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特開2024-116941ニッケルスラリーの製造方法およびニッケルスラリーの評価方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024116941
(43)【公開日】2024-08-28
(54)【発明の名称】ニッケルスラリーの製造方法およびニッケルスラリーの評価方法
(51)【国際特許分類】
G01N 15/06 20240101AFI20240821BHJP
B22F 1/00 20220101ALI20240821BHJP
B22F 1/102 20220101ALI20240821BHJP
B22F 9/00 20060101ALI20240821BHJP
G01N 1/04 20060101ALI20240821BHJP
【ＦＩ】
G01N15/06 Z
B22F1/00 M
B22F1/102
B22F9/00 B
G01N1/04 M
【審査請求】未請求
【請求項の数】8
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023022817
(22)【出願日】2023-02-16
(71)【出願人】
【識別番号】000004293
【氏名又は名称】ノリタケ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100117606
【弁理士】
【氏名又は名称】安部 誠
(74)【代理人】
【識別番号】100121186
【弁理士】
【氏名又は名称】山根 広昭
(72)【発明者】
【氏名】スリヤマス アデイ バグス
【テーマコード（参考）】
2G052
4K017
4K018
【Ｆターム（参考）】
2G052AB01
2G052AD09
2G052AD52
2G052BA22
2G052EA03
2G052GA35
4K017AA03
4K017AA06
4K017AA08
4K017BB06
4K017CA07
4K017CA08
4K018BA04
4K018BB04
4K018BB05
4K018BC29
(57)【要約】
【課題】ニッケルスラリー中の粗大粒子の濃度が所定値以下であることを信頼性高く保証することができる技術を提供すること。
【解決手段】ここで開示されるニッケルスラリーの製造方法は、ニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーの製造方法であって、以下の工程：上記ニッケル粉末と、上記分散媒と、を含むニッケルスラリーを用意する用意工程（Ｓ１），ここで、上記ニッケル粉末は、アミン化合物によって被覆されている；上記ニッケルスラリー中の、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、評価工程（Ｓ２）；および、上記評価工程において、上記粗大粒子の濃度が所定値以下であったときは選択し、該粗大粒子の濃度が所定値よりも大きいときは選択しない、選択工程（Ｓ３）；を包含する。
【選択図】図１
【解決手段】ここで開示されるニッケルスラリーの製造方法は、ニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーの製造方法であって、以下の工程：上記ニッケル粉末と、上記分散媒と、を含むニッケルスラリーを用意する用意工程（Ｓ１），ここで、上記ニッケル粉末は、アミン化合物によって被覆されている；上記ニッケルスラリー中の、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、評価工程（Ｓ２）；および、上記評価工程において、上記粗大粒子の濃度が所定値以下であったときは選択し、該粗大粒子の濃度が所定値よりも大きいときは選択しない、選択工程（Ｓ３）；を包含する。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーの製造方法であって、以下の工程：
前記ニッケル粉末と、前記分散媒と、を含むニッケルスラリーを用意する用意工程，ここで、前記ニッケル粉末は、アミン化合物によって被覆されている；
前記ニッケルスラリー中の、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、評価工程；および
前記評価工程において、前記粗大粒子の濃度が所定値以下であったときは選択し、該粗大粒子の濃度が所定値よりも大きいときは選択しない、選択工程；
を包含し、
ここで、前記評価工程は、
既知量の前記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得ること；
既知量の前記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得ること；
前記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させること；および
前記通過させた後の前記メンブレンフィルター上に存在する前記粗大粒子を観察し、前記ニッケルスラリー中の前記粗大粒子の濃度を算出すること；
を包含する、ニッケルスラリーの製造方法。
前記ニッケル粉末と、前記分散媒と、を含むニッケルスラリーを用意する用意工程，ここで、前記ニッケル粉末は、アミン化合物によって被覆されている；
前記ニッケルスラリー中の、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、評価工程；および
前記評価工程において、前記粗大粒子の濃度が所定値以下であったときは選択し、該粗大粒子の濃度が所定値よりも大きいときは選択しない、選択工程；
を包含し、
ここで、前記評価工程は、
既知量の前記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得ること；
既知量の前記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得ること；
前記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させること；および
前記通過させた後の前記メンブレンフィルター上に存在する前記粗大粒子を観察し、前記ニッケルスラリー中の前記粗大粒子の濃度を算出すること；
を包含する、ニッケルスラリーの製造方法。
【請求項2】
前記アミン系溶剤は、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－テトラデシルアミン、およびオレイルアミンからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１に記載のニッケルスラリーの製造方法。
【請求項3】
前記アルコール系溶剤は、ｎ－オクタノール、ｎ－デカノール、およびｎ－ドデカノールからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１または２に記載のニッケルスラリーの製造方法。
【請求項4】
前記メンブレンフィルター上に存在する前記粗大粒子の観察は、電界放射型走査電子顕微鏡を用いて行う、請求項１または２に記載のニッケルスラリーの製造方法。
【請求項5】
アミン化合物で被覆されたニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーにおいて、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、ニッケルスラリーの評価方法であって、以下の工程；
既知量の前記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得る、第１ニッケル分散液調製工程；
既知量の前記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得る、第２ニッケル分散液調製工程；
前記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させる、通過工程；および
前記通過させた後の前記メンブレンフィルター上に存在する前記粗大粒子を観察し、前記第２ニッケル分散液中の前記粗大粒子の濃度を算出する、粗大粒子濃度の算出工程；
を包含する、ニッケルスラリーの評価方法。
既知量の前記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得る、第１ニッケル分散液調製工程；
既知量の前記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得る、第２ニッケル分散液調製工程；
前記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させる、通過工程；および
前記通過させた後の前記メンブレンフィルター上に存在する前記粗大粒子を観察し、前記第２ニッケル分散液中の前記粗大粒子の濃度を算出する、粗大粒子濃度の算出工程；
を包含する、ニッケルスラリーの評価方法。
【請求項6】
