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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024116584
(43)【公開日】2024-08-28
(54)【発明の名称】時計部品の加飾方法および時計部品
(51)【国際特許分類】
G04B 29/02 20060101AFI20240821BHJP
G04B 19/06 20060101ALI20240821BHJP
G04B 37/22 20060101ALI20240821BHJP
G04B 1/02 20060101ALI20240821BHJP
【ＦＩ】
G04B29/02 B
G04B19/06 G
G04B37/22 Z
G04B1/02
【審査請求】未請求
【請求項の数】11
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023022273
(22)【出願日】2023-02-16
(71)【出願人】
【識別番号】000002369
【氏名又は名称】セイコーエプソン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100179475
【弁理士】
【氏名又は名称】仲井 智至
(74)【代理人】
【識別番号】100216253
【弁理士】
【氏名又は名称】松岡 宏紀
(74)【代理人】
【識別番号】100225901
【弁理士】
【氏名又は名称】今村 真之
(72)【発明者】
【氏名】由永 あい
(57)【要約】
【課題】製造効率が良く、装飾性が高い時計部品の加飾方法を提供すること。
【解決手段】時計部品の加飾方法は、飾り面を有する第１面にレーザー加工により加飾する時計部品の加飾方法であって、前記第１面において前記飾り面の外周縁を含む第１領域に第１強度でレーザー照射し、第１面粗度で加飾を行う内側加飾工程と、前記飾り面の外側の第２領域に前記第１強度よりも強い第２強度でレーザー照射し、前記第１面粗度より高い面粗度の第２面粗度で加飾を行う外側加飾工程と、を含む。
【選択図】図５
【解決手段】時計部品の加飾方法は、飾り面を有する第１面にレーザー加工により加飾する時計部品の加飾方法であって、前記第１面において前記飾り面の外周縁を含む第１領域に第１強度でレーザー照射し、第１面粗度で加飾を行う内側加飾工程と、前記飾り面の外側の第２領域に前記第１強度よりも強い第２強度でレーザー照射し、前記第１面粗度より高い面粗度の第２面粗度で加飾を行う外側加飾工程と、を含む。
【選択図】図５
【特許請求の範囲】
【請求項1】
飾り面を有する第１面にレーザー加工により加飾する時計部品の加飾方法であって、
前記第１面において前記飾り面の外周縁を含む第１領域に第１強度でレーザー照射し、第１面粗度で加飾を行う内側加飾工程と、
前記飾り面の外側の第２領域に前記第１強度よりも強い第２強度でレーザー照射し、前記第１面粗度より高い面粗度の第２面粗度で加飾を行う外側加飾工程と、
を含む時計部品の加飾方法。
前記第１面において前記飾り面の外周縁を含む第１領域に第１強度でレーザー照射し、第１面粗度で加飾を行う内側加飾工程と、
前記飾り面の外側の第２領域に前記第１強度よりも強い第２強度でレーザー照射し、前記第１面粗度より高い面粗度の第２面粗度で加飾を行う外側加飾工程と、
を含む時計部品の加飾方法。
【請求項2】
前記第１強度は、エネルギー密度が、５００ｍＪ／ｃｍ2以下１５００ｍＪ／ｃｍ2以下である、
請求項１に記載の時計部品の加飾方法。
請求項１に記載の時計部品の加飾方法。
【請求項3】
前記第２強度は、前記第１強度よりもエネルギー密度が高い、
請求項２に記載の時計部品の加飾方法。
請求項２に記載の時計部品の加飾方法。
【請求項4】
前記第１領域は、前記飾り面の加工公差を考慮して、前記飾り面の外周縁を含むように設定され、
前記第２領域は、前記第１領域の外境界と重畳する部分を含む、
請求項２に記載の時計部品の加飾方法。
前記第２領域は、前記第１領域の外境界と重畳する部分を含む、
請求項２に記載の時計部品の加飾方法。
【請求項5】
前記外側加飾工程の後に、前記内側加飾工程を実施する、
請求項１に記載の時計部品の加飾方法。
請求項１に記載の時計部品の加飾方法。
【請求項6】
前記レーザー照射は、パルス幅制御により行われ、
前記パルス幅は、ナノ秒、ピコ秒、フェムト秒のいずれかを含む、
請求項１に記載の時計部品の加飾方法。
前記パルス幅は、ナノ秒、ピコ秒、フェムト秒のいずれかを含む、
請求項１に記載の時計部品の加飾方法。
【請求項7】
飾り面と、前記飾り面の周辺部にレーザー加工により加飾された第１面を有する時計部品であって、
前記飾り面の外周縁を含む第１領域は、第１面粗度の加飾を有し、
前記飾り面の外側の第２領域は、前記第１面粗度より高い第２面粗度の加飾を有する、
時計部品。
前記飾り面の外周縁を含む第１領域は、第１面粗度の加飾を有し、
前記飾り面の外側の第２領域は、前記第１面粗度より高い第２面粗度の加飾を有する、
時計部品。
【請求項8】
前記飾り面は、前記第１面に対して傾斜した斜面であり、
前記第１面における前記第１領域の前記第１面粗度は、前記飾り面の前記斜面における面粗度より高い、
請求項７に記載の時計部品。
前記第１面における前記第１領域の前記第１面粗度は、前記飾り面の前記斜面における面粗度より高い、
請求項７に記載の時計部品。
【請求項9】
前記飾り面は、前記第１面に対して傾斜した斜面であり、
前記斜面の角度は、２０°以上８０°以下である、
請求項７に記載の時計部品。
前記斜面の角度は、２０°以上８０°以下である、
請求項７に記載の時計部品。
【請求項10】
前記第２面粗度の加飾により形成される模様は、少なくとも梨地、筋目、ペルラージュのいずれかを含む、
請求項７または８に記載の時計部品。
請求項７または８に記載の時計部品。
【請求項11】
前記飾り面は、前記第１面に形成された穴の周囲に設けられており、
前記第１領域は、前記穴と同心円であり、前記飾り面を囲う円環状の領域である、
請求項７または８に記載の時計部品。
前記第１領域は、前記穴と同心円であり、前記飾り面を囲う円環状の領域である、
