特開 2024-119436 描画装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024119436

(43)【公開日】2024-09-03

(54)【発明の名称】描画装置

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20240827BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 501

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023026333

(22)【出願日】2023-02-22

(71)【出願人】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100110847

【弁理士】

【氏名又は名称】松阪 正弘

(74)【代理人】

【識別番号】100136526

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 勉

(74)【代理人】

【識別番号】100136755

【弁理士】

【氏名又は名称】井田 正道

(72)【発明者】

【氏名】荒井 純樹

(72)【発明者】

【氏名】伊勢谷 光輝

【テーマコード（参考）】

2H197

【Ｆターム（参考）】

2H197AA09

2H197CC11

2H197DA09

2H197DB18

2H197HA02

2H197HA03

2H197HA04

2H197HA05

2H197HA10

(57)【要約】

【課題】ハウジングの内部空間におけるガスの流れの均一性を向上する。
【解決手段】描画装置１では、ハウジング６の内部空間６０は、ガスの流通を妨げる仕切面５４によって上下に仕切られている。仕切面５４よりも上側の上部空間６１には、ステージ２１、描画ヘッド４１およびステージ移動機構２２が収容される。基台５は、仕切面５４よりも下側の下部空間６２に配置される。ハウジング６の内部空間６０の（－Ｙ）側の端部には、仕切面５４が存在しない連通部５５が設けられる。ハウジング６の（＋Ｙ）側の端部には、ハウジング６の外部から上部空間６１に供給されるガスが通過するガス供給口６４と、上部空間６１から連通部５５を介して下部空間６２に流入したガスが排出される第１ガス排出口６５１および第２ガス排出口６５２と、が設けられる。これにより、ハウジング６の内部空間６０におけるガスの流れの均一性を向上することができる。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板に光を照射してパターンの描画を行う描画装置であって、
基板を保持するステージと、
前記ステージの上方に配置されて前記基板の上面に変調された光を照射する描画ヘッドと、
前記基板の前記上面に平行な走査方向に、前記ステージを前記描画ヘッドに対して相対的に移動する走査機構と、
上面に取り付けられた前記走査機構を下側から支持する基台と、
前記ステージ、前記描画ヘッド、前記走査機構および前記基台を内部空間に収容するハウジングと、
を備え、
前記ハウジングの前記内部空間は、ガスの流通を妨げる仕切面によって上下に仕切られており、
前記仕切面よりも上側の上部空間には、前記ステージ、前記描画ヘッドおよび前記走査機構が収容され、
前記基台は、前記仕切面よりも下側の下部空間に配置され、
前記走査方向および前記走査方向に垂直な幅方向のうち一の方向における前記ハウジングの前記内部空間の一方側の端部には、前記仕切面が存在しない連通部が設けられ、前記連通部を介して前記上部空間と前記下部空間とが部分的に連通し、
前記一の方向における前記ハウジングの他方側の端部には、
前記ハウジングの外部から前記上部空間に供給されるガスが通過するガス供給口と、
前記上部空間から前記連通部を介して前記下部空間に流入したガスが排出されるガス排出口と、
が設けられる描画装置。

【請求項2】

請求項１に記載の描画装置であって、
前記一の方向は前記走査方向であり、
前記一の方向における前記ハウジングの前記一方側の端部には、前記ハウジングの前記内部空間への基板の搬出入に使用される搬出入口が設けられる描画装置。

【請求項3】

請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記連通部近傍に、前記上部空間のガスを前記下部空間へと導く送風機構が設けられる描画装置。

【請求項4】

請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記連通部近傍に、前記上部空間におけるガスの流れ方向を変更して前記上部空間のガスを前記下部空間へと導く方向制御部が設けられる描画装置。

【請求項5】

請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記上部空間の前記ガス供給口近傍に、前記ガス供給口から供給されたガスを前記上部空間におけるガスの流れ方向に垂直な方向に拡散するガス拡散部が設けられる描画装置。

【請求項6】

請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記基台に、前記連通部から前記ガス排出口へと向かうガスが流れる貫通孔が設けられる描画装置。

【請求項7】

請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記上部空間は、ガスの流通を妨げる他の仕切面によって上下に仕切られており、
前記他の仕切面よりも上側の空間には、前記描画ヘッドが収容され、
前記他の仕切面よりも下側の空間には、前記ステージおよび前記走査機構が収容され、
前記ガス供給口は、上下方向に関して前記仕切面と前記他の仕切面との間にて前記ハウジングの側面に配置される描画装置。

【請求項8】

請求項１または２に記載の描画装置であって、
前記ガス供給口から前記上部空間へと供給されるガスの温度を調節する温度調節部をさらに備える描画装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板に光を照射してパターンの描画を行う描画装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、プリント基板や半導体基板等（以下、「基板」という。）に対するパターンの描画において、基板上に形成された感光材料に変調された光を照射し、当該光の照射領域を走査することによりパターンを直接的に描画する描画装置が利用されている。

【0003】

このような描画装置では、基板周辺の雰囲気管理を行うために、基板を保持する基板保持部や基板に光を照射する描画ヘッド等の主要部分をハウジング内に収容することが行われている。また、ハウジング内の雰囲気管理のために、ハウジング上部に気体供給部を設け、ハウジング下部に排気部を設けて、ハウジング内に気体によるダウンフローを形成することも行われている。

【0004】

例えば、特許文献１の基板処理装置では、露光機の奥側においてハウジングの天蓋部に設けられたＦＦＵからハウジング内に空気を供給し、露光機の手前側においてハウジングの底部および側面上部に設けられた排気口からハウジング外に排気が行われている。これにより、基板保持部の上方において、露光機の奥側から手前側へと向かう気流が形成され、空気の滞留が抑制される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０１３－６９８９６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

ところで、特許文献１の基板処理装置では、基板保持部の下方には空気が比較的流入しにくいため、基板保持部よりも下方の空間において空気の滞留が生じる可能性がある。その結果、ハウジング内における雰囲気の温度や清浄度にムラが生じるおそれがある。

