(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024118701
(43)【公開日】2024-09-02
(54)【発明の名称】水処理システム
(51)【国際特許分類】
C02F 1/44 20230101AFI20240826BHJP
B01D 61/48 20060101ALI20240826BHJP
B01D 65/02 20060101ALI20240826BHJP
C02F 1/469 20230101ALI20240826BHJP
【FI】
C02F1/44 H
B01D61/48
B01D65/02 500
C02F1/44 A
C02F1/469
【審査請求】未請求
【請求項の数】3
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2023025130
(22)【出願日】2023-02-21
(71)【出願人】
【識別番号】000175272
【氏名又は名称】三浦工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100126000
【弁理士】
【氏名又は名称】岩池 満
(74)【代理人】
【識別番号】100145713
【弁理士】
【氏名又は名称】加藤 竜太
(72)【発明者】
【氏名】山岡 信也
【テーマコード(参考)】
4D006
4D061
【Fターム(参考)】
4D006GA17
4D006HA47
4D006JA30A
4D006JA57Z
4D006KA02
4D006KA52
4D006KA55
4D006KA57
4D006KA63
4D006KB11
4D006KB12
4D006KC24
4D006KD19
4D006KE09P
4D006KE09Q
4D006KE16P
4D006KE16Q
4D006MA03
4D006MA13
4D006MA14
4D006PA01
4D006PB06
4D061DA03
4D061DB13
4D061EA09
4D061EB01
4D061EB04
4D061EB13
4D061EB17
4D061EB19
4D061EB37
4D061EB39
4D061FA06
4D061FA08
4D061FA09
4D061GA09
4D061GA30
4D061GC05
4D061GC20
(57)【要約】
【課題】熱水殺菌を短時間で終了できる水処理システムを提供すること。
【解決手段】原水タンク11、原水ポンプ12、前処理装置14、供給制御弁15および純水装置16がこの順番に配設される水処理ライン10と、水処理ライン10の前処理装置14と供給制御弁15の間から分岐し、原水タンク11に至る前処理装置側還流ライン30と、水処理ライン10の純水装置16の下流側から分岐し、水を加圧する還流ラインポンプ41および水を加熱する加熱装置42が配設され、水処理ライン10の供給制御弁15と純水装置16の間に至る純水装置側還流ライン40と、純水装置側還流ライン40から分岐し、水を系外に排出する1以上の純水装置側排水ライン61,62と、純水装置16に供給される水の温度が予め設定されるパターンで変化するよう供給制御弁15および加熱装置42を制御する制御装置70と、を備える、水処理システム1。
【選択図】
図1
【特許請求の範囲】
【請求項1】
原水タンク、原水ポンプ、前処理装置、制御弁および純水装置がこの順番に配設される水処理ラインと、
前記水処理ラインの前記前処理装置と前記制御弁の間から分岐し、前記原水タンクに至る前処理装置側還流ラインと、
前記水処理ラインの前記純水装置の下流側から分岐し、水を加圧する還流ラインポンプおよび水を加熱する加熱装置が配設され、前記水処理ラインの前記制御弁と前記純水装置の間に至る純水装置側還流ラインと、
前記純水装置側還流ラインから分岐し、水を系外に排出する1以上の純水装置側排水ラインと、
前記純水装置に供給される水の温度が予め設定されるパターンで変化するよう前記制御弁および前記加熱装置を制御する制御装置と、
を備える、水処理システム。
【請求項2】
前記原水タンクに殺菌剤を含有する原水を供給する原水供給ラインと、
前記前処理装置側還流ラインから分岐し、水を系外に排出する前処理装置側排水ラインと、をさらに備え、
前記制御装置は、前記純水装置の熱水殺菌の後に、前記前処理装置側排水ラインに水を排出させるとともに、前記原水供給ラインに原水を供給させる、請求項1に記載の水処理システム。
【請求項3】
前記純水装置側排水ラインは、前記純水装置側還流ラインの前記還流ラインポンプおよび前記加熱装置よりも上流側から分岐する第1純水装置側排水ラインと、前記純水装置側還流ラインの前記還流ラインポンプおよび前記加熱装置よりも下流側から分岐する第2純水装置側排水ラインと、を含む、請求項1または2に記載の水処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、水処理システムに関する。
【背景技術】
【0002】
