特開 2024-117952 液体噴射ヘッドの洗浄方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024117952

(43)【公開日】2024-08-30

(54)【発明の名称】液体噴射ヘッドの洗浄方法

(51)【国際特許分類】

   B41J 2/165 20060101AFI20240823BHJP

   B41J 2/18 20060101ALI20240823BHJP

【ＦＩ】

B41J2/165 203

B41J2/165 205

B41J2/18

B41J2/165 401

B41J2/165 501

【審査請求】未請求

【請求項の数】6

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023024068

(22)【出願日】2023-02-20

(71)【出願人】

【識別番号】000002369

【氏名又は名称】セイコーエプソン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100179475

【弁理士】

【氏名又は名称】仲井 智至

(74)【代理人】

【識別番号】100216253

【弁理士】

【氏名又は名称】松岡 宏紀

(74)【代理人】

【識別番号】100225901

【弁理士】

【氏名又は名称】今村 真之

(72)【発明者】

【氏名】長谷川 優

(72)【発明者】

【氏名】奥井 宏明

(72)【発明者】

【氏名】谷内 章紀

【テーマコード（参考）】

2C056

【Ｆターム（参考）】

2C056EA14

2C056EA16

2C056EB34

2C056EB38

2C056EB52

2C056EC53

2C056JB15

2C056JC13

2C056KA01

2C056KB16

2C056KB35

2C056KC02

(57)【要約】

【課題】簡単な構成で、ノズル内に固着した固化インクを除去することができる液体噴射ヘッドの洗浄方法を提供する。
【解決手段】液体噴射内に洗浄液を充填する充填工程と、充填工程によって洗浄液が液体噴射ヘッド内に充填された状態で第１期間、液体噴射ヘッドを放置する第１放置工程と、複数のノズルのうち閾値以上の一部のノズル（回復ノズル２１Ａ）が回復したかどうかを判断する第１判断工程と、第１判断工程で閾値以上の回復ノズル２１Ａがある場合、液体噴射ヘッドへ洗浄液を加圧供給することで、噴射面２３を介して未回復ノズル２１Ｂへ供給する加圧工程と、を備える。
【選択図】図１３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

液体を噴射するための複数のノズルを有する噴射面を備える液体噴射ヘッドの洗浄方法であって、
前記液体噴射ヘッド内に洗浄液を充填する充填工程と、
前記充填工程によって洗浄液が前記液体噴射ヘッド内に充填された状態で第１期間、前記液体噴射ヘッドを放置する第１放置工程と、
前記複数のノズルのうち閾値以上の一部のノズルが回復したかどうかを判断する第１判断工程と、
前記第１判断工程で前記複数のノズルのうち閾値以上の一部のノズルが回復した場合、前記液体噴射ヘッドへ洗浄液を加圧供給することで、前記噴射面を介して前記複数のノズルの一部から排出された洗浄液を前記複数のノズルの残部へ供給する加圧工程と、
を備える
ことを特徴とする液体噴射ヘッドの洗浄方法。

【請求項2】

前記第１判断工程で前記複数のノズルのうち閾値以上の一部のノズルが回復した場合、前記加圧工程の後に、前記第１期間よりも短い第２期間の間、前記液体噴射ヘッドを放置する第２放置工程を備える、
ことを特徴とする請求項１に記載の液体噴射ヘッドの洗浄方法。

【請求項3】

前記第２放置工程の後、前記複数のノズルのうち一部のノズルから前記噴射面上に洗浄液が滲み出る程度に前記液体噴射ヘッドへ洗浄液を加圧供給する前記加圧工程を行い、
前記加圧工程後、再度、前記第２放置工程を行う、
ことを特徴とする請求項２に記載の液体噴射ヘッドの洗浄方法。

【請求項4】

前記第１判断工程で前記複数のノズルのうち閾値以上の一部のノズルが回復していない場合、再度、前記液体噴射ヘッド内の洗浄液を新しい洗浄液に置換する再充填工程を備える、
ことを特徴とする請求項１から請求項３の何れか一項に記載の液体噴射ヘッドの洗浄方法。

【請求項5】

前記再充填工程の後、前記第１期間よりも短い第３期間、前記液体噴射ヘッドを放置する第３放置工程を備える、
ことを特徴とする請求項４に記載の液体噴射ヘッドの洗浄方法。

【請求項6】

前記複数のノズルのそれぞれに連通する複数の個別流路と、前記複数の個別流路に液体を供給するための供給流路と、前記複数の個別流路から液体を回収するための回収流路と、を備える液体噴射ヘッドの洗浄方法であって、
前記充填工程は、洗浄液を前記供給流路、前記複数の個別流路、前記回収流路の順に流動させることで、前記液体噴射ヘッド内に充填されていた洗浄液とは異なる液体を洗浄液に置換する、
ことを特徴とする請求項１に記載の液体噴射ヘッドの洗浄方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、液体を噴射する液体噴射ヘッドの洗浄方法に関し、特に液体としてインクを噴射するインクジェット式記録ヘッドの洗浄方法に関する。

【背景技術】

【0002】

液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドは、例えば、ノズルに連通する圧力発生室が設けられた流路形成基板に、圧力発生室内のインクに圧力変化を生じさせる圧力発生手段を備え、この圧力発生手段の駆動によって圧力発生室を画定する振動板を変形させて圧力室内のインクに圧力変化を生じさせることで、ノズルからインク滴を噴射させる。

【0003】

このような液体噴射ヘッドに対して、洗浄液を含浸させた不織布に液体噴射ヘッドのノズル面を浸した状態で洗浄液に超音波振動を作用させることで、ノズル内に固着した固化インクを除去する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１０－２１４７３２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、従来技術では、超音波洗浄装置を用意する必要があり、装置構成が複雑化し、高価となる問題がある。そこで、超音波洗浄装置のような特殊な洗浄装置を必要とせずに、ノズル内に固着した固化インクを除去する技術が要望されている。

【0006】

なお、このような問題は、インクを噴射するインクジェット式記録ヘッドの洗浄方法に限定されず、インク以外の液体を噴射する液体噴射ヘッドにおいても同様である。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決する本発明の態様は、液体を噴射するための複数のノズルを有する噴射面を備える液体噴射ヘッドの洗浄方法であって、前記液体噴射ヘッド内に洗浄液を充填する充填工程と、前記充填工程によって洗浄液が前記液体噴射ヘッド内に充填された状態で第１期間、前記液体噴射ヘッドを放置する第１放置工程と、前記複数のノズルのうち閾値以上の一部のノズルが回復したかどうかを判断する第１判断工程と、前記第１判断工程で前記複数のノズルのうち閾値以上の一部のノズルが回復した場合、前記液体噴射ヘッドへ洗浄液を加圧供給することで、前記噴射面を介して前記複数のノズルの一部から排出された洗浄液を前記複数のノズルの残部へ供給する加圧工程と、を備えることを特徴とする液体噴射ヘッドの洗浄方法にある。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】実施形態１に係る液体噴射装置の概略構成を示す図である。

【図2】液体循環装置の概略構成を示す図である。

【図3】液体噴射ヘッドの分解斜視図である。

【図4】液体噴射ヘッドの断面図である。

【図5】ヘッドチップの分解斜視図である。

【図6】ヘッドチップに形成される流路の平面図である。

【図7】図６のＡ－Ａ線断面図である。

【図8】実施形態１の洗浄方法のフローチャートである。

【図9】実施形態１の洗浄方法のフローチャートである。

【図10】洗浄液を充填する充填工程における記録装置の図である。

【図11】洗浄液からインクに置換する置換工程における記録装置の図である。

【図12】インクを噴射する噴射工程における記録装置の図である。

【図13】加圧工程を実行しているときのノズルの要部を拡大した断面図である。

【図14】変形例１の洗浄方法のフローチャートである。

【図15】変形例１の洗浄方法のフローチャートである。

【図16】変形例２の洗浄方法のフローチャートである。

【図17】変形例２の洗浄方法のフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。ただし、以下の説明は、本発明の一態様を示すものであって、本発明の範囲内で任意に変更可能である。

【0010】

各図においてＸ、Ｙ、Ｚは、互いに直交する３つの空間軸を表している。正方向及び負方向を限定せず、それら３つの軸に沿った方向をＸ方向、Ｙ方向、及びＺ方向とする。各図の矢印が向かう方向をＸ１方向、Ｙ１方向、Ｚ１方向、矢印の反対方向をＸ２方向、Ｙ２方向、Ｚ２方向とする。Ｚ１方向は鉛直方向の下向きであり、Ｚ２方向は鉛直方向の上向きである。なお、Ｚ方向は鉛直方向である必要はない。さらに、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸は互いに直交するがこれに限定されず、例えば、８０度以上１００度以下の範囲内の角度で交差していてもよい。

【0011】

〈実施形態１〉
図１に示すインクジェット式記録装置（以下、単に「記録装置」と称する）１は、「液体噴射装置」の一例であり、「液体」の一種であるインクをインク滴として印刷用紙等の媒体Ｓに噴射・着弾させて、当該媒体Ｓに形成されるドットの配列により画像等の印刷を行う印刷装置である。なお、媒体Ｓとしては、記録用紙の他、樹脂フィルムや布等の任意の材質を用いることができる。

【0012】

記録装置１は、インクジェット式ヘッド２（以下、単に「ヘッド２」とも称する）と、制御部３と、媒体Ｓを送り出す搬送機構４と、ヘッド２を移動させる移動機構６と、液体循環装置５００と、を具備する。インクジェット式ヘッド２は、「液体噴射ヘッド」の一例である。

【0013】

ヘッド２は、液体循環装置５００から供給されるインクを複数のノズル２１（図５参照）から媒体Ｓに噴射する。ヘッド２の詳細な構成は後述する。制御部３は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）またはＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等の制御装置と、半導体メモリー等の記憶装置と、を備えている。制御部３は、記憶装置に記憶されたプログラムを制御装置が実行することで記録装置１の各要素、すなわち、ヘッド２、搬送機構４等を統括的に制御する。

【0014】

搬送機構４は、媒体ＳをＸ方向に搬送するものであり、搬送ローラー５を有する。すなわち搬送機構４は、搬送ローラー５が回転することで媒体ＳをＸ軸方向に搬送する。なお媒体Ｓを搬送する搬送機構４は、搬送ローラー５を備えるものに限られず、例えば、ベルトやドラムによって媒体Ｓを搬送するものであってもよい。

【0015】

移動機構６は、搬送体６ａと搬送ベルト６ｂとを具備する。搬送体６ａは、液体噴射ヘッド２を収容する略箱形の構造体、所謂、キャリッジであり、搬送ベルト６ｂに固定される。搬送ベルト６ｂは、Ｙ軸方向に沿って架設された無端ベルトである。搬送ベルト６ｂは、図示しない搬送モーターの駆動によって回転する。制御部３は、搬送モーターの駆動を制御することで搬送ベルト６ｂを回転させて、液体噴射ヘッド２を搬送体６ａと共にＹ軸方向に図示しないガイドレールに沿って往復移動する。

【0016】

図２に液体循環装置５００の構成を例示する。液体循環装置５００は、ヘッド２への液体の供給、及びヘッド２からの液体の回収を行う装置であり、液体としてはインクＩＬ及び洗浄液Ｗである。インクＩＬは、ヘッド２が噴射可能なものであればよく、特に種類は限定されない。洗浄液Ｗは、例えばインクＩＬの溶媒、つまり、色材を含まないものや、純水、水溶性アルコールなどの水溶性溶剤、水酸化カリウム等を用いることができ、必要に応じて界面活性剤や消泡剤を添加させたものであってもよい。

【0017】

液体循環装置５００は、ヘッド２へのインクＩＬの供給及び回収を行う構成として、メインタンク５１０と、供給側サブタンク５１１と、回収側サブタンク５１２と、第１供給ポンプ５１４と、戻しポンプ５１５と、供給チューブ５０１、回収チューブ５０２と、インク供給チューブ５０３と、インク回収チューブ５０５と、第１三方弁５３１と、第２三方弁５３２と、を備えている。

【0018】

メインタンク５１０はヘッド２から噴射されるインクＩＬを貯留する。メインタンク５１０としては、例えば、記録装置１に着脱可能なカートリッジ、可撓性のフィルムで形成された袋状のインクパック、インクＩＬを補充可能なインクタンクなどが挙げられる。

【0019】

第１供給ポンプ５１４は、メインタンク５１０に貯留されたインクＩＬを供給側サブタンク５１１に供給するポンプである。第１供給ポンプ５１４と供給側サブタンク５１１との間には、第１逆止弁５１３が設けられている。第１逆止弁５１３は、メインタンク５１０から供給側サブタンク５１１へインクＩＬが一方的に流通し、逆流しないように設けられている。戻しポンプ５１５は、供給側サブタンク５１１に貯留されたインクＩＬをヘッド２に供給するためのポンプである。