請求項７または８に記載の時計部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、時計部品の加飾方法、および当該加飾方法により加飾が施された時計部品に関する。
【背景技術】
【0002】
文字板、ケース、裏蓋、地板などの時計部品に対してサンドブラスト加工を用いて艶消し模様を形成することが知られている。例えば、シースルーバックの腕時計に用いられる地板は、透明な裏蓋を介して視認されるため、その外観にも装飾性が求められる。地板は、ムーブメントの土台となる基板であるため、地板には、歯車の軸受け用の孔や、ネジ止め用の孔など複数の孔が設けられている。これらの孔には、鏡面加工されたＣ面が施されて装飾性を高めていた。なお、このような孔を飾り孔という。
【0003】
ここで、地板の表面にサンドブラスト加工により艶消し模様を形成する場合、飾り孔が形成された後にサンドブラスト加工を行うと、飾り孔の鏡面も艶消しとなってしまうため、飾り孔を形成する前にサンドブラスト加工を行っていた。地板の加工はＮＣ旋盤が主体であるため、飾り孔形成前段階にサンドブラスト加工を行うのは、装置の段取り変更が必要となり製造効率が良くなかった。
【0004】
サンドブラスト加工に変えて、レーザー加工により艶消し模様を形成することが考えられる。例えば、特許文献１には、レーザー加工を用いた装飾品の製造方法が開示されている。当該文献によれば、文字板の表面のメッキ層の一部に、レーザー光線の照射によってハート等の艶消し模様を形成するとしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２００９－７８４９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、特許文献１では、例えば、文字板が飾り孔を有する際のレーザー加工方法について考慮されていなかった。詳しくは、飾り孔の光沢を残したまま、周囲にレーザー加工を施す方法については記載も示唆も見当たらない。
つまり、製造効率が良く、装飾性が高い時計部品の加飾方法が求められていた。
つまり、製造効率が良く、装飾性が高い時計部品の加飾方法が求められていた。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本願に係る一態様の時計部品の加飾方法は、飾り面を有する第１面にレーザー加工により加飾する時計部品の加飾方法であって、前記第１面において前記飾り面の外周縁を含む第１領域に第１強度でレーザー照射し、第１面粗度で加飾を行う内側加飾工程と、前記飾り面の外側の第２領域に前記第１強度よりも強い第２強度でレーザー照射し、前記第１面粗度より高い面粗度の第２面粗度で加飾を行う外側加飾工程と、を含む。
【0008】
本願に係る一態様の時計部品は、飾り面と、前記飾り面の周辺部にレーザー加工により加飾された第１面を有する時計部品であって、前記飾り面の外周縁を含む第１領域は、第１面粗度の加飾を有し、前記飾り面の外側の第２領域は、前記第１面粗度より高い第２面粗度の加飾を有する。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】実施形態１に係る時計の背面図。
【図4】貫通穴の平面図。
【図5】輪列受の加飾方法の流れを示すフローチャート図。
【図6】レーザー加工装置の概略構成図。
【図7】第１領域の範囲を示す平面図。
【図8】第１領域における走査パターンの一例を示す平面図。
【図9】飾り面周辺の拡大図。
【図10】角度を変化させた際の飾り面の加工度合いを示す表。
【図11】第２領域の範囲を示す平面図。
【図12】実施形態２に係る第１領域における走査パターンの一例を示す平面図。
【図13】第１領域における走査パターンの異なる一例を示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【0010】
実施形態１
＊＊＊時計の概要＊＊＊
図１は、本実施形態に係る時計の背面図である。
本実施形態の時計１００は、３針式のアナログ式の腕時計であり、図１は、その背面の平面図である。
時計１００は、所謂シースルーバックの腕時計であり、胴１に透明な裏蓋２が取付けられているため、内部の機構が観察可能な構成となっている。
＊＊＊時計の概要＊＊＊
図１は、本実施形態に係る時計の背面図である。
本実施形態の時計１００は、３針式のアナログ式の腕時計であり、図１は、その背面の平面図である。
時計１００は、所謂シースルーバックの腕時計であり、胴１に透明な裏蓋２が取付けられているため、内部の機構が観察可能な構成となっている。
【0011】
胴１は、ケースであり、チタンや、ステンレスなどの硬質金属から構成されている。胴１は略円形であり、胴１のリング状の壁の内周に裏蓋２が勘合されている。また、胴１の側面には、リュウズ２５が設けられている。裏蓋２は、サファイヤガラスなど、透明なガラス部材から構成されている。
胴１の内部には、指針を駆動するためのムーブメント１０が収納されている。図１では、裏蓋２を介してムーブメント１０の受け板である輪列受４が観察されている。輪列受４の１２時側には、略円形の切欠き部が設けられており、当該切欠き部からは円形の香箱１５が観察されている。
胴１の内部には、指針を駆動するためのムーブメント１０が収納されている。図１では、裏蓋２を介してムーブメント１０の受け板である輪列受４が観察されている。輪列受４の１２時側には、略円形の切欠き部が設けられており、当該切欠き部からは円形の香箱１５が観察されている。
【0012】
輪列受４の材料は、好適例では、黄銅を用いる。なお、黄銅に限定するものではなく、金属であれば良く、例えば、洋白や、貴金属を用いても良い。輪列受４の第１面としての表面４１には、梨地状の模様２１が施されている。輪列受４の表面４１には、複数の穴が形成されている。詳しくは、輪列受４の表面４１には、貫通穴５、石受穴６、ネジ穴７が複数設けられている。
貫通穴５は、ムーブメント１０内部を観察するための飾り穴であり、その周囲には飾り面５ａが形成されている。飾り面５ａは、面取り部分であり、鏡面仕上げされている。なお、飾り面５ａのことをダイヤカット面ともいう。貫通穴５からは、輪列を構成する歯車の一部などが観察されるようになっている。
