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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024116094
(43)【公開日】2024-08-27
(54)【発明の名称】シラン化合物
(51)【国際特許分類】
C09K 3/18 20060101AFI20240820BHJP
C07F 7/18 20060101ALI20240820BHJP
C08G 77/54 20060101ALI20240820BHJP
G02B 1/18 20150101ALI20240820BHJP
【ＦＩ】
C09K3/18 104
C07F7/18 W CSP
C08G77/54
G02B1/18
【審査請求】有
【請求項の数】30
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024018283
(22)【出願日】2024-02-09
(31)【優先権主張番号】P 2023021525
(32)【優先日】2023-02-15
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000002853
【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100129791
【弁理士】
【氏名又は名称】川本 真由美
(74)【代理人】
【識別番号】100221501
【弁理士】
【氏名又は名称】式見 真行
(72)【発明者】
【氏名】高野 真也
(72)【発明者】
【氏名】半田 晋也
(72)【発明者】
【氏名】松井 元志
(72)【発明者】
【氏名】久保田 大貴
(72)【発明者】
【氏名】勝間 希望
(72)【発明者】
【氏名】原 真奈美
(72)【発明者】
【氏名】野村 孝史
【テーマコード（参考）】
2K009
4H020
4H049
4J246
【Ｆターム（参考）】
2K009CC42
2K009EE00
4H020AA06
4H020BA34
4H049VN01
4H049VP09
4H049VP10
4H049VQ79
4H049VR23
4H049VR41
4H049VU21
4H049VW02
4J246AA03
4J246AA11
4J246AB01
4J246BA020
4J246BA02X
4J246BB020
4J246BB021
4J246BB02X
4J246BB330
4J246BB333
4J246BB33X
4J246CA130
4J246CA13E
4J246CA13M
4J246CA13X
4J246CA240
4J246CA24X
4J246CA260
4J246CA26E
4J246CA26X
4J246CA330
4J246CA33E
4J246CA33M
4J246CA33U
4J246CA33X
4J246CA580
4J246CA58E
4J246CA58U
4J246CA58X
4J246CA730
4J246CA73E
4J246CA73M
4J246CA73X
4J246FA222
4J246FA322
4J246FA372
4J246FA432
4J246FB232
4J246FC162
4J246GB04
4J246GC49
4J246GD08
4J246HA24
(57)【要約】
【課題】摩擦耐久性とアルカリ耐久性に優れた表面処理層を形成することができる化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）［式中：Ｒ１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、Ｘ１は、アミド結合を含む２価の有機基であり、Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、ｎ１は、１～３の整数である。］で表される化合物。
【選択図】なし
【解決手段】下記式（１）［式中：Ｒ１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、Ｘ１は、アミド結合を含む２価の有機基であり、Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、ｎ１は、１～３の整数である。］で表される化合物。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記式（１）：
［式中：
Ｒ１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
Ｘ１は、アミド結合を含む２価の有機基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物。
【化1】
Ｒ１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
Ｘ１は、アミド結合を含む２価の有機基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物。
【請求項2】
Ｒ１は、Ｒ３－（ＳｉＲ４
２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４
２－であり、
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＡ基であり、
前記Ａ基は、下記式：
［式中：
Ｒ５１は、それぞれ独立して、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－で表される基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎａは、１～３の整数であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００である、
請求項１に記載の化合物。
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＡ基であり、
前記Ａ基は、下記式：
Ｒ５１は、それぞれ独立して、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－で表される基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎａは、１～３の整数であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００である、
請求項１に記載の化合物。
【請求項3】
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基である、請求項２に記載の化合物。
【請求項4】
Ｒ３は、メチル基である、請求項２に記載の化合物。
【請求項5】
Ｒ４は、メチル基である、請求項２に記載の化合物。
【請求項6】
Ｘ１は、下記式：
－Ｒ１４－ＣＯＮＲ１３－Ｒ１５－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１４は、－（Ｒ５１）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－であり、
Ｒ５１は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、
ｐ５は、０～３０の整数であり、
Ｘ５１は、－（Ｘ５２）ｌ５－であり、
Ｘ５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、－ＮＲ５４－及び－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、
ｎ５は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
Ｒ１５は、単結合、－（ＣＨ２）ｑ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基である、
請求項１に記載の化合物。
－Ｒ１４－ＣＯＮＲ１３－Ｒ１５－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１４は、－（Ｒ５１）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－であり、
Ｒ５１は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、
ｐ５は、０～３０の整数であり、
Ｘ５１は、－（Ｘ５２）ｌ５－であり、
Ｘ５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、－ＮＲ５４－及び－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、
ｎ５は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
Ｒ１５は、単結合、－（ＣＨ２）ｑ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基である、
請求項１に記載の化合物。
【請求項7】
Ｒ１は、下記式：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～８０の整数である。］
で表される基であり、
Ｘ１は、下記式：
－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
－（ＣＨ２）ｐ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｐ２－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子であり、
ｐは、１～３０の整数であり、
ｐ１は、１～１０の整数であり、
ｐ２は、１～１０の整数であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基であり、
Ｒ１１は、ＯＣＨ３であり、
ｎ１は、３である、
請求項１に記載の化合物。
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～８０の整数である。］
で表される基であり、
Ｘ１は、下記式：
－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
－（ＣＨ２）ｐ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｐ２－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子であり、
ｐは、１～３０の整数であり、
ｐ１は、１～１０の整数であり、
ｐ２は、１～１０の整数であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基であり、
Ｒ１１は、ＯＣＨ３であり、
ｎ１は、３である、
請求項１に記載の化合物。
【請求項8】
ｎは、１～３０の整数である、請求項７に記載の化合物。
【請求項9】
ｎは、２０～８０の整数である、請求項７に記載の化合物。
【請求項10】
Ｒ１は、Ｒ３－（ＳｉＲ４
２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４
２－であり、
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基、又はＡ基であり、
Ａ基は、［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－又は［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～１００の整数であり、
Ｘ１は、－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）ｑ－であり、
ｐは、３～３０の整数であり、
ｑは、２～３の整数である、請求項１に記載の化合物。
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基、又はＡ基であり、
Ａ基は、［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－又は［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～１００の整数であり、
Ｘ１は、－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）ｑ－であり、
ｐは、３～３０の整数であり、
ｑは、２～３の整数である、請求項１に記載の化合物。
【請求項11】
下記化合物から選択される、請求項１に記載の化合物。
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ｎは２～８０の整数である。
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ｎは２～８０の整数である。
【請求項12】
下記化合物から選択される、請求項１に記載の化合物。
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは４０～７０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは４０～７０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
【請求項13】
下記式（２）：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ’－ＣＨ＝ＣＨ２ （２）
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＡ基であり、
前記Ａ基は、下記式：
［式中：
Ｒ５１は、それぞれ独立して、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－で表される基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎａは、１～３の整数であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００であり、
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
ｐは、０～３０の整数であり、
ｑ’は、１～８の整数である。］
で表される化合物。
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ’－ＣＨ＝ＣＨ２ （２）
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＡ基であり、
前記Ａ基は、下記式：
Ｒ５１は、それぞれ独立して、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－で表される基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎａは、１～３の整数であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００であり、
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
ｐは、０～３０の整数であり、
ｑ’は、１～８の整数である。］
で表される化合物。
【請求項14】
請求項１に記載の化合物、及び、式（３）：
Ｒ２１－Ｒ２２－ＣＯＮＲ２４－Ｒ２３－ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１ （３）
［式中：
Ｒ２１は、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２－、ＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ－、又はＲ１２ ３－ｎ１Ｒ１１ ｎ１Ｓｉ－であり、
Ｒ２２は、Ｃ０－３０アルキレン基であり、
Ｒ２３は、Ｃ１－１０アルキレン基であり、
Ｒ２４は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物を含む、組成物。
Ｒ２１－Ｒ２２－ＣＯＮＲ２４－Ｒ２３－ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１ （３）
［式中：
Ｒ２１は、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２－、ＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ－、又はＲ１２ ３－ｎ１Ｒ１１ ｎ１Ｓｉ－であり、
Ｒ２２は、Ｃ０－３０アルキレン基であり、
Ｒ２３は、Ｃ１－１０アルキレン基であり、
Ｒ２４は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物を含む、組成物。
【請求項15】
式（３）で表される化合物を、式（１）で表される化合物と式（３）で表される化合物の合計に対して、０．１質量％～３０質量％含む、請求項１４に記載の組成物。
【請求項16】
表面処理剤である、請求項１４に記載の組成物。
【請求項17】
請求項１～１３のいずれか１項に記載の化合物を含む、表面処理剤。
【請求項18】
さらに請求項１に記載の化合物の縮合体を含む、請求項１７に記載の表面処理剤。
【請求項19】
さらに、Ｒ８１ＯＲ８２、Ｒ８３
ｎ８Ｃ６Ｈ６－ｎ８、Ｒ８４Ｒ８５Ｒ８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ８－Ｒ８９、及び（ＯＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ９
［式中
Ｒ８１～Ｒ８９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、４～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含む、請求項１７に記載の表面処理剤。