原水中の殺菌剤を不活化する活性炭濾過装置等の前処理装置と、逆浸透膜を用いて水中の不純物を膜分離する逆浸透膜装置と、を備える水処理システムが利用されている。このような水処理システムを用いて医薬品、食品等の製造用水を製造する場合、水処理システムにおいて微生物が繁殖することを防止するために、水処理システムに熱水を通水して装置内の殺菌を行うことが知られている。
【0003】
一般的には、タンク内で水を加熱して水処理システムを殺菌するための熱水を製造するが、熱水を製造するためのエネルギーを節約するために、熱交換器等のインラインで水を加熱して熱水を生成する加熱装置と水処理システムとの間で熱水を循環させる技術も知られている。例えば特許文献1には、直列に接続された不活化装置(前処理装置)、逆浸透膜装置およびEDI装置と、熱交換器との間で熱水を循環させる循環系を形成することで、タンクを使用せずに熱水殺菌を行い得る装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
前処理装置は、保水量が大きく、供給する水の温度変化に対する流出する水の温度変化の応答性が低い場合が少なくない。このため、特許文献1の構成では、前処理装置に供給する水の温度を上昇させてから逆浸透膜装置およびEDI装置の温度が上昇するまでに遅れが生じる。また、特に逆浸透膜は急激な温度変化に弱いため、温度変化率を例えば2℃/min程度に制限する必要がある。逆浸透膜装置における水温の変化率が大きくなり過ぎないようにするためには、前処理装置の熱応答性の低さを考慮して、前処理装置に供給する水の温度変化率を十分に小さくすることが必要となる。この結果、特許文献1の構成では、熱水殺菌に要する時間が長くなる。また温度変化を確実に行うためには、逆浸透膜側に対して水の供給量に過不足が生じないように制御することが同時に求められる。
【0006】
このため、本発明は、熱水殺菌を短時間に、かつ水温変化を確実に行うための水の安定供給が可能な水処理システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の一態様に係る水処理システムは、原水タンク、原水ポンプ、前処理装置、制御弁および純水装置がこの順番に配設される水処理ラインと、前記水処理ラインの前記前処理装置と前記制御弁の間から分岐し、前記原水タンクに至る前処理装置側還流ラインと、前記水処理ラインの前記純水装置の下流側から分岐し、水を加圧する還流ラインポンプおよび水を加熱する加熱装置が配設され、前記水処理ラインの前記制御弁と前記純水装置の間に至る純水装置側還流ラインと、前記純水装置側還流ラインから分岐し、水を系外に排出する1以上の純水装置側排水ラインと、前記純水装置に供給される水の温度が予め設定されるパターンで変化するよう前記制御弁および前記加熱装置を制御する制御装置と、を備える。
【0008】
上述の水処理システムは、前記原水タンクに殺菌剤を含有する原水を供給する原水供給ラインと、前記濾過装置側還流ラインから分岐し、水を系外に排出する濾過装置側排水ラインと、をさらに備え、前記制御装置は、前記純水装置の熱水殺菌の後に、前記濾過装置側排水ラインに水を排出させるとともに、前記原水供給ラインに原水を供給させてもよい。
【0009】
上述の水処理システムにおいて、前記純水装置側排水ラインは、前記純水装置側還流ラインの前記還流ラインポンプおよび前記加熱装置よりも上流側から分岐する第1純水装置側排水ラインと、前記純水装置側還流ラインの前記還流ラインポンプおよび前記加熱装置よりも下流側から分岐する第2純水装置側排水ラインと、を含んでもよい。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、水処理システムの熱水殺菌を短時間で終了できるとともに、水温変化を確実に行うための水の安定供給が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【
図1】本発明の一実施形態に係る水処理システムの構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る水処理システム1の構成を示すブロック図である。
【0013】
水処理システム1は、水処理ライン10と、原水供給ライン20と、前処理装置側還流ライン30と、純水装置側還流ライン40と、前処理装置側排水ライン50と、純水装置側排水ライン(第1純水装置側排水ライン61および第2純水装置側排水ライン62)と、制御装置70と、を備える。本実施形態の水処理システム1は、原水から純水を得るシステムである。
【0014】
