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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024118316
(43)【公開日】2024-08-30
(54)【発明の名称】二酸化塩素ガスによる除染方法及び除染装置
(51)【国際特許分類】
A61L 2/20 20060101AFI20240823BHJP
A61L 9/01 20060101ALI20240823BHJP
B01D 53/28 20060101ALI20240823BHJP
A61L 101/06 20060101ALN20240823BHJP
【ＦＩ】
A61L2/20
A61L9/01 F
B01D53/28
A61L101:06
【審査請求】未請求
【請求項の数】17
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023024674
(22)【出願日】2023-02-20
(71)【出願人】
【識別番号】502131811
【氏名又は名称】株式会社新興精機
(71)【出願人】
【識別番号】523061180
【氏名又は名称】辻 武彦
(71)【出願人】
【識別番号】523060116
【氏名又は名称】株式会社エスクリエイト
(71)【出願人】
【識別番号】520280380
【氏名又は名称】株式会社トラステック愛知
(74)【代理人】
【識別番号】100114627
【弁理士】
【氏名又は名称】有吉 修一朗
(74)【代理人】
【識別番号】100182501
【弁理士】
【氏名又は名称】森田 靖之
(74)【代理人】
【識別番号】100175271
【弁理士】
【氏名又は名称】筒井 宣圭
(74)【代理人】
【識別番号】100190975
【弁理士】
【氏名又は名称】遠藤 聡子
(72)【発明者】
【氏名】辻 武彦
【テーマコード（参考）】
4C058
4C180
4D052
【Ｆターム（参考）】
4C058AA23
4C058AA30
4C058BB07
4C058CC02
4C058CC05
4C058DD01
4C058DD07
4C058DD13
4C058EE26
4C058JJ16
4C180AA07
4C180CA04
4C180EA14X
4C180EA56Y
4C180EA57X
4C180HH05
4C180KK02
4C180LL20
4D052AA09
4D052CE00
4D052GA01
4D052GA03
4D052GB08
4D052HA03
(57)【要約】
【課題】除染の際に、除染対象となる密閉空間内を充分な低湿度環境に維持して、空間内の腐食を抑止できると共に、安全性に優れ、短時間で除染作業が完了可能な二酸化塩素ガスによる除染方法及び除染装置を提供する。
【解決手段】除染装置Ａは、装置本体１と、濃度計測機構２と、除湿回収機構３と、ガス生成機構４を有している。除湿回収機構３は、回収カートリッジ部３０と、ラインブロワー３１を有している。また、回収カートリッジ部３０は、活性炭が充填された上層部３００と、結晶性ゼオライトが充填された下層部３０１の２つの層が形成されている。また、ガス生成機構４は、除湿カートリッジ４３を有している。また、除湿カートリッジ４３は、曝気槽４０で生成した、二酸化塩素ガスと水蒸気から構成された供給用ガスを通過させ、水蒸気を捕捉して除湿し、二酸化塩素ガスのみを密閉空間Ｓの内部に供給するための部材である。
【選択図】図１
【解決手段】除染装置Ａは、装置本体１と、濃度計測機構２と、除湿回収機構３と、ガス生成機構４を有している。除湿回収機構３は、回収カートリッジ部３０と、ラインブロワー３１を有している。また、回収カートリッジ部３０は、活性炭が充填された上層部３００と、結晶性ゼオライトが充填された下層部３０１の２つの層が形成されている。また、ガス生成機構４は、除湿カートリッジ４３を有している。また、除湿カートリッジ４３は、曝気槽４０で生成した、二酸化塩素ガスと水蒸気から構成された供給用ガスを通過させ、水蒸気を捕捉して除湿し、二酸化塩素ガスのみを密閉空間Ｓの内部に供給するための部材である。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
密閉空間への二酸化塩素の気相付与により、前記密閉空間内の所定の微生物を低減する二酸化塩素ガスによる除染方法であって、
前記密閉空間内の空気を吸引して除湿し、かつ、除湿した後の空気を同密閉空間に戻して、同密閉空間内を相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の環境下にする除湿工程と、
二酸化塩素ガス及び水蒸気を含む供給用ガスを発生させ、前記密閉空間へと供給する前に、前記供給用ガスを除湿して、前記二酸化塩素ガスを前記密閉空間内へと供給する二酸化塩素ガス供給工程と、
前記二酸化塩素ガス供給工程の後、前記二酸化塩素ガスの前記密閉空間への供給を停止し、同密閉空間に二酸化塩素ガスを曝露する曝露工程と、
前記曝露工程の後、前記密閉空間内の空気を吸引して、前記二酸化塩素ガスを回収すると共に、同密閉空間内の前記二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ未満まで低下させる回収工程と、を備える
二酸化塩素ガスによる除染方法。
前記密閉空間内の空気を吸引して除湿し、かつ、除湿した後の空気を同密閉空間に戻して、同密閉空間内を相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の環境下にする除湿工程と、
二酸化塩素ガス及び水蒸気を含む供給用ガスを発生させ、前記密閉空間へと供給する前に、前記供給用ガスを除湿して、前記二酸化塩素ガスを前記密閉空間内へと供給する二酸化塩素ガス供給工程と、
前記二酸化塩素ガス供給工程の後、前記二酸化塩素ガスの前記密閉空間への供給を停止し、同密閉空間に二酸化塩素ガスを曝露する曝露工程と、
前記曝露工程の後、前記密閉空間内の空気を吸引して、前記二酸化塩素ガスを回収すると共に、同密閉空間内の前記二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ未満まで低下させる回収工程と、を備える
二酸化塩素ガスによる除染方法。
【請求項2】
前記二酸化塩素ガス供給工程では、分子直径０．３ｎｍ未満の物質を吸着可能な結晶性ゼオライトに、前記供給用ガスを通過させて除湿する
請求項１に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
請求項１に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
【請求項3】
前記除湿工程では、前記結晶性ゼオライトに前記密閉空間内の空気を通過させて除湿する
請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
【請求項4】
前記二酸化塩素ガス供給工程では、濃度が２５０ｐｐｍ～１５００ｐｐｍの範囲内で、前記二酸化塩素ガスを前記密閉空間へ供給する
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
【請求項5】
前記曝露工程では、少なくともＣＴ値１１００ｐｐｍ・時となるまで前記密閉空間に二酸化塩素ガスを曝露する
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
【請求項6】
前記曝露工程で前記密閉空間内における前記二酸化塩素ガスのＣＴ値が目標値に達したことを検知して、前記回収工程が自動的に開始される
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
【請求項7】
前記二酸化塩素ガス供給工程及び前記曝露工程では、前記密閉空間内を相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の環境下に維持する
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
【請求項8】
前記二酸化塩素ガス供給工程では、前記密閉空間内の気体を吸引して、活性炭を通過させた後、前記供給用ガスの発生に利用する
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
【請求項9】
前記密閉空間は、安全キャビネットまたは動物飼育用のアイソレーターである
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
請求項１または請求項２に記載の二酸化塩素ガスによる除染方法。
【請求項10】
密閉空間への二酸化塩素の気相付与により、前記密閉空間内の所定の微生物を低減する除染装置であって、
前記密閉空間側に設けられた気体の供給口及び排気口のそれぞれと、配管経路を介して接続された除染装置本体と、
前記密閉空間内の相対湿度及び絶対湿度を測定する湿度測定部と、
前記密閉空間内の二酸化塩素ガス濃度を測定するガス濃度計測部と、
前記密閉空間内から吸引した空気を除湿し、同密閉空間内を相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の環境下にする第１の除湿部と、
