特開 2024-116774 搬送装置、レーザ照射装置、搬送方法、及び有機ＥＬディスプレイ装置の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024116774

(43)【公開日】2024-08-28

(54)【発明の名称】搬送装置、レーザ照射装置、搬送方法、及び有機ＥＬディスプレイ装置の製造方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20240821BHJP

   B65G 49/06 20060101ALI20240821BHJP

【ＦＩ】

H01L21/68 A

B65G49/06 Z

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023022575

(22)【出願日】2023-02-16

(71)【出願人】

【識別番号】521476506

【氏名又は名称】ＪＳＷアクティナシステム株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100103894

【弁理士】

【氏名又は名称】家入 健

(72)【発明者】

【氏名】藤岡 恭平

(72)【発明者】

【氏名】小田嶋 保

【テーマコード（参考）】

5F131

【Ｆターム（参考）】

5F131AA03

5F131AA33

5F131BA60

5F131CA03

5F131CA06

5F131CA12

5F131DA02

5F131DA22

5F131DA42

5F131DC14

5F131DC16

(57)【要約】

【課題】適切に基板を搬送することができる搬送装置、レーザ照射装置、搬送方法、半導体装置の製造方法を提供することである。
【解決手段】本実施の形態にかかる搬送装置６は、搬送方向に基板を移動する搬送ユニット６１＿１と、上面視において、照射位置６５の外側で基板を移動する搬送ユニット６１＿３と、を備え、搬送ユニット６１＿１が、基板を保持する保持機構６２＿１と、保持機構６２＿１を直進移動させるリニアモータ６０１と、を有しており、搬送ユニット６１＿３が、基板を保持する保持機構６２＿３と、保持機構６２＿３が連結されたベルト７０９と、ベルト７０９が掛け回されたプーリ７１６と、プーリ７１６を回転させるＡＣサーボモータ７１１と、を有している。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ライン状のレーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送装置であって、
前記基板をその上面で浮上させる浮上ユニットと、
前記基板に対する前記レーザ光の照射位置を変えるよう、搬送方向に前記基板を移動する第１搬送ユニットと、
上面視において、前記照射位置の外側で前記基板を移動する第２搬送ユニットと、を備え、
前記第１搬送ユニットが、
前記基板を保持する第１保持機構と、
前記第１保持機構を搬送方向に直進移動させるリニアモータと、を有しており、
前記第２搬送ユニットが、
前記基板を保持する第２保持機構と、
前記第２保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させるＡＣサーボモータと、を有している搬送装置。

【請求項2】

前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーと、
前記カバーの内部の空間を排気する排気機構と、を備えた請求項１に記載の搬送装置。

【請求項3】

前記第２搬送ユニットが、前記搬送方向と直交する方向、又は前記搬送方向の反対方向に前記基板を搬送する請求項１、又は２に記載の搬送装置。

【請求項4】

ライン状のレーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送方法であって、
（Ａ）浮上ユニットが、その上面で前記基板を浮上させるステップと、
（Ｂ）第１搬送ユニットが、搬送方向に前記基板を移動することで、前記基板に対する前記レーザ光の照射位置を変えるステップと、
（Ｃ）第２搬送ユニットが、上面視において、前記照射位置の外側で前記基板を移動するステップと、を備え、
前記第１搬送ユニットが、
前記基板を保持する第１保持機構と、
前記第１保持機構を搬送方向に直進移動させるリニアモータと、を有しており、
前記第２搬送ユニットが、
前記基板を保持する第２保持機構と、
前記第２保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させるＡＣサーボモータと、を有している搬送方法。

【請求項5】

前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーが設けられ、
前記カバーの内部の空間を排気する請求項４に記載の搬送方法。

【請求項6】

前記第２搬送ユニットが、前記搬送方向と直交する方向、又は前記搬送方向の反対方向に前記基板を搬送する請求項４、又は５に記載の搬送方法。

【請求項7】

（ｓ１）基板上に非晶質膜を形成するステップと、
（ｓ２）前記非晶質膜を結晶化して結晶化膜を形成するように、ライン状のレーザ光を前記基板に照射して、前記非晶質膜をアニールするステップと、を備えた半導体装置の製造方法であって、
前記（ｓ２）アニールするステップは、
（ｓａ）浮上ユニットが、その上面で前記基板を浮上させるステップと、
（ｓｂ）第１搬送ユニットが、上面視において、搬送方向に前記基板を移動することで、前記基板に対する前記レーザ光の照射位置を変えるステップと、
（ｓｃ）第２搬送ユニットが、上面視において、前記照射位置の外側で前記基板を移動するステップと、を備え、
前記第１搬送ユニットが、
前記基板を保持する第１保持機構と、
前記第１保持機構を搬送方向に直進移動させるリニアモータと、を有しており、
前記第２搬送ユニットが、
前記基板を保持する第２保持機構と、
前記第２保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させるＡＣサーボモータと、を有している有機ＥＬディスプレイの製造方法。

【請求項8】

前記プーリと前記ベルトとの接触部分を覆うカバーが設けられ、
前記カバーの内部の空間を排気する請求項７に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。

【請求項9】

前記第２搬送ユニットが、前記搬送方向と直交する方向、又は前記搬送方向の反対方向に前記基板を搬送する請求項７、又は８に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。

【請求項10】

基板をその上面で浮上させる浮上ユニットと、
前記基板にライン状のレーザ光を照射するレーザ照射部と、
前記基板に対する前記レーザ光の照射位置を変えるよう、搬送方向に前記基板を移動する第１搬送ユニットと、
上面視において、前記照射位置の外側で前記基板を移動する第２搬送ユニットと、を備え、
前記第１搬送ユニットが、
前記基板を保持する第１保持機構と、
前記第１保持機構を搬送方向に直進移動させるリニアモータと、を有しており、
前記第２搬送ユニットが、
前記基板を保持する第２保持機構と、
前記第２保持機構が連結されたベルトと、
前記ベルトが掛け回されたプーリと、
前記プーリを回転させるＡＣサーボモータと、を有しているレーザ照射装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、搬送装置、レーザ照射装置、搬送方法、及び有機ＥＬディスプレイ装置の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、ライン状にレーザ光を基板に照射するレーザ照射装置が開示されている。このレーザ照射装置は、基板を浮上する浮上ユニットと、浮上ユニット上の基板を吸着保持する保持機構と、保持機構を搬送方向に移動する移動機構とを備えている。上面視において、矩形状の浮上ユニットの端辺にそれぞれ移動機構が設けられている。４つの移動機構が基板を循環搬送している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特許第６８８７２３４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