前記アミン系溶剤は、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－テトラデシルアミン、およびオレイルアミンからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項５に記載のニッケルスラリーの評価方法。
【請求項7】
前記アルコール系溶剤は、ｎ－オクタノール、ｎ－デカノール、およびｎ－ドデカノールからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項５または６に記載のニッケルスラリーの評価方法。
【請求項8】
前記メンブレンフィルター上に存在する前記粗大粒子の観察は、電界放射型走査電子顕微鏡を用いて行う、請求項５または６に記載のニッケルスラリーの評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、ニッケルスラリーの製造方法およびニッケルスラリーの評価方法に関する。
【背景技術】
【0002】
例えば、特許文献１および２には、ニッケルスラリー中の粗大粒子濃度の評価方法が開示されている。かかるニッケルスラリーの評価方法では、ニッケルスラリーをメンブレンフィルターに通過し、該メンブレンフィルター上に存在するニッケル粒子を観察することによって、該ニッケルスラリー中の粗大粒子濃度を評価する旨、記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１７－１９１０１１号公報
【特許文献2】特開２０１８－２０４９５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ところで、本発明者の検討によると、ニッケルスラリー中の粗大粒子の評価方法に関して、信頼性の観点からまだまだ改善の余地があることがわかった。また、粗大粒子の濃度が所定値以下であることを信頼性高く保証することができるニッケルスラリーの製造方法のさらなる開発が求められている。
【0005】
本開示は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、ニッケルスラリー中の粗大粒子の濃度が所定値以下であることを信頼性高く保証することができる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
ここで開示されるニッケルスラリーの評価方法は、アミン化合物で被覆されたニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーにおいて、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、ニッケルスラリーの評価方法であって、以下の工程；既知量の上記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得る、第１ニッケル分散液調製工程；既知量の上記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得る、第２ニッケル分散液調製工程；上記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させる、通過工程；および、上記通過させた後の上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子を観察し、上記第２ニッケル分散液中の上記粗大粒子の濃度を算出する、粗大粒子濃度の算出工程；を包含する。詳細については後述するが、かかる構成のニッケルスラリーの評価方法によると、ニッケルスラリー中の粗大粒子の濃度を信頼性高く評価することができる。
【0007】
ここで開示されるニッケルスラリーの評価方法の好ましい一態様では、上記アミン系溶剤は、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－テトラデシルアミン、およびオレイルアミンのうち少なくとも１種から構成される。かかる構成において、第１ニッケル分散液中のニッケル粒子どうしの凝集をより好適に抑制することができるため、粗大粒子の濃度をより正確に評価するという観点から好ましい。
【0008】
ここで開示されるニッケルスラリーの評価方法の好ましい一態様では、上記アルコール系溶剤は、ｎ－オクタノール、ｎ－デカノール、およびｎ－ドデカノールのうち少なくとも１種から構成される。かかる構成において、第２ニッケル分散液中のニッケル粒子どうしの凝集をより好適に抑制することができるため、粗大粒子の濃度をより正確に評価するという観点から好ましい。
【0009】
ここで開示されるニッケルスラリーの評価方法の好ましい一態様では、上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子の観察は、電界放射型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）を用いて行う。ＦＥ－ＳＥＭによると、粗大粒子を精度高く観察することができるため、好ましい。
【0010】
また、他の側面から、本開示はニッケルスラリーの製造方法を提供する。かかるニッケルスラリーの製造方法は、ニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーの製造方法であって、以下の工程：上記ニッケル粉末と、上記分散媒と、を含むニッケルスラリーを用意する用意工程，ここで、上記ニッケル粉末は、アミン化合物によって被覆されている；上記ニッケルスラリー中の、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、評価工程；および、上記評価工程において、上記粗大粒子の濃度が所定値以下であったときは選択し、該粗大粒子の濃度が所定値よりも大きいときは選択しない、選択工程；を包含し、ここで、上記評価工程は、既知量の上記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得ること；既知量の上記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得ること；上記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させること；および、上記通過させた後の上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子を観察し、上記ニッケルスラリー中の上記粗大粒子の濃度を算出すること；を包含する。かかるニッケルスラリーの製造方法は、上述したニッケルスラリーの評価方法を包含する。これによって、ニッケルスラリー中の粗大粒子の濃度を信頼性高く評価することができる（換言すると、粗大粒子の濃度が所定値以下であることを信頼性高く保証することができる）ため、高品質なニッケルスラリーを提供することができる。
【0011】
ここで開示されるニッケルスラリーの製造方法の好ましい一態様では、上記アミン系溶剤は、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－テトラデシルアミン、およびオレイルアミンのうち少なくとも１種から構成される。かかる構成において、第１ニッケル分散液中のニッケル粒子どうしの凝集をより好適に抑制することができるため、粗大粒子の濃度をより正確に評価することができる。即ち、粗大粒子の濃度が所定値以下であることを信頼性高く保証することができるため、より高品質なニッケルスラリーを提供することができる。
【0012】
ここで開示されるニッケルスラリーの製造方法の好ましい一態様では、上記アルコール系溶剤は、ｎ－オクタノール、ｎ－デカノール、およびｎ－ドデカノールのうち少なくとも１種から構成される。かかる構成において、第２ニッケル分散液中のニッケル粒子どうしの凝集をより好適に抑制することができるため、粗大粒子の濃度をより正確に評価することができる。即ち、粗大粒子の濃度が所定値以下であることを信頼性高く保証することができるため、より高品質なニッケルスラリーを提供することができる。
【0013】
ここで開示されるニッケルスラリーの製造方法の好ましい一態様では、上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子の観察は、電界放射型走査電子顕微鏡を用いて行う。ＦＥ－ＳＥＭによると、粗大粒子を精度高く観察することができる。即ち、粗大粒子の濃度が所定値以下であることを信頼性高く保証することができるため、より高品質なニッケルスラリーを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【図1】一実施形態に係るニッケルスラリーの製造方法について説明するためのフローチャートである。
【図2】一実施形態に係るニッケルスラリーの評価方法について説明するためのフローチャートである。