前記二酸化塩素ガスの薬液を混合する曝気槽と、
前記曝気槽に気体を送り込み、前記二酸化塩素ガス及び水蒸気を含む供給用ガスを生成すると共に、前記供給口と接続された前記配管経路を介して、前記供給用ガスを前記密閉空間内に向けて送り出すエアーポンプと、
前記供給口と接続された前記配管経路上に設けられ、前記供給用ガスを除湿する第２の除湿部と、
前記二酸化塩素ガスに一定時間曝露した前記密閉空間内の空気を吸引し、同二酸化塩素ガスを回収して、同密閉空間内の同二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ未満まで低下させる回収部と、を備える
除染装置。
前記密閉空間側に設けられた気体の供給口及び排気口のそれぞれと、配管経路を介して接続された除染装置本体と、
前記密閉空間内の相対湿度及び絶対湿度を測定する湿度測定部と、
前記密閉空間内の二酸化塩素ガス濃度を測定するガス濃度計測部と、
前記密閉空間内から吸引した空気を除湿し、同密閉空間内を相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の環境下にする第１の除湿部と、
前記二酸化塩素ガスの薬液を混合する曝気槽と、
前記曝気槽に気体を送り込み、前記二酸化塩素ガス及び水蒸気を含む供給用ガスを生成すると共に、前記供給口と接続された前記配管経路を介して、前記供給用ガスを前記密閉空間内に向けて送り出すエアーポンプと、
前記供給口と接続された前記配管経路上に設けられ、前記供給用ガスを除湿する第２の除湿部と、
前記二酸化塩素ガスに一定時間曝露した前記密閉空間内の空気を吸引し、同二酸化塩素ガスを回収して、同密閉空間内の同二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ未満まで低下させる回収部と、を備える
除染装置。
【請求項11】
前記第２の除湿部は、分子直径０．３ｎｍ未満の物質を吸着可能な結晶性ゼオライトを有する
請求項１０に記載の除染装置。
請求項１０に記載の除染装置。
【請求項12】
前記第１の除湿部は、前記結晶性ゼオライトを有する
請求項１０に記載の除染装置。
請求項１０に記載の除染装置。
【請求項13】
前記回収部は、活性炭を有する
請求項１０または請求項１１に記載の除染装置。
請求項１０または請求項１１に記載の除染装置。
【請求項14】
前記第１の除湿部を有する層と、前記回収部を有する層が設けられた回収カートリッジ部を備える
請求項１０または請求項１１に記載の除染装置。
請求項１０または請求項１１に記載の除染装置。
【請求項15】
前記湿度測定部が測定した前記密閉空間内の相対湿度及び絶対湿度、または、前記ガス濃度計測部が測定した前記二酸化塩素ガスの濃度に基づき、前記曝気槽、前記エアーポンプ及び前記回収部の駆動を自動制御するシーケンサーを備える
請求項１０または請求項１１に記載の除染装置。
請求項１０または請求項１１に記載の除染装置。
【請求項16】
前記ガス濃度計測部は、光吸収方式で前記二酸化塩素ガスの濃度を測定し、計測分解能が０．００１ｐｐｍである
請求項１０または請求項１１に記載の除染装置。
請求項１０または請求項１１に記載の除染装置。
【請求項17】
前記エアーポンプは、前記排気口と接続され、かつ、活性炭で構成された気体浄化部が設けられた前記配管経路を介して、前記密閉空間内の気体を吸引すると共に、吸引した気体を前記曝気槽に送り込む
請求項１０または請求項１１に記載の除染装置。
請求項１０または請求項１１に記載の除染装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は二酸化塩素ガスによる除染方法及び除染装置に関する。詳しくは、除染の際に、除染対象となる密閉空間内を充分な低湿度環境に維持して、空間内の腐食を抑止できると共に、安全性に優れ、短時間で除染作業が完了可能な二酸化塩素ガスによる除染方法及び除染装置に係るものである。
【背景技術】
【0002】
近年、安全キャビネットや動物実験用のアイソレーター等の密閉空間内における防菌、防カビ対策となる除染の手段として、発がん性物質であるホルマリンに代えて、二酸化塩素ガスを用いた除染の検討が進められている。
【0003】
二酸化塩素ガスは、アメリカ環境保護局（Environmental Protection Agency，EPA）において燻蒸の滅菌剤として１９８８年より認可されている。また、環境消毒や無菌操作が求められるバイオセイフティキャビネット内を二酸化塩素ガスで滅菌する方法は、米国国家規格協会（ＡＮＳＩ）によって規格化されている。
【0004】
また、二酸化塩素ガスを用いて密閉空間内を除染する際には、空間内の内容物、例えば、当該密閉空間を形成する部材が、鉄、アルミニウム、銅、その他金属部材である場合、これらの内容物が腐食することを避けるために、密閉空間内を低湿度環境に維持することが求められる。
【0005】
こうしたなか、除染を必要とする空間内の内容物を腐食することなく、従来に比べ、安全かつ短時間に大空間の除染を可能とすることを試みた除染方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【0006】
この特許文献１に記載された除染方法では、水蒸気量１０ｇ／ｍ３以下、かつ相対湿度３１％以下の環境下とした密閉空間において、二酸化塩素ガスを発生させる工程と、二酸化塩素ガス濃度２３０ｐｐｍ以下、かつＣＴ値５０～２０００ｐｐｍ・時で二酸化塩素ガスを密閉空間へ導入する工程とを含む方法が記載されている。
【0007】
また、特許文献１では、密閉空間内の相対湿度が低い場合であっても、水蒸気量が１０ｇ／ｍ3以上となった場合、特に表面処理が施されていない鉄、アルミニウム、銅などは腐食の発生リスクが高くなり、従来から除染時に実施されている相対湿度による室内管理では、内容物の腐食を防止するのに不十分であることが述べられている。
【0008】
また、特許文献１では、密閉空間内の水蒸気量を１０ｇ／ｍ3以下とすることにより、二酸化塩素ガスの拡散がより良好となるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0009】
【特許文献1】特許第６６３７６３１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
しかしながら、特許文献１に記載された除染方法では、水蒸気量１０ｇ／ｍ３以下、かつ相対湿度３１％以下の環境下とすることが、密閉空間内の内容物の腐食を防止するために必要な条件とされていながら、密閉空間内における水蒸気量及び相対湿度を低く維持することが実際には困難である。
【0011】
より詳しくは、特許文献１に記載された除染方法では、二酸化塩素ガスを発生させる際に、これに伴って生じる水蒸気を補足することが全く考慮されていない。
【0012】
特許文献１に記載された除染方法では、二酸化塩素水に対してエアレーションを行うことで二酸化塩素ガスを遊離させ、密閉空間に供給するが、この際、溶液中からは、二酸化塩素ガスと共に水蒸気が揮発する。
【0013】
そして、この水蒸気は、二酸化塩素ガスと共に、除染対象となる密閉空間内に供給されてしまうことから、空間内は容易に湿度が上昇してしまう。即ち、密閉空間内では、二酸化塩素ガスの供給が開始されると、目的となる低湿度の条件を維持できなくなってしまう。
【0014】
従って、特許文献１に記載された除染方法では、二酸化塩素ガスを密閉空間内に供給する前の段階では、所定の低湿度の環境下となっていても、二酸化塩素ガスの供給を開始した後は、水蒸気量及び相対湿度が上がってしまい、密閉空間内の内容物の腐食を防止して除染を行うことができなかった。
【0015】
また、特許文献１に記載された除染方法を含め、従前の二酸化塩素ガスを用いた除染方法では、より短時間で二酸化塩素ガスを回収して、密閉空間を使用可能な状況にする点で不充分であり、改良の余地があった。
【0016】
本発明は、以上の点に鑑みて創案されたものであり、除染の際に、除染対象となる密閉空間内を充分な低湿度環境に維持して、空間内の腐食を抑止できると共に、安全性に優れ、短時間で除染作業が完了可能な二酸化塩素ガスによる除染方法及び除染装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0017】
上記の目的を達成するために、本発明の二酸化塩素ガスによる除染方法は、密閉空間への二酸化塩素の気相付与により、前記密閉空間内の所定の微生物を低減する二酸化塩素ガスによる除染方法であって、前記密閉空間内の空気を吸引して除湿し、かつ、除湿した後の空気を同密閉空間に戻して、同密閉空間内を相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の環境下にする除湿工程と、二酸化塩素ガス及び水蒸気を含む供給用ガスを発生させ、前記密閉空間へと供給する前に、前記供給用ガスを除湿して、前記二酸化塩素ガスを前記密閉空間内へと供給する二酸化塩素ガス供給工程と、前記二酸化塩素ガス供給工程の後、前記二酸化塩素ガスの前記密閉空間への供給を停止し、同密閉空間に二酸化塩素ガスを曝露する曝露工程と、前記曝露工程の後、前記密閉空間内の空気を吸引して、前記二酸化塩素ガスを回収すると共に、同密閉空間内の前記二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ未満まで低下させる回収工程と、を備える。
