特開 2024-118912 整圧装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024118912

(43)【公開日】2024-09-02

(54)【発明の名称】整圧装置

(51)【国際特許分類】

   F16K 47/02 20060101AFI20240826BHJP

   F16K 17/30 20060101ALI20240826BHJP

【ＦＩ】

F16K47/02 D

F16K17/30 A

【審査請求】未請求

【請求項の数】6

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023025493

(22)【出願日】2023-02-21

(71)【出願人】

【識別番号】000000284

【氏名又は名称】大阪瓦斯株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001818

【氏名又は名称】弁理士法人Ｒ＆Ｃ

(72)【発明者】

【氏名】高野 雅之

【テーマコード（参考）】

3H060

3H066

【Ｆターム（参考）】

3H060AA02

3H060BB04

3H060CC36

3H060DC05

3H060DD04

3H060DD17

3H060DF02

3H060EE06

3H066AA01

3H066BA33

3H066BA34

(57)【要約】      （修正有）

【課題】弁体の振動に対する減衰力を、弁体の開度に応じて自在に調整する。
【解決手段】気体通流路Ｌ０の一次側と二次側との間に設けられる開孔部Ｋ０の開度を調整自在な主弁体Ｖ０と、気体通流路Ｌ０の圧力を検知する圧力検知部Ｈ２と、気体通流路Ｌ０の圧力を圧力検知部Ｈ２，Ｈ３へ導く圧力導入路Ｌ１，Ｌ２と、圧力検知部Ｈ２，Ｈ３にて検知された圧力に伴って主弁体Ｖ０の開度を制御して気体通流路Ｌ０の二次側の圧力である二次圧を設定圧力へ制御する整圧装置において、主弁体Ｖ０が開孔部Ｋ０を閉止する閉止状態と開孔部Ｋ０を全開する全開状態との間で開閉方向に沿って移動するときに、主弁体Ｖ０の開閉に伴って移動する可動部位に対して、所定の対象開度域において粘性抵抗を付与する粘性抵抗付与機構Ｎを備える。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

気体通流路の一次側と二次側との間に設けられる開孔部の開度を調整自在な主弁体と、前記気体通流路の圧力を検知する圧力検知部と、前記気体通流路の圧力を前記圧力検知部へ導く圧力導入路と、前記圧力検知部にて検知された圧力に伴って前記主弁体の開度を制御して前記気体通流路の二次側の圧力である二次圧を設定圧力へ制御する整圧装置であって、
前記主弁体が前記開孔部を閉止する閉止状態と前記開孔部を全開する全開状態との間で開閉方向に沿って移動するときに、前記主弁体の開閉に伴って移動する可動部位に対して、所定の対象開度域において粘性抵抗を付与する粘性抵抗付与機構を備える整圧装置。

【請求項2】

前記粘性抵抗付与機構は、
前記開閉方向における所定位置において、前記可動部位の周囲で前記可動部位に対して前記粘性抵抗を付与可能な位置に配設され、且つ磁場が印加されたときに粘性が高くなる磁性流体と、
前記主弁体が前記対象開度域にあるときに前記磁性流体に対して印加する前記磁場としての第１磁場を印加可能な磁場印加部とを備える請求項１に記載の整圧装置。

【請求項3】

前記磁場印加部は、前記第１磁場を前記主弁体が前記対象開度域以外の開度域にあるときに前記磁性流体に対して印加する前記磁場としての第２磁場よりも強く印加可能に構成されると共に、前記主弁体が前記対象開度域以外の開度域にあるときに前記磁性流体に対して印加する前記第２磁場を零より大きい値に維持する請求項２に記載の整圧装置。

【請求項4】

前記磁場印加部は、前記開閉方向に沿って設けられた前記磁性流体の一端部と他端部に対し、前記第１磁場よりも弱く零よりも強い前記磁場としての第３磁場の印加を維持する請求項２に記載の整圧装置。