【0007】

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、ハウジングの内部空間におけるガスの流れの均一性を向上することを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明の態様１は、基板に光を照射してパターンの描画を行う描画装置であって、前記基板を保持するステージと、前記ステージの上方に配置されて前記基板の上面に変調された光を照射する描画ヘッドと、前記基板の前記上面に平行な走査方向に、前記ステージを前記描画ヘッドに対して相対的に移動する走査機構と、上面に取り付けられた前記走査機構を下側から支持する基台と、前記ステージ、前記描画ヘッド、前記走査機構および前記基台を内部空間に収容するハウジングと、を備える。前記ハウジングの前記内部空間は、ガスの流通を妨げる仕切面によって上下に仕切られている。前記仕切面よりも上側の上部空間には、前記ステージ、前記描画ヘッドおよび前記走査機構が収容される。前記基台は、前記仕切面よりも下側の下部空間に配置される。前記走査方向および前記走査方向に垂直な幅方向のうち一の方向における前記ハウジングの前記内部空間の一方側の端部には、前記仕切面が存在しない連通部が設けられ、前記連通部を介して前記上部空間と前記下部空間とが部分的に連通する。前記一の方向における前記ハウジングの他方側の端部には、前記ハウジングの外部から前記上部空間に供給されるガスが通過するガス供給口と、前記上部空間から前記連通部を介して前記下部空間に流入したガスが排出されるガス排出口と、が設けられる。

【0009】

本発明の態様２は、態様１の描画装置であって、前記一の方向は前記走査方向であり、前記一の方向における前記ハウジングの前記一方側の端部には、前記ハウジングの前記内部空間への基板の搬出入に使用される搬出入口が設けられる。

【0010】

本発明の態様３は、態様１または２の描画装置であって、前記連通部近傍に、前記上部空間のガスを前記下部空間へと導く送風機構が設けられる。

【0011】

本発明の態様４は、態様１または２（態様１ないし３のいずれか１つ、であってもよい。）の描画装置であって、前記連通部近傍に、前記上部空間におけるガスの流れ方向を変更して前記上部空間のガスを前記下部空間へと導く方向制御部が設けられる。

【0012】

本発明の態様５は、態様１または２（態様１ないし４のいずれか１つ、であってもよい。）の描画装置であって、前記上部空間の前記ガス供給口近傍に、前記ガス供給口から供給されたガスを前記上部空間におけるガスの流れ方向に垂直な方向に拡散するガス拡散部が設けられる。

【0013】

本発明の態様６は、態様１または２（態様１ないし５のいずれか１つ、であってもよい。）の描画装置であって、前記基台に、前記連通部から前記ガス排出口へと向かうガスが流れる貫通孔が設けられる。

【0014】

本発明の態様７は、態様１または２（態様１ないし６のいずれか１つ、であってもよい。）の描画装置であって、前記上部空間は、ガスの流通を妨げる他の仕切面によって上下に仕切られている。前記他の仕切面よりも上側の空間には、前記描画ヘッドが収容される。前記他の仕切面よりも下側の空間には、前記ステージおよび前記走査機構が収容される。前記ガス供給口は、上下方向に関して前記仕切面と前記他の仕切面との間にて前記ハウジングの側面に配置される。

【0015】

本発明の態様８は、態様１または２（態様１ないし７のいずれか１つ、であってもよい。）の描画装置であって、当該描画装置は、前記ガス供給口から前記上部空間へと供給されるガスの温度を調節する温度調節部をさらに備える。

【発明の効果】

【0016】

本発明では、ハウジングの内部空間におけるガスの流れの均一性を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】一の実施の形態に係る描画装置を示す斜視図である。

【図2】描画装置を示す側面図である。

【図3】ガス拡散部近傍を示す図である。

【図4】描画装置を示す側面図である。

【図5】描画装置を示す側面図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

図１は、本発明の一の実施の形態に係る描画装置１を示す斜視図である。描画装置１は、空間変調された略ビーム状の光を基板９上の感光材料に照射し、当該光の照射領域を基板９上にて走査することによりパターンの描画を行う直接描画装置である。図１では、互いに直交する３つの方向をＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向として矢印にて示している。図１に示す例では、Ｘ方向およびＹ方向は互いに垂直な水平方向であり、Ｚ方向は鉛直方向（すなわち、上下方向）である。他の図においても同様である。

【0019】

基板９は、例えば、略矩形平板状のプリント基板である。基板９の（＋Ｚ）側の主面（以下、「上面９１」とも呼ぶ。）では、感光材料により形成されたレジスト膜が銅層上に設けられる。描画装置１では、基板９の当該レジスト膜に回路パターンが描画（すなわち、形成）される。なお、基板９の種類および形状等は様々に変更されてよい。

【0020】

図２は、描画装置１を（＋Ｘ）側から見た側面図である。図１および図２に示すように、描画装置１は、ステージ２１と、ステージ移動機構２２と、アライメント部３と、描画部４と、基台５と、ハウジング６とを備える。図１では、図の理解を容易にするために、ハウジング６の外形を二点鎖線にて示し、ハウジング６の内部に収容される各構成を実線にて示す。また、図２では、ハウジング６を断面にて示す。

【0021】

ハウジング６は、ステージ２１、ステージ移動機構２２、アライメント部３、描画部４および基台５等を内部空間６０に収容する筐体である。ハウジング６の内部空間６０は、ハウジング６の外部の空間から隔絶されている。図１および図２に示す例では、ハウジング６は、Ｘ方向の長さよりもＹ方向の長さの方が長い略直方体状である。また、ハウジング６の上面（すなわち、（＋Ｚ）側の面）には段差が設けられており、当該上面の（＋Ｙ）側の部位は（－Ｙ）側の部位よりも（＋Ｚ）側に位置する。