【0018】
ここで、除湿工程で、密閉空間内の空気を吸引して除湿し、かつ、除湿した後の空気を密閉空間に戻して、密閉空間内を相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の環境下にすることによって、除染の対象となる密閉空間を、内容物が腐食しにくい低湿度の環境下にすることができる。即ち、例えば、除染を行う前に、密閉空間の内部が、湿度が高い環境にあった際でも、除染の作業の前に、密閉空間の内部の湿度を低くして、その後の処理を進めることが可能となる。
【0019】
また、二酸化塩素ガス供給工程で、二酸化塩素ガス及び水蒸気を含む供給用ガスを発生させ、密閉空間へと供給する前に、供給用ガスを除湿して、二酸化塩素ガスを密閉空間内へと供給することによって、二酸化塩素ガスを生成する際に、同時に生成する水蒸気が、二酸化塩素ガスと共に密閉空間に導入され、密閉空間内の湿度が上昇することを抑止できる。また、これにより、除湿工程で低湿度の環境下にした状態を、二酸化塩素ガスの導入の際に維持可能となる。
【0020】
また、曝露工程で、二酸化塩素ガス供給工程の後、二酸化塩素ガスの密閉空間への供給を停止し、密閉空間に二酸化塩素ガスを曝露することによって、二酸化塩素ガスで、密閉空間内を除染することができる。即ち、密閉空間に二酸化塩素ガスを作用させ、密閉空間内の所定の微生物を低減することができる。
【0021】
また、回収工程で、曝露工程の後、密閉空間内の空気を吸引して、二酸化塩素ガスを回収すると共に、密閉空間内の二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ未満まで低下させることによって、除染した後の密閉空間における二酸化塩素ガスの濃度を、人体等に安全な濃度まで下げることができる。即ち、除染後の密閉空間を、作業者等が使用可能な安全な環境にすることができる。
なお、二酸化塩素ガスの濃度０．１ｐｐｍとは、米国労働安全衛生局（U.S.OSHA）が労働安全衛生の観点から設定した、二酸化塩素の吸入における許容曝露濃度の８時間加重平均値（PEL-TWA）である。
なお、二酸化塩素ガスの濃度０．１ｐｐｍとは、米国労働安全衛生局（U.S.OSHA）が労働安全衛生の観点から設定した、二酸化塩素の吸入における許容曝露濃度の８時間加重平均値（PEL-TWA）である。
【0022】
また、二酸化塩素ガス供給工程で、分子直径０．３ｎｍ未満の物質を吸着可能な結晶性ゼオライトに、供給用ガスを通過させて除湿する場合には、水分子を結晶性ゼオライトに吸着させて除湿可能となる。即ち、二酸化塩素ガスと一緒に生成する水蒸気に対して、水蒸気のみを選択的に結晶性ゼオライトで捕捉し、二酸化塩素ガスのみを効率良く、密閉空間内に供給することが可能となる。
【0023】
また、除湿工程で、結晶性ゼオライトに密閉空間内の空気を通過させて除湿する場合には、密閉空間内にあった空気中に含まれる水分子を結晶性ゼオライトに吸着させて除湿可能となる。即ち、除湿工程においても、密閉空間内の空気中から、水分子のみを選択的に結晶性ゼオライトで捕捉し、密閉空間内を除湿することができる。
【0024】
また、二酸化塩素ガス供給工程で、濃度が２５０ｐｐｍ～１５００ｐｐｍの範囲内で、二酸化塩素ガスを密閉空間へ供給する場合には、密閉空間内を短時間で効率良く除染できると共に、安全性が担保しやすい濃度で、二酸化塩素ガスを取り扱うことが可能となる。
【0025】
ここで、二酸化塩素ガス供給工程で、濃度が２５０ｐｐｍ未満で、二酸化塩素ガスを密閉空間へ供給する場合には、密閉空間を二酸化塩素ガスに曝露して除染する際に、二酸化塩素ガスの濃度が低く、除染の効率が下がり、除染が完了するまでの時間が長くなってしまう。また、二酸化塩素ガス供給工程で、濃度が１５００ｐｐｍを超えて、二酸化塩素ガスを密閉空間へ供給する場合には、爆発の危険性が高まり、安全性が担保しにくくなってしまう。
【0026】
また、曝露工程では、少なくともＣＴ値１１００ｐｐｍ・時となるまで密閉空間に二酸化塩素ガスを曝露する場合には、密閉空間の除染を充分に行うことが可能となる。
【0027】
また、曝露工程で密閉空間内における二酸化塩素ガスのＣＴ値が目標値に達したことを検知して、回収工程が自動的に開始される場合には、密閉空間内に供給した二酸化塩素ガスを、効率良く回収することが可能となる。この結果、除染の準備を開始してから、除染が完了し、密閉空間が使用可能となるまでの時間を短縮することができる。
【0028】
また、二酸化塩素ガス供給工程及び曝露工程では、密閉空間内を相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の環境下に維持する場合には、除染を開始する前の、除湿工程で準備した低湿度の環境下を維持して、内容物が腐食するリスクを、より一層充分に低下させることができる。
【0029】
また、二酸化塩素ガス供給工程で、密閉空間内の気体を吸引して、活性炭を通過させた後、供給用ガスの発生に利用する場合には、密閉空間内が陽圧になることを抑止でき、外部に二酸化塩素ガスが漏れることを防止できる。即ち、密閉空間に供給された二酸化塩素ガスを含む気体を回収し、活性炭を作用させて二酸化塩素ガスを吸着して、新鮮な空気にしたものを、供給用ガスを発生させるエアレーションに利用することとなる。このことによれば、外部から新たに空気を導入することなく、密閉空間内の気体を利用して気体を循環させることが可能となる。そのため、二酸化塩素ガスの生成において外部から新たに空気を導入する場合のように、密閉空間内の空気圧が上昇して、内部が陽圧になり、密閉空間を形成する部材の隙間から二酸化塩素ガスが外部に漏れる現象を回避することができる。また、気体を循環させることになるため、密閉空間内で二酸化塩素ガスの濃度を効率良く高めることができる。さらに、活性炭を介して二酸化塩素ガスを吸着することで、エアーポンプでの錆の発生を抑止できる。
【0030】
また、密閉空間が、安全キャビネットまたは動物飼育用のアイソレーターである場合には、安全キャビネットまたは動物飼育用のアイソレーターに対して、二酸化塩素ガスを介して、短時間で効率良く除染を行い、かつ、内容物が腐食するリスクを低くすることができる。
【0031】
また、上記の目的を達成するために、本発明の除染装置は、密閉空間への二酸化塩素の気相付与により、前記密閉空間内の所定の微生物を低減する除染装置であって、前記密閉空間側に設けられた気体の供給口及び排気口のそれぞれと、配管経路を介して接続された除染装置本体と、前記密閉空間内の相対湿度及び絶対湿度を測定する湿度測定部と、前記密閉空間内の二酸化塩素ガス濃度を測定するガス濃度計測部と、前記密閉空間内から吸引した空気を除湿し、同密閉空間内を相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の環境下にする第１の除湿部と、前記二酸化塩素ガスの薬液を混合する曝気槽と、前記曝気槽に気体を送り込み、前記二酸化塩素ガス及び水蒸気を含む供給用ガスを生成すると共に、前記供給口と接続された前記配管経路を介して、前記供給用ガスを前記密閉空間内に向けて送り出すエアーポンプと、前記供給口と接続された前記配管経路上に設けられ、前記供給用ガスを除湿する第２の除湿部と、前記二酸化塩素ガスに一定時間曝露した前記密閉空間内の空気を吸引し、同二酸化塩素ガスを回収して、同密閉空間内の同二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ未満まで低下させる回収部と、を備える。
【0032】
ここで、除染装置本体が、密閉空間側に設けられた気体の供給口及び排気口のそれぞれと、配管経路を介して接続されたことによって、密閉空間内の空気を直接、除染装置本体側に供給して、密閉空間内の空気を処理することができる。また、このことによれば、密閉空間の内部等に、別途の装置機器を設けることなく、密閉空間の除染が可能となる。
【0033】
また、湿度測定部が、密閉空間内の相対湿度及び絶対湿度を測定することによって、各処理が行われている際の密閉空間内の相対湿度及び絶対湿度を確認することができる。また、測定した密閉空間内の相対湿度及び絶対湿度の値に応じて、各種作業を実行させることが可能となる。
【0034】
また、ガス濃度計測部が、密閉空間内の二酸化塩素ガス濃度を測定することによって、各処理が行われている際の密閉空間内の二酸化炭素ガス濃度を確認することができる。また、測定した密閉空間内の二酸化炭素ガス濃度に応じて、各種作業を実行させることが可能となる。
【0035】
また、第１の除湿部が、密閉空間内から吸引した空気を除湿し、密閉空間内を相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の環境下にすることによって、除染の対象となる密閉空間を、内容物が腐食しにくい低湿度の環境下にすることができる。即ち、例えば、除染を行う前に、密閉空間の内部が、湿度が高い環境にあった際でも、除染の作業の前に、第１の除湿部を介して、密閉空間の内部の湿度を低くして、その後の処理を進めることが可能となる