【図3】粗大粒子濃度の算出方法について説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下、本開示の好適な実施形態について説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本開示の実施に必要な事柄は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本開示は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。以下の実施形態は、ここで開示される技術をかかる実施形態に限定することを意図したものではない。また、以下の図面において、寸法関係（長さ、幅、厚み等）は実際の寸法関係を反映するものではなく、特に言及されない限りにおいて本開示を限定するものではない。なお、本明細書および特許請求の範囲において、所定の数値範囲をＡ～Ｂ（Ａ、Ｂは任意の数値）と記すときは、Ａ以上Ｂ以下の意味である。したがって、Ａを上回り且つＢを下回る場合を包含する。また、「スラリー」とは、ペースト状組成物、インク状組成物を包含する概念であり得る。以下では、ニッケルスラリーの製造方法について説明しつつ、該ニッケルスラリーの製造方法に包含されるニッケルスラリーの評価方法についても併せて説明する。
【0016】
＜ニッケルスラリーの製造方法＞
図１は、本実施形態に係るニッケルスラリーの製造方法について説明するためのフローチャートである。かかるニッケルスラリーの製造方法は、ニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーの製造方法である。また、図１に示すように、本実施形態に係るニッケルスラリーの製造方法は、上記ニッケル粉末と、上記分散媒と、を含むニッケルスラリーを用意する用意工程（ステップＳ１），ここで、前記ニッケル粉末は、アミン化合物によって被覆されている；上記ニッケルスラリー中の、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、評価工程（ステップＳ２）；および、上記評価工程において、上記粗大粒子の濃度が所定値以下であったときは選択し、該粗大粒子の濃度が所定値よりも大きいときは選択しない、選択工程（ステップＳ３）；を包含する。なお、ここで開示されるニッケルスラリーの製造方法は、任意の段階でさらに他の工程を含んでもよいし、その工程が必須なものとして説明されていなければ適宜削除することも可能である。また、ここで開示される技術の効果が発揮される限りにおいて、工程の順序を入れ替えることもできる。
図１は、本実施形態に係るニッケルスラリーの製造方法について説明するためのフローチャートである。かかるニッケルスラリーの製造方法は、ニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーの製造方法である。また、図１に示すように、本実施形態に係るニッケルスラリーの製造方法は、上記ニッケル粉末と、上記分散媒と、を含むニッケルスラリーを用意する用意工程（ステップＳ１），ここで、前記ニッケル粉末は、アミン化合物によって被覆されている；上記ニッケルスラリー中の、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、評価工程（ステップＳ２）；および、上記評価工程において、上記粗大粒子の濃度が所定値以下であったときは選択し、該粗大粒子の濃度が所定値よりも大きいときは選択しない、選択工程（ステップＳ３）；を包含する。なお、ここで開示されるニッケルスラリーの製造方法は、任意の段階でさらに他の工程を含んでもよいし、その工程が必須なものとして説明されていなければ適宜削除することも可能である。また、ここで開示される技術の効果が発揮される限りにおいて、工程の順序を入れ替えることもできる。
【0017】
上述したようなニッケルスラリーの製造方法では、評価工程（ステップＳ２）において、用意工程（ステップＳ１）で用意したニッケルスラリー中の粗大粒子濃度を算出する。そして、選択工程（ステップＳ３）において、上記粗大粒子濃度が所定値以下であるもののみを選択する。これによって、上記粗大粒子濃度が所定値以下であることが信頼性高く保証された、高品質なニッケルスラリーのみを提供することができる。
【0018】
（Ｓ１：用意工程）
上述したように、本工程では、ニッケル粉末と、分散媒と、を含むニッケルスラリーを用意する。ここで、かかるニッケル粉末としては、ニッケル（Ｎｉ）を主構成元素とする粉末（粒子の集合物）であれば、その組成は特に制限されない。ニッケル粉末を構成するニッケル粒子としては、例えば、ニッケルおよびニッケル合金ならびにそれらの混合物または複合体等から構成された粒子が一例として挙げられる。ニッケル合金としては、例えば、ニッケル－パラジウム（Ｎｉ－Ｐｄ）合金、ニッケル－白金（Ｎｉ－Ｐｔ）合金、ニッケル－銅（Ｎｉ－Ｃｕ）合金等が好ましい例として挙げられる。例えば、コアがニッケル以外の銅やニッケル合金等の金属から構成され、コアを覆うシェルがニッケルからなるコアシェル粒子等を用いることもできる。ニッケル粉末が、例えば、銅を主構成元素とするＣｕコア粒子と、該Ｃｕコア粒子の表面の少なくとも一部を被覆するニッケルを主構成元素とするＮｉシェルと、からなるＣｕＮｉコアシェル粒子を含む態様において、粗大粒子がより好適に低減されたニッケルスラリーを得ることができる。なお、「主構成元素とする」とは、ニッケル粉末（Ｃｕコア粒子の場合はＣｕコア粒子に対応。Ｎｉシェルの場合はＮｉシェルに対応。）を構成する金属成分全体を１００モル％としたとき、ニッケル成分（Ｃｕコアシェルの場合は銅成分に対応。Ｎｉシェルの場合はニッケル成分に対応。）が例えば５０モル％以上、６０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、９０モル％以上、９５モル％以上であることを意味し得る。ニッケル粉末がコアシェル粒子を含む場合、ニッケル粉末の全重量を１００重量％としたとき、コアシェル粒子の配合割合は、例えば３０重量％以上であり、５０重量％以上、７０重量％以上、８０重量％以上、９０重量％以上、９５重量％以上であってもよい（１００重量％であってもよい）。なお、ニッケル粉末を構成するニッケル粒子の形状は、特に限定されず、略球形、平板状、針状、不定形状等の種々の形状であってよい。また、上記コアシェル粒子において、コア粒子の形状は、特に限定されず、略球形、平板状、針状、不定形状等の種々の形状であってよい。そして、Ｎｉシェルの形状は、特に限定されず、微細粒子が集合することによって形成されていてもよいし、薄膜の状態で形成されていてもよい。
上述したように、本工程では、ニッケル粉末と、分散媒と、を含むニッケルスラリーを用意する。ここで、かかるニッケル粉末としては、ニッケル（Ｎｉ）を主構成元素とする粉末（粒子の集合物）であれば、その組成は特に制限されない。ニッケル粉末を構成するニッケル粒子としては、例えば、ニッケルおよびニッケル合金ならびにそれらの混合物または複合体等から構成された粒子が一例として挙げられる。ニッケル合金としては、例えば、ニッケル－パラジウム（Ｎｉ－Ｐｄ）合金、ニッケル－白金（Ｎｉ－Ｐｔ）合金、ニッケル－銅（Ｎｉ－Ｃｕ）合金等が好ましい例として挙げられる。例えば、コアがニッケル以外の銅やニッケル合金等の金属から構成され、コアを覆うシェルがニッケルからなるコアシェル粒子等を用いることもできる。ニッケル粉末が、例えば、銅を主構成元素とするＣｕコア粒子と、該Ｃｕコア粒子の表面の少なくとも一部を被覆するニッケルを主構成元素とするＮｉシェルと、からなるＣｕＮｉコアシェル粒子を含む態様において、粗大粒子がより好適に低減されたニッケルスラリーを得ることができる。なお、「主構成元素とする」とは、ニッケル粉末（Ｃｕコア粒子の場合はＣｕコア粒子に対応。Ｎｉシェルの場合はＮｉシェルに対応。）を構成する金属成分全体を１００モル％としたとき、ニッケル成分（Ｃｕコアシェルの場合は銅成分に対応。Ｎｉシェルの場合はニッケル成分に対応。）が例えば５０モル％以上、６０モル％以上、７０モル％以上、８０モル％以上、９０モル％以上、９５モル％以上であることを意味し得る。ニッケル粉末がコアシェル粒子を含む場合、ニッケル粉末の全重量を１００重量％としたとき、コアシェル粒子の配合割合は、例えば３０重量％以上であり、５０重量％以上、７０重量％以上、８０重量％以上、９０重量％以上、９５重量％以上であってもよい（１００重量％であってもよい）。なお、ニッケル粉末を構成するニッケル粒子の形状は、特に限定されず、略球形、平板状、針状、不定形状等の種々の形状であってよい。また、上記コアシェル粒子において、コア粒子の形状は、特に限定されず、略球形、平板状、針状、不定形状等の種々の形状であってよい。そして、Ｎｉシェルの形状は、特に限定されず、微細粒子が集合することによって形成されていてもよいし、薄膜の状態で形成されていてもよい。
【0019】