［式中
Ｒ８１～Ｒ８９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、４～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含む、請求項１７に記載の表面処理剤。
【請求項20】
前記溶媒は、Ｒ８４Ｒ８５Ｒ８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ８－Ｒ８９である、請求項１９に記載の表面処理剤。
【請求項21】
前記溶媒は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、又はデカメチルシクロペンタシロキサンである、請求項１９に記載の表面処理剤。
【請求項22】
真空蒸着用である、請求項１７に記載の表面処理剤。
【請求項23】
湿潤被覆用である、請求項１７に記載の表面処理剤。
【請求項24】
請求項１７に記載の表面処理剤を含有するペレット。
【請求項25】
基材と、該基材上に、請求項１～１２のいずれか１項に記載の化合物から形成された層とを含む物品。
【請求項26】
前記基材と前記層との間に酸化ケイ素を含む中間層を含む、請求項２５に記載の物品。
【請求項27】
前記中間層は、アルカリ金属原子を含む、請求項２６に記載の物品。
【請求項28】
前記アルカリ金属原子の少なくとも一部がナトリウム原子である、請求項２７に記載の物品。
【請求項29】
光学部材である、請求項２５に記載の物品。
【請求項30】
ディスプレイである、請求項２５に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、シラン化合物に関する。
【背景技術】
【0002】
ある種のシラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水撥油性を提供し得ることが知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１９－４４１７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本開示は、摩擦耐久性とアルカリ耐久性に優れた表面処理層を形成することができる化合物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示は、下記の態様を含む。
［１］ 下記式（１）：
［式中：
Ｒ１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
Ｘ１は、アミド結合を含む２価の有機基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物。
［２］ Ｒ１は、Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－であり、
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＡ基であり、
前記Ａ基は、下記式：
［式中：
Ｒ５１は、それぞれ独立して、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－で表される基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎａは、１～３の整数であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００である、
上記［１］に記載の化合物。
［３］ Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基である、上記［２］に記載の化合物。
［４］ Ｒ３は、メチル基である、上記［２］に記載の化合物。
［５］ Ｒ４は、メチル基である、上記［２］又は［３］に記載の化合物。
［６］ Ｘ１は、下記式：
－Ｒ１４－ＣＯＮＲ１３－Ｒ１５－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１４は、－（Ｒ５１）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－であり、
Ｒ５１は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、
ｐ５は、０～３０の整数であり、
Ｘ５１は、－（Ｘ５２）ｌ５－であり、
Ｘ５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、－ＮＲ５４－及び－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、
ｎ５は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
Ｒ１５は、単結合、－（ＣＨ２）ｑ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基である、
上記［１］～［５］のいずれか１項に記載の化合物。
［７］ Ｒ１は、下記式：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～８０である。］
で表される基であり、
Ｘ１は、下記式：
－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
－（ＣＨ２）ｐ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｐ２－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子であり、
ｐは、１～３０の整数であり、
ｐ１は、１～１０の整数であり、
ｐ２は、１～１０の整数であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基であり、
Ｒ１１は、ＯＣＨ３であり、
ｎ１は、３である、
上記［１］～［６］のいずれか１項に記載の化合物。
［８］ ｎは、１～３０の整数である、上記［７］に記載の化合物。
［９］ ｎは、２０～８０の整数である、上記［７］に記載の化合物。
［１０］ Ｒ１は、Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－であり、
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基、又はＡ基であり、
Ａ基は、［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－又は［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～１００であり、
Ｘ１は、－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）ｑ－であり、
ｐは、３～３０の整数であり、
ｑは、２～３の整数である、上記［１］～［９］のいずれか１項に記載の化合物。
［１１］ 下記化合物から選択される、上記［１］～［１０］のいずれか１項に記載の化合物。
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ｎは２～８０の整数である。
［１２］ 下記化合物から選択される、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載の化合物。
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは４０～７０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
［１３］ 下記式（２）：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ’－ＣＨ＝ＣＨ２ （２）
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＡ基であり、
前記Ａ基は、下記式：
［式中：
Ｒ５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ５４－ＳｉＲ５３ ２）ｍａ－Ｒ５３で表される基であり、
Ｒ５４は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、又は炭化水素基であり、
ｎａは、１～３であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００であり、
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
ｐは、０～３０の整数であり、
ｑ’は、１～８の整数である。］
で表される化合物。
［１４］ 上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の化合物、及び、式（３）：
Ｒ２１－Ｒ２２－ＣＯＮＲ２４－Ｒ２３－ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１ （３）
［式中：
Ｒ２１は、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２－、ＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ－、又はＲ１２ ３－ｎ１Ｒ１１ ｎ１Ｓｉ－であり、
Ｒ２２は、Ｃ０－３０アルキレン基であり、
Ｒ２３は、Ｃ１－１０アルキレン基であり、
Ｒ２４は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物を含む、組成物。
［１５］ 式（３）で表される化合物を、式（１）で表される化合物と式（３）で表される化合物の合計に対して、０．１質量％～３０質量％含む、上記［１４］に記載の組成物。
［１６］ 表面処理剤である、上記［１４］又は上記［１５］に記載の組成物。
［１７］ 上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の化合物を含む、表面処理剤。
［１８］ さらに上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の化合物の縮合体を含む、上記［１６］又は［１７］に記載の表面処理剤。
［１９］ さらに、Ｒ８１ＯＲ８２、Ｒ８３ ｎ８Ｃ６Ｈ６－ｎ８、Ｒ８４Ｒ８５Ｒ８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ８－Ｒ８９、及び（ＯＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ９
［式中
Ｒ８１～Ｒ８９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、４～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含む、上記［１６］～［１８］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２０］ 前記溶媒は、Ｒ８４Ｒ８５Ｒ８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ８－Ｒ８９である、上記［１９］に記載の表面処理剤。
［２１］ 前記溶媒は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、又はデカメチルシクロペンタシロキサンである、上記［１９］に記載の表面処理剤。
［２２］ 真空蒸着用である、上記［１６］～［２１］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２３］ 湿潤被覆用である、上記［１６］～［２２］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２４］ 上記［１６］～［２３］のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
［２５］ 基材と、該基材上に、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の化合物から形成された層とを含む物品。
［２６］ 前記基材と前記層との間に酸化ケイ素を含む中間層を含む、上記［２５］に記載の物品。
［２７］ 前記中間層は、アルカリ金属原子を含む、上記［２６］に記載の物品。
［２８］ 前記アルカリ金属原子の少なくとも一部がナトリウム原子である、上記［２７］に記載の物品。
［２９］ 光学部材である、上記［２５］～［２８］のいずれか１項に記載の物品。
［３０］ ディスプレイである、上記［２５］～［２８］のいずれか１項に記載の物品。
［１］ 下記式（１）：
【化1】
Ｒ１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
Ｘ１は、アミド結合を含む２価の有機基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物。
［２］ Ｒ１は、Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－であり、
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＡ基であり、
前記Ａ基は、下記式：
Ｒ５１は、それぞれ独立して、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－で表される基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎａは、１～３の整数であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００である、
上記［１］に記載の化合物。
［３］ Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基である、上記［２］に記載の化合物。
［４］ Ｒ３は、メチル基である、上記［２］に記載の化合物。
［５］ Ｒ４は、メチル基である、上記［２］又は［３］に記載の化合物。
［６］ Ｘ１は、下記式：
－Ｒ１４－ＣＯＮＲ１３－Ｒ１５－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１４は、－（Ｒ５１）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－であり、
Ｒ５１は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、
ｐ５は、０～３０の整数であり、
Ｘ５１は、－（Ｘ５２）ｌ５－であり、
Ｘ５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、－ＮＲ５４－及び－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、
ｎ５は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
Ｒ１５は、単結合、－（ＣＨ２）ｑ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基である、
上記［１］～［５］のいずれか１項に記載の化合物。
［７］ Ｒ１は、下記式：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～８０である。］
で表される基であり、
Ｘ１は、下記式：
－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
－（ＣＨ２）ｐ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｐ２－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子であり、
ｐは、１～３０の整数であり、
ｐ１は、１～１０の整数であり、
ｐ２は、１～１０の整数であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基であり、
Ｒ１１は、ＯＣＨ３であり、
ｎ１は、３である、
上記［１］～［６］のいずれか１項に記載の化合物。
［８］ ｎは、１～３０の整数である、上記［７］に記載の化合物。
［９］ ｎは、２０～８０の整数である、上記［７］に記載の化合物。
［１０］ Ｒ１は、Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－であり、
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基、又はＡ基であり、
Ａ基は、［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－又は［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～１００であり、
Ｘ１は、－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）ｑ－であり、
ｐは、３～３０の整数であり、
ｑは、２～３の整数である、上記［１］～［９］のいずれか１項に記載の化合物。
［１１］ 下記化合物から選択される、上記［１］～［１０］のいずれか１項に記載の化合物。
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ｎは２～８０の整数である。
［１２］ 下記化合物から選択される、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載の化合物。
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは４０～７０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
［１３］ 下記式（２）：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ’－ＣＨ＝ＣＨ２ （２）
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＡ基であり、