このようなレーザ照射装置に用いられる搬送装置では、基板を適切に搬送することが望まれる。

【0005】

その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。

【課題を解決するための手段】

【0006】

一実施の形態によれば、搬送装置は、ライン状のレーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送装置であって、前記基板をその上面で浮上させる浮上ユニットと、前記基板に対する前記レーザ光の照射位置を変えるよう、搬送方向に前記基板を移動する第１搬送ユニットと、上面視において、前記照射位置の外側で前記基板を移動する第２搬送ユニットと、を備え、前記第１搬送ユニットが、前記基板を保持する第１保持機構と、前記第１保持機構を搬送方向に直進移動させるリニアモータと、を有しており、前記第２搬送ユニットが、前記基板を保持する第２保持機構と、前記第２保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させるＡＣサーボモータと、を有している。

【0007】

一実施の形態によれば、搬送方法は、ライン状のレーザ光を基板に照射するために、前記基板を搬送する搬送方法であって、（Ａ）浮上ユニットが、その上面で前記基板を浮上させるステップと、（Ｂ）第１搬送ユニットが、搬送方向に前記基板を移動することで、前記基板に対する前記レーザ光の照射位置を変えるステップと、（Ｃ）第２搬送ユニットが、上面視において、前記照射位置の外側で前記基板を移動するステップと、を備え、前記第１搬送ユニットが、前記基板を保持する第１保持機構と、前記第１保持機構を搬送方向に直進移動させるリニアモータと、を有しており、前記第２搬送ユニットが、前記基板を保持する第２保持機構と、前記第２保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させるＡＣサーボモータと、を有している。

【0008】

一実施の形態によれば、有機ＥＬディスプレイ装置の製造方法は、（ｓ１）基板上に非晶質膜を形成するステップと、（ｓ２）前記非晶質膜を結晶化して結晶化膜を形成するように、ライン状のレーザ光を前記基板に照射して、前記非晶質膜をアニールするステップと、を備えた半導体装置の製造方法であって、前記（ｓ２）アニールするステップは、（ｓａ）浮上ユニットが、その上面で前記基板を浮上させるステップと、（ｓｂ）第１搬送ユニットが、搬送方向に前記基板を移動することで、前記基板に対する前記レーザ光の照射位置を変えるステップと、（ｓｃ）第２搬送ユニットが、上面視において、前記照射位置の外側で前記基板を移動するステップと、を備え、前記第１搬送ユニットが、前記基板を保持する第１保持機構と、前記第１保持機構を搬送方向に直進移動させるリニアモータと、を有しており、前記第２搬送ユニットが、前記基板を保持する第２保持機構と、前記第２保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させるＡＣサーボモータと、を有している。

【0009】

一実施の形態によれば、基板をその上面で浮上させる浮上ユニットと、前記基板にライン状のレーザ光を照射するレーザ照射部と、前記基板に対する前記レーザ光の照射位置を変えるよう、搬送方向に前記基板を移動する第１搬送ユニットと、上面視において、前記照射位置の外側で前記基板を移動する第２搬送ユニットと、を備え、前記第１搬送ユニットが、前記基板を保持する第１保持機構と、前記第１保持機構を搬送方向に直進移動させるリニアモータと、を有しており、前記第２搬送ユニットが、前記基板を保持する第２保持機構と、前記第２保持機構が連結されたベルトと、前記ベルトが掛け回されたプーリと、前記プーリを回転させるＡＣサーボモータと、を有している。

【発明の効果】

【0010】

前記一実施の形態によれば、基板を適切に搬送することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】搬送装置の全体構成を示す斜視図である。

【図2】搬送装置の構成を模式的に示すｘｙ平面図である。

【図3】搬送装置を備えたレーザ照射装置の構成を模式的に示すｘｚ平面図である。

【図4】搬送装置を備えたレーザ照射装置の構成を模式的に示すｙｚ平面図である。

【図5】リニアモータを用いた搬送ユニットの構成を模式的に示す上面図である。

【図6】リニアモータを用いた搬送ユニットの構成を模式的に示す側面図である。

【図7】ＡＣサーボモータを用いた搬送ユニットの構成を模式的に示す上面図である。

【図8】ＡＣサーボモータを用いた搬送ユニットの構成を模式的に示す側面図である。

【図9】ＡＣサーボモータとその周辺の構成を示す斜視図である。

【図10】搬送ユニットの排気系統を模式的に示す側面図である。

【図11】レーザ照射システムの製造プロセスで製造された有機ＥＬディスプレイ装置を模式的に示す断面図である。

【図12】有機ＥＬディスプレイ装置の製造プロセスを説明する工程断面図である。

【図13】有機ＥＬディスプレイ装置の製造プロセスを説明する工程断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、図面を参照して本実施の形態にかかる搬送装置、搬送方法、有機ＥＬディスプレイ装置の製造方法について説明する。搬送装置及び搬送方法は、レーザ照射装置に用いられる。なお、以下の説明において、レーザが照射される被処理体をアモルファスシリコン膜付きガラス基板であるとして説明するが、被処理体は、特に限定されるものではない。

【0013】

レーザ照射装置の一例は、基板上に形成されたアモルファスシリコン膜にレーザ光を照射して、ポリシリコン膜を形成するエキシマレーザアニール装置である。したがって、レーザ照射装置は、液晶表示パネルや有機ＥＬ（ElectroLuminescence）表示パネルの製造工程において、ＴＦＴ（Thin Film transistor）アレイ基板を製造するために使用される。すなわち、レーザ照射装置は、ＴＦＴアレイ基板などの半導体装置の製造工程に用いられる。

【0014】

（レーザ照射装置の基本構成）
まず、レーザ照射装置１及び搬送装置６の基本構成について、図１～図４を用いて説明する。図１は、搬送装置６の基本構成を説明するための斜視図である。図２は、搬送装置６の上面図である。図３は、搬送装置６を備えたレーザ照射装置１の構成を示す側面図である。図４は、搬送装置６を備えたレーザ照射装置１の構成を示す側面図である。