【0020】

供給側サブタンク５１１は、メインタンク５１０から供給されるインクＩＬを一時的に貯留する容器である。また、供給側サブタンク５１１は、回収側サブタンク５１２から戻しポンプ５１５によって供給されるインクＩＬも貯留する。供給側サブタンク５１１は、インク供給チューブ５０３、第１三方弁５３１及び供給チューブ５０１を介してヘッド２に接続されている。インク供給チューブ５０３、第１三方弁５３１及び供給チューブ５０１は、この順で接続されており、供給側サブタンク５１１からヘッド２へ供給されるインクＩＬの流路を構成している。

【0021】

供給側サブタンク５１１には、第１電磁弁５４１が設けられている。第１電磁弁５４１は、供給側サブタンク５１１の内部と外部とを連通させ、または遮断する。第１電磁弁５４１が開状態となることで供給側サブタンク５１１のインクＩＬを貯留している部分が大気開放される。

【0022】

供給側サブタンク５１１には、第１コンプレッサー５５１が第１レギュレーター５７１を介して接続されている。第１コンプレッサー５５１は圧縮空気を生成する公知の装置であり、第１レギュレーター５７１はその圧縮空気を任意の圧力に調整する公知の装置である。本実施形態では第１コンプレッサー５５１及び第１レギュレーター５７１は圧縮空気を所望の圧力に調整して供給側サブタンク５１１に供給するように構成されている。

【0023】

供給側サブタンク５１１には、第１圧力センサー５８１及び第１液面センサー５９１が設けられている。第１圧力センサー５８１は、供給側サブタンク５１１のインクＩＬに掛かる圧力を測定する公知の装置である。第１液面センサー５９１は、供給側サブタンク５１１に貯留されているインクＩＬの液面を検出する公知の装置である。

【0024】

回収側サブタンク５１２は、ヘッド２から回収したインクＩＬを一時的に貯留する容器である。回収側サブタンク５１２は、回収チューブ５０２、第２三方弁５３２及びインク回収チューブ５０５を介してヘッド２に接続されている。回収チューブ５０２、第２三方弁５３２及びインク回収チューブ５０５、この順で接続されており、ヘッド２から回収側サブタンク５１２へ回収されるインクＩＬの流路を構成している。また、回収側サブタンク５１２は、貯留したインクＩＬを戻しポンプ５１５によって供給側サブタンク５１１へ供給する。

【0025】

回収側サブタンク５１２には、第２電磁弁５４２が設けられている。第２電磁弁５４２は、回収側サブタンク５１２の内部と外部とを連通させる、または遮断する。第２電磁弁５４２が開状態となることで回収側サブタンク５１２のインクＩＬを貯留している部分が大気開放される。

【0026】

回収側サブタンク５１２には、第１真空ポンプ５６１が第２レギュレーター５７２を介して接続されている。第１真空ポンプ５６１は真空または負圧を発生させる公知の装置であり、第２レギュレーター５７２は第１真空ポンプ５６１で発生させた負圧を任意の圧力に調整する公知の装置である。本実施形態では第１真空ポンプ５６１及び第２レギュレーター５７２は回収側サブタンク５１２内を任意の負圧にすることが可能となるように構成されている。

【0027】

回収側サブタンク５１２には、第２圧力センサー５８２及び第２液面センサー５９２が設けられている。第２圧力センサー５８２は、回収側サブタンク５１２のインクＩＬに掛かる圧力を測定する公知の装置である。第２液面センサー５９２は、回収側サブタンク５１２に貯留されているインクＩＬの液面を検出する公知の装置である。

【0028】

液体循環装置５００は、ヘッド２への洗浄液Ｗの供給及び回収を行う構成として、洗浄液メインタンク５２０と、洗浄液サブタンク５２１と、廃液タンク５２２と、第２供給ポンプ５２４と、洗浄液供給チューブ５０４と、廃液回収チューブ５０６と、第１三方弁５３１と、第２三方弁５３２と、を備えている。

【0029】

洗浄液メインタンク５２０は、ヘッド２の流路を洗浄するための洗浄液Ｗを貯留する。洗浄液メインタンク５２０としては、例えば、洗浄液Ｗを貯留したタンク、洗浄液Ｗを補充可能なタンクなどが挙げられる。

【0030】

第２供給ポンプ５２４は、洗浄液メインタンク５２０に貯留された洗浄液Ｗを洗浄液サブタンク５２１に供給するポンプである。第２供給ポンプ５２４と洗浄液サブタンク５２１との間には、第２逆止弁５２３が設けられている。第２逆止弁５２３は、洗浄液メインタンク５２０から洗浄液サブタンク５２１へ洗浄液Ｗが一方的に流通し、逆流しないように設けられている。

【0031】

洗浄液サブタンク５２１は、洗浄液メインタンク５２０から供給される洗浄液Ｗを一時的に貯留する容器である。洗浄液サブタンク５２１は、洗浄液供給チューブ５０４、第１三方弁５３１及び供給チューブ５０１を介してヘッド２に接続されている。洗浄液供給チューブ５０４、第１三方弁５３１及び供給チューブ５０１は、この順で接続されており、洗浄液サブタンク５２１からヘッド２へ供給される洗浄液Ｗの流路を構成している。

【0032】

洗浄液サブタンク５２１には、第３電磁弁５４３が設けられている。第３電磁弁５４３は、洗浄液サブタンク５２１の内部と外部とを連通させ、または遮断する。第３電磁弁５４３が開状態となることで洗浄液サブタンク５２１の洗浄液Ｗを貯留している部分が大気開放される。

【0033】

洗浄液サブタンク５２１には、第２コンプレッサー５５２が第３レギュレーター５７３を介して接続されている。第２コンプレッサー５５２は圧縮空気を生成する公知の装置であり、第３レギュレーター５７３はその圧縮空気を任意の圧力に調整する公知の装置である。本実施形態では第２コンプレッサー５５２及び第３レギュレーター５７３は圧縮空気を所望の圧力に調整して洗浄液サブタンク５２１に供給するように構成されている。

【0034】

洗浄液サブタンク５２１には、第３圧力センサー５８３及び第３液面センサー５９３が設けられている。第３圧力センサー５８３は、洗浄液サブタンク５２１の洗浄液Ｗに掛かる圧力を測定する公知の装置である。第３液面センサー５９３は、洗浄液サブタンク５２１に貯留されている洗浄液Ｗの液面を検出する公知の装置である。

【0035】

廃液タンク５２２は、ヘッド２から回収した廃液を一時的に貯留する容器である。廃液とは、ヘッド２から廃液タンク５２２へ排出されたインクＩＬ、ヘッド２から排出された洗浄液Ｗ、またはヘッド２から排出されたインクＩＬを含む洗浄液Ｗをいう。廃液タンク５２２は、回収チューブ５０２、第２三方弁５３２及び廃液回収チューブ５０６を介してヘッド２に接続されている。回収チューブ５０２、第２三方弁５３２及び廃液回収チューブ５０６、この順で接続されており、ヘッド２から廃液タンク５２２へ回収される廃液の流路を構成している。

【0036】

廃液タンク５２２には、第４電磁弁５４４が設けられている。第４電磁弁５４４は、廃液タンク５２２の内部と外部とを連通させ、または遮断する。第４電磁弁５４４が開状態となることで廃液タンク５２２の廃液を貯留している部分が大気開放される。

【0037】

廃液タンク５２２には、第２真空ポンプ５６２が第４レギュレーター５７４を介して接続されている。第２真空ポンプ５６２は真空または負圧を発生させる公知の装置であり、第４レギュレーター５７４は第２真空ポンプ５６２で発生させた負圧を任意の圧力に調整する公知の装置である。本実施形態では第２真空ポンプ５６２及び第４レギュレーター５７４は廃液タンク５２２内を任意の負圧にすることが可能となるように構成されている。

【0038】

廃液タンク５２２には、第４圧力センサー５８４及び第４液面センサー５９４が設けられている。第４圧力センサー５８４は、廃液タンク５２２の廃液に掛かる圧力を測定する公知の装置である。第４液面センサー５９４は、廃液タンク５２２に貯留されている廃液の液面を検出する公知の装置である。

【0039】

供給チューブ５０１には、供給チューブ５０１の流路を開閉することが可能な第１開閉部材５０７が設けられている。回収チューブ５０２には、回収チューブ５０２の流路を開閉することが可能な第２開閉部材５０８が設けられている。第１開閉部材５０７及び第２開閉部材５０８は、ヘッド２へ液体が流入することを阻止し、ヘッド２から液体が流出することを阻止する機能を有する。第１開閉部材５０７及び第２開閉部材５０８は、公知の弁装置であってもよいし、供給チューブ５０１及び回収チューブ５０２が可撓性のある部材であれば、それらを変形させて流路を閉塞させるクリップ等の部材であってもよい。

【0040】

第１電磁弁５４１、第２電磁弁５４２、第３電磁弁５４３、及び第４電磁弁５４４は、制御部３により開閉を制御することが可能となっている。第１コンプレッサー５５１、第２コンプレッサー５５２、第１真空ポンプ５６１、及び第２真空ポンプ５６２は、制御部３により運転、停止及び回転数などを制御することが可能となっている。第１供給ポンプ５１４、第２供給ポンプ５２４、及び戻しポンプ５１５は、制御部３により運転、停止及び液体の移送量を制御することが可能となっている。第１開閉部材５０７及び第２開閉部材５０８は、制御部３により開閉を制御することが可能となっている。

【0041】

第１三方弁５３１及び第２三方弁５３２は、制御部３により流路の切替を制御することが可能となっている。具体的には、第１三方弁５３１は、供給チューブ５０１がインク供給チューブ５０３又は洗浄液供給チューブ５０４の何れか一方に接続するように制御部３により切り替えられる。第２三方弁５３２は、回収チューブ５０２がインク回収チューブ５０５又は廃液回収チューブ５０６の何れか一方に接続するように制御部３により切り替えられる。

【0042】

また、第１圧力センサー５８１、第２圧力センサー５８２、第３圧力センサー５８３、及び第４圧力センサー５８４は、検出した圧力値が制御部３により参照することが可能となっている。第１液面センサー５９１、第２液面センサー５９２、第３液面センサー５９３、及び第４液面センサー５９４は、検出した液面の位置が制御部３により参照することが可能となっている。

【0043】

後述するようにヘッド２は、一個のヘッドチップ１００Ａと一個のヘッドチップ１００Ｂを備えている。これらをまとめてヘッドチップ１００とも称する。また、ヘッドチップ１００ＡにインクＩＬ及び洗浄液Ｗを供給する供給チューブ５０１を供給チューブ５０１Ａとも称する。ヘッドチップ１００ＢにインクＩＬ及び洗浄液Ｗを供給する供給チューブ５０１を供給チューブ５０１Ｂとも称する。ヘッドチップ１００ＡからインクＩＬ及び洗浄液Ｗを回収する回収チューブ５０２を回収チューブ５０２Ａとも称する。ヘッドチップ１００ＢからインクＩＬ及び洗浄液Ｗを回収する回収チューブ５０２を回収チューブ５０２Ｂとも称する。

【0044】

上述した構成の液体循環装置５００は、メインタンク５１０、洗浄液メインタンク５２０、廃液タンク５２２については、２個のヘッドチップ１００に共通して１個であり、その他の構成は個々のヘッドチップ１００ごとに設けられている。つまり、一個のメインタンク５１０から２個のヘッドチップ１００のそれぞれに対応した２個の供給側サブタンク５１１にインクＩＬを供給するように構成されている。同様に、一個の洗浄液メインタンク５２０から２個のヘッドチップ１００のそれぞれに対応した２個の洗浄液サブタンク５２１に洗浄液Ｗを供給するように構成されている。また、二個のヘッド２から２個のヘッドチップ１００のそれぞれに対応した２個の回収側サブタンク５１２にインクＩＬが回収されるように構成されている。２個のヘッド２から一個の廃液タンク５２２に廃液を回収するように構成されている。

【0045】

ヘッドチップ１００が２個よりも多い個数である場合であっても同様に、メインタンク５１０、洗浄液メインタンク５２０、廃液タンク５２２を共通とし、その他の構成をヘッドチップ１００ごとに設ければよい。もちろん、ヘッドチップ１００と液体循環装置５００を構成する各装置との対応はこのような例に限定されない。例えば、メインタンク５１０、洗浄液メインタンク５２０、廃液タンク５２２は、ヘッドチップ１００ごとに設けられていてもよい。また、複数のメインタンク５１０を備える場合、色や成分等が異なるインクＩＬの種類に応じて複数のメインタンク５１０を備える液体循環装置５００を構成してもよい。