特に限定されるものではないが、上記コアシェル粒子において、上記Ｎｉシェルの被覆率は、例えば２０％以上であり、３０％以上、４０％以上、５０％以上であってもよい。また、上記ニッケルシェルの被覆率の上限は、１００％以下であってもよく、９５％以下、９０％以下、８０％以下、７０％以下、６０％以下であってもよい。なお、「Ｎｉシェルの被覆率」は、例えば以下の手順に基づいて測定することができる。例えば、上記コアシェル粒子がＣｕＮｉコアシェル粒子の場合、先ず、ＴＥＭ－ＥＤＸ法に基づいて、測定対象の粒子の断面におけるＮｉ元素とＣｕ元素の各々の元素マップを取得する。次に、画像解析ソフト（例えば、Ｉｍａｇｅ－Ｊ）を使用して各々の元素マップを所定のｂｉｔ画像（例えば、８－ｂｉｔ画像）に変換する。そして、ｂｉｔ変換後のＣｕ元素の元素マップを所定のピクセル値（例えば、４０～８０）で二値化し、Ｓｋｅｌｅｔｏｎｉｚｅ処理する。そして、かかる画像処理を行ったＣｕ元素の元素マップの所定のピクセル値（例えば、２５５）のドット数を「Ｃｕコア粒子の面積ＬＣｕ」として計測する。次に、ｂｉｔ変換後のＮｉ元素マップを所定のピクセル値（例えば、４０～２５５）で二値化し、Ｓｋｅｌｅｔｏｎｉｚｅ処理する。そして、かかる画像処理を行ったＮｉ元素の元素マップの所定のピクセル値（例えば、２５５）のドット数を「Ｎｉシェルの内部面積ＬＮｉ」として計測する。次に、計測したＬＣｕとＬＮｉを下記の式（Ｉ）に代入することによって、一個のコアシェル粒子におけるＮｉシェルの被覆率を算出する。そして、複数の粒子の中から平均粒子径に近い任意の１０個のコアシェル粒子のＮｉシェルの被覆率の平均値を、「Ｎｉシェルの被覆率」とすることができる。なお、コア粒子がＣｕ以外の元素を主構成元素とする場合は、上述したような方法によって該元素コアシェル粒子の面積を求め、下記式のＬＣｕの替わりに導入することによって、Ｎｉシェルの被覆率を算出することができる。
Ｎｉシェルの被覆率＝（ＬＮｉ／ＬＣｕ）×１００・・・（Ｉ）
Ｎｉシェルの被覆率＝（ＬＮｉ／ＬＣｕ）×１００・・・（Ｉ）
【0020】
特に限定されるものではないが、上記コアシェル粒子において、コア粒子の平均粒子径は概ね５ｎｍ～２０ｎｍ（例えば、１０ｎｍ～１５ｎｍ）であり、Ｎｉシェルの厚みは、３０ｎｍ～５０ｎｍ（例えば、３５ｎｍ～４５ｎｍ）であってもよい。なお、上記Ｎｉシェルの厚みは、例えば、コアシェル粒子の断面を、透過型電子顕微鏡を用いたエネルギー分散型Ｘ線分光分析（ＴＥＭ－ＥＤＸ）によって３点程度観察し、その平均値を求めることで、算出することができる。
【0021】
続いて、ニッケルスラリーの製造方法の一例について説明する。先ず、窒素雰囲気下、塩基性化合物（例えば水酸化カリウム）と、還元剤（例えばヒドラジン一水和物）と、を混合し、第１溶液を作製する。次に、ニッケル塩と、溶剤と、を混合し、第２溶液を作製する。続いて、上記第１溶液を室温（例えば２５℃程度）で撹拌しながら上記第２溶液を注ぎ、所定時間（例えば１～２時間程度）反応させる。そして、得られた粉末を適当な溶剤（例えばアセトン）によって洗浄した後、所定温度（例えば４０～５０℃程度）で所定時間（例えば１～２時間程度）乾燥させることで、ニッケル粉末を得ることができる。ここで、かかるニッケル粉末の平均粒子径は、ここで開示される技術の効果が発揮される限りにおいて特に制限されないが、例えば２００ｎｍ以下であり、粗大粒子の生成を好適に抑制するという観点から、好ましくは１５０ｎｍ以下、１２０ｎｍ以下（例えば１１５ｎｍ以下）、１００ｎｍ以下、６０ｎｍ以下である。また、ニッケル粉末の下限は、ここで開示される技術の効果が発揮される限りにおいて特に限定されないが、例えば３０ｎｍ以上であり、４０ｎｍ以上であてもよいし、５０ｎｍ以上であってもよい。なお、「平均粒子径」とは、電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）に基づく個数基準の粒度分布において、粒径の小さい側から積算値５０％に相当する粒径（以下、「Ｄ５０」ともいう）を意味する。かかる測定は、例えば、市販の装置を用いて実施することができる。
【0022】
次に、得られたニッケル粉末と、アミン化合物と、を混合し、窒素雰囲気下、所定温度（例えば１００～２００℃程度）で所定温度（例えば１０～３０分間程度）加熱し、所定温度（例えば４０～５０℃程度）まで冷却する。これによって、表面に少なくとも一部がアミン化合物によって被覆されたニッケル粉末を含むニッケルスラリーを得ることができる。
【0023】
上記ニッケル塩の一例としては、カルボン酸ニッケル、塩化ニッケル、炭酸ニッケル、硝酸ニッケル、水酸化ニッケル等が挙げられる。かかるカルボン酸ニッケルの一例としては、ギ酸ニッケルや酢酸ニッケルが挙げられる。ニッケル塩は、無水物であってもよいし、水和物であってもよい。かかる水和物としては、ギ酸ニッケル・二水和物や酢酸ニッケル・四水和物、塩化ニッケル六水和物が挙げられる。ニッケル塩としては、例えば市販のものを特に制限なく用いることができる。
【0024】
上記溶剤としては、この種の合成に用いられ得るものを特に制限なく用いることができる。かかる溶剤としては、適当な水系溶媒あるいは有機系溶媒からなる媒体が挙げられる。有機系溶剤の一例としては、ミネラルスピリット等の石油系炭化水素（特に脂肪族炭化水素）、エチレングリコールやジエチレングリコール誘導体、エタノール、トルエン、キシレン、ブチルカルビトール（ＢＣ）、イソボルニルアセテート、ターピネオール等の高沸点有機溶媒を１種類または２種以上を組み合わせたものを用いることができる。なお、溶剤としては、例えば市販のものを特に制限なく用いることができる。
【0025】
上記アミン化合物の一例としては、ｎ－プロピルアミン、ｎ－ブチルアミン、ｎ－ペンチルアミン、ｎ－ヘキシルアミン、ｎ－へプチルアミン、ｎ－オクチルアミン、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－トリデシルアミン、ｎ－テトラデシルアミン、ｎ－ペンタデシルアミン、ｎ－ヘキサデシルアミン、ｎ－へプタデシルアミン、ステアリルアミン、ｎ－ノナデシルアミン等の直鎖構造のアミン化合物；２－エチルヘキシルアミン等の分岐構造のアミン化合物；シクロプロピルアミン、シクロブチルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、シクロへプチルアミン、シクロオクチルアミン、シクロドデシルアミン等の環状構造のアミン化合物；オレイルアミン等の不飽和構造を含むアミン化合物；等が挙げられる。なお、アミン化合物としては、例えば市販のものを特に制限なく用いることができる。
【0026】
（Ｓ２：評価工程）
上述したように、本工程では、上記ニッケルスラリー中の、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する。ここで、図２は、本実施形態に係るニッケルスラリーの評価方法（評価工程）について説明するためのフローチャートである。図２に示すように、評価工程は、既知量の上記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得ること（ステップｓ１：第１ニッケル分散液調製工程に相当）；既知量の上記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得ること（ステップｓ２：第２ニッケル分散液調製工程に相当）；上記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させること（ステップｓ３：通過工程に相当）；および、上記通過させた後の上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子を観察し、上記ニッケルスラリー中の上記粗大粒子の濃度を算出すること（ステップｓ４：粗大粒子濃度の算出工程に相当）；を包含する。以下、各ステップについて説明する。
上述したように、本工程では、上記ニッケルスラリー中の、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する。ここで、図２は、本実施形態に係るニッケルスラリーの評価方法（評価工程）について説明するためのフローチャートである。図２に示すように、評価工程は、既知量の上記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得ること（ステップｓ１：第１ニッケル分散液調製工程に相当）；既知量の上記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得ること（ステップｓ２：第２ニッケル分散液調製工程に相当）；上記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させること（ステップｓ３：通過工程に相当）；および、上記通過させた後の上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子を観察し、上記ニッケルスラリー中の上記粗大粒子の濃度を算出すること（ステップｓ４：粗大粒子濃度の算出工程に相当）；を包含する。以下、各ステップについて説明する。
【0027】
先ず、ステップｓ１では、既知量の上記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得る。炭素数が１２以上であるアミン系溶剤を添加することで、第１ニッケル分散液中のニッケル粒子どうしの凝集を好適に抑制することができるため、粗大粒子の濃度を正確に評価することができる。また、上記ニッケルスラリーと、上記アミン系溶剤との混合は、例えばプロペラ型撹拌翼を用いて実施することができる。そして、ニッケル粒子どうしの凝集を好適に抑制するという観点から、かかる混合後に超音波機械等によって第１ニッケル溶液中のニッケル粒子を分散させることが好ましい。かかる混合や分散処理は、室温（例えば２５℃程度）で所定時間（例えば１０～３０分間程度）実施されることが好ましい。