【0015】

なお、以下に示す図では、説明の簡略化のため、適宜、ｘｙｚ３次元直交座標系を示している。ｚ方向は鉛直上下方向であり、ｙ方向はライン状のレーザスポットに沿った方向であり、ｘ方向は、搬送方向である。ｘ方向に搬送（スキャン）しながら、ｙ方向に沿ったライン状のレーザ光を基板に照射している。また、ｘ方向とｙ方向は矩形状の被処理体６６の端辺に沿った方向である。

【0016】

浮上ユニット６０は、浮上ユニット６０の表面からガスを噴出するように構成されており、浮上ユニット６０の表面から噴出されたガスが被処理体６６の下面に吹き付けられることで、被処理体６６が浮上する。浮上ユニット６０は架台(不図示)の上に配置されている。

【0017】

また、ｘｙ平面視において矩形状の浮上ユニット６０が６つの領域６０ａ～６０ｆに分割されている。具体的には、浮上ユニット６０が第１の領域６０ａ～第４の領域６０ｄと、照射領域６０ｅと、モニタ領域６０ｆとを備えている。第１の領域６０ａは、‐ｘ側かつ＋ｙ側の角（図２における左上角）を含む矩形状の領域である。第２の領域６０ｂは、＋ｘ側かつ＋ｙ側の角（図２における右上角）を含む矩形状の領域である。第３の領域６０ｃは、＋ｘ側かつ‐ｙ側の角（図２における右下角）を含む矩形状の領域である。第４の領域６０ｄは、‐ｘ側かつ‐ｙ側の角（図２における左下角）を含む矩形状の領域である。

【0018】

照射領域６０ｅは、第１の領域６０ａと第２の領域６０ｂとの間に配置されている。照射領域６０ｅは、レーザ光が照射される領域である。すなわち、照射領域６０ｅにレーザ光１５の照射位置６５が含まれている。モニタ領域６０ｆは、第３の領域６０ｃと第４の領域６０ｄとの間に配置されている。したがって、浮上ユニット６０の＋ｙ側の半分の領域（図２の上半分の領域）は、－ｘ側（図２の左側）から順に、第１の領域６０ａ、照射領域６０ｅ、第２の領域６０ｂとなっている。浮上ユニット６０の‐ｙ側の半分の領域（図２の下半分の領域）は、＋ｘ側から順に、第３の領域６０ｃ、モニタ領域６０ｆ、第４の領域６０ｄとなっている。特許文献１で示したように、搬送装置６は、浮上ユニット６０上において、被処理体６６を循環搬送する。

【0019】

ｘｙ平面視において、第１の領域６０ａ～第４の領域６０ｄはほぼ同じ面積となっていてもよい。ｘｙ平面視において、照射領域６０ｅと、モニタ領域６０ｆとは、ほぼ同じ面積の矩形状となっていてもよい。この場合、第１の領域６０ａと第４の領域６０ｄがｙ方向に並んで配置されている。第２の領域６０ｂと第４の領域６０ｄがｙ方向に並んで配置されている。照射領域６０ｅとモニタ領域６０ｆがｙ方向に並んで配置されている。

【0020】

また、第１の領域６０ａにはアライメント機構６９が設けられている。第４の領域６０ｄには、回転機構６８が設けられている。さらに、第４の領域６０ｄの外側には、補助浮上ユニット６７が設けられている。補助浮上ユニット６７は、第４の領域６０ｄの－ｙ側と－ｘ側にそれぞれ配置されている。回転機構６８、アライメント機構６９、及び補助浮上ユニット６７の動作については後述する。

【0021】

図１に示すように、被処理体６６は、第１の領域６０ａ～第４の領域６０ｄを順次搬送される。すなわち、被処理体６６は、第１の領域６０ａから＋ｘ方向に搬送されると、照射領域６０ｅを通過して、第２の領域６０ｂまで移動する。照射領域６０ｅを通過する際に、被処理体６６にレーザ光が照射される。被処理体６６は第２の領域６０ｂから‐ｙ方向に搬送されると、第３の領域６０ｃまで移動する。

【0022】

被処理体６６が第３の領域６０ｃから‐ｘ方向に搬送されると、モニタ領域６０ｆを通過して、第４の領域６０ｄに移動する。モニタ領域６０ｆでは、レーザ光の照射ムラをモニタする。例えば、モニタ領域６０ｆにおいて、図示しないカメラなどにより、照射ムラをモニタする。被処理体６６が第４の領域６０ｄから＋ｙ方向に搬送されると、第１の領域６０ａに移動する。

【0023】

このように、被処理体６６は、＋ｘ方向、－ｙ方向、－ｘ方向、＋ｙ方向と方向を変えて搬送されていく。換言すると、被処理体６６は、第１の領域６０ａ～第４の領域６０ｄを循環するように搬送される。なお、厳密には、第４の領域６０ｄが被処理体６６の搬入／搬出位置となっているため、被処理体６６は、第４の領域６０ｄ、第１の領域６０ａ、第２の領域６０ｂ、第３の領域６０ｃの順番で搬送されていく。もちろん、搬入／搬出位置は、第４の領域６０ｄに限られるものではない。

【0024】

さらには、被処理体６６を反対方向に循環してもよい。例えば、第４の領域６０ｄ、第３の領域６０ｃ、第２の領域６０ｂ、第１の領域６０ａの順番で被処理体６６を搬送してもよい。すなわち、図２の平面図において、搬送方向は、時計回りでもよく、反時計回りでもよい。レーザ照射装置１の処理に応じて、搬送方向を適宜切り替えるようにしてもよい。

【0025】

上記のように、被処理体６６を循環して搬送するため、レーザ照射装置１は、４つの搬送ユニット６１_１～６１_４を備える。搬送ユニット６１_１～６１_４は浮上ユニット６０の外側であって、浮上ユニット６０の各辺の近傍に設けられている。

【0026】

浮上ユニット６０はｘｙ平面視した際の形状が矩形状であり、各々の搬送ユニット６１_１～６１_４は、浮上ユニット６０の各々の辺に沿って被処理体６６を搬送するように設けられている。なお、各搬送ユニット６１＿１～６１＿４は、浮上ユニット６０の各辺の外側に設けられているが、浮上ユニット６０の内側に設けられていてもよい。