貫通穴５は、ムーブメント１０内部を観察するための飾り穴であり、その周囲には飾り面５ａが形成されている。飾り面５ａは、面取り部分であり、鏡面仕上げされている。なお、飾り面５ａのことをダイヤカット面ともいう。貫通穴５からは、輪列を構成する歯車の一部などが観察されるようになっている。
【0013】
石受穴６は、輪列を構成する歯車の回転軸を支持する受石１６が挿入される穴であり、その周囲にも、飾り面６ａが形成されている。
ネジ穴７は、輪列受４を固定するためのネジ１７が挿通される穴であり、その周囲にも、飾り面７ａが形成されている。また、輪列受４の周縁部にも、同様の飾り面４ａが形成されている。
このように、輪列受４は、艶消しの梨地状の模様２１の中に、金属光沢を有する複数の飾り面４ａ，５ａ，６ａ，７ａが散りばめられた高級感のある外観仕上げとなっている。
ネジ穴７は、輪列受４を固定するためのネジ１７が挿通される穴であり、その周囲にも、飾り面７ａが形成されている。また、輪列受４の周縁部にも、同様の飾り面４ａが形成されている。
このように、輪列受４は、艶消しの梨地状の模様２１の中に、金属光沢を有する複数の飾り面４ａ，５ａ，６ａ，７ａが散りばめられた高級感のある外観仕上げとなっている。
【0014】
図２は、図１におけるｂ－ｂ断面の断面図であり、貫通穴５や、石受穴６を通る部分の断面を取っている。
図２に示すように、ムーブメント１０は、地板３と輪列受４との間に、複数の歯車１４を含む輪列などを備えて構成されている。
地板３の一方の面には、文字板１８が取り付けられており、文字板１８の中央には、秒針１１、分針１２、時針１３が取付けられている。なお、指針は、分針１２および時針１３を含んでいれば良い。
図２に示すように、ムーブメント１０は、地板３と輪列受４との間に、複数の歯車１４を含む輪列などを備えて構成されている。
地板３の一方の面には、文字板１８が取り付けられており、文字板１８の中央には、秒針１１、分針１２、時針１３が取付けられている。なお、指針は、分針１２および時針１３を含んでいれば良い。
【0015】
歯車１４には、回転軸１４ｂが設けられており、回転軸１４ｂは輪列受４に埋め込まれた受石１６に挿入され、回転可能に支持されている。詳しくは、輪列受４に形成された石受穴６に受石１６が挿入されており、当該受石１６の中央の孔に、回転軸１４ｂが挿入される。なお、受石１６のことを穴石ともいう。また、地板３側にも同様に受石１６が設けられており、複数の歯車１４は、地板３側の受石１６と、輪列受４側の受石１６とにより、回転可能に支持されている。
なお、受石１６は、飾り面６ａを傷つけないように、輪列受４の裏面４２から石受穴６に打ち込まれる。
なお、受石１６は、飾り面６ａを傷つけないように、輪列受４の裏面４２から石受穴６に打ち込まれる。
【0016】
図３は、図２におけるｃ部の拡大図であり、貫通穴５の断面を示している。図４は、貫通穴の平面図である。
図３に示すように、飾り面５ａは、貫通穴５の表面４１側に設けられている。輪列受４の表面４１と飾り面５ａとが成す角度θは、例えば、４０°である。なお、角度θのことを、飾り面角度θともいう。また、飾り面５ａの周縁部を外周縁５ｂという。また、図４に示すように、貫通穴５の直径は直径φ１であり、飾り面５ａの外周縁５ｂの直径は、直径φ１よりも大きい直径φ３となる。
図３に示すように、飾り面５ａは、貫通穴５の表面４１側に設けられている。輪列受４の表面４１と飾り面５ａとが成す角度θは、例えば、４０°である。なお、角度θのことを、飾り面角度θともいう。また、飾り面５ａの周縁部を外周縁５ｂという。また、図４に示すように、貫通穴５の直径は直径φ１であり、飾り面５ａの外周縁５ｂの直径は、直径φ１よりも大きい直径φ３となる。
【0017】
前述したように、輪列受４の表面４１には梨地状の模様２１が施されており、飾り面５ａは鏡面仕上げとなっている。両者にこのような模様を施す場合、一般的には、貫通穴５を設けた輪列受４に対してサンドブラスト加工により梨地状の模様２１を形成した後、飾り面５ａを形成する。これは、飾り面５ａを形成した後にサンドブラスト加工を行うと、飾り面５ａも梨地状に加工されてしまうからである。この方法でも、上記模様を施すことが可能であるが、専用装置でサンドブラスト加工を行った後で、再度、輪列受４を旋盤などの加工装置にセットする必要があり、段取り替えが多く作業効率が悪かった。
これに対して、以下に述べる本実施形態の加飾方法によれば、最小限の段取り替えで、効率良く加飾を行うことができる。
これに対して、以下に述べる本実施形態の加飾方法によれば、最小限の段取り替えで、効率良く加飾を行うことができる。
【0018】
＊＊＊輪列受の加飾方法＊＊＊
図５は、輪列受の加飾方法の流れを示すフローチャート図である。図６は、レーザー加工装置の概略構成図である。図７は、第１領域の範囲を示す平面図である。図８は、第１領域における走査パターンの一例を示す平面図である。
ここでは、輪列受４の加飾方法について、図５を主体に、適宜、他の図面を交えて説明する。
図５は、輪列受の加飾方法の流れを示すフローチャート図である。図６は、レーザー加工装置の概略構成図である。図７は、第１領域の範囲を示す平面図である。図８は、第１領域における走査パターンの一例を示す平面図である。
ここでは、輪列受４の加飾方法について、図５を主体に、適宜、他の図面を交えて説明する。
【0019】
ステップＳ１１では、飾り面までの加工が施された輪列受４を準備する。好適例では、加工装置としてマシニングセンターを用いる。複数個の輪列受４が面付けされた面付け基板をマシニングセンターにセットし、貫通穴５、石受穴６、ネジ穴７を穿孔し、外形を切り出した後、飾り面４ａ，５ａ，６ａ，７ａまで形成する。飾り面４ａ，５ａ，６ａ，７ａは、研磨まで行い鏡面仕上げとする。
【0020】
ステップＳ１２では、複数個の輪列受４が面付けされた面付け基板を、レーザー加工装置にセットする。まず、図６に示すレーザー加工装置９０の構成について説明する。
レーザー加工装置９０は、レーザー発振器８１、伝送光学系８２、照射ユニット８３、加工テーブル８５、制御装置８７などから構成される。
レーザー発振器８１は、赤外線レーザー発振器を採用している。好適例では、ナノ秒レーザーに対応した固体レーザー発振器を用いる。なお、これに限定するものではなく、赤外線レーザー発振器であれば良く、気体レーザー、半導体レーザー、液体レーザーなどの発振器を用いても良い。
