特開 2024-11876 物品の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024011876

(43)【公開日】2024-01-25

(54)【発明の名称】物品の製造方法

(51)【国際特許分類】

   C23F 1/00 20060101AFI20240118BHJP

   H10K 50/10 20230101ALI20240118BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20240118BHJP

   C23C 14/04 20060101ALI20240118BHJP

【ＦＩ】

C23F1/00 104

H05B33/14 A

H05B33/10

C23F1/00 102

C23C14/04 A

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022114182

(22)【出願日】2022-07-15

(71)【出願人】

【識別番号】000003193

【氏名又は名称】ＴＯＰＰＡＮホールディングス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003708

【氏名又は名称】弁理士法人鈴榮特許綜合事務所

(74)【代理人】

【識別番号】100108855

【弁理士】

【氏名又は名称】蔵田 昌俊

(74)【代理人】

【識別番号】100179062

【弁理士】

【氏名又は名称】井上 正

(74)【代理人】

【識別番号】100199565

【弁理士】

【氏名又は名称】飯野 茂

(74)【代理人】

【識別番号】100209048

【弁理士】

【氏名又は名称】森川 元嗣

(74)【代理人】

【識別番号】100212705

【弁理士】

【氏名又は名称】矢頭 尚之

(74)【代理人】

【識別番号】100219542

【弁理士】

【氏名又は名称】大宅 郁治

(72)【発明者】

【氏名】古賀 修

(72)【発明者】

【氏名】新納 幹大

(72)【発明者】

【氏名】楠岡 諒

(72)【発明者】

【氏名】▲高▼橋 康祐

【テーマコード（参考）】

3K107

4K029

4K057

【Ｆターム（参考）】

3K107AA01

3K107BB01

3K107CC35

3K107FF00

3K107FF15

3K107GG04

3K107GG33

4K029BA62

4K029BB03

4K029BD01

4K029CA01

4K029HA02

4K029HA03

4K057WA11

4K057WB02

4K057WB03

4K057WB04

4K057WC08

4K057WE08

4K057WK01

4K057WN10

(57)【要約】

【課題】洗浄液によるエッチング液の置換の速度が低いことに起因したパターンの形状又は寸法精度の低下を生じ難くし得る技術を提供する。
【解決手段】物品の製造方法は、板状の金属素材１１の少なくとも一方の面にレジストパターン１２を形成することと、前記少なくとも一方の面のうち前記レジストパターン１２の開口の位置で露出した領域を、エッチング液１３として塩化第二鉄液を用いてエッチングすることと、その後、前記金属素材１１及び前記レジストパターン１２の表面を洗浄液１４で洗浄することとを含み、前記洗浄液１４による洗浄は、前記金属素材１１にそれが含む金属のイオン化を抑制する電位が加わる条件下で行う。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

板状の金属素材の少なくとも一方の面にレジストパターンを形成することと、
前記少なくとも一方の面のうち前記レジストパターンの開口の位置で露出した領域を、エッチング液として塩化第二鉄液を用いてエッチングすることと、
その後、前記金属素材及び前記レジストパターンの表面を洗浄液で洗浄することと
を含み、前記洗浄液による洗浄は、前記金属素材にそれが含む金属のイオン化を抑制する電位が加わる条件下で行う物品の製造方法。

【請求項2】

前記洗浄液による洗浄は、対向電極と前記金属素材との間に前記洗浄液を介在させた状態で、前記金属素材の電位が前記対向電極の電位と比較してより低くなるようにそれらの間へ電圧を印加することを含んだ請求項１に記載の物品の製造方法。

【請求項3】

前記対向電極は、前記金属素材よりも標準酸化還元電位が高い導電材料からなる請求項２に記載の物品の製造方法。

【請求項4】

前記金属素材は、鉄、ニッケル、銅及びこれらの合金からなる群より選択される少なくとも１つの金属から形成されている請求項１に記載の物品の製造方法。

【請求項5】

前記レジストパターンの厚さは５μｍ以上であり、前記開口は径が４０μｍ以下のものを含んだ請求項１に記載の物品の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、物品の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