【0027】

各搬送ユニット６１＿１～６１＿４は被処理体６６を直進移動する。搬送ユニット６１＿１は被処理体６６を＋ｘ方向に移動させる。これにより、被処理体６６が第１の領域６０ａから第２の領域６０ｂに移動する。搬送ユニット６１＿２は被処理体６６を－ｙ方向に移動させる。これにより、被処理体６６が第２の領域６０ｂから第３の領域６０ｃに移動する。搬送ユニット６１＿３は被処理体６６を－ｘ方向に移動させる。これにより、被処理体６６が第３の領域６０ｃから第４の領域６０ｄに移動する。搬送ユニット６１＿４は被処理体６６を＋ｙ方向に移動させる。これにより、被処理体６６が第４の領域６０ｄから第１の領域６０ａに移動する。

【0028】

具体的には、搬送ユニット６１_１は浮上ユニット６０の＋ｙ方向側の辺に設けられており、保持機構６２_１と移動機構６３_１とを備える。保持機構６２＿１は被処理体６６を吸着保持する。保持機構６２＿１は、多孔質体を備える真空吸着機構を用いて構成することができる。保持機構６２＿１（真空吸着機構）は、排気ポート（不図示）に接続されており、排気ポートはエジェクタや真空ポンプなどに接続されている。よって、保持機構６２＿１にはガスを吸引するための負圧が作用するため、保持機構６２＿１を用いて被処理体６６を保持することができる。

【0029】

また、保持機構６２＿１は吸着動作を行うための昇降機構（図１～図４では不図示）を備えている。昇降機構は、例えば、エアシリンダやモータなどのアクチュエータ等を備えている。例えば、保持機構６２＿１は吸着位置まで上昇した状態で、被処理体６６を吸着する。また、保持機構６２＿１は、吸着を解除した状態で、待機位置まで下降する。

【0030】

本実施の形態では、図４に示すように、保持機構６２＿１は、被処理体６６のレーザ光が照射される面（上面）と逆側の面（下面）、つまり、被処理体６６の浮上ユニット６０と対向する側の面を吸引することで、被処理体６６を保持している。また、保持機構６２＿１は、被処理体６６の＋ｙ方向における端部（つまり、被処理体６６の搬送方向と垂直な方向における端部）を保持している。

【0031】

搬送ユニット６１＿１が備える移動機構６３＿１は保持機構６２＿１と連結されている。移動機構６３＿１は、保持機構６２＿１を搬送方向（ｘ方向）に移動可能に構成されている。搬送ユニット６１＿１（保持機構６２＿１及び移動機構６３＿１）は、浮上ユニット６０の＋ｙ方向の端部側に設けられており、保持機構６２＿１で被処理体６６を保持しつつ、移動機構６３＿１が搬送方向に移動することで被処理体６６が搬送される。

【0032】

図２に示すように、例えば、移動機構６３＿１は浮上ユニット６０の＋ｙ方向の端部を＋ｘ方向に沿ってスライドするように構成されている。移動機構６３＿１が浮上ユニット６０の端部を＋ｘ方向に沿ってスライドすることで、被処理体６６がｘ方向に沿って搬送される。このとき、移動機構６３＿１の移動速度を制御することで、被処理体６６の搬送速度を制御することができる。移動機構６３＿１は、例えば、図示しないモータなどのアクチュエータとリニアガイド機構等を備えている。移動機構６３＿１の構成については後述する。

【0033】

図３、図４に示すように、被処理体６６にはレーザ光１５が照射される。図１、図２では、レーザ光１５が照射される位置を照射位置６５とする。照射位置６５はｙ方向に延びた直線状となる。例えば、レーザ照射装置１はレーザアニール装置であり、この場合はレーザ照射部１４にエキシマレーザ等を用いることができる。レーザ照射部１４は、レーザ光源とシリンドリカルレンズなどの光学系（いずれも不図示）を備えている。レーザ光源から供給されたレーザ光は、シリンドリカルレンズを有する光学系（不図示）においてライン状となる。被処理体６６にはライン状、具体的には焦点がｙ方向に伸びるレーザ光１５（ラインビーム）が照射される（図１参照）。換言すると、被処理体６６上における照射位置６５は被処理体６６の搬送方向（ｘ方向）と垂直な方向（ｙ方向）に伸びている。

【0034】

搬送装置６では、浮上ユニット６０を用いて被処理体６６を浮上させながら、搬送ユニット６１＿１を用いて被処理体６６の下面を保持して、被処理体６６を搬送方向に搬送している。このとき、レーザ照射装置１が備える搬送ユニット６１＿１は、被処理体６６を搬送した際に、平面視において（つまりｚ方向からみて）、搬送ユニット６１＿１が照射位置６５と重畳しない位置を保持して被処理体６６を搬送している。つまり、図２に示すように、被処理体６６を搬送方向に搬送した際に、搬送ユニット６１＿１が被処理体６６を保持する位置（保持機構６２＿１の位置に対応）が、照射位置６５と重畳しないようにしている。

【0035】

このように、保持機構６２_１で被処理体６６を保持しつつ、移動機構６３_１が＋ｘ方向に移動することで、被処理体６６を第１の領域６０ａから第２の領域６０ｂに搬送することができる。搬送ユニット６１＿１による搬送で、被処理体６６が照射領域６０ｅを通過する。よって、被処理体６６が第１の領域６０ａから第２の領域６０ｂに搬送される際にレーザ光１５が被処理体６６に照射される。

【0036】

被処理体６６に対するレーザ光１５の照射位置６５を変えるように、搬送ユニット６１＿１が被処理体６６をｘ方向に移動する。なお、搬送ユニット６１＿１の搬送方向はｘ方向と平行になっているが、ｘ方向から傾いた方向であってもよい。つまり、搬送方向はライン方向から傾いた方向であればよい。

【0037】

搬送ユニット６１_２は浮上ユニット６０の＋ｘ方向側の辺に設けられており、保持機構６２_２と移動機構６３_２とを備える。そして、保持機構６２_２で被処理体６６を保持しつつ、移動機構６３_２が‐ｙ方向側に移動することで、被処理体６６を第２の領域６０ｂから第３の領域６０ｃに搬送することができる。移動機構６３＿２が浮上ユニット６０の端部を－ｙ方向に沿ってスライドすることで、被処理体６６が－ｙ方向に沿って搬送される。