前記Ａ基は、下記式：
Ｒ５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ５４－ＳｉＲ５３ ２）ｍａ－Ｒ５３で表される基であり、
Ｒ５４は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、又は炭化水素基であり、
ｎａは、１～３であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００であり、
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
ｐは、０～３０の整数であり、
ｑ’は、１～８の整数である。］
で表される化合物。
［１４］ 上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の化合物、及び、式（３）：
Ｒ２１－Ｒ２２－ＣＯＮＲ２４－Ｒ２３－ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１ （３）
［式中：
Ｒ２１は、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２－、ＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ－、又はＲ１２ ３－ｎ１Ｒ１１ ｎ１Ｓｉ－であり、
Ｒ２２は、Ｃ０－３０アルキレン基であり、
Ｒ２３は、Ｃ１－１０アルキレン基であり、
Ｒ２４は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物を含む、組成物。
［１５］ 式（３）で表される化合物を、式（１）で表される化合物と式（３）で表される化合物の合計に対して、０．１質量％～３０質量％含む、上記［１４］に記載の組成物。
［１６］ 表面処理剤である、上記［１４］又は上記［１５］に記載の組成物。
［１７］ 上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の化合物を含む、表面処理剤。
［１８］ さらに上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の化合物の縮合体を含む、上記［１６］又は［１７］に記載の表面処理剤。
［１９］ さらに、Ｒ８１ＯＲ８２、Ｒ８３ ｎ８Ｃ６Ｈ６－ｎ８、Ｒ８４Ｒ８５Ｒ８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ８－Ｒ８９、及び（ＯＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ９
［式中
Ｒ８１～Ｒ８９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、４～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含む、上記［１６］～［１８］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２０］ 前記溶媒は、Ｒ８４Ｒ８５Ｒ８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ８－Ｒ８９である、上記［１９］に記載の表面処理剤。
［２１］ 前記溶媒は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、又はデカメチルシクロペンタシロキサンである、上記［１９］に記載の表面処理剤。
［２２］ 真空蒸着用である、上記［１６］～［２１］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２３］ 湿潤被覆用である、上記［１６］～［２２］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２４］ 上記［１６］～［２３］のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
［２５］ 基材と、該基材上に、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の化合物から形成された層とを含む物品。
［２６］ 前記基材と前記層との間に酸化ケイ素を含む中間層を含む、上記［２５］に記載の物品。
［２７］ 前記中間層は、アルカリ金属原子を含む、上記［２６］に記載の物品。
［２８］ 前記アルカリ金属原子の少なくとも一部がナトリウム原子である、上記［２７］に記載の物品。
［２９］ 光学部材である、上記［２５］～［２８］のいずれか１項に記載の物品。
［３０］ ディスプレイである、上記［２５］～［２８］のいずれか１項に記載の物品。
【発明の効果】
【0006】
本開示によれば、摩擦耐久性とアルカリ耐久性に優れた表面処理層を形成することができる化合物を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【0007】
本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、例えば、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。３価以上の有機基も同様に、有機基から所定の数の水素原子を脱離させた基を意味する。
【0008】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、Ｃ１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。炭化水素基は、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【0009】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、Ｃ２－６アルキニル基、Ｃ３－１０シクロアルキル基、Ｃ３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員環のヘテロシクリル基、５～１０員環の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６－１０アリール基及び５～１０員環のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。
【0010】
本明細書において用いられる場合、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲｈ、－ＯＣＯＲｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｈ
２、－ＮＲｈ
２、－ＮＨＲｈ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
【0011】
本開示のシラン化合物は、下記式（１）：
［式中：
Ｒ１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
Ｘ１は、アミド結合を含む２価の有機基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物である。
【化2】
Ｒ１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
Ｘ１は、アミド結合を含む２価の有機基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物である。
【0012】
Ｒ１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基である。
【0013】
水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基は、水酸基又は加水分解性基が直接結合したＳｉ原子を含んでいてもよい。
【0014】
一の態様において、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基は、水酸基又は加水分解性基が直接結合したＳｉ原子を含まない。
【0015】
別の態様において、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基は、水酸基又は加水分解性基が直接結合したＳｉ原子を１つ以上含む。
【0016】
一の態様において、Ｒ１は、下記の基：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又は、Ａ基：
［式中：
Ｒ５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ５４－ＳｉＲ５３ ２）ｍａ－Ｒ５３で表される基であり、
Ｒ５４は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、又は炭化水素基であり、
ｎａは、１～３であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００である。］
で表される基である。
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又は、Ａ基：
【化3】
Ｒ５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ５４－ＳｉＲ５３ ２）ｍａ－Ｒ５３で表される基であり、
Ｒ５４は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、又は炭化水素基であり、
ｎａは、１～３であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００である。］
で表される基である。
【0017】
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＡ基である。
【0018】
一の態様において、Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基である。別の態様において、Ｒ３は、フェニル基である。別の態様において、Ｒ３は、Ａ基である。
【0019】
Ｒ３におけるＣ１－１２アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ１－１２アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ１－１２アルキル基は、分枝鎖である。上記Ｃ１－１２アルキル基は、好ましくはＣ１－６アルキル基、より好ましくはＣ１－４アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基、特に好ましくはメチル基である。
【0020】
Ａ基は、下記式：
［式中：
Ｒ５１は、それぞれ独立して、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－で表される基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎａは、１～３の整数であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基である。
Ｒ５１は、それぞれ独立して、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－で表される基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’であり、
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎａは、１～３の整数であり、
ｚは、０又は１である。］
で表される基である。
【0021】
Ｒ５１は、それぞれ独立して、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３
２－Ｒ６１）ｍａ－で表される基である。
【0022】
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基である。
【0023】
Ｒ６１におけるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。上記Ｃ１－６アルキレン基は、好ましくはＣ１－４アルキレン基、より好ましくはＣ２－４アルキレン基であり得る。
【0024】
一の態様において、Ｒ６１は、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基である。
【0025】
一の態様において、Ｒ６１は、酸素原子である。
【0026】
一の態様において、一部のＲ６１は酸素原子であり、他のＲ６１はＣ１－６アルキレン基である。
【0027】
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’である。
【0028】
Ｒ５３における上記炭化水素基は、好ましくはアルキル基またはアリール基であり得る。
【0029】
上記アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。上記アルキル基は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基、より好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。上記アルキル基は、特に好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉｓｏ－プロピル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基である。
【0030】
上記アリール基は、単環式であっても多環式であってもよい。上記アリールは、好ましくは炭素数６～２０のアリール基、より好ましくは炭素数６～１０のアリール基である。上記アリール基は、特に好ましくはフェニル基である。
【0031】
Ｒ５３は、好ましくはアルキル基、より好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。
【0032】
Ｒ５１’は、Ｒ５１と同意義である。即ち、Ｒ５１’は、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３
２Ｏ）ｍａ－である。ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下、好ましくは１０以下、より好ましくは６以下、さらに好ましくは３以下である。
【0033】
一の態様において、Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５１’である。
【0034】
好ましい態様において、Ｒ５３は、それぞれ独立して、それぞれ独立して、炭化水素基である。
【0035】
一の態様において、Ｒ５３は、Ｒ５３’－（ＳｉＲ５３’
２－Ｒ６１’）ｍａ’－
［式中：
Ｒ５３’は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－であり、
少なくとも１つのＲ５３’は、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、または炭化水素基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
Ｒ６１’は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
ｍａ’は、それぞれ独立して、１～５の整数である。］
である。
［式中：
Ｒ５３’は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－であり、
少なくとも１つのＲ５３’は、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、または炭化水素基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
Ｒ６１’は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
ｍａ’は、それぞれ独立して、１～５の整数である。］
である。
【0036】
別の態様において、一の態様において、Ｒ５３は、Ｒ５３’－（ＳｉＲ５３’
２－Ｒ６１’）ｍａ’－
［式中：
Ｒ５３’は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５３”－（ＳｉＲ５３” ２－Ｒ６１”）ｍａ”－であり、
少なくとも１つのＲ５３’は、Ｒ５３”－（ＳｉＲ５３” ２－Ｒ６１”）ｍａ”－であり、
Ｒ５３”は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－であり、
少なくとも１つのＲ５３”は、Ｒ５３－（ＳｉＲ５２ ２－Ｒ６１）ｍａ－であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、または炭化水素基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
Ｒ６１”は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
ｍａ”は、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
Ｒ６１’は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
ｍａ’は、それぞれ独立して、１～５の整数である。］
である。
［式中：
Ｒ５３’は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５３”－（ＳｉＲ５３” ２－Ｒ６１”）ｍａ”－であり、
少なくとも１つのＲ５３’は、Ｒ５３”－（ＳｉＲ５３” ２－Ｒ６１”）ｍａ”－であり、
Ｒ５３”は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－であり、