カラー画像を表示可能な有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置には、カラーフィルタを利用するものと、赤色、緑色及び青色に発光する有機ＥＬ素子を利用するものとがある。後者の有機ＥＬ表示装置の製造では、例えば、赤色、緑色及び青色に発光する有機物を、蒸着マスクを介した蒸着によってガラス基板上へ堆積させる（特許文献１）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０２２－７５７６０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本発明は、洗浄液によるエッチング液の置換の速度が低いことに起因したパターンの形状又は寸法精度の低下を生じ難くし得る技術を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本発明の一側面によると、板状の金属素材の少なくとも一方の面にレジストパターンを形成することと、前記少なくとも一方の面のうち前記レジストパターンの開口の位置で露出した領域を、エッチング液として塩化第二鉄液を用いてエッチングすることと、その後、前記金属素材及び前記レジストパターンの表面を洗浄液で洗浄することとを含み、前記洗浄液による洗浄は、前記金属素材にそれが含む金属のイオン化を抑制する電位が加わる条件下で行う物品の製造方法が提供される。

【0006】

本発明の他の側面によると、対向電極と前記金属素材との間に前記洗浄液を介在させた状態で、前記金属素材の電位が前記対向電極の電位と比較してより低くなるようにそれらの間へ電圧を印加することを含んだ上記側面に係る物品の製造方法が提供される。

【0007】

本発明の更に他の側面によると、前記対向電極は、前記金属素材よりも標準酸化還元電位が高い導電材料からなる上記側面に係る物品の製造方法が提供される。

【0008】

本発明の更に他の側面によると、前記金属素材は、鉄、ニッケル、銅及びこれらの合金からなる群より選択される少なくとも１つの金属から形成されている上記側面の何れかに係る物品の製造方法が提供される。

【0009】

本発明の更に他の側面によると、前記レジストパターンの厚さは５μｍ以上であり、前記開口は径が４０μｍ以下のものを含んだ上記側面の何れかに係る物品の製造方法が提供される。

【発明の効果】

【0010】

本発明によれば、洗浄液によるエッチング液の置換の速度が低いことに起因したパターンの形状又は寸法精度の低下を生じ難くし得る技術が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】図１は、本発明の一実施形態に係る物品の製造方法における一工程を概略的に示す断面図である。

【図2】図２は、本発明の一実施形態に係る物品の製造方法における他の工程を概略的に示す断面図である。

【図3】図３は、本発明の一実施形態に係る物品の製造方法における更に他の工程を概略的に示す断面図である。

【図4】図４は、エッチング及びその後の洗浄を行うことによって得られた構造の一例を示す走査電子顕微鏡写真である。

【図5】図５は、エッチング及びその後の洗浄を行うことによって得られた構造の他の例を示す走査電子顕微鏡写真である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下に、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。以下に説明する実施形態は、上記側面の何れかをより具体化したものである。以下に記載する事項は、単独で又は複数を組み合わせて、上記側面の各々に組み入れることができる。

【0013】

また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、下記の構成部材の材質、形状、及び構造等によって限定されるものではない。本発明の技術的思想には、請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。

【0014】

なお、同様又は類似した機能を有する要素については、以下で参照する図面において同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面は模式的なものであり、或る方向の寸法と別の方向の寸法との関係、及び、或る部材の寸法と他の部材の寸法との関係等は、現実のものとは異なり得る。

【0015】

図１は、本発明の一実施形態に係る物品の製造方法における一工程を概略的に示す断面図である。図２は、本発明の一実施形態に係る物品の製造方法における他の工程を概略的に示す断面図である。図３は、本発明の一実施形態に係る物品の製造方法における更に他の工程を概略的に示す断面図である。