【0038】

搬送ユニット６１_３は浮上ユニット６０の‐ｙ方向側の辺に設けられており、保持機構６２_３と移動機構６３_３とを備える。そして、保持機構６２_３で被処理体６６を保持しつつ、移動機構６３_３が‐ｘ方向に移動することで、被処理体６６を第３の領域６０ｃから第４の領域６０ｄに搬送することができる。搬送ユニット６１＿３による搬送で、被処理体６６がモニタ領域６０ｆを通過する。移動機構６３＿３が浮上ユニット６０の端部を－ｘ方向に沿ってスライドすることで、被処理体６６が－ｘ方向に沿って搬送される。

【0039】

搬送ユニット６１_４は浮上ユニット６０の‐ｘ方向側の辺に設けられており、保持機構６２_４と移動機構６３_４とを備える。そして、保持機構６２_４で被処理体６６を保持しつつ、移動機構６３_４が＋ｙ方向に移動することで、被処理体６６を第４の領域６０ｄから第１の領域６０ａに搬送することができる。移動機構６３＿４が浮上ユニット６０の端部を＋ｙ方向に沿ってスライドすることで、被処理体６６が＋ｙ方向に沿って搬送される。

【0040】

移動機構６３＿２、移動機構６３＿３、及び移動機構６３＿４は、照射位置６５の外側で、被処理体６６を移動する。つまり、移動機構６３＿２、移動機構６３＿３、及び移動機構６３＿４は、照射位置６５と重複していない被処理体６６を移動する。従って、移動機構６３＿２、移動機構６３＿３、及び移動機構６３＿４が被処理体６６を移動しても、被処理体６６にレーザ光１５が照射されない。移動機構６３＿２、移動機構６３＿３、及び移動機構６３＿４は、例えば、図示しないモータなどのアクチュエータとリニアガイド機構等を備えている。移動機構６３＿２、移動機構６３＿３、及び移動機構６３＿４の構成については後述する。

【0041】

保持機構６２＿２、保持機構６２＿３、保持機構６２＿４は、保持機構６２＿１と同様の構成となっており、被処理体６６を吸着する。保持機構６２＿２、６２＿４は、保持機構６２＿１、６２＿３と異なる向きで配置されている。より具体的には、ｘｙ平面視において、保持機構６２＿１、６２＿３は、図２で示したように、ｘ方向を長手方向とする矩形状になっている。また、保持機構６２＿２、６２＿４は、図２で示すように矩形状になっているが、設置方向が９０°異なっている。すなわち、保持機構６２＿１、６２＿３では長手方向がｘ方向、短手方向がｙ方向になっているのに対して、保持機構６２＿２、６２＿４では長手方向がｙ方向、短手方向がｘ方向になっている。保持機構６２＿１～６２＿４は、その移動方向が長手方向となるように設けられている。

【0042】

レーザ照射装置１では、照射位置６５のｙ方向における長さは、被処理体６６のｙ方向における長さの半分程度の長さである。よって、被処理体６６が照射位置６５を通過した際に、被処理体６６のｙ方向の半分の領域にレーザ光が照射される。したがって、被処理体６６が、浮上ユニット６０の上を２回循環するように搬送されていく。このようにすることで、被処理体６６のほぼ全面に、レーザ光が照射される。

【0043】

被処理体６６のほぼ全面にレーザ光を照射する場合は、図１、２に示すように、浮上ユニット６０の第４の領域６０ｄに回転機構６８を設ける。回転機構６８の回転軸はｚ方向と平行になっている。回転機構６８は、被処理体６６の水平面（ｘｙ平面）を保持しながら被処理体６６を１８０度回転させる。つまり、搬送ユニット６１_１を用いて被処理体６６を第１の領域６０ａから第２の領域６０ｂに搬送して被処理体６６にレーザ光１５を照射した後、搬送ユニット６１_２～６１_４を用いて被処理体６６を搬送させつつ、回転機構６８を用いて被処理体６６を１８０度回転させる。そして、再度、搬送ユニット６１_１を用いて被処理体６６を領域６０ａから領域６０ｂに搬送して被処理体６６にレーザ光１５を照射することで、被処理体６６の全面にレーザ光１５を照射することができる。

【0044】

図２に示すように、浮上ユニット６０の外側には、補助浮上ユニット６７が設けられている。補助浮上ユニット６７は、第４の領域６０ｄの－ｘ側及び－ｙ側にそれぞれ配置されている。補助浮上ユニット６７は、浮上ユニット６０と同様に、被処理体６６に対して気体を噴出することで、被処理体６６を浮上する。

【0045】

例えば、回転機構６８が被処理体６６を回転中に、被処理体６６の一部が第４の領域６０ｄからはみ出す。回転中において、第４の領域６０ｄからはみ出す被処理体６６の端部に対して、補助浮上ユニット６７が気体を噴出する。被処理体６６の浮上ユニット６０からはみ出した部分に浮上力が発生する。このようにすることで、被処理体６６を損傷することなく、回転機構６８が被処理体６６を回転させることができる。なお、保持機構６２＿４は、補助浮上ユニット６７と浮上ユニット６０との間を移動する。

【0046】

アライメント機構６９は、保持機構６２＿１等と同様に、多孔質体を介して被処理体６６を吸着して保持する。そして、アライメント機構６９は被処理体６６の位置、及び回転角度を調整する。アライメント機構６９は、ｘ方向の位置（以下、ｘ座標）、ｙ方向の位置（以下、ｙ座標）、ｚ軸周りの回転角度（以下、角度θ）のアライメント動作を行う。例えば、被処理体６６の搬入動作、搬送動作、回転動作によって、被処理体６６の位置や回転角度が微小にずれることがある。アライメント機構６９は、位置や回転角度のずれを補正している。これにより、被処理体６６におけるレーザ光の照射位置を精度よく制御することができる。

【0047】

ここで、搬送ユニット６１＿１の搬送によって、被処理体６６にレーザ光が照射される。従って、搬送ユニット６１＿１の搬送には、高い位置精度が要求される。つまり、レーザ光の照射強度を均一にするためには、搬送ユニット６１＿１の搬送速度を一定にする必要がある。あるいは、レーザ照射中において、被処理体６６の搬送高さを一定にする必要がある。一方、搬送ユニット６１＿２、搬送ユニット６１＿３、搬送ユニット６１＿４の搬送では、被処理体６６にレーザ光が照射されない。搬送ユニット６１＿２、搬送ユニット６１＿３、搬送ユニット６１＿４の搬送には、高い位置精度が要求されない。