伝送光学系８２は、レーザー発振器８１で生成されたレーザー光を照射ユニット８３に伝送する光路であり、複数枚の反射ミラーを含んで構成されている。
レーザー加工装置９０は、レーザー発振器８１、伝送光学系８２、照射ユニット８３、加工テーブル８５、制御装置８７などから構成される。
レーザー発振器８１は、赤外線レーザー発振器を採用している。好適例では、ナノ秒レーザーに対応した固体レーザー発振器を用いる。なお、これに限定するものではなく、赤外線レーザー発振器であれば良く、気体レーザー、半導体レーザー、液体レーザーなどの発振器を用いても良い。
伝送光学系８２は、レーザー発振器８１で生成されたレーザー光を照射ユニット８３に伝送する光路であり、複数枚の反射ミラーを含んで構成されている。
【0021】
照射ユニット８３は、レーザー光を集光して加工対象物に照射する照射ノズルであり、集光レンズを含んで構成されている。
加工テーブル８５は、ＸＹテーブルであり、制御装置８７からの指示に従い、載置された加工対象物をレーザー照射の走査経路パターンに応じて平面移動させる。図６に示すように、加工テーブル８５には、３個の輪列受４が面付けされた面付け基板７１がセットされている。なお、面付け数は、３個に限定するものではなく、複数個であれば良い。加工テーブル８５には、面付け基板７１の一対の基準穴４３に対応する一対の位置決めピン（図示せず）が設けられており、面付け基板７１は、当該一対の位置決めピンにより位置出しされた状態で固定される。
加工テーブル８５は、ＸＹテーブルであり、制御装置８７からの指示に従い、載置された加工対象物をレーザー照射の走査経路パターンに応じて平面移動させる。図６に示すように、加工テーブル８５には、３個の輪列受４が面付けされた面付け基板７１がセットされている。なお、面付け数は、３個に限定するものではなく、複数個であれば良い。加工テーブル８５には、面付け基板７１の一対の基準穴４３に対応する一対の位置決めピン（図示せず）が設けられており、面付け基板７１は、当該一対の位置決めピンにより位置出しされた状態で固定される。
【0022】
制御装置８７は、レーザー加工装置９０のコントローラーであり、１つ又は複数のプロセッサーを含んで構成され、各部の動作を統括制御する。制御装置８７は、不揮発性メモリーを含む記憶部８８を備えている。記憶部８８には、レーザー加工装置９０の動作を制御する制御プログラムや、各種データなどが記憶されている。各種データには、加工部位ごとの照射条件や、走査パターンなどのデータが記憶されている。なお、照射条件としては、エネルギー密度、出力周波数、走査速度、レーザー出力、走査パスピッチなどのパラメーターがある。
【0023】
ステップＳ１３では、飾り面５ａの外周縁５ｂを含む第１領域３１にレーザー照射する。なお、第１領域３１にレーザー照射を行うことを、内側加飾工程ともいう。
図７に示すように、第１領域３１は、貫通穴５を囲う内境界３１ａと、飾り面５ａの外周縁５ｂを囲う外境界３１ｂとで囲まれた円環状の領域である。好適例では、内境界３１ａと外周縁５ｂとの間の寸法と、外周縁５ｂと外境界３１ｂとの間の寸法を同じとしているが、これに限定するものではない。内境界３１ａは、飾り面５ａの面内に設定されていれば良く、外境界３１ｂは飾り面５ａの外周縁５ｂよりも大きければ良い。特に、外境界３１ｂは、飾り面５ａの加工公差を考慮して、飾り面５ａの外周縁５ｂを含むように設定することが好ましい。好適例において、外境界３１ｂは、飾り面５ａの最大公差よりも大きく設定する。なお、当該最大公差には、レーザー照射の照射精度も含む。換言すれば、第１領域３１は、飾り面５ａの加工公差を考慮して、飾り面５ａの外周縁５ｂを含むように設定される。
図７に示すように、第１領域３１は、貫通穴５を囲う内境界３１ａと、飾り面５ａの外周縁５ｂを囲う外境界３１ｂとで囲まれた円環状の領域である。好適例では、内境界３１ａと外周縁５ｂとの間の寸法と、外周縁５ｂと外境界３１ｂとの間の寸法を同じとしているが、これに限定するものではない。内境界３１ａは、飾り面５ａの面内に設定されていれば良く、外境界３１ｂは飾り面５ａの外周縁５ｂよりも大きければ良い。特に、外境界３１ｂは、飾り面５ａの加工公差を考慮して、飾り面５ａの外周縁５ｂを含むように設定することが好ましい。好適例において、外境界３１ｂは、飾り面５ａの最大公差よりも大きく設定する。なお、当該最大公差には、レーザー照射の照射精度も含む。換言すれば、第１領域３１は、飾り面５ａの加工公差を考慮して、飾り面５ａの外周縁５ｂを含むように設定される。
【0024】
好適例において、第１領域３１へのレーザー照射は、図８に示す、走査パターン５１で行われる。走査パターン５１は、円環状の走査ライン５２を飾り面５ａの外周縁５ｂに沿って順次旋回させることにより、第１領域３１内をレーザー照射する。走査ライン５２の直径φ２は、貫通穴５の直径φ１よりも大きく飾り面５ａの外周縁５ｂの直径φ３よりも小さく設定されている。
円環状の走査ライン５２の中心は、貫通穴５の中心から半径ｒ１の仮想円１９の円周に沿っており、仮想円１９の１２時側の０°を中心とした走査ライン５２ａから照射を開始する。走査ライン５２ａによる走査が終了すると、次に、仮想円１９の４５°を中心とした走査ライン５２ｂにより照射を行う。次に、仮想円１９の９０°を中心とした走査ライン５２ｃにより照射を行う。図示は省略しているが、次は、仮想円１９の１３５°を中心とした走査ライン、１８０°を中心とした走査ラインというように、順次、４５°刻みに３６０°までの走査を行う。これで、１回の走査パターン５１となる。
円環状の走査ライン５２の中心は、貫通穴５の中心から半径ｒ１の仮想円１９の円周に沿っており、仮想円１９の１２時側の０°を中心とした走査ライン５２ａから照射を開始する。走査ライン５２ａによる走査が終了すると、次に、仮想円１９の４５°を中心とした走査ライン５２ｂにより照射を行う。次に、仮想円１９の９０°を中心とした走査ライン５２ｃにより照射を行う。図示は省略しているが、次は、仮想円１９の１３５°を中心とした走査ライン、１８０°を中心とした走査ラインというように、順次、４５°刻みに３６０°までの走査を行う。これで、１回の走査パターン５１となる。
【0025】
ここでは、説明を容易にするために、走査ライン５２の角度を４５°刻みとした事例で説明したが、これに限定するものではなく、走査ライン５２の角度は３°以上１５°以下のステップで適宜設定すれば良い。