【0016】

ここで説明する方法では、物品として、蒸着マスクを製造する。ここで説明する方法は、蒸着マスク以外の物品の製造に利用することもできる。

【0017】

蒸着マスクを製造するに当たり、先ず、図１に示す金属素材１１を準備する。金属素材１１は、板状である。金属素材１１は、例えば、鉄、ニッケル、銅及びこれらの合金からなる群より選択される少なくとも１つの金属から形成されている。金属素材１１の厚さは、例えば、１５乃至２００μｍの範囲内にある。

【0018】

次に、図１に示すように、金属素材１１の少なくとも一方の面にレジストパターン１２を形成する。図１では、金属素材１１の両面にレジストパターン１２を形成している。レジストパターン１２は、例えば、金属素材１１へドライフィルムレジストをラミネートし、その後、ドライフィルムレジストへのパターン露光及び現像処理を順次行うことにより形成することができる。

【0019】

レジストパターン１２の厚さは、５μｍ以上であることが好ましい。レジストパターン１２をドライフィルムレジストから形成する場合、その厚さを小さくすると、ラミネート工程において皺を生じ易くなるとともに、エッチング工程においてレジストパターン１２の割れを生じ易くなる。

【0020】

レジストパターン１２の厚さは、１５μｍ以下であることが好ましい。小さな開口径を有する貫通孔が設けられた蒸着マスクを得るためには、レジストパターン１２は、厚さが小さいことが望ましい。

【0021】

レジストパターン１２の各々は、複数のレジスト開口を有している。一方のレジストパターン１２に設けられたレジスト開口は、他方のレジストパターン１２に設けられたレジスト開口対応して配列している。一方のレジストパターン１２に設けられた各レジスト開口は、このレジスト開口に対応して他方のレジストパターン１２に設けられたレジスト開口と、金属素材１１の厚さ方向に対して垂直な平面への正射影の中心位置が互いに等しい。

【0022】

ここでは、金属素材１１の一方の面に設けられたレジストパターン１２は、金属素材１１の他方の面に設けられたレジストパターン１２と比較して、レジスト開口径がより小さい。金属素材１１の一方の面に設けられたレジストパターン１２と、金属素材１１の他方の面に設けられたレジストパターン１２とは、レジスト開口の開口径が等しくてもよい。

【0023】

これらレジスト開口、開口径が４０μｍ以下のものを含んでいることが好ましい。金属素材１１の両面にレジストパターン１２が設けられている場合、それらレジストパターン１２の一方のレジスト開口が４０μｍ以下の開口径を有していてもよく、それらレジストパターン１２の双方のレジスト開口が４０μｍ以下の開口径を有していてもよい。なお、これらレジスト開口の開口径は、例えば、１０μｍ以上である。

【0024】

次に、第１エッチング工程を実施する。第１エッチング工程では、図２に示すように、レジストパターン１２をエッチングマスクとして用いた金属素材１１のエッチングを行って、レジストパターン１２のレジスト開口の位置で金属素材１１の表面に凹部を形成する。ここでは、金属素材１１の一方の面の凹部と、金属素材１１の他方の面の凹部とは、それらが繋がらない深さに形成する。

【0025】

上記の通り、ここでは、金属素材１１の一方の面に設けられたレジストパターン１２は、金属素材１１の他方の面に設けられたレジストパターン１２と比較して、レジスト開口の開口径がより小さい。従って、金属素材１１の一方の面に形成される凹部は、金属素材１１の他方の面に形成される凹部と比較して、開口径がより小さい。

【0026】

このエッチングでは、エッチング液１３として、例えば、塩化第二鉄液を使用する。塩化第二鉄液は、大きな比重を有するように調製されたものであること、例えば、比重が１．５４乃至１．６１ｇ／ｃｍ^３の範囲内になるように調製されたものであることが好ましい。

【0027】

エッチング液１３による金属素材１１のエッチングは、エッチング液１３を金属素材１１へ接触させることにより行う。例えば、エッチング液１３を金属素材１１へ向けてスプレーするか、又は、金属素材１１をエッチング液１３に浸漬させることにより、エッチング液１３を金属素材１１へ接触させる。