【0048】

従って、本実施の形態では、搬送ユニット６１＿１の移動機構６３＿１として、リニアモータが用いられている。一方、搬送ユニット６１＿２～６１＿４の移動機構６３＿２～６３＿４として、ＡＣ（alternating current）サーボモータ及びベルトが用いられている。リニアモータを用いた直動機構は、ＡＣサーボモータ及びベルトを用いた直動機構よりも位置精度が高い。これにより、レーザ光の照射強度を一定にすることができるため、安定したプロセスが可能となる。また、ＡＣサーボモータ及びベルトを用いた直動機構は、リニアモータを用いた直動機構よりも安価である。３つの移動機構６３＿２～６３＿４については、安価な構成で実現することができる。

【0049】

（搬送ユニット６１＿１）
図５、図６を用いて、搬送ユニット６１＿１の移動機構６３＿１について説明する。図５は、搬送ユニット６１＿１の構成を示す上面図である。図６は、搬送ユニット６１＿１の構成を模式的に示す側面図である。

【0050】

搬送ユニット６１＿１は、上記のように、保持機構６２＿１と、移動機構６３＿１と、を備えている。移動機構６３＿１は、リニアモータ６０１と、ガイド機構６０３と、ベース６０６と、ダンパ６０７と、を備えている。リニアモータ６０１は、可動子６０１ａと、固定子６０１ｂとを備えている。保持機構６２＿１は、昇降機構６２１と吸着部６２２とを備えている。

【0051】

ベース６０６は、ガイド機構６０３等を支持するステージである。ガイド機構６０３は、ベース６０６の上に固定されている。ガイド機構６０３は、ｘ方向に沿って延びたレールなどを有するリニアガイドである。ガイド機構６０３にはガイド溝などが形成されていてもよい。ガイド機構６０３は可動子６０１ａの直動移動をガイドする。また、ガイド機構６０３の端部には、ダンパ６０７が取り付けられている。ダンパ６０７は、可動子６０１ａの移動端を規定する。

【0052】

例えば、ガイド機構６０３には、リニアモータ６０１の固定子６０１ｂが取り付けられている。固定子６０１ｂは、例えば、永久磁石を有している。つまり、ｘ方向に沿って、複数の永久磁石が配列されている。例えば、ｘ方向において、Ｎ極とＳ極が一定間隔で交互に繰り返し配列されている。

【0053】

リニアモータ６０１の可動子６０１ａは、電磁石を有している。そして、電磁石に対する電流を制御することで、可動子６０１ａがガイド機構６０３に沿って移動する。可動子６０１ａは、ガイド機構６０３と非接触で直進移動する。リニアモータ６０１の上には、被処理体６６を吸着保持するための保持機構６２＿１が配置されている。

【0054】

移動機構６３＿１が、保持機構６２＿１をｘ方向に移動することができる。このように、搬送ユニット６１＿１がリニアモータ６０１を有する移動機構６３＿１を用いている。よって、搬送ユニット６１＿１が、被処理体６６を精度よく移動することができる。よって、搬送装置６は被処理体６６を適切に搬送することができるため、生産性を向上することができる。

【0055】

また、保持機構６２＿１には昇降機構６２１と吸着部６２２が設けられている。吸着部６２２は、被処理体６６を真空吸着するための多孔質体を有している。昇降機構６２１は、保持機構６２＿１の吸着部６２２を昇降させる。昇降機構６２１は、被処理体６６の受渡しのため、吸着部６２２を昇降させる。昇降機構６２１は、保持機構６２＿２に被処理体６６を受け渡すため、吸着部６２２を昇降させる。また、昇降機構６２１は、被処理体６６を保持機構６２＿４から受け取るため、吸着部６２２を昇降させる。

【0056】

（搬送ユニット６１＿２～６１＿４）
搬送ユニット６１＿２～６１＿４は、リニアモータの代わりにＡＣサーボモータを用いている。以下、搬送ユニット６１＿２～６１＿４を代表して、搬送ユニット６１＿３の構成について、図７～図１０を用いて説明する。図７は、搬送ユニット６１＿３の構成を示す上面図である。図８は、搬送ユニット６１＿３の構成を示す側面図である。図９は、搬送ユニット６１＿３の駆動部の構成を拡大して示す斜視図である。図１０は、搬送ユニット６１＿３の排気系統などを模式的に示すｘｚ断面図である。

【0057】

搬送ユニット６１＿３は、保持機構６２＿３と、移動機構６３＿３とを備えている。移動機構６３＿３は、ガイド機構７０３と、可動部７０４と、ベース７０６と、ＡＣサーボモータ７１１と、プーリ７１６とを備えている。さらに、移動機構６３＿３は、カバー７１５と排気フランジ７１４とを備えている。保持機構６２＿３は、昇降機構７２１と吸着部７２２とを備えている。

【0058】

ベース７０６は、ガイド機構７０３等を支持するステージである。ガイド機構７０３は、ベース７０６の上に固定されている。ガイド機構７０３は、ｘ方向に沿って延びたレールなどを有するリニアガイドである。ガイド機構７０３は、ガイド溝などを有していてもよい。また、ガイド機構７０３の端部には、ダンパ７０７が取り付けられている。ダンパ７０７は、可動部７０４の移動端を規定する。

【0059】

ガイド機構７０３は、可動部７０４を摺動可能に保持している。ガイド機構７０３は可動部７０４の直動移動をガイドする。可動部７０４は、ベルト７０９の上面に取り付けられている。さらに、可動部７０４の上には、保持機構６２＿３が取り付けられている。保持機構６２＿３は、可動部７０４を介して、ベルト７０９と連結されている。よって、保持機構６２＿３は可動部７０４とともにｘ方向に往復移動する。

【0060】

ベルト７０９はタイミングベルト等であり、ｘ方向に沿って設けられている。図１０に示すように、ベルト７０９の両端には、プーリ７１６が取り付けられている。ベルト７０９は、例えば、無端ベルト等であり、ｘｚ平面視において、リング状に形成されている。リング状のベルト７０９の内側には、２つのプーリ７１６が配置されている。ベルト７０９は、無端ベルト以外のベルトであってもよい。