少なくとも１つのＲ５３”は、Ｒ５３－（ＳｉＲ５２ ２－Ｒ６１）ｍａ－であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、または炭化水素基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
Ｒ６１”は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
ｍａ”は、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
Ｒ６１’は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
ｍａ’は、それぞれ独立して、１～５の整数である。］
である。
【0037】
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数、好ましくは１又は２である。
【0038】
Ｒ５２は、それぞれ独立して、炭化水素基である。
【0039】
Ｒ５２における上記炭化水素基は、好ましくはアルキル基またはアリール基であり得る。
【0040】
上記アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。上記アルキル基は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基、より好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。上記アルキル基は、特に好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉｓｏ－プロピル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基である。
【0041】
上記アリール基は、単環式であっても多環式であってもよい。上記アリールは、好ましくは炭素数６～２０のアリール基、より好ましくは炭素数６～１０のアリール基である。上記アリール基は、特に好ましくはフェニル基である。
【0042】
Ｒ５２は、好ましくはアルキル基、より好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。
【0043】
ｎａは、１～３の整数である。一の態様において、ｎａは、２である。別の態様において、ｎａは、３である。なお、Ｒ５１’が存在する場合、ｎａは、（Ｒ６１－ＳｉＲ５３
２）ｍａ毎に独立して選択される。
【0044】
ｚは、０又は１である。一の態様において、ｚは０である。別の態様においてｚは１である。
【0045】
好ましい態様において、Ａ基において、
Ｒ５１は、それぞれ独立して、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－で表される基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基、好ましくは酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基であり、
ｍａは、１または２であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、炭化水素基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基であり、
ｎａは、１または２である。
Ｒ５１は、それぞれ独立して、Ｒ５３－（ＳｉＲ５３ ２－Ｒ６１）ｍａ－で表される基であり、
Ｒ６１は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基、好ましくは酸素原子、又はＣ１－６アルキレン基であり、
Ｒ５３は、それぞれ独立して、炭化水素基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基であり、
ｍａは、１または２であり、
Ｒ５２は、それぞれ独立して、炭化水素基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基であり、
ｎａは、１または２である。
【0046】
Ａ基の例としては、限定するものではないが、下記の基が挙げられる。
【化4】
【0047】
【化5】
【0048】
【化6】
【0049】
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’
２Ｏ）ｎ－である。
【0050】
一の態様において、Ｒ４は、Ｃ１－１２アルキル基又はフェニル基である。
【0051】
一の態様において、Ｒ４は、Ｃ１－１２アルキル基である。別の態様において、Ｒ４は、フェニル基である。
【0052】
Ｒ４におけるＣ１－１２アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ１－１２アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ１－１２アルキル基は、分枝鎖である。上記Ｃ１－１２アルキル基は、好ましくはＣ１－６アルキル基、より好ましくはＣ１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基、特に好ましくはメチル基である。
【0053】
一の態様において、Ｒ４は、Ｒ３－（ＳｉＲ４’
２Ｏ）ｎ－である。即ち、Ｒ１におけるシロキサン基は、分岐構造を有する。
【0054】
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基である。
【0055】
一の態様において、Ｒ４’は、Ｃ１－１２アルキル基である。別の態様において、Ｒ４’は、フェニル基である。
【0056】
Ｒ４’におけるＣ１－１２アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ１－１２アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ１－１２アルキル基は、分枝鎖である。上記Ｃ１－１２アルキル基は、好ましくはＣ１－６アルキル基、より好ましくはＣ１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基、特に好ましくはメチル基である。
【0057】
ｎは、１～１５００、好ましくは１～５００、より好ましくは１～１００、さらに好ましくは１～２０、さらにより好ましくは１～１０、例えば１又は２である。
【0058】
一の態様において、ｎは、１０～５００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１０～８０、例えば２０～５００、２０～１００、２０～８０、３０～８０、４０～８０、又は４０～７０である。ｎをかかる範囲とすることにより、得られる表面処理層の触感、及び滑り性が向上する。
【0059】
別の態様において、ｎは、１～１００、より好ましくは１～５０、さらに好ましくは１０～３０、例えば２～１００、２～５０、２～３０、５～１００、５～５０、５～３０、又は５～２０である。ｎをかかる範囲とすることにより、得られる表面処理層の摩擦耐久性が向上する。
【0060】
好ましい態様において、Ｒ３はメチルであり、Ｒ４はメチルであり、ｎは１又は２である。
【0061】
一の態様において、Ｒ１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含み、かつ、シロキサン結合を含まない１価の有機基であり得る。
【0062】
一の態様において、Ｒ１は、下記式：
－ＳｉＲ５ ３
［式中：
Ｒ５は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキル基、－ＳｉＲ６ ３、又は－ＯＳｉＲ６ ３あり、
Ｒ６は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキル基である。］
で表される基である。
－ＳｉＲ５ ３
［式中：
Ｒ５は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキル基、－ＳｉＲ６ ３、又は－ＯＳｉＲ６ ３あり、
Ｒ６は、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキル基である。］
で表される基である。
【0063】
Ｒ５におけるＣ１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ１－６アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ１－６アルキル基は、分枝鎖である。上記Ｃ１－６アルキル基は、好ましくはＣ１－４アルキル基である。
【0064】
Ｒ６におけるＣ１－１２アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ１－１２アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ１－１２アルキル基は、分枝鎖である。上記Ｃ１－１２アルキル基は、好ましくはＣ１－６アルキル基、より好ましくはＣ１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基、特に好ましくはメチル基である。
【0065】
上記ＳｉＲ５
３は、好ましくは、－Ｓｉ（ＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＣＨ（ＣＨ３）２）３、－Ｓｉ（ＣＨ３）（ＣＨ３）（Ｃ（ＣＨ３）３））、－Ｓｉ（Ｓｉ（ＣＨ３）３）３、－Ｓｉ（Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ３）３で、－Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ３）３）３、－Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＳｉ（ＣＨ３）３）２、又は－Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ２ＣＨ３）３）３あり得る。
【0066】
好ましい態様において、ＳｉＲ５
３は、－Ｓｉ（ＯＳｉ（ＣＨ３）３）３であり得る。
【0067】
好ましい態様において、ＳｉＲ５
３は、－Ｓｉ（ＣＨ３）（ＯＳｉ（ＣＨ３）３）２であり得る。
【0068】
Ｘ１は、アミド結合を含む２価の有機基である。
【0069】
Ｘ１は、好ましくは下記式：
－Ｒ１４－ＣＯＮＲ１３－Ｒ１５－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１４は、－（Ｒ５１）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－であり、
Ｒ５１は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、
ｐ５は、０～３０の整数であり、
Ｘ５１は、－（Ｘ５２）ｌ５－であり、
Ｘ５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、－ＮＲ５４－及び－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、好ましくは水素原子、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｎ５は、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～１５の整数、より好ましくは１～１０の整数、さらにより好ましくは１～６の整数、例えば１～３の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
Ｒ１５は、単結合、－（ＣＨ２）ｑ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基である。
－Ｒ１４－ＣＯＮＲ１３－Ｒ１５－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１４は、－（Ｒ５１）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－であり、
Ｒ５１は、単結合、－（ＣＨ２）ｐ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、
ｐ５は、０～３０の整数であり、
Ｘ５１は、－（Ｘ５２）ｌ５－であり、
Ｘ５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、－ＮＲ５４－及び－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基であり、
Ｒ５４は、それぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、好ましくは水素原子、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
ｎ５は、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～１５の整数、より好ましくは１～１０の整数、さらにより好ましくは１～６の整数、例えば１～３の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
Ｒ１５は、単結合、－（ＣＨ２）ｑ－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基である。
【0070】
一の態様において、Ｘ１は、好ましくは下記式：
－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
ｐは、０～３０の整数、好ましくは１～３０の整数、より好ましくは３～３０の整数であり、
ｑは、１～１０の整数、好ましくは２～３の整数である。］
で表される基である。
－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
ｐは、０～３０の整数、好ましくは１～３０の整数、より好ましくは３～３０の整数であり、
ｑは、１～１０の整数、好ましくは２～３の整数である。］
で表される基である。
【0071】
別の態様において、Ｘ１は、好ましくは下記式：
－（ＣＨ２）ｐ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｐ２－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
ｐ１は、１～１０の整数であり、
ｐ２は、１～１０の整数であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基である。
－（ＣＨ２）ｐ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｐ２－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基であり、
ｐ１は、１～１０の整数であり、
ｐ２は、１～１０の整数であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基である。
【0072】
一の態様において、Ｒ１３は、水素原子である。
【0073】
別の態様において、Ｒ１３は、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基である。
【0074】
Ｒ１３におけるＣ１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ１－６アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ１－６アルキル基は、分枝鎖である。上記Ｃ１－６アルキル基は、好ましくはＣ１－４アルキル基である。
【0075】
一の態様において、ｐは、０である。
【0076】
別の態様において、ｐは、１～３０の整数、好ましくは６～２８の整数であり、例えば１０～２６の整数、１１～２４の整数、又は１２～２２の整数であり得る。
【0077】
ｑは、１～１０の整数、好ましくは２～６の整数、例えば２～４の整数であり得る。
【0078】
好ましい態様において、ｐは１～３０の整数、好ましくは６～２８の整数、例えば１０～２６の整数、１１～２４の整数、又は１２～２２の整数であり、ｑは、１～１０の整数、好ましくは２～６の整数、例えば２～４の整数であり得る。
【0079】
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。
【0080】
Ｒ１１は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。
【0081】
Ｒ１１は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲｈ、－ＯＣＯＲｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｈ
２、－ＮＲｈ
２、－ＮＨＲｈ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換又は非置換のＣ１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
【0082】
Ｒ１２は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【0083】
Ｒ１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【0084】
上記式中、ｎ１は、１～３の整数、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。
【0085】
好ましい態様において、本開示の化合物は、
Ｒ１が、下記式：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～８０の整数、例えば１～３０の整数、又は２０～８０の整数である。］
で表される基であり、