【請求項5】

前記磁場印加部は、前記可動部位とに対して設けられる永久磁石である請求項２に記載の整圧装置。

【請求項6】

前記磁場印加部は、前記磁性流体に対して印加する前記磁場を自在に調整可能な電磁石から構成されている請求項２に記載の整圧装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、気体通流路の一次側と二次側との間に設けられる開孔部の開度を調整自在な主弁体と、前記気体通流路の圧力を検知する圧力検知部と、前記気体通流路の圧力を前記圧路検知部へ導く圧力導入路と、前記圧力検知部にて検知された圧力に伴って前記主弁体の開度を制御して前記気体通流路の二次側の圧力である二次圧を設定圧力へ制御する整圧装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、整圧装置としては、気体通流路の一次側と二次側との間に設けられる開孔部の開度を調整自在な主弁体と、前記気体通流路の圧力を検知する圧力検知部と、前記気体通流路の圧力を前記圧路検知部へ導く圧力導入路と、前記圧力検知部にて検知された圧力に伴って前記主弁体の開度を制御して前記気体通流路の二次側の圧力である二次圧を設定圧力へ制御するものが知られている。
そして、当該整圧装置の制御を安定させるために、弁体の開閉方向での動作に対してダンパー機能を付与している場合がある。このようなダンパー機能を有する整圧装置では、例えば、気体が通流する圧力導入路に小径パイプや細孔を設け、気体が当該小径パイプや細孔を通過するときの粘性抵抗を利用して減衰力としてのダンパー機能を得ている（特許文献１を参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開平９－２６５３２３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、上記特許文献１に示される構成によりダンパー機能を発揮する制御装置では、弁体の開度毎にダンパー機能による減衰力を変化させたりするといった細やかな減衰力調整制御を実行することはできなかった。
例えば、ハンチングが起きやすい低開度域や、高流量の気体の通流による流体圧により弁体の振動が発生する高開度域のみ減衰力を高める等の制御ができず、改善の余地があった。

【0005】

本発明は、上述の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、弁体の振動に対する減衰力を、弁体の開度に応じて自在に調整することが可能な整圧装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記目的を達成するための整圧装置は、
気体通流路の一次側と二次側との間に設けられる開孔部の開度を調整自在な主弁体と、前記気体通流路の圧力を検知する圧力検知部と、前記気体通流路の圧力を前記圧力検知部へ導く圧力導入路と、前記圧力検知部にて検知された圧力に伴って前記主弁体の開度を制御して前記気体通流路の二次側の圧力である二次圧を設定圧力へ制御する整圧装置であって、その特徴構成は、
前記主弁体が前記開孔部を閉止する閉止状態と前記開孔部を全開する全開状態との間で開閉方向に沿って移動するときに、前記主弁体の開閉に伴って移動する可動部位に対して、所定の対象開度域において粘性抵抗を付与する粘性抵抗付与機構を備える点にある。

【0007】

上記特徴構成によれば、主弁体の開閉に伴って移動する可動部位に対して、所定の対象開度域において粘性抵抗を付与する粘性抵抗付与機構を備えるから、例えば、粘性抵抗付与機構により、可動部位に対して粘性抵抗を付与する所定の対象開度域を、自在に設定することができる。これにより、弁体の振動が発生し易い開度域で、弁体の振動に対する減衰力を適切に働かせ、弁体の振動を良好に抑制できる。
以上より、弁体の振動に対する減衰力を、弁体の開度に応じて自在に調整することが可能な整圧装置を実現できる。

【0008】

整圧装置の更なる特徴構成は、
前記粘性抵抗付与機構は、
前記開閉方向における所定位置において、前記可動部位の周囲で前記可動部位に対して前記粘性抵抗を付与可能な位置に配設され、且つ磁場が印加されたときに粘性が高くなる磁性流体と、
前記主弁体が前記対象開度域にあるときに前記磁性流体に対して印加する磁場としての第１磁場を印加可能な磁場印加部とを備える点にある。

【0009】

上記特徴構成の如く、開閉方向における所定位置において、可動部位の周囲で可動部位に対して粘性抵抗を付与可能な位置に配設される磁性流体と、主弁体が対象開度域にあるときに磁性流体に対して印加する第１磁場を印加可能な磁場印加部とから、粘性抵抗付与機構を構成することで、大きな構成の複雑化を招くことなく、所定の対象開度域において弁体に印加される減衰力を、良好に発揮させることができる。