【0036】
また、曝気槽で、二酸化塩素ガスの薬液を混合し、エアーポンプが、曝気槽に気体を送り込むことによって、密閉空間の除染に用いる二酸化塩素ガスを生成することができる。
【0037】
また、エアーポンプが、曝気槽に気体を送り込み、二酸化塩素ガス及び水蒸気を含む供給用ガスを生成すると共に、供給口と接続された配管経路を介して、供給用ガスを前記密閉空間内に向けて送り出すことによって、曝気槽で生成した二酸化塩素ガスを、密閉空間内に向けて供給することができる。
【0038】
また、第２の除湿部が、供給口と接続された配管経路上に設けられ、供給用ガスを除湿することによって、供給用ガスに含まれる水蒸気のみを除いて、二酸化塩素ガスを密閉空間内に供給することができる。これにより、水蒸気が、二酸化塩素ガスと共に密閉空間に導入され、密閉空間内の湿度が上昇することを抑止できる。また、これにより、第１の除湿部を介して、密閉空間を低湿度の環境下にした状態を、二酸化塩素ガスの導入の際に維持可能となる。
【0039】
また、回収部が、二酸化塩素ガスに一定時間曝露した密閉空間内の空気を吸引し、二酸化塩素ガスを回収して、密閉空間内の二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ未満まで低下させることによって、除染した後の密閉空間における二酸化塩素ガスの濃度を、人体等に安全な濃度まで下げることができる。即ち、除染後の密閉空間を、作業者等が使用可能な安全な環境にすることができる。
【0040】
また、第２の除湿部が、分子直径０．３ｎｍ未満の物質を吸着可能な結晶性ゼオライトを有する場合には、水分子を結晶性ゼオライトに吸着させて除湿可能となる。即ち、二酸化塩素ガスと一緒に生成する水蒸気に対して、水蒸気のみを選択的に結晶性ゼオライトで捕捉し、二酸化塩素ガスのみを効率良く、密閉空間内に供給することが可能となる。
【0041】
また、第１の除湿部が、結晶性ゼオライトを有する場合には、密閉空間内にあった空気中に含まれる水分子を結晶性ゼオライトに吸着させて除湿可能となる。即ち、第１の除湿部でも、密閉空間内の空気中から、水分子のみを選択的に結晶性ゼオライトで捕捉し、密閉空間内を除湿することができる。
【0042】
また、回収部が、活性炭を有する場合には、密閉空間の除染に用いた二酸化塩素ガスを、活性炭に吸着させて、密閉空間内の二酸化塩素ガスの濃度を効率良く低下させることが可能となる。
【0043】
また、第１の除湿部を有する層と、回収部を有する層が設けられた回収カートリッジ部を備える場合には、１つの回収カートリッジ部を介して、除染を行う前の密閉空間内の空気の除湿と、二酸化塩素ガスへの曝露が終了した後の密閉空間内の空気からの二酸化塩素ガスの回収の、それぞれの処理が可能となる。このことによれば、各作業に必要な部材を１つにまとめて、除染装置本体をコンパクトなサイズにしやすくなる。また、回収カートリッジを交換するだけで、第１の除湿部及び回収部を同時に交換でき、保守作業を容易にすることができる。
【0044】
また、湿度測定部が測定した密閉空間内の相対湿度及び絶対湿度、または、ガス濃度計測部が測定した二酸化塩素ガスの濃度に基づき、曝気槽、エアーポンプ、給排気システム及び回収部の駆動を自動制御するシーケンサーを備える場合には、密閉空間内の相対湿度及び絶対湿度の測定値、または、密閉空間内の二酸化塩素ガスの濃度に応じて、シーケンサーを介して、曝気槽、エアーポンプ、給排気システム及び回収部の自動制御が可能となる。このことによれば、除染を行う前の密閉空間内の空気の除湿、除染開始前の二酸化塩素ガスの濃度を高める立上、密閉空間に対する二酸化塩素ガスの曝露、除染後の二酸化塩素ガスの回収またその後の洗浄等、一連の作業を自動制御で行うことが可能となる。
【0045】
また、ガス濃度計測部が、光吸収方式で二酸化塩素ガスの濃度を測定し、計測分解能が０．００１ｐｐｍである場合には、密閉空間内の二酸化塩素ガスの濃度を、高精度で測定することができる。また、例えば、３０秒に１回、１分間に１回等、短時間での二酸化塩素ガスの濃度の測定が可能となる。このことによれば、回収部で、密閉空間内の二酸化塩素ガスの濃度を０．１ｐｐｍ未満にする際に、基準の濃度を下回ったか否かを精度高く、検知することが可能となる。また、密閉空間内に二酸化塩素ガスを供給する際の濃度変化や、除染中の二酸化塩素ガスのＣＴ値の変化を、ほぼリアルタイムで確認することが可能となる。また、従来の方法では、二酸化塩素用のガス検知管を用いて、何度もサンプリングしながら計測するという、煩雑な作業が必要であったが、本発明のガス濃度計測部では自動で吸引し、正確に濃度を計測することが可能となる。
【0046】
また、エアーポンプが、排気口と接続され、かつ、活性炭で構成された気体浄化部が設けられた配管経路を介して、密閉空間内の気体を吸引すると共に、吸引した気体を曝気槽に送り込む場合には、密閉空間内が陽圧になることを抑止でき、外部に二酸化塩素ガスが漏れることを防止できる。即ち、密閉空間に供給された二酸化塩素ガスを含む気体を回収し、活性炭を作用させて二酸化塩素ガスを吸着して、新鮮な空気にしたものを、供給用ガスを発生させるエアレーションに利用することとなる。このことによれば、外部から新たに空気を導入することなく、密閉空間内の気体を利用して気体を循環させることが可能となる。そのため、二酸化塩素ガスの生成において外部から新たに空気を導入する場合のように、密閉空間内の空気圧が上昇して、内部が陽圧になり、密閉空間を形成する部材の隙間から二酸化塩素ガスが外部に漏れる現象を回避することができる。また、気体を循環させることになるため、密閉空間内で二酸化塩素ガスの濃度を効率良く高めることができる。さらに、活性炭を介して二酸化塩素ガスを吸着することで、エアーポンプでの錆の発生を抑止できる。
【発明の効果】
【0047】
本発明に係る操作装置及び操作方法は、細胞や微生物等の微小な試料を、大規模かつ効率よく培養、操作、及び分析することが可能であり、かつ、微量の試薬等を用いた実験操作も可能なものとなっている。
【図面の簡単な説明】
【0048】
【図1】本発明の実施の形態である除染装置と、除染の対象となる安全キャビネットを示す概略図である。
【図2】本発明を適用した除染方法の流れを示すフロー図である。
【図3】（ａ）は、実施例１における二酸化塩素ガス濃度及び相対湿度の変化を示すグラフであり、（ｂ）は、比較例における二酸化塩素ガス濃度及び相対湿度の変化を示すグラフであり
【図4】実施例２における密閉空間Ｓの経過時間に伴う二酸化塩素ガス濃度及び二酸化塩素ガスＣＴ値の変化を示すグラフである。
【図5】実施例２における密閉空間Ｓの経過時間に伴う温度、絶対湿度及び相対湿度の変化を示すグラフである。
【図6】密閉空間への二酸化塩素ガス供給時の陽圧防止についての実施例の装置構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0049】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明し、本発明の理解に供する。
［本発明の実施の形態］
本発明を適用した除染装置の一例として、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下に示す内容はあくまで、本発明を適用した構造の一例にすぎず、本発明の実施の形態は以下に示す構造に限定されるものではない。
［本発明の実施の形態］
本発明を適用した除染装置の一例として、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下に示す内容はあくまで、本発明を適用した構造の一例にすぎず、本発明の実施の形態は以下に示す構造に限定されるものではない。
【0050】
図１に示すように、本発明を適用した除染装置の一例である除染装置Ａは、密閉空間Ｓを有する安全キャビネットＢに対して、その密閉空間Ｓの除染を行うための装置である。なお、ここでいう密閉空間Ｓが、本願請求項における密閉空間に相当する部分である。
【0051】
また、安全キャビネットＢは、病原体や遺伝子組み換え生物等のバイオハザードを封じ込め、安全な作業環境を実現する設備であり、例えば、大学、研究所、医療機関の検査室等に設置される。
【0052】
また、安全キャビネットＢは、密閉空間Ｓの内部を陰圧に保ち、密閉空間内の空気は、へパフィルターを通して清浄化され、排気口Ｂ１（図１参照）から外部に排出されるものとなっている。また、密閉空間Ｓは、１ｍ３～５ｍ３程の広さで設計されている。
【0053】
ここで、除染装置Ａは、図１に示すように、装置本体１と、濃度計測機構２と、除湿回収機構３と、ガス生成機構４を有している。
【0054】
また、装置本体１は、除染装置Ａの本体を構成する部分であり、濃度計測機構２、除湿回収機構３及びガス生成機構４のそれぞれを収容する収容部材でもある。なお、ここでいう装置本体１が、本願請求項における除染装置本体に相当する部分である。
【0055】
また、濃度計測機構２は、密閉空間Ｓの内部環境の相対湿度と、絶対湿度を測定するための計測機構である。また、濃度計測機構２では、相対湿度及び絶対湿度の算出のために、密閉空間Ｓの内部環境の温度も測定している。