Ｘ１が、下記式：
－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
－（ＣＨ２）ｐ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｐ２－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子であり、
ｐは、１～３０の整数であり、
ｐ１は、１～１０の整数であり、
ｐ２は、１～１０の整数であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基であり、
Ｒ１１が、ＯＣＨ３であり、
ｎ１が、３である、化合物である。
Ｒ１が、下記式：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～８０の整数、例えば１～３０の整数、又は２０～８０の整数である。］
で表される基であり、
Ｘ１が、下記式：
－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
－（ＣＨ２）ｐ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｐ２－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ－
［式中：
Ｒ１３は、水素原子であり、
ｐは、１～３０の整数であり、
ｐ１は、１～１０の整数であり、
ｐ２は、１～１０の整数であり、
ｑは、１～１０の整数である。］
で表される基であり、
Ｒ１１が、ＯＣＨ３であり、
ｎ１が、３である、化合物である。
【0086】
さらに好ましい態様において、本開示の化合物は、
Ｒ１は、Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－であり、
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基、又はＡ基であり、
Ａ基は、［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－又は［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～１００であり、
Ｘ１は、－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）ｑ－であり、
ｐは、３～３０の整数であり、
ｑは、２～３の整数である、化合物である。
Ｒ１は、Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－であり、
Ｒ３は、Ｃ１－４アルキル基、又はＡ基であり、
Ａ基は、［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－又は［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ－であり、
Ｒ４は、メチル基であり、
ｎは、１～１００であり、
Ｘ１は、－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）ｑ－であり、
ｐは、３～３０の整数であり、
ｑは、２～３の整数である、化合物である。
【0087】
本開示の化合物としては、例えば以下の化合物が挙げられる。
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ｎは２～８０の整数である。
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
ｎは２～８０の整数である。
【0088】
好ましい本開示の化合物としては、例えば以下の化合物が挙げられる。
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは４０～７０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは１０～３０の整数である）
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは４０～７０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎは５～２０の整数である）
【0089】
シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０２～１×１０５の数平均分子量を有し得る。上記式（１）又は（２）で表されるシラン化合物は、好ましくは１，０００～３０，０００、より好ましくは１，５００～１０，０００の数平均分子量を有することが、摩耗耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「数平均分子量」は、１Ｈ－ＮＭＲにより測定される値とする。
【0090】
式（１）で表される化合物は、例えば、下記の方法により製造することができる。
まず、不飽和カルボン酸、又は不飽和カルボン酸エステル、例えば、式：
ＣＨ２＝ＣＨ－Ｒ７１－ＣＯＲ７２
［式中、
Ｒ７１は、単結合、又は２価の有機基、例えば炭素数１～２８のアルキレン基であり、
Ｒ７２は、ヒドロキシ基、塩素原子、又はＣ１－6アルコキシ基である。］
で表される化合物と、シラン化合物、例えば、式：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－Ｈ
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基又はフェニル基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００である。］
で表される化合物と反応させ、式：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－ＣＨ２ＣＨ２－Ｒ７１－ＣＯＯＲ７２
で表されるポリジメチルシロキサン基含有カルボン酸を得る。なお、ポリジメチルシロキサン基含有カルボン酸としては、信越化学工業株式会社製のＸ－２２－３７１０、Ｇｅｌｅｓｔ社製、ＭＣＲ－Ｂ１２など市販の化合物を用いることができる。次いで、ポリジメチルシロキサン基含有カルボン酸と、末端に炭素－炭素二重結合を有するアミン誘導体、例えば、式：
ＮＨ２－Ｒ７４－ＣＨ＝ＣＨ
［式中、
Ｒ７４は、単結合又はＣ１－３０アルキレン基である。］
で表される化合物とを反応させ、
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－ＣＨ２ＣＨ２－Ｒ７１－ＣＯＮＨ２－Ｒ７４－ＣＨ＝ＣＨ２
で表される化合物を得る。最後に、上記で得られた化合物と、例えば、式：
ＨＳｉ（Ｒ７７）３
［式中、Ｒ７７は、加水分解性基である。］
で表される化合物とを反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。
まず、不飽和カルボン酸、又は不飽和カルボン酸エステル、例えば、式：
ＣＨ２＝ＣＨ－Ｒ７１－ＣＯＲ７２
［式中、
Ｒ７１は、単結合、又は２価の有機基、例えば炭素数１～２８のアルキレン基であり、
Ｒ７２は、ヒドロキシ基、塩素原子、又はＣ１－6アルコキシ基である。］
で表される化合物と、シラン化合物、例えば、式：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－Ｈ
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－１２アルキル基又はフェニル基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００である。］
で表される化合物と反応させ、式：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－ＣＨ２ＣＨ２－Ｒ７１－ＣＯＯＲ７２
で表されるポリジメチルシロキサン基含有カルボン酸を得る。なお、ポリジメチルシロキサン基含有カルボン酸としては、信越化学工業株式会社製のＸ－２２－３７１０、Ｇｅｌｅｓｔ社製、ＭＣＲ－Ｂ１２など市販の化合物を用いることができる。次いで、ポリジメチルシロキサン基含有カルボン酸と、末端に炭素－炭素二重結合を有するアミン誘導体、例えば、式：
ＮＨ２－Ｒ７４－ＣＨ＝ＣＨ
［式中、
Ｒ７４は、単結合又はＣ１－３０アルキレン基である。］
で表される化合物とを反応させ、
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－ＣＨ２ＣＨ２－Ｒ７１－ＣＯＮＨ２－Ｒ７４－ＣＨ＝ＣＨ２
で表される化合物を得る。最後に、上記で得られた化合物と、例えば、式：
ＨＳｉ（Ｒ７７）３
［式中、Ｒ７７は、加水分解性基である。］
で表される化合物とを反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。
【0091】
本開示は、式（１）の製造における中間体である、下記式（２）：
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ’－ＣＨ＝ＣＨ２ （２）
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－３０アルキル基又はフェニル基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００であり、
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－３０アルキル基、又はフェニル基であり、
ｐは、０～３０の整数であり、
ｑ’は、１～８の整数である。］
で表される化合物も提供する。式中各記号は、式（１）と同様の態様を含む。
Ｒ３－（ＳｉＲ４ ２Ｏ）ｎ－ＳｉＲ４ ２－（ＣＨ２）ｐ－ＣＯＮＲ１３－（ＣＨ２）ｑ’－ＣＨ＝ＣＨ２ （２）
［式中：
Ｒ３は、Ｃ１－３０アルキル基又はフェニル基であり、
Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、フェニル基、又はＲ３－（ＳｉＲ４’ ２Ｏ）ｎ－であり、
Ｒ４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－１２アルキル基、又はフェニル基であり、
ｎは、１～１５００であり、
Ｒ１３は、水素原子、Ｃ１－３０アルキル基、又はフェニル基であり、
ｐは、０～３０の整数であり、
ｑ’は、１～８の整数である。］
で表される化合物も提供する。式中各記号は、式（１）と同様の態様を含む。
【0092】
次に、本発明の表面処理剤について説明する。
【0093】
本開示の表面処理剤は、式（１）で表される少なくとも１種の化合物を含有する。
【0094】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（１）で表される少なくとも１種の化合物それ自体である。
【0095】
一の態様において、上記の式（１）で表される化合物の含有量は、表面処理剤全体に対して、好ましくは０．１～５０．０質量％、より好ましくは１．０～３０．０質量％、さらに好ましくは５．０～２５．０質量％、特に好ましくは１０．０～２０．０質量％であり得る。
【0096】
別の態様において、上記の式（１）で表される化合物の含有量は、表面処理剤全体に対して、好ましくは０．００１～３０質量％、より好ましくは０．０１～１０質量％、さらに好ましくは０．０５～５質量％、特に好ましくは０．０５～２質量％であり得る。
【0097】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（１）で表される化合物、及び式（１）で表される化合物の少なくとも一部が縮合した縮合体を含有し得る。
【0098】
上記の態様において、上記縮合体の含有量は、上記シラン化合物と上記縮合体の合計に対して、好ましくは４０質量％以下、より好ましくは３０質量％以下であり得る。ここで、上記縮合体の含有量は、例えば、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）におけるピーク位置と面積の存在比から求めることができる。
【0099】
本開示の表面処理剤は、さらに、式（３）：
Ｒ２１－Ｒ２２－ＣＯＮＲ２４－Ｒ２３－ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１ （３）
［式中：
Ｒ２１は、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２－、ＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ－、又はＲ１２ ３－ｎ１Ｒ１１ ｎ１Ｓｉ－であり、
Ｒ２２は、Ｃ０－３０アルキレン基であり、
Ｒ２３は、Ｃ１－１０アルキレン基であり、
Ｒ２４は、水素原子、Ｃ１－３０アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物を含み得る。本開示の表面処理剤は、式（３）で表される化合物を含むことにより、摩擦耐久性がより向上する。
Ｒ２１－Ｒ２２－ＣＯＮＲ２４－Ｒ２３－ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１ （３）
［式中：
Ｒ２１は、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２－、ＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ－、又はＲ１２ ３－ｎ１Ｒ１１ ｎ１Ｓｉ－であり、
Ｒ２２は、Ｃ０－３０アルキレン基であり、
Ｒ２３は、Ｃ１－１０アルキレン基であり、
Ｒ２４は、水素原子、Ｃ１－３０アルキル基、又はフェニル基であり、
Ｒ１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
Ｒ１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
ｎ１は、１～３の整数である。］
で表される化合物を含み得る。本開示の表面処理剤は、式（３）で表される化合物を含むことにより、摩擦耐久性がより向上する。
【0100】
一の態様において、Ｒ２１は、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２－、及びＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ－であり得る。
【0101】
一の態様において、Ｒ２２は、Ｃ０アルキレン基。即ち、単結合である。
【0102】
別の態様において、Ｒ２２は、Ｃ１－３０アルキレン基、例えばＣ１－１０アルキレン基、Ｃ３－６アルキレン基、Ｃ６－３０アルキレン基、Ｃ７－３０アルキレン基、Ｃ８－３０アルキレン基、Ｃ９－３０アルキレン基であり得る。
【0103】
Ｒ２３は、Ｃ１－１０アルキレン基、好ましくはＣ２－６アルキレン基、より好ましくはＣ２－４アルキレン基、であり、
【0104】
一の態様において、Ｒ２４は、水素原子である。
【0105】
別の態様において、Ｒ２４は、Ｃ１－６アルキル基、又はフェニル基である。
【0106】
Ｒ２４におけるＣ１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ１－６アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ１－６アルキル基は、分枝鎖である。上記Ｃ１－６アルキル基は、好ましくはＣ１－４アルキル基である。
【0107】
Ｒ１１、Ｒ１２及びｎは、式（１）の定義と同意義である。
【0108】
本開示の表面処理剤は、式（３）で表される化合物を、式（１）で表される化合物と式（３）で表される化合物の合計に対して、好ましくは０．１質量％～３０質量％、より好ましくは０．５質量％～２０質量％、さらに好ましくは１．０質量％～２０質量％含み得る。
【0109】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、Ｒ２４がＣ１－６アルキル基、又はフェニル基である式（３）で表される化合物を、式（１）で表される化合物と式（３）で表される化合物の合計に対して、好ましくは０．５質量％～３０質量％、より好ましくは１．０質量％～２０質量％含み得る。
【0110】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、Ｒ２４がＲ１２
３－ｎ１Ｒ１１
ｎ１Ｓｉ－である式（３）で表される化合物を、式（１）で表される化合物と式（３）で表される化合物の合計に対して、好ましくは０．１質量％～３．０質量％、より好ましくは０．１質量％～１．０質量％含み得る。
【0111】
本開示の表面処理剤は、溶媒、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アミン化合物、アルコール類、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。
【0112】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、Ｒ８１ＯＲ８２、Ｒ８３
ｎ８Ｃ６Ｈ６－ｎ８、Ｒ８４Ｒ８５Ｒ８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ８－Ｒ８９、及び（ＯＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ９
［式中
Ｒ８１～Ｒ８９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、３～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含み得る。
［式中
Ｒ８１～Ｒ８９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
ｍ８は、１～６の整数であり、
ｍ９は、３～８の整数であり、
ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含み得る。
【0113】