【0010】

整圧装置の更なる特徴構成は、
前記磁場印加部は、前記第１磁場を前記主弁体が前記対象開度域以外の開度域にあるときに前記磁性流体に対して印加する前記磁場としての第２磁場よりも強く印加可能に構成されると共に、前記主弁体が前記対象開度域以外の開度域にあるときに前記磁性流体に対して印加する前記第２磁場を零より大きい値に維持する点にある。

【0011】

上記特徴構成によれば、主弁体が対象開度域以外の開度域にあるときに磁性流体に対して印加する第２磁場を零より大きい値に維持するので、磁性流体の粘性を主弁体の開度に限られず一定以上に維持することができ、当該磁性流体について一定の粘性が保たれ、磁性流体が充填される充填空間等から流出すること、及び圧力制御対象の流体が磁性流体の充填空間等を通過して流出することを良好に防止できる。

【0012】

整圧装置の更なる特徴構成は、
前記磁場印加部は、前記開閉方向に沿って設けられた前記磁性流体の一端部と他端部に対し、前記第１磁場よりも弱く零よりも強い前記磁場としての第３磁場の印加を維持する点にある。

【0013】

磁性流体を所定の磁性流体充填部等に充填する場合、当該磁性流体充填部を挟んで両側の気体の差圧が一定以上に大きくなると、磁性流体充填部から磁性流体や気体が漏洩することがある。
上記特徴構成によれば、開閉方向に沿って設けられた磁性流体の一端部と他端部に対し、比較的弱い第３磁場の印加を維持するから、磁性流体充填部を挟んで両側の気体の差圧が大きい場合であっても、開閉方向の一端部及び他端部で磁性流体の粘性を高め、磁性流体や気体の流出を良好に防止できる。
更に、開閉方向で一端部と他端部を除く磁性流体に対しては、第３磁場が印加されないので、可動部位に対して不要に粘性抵抗が付与されることを防止でき、主弁体の円滑な動作を極力妨げない構成とすることができる。

【0014】

整圧装置の更なる特徴構成は、
前記磁場印加部は、前記可動部位とに対して設けられる永久磁石である点にある。

【0015】

上記特徴構成の如く、磁場印加部を、可動部位に対して設けられる永久磁石から構成することで、電動部位を持たない機械駆動を実現でき、安定した動作を長期間に亘って期待できる整圧装置を実現できる。

【0016】

整圧装置の更なる特徴構成は、
前記磁場印加部は、前記磁性流体に対して印加する前記磁場を自在に調整可能な電磁石から構成されている点にある。

【0017】

上記特徴構成によれば、磁性流体に印加される磁場の強度を電磁石により適切に調整できるから、個体毎に整圧特性が異なる整圧装置や、現場の状況等に応じて、弁体に付与される粘性抵抗を細やかに調整でき、弁体の振動を良好に抑制できる整圧装置を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】実施形態に係る整圧装置の概略構成図である。

【図2】実施形態に係る整圧装置の粘性抵抗付与機構に係る構成を示す図である。

【図3】別実施形態に係る整圧装置の粘性抵抗付与機構に係る構成を示す図である。

【図4】別実施形態に係る整圧装置の粘性抵抗付与機構に係る構成を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

本発明の実施形態に係る整圧装置は、弁体の振動に対する減衰力を、弁体の開度に応じて自在に調整することが可能なものに関する。
以下、図面に基づいて、当該実施形態に係る整圧装置を説明する。

【0020】

整圧装置は、図１に示すように、パイロットガバナ５０から主ガバナ１０へ駆動圧を導入する逆作動型整圧装置として構成されており、都市ガス１３Ａ等の気体が通流する気体通流路Ｌ０の一次側と二次側との間に設けられる開孔部Ｋ０の開度を調整自在な主弁体Ｖ０と、気体通流路Ｌ０の圧力を検知する圧力検知部と、気体通流路Ｌ０の圧力を圧力検知部へ導く圧力導入路とを備え、圧力検知部にて検知された圧力に伴って主弁体Ｖ０の開度を制御して気体通流路Ｌ０の二次側の圧力である二次圧を設定圧力へ制御する。