【0046】

ヘッド２は、制御部３による制御のもとで、メインタンク５１０から供給されたインクＩＬを複数のノズル２１のそれぞれからインク滴としてＺ１方向に媒体Ｓに噴射する噴射動作を実行する。このヘッド２による噴射動作が搬送機構４による媒体Ｓの搬送、及び移動機構６によるヘッド２の往復移動と並行して行われることにより、媒体Ｓの表面にインクＩＬによる画像が形成される、いわゆる印刷が行われる。また、ヘッド２は、制御部３による制御のもとで、洗浄液メインタンク５２０から供給された洗浄液Ｗによりノズル２１の詰まりが除去される。このような洗浄についての具体的な動作は後述する。

【0047】

図３から図４を用いてヘッド２を説明する。図３はヘッドの分解斜視図であり、図４はヘッドの断面図である。なお、以下にヘッド２の流路には液体が流通することについて説明するが、液体とはインクＩＬ、洗浄液Ｗ、及びインクＩＬを含んだ洗浄液Ｗのうちの何れか一つをいう。

【0048】

図示するように、ヘッド２は、ヘッドチップ１００と、流路部材２００と、中継基板３００と、固定板４００と、を備えている。本実施形態では、ヘッド２は２個のヘッドチップ１００Ａ及びヘッドチップ１００Ｂを備えている。ヘッドチップ１００Ａ及びヘッドチップ１００Ｂの構成は同じである。なお、ヘッドチップ１００の個数は２個に限定されない。

【0049】

流路部材２００は、第１流路部材２１０と、第２流路部材２２０と、第３流路部材２３０と、シール部材２４０と、を備えている。

【0050】

第１流路部材２１０は、液体の流路を備えた部材であり、Ｚ２方向を向く面に、Ｚ２方向に向けて突出した筒状の接続部２１５を有する。また、第１流路部材２１０は、第１導入路２１１Ａ、第１導入路２１１Ｂ、第１導出路２１２Ａ、及び第１導出路２１２Ｂを備えている。本実施形態では、第１導入路２１１Ａ、第１導入路２１１Ｂ、第１導出路２１２Ａ、及び第１導出路２１２Ｂのそれぞれに対応して計４個の接続部２１５が設けられている。

【0051】

第１導入路２１１Ａ、第１導入路２１１Ｂ、第１導出路２１２Ａ、及び第１導出路２１２ＢのＺ２方向側のそれぞれの開口は、接続部２１５の先端に形成されている。供給チューブ５０１Ａ（図２参照）は接続部２１５に接続されて第１導入路２１１Ａに連通し、供給チューブ５０１Ｂ（図２参照）は接続部２１５に接続されて第１導入路２１１Ｂに連通する。回収チューブ５０２Ａは接続部２１５に接続されて第１導出路２１２Ａに連通し、回収チューブ５０２Ｂは接続部２１５に接続されて第１導出路２１２Ｂに連通する。

【0052】

第２流路部材２２０は、２つのヘッドチップ１００を保持し、液体の流路を備えた部材である。具体的には、第２流路部材２２０は、Ｚ１方向側にヘッドチップ１００を収容可能な収容部２２３が設けられている。収容部２２３は、Ｚ１方向側に向けて突出して、ヘッドチップ１００を囲うように形成された壁部２２８により形成されている。本実施形態では２個のヘッドチップ１００に共通して一つの収容部２２３が形成されているが、ヘッドチップ１００ごとに収容部２２３を形成してもよい。

【0053】

第２流路部材２２０は、第２導入路２２１Ａ、第２導入路２２１Ｂ、第２導出路２２２Ａ、及び第２導出路２２２Ｂを備えている。第２導入路２２１Ａ、第２導入路２２１Ｂ、第２導出路２２２Ａ、及び第２導出路２２２ＢのＺ２方向側のそれぞれの開口は、第２流路部材２２０のＺ２方向を向く面に形成された収容凹部２２５の底部に開口し、後述する第３導入路２３１Ａ、第３導入路２３１Ｂ、第３導出路２３２Ａ、及び第３導出路２３２Ｂにそれぞれ連通している。第２導入路２２１Ａ、第２導入路２２１Ｂ、第２導出路２２２Ａ、及び第２導出路２２２ＢのＺ１方向側のそれぞれの開口は、収容部２２３内に開口し、後述するヘッドチップ１００の第５導入路５３Ａ、第５導入路５３Ｂ、第５導出路５４Ａ、及び第５導出路５４Ｂにそれぞれ連通している。

【0054】

また、第１流路部材２１０のＺ１方向側には第１凹部２１４が形成されており、第２流路部材２２０のＺ２方向側には第２凹部２２４が形成されており、第１流路部材２１０と第２流路部材２２０とが接合されることで、第１凹部２１４及び第２凹部２２４からなる基板収容部２０１が形成されている。基板収容部２０１は、第３流路部材２３０及び中継基板３００が収容される大きさの空間である。

【0055】

第３流路部材２３０は、液体の流路を備えた部材であり、Ｚ１方向を向く面に、Ｚ１方向に向けて突出した筒状の接続部２３３を有する。また、第３流路部材２３０は、第３導入路２３１Ａ、第３導入路２３１Ｂ、第３導出路２３２Ａ、及び第３導出路２３２Ｂを備えている。本実施形態では第３導入路２３１Ａ、第３導入路２３１Ｂ、第３導出路２３２Ａ、及び第３導出路２３２Ｂのそれぞれに対応して計４個の接続部２３３が設けられている。

【0056】

第３導入路２３１Ａ、第３導入路２３１Ｂ、第３導出路２３２Ａ、及び第３導出路２３２ＢのＺ２方向側のそれぞれの開口は、接続部２３３の先端に形成されている。また、第３導入路２３１Ａ、第３導入路２３１Ｂ、第３導出路２３２Ａ、及び第３導出路２３２ＢのＺ１方向側のそれぞれの開口は、第３流路部材２３０のＺ１方向を向く面に形成されている。

【0057】

第３流路部材２３０は、第２流路部材２２０の収容凹部２２５に嵌め込まれる形状を有している。第３流路部材２３０が収容凹部２２５に嵌め込まれて第２流路部材２２０に固定されている。そして、第３導入路２３１Ａ、第３導入路２３１Ｂ、第３導出路２３２Ａ、及び第３導出路２３２ＢのＺ１方向側のそれぞれの開口は、第２導入路２２１Ａ、第２導入路２２１Ｂ、第２導出路２２２Ａ、及び第２導出路２２２Ｂにそれぞれ連通している。第３導入路２３１Ａ、第３導入路２３１Ｂ、第３導出路２３２Ａ、及び第３導出路２３２ＢのＺ２方向側のそれぞれの開口は、後述する第４導入路２４１Ａ、第４導入路２４１Ｂ、第４導出路２４２Ａ、及び第４導出路２４２Ｂにそれぞれ連通している。

【0058】

シール部材２４０は、液体の流路を備えた部材であり、Ｚ１方向を向く面に、Ｚ１方向に向けて突出した筒状の接続部２４５を有する。また、シール部材２４０は、第４導入路２４１Ａ、第４導入路２４１Ｂ、第４導出路２４２Ａ、及び第４導出路２４２Ｂを備えている。本実施形態では、第４導入路２４１Ａ、第４導入路２４１Ｂ、第４導出路２４２Ａ、及び第４導出路２４２Ｂのそれぞれに対応して計４個の接続部２４５が設けられている。

【0059】

第４導入路２４１Ａ、第４導入路２４１Ｂ、第４導出路２４２Ａ、及び第４導出路２４２ＢのＺ１方向側のそれぞれの開口は、接続部２４５の先端に形成されている。また、第４導入路２４１Ａ、第４導入路２４１Ｂ、第４導出路２４２Ａ、及び第４導出路２４２ＢのＺ２方向側のそれぞれの開口は、シール部材２４０のＺ２方向を向く面に形成されている。

【0060】

シール部材２４０は、第１流路部材２１０と第３流路部材２３０とに挟み込まれており、第１流路部材２１０と第３流路部材２３０の流路同士を接続している。具体的には、第４導入路２４１Ａ、第４導入路２４１Ｂ、第４導出路２４２Ａ、及び第４導出路２４２ＢのＺ１方向側のそれぞれの開口は、第３導入路２３１Ａ、第３導入路２３１Ｂ、第３導出路２３２Ａ、及び第３導出路２３２Ｂにそれぞれ連通している。第４導入路２４１Ａ、第４導入路２４１Ｂ、第４導出路２４２Ａ、及び第４導出路２４２ＢのＺ２方向側のそれぞれの開口は、第１導入路２１１Ａ、第１導入路２１１Ｂ、第１導出路２１２Ａ、及び第１導出路２１２Ｂにそれぞれ連通している。

【0061】

シール部材２４０は、液体に対して耐液体性を有し、且つ弾性変形可能な弾性材料で形成されている。このようなシール部材２４０を設けることで、第１導入路２１１Ａから第４導入路２４１Ａに液体が漏れずに供給される。同様に、第１導入路２１１Ｂから第４導入路２４１Ｂに液体が漏れずに供給される。また、第４導出路２４２Ａから第１導出路２１２Ａに液体が漏れずに回収される。同様に、第４導出路２４２Ｂから第１導出路２１２Ｂに液体が漏れずに回収される。

【0062】

中継基板３００は、ヘッドチップ１００の配線基板１４０と、制御部３とを電気的に中継する回路や電子部品を備えた基板である。また、中継基板３００には、第３流路部材２３０の接続部２３３が挿通する貫通孔である挿通孔３０２が設けられている。本実施形態では、挿通孔３０２は、各接続部２３３に対応して計４個設けられている。

【0063】

また、中継基板３００はＺ方向に貫通した第１配線挿通孔３０１が形成されており、第２流路部材２２０はＺ方向に貫通した第２配線挿通孔２２６が形成されており、第３流路部材２３０はＺ方向に貫通した第３配線挿通孔２３４が形成されている。第１配線挿通孔３０１、第２配線挿通孔２２６、及び第３配線挿通孔２３４は、いずれもヘッドチップ１００の配線基板１４０が挿通することが可能な形状である。本実施形態では、２個のヘッドチップ１００のそれぞれの配線基板１４０に対応して第１配線挿通孔３０１、第２配線挿通孔２２６、第３配線挿通孔２３４がそれぞれ２個ずつ設けられている。

【0064】

中継基板３００は、Ｚ１側に配線基板１４０が接続される端子部３１０が設けられている。本実施形態では、第１配線挿通孔３０１の開口縁部に設けられている。配線基板１４０は、第１配線挿通孔３０１にＺ２方向へ挿通され、先端部が折り曲げられて端子部３１０に電気的に接続されている。また、中継基板３００のＹ１方向側にコネクタ３２０が設けられている。コネクタ３２０は、第２流路部材２２０のＹ１側に設けられた基板収容部２０１と外部とを連通するコネクタ挿入口２２７に対向している。コネクタ３２０は、図示しない配線が接続され、当該配線を介して制御部３に電気的に接続される。すなわち、制御部３から印刷するための各種の信号や電源からの電力が当該配線及びコネクタ３２０を介して中継基板３００の回路に接続される。

【0065】

中継基板３００は、第２流路部材２２０の収容凹部２２５に固定された第３流路部材２３０の接続部２３３が第１配線挿通孔３０１を挿通した状態で第２流路部材２２０のＺ２方向側に載置されている。そして、中継基板３００のＺ２方向側にシール部材２４０が配置されており、シール部材２４０の接続部２４５と第３流路部材２３０の接続部２３３とが接続されている。第１流路部材２１０及び第２流路部材２２０は、これらの中継基板３００及びシール部材２４０を挟持し、互いに接合されている。第１流路部材２１０及び第２流路部材２２０は図示しないネジなどの固定手段により固定されることで、基板収容部２０１に中継基板３００を収容した流路部材２００が構成されている。

【0066】

このように各部材が接合されることにより、第１導入路２１１Ａ、第４導入路２４１Ａ、第３導入路２３１Ａ、第２導入路２２１Ａ、第５導入路５３Ａの順で連通した供給流路８３Ａが形成されている。同様に、第１導入路２１１Ｂ、第４導入路２４１Ｂ、第３導入路２３１Ｂ、第２導入路２２１Ｂ、第５導入路５３Ｂの順で連通した供給流路８３Ｂが形成されている。第１導出路２１２Ａ、第４導出路２４２Ａ、第３導出路２３２Ａ、第２導出路２２２Ａ、第５導出路５４Ａの順で連通した回収流路８４Ａが形成されている。第１導出路２１２Ｂ、第４導出路２４２Ｂ、第３導出路２３２Ｂ、第２導出路２２２Ｂ、第５導出路５４Ｂの順で連通した回収流路８４Ｂが形成されている。