上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、さらに環状構造を含んでいてもよい。
【0114】
一の態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、酸素原子、窒素原子、又はハロゲン原子を含んでいてもよい。
【0115】
別の態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、ハロゲン原子を含まない。
【0116】
好ましい態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、ハロゲンにより置換されていてもよい炭化水素基、好ましくはハロゲンにより置換されていない炭化水素基である。
【0117】
一の態様において、上記炭化水素基は、直鎖である。
【0118】
別の態様において、上記炭化水素基は、分枝鎖である。
【0119】
別の態様において、上記炭化水素基は、環状構造を含む。
【0120】
一の態様において、上記溶媒は、Ｒ８１ＯＲ８２である。
【0121】
Ｒ８１及びＲ８２は、それぞれ独立して、好ましくは炭素数１～８の炭化水素基、より好ましくはＣ１－６のアルキル基、又はＣ５－８のシクロアルキル基であり得る。
【0122】
一の態様において、上記溶媒は、Ｒ８３
ｎ８Ｃ６Ｈ６－ｎ８である。
【0123】
Ｃ６Ｈ６－ｎ８は、ｎ８価のベンゼン環である。即ち、Ｒ８３
ｎ８Ｃ６Ｈ６－ｎ８は、ｎ８個のＲ８３により置換されたベンゼンである。
【0124】
Ｒ８３は、それぞれ独立して、ハロゲン、又はハロゲンにより置換されていてもよいＣ１－６のアルキル基であり得る。
【0125】
ｎ８は、好ましくは１～３の整数である。
【0126】
一の態様において、上記溶媒は、Ｒ８４Ｒ８５Ｒ８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ８－Ｒ８９である。
【0127】
一の態様において、上記溶媒は、（ＯＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ９である。（ＯＳｉＲ８７Ｒ８８）ｍ９は、複数のＯＳｉＲ８７Ｒ８８単位が環状に結合することにより形成される環状シロキサンである。
【0128】
Ｒ８４～Ｒ８９は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ１－６のアルキル基、好ましくはＣ１－６のアルキル基、より好ましくはＣ１－３のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【0129】
ｍ８は、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～５の整数であり、さらに好ましくは1～２である。
【0130】
ｍ９は、好ましくは３～６の整数、より好ましくは３～５の整数である。
【0131】
一の態様において、上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン等のシロキサン類などが用いられる。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、エステル類、グリコールエーテル類、アルコール類、エーテルアルコール類、シロキサン類が好ましい。例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット、ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサンが特に好ましい。
【0132】
シリコーンオイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３ａ）：
Ｒ１ａ－（ＳｉＲ３ａ ２－Ｏ）ａ１－ＳｉＲ３ａ ２－Ｒ１ａ ・・・（３ａ）
［式中：
Ｒ１ａは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、
Ｒ３ａは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、
ａ１は、２～３０００である。］
で表される化合物が挙げられる。
Ｒ１ａ－（ＳｉＲ３ａ ２－Ｏ）ａ１－ＳｉＲ３ａ ２－Ｒ１ａ ・・・（３ａ）
［式中：
Ｒ１ａは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、
Ｒ３ａは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、
ａ１は、２～３０００である。］
で表される化合物が挙げられる。
【0133】
上記Ｒ３ａは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基である。かかる炭化水素基は、置換されていてもよい。
【0134】
Ｒ３ａは、それぞれ独立して、好ましくは非置換炭化水素基、又はハロゲン原子により置換されている炭化水素基である。かかるハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。
【0135】
Ｒ３ａは、それぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキル基又はアリール基、より好ましくはＣ１－６アルキル基又はアリール基である。
【0136】
上記Ｃ１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖
である。Ｃ１－６アルキル基は、好ましくはＣ１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。
である。Ｃ１－６アルキル基は、好ましくはＣ１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。
【0137】
上記アリール基は、好ましくはフェニル基である。
【0138】
一の態様において、Ｒ３ａは、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキル基、好ましくはＣ１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。
【0139】
別の態様において、Ｒ３ａは、フェニル基である。
【0140】
別の態様において、Ｒ３ａは、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。
【0141】
上記Ｒ１ａは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、上記Ｒ３ａと同意義である。
【0142】
Ｒ１ａは、それぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキル基又はアリール基、より好ましくはＣ１－６アルキル基又はアリール基である。
【0143】
一の態様において、Ｒ１ａは、それぞれ独立して、Ｃ１－６アルキル基、好ましくはＣ１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。
【0144】
別の態様において、Ｒ１ａは、フェニル基である。
【0145】
別の態様において、Ｒ１ａは、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。
【0146】
上記ａ１は、２～１５００である。ａ１は、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上、さらに好ましくは１５以上、例えば３０以上、又は５０以上であり得る。ａ１は、好ましくは１０００以下、より好ましくは５００以下、さらに好ましくは２００以下、さらにより好ましくは１５０以下、例えば１００以下、又は８０以下であり得る。
【0147】
ａ１は、好ましくは５～１０００、より好ましくは１０～５００、さらに好ましくは１５～２００、さらにより好ましくは１５～１５０であり得る。
【0148】
別のシリコーンオイルとしては、下記（３ｂ）：
Ｒ１ａ－ＲＳ２－Ｒ３ａ ・・・（３ｂ）
［式中：
Ｒ１ａは、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
Ｒ３ａは、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ＲＳ２は、式（２）の記載と同意義である。］
で表される化合物が挙げられる。
Ｒ１ａ－ＲＳ２－Ｒ３ａ ・・・（３ｂ）
［式中：
Ｒ１ａは、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
Ｒ３ａは、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ＲＳ２は、式（２）の記載と同意義である。］
で表される化合物が挙げられる。
【0149】
上記シリコーンオイルは、５００～１００００００、好ましくは１０００～１０００００の平均分子量を有していてよい。シリコーンオイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。
【0150】
上記シリコーンオイルとしては、例えば－（ＳｉＲ３ａ
２－Ｏ）ａ１―のａ１が３０以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得ることができる。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【0151】
上記シリコーンオイルは、本開示の表面処理剤に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０．００１～３０質量％、より好ましくは０．１～５質量％含まれ得る。
【0152】
本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示の化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは０～１００質量部、より好ましくは０～５０質量部、更に好ましくは０～１０質量部で含まれ得る。
【0153】
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【0154】
上記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコールが挙げられる。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、表面処理剤の安定性を向上さる。
【0155】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｈｆ、Ｖ等）、分子構造内に非共有電子対を有する含硫黄化合物、または含窒素化合物（例えばスルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物）等が挙げられる。
【0156】
上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。
【0157】
好ましい態様において、上記遷移金属は、Ｍ－Ｒ（式中、Ｍは、遷移金属原子であり、Ｒは加水分解性基である。）で表される遷移金属化合物として含まれる。遷移金属化合物を、遷移金属と加水分解性基とが結合した化合物とすることにより、より効率的に遷移金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。
【0158】
上記加水分解性基とは、上記化合物に関する加水分解性基と同様に、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、遷移金属原子から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲｍ、－ＯＣＯＲｍ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｍ
２、－ＮＲｍ
２、－ＮＨＲｍ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒｍは、置換または非置換のＣ１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。
【0159】
好ましい態様において、上記加水分解性基とは、－ＯＲｍであり、好ましくはメトキシまたはエトキシである。加水分解性基としてアルコキシ基を用いることにより、より効率的に遷移金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。
【0160】
一の態様において、上記加水分解性基は、上記した化合物に含まれる加水分解性基と同じであってもよい。化合物と遷移金属化合物における加水分解性基を同じ基とすることにより、かかる加水分解性基が相互に交換された場合であっても、その影響を小さくすることができる。
【0161】
別の態様において、上記加水分解性基は、上記した化合物に含まれる加水分解性基と異なっていてもよい。化合物と遷移金属化合物における加水分解性基を異なるものとすることにより、加水分解の反応性を制御することができる。
【0162】
一の態様において、上記加水分解性基と、上記化合物に含まれる加水分解性基は、表面処理剤中において、相互に入れ替わっていてもよい。
【0163】
好ましい態様において、上記遷移金属化合物は、Ｔａ（ＯＲｍ）５（式中、Ｒｍは置換または非置換のＣ１－４アルキル基である。）であり、好ましくはＴａ（ＯＣＨ２ＣＨ３）５、又はＳｉ（ＯＲｍ）１－ｍ１Ｒｍ’
ｍ１（式中、Ｒｍは置換または非置換のＣ１－４アルキル基であり、Ｒｍ’は、Ｃ１－４アルキル基であり、ｍ１は、０又は１である。）、好ましくはテトラエトキシシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、又はジメチルジメトキシシランであり得る。
【0164】
上記触媒は、表面処理剤全体に対して、例えば、０．０００２質量％以上含まれ得る。上記触媒は、表面処理剤全体に対して、０．０２質量％以上含まれることが好ましく、０．０４質量％以上含まれることがより好ましい。上記触媒は、表面処理剤全体に対して、例えば、１０質量％以下含まれてもよく、特に１質量％以下含まれる。本開示の表面処理剤は、上記触媒が、上記のような濃度含むことによって、より耐久性の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。
【0165】
上記触媒の含有量は、本開示の化合物に対して０～１０質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％が特に好ましい。
【0166】
触媒は、本開示の化合物の加水分解及び脱水縮合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。
【0167】
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
【0168】
本開示の表面処理剤は、上記した成分に加え、不純物として、例えばＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、シランの縮合物などを微量含み得る。
【0169】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、乾燥被覆法、好ましくは真空蒸着用である。
【0170】
一の態様において、本開示の表面処理剤は、湿潤被覆法、好ましくは浸漬コーティング用である。
【0171】
本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【0172】
以下、本開示の物品について説明する。
【0173】
本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。
【0174】
本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。
【0175】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｔａ３Ｏ５，Ｎｂ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【0176】
上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【0177】
一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【0178】
別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【0179】
好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラス、結晶化ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
【0180】
一の態様において、本開示の物品は、ガラスと表面処理層との間に、酸化ケイ素を含む中間層を含んでいてもよい。かかる中間層を設けることにより、ガラスと表面処理層との密着性が向上し、耐久性が向上する。
【0181】
好ましい態様において、上記中間層は、酸化ケイ素に加え、アルカリ金属を含んでいてもよい。
【0182】
上記アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。上記アルカリ金属は、好ましくはナトリウムである。
【0183】
中間層の厚さは、特に限定されないが、１～２００ｎｍが好ましく、１～２０ｎｍが特に好ましい。中間層の厚さを上記範囲の下限値以上とすることにより、中間層による接着性の向上効果がより大きくなる。
【0184】
中間層におけるアルカリ金属原子濃度は各種表面分析装置、たとえばＴＯＦ－ＳＩＭＳ、ＸＰＳ、ＸＲＦなどで測定できる。
【0185】
中間層全体の全原子に占めるアルカリ金属原子の割合は、イオンスパッタリングによるＸＰＳ深さ方向分析で得ることができ、ＸＰＳによる測定とＸＰＳ装置に内蔵されたイオン銃を用いたイオンスパッタリングによる表面のエッチングとを交互に繰り返すことによって行われる。