【0021】

主ガバナ１０は、ダイヤフラムプレート１４に沿って設けられる第１ダイヤフラムＤ１を備えており、その内部空間が第１ダイヤフラムＤ１にて第１室Ｈ１と第２室Ｈ２（圧力検知部の一例）とに区画されている。そして、主ガバナ１０は、気体通流路Ｌ０に設けられる開孔部Ｋ０を開閉する主弁体Ｖ０を備えており、この主弁体Ｖ０は弁軸１６にて第１ダイヤフラムＤ１と連結され第１ダイヤフラムＤ１と連動して動く形態で、開閉される構成となっている。また、第１室Ｈ１には、第１ダイヤフラムＤ１を主弁体Ｖ０の閉弁方向側に付勢する第１付勢バネＧ１が配設されている。

【0022】

パイロットガバナ５０は、第２ダイヤフラムＤ２と第３ダイヤフラムＤ３とを備えており、第２ダイヤフラムＤ２及び第３ダイヤフラムＤ３にて、その内部空間が第３室Ｈ３（圧力検知部の一例）と第４室Ｈ４と第５室Ｈ５とに区画されている。第３室Ｈ３は、二次側圧力導入路Ｌ２により気体通流路Ｌ０の二次側（主ガバナ１０よりも下流側）に連通接続されていると共に、第１接続流路Ｌ３により主ガバナ１０の第１室Ｈ１に連通接続されている。第４室Ｈ４は、一次側圧力導入路Ｌ１により気体通流路Ｌ０の一次側（主ガバナ１０よりも上流側）に連通接続されていると共に、駆動圧導入路Ｌ４により主ガバナ１０の第２室Ｈ２に連通接続されている。因みに、当該駆動圧導入路Ｌ４と第１接続流路Ｌ３とは、絞り部３９を有する第２接続流路Ｌ５により連通接続されている。
また、第２ダイヤフラムＤ２と第３ダイヤフラムＤ３とは連結部材Ｒにより連結されており、第２ダイヤフラムＤ２及び第３ダイヤフラムＤ３と一体的にその変位方向で変位自在に構成されている。第５室Ｈ５には、第２付勢バネＧ２が配設されており、当該第２付勢バネＧ２が第３ダイヤフラムＤ３を第４室Ｈ４側に付勢し、それに伴って、第２ダイヤフラムＤ２が第３室Ｈ３側に付勢されている。

【0023】

一次側圧力導入路Ｌ１の先端には、第４室Ｈ４内で第４室Ｈ４の側へ向けて開孔する開孔端Ｌ１ａが形成されると共に、当該開孔端Ｌ１ａに対向する形で、第２弁体Ｖ２が設けられている。当該第２弁体Ｖ２は、第３付勢バネＧ３により第２ダイヤフラムＤ２から第４室Ｈ４の開孔端Ｌ１ａへ向けて付勢されている。更に、当該第２弁体Ｖ２には、第２ダイヤフラムＤ２に形成される開口Ｄ２ａを開閉する第１弁体Ｖ１が一体的に設けられている。

【0024】

当該構成において第１付勢バネＧ１、第２付勢バネＧ２、第３付勢バネＧ３の付勢力を適切なものに設定することにより、気体通流路Ｌ０の二次側圧力が設定圧力よりも低下すると、二次側圧力導入路Ｌ２にて気体通流路Ｌ０の二次側に連通接続されたパイロットガバナ５０の第３室Ｈ３の圧力が低下し、第２付勢バネＧ２の付勢力により第２ダイヤフラムＤ２が第３室Ｈ３側へ変位する。これにより、パイロットガバナ５０の第２弁体Ｖ２が開き側に動作し、一次側圧力導入路Ｌ１を通して第４室Ｈ４に気体通流路Ｌ０の一次側圧力が導入されて、第４室Ｈ４の圧力が上昇する。そして、その圧力上昇した第４室Ｈ４の圧力が駆動圧導入路Ｌ４を介して主ガバナ１０の第２室Ｈ２に駆動圧として導入され、第２室Ｈ２の圧力も上昇し、第１室Ｈ１と第２室Ｈ２との圧力差により第１ダイヤフラムＤ１が第１室Ｈ１側に変位する。よって、主ガバナ１０の主弁体Ｖ０が開き側に動作され、気体通流路Ｌ０の二次側圧力を上昇させて二次側圧力を設定圧力に調整する。

