及びそれらの前駆体などの芳香環を有する樹脂とのπ電子相互作用や、ポリシロキサンなどの空の原子軌道である３ｄ軌道を有するケイ素原子を含む樹脂とのπ電子による配位結合により、これらの樹脂が局所的に配向した状態となり、効率的に樹脂間の架橋反応や樹脂の閉環反応が進行するため、機械物性向上の効果が顕著となる。また特定の芳香族化合物が、硬化物中における分極構造や電荷バランスの制御に寄与するため、マイグレーション耐性が向上すると推定される。
【0154】
本発明の感光性組成物がネガ型の感光性を有する場合、パターン裾部の残渣抑制の観点から、本発明の感光性組成物は上記条件（１）を満たすことが好ましい。本発明の感光性組成物が上記条件（１）を満たす場合、本発明の感光性組成物は上記の（Ｃ１）光重合開始剤及び（Ｂ）化合物を含有することがより好ましい。上記の特定の芳香族化合物は、芳香環上のπ電子により、活性ラジカルやカチオン重合又はアニオン重合における活性種と相互作用して安定化することで、パターン裾部の残渣抑制の効果が顕著となる。特に、特定の芳香族化合物は、上記の（Ｃ１）光重合開始剤及び（Ｂ）化合物由来の活性ラジカルを捕捉することで、露光時のラジカル重合制御によるパターン裾部の残渣抑制の効果が顕著となる。
【0155】
なお感光性組成物の保管安定性が悪い場合、例えば、室温で保管後の異物発生が課題となる場合もある。感光性組成物の保管中に異物が発生した場合、本発明の電子部品における硬化物など、感光性組成物の硬化物の形成時、硬化物中やパターン開口部に異物が残存することとなる。このような異物は、例えば、表示装置における発光素子の信頼性低下や電子部品におけるマイグレーション耐性低下の要因となる。本発明の感光性組成物は特定の芳香族化合物の含有量を特定範囲とすることで、保管時の異物発生が抑制され、保管安定性向上の効果が顕著となる。
【0156】
＜特定の含窒素化合物の含有量＞
本発明の感光性組成物は、機械物性向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、さらに、一般式（２０）で表される環状アミド化合物、一般式（２１）で表されるアミド化合物、一般式（２２）で表される環状ウレア化合物、一般式（２３）で表されるウレア化合物、一般式（２４）で表されるオキサゾリドン化合物、及び一般式（２５）で表されるイソオキサゾリドン化合物（以下、「特定の含窒素化合物」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（５）の条件を満たすことが好ましい。
（５）感光性組成物の全固形分に占める一般式（２０）で表される環状アミド化合物、一般式（２１）で表されるアミド化合物、一般式（２２）で表される環状ウレア化合物、一般式（２３）で表されるウレア化合物、一般式（２４）で表されるオキサゾリドン化合物、及び一般式（２５）で表されるイソオキサゾリドン化合物の含有量の合計が０．０１０質量％以上、５．０質量％以下。
本発明の感光性組成物は、機械物性向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、さらに、一般式（２０）で表される環状アミド化合物、一般式（２１）で表されるアミド化合物、一般式（２２）で表される環状ウレア化合物、一般式（２３）で表されるウレア化合物、一般式（２４）で表されるオキサゾリドン化合物、及び一般式（２５）で表されるイソオキサゾリドン化合物（以下、「特定の含窒素化合物」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（５）の条件を満たすことが好ましい。
（５）感光性組成物の全固形分に占める一般式（２０）で表される環状アミド化合物、一般式（２１）で表されるアミド化合物、一般式（２２）で表される環状ウレア化合物、一般式（２３）で表されるウレア化合物、一般式（２４）で表されるオキサゾリドン化合物、及び一般式（２５）で表されるイソオキサゾリドン化合物の含有量の合計が０．０１０質量％以上、５．０質量％以下。
【0157】
【化4】
【0158】
一般式（２０）～（２５）において、Ｒ４６～Ｒ５６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数２～６のアルケニル基、又は炭素数１～６のヒドロキシアルキル基を表す。Ｒ１３０は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数１～６のヒドロキシアルキル基、炭素数１～６のヒドロキシアルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、炭素数１～６のモノアルキルアミノ基、又は炭素数２～１２のジアルキルアミノ基を表す。Ｒ１３１～Ｒ１４２は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基を表す。α、β、及びγは、それぞれ独立して、０～６の整数を表す。ａ、ｂ、ｃ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、及びｍは、それぞれ独立して、０～２の整数を表す。αが０の場合、ａは０である。βが０の場合、ｂは０である。γが０の場合、ｃは０である。上述した置換基及び構造はヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。
【0159】
特定の含窒素化合物としては、例えば、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ－ブチル－２－ピロリドン、Ｎ－シクロヘキシル－２－ピロリドン、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソブチルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル－３－メトキシプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル－３－ブトキシプロピオンアミド、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、１，３－ジエチル－２－イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ’－ジメチルプロピレン尿素、１，１，３，３－テトラメチル尿素、又は１，１，３，３－テトラエチル尿素が挙げられる。
【0160】
感光性組成物の全固形分に占める特定の含窒素化合物の含有量の合計は、機械物性向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、０．０３０質量％以上が好ましく、０．０５０質量％以上がより好ましく、０．０７０質量％以上がさらに好ましく、０．１０質量％以上が特に好ましい。一方、特定の含窒素化合物の含有量の合計は、機械物性向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、４．０質量％以下が好ましく、３．５質量％以下がより好ましく、３．０質量％以下がさらに好ましい。さらに、２．５質量％以下が好ましく、２．０質量％以下がより好ましく、１．５質量％以下がさらに好ましく、１．０質量％以下がさらにより好ましく、０．７０質量％以下が特に好ましく、０．５０質量％以下が最も好ましい。
【0161】
上記の特定の含窒素化合物を微量含有させることで、非共有電子対を有する含窒素構造が電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物などを捕捉するため、イオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションが抑制され、マイグレーション耐性が向上すると推定される。また特定の含窒素化合物は、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、及びそれらの前駆体などの芳香環を有する樹脂における芳香環上での架橋反応や樹脂の閉環反応、ポリシロキサンなどのシラノール基を有する樹脂における架橋反応を促進する触媒として機能するため、機械物性向上の効果が顕著となる。
【0162】
本発明の感光性組成物が上記のポリイミド系の樹脂を含有する場合、マイグレーション耐性向上の観点から、本発明の感光性組成物は、上記条件（５）を満たすことが好ましい。本発明の感光性組成物が上記条件（５）を満たす場合、ポリイミド系の樹脂は弱酸性基を有するポリイミド系の樹脂を含有することがより好ましい。
【0163】
＜特定のカルボン酸及び特定のオキシム化合物の含有量＞
本発明の感光性組成物は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、さらに、酢酸、プロピオン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、メチル安息香酸、及びトリメチル安息香酸（以下、「特定のカルボン酸」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（２）の条件を満たす、及び／又は、さらに、アルドオキシム化合物及び／又はケトオキシム化合物（以下、「特定のオキシム化合物」）を含有し、かつ下記（３）の条件を満たすことが好ましい。特定のオキシム化合物は、縮合多環式構造、縮合多環式へテロ環構造、ジアリールスルフィド構造、又はベンゼン構造を有することがより好ましい。縮合多環式構造は、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、インデン構造、インダン構造、ベンゾインデン構造、又はベンゾインダン構造が好ましい。縮合多環式へテロ環構造は、カルバゾール構造、ジベンゾフラン構造、ジベンゾチオフェン構造、ベンゾカルバゾール構造、インドール構造、インドリン構造、ベンゾインドール構造、ベンゾインドリン構造、フェノチアジン構造、又はフェノチアジンオキシド構造が好ましい。ジアリールスルフィド構造は、ジフェニルスルフィド構造、ナフチルフェニルスルフィド構造、又はジナフチルスルフィド構造が好ましい。
（２）感光性組成物の全固形分に占める酢酸、プロピオン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、メチル安息香酸、及びトリメチル安息香酸の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下
（３）感光性組成物の全固形分に占めるアルドオキシム化合物及びケトオキシム化合物の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下。
本発明の感光性組成物は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、さらに、酢酸、プロピオン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、メチル安息香酸、及びトリメチル安息香酸（以下、「特定のカルボン酸」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（２）の条件を満たす、及び／又は、さらに、アルドオキシム化合物及び／又はケトオキシム化合物（以下、「特定のオキシム化合物」）を含有し、かつ下記（３）の条件を満たすことが好ましい。特定のオキシム化合物は、縮合多環式構造、縮合多環式へテロ環構造、ジアリールスルフィド構造、又はベンゼン構造を有することがより好ましい。縮合多環式構造は、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、インデン構造、インダン構造、ベンゾインデン構造、又はベンゾインダン構造が好ましい。縮合多環式へテロ環構造は、カルバゾール構造、ジベンゾフラン構造、ジベンゾチオフェン構造、ベンゾカルバゾール構造、インドール構造、インドリン構造、ベンゾインドール構造、ベンゾインドリン構造、フェノチアジン構造、又はフェノチアジンオキシド構造が好ましい。ジアリールスルフィド構造は、ジフェニルスルフィド構造、ナフチルフェニルスルフィド構造、又はジナフチルスルフィド構造が好ましい。
（２）感光性組成物の全固形分に占める酢酸、プロピオン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、メチル安息香酸、及びトリメチル安息香酸の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下
（３）感光性組成物の全固形分に占めるアルドオキシム化合物及びケトオキシム化合物の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、５００質量ｐｐｍ以下。
【0164】
感光性組成物の全固形分に占める特定のカルボン酸の含有量の合計は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、０．０３０質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０５０質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０７０質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．１０質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、特定のカルボン酸の含有量の合計は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、３００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、５０質量ｐｐｍ以下が好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、５．０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、３．０質量ｐｐｍ以下が特に好ましく、１．０質量ｐｐｍ以下が最も好ましい。