【0067】

供給流路８３Ａは、供給チューブ５０１Ａからヘッドチップ１００Ａの供給側共通液室８１に供給される液体の流路である。供給流路８３Ｂは、供給チューブ５０１Ｂからヘッドチップ１００Ｂの供給側共通液室８１に供給される液体の流路である。回収流路８４Ａは、ヘッドチップ１００Ａの回収側共通液室８２から回収チューブ５０２Ａに回収される液体の流路である。回収流路８４Ｂは、ヘッドチップ１００Ｂの回収側共通液室８２から回収チューブ５０２Ｂに回収される液体の流路である。

【0068】

供給流路８３Ａ及び供給流路８３Ｂに共通した説明をする場合は供給流路８３と記載し、それぞれの特有の説明をする場合は供給流路８３Ａ及び供給流路８３Ｂと記載する。回収流路８４Ａ及び回収流路８４Ｂに共通した説明をする場合は回収流路８４と記載し、それぞれの特有の説明をする場合は回収流路８４Ａ及び回収流路８４Ｂと記載する。

【0069】

このように中継基板３００を収容し、供給流路８３及び回収流路８４を備えた流路部材２００は、Ｚ１方向側に固定板４００が設けられている。固定板４００は、本実施形態では、収容部２２３のＺ１方向側の開口を覆う大きさを有する。また、固定板４００には、ノズル２１を露出する露出開口４０１が設けられている。本実施形態では、２個のヘッドチップ１００のそれぞれに対応して２個の露出開口４０１が設けられている。このようにヘッドチップ１００ごとに複数の露出開口４０１を設けてもよいし、複数のヘッドチップ１００に共通した露出開口４０１を設けてもよい。

【0070】

図５はヘッドチップ１００の分解斜視図であり、図６はヘッドチップ１００に形成される流路の平面図である。図７は図６のＡ－Ａ線断面図である。なお、ヘッドチップ１００Ａ及びヘッドチップ１００Ｂの各構成は同じであるため、図５乃至図７では、両者を区別せず、ヘッドチップ１００として図示している。

【0071】

ヘッドチップ１００は、液体が流通する流路が形成される流路形成基板１１０と、振動板１２０と、圧電アクチュエーター１３０とを具備する。

【0072】

流路形成基板１１０を構成するノズル基板２０には、インクＩＬを噴射する複数のノズル２１が形成されている。本実施形態では、ノズル基板２０には、複数のノズル２１がＸ１方向に並ぶことで構成されたノズル列２２が設けられている。なおノズル基板２０は、例えば、エッチング等の半導体製造技術を利用してシリコンの単結晶基板を加工することで製造される。ただし、ノズル基板２０の材料や製造方法は特に限定されず、公知の材料及び製法を任意に採用できる。

【0073】

流路形成基板１１０は、Ｚ方向に積層される複数枚の基板で構成され、内部に液体が流通する流路が形成されている。本実施形態では、流路形成基板１１０は、Ｚ方向に積層されるノズル基板２０、連通板３０、圧力室基板４０及び液室形成基板５０を含んで構成されている。

【0074】

ヘッドチップ１００は、複数の個別流路６０が設けられている。本実施形態では、図６に示すように、Ｚ方向に見て個別流路６０はＹ方向に延在しており、複数の個別流路６０がＸ方向に間隔を空けて配置されている。各個別流路６０は各ノズル２１に連通している。

【0075】

ヘッドチップ１００は、複数の個別流路６０に接続されることで複数の個別流路６０を介して複数のノズル２１へ液体を供給するための供給側共通液室８１と、複数の個別流路６０に接続され、複数の個別流路６０を介して複数のノズル２１から排出されなかった液体を回収するための回収側共通液室８２と、が設けられている。本実施形態では、供給側共通液室８１は、Ｘ方向に延在しており、個別流路６０に対してＹ１方向に設けられている。回収側共通液室８２は、Ｘ方向に延在しており、個別流路６０に対してＹ２方向に設けられている。

【0076】

ヘッドチップ１００は、供給側共通液室８１に連通する第５導入路５３と、回収側共通液室８２に連通する第５導出路５４と、が設けられている。具体的には、図４に示すように、第５導入路５３Ａは、第１導入路２２１Ａと連通しており、供給流路８３Ａの一部を構成している。第５導入路５３Ｂは、第２導入路２２１Ｂと連通しており、供給流路８３Ｂの一部を構成している。第５導出路５４Ａは、第１導出路２２２Ａと連通しており、回収流路８４Ａの一部を構成している。第５導出路５４Ｂは、第２導出路２２２Ｂと連通しており、回収流路８４Ｂの一部を構成している。

【0077】

ヘッドチップ１００Ａの供給側共通液室８１には供給流路８３ＡからインクＩＬが供給され、ヘッドチップ１００Ｂの供給側共通液室８１には供給流路８３ＢからインクＩＬが供給される。供給側共通液室８１のインクＩＬは、各個別流路６０に供給され、各個別流路６０に供給されたインクＩＬは各ノズル２１から噴射される。各個別流路６０に供給されたインクＩＬのうちノズル２１から噴射されないものが回収側共通液室８２に排出される。そして、ヘッドチップ１００Ａの回収側共通液室８２のインクＩＬは、回収流路８４Ａを経由して液体循環装置５００に回収され、ヘッドチップ１００Ｂの回収側共通液室８２のインクＩＬは、回収流路８４Ｂを経由して液体循環装置５００に回収される。後述するように、洗浄液Ｗについても同様にヘッドチップ１００に供給され、回収される。ただし、洗浄液Ｗを媒体Ｓなどに向けてノズル２１から噴射されることはなく、ノズル２１からノズル基板２０のＺ１側の表面を経由して他のノズル２１に到達する程度には排出される。

【0078】

ヘッドチップ１００は、液体循環装置５００から供給された液体が、供給側共通液室８１、個別流路６０及び回収側共通液室８２を介して循環するように構成されている。

【0079】

次に、ヘッドチップ１００の流路形成基板１１０の構成についてより具体的に説明する。圧力室基板４０には、各ノズル２１に対応する複数の圧力室４１及び圧力室４２が設けられている。圧力室４１及び圧力室４２は、圧力室基板４０を厚さ方向であるＺ方向に貫通して設けられている。本実施形態では、一本の個別流路６０は１個の圧力室４１と１個の圧力室４２とを含んでいる。個別流路６０のうちノズル２１よりも供給側共通液室８１側の一部が圧力室４１となっている。個別流路６０のうちノズル２１よりも回収側共通液室８２側の一部が圧力室４２となっている。圧力室４１及び圧力室４２は、Ｙ方向に沿って一列に並設されている。また、複数の圧力室４１は、Ｘ方向に沿って一列に並設されており、複数の圧力室４２は、Ｘ方向に沿って一列に並設されている。なお、１つのノズル２１に対応して設けられる圧力室の数は１つでもよく、換言すれば、１つのノズル２１に対して圧力室４１及び圧力室４２のうちいずれか一方が設けられている構成であってもよい。

【0080】

圧力室基板４０は、例えば、半導体製造技術を利用してシリコンの単結晶基板を加工することで製造される。ただし、圧力室基板４０の材料および製造方法は、特に限定されず、任意の材料や製造方法を採用できる。

【0081】

圧力室基板４０のＺ２方向側には、振動板１２０及び圧電アクチュエーター１３０が形成される。圧電アクチュエーター１３０は、振動板１２０上の圧力室４１及び圧力室４２に対応する位置に設けられている。

【0082】

圧電アクチュエーター１３０は、圧電素子とも呼ばれ、第１電極、圧電体層及び第２電極を含む部分を言う。一般的には、圧電アクチュエーター１３０の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極及び圧電体層を圧力室４１及び圧力室４２毎にパターニングして構成する。本実施形態では、第１電極を圧電アクチュエーターの共通電極とし、第２電極を圧電アクチュエーターの個別電極としているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。なお圧電アクチュエーター１３０の第２電極には、リード電極がそれぞれ接続されており、このリード電極を介して各圧電アクチュエーター１３０に選択的に電圧が印加されるようになっている。

【0083】

振動板１２０のＺ２方向側の面には、配線基板１４０が実装され、圧電アクチュエーター１３０と接続されている。この配線基板１４０には、圧電アクチュエーター１３０を駆動するための駆動ＩＣ等である駆動回路１４１が実装されている。

【0084】

連通板３０には、個別流路６０の一端が接続される第１供給流路部３１と、第１回収流路部３２とが形成されている。

【0085】

第１供給流路部３１は、連通板３０のＹ１方向側の端部付近に、Ｘ方向に沿って個別流路６０に対応する領域に亘って連続的に設けられている。第１供給流路部３１は、液室形成基板５０に設けられる第２供給流路部５７と連通して供給側共通液室８１を構成する。

【0086】

第１回収流路部３２は、連通板３０のＹ２方向側の端部付近に、Ｘ方向に沿って個別流路６０に対応する領域に亘って連続的に設けられている。第１回収流路部３２は、液室形成基板５０に設けられる第２回収流路部５８と連通して回収側共通液室８２を構成する。

【0087】

連通板３０には、個別流路６０を構成する流路として、第１連通流路３３Ａ、第１連通流路３３Ｂ、第１連通流路３３Ｃと、第２連通流路３４Ａ，第２連通流路３４Ｂ，第２連通流路３４Ｃ，第２連通流路３４Ｄとが設けられている。
第１連通流路３３Ａは、連通板３０のＺ１方向側に開口してＹ方向に延在し、その一方の端部が第１供給流路部３１に連通している。
第１連通流路３３Ｂは、連通板３０のＺ１方向側に開口してＹ方向に延在し、ノズル２１と連通している。
第１連通流路３３Ｃは、連通板３０のＺ１方向側に開口してＹ方向に延在し、その一方の端部が第１回収流路部３２に連通している。

【0088】

第２連通流路３４Ａは、連通板３０をＺ方向に貫通し、第１連通流路３３Ａと圧力室４１とを連通する。
第２連通流路３４Ｂは、連通板３０をＺ方向に貫通し、圧力室４１と第１連通流路３３Ｂとを連通する。
第２連通流路３４Ｃは、連通板３０をＺ方向に貫通し、第１連通流路３３Ｂと圧力室４２とを連通する。
第２連通流路３４Ｄは、連通板３０をＺ方向に貫通し、圧力室４２と第１連通流路３３Ｃとを連通する。

【0089】

連通板３０は、例えば、半導体製造技術を利用してシリコンの単結晶基板を加工することで製造される。ただし、連通板３０の材料および製造方法は、特に限定されず、任意の材料や製造方法を採用できる。

【0090】

連通板３０のＺ１方向側の面には、コンプライアンス基板７０が設けられている。本実施形態では、コンプライアンス基板７０は、ノズル基板２０の周囲を囲うような形状に形成され、Ｚ２方向側からＺ１方向に向かい、可撓性を有する薄膜からなる封止膜７１、金属等の硬質の材料からなる固定基板７２がこの順で接合された構成となっている。

【0091】

コンプライアンス基板７０は、第１供給流路部３１、第１回収流路部３２、第１連通流路３３Ａ、第１連通流路３３Ｃ、第２連通流路３４Ａ、第２連通流路３４Ｄの開口を閉塞している。第１連通流路３３Ａ、第２連通流路３４Ａ、第２連通流路３４Ｄ及び第１連通流路３３Ｃがコンプライアンス基板７０により閉塞され、第２連通流路３４Ｂ、第１連通流路３３Ｂ及び第２連通流路３４Ｃがノズル基板２０に閉塞されることで、個別流路６０が形成されている。つまり、本実施形態の個別流路６０は、第１連通流路３３Ａ、第２連通流路３４Ａ、圧力室４１、第２連通流路３４Ｂ、第１連通流路３３Ｂ、第２連通流路３４Ｃ、圧力室４２、第２連通流路３４Ｄ及び第１連通流路３３Ｃで構成されている。

【0092】

固定基板７２のうち第１供給流路部３１及び第１回収流路部３２のそれぞれに対向する領域は、厚さ方向であるＺ方向に完全に除去された開口部７５となっている。開口部７５に露出した封止膜７１の一部は、第１コンプライアンス部７３及び第２コンプライアンス部７４である。開口部７５のＺ１方向側は、固定板４００によって閉塞される。つまり、封止膜７１のＺ１方向を向く面、固定板４００の開口部７５が形成された内周面、及び、固定板４００のＺ２方向を向く面は、コンプライアンス空間７６を画定する。コンプライアンス空間７６は、不図示の大気連通路を介して大気に連通している。