【0028】

金属素材１１には、高温のエッチング液１３を接触させることが好ましい。例えば、エッチング液１３の液温は、５５乃至８０℃の範囲内とすることが好ましい。

【0029】

次に、第１洗浄工程を実施する。第１洗浄工程では、図３に示すように、両面に凹部が設けられた金属素材１１とレジストパターン１２との複合体を洗浄液１４で洗浄する。洗浄液１４としては、例えば、水を使用する。洗浄液１４による洗浄は、例えば、上記の複合体を洗浄液１４に浸漬させることにより行うか、この複合体へ向けて洗浄液１４を噴霧若しくは吐出することにより行うか、又は、それらの組み合わせにより行う。

【0030】

洗浄液１４による洗浄は、金属素材１１にそれが含む金属のイオン化を抑制する電位が加わる条件下で行う。ここでは、洗浄槽と２つの対向電極１５と電圧印加装置１６とを備えた洗浄装置を使用することによって、金属素材１１と対向電極１５との間に、金属素材１１が含む金属のイオン化を抑制する電圧を加えながら、洗浄液１４による洗浄を行う。洗浄装置は、洗浄液１４を吐出するノズルを更に備えていてもよい。

【0031】

各対向電極１５と金属素材１１とは、それらの間にレジストパターン１２及び洗浄液１４を介在させた状態で、互いに向き合っている。対向電極１５は、どのような形状を有していてもよい。例えば、対向電極１５は、板状であってもよく、網状であってもよい。対向電極１５は、洗浄液１４と接していれば、金属素材１１と向き合っていなくてもよい。洗浄装置は、ここでは一対の対向電極１５を含んでいるが、洗浄装置が含む対向電極１５の数は１以上であればよい。

【0032】

対向電極１５は、好ましくは、金属素材１１よりも標準酸化還元電位が高い導電材料からなる。例えば、対向電極１５は、白金、金、ロジウム、パラジウム、ルテニウム及びイリジウムからなる群より選択される少なくとも１つの貴金属から形成される。

【0033】

電圧印加装置１６は、金属素材１１の電位が対向電極１５の電位と比較してより低くなるようにそれらの間へ電圧を印加する。電圧印加装置１６は、洗浄液１４による洗浄を開始してから終了するまでの期間の一部で又はこの期間の全体に亘って、対向電極１５と金属素材１１との間へ電圧を印加する。金属素材１１の電位を対向電極１５の電位と比較してより低くすることにより、金属素材１１が含んでいる金属のイオン化が生じ難くなる。

【0034】

次に、両面に凹部が設けられた金属素材１１とレジストパターン１２との複合体を乾燥させる。続いて、この複合体の一方の面に液状樹脂を塗布し、塗膜を硬化させる。これにより、金属素材１１の一方の面に設けられた、より小さな開口径を有している凹部を、樹脂硬化物で埋め込む。

【0035】

次に、第２エッチング工程を実施する。第２エッチング工程では、レジストパターン１２及び樹脂硬化物層をエッチングマスクとして用いた金属素材１１のエッチングを行って、開口径がより大きな凹部を、開口径がより小さな凹部に繋がるまで深くする。これにより、金属素材１１に貫通孔を形成する。第２エッチング工程は、エッチングすべき対象物が異なること以外は、第１エッチング工程について上述したのと同様の方法により行うことができる。

【0036】

次に、第２洗浄工程を実施する。第２洗浄工程では、貫通孔が設けられた金属素材１１とレジストパターン１２と樹脂硬化物層との複合体を洗浄液で洗浄する。第２洗浄工程は、洗浄すべき対象物が異なること以外は、第１洗浄工程について上述したのと同様の方法により行うことができる。

【0037】

その後、金属素材１１からレジストパターン１２及び樹脂硬化物層を除去する。更に、金属素材１１を洗浄及び乾燥に供する。以上のようにして、貫通孔が設けられた金属素材１１を蒸着マスクとして得る。