【0026】
図９は、飾り面周辺の拡大図であり、図３における右側の飾り面５ａ周辺の拡大図である。図１０は、角度を変化させた際の飾り面の加工度合いを示す表である。
図９に示すように、第１領域３１にレーザー照射する際、外境界３１ｂ側の照射光は、その殆どが輪列受４の表面４１に吸収され、表面４１を加工する。他方、内境界３１ａ側の照射光は、その多くが鏡面仕上げされた飾り面５ａで反射される。この反射度合いは、飾り面５ａの角度θ、および、レーザー照射のエネルギー密度によって変化する。
図１０の表９５は、飾り面５ａの角度θと、レーザー照射のエネルギー密度（ｍＪ／ｃｍ2）とを変化させた際における飾り面５ａの加工度合いを調査した表である。表９５において「Ｇｏｏｄ」は、レーザー照射しても飾り面５ａが加工されず、鏡面を維持していることを表し、「Ｂａｄ」は、レーザー照射により飾り面５ａが加工されて粗面化したことを表している。
図９に示すように、第１領域３１にレーザー照射する際、外境界３１ｂ側の照射光は、その殆どが輪列受４の表面４１に吸収され、表面４１を加工する。他方、内境界３１ａ側の照射光は、その多くが鏡面仕上げされた飾り面５ａで反射される。この反射度合いは、飾り面５ａの角度θ、および、レーザー照射のエネルギー密度によって変化する。
図１０の表９５は、飾り面５ａの角度θと、レーザー照射のエネルギー密度（ｍＪ／ｃｍ2）とを変化させた際における飾り面５ａの加工度合いを調査した表である。表９５において「Ｇｏｏｄ」は、レーザー照射しても飾り面５ａが加工されず、鏡面を維持していることを表し、「Ｂａｄ」は、レーザー照射により飾り面５ａが加工されて粗面化したことを表している。
【0027】
表９５に示すように、エネルギー密度が５７０～８５０ｍＪ／ｃｍ2までの範囲においては、飾り面５ａの角度θを１５°～８０°の間で変化させても、飾り面５ａは加工されないことが解る。
他方、エネルギー密度が１０２０ｍＪ／ｃｍ2では、飾り面５ａの角度θが１５°において、飾り面５ａが加工されることが解る。同様に、エネルギー密度が１１３０ｍＪ／ｃｍ2では、飾り面５ａの角度θが２０°以下になると飾り面５ａが加工され、エネルギー密度が１４１０ｍＪ／ｃｍ2では、飾り面５ａの角度θが３０°以下になると飾り面５ａが加工される。
これらのことから、飾り面５ａの角度θと、レーザー照射のエネルギー密度との間には相関性があり、飾り面５ａの角度θを大きくすると、エネルギー密度が高くても、飾り面５ａの加工を防止し得ることが解る。
他方、エネルギー密度が１０２０ｍＪ／ｃｍ2では、飾り面５ａの角度θが１５°において、飾り面５ａが加工されることが解る。同様に、エネルギー密度が１１３０ｍＪ／ｃｍ2では、飾り面５ａの角度θが２０°以下になると飾り面５ａが加工され、エネルギー密度が１４１０ｍＪ／ｃｍ2では、飾り面５ａの角度θが３０°以下になると飾り面５ａが加工される。
これらのことから、飾り面５ａの角度θと、レーザー照射のエネルギー密度との間には相関性があり、飾り面５ａの角度θを大きくすると、エネルギー密度が高くても、飾り面５ａの加工を防止し得ることが解る。
【0028】
前述したように、飾り面５ａは、輪列受４の装飾用の模様の一部であり、その意匠性を確保するためには、飾り面５ａの角度θは、２０°以上８０°以下であることが好ましく、２０°以上６０°以下であることが、より好ましい。
そして、この飾り面５ａの角度θに対するレーザー照射の第１強度としてのエネルギー密度は、上記の相関性を考慮して、５００ｍＪ／ｃｍ2以下１５００ｍＪ／ｃｍ2以下であることが好ましい。換言すれば、第１領域３１へのレーザー照射における第１強度は、エネルギー密度が、５００ｍＪ／ｃｍ2以下１５００ｍＪ／ｃｍ2以下である。また、エネルギー密度以外の照射条件は、例えば、周波数６００ｋＨｚ、走査速度３０００ｍｍ/ｓｅｃ、パルス幅４ｎｓ、スポット径３０μｍである。なお、この条件に限定するものではない。換言すれば、内側加飾工程では、輪列受４の表面４１において飾り面５ａの外周縁５ｂを含む第１領域３１に第１強度でレーザー照射し、第１面粗度で加飾を行う。また、レーザー照射のパルス幅は、ナノ秒に限定するものではなく、ピコ秒、フェムト秒のいずれかであっても良い。
そして、この飾り面５ａの角度θに対するレーザー照射の第１強度としてのエネルギー密度は、上記の相関性を考慮して、５００ｍＪ／ｃｍ2以下１５００ｍＪ／ｃｍ2以下であることが好ましい。換言すれば、第１領域３１へのレーザー照射における第１強度は、エネルギー密度が、５００ｍＪ／ｃｍ2以下１５００ｍＪ／ｃｍ2以下である。また、エネルギー密度以外の照射条件は、例えば、周波数６００ｋＨｚ、走査速度３０００ｍｍ/ｓｅｃ、パルス幅４ｎｓ、スポット径３０μｍである。なお、この条件に限定するものではない。換言すれば、内側加飾工程では、輪列受４の表面４１において飾り面５ａの外周縁５ｂを含む第１領域３１に第１強度でレーザー照射し、第１面粗度で加飾を行う。また、レーザー照射のパルス幅は、ナノ秒に限定するものではなく、ピコ秒、フェムト秒のいずれかであっても良い。
【0029】
図１１は、第２領域の範囲を示す平面図であり、図７に対応している。
図５のステップＳ１４では、第２領域６１にレーザー照射する。なお、第２領域６１へのレーザー照射のことを、外側加飾工程ともいう。
図１１に示すように、第２領域６１は、飾り面５ａの外側の領域であり、飾り面５ａの外周縁５ｂを含んでいない。図１１では、第２領域６１の内境界６１ａのみを図示している。内境界６１ａは、貫通穴５の同心円であり、その外周は、飾り面５ａの外周縁５ｂよりも大きく、第１領域３１の外境界３１ｂよりも小さい。第２領域６１は、輪列受４の表面４１における内境界６１ａの外側の領域である。
第２領域６１は、第１領域３１と重なる重畳部分６５を有している。重畳部分６５は、第２領域６１の内境界６１ａが、第１領域３１の外境界３１ｂの内側に入り込んだ部分である。換言すれば、第２領域６１は、第１領域３１の外境界３１ｂと重畳する重畳部分６５を含む。
図５のステップＳ１４では、第２領域６１にレーザー照射する。なお、第２領域６１へのレーザー照射のことを、外側加飾工程ともいう。