【0025】

一方、二次側圧力が設定圧力よりも上昇すると、パイロットガバナ５０の第３室Ｈ３の圧力が上昇し、第２付勢バネＧ２の付勢力に抗して第２ダイヤフラムＤ２が第４室Ｈ４側へ変位する。これにより、第２弁体Ｖ２が閉じ側へ動作され、第４室Ｈ４へ一次側圧力が導入されなくなる。これにより、第２室Ｈ２の気体は、第２接続流路Ｌ５、絞り部３９、第１接続流路Ｌ３、第３室Ｈ３、二次側圧力導入路Ｌ２を介して、気体通流路Ｌ０の二次側へ排出され、第２室Ｈ２の圧力は低下し、第１室Ｈ１と第２室Ｈ２との圧力差により第１ダイヤフラムＤ１が第２室Ｈ２側に変位する。よって、主ガバナ１０の主弁体Ｖ０が閉じ側に動作され、気体通流路Ｌ０の二次側圧力を低下させて二次側圧力を設定圧力に調整する。
尚、二次側圧力が設定圧力よりも上昇する場合、第１弁体Ｖ１が第２ダイヤフラムＤ２の開口Ｄ２ａを開放するように構成されると共に、開口Ｄ２ａの開度は、二次側圧力と設定圧力との圧力差が大きいほど大きくなるように構成されている。

【0026】

以上の構成において、一次側圧力導入路Ｌ１、二次側圧力導入路Ｌ２、駆動圧導入路Ｌ４が、圧力導入路として働く。

【0027】

さて、当該実施形態に係る整圧装置は、主弁体Ｖ０の振動に対する減衰力を、主弁体Ｖ０の開度に応じて自在に調整するべく、以下の如く構成されている。
即ち、当該実施形態に係る整圧装置は、図１又は図２に示すように、主弁体Ｖ０が開孔部Ｋ０を閉止する閉止状態と開孔部Ｋ０を全開する全開状態との間で開閉方向（図２で矢印Ｚに沿う方向）に沿って移動するときに、主弁体Ｖ０と一体的に開閉方向で移動する弁軸１６（可動部位の一例）に対して、所定の対象開度域において粘性抵抗を付与する粘性抵抗付与機構Ｎを備える。
当該実施形態においては、図１に示すように、粘性抵抗付与機構Ｎは、主ガバナ１０の筐体６０で開閉方向における一端側（第１付勢バネＧ１の一端が当接する当接部分）の近傍部位に設けられる第１粘性抵抗付与機構Ｎ１と、筐体６０で開閉方向における他端側（第２室Ｈ２と気体通流路Ｌ０の境界部分）の近傍部位に設けられる第２粘性抵抗付与機構Ｎ２とから構成されている。第１粘性抵抗付与機構Ｎ１と第２粘性抵抗付与機構Ｎ２とは、実質的に同様の構成を有するため、以下では、第１粘性抵抗付与機構Ｎ１に係る構成について説明する。

【0028】

第１粘性抵抗付与機構Ｎ１は、図２に示すように、開閉方向における所定位置において、弁軸１６（可動部位の一例）の周囲で弁軸１６に対して粘性抵抗を付与可能な位置に配設され、且つ磁場ＭＦ（磁束密度：Ｗｂ／ｍ^２）が印加されたときに粘性が高くなる磁性流体ＭＲと、主弁体Ｖ０が対象開度域にあるときに磁性流体ＭＲに対して印加する磁場ＭＦとしての第１磁場を、主弁体Ｖ０が対象開度域以外の開度域にあるときに磁性流体ＭＲに対して印加する磁場ＭＦとしての第２磁場（当該実施形態では零）よりも強く印加可能な磁場印加部ＭＪとを備える。
因みに、当該実施形態において、対象開度域とは、主弁体Ｖ０のハンチングが起きやすい低開度域と、気体通流路Ｌ０を大流量の気体が通流するときに流体圧により主弁体Ｖ０が振動する場合がある大開度域とを含む。
当該実施形態に係る磁性流体ＭＲは、粒径１０ｎｍ以下程度の磁性体粒子と油との混合流体を好適に用いることができるが、より大径の粒径１μｍ以上１０μｍ以下程度の磁性体粒子と油との混合流体も用いることができる。