【0038】

エッチングによって凹部又は貫通孔を形成する場合、その後の洗浄工程における洗浄液によるエッチング液の置換の速度が低いと、凹部又は貫通孔からなるパターンの形状又は寸法精度が低下する。これは、凹部又は貫通孔の開口径が小さい場合に特に顕著である。上述した方法によれば、洗浄液によるエッチング液の置換の速度が低いことに起因したパターンの形状又は寸法精度の低下を生じ難くすることができる。これについて、以下に説明する。

【0039】

解像度が１００ＰＰＩ（pixels per inch）程度である、画素サイズが比較的大きな有機ＥＬ表示装置の製造では、蒸着マスクとして、貫通孔の開口径が８５μｍ程度のものを使用していた。

【0040】

しかしながら、近年、スマートフォンや仮想現実(ＶＲ)装置などの多様な電子機器で、超高解像度（ＵＨＤ）の表示装置が要求されてきている。これに伴って、蒸着マスクにも超高解像度（ＵＨＤ級）のパターンを形成することができる微細な貫通孔が要求されるようになっている。例えば、解像度が３５０ＰＰＩの有機ＥＬ表示装置の製造では、貫通孔の開口径が４０μｍ程度の蒸着マスクが要求される。

【0041】

小さな開口径を有する貫通孔が設けられた蒸着マスクを得るためには、上記の通り、レジストパターンは、厚さが小さく、貫通孔の開口径が小さいことが必要である。しかしながら、レジストパターンをドライフィルムレジストから形成する場合、その厚さを小さくすると、ラミネート工程において皺を生じ易くなるとともに、エッチング工程においてレジストパターンの割れを生じ易くなる。従って、上述した開口径を有する貫通孔が設けられた蒸着マスクを得るためには、エッチングマスクとしてのレジストパターンは、レジスト開口の開口径が２０μｍ程度であることが必要であり、５μｍ以上の厚さを有していることが望ましい。

【0042】

ところで、鉄、ニッケル、銅などの単体金属又はそれらの合金からなる金属素材のエッチングは、一般に、安価なエッチング液である塩化第二鉄液をスプレーすることで行っている。高温であり且つ比重が大きな塩化第二鉄液な、例えば、液温が５５乃至８０℃の範囲内にあり、比重が１．５４乃至１．６１ｇ／ｃｍ^３の範囲内にある塩化第二鉄液をエッチングに用いると、エッチング後の表面は滑らかになる。エッチング後の表面が滑らかになるエッチングによって形成される貫通孔は、開口形状の真円度が高く、開口径の面内ばらつきが小さい。従って、上記のエッチングには、一般に、高温であり且つ比重が大きな塩化第二鉄液が用いられている。

【0043】

しかしながら、比重が大きな塩化第二鉄液には、粘性が高いため、エッチング後の洗浄工程における洗浄液との置換性が劣るという問題がある。この置換性の問題は、レジストパターンに設けられるレジスト開口の開口径が小さくなるほどより顕著になる。

【0044】

この置換性が劣っている場合、例えば、レジストパターンのレジスト開口間で、洗浄液によるエッチング液の置換の速度に相違を生じる。それ故、これらレジスト開口の位置で、エッチングの進行度に相違を生じる。その結果、金属素材に形成された凹部は開口径に大きなばらつきを有することになるか、又は、この金属素材から得られる蒸着マスクは貫通孔の開口径に大きなばらつきを有することになる。

【0045】

或いは、上記の置換性が劣っている場合、レジストパターンの１以上のレジスト開口内に、洗浄液によるエッチング液の置換の速度が異なる領域を生じる。置換の速度が異なる領域を１つのレジスト開口内に生じると、そのレジスト開口の位置で、エッチングの進行度が異なる部分を生じることになる。その結果、金属素材に形成された凹部、又は、この金属素材から得られる蒸着マスクの貫通孔は、開口の形状精度が低いものとなる。

【0046】

図４は、エッチング及びその後の洗浄を行うことによって得られた構造の一例を示す走査電子顕微鏡写真である。図５は、エッチング及びその後の洗浄を行うことによって得られた構造の他の例を示す走査電子顕微鏡写真である。