【0165】
感光性組成物の全固形分に占める特定のオキシム化合物の含有量の合計は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、０．０３０質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０５０質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０７０質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．１０質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、特定のオキシム化合物の含有量の合計は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、３００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、５０質量ｐｐｍ以下が好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、５．０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、３．０質量ｐｐｍ以下が特に好ましく、１．０質量ｐｐｍ以下が最も好ましい。
【0166】
上記の特定のカルボン酸又は特定のオキシム化合物を微量含有させることで、カルボキシ基及びオキシム基の酸性度や負電荷により、電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物などが捕捉されるため、イオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションが抑制され、マイグレーション耐性が向上すると推定される。また特定のカルボン酸及び特定のオキシム化合物が硬化物中の水分を捕捉するため、イオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションが抑制され、マイグレーション耐性が向上すると推定される。
【0167】
本発明の感光性組成物が上記の（Ｃ１－１）化合物を含有する場合、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、本発明の感光性組成物は上記条件（２）及び／又は条件（３）を満たすことが好ましい。本発明の感光性組成物が上記条件（２）及び／又は条件（３）を満たす場合、（Ｃ１－１）化合物は上記の特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物を含有することがより好ましい。上記の特定のカルボン酸又は特定のオキシム化合物を微量含有させることで、（Ｃ１－１）化合物から発生するラジカルが長寿命化すると考えられ、露光時の感度向上の効果が顕著となる。
【0168】
＜塩素元素、臭素元素、及び硫黄元素の含有量＞
本発明の感光性組成物は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、さらに、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、及び硫黄元素を含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（６）の条件を満たすことが好ましい。
（６）感光性組成物の全固形分に占める塩素元素及び臭素元素の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、かつ５００質量ｐｐｍ以下、及び／又は、感光性組成物の全固形分に占める硫黄元素の含有量が０．０１０質量ｐｐｍ以上、かつ５００質量ｐｐｍ以下。
本発明の感光性組成物は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、さらに、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、及び硫黄元素を含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（６）の条件を満たすことが好ましい。
（６）感光性組成物の全固形分に占める塩素元素及び臭素元素の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、かつ５００質量ｐｐｍ以下、及び／又は、感光性組成物の全固形分に占める硫黄元素の含有量が０．０１０質量ｐｐｍ以上、かつ５００質量ｐｐｍ以下。
【0169】
塩素元素を含む成分及び臭素元素を含む成分は、塩化アルキル化合物、塩化シクロアルキル化合物、塩化アリール化合物、臭化アルキル化合物、臭化シクロアルキル化合物、又は臭化アリール化合物が好ましい。硫黄元素を含む成分は、チオール化合物、スルフィド化合物、ジスルフィド化合物、スルホキシド化合物、スルホン化合物、スルトン化合物、又はチオフェン化合物が好ましい。
【0170】
本発明の感光性組成物は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、塩素元素を含むイオン、臭素元素を含むイオン、及び硫黄元素を含むイオンからなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ上記条件（６）が下記条件（６Ｉ）であって、下記条件（６Ｉ）を満たすことがより好ましい。
（６Ｉ）感光性組成物の全固形分に占める、塩素元素を含むイオン中の塩素元素及び臭素元素を含むイオン中の臭素元素の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、かつ５００質量ｐｐｍ以下、及び／又は、感光性組成物の全固形分に占める、硫黄元素を含むイオン中の硫黄元素の含有量が０．０１０質量ｐｐｍ以上、かつ５００質量ｐｐｍ以下。
（６Ｉ）感光性組成物の全固形分に占める、塩素元素を含むイオン中の塩素元素及び臭素元素を含むイオン中の臭素元素の含有量の合計が０．０１０質量ｐｐｍ以上、かつ５００質量ｐｐｍ以下、及び／又は、感光性組成物の全固形分に占める、硫黄元素を含むイオン中の硫黄元素の含有量が０．０１０質量ｐｐｍ以上、かつ５００質量ｐｐｍ以下。
【0171】
塩素元素を含むイオン及び臭素元素を含むイオンは、塩化物イオン又は臭化物イオンが好ましい。硫黄元素を含むイオンは、硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、又は亜硫酸イオンが好ましい。
【0172】
感光性組成物の全固形分に占める、塩素元素及び臭素元素の含有量の合計及び硫黄元素の含有量は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、０．０３０質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０５０質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０７０質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．１０質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、塩素元素及び臭素元素の含有量の合計及び硫黄元素の含有量は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、３００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、５０質量ｐｐｍ以下が好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、５．０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、３．０質量ｐｐｍ以下が特に好ましく、１．０質量ｐｐｍ以下が最も好ましい。
【0173】
上記の塩素元素、臭素元素、又は硫黄元素を微量含有させることで、非共有電子対や空の原子軌道である３ｄ軌道により、電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物などが捕捉されるため、イオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションが抑制され、マイグレーション耐性が向上すると推定される。
【0174】
本発明の感光性組成物が上記条件（２）及び／又は条件（３）を満たす場合、マイグレーション耐性向上の観点から、本発明の感光性組成物は上記条件（６）及び／又は条件（６Ｉ）を満たすことが好ましい。本発明の感光性組成物が上記条件（６）及び／又は条件（６Ｉ）を満たす場合、本発明の感光性組成物は上記の（Ｃ１－１）化合物を含有することがより好ましい。上記の塩素元素、臭素元素、又は硫黄元素を微量含有させることで、（Ｃ１－１）化合物の保管安定性が向上するため、特定のカルボン酸の含有量及び特定のオキシム化合物の含有量を制御する上で好適であり、露光時の感度向上の効果が顕著となる。また上記の塩素元素、臭素元素、又は硫黄元素を微量含有させることで、保管時の異物発生が抑制され、保管安定性向上の効果が顕著となる。
【0175】
＜水の含有量＞
本発明の感光性組成物は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、さらに水を含有し、かつ下記（４）の条件を満たすことが好ましい。
（４）感光性組成物中に占める水の含有量が０．０１０質量％以上、３．０質量％以下。
本発明の感光性組成物は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、さらに水を含有し、かつ下記（４）の条件を満たすことが好ましい。
（４）感光性組成物中に占める水の含有量が０．０１０質量％以上、３．０質量％以下。
【0176】
感光性組成物中に占める水の含有量は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、０．０３０質量％以上が好ましく、０．０５０質量％以上がより好ましく、０．０７０質量％以上がさらに好ましく、０．１０質量％以上が特に好ましい。一方、水の含有量は、露光時の感度向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、２．５質量％以下が好ましく、２．２質量％以下がより好ましく、２．０質量％以下がさらに好ましい。さらに、１．７質量％以下が好ましく、１．５質量％以下がより好ましく、１．２質量％以下がさらに好ましく、１．０質量％以下がさらにより好ましく、０．７０質量％以下が特に好ましく、０．５０質量％以下が最も好ましい。
【0177】
上記の水は、水分子の双極子モーメントや水素結合などの相互作用により、電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物などを捕捉するため、イオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションが抑制され、マイグレーション耐性が向上すると推定される。
【0178】
本発明の感光性組成物が上記条件（２）及び／又は条件（３）を満たす場合、マイグレーション耐性向上の観点から、本発明の感光性組成物は上記条件（４）を満たすことが好ましい。本発明の感光性組成物が上記条件（４）を満たす場合、本発明の感光性組成物は上記の（Ｃ１－１）化合物を含有することがより好ましい。本発明の感光性組成物は水の含有量を特定範囲とすることで、（Ｃ１－１）化合物の保管安定性が向上するため、特定のカルボン酸の含有量及び特定のオキシム化合物の含有量を制御する上で好適であり、露光時の感度向上の効果が顕著となる。また本発明の感光性組成物は水の含有量を特定範囲とすることで、保管時の異物発生が抑制され、保管安定性向上の効果が顕著となる。
【0179】
＜フッ素元素の含有量＞
本発明の感光性組成物は、パターン裾部の残渣抑制及びマイグレーション耐性向上の観点から、下記（１α）の条件を満たすことが好ましい。本発明の感光性組成物は、さらに下記（２α）の条件を満たすことがより好ましい。
（１α）感光性組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下
（２α）感光性組成物の全固形分に占めるフッ化物イオンの含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下。
本発明の感光性組成物は、パターン裾部の残渣抑制及びマイグレーション耐性向上の観点から、下記（１α）の条件を満たすことが好ましい。本発明の感光性組成物は、さらに下記（２α）の条件を満たすことがより好ましい。
（１α）感光性組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下
（２α）感光性組成物の全固形分に占めるフッ化物イオンの含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下。
【0180】