【0061】

２つのプーリ７１６がｘ方向に離れて配置されている。プーリ７１６の回転軸はｙ方向と平行になっている。図９に示すように、ベルト７０９は、プーリ７１６に掛け回されている。２つのプーリ７１６の間において、ベルト７０９は、ｘ方向と平行になっている。ベルト７０９は、例えば、歯付きベルト、平ベルトとなっている。プーリ７１６は、例えば、歯付きプーリ、平プーリとなっている。

【0062】

一方のプーリ７１６には、ＡＣサーボモータ７１１の回転軸７１１ａが連結されている。ＡＣサーボモータ７１１がプーリ７１６を回転させると、ベルト７０９が回転する。ベルト７０９の回転動作にしたがって、可動部７０４がｘ方向に移動する。可動部７０４は２つのプーリ７１６の間をｘ方向にスライド移動する。これにより、保持機構６２＿２がｘ方向に往復移動するため、被処理体６６を－ｘ方向に搬送することができる。

【0063】

また、保持機構６２＿３には昇降機構７２１と吸着部７２２が設けられている。吸着部７２２は、被処理体６６を真空吸着するための多孔質体を有している。昇降機構７２１は、保持機構６２＿３の吸着部７２２を昇降させる。昇降機構７２１は、被処理体６６の受渡しのため、吸着部７２２を昇降させる。昇降機構７２１は、保持機構６２＿２から被処理体６６を受け取るため、吸着部７２２を昇降させる。また、昇降機構７２１は、被処理体６６を保持機構６２＿４に受け渡すため、吸着部７２２を昇降させる。

【0064】

このように、移動機構６３＿２は、ＡＣサーボモータ７１１と、ベルト７０９とを用いて、被処理体６６を移動している。これにより、搬送装置６は、安価な構成で、被処理体６６を搬送することができる。搬送装置６は被処理体６６を適切に搬送することができるため、生産性を向上することができる。

【0065】

なお、移動機構６３＿２、６３＿４は、基本的な構成は、移動機構６３＿３と同様であるため、詳細な説明を省略する。移動機構６３＿２、６３＿４も、移動機構６３＿３と同様にＡＣサーボモータ７１１とベルト７０９とを用いている。移動機構６３＿２、６３＿４は、移動方向がｙ方向になっている点が移動機構６３＿３と異なっている。したがって、ガイド機構７０３、ベルト７０９、ＡＣサーボモータ７１１等の向きを９０度変えて設置すれば良い。

【0066】

プーリ７１６の回転に伴って、ベルト７０９とプーリ７１６との接触部分から粉塵が発生することがある。そこで、本実施の形態では、－ｘ側におけるベルト７０９の端部は、カバー７１５が設けられている。つまり、プーリ７１６とベルト７０９の接触部分はカバー７１５で覆われている。図９に示すように、カバー７１５は回転軸７１１ａやベアリングなどを収容するケースとなる。カバー７１５がベルト７０９の端部を覆うことで、粉塵による汚染を防止することができる。被処理体６６に粉塵が付着するのを防ぐことができる。

【0067】

カバー７１５には、開口部７１５ａと排気フランジ７１４が設けられている。ベルト７０９は、カバー７１５の開口部７１５ａから取り出されている。カバー７１５において、開口部７１５ａの反対側には、排気フランジ７１４が設けられている。排気フランジ７１４は、カバー７１５の内部空間に繋がっている排気ポートとなる。排気フランジ７１４には、図１０に示すように、配管７４０が接続されている。ここでは、開口部７１５aがカバー７１５の＋ｘ側に配置され、排気フランジ７１４がカバー７１５の－ｘ側に配置されている。

【0068】

図１０に示すように、配管７４０は、レーザ照射装置１のチャンバ７３０の外側まで引き回されている。なお、チャンバ７３０は、搬送装置６（図１０では不図示）の全体を囲むように配置されている。具体的には、配管７４０は、その他の排気箇所からの配管７４１と合わせて集塵機７４２に接続されている。集塵機７４２は、カバー７１５の内部空間を排気する排気機構となる。集塵機７４２は、配管７４０、７４１を通じて、チャンバ７３０内の気体を排気する。

【0069】

このようにすることで、カバー７１５内で発生した粉塵をチャンバの７３０外側に排出することができる。よって、被処理体６６の汚染を防止することができ、レーザ照射プロセスの生産性を向上することができる。

【0070】

上記の搬送装置６を用いた搬送方法は、例えば、以下のステップを備えている。
（Ａ）浮上ユニットが、その上面で前記基板を浮上させるステップ。
（Ｂ）第１搬送ユニットが、搬送方向に前記基板を移動することで、前記基板に対する前記レーザ光の照射位置を変えるステップ。
（Ｃ）第２搬送ユニットが、上面視において、前記照射位置の外側で前記基板を移動するステップ。

【0071】

（有機ＥＬディスプレイ）
上記のポリシリコン膜を有する半導体装置は、有機ＥＬ（ElectroLuminescence）ディスプレイ用のＴＦＴ（Thin Film transistor）アレイ基板に好適である。すなわち、ポリシリコン膜は、ＴＦＴのソース領域、チャネル領域、ドレイン領域を有する半導体層として用いられる。

【0072】

以下、本実施の形態にかかる半導体装置を有機ＥＬディスプレイディスプレイに適用した構成について説明する。図１１は、有機ＥＬディスプレイの画素回路を簡略化して示す断面図である。図１１に示す有機ＥＬディスプレイ３００は、各画素ＰＸにＴＦＴが配置されたアクティブマトリクス型の表示装置である。

【0073】

有機ＥＬディスプレイ３００は、基板３１０、ＴＦＴ層３１１、有機層３１２、カラーフィルタ層３１３、及び封止基板３１４を備えている。図１１では、封止基板３１４側が視認側となるトップエミッション方式の有機ＥＬディスプレイを示している。なお、以下の説明は、有機ＥＬディスプレイの一構成例を示すものであり、本実施の形態は、以下に説明される構成に限られるものではない。例えば、本実施の形態にかかる半導体装置は、ボトムエミッション方式の有機ＥＬディスプレイに用いられていてもよい。

【0074】

基板３１０は、ガラス基板又は金属基板である。基板３１０の上には、ＴＦＴ層３１１が設けられている。ＴＦＴ層３１１は、各画素ＰＸに配置されたＴＦＴ３１１ａを有している。さらに、ＴＦＴ層３１１は、ＴＦＴ３１１ａに接続される配線（図示を省略）等を有している。ＴＦＴ３１１ａ、及び配線等が画素回路を構成する。