【0047】

図４及び図５に示す構造は、図２を参照しながら説明した第１エッチング工程を実施し、次いで、対向電極１５及び電圧印加装置１６を省略したこと以外は第１洗浄工程と同様の洗浄工程を実施し、その後、金属素材１１からのレジストパターン１２の除去、金属素材１１の洗浄、及びその乾燥を順次行うことによって得られたものである。ここでは、レジストパターン１２の厚さは１０μｍとし、そのレジスト開口の開口は略正方形状としている。

【0048】

このように、洗浄工程において、対向電極１５及び電圧印加装置１６を利用した電圧印加を行わない場合、形状及び寸法精度に優れたパターンだけでなく、形状又は寸法精度に劣るパターンも生じる。それ故、パターンの形状及び寸法精度に優れた蒸着マスクを製造することができない。

【0049】

これに対し、図１乃至図３を参照しながら説明した方法では、洗浄工程において、対向電極１５及び電圧印加装置１６を利用した電圧印加を行う。この電圧印加により、洗浄工程において、金属素材１１が含んでいる金属のイオン化は生じ難くなる。それ故、エッチングの進行度のばらつきを小さくすることができ、従って、パターンの形状及び寸法精度に優れた蒸着マスクを製造することが可能となる。

【実施例0050】

以下に、本発明に関連して行った試験を記載する。

【0051】

（実施例）
本例では、蒸着マスクを、図１乃至図３を参照しながら説明した方法により製造した。

【0052】

具体的には、金属素材１１として、巻取りロールから供給された長尺巻き物の金属箔であって、厚さが０．０２５ｍｍの低熱膨張性のインバー材を用いた。この金属素材１１の両面に、脱脂処理、整面処理、及び洗浄処理を順次施した。次に、金属素材１１の両面に、１０μｍ厚のドライフィルムレジストをラミネートした。次いで、露光マスクを介して、金属素材１１にラミネートしたドライフィルムレジストの各々をパターン露光した。その後、３５℃の１％炭酸ナトリウム溶液を用いた現像処理によって、これらドライフィルムレジストから未露光部を除去した。以上のようにして、図１に示すように、金属素材１１と、その一方の面に設けられたレジストパターンと、その他方の面に設けられたレジストパターン１２とからなる複合体を得た。ここでは、一方のレジストパターン１２に設けたレジスト開口の開口径は１０μｍとし、他方のレジストパターン１２に設けたレジスト開口の開口径はより大きくした。

【0053】

次に、第１エッチング工程を実施することにより、図２に示すように、金属素材１１の両面に凹部を形成した。このエッチングは、エッチング槽内でスプレーノズルからエッチング液１３を上記の複合体へ向けて噴霧することにより行った。エッチング液１３としては、比重が１．５２５ｇ／ｃｍ^３の塩化第二鉄液を使用した。エッチング液１３の温度は６５℃とした。

【0054】

次に、第１洗浄工程を実施した。第１洗浄工程では、金属素材１１の両面に凹部を形成した上記複合体を、図３に示すように洗浄液１４中に浸漬させるとともに、この複合体へ向けてノズルから洗浄液１４を吐出させた。洗浄液１４としては、水を使用した。対向電極１５としては、白金製の電極を使用した。

【0055】

次に、両面に凹部が設けられた金属素材１１とレジストパターン１２との複合体を乾燥させた。続いて、この複合体の一方の面に液状樹脂を塗布し、塗膜を硬化させた。これにより、金属素材１１の一方の面に設けられた、より小さな開口径を有している凹部を、樹脂硬化物で埋め込んだ。

【0056】

次に、第２エッチング工程を実施した。第２エッチング工程では、レジストパターン１２及び樹脂硬化物層をエッチングマスクとして用いた金属素材１１のエッチングを行って、開口径がより大きな凹部を、開口径がより小さな凹部に繋がるまで深くした。これにより、金属素材１１に貫通孔を形成した。第２エッチング工程は、エッチングすべき対象物が異なること以外は、第１エッチング工程と同様の方法により行った。