【0028】
上記アミン系溶剤の一例としては、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－トリデシルアミン、ｎ－テトラデシルアミン、ｎ－ペンタデシルアミン、ｎ－ヘキサデシルアミン、ｎ－へプタデシルアミン、ステアリルアミン、ｎ－ノナデシルアミン等の直鎖構造のアミン化合物；分岐構造のアミン化合物；シクロドデシルアミン等の環状構造のアミン化合物；オレイルアミン等の不飽和構造を含むアミン化合物；等が挙げられる。このなかでも、第１ニッケル分散液中のニッケル粒子どうしの凝集をより好適に抑制するという観点から、上記アミン系溶剤が、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－テトラデシルアミン、およびオレイルアミンのうち少なくとも１種から構成されることが好ましい。なお、アミン系溶剤としては、例えば市販のものを特に制限なく用いることができる。特に限定されるものではないが、上記アミン系溶剤の炭素数の上限は、取り扱い易さの観点から、例えば２０以下とすることができる。また、上記ニッケル粉末を被覆するアミン化合物の種類と、上記アミン系溶剤の種類とは、同じであってもよいし、異なっていてもよい。上記ニッケル粉末を被覆するアミン化合物の種類と、上記アミン系溶剤の種類とが同じである場合、相互に馴染み易くなるため、好ましい。
【0029】
ここで、上記ニッケルスラリーと上記アミン系溶剤との配合量は、ここで開示される技術の効果が発揮される限りにおいて特に限定されない。上記アミン系溶剤の全体を１００重量部としたとき、上記ニッケルスラリーは、例えば０．０１～１重量部であり、０．０１～０．１重量部であってもよいし、０．０１～０．０５重量部であってもよい。
【0030】
次に、ステップｓ２では、既知量の上記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得る。炭素数が８以上であるアルコール系溶剤を添加することで、第２ニッケル分散液中のニッケル粒子どうしの凝集を好適に抑制することができるため、粗大粒子の濃度を正確に評価することができる。また、上記ニッケルスラリーと、上記アルコール系溶剤との混合は、例えばプロペラ型撹拌翼を用いて実施することができる。そして、ニッケル粒子どうしの凝集を好適に抑制するという観点から、かかる混合後に超音波機械等によって第１ニッケル溶液中のニッケル粒子を分散させることが好ましい。かかる混合や分散処理は、室温（例えば２５℃程度）で所定時間（例えば１０～３０分間程度）実施されることが好ましい。
【0031】
上記アルコール系溶剤の一例としては、ｎ－オクタノール、ｎ－ノナノール、ｎ－デカノール、ｎ－ウンデカノール、ｎ－ドデカノール、ｎ－テトラデカノール等の直鎖構造のアルコール；２－エチルヘキサノール、イソオクタノール等の分岐構造のアルコール；シクロオクタノール、シクロノナノール、シクロデカノール、シクロドデカノール等の環状構造のアルコール；オレイルアルコール等の不飽和構造を含むアミン化合物；等が挙げられる。このなかでも、第２ニッケル分散液中のニッケル粒子どうしの凝集をより好適に抑制するという観点から、上記アルコール系溶剤が、ｎ－オクタノール、ｎ－デカノール、およびｎ－ドデカノールのうち少なくとも１種から構成される。なお、アミン系溶剤としては、例えば市販のものを特に制限なく用いることができる。特に限定されるものではないが、上記アミン系溶剤の炭素数の上限は、取り扱い易さの観点から、例えば２０以下であり、１５以下とすることもできる。
【0032】
ここで、上記第１ニッケル分散液と上記アルコール系溶剤との配合量は、ここで開示される技術の効果が発揮される限りにおいて特に限定されない。上記アミン系溶剤の全体を１００重量部としたとき、上記ニッケルスラリーは、例えば０．０１～１重量部であり、０．０１～０．５重量部であってもよいし、０．０１～０．１重量部であってもよい。
【0033】
続いて、ステップｓ３では、上記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させる。かかるメンブレンフィルターとしては、例えば市販のものを特に制限なく用いることができる。また、かかるメンブレンフィルターとしては、例えば、トラックエッジドメンブレンフィルター等を用いることができる。
【0034】
そして、ステップｓ４では、上記通過させた後の上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子を観察し、上記ニッケルスラリー中の上記粗大粒子の濃度を算出する。ここで、「粗大粒子」とは、粒子の粒子径（典型的には、一次粒子の粒子径）が３００ｎｍよりも大きいニッケル粒子のことを意味する。上記粗大粒子の濃度の算出方法は特に限定されず、例えば、上記ニッケルスラリー中のニッケル粒子と、上記メンブレンフィルター上のニッケル粒子（即ち、粗大粒子）の質量をＩＣＰ法（高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法）等によって定量分析し、上記ニッケルスラリー中の上記粗大粒子の含有量（ｐｐｍ）を算出する方法が挙げられる。また、後述の［試験例］で説明するように、電界放射型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）を用いて、上記粗大粒子の濃度を算出することもできる。例えば、ＦＥ－ＳＥＭによると、上記粗大粒子を精度高く観察することができるため、好ましい。
【0035】
例えば、従来の粗大粒子の評価方法では、評価に用いるニッケル溶液中でニッケル粒子どうしが凝集した凝集粒子が生じやすく、これによって、ニッケルスラリー中の粗大粒子の濃度を正確に算出できないというような課題があった。これに対して、本発明者が鋭意検討した結果、上記構成の評価工程（ニッケルスラリーの評価方法に相当）によると、上述したような課題が解消し得ることを見出した。具体的には、第１ニッケル分散液調製工程において、ニッケルスラリーと炭素数１２以上のアミン系溶剤とを混合して第１ニッケル分散液を調製し、さらに、第２ニッケル分散液調製工程において、上記第１ニッケル分散液と炭素数８以上のアルコール系溶剤とを混合して第２ニッケル分散液を調製することによって、ニッケル粒子の凝集が好適に抑制されるように工夫している。即ち、ここで開示されるニッケルスラリーの評価方法によると、ニッケルスラリー中の粗大粒子の濃度を信頼性高く評価することができる。
【0036】
（Ｓ３：選択工程）
上述したように、本工程では、上記評価工程において、上記粗大粒子の濃度が所定値以下であったときは選択し、該粗大粒子の濃度が所定値よりも大きいときは選択しない。ここで、かかる所定値は、上記ニッケルスラリーを適用する対象等によって適宜決定することが好ましい。かかる所定値は、例えば１０００ｐｐｍであってもよいし、８００ｐｐｍであってもよいし、６００ｐｐｍであってもよい。このように、選択工程で選択されたニッケルスラリーは、粗大粒子の濃度が所定値以下であることが信頼性高く保証されたニッケルスラリーであるため、例えば電子部品の内部電極の形成等に好適に使用することができる。
上述したように、本工程では、上記評価工程において、上記粗大粒子の濃度が所定値以下であったときは選択し、該粗大粒子の濃度が所定値よりも大きいときは選択しない。ここで、かかる所定値は、上記ニッケルスラリーを適用する対象等によって適宜決定することが好ましい。かかる所定値は、例えば１０００ｐｐｍであってもよいし、８００ｐｐｍであってもよいし、６００ｐｐｍであってもよい。このように、選択工程で選択されたニッケルスラリーは、粗大粒子の濃度が所定値以下であることが信頼性高く保証されたニッケルスラリーであるため、例えば電子部品の内部電極の形成等に好適に使用することができる。
【0037】
＜ニッケルスラリー＞
上述したようなニッケルスラリーの製造方法によると、ニッケルスラリー中の粗大粒子の濃度が所定値以下であることが信頼性高く保証された高品質なニッケルスラリーを得ることができる。例えば、粗大粒子が所定値以上存在するニッケルスラリーを、電子部品（具体的には、積層セラミックコンデンサ：ＭＬＣＣ等）における内部電極層の形成に用いた場合、該内部電極層において短絡欠陥が生じ得るおそれがあるため、好ましくない。したがって、かかるニッケルスラリーによると、例えば内部電極層における短絡欠陥が好適に抑制された高品質な電子部品を得ることができる。
上述したようなニッケルスラリーの製造方法によると、ニッケルスラリー中の粗大粒子の濃度が所定値以下であることが信頼性高く保証された高品質なニッケルスラリーを得ることができる。例えば、粗大粒子が所定値以上存在するニッケルスラリーを、電子部品（具体的には、積層セラミックコンデンサ：ＭＬＣＣ等）における内部電極層の形成に用いた場合、該内部電極層において短絡欠陥が生じ得るおそれがあるため、好ましくない。したがって、かかるニッケルスラリーによると、例えば内部電極層における短絡欠陥が好適に抑制された高品質な電子部品を得ることができる。
【0038】