【0056】
また、除湿回収機構３は、密閉空間Ｓに対して除染を行う前に、密閉空間Ｓの内部の空気を除湿するための機構である。また、除湿回収機構３は、密閉空間Ｓに対して二酸化塩素ガスを曝露させた後に、内部の空気から二酸化塩素ガスを回収するための機構でもある。
【0057】
また、ガス生成機構４は、二酸化塩素ガスを、反応液から生成して、密閉空間Ｓに供給するための機構である。
【0058】
ここで、本発明を適用した除染装置及び本発明を適用した除染方法による除染の対象は、安全キャビネットに限定されるものではなく、密閉空間を有し、除染が必要な装置機器が対象である。例えば、動物飼育装置用のアイソレーターも対象となる。動物飼育装置用のアイソレーターは、実験動物等の飼育に用いる設備であり、密閉空間の内部を陽圧または陰圧に保ち、へパフィルターを通して清浄化した空気を吸気および排気する装置である。
【0059】
続いて、より詳細な構成を説明する。
【0060】
［濃度計測機構］
まず、濃度計測機構２は、二酸化塩素ガス濃度計測部２０を有している（図１参照）。この二酸化塩素ガス濃度計測部２０は、光吸収方式のガス濃度検知装置で、計測分解能０．００１ｐｐｍである。そのため、密閉空間Ｓの内部環境の二酸化塩素ガス濃度について、０．１ｐｐｍ以下の濃度も正確に測定可能に構成されている。
まず、濃度計測機構２は、二酸化塩素ガス濃度計測部２０を有している（図１参照）。この二酸化塩素ガス濃度計測部２０は、光吸収方式のガス濃度検知装置で、計測分解能０．００１ｐｐｍである。そのため、密閉空間Ｓの内部環境の二酸化塩素ガス濃度について、０．１ｐｐｍ以下の濃度も正確に測定可能に構成されている。
【0061】
この二酸化塩素ガス濃度計測部２０は、ガスが分解する前の瞬時に、ガスに光を吸収させて、対象ガスの濃度を計測する特徴を有し、例えば、特許第６８８６２０８号に記載されたガス濃度検知装置を採用することができる。
【0062】
この二酸化塩素ガス濃度計測部２０は、例えば、被測定空間内の被測定空気（二酸化塩素を含む空気）と、清浄領域内の目標ガス（二酸化塩素）を含まない清浄空気（清浄ガス）とを、ガス容器内に交互に導入し、光源からの光源光を照射することで、被測定空気内の目標ガス（二酸化塩素）の濃度ｃｈの値を得る装置である。
【0063】
また、二酸化塩素（目標ガス）は、３６０ｎｍ付近を極大として、概ね２７０～５００ｎｍの範囲に光を吸収する光吸収波長域を有している。このため、二酸化塩素を含む空気に波長３６０ｎｍ程度の紫外光を照射すると、二酸化塩素が紫外光を吸収して分解される。このため、二酸化塩素を含む空気（被測定空気）に紫外光を照射して、その透過光を観察すると、二酸化塩素が吸収した分だけ、即ち、被測定空気中の二酸化塩素の濃度ｃｈに比例して、紫外光の光量が減少する。そこで、二酸化塩素ガス濃度計測部２０は、この減少量を検知することで、二酸化塩素の濃度ｃｈを検知することができる。
【0064】
また、二酸化塩素ガス濃度計測部２０は、０．５分に１回の頻度で密閉空間Ｓの内部環境の二酸化塩素ガス濃度を測定可能に構成されている。また、本発明の実施の形態では、密閉空間Ｓの内部環境の二酸化塩素ガス濃度の測定頻度は、０．５分～３分に１回の測定が好ましく、１分～２分に１回の測定がより好ましく、１分に１回の測定がさらに一層好ましい。
【0065】
なお、１分に１回の測定であれば、対象となる密閉空間Ｓの体積が小さく、急激な二酸化塩素ガスの濃度変化が生じても適切に濃度を確認しやすくなる。また、０．５分に１回の頻度で測定する場合と比較して、計測器内部のガス流路及び光照射流路の筒内部に装着したガラス面が、二酸化塩素が紫外線で分解した分解物により汚れにくくなり、計測精度が低下してしまうことが抑止できる。
【0066】
また、濃度計測機構２は、図示しない温湿度計測部を有している。温湿度計測部は、密閉空間Ｓの内部環境の温度、相対湿度及び絶対湿度を計測する装置である。なお、二酸化塩素ガス濃度計測部２０と温湿度計測部は、連続的に作動し、密閉空間Ｓの内部環境をモニタリングできるように構成されている。
【0067】
また、濃度計測機構２は、濃度計測用の給排気経路２１を有している。この給排気経路２１は、密閉空間Ｓの内部と接続され、密閉空間Ｓの中の空気を二酸化塩素ガス濃度計測部２０または温湿度計測部へと供給すると共に、濃度等を計測した気体を、再度、密閉空間Ｓに戻す経路である。
【0068】
また、濃度計測機構２の箇所には、タッチパネル式のシーケンサー５が設けられている（図１参照）。シーケンサー５は、二酸化塩素ガス濃度の計測及び温湿度の計測に基づき、密閉空間Ｓの除湿、二酸化塩素ガスの生成、目標ガス濃度にするための二酸化塩素ガスの供給、ＣＴ値の算出、ＣＴ値に基づくガスの回収・洗浄等の一連の作業工程を自動制御する制御機器である。
【0069】
即ち、シーケンサー５は、除染前の密閉空間Ｓの除湿、二酸化塩素ガスの供給（立上）、密閉空間Ｓへの二酸化塩素ガスの曝露、曝露後の二酸化塩素ガスの回収、溶液の供給経路及び曝気槽の洗浄の、全ての工程を自動制御する制御機器（コントローラー）である。
【0070】
なお、ここでいうシーケンサー５が本願請求項におけるシーケンサーに相当する部材である。また、シーケンサー５を介した自動制御の内容は後述する。
【0071】
また、シーケンサー５には、各装置機器を操作するためのタッチパネルがもうけられている。上述したように、除染装置Ａはシーケンサー５を介して、除染前の準備段階から二酸化塩素ガスへの曝露が終了した後の洗浄まで、一連の作業を自動制御で行うことが可能であるが、各処理工程の開始、一時停止、終了等を、タッチパネルを操作して、操作することもできる。
【0072】
［除湿回収機構］
また、図１に示すように、除湿回収機構３は、回収カートリッジ部３０と、ラインブロワー３１を有している。また、除湿回収機構３は、安全キャビネットＢの排気口Ｂ１から、回収カートリッジ部３０及びラインブロワー３１を経由して、再度、密閉空間Ｓの内部へと繋がる回収用給排気経路３２を有している。
また、図１に示すように、除湿回収機構３は、回収カートリッジ部３０と、ラインブロワー３１を有している。また、除湿回収機構３は、安全キャビネットＢの排気口Ｂ１から、回収カートリッジ部３０及びラインブロワー３１を経由して、再度、密閉空間Ｓの内部へと繋がる回収用給排気経路３２を有している。
【0073】
なお、ここでいう回収カートリッジ部３０が本願請求項における回収カートリッジ部に相当する部材である。
【0074】
また、回収カートリッジ部３０は、活性炭が充填された上層部３００と、結晶性ゼオライトが充填された下層部３０１の２つの層が形成されている。また、上槽部３００及び下層部３０１を上下から挟むように、図示しないプレフィルターが設けられている。
【0075】
なお、ここでいう活性炭が、本願請求項における活性炭に相当する部材である。また、ここでいう結晶性ゼオライトが、本願請求項における結晶ゼオライトに相当する部材である。
【0076】
この活性炭が充填された上層部３００は、密閉空間Ｓに対して二酸化塩素ガスを曝露させた後に、密閉空間Ｓの空気を通過させ、二酸化塩素ガスを活性炭に吸着させ、回収するための部分である。
【0077】
また、結晶性ゼオライトが充填された下層部３０１は、密閉空間Ｓに対して二酸化塩素ガスを曝露する前に、密閉空間Ｓの空気を通過させ、空気中に含まれる水分子を結晶性ゼオライトに吸着させ、密閉空間Ｓを除湿するための部分である。
【0078】
また、プレフィルターは、上層部３０１または下層部３００の前後で、微粉末の結晶性ゼオライトが、ラインブロワー３１のエアーで移動しないようにするフィルター部材である。
【0079】
このように、回収カートリッジ部３０は、密閉空間Ｓの内部の空気を通過させ、除染を行う前の除湿と、密閉空間Ｓに二酸化塩素ガスを曝露させた後の、ガスの回収の、２つ処理を担う部材である。
【0080】
また、上層部３００に充填された活性炭は、ペレット状の活性炭や不定形な破砕炭からなる粒状活性炭であり、上層部３００は、８００ｇの粒状活性炭を、成形枠に充填して構成されている。
【0081】
ここで、上層部３００に充填される活性炭は、二酸化塩素ガスを吸着して回収可能であれば、その形状や大きさは特に限定されるものではない。
【0082】
また、上層部３００で、成形枠に充填される活性炭の量は、適宜設定しうる。但し、密閉空間Ｓの容積が１ｍ３～５ｍ３であり、当該容積の範囲に対して、短時間で効率良く二酸化塩素ガスを曝露させること、及び、１回から３回程度活性炭を使用する回数を考慮すると、上層部３００に充填される活性炭の量は、５０ｇ～５０００ｇが好ましく、１００～２０００ｇがより好ましく、２００ｇ～１２００ｇに設定されることが、さらに一層好ましい。
【0083】
また、下層部３０１に充填された結晶性ゼオライトは、分子直径０．３ｎｍ未満の物質を吸着可能な結晶性ゼオライトであり、アルミノケイ酸塩質の結晶材料である。結晶中に微細な細孔を有し、水分子を選択的に吸着可能に構成されている。また、この結晶性ゼオライトは、重量比で２０％の水分子（水蒸気）を吸着可能である。また、下層部３０１には、８００ｇの結晶性ゼオライトが充填されている。
【0084】