【0186】
中間層において、表面処理層と接する面からの深さが１ｎｍ以下の領域におけるアルカリ金属の濃度の平均値は、イオンスパッタリングによるＴＯＦ－ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法）深さ方向分析により、アルカリ金属原子の濃度の深さ方向プロファイルを得た後、該プロファイルにおけるアルカリ金属原子濃度の平均値を算出することによって求められる。イオンスパッタリングによるＴＯＦ－ＳＩＭＳ深さ方向分析は、ＴＯＦ－ＳＩＭＳによる測定とＴＯＦ－ＳＩＭＳ装置に内蔵されたイオン銃を用いたイオンスパッタリングによる表面のエッチングとを交互に繰り返すことによって行われる。
【0187】
本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。
【0188】
本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。
【0189】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、ワイプコーティング、スキージーコート法、ダイコート、インクジェット、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法及び類似の方法が挙げられる。
【0190】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。
【0191】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【0192】
湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン等のシロキサン類など。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、エステル類、グリコールエーテル類、アルコール類、エーテルアルコール類、シロキサン類が好ましい。例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット、ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサンが特に好ましい。
【0193】
乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【0194】
表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【0195】
触媒には、任意の適切な酸又は塩基、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ等）、分子構造内に非共有電子対を有する含硫黄化合物、または含窒素化合物（例えばスルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物）等を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン等の有機アミン類などを使用できる。遷移金属、脂肪族アミン化合物、及び芳香族アミン化合物は、上記と同様のものが挙げられる。
【0196】
本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩耗耐久性と指紋拭き取り性の双方を有する。また、上記表面処理層は、高い摩耗耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、耐薬品性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【0197】
従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。
【0198】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【0199】
本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
【0200】
また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。また、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる：ウィンドウ、ライトカバー、車外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる：インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。
【0201】
上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、摩耗耐久性及び防汚性の点から好ましい。
【0202】
上記した酸化ケイ素を含む中間層は、酸化ケイ素前駆体を基材の表面に適用することにより形成することができる。中間層がアルカリ金属を含む場合、上記中間層は、酸化ケイ素前駆体とアルカリ金属源を含む組成物を基材の表面に適用することにより形成することができる。
【0203】
上記酸化ケイ素前駆体としては、ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、アルカリ金属ケイ酸塩、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物、該シラン化合物の部分加水分解縮合物等が挙げられる。ケイ酸やその部分縮合物は脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができ、アルカリ金属ケイ酸塩は酸や陽イオン交換樹脂によりケイ酸やその部分縮合物とし、生成したケイ酸やその部分縮合物を脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができる。ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物における加水分解性基としては、アルコキシ基、塩素原子等が挙げられる。該シラン化合物の加水分解性基を加水分解させて水酸基とし、生成するシラノール化合物を脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができる。ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物としては、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン等のアルコキシシランやテトラクロロシラン等が挙げられる。
【0204】
上記アルカリ金属源としては、アルカリ金属水酸化物、水溶性アルカリ金属塩等が挙げられる。水溶性アルカリ金属塩としては、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属塩酸塩、アルカリ金属硝酸塩等が挙げられる。アルカリ金属源としては、アルカリ金属水酸化物およびアルカリ金属炭酸塩が好ましい。
【0205】
尚、アルカリ金属ケイ酸塩は酸化ケイ素前駆体かつアルカリ金属源として用いることができる。アルカリ金属ケイ酸塩はケイ酸を経て酸化ケイ素とすることができるが、その際に少量のアルカリ金属が生成する酸化ケイ素中に残留し得る。従って、残留するアルカリ金属の量を調整して、所定量のアルカリ金属原子を含む酸化ケイ素を得ることができる。
【0206】
以上、本開示の化合物、組成物、及び物品について詳述した。なお、本開示の化合物、組成物、及び物品などは、上記で例示したものに限定されない。
【実施例0207】
以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。
【0208】
以下の実施例において、シロキサンの繰り返し単位数ｎは、１Ｈ－ＮＭＲにより算出した。
【0209】
（合成例１）
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＯＨを５．０１ｇ、テトラヒドロフランを１５．０ｇ、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩を０．９９ｇ、４－ジメチルアミノピリジンを０．０４７ｇ、及びアリルアミンを０．３８ｍＬ、それぞれ加えて、室温で終夜攪拌した。その後、精製を行うことにより、ポリジメチルシロキサン基含有化合物（１）ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ≒１６）４．８０ｇを得た。
ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＯＨを５．０１ｇ、テトラヒドロフランを１５．０ｇ、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩を０．９９ｇ、４－ジメチルアミノピリジンを０．０４７ｇ、及びアリルアミンを０．３８ｍＬ、それぞれ加えて、室温で終夜攪拌した。その後、精製を行うことにより、ポリジメチルシロキサン基含有化合物（１）ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ≒１６）４．８０ｇを得た。
【0210】
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：－０．１２４－０．２７９（ｍ），０．４８６－０．５２３（ｔ），１．２４３－１．２６９（ｍ），１．６１７（ｂｓ），２．１６１－２．１９６（ｔ），３．８５９（ｂｓ），５．０８３－５．１７５（ｍ），５．７８１－５．８４８（ｍ）
【0211】
（合成例２）
合成例１で得られたポリジメチルシロキサン基含有化合物（１）ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２を４．３４ｇ、トルエンを１３．０９ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０３５ｇ、及び１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１５ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを０．６１ｍＬ仕込み、６０℃に加熱し４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．２８０ｇ及びオルトギ酸トリメチル６．３４０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し、３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する化合物（２）ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎ≒１６）４．２４ｇを得た。
合成例１で得られたポリジメチルシロキサン基含有化合物（１）ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２を４．３４ｇ、トルエンを１３．０９ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０３５ｇ、及び１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１５ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを０．６１ｍＬ仕込み、６０℃に加熱し４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．２８０ｇ及びオルトギ酸トリメチル６．３４０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し、３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する化合物（２）ＣＨ３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎ≒１６）４．２４ｇを得た。
【0212】
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：－０．０１０－０．１５７（ｍ），０．４９５－０．６６６（ｍ），１．２５１－１．２７４（ｍ），１．５７８－１．６５４（ｍ），２．１２３－２．３１２（ｍ），３．２１８－３．２６７（ｍ），３．４２０－３．６０５（ｍ）
【0213】
（合成例３）
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＯＨを５．００ｇ、テトラヒドロフランを１５．１ｇ、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩を０．９７ｇ、４－ジメチルアミノピリジンを０．０４８ｇ、及びアリルアミンを０．３８ｍＬ、それぞれ加えて、室温で終夜攪拌した。その後、精製を行うことにより、ポリジメチルシロキサン基含有化合物（３）ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ≒１６）４．０７ｇを得た。
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＯＨを５．００ｇ、テトラヒドロフランを１５．１ｇ、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩を０．９７ｇ、４－ジメチルアミノピリジンを０．０４８ｇ、及びアリルアミンを０．３８ｍＬ、それぞれ加えて、室温で終夜攪拌した。その後、精製を行うことにより、ポリジメチルシロキサン基含有化合物（３）ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ≒１６）４．０７ｇを得た。
【0214】
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：－０．１１４－０．２９１（ｍ），０．５０７－０．５４７（ｍ），０．８５５－０．８９０（ｔ），１．１８０－１．３２０（ｍ），１．５７７－１．６２９（ｍ），１．９４８－２．０４９（ｍ），２．１９７－２．３２７（ｍ），３．８９３（ｓ），５．１０２－５．１９１（ｍ），５．３８８－５．３９４（ｍ），５．７５４－５．８２３（ｍ）
【0215】
（合成例４）
合成例３で得られたポリジメチルシロキサン基含有化合物（３）ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２を３．７２６２ｇ、トルエンを１１．４ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０２ｇ、及び１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１３ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを１．３ｍＬ仕込み、６０℃に加熱し４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．２４４ｇ及びオルトギ酸トリメチル５．３４７ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する化合物（４）ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎ≒１６）３．６９ｇを得た。
合成例３で得られたポリジメチルシロキサン基含有化合物（３）ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２を３．７２６２ｇ、トルエンを１１．４ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０２ｇ、及び１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１３ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを１．３ｍＬ仕込み、６０℃に加熱し４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．２４４ｇ及びオルトギ酸トリメチル５．３４７ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する化合物（４）ＣＨ３（ＣＨ２）３（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）３ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎ≒１６）３．６９ｇを得た。
【0216】
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）δ［ｐｐｍ］：－０．０１２－０．３０３（ｍ），０．５０２－０．５４３（ｍ），０．６２５－０．６６６（ｍ），０．８５４－０．８８８（ｍ），１．２４４－１．３３８（ｍ），１．５７６－１．６５２（ｍ），３．２１８－３．２６７（ｍ），３．４７０－３．６１１（ｍ），５．６９０（ｂｓ）
【0217】
（合成例５）
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＯＨを５．０ｇ、２－プロペン－１－アミンを９２ｍｇ、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩を３１ｍｇ、４－ジメチルアミノピリジンを１３ｍｇ、およびジクロロメタンを２０ｍＬ混合し、室温で１６時間撹拌した。反応液を塩酸及び水で洗浄した後、減圧濃縮することにより、化合物（５）ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ≒５９）を５．２８ｇ得た。