感光性組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量は上記の発明の効果の観点から、０質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０１０質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０３０質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０５０質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．０７０質量ｐｐｍ以上が特に好ましく、０．１０質量ｐｐｍ以上が最も好ましい。一方、フッ素元素の含有量は上記の発明の効果の観点から、１，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらにフッ素元素の含有量は、５０質量ｐｐｍ以下が好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、５質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、３質量ｐｐｍ以下が特に好ましく、１質量ｐｐｍ以下が最も好ましい。
【0181】
感光性組成物の全固形分に占めるフッ化物イオンの含有量の好ましい範囲も、それぞれ上記の感光性組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量の好ましい範囲と同様である。
【0182】
感光性組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量は０質量ｐｐｍであっても構わない。感光性組成物の全固形分に占めるフッ化物イオンの含有量も０質量ｐｐｍであっても構わない。感光性組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量及び／又はフッ化物イオンの含有量が０質量ｐｐｍを超える場合、本発明の感光性組成物は、（Ａ）バインダー樹脂、（Ｃ）感光剤、（Ｂ）化合物、若しくは（Ｆ）架橋剤が構造中にフッ素原子若しくはフッ化物イオンを有する、又は、さらにフッ素元素を含む成分及び／又はフッ化物イオンを含む成分を含有することが好ましい。
【0183】
フッ素元素を含む成分は、フッ化アルキル基を含む置換基を有するフェノール化合物、フッ化アルキル化合物、フッ化シクロアルキル化合物、又はフッ化アリール化合物が好ましい。フッ化物イオンイオンを含む成分はカチオン種として、アンモニウムイオン、一級アンモニウムイオン、二級アンモニウムイオン、三級アンモニウムイオン、又は四級アンモニウムイオンを含有することが好ましい。四級アンモニウムイオンは直鎖又は分岐の炭化水素基を有することが好ましい。炭化水素基は、炭素数１～１５のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数２～６のアルケニル基、又は炭素数１～６のヒドロキシアルキル基が好ましく、炭素数１～１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１～６のアルキル基がさらに好ましい。
【0184】
感光性組成物中における、構造中にフッ素原子を含む化合物やフッ素元素を含む成分などの含有量を特定数値以下とすることで、これらの成分中のフッ素元素やフッ化物イオン又はこれらの成分に由来するフッ素元素を含むアニオンの含有量が特定数値以下となるため、感光性組成物中の各成分の水素結合等の相互作用により、感光性組成物中のプロトンが局所的に活性化されると推定される。そのため、現像液に対する溶解促進作用により、パターン裾部の残渣抑制の効果が顕著になると考えられる。また意図的に上記の成分の含有量を特定数値以下とすることで、硬化物中における分極構造や電荷バランスが制御されると考えられる。その結果、電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物に起因するイオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションを抑制することで、マイグレーション耐性が向上すると推定される。
【0185】
＜特定の構造を有するカルボニル基含有化合物の含有量＞
本発明の感光性組成物は、機械物性向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、後述する特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物を含有することが好ましい。特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）カルボニル基含有化合物に関する例示及び好ましい記載は、後述する硬化物中の特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物における記載の通りである。
本発明の感光性組成物は、機械物性向上及びマイグレーション耐性向上の観点から、後述する特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物を含有することが好ましい。特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）カルボニル基含有化合物に関する例示及び好ましい記載は、後述する硬化物中の特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物における記載の通りである。
【0186】
＜本発明の感光性組成物被膜及び感光性組成物フィルム＞
本発明の感光性組成物被膜は、本発明の感光性組成物を成膜した、半硬化状態（Ｂステージ）のものである。半硬化状態とは、架橋構造を形成していないか、一部反応により架橋構造が形成されているものの、膜が流動性を有していること、又、その状態をいう。例えば、基板等に塗布した後、塗膜を減圧乾燥させて溶剤を留去させた状態、又は、塗膜を４０～１５０℃で加熱して乾燥させた状態が挙げられ、アルカリ溶液又は有機溶剤に可溶である状態をいう。本発明の感光性組成物フィルムは、本発明の感光性組成物を成膜した感光性組成物被膜及び支持体を有することが好ましい。このような構成とすることが、ハンドリング性の観点から好適である。感光性組成物フィルムはポジ型又はネガ型の感光性を有する。感光性組成物フィルムは、単膜で自立膜を形成可能であることも好ましい。感光性組成物フィルムは接着性を有することが好ましく、複数の部材を接合していることも好ましい。単膜で自立膜を形成可能とは、支持体を有しない状態で、幅１．５ｃｍ以上、長さ５．０ｃｍ以上、かつ厚さ５．０μｍ以上の膜を形成可能であることをいう。すなわち感光性組成物フィルムは、単膜で自立膜を形成可能な感光性組成物被膜であることも好ましい。支持体はフレキシブル基板が好ましく、リジッド基板であっても構わない。支持体における感光性フィルム側の表面はシランカップリング剤などの表面処理がされていても構わない。支持体の厚みは、ハンドリング性の観点から、１０～２００μｍが好ましい。
本発明の感光性組成物被膜は、本発明の感光性組成物を成膜した、半硬化状態（Ｂステージ）のものである。半硬化状態とは、架橋構造を形成していないか、一部反応により架橋構造が形成されているものの、膜が流動性を有していること、又、その状態をいう。例えば、基板等に塗布した後、塗膜を減圧乾燥させて溶剤を留去させた状態、又は、塗膜を４０～１５０℃で加熱して乾燥させた状態が挙げられ、アルカリ溶液又は有機溶剤に可溶である状態をいう。本発明の感光性組成物フィルムは、本発明の感光性組成物を成膜した感光性組成物被膜及び支持体を有することが好ましい。このような構成とすることが、ハンドリング性の観点から好適である。感光性組成物フィルムはポジ型又はネガ型の感光性を有する。感光性組成物フィルムは、単膜で自立膜を形成可能であることも好ましい。感光性組成物フィルムは接着性を有することが好ましく、複数の部材を接合していることも好ましい。単膜で自立膜を形成可能とは、支持体を有しない状態で、幅１．５ｃｍ以上、長さ５．０ｃｍ以上、かつ厚さ５．０μｍ以上の膜を形成可能であることをいう。すなわち感光性組成物フィルムは、単膜で自立膜を形成可能な感光性組成物被膜であることも好ましい。支持体はフレキシブル基板が好ましく、リジッド基板であっても構わない。支持体における感光性フィルム側の表面はシランカップリング剤などの表面処理がされていても構わない。支持体の厚みは、ハンドリング性の観点から、１０～２００μｍが好ましい。
【0187】
＜本発明の感光性組成物の硬化物＞
本発明の硬化物は本発明の感光性組成物を硬化したものである。硬化とは、反応により架橋構造が形成され膜の流動性が無くなること、又、その状態をいう。反応は加熱によるもの、エネルギー線の照射によるもの等、特に限定されるものではないが、加熱によるものが好ましい。加熱によって架橋構造が形成され膜の流動性が無くなった状態を熱硬化という。加熱条件としては、例えば、１５０～５００℃で、５～３００分間加熱するなどの条件である。本発明の硬化物は、本発明の感光性フィルムを硬化したものであっても構わない。
本発明の硬化物は本発明の感光性組成物を硬化したものである。硬化とは、反応により架橋構造が形成され膜の流動性が無くなること、又、その状態をいう。反応は加熱によるもの、エネルギー線の照射によるもの等、特に限定されるものではないが、加熱によるものが好ましい。加熱によって架橋構造が形成され膜の流動性が無くなった状態を熱硬化という。加熱条件としては、例えば、１５０～５００℃で、５～３００分間加熱するなどの条件である。本発明の硬化物は、本発明の感光性フィルムを硬化したものであっても構わない。
【0188】
本発明の硬化物の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度は、外光反射抑制及び素子の信頼性向上の観点から、０．２０以上が好ましく、０．５０以上がより好ましく、１．０以上がさらに好ましい。一方、上記光学濃度は、露光時の感度向上及び素子の信頼性向上の観点から、３．０以下が好ましく、２．０以下がより好ましく、１．５以下がより好ましい。なお光学濃度は、組成物を加熱して硬化した硬化物における光学濃度であることが好ましい。光学濃度が上記範囲であることで入射した外光を遮光できるため、外光反射抑制の効果が顕著となる。また硬化物自身やその内側にある層の光劣化が抑制されるため、素子の信頼性向上の効果が顕著となる。
【0189】
本発明の硬化物の周波数１ＧＨｚにおける誘電正接は、素子の信頼性向上及び低伝送損失の観点から、０．０００１０～０．０１００が好ましい。なお誘電正接は、スプリットポスト誘電体共振器（ＳＰＤＲ）による共振器法で測定した値である。また本発明の硬化物の周波数１ＧＨｚにおける誘電率は、素子の信頼性向上及び低伝送損失の観点から、２．０～３．５が好ましい。本発明の硬化物の周波数１０ＧＨｚ、３０ＧＨｚ、及び７０ＧＨｚにおける誘電正接及び誘電率に関する好ましい範囲も、それぞれ上記と同様である。
【0190】
本発明の硬化物の吸水率は、マイグレーション耐性向上の観点から、０．１０質量％以上が好ましく、０．３０質量％以上がより好ましい。一方、上記吸水率は、マイグレーション耐性向上の観点から、１．５質量％以下が好ましく、１．０質量％以下がより好ましく、０．８０質量％以下がさらに好ましく、０．６０質量％以下がさらにより好ましく、０．５０質量％以下が特に好ましい。
【0191】
＜硬化物を具備する素子及び物品＞
本発明の素子は本発明の硬化物を具備する。また本発明の物品は本発明の硬化物を具備する。物品としては、例えば、電子部品、電子装置、移動体、建造物、又は窓などが挙げられる。電子部品としては、例えば、半導体装置、アンテナ、表示装置、金属張積層板、配線基板、半導体パッケージ、半導体装置を含む能動部品、又は受動部品が挙げられる。本発明の感光性組成物は電子部品の形成に用いられることが好ましい。半導体装置としては、例えば、ファンアウト・ウェハレベル・パッケージ構造、ファンアウト・パネルレベル・パッケージ構造、又はアンテナ・イン・パッケージ構造を有する半導体装置が挙げられる。アンテナとしては、例えば、マイクロストリップラインアンテナ又はストリップラインアンテナが挙げられる。表示装置としては、例えば、有機ＥＬディスプレイ、量子ドットディスプレイ、マイクロ発光ダイオード（以下、「ＬＥＤ」）ディスプレイ、ミニＬＥＤディスプレイ、又は液晶ディスプレイが挙げられる。金属張積層板としては、例えば、プリント回路基板が挙げられる。
本発明の素子は本発明の硬化物を具備する。また本発明の物品は本発明の硬化物を具備する。物品としては、例えば、電子部品、電子装置、移動体、建造物、又は窓などが挙げられる。電子部品としては、例えば、半導体装置、アンテナ、表示装置、金属張積層板、配線基板、半導体パッケージ、半導体装置を含む能動部品、又は受動部品が挙げられる。本発明の感光性組成物は電子部品の形成に用いられることが好ましい。半導体装置としては、例えば、ファンアウト・ウェハレベル・パッケージ構造、ファンアウト・パネルレベル・パッケージ構造、又はアンテナ・イン・パッケージ構造を有する半導体装置が挙げられる。アンテナとしては、例えば、マイクロストリップラインアンテナ又はストリップラインアンテナが挙げられる。表示装置としては、例えば、有機ＥＬディスプレイ、量子ドットディスプレイ、マイクロ発光ダイオード（以下、「ＬＥＤ」）ディスプレイ、ミニＬＥＤディスプレイ、又は液晶ディスプレイが挙げられる。金属張積層板としては、例えば、プリント回路基板が挙げられる。
【0192】
本発明の電子部品は本発明の硬化物を具備する。本発明の硬化物は、優れた機械物性及び高マイグレーション耐性を兼ね備えることが可能である。そのため本発明の感光性組成物は、電子部品における金属配線の絶縁層、金属配線の保護層、又は金属配線の層間絶縁層の形成に用いられることが好ましい。また本発明の感光性組成物は、半導体装置における再配線の層間絶縁層の形成に用いられることも好ましく、アンテナにおける金属配線の絶縁層、金属配線の保護層、又は金属配線とグランド配線との層間絶縁層の形成に用いられることも好ましく、有機ＥＬディスプレイ、量子ドットディスプレイ、又はマイクロＬＥＤディスプレイにおける画素分割層、薄層トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」）の平坦化層、ＴＦＴの保護層、ＴＦＴの層間絶縁層、又はゲート絶縁層の形成に用いられることも好ましく、金属張積層板における金属配線の絶縁層、金属配線の保護層、又は金属配線のソルダーレジスト層の形成に用いられることも好ましい。