図１１に示すように、第２領域６１は、飾り面５ａの外側の領域であり、飾り面５ａの外周縁５ｂを含んでいない。図１１では、第２領域６１の内境界６１ａのみを図示している。内境界６１ａは、貫通穴５の同心円であり、その外周は、飾り面５ａの外周縁５ｂよりも大きく、第１領域３１の外境界３１ｂよりも小さい。第２領域６１は、輪列受４の表面４１における内境界６１ａの外側の領域である。
第２領域６１は、第１領域３１と重なる重畳部分６５を有している。重畳部分６５は、第２領域６１の内境界６１ａが、第１領域３１の外境界３１ｂの内側に入り込んだ部分である。換言すれば、第２領域６１は、第１領域３１の外境界３１ｂと重畳する重畳部分６５を含む。
【0030】
そして、第２領域６１へのレーザー照射は、第１強度よりも強い第２強度で行われる。換言すれば、第２強度は、第１強度よりもエネルギー密度が高い。走査パターンは、例えば、内境界６１ａから外側に渦巻き状に照射する走査パターンとする。これにより、第２領域６１における輪列受４の表面４１には、第１面粗度より高い面粗度の第２面粗度で加飾が施される。なお、この走査パターンに限定するものではなく、第２領域６１内を満遍なく照射可能な走査パターンであれば良い。
換言すれば、外側加飾工程では、飾り面５ａの外側の第２領域６１に第１強度よりも強い第２強度でレーザー照射し、第１面粗度より高い面粗度の第２面粗度で加飾を行う。
換言すれば、外側加飾工程では、飾り面５ａの外側の第２領域６１に第１強度よりも強い第２強度でレーザー照射し、第１面粗度より高い面粗度の第２面粗度で加飾を行う。
【0031】
一般的には、レーザー加工を用いて飾り面５ａの外側に梨地状の模様２１を加飾する場合、加工公差を含む飾り面５ａの範囲を避けてレーザー照射を行うが、この方法だと、飾り面５ａの周囲に環状の未加工部分が残ってしまう。この未加工部分は、切削面であるため、ギラつき感があり意匠性を損ねてしまう。
これに対して、本実施形態の加飾方法によれば、第２領域６１と第１領域３１との間に重畳部分６５を設けたことにより、切削跡のある未加工部分がなくなるため、切削跡が残ることによるギラつきを防止することができる。
これに対して、本実施形態の加飾方法によれば、第２領域６１と第１領域３１との間に重畳部分６５を設けたことにより、切削跡のある未加工部分がなくなるため、切削跡が残ることによるギラつきを防止することができる。
【0032】
なお、上記では、加飾部位の一例として、貫通穴５の飾り面５ａを用いて説明したが、石受穴６の飾り面６ａ、ネジ穴７の飾り面７ａの周縁部についても、同様に加飾が施される。また、輪列受４の外形における飾り面４ａの周縁部についても、同様に加飾が施される。詳しくは、飾り面４ａの一部、および、飾り面４ａの外周縁を含む領域を第１領域とし、飾り面４ａの外周縁の外側で、第１領域と重なる重畳部分を有する領域を第２領域として、上記の内側加飾工程、外側加飾工程を行えば良い。
【0033】
＊＊＊面粗度の指標＊＊＊
図４に戻る。
ここでは、面粗度の指標について説明する。本実施形態では、面粗度の指標としてＳａ値、Ｓｄｑ値、Ｓｄｒ値を用いる。
Ｓａ値は、表面凹凸の平均面からの高低差の平均値である。Ｓｄｑ値は、表面の局所的な勾配の平均値である。Ｓｄｒ値は、表面積の増加率を表す数値である。
まず、飾り面５ａの鏡面の面粗度をこれらの指標で表すと、「Ｓａ：０．０２７μｍ」、「Ｓｄｑ：０．５２１」、「Ｓｄｒ：０．１２８」となる。
同様に、模様２１が施された輪列受４の表面４１の第２面粗度は、「Ｓａ：０．２３２μｍ」、「Ｓｄｑ：２．０７９」、「Ｓｄｒ：１．４８３」となる。
図４に戻る。
ここでは、面粗度の指標について説明する。本実施形態では、面粗度の指標としてＳａ値、Ｓｄｑ値、Ｓｄｒ値を用いる。
Ｓａ値は、表面凹凸の平均面からの高低差の平均値である。Ｓｄｑ値は、表面の局所的な勾配の平均値である。Ｓｄｒ値は、表面積の増加率を表す数値である。
まず、飾り面５ａの鏡面の面粗度をこれらの指標で表すと、「Ｓａ：０．０２７μｍ」、「Ｓｄｑ：０．５２１」、「Ｓｄｒ：０．１２８」となる。
同様に、模様２１が施された輪列受４の表面４１の第２面粗度は、「Ｓａ：０．２３２μｍ」、「Ｓｄｑ：２．０７９」、「Ｓｄｒ：１．４８３」となる。
【0034】
レーザー加工を行う前の切削跡が残っている状態の輪列受４の表面４１の面粗度は、「Ｓａ：０．０９７μｍ」、「Ｓｄｑ：１．１０９」、「Ｓｄｒ：０．５０２」となる。
そして、第１面粗度は、切削跡がある表面４１の面粗度よりも大きく、第２面粗度よりも小さい値となる。なお、これらは一例であり、この数値に限定するものではない。例えば、第１面粗度は、切削跡によるギラつきを抑制可能な面粗度であれば良い。
そして、第１面粗度は、切削跡がある表面４１の面粗度よりも大きく、第２面粗度よりも小さい値となる。なお、これらは一例であり、この数値に限定するものではない。例えば、第１面粗度は、切削跡によるギラつきを抑制可能な面粗度であれば良い。
【0035】
以上、述べた通り、本実施形態の時計部品の加飾方法、時計部品としての輪列受４によれば、以下の効果を得ることができる。
時計部品としての輪列受４の加飾方法は、飾り面５ａを有する輪列受４の第１面としての表面４１にレーザー加工により加飾する時計部品の加飾方法であって、表面４１において飾り面５ａの外周縁５ｂを含む第１領域３１に第１強度でレーザー照射し、第１面粗度で加飾を行う内側加飾工程と、飾り面５ａの外側の第２領域６１に第１強度よりも強い第２強度でレーザー照射し、第１面粗度より高い面粗度の第２面粗度で加飾を行う外側加飾工程と、を含む。
時計部品としての輪列受４の加飾方法は、飾り面５ａを有する輪列受４の第１面としての表面４１にレーザー加工により加飾する時計部品の加飾方法であって、表面４１において飾り面５ａの外周縁５ｂを含む第１領域３１に第１強度でレーザー照射し、第１面粗度で加飾を行う内側加飾工程と、飾り面５ａの外側の第２領域６１に第１強度よりも強い第２強度でレーザー照射し、第１面粗度より高い面粗度の第２面粗度で加飾を行う外側加飾工程と、を含む。
【0036】
これによれば、飾り面５ａの鏡面加工までをマシニングセンターで行った後、レーザー加工装置だけで、輪列受４の表面４１に梨地状の模様２１を施し、輪列受４を完成させることができる。よって、マシニングセンターでの加工の後、サンドブラスト加工装置で加飾し、再度、マシニングセンターへの段取り変更が必要であった従来方法とは異なり、レーザー加工装置への１回の段取り変更で良いため、段取り工数を少なくできる。