ニッケルスラリーにおけるニッケル粉末のＣＶ値は、ここで開示される技術の効果が発揮される限りにおいて特に制限されないが、例えば０．２以下であり、ニッケル粉末を構成するニッケル粒子どうしの凝集を好適に抑制するという観点から、好ましくは０．１５以下であり、より好ましくは０．１以下である。ここで、かかるＣＶ値（変動係数）は、ニッケル粉末の平均粒子径に対する標準偏差σの比（標準偏差σ／平均粒子径）を意味し、ＣＶ値が小さい程、ニッケル粉末を構成するニッケル粒子が均一であるということができる。また、ＣＶ値が小さい（換言すると、粒子が均一である）ニッケル粉末によると、ニッケル粒子どうしの凝集を好適に抑制することができるため、好ましいとされている。
【0039】
ニッケルスラリー中のニッケル粒子の含有量は特に制限されないが、ニッケルスラリーの全体を１００重量部としたとき、概ね３０～９０重量部程度（例えば、４０～８０重量部程度）であることが好ましい。また、ニッケルスラリー中の媒体の含有量は特に制限されないが、ニッケルスラリーの全体を１００重量部としたとき、概ね１０～７０重量部程度（例えば、２０～６０重量部程度）であることが好ましい。かかるニッケルスラリーの粘度は特に制限されないが、概ね１０～１００ｍＰａ・ｓ程度（例えば、２０～５０ｍＰａ・ｓ程度）であることが好ましい。かかる粘度は、例えば市販の粘度計によって測定することができる。
【0040】
また、ここで開示されるニッケルスラリーは、さらに必要に応じてバインダ（例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、アミン系樹脂、アルキド系樹脂、エチルセルロース等のセルロース系樹脂）、導電材、他の粉体材料（例えば、チタン酸バリウム）分散剤（例えば、カルボン酸系分散剤）、粘度調整剤等の成分等を添加することができる。
【0041】
以下、ここで開示されるに関する試験例について説明するが、本開示をかかる試験例に限定することを意図したものではない。
【0042】
［試験例］
以下の試験例では、例１～９の９種類のニッケルスラリーを合成し、各々のニッケルスラリーの評価を行った。
以下の試験例では、例１～９の９種類のニッケルスラリーを合成し、各々のニッケルスラリーの評価を行った。
【0043】
＜ニッケルスラリーの合成＞
（例１，２，６～８に係るニッケルスラリーの合成）
水酸化カリウム（富士フィルム和光純薬社製）３１．１４ｇと、ヒドラジン一水和物（富士フィルム和光純薬社製）５５．５６ｇとを混合し、第１溶液を作製した。次に、塩化ニッケル六水和物（富士フィルム和光純薬社製）２６．３８ｇと、エタノール（富士フィルム和光純薬社製）７８９ｇとを混合し、第２溶液を作製した。続いて、上記第１溶液を室温（２５℃程度）で激しく撹拌しながら上記第２溶液に注ぎ、２時間程度反応させた。そして、得られた粉末をアセトン（富士フィルム和光純薬社製）で洗浄した後、５０℃で１時間乾燥させることで、ニッケル粉末５．５ｇを得た。なお、得られたニッケル粉末の平均粒子径は、５３ｎｍであった。次に、上記ニッケル粉末５ｇをｎ－ドデシルアミン（東京化成工業社製，以下同様）１６１．２ｇと混合し、窒素雰囲気下で１０分間、１００℃で加熱した。その後、かかる混合溶液を５０℃まで自然冷却した。このようにして、粉末の表面の少なくとも一部がｎ－ドデシルアミンによって被覆されたニッケル粉末を含む、例１，２，６～８に係るニッケル粉末／ｎ－ドデシルアミンスラリー（ニッケルスラリー）を得た。ここで、かかるニッケルスラリーは、該ニッケルスラリー中のニッケル粉末の濃度が８０重量％となるように調整した。
（例１，２，６～８に係るニッケルスラリーの合成）
水酸化カリウム（富士フィルム和光純薬社製）３１．１４ｇと、ヒドラジン一水和物（富士フィルム和光純薬社製）５５．５６ｇとを混合し、第１溶液を作製した。次に、塩化ニッケル六水和物（富士フィルム和光純薬社製）２６．３８ｇと、エタノール（富士フィルム和光純薬社製）７８９ｇとを混合し、第２溶液を作製した。続いて、上記第１溶液を室温（２５℃程度）で激しく撹拌しながら上記第２溶液に注ぎ、２時間程度反応させた。そして、得られた粉末をアセトン（富士フィルム和光純薬社製）で洗浄した後、５０℃で１時間乾燥させることで、ニッケル粉末５．５ｇを得た。なお、得られたニッケル粉末の平均粒子径は、５３ｎｍであった。次に、上記ニッケル粉末５ｇをｎ－ドデシルアミン（東京化成工業社製，以下同様）１６１．２ｇと混合し、窒素雰囲気下で１０分間、１００℃で加熱した。その後、かかる混合溶液を５０℃まで自然冷却した。このようにして、粉末の表面の少なくとも一部がｎ－ドデシルアミンによって被覆されたニッケル粉末を含む、例１，２，６～８に係るニッケル粉末／ｎ－ドデシルアミンスラリー（ニッケルスラリー）を得た。ここで、かかるニッケルスラリーは、該ニッケルスラリー中のニッケル粉末の濃度が８０重量％となるように調整した。
【0044】
（例３および４に係るニッケルスラリーの合成）
ｎ－ドデシルアミンの替わりに、ｎ－テトラデシルアミン（東京化成工業社製）を用いたこと以外は例１に係るニッケルスラリーの合成方法と同様にして、粉末の表面の少なくとも一部がｎ－テトラデシルアミンによって被覆されたニッケル粉末を含む、例３および例４に係るニッケルスラリーを合成した。なお、得られたニッケル粉末の平均粒子径は、５３ｎｍであった。
ｎ－ドデシルアミンの替わりに、ｎ－テトラデシルアミン（東京化成工業社製）を用いたこと以外は例１に係るニッケルスラリーの合成方法と同様にして、粉末の表面の少なくとも一部がｎ－テトラデシルアミンによって被覆されたニッケル粉末を含む、例３および例４に係るニッケルスラリーを合成した。なお、得られたニッケル粉末の平均粒子径は、５３ｎｍであった。
【0045】
（例５に係るニッケルスラリーの合成）
酢酸ニッケル・四水和物（関西触媒化学社製品，以下同様）１５ｋｇと、オレイルアミン（花王社製品，以下同様）５６ｋｇとを反応容器内で混合し、前駆体溶液を合成した。ここで、反応容器内は窒素ガスを流すことで不活性雰囲気とした。かかる前駆体溶液を２００℃で４時間加熱した後、温度を２１０℃に昇温して１時間加熱した。そして、反応容器を５０℃まで冷却することによって、粉末の表面の少なくとも一部がオレイルアミンによって被覆されたニッケル粉末を含む、例５に係るニッケル粉末／オレイルアミンスラリー（ニッケルスラリー）を３．６ｋｇ得た。ここで、かかるニッケルスラリーは、該ニッケルスラリー中のニッケル粉末の濃度が８０重量％となるように調整した。また、得られたニッケル粉末の平均粒子径は、１１３ｎｍであった。
酢酸ニッケル・四水和物（関西触媒化学社製品，以下同様）１５ｋｇと、オレイルアミン（花王社製品，以下同様）５６ｋｇとを反応容器内で混合し、前駆体溶液を合成した。ここで、反応容器内は窒素ガスを流すことで不活性雰囲気とした。かかる前駆体溶液を２００℃で４時間加熱した後、温度を２１０℃に昇温して１時間加熱した。そして、反応容器を５０℃まで冷却することによって、粉末の表面の少なくとも一部がオレイルアミンによって被覆されたニッケル粉末を含む、例５に係るニッケル粉末／オレイルアミンスラリー（ニッケルスラリー）を３．６ｋｇ得た。ここで、かかるニッケルスラリーは、該ニッケルスラリー中のニッケル粉末の濃度が８０重量％となるように調整した。また、得られたニッケル粉末の平均粒子径は、１１３ｎｍであった。
【0046】
（例９に係るニッケルスラリーの合成）
ニッケル粉末と、ｎ－ドデシルアミンとを反応させなかった（換言すると、ニッケル粉末をアミン化合物によって被覆しなかった）こと以外は例１に係るニッケルスラリーの合成方法と同様にして、例９に係るニッケル粉末を合成した。なお、得られたニッケル粉末の平均粒子径は、５３ｎｍであった。
ニッケル粉末と、ｎ－ドデシルアミンとを反応させなかった（換言すると、ニッケル粉末をアミン化合物によって被覆しなかった）こと以外は例１に係るニッケルスラリーの合成方法と同様にして、例９に係るニッケル粉末を合成した。なお、得られたニッケル粉末の平均粒子径は、５３ｎｍであった。
【0047】
なお、ニッケル粉末の平均粒子径は、以下のようにして求めた。先ず、ＦＥ－ＳＥＭ（株式会社日立ハイテクノロジーズ製のＳＵ－８２００）を使用し、５万倍の視野のうちから５枚の画像を抽出し、ニッケル粒子を無作為的に１０００個抽出して、その投影面積を求めた。これと同じ面積を有する円の直径（Ｈｅｙｗｏｏｄ径）を計測した。そして、個数基準の粒度分布における積算５０％粒子径（Ｄ５０）を、平均粒子径（ｎｍ）として算出した。
【0048】
＜評価用ニッケルスラリーの調製＞
（例１に係る評価用ニッケルスラリーの調製）
上記のとおり合成した例１に係るニッケルスラリー０．０６ｇと、ｎ－ドデシルアミン（第１分散体に相当）６１ｇとを室温で混合し、超音波機械にて１０分間分散させることによって、第１ニッケル分散液を得た。次に、かかる第１ニッケル分散液０．３２ｇと、ｎ－デカノール（第２分散体に相当）２８．５ｇとを室温で混合し、超音波機械にて１０分間分散させることによって、第２ニッケル分散液を得た。このようにして、例１に係る評価用ニッケルスラリーを得た。
（例１に係る評価用ニッケルスラリーの調製）