【0193】
＜中空構造体＞
本発明の中空構造体は本発明の硬化物を具備する。本発明の電子部品は本発明の中空構造体を有することが好ましい。本発明の中空構造体は、中空構造支持材及び中空構造屋根材を有する。中空構造支持材及び中空構造屋根材は、耐熱性向上及び信頼性向上の観点から、上記のポリイミド系の樹脂を含有することが好ましい。中空構造支持材の膜厚は５～２０μｍが好ましい。中空構造屋根材の膜厚は１０～５０μｍが好ましい。本発明の感光性組成物は中空構造体の形成に用いられることが好ましい。本発明の感光性フィルムは中空構造体の形成に好適である。中空構造体を有する電子部品としては、例えば、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ）等が挙げられる。
本発明の中空構造体は本発明の硬化物を具備する。本発明の電子部品は本発明の中空構造体を有することが好ましい。本発明の中空構造体は、中空構造支持材及び中空構造屋根材を有する。中空構造支持材及び中空構造屋根材は、耐熱性向上及び信頼性向上の観点から、上記のポリイミド系の樹脂を含有することが好ましい。中空構造支持材の膜厚は５～２０μｍが好ましい。中空構造屋根材の膜厚は１０～５０μｍが好ましい。本発明の感光性組成物は中空構造体の形成に用いられることが好ましい。本発明の感光性フィルムは中空構造体の形成に好適である。中空構造体を有する電子部品としては、例えば、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ）等が挙げられる。
【0194】
＜電子部品＞
以下、本発明の電子部品について述べる。ただし、本発明は以下の各実施の形態に限定されるものではなく、発明の目的を達成でき、かつ発明の要旨を逸脱しない範囲内においての種々の変更は当然ありえる。
以下、本発明の電子部品について述べる。ただし、本発明は以下の各実施の形態に限定されるものではなく、発明の目的を達成でき、かつ発明の要旨を逸脱しない範囲内においての種々の変更は当然ありえる。
【0195】
本発明の電子部品は上記の［１８］の構成を有する。上記の構成とすることで、本発明の電子部品は、マイグレーション耐性に優れる電子部品を提供可能である。これは上記の（ＸＩａ）構造又は（ＸＩＩａ）構造が、硬化物中における分極構造や電荷バランスの制御に寄与すると考えられる。また上記の（ＸＩｃ）構造におけるカルボニル構造中のπ電子が、電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物などを捕捉すると考えられる。さらに上記の（ＸＩｄ）構造又は（ＸＩＩｃ）構造における特定の炭素数の脂肪族基又は脂環式基による疎水性構造が、硬化物中への水分の浸透を抑制すると推定される。これらの作用の結果、電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物に起因するイオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションを抑制することで、優れたマイグレーション耐性の効果を奏功すると推定される。また配線中の金属のマイグレーション抑制や凝集抑制により、電子部品、半導体装置、表示装置、又は金属張積層板における高信頼性の効果も奏功すると推定される。
【0196】
上記の特定の構造を有する（Ｃ１ｘ－ＤＬ）カルボニル基含有化合物（以下、「特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物」）は、マイグレーション耐性向上の観点から、上記の（ＸＩｃ）構造中のアリールカルボニル構造又はカルボニル構造とは別に、上記の（ＸＩａ）構造中のカルボニル基を有することが好ましい。上記の（ＸＩａ）構造中のカルボニル基は、ケトン構造、アルデヒド構造、カルボン酸構造、カルボン酸エステル構造、又はカルボン酸アミド構造におけるカルボニル基であることが好ましい。硬化物中の特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物は、上記の感光性組成物中の特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物、又は、特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物に由来する構造を有する化合物であることが好ましい。硬化物中の特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物における（ＸＩａ）構造、（ＸＩｃ）構造、（ＸＩｄ）構造、（ＸＩＩａ）構造、及び（ＸＩＩｃ）構造に関する例示及び好ましい記載は、上記の特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物における（Ｉａ）構造、（Ｉｃ）構造、（Ｉｄ）構造、（ＩＩａ）構造、及び（ＩＩｃ）構造に関する例示及び好ましい記載の通りである。
【0197】
本発明の電子部品における硬化物は、マイグレーション耐性向上の観点から、下記（Ｘπ）の条件を満たすことが好ましい。
（Ｘπ）硬化物中の特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物の含有量が０．００１０質量％以上、５．０質量％以下。
（Ｘπ）硬化物中の特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物の含有量が０．００１０質量％以上、５．０質量％以下。
【0198】
硬化物中の特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物の含有量は、マイグレーション耐性向上の観点から、０．００５０質量％以上が好ましく、０．０１０質量％以上がより好ましく、０．０５０質量％以上がさらに好ましく、０．１０質量％以上が特に好ましい。一方、特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物の含有量は、マイグレーション耐性向上の観点から、４．０質量％以下が好ましく、３．５質量％以下がより好ましく、３．０質量％以下がさらに好ましい。さらに、２．５質量％以下が好ましく、２．０質量％以下がより好ましく、１．５質量％以下がさらに好ましく、１．０質量％以下がさらにより好ましく、０．７０質量％以下が特に好ましく、０．５０質量％以下が最も好ましい。
【0199】
＜硬化物中の樹脂及び化合物＞
本発明の電子部品は硬化物を具備する。本発明の電子部品における硬化物は、感光性組成物の硬化物であることが好ましく、樹脂を含有することがより好ましい。硬化物中の樹脂は、（ＸＡ１）弱酸性基含有樹脂及び／又は（ＸＡ２）弱酸性基を有しない樹脂を含有することが好ましい。硬化物中の（ＸＡ１）弱酸性基含有樹脂は、上記の（Ａ１）弱酸性基含有樹脂又は当該樹脂に由来する構造を有する樹脂であることが好ましい。（ＸＡ２）弱酸性基を有しない樹脂は、上記の（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂又は当該樹脂に由来する構造を有する樹脂であることが好ましい。硬化物中の樹脂に関する例示及び好ましい記載は、上記の（Ａ）バインダー樹脂に関する例示及び好ましい記載の通りである。硬化物中の樹脂は、組成物中の（Ａ）バインダー樹脂又は当該樹脂に由来する構造を有する樹脂のいずれであっても構わない。
本発明の電子部品は硬化物を具備する。本発明の電子部品における硬化物は、感光性組成物の硬化物であることが好ましく、樹脂を含有することがより好ましい。硬化物中の樹脂は、（ＸＡ１）弱酸性基含有樹脂及び／又は（ＸＡ２）弱酸性基を有しない樹脂を含有することが好ましい。硬化物中の（ＸＡ１）弱酸性基含有樹脂は、上記の（Ａ１）弱酸性基含有樹脂又は当該樹脂に由来する構造を有する樹脂であることが好ましい。（ＸＡ２）弱酸性基を有しない樹脂は、上記の（Ａ２）弱酸性基を有しない樹脂又は当該樹脂に由来する構造を有する樹脂であることが好ましい。硬化物中の樹脂に関する例示及び好ましい記載は、上記の（Ａ）バインダー樹脂に関する例示及び好ましい記載の通りである。硬化物中の樹脂は、組成物中の（Ａ）バインダー樹脂又は当該樹脂に由来する構造を有する樹脂のいずれであっても構わない。
【0200】
＜硬化物中の特定の含窒素化合物の含有量＞
本発明の電子部品における硬化物は、マイグレーション耐性向上の観点から、さらに、上記の特定の含窒素化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（Ｘ５）の条件を満たすことが好ましい。特定の含窒素化合物に関する例示及び好ましい記載は、上記の感光性組成物中の特定の含窒素化合物における記載の通りである。
（Ｘ５）硬化物中の一般式（２０）で表される環状アミド化合物、一般式（２１）で表されるアミド化合物、一般式（２２）で表される環状ウレア化合物、一般式（２３）で表されるウレア化合物、一般式（２４）で表されるオキサゾリドン化合物、及び一般式（２５）で表されるイソオキサゾリドン化合物（以下、「特定の含窒素化合物」）の含有量の合計が０．０１０質量％以上、５．０質量％以下。
本発明の電子部品における硬化物は、マイグレーション耐性向上の観点から、さらに、上記の特定の含窒素化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（Ｘ５）の条件を満たすことが好ましい。特定の含窒素化合物に関する例示及び好ましい記載は、上記の感光性組成物中の特定の含窒素化合物における記載の通りである。
（Ｘ５）硬化物中の一般式（２０）で表される環状アミド化合物、一般式（２１）で表されるアミド化合物、一般式（２２）で表される環状ウレア化合物、一般式（２３）で表されるウレア化合物、一般式（２４）で表されるオキサゾリドン化合物、及び一般式（２５）で表されるイソオキサゾリドン化合物（以下、「特定の含窒素化合物」）の含有量の合計が０．０１０質量％以上、５．０質量％以下。
【0201】
＜硬化物中のフッ素元素の含有量＞
本発明の電子部品における硬化物はマイグレーション耐性向上の観点から、下記（Ｘ１α）の条件を満たすことが好ましい。本発明の電子部品における硬化物は、さらに下記（Ｘ２α）の条件を満たすことがより好ましい。
（Ｘ１α）硬化物中のフッ素元素の含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下
（Ｘ２α）硬化物中のフッ化物イオンの含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下。
本発明の電子部品における硬化物はマイグレーション耐性向上の観点から、下記（Ｘ１α）の条件を満たすことが好ましい。本発明の電子部品における硬化物は、さらに下記（Ｘ２α）の条件を満たすことがより好ましい。
（Ｘ１α）硬化物中のフッ素元素の含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下
（Ｘ２α）硬化物中のフッ化物イオンの含有量が１，０００質量ｐｐｍ以下。
【0202】
硬化物中のフッ素元素の含有量は上記の発明の効果の観点から、０質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０１０質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０３０質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０５０質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．０７０質量ｐｐｍ以上が特に好ましく、０．１０質量ｐｐｍ以上が最も好ましい。一方、フッ素元素の含有量は上記の発明の効果の観点から、１，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらにフッ素元素の含有量は、５０質量ｐｐｍ以下が好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、５質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、３質量ｐｐｍ以下が特に好ましく、１質量ｐｐｍ以下が最も好ましい。
【0203】
硬化物中のフッ化物イオンの含有量の好ましい範囲も、それぞれ上記の硬化物中のフッ素元素の含有量の好ましい範囲と同様である。
【0204】
硬化物中のフッ素元素の含有量は０質量ｐｐｍであっても構わない。硬化物中のフッ化物イオンの含有量も０質量ｐｐｍであっても構わない。硬化物中のフッ素元素の含有量及び／又はフッ化物イオンの含有量が０質量ｐｐｍを超える場合、本発明の電子部品における硬化物は、硬化物中の樹脂が構造中にフッ素原子若しくはフッ化物イオンを有する、又は、さらにフッ素元素を含む成分及び／又はフッ化物イオンを含む成分を含有することが好ましい。
【0205】
硬化物中のフッ素元素を含む成分及びフッ化物イオンを含む成分に関する例示及び好ましい記載は、上記の感光性組成物中の各成分における記載の通りである。
【0206】