【0022】

ステージ２１は、アライメント部３および描画部４よりも下側（すなわち、（－Ｚ）側）に配置された略矩形平板状の部材である。ステージ２１は、水平状態の基板９を下側から保持する基板保持部２５を備える。基板保持部２５は、例えば、基板９の下面を吸着して保持するバキュームチャックである。基板保持部２５は、バキュームチャック以外の構造を有していてもよく、例えば、メカニカルチャックであってもよい。基板保持部２５上に載置された基板９の上面９１は、Ｚ方向に対して略垂直であり、Ｘ方向およびＹ方向に略平行である。

【0023】

ステージ移動機構２２は、ステージ２１をアライメント部３および描画部４に対して水平方向（すなわち、基板９の上面９１に略平行な方向）に相対的に移動する移動機構である。ステージ移動機構２２は、第１移動機構２３と、第２移動機構２４とを備える。第２移動機構２４は、ステージ２１を下側から支持するとともに、ステージ２１をガイドレールに沿ってＸ方向に直線移動する。第１移動機構２３は、第２移動機構２４を下側から支持するとともに、ステージ２１を第２移動機構２４と共にガイドレールに沿ってＹ方向に直線移動する。第１移動機構２３および第２移動機構２４の駆動源は、例えば、リニアサーボモータ、または、ボールネジにモータが取り付けられたものである。第１移動機構２３および第２移動機構２４の構造は、様々に変更されてよい。

【0024】

描画装置１では、Ｚ方向に延びる回転軸を中心としてステージ２１を回転するステージ回転機構が設けられてもよい。また、ステージ２１をＺ方向に移動するステージ昇降機構が描画装置１に設けられてもよい。ステージ回転機構として、例えば、サーボモータが利用可能である。ステージ昇降機構として、例えば、リニアサーボモータが利用可能である。ステージ回転機構およびステージ昇降機構の構造は、様々に変更されてよい。

【0025】

ステージ移動機構２２は、基台５の上面上に取り付けられ、基台５によって下側から支持される。基台５は、例えば、Ｘ方向の長さよりもＹ方向の長さの方が長い略直方体状である。図１および図２に例示する基台５は、上板部５１と、台座部５２と、複数の脚５３とを備える。上板部５１は、Ｚ方向に略垂直に広がる略平板状の部材である。上板部５１の平面視における形状（すなわち、（＋Ｚ）側から見た形状）は、例えば、Ｘ方向の長さよりもＹ方向の長さの方が長い略長方形状である。上板部５１の上面（すなわち、基台５の上面）は、Ｚ方向に略垂直な略平面である。

【0026】

台座部５２は、上板部５１の下面に接続され、上板部５１を下側から支持する。台座部５２は、例えば、Ｘ方向の長さよりもＹ方向の長さの方が長い略直方体状の部材である。台座部５２のＹ方向の長さは、上板部５１のＹ方向の長さよりも短い。上板部５１は、台座部５２の（－Ｙ）側の端部よりも（－Ｙ）側へと延在しており、また、台座部５２の（＋Ｙ）側の端部よりも（＋Ｙ）側へと延在している。

【0027】

基台５の台座部５２には、（－Ｙ）側の端部から（＋Ｙ）側の端部まで貫通する貫通孔５２１が設けられる。以下の説明では、貫通孔５２１を「基台貫通孔５２１」とも呼ぶ。基台貫通孔５２１は、例えば、Ｙ方向に略平行に延び、台座部５２を略直線状に貫通する。基台貫通孔５２１のＹ方向に垂直な断面形状は、例えば略矩形である。当該断面形状は、様々に変更されてよい。また、図１および図２に示す例では、基台貫通孔５２１の数は１つであるが、２つ以上の基台貫通孔５２１が台座部５２に設けられてもよい。

【0028】

図１および図２に示す例では、台座部５２のＸ方向の長さは、上板部５１のＸ方向の長さよりも少し短い。上板部５１は、台座部５２の（－Ｘ）側の端部よりも（－Ｘ）側へと延在しており、また、台座部５２の（＋Ｘ）側の端部よりも（＋Ｘ）側へと延在している。なお、台座部５２のＸ方向の長さは、上板部５１のＸ方向の長さと略同じであってもよい。

【0029】

複数の脚５３はそれぞれ、互いに離間して配置されて台座部５２の下面に接続される略柱状の部材である。複数の脚５３は、台座部５２の下面から下方へと延びてハウジング６の底面に接しており、基台５の台座部５２および上板部５１、並びに、基台５上に設けられる各構成を下側から支持する。

【0030】

上板部５１の上面の外周縁は、略全周に亘ってハウジング６の内側面に接しており、ハウジング６の内部空間６０は、上板部５１の上面によって上下に分割される。換言すれば、上板部５１の上面は、ハウジング６の内部空間６０を上下に仕切る仕切面５４である。仕切面５４は、内部空間６０のうち仕切面５４よりも上側の空間である上部空間６１と、内部空間６０のうち仕切面５４よりも下側の空間である下部空間６２との間のガスの流通を妨げる。具体的には、上部空間６１と下部空間６２とは、後述する連通部５５を介して部分的に連通するが、連通部５５以外の部位では実質的に連通しておらず、上部空間６１と下部空間６２との間の実質的なガスの流通は、連通部５５以外では略生じない。ハウジング６の内部空間６０では、基台５は下部空間６２に配置されており、ステージ２１、ステージ移動機構２２、アライメント部３および描画部４は上部空間６１に収容される。

【0031】

アライメント部３は、Ｘ方向に配列される複数（図１に示す例では、２つ）のアライメントカメラ３１を備える。各アライメントカメラ３１は、ステージ２１およびステージ移動機構２２を跨いで設けられる支持部４０により、ステージ２１およびステージ移動機構２２の上方にて支持される。支持部４０は、例えば、Ｙ方向における１つの位置に設けられる単一の部材である。図１および図２に示す例では、支持部４０は、ステージ２１およびステージ移動機構２２を跨ぐ門形の部材（いわゆる、ガントリー）であり、基台５の上面上に立設する。