【0093】

液室形成基板５０は、Ｚ２方向側に開口した凹部である第２供給流路部５７及び第２回収流路部５８を備えている。第２供給流路部５７はＺ１方向にみた平面視において第１供給流路部３１と同形状に形成されており、第２回収流路部５８はＺ１方向にみた平面視において第１回収流路部３２と同形状に形成されている。液室形成基板５０、連通板３０、コンプライアンス基板７０が接合されることで、第１供給流路部３１と第２供給流路部５７とが連通し、第１コンプライアンス部７３により封止された供給側共通液室８１が形成されている。また、第１回収流路部３２と第２回収流路部５８とが連通し、第２コンプライアンス部７４により封止された回収側共通液室８２が形成されている。

【0094】

第１コンプライアンス部７３は封止膜７１のうち第１供給流路部３１のＺ１方向側の開口を封止した部分である。第１コンプライアンス部７３は、供給側共通液室８１内の液体の圧力変動を吸収する。第２コンプライアンス部７４は封止膜７１のうち第１回収流路部３２のＺ１方向側の開口を封止した部分である。第２コンプライアンス部７４は、回収側共通液室８２内の液体の圧力変動を吸収する。

【0095】

液室形成基板５０の中央部には、開口５５が設けられており、圧力室基板４０は、開口５５の内側に配置されている。配線基板１４０は開口５５、第１配線挿通孔３０１、第２配線挿通孔２２６、及び第３配線挿通孔２３４を挿通して中継基板３００に電気的に接続される。なお、液室形成基板５０は、例えば、樹脂材料の射出成形により形成される。ただし、液室形成基板５０の材料や製造方法は、特に限定されず、任意の材料や製造方法を採用できる。

【0096】

以下に、図８から図１３を用いて、ヘッド２の洗浄方法を説明する。この洗浄方法は、ノズル２１内でインクＩＬが固化することで、洗浄液Ｗを用いない通常のクリーニングでノズル２１を回復できない場合に実行することが好ましい。図８及び図９は本実施形態の洗浄方法のフローチャートである。図１０は洗浄液を充填する充填工程における記録装置の図であり、図１１は洗浄液からインクに置換する置換工程における記録装置の図であり、図１２はインクを噴射する噴射工程における記録装置の図である。図１３は加圧工程を実行しているときのノズル２１の要部を拡大した断面図である。

【0097】

まず、洗浄液Ｗをヘッド２に充填する充填工程を実行する（図８ステップＳ１）。なお、ステップＳ１を行う前においてヘッド２の流路にはインクＩＬが充填されているので、充填工程は、インクＩＬを洗浄液Ｗへ置換する工程とも言える。

【0098】

洗浄液Ｗをヘッド２に充填するとは、ヘッド２の流路を洗浄液Ｗで充填することをいう。上述した実施形態のヘッド２では、流路は、ノズル２１、供給流路８３、回収流路８４、供給側共通液室８１、回収側共通液室８２、個別流路６０を含んで構成されている。

【0099】

図１０に示すように、充填工程は、制御部３が次のように各機器を制御することによりに実現される。
１．第３電磁弁５４３及び第４電磁弁５４４を閉じる。
２．第１三方弁５３１を制御して供給チューブ５０１と洗浄液供給チューブ５０４とを接続する。
３．第２三方弁５３２を制御して回収チューブ５０２と廃液回収チューブ５０６とを接続する。
４．第１開閉部材５０７及び第２開閉部材５０８を開ける。
５．第３圧力センサー５８３による圧力が任意に定めた第３設定圧力を維持するように第２コンプレッサー５５２及び第３レギュレーター５７３を制御する。第３設定圧力は、大気圧に対して正圧である。
６．第４圧力センサー５８４による圧力が任意に定めた第４設定圧力を維持するように第２真空ポンプ５６２及び第４レギュレーター５７４を制御する。第４設定圧力は第３設定圧力よりも低い圧力又は負圧となっている。これにより、洗浄液サブタンク５２１から廃液タンク５２２へ向かう洗浄液Ｗの流れが発生する。
７．第３液面センサー５９３による水位が任意に定めた所定値未満であるならば、第２供給ポンプ５２４を制御して洗浄液メインタンク５２０から洗浄液サブタンク５２１へ洗浄液Ｗを供給する。
８．第３液面センサー５９３による水位が任意に定めた所定値以上であるならば、第２供給ポンプ５２４を停止させ、洗浄液メインタンク５２０から洗浄液サブタンク５２１への洗浄液Ｗの供給を停止する。
９．第４液面センサー５９４による水位が任意に定めた所定値以上であるならば、第２供給ポンプ５２４、第２コンプレッサー５５２、第３レギュレーター５７３、第２真空ポンプ５６２及び第４レギュレーター５７４を停止させ、洗浄液メインタンク５２０から洗浄液サブタンク５２１への洗浄液Ｗの供給および洗浄液サブタンク５２１から廃液サブタンク５２２への洗浄液Ｗの供給を停止する。

【0100】

充填工程により、洗浄液サブタンク５２１からヘッド２に洗浄液Ｗが供給され、ヘッド２の流路に洗浄液Ｗが充填された状態となる。また、ヘッド２の流路から排出された洗浄液Ｗが廃液タンク５２２に回収される。また、洗浄液サブタンク５２１には、一定量の洗浄液Ｗが維持されるように洗浄液メインタンク５２０から洗浄液Ｗが供給される。さらに、洗浄液サブタンク５２１又は廃液タンク５２２が一定量以上の洗浄液Ｗが貯留されたら洗浄液メインタンク５２０から洗浄液サブタンク５２１への洗浄液Ｗの供給が停止する。

【0101】

ヘッド２の流路に洗浄液Ｗが充填されて充填工程を終了する態様としては次のようなものが挙げられるが、これらの態様に限定されない。
・洗浄液Ｗの供給開始から、ヘッド２に洗浄液Ｗが充填されるまでの時間を予め計測しておく。この時間は、ヘッド２の流路の容量を十分に上回る洗浄液Ｗをヘッド２に供給するまでに要する時間を測定することにより得られる。制御部３に当該時間を設定しておき、制御部３は洗浄液Ｗの供給開始から当該時間に達したらヘッド２に洗浄液Ｗが充填されたとして充填工程を終了する。
・充填前における廃液タンク５２２の水位から、ヘッド２に洗浄液Ｗが充填されたときの廃液タンク５２２の水位を差し引いた変位量を予め計測しておく。制御部３に当該変位量を設定しておき、制御部３は充填前後における第４液面センサー５９４の水位の変位量が予め設定した変位量に達したらヘッド２に洗浄液Ｗが充填されたとして充填工程を終了する。

【0102】

次に、第１放置工程を行う（図８ステップＳ２）。第１放置工程は、充填工程によって洗浄液Ｗがヘッド２内、すなわちヘッド２の流路に充填された状態で第１期間、ヘッド２を放置する。ヘッド２を放置するとは、洗浄液Ｗの流動に関わる制御を行わないことを言う。例えば、第１開閉部材５０７及び第２開閉部材５０８を閉じる。これにより、ヘッド２に充填された洗浄液Ｗはヘッド２から流出せず、かつヘッド２に洗浄液Ｗが流入しないので、洗浄液Ｗが流動せず、放置した状態が維持される。他にも、記録装置１全体や液体循環装置５００の電源を切ることで洗浄液Ｗの流動に関わる制御を停止してもよい。

【0103】

第１放置工程により、ノズル２１内で固化したインクＩＬが洗浄液Ｗによって融解され、相当数のノズル２１の目詰まりが解消される。第１期間は、特に限定はないが例えば１６時間程度とする。他の第１期間としては、全てのノズル２１の目詰まりが解消するために必要な時間より短い時間とする。つまり、第１放置工程が終了した際に、いくつかのノズル２１については固化したインクＩＬによる目詰まりが残っていてもよい。他にも、実験的に様々な第１期間を適宜設定して後述する吐出検査を行い、第１判断工程で閾値以上のノズル２１が回復したと判断されたときの第１期間を実際の洗浄方法で用いることが好ましい。

【0104】

次に、ヘッド２の流路内の洗浄液ＷをインクＩＬに置換する（図８ステップＳ３）。まずは洗浄液Ｗをヘッド２から排出する。図１１に示すように、洗浄液Ｗを排出する工程は制御部３が次のように各機器を制御することにより実現される。
１．第２供給ポンプ５２４を停止させたままにする。
２．第１開閉部材５０７及び第２開閉部材５０８を開ける。
３．第３液面センサー５９３による水位が任意に定めた所定値となるまで、第２コンプレッサー５５２及び第３レギュレーター５７３を制御して空気をヘッド２の流路へ送り続け、且つ、第２真空ポンプ５６２及び第４レギュレーター５７４を制御することで廃液タンク５２２内を負圧にする。当該所定値は洗浄液サブタンク５２１の洗浄液Ｗが空になったとみなせる値とする。
４．第４液面センサー５９４の液面の位置が当該所定位置となって一定時間にわたって変化がないならば、第２コンプレッサー５５２、第３レギュレーター５７３、第２真空ポンプ５６２及び第４レギュレーター５７４を停止させる。

【0105】

このような洗浄液Ｗの排出工程により、洗浄液サブタンク５２１、ヘッド２の流路、供給チューブ５０１、回収チューブ５０２から洗浄液Ｗを廃液タンク５２２へ排出、換言すれば、空気に置換することができる。

【0106】

次にヘッド２にインクＩＬを充填する。これにより、ヘッド２の流路内が空気からインクＩＬへ置換される。具体的には、図１２に示すように、インクＩＬを充填する工程は制御部３が次のように各機器を制御することにより実現される。
１．第１電磁弁５４１及び第２電磁弁５４２を閉じる。
２．第１三方弁５３１を制御して供給チューブ５０１とインク供給チューブ５０３とを接続する。
３．第２三方弁５３２を制御して回収チューブ５０２とインク回収チューブ５０５とを接続する。
４．第１開閉部材５０７及び第２開閉部材５０８を開ける。
５．第１圧力センサー５８１による圧力が任意に定めた第１設定圧力を維持するように第１コンプレッサー５５１及び第１レギュレーター５７１を制御する。第１設定圧力は、大気圧に対して正圧である。
６．第２圧力センサー５８２による圧力が任意に定めた第２設定圧力を維持するように第１真空ポンプ５６１及び第２レギュレーター５７２を制御する。第２設定圧力は、大気圧に対して負圧である。これにより、洗浄液サブタンク５２１から廃液タンク５２２へ向かう洗浄液Ｗの流れが発生する。なお、第１設定圧力と第２設定圧力との差圧は、ノズル２１からインクＩＬが溢れ出ない程度、且つ、ノズル２１からヘッド２内に空気を引き込まない程度に設定することが好ましい。
７．第１液面センサー５９１による水位が任意に定めた所定値未満であり、第２液面センサー５９２による水位が任意に定めた所定値以上であるならば、戻しポンプ５１５を制御して回収側サブタンク５１２から供給側サブタンク５１１へインクＩＬを供給する。
８．第１液面センサー５９１による水位が任意に定めた所定値未満であり、第２液面センサー５９２による水位が任意に定めた所定値未満であるならば、第１供給ポンプ５１４を制御してメインタンク５１０から供給側サブタンク５１１にインクＩＬを供給する。
９．第１液面センサー５９１による水位が任意に定めた所定値以上であるならば、第１供給ポンプ５１４及び戻しポンプ５１５を停止させ、供給側サブタンク５１１へのインクＩＬの供給を停止する。

【0107】

このようなインクＩＬの充填工程により、供給側サブタンク５１１からヘッド２にインクＩＬが供給され、ヘッド２からインクＩＬが回収側サブタンク５１２に回収される。また、供給側サブタンク５１１には、一定量のインクＩＬが維持されるようにメインタンク５１０又は回収側サブタンク５１２からインクＩＬが供給される。

【0108】

次に、ヘッド２が有する複数のノズル２１のうち閾値以上の一部のノズル２１が回復したかどうかを判断する第１判断工程を行う。第１判断工程では、第１放置工程にて目詰まりが回復したノズル２１（以下、回復ノズル２１Ａという。回復ノズル２１Ａは元々目詰まりしていないノズル２１も含む）の数に基づいて判定する。回復ノズル２１Ａの数を得る手段の一つとしては、印字検査を挙げることができる。具体的には、印字検査を行い（図８ステップＳ４）、印字検査により得られた回復ノズル２１Ａの数に基づいて第１判断工程を行う（図８ステップＳ５）。

【0109】

印字検査は、各ノズル２１からインクＩＬが噴射されているか否かを検査することをいい、公知の検査方法である。例えば、ヘッド２に検査用の第１画像データを媒体Ｓに印刷させる。そして、媒体Ｓに印刷された画像を撮像して得られた第２画像データと、第１画像データとを比較する。第２画像データ中に第１画像データと同じドットがあればそのドットに対応するノズル２１は目詰まりしていない、すなわち回復ノズル２１Ａであると判定する。このような画像処理により回復ノズル２１Ａの数を得ることができる。