また、結晶性ゼオライトは水分子の吸着能が飽和した後も、一旦回収し、洗浄して乾燥させることで、吸着能を再生することができる。
【0085】
ここで、下層部３０１に充填される結晶性ゼオライトの量は適宜設定しうる。但し、密閉空間Ｓの容積が１ｍ３～５ｍ３であり、除染を開始する前に、当該容積の範囲の密閉空間Ｓの空気を、相対湿度３２％未満かつ絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の低湿度の環境下にする点から、下層部３０１に充填される結晶性ゼオライトの量は、５０ｇ～２０００ｇが好ましく、１００～１５００ｇがより好ましく、２００ｇ～１０００ｇに設定されることが、さらに一層好ましい。
【0086】
また、ラインブロワー３１は、密閉空間Ｓの内部の空気を吸引して、回収用給排気経路３２を介して、回収カートリッジ部３０に吸引した空気を通過させるための送風機である。このラインブロワー３１は、除染前の密閉空間Ｓの除湿と、二酸化塩素ガスに曝露した後のガスの回収の際に駆動する。
【0087】
［ガス生成機構］
また、図１に示すように、ガス生成機構４は、曝気槽４０と、エアーポンプ４１と、ガス供給チューブ４２と、除湿カートリッジ４３と、ガス回収チューブ４１０と、活性炭カートリッジ４１１を有している。
また、図１に示すように、ガス生成機構４は、曝気槽４０と、エアーポンプ４１と、ガス供給チューブ４２と、除湿カートリッジ４３と、ガス回収チューブ４１０と、活性炭カートリッジ４１１を有している。
【0088】
また、曝気槽４０は、二酸化塩素ガスを生成するための薬液を混合する槽である。曝気槽４０の内部で薬液を混ぜて水溶液とし、この水溶液にエアーポンプ４１を介したエアレーションを行い、二酸化塩素ガスを遊離させ、水蒸気を含む供給用ガスを生成する部分である。
【0089】
また、エアーポンプ４１は、曝気槽４０内に空気を送り込み、二酸化塩素ガスの薬液を混合した水溶液にエアレーションを行う部材である。また、エアーポンプ４１は、二酸化塩素ガスを生成する際に、ガス回収チューブ４１０を介して密閉空間Ｓ内の気体を吸引し、活性炭カートリッジ４１１を通過した空気を、曝気槽４０内に送り込む部材である。
【0090】
また、エアーポンプ４１は、曝気槽４０で生成した供給用ガスを、ガス供給チューブ４２を介して、安全キャビネットＢの供給口Ｂ２から、密閉空間Ｓの内部に送り込む送風機である。
【0091】
また、更に、エアーポンプ４１は、後述する立上工程の際に、そのエアー圧により、密閉空間Ｓの内部を陽圧にする部材である。密閉空間Ｓの内部を陽圧にすることで、供給した二酸化塩素ガスを、密閉空間Ｓの内部で循環させ、安全キャビネットＢの排気口Ｂ１から、内部の空気を装置本体１側に戻すことができる。
【0092】
また、この際のエアーポンプ４１、ガス供給チューブ４２、密閉空間Ｓ、ガス回収チューブ４１０を介した、二酸化塩素ガスの密閉空間への供給、循環及び装置本体１に戻す構成により、気体を循環させ、二酸化塩素ガス供給工程の際に、密閉空間Ｓの内部が陽圧になることを抑止できる。
【0093】
また、ガス回収チューブ４１０は、エアーポンプ４１と安全キャビネットＢの排出口Ｂ４とを繋ぐ気体の供給経路である。また、ガス回収チューブ４１０は、活性炭カートリッジ４１１を取り付ける対象となる経路でもある。
【0094】
また、活性炭カートリッジ４１１は、密閉空間Ｓ内に供給され、空間内で二酸化塩素ガスが希釈され、薄い二酸化塩素ガス／空気となった気体を通過させ、活性炭で二酸化塩素ガスを吸着して新鮮な空気にして、エアーポンプ４１側に戻すための部材である。
【0095】
また、ガス供給チューブ４２は、曝気槽４０と安全キャビネットＢの供給口Ｂ２とを繋ぐ気体の供給経路である。また、ガス供給チューブ４２は、除湿カートリッジ４３を取り付ける対象となる経路でもある。
【0096】
また、除湿カートリッジ４３は、曝気槽４０で生成した、二酸化塩素ガスと水蒸気から構成された供給用ガスを通過させ、水蒸気を捕捉して除湿し、二酸化塩素ガスのみを密閉空間Ｓの内部に供給するための部材である。
【0097】
また、除湿カートリッジ４３は、供給側と排出側の２カ所で、ガス供給チューブ４２を接続できる円筒形の充填カートリッジである。
【0098】
また、除湿カートリッジ４３は、その内部に、分子直径０．３ｎｍ未満の物質を吸着可能な結晶性ゼオライトが１５０ｇ充填されている。この結晶性ゼオライトは、上述した回収カートリッジ部３０の下層部３０１に充填された結晶性ゼオライトと同一の物質である。
【0099】
また、除湿カートリッジ４３の結晶性ゼオライトが充填された箇所の前後には、図示しないプレフィルターが設けられている。プレフィルターは、微粉の結晶性ゼオライトが、エアーポンプ４１のエアーで移動しないようにするフィルター部材である。
【0100】
また、除湿カートリッジ４３は、ガス供給チューブ４２に着脱自在に構成されている。これにより、結晶性ゼオライトの水分子に対する吸着能が飽和した後は、除湿カートリッジ４３ごと交換することで、除湿性能を担保することができる。
【0101】
ここで、除湿カートリッジ４３に充填される結晶性ゼオライトの量は適宜設定しうる。但し、ここで用いる結晶性ゼオライトの量は、水溶液の温度、エアレーション容量（バブリング容量）、曝気時間に合わせて設定されることが好ましい。
【0102】
ここで、例えば、一事例として、容量１Ｌの曝気槽にて、１８Ｌ／分のバブリング容量で１５分間曝気槽のエアレーションを行い、１０ｍ３の密閉空間に、生成時の水蒸気を含む二酸化塩素ガスを導入した場合（二酸化塩素ガスを除湿しない場合）、水溶液の温度が２５℃の条件では、密閉空間内の相対湿度は、４０％ＲＨから５０％ＲＨに上昇した。また、絶対湿度は、１ｍ３あたり２．３１ｇ、即ち、１０ｍ３換算で約２３ｇ上昇した。
【0103】
上記の事例を考慮すると、結晶性ゼオライトは、重量比で２０％の水分子（水蒸気）を吸着可能であることから、除湿カートリッ４３に充填する結晶性ゼオライトは１５０ｇであれば、３０ｇの水蒸気を吸着することができる。つまり、上記の事例のように、１５分間のエアレーションで発生する約２３ｇの水蒸気は、除湿カートリッジ４３で充分に捕集可能となる。
【0104】
以上のことから、本発明の実施の形態では、曝気槽４０で生成する水蒸気を充分に捕集するために、除湿カートリッ４３に充填する結晶性ゼオライトの量は、１ｇ～２０００ｇが好ましく、５０～２００ｇに設定されることがより好ましい。
【0105】
次に、曝気槽４０の容積と、エアレーションを行う際のバブリング容量について説明する。
【0106】
まず、本発明では、後述するように、密閉空間Ｓに対して、二酸化塩素ガスを曝露させる曝露期において、二酸化塩素ガスの濃度は２５０ｐｐｍ～１５００ｐｐｍとなることが好ましい。
【0107】
そして、例えば、１ｍ３の狭い密閉空間内で二酸化塩素ガス濃度を約２５０ｐｐｍにするには、曝気槽の容積は最低１３０ｍＬが必要となる。また、１ｍ３の狭い密閉空間内で二酸化塩素ガス濃度を約１５００ｐｐｍにするには、曝気槽の容積は最低１８０ｍＬが必要となる。また、除染装置Ａの装置本体１を、除染の際に、都度設置することを考慮すると、装置本体１のサイズも加味して、曝気槽は最大１５Ｌ（１５０００ｍＬ）程度が上限と考えられる。そして、除染の対象となる安全キャビネット等の大きさを考慮すると、曝気槽の容積は、１００ｍＬ～１５０００ｍＬであることが好ましく、２００ｍＬ～５０００ｍＬがより好ましく、５００～２０００ｍＬに設定されることがさらに一層好ましい。
【0108】
また、エアーポンプ４１によりエアレーションを行う際のバブリング容量は、曝気槽の容積に関係して設定される。例えば、曝気槽の容積が１２０ｍＬのとき、バブリング容量は、最低０．２Ｌ／分は必要となる。また、バブリング容量が小さすぎると、曝気槽の水溶液中からの二酸化塩素ガスの遊離が遅くなってしまう。従って、上記の曝気槽の容積の範囲と、効率的な二酸化塩素ガスの生成を考慮した場合、バブリング容量は、０．２Ｌ～１００Ｌ／分であることが好ましく、０．５Ｌ～５０Ｌ／分がより好ましく、１Ｌ～３０Ｌ／分に設定されることがさらに一層好ましい。
【0109】
また、図１に示すように、ガス生成機構４は、薬液タンク４４と、薬液タンク４５と、水タンク４６と、廃液タンク４７と、薬液ポンプ４８と、廃液ポンプ４９を有している。
【0110】
ここで、薬液タンク４４には、亜塩素酸ナトリウム（２５％以下）が、薬液タンク４５には、塩酸（９％以下）が、それぞれ充填されている。また、水タンク４６には、希釈または洗浄用の水が充填されている。
【0111】
また、廃液タンク４７は、二酸化塩素ガスを生成する際に生じる廃液を貯めるタンクである。また、廃液ポンプ４９は、廃液を廃液タンク４７に送液するためのポンプである。
【0112】
また、薬液ポンプ４８は、曝気層４０で二酸化塩素ガスを生成する際に、薬液タンク４４の亜塩素酸ナトリウム（２５％以下）、薬液タンク４５の塩酸（９％以下）、及び、水タンク４６の水を送液するポンプである。また、薬液ポンプ４８は、各溶液の供給経路を洗浄する際に、水タンク４６の水を送液するポンプでもある。
【0113】
より詳細には、薬液ポンプ４８が駆動すると、亜塩素酸ナトリウム、塩酸及び水が曝気槽４０に送液され、曝気槽４０にて混合され、水溶液となると同時に、エアーポンプ４１によりエアレーションが行われ、二酸化塩素ガスが発生するものとなっている。