【0032】

図１および図２に示す例では、２つのアライメントカメラ３１は、支持部４０の（＋Ｙ）側の側面に取り付けられる。２つのアライメントカメラ３１のうち、例えば、一方のアライメントカメラ３１は支持部４０に固定されており、他方のアライメントカメラ３１は支持部４０上においてＸ方向に移動可能である。これにより、２つのアライメントカメラ３１間のＸ方向の距離を変更することができる。なお、アライメント部３のアライメントカメラ３１の数は１つであってもよく、３つ以上であってもよい。

【0033】

各アライメントカメラ３１は、基板９の上面９１に予め設けられているアライメントマーク（図示省略）を撮像する。描画装置１では、アライメントカメラ３１により取得されたアライメントマークの画像に基づいて、基板９のアライメント（すなわち、後述する描画ヘッド４１に対する基板９の相対位置の補正）が行われる。

【0034】

描画部４は、Ｘ方向に配列される複数（図１に示す例では、６つ）の描画ヘッド４１を備える。複数の描画ヘッド４１は、略同じ構造を有する。各描画ヘッド４１は、変調された（すなわち、空間変調された）光を下方に向けて照射する空間光変調器を備える。各描画ヘッド４１は、上述の支持部４０によってステージ２１およびステージ移動機構２２の上方にて支持される。図１および図２に示す例では、６つの描画ヘッド４１は、支持部４０の（－Ｙ）側の側面に取り付けられる。換言すれば、６つの描画ヘッド４１は、Ｙ方向に関して、支持部４０を挟んで上述の２つのアライメントカメラ３１とは反対側に配置される。

【0035】

図１および図２に示す例では、６つの描画ヘッド４１は、Ｘ方向に略平行に略直線状に配列される。６つの描画ヘッド４１のＹ方向およびＺ方向における位置は略同じである。なお、複数の描画ヘッド４１は、必ずしも一直線上に配列される必要はなく、例えば、千鳥状に配列されてもよい。また、描画部４では、描画ヘッド４１の数は１つであってもよく、２つ以上であってもよい。

【0036】

描画装置１では、基板９に対するパターン描画は、いわゆるマルチパス方式で行われる。具体的には、描画部４の複数の描画ヘッド４１から変調された光を基板９の上面９１上に照射しつつ、ステージ移動機構２２の第１移動機構２３により基板９をＹ方向に移動して描画ヘッド４１の下方を通過させる。これにより、複数の描画ヘッド４１からの光の照射領域が基板９上にてＹ方向に走査され、基板９に対する描画が行われる。続いて、第２移動機構２４により、基板９をＸ方向に所定距離だけステップ移動させる。そして、第１移動機構２３による基板９のＹ方向への移動、および、当該移動と並行した描画ヘッド４１から基板９への光の照射が再度行われ、基板９に対する描画が行われる。描画装置１では、Ｙ方向に移動する基板９への光の照射と、Ｘ方向への基板９のステップ移動とが交互に行われることにより、基板９に対するパターンの描画が行われる。

【0037】

以下の説明では、Ｙ方向を「主走査方向」または「走査方向」とも呼び、Ｘ方向を「副走査方向」または「幅方向」とも呼ぶ。主走査方向および副走査方向は、基板９の上面９１に略平行な方向である。ステージ移動機構２２では、第１移動機構２３は、ステージ２１を描画ヘッド４１に対して主走査方向に相対的に移動する主走査機構である。第２移動機構２４は、ステージ２１を描画ヘッド４１に対して副走査方向に相対的に移動する副走査機構である。

【0038】

なお、描画装置１では、基板９を描画ヘッド４１に対してＹ方向に１回のみ相対移動することにより基板９上へのパターンの描画が完了するシングルパス方式（ワンパス方式とも呼ばれる。）により、基板９に対する描画が行われてもよい。この場合、パターンの描画時には、第２移動機構２４による基板９の副走査（すなわち、Ｘ方向へのステップ移動）は行われない。すなわち、ステージ移動機構２２は、ステージ２１を描画ヘッド４１に対して少なくとも走査方向に移動する走査機構である。

【0039】

描画装置１では、ハウジング６の（－Ｙ）側の端部（すなわち、走査方向の一方側の端部）に、基板９用の搬出入口６３が設けられる。搬出入口６３は、基板９をハウジング６の内部空間６０に搬入する際、および、基板９を内部空間６０から搬出する際等に用いられる。具体的には、ステージ２１がアライメント部３および描画部４よりも（－Ｙ）側に移動し、内部空間６０の（－Ｙ）側の端部近傍に位置している状態で搬出入口６３が開放され、搬出入口６３を介してステージ２１に対する基板９の載置、および、ステージ２１上の基板９の取り出し等が行われる。図１および図２に示す例では、搬出入口６３は、ハウジング６の上面および（－Ｘ）側の側面に設けられる。搬出入口６３の配置および形状は様々に変更されてよい。以下の説明では、特に言及がない場合は、搬出入口６３は閉鎖された状態である。

【0040】

描画装置１の（－Ｙ）側の端部には、基台５の上板部５１を上下方向に貫通する貫通孔が設けられ、当該貫通孔の下端縁から下方に延びる略筒状のダクトが設けられている。以下の説明では、当該貫通孔およびダクトをまとめて「連通部５５」とも呼ぶ。連通部５５は、ハウジング６の内部空間６０の（－Ｙ）側の端部に配置される。連通部５５には、上述の仕切面５４が存在せず、連通部５５を介してハウジング６の上部空間６１と下部空間６２との間でガスの流通が可能となっている。図１および図２に示す例では、連通部５５は、ハウジング６の（－Ｙ）側の側面から（＋Ｙ）方向に少し離れているが、ハウジング６の（－Ｙ）側の側面に接して設けられてもよい。また、図１および図２に示す例では、連通部５５の平面視における形状は略円形であるが、当該形状は様々に変更されてよい。