【0110】

印字検査は、複数のノズル２１が形成されたノズル基板２０ごとに行う。本実施形態では１個のヘッド２には２枚のノズル基板２０が設けられているので、ノズル基板２０ごとに印字検査を実行し、ノズル基板２０ごとに回復ノズル２１Ａの数を取得する。

【0111】

第１判断工程では、印字検査により得られた回復ノズル２１Ａの数が閾値以上であるかを判定する。閾値は特に限定はないが、ノズル２１の総数の５０％以上とすることが好ましい。ノズル２１の総数とは、１枚のノズル基板に形成されたノズル２１の総数である。複数のノズル基板２０を有する場合は、ノズル基板２０ごとに前述の判定を行い、全てのノズル基板２０について回復ノズル２１Ａの数が閾値以上となれば、第１判断工程において閾値以上のノズル２１が回復したと判断する。本実施形態では１個のヘッド２には２枚のノズル基板２０が設けられているので、ノズル基板２０ごとにノズル２１の総数と回復ノズル２１Ａの数を比較して閾値以上のノズル２１が回復したか否かを判断する。もちろん、第１判断工程は、回復ノズル２１Ａの数が閾値以上であるかをノズル基板２０ごとに判断する場合に限定されない。例えば、第１判断工程では、どのノズル基板２０の回復ノズル２１であるかに関係なく、印字検査により得られた回復ノズル２１の数が閾値以上であるかを判定してもよい。このような第１判断工程は、複数のノズル基板２０を備えたノズルチップ１００であって、一のノズル基板２０から直接他のノズル基板２０に洗浄液が到達することが可能なヘッドチップ１００、又は一のノズル基板２０から固定板４００などノズル基板２０以外の部材を介して他のノズル基板２０に洗浄液Ｗが到達することが可能なヘッドチップ１００に適用することができる。

【0112】

第１判断工程において、複数のノズル２１のうち閾値以上の一部のノズル２１が回復していない場合（図８ステップＳ５；Ｎｏ）、洗浄液Ｗをヘッド２に再充填する再充填工程を行う（図８ステップＳ６）。再充填工程によりヘッド２に充填されているインクＩＬが廃液タンク５２２に排出され、ヘッド２に新しい洗浄液Ｗが充填される。再充填工程は、ステップＳ１の充填工程と同じ工程である。ただし、再充填工程では、後述する加圧工程とは洗浄液Ｗがヘッド２内に流入する量が異なる。言い換えれば再充填工程（及び充填工程）では加圧工程よりも廃液タンク５２２へ排出される洗浄液Ｗの量が多い。また、再充填工程（及び充填工程）では、廃液タンク５２２に負圧を付与して洗浄液Ｗを吸引しているが、加圧工程では廃液タンク５２２に負圧を付与しない点で異なる。

【0113】

再充填工程の後、第１期間よりも短い第３期間、例えば４時間、ヘッド２を放置する第３放置工程を実行する（図８ステップＳ７）。第３放置工程は、第１放置工程と同様に、洗浄液Ｗによってノズル２１に目詰まりした固化インクＩＳ（図１３参照）を融解させ、回復ノズル２１Ａを増やすことができる。

【0114】

第１判断工程において、複数のノズル２１のうち閾値以上の一部のノズル２１が回復した場合（図８ステップＳ５；Ｙｅｓ）、洗浄液Ｗをヘッド２に再充填する再充填工程を行う（図９ステップＳ８）。再充填工程によりヘッド２に充填されているインクＩＬが廃液タンク５２２に排出され、ヘッド２に新しい洗浄液Ｗが充填される。再充填工程は、図８ステップＳ６の再充填工程と同じ工程である。

【0115】

次に、制御部３はカウンターＡを１に初期化する（図９ステップＳ９）。カウンターＡは、後述する加圧工程及び第２放置工程を繰り返す回数を管理するために使用される。

【0116】

次に、図１３に示すように、制御部３は、加圧工程を実行する（図９ステップＳ１０）。加圧工程は、ヘッド２へ洗浄液Ｗを加圧供給することで、噴射面２３を介して複数のノズル２１の一部から排出された洗浄液Ｗを複数のノズル２１の残部へ供給する工程である。ここでいうノズル２１の一部とは固化インクＩＳが固着していないノズル２１であり、回復ノズル２１Ａと称する。ノズル２１の残部とは固化インクＩＳが固着されたノズル２１であり、未回復ノズル２１Ｂと称する。また噴射面２３はノズル２１が形成されたノズル基板２０のＺ１方向側の面である。なお、噴射面２３は、固定板４００のＺ１方向側の面を含んでいてもよい。

【0117】

加圧工程の具体的な制御は、ステップＳ１の洗浄液Ｗの充填工程とほぼ同様である。ただし、加圧工程は、洗浄液Ｗを加圧供給する前に、第４電磁弁５４４を開くことで廃液タンク５２２内を大気開放させ、第２真空ポンプ５６２及び第４レギュレーター５７４を停止させることで、廃液タンク５２２の内部を負圧にしない点で、ステップＳ１の充填工程と相違する。つまり、加圧工程は、ヘッド２から廃液タンク５２２へ積極的に洗浄液Ｗを排出させない。少なくとも加圧工程では充填工程よりもヘッド２内に流入する洗浄液Ｗの量が少ない。言い換えれば加圧工程では充填工程よりも廃液タンク５２２へ排出される洗浄液Ｗの量が少ない。また、洗浄液Ｗに付与する圧力は、回復ノズル２１Ａから噴射面２３上に洗浄液Ｗが滲み出る程度とする。本実施形態では、液体循環装置５００の第２コンプレッサー５５２及び第３レギュレーター５７３を制御することにより洗浄液Ｗに付与する圧力を調整する。この際、ヘッド２内を正圧にすることでノズル２１から洗浄液Ｗを排出させやすくするために、第２コンプレッサー５５２及び第３レギュレーター５７３によって洗浄液サブタンク５１２内を加圧する前に、第４電磁弁５４４を閉じておくことが好ましい。なお、加圧工程は、第２開閉部材５０８を閉じた状態で、第２コンプレッサー５５２及び第３レギュレーター５７３によって洗浄液サブタンク５１２内を加圧することで、ノズル２１から洗浄液Ｗを滲みださせてもよい。この場合、廃液タンク５２２とヘッド２との接続が解除されているため、廃液タンク５２２内は負圧であってもよい。

【0118】

加圧工程においてヘッド２へ洗浄液Ｗを加圧供給すると、回復ノズル２１Ａから洗浄液Ｗが噴射面２３に滲み出る。そして洗浄液Ｗは噴射面２３を伝って未回復ノズル２１Ｂに入り込む。これにより、未回復ノズル２１Ｂ内の固化インクＩＳは、未回復ノズル２１ＢのＺ２方向側の開口（個別流路６０に接続された開口）から供給された洗浄液Ｗと、噴射面２３を伝って未回復ノズル２１ＢのＺ１方向側の開口から供給された洗浄液Ｗとの双方により融解される。

【0119】

加圧工程を実行した後に、第２放置工程（図９ステップＳ１１）を実行する。第２放置工程は、第１期間よりも短い第２期間、例えば１時間、ヘッド２を放置する工程である。第２放置工程を実行することで、未回復ノズル２１Ｂにおいて、Ｚ１方向側及びＺ２方向側から固化インクＩＳが洗浄液Ｗに接触した状態が維持されるので、固化インクＩＳをより確実に融解させることができる。なお、第２期間は、第３期間よりも短くてもよい。

【0120】

上述した第１放置工程では、未回復ノズル２１ＢについてはＺ２方向側のみから洗浄液Ｗが固化インクＩＳに接液していたが、第２放置工程ではＺ１方向側及びＺ２方向側から洗浄液Ｗが固化インクＩＳに接液する。このため第２放置工程では第１放置工程よりも固化インクＩＳを早く融解できることから、第２期間を第１期間より短くしても未回復ノズル２１Ｂを回復ノズル２１Ａに回復させることができる。

【0121】

このように加圧工程の実行後に第２放置工程を実行することで、未回復ノズル２１Ｂは、Ｚ１方向側及びＺ２方向側の両方向から洗浄液Ｗが供給されて固化インクＩＳが融解されるので未回復ノズル２１Ｂを回復ノズル２１Ａに短時間で回復させることができる。また、従来技術の超音波洗浄による洗浄では洗浄液Ｗを貯留した容器にヘッド２を浸すことで未回復ノズル２１Ｂの外側から洗浄を行えるものの、全てのノズル２１が洗浄液Ｗに浸されるように相当量の洗浄液Ｗを必要とする。しかしながら、本実施形態の洗浄方法によればヘッド２の回復ノズル２１Ａから滲み出る程度の洗浄液Ｗによって未回復ノズル２１Ｂの外側（噴射面２３のＺ１側）から洗浄できるので、従来技術と比較して洗浄液Ｗの使用量を低減することができる。

【0122】

次に、第２期間が経過したら制御部３はカウンターＡを１つ増やす（図９ステップＳ１２）。次に、制御部３は、カウンターＡが繰返し回数Ｎに一致したかを判定する（図９ステップＳ１３）。繰返し回数Ｎは、予め設定した２以上の自然数である。繰返し回数Ｎに特に限定はないが、実験的に様々な繰返し回数Ｎを適宜設定して後述する印字検査を行い、第２判断工程にて全てのノズル２１が回復したと判断されたときの繰返し回数Ｎを実際の洗浄方法で用いることが好ましい。

【0123】

カウンターＡが繰返し回数Ｎに一致していなければ（図９ステップＳ１３；Ｎｏ）、上述した加圧工程（図９ステップＳ１０）、第２放置工程（図９ステップＳ１１）を再度実行する。カウンターＡが繰返し回数Ｎに一致していれば（図９ステップＳ１３；Ｙｅｓ）、ヘッド２にインクＩＬを供給してヘッド２にインクＩＬを充填する置換工程を実行する（図９ステップＳ１４）。この置換工程は、ヘッド２の流路内の洗浄液ＷをインクＩＬに置換する工程であり、図８のステップＳ３と同様であるので詳細な説明は省略する。

【0124】

次に、置換工程の実行を終えたら、印字検査を実行する（図９ステップＳ１５）。この印字検査は図８のステップＳ４と同様であるので詳細な説明は省略する。

【0125】

次に、第２判断工程を実行する（図９ステップＳ１６）。第２判断工程は、全てのノズル２１が回復したか否かを判定する。例えば、本実施形態では印字検査により回復ノズル２１Ａの数が得られるので、回復ノズル２１Ａの数とノズル２１の総数とを比較することにより判定する。回復ノズル２１Ａの数とノズル２１の総数とが一致すれば、全てのノズル２１が回復したと判定し、不一致であれば全てのノズル２１が回復していないと判定する。なお、ヘッド２に複数のノズル基板２０が設けられている場合は、全てのノズル基板２０について、回復ノズル２１Ａの数とノズル２１の総数が一致していれば、全てのノズル２１が回復したと判定する。複数のノズル基板２０のうち１枚でも回復ノズル２１Ａの数とノズル２１の総数が不一致であれば、全てのノズル２１が回復していないと判定する。もちろん、第２判断工程は、回復ノズル２１Ａの数がノズル２１の総数と一致するか否かをノズル基板２０ごとに判断する場合に限定されない。例えば、第２判断工程では、ノズル２１の総数を、全ノズル基板２０に形成されたノズル２１の総数とし、どのノズル基板２０の回復ノズル２１であるかに関係なく、印字検査により得られた回復ノズル２１の数がノズルの総数と一致するか否かを判定してもよい。このような第２判断工程は、複数のノズル基板２０を備えたノズルチップ１００であって、一のノズル基板２０から直接他のノズル基板２０に洗浄液が到達するヘッドチップ１００、又は一のノズル基板２０から固定板４００などノズル基板２０以外の部材を介して他のノズル基板２０に洗浄液Ｗが到達するヘッドチップ１００に適用することができる。

【0126】

第２判断工程において、複数のノズル２１の全てについて回復していなければ（図９ステップＳ１６；Ｎｏ）、ステップＳ８の再充填工程に戻る。第２判断工程において、複数のノズル２１の全てについて回復していれば（図９ステップＳ１６；Ｙｅｓ）、洗浄を終了する。