上記のとおり合成した例１に係るニッケルスラリー０．０６ｇと、ｎ－ドデシルアミン（第１分散体に相当）６１ｇとを室温で混合し、超音波機械にて１０分間分散させることによって、第１ニッケル分散液を得た。次に、かかる第１ニッケル分散液０．３２ｇと、ｎ－デカノール（第２分散体に相当）２８．５ｇとを室温で混合し、超音波機械にて１０分間分散させることによって、第２ニッケル分散液を得た。このようにして、例１に係る評価用ニッケルスラリーを得た。
【0049】
（例２～５に係る評価用ニッケルスラリーの調製）
第１ニッケル分散液の調製時に用いるアミン化合物の種類および第２ニッケル分散液の調製時に用いるアルコールの種類を表１に示すとおりとしたこと以外は例１に係る評価用ニッケルスラリーの調製方法と同様にして、例２～５に係る評価用ニッケルスラリーを調製した。
第１ニッケル分散液の調製時に用いるアミン化合物の種類および第２ニッケル分散液の調製時に用いるアルコールの種類を表１に示すとおりとしたこと以外は例１に係る評価用ニッケルスラリーの調製方法と同様にして、例２～５に係る評価用ニッケルスラリーを調製した。
【0050】
（例６に係る評価用ニッケルスラリーの調製）
上記のとおり合成した例６に係るニッケルスラリーをそのまま例６に係る評価用ニッケルスラリーとした。
上記のとおり合成した例６に係るニッケルスラリーをそのまま例６に係る評価用ニッケルスラリーとした。
【0051】
（例７に係る評価用ニッケルスラリーの調製）
ニッケルスラリーと、ｎ－ドデシルアミン（アミン系溶剤）との混合を行わなかったこと以外は例１に係る評価用ニッケルスラリーの調製方法と同様にして、例７に係る評価用ニッケルスラリーを調製した。
ニッケルスラリーと、ｎ－ドデシルアミン（アミン系溶剤）との混合を行わなかったこと以外は例１に係る評価用ニッケルスラリーの調製方法と同様にして、例７に係る評価用ニッケルスラリーを調製した。
【0052】
（例８に係る評価用ニッケルスラリーの調製）
第２ニッケルスラリーと、ｎ－デカノール（アルコール系溶剤）との混合を行わなかったこと以外は例１に係る評価用ニッケルスラリーの調製方法と同様にして、例８に係る評価用ニッケルスラリーを調製した。
第２ニッケルスラリーと、ｎ－デカノール（アルコール系溶剤）との混合を行わなかったこと以外は例１に係る評価用ニッケルスラリーの調製方法と同様にして、例８に係る評価用ニッケルスラリーを調製した。
【0053】
（例９に係る評価用ニッケルスラリーの調製）
上記のとおり合成した例９に係るニッケル粉末０．４８ｇと、ｎ－テトラデシルアミン（第１分散体に相当）６１ｇとを室温で混合し、超音波機械にて１０分間分散させることによって、第１ニッケル分散液を得た。次に、かかる第１ニッケル分散液０．３２ｇと、ｎ－デカノール（第２分散体に相当）２８．５ｇとを室温で混合し、超音波機械にて１０分間分散させることによって、第２ニッケル分散液を得た。このようにして、例９に係る評価用ニッケルスラリーを得た。
上記のとおり合成した例９に係るニッケル粉末０．４８ｇと、ｎ－テトラデシルアミン（第１分散体に相当）６１ｇとを室温で混合し、超音波機械にて１０分間分散させることによって、第１ニッケル分散液を得た。次に、かかる第１ニッケル分散液０．３２ｇと、ｎ－デカノール（第２分散体に相当）２８．５ｇとを室温で混合し、超音波機械にて１０分間分散させることによって、第２ニッケル分散液を得た。このようにして、例９に係る評価用ニッケルスラリーを得た。
【0054】
＜ニッケルスラリーの評価＞
上記のとおり調製した各例に係る評価用ニッケルスラリー全量と、市販の最大孔径が３００ｎｍ以下である複数の孔を有するトラックエッジドメンブレンフィルターに通した。かかるメンブレンフィルターとしては、サイティバ社製品のニュークリポアメンブレン０．２μｍを使用した。そして、メンブレンフィルターの上部における横×縦：２４μｍ×１８．５μｍの領域を３０箇所選択し、該３０箇所の領域（図５の四角枠部分に対応。領域の面積は、３０×２４μｍ×１８．５μｍ＝０．０１３３２ｍｍ２）をＦＥ－ＳＥＭ（株式会社日立ハイテクノロジーズ製のＳ－８２００）を用いて倍率：５千倍で観察することによって、粗大粒子濃度を測定した。
上記のとおり調製した各例に係る評価用ニッケルスラリー全量と、市販の最大孔径が３００ｎｍ以下である複数の孔を有するトラックエッジドメンブレンフィルターに通した。かかるメンブレンフィルターとしては、サイティバ社製品のニュークリポアメンブレン０．２μｍを使用した。そして、メンブレンフィルターの上部における横×縦：２４μｍ×１８．５μｍの領域を３０箇所選択し、該３０箇所の領域（図５の四角枠部分に対応。領域の面積は、３０×２４μｍ×１８．５μｍ＝０．０１３３２ｍｍ２）をＦＥ－ＳＥＭ（株式会社日立ハイテクノロジーズ製のＳ－８２００）を用いて倍率：５千倍で観察することによって、粗大粒子濃度を測定した。
【0055】
ここで、例１を例にして、粗大粒子濃度の算出方法の詳細について説明する。先ず、第１ニッケル分散液について考える。ニッケルスラリー中のニッケル粒子濃度が８０重量％であることを考慮すると、ニッケルスラリー０．０６ｇ中のニッケル粒子は０．０４８ｇ（＝０．８×０．０６ｇ）であり、ｎ－ドデシルアミンは０．０１２ｇ（＝０．２×０．０６ｇ）である。そして、第１ニッケル分散液中のニッケル粒子濃度は、０．０７９％（＝｛０．０４８／（０．０４８＋６１）｝×１００％）となる。また、第１ニッケル分散液中のニッケル粒子の重量は、０．０００２５ｇ（＝（０．０７９／１００）×０．３２ｇ）であり、ｎ－ドデシルアミンの重量は、０．３１９７５ｇ（＝０．３２－０．０００２５ｇ）となる。次に、第２ニッケル分散液については、第２ニッケル分散液中のニッケル粒子の重量は、０．０００２５ｇ、ｎ－ドデシルアミンの重量は、０．３１９７５ｇ、ｎ－デカノールの重量は２８．５ｇとなる。続いて、例１に係るニッケル粉末の平均粒子径は５３ｎｍであることを考慮すると、ニッケル粒子１個当たりの平均体積は、７．７９×１０―１７ｃｍ３（＝（４／３）×３．１４×｛（０．０５３／２）×（１／１００００）｝３ｃｍ３）となる。そして、ニッケル粒子の密度は８．９ｇ／ｃｍ３であるため、ニッケル粒子１個当たりの平均質量は、６．９３×１０―１６ｇ（＝８．９×７．７９×１０―１７ｇ）となる。つまり、第２ニッケル分散液中のニッケル粒子の個数は、３．６×１０１１個（＝０．０００２５／（６．９３×１０―１６）個）となる。
【0056】
図３は、粗大粒子濃度の算出方法について説明するための説明図である。図３中の１は、メンブレンフィルターを示しており、１０は、第２ニッケル分散液を通過させたスポットを示している。本試験例では、Ｐは４７ｍｍであり、Ｑは３５ｍｍとしている。メンブレンフィルター１の面積は、９６１．６２５ｍｍ２（＝３．１４×（３５／２）×（３５／２）ｍｍ２）となる。次に、メンブレンフィルター１の四角枠部分を切り取り、ＦＥ－ＳＥＭで倍率：５千倍で３０視野観察した。かかる切り出した四角枠部分における１視野あたりの面積は、４４４μｍ２（＝１８．５μｍ×２４μｍ）であるため、該四角枠部分の面積は、０．０１３３２ｍｍ２（＝３０×４４４×１０―６ｍｍ２）である。そして、かかる四角枠部分を通過したニッケル粒子の個数は、４９８６５５９個（＝（０．０１３３２／９６１．６２５）×３．６×１０１１個）となる。そして、３０個に切り分けた各メンブレンフィルターについて、ＦＥ－ＳＥＭによって残存粒子（即ち、粗大粒子）の個数を数えたところ、合計で６０９個の粗大粒子が確認された。つまり、例１に係る粗大粒子濃度は、１２２ｐｐｍ（＝（６０９／４９８６５５９）×１００００００ｐｐｍ）となる。例２～５に係るニッケルスラリー中の粗大粒子濃度に関しても、例１を参照して算出することができる。結果を表１の該当欄に示した。
【0057】
なお、例１～５では、メンブレンフィルターの上部をＦＥ－ＳＥＭを用いて倍率：５千倍で観察した際に、ニッケル粒子どうしが凝集した凝集粒子が含まれていないことが確認され、粗大粒子の濃度を正確に算出することができた。これに対して、例６～８では、評価用スラリーをメンブレンフィルターに通過させた際にニッケル粒子どうしの凝集によって目詰まりが生じ、粗大粒子の濃度を算出することができなかった。そして、例９では、メンブレンフィルター上のニッケル粒子どうしが凝集しており、粗大粒子の濃度を算出することができなかった。表１の「評価性」の欄には、粗大粒子濃度を算出することができた例に対して評価性「可」、粗大粒子濃度を算出することができなかった例に対して評価性「不可」と記載している。
【0058】
【表1】
【0059】