【0029】

当該実施形態に係る磁場印加部ＭＪは、弁軸１６の内部に対し埋め込まれる形態で、弁軸１６と一体的に可動するよう設けられる永久磁石であり、当該永久磁石は、Ｓ極とＮ極とを繋ぐ磁石軸心が開閉方向に交差する交差方向（当該実施形態では直交方向）に沿って設けられている。これにより、磁場印加部ＭＪとしての永久磁石からの磁場ＭＦの磁力線は、弁軸１６の軸心方向（主弁体Ｖ０の開閉方向）と直交する直交方向へ放射状に広がる形で形成されることになる。
磁場印加部ＭＪは、低開度域において磁性流体ＭＲに対して第１磁場を印加する第１磁場印加部ＭＪ１と、大開度域において磁性流体ＭＲに対して第２磁場を印加する第２磁場印加部ＭＪ２とを、弁軸１６に沿う開閉方向で主弁体Ｖ０から遠い側から記載の順に設けている。

【0030】

さて、磁性流体ＭＲは、主ガバナ１０の筐体６０で開閉方向における一端側（第１付勢バネＧ１の一端が当接する当接部分）で、筐体６０と弁軸１６との間に充填される形態で設けられている。
説明を追加すると、筐体６０と弁軸１６との間には、弁軸１６の周囲に沿う形状の環状部材ＳＫが設けられ、当該環状部材ＳＫと弁軸１６との間に形成される第１凹欠部位ＳＫａに、磁性流体ＭＲが充填される。尚、第１凹欠部位ＳＫａの開閉方向での一端側には環状部材ＳＫと弁軸１６との間をシールする第１シール部材Ｓ１が設けられると共に、第１凹欠部位ＳＫａの開閉方向での他端側には環状部材ＳＫと弁軸１６との間をシールする第２シール部材Ｓ２が設けられる。
因みに、当該磁性流体ＭＲは、定期的に交換する必要があるため、第１凹欠部位ＳＫａには、磁性流体ＭＲを外部から充填したり、外部へ排出したりするための磁性流体流路Ｌｍが連通接続されている。
そして、当該磁性流体流路Ｌｍを備える関係で、筐体６０と環状部材ＳＫとの間には、環状部材ＳＫと筐体６０との間に第２凹欠部位ＳＫｂが形成され磁性流体ＭＲが充填される。第２凹欠部位ＳＫｂの開閉方向での一端側には環状部材ＳＫと筐体６０との間をシールする第３シール部材Ｓ３が設けられると共に、第２凹欠部位ＳＫｂの開閉方向での他端側には環状部材ＳＫと筐体６０との間をシールする第４シール部材Ｓ４が設けられる。

【0031】

以上の構成により、主弁体Ｖ０が低開度域である場合には、第１磁場印加部ＭＪ１の磁場が環状部材ＳＫの第１凹欠部位ＳＫａに充填される磁性流体ＭＲに作用して、磁性流体ＭＲの粘性抵抗が高くなり、当該磁性流体ＭＲに対する弁軸１６の摺動抵抗が大きくなることで、主弁体Ｖ０のハンチングが抑制される。
一方、主弁体Ｖ０が高開度域である場合には、第２磁場印加部ＭＪ２の磁場ＭＦが環状部材ＳＫの第１凹欠部位ＳＫａに充填される磁性流体ＭＲに作用して、磁性流体ＭＲの粘性抵抗が高くなり、当該磁性流体ＭＲに対する弁軸１６の摺動抵抗が大きくなることで、主弁体Ｖ０の大流量の気体による振動が抑制される。

【0032】

〔別実施形態〕
（１）上記実施形態では、粘性抵抗付与機構Ｎは、逆作動型の整圧装置の主ガバナ１０に対して設けられる構成例を示したが、直動式のガバナ（図示せず）に対して設けても構わない。
また、粘性抵抗付与機構Ｎとしては、図１に示すように、第１粘性抵抗付与機構Ｎ１と第２粘性抵抗付与機構Ｎ２とを備える構成例を示したが、何れか一方のみを備える構成としても構わない。また、２つ以上の粘性抵抗付与機構Ｎを備える構成としても構わず、これらの設けられる位置は、弁軸１６等の可動部位の近傍であれば、どのような部位に設けられていても構わない。