【0127】

以上に説明した本実施形態の洗浄方法は、インクＩＬを噴射するための複数のノズル２１を有する噴射面２３を備えるヘッド２の洗浄方法であって、ヘッド２内に洗浄液Ｗを充填する充填工程（図８ステップＳ１）と、前記充填工程によって洗浄液Ｗがヘッド２内に充填された状態で第１期間、ヘッド２を放置する第１放置工程（図８ステップＳ２）と、複数のノズル２１のうち閾値以上の一部のノズル２１が回復したかどうかを判断する第１判断工程（図８ステップＳ５）と、前記第１判断工程で複数のノズル２１のうち閾値以上の一部のノズル２１が回復した場合、ヘッド２へ洗浄液Ｗを加圧供給することで、噴射面２３を介して複数の回復ノズル２１Ａから排出された洗浄液Ｗを複数の未回復ノズル２１Ｂへ供給する加圧工程と、を備える。

【0128】

本実施形態の洗浄方法によれば、ヘッド２を洗浄するための特殊な洗浄装置を設けずに、ノズル２１内に固着した固化インクＩＳを除去することができる。また、第１放置工程で回復した回復ノズル２１Ａから、加圧工程によって洗浄液Ｗを排出させることで、噴射面２３を介して未回復ノズル２１Ｂの外側であるＺ１方向側から洗浄液Ｗを供給することができる。ヘッド２の内側となる個別流路６０およびヘッド２の外側となる噴射面２３の双方からノズル２１内の固化インクＩＳを融解することができ、少量の洗浄液Ｗ且つ短時間でヘッドの洗浄が可能となる。

【0129】

また、本実施形態の洗浄方法は、第１判断工程で複数のノズル２１のうち閾値以上の一部のノズル２１が回復した場合（図８ステップＳ５；Ｙｅｓ）、加圧工程（図９ステップＳ１０）の後に、第１期間よりも短い第２期間の間、ヘッド２を放置する第２放置工程（図９ステップＳ１１）と、を備える。第２放置工程では第１放置工程よりも固化インクＩＳを早く融解できることから、未回復ノズル２１Ｂを回復ノズル２１Ａに回復させる時間を短縮することができる。

【0130】

また、本実施形態の洗浄方法は、第２放置工程の後、複数のノズル２１のうち一部のノズル２１である回復ノズル２１Ａから噴射面２３上に洗浄液Ｗが滲み出る程度にヘッド２へ洗浄液Ｗを加圧供給する加圧工程を行い、加圧工程後、再度、第２放置工程を行う（図９ステップ１０からステップＳ１３の繰り返し）。即ち、噴射面２３側から未回復ノズル２１Ｂ内に供給された洗浄液Ｗの量は少ないため、洗浄効果が落ちやすい。これは、固化インクＩＳを融解させるために洗浄液Ｗが固化インクＩＳと反応することで、洗浄液Ｗの洗浄力が徐々に落ちていくためである。しかしながら、第１期間よりも短い第２期間による第２放置工程及び加圧工程を繰り返す。これにより洗浄液Ｗによる洗浄効果が落ちにくくなり、結果として洗浄に必要な時間を短縮することができる。

【0131】

なお、第２放置工程を実行するたびに印字検査を行ってもよい。しかしながら、印字検査を行ったあとにステップＳ１６の第２判断工程の結果がＮｏの場合には洗浄液Ｗを再充填する再充填工程が必要となるため、洗浄液Ｗを多く消費してしまう。したがって、第２放置工程を行うたびに印字検査を行わず、第２放置工程及び加圧工程を繰り返すことで、全てのノズル２１が回復する確率を高めてから印字検査（図９ステップＳ１５）を実行することが好ましい。

【0132】

また、本実施形態の洗浄方法は、再充填工程（図８ステップＳ６）の後、第１期間よりも短い第３期間、ヘッド２を放置する第３放置工程（図８ステップＳ７）を備える。第１判断工程において閾値以上のノズル２１が回復されていないと判断された後（図８ステップＳ５）に再充填工程及び第３放置工程を実行するので、洗浄液Ｗによってノズル２１に目詰まりした固化インクＩＳを融解させ、回復ノズル２１Ａを増やし、第１判断工程において閾値以上のノズル２１が回復したと判断されるようになる。

【0133】

さらに、第１放置工程において、相当数のノズル２１、例えばノズル２１の総数のうち２５％から４９％のノズル２１について固化インクＩＳが融解されている場合では、閾値、例えば５０％以上までノズル２１を回復させるために要する第３期間は比較的短いと考えられる。したがって第３期間を第１期間よりも短く設定することで、第３放置工程に要する時間を第１放置工程に要する時間よりも短縮することができる。一方、第１放置工程で回復状況が悪い場合、例えば２５％未満のノズル２１が回復した場合であっても、第３放置工程の時間を短くすれば、ステップＳ５のＮｏ、再充填工程（ステップＳ６）、第３放置工程（ステップＳ７）の工程の組を高頻度で実行することになる。これらの工程の組を実行するたびに洗浄液Ｗが入れ替わるので高い洗浄効果を期待できる。このように高い洗浄効果を期待できる第３放置工程を高頻度で実行することができるので、閾値以上のノズル２１が回復するまでに要する時間を短縮することができる。

【0134】

また、本実施形態の洗浄方法は、複数のノズル２１のそれぞれに連通する複数の個別流路６０と、複数の個別流路６０に液体を供給するための供給流路である供給流路８３と、複数の個別流路６０から液体を回収するための回収流路である回収流路８４と、を備える。充填工程は、洗浄液Ｗを供給流路８３、複数の個別流路６０、回収流路８４の順で流動させることで、ヘッド２内に充填されていた、洗浄液Ｗとは異なる液体を洗浄液Ｗに置換する。異なる液体とは、顔料などの色材を含むインクＩＬでもよいし、インクＩＬと反応することで色材を凝集させる反応液やオーバーコート液などの処理液でもよい。ヘッド２は液体が供給流路、個別流路、回収流路を流動する、いわゆる循環型の液体噴射ヘッドであるため、仮に全てのノズル２１にインクＩＬが固化していたとしてもヘッド２の内部にある流路のうちノズル２１の近傍までインクＩＬや処理液などを洗浄液Ｗに置換することができる。このようにノズル２１の近傍まで洗浄液Ｗを行き渡らせることができるので、ノズル２１の固化インクＩＳを洗浄液Ｗで融解させ、最終的には全てのノズル２１を回復することができる。

【0135】

なお、第１判断工程及び第２判断工程において回復ノズル２１Ａの数を得るために、印字検査（図８ステップＳ４、図９ステップＳ１５）を実行したが、回復ノズル２１Ａの数を得る手段は印字検査に限定されない。たとえば、圧電アクチュエーター１３０を駆動した際の圧力室内の液体の残留振動を、圧電アクチュエーター１３０に圧電効果によって生じた電力として検出し、当該残留振動に基づいて回復ノズル２１Ａであるか未回復ノズル２１Ｂであるかを判断してもよい。例えば、ヘッドチップ１００に、複数の圧電アクチュエーター１３０のそれぞれで生じる残留振動を検出する検出回路を設ける。このような検出回路は公知のものであるので詳細な説明は省略する。検出回路により得られた残留振動は、圧電アクチュエーター１３０の駆動後に振動板１２０及び圧電アクチュエーター１３０に残留する振動を示す。ノズル２１に固化インクＩＳが存在しているか否かによって残留振動の形態は異なると考えられる。したがって、残留振動の形態に応じてノズル２１に固化インクＩＳが存在するか否かを判定することができる。したがって全てのノズル２１について対応する圧電アクチュエーター１３０から残留振動を取得し、残留振動の形態に応じて固化インクＩＳが存在していない回復ノズル２１Ａまたは固化インクＩＳが存在する未回復ノズル２１Ｂであるかを判別し、回復ノズル２１Ａの数を得ることができる。なお、印字検査（図８ステップＳ４、図９ステップＳ１５）の代わりに上述の残留振動を検出することで第１判断工程を行う場合には、ヘッド２の流路内の洗浄液ＷをインクＩＬに置換する工程（図８ステップＳ３）、再充填工程（図９ステップＳ８）および置換工程（図８ステップＳ１４）を省略できる。また、図８ステップＳ６の再充填工程は、ヘッド２内の古い洗浄液Ｗを、新しい洗浄液Ｗに置換する工程とする。これらの点は、後述の変形例１と同様である。

【0136】

〈変形例１〉
上述した実施形態１では、第１判断工程及び第２判断工程の実行に先立ち、回復ノズル２１Ａの数を得るため洗浄液ＷをインクＩＬに置換し（図８ステップＳ３、図９ステップＳ１４）、印字検査（図８ステップＳ４、図９ステップＳ１５）を実行したがこのような方法に限定されない。

【0137】

本変形例では、洗浄液ＷをインクＩＬに置換せず、印字検査を行わずに第１判断工程及び第２判断工程を行う場合について説明する。本変形例では、ノズル２１から噴射される洗浄液Ｗの液滴を撮像できるカメラを用いる。

【0138】

図１４及び図１５は本変形例の洗浄方法のフローチャートである。制御部３は、充填工程（図１４ステップＳ２０）、第１放置工程（図１４ステップＳ２１）を実行する。これらはそれぞれ図８のステップＳ１で説明した充填工程と、ステップＳ２の第１放置工程と同様である。

【0139】

第１放置工程の終了後、ヘッド２には洗浄液Ｗが充填されている。制御部３はヘッド２の全てのノズル２１から洗浄液Ｗを噴射させる。洗浄液Ｗの噴射のさせ方に特に限定はないが、全てのノズル２１について同時に洗浄液Ｗを噴射させてもよいし、複数のノズル２１について時間差を設けてノズル２１の一つずつに洗浄液Ｗを噴射させてもよい。上述したカメラによりヘッド２から噴射されたノズル２１を撮像する。ノズル２１から洗浄液Ｗが噴射されたタイミングでカメラにより撮像された画像中に洗浄液Ｗの液滴を検出できれば当該ノズル２１は回復ノズル２１Ａであると判定でき、当該画像中に液滴を検出できなければ当該ノズル２１は未回復ノズル２１Ｂであると判定できる。このような判定を全てのノズル２１について実行することで、ヘッド２内の洗浄液ＷをインクＩＬに置換することなく回復ノズル２１Ａの数を得ることができる。

【0140】

以降、閾値以上のノズル２１が回復したかを判断する第１判断工程を実行する（図１４ステップＳ２２）。閾値以上のノズル２１が回復していなければ（図１４ステップＳ２２；Ｎｏ）、洗浄液Ｗを再充填する再充填工程を実行する（図１４ステップＳ２３）。この再充填工程は、図８のステップＳ６と同様に行えるが、インクＩＬを洗浄液Ｗに置換するようにしてヘッド２に洗浄液Ｗを充填するのではなく、ステップＳ２０でヘッド２内に充填されていた、固化インクＩＳと反応済みの古い洗浄液Ｗを新しい洗浄液Ｗに置換するようにして、ヘッド２内に洗浄液Ｗを充填する。次に第３放置工程を実行する（図１４ステップＳ２４）。この第３放置工程は図８のステップＳ７と同様であり、終了後は上述したようにカメラを用いて洗浄液Ｗがヘッド２に充填されたまま回復ノズル２１Ａの数を得る。

【0141】

第１判断工程において閾値以上のノズル２１が回復したならば（図１４ステップＳ２２；Ｙｅｓ）、カウンターＡを１に初期化し（図１５ステップＳ２５）、洗浄液Ｗを加圧供給する加圧工程を実行し（図１５ステップＳ２６）、第２放置工程を実行し（図１５ステップＳ２７）、カウンターＡを１増加し（図１５ステップＳ２８）、カウンターＡが繰り返し回数Ｎに一致したかを判定する（図１５ステップＳ２９）。これらの工程は、図９で説明したステップＳ９からステップＳ１３と同様であるので詳細な説明は省略する。

【0142】

カウンターＡが繰返し回数Ｎに一致したならば（図１５ステップＳ２９；Ｙｅｓ）、ヘッド２に洗浄液Ｗが充填されているので、上述したようにカメラを用いて回復ノズル２１Ａの数を得て、全てのノズル２１が回復したかを判定する第２判断工程（図１５ステップ３０）を実行する。全てのノズル２１が回復しなければ（図１５ステップＳ３０；Ｎｏ）、ステップＳ２５に戻る。全てのノズル２１が回復していれば（図１５ステップＳ３１；Ｙｅｓ）、洗浄を終了する。

【0143】

以上に説明した本変形例の洗浄方法は、第１判断工程で複数のノズル２１のうち閾値以上の一部のノズル２１が回復していない場合（図１４ステップＳ２２；Ｎｏ）、再度、ヘッド２内の洗浄液Ｗを新しい洗浄液Ｗに置換する再充填工程と、を備える。