さらに、第２領域６１と第１領域３１との間に重畳部分６５を設けることにより、重畳部分６５が緩衝領域として機能し、輪列受４の表面４１の切削跡が残ることによるギラつきを防止することができる。
従って、製造効率が良く、装飾性が高い時計部品の加飾方法を提供することができる。
さらに、第２領域６１と第１領域３１との間に重畳部分６５を設けることにより、重畳部分６５が緩衝領域として機能し、輪列受４の表面４１の切削跡が残ることによるギラつきを防止することができる。
従って、製造効率が良く、装飾性が高い時計部品の加飾方法を提供することができる。
【0037】
また、第１領域３１へのレーザー照射における第１強度は、エネルギー密度が、５００ｍＪ／ｃｍ2以下１５００ｍＪ／ｃｍ2以下である。
これによれば、飾り面５ａの鏡面仕上げを損なうことなく、第１領域３１に第１面粗度の加飾を施すことができる。
これによれば、飾り面５ａの鏡面仕上げを損なうことなく、第１領域３１に第１面粗度の加飾を施すことができる。
【0038】
また、第２領域６１へのレーザー照射における第２強度は、第１強度よりもエネルギー密度が高い。
これによれば、第２領域６１に第２面粗度の加飾を効率良く施すことができる。
これによれば、第２領域６１に第２面粗度の加飾を効率良く施すことができる。
【0039】
また、第１領域３１は、飾り面５ａの加工公差を考慮して、飾り面５ａの外周縁５ｂを含むように設定され、第２領域６１は、第１領域３１の外境界３１ｂと重畳する重畳部分６５を含む。
これによれば、第１領域３１と第２領域６１との間での加工漏れによる輪列受４の表面４１の切削跡が残ることによるギラつきを防止することができる。
これによれば、第１領域３１と第２領域６１との間での加工漏れによる輪列受４の表面４１の切削跡が残ることによるギラつきを防止することができる。
【0040】
また、第１領域３１へのレーザー照射は、パルス幅制御により行われ、パルス幅は、ナノ秒、ピコ秒、フェムト秒のいずれかを含む。
これによれば、飾り面５ａの鏡面仕上げを損なうことなく、第１領域３１に第１面粗度の加飾を施すことができる。
これによれば、飾り面５ａの鏡面仕上げを損なうことなく、第１領域３１に第１面粗度の加飾を施すことができる。
【0041】
また、時計部品としての輪列受４は、飾り面５ａと、飾り面５ａの周辺部にレーザー加工により加飾された第１面としての表面４１を有する時計部品であって、飾り面５ａの外周縁５ｂを含む第１領域は、第１面粗度の加飾を有し、飾り面５ａの外側の第２領域６１は、第１面粗度より高い第２面粗度の加飾を有する。
これによれば、輪列受４は、艶消しの梨地状の模様２１の中に、金属光沢を有する複数の飾り面５ａが散りばめられた高級感のある外観仕上げとなっている。
従って、装飾性が高い時計部品としての輪列受４を提供することができる。
これによれば、輪列受４は、艶消しの梨地状の模様２１の中に、金属光沢を有する複数の飾り面５ａが散りばめられた高級感のある外観仕上げとなっている。
従って、装飾性が高い時計部品としての輪列受４を提供することができる。
【0042】
また、飾り面５ａは、第１面としての輪列受４の表面４１に対して傾斜した斜面であり、表面４１における第１領域３１の第１面粗度は、飾り面５ａの斜面における面粗度より高い。
これによれば、飾り面５ａの周囲に第１面粗度の緩衝領域を設けることができる。
これによれば、飾り面５ａの周囲に第１面粗度の緩衝領域を設けることができる。
【0043】
また、飾り面５ａは、輪列受４の表面４１に対して傾斜した斜面であり、斜面の角度θは、２０°以上８０°以下である。
これによれば、輪列受４の装飾用の模様の一部である飾り面５ａの意匠性を確保することができる。
これによれば、輪列受４の装飾用の模様の一部である飾り面５ａの意匠性を確保することができる。
【0044】
また、飾り面５ａは、輪列受４の表面４１に形成された貫通穴５の周囲に設けられており、第１領域３１は、貫通穴５と同心円であり、飾り面５ａを囲う円環状の領域である。
これによれば、周囲に飾り面５ａを有する貫通穴５を備えた輪列受４を提供することができる。
これによれば、周囲に飾り面５ａを有する貫通穴５を備えた輪列受４を提供することができる。
【0045】
実施形態２
＊＊＊異なる走査パターン＊＊＊
図１２、図１３は、実施形態２に係る第１領域における走査パターンの一例を示す平面図であり、図８に対応している。
上記実施形態では、第１領域へのレーザー照射は、円環状の走査ライン５２を飾り面５ａの外周縁５ｂに沿って順次旋回させる走査パターン５１を用いるとして説明したが、これに限定するものではなく、直線の走査ラインで照射することであっても良い。以下、上記実施形態と同じ部位には、同じ付番を付し、重複する説明は省略する。
＊＊＊異なる走査パターン＊＊＊
図１２、図１３は、実施形態２に係る第１領域における走査パターンの一例を示す平面図であり、図８に対応している。
上記実施形態では、第１領域へのレーザー照射は、円環状の走査ライン５２を飾り面５ａの外周縁５ｂに沿って順次旋回させる走査パターン５１を用いるとして説明したが、これに限定するものではなく、直線の走査ラインで照射することであっても良い。以下、上記実施形態と同じ部位には、同じ付番を付し、重複する説明は省略する。
【0046】
本実施形態では、図１２に示すように、第１領域３５について内境界３１ａのみを図示している。なお、内境界３１ａは、第１領域３１の内境界３１ａと同じである。つまり、第１領域３５は、輪列受４の表面４１における内境界３１ａの外側の領域である。
そして、第１領域３５へのレーザー照射は、図１２に示すように、走査パターン５５で行われる。走査パターン５５は、直線の走査ライン５３の１２時側（上方）から６時側（下方）への走査と、６時側から１２時側への走査とを交互に繰り返しながら、右に移動することにより第１領域３５内をレーザー照射する。
そして、第１領域３５へのレーザー照射は、図１２に示すように、走査パターン５５で行われる。走査パターン５５は、直線の走査ライン５３の１２時側（上方）から６時側（下方）への走査と、６時側から１２時側への走査とを交互に繰り返しながら、右に移動することにより第１領域３５内をレーザー照射する。
【0047】