意図的に硬化物中のフッ素元素やフッ化物イオンの含有量を特定数値以下とすることで、硬化物中における分極構造や電荷バランスが制御されると考えられる。その結果、電気絶縁性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物に起因するイオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションを抑制することで、マイグレーション耐性が向上すると推定される。
【0207】
＜硬化物の製造方法＞
本発明の硬化物の製造方法は、（１）基板上に、本発明の感光性組成物の塗膜を成膜する工程、（２）上記感光性組成物の塗膜にフォトマスクを介して活性化学線を照射する工程、（３）現像液を用いて現像し、上記感光性組成物のパターンを形成する工程、及び（４）上記パターンを加熱し、上記感光性組成物の硬化パターンを得る工程、を有する。なおこれらの工程において、国際公開第２０１９／０８７９８５号の段落［０４５３］～段落［０４８１］に記載の各方法を適用しても構わない。塗膜を成膜する工程は、塗布した後、プリベークして成膜することが好ましい。硬化パターンを得る工程は、パターンを加熱して熱硬化させることが好ましい。
本発明の硬化物の製造方法は、（１）基板上に、本発明の感光性組成物の塗膜を成膜する工程、（２）上記感光性組成物の塗膜にフォトマスクを介して活性化学線を照射する工程、（３）現像液を用いて現像し、上記感光性組成物のパターンを形成する工程、及び（４）上記パターンを加熱し、上記感光性組成物の硬化パターンを得る工程、を有する。なおこれらの工程において、国際公開第２０１９／０８７９８５号の段落［０４５３］～段落［０４８１］に記載の各方法を適用しても構わない。塗膜を成膜する工程は、塗布した後、プリベークして成膜することが好ましい。硬化パターンを得る工程は、パターンを加熱して熱硬化させることが好ましい。
【実施例0208】
以下に実施例、参考例、及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの範囲に限定されない。なお、以下の説明又は表で用いた化合物のうち略語を使用しているものについて、略語に対応する名称を、まとめて表１－２に示す。
【0209】
【表1-2】
【0210】
＜各樹脂の合成例＞
（Ａ）バインダー樹脂として、合成例１～２５で得られた各樹脂の組成を、まとめて表１－３～表１－５に示す。各樹脂は公知の文献に記載の方法に基づき、適宜モノマーとなる単量体化合物や共重合比率を変更して、公知の方法により合成した。モノマーの共重合比率は、表１－３～表１－５の通りである。
（Ａ）バインダー樹脂として、合成例１～２５で得られた各樹脂の組成を、まとめて表１－３～表１－５に示す。各樹脂は公知の文献に記載の方法に基づき、適宜モノマーとなる単量体化合物や共重合比率を変更して、公知の方法により合成した。モノマーの共重合比率は、表１－３～表１－５の通りである。
【0211】
合成例８で使用した下記構造のヒドロキシ基含有ジアミンである（ＨＡ）は、国際公開第２０１６／０５６４５１号の段落［０３７４］～段落［０３７６］における、合成例１に記載の合成方法に基づき、公知の方法により合成した。なお下記構造のヒドロキシ基含有ジアミンである（ＨＡ）を用いて合成例５で得られた樹脂は、アミド酸エステル構造単位、アミド酸構造単位、及びイミド閉環構造を有するポリイミド前駆体である。
【0212】
【化5】
【0213】
合成例１９において、国際公開第２０１２／１４１１６５号の段落［０１０９］～段落［０１２２］における、合成例３及び合成例５に記載の合成方法に基づき、ＸＬＮと４－ヒドロキシベンズアルデヒドとの縮合反応物に代えて、ＸＬＮとＳＡＤとの縮合反応物として下記構造のフェノール化合物を合成し、得られたフェノール化合物をアルデヒド化合物との縮合反応に使用した。
【0214】
【化6】
【0215】
合成例８において、樹脂中のアミド酸構造単位に対してエステル化剤であるＤＦＡを反応させており、メチル基を有するアミド酸エステル構造単位に構造変換させた。
合成例９及び１０において、テトラカルボン酸二無水物であるＯＤＰＡに対してＨＥＭＡ又はＧＤＭＡを反応させてＯＤＰＡの酸無水物基を全て開環付加させた後、ＯＤＰＡに由来するカルボキシ基に対してビスアミノフェノール化合物であるＢＡＨＦ及び末端封止剤であるＥｔＯＨを反応させた。
合成例１８において、樹脂中のＭＡＡに由来するカルボキシ基に対してエポキシ基を有するＧＭＡを反応させており、ＧＭＡのエポキシ基を全て開環付加させた。
合成例２４において、樹脂中のＧＭＡに由来するエポキシ基に対してカルボキシ基を有するＤＨＢＡを反応させており、ＧＭＡのエポキシ基を全て開環付加させた。
合成例２５において、樹脂中のＨＰＭＡに由来するフェノール性水酸基に対してエポキシ基を有するＧＭＡを反応させており、ＧＭＡのエポキシ基を全て開環付加させた。
合成例９及び１０において、テトラカルボン酸二無水物であるＯＤＰＡに対してＨＥＭＡ又はＧＤＭＡを反応させてＯＤＰＡの酸無水物基を全て開環付加させた後、ＯＤＰＡに由来するカルボキシ基に対してビスアミノフェノール化合物であるＢＡＨＦ及び末端封止剤であるＥｔＯＨを反応させた。
合成例１８において、樹脂中のＭＡＡに由来するカルボキシ基に対してエポキシ基を有するＧＭＡを反応させており、ＧＭＡのエポキシ基を全て開環付加させた。
合成例２４において、樹脂中のＧＭＡに由来するエポキシ基に対してカルボキシ基を有するＤＨＢＡを反応させており、ＧＭＡのエポキシ基を全て開環付加させた。
合成例２５において、樹脂中のＨＰＭＡに由来するフェノール性水酸基に対してエポキシ基を有するＧＭＡを反応させており、ＧＭＡのエポキシ基を全て開環付加させた。
【0216】
【表1-3】
【0217】
【表1-4】
【0218】
【表1-5】
【0219】
各合成例で得られた樹脂、並びに、各実施例、参考例、及び比較例で使用した樹脂について、各樹脂が有する構造単位と構造を、まとめて表２－１に示す。なおポリイミド（ＰＩ－１）～（ＰＩ－４）、ポリイミド前駆体（ＰＩＰ－１）～（ＰＩＰ－３）、ポリベンゾオキサゾール（ＰＢ－１）、ポリベンゾオキサゾール前駆体（ＰＢＰ－１）、及びポリアミドイミド（ＰＡＩ－１）における樹脂の構造中に占めるフッ素元素の含有量は１０，０００質量ｐｐｍを超えていた。ポリイミド（ＰＩ－５）～（ＰＩ－７）、ポリイミド前駆体（ＰＩＰ－４）、及びその他の合成例における樹脂の構造中に占めるフッ素元素の含有量は０質量ｐｐｍであった。
【0220】
【表2-1】
【0221】
各実施例、参考例、及び比較例で使用した（Ｄ）着色剤及び（Ｅ）分散剤の一覧と説明を、まとめて表２－２に示す。なお（Ａ．Ｒ．５２－Ｂ．Ｂ．７）は、Ａ．Ｒ．５２／Ｂ．Ｂ．７＝１／１（ｍｏｌ比）で混合して攪拌し、析出した塩をろ過して水で３回洗浄した後、乾燥させて得た染料である。
【0222】
【表2-2】
【0223】
＜各顔料分散液の調製例＞
顔料分散液として、調製例Ｂｋ－１～Ｂｋ－７で得られた各分散液の組成を、まとめて表２－３に示す。調製例Ｂｋ－１～Ｂｋ－７は、各顔料分散液を下記の方法により調製した。
顔料分散液として、調製例Ｂｋ－１～Ｂｋ－７で得られた各分散液の組成を、まとめて表２－３に示す。調製例Ｂｋ－１～Ｂｋ－７は、各顔料分散液を下記の方法により調製した。
【0224】
調製例Ｂｋ－１～Ｂｋ－７ 顔料分散液（Ｂｋ－１）～（Ｂｋ－７）の調製
国際公開第２０２２／１９６２６１号の段落［０１３８］～段落［０１４０］、調製例１に記載されている方法に基づき、表２－３に記載の着色剤と、分散剤としてポリアルキレンアミン系－ポリオキシアルキレンエーテル系分散剤であるＡＤＰを用い、顔料の平均一次粒子径が表２－３に記載の値となるように循環方式で湿式メディア分散処理を行った。その後、０．８０μｍφのフィルターで濾過を行い、固形分濃度１５質量％、着色剤／分散剤＝１００／３５（質量比）の顔料分散液（Ｂｋ－１）～（Ｂｋ－７）を得た。得られた顔料分散液中の顔料の平均一次粒子径を表２－３に示す。また硬化膜中の顔料の平均一次粒子径、顔料分散液中の顔料の結晶子サイズ、及び硬化膜中の顔料の結晶子サイズも表２－３に示す。
国際公開第２０２２／１９６２６１号の段落［０１３８］～段落［０１４０］、調製例１に記載されている方法に基づき、表２－３に記載の着色剤と、分散剤としてポリアルキレンアミン系－ポリオキシアルキレンエーテル系分散剤であるＡＤＰを用い、顔料の平均一次粒子径が表２－３に記載の値となるように循環方式で湿式メディア分散処理を行った。その後、０．８０μｍφのフィルターで濾過を行い、固形分濃度１５質量％、着色剤／分散剤＝１００／３５（質量比）の顔料分散液（Ｂｋ－１）～（Ｂｋ－７）を得た。得られた顔料分散液中の顔料の平均一次粒子径を表２－３に示す。また硬化膜中の顔料の平均一次粒子径、顔料分散液中の顔料の結晶子サイズ、及び硬化膜中の顔料の結晶子サイズも表２－３に示す。
【0225】
【表2-3】
【0226】
＜シリカ粒子分散液の合成例＞
各実施例、参考例、及び比較例で使用した無機粒子であるシリカ粒子の一覧と説明を、まとめて表２－４に示す。
各実施例、参考例、及び比較例で使用した無機粒子であるシリカ粒子の一覧と説明を、まとめて表２－４に示す。
【0227】
合成例２６～２８ シリカ粒子（ＳＰ－１）～（ＳＰ－３）分散液の合成
国際公開第２０２２／１９６２６１号の段落［０１３２］～段落［０１３４］、合成例３に記載されている方法に基づき、表２－４に記載のシリカ粒子分散液、表面修飾剤、及び重合禁止剤を用いてシリカ粒子（ＳＰ－１）～（ＳＰ－３）の分散液を得た。
国際公開第２０２２／１９６２６１号の段落［０１３２］～段落［０１３４］、合成例３に記載されている方法に基づき、表２－４に記載のシリカ粒子分散液、表面修飾剤、及び重合禁止剤を用いてシリカ粒子（ＳＰ－１）～（ＳＰ－３）の分散液を得た。
【0228】
【表2-4】
【0229】
＜各実施例、参考例、及び比較例における評価方法＞
各実施例、参考例、及び比較例における評価方法を以下に示す。なおガラス上に、ＡＰＣ（銀／パラジウム／銅＝９８．０７／０．８７／１．０６（質量比））をスパッタにより１００ｎｍ成膜し、さらに、ＡＰＣ層の上層に、ＩＴＯをスパッタにより１０ｎｍ成膜したガラス基板（ジオマテック社製；以下、「ＩＴＯ／Ａｇ基板」）は、卓上型光表面処理装置（ＰＬ１６－１１０；セン特殊光源社製）を用いて、１００秒間ＵＶ－Ｏ３洗浄処理をして使用した。テンパックスガラス基板（ＡＧＣテクノグラス社製）やその他の基板は前処理をせずに使用した。また膜厚測定は、表面粗さ・輪郭形状測定機（ＳＵＲＦＣＯＭ１４００Ｄ；東京精密社製）を用いて、測定倍率を１０，０００倍、測定長さを１．０ｍｍ、測定速度を０．３０ｍｍ／ｓの条件で膜厚を測定した。
各実施例、参考例、及び比較例における評価方法を以下に示す。なおガラス上に、ＡＰＣ（銀／パラジウム／銅＝９８．０７／０．８７／１．０６（質量比））をスパッタにより１００ｎｍ成膜し、さらに、ＡＰＣ層の上層に、ＩＴＯをスパッタにより１０ｎｍ成膜したガラス基板（ジオマテック社製；以下、「ＩＴＯ／Ａｇ基板」）は、卓上型光表面処理装置（ＰＬ１６－１１０；セン特殊光源社製）を用いて、１００秒間ＵＶ－Ｏ３洗浄処理をして使用した。テンパックスガラス基板（ＡＧＣテクノグラス社製）やその他の基板は前処理をせずに使用した。また膜厚測定は、表面粗さ・輪郭形状測定機（ＳＵＲＦＣＯＭ１４００Ｄ；東京精密社製）を用いて、測定倍率を１０，０００倍、測定長さを１．０ｍｍ、測定速度を０．３０ｍｍ／ｓの条件で膜厚を測定した。
【0230】
（１）樹脂の重量平均分子量
上記のポリイミド（ＰＩ－１）～（ＰＩ－７）、ポリイミド前駆体（ＰＩＰ－１）～（ＰＩＰ－４）、ポリベンゾオキサゾール（ＰＢ－１）、ポリベンゾオキサゾール前駆体（ＰＢＰ－１）、及びポリアミドイミド（ＰＡＩ－１）は、各樹脂の０．１０質量％のＮ－メチル－２－ピロリドン溶液を調製した。ＧＰＣ分析装置（Ｗａｔｅｒｓ ２６９０；Ｗａｔｅｒｓ社製）を用い、流動層として塩化リチウムとリン酸とをそれぞれ０．０５０ｍｏｌ／Ｌで溶解したＮ－メチル－２－ピロリドンを用いて、ポリスチレン換算の重量平均分子量を測定して求めた。その他の樹脂は、ＧＰＣ分析装置（ＨＬＣ－８２２０；東ソー社製）を用い、流動層としてテトラヒドロフラン又はＮ－メチル－２－ピロリドンを用いて、「ＪＩＳ Ｋ７２５２－３（２００８）」に基づき、常温付近での方法によりポリスチレン換算の重量平均分子量を測定して求めた。
上記のポリイミド（ＰＩ－１）～（ＰＩ－７）、ポリイミド前駆体（ＰＩＰ－１）～（ＰＩＰ－４）、ポリベンゾオキサゾール（ＰＢ－１）、ポリベンゾオキサゾール前駆体（ＰＢＰ－１）、及びポリアミドイミド（ＰＡＩ－１）は、各樹脂の０．１０質量％のＮ－メチル－２－ピロリドン溶液を調製した。ＧＰＣ分析装置（Ｗａｔｅｒｓ ２６９０；Ｗａｔｅｒｓ社製）を用い、流動層として塩化リチウムとリン酸とをそれぞれ０．０５０ｍｏｌ／Ｌで溶解したＮ－メチル－２－ピロリドンを用いて、ポリスチレン換算の重量平均分子量を測定して求めた。その他の樹脂は、ＧＰＣ分析装置（ＨＬＣ－８２２０；東ソー社製）を用い、流動層としてテトラヒドロフラン又はＮ－メチル－２－ピロリドンを用いて、「ＪＩＳ Ｋ７２５２－３（２００８）」に基づき、常温付近での方法によりポリスチレン換算の重量平均分子量を測定して求めた。
【0231】
（２）組成物中又は硬化膜中の特定の芳香族化合物、特定の含窒素化合物、特定のカルボン酸、特定のオキシム化合物、及び特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物の含有量
組成物中又は硬化膜中の特定の芳香族化合物、特定の含窒素化合物、特定のカルボン酸、特定のオキシム化合物、及び特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物の含有量は、標準物質による検量線を用いたガスクロマトグラフィー質量分析及び液体クロマトグラフィー質量分析によって測定した。なお組成物の全固形分に占める含有量は、得られた測定値と下記式から算出した。
（組成物の全固形分に占める含有量）＝（組成物中の含有量）×１００／（組成物の固形分濃度［質量％］）。