【0033】

（２）上記実施形態では、磁場印加部ＭＪは、弁軸１６の内部に埋め込む形態で設ける構成例を示した。
しかしながら、当該磁場印加部ＭＪは、開閉方向において主弁体Ｖ０と一体的に移動する可動部位であれば、どこに設けられていても構わない。
例えば、磁場印加部ＭＪは、弁軸１６に一部が固定され開閉方向に沿って延設される棒状部材（図示せず）に対して一体的に設けられる構成を採用しても構わない。

【0034】

（３）図示は省略するが、磁場印加部として、主弁体Ｖ０が対象開度域以外の開度域にあるときに磁性流体ＭＲに対して印加する第２磁場を零より大きい値に維持するものとしても構わない。
具体的には、主弁体Ｖ０の開度に関わらず、磁場ＭＦとしての磁力線が磁性流体ＭＲに対して重畳するように、磁場印加部として永久磁石を筐体６０或いは環状部材ＳＫに設ける構成とすることができる。
これにより、磁性流体ＭＲの粘性を一定以上に維持できるから、例えば、図２に示す構成において、第１シール部材Ｓ１～第４シール部材Ｓ４を省略した場合であっても、磁性流体ＭＲが第１凹欠部位ＳＫａ及び第２凹欠部位ＳＫｂから流出することを防止できる。

【0035】

（４）図３に示すように、開閉方向に沿って設けられた磁性流体ＭＲの一端部と他端部に対し、第１磁場よりも弱く零（第２磁場）よりも強い磁場ＭＦとしての第３磁場の印加を維持する磁場印加部としての永久磁石ＭＳを備える構成を採用しても構わない。
これにより、例えば、図２に示す構成において、第１シール部材Ｓ１～第４シール部材Ｓ４を省略した場合であって、第１凹欠部位ＳＫａ及び第２凹欠部位ＳＫｂと外部空間との間の差圧が大きい場合であっても、第１シール部材Ｓ１～第４シール部材Ｓ４が位置する部位の磁性流体ＭＲの粘性を一定以上に維持して、磁性流体ＭＲが第１凹欠部位ＳＫａ及び第２凹欠部位ＳＫｂから流出することを防止できる。
尚、当該構成によれば、上述の別実施形態（３）に比べ、主弁体Ｖ０が対象開度域以外にある場合に、限定的に磁性流体ＭＲの粘性抵抗を高くできるから、磁性流体ＭＲと弁軸１６との間の抵抗が不必要に高くなることを防止できる。

【0036】

（５）図４に示すように、弁軸１６に一体的に設けられる磁場印加部は、磁性流体ＭＲに対して印加する磁場ＭＦを自在に調整可能な電磁石ＭＭにて構成することができる。
具体的には、磁場印加部として、第１鉄心Ｔ１に通流する電流を調整可能な第１コイルＣＯ１を巻回して第１磁場を印加可能な第１電磁石ＭＭ１と、第２鉄心Ｔ２に通流する電流を調整可能な第２コイルＣＯ２を巻回して第２磁場を印加可能な第２電磁石ＭＭ２とを、弁軸１６に沿う開閉方向で主弁体Ｖ０から遠い側から記載の順に設けている。
当該構成によれば、第１磁場及び第２磁場の強度適宜調整でき、弁軸１６等の可動部位に付与する粘性抵抗をより高い自由度で設定できる。

【0037】

尚、上記実施形態（別実施形態を含む、以下同じ）で開示される構成は、矛盾が生じない限り、他の実施形態で開示される構成と組み合わせて適用することが可能であり、また、本明細書において開示された実施形態は例示であって、本発明の実施形態はこれに限定されず、本発明の目的を逸脱しない範囲内で適宜改変することが可能である。

【産業上の利用可能性】

【0038】

本発明の整圧装置は、弁体の振動に対する減衰力を、弁体の開度に応じて自在に調整することが可能な整圧装置として、有効に利用可能である。

【符号の説明】

【0039】

１６ ：弁軸
１００ ：整圧装置
Ｈ２ ：第２室
Ｈ３ ：第３室
Ｋ０ ：開孔部
Ｌ０ ：気体通流路
ＭＦ ：磁場
ＭＪ ：磁場印加部
ＭＭ ：電磁石
ＭＲ ：磁性流体
ＭＳ ：永久磁石
Ｎ ：粘性抵抗付与機構
Ｖ０ ：主弁体

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】