水処理ライン10には、原水タンク11、原水ポンプ12、原水加熱装置13、前処理装置14、供給制御弁15および純水装置16がこの順番に配設される。原水タンク11は、原水を貯留する容器である。原水ポンプ12は、原水タンク11から原水を圧送する。原水ポンプ12としては、例えば渦巻きポンプ等の水量変化を許容する遠心ポンプが好適に用いられる。また、原水ポンプ12は、運転状態に応じて回転数を制御できるよう構成されることが好ましい。原水加熱装置13は、前処理装置14を熱水殺菌する際に、原水を加熱する。原水加熱装置13としては、原水と蒸気等の熱媒との間で熱交換する熱交換機が好適に用いられる。原水加熱装置13の加熱量、例えば原水加熱装置13に供給される熱媒の流量は、水処理ライン10の原水加熱装置13と前処理装置14の間に設けられる温度センサ17の検出値に応じて調整され得る。前処理装置14は、原水を前処理することにより、純水装置16で連続処理可能な中間処理水を得る。前処理装置14は、典型的には活性炭濾過装置であるが、膜濾過装置、イオン交換装置等であってもよい。前処理装置14は、純水装置16よりも短時間で熱水殺菌することができる装置が想定される。また、水処理ライン10には、複数の前処理装置14が直列または並列に設けられてもよい。供給制御弁15は、水処理システム1の熱水殺菌の際に、純水装置16に供給される水の温度を調節するために前処理装置14から純水装置16に供給される水の流量を調整する。供給制御弁15は、水処理ライン10の供給制御弁15と純水装置16の間に設けられる温度センサ18の検出値に応じて制御され得る。純水装置16は、中間処理水から不純物を除去した純水と、不純物を高濃度に含む濃縮水と、に分離する。具体的には、純水装置16としては、イオン交換膜によって区画された空間に充填されたイオン交換体によって中間処理水中のイオンを吸着するとともに、イオン交換膜を介してイオン交換体に直流電流を印加することによってイオン交換体が吸着したイオンをイオン交換膜を通して排出するイオン交換体を再生するEDI(Electrodeionization:電気脱イオン)装置が用いられ得る。
【0015】
原水供給ライン20は、原水タンクに原水を供給する。原水供給ライン20は、例えばボールタップ、水位に応じて制御されるバルブ等の原水タンク11の水位を一定範囲内に保つ手段を有することが好ましい。また、原水供給ライン20は、例えば塩素等の殺菌剤を含有する原水を供給することが好ましい。つまり、水処理システム1に供給される原水としては、例えば市水等の殺菌処理された水が好適に用いられる。これにより、前処理装置14の熱水殺菌の後に、原水タンク11に貯留される水を熱水殺菌のための循環により殺菌剤が除去された水から殺菌剤を含有する原水に置換することができるので、菌の繁殖を抑制できる。
【0016】
前処理装置側還流ライン30は、水処理ライン10の前処理装置14と供給制御弁15の間から分岐し、原水タンク11に至る。前処理装置側還流ライン30は、前処理装置14を熱水殺菌する際に、水処理ライン10の一部とともに、原水タンク11、原水ポンプ12、原水加熱装置13および前処理装置14を含、熱水が循環する循環流路を形成する。前処理装置側還流ライン30は、供給制御弁15が完全に閉鎖された場合でも原水ポンプ12の吐出流量を一定以上に保ち、締切運転による原水ポンプ12の過熱やキャビテーション、前処理装置14への原水の供給圧力の異常上昇等の問題を防止する。また、前処理装置側還流ライン30は、供給制御弁15からの純水装置16への給水を担保するために、水処理ライン10の圧力を一定以上に保持する調節弁31を有することが好ましい。
【0017】
純水装置側還流ライン40は、水処理ライン10の純水装置16の下流側から分岐し、水処理ライン10の供給制御弁15と純水装置16の間に至る。純水装置側還流ライン40は、純水装置16を熱水殺菌する際に、水処理ライン10の一部とともに、純水装置16を含み、熱水が循環する循環流路を形成する。純水装置側還流ライン40には、水処理ライン10から流出した水を加圧する還流ラインポンプ41と、水を加熱する純水装置側加熱装置42と、が配設される。還流ラインポンプ41としては、原水ポンプ12と同様の遠心ポンプを用いることができる。純水装置側加熱装置42としては、原水加熱装置13と同様の熱交換器を用いることができる。
【0018】
前処理装置側排水ライン50は、前処理装置側還流ライン30から分岐し、水を系外に排出する。前処理装置側排水ライン50は、前処理装置側還流ライン30の調節弁31よりも上流側から分岐し、前処理装置側排出弁51を有する構成とされ得る。前処理装置側排出弁51は、前処理装置14に供給される水の温度を低下させるために開放される。前処理装置側排出弁51を開放すれば、前処理装置側還流ライン30から原水タンク11に還流される水量が減少し、原水タンク11に原水供給ライン20から新たな原水が供給されるため、前処理装置14に供給される水の温度が低下する。
【0019】