【0041】

連通部５５の内部には、送風機構５５１が設けられる。図１では、図を簡略化するために、送風機構５５１の設置位置のみを示し、送風機構５５１の形状の図示を省略する。送風機構５５１は、例えば、モータ等によって回転される軸流ファンであり、上部空間６１のガスを下部空間６２へと送出する。なお、送風機構５５１は、必ずしも軸流ファンである必要はなく、他の構造を有するもの（例えば、遠心ファン等）であってもよい。また、送風機構５５１は、必ずしも連通部５５の内部に設けられる必要はなく、連通部５５の外部において連通部５５近傍に配置され、上部空間６１のガスを下部空間６２へと導いてもよい。例えば、送風機構５５１は、下部空間６２において連通部５５の略鉛直下方に配置され、下部空間６２の（－Ｙ）側の端部のガスを（＋Ｙ）方向へと送出してもよい。これにより、ハウジング６の（－Ｙ）側の端部において、上部空間６１のガスが連通部５５を介して下部空間６２へと導かれる。

【0042】

ハウジング６の（＋Ｙ）側の端部（すなわち、走査方向の他方側の端部）には、ガス供給口６４と、ガス排出口６５１，６５２とが設けられる。図１および図２に示す例では、２つのガス供給口６４と、１つのガス排出口６５１とが、ハウジング６の（＋Ｙ）側の側面に設けられ、１つのガス排出口６５２が、ハウジング６の底部に設けられる。以下の説明では、ガス排出口６５１を「第１ガス排出口６５１」とも呼び、ガス排出口６５２を「第２ガス排出口６５２」とも呼ぶ。

【0043】

２つのガス供給口６４は、ハウジング６の（＋Ｙ）側の側面において、仕切面５４（すなわち、基台５の上面）よりも上側に配置される。２つのガス供給口６４の大きさおよびＺ方向の位置は略同じである。なお、ガス供給口６４の数は、１つであってもよく、３つ以上であってもよい。第１ガス排出口６５１は、ハウジング６の（＋Ｙ）側の側面において、仕切面５４よりも下側に配置される。第１ガス排出口６５１の数は、２つ以上であってもよい。第２ガス排出口６５２の数も、２つ以上であってよい。あるいは、第１ガス排出口６５１および第２ガス排出口６５２のうち、いずれか一方のみが設けられてもよい。

【0044】

各ガス供給口６４は、例えば、図示省略のガス供給源に接続される。ガス供給源からガス供給口６４へと供給されるガスは、例えば、圧縮エアである。当該ガスとして、圧縮エア以外の様々なガスが利用されてもよい。ガス供給口６４とガス供給源との間には、温度調節部６７が配置される。温度調節部６７は、ガス供給源からガス供給口６４へと供給されるガスの温度を調節する。温度調節部６７としては、例えば、ペルチェ式やヒートポンプ式の公知の温度調節装置が利用可能である。温度調節部６７により所定の温度に調節されたガスは、ガス供給口６４を通過してハウジング６の外部からハウジング６の上部空間６１へと供給される。ガス供給口６４から上部空間６１の（＋Ｙ）側の端部へと供給されたガスは、（－Ｙ）方向へと流れる。

【0045】

上部空間６１の（＋Ｙ）側の端部（すなわち、ガス供給口６４近傍）には、ガス拡散部６６が設けられる。ガス拡散部６６は、ガス供給口６４から（－Ｙ）側に少し離れた位置に配置される。ガス拡散部６６は、ガス供給口６４から上部空間６１に供給されたガスを、上部空間６１におけるガスの流れ方向（すなわち、（－Ｙ）方向）に略垂直な方向に拡散する。ガス拡散部６６は、例えば、Ｙ方向に略垂直に広がる略平板状の整流板であり、Ｙ方向に貫通する多数の小さい貫通孔が略全面に亘って設けられている。ガス拡散部６６としては、例えば、パンチングメタルが利用可能である。本実施の形態では、間隙を設けてＹ方向に配列された２枚のパンチングメタルが、ガス拡散部６６として使用される。当該２枚のパンチングメタルでは、Ｙ方向に沿って見た場合の多数の貫通孔の位置が互いに異なることが好ましい。

【0046】

上部空間６１において、ガス供給口６４からガス拡散部６６の（＋Ｙ）側の空間へと供給されたガスは、ガス拡散部６６に衝突してＹ方向に略垂直な方向へと広がり、上述の多数の貫通孔を通過してガス拡散部６６の（－Ｙ）側の空間へと移動する。

【0047】

図３は、ガス拡散部６６近傍を（－Ｙ）側から見た図である。ガス拡散部６６は、（－Ｙ）側から見た上部空間６１の略全体に亘って広がっており、ガス拡散部６６の外周縁は略全周に亘ってハウジング６および基台５の上板部５１と接している。また、ガス拡散部６６のＸ方向における中央部は、ガス拡散部６６の（＋Ｙ）側に位置する２つのガス供給口６４とＹ方向に対向している。２つのガス供給口６４は、Ｘ方向において上部空間６１の略中央部に配置される。

【0048】

以下の説明では、ガス拡散部６６のＸ方向における中央部を「第１領域６６２」とも呼び、第１領域６６２の（＋Ｘ）側および（－Ｘ）側の領域をそれぞれ「第２領域６６３」とも呼ぶ。図３では、第１領域６６２と各第２領域６６３との境界を二点鎖線にて示す。第１領域６６２は、ガス拡散部６６のＺ方向の略全長に亘る略矩形状の領域であり、２つのガス供給口６４とＹ方向に対向する。各第２領域６６３は、ガス拡散部６６のＺ方向の略全長に亘るとともに、Ｘ方向において第１領域６６２との境界からハウジング６の内側面に至る略矩形状の領域である。

【0049】

ガス拡散部６６の第１領域６６２では、多数の貫通孔６６１が略均等に略全面に亘って分布している。各第２領域６６３においても、多数の貫通孔６６１が略均等に略全面に亘って分布している。図３に示す例では、各貫通孔６６１の形状は略円形である。なお、貫通孔６６１の形状は様々に変更されてよい。