【0114】
続いて、本発明を適用した二酸化塩素ガスによる除染方法の一例である除染方法の流れについて説明する。なお、以下説明する除染方法は、上述した除染装置Ａを用いた方法である。
【0115】
【0116】
ここで、除湿工程（Ｓ１）は、安全キャビネットＢの密閉空間Ｓに対して、除染を行う前に、密閉空間Ｓの内部の空気中に含まれる水分子を捕集して、除湿する工程である。
【0117】
本工程では、ラインブロワー３１を駆動させ、回収用排気経路３２を介して、密閉空間Ｓの内部の空気を装置本体１側に吸引する。また、吸引した空気は、回収カートリッジ部３０を通過する。回収カートリッジ部３０の下層部３０１を通過する際に、吸引した空気中に含まれる水分子が、結晶性ゼオライトに吸着される。これにより、吸引された空気が除湿され、再度、密閉空間Ｓの内部に戻されていく。
【0118】
また、本工程では、温湿度計測部により、密閉空間Ｓの内部環境の温度、相対湿度及び絶対湿度が測定され、各測定値がモニタリングされている。除湿工程（Ｓ１）では、密閉空間Ｓの内部の空気において、相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満となるまで、除湿が継続的に行われる。
【0119】
また、密閉空間Ｓの内部の空気において、相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満となると、ラインブロワー３１の駆動が停止され、次の立上工程（Ｓ２）に進む。
【0120】
この除湿工程（Ｓ１）により、密閉空間Ｓの内部を低湿度の環境にすることができる。また、相対湿度と絶対湿度の値の検知と、これに基づく除湿工程（Ｓ１）の終了、及び、立上工程（Ｓ１）の開始は、シーケンサー５により自動で制御される。
【0121】
次に、二酸化塩素ガスを生成して、密閉空間Ｓの内部での二酸化塩素ガス濃度を、目標値濃度に到達させるための立上工程（Ｓ２）が行われる。
【0122】
この立上工程（Ｓ２）では、エアーポンプ４１、薬液ポンプ４８、廃液ポンプ４９が駆動し、曝気槽４０の内部で薬液が混合され、その水溶液にエアレーションを行い、二酸化塩素ガスが遊離する。
【0123】
また、曝気槽４０で遊離した二酸化塩素ガスには水蒸気が含まれるが、エアーポンプ４１によりガス供給チューブ４２を通って、密閉空間Ｓの内部に向けて送られる際に、除湿カートリッジ部４３を通過する。
【0124】
この除湿カートリッジ部４３を通過する際に、二酸化塩素ガスに含まれる水蒸気が、結晶性ゼオライトに吸着される。これにより、水蒸気が選択的に捕集され、二酸化塩素ガスのみが密閉空間Ｓの内部に供給される。
【0125】
また、立上工程（Ｓ２）では、エアーポンプ４１が、ガス回収チューブ４１０を介して密閉空間Ｓ内の気体を吸引し、活性炭カートリッジ４１１を通過した空気を、曝気槽４０へと送り込む。
【0126】
この際、密閉空間Ｓ内に供給され、空間内で二酸化塩素ガスが希釈され、薄い二酸化塩素ガス／空気となった気体を、活性炭カートリッジ４１１に通過させ、活性炭で二酸化塩素ガスを吸着して新鮮な空気にして、エアーポンプ４１側に戻す。
【0127】
これにより、エアーポンプ４１に錆を発生させずに、除染装置本体と密閉空間Ｓの閉ざされた空間内の空気を循環させて、二酸化塩素ガスを供給し続けることができる。この結果、エアレーションを行うために、外部空間から新たに空気を導入する必要がなくなり、密閉空間内が陽圧になることを抑止でき、外部に二酸化塩素ガスが漏れることを防止することができる。また、気体を循環させることになるため、密閉空間内で二酸化塩素ガスの濃度を効率良く高めることができる。
【0128】
また、本工程では、二酸化塩素ガス濃度計測部２０により、密閉空間Ｓの内部の二酸化塩素ガス濃度が計測される。この二酸化塩素ガス濃度の計測は、自動で設定インターバル毎に行われる。
【0129】
また、立上工程（Ｓ２）では、密閉空間Ｓの内部の二酸化塩素ガス濃度が上昇し、目標値濃度に到達するまで、二酸化塩素ガスの生成及び供給が継続される。本実施の形態では、目標値濃度は１５００ｐｐｍに設定されている。
【0130】
この二酸化塩素ガス濃度の目標値濃度の１５００ｐｐｍとは、後述する曝露工程（Ｓ３）において、密閉空間Ｓの内部で、短時間で二酸化塩素ガスのＣＴ値を１１００ｐｐｍ・時に到達させるための濃度である。また、１５００ｐｐｍの濃度以下であれば、二酸化塩素ガスの引火性や爆発の危険性を低くすることができ、また、薬液の濃度が劇物の対象未満となり、取り扱い性を容易にすることができる。
【0131】
また、立上工程（Ｓ２）では、上述したように、除湿カートリッジ部４３により、二酸化塩素ガスを生成する際に生じる、水蒸気を捕集でき、二酸化塩素ガスのみを密閉空間Ｓの内部に供給することが可能となるため、密閉空間Ｓを低湿度の環境に維持することができる。
【0132】
また、立上工程（Ｓ２）では、エアーポンプ４１のエアー圧により、密閉空間Ｓの内部が陽圧となり、供給した二酸化塩素ガスを、密閉空間Ｓの内部で循環させ、安全キャビネットＢの排気口Ｂ１から、内部の空気を装置本体１側に戻すことができる。
【0133】
また、密閉空間Ｓの内部の空気において、二酸化塩素ガスの濃度が１５００ｐｐｍとなると、エアーポンプ４１や薬液ポンプ４８等の駆動が停止され、次の曝露工程（Ｓ３）に進む。
【0134】
この際、例えば、二酸化塩素ガス濃度計測部２０による計測は、計測周期１分のインターバルで濃度測定するように設定できる。また、１５００ｐｐｍ以上の濃度が、２回測定された結果をもって、立上工程（Ｓ２）を終了させることができる。
【0135】
また、二酸化塩素ガス濃度による濃度測定と、これに基づく立上工程（Ｓ２）の終了、及び、曝露工程（Ｓ３）の開始は、シーケンサー５により自動で制御される。
【0136】
次に、二酸化塩素ガスの供給が停止された状態で、密閉空間Ｓを二酸化塩素ガスに曝露させる曝露工程（Ｓ３）が行われる。曝露工程（Ｓ３）では、導入された二酸化塩素ガスが密閉空間Ｓに充満した状態で、二酸化塩素ガス濃度計測部２０の濃度測定に基づき、ＣＴ値が継続的に算出される。
【0137】
また、ＣＴ値が、１１００ｐｐｍ・時以上の値になったことを検知して、曝露工程（Ｓ３）が終了となり、次の回収・洗浄工程（Ｓ４）へと進む。
【0138】
この曝露工程（Ｓ３）では、密閉空間Ｓを形成する壁面や床面が二酸化塩素ガスに晒され、これらに付着した微生物の数を低減させることができる。
【0139】
また、本発明の実施の形態における微生物としては、例えば、細菌、真菌、ウイルス等が挙げられる。二酸化塩素は、抗菌スペクトルが幅広く、細菌、真菌、ウイルス等の汚染物質に対し優れた滅菌および殺菌効果を示す。
【0140】
例えば、大腸菌やサルモネラ菌の他、レジオネラ菌、緑膿菌、腸炎ビブリオ、乳酸球菌、乳酸桿菌、セレウス菌、クロストリジウム、カンピロバクター、クラドスポリウム、フザリウム、クモノスカビ、青カビ、白癬菌等に対する殺菌試験でその効果が確認されている。また、インフルエンザウイルス、ノロウイルス、ＨＩＶ、Ｂ型肝炎ウイルス、ロタウイルス、イヌパルボウイルス等のウイルスに対する不活化も確認されている。
【0141】
この曝露工程（Ｓ３）では、密閉空間Ｓに対して二酸化塩素ガスを作用させることで、微生物を短時間で効果的に除去することができる。
【0142】
また、回収・洗浄工程（Ｓ４）では、密閉空間Ｓの内部の空気を吸引して、空気中に含まれる二酸化塩素ガスを吸着して、密閉空間Ｓの二酸化塩素ガス濃度を０．１ｐｐｍ未満にする工程である。また、薬液ポンプ４９を駆動し、水タンク４６に貯蔵された水を用いて、曝気槽４０や薬液ポンプ等の液体供給経路の洗浄を行う。
【0143】
この回収・洗浄工程（Ｓ４）では、ラインブロワー３１を駆動させ、回収用排気経路３２を介して、密閉空間Ｓの内部の空気を装置本体１側に吸引する。また、吸引した空気は、回収カートリッジ部３０を通過する。回収カートリッジ部３０の上層部３００を通過する際に、吸引した空気中に含まれる二酸化塩素ガスが、活性炭に吸着される。また、活性炭を通過した空気は、再度、密閉空間Ｓの内部に戻されていく。
【0144】
また、本工程では、二酸化塩素ガス濃度計測部２０により、密閉空間Ｓの内部の二酸化塩素ガス濃度が測定され、測定値がモニタリングされている。回収・洗浄工程（Ｓ４）では、密閉空間Ｓの内部の空気において、二酸化塩素ガス濃度が０．１ｐｐｍ未満になるまで、二酸化塩素ガスの回収が継続的に行われる。
【0145】
また、回収・洗浄工程（Ｓ４）では、回収カートリッジ部３０による二酸化塩素ガスの回収と並行して、曝気槽４０や薬液ポンプ等の液体供給経路の洗浄が行われる。
【0146】
また、密閉空間Ｓの内部の空気において、二酸化塩素ガス濃度が０．１ｐｐｍ未満になると、回収・洗浄工程（Ｓ４）が終了となる。また、この状態で、密閉空間Ｓに対する一連の除染の処理が終了したものとなり、安全キャビネットＢを使用可能となる。
【0147】
この際、例えば、二酸化塩素ガス濃度計測部２０による計測は、計測周期１分のインターバルで濃度測定するように設定できる。また、０．１ｐｐｍ未満の濃度が、２回測定された結果をもって、回収・洗浄工程（Ｓ４）を終了させることができる。