純水装置側排水ライン61,62は、純水装置側還流ライン40から分岐し、水を系外に排出する。より詳しくは、第1純水装置側排水ライン61は、純水装置側還流ライン40の還流ラインポンプ41および加熱装置42よりも上流側から分岐する。一方、第2純水装置側排水ライン62は、純水装置側還流ライン40の還流ラインポンプ41および純水装置側加熱装置42よりも下流側から分岐する。第1純水装置側排水ライン61は、圧力制御弁63を有する構成とされ得る。圧力制御弁63は、純水装置側還流ライン40の還流ラインポンプ41の上流側に設けられる圧力センサ43の検出値を一定に保つよう制御され得る。第2純水装置側排水ライン62は、純水装置側排水弁64を有する構成とされ得る。純水装置側排水弁64は、純水装置16に供給される水の温度を低下させるために開放される。供給制御弁15を開放すると、先に温度低下している上流側の水が純水装置16を含む循環流路に導入されることにより、純水装置16に供給される水の温度が低下する。このとき、純水装置側排水弁64が開放されていれば、純水装置16を含む循環流路の容量を超える水が第2純水装置側排水ライン62から排出される。このように、純水装置16を加熱するときには第1純水装置側排水ライン61から水を排出し、純水装置16を冷却するときには第2純水装置側排水ライン62から水を排出するよう構成することで、加熱と冷却とを独立して最適化できるので、純水装置16を含む循環流路の水温を効率よく調節できる。
【0020】
制御装置70は、前処理装置14に供給される温度が予め設定されるパターンで変化するよう原水加熱装置13および前処理装置側排出弁51を制御する。さらに、制御装置70は、純水装置16に供給される水の温度が予め設定されるパターンで変化するよう、供給制御弁15、純水装置側加熱装置42および純水装置側排水弁64を制御する。
【0021】
水処理システム1は、前処理装置14を通過した水を前処理装置側還流ライン30を介して還流させる前処理装置14を含む循環流路と、純水装置16を通過した水を純水装置側還流ライン40を介して還流させる純水装置16を含む循環流路と、を形成し、それぞれの循環流路の温度を独立して制御することで、前処理装置14を迅速に熱水殺菌するとともに、純水装置16を最適な温度変化率で熱水殺菌できる。
【0022】
熱水殺菌は、通過する水の温度を所定の速度で上昇させる昇温工程と、通過する水の温度を所定の温度に所定の時間だけ保持する殺菌工程と、通過する水の温度を所定の速度で降下させる降温工程とからなる。水処理システム1では、前処理装置14の熱応答性が低く水温調節、純水装置16のイオン交換膜が急激な温度変化に弱いことが想定される。しかしながら、水処理システム1は、2つの循環流路を形成することで、前処理装置14の熱水殺菌を、純水装置16によって昇温速度および降温速度を制限されずに迅速に行うことができる。また、水処理システム1は、純水装置16の殺菌においては、前処理装置14の影響を排除して高精度の温度制御を行うことができるので、純水装置16の昇温速度および降温速度の設定値の安全率を小さくし、比較的短時間で純水装置16の殺菌を行うこともできる。また、水処理システム1では、前処理装置14の熱水殺菌を迅速に終えることができるため、純水装置16の降温工程において、先に降温工程を終えて水温が一定の温度まで低下している前処理装置14側の循環流路内の水を純水装置16側の循環流路に導入することにより、純水装置16を通過する水の温度を適切に降下させられる。つまり、純水装置16の降温工程においては、前処理装置側還流ラインが前記純水装置の下流側の位置で分岐することにより、供給制御弁の直前の位置まで、純水装置を冷却するために十分な冷却水の水量と水圧の確保ができていることで、供給制御弁15の開度調整により、前処理装置14を含む循環流路から純水装置16を含む循環流路に流入する水の量を高い応答性を持ち、なおかつ水量不足にて冷却水の供給不足となることなく制御可能となるため、純水装置16を含む循環流路の水温を適切に制御できる。また、前処理装置14を含む循環流路を形成することにより、供給制御弁15を全閉状態としても原水ポンプ12が締切運転とならないので原水ポンプ12のオーバーヒート、キャビテーション等の不具合を防止できるとともに、供給制御弁15の開度が急峻に変更されてもウォーターハンマーが発生しないので過度の圧力変化による設備の破損を防止できる。
【0023】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されることなく、種々の変更および変形が可能である。例として、前処理装置と供給制御弁の間にプレフィルタを設け、純水装置に熱水を通水するときには、純水装置とプレフィルタとを含む循環流路を形成するようにしてもよい。
【符号の説明】
【0024】
1 水処理システム
10 水処理ライン
11 原水タンク
12 原水ポンプ
13 原水加熱装置
14 前処理装置
15 供給制御弁
16 純水装置
17 温度センサ
18 温度センサ
20 原水供給ライン
30 前処理装置側還流ライン
31 調節弁
40 純水装置側還流ライン
41 還流ラインポンプ
42 純水装置側加熱装置
43 圧力センサ
50 前処理装置側排水ライン
51 前処理装置側排出弁
61 第1純水装置側排水ライン
62 第2純水装置側排水ライン
63 圧力制御弁
64 純水装置側排水弁
70 制御装置