【0050】

第１領域６６２に分布する貫通孔６６１の密度（すなわち、単位面積当たりの貫通孔６６１の数）は、各第２領域６６３に分布する貫通孔６６１の密度よりも低い。これにより、ガス供給口６４から供給されたガスの大部分がガス拡散部６６のＸ方向における中央部にて貫通孔６６１を通過して当該中央部以外の領域にガスがあまり拡散されないことを抑制することができる。その結果、ガス拡散部６６を通過して（－Ｙ）方向へと流れるガスにおいて、上部空間６１のＹ方向に垂直な断面の各位置における流量の均一性が向上する。

【0051】

ガス拡散部６６を通過したガスは、図２中において矢印８１にて示すように、ガス拡散部６６から（－Ｙ）方向へと向かって流れ、ステージ２１に保持された基板９の上方を通過して、上部空間６１の（－Ｙ）側の端部へと到達する。上述のように、基板９の上面９１には感光材料が塗布されており、当該感光材料から発生した溶媒等の蒸気（すなわち、アウトガス）も、上部空間６１にて（－Ｙ）方向に流れる上記ガスと共に、基板９の上方から（－Ｙ）方向へと移動する。

【0052】

上部空間６１の（－Ｙ）側の端部へと到達したガスは、矢印８２にて示すように、連通部５５を介して下部空間６２へと移動する。描画装置１では、送風機構５５１により、連通部５５を（－Ｚ）方向へと通過するガスの流れが促進され、上部空間６１から下部空間６２へと流入するガスの流量が増大される。なお、本実施の形態では、連通部５５以外の部位においても、上板部５１に設けられた配線用の小孔等を介して、上部空間６１と下部空間６２との間のガスの流通は僅かに存在するが、配線用の孔等を通過するガスは、連通部５５を通過するガスに比べて流量が非常に小さいため、ハウジング６の内部空間６０におけるガスの流れに対する実質的な影響は生じない。

【0053】

上部空間６１から連通部５５を介して下部空間６２へと流入したガスは、矢印８３にて示すように、下部空間６２の（－Ｙ）側の端部から（＋Ｙ）方向へと流れ、台座部５２の基台貫通孔５２１、台座部５２の下方の空間、並びに、台座部５２の（＋Ｘ）側および（－Ｘ）側における台座部５２とハウジング６との間の間隙を通過して、下部空間６２の（＋Ｙ）側の端部へと到達する。当該ガスは、第１ガス排出口６５１および第２ガス排出口６５２を介して、ハウジング６の外部へと排出される。

【0054】

第１ガス排出口６５１は、基台貫通孔５２１の（＋Ｙ）側の開口とＹ方向に対向しており、連通部５５から基台貫通孔５２１内を（＋Ｙ）方向へと通過したガスは、主に第１ガス排出口６５１に向かって流れ、主に第１ガス排出口６５１を介してハウジング６の外部へと排出される。また、連通部５５から台座部５２の周囲の空間（すなわち、台座部５２の下方の空間、並びに、台座部５２の（＋Ｘ）側および（－Ｘ）側における台座部５２とハウジング６との間の間隙）を（＋Ｙ）方向へと流れるガスは、主に第２ガス排出口６５２を介してハウジング６の外部へと排出される。なお、基台貫通孔５２１を通過したガスは、第２ガス排出口６５２から排出されてもよく、台座部５２の周囲の空間を通過したガスは、第１ガス排出口６５１から排出されてもよい。

【0055】

描画装置１では、第１ガス排出口６５１または第１ガス排出口６５１近傍に、下部空間６２のガスをハウジング６の外部へと送出する送風機構（例えば、軸流ファン等）が設けられてもよい。これにより、第１ガス排出口６５１からのガスの排出が促進される。また、第２ガス排出口６５２または第２ガス排出口６５２近傍に、下部空間６２のガスをハウジング６の外部へと送出する送風機構（例えば、軸流ファン等）が設けられてもよい。これにより、第２ガス排出口６５２からのガスの排出が促進される。

【0056】

描画装置１では、ガス供給口６４、連通部５５、第１ガス排出口６５１および第２ガス排出口６５２の配置は、上記例には限定されず、様々に変更されてよい。例えば、ガス供給口６４は、ハウジング６の（－Ｙ）側の端部において（－Ｙ）側の側面に設けられてもよい。この場合、第１ガス排出口６５１も、ハウジング６の（－Ｙ）側の端部において（－Ｙ）側の側面に設けられる。第２ガス排出口６５２は、ハウジング６の（－Ｙ）側の端部の底部に設けられる。連通部５５は、ハウジング６の（＋Ｙ）側の端部に設けられる。すなわち、描画装置１では、連通部５５はＹ方向の一方側の端部に設けられ、ガス供給口６４、第１ガス排出口６５１および第２ガス排出口６５２は、Ｙ方向の他方側の端部に設けられていればよい。

【0057】

あるいは、連通部５５はＸ方向の一方側の端部に設けられ、ガス供給口６４、第１ガス排出口６５１および第２ガス排出口６５２は、Ｘ方向の他方側の端部に設けられてもよい。すなわち、描画装置１では、連通部５５はＹ方向およびＸ方向のうち一の方向における一方側の端部に設けられ、ガス供給口６４、第１ガス排出口６５１および第２ガス排出口６５２は、当該一の方向における他方側の端部に設けられていればよい。

【0058】

また、ガス供給口６４は、上記一の方向における他方側の端部において、ハウジング６の当該他方側の側面に設けられてもよく、ハウジング６の上面に設けられてもよい。ガス供給口６４がハウジング６の上面に設けられる場合、ガス供給口６４にＦＦＵ（ファンフィルタユニット）が設けられてもよい。この場合、当該ＦＦＵから、上部空間６１のうちガス拡散部６６とハウジング６の内面との間の比較的小さい空間に対して下向きにガスが供給される。あるいは、ガス拡散部６６は省略されてもよい。ＦＦＵから供給されたガスは、図２中の矢印８１のように、略水平方向に上部空間６１内を流れる。