【0148】
また、二酸化塩素ガス濃度による濃度測定と、これに基づく回収・洗浄工程（Ｓ４）の終了は、シーケンサー５により自動で制御される。
【0149】
以上のような流れにより、本発明を適用した除染方法が行われる。
【0150】
また、本実施の形態では、除湿工程（Ｓ１）で、密閉空間Ｓを、相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の低湿度の環境とし、かつ、立上工程（Ｓ２）で、水蒸気を捕集して、二酸化塩素ガスのみを密閉空間に供給することで、低湿度の環境を維持することができる。
【0151】
これにより、二酸化塩素ガスを用いた除染を行う際に、対象となる密閉空間Ｓの内容物が腐食してしまうことを充分に抑止できる。
【0152】
また、本実施の形態では、立上工程（Ｓ２）において、二酸化塩素ガスの濃度が１５００ｐｐｍとなるように、密閉空間Ｓに二酸化塩素ガスを供給することで、曝露工程（Ｓ３）において、短時間で二酸化塩素ガスのＣＴ値を１１００ｐｐｍ・時に到達させることが可能となる。また、ＣＴ値を１１００ｐｐｍ・時となることで、密閉空間Ｓの内部に付着した微生物の数を充分低減させることが可能となる。
【0153】
また、本実施の形態では、回収・洗浄工程（Ｓ４）において、回収カートリッジ部３０の活性炭を介して、二酸化塩素ガスを吸着することで、密閉空間Ｓの二酸化塩素ガス濃度を０．１ｐｐｍ未満になるように、短時間で回収することが可能となる。
【0154】
以上のように、本発明の除染装置は、細胞や微生物等の微小な試料を、大規模かつ効率よく培養、操作、及び分析することが可能であり、かつ、微量の試薬等を用いた実験操作も可能なものとなっている。
また、本発明の二酸化塩素ガスによる除染方法は、細胞や微生物等の微小な試料を、大規模かつ効率よく培養、操作、及び分析することが可能であり、かつ、微量の試薬等を用いた実験操作も可能な方法となっている。
また、本発明の二酸化塩素ガスによる除染方法は、細胞や微生物等の微小な試料を、大規模かつ効率よく培養、操作、及び分析することが可能であり、かつ、微量の試薬等を用いた実験操作も可能な方法となっている。
【0155】
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
【実施例0156】
以下の実施例を説明する。
【0157】
［密閉空間における相対湿度及び絶対湿度について］
上述した除染装置Ａの構成に基づき、除湿カートリッジ部４３の有無の影響について検討した。除湿カートリッジ部４３を設けたものを実施例１とし、ガス供給チューブ４２に除湿カートリッジ部４３を設けないものを比較例とした。なお、本事例では、除湿カートリッジ部４３には、結晶性ゼオライト（製品名：モレキュラーシーブ３Ａ １／１６：関東化学株式会社製）が１００ｇ充填されている。また、実施例及び比較例について、二酸化塩素ガスの供給開始前（経過時間０分）、１０分間の立上工程の終了時点（経過時間１０分）、及び、曝露工程の終了時点（経過時間７０分）の各時点での、密閉空間Ｓにおける、二酸化塩素ガス濃度と、相対湿度を測定した。結果を表１及び表２と、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示す。表１及び図３（ａ）が実施例１の結果であり、表２及び図３（ｂ）が比較例の結果である。
上述した除染装置Ａの構成に基づき、除湿カートリッジ部４３の有無の影響について検討した。除湿カートリッジ部４３を設けたものを実施例１とし、ガス供給チューブ４２に除湿カートリッジ部４３を設けないものを比較例とした。なお、本事例では、除湿カートリッジ部４３には、結晶性ゼオライト（製品名：モレキュラーシーブ３Ａ １／１６：関東化学株式会社製）が１００ｇ充填されている。また、実施例及び比較例について、二酸化塩素ガスの供給開始前（経過時間０分）、１０分間の立上工程の終了時点（経過時間１０分）、及び、曝露工程の終了時点（経過時間７０分）の各時点での、密閉空間Ｓにおける、二酸化塩素ガス濃度と、相対湿度を測定した。結果を表１及び表２と、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示す。表１及び図３（ａ）が実施例１の結果であり、表２及び図３（ｂ）が比較例の結果である。
【0158】
（表１）
【0159】
（表２）
【0160】
表１及び図３（ａ）に示すように、実施例１では密閉空間Ｓの内部の相対湿度を３２％未満の低湿度に維持することができた。一方、表２及び図３（ｂ）に示すように、比較例では、時間経過と共に、密閉空間Ｓの内部の相対湿度が上昇し、曝露工程の終了時点では、相対湿度が４３％になっていた。
【0161】
次に、上述した本発明を適用した除染方法により、安全キャビネットＢに対する一連の処理を行った（実施例２）。また、除染方法は、シーケンサー５による自動制御で行った。安全キャビネットＢの密閉空間Ｓ中の６カ所に、バイオロジカルインジケーター（ＢＩ）を設置して、除染を行い、指標菌であるB.atrophaeusの滅菌の有無を確認した。図４に、密閉空間Ｓにおける経過時間に伴う二酸化塩素ガス濃度及び二酸化塩素ガスＣＴ値（ｐｐｍ・ｈ）の変化を示し、図５に、密閉空間Ｓにおける経過時間に伴う温度、絶対湿度及び相対湿度の変化を示す。
【0162】
実施例２では、バイオロジカルインジケーター（ＢＩ）に保持された2.0×106c.f.u.のB.atrophaeusが、除染終了後には、６ｌｏｇ低減（2.0c.f.u.以下）していた。
【0163】
また、図４に示すように、実施例２では、６０分間の曝露工程で、１２００ｐｐｍ・時に到達した。また、回収工程では、約１０分程度で、二酸化塩素ガスの回収が完了した。さらに、図５に示すように、実施例２では、曝露工程において、密閉空間Ｓの内部を、相対湿度３２％未満、かつ、絶対湿度１０ｇ／ｍ３未満の低湿度の環境に維持していた。
【0164】
［密閉空間への二酸化塩素ガス供給時の陽圧防止について］
上述した除染装置Ａを図６に示すように、１０ｍ３の広さを有する密閉室Ｓ１の外に設置した。２種類の薬液を薬液ポンプで曝気槽に送液し反応させて二酸化塩素水を生成した。また、エアーポンプで密閉室Ｓ１内からガス回収チューブ４１０で取り込んだ空気を曝気槽に送り込み、エアレーションで分離した二酸化塩素ガスを密閉室Ｓ１にガス供給チューブ４２で送り込んだ。また、密閉室Ｓ１内の室圧を、経時的に計測すると共に、密閉室Ｓ１の外に漏れ出した二酸化塩素ガス濃度を計測した。
上述した除染装置Ａを図６に示すように、１０ｍ３の広さを有する密閉室Ｓ１の外に設置した。２種類の薬液を薬液ポンプで曝気槽に送液し反応させて二酸化塩素水を生成した。また、エアーポンプで密閉室Ｓ１内からガス回収チューブ４１０で取り込んだ空気を曝気槽に送り込み、エアレーションで分離した二酸化塩素ガスを密閉室Ｓ１にガス供給チューブ４２で送り込んだ。また、密閉室Ｓ１内の室圧を、経時的に計測すると共に、密閉室Ｓ１の外に漏れ出した二酸化塩素ガス濃度を計測した。
【0165】
なお、密閉室Ｓ１には、空気圧を計測する圧力計Ｐ（ユニバ社製デジタル式UPM60P-F1）及び空気攪拌用のサーキュレーターＣを設置し、密閉室Ｓ１の外には、二酸化塩素ガス計測器Ｇ（ATi社製二酸化塩素ガス濃度計測器B12型）を設置した。密閉室Ｓ１の外壁には資機材を出し入れするための開閉板Ｓ１０があり、予めガス漏れを防ぐために養生テープＴを用いて、開閉板Ｓ１０の周囲を封鎖しておいた。
【0166】
（表３）
【0167】
表３に、経時的な密閉室Ｓ１内の圧力変化及び外部へ漏洩した二酸化塩素ガス濃度の変化を示した。その結果、時間経過に伴い、密閉室Ｓ１内の空気圧は初期と変化はなく、内圧が上昇していなかった。また、密閉室Ｓ１の外部に漏れる二酸化塩素ガスも認められなかった。
【符号の説明】
【0168】
Ａ 除染装置
１ 操作本体
２ 濃度計測機構
２０ 二酸化塩素ガス濃度計測部
２１ 給排気経路
３ 除湿回収機構
３０ 回収カートリッジ部
３００ 上層部
３０１ 下層部
３１ ラインブロワー
３２ 回収用給排気経路
４ ガス生成機構
４０ 曝気槽
４１ エアーポンプ
４１０ ガス回収チューブ
４１１ 活性炭カートリッジ
４２ ガス供給チューブ
４３ 除湿カートリッジ
４４ 薬液タンク
４５ 薬液タンク
４６ 水タンク
４７ 廃液タンク
４８ 薬液ポンプ
４９ 廃液ポンプ
５ シーケンサー
Ｂ 安全キャビネット
Ｂ１ 排気口
Ｂ２ 供給口
Ｂ３ 供給口
Ｓ 密閉空間
１ 操作本体
２ 濃度計測機構
２０ 二酸化塩素ガス濃度計測部
２１ 給排気経路
３ 除湿回収機構
３０ 回収カートリッジ部
３００ 上層部
３０１ 下層部
３１ ラインブロワー
３２ 回収用給排気経路
４ ガス生成機構
４０ 曝気槽
４１ エアーポンプ
４１０ ガス回収チューブ
４１１ 活性炭カートリッジ
４２ ガス供給チューブ
４３ 除湿カートリッジ
４４ 薬液タンク
４５ 薬液タンク
４６ 水タンク
４７ 廃液タンク
４８ 薬液ポンプ
４９ 廃液ポンプ
５ シーケンサー
Ｂ 安全キャビネット
Ｂ１ 排気口
Ｂ２ 供給口
Ｂ３ 供給口
Ｓ 密閉空間
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