表１に示すように、ニッケルスラリーの評価において、既知量のニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得る、第１ニッケル分散液調製工程；既知量の上記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得る、第２ニッケル分散液調製工程；上記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させる、通過工程；および、上記通過させた後の上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子を観察し、上記第２ニッケル分散液中の上記粗大粒子の濃度を算出する、粗大粒子濃度の算出工程；を包含する例１～５に係るニッケルスラリーの評価方法によると、第１ニッケル分散液調製工程および／または第２ニッケル分散液調製工程を含まない例６～８に係るニッケルスラリーの評価方法や、アミン化合物が被覆されていないニッケル粉末を用いる例９に係るニッケルスラリーの評価方法と比較して、粗大粒子濃度を好適に算出できることが確認された。即ち、ここで開示されるニッケルスラリーの評価方法によると、ニッケルスラリー中の粗大粒子濃度を信頼性高く評価することができる。また、ここで開示されるニッケルスラリーの評価方法を包含するニッケルスラリーの製造方法によると、ニッケルスラリー中の粗大粒子の濃度が所定値以下（例えば、１０００ｐｐｍ以下）であることをより信頼性高く保証することができる。これによって、ニッケルスラリー中の粗大粒子の濃度が所定値以下であることが信頼性高く保証された、高品質なニッケルスラリーを提供することができる。
【0060】
以上、本開示の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。
【0061】
以上のとおり、ここで開示される技術の具体的な態様として、以下の各項（ｉｔｅｍ）に記載のものが挙げられる。
項１：ニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーの製造方法であって、以下の工程：上記ニッケル粉末と、上記分散媒と、を含むニッケルスラリーを用意する用意工程，ここで、上記ニッケル粉末は、アミン化合物によって被覆されている；上記ニッケルスラリー中の、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、評価工程；および、上記評価工程において、上記粗大粒子の濃度が所定値以下であったときは選択し、該粗大粒子の濃度が所定値よりも大きいときは選択しない、選択工程；を包含し、ここで、上記評価工程は、既知量の上記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得ること；既知量の上記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得ること；上記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させること；および、上記通過させた後の上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子を観察し、上記ニッケルスラリー中の上記粗大粒子の濃度を算出すること；を包含する、ニッケルスラリーの製造方法。
項２：上記アミン系溶剤は、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－テトラデシルアミン、およびオレイルアミンからなる群から選択される少なくとも１種である、項１に記載のニッケルスラリーの製造方法。
項３：上記アルコール系溶剤は、ｎ－オクタノール、ｎ－デカノール、およびｎ－ドデカノールからなる群から選択される少なくとも１種である、項１または項２に記載のニッケルスラリーの製造方法。
項４：上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子の観察は、電界放射型走査電子顕微鏡を用いて行う、項１～項３のいずれか一つに記載のニッケルスラリーの製造方法。
項５：アミン化合物で被覆されたニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーにおいて、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、ニッケルスラリーの評価方法であって、以下の工程；既知量の上記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得る、第１ニッケル分散液調製工程；既知量の上記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得る、第２ニッケル分散液調製工程；上記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させる、通過工程；および、上記通過させた後の上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子を観察し、上記第２ニッケル分散液中の上記粗大粒子の濃度を算出する、粗大粒子濃度の算出工程；を包含する、ニッケルスラリーの評価方法。
項６：上記アミン系溶剤は、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－テトラデシルアミン、およびオレイルアミンからなる群から選択される少なくとも１種である、項５に記載のニッケルスラリーの評価方法。
項７：上記アルコール系溶剤は、ｎ－オクタノール、ｎ－デカノール、およびｎ－ドデカノールからなる群から選択される少なくとも１種である、項５または項６に記載のニッケルスラリーの評価方法。
項８：上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子の観察は、電界放射型走査電子顕微鏡を用いて行う、項５～項７のいずれか一つに記載のニッケルスラリーの評価方法。
項１：ニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーの製造方法であって、以下の工程：上記ニッケル粉末と、上記分散媒と、を含むニッケルスラリーを用意する用意工程，ここで、上記ニッケル粉末は、アミン化合物によって被覆されている；上記ニッケルスラリー中の、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、評価工程；および、上記評価工程において、上記粗大粒子の濃度が所定値以下であったときは選択し、該粗大粒子の濃度が所定値よりも大きいときは選択しない、選択工程；を包含し、ここで、上記評価工程は、既知量の上記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得ること；既知量の上記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得ること；上記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させること；および、上記通過させた後の上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子を観察し、上記ニッケルスラリー中の上記粗大粒子の濃度を算出すること；を包含する、ニッケルスラリーの製造方法。
項２：上記アミン系溶剤は、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－テトラデシルアミン、およびオレイルアミンからなる群から選択される少なくとも１種である、項１に記載のニッケルスラリーの製造方法。
項３：上記アルコール系溶剤は、ｎ－オクタノール、ｎ－デカノール、およびｎ－ドデカノールからなる群から選択される少なくとも１種である、項１または項２に記載のニッケルスラリーの製造方法。
項４：上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子の観察は、電界放射型走査電子顕微鏡を用いて行う、項１～項３のいずれか一つに記載のニッケルスラリーの製造方法。
項５：アミン化合物で被覆されたニッケル粉末と、該ニッケル粉末を分散させる分散媒と、を含むニッケルスラリーにおいて、粒子径が３００ｎｍよりも大きい粗大粒子の濃度を評価する、ニッケルスラリーの評価方法であって、以下の工程；既知量の上記ニッケルスラリーと、炭素数が１２以上であるアミン系溶剤と、を混合し、第１ニッケル分散液を得る、第１ニッケル分散液調製工程；既知量の上記第１ニッケル分散液と、炭素数が８以上であるアルコール系溶剤と、を混合し、第２ニッケル分散液を得る、第２ニッケル分散液調製工程；上記第２ニッケル分散液を、最大孔径が３００ｎｍ以下のメンブレンフィルターに通過させる、通過工程；および、上記通過させた後の上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子を観察し、上記第２ニッケル分散液中の上記粗大粒子の濃度を算出する、粗大粒子濃度の算出工程；を包含する、ニッケルスラリーの評価方法。
項６：上記アミン系溶剤は、ｎ－ドデシルアミン、ｎ－テトラデシルアミン、およびオレイルアミンからなる群から選択される少なくとも１種である、項５に記載のニッケルスラリーの評価方法。
項７：上記アルコール系溶剤は、ｎ－オクタノール、ｎ－デカノール、およびｎ－ドデカノールからなる群から選択される少なくとも１種である、項５または項６に記載のニッケルスラリーの評価方法。
項８：上記メンブレンフィルター上に存在する上記粗大粒子の観察は、電界放射型走査電子顕微鏡を用いて行う、項５～項７のいずれか一つに記載のニッケルスラリーの評価方法。
【符号の説明】
【0062】
１ メンブレンフィルター
１０ スポット
１０ スポット
【図1】
【図2】
【図3】