【0144】

このような本変形例の洗浄方法によれば、第１判断工程で閾値以上のノズル２１が回復していなければ、第３放置工程に先だって新しい洗浄液Ｗに切り替える。このため、ノズル２１の固化インクＩＳをより確実に融解して除去することができ、ノズル２１を早期に回復させることができる。なお、第２判断工程に先立って、洗浄液ＷをインクＩＬに置換する置換工程（図９ステップＳ１４と同等の工程）を実行し、印字検査（図９ステップＳ１５と同等の工程）を実行してもよい。この場合、第２判断工程にて全てのノズル２１が回復していなければ、インクＩＬを洗浄液Ｗに置換してヘッド２に再充填する再充填工程（図９ステップＳ８と同等の工程）を実行して、ステップＳ２５に戻る。

【0145】

本変形例では、カメラによってノズル２１から洗浄液Ｗが噴射されているか否かを検出することに基づいて、第１判断工程及び第２判断工程を行っていたが、これには限られない。例えば、複数のノズル２１の夫々から所定回数の洗浄液Ｗを凹部形状の容器内に噴射し、当該容器の重量を計測することに基づいても、第１判断工程及び第２判断工程を行うことが可能である。具体的には、第１判断工程（又は第２判断工程）としてノズル２１から洗浄液Ｗを噴射する前に容器の重量を測定しておき、複数のノズル２１の夫々から洗浄液Ｗを容器内に所定回数噴射した後に容器の重量を測定する。そして、噴射前の容器の重量と噴射後の容器の重量との差である複数のノズル２１から噴射された洗浄液Ｗの総重量と、仮に複数のノズル２１の全てから所定回数、正常に洗浄液Ｗが噴射された場合の洗浄液Ｗの総重量と、を比較することにより、回復ノズル２１Ａの数を推定することができる。

【0146】

〈変形例２〉
図１６及び図１７を用いて本変形例に係る洗浄方法について説明する。図１６及び図１７は本変形例の洗浄方法のフローチャートである。

【0147】

制御部３は、充填工程（図１６ステップＳ３０）を実行する。これは図８のステップＳ１で説明した充填工程と同様である。次に制御部３は放置工程Ａ（図１６ステップＳ３１）を実行する。放置工程Ａは洗浄液Ｗがヘッド２に充填された状態で期間Ａの間、ヘッド２を放置する工程であり、ステップＳ２の第１放置工程と同様である。期間Ａは第１期間に相当する。

【0148】

放置工程Ａの終了後、洗浄液Ｗを加圧供給する加圧工程Ａを実行する。加圧工程Ａは図９のステップＳ１０と同様の工程である。この加圧工程Ａの実行により、洗浄液Ｗが回復ノズル２１Ａから滲みだし噴射面２３（図１３参照）に排出される。

【0149】

次に、閾値以上のノズル２１が回復したかを判断する（図１６ステップＳ３３）。具体的には、加圧工程Ａによって回復ノズル２１Ａから噴射面２３上に排出された洗浄液Ｗの液溜まりによって閾値以上のノズル２１が覆われているかを判定することにより行う。回復ノズル２１Ａからしか洗浄液Ｗは噴射面２３上に滲みでないため、洗浄液Ｗの液溜まりが、複数のノズル２１のうちどの程度、覆われているかによって、回復ノズル２１Ａの数の概算を推定できる。このような回復ノズル２１Ａの数を得る手段としては、カメラによって噴射面２３を撮像し、画像処理によって洗浄液Ｗの液溜まりに覆われたノズル２１と覆われていないノズル２１とを判別することにより行うことができる。

【0150】

ステップＳ３３にてＮｏの場合、すなわち閾値以上のノズル２１が回復していないならば、再充填工程（図１６ステップＳ３４）を実行する。この再充填工程は図１４ステップＳ２３と同様である。再充填工程後、期間Ｃの間、放置工程Ｃを実行する（図１６ステップＳ３５）。放置工程Ｃは、図８ステップＳ７の第３放置工程と同様である。期間Ｃは第３期間に相当する。放置工程Ｃの終了後、ステップＳ３２の加圧工程Ａに戻る。

【0151】

ステップＳ３３にてＹｅｓの場合、すなわち閾値以上のノズル２１が回復しているならば、放置工程Ｂ（図１６ステップＳ３６）を実行する。放置工程Ｂは図９ステップＳ１１の第２放置工程と同様である。期間Ｂは第２期間に相当する。

【0152】

次に、カウンターＡを１に初期化し（図１７ステップＳ３７）、洗浄液Ｗを加圧供給する加圧工程Ｂを実行し（図１７ステップＳ３８）、放置工程Ｂを実行し（図１７ステップＳ３９）、カウンターＡを１増加し（図１７ステップＳ４０）、カウンターＡが繰り返し回数Ｎに一致したかを判定する（図１７ステップＳ４１）。ステップＳ３７、ステップＳ３８、ステップＳ４０、ステップ４１の工程は、図１５で説明したステップＳ２５、ステップＳ２６、ステップＳ２８、ステップＳ２９と同様であるので詳細な説明は省略する。図１７ステップＳ３９の放置工程Ｂは図１６のステップＳ３６と同様である。

【0153】

カウンターＡが繰返し回数Ｎに一致したならば（図１７ステップＳ４１；Ｙｅｓ）、ヘッド２に洗浄液Ｗが充填されているので、インクＩＬに置換する置換工程を行い（図１７ステップＳ４２）、印字検査を行う（図１７ステップＳ４３）。これらの置換工程及び印字検査は、図９ステップＳ１４の置換工程、図９ステップＳ１５の印字検査と同様である。

【0154】

次に、全てのノズル２１が回復したか、すなわち印字検査の結果で得られた回復ノズル２１Ａの数がノズル２１の総数に一致したかを判断する（図１７ステップＳ４５）。全てのノズル２１が回復していないならば（図１７ステップＳ４５；Ｎｏ）、ヘッド２のインクＩＬを洗浄液Ｗに置換する置換工程を実行する（図１７ステップＳ４６）。この置換工程は、図９ステップＳ８の再充填工程と同様である。全てのノズル２１が回復したならば（図１７ステップＳ４５；Ｙｅｓ）、洗浄を終了する。

【0155】

以上に説明した本変形例の洗浄方法は、実施形態１及び変形例１と同等の作用効果を奏する。

【0156】

〈他の実施形態）
以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明の基本的な構成は上述したものに限定されるものではない。

【0157】

上述した実施形態では、ノズル２１に固着した固化インクを洗浄する対象としたがこれに限定されない。洗浄液Ｗに融解可能な固形物であれば本発明は適用できる。また、図１に例示した記録装置１はいわゆるシリアル型であるがこれに限定されない。例えば、記録装置は、Ｘ方向における噴射範囲が媒体ＳのＹ方向の幅よりも広く、媒体ＳのＹ方向の幅全体に亘ってインク滴を噴射することが可能なヘッドと、一方向に媒体Ｓを搬送させる搬送機構を備えた、いわゆるライン型であってもよい。このようなライン型の記録装置では、ヘッドによる噴射動作が搬送機構による媒体Ｓの搬送と並行して行われることにより、媒体Ｓの表面にインクＩＬによる画像が形成される。

【0158】

（付記）
以上に例示した形態から、例えば以下の構成が把握される。

【0159】

好適な態様である態様１に係る液体噴射ヘッドの洗浄方法は、液体を噴射するための複数のノズルを有する噴射面を備える液体噴射ヘッドの洗浄方法であって、前記液体噴射ヘッド内に洗浄液を充填する充填工程と、前記充填工程によって洗浄液が前記液体噴射ヘッド内に充填された状態で第１期間、前記液体噴射ヘッドを放置する第１放置工程と、前記複数のノズルのうち閾値以上の一部のノズルが回復したかどうかを判断する第１判断工程と、前記第１判断工程で前記複数のノズルのうち閾値以上の一部のノズルが回復した場合、前記液体噴射ヘッドへ洗浄液を加圧供給することで、前記噴射面を介して前記複数のノズルの一部から排出された洗浄液を前記複数のノズルの残部へ供給する加圧工程と、を備える。これによれば、液体噴射ヘッドを洗浄するための特殊な洗浄装置を設けずに、ノズル内に詰まった固形物を洗浄液で融解して除去することができる。また、第１放置工程で回復したノズルから、加圧工程によって洗浄液を排出させることで、噴射面を介して未回復のノズルの外側から洗浄液を供給することができる。液体噴射ヘッドの内側および液体噴射ヘッドの外側となる噴射面の双方からノズル内の固形物を融解することができ、少量の洗浄液且つ短時間でヘッドの洗浄が可能となる。

【0160】

態様１の具体例である態様２において、前記第１判断工程で前記複数のノズルのうち閾値以上の一部のノズルが回復した場合、前記加圧工程の後に、前記第１期間よりも短い第２期間の間、前記液体噴射ヘッドを放置する第２放置工程を備える。第２放置工程では第１放置工程よりもインクなどの固形物を早く融解できることから、未回復のノズルを回復させる時間を短縮することができる。

【0161】

態様２の具体例である態様３において、前記第２放置工程の後、前記複数のノズルのうち一部のノズルから前記噴射面上に洗浄液が滲み出る程度に前記液体噴射ヘッドへ洗浄液を加圧供給する前記加圧工程を行い、前記加圧工程後、再度、前記第２放置工程を行う。第１期間よりも短い第２期間による第２放置工程及び加圧工程を繰り返すので、洗浄液による洗浄効果が落ちにくくなり、結果として洗浄に必要な時間を短縮することができる。

【0162】

態様１から態様３の具体例である態様４において、前記第１判断工程で前記複数のノズルのうち閾値以上の一部のノズルが回復していない場合、再度、前記液体噴射ヘッド内の洗浄液を新しい洗浄液に置換する再充填工程を備える。ノズルにあるインクなどの固形物をより確実に融解して除去することができ、ノズルを早期に回復させることができる。

【0163】

態様４の具体例である態様５において、前記再充填工程の後、前記第１期間よりも短い第３期間、前記液体噴射ヘッドを放置する第３放置工程を備える。第１放置工程において、相当数のノズル、例えばノズルの総数のうち２５％から４９％のノズルについて固化インクが融解されている場合では、閾値、例えば５０％以上までノズルを回復させるために要する第３期間は短いと考えられる。したがって第３期間を第１期間よりも短く設定することで、第３放置工程に要する時間を第１放置工程に要する時間よりも短縮することができる。一方、第１放置工程で回復状況が悪い場合、例えば２５％未満のノズルが回復した場合であっても、第３放置工程の時間を短くすれば、再充填工程、第３放置工程の組を高頻度で実行することになる。これらの工程の組を実行するたびに洗浄液が入れ替わるので高い洗浄効果を期待できる。このように高い洗浄効果を期待できる第３放置工程を高頻度で実行することができるので、閾値以上のノズルが回復するまでに要する時間を短縮することができる。

【0164】

態様１の具体例である態様６において、前記複数のノズルのそれぞれに連通する複数の個別流路と、前記複数の個別流路に液体を供給するための供給流路と、前記複数の個別流路から液体を回収するための回収流路と、を備える液体噴射ヘッドの洗浄方法であって、前記充填工程は、洗浄液を前記供給流路、前記複数の個別流路、前記回収流路の順に流動させることで、前記液体噴射ヘッド内に充填されていた洗浄液とは異なる液体を洗浄液に置換する。液体噴射ヘッドは液体が供給流路、個別流路、回収流路を流通する、いわゆる循環型の液体噴射ヘッドであるため、仮に全てのノズルにインクなどの固形物があったとしても液体噴射ヘッドの内部にある流路のうちノズルの近傍までインクや処理液などを洗浄液に置換することができる。このようにノズルの近傍まで洗浄液を行き渡らせることができるので、ノズルにあるインクなどの固化物を洗浄液で融解させ、最終的には全てのノズルを回復することができる。

【符号の説明】

【0165】

Ｗ…洗浄液、１…記録装置（液体噴射装置）、２…インクジェット式ヘッド（ヘッド、液体噴射ヘッド）、２０…ノズル基板、２１…ノズル、２１Ａ…回復ノズル、２１Ｂ…未回復ノズル、２３…噴射面、３０…連通板、４０…圧力室基板、４１、４２…圧力室、５０…液室形成基板、６０…個別流路、７０…コンプライアンス基板、８１…供給側共通液室、８２…回収側共通液室、８３、８３Ａ、８３Ｂ…供給流路、８４、８４Ａ、８４Ｂ…回収流路、１００、１００Ａ、１００Ｂ…ヘッドチップ、１１０…流路形成基板、１２０…振動板、１３０…圧電アクチュエーター、１４０…配線基板、５００…液体循環装置、５０１、５０１Ａ、５０１Ｂ…供給チューブ、５０２、５０２Ａ、５０２Ｂ…回収チューブ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】