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＯＨを５．０ｇ、２－プロペン－１－アミンを９２ｍｇ、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩を３１ｍｇ、４－ジメチルアミノピリジンを１３ｍｇ、およびジクロロメタンを２０ｍＬ混合し、室温で１６時間撹拌した。反応液を塩酸及び水で洗浄した後、減圧濃縮することにより、化合物（５）ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ≒５９）を５．２８ｇ得た。
【0218】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，クロロホルム－Ｄ）δ［ｐｐｍ］６．５９－６．７１（ｂｒ），５．８０－５．９１（ｍ），５．１２－５．２４（ｍ），３．９１－３．９７（ｍ），３．４５－３．５０（ｔ），１．５８－１．６９（ｍ），１．２４－１．３６（ｍ），０．８６－０．９１（ｔ），０．５１－０．５８（ｍ），－０．１０－０．３０（ｍ）
【0219】
（合成例６）
化合物（５）を２．０ｇ、トルエンを１０ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を４７μＬ、アニリンを１１３μＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを２１０μＬ仕込み、４０℃で３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、化合物（６）ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎ≒５９）を１．７４ｇ得た。
化合物（５）を２．０ｇ、トルエンを１０ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を４７μＬ、アニリンを１１３μＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを２１０μＬ仕込み、４０℃で３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、化合物（６）ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎ≒５９）を１．７４ｇ得た。
【0220】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，クロロホルム－Ｄ）δ［ｐｐｍ］６．６２－６．７０（ｂｒ），３．９２（ｓ），３．５３－３．６２（ｍ），３．４３－３．４９（ｔ），３．２７－３．３３（ｑ），１．５８－１．７２（ｍ），１．２４－１．３５（ｍ），０．８５－０．９２（ｔ），０．６３－０．６９（ｔ），０．５０－０．５７（ｍ），－０．１３－０．３２（ｍ）
【0221】
（合成例７）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ≒８．７）を１．０ｇ、トルエンを１０ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を７２μＬ、アニリンを１７μＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを３２３μＬ仕込み、室温で１６時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、化合物（７）［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎ≒９）を０．９７ｇ得た。
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ≒８．７）を１．０ｇ、トルエンを１０ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を７２μＬ、アニリンを１７μＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを３２３μＬ仕込み、室温で１６時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、化合物（７）［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］２ＣＨ３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎ≒９）を０．９７ｇ得た。
【0222】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，クロロホルム－Ｄ）δ［ｐｐｍ］７．００（ｓ），６．７１－６．７８（ｂｒ），５．６５（ｓ），５．３３－５．４７（ｍ），４．６２（ｓ），４．２１－４．５０（ｂｒ），３．４６－３．６７（ｍ），３．１６－３．２９（ｍ），２．１０－２．３９（ｍ），１．９１－２．０６（ｍ），１．５２－１．６８（ｍ），１．１４－１．３６（ｂｒ），０．８５－０．９９（ｍ），０．６０－０．７０（ｔ），０．４８－０．５９（ｍ），－０．１３－０．２５（ｍ）
【0223】
（合成例８）
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ≒６．７）を１．０ｇ、トルエンを１０ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を６９μＬ、アニリンを１７μＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを３０９μＬ仕込み、室温で１６時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、化合物（８）［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎ≒８）を０．９８ｇ得た。
［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ≒６．７）を１．０ｇ、トルエンを１０ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を６９μＬ、アニリンを１７μＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを３０９μＬ仕込み、室温で１６時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、化合物（８）［（ＣＨ３）３ＳｉＯ］３ＳｉＯ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｎＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（ｎ≒８）を０．９８ｇ得た。
【0224】
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，クロロホルム－Ｄ）δ［ｐｐｍ］７．００（ｓ），６．７１－６．７８（ｂｒ），５．６５（ｓ），５．３３－５．４７（ｍ），４．６２（ｓ），４．２１－４．５０（ｂｒ），３．４６－３．６７（ｍ），３．１６－３．２９（ｍ），２．１０－２．３９（ｍ），１．９１－２．０６（ｍ），１．５２－１．６８（ｍ），１．１４－１．３８（ｂｒ），０．８５－０．９９（ｍ），０．６０－０．７０（ｔ），０．４８－０．５９（ｍ），－０．１３－０．２５（ｍ）
【0225】
（比較例）
下記化合物（Ｘ）を用いた。
・化合物（Ｘ）：Ｇｅｌｅｓｔ社製、ＭＣＲ－ＸＴ１１（トリエトキシシリルエチル末端ポリジメチルシロキサン、Ｍｗ＝６００－９００）
下記化合物（Ｘ）を用いた。
・化合物（Ｘ）：Ｇｅｌｅｓｔ社製、ＭＣＲ－ＸＴ１１（トリエトキシシリルエチル末端ポリジメチルシロキサン、Ｍｗ＝６００－９００）
【0226】
＜表面処理層の形成＞
下記表１に示すように溶媒と化合物とを組み合わせて、表面処理剤を調製した。化合物濃度は２０ｗｔ％とした。なお、実施例１、３においては、ＣＨ３（ＣＨ２）９ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（０．５ｗｔ％）、及びＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（０．５ｗｔ％）を添加し、実施例２、４においては、ＣＨ３（ＣＨ２）９ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（１６．０ｗｔ％）、ＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（６．０ｗｔ％）、及び（Ｈ３ＣＯ）３Ｓｉ（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（１．０ｗｔ％）を添加した。
下記表１に示すように溶媒と化合物とを組み合わせて、表面処理剤を調製した。化合物濃度は２０ｗｔ％とした。なお、実施例１、３においては、ＣＨ３（ＣＨ２）９ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（０．５ｗｔ％）、及びＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（０．５ｗｔ％）を添加し、実施例２、４においては、ＣＨ３（ＣＨ２）９ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（１６．０ｗｔ％）、ＣＨ３ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（６．０ｗｔ％）、及び（Ｈ３ＣＯ）３Ｓｉ（ＣＨ２）１０ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３（１．０ｗｔ％）を添加した。
【0227】
＜Ｎａ入り中間層形成材料＞
水酸化ナトリウム（富士フィルム和光純薬株式会社製）の２．２ｇを、蒸留水２４ｇに溶解して、８．４質量％の水酸化ナトリウム水溶液を得た。この８．４質量％の水酸化ナトリウム水溶液の２４ｇとＭＳゲル（Ｍ．Ｓ．ＧＥＬＤ－１００－６０Ａ（ＡＧＣエスアイテック社製））の２０ｇとを混合して、水酸化ナトリウム水溶液をＭＳゲル中に吸収させた。水酸化ナトリウム水溶液を吸収したＭＳゲルを２５℃で８時間乾燥した後、錠剤成形機（４ＭＰａで１分）で成形し、１，０００℃で１時間焼成して成形体１（ペレット）を得た。
水酸化ナトリウム（富士フィルム和光純薬株式会社製）の２．２ｇを、蒸留水２４ｇに溶解して、８．４質量％の水酸化ナトリウム水溶液を得た。この８．４質量％の水酸化ナトリウム水溶液の２４ｇとＭＳゲル（Ｍ．Ｓ．ＧＥＬＤ－１００－６０Ａ（ＡＧＣエスアイテック社製））の２０ｇとを混合して、水酸化ナトリウム水溶液をＭＳゲル中に吸収させた。水酸化ナトリウム水溶液を吸収したＭＳゲルを２５℃で８時間乾燥した後、錠剤成形機（４ＭＰａで１分）で成形し、１，０００℃で１時間焼成して成形体１（ペレット）を得た。
【0228】
（Ｎａ入り中間層）
上記で調製した表面処理剤１～１３を、化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。具体的には、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに表面処理剤０．１ｇを充填し、真空蒸着装置内を圧力３．０×１０－３Ｐａ以下に排気した。その後、成形体１を用いて電子線蒸着方式により蒸着させて、７ｎｍの厚さのＮａを含む二酸化ケイ素膜を形成し、続いて抵抗加熱方式によりボートを加熱することで表面処理層を形成した。その後、オーブンで１５０℃、２時間の加熱処理を行うことにより、表面処理層を得た。
上記で調製した表面処理剤１～１３を、化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。具体的には、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに表面処理剤０．１ｇを充填し、真空蒸着装置内を圧力３．０×１０－３Ｐａ以下に排気した。その後、成形体１を用いて電子線蒸着方式により蒸着させて、７ｎｍの厚さのＮａを含む二酸化ケイ素膜を形成し、続いて抵抗加熱方式によりボートを加熱することで表面処理層を形成した。その後、オーブンで１５０℃、２時間の加熱処理を行うことにより、表面処理層を得た。
【0229】
（ＳｉＯ２中間層）
上記で調製した表面処理剤１、４、１３を、化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。具体的には、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに表面処理剤０．１ｇを充填し、真空蒸着装置内を圧力３．０×１０－３Ｐａ以下に排気した。その後、７ｎｍの厚さの二酸化ケイ素膜を形成し、続いて抵抗加熱方式によりボートを加熱することで表面処理層を形成した。その後、オーブンで１５０℃、２時間の加熱処理を行うことにより、表面処理層を得た。
上記で調製した表面処理剤１、４、１３を、化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。具体的には、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに表面処理剤０．１ｇを充填し、真空蒸着装置内を圧力３．０×１０－３Ｐａ以下に排気した。その後、７ｎｍの厚さの二酸化ケイ素膜を形成し、続いて抵抗加熱方式によりボートを加熱することで表面処理層を形成した。その後、オーブンで１５０℃、２時間の加熱処理を行うことにより、表面処理層を得た。
【0230】
［耐摩耗性評価］
（耐摩耗性試験方法）
表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、形成された表面処理層に対して、下記の摩擦子を接触させ、その上に５Ｎの荷重を付与し、荷重を加えた状態で摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。摩擦回数１００回時点での水の静的接触角（°）を測定した。
接触角の測定は、２５℃環境下において、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。具体的には、測定対象の表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより静的接触角を測定した。静的接触角は、基材の表面処理層の異なる５点において測定し、その平均値を算出した値を用いた。
（耐摩耗性試験方法）
表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、形成された表面処理層に対して、下記の摩擦子を接触させ、その上に５Ｎの荷重を付与し、荷重を加えた状態で摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。摩擦回数１００回時点での水の静的接触角（°）を測定した。
接触角の測定は、２５℃環境下において、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。具体的には、測定対象の表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより静的接触角を測定した。静的接触角は、基材の表面処理層の異なる５点において測定し、その平均値を算出した値を用いた。
【0231】
・測定基準
８０°以上：◎（優良）
６０°以上８０°未満：〇（良好）
５０°以上６０°未満：△（可）
５０°未満：×（不良）
・摩擦子
下記に示すシリコーンゴム加工品の表面を、下記に示す組成の人工汗に浸漬したコットンで覆ったものを摩擦子として用いた。
・シリコーンゴム加工品：
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓ＳＲ－５１を、直径１ｃｍ、厚さ１ｃｍの円柱状に加工したもの。
・人工汗の組成：
無水リン酸水素二ナトリウム：２ｇ
塩化ナトリウム：２０ｇ
８５％乳酸：２ｇ
ヒスチジン塩酸塩：５ｇ
蒸留水：１Ｋｇ
８０°以上：◎（優良）
６０°以上８０°未満：〇（良好）
５０°以上６０°未満：△（可）
５０°未満：×（不良）
・摩擦子
下記に示すシリコーンゴム加工品の表面を、下記に示す組成の人工汗に浸漬したコットンで覆ったものを摩擦子として用いた。
・シリコーンゴム加工品：
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓ＳＲ－５１を、直径１ｃｍ、厚さ１ｃｍの円柱状に加工したもの。
・人工汗の組成：
無水リン酸水素二ナトリウム：２ｇ
塩化ナトリウム：２０ｇ
８５％乳酸：２ｇ
ヒスチジン塩酸塩：５ｇ
蒸留水：１Ｋｇ
【0232】
［耐アルカリ性評価］
表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、形成された表面処理層に対して、０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を接触させた。１時間放置後に水酸化ナトリウム水溶液を水で洗い流し、表面を乾燥させた後に静的接触角（°）を測定した。
・測定基準
初期接触角維持率９０％以上：◎（優良）
初期接触角維持率８０％以上９０％未満：〇（良好）
初期接触角維持率７０％以上８０％未満：△（可）
初期接触角維持率７０％未満：×（不良）
表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、形成された表面処理層に対して、０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を接触させた。１時間放置後に水酸化ナトリウム水溶液を水で洗い流し、表面を乾燥させた後に静的接触角（°）を測定した。
・測定基準
初期接触角維持率９０％以上：◎（優良）
初期接触角維持率８０％以上９０％未満：〇（良好）
初期接触角維持率７０％以上８０％未満：△（可）
初期接触角維持率７０％未満：×（不良）
【0233】
下記表１に、耐摩耗性評価、耐アルカリ性評価の結果を示す。
【0234】
【表1】
【産業上の利用可能性】
【0235】
本開示の表面処理剤は、種々多様な用途に好適に利用され得る。