【0059】

以上に説明したように、基板９に光を照射してパターンの描画を行う描画装置１は、ステージ２１と、描画ヘッド４１と、走査機構（すなわち、ステージ移動機構２２）と、基台５と、ハウジング６とを備える。ステージ２１は、基板９を保持する。描画ヘッド４１は、ステージ２１の上方に配置されて基板９の上面９１に変調された光を照射する。ステージ移動機構２２は、基板９の上面９１に平行な走査方向（上記例では、Ｙ方向）に、ステージ２１を描画ヘッド４１に対して相対的に移動する。基台５は、上面に取り付けられたステージ移動機構２２を下側から支持する。ハウジング６は、ステージ２１、描画ヘッド４１、ステージ移動機構２２および基台５を内部空間６０に収容する。

【0060】

ハウジング６の内部空間６０は、ガスの流通を妨げる仕切面５４によって上下に仕切られている。仕切面５４よりも上側の上部空間６１には、ステージ２１、描画ヘッド４１およびステージ移動機構２２が収容される。基台５は、仕切面５４よりも下側の下部空間６２に配置される。走査方向（上記例では、Ｙ方向）および当該走査方向に垂直な幅方向（上記例では、Ｘ方向）のうち一の方向におけるハウジング６の内部空間６０の一方側の端部（上記例では、（－Ｙ）側の端部）には、仕切面５４が存在しない連通部５５が設けられ、連通部５５を介して上部空間６１と下部空間６２とが部分的に連通する。上記一の方向におけるハウジング６の他方側の端部（上記例では、（＋Ｙ）側の端部）には、ハウジング６の外部から上部空間６１に供給されるガスが通過するガス供給口６４と、上部空間６１から連通部５５を介して下部空間６２に流入したガスが排出されるガス排出口（すなわち、第１ガス排出口６５１および／または第２ガス排出口６５２）と、が設けられる。

【0061】

当該構造を有する描画装置１では、ガス供給口６４から供給されたガスが、上部空間６１において、上述の一の方向の他方側の端部から一方側の端部に向かって当該一の方向に沿って流れる。また、当該ガスは、下部空間６２において、当該一の方向の一方側の端部から他方側の端部に向かって当該一の方向に沿って流れ、ガス排出口からハウジング６の外部へと排出される。これにより、上下に仕切られていないハウジングの内部空間にハウジングの上面からガスを供給する描画装置（以下、「比較例の描画装置」とも呼ぶ。）に比べて、ハウジング６の内部空間６０に供給するガスの流量を低減しつつ、当該内部空間６０におけるガスの流れの均一性を向上することができる。

【0062】

具体的には、比較例の描画装置では、ハウジングの上面から内部空間に供給されたガスは、平面視におけるハウジングの全体に広がりつつ下方へと移動する。このように、比較例の描画装置では、ガスが流れる空間の流れ方向に垂直な断面の面積（すなわち、流路断面積）が大きいため、ある程度以上の流速の気流を形成しようとすると、ハウジングの内部空間に対するガスの供給量が大きくなる。また、ハウジングの上面から下方へと流れるガスは、描画ヘッドやステージ等に衝突して側方や下方へと回り込むため、ハウジングの内部空間に複雑な流れ方向の不均一な気流が形成される。このため、ハウジングの内部空間において、気流が到達しない箇所やガスが滞留する箇所等が発生し、ハウジング内における雰囲気の温度や清浄度にムラが生じるおそれがある。比較例の描画装置において、ガス供給口をハウジングの側面に設けた場合であっても同様に、ハウジングの内部空間に対するガスの供給量が大きくなり、また、ハウジング内における雰囲気の温度や清浄度にムラが生じるおそれがある。

【0063】

これに対し、描画装置１では、上述のように、仕切面５４によってハウジング６の内部空間６０を上下に仕切ることにより、ガス供給口６４から供給されたガスの流路断面積を小さくすることができる。その結果、ハウジング６の内部空間６０において所望の流速の気流を形成しつつ、内部空間６０に供給するガスの流量を低減することができる。また、走査方向および幅方向のうち一の方向におけるハウジング６の一方側の端部に連通部５５を設け、他方側の端部の上部空間６１側および下部空間６２側にガス供給口６４およびガス排出口をそれぞれ設けることにより、上部空間６１および下部空間６２のそれぞれにおけるガスの流れ方向を、当該一の方向に沿う方向とすることができる。その結果、内部空間６０におけるガスの流れの均一性を向上することができる。したがって、ハウジング６の内部空間６０において、雰囲気の温度や清浄度にムラが生じることを抑制することができる。また、ステージ２１の上方からアウトガスを好適に除去することもできる。

【0064】

上述の一の方向は、走査方向（上記例では、Ｙ方向）であることが好ましい。また、当該一の方向におけるハウジング６の上記一方側の端部（上記例では、（－Ｙ）側の端部）には、ハウジング６の内部空間６０への基板９の搬出入に使用される搬出入口６３が設けられることが好ましい。このように、当該一の方向において、搬出入口６３とは反対側の端部にガス供給口６４およびガス排出口を配置することにより、ガス供給口６４およびガス排出口に関連してハウジング６から突出する構造等によって基板９の搬出入作業が阻害されることを防止することができる。

【0065】

上述のように、連通部５５近傍には、上部空間６１のガスを下部空間６２へと導く送風機構５５１が設けられることが好ましい。これにより、連通部５５を介した上部空間６１から下部空間６２へのガスの流れを、好適に形成することができる。その結果、上部空間６１から下部空間６２へのガスの移動を促進することができる。

【0066】

上述のように、上部空間６１のガス供給口６４近傍には、ガス拡散部６６が設けられることが好ましい。ガス拡散部６６は、ガス供給口６４から供給されたガスを、上部空間６１におけるガスの流れ方向（上記例では、（－Ｙ）方向）に垂直な方向に拡散する。これにより、上部空間６１におけるガスの流れの均一性を向上することができる。