【0075】

ＴＦＴ層３１１の上には、有機層３１２が設けられている。有機層３１２は、画素ＰＸごとに配置された有機ＥＬ発光素子３１２ａを有している。さらに、有機層３１２には、画素ＰＸ間において、有機ＥＬ発光素子３１２ａを分離するための隔壁３１２ｂが設けられている。

【0076】

有機層３１２の上には、カラーフィルタ層３１３が設けられている。カラーフィルタ層３１３は、カラー表示を行うためのカラーフィルタ３１３ａが設けられている。すなわち、各画素ＰＸには、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、又はＢ（青色）に着色された樹脂層がカラーフィルタ３１３ａとして設けられている。

【0077】

カラーフィルタ層３１３の上には、封止基板３１４が設けられている。封止基板３１４は、ガラス基板などの透明基板であり、有機層３１２の有機ＥＬ発光素子の劣化を防ぐために設けられている。

【0078】

有機層３１２の有機ＥＬ発光素子３１２ａに流れる電流は、画素回路に供給される表示信号によって変化する。よって、表示画像に応じた表示信号を各画素ＰＸに供給することで、各画素ＰＸでの発光量を制御することができる。これにより、所望の画像を表示することができる。

【0079】

有機ＥＬディスプレイ等のアクティブマトリクス型表示装置では、１つの画素ＰＸに、１つ以上のＴＦＴ（例えば、スイッチング用ＴＦＴ、又は駆動用ＴＦＴ）が設けられている。そして、各画素ＰＸのＴＦＴには、ソース領域、チャネル領域、及びドレイン領域を有する半導体層が設けられている。本実施の形態にかかるポリシリコン膜は、ＴＦＴの半導体層に好適である。すなわち、上記の製造方法により製造したポリシリコン膜をＴＦＴアレイ基板の半導体層に用いることで、ＴＦＴ特性の面内ばらつきを抑制することができる。よって、表示特性の優れた表示装置を高い生産性で製造することができる。

【0080】

＜半導体装置の製造工程＞
本実施の形態にかかるレーザ照射装置を用いた半導体装置の製造方法は、ＴＦＴアレイ基板の製造に好適である。ＴＦＴを有する半導体装置の製造方法について、図１２、図１３を用いて説明する。図１２、図１３は半導体装置の製造工程を示す工程断面図である。以下の説明では、逆スタガード（inverted staggered）型のＴＦＴを有する半導体装置の製造方法について説明する。図１２，図１３では、半導体製造方法におけるポリシリコン膜の形成工程を示している。なお、その他の製造工程については、公知の手法を用いることができるため、説明を省略する。

【0081】

図１２に示すように、ガラス基板４０１上に、ゲート電極４０２が形成されている。ゲート電極４０２の上に、ゲート絶縁膜４０３が形成されている。ゲート絶縁膜４０３の上に、アモルファスシリコン膜４０４を形成する。アモルファスシリコン膜４０４は、ゲート絶縁膜４０３を介して、ゲート電極４０２と重複するように配置されている。例えば、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により、ゲート絶縁膜４０３とアモルファスシリコン膜４０４とを連続成膜する。

【0082】

そして、アモルファスシリコン膜４０４にレーザ光Ｌ１を照射することで、図１３に示すように、ポリシリコン膜４０５が形成される。すなわち、図３等で示したレーザ照射装置１によって、アモルファスシリコン膜４０４を結晶化する。これにより、シリコンが結晶化したポリシリコン膜４０５がゲート絶縁膜４０３上に形成される。ポリシリコン膜４０５は、上記したポリシリコン膜に相当する。

【0083】

本実施の形態にかかる半導体装置の製造方法は、以下のステップを有していてもよい。
（ｓ１）基板上に非晶質膜を形成するステップ。
（ｓ２）前記非晶質膜を結晶化して結晶化膜を形成するように、ライン状のレーザ光を前記基板に照射して、前記非晶質膜をアニールするステップ。
そして、ｓ２のステップで、上記の搬送装置を用い他搬送方法で,基板となる被処理体６６を搬送する。

【0084】

さらに、上記の説明では、本実施の形態にかかるレーザアニール装置が、アモルファスシリコン膜にレーザ光を照射してポリシリコン膜を形成するものとして説明したが、アモルファスシリコン膜にレーザ光を照射してマイクロクリスタルシリコン膜を形成するものであってもよい。さらには、アニールを行うレーザ光はエキシマレーザに限定されるものではなく、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ等であってもよい。また、本実施の形態にかかる方法は、シリコン膜以外の薄膜を結晶化するレーザアニール装置に適用することも可能である。すなわち、非晶質膜にレーザ光を照射して、結晶化膜を形成するレーザアニール装置であれば、本実施の形態にかかる方法は適用可能である。本実施の形態にかかるレーザアニール装置によれば、結晶化膜付き基板を適切に改質することができる。

【0085】

なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。

【符号の説明】

【0086】

１ レーザ照射装置
６ 搬送装置
１４ レーザ照射部
１５ レーザ光
６１_１～６１_４ 搬送ユニット
６２_１～６２_４ 保持機構
６３_１～６３_４ 移動機構
６０ａ 第１の領域
６０ｂ 第２の領域
６０ｃ 第３の領域
６０ｄ 第４の領域
６０ｅ 照射領域
６０ｆ モニタ領域
６５ 照射位置
６６ 被処理体
６７ 補助浮上ユニット
６８ 回転機構
６９ アライメント機構
３００ 有機ＥＬディスプレイ
３１１ ＴＦＴ層
３１１ａ ＴＦＴ
３１２ 有機層
３１２ａ 有機ＥＬ発光素子
３１２ｂ 隔壁
３１３ カラーフィルタ層
３１３ａ カラーフィルタ（ＣＦ）
３１４ 封止基板
ＰＸ 画素
６０１ リニアモータ
６０１ａ 可動子
６０１ｂ 固定子
６０３ ガイド機構
６０６ ベース
６０７ ダンパ
６２１ 昇降機構
６２２ 吸着部
７０３ ガイド機構
７０４ 可動部
７０６ ベース
７０９ ベルト
７１１ ＡＣサーボモータ
７１４ 排気フランジ
７１５ カバー
７１６ プーリ
７３０ チャンバ
７４０ 配管
７４１ 配管
７４２ 集塵機

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】