まず、走査ライン５３ａでは、飾り面５ａの左側で上方から下方にレーザー照射が行われ、走査ライン５３ｂでは、走査ライン５３ａの右隣りで下方から上方にレーザー照射が行われる。続いて、走査ライン５３ｃでは、走査ライン５３ｂの右隣りで上方から下方にレーザー照射が行われ、走査ライン５３ｄでは、走査ライン５３ｃの右隣りで下方から上方にレーザー照射が行われる。なお、走査ライン５３ｄでは、内境界３１ａ内ではレーザー照射を止める。同様に、走査ライン５３ｅ～５３ｇにおいても、内境界３１ａ内ではレーザー照射行わずに、第１領域３５内を上下にレーザー照射する。
このように、走査パターン５５では、内境界３１ａ内を除き、貫通穴５の周囲を直線の走査ライン５３で上下に交互に走査することにより、第１領域３５をレーザー照射する。
このように、走査パターン５５では、内境界３１ａ内を除き、貫通穴５の周囲を直線の走査ライン５３で上下に交互に走査することにより、第１領域３５をレーザー照射する。
【0048】
この走査パターン５５であっても、走査パターン５１と略同様に、飾り面５ａの鏡面仕上げを損なうことなく、第１領域３５に第１面粗度の加飾を施すことができる。
【0049】
また、第１領域３５へのレーザー照射は、図１３に示す、走査パターン５６で行っても良い。走査パターン５６は、直線の走査ライン５４を上下に右に移動しながら交互に走査することは走査パターン５５と同じであるが、内境界３１ａ内でもレーザー照射を行う点が走査パターン５５と異なる。
前述したように、飾り面５ａに照射された照射光は、その多くが鏡面仕上げされた飾り面５ａで反射されるため、この走査パターン５６であっても、走査パターン５１と略同様に、飾り面５ａの鏡面仕上げを損なうことなく、第１領域３５に第１面粗度の加飾を施すことができる。
前述したように、飾り面５ａに照射された照射光は、その多くが鏡面仕上げされた飾り面５ａで反射されるため、この走査パターン５６であっても、走査パターン５１と略同様に、飾り面５ａの鏡面仕上げを損なうことなく、第１領域３５に第１面粗度の加飾を施すことができる。
【0050】
＊＊＊変形例＊＊＊
図５に戻る。
上記の加飾方法において、第１領域をレーザー加工する内側加飾工程の前に、輪列受４の表面４１に付着している切削紛や、粉塵などのデブリを除去するクリーニング工程を行っても良い。クリーニング工程では、第１強度よりも弱いエネルギー密度で、飾り面を含む輪列受４の表面４１をレーザー照射する。なお、飾り面に照射された照射光は、その多くが反射されるため、飾り面の鏡面仕上げは維持される。
一般的に、デブリが付着している場合、水洗浄などの別工程（別装置）でクリーニングを行うが、この方法によれば、クリーニング工程もレーザー加工装置９０で行うことができるため、装置の段取り替えが不要となり、製造効率が良い。
図５に戻る。
上記の加飾方法において、第１領域をレーザー加工する内側加飾工程の前に、輪列受４の表面４１に付着している切削紛や、粉塵などのデブリを除去するクリーニング工程を行っても良い。クリーニング工程では、第１強度よりも弱いエネルギー密度で、飾り面を含む輪列受４の表面４１をレーザー照射する。なお、飾り面に照射された照射光は、その多くが反射されるため、飾り面の鏡面仕上げは維持される。
一般的に、デブリが付着している場合、水洗浄などの別工程（別装置）でクリーニングを行うが、この方法によれば、クリーニング工程もレーザー加工装置９０で行うことができるため、装置の段取り替えが不要となり、製造効率が良い。
【0051】
また、上記実施形態では、第１領域をレーザー加工する内側加飾工程の後に、第２領域をレーザー加工する外側加飾工程を行うものとして説明したが、これに限定するものではなく、工程順を入れ替えても良い。具体的には、外側加飾工程の後に、内側加飾工程を実施しても良い。この順番であっても、第２領域６１と第１領域３１との間に重畳部分６５が設けられているため、輪列受４の表面４１の切削跡が残ることによるギラつきを防止することができる。
【0052】
図４に戻る。
上記実施形態では、輪列受４の表面４１に加飾される模様２１は、梨地状として説明したが、これに限定するものではなく、デザインに応じて設定すれば良く、模様２１は、例えば、筋目や、ペルラージュ模様であっても良い。換言すれば、第２面粗度の加飾により形成される模様２１は、少なくとも梨地、筋目、ペルラージュのいずれかを含む。
また、上記実施形態では、時計部品として輪列受４を用いて説明したが、これに限定するものではなく、模様が形成可能な時計用部品であれば良く、例えば、文字板、回転錘、胴、裏蓋、ベゼルや、バンドであっても良い。
上記実施形態では、輪列受４の表面４１に加飾される模様２１は、梨地状として説明したが、これに限定するものではなく、デザインに応じて設定すれば良く、模様２１は、例えば、筋目や、ペルラージュ模様であっても良い。換言すれば、第２面粗度の加飾により形成される模様２１は、少なくとも梨地、筋目、ペルラージュのいずれかを含む。
また、上記実施形態では、時計部品として輪列受４を用いて説明したが、これに限定するものではなく、模様が形成可能な時計用部品であれば良く、例えば、文字板、回転錘、胴、裏蓋、ベゼルや、バンドであっても良い。
【符号の説明】
【0053】
１…胴、φ１…直径、φ２…直径、φ３…直径、ｒ１…半径、２…裏蓋、３…地板、４…輪列受、４ａ…飾り面、５…貫通穴、５ａ…飾り面、５ｂ…外周縁、６…石受穴、６ａ…飾り面、７…ネジ穴、７ａ…飾り面、１０…ムーブメント、１１…秒針、１２…分針、１３…時針、１４…歯車、１４ｂ…回転軸、１５…香箱、１６…受石、１７…ネジ、１８…文字板、１９…仮想円、２１…模様、２５…リュウズ、３１…第１領域、３１ａ…内境界、３１ｂ…外境界、３５…第１領域、４１…表面、４２…裏面、４３…基準穴、５１…走査パターン、５２…走査ライン、５２ａ～５２ｃ…走査ライン、５３…走査ライン、５３ａ～５３ｅ…走査ライン、５５…走査パターン、５６…走査パターン、５４…走査ライン、６１…第２領域、６１ａ…内境界、６５…重畳部分、７１…面付け基板、８１…レーザー発振器、８２…伝送光学系、８３…照射ユニット、８５…加工テーブル、８７…制御装置、８８…記憶部、９０…レーザー加工装置、９５…表、１００…時計。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】