【0067】

上述のように、基台５には、連通部５５からガス排出口（上記例では、第１ガス排出口６５１）へと向かうガスが流れる貫通孔（すなわち、基台貫通孔５２１）が設けられることが好ましい。これにより、ガスが基台５の周囲の空間のみを流れる場合に比べて、基台５の温度の均一性を向上することができる。その結果、基台５の各部位の温度差に起因する基台５の変形等を抑制することができるため、基板９に対する描画精度をさらに向上することができる。

【0068】

上述のように、描画装置１は、ガス供給口６４から上部空間６１へと供給されるガスの温度を調節する温度調節部６７をさらに備えることが好ましい。これにより、ハウジング６の内部空間６０の温度を好適に調節することができる。

【0069】

描画装置１では、図４に示すように、上述の仕切面５４に加えて、上部空間６１を上下に仕切る他の仕切面５４ａが設けられてもよい。仕切面５４ａは、Ｚ方向に関して仕切面５４とハウジング６の上面との間に配置される比較的薄い略平板状の部材（すなわち、仕切板）である。仕切面５４ａは、仕切面５４から上方に離間し、ハウジング６の上面から下方に離間する。仕切面５４ａは、仕切面５４と略同様に、仕切面５４ａよりも上側の空間６１２と、仕切面５４ａよりも下側の空間６１１との間のガスの流通を妨げる。以下の説明では、仕切面５４ａよりも下側の空間６１１を「第１上部空間６１１」とも呼び、仕切面５４ａよりも上側の空間６１２を「第２上部空間６１２」とも呼ぶ。なお、仕切面５４ａには、第１上部空間６１１と第２上部空間６１２とを連通させる連通部は設けられない。

【0070】

図４に示す例では、仕切面５４ａは、支持部４０の（－Ｙ）側において、描画ヘッド４１の下端部よりも下方に位置する。また、仕切面５４ａは、支持部４０の（＋Ｙ）側においてアライメントカメラ３１の下端部よりも下方に位置する。換言すれば、描画ヘッド４１およびアライメントカメラ３１は、上部空間６１のうち仕切面５４ａよりも上側の第２上部空間６１２に収容される。上部空間６１のうち仕切面５４ａよりも下側の第１上部空間６１１には、ステージ２１およびステージ移動機構２２が収容される。また、ガス供給口６４は、Ｚ方向に関して、仕切面５４よりも上側かつ他の仕切面５４ａよりも下側にて、ハウジング６の（＋Ｙ）側の側面に配置される。

【0071】

仕切面５４ａのうち、描画ヘッド４１の下端部とＺ方向に対向する領域には、描画ヘッド４１から出射された光が通過する開口または透光部が設けられる。仕切面５４ａのうち、アライメントカメラ３１の下端部とＺ方向に対向する領域には、アライメントカメラ３１に入射する光が通過する開口または透光部が設けられる。

【0072】

仕切面５４ａは、支持部４０に沿って上向きに凸となるように屈曲しており、支持部４０と描画ヘッド４１およびアライメントカメラ３１との間に位置する。具体的には、仕切面５４ａは、支持部４０の（－Ｙ）側の側面に沿ってＹ方向に略垂直に広がり、支持部４０の上面に沿ってＺ方向に略垂直に（すなわち、略水平に）広がり、支持部４０の（＋Ｙ）側の側面に沿ってＹ方向に略垂直に広がる。

【0073】

このように、図４に例示する描画装置１では、上部空間６１は、ガスの流通を妨げる他の仕切面５４ａによって上下に仕切られている。他の仕切面５４ａよりも上側の空間（すなわち、第２上部空間６１２）には、描画ヘッド４１が収容される。他の仕切面５４ａよりも下側の空間（すなわち、第１上部空間６１１）には、ステージ２１およびステージ移動機構２２が収容される。ガス供給口６４は、上下方向（すなわち、Ｚ方向）に関して仕切面５４と他の仕切面５４ａとの間にてハウジング６の側面に配置される。これにより、上部空間６１において、ガス供給口６４から供給されるガスの流路断面積を小さくすることができる。このため、ハウジング６の内部空間６０に供給するガスの流量をさらに低減しつつ、当該内部空間６０におけるガスの流れの均一性を向上することができる。

【0074】

描画装置１では、図５に示すように、方向制御部５５２が上部空間６１の連通部５５近傍に設けられてもよい。方向制御部５５２は、上部空間６１におけるガスの流れ方向を変更して、上部空間６１のガスを下部空間６２へと導く部位である。図５に示す例では、方向制御部５５２は、傾斜部５５３を備える。傾斜部５５３は、例えば、ハウジング６の一部であり、上部空間６１の（－Ｙ）側の端部において連通部５５の上方に配置される。傾斜部５５３のうち連通部５５と上下方向に対向する対向面５５４は、（＋Ｙ）側から（－Ｙ）側に向かうに従って（－Ｚ）側へと向かう（すなわち、上下方向に関して連通部５５に近付く）傾斜面である。

【0075】

図５に示す描画装置１では、ガス供給口６４から上部空間６１に供給されて上部空間６１の（－Ｙ）側の端部に到達したガスは、傾斜部５５３の対向面５５４に（＋Ｙ）側から衝突して向きを変え、対向面５５４に沿って下方へと流れる。すなわち、傾斜部５５３は、上部空間６１の（－Ｙ）側の端部において（－Ｙ）方向へと流れるガスを、連通部５５へと案内し、連通部５５を介して下部空間６２へと導く案内部である。

【0076】

このように、図５に例示する描画装置１では、連通部５５近傍に、上部空間６１におけるガスの流れ方向を変更して上部空間６１のガスを下部空間６２へと導く方向制御部５５２が設けられる。これにより、連通部５５を介した上部空間６１から下部空間６２へのガスの流れを、好適に形成することができる。その結果、上部空間６１から下部空間６２へのガスの移動を促進することができる。

【0077】

上部空間６１から下部空間６２へのガスの流れを好適に形成するという観点からは、上述の傾斜部５５３に代えて、または、傾斜部５５３に加えて、連通部５５の上部開口のエッジにＲ面取り加工