組成物中又は硬化膜中の特定の芳香族化合物、特定の含窒素化合物、特定のカルボン酸、特定のオキシム化合物、及び特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物の含有量は、標準物質による検量線を用いたガスクロマトグラフィー質量分析及び液体クロマトグラフィー質量分析によって測定した。なお組成物の全固形分に占める含有量は、得られた測定値と下記式から算出した。
（組成物の全固形分に占める含有量）＝（組成物中の含有量）×１００／（組成物の固形分濃度［質量％］）。
【0232】
（３）樹脂中、組成物中、又は硬化膜中の特定の元素の含有量
樹脂中、組成物中、又は硬化膜中の、フッ素元素、塩素元素、臭素元素、及び硫黄元素の含有量は、下記の測定条件で燃焼イオンクロマトグラフィーによって測定した。上記の各樹脂はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」）分取によって各樹脂を分離してから用いた。なお樹脂が、樹脂を構成する構造単位が異なる構造である樹脂からなる場合も、ＧＰＣ分取によって各樹脂を分離してから用いた。また組成物中の樹脂は、組成物中に単一の樹脂又は樹脂を構成する構造単位が異なる構造である樹脂が含まれる場合のいずれにおいても、組成物についてジクロロメタン抽出を行い、超遠心分離後、ジクロロメタン不溶物からＧＰＣ分取によって各樹脂を分離してから用いた。樹脂、組成物、又は硬化膜を分析装置の燃焼管内で燃焼・分解させ、発生したガスを吸収液に吸収後、吸収液の一部をイオンクロマトグラフィーにより分析した。元素含有量の記載が無いものは、当該元素が検出されなかったことを示す。なお組成物の全固形分に占める含有量は、得られた測定値と下記式から算出した。
（組成物の全固形分に占める含有量）＝（組成物中の含有量）×１００／（組成物の固形分濃度［質量％］）
＜燃焼・吸収条件＞
システム：ＡＱＦ－２１００Ｈ、ＧＡ－２１０（三菱化学社製）
電気炉温度：Ｉｎｌｅｔ ９００℃， Ｏｕｔｌｅｔ １０００℃
ガス：Ａｒ／Ｏ２ ２００ｍＬ／ｍｉｎ， Ｏ２ ４００ｍＬ／ｍｉｎ
吸収液：Ｈ２Ｏ２ ０．１質量％
吸収液量：５ｍＬ
＜イオンクロマトグラフィー・アニオン分析条件＞
システム：ＩＣＳ１６００（ＤＩＯＮＥＸ社製）
移動相：２．７ｍｍｏｌ／Ｌ Ｎａ２ＣＯ３， ０．３ｍｍｏｌ／Ｌ ＮａＨＣＯ３
流速：１．５０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：電気伝導度検出器
注入量：１００μＬ。
樹脂中、組成物中、又は硬化膜中の、フッ素元素、塩素元素、臭素元素、及び硫黄元素の含有量は、下記の測定条件で燃焼イオンクロマトグラフィーによって測定した。上記の各樹脂はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」）分取によって各樹脂を分離してから用いた。なお樹脂が、樹脂を構成する構造単位が異なる構造である樹脂からなる場合も、ＧＰＣ分取によって各樹脂を分離してから用いた。また組成物中の樹脂は、組成物中に単一の樹脂又は樹脂を構成する構造単位が異なる構造である樹脂が含まれる場合のいずれにおいても、組成物についてジクロロメタン抽出を行い、超遠心分離後、ジクロロメタン不溶物からＧＰＣ分取によって各樹脂を分離してから用いた。樹脂、組成物、又は硬化膜を分析装置の燃焼管内で燃焼・分解させ、発生したガスを吸収液に吸収後、吸収液の一部をイオンクロマトグラフィーにより分析した。元素含有量の記載が無いものは、当該元素が検出されなかったことを示す。なお組成物の全固形分に占める含有量は、得られた測定値と下記式から算出した。
（組成物の全固形分に占める含有量）＝（組成物中の含有量）×１００／（組成物の固形分濃度［質量％］）
＜燃焼・吸収条件＞
システム：ＡＱＦ－２１００Ｈ、ＧＡ－２１０（三菱化学社製）
電気炉温度：Ｉｎｌｅｔ ９００℃， Ｏｕｔｌｅｔ １０００℃
ガス：Ａｒ／Ｏ２ ２００ｍＬ／ｍｉｎ， Ｏ２ ４００ｍＬ／ｍｉｎ
吸収液：Ｈ２Ｏ２ ０．１質量％
吸収液量：５ｍＬ
＜イオンクロマトグラフィー・アニオン分析条件＞
システム：ＩＣＳ１６００（ＤＩＯＮＥＸ社製）
移動相：２．７ｍｍｏｌ／Ｌ Ｎａ２ＣＯ３， ０．３ｍｍｏｌ／Ｌ ＮａＨＣＯ３
流速：１．５０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：電気伝導度検出器
注入量：１００μＬ。
【0233】
（４）組成物中又は硬化膜中のフッ化物イオンの含有量
組成物中又は硬化膜中のフッ化物イオンの含有量は、下記の測定条件でイオンクロマトグラフィーによって測定した。超純水中に組成物又は硬化膜を添加して室温で振とうし、イオン成分を抽出した。抽出液を固相抽出用カートリッジで処理した後、イオンクロマトグラフィーでアニオン成分を分析した。アニオン成分については、下記のイオンクロマトグラフィー分析条件１で測定できなかった場合は、下記のイオンクロマトグラフィー分析条件２で測定した。イオン含有量の記載が無いものは、当該イオンが検出されなかったことを示す。なお組成物の全固形分に占める含有量は、得られた測定値と下記式から算出した。
（組成物の全固形分に占める含有量）＝（組成物中の含有量）×１００／（組成物の固形分濃度［質量％］）
＜イオンクロマトグラフィー分析条件１（アニオン成分）＞
装置：ＩＣ－２０１０（東ソー社製）
分離カラム：４．６ｍｍφ×１００ｍｍ、ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＩＣ－Ａｎｉｏｎ ＨＳ
溶離液：炭酸水素ナトリウム
カラム温度：４０℃
検出器：電気伝導度計
試料注入量：２５０μＬ
＜イオンクロマトグラフィー分析条件２（アニオン成分）＞
装置：ＩＣ－２０１０（東ソー社製）
分離カラム：４．６ｍｍφ×１００ｍｍ、ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＩＣ－Ａｎｉｏｎ ＨＳ
溶離液：炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム
カラム温度：４０℃
検出器：電気伝導度計
試料注入量：２５０μＬ。
組成物中又は硬化膜中のフッ化物イオンの含有量は、下記の測定条件でイオンクロマトグラフィーによって測定した。超純水中に組成物又は硬化膜を添加して室温で振とうし、イオン成分を抽出した。抽出液を固相抽出用カートリッジで処理した後、イオンクロマトグラフィーでアニオン成分を分析した。アニオン成分については、下記のイオンクロマトグラフィー分析条件１で測定できなかった場合は、下記のイオンクロマトグラフィー分析条件２で測定した。イオン含有量の記載が無いものは、当該イオンが検出されなかったことを示す。なお組成物の全固形分に占める含有量は、得られた測定値と下記式から算出した。
（組成物の全固形分に占める含有量）＝（組成物中の含有量）×１００／（組成物の固形分濃度［質量％］）
＜イオンクロマトグラフィー分析条件１（アニオン成分）＞
装置：ＩＣ－２０１０（東ソー社製）
分離カラム：４．６ｍｍφ×１００ｍｍ、ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＩＣ－Ａｎｉｏｎ ＨＳ
溶離液：炭酸水素ナトリウム
カラム温度：４０℃
検出器：電気伝導度計
試料注入量：２５０μＬ
＜イオンクロマトグラフィー分析条件２（アニオン成分）＞
装置：ＩＣ－２０１０（東ソー社製）
分離カラム：４．６ｍｍφ×１００ｍｍ、ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＩＣ－Ａｎｉｏｎ ＨＳ
溶離液：炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム
カラム温度：４０℃
検出器：電気伝導度計
試料注入量：２５０μＬ。
【0234】
（５）組成物中の水の含有量
組成物中の水の含有量は、カールフィッシャー水分率計（ＭＫＳ－５２０；京都電子工業社製）を用い、滴定試薬としてカールフィッシャー試薬を用いて、「ＪＩＳ Ｋ０１１３（２００５）」に基づき、容量滴定法によって測定した。
組成物中の水の含有量は、カールフィッシャー水分率計（ＭＫＳ－５２０；京都電子工業社製）を用い、滴定試薬としてカールフィッシャー試薬を用いて、「ＪＩＳ Ｋ０１１３（２００５）」に基づき、容量滴定法によって測定した。
【0235】
（６）感度
ＦＰＤ／ＬＳＩ検査顕微鏡（ＯＰＴＩＰＨＯＴ－３００；ニコン社製）を用いて、作製した現像後膜の解像パターンを観察した。感度の指標として、２０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンを１８μｍの寸法幅にて形成できる露光量（ｉ線照度計の値）を感度とした。下記のように判定し、感度が９０ｍＪ／ｃｍ２以下となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋、及びＣを合格とした。
Ａ＋：感度が３０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ａ：感度が３０ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ４０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｂ＋：感度が４０ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ５０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｂ：感度が５０ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ６０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｃ＋：感度が６０ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ７５ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｃ：感度が７５ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ９０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｄ：感度が９０ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ１５０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｅ：感度が１５０ｍＪ／ｃｍ２を超過。
ＦＰＤ／ＬＳＩ検査顕微鏡（ＯＰＴＩＰＨＯＴ－３００；ニコン社製）を用いて、作製した現像後膜の解像パターンを観察した。感度の指標として、２０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンを１８μｍの寸法幅にて形成できる露光量（ｉ線照度計の値）を感度とした。下記のように判定し、感度が９０ｍＪ／ｃｍ２以下となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋、及びＣを合格とした。
Ａ＋：感度が３０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ａ：感度が３０ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ４０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｂ＋：感度が４０ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ５０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｂ：感度が５０ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ６０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｃ＋：感度が６０ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ７５ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｃ：感度が７５ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ９０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｄ：感度が９０ｍＪ／ｃｍ２を超え、かつ１５０ｍＪ／ｃｍ２以下
Ｅ：感度が１５０ｍＪ／ｃｍ２を超過。
【0236】
（７）パターン裾部の現像残渣
ＦＰＤ／ＬＳＩ検査顕微鏡（ＯＰＴＩＰＨＯＴ－３００；ニコン社製）を用いて、作製した現像後膜の解像パターンを観察した。パターン裾部の現像残渣の指標として、２０μｍの開口パターンにおいてパターン裾部の残渣の有無を観察し、開口部の全外周に占めるパターン裾部に残渣がある開口部の外周の比率を算出した。下記のように判定し、残渣がある開口部の外周の比率が２０％以下となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋、及びＣを合格とした。
Ａ＋：パターン裾部の残渣無し
Ａ：残渣がある開口部の外周の比率が３％以下
Ｂ＋：残渣がある開口部の外周の比率が３％を超え、かつ６％以下
Ｂ：残渣がある開口部の外周の比率が６％を超え、かつ１０％以下
Ｃ＋：残渣がある開口部の外周の比率が１０％を超え、かつ１５％以下
Ｃ：残渣がある開口部の外周の比率が１５％を超え、かつ２０％以下
Ｄ：残渣がある開口部の外周の比率が２０％を超え、かつ５０％以下