【0057】

次に、第２洗浄工程を実施した。第２洗浄工程では、貫通孔が設けられた金属素材１１とレジストパターン１２と樹脂硬化物層との複合体を洗浄液で洗浄した。第２洗浄工程は、洗浄すべき対象物が異なること以外は、第１洗浄工程と同様の方法により行った。

【0058】

次いで、金属素材１１からレジストパターン１２及び樹脂硬化物層を除去した。具体的には、５０℃の５％の水酸化ナトリウム溶液を上記の複合体へ噴霧して、レジストパターン１２及び樹脂硬化物層を溶解剥離した。

【0059】

その後、金属素材１１を洗浄及び乾燥に供した。以上のようにして、貫通孔が設けられた金属素材１１を蒸着マスクとして得た。

【0060】

また、レジストパターン１２の厚さ、及び、上記一方のレジストパターン１２に設けるレジスト開口の開口径の少なくとも一方を変化させたこと以外は、上述したのと同様の方法により、複数の蒸着マスクを製造した。なお、厚さが１５μｍ又は２０μｍのドライフィルムレジストを使用して、開口径が１０μｍのレジスト開口を有するレジストパターンを形成するべくパターン露光を行った場合、ドライフィルムレジストにレジスト開口を形成することはできなかったため、その後のエッチング等は行わなかった。

【0061】

（比較例）
本例では、対向電極１５及び電圧印加装置１６を省略して、第１及び第２洗浄工程における電圧印加を行わなかったこと以外は、上記実施例と同様の方法により、複数の蒸着マスクを製造した。なお、本例でも、厚さが１５μｍ又は２０μｍのドライフィルムレジストを使用して、開口径が１０μｍのレジスト開口を有するレジストパターンを形成するべくパターン露光を行った場合、ドライフィルムレジストにレジスト開口を形成することはできなかったため、その後のエッチング等は行わなかった。

【0062】

（評価）
実施例及び比較例に係る蒸着マスクについて、貫通孔の開口径及び開口形状を調べた。そして、開口径の面内ばらつきが十分に小さく且つ開口径の形状精度に優れていたものについては、「Ａ」と評価した。開口径の面内ばらつきがやや大きいか又は開口径の形状精度にやや劣るものについては、「Ｂ」と評価した。また、開口径の面内ばらつきが大きいか又は開口径の形状精度に劣るものについては、「Ｃ」と評価した。

【0063】

実施例に係る蒸着マスクについて得られた評価結果を、以下の表１に示す。また、比較例に係る蒸着マスクについて得られた評価結果を、以下の表２に示す。

【0064】

【表1】

【0065】

【表2】

【0066】

表１に示すように、実施例の方法では、レジストパターン１２の厚さ、及び、上記一方のレジストパターン１２に設けるレジスト開口の開口径が如何様であろうと、開口径の面内ばらつきが十分に小さく且つ開口径の形状精度に優れた貫通孔を金属素材１１に形成することができた。

【0067】

他方、比較例の方法では、表２に示すように、上記一方のレジストパターン１２に設けるレジスト開口の開口径が４０μｍである場合には、レジストパターン１２の厚さが如何様であろうと、開口径の面内ばらつきが十分に小さく且つ開口径の形状精度に優れた貫通孔を金属素材１１に形成することができた。しかしながら、比較例の方法では、上記一方のレジストパターン１２に設けるレジスト開口の開口径を小さくすると、開口径の面内ばらつきが大きくなるか又は開口径の形状精度が低下した。また、比較例の方法では、上記一方のレジストパターン１２に設けるレジスト開口の開口径が小さい場合、レジストパターン１２の厚さを大きくするほど、開口径の面内ばらつきが大きくなるか又は開口径の形状精度が低下するという傾向が見られた。

【符号の説明】

【0068】

１１…金属素材、１２…レジストパターン、１３…エッチング液、１４…洗浄液、１５…対向電極、１６…電圧印加装置。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】