Ｅ：残渣がある開口部の外周の比率が５０％を超え、かつ１００％以下。
ＦＰＤ／ＬＳＩ検査顕微鏡（ＯＰＴＩＰＨＯＴ－３００；ニコン社製）を用いて、作製した現像後膜の解像パターンを観察した。パターン裾部の現像残渣の指標として、２０μｍの開口パターンにおいてパターン裾部の残渣の有無を観察し、開口部の全外周に占めるパターン裾部に残渣がある開口部の外周の比率を算出した。下記のように判定し、残渣がある開口部の外周の比率が２０％以下となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋、及びＣを合格とした。
Ａ＋：パターン裾部の残渣無し
Ａ：残渣がある開口部の外周の比率が３％以下
Ｂ＋：残渣がある開口部の外周の比率が３％を超え、かつ６％以下
Ｂ：残渣がある開口部の外周の比率が６％を超え、かつ１０％以下
Ｃ＋：残渣がある開口部の外周の比率が１０％を超え、かつ１５％以下
Ｃ：残渣がある開口部の外周の比率が１５％を超え、かつ２０％以下
Ｄ：残渣がある開口部の外周の比率が２０％を超え、かつ５０％以下
Ｅ：残渣がある開口部の外周の比率が５０％を超え、かつ１００％以下。
【0237】
（８）ハーフトーン特性
下記、実施例１記載の方法で、ＩＴＯ／Ａｇ基板上に組成物のプリベーク膜を５μｍの膜厚で成膜し、ハーフトーン特性評価用のハーフトーンフォトマスクを介して、露光量を変えて超高圧水銀灯のｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、及びｇ線（波長４３６ｎｍ）でパターニング露光した後、現像して組成物の現像後膜を作製した。ハーフトーンフォトマスクは、半透光部の透過率（％ＴＨＴ）がそれぞれ、透光部の透過率（％ＴＦＴ）の２０％、２５％、３０％、３５％、４０％、又は５０％である箇所を有する。ハーフトーンフォトマスクの一例として、透光部４１、遮光部４２、及び半透光部４３の配置、並びに、寸法の一例を、図１に示す。作製した現像後膜の段差形状を有する解像パターンについて、透光部から形成された厚膜部の現像後の膜厚（ＴＦＴ）μｍを測定した。ハーフトーン露光部である半透光部から形成された薄膜部は、透過率の異なる箇所の現像後の膜厚（ＴＨＴ）μｍを測定し、現像後に残膜した薄膜部の最小膜厚（ＴＨＴ／ｍｉｎ）μｍを求めた。ハーフトーン特性の指標として、最大段差膜厚（（ＴＦＴ）－（ＴＨＴ／ｍｉｎ））μｍを算出した。下記のように判定し、最大段差膜厚が０．４μｍ以上となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋及びＣを合格とした。
Ａ＋：最大段差膜厚が２．５μｍ以上
Ａ：最大段差膜厚が２．０μｍ以上、かつ２．５μｍ未満
Ｂ＋：最大段差膜厚が１．５μｍ以上、かつ２．０μｍ未満
Ｂ：最大段差膜厚が１．０μｍ以上、かつ１．５μｍ未満
Ｃ＋：最大段差膜厚が０．７μｍ以上、かつ１．０μｍ未満
Ｃ：最大段差膜厚が０．４μｍ以上、かつ０．７μｍ未満
Ｄ：最大段差膜厚が０．１μｍ以上、かつ０．４μｍ未満
Ｅ：最大段差膜厚が０．１μｍ未満、又は現像後に残膜せず測定不能。
下記、実施例１記載の方法で、ＩＴＯ／Ａｇ基板上に組成物のプリベーク膜を５μｍの膜厚で成膜し、ハーフトーン特性評価用のハーフトーンフォトマスクを介して、露光量を変えて超高圧水銀灯のｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、及びｇ線（波長４３６ｎｍ）でパターニング露光した後、現像して組成物の現像後膜を作製した。ハーフトーンフォトマスクは、半透光部の透過率（％ＴＨＴ）がそれぞれ、透光部の透過率（％ＴＦＴ）の２０％、２５％、３０％、３５％、４０％、又は５０％である箇所を有する。ハーフトーンフォトマスクの一例として、透光部４１、遮光部４２、及び半透光部４３の配置、並びに、寸法の一例を、図１に示す。作製した現像後膜の段差形状を有する解像パターンについて、透光部から形成された厚膜部の現像後の膜厚（ＴＦＴ）μｍを測定した。ハーフトーン露光部である半透光部から形成された薄膜部は、透過率の異なる箇所の現像後の膜厚（ＴＨＴ）μｍを測定し、現像後に残膜した薄膜部の最小膜厚（ＴＨＴ／ｍｉｎ）μｍを求めた。ハーフトーン特性の指標として、最大段差膜厚（（ＴＦＴ）－（ＴＨＴ／ｍｉｎ））μｍを算出した。下記のように判定し、最大段差膜厚が０．４μｍ以上となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋及びＣを合格とした。
Ａ＋：最大段差膜厚が２．５μｍ以上
Ａ：最大段差膜厚が２．０μｍ以上、かつ２．５μｍ未満
Ｂ＋：最大段差膜厚が１．５μｍ以上、かつ２．０μｍ未満
Ｂ：最大段差膜厚が１．０μｍ以上、かつ１．５μｍ未満
Ｃ＋：最大段差膜厚が０．７μｍ以上、かつ１．０μｍ未満
Ｃ：最大段差膜厚が０．４μｍ以上、かつ０．７μｍ未満
Ｄ：最大段差膜厚が０．１μｍ以上、かつ０．４μｍ未満
Ｅ：最大段差膜厚が０．１μｍ未満、又は現像後に残膜せず測定不能。
【0238】
（９）遮光性（光学濃度値（以下、「ＯＤ値」））
下記、実施例１記載の方法で、テンパックスガラス基板（ＡＧＣテクノグラス社製）上に組成物の硬化膜を作製した。透過濃度計（Ｘ－Ｒｉｔｅ ３６１Ｔ（Ｖ）；Ｘ－Ｒｉｔｅ社製）を用いて、作製した硬化膜の面内３箇所における入射光強度（Ｉ０）及び透過光強度（Ｉ）をそれぞれ測定した。遮光性の指標として、膜厚１μｍ当たりのＯＤ値を下記式により算出し、面内３箇所におけるＯＤ値の平均値を算出した。
ＯＤ値＝ｌｏｇ１０（Ｉ０／Ｉ）。
下記、実施例１記載の方法で、テンパックスガラス基板（ＡＧＣテクノグラス社製）上に組成物の硬化膜を作製した。透過濃度計（Ｘ－Ｒｉｔｅ ３６１Ｔ（Ｖ）；Ｘ－Ｒｉｔｅ社製）を用いて、作製した硬化膜の面内３箇所における入射光強度（Ｉ０）及び透過光強度（Ｉ）をそれぞれ測定した。遮光性の指標として、膜厚１μｍ当たりのＯＤ値を下記式により算出し、面内３箇所におけるＯＤ値の平均値を算出した。
ＯＤ値＝ｌｏｇ１０（Ｉ０／Ｉ）。
【0239】
（１０）機械物性（破断点伸度）
下記、実施例１記載の方法で、６インチ径のＳｉＯ２／Ｓｉウェハ上に組成物の硬化膜を膜厚約５μｍで作製した。希フッ化水素酸を用いて、ＳｉＯ２／Ｓｉウェハ上から硬化膜を剥離した。剥離した硬化膜を幅１．５ｃｍ×長さ９．０ｃｍの短冊状にカットした。テンシロン（ＲＴＭ－１００；オリエンテック社製）を用いて、室温２３．０℃、湿度４５．０％ＲＨの条件下、引っ張り速度５０ｍｍ／分で引っ張り試験を行い、破断点伸度を測定した。なお１検体につき１０枚の短冊について測定した。機械物性の指標として、得られた結果から上位５点の平均値を算出した。下記のように判定し、破断点伸度が５．０％以上となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋、及びＣを合格とした。
Ａ＋：破断点伸度が３０％以上
Ａ：破断点伸度が２０％以上、かつ３０％未満
Ｂ＋：破断点伸度が１５％以上、かつ２０％未満
Ｂ：破断点伸度が１０％以上、かつ１５％未満
Ｃ＋：破断点伸度が７．５％以上、かつ１０％未満
Ｃ：破断点伸度が５．０％以上、かつ７．５％未満
Ｄ：破断点伸度が１．０％以上、かつ５．０％未満
Ｅ：破断点伸度が１．０％未満又は測定不能。
下記、実施例１記載の方法で、６インチ径のＳｉＯ２／Ｓｉウェハ上に組成物の硬化膜を膜厚約５μｍで作製した。希フッ化水素酸を用いて、ＳｉＯ２／Ｓｉウェハ上から硬化膜を剥離した。剥離した硬化膜を幅１．５ｃｍ×長さ９．０ｃｍの短冊状にカットした。テンシロン（ＲＴＭ－１００；オリエンテック社製）を用いて、室温２３．０℃、湿度４５．０％ＲＨの条件下、引っ張り速度５０ｍｍ／分で引っ張り試験を行い、破断点伸度を測定した。なお１検体につき１０枚の短冊について測定した。機械物性の指標として、得られた結果から上位５点の平均値を算出した。下記のように判定し、破断点伸度が５．０％以上となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋、及びＣを合格とした。
Ａ＋：破断点伸度が３０％以上
Ａ：破断点伸度が２０％以上、かつ３０％未満
Ｂ＋：破断点伸度が１５％以上、かつ２０％未満
Ｂ：破断点伸度が１０％以上、かつ１５％未満
Ｃ＋：破断点伸度が７．５％以上、かつ１０％未満
Ｃ：破断点伸度が５．０％以上、かつ７．５％未満
Ｄ：破断点伸度が１．０％以上、かつ５．０％未満
Ｅ：破断点伸度が１．０％未満又は測定不能。
【0240】
（１１）マイグレーション耐性（絶縁信頼性）
下記、実施例１記載の方法で、マイグレーション評価用基板（ＷＡＬＴＳ－ＴＥＧ ＭＥ０１０２ＪＹ；ウォルツ社製）上に組成物の硬化膜を膜厚約１．５μｍで作製した。次いで、櫛歯の銅配線のライン・アンド・スペースパターンにおいて、ライン１５μｍとスペース１０μｍの測定用端子の箇所に導線をハンダ付けして評価用素子を作製した。作製した評価用素子を、絶縁劣化特性評価システム（ＥＴＡＣ ＳＩＲ１３；楠本化成社製）を用いて、高温高湿下での絶縁信頼性を評価した。試験条件を温度８５℃、湿度８５％ＲＨに設定した高温高湿槽内に評価用素子を入れ、５．０Ｖの電圧を印加し、抵抗値の経時変化を５分間隔で測定した。抵抗値が１．０×１０６Ω以下に達した場合に絶縁不良と判断し、マイグレーション耐性の指標として、その時点での試験時間を測定した。下記のように判定し、試験時間が２００時間以上となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋、及びＣを合格とした。
Ａ＋：試験時間が１，０００時間以上
Ａ：試験時間が８００時間以上、かつ１，０００時間未満
Ｂ＋：試験時間が６００時間以上、かつ８００時間未満
Ｂ：試験時間が４００時間以上、かつ６００時間未満
Ｃ＋：試験時間が３００時間以上、かつ４００時間未満
Ｃ：試験時間が２００時間以上、かつ３００時間未満
Ｄ：試験時間が５０時間以上、かつ２００時間未満
Ｅ：試験時間が５０時間未満又は測定不能。
下記、実施例１記載の方法で、マイグレーション評価用基板（ＷＡＬＴＳ－ＴＥＧ ＭＥ０１０２ＪＹ；ウォルツ社製）上に組成物の硬化膜を膜厚約１．５μｍで作製した。次いで、櫛歯の銅配線のライン・アンド・スペースパターンにおいて、ライン１５μｍとスペース１０μｍの測定用端子の箇所に導線をハンダ付けして評価用素子を作製した。作製した評価用素子を、絶縁劣化特性評価システム（ＥＴＡＣ ＳＩＲ１３；楠本化成社製）を用いて、高温高湿下での絶縁信頼性を評価した。試験条件を温度８５℃、湿度８５％ＲＨに設定した高温高湿槽内に評価用素子を入れ、５．０Ｖの電圧を印加し、抵抗値の経時変化を５分間隔で測定した。抵抗値が１．０×１０６Ω以下に達した場合に絶縁不良と判断し、マイグレーション耐性の指標として、その時点での試験時間を測定した。下記のように判定し、試験時間が２００時間以上となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋、及びＣを合格とした。
Ａ＋：試験時間が１，０００時間以上
Ａ：試験時間が８００時間以上、かつ１，０００時間未満
Ｂ＋：試験時間が６００時間以上、かつ８００時間未満
Ｂ：試験時間が４００時間以上、かつ６００時間未満
Ｃ＋：試験時間が３００時間以上、かつ４００時間未満
Ｃ：試験時間が２００時間以上、かつ３００時間未満
Ｄ：試験時間が５０時間以上、かつ２００時間未満
Ｅ：試験時間が５０時間未満又は測定不能。
【0241】
＜各実施例、参考例、及び比較例で使用した化合物＞
各実施例、参考例、及び比較例で使用した化合物の構造を以下に示す。上記の（Ｉ－ｂ３）構造における最小原子数は、（ｂ－５）が４個である。上記の（Ｉ－ｂ４）構造における最小原子数は、（ｂ－６）が１３個、（ｂ－７）が２３個、（ｂ－８）が３１個、（ｂ－９）が１７個である。（Ｃｂ－１）～（Ｃｂ－３）は上記の特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物に相当する。これらの化合物は公知の方法により合成した。
各実施例、参考例、及び比較例で使用した化合物の構造を以下に示す。上記の（Ｉ－ｂ３）構造における最小原子数は、（ｂ－５）が４個である。上記の（Ｉ－ｂ４）構造における最小原子数は、（ｂ－６）が１３個、（ｂ－７）が２３個、（ｂ－８）が３１個、（ｂ－９）が１７個である。（Ｃｂ－１）～（Ｃｂ－３）は上記の特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物に相当する。これらの化合物は公知の方法により合成した。
【0242】
【化7】
【0243】
【化8】
【0244】
（ｘ－１７ａ）は、（ｘ－１７（Ｅ））／（ｘ－１７（Ｚ））＝９９／１（質量比）である。（ｘ－１７ｂ）は、（ｘ－１７（Ｅ））／（ｘ－１７（Ｚ））＝９０／１０（質量比）である。（ｘ－１７ｃ）は、（ｘ－１７（Ｅ））／（ｘ－１７（Ｚ））＝１／９９（質量比）である。これらはシス異性体（Ｚ体）及びトランス異性体（Ｅ体）をそれぞれ合成し、再結晶及び／又はカラムクロマトグラフィー分取によって各異性体を単離した後、各異性体を上記の質量比で混合させることで得た。
【0245】
【化9】
【0246】
（ｘ－３２ａ）は、（ｘ－３２（Ｅ））／（ｘ－３２（Ｚ））＝９９／１（質量比）である。上記と同様に、シス異性体（Ｚ体）及びトランス異性体（Ｅ体）をそれぞれ合成して単離した後、各異性体を上記の質量比で混合させることで得た。
【0247】
【化10】
【0248】
（ｘ－３５ａ）は、（ｘ－３５（Ｅ））／（ｘ－３５（Ｚ））＝９９／１（質量比）である。上記と同様に、シス異性体（Ｚ体）及びトランス異性体（Ｅ体）をそれぞれ合成して単離した後、各異性体を上記の質量比で混合させることで得た。
【0249】
【化11】
【0250】
（ｘ－５０ａ）は、（ｘ－５０（Ｅ））／（ｘ－５０（Ｚ））＝９９／１（質量比）である。上記と同様に、シス異性体（Ｚ体）及びトランス異性体（Ｅ体）をそれぞれ合成して単離した後、各異性体を上記の質量比で混合させることで得た。
【0251】
【化12】
【0252】
【化13】
【0253】
【化14】
【0254】
【化15】
【0255】
【化16】
【0256】
【化17】
【0257】
【化18】
【0258】
また各実施例、参考例、及び比較例で使用した、特定の芳香族化合物；特定の含窒素化合物；特定のカルボン酸；特定のオキシム化合物；フッ素元素、塩素元素、臭素元素、又は硫黄元素を含む化合物（以下、「特定の元素を含む化合物」）、それぞれに対応する化合物を、まとめて表２－５に示す。
【0259】
【表2-5】
【0260】
＜感光性組成物の調製＞
表３－１～表３－１１に記載の組成にて、組成物１～組成物１９０を調製した。表３－１～表３－１１において括弧内の数値は各成分の固形分の質量部を示す。組成物が顔料を含有する場合、まず顔料分散液を含まない調合液を調製した後、顔料分散液と調合液とを混合して組成物を調製した。溶剤として、ＰＧＭＥＡ／ＥＬ／ＧＢＬ＝５０／４０／１０（質量比）を用いて、組成物の固形分濃度が２０質量％となるように調製した。得られた組成物の溶液は、０．４５μｍφのフィルターで濾過して使用した。
表３－１～表３－１１に記載の組成にて、組成物１～組成物１９０を調製した。表３－１～表３－１１において括弧内の数値は各成分の固形分の質量部を示す。組成物が顔料を含有する場合、まず顔料分散液を含まない調合液を調製した後、顔料分散液と調合液とを混合して組成物を調製した。溶剤として、ＰＧＭＥＡ／ＥＬ／ＧＢＬ＝５０／４０／１０（質量比）を用いて、組成物の固形分濃度が２０質量％となるように調製した。得られた組成物の溶液は、０．４５μｍφのフィルターで濾過して使用した。
【0261】
＜実施例１＞
ＩＴＯ／Ａｇ基板上に組成物１を、スピンコーター（ＭＳ－Ａ１００；ミカサ社製）を用いて塗布した後、ブザーホットプレート（ＨＰＤ－３０００ＢＺＮ；アズワン社製）を用いて１２０℃で１２０秒間プリベークし、膜厚約１．８μｍのプリベーク膜を作製した。作製したプリベーク膜を、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液又はシクロペンタノンでスプレー現像し、プリベーク膜（未露光部）が完全に溶解する時間（Ｂｒｅａｋｉｎｇ Ｐｏｉｎｔ；以下、「ＢＰ」）を測定した。
ＩＴＯ／Ａｇ基板上に組成物１を、スピンコーター（ＭＳ－Ａ１００；ミカサ社製）を用いて塗布した後、ブザーホットプレート（ＨＰＤ－３０００ＢＺＮ；アズワン社製）を用いて１２０℃で１２０秒間プリベークし、膜厚約１．８μｍのプリベーク膜を作製した。作製したプリベーク膜を、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液又はシクロペンタノンでスプレー現像し、プリベーク膜（未露光部）が完全に溶解する時間（Ｂｒｅａｋｉｎｇ Ｐｏｉｎｔ；以下、「ＢＰ」）を測定した。
【0262】
同様の方法でプリベーク膜を作製し、作製したプリベーク膜を、両面アライメント片面露光装置（マスクアライナー ＰＥＭ－６Ｍ；ユニオン光学社製）を用いて、感度測定用のグレースケールマスク（ＭＤＲＭ ＭＯＤＥＬ ４０００－５－ＦＳ；Ｏｐｔｏ－Ｌｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）を介して、超高圧水銀灯のｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、及びｇ線（波長４３６ｎｍ）でパターニング露光した。露光後、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液で現像し、水で３０秒間リンスして現像後膜を作製した。現像時間は測定したＢＰの１．３倍とした。なお２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液で現像後にパターン形成できなかった場合は、上記の方法と同様に露光した膜を作製し、露光後、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業社製）を用いて、シクロペンタノンで現像し、水で３０秒間リンスして現像後膜を作製した。現像時間は測定したＢＰの１．３倍とした。現像後のパターンを観察し、２０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンを１８μｍの寸法幅にて形成できる最適露光量（ｉ線照度計の値）を求めた。最適露光量で露光後、現像した後のパターンを高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ－９ＣＤ－Ｓ；光洋サーモシステム社製）を用いて２２０℃で６０分間熱硬化させ、膜厚約１．２μｍの硬化膜を作製した。熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２２０℃まで昇温し、２２０℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却した。
【0263】
核磁気共鳴分光分析、赤外分光分析、ガスクロマトグラフィー質量分析、液体クロマトグラフィー質量分析、及び飛行時間型二次イオン質量分析などの方法で硬化膜を分析し、硬化膜中に含まれる樹脂の構造単位と硬化膜中に含まれる化合物の構造を分析した。組成物１の硬化膜は以下の樹脂及び化合物を含有しており、組成物１が含む樹脂に由来する構造を有する樹脂と、組成物１が含む化合物に由来する構造を有する化合物とを含有する。
（ＸＡ１ｘ）樹脂：フェノール性水酸基を有し、かつ構造単位中にイミド構造を有する樹脂；フェノール性水酸基を有し、かつ構造単位中にアミド酸エステル構造、アミド酸構造、及びイミド構造を有する樹脂
特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物：カルバゾール構造、カルバゾールの３－位にカルボニル基が結合した構造、ベンゾイルオキシ基が４－位に結合したベンゾイル構造がカルバゾールの６－位に結合した構造、及びカルバゾールの９－位に結合したエチル基、を有する化合物。
（ＸＡ１ｘ）樹脂：フェノール性水酸基を有し、かつ構造単位中にイミド構造を有する樹脂；フェノール性水酸基を有し、かつ構造単位中にアミド酸エステル構造、アミド酸構造、及びイミド構造を有する樹脂
特定の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物：カルバゾール構造、カルバゾールの３－位にカルボニル基が結合した構造、ベンゾイルオキシ基が４－位に結合したベンゾイル構造がカルバゾールの６－位に結合した構造、及びカルバゾールの９－位に結合したエチル基、を有する化合物。
【0264】
＜実施例２～実施例１８２及び比較例１～比較例８＞
表３－１～表３－１１に示す各組成物を用いて、実施例１と同様の操作及び評価を行った。これらの評価結果を、まとめて表３－１～表３－１１に示す。なお実施例１～実施例１７４及び比較例１～比較例８における、組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量及び硬化物中のフッ素元素の含有量は１，０００質量ｐｐｍを超えていた。実施例１７５～実施例１７７における、組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量及び硬化物中のフッ素元素の含有量は０質量ｐｐｍであった。実施例１７８～実施例１８２における、組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量は表３－１１に記載の通りであり、硬化物中のフッ素元素の含有量は組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量と同一であった。なお実施例１７２の熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２００℃まで昇温し、２００℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却した。また各実施例において、ポジ型の感光性を有する組成物を用いた場合、フォトマスクは透光部と遮光部が反転したフォトマスクを用いた。現像時間は６０秒、９０秒、又は１２０秒とし、感度測定用のグレースケールマスク（ＭＤＲＭ ＭＯＤＥＬ ４０００－５－ＦＳ；Ｏｐｔｏ－Ｌｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）を用いて、２０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンを２０μｍの寸法幅にて形成できる最適露光量（ｉ線照度計の値）を求めた。これらの結果より、最適現像時間（６０秒、９０秒、又は１２０秒）とその現像時間における最適露光量を決定した。最適露光量で露光後、最適現像時間で現像した後のパターンを２００℃で６０分間熱硬化させた。熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２００℃まで昇温し、２００℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却した。
表３－１～表３－１１に示す各組成物を用いて、実施例１と同様の操作及び評価を行った。これらの評価結果を、まとめて表３－１～表３－１１に示す。なお実施例１～実施例１７４及び比較例１～比較例８における、組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量及び硬化物中のフッ素元素の含有量は１，０００質量ｐｐｍを超えていた。実施例１７５～実施例１７７における、組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量及び硬化物中のフッ素元素の含有量は０質量ｐｐｍであった。実施例１７８～実施例１８２における、組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量は表３－１１に記載の通りであり、硬化物中のフッ素元素の含有量は組成物の全固形分に占めるフッ素元素の含有量と同一であった。なお実施例１７２の熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２００℃まで昇温し、２００℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却した。また各実施例において、ポジ型の感光性を有する組成物を用いた場合、フォトマスクは透光部と遮光部が反転したフォトマスクを用いた。現像時間は６０秒、９０秒、又は１２０秒とし、感度測定用のグレースケールマスク（ＭＤＲＭ ＭＯＤＥＬ ４０００－５－ＦＳ；Ｏｐｔｏ－Ｌｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）を用いて、２０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンを２０μｍの寸法幅にて形成できる最適露光量（ｉ線照度計の値）を求めた。これらの結果より、最適現像時間（６０秒、９０秒、又は１２０秒）とその現像時間における最適露光量を決定した。最適露光量で露光後、最適現像時間で現像した後のパターンを２００℃で６０分間熱硬化させた。熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２００℃まで昇温し、２００℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却した。
【0265】
【表3-1】
【0266】
【表3-2】
【0267】
【表3-3】
【0268】
【表3-4】
【0269】
【表3-5】
【0270】
【表3-6】
【0271】
【表3-7】
【0272】
【表3-8】
【0273】
【表3-9】
【0274】
【表3-10】
【0275】
【表3-11】
【0276】
比較例１～比較例８は、特定の構造を有する（Ｃ１－１）化合物を含有しないため、各種特性が劣っている。また比較例６は、組成物中に占める特定の芳香族化合物の含有量が好適な範囲を超過している。比較例７は、硫黄元素を含む化合物の含有量が過剰のため、組成物の全固形分に占める硫黄元素を含むイオン中の硫黄元素の含有量が好適な範囲から外れている。比較例８は、組成物中に占める水の含有量が好ましい範囲を超過している。そのため、感度、機械物性、又はマイグレーション耐性が低下している。
【0277】
＜感光性組成物の保管安定性＞
実施例１～実施例１８２にて調製した各組成物を２５℃で一週間保管した。保管後、実施例１と同様に基板上に組成物を成膜した結果、異物の発生は無く、保管安定性が良好な結果であった。一方、比較例６～比較例８にて調製した、特定の芳香族化合物の含有量、硫黄元素を含むイオン中の硫黄元素の含有量、又は水の含有量が好適な範囲から外れている組成物１８８～組成物１９０を、同様に２５℃で一週間保管した。保管後、同様に基板上に組成物を成膜した結果、異物の発生が多く、保管安定性が悪い結果であった。
実施例１～実施例１８２にて調製した各組成物を２５℃で一週間保管した。保管後、実施例１と同様に基板上に組成物を成膜した結果、異物の発生は無く、保管安定性が良好な結果であった。一方、比較例６～比較例８にて調製した、特定の芳香族化合物の含有量、硫黄元素を含むイオン中の硫黄元素の含有量、又は水の含有量が好適な範囲から外れている組成物１８８～組成物１９０を、同様に２５℃で一週間保管した。保管後、同様に基板上に組成物を成膜した結果、異物の発生が多く、保管安定性が悪い結果であった。
【符号の説明】
【0278】
４１ 透光部
４２ 遮光部
４３ 半透光部
４２ 遮光部
４３ 半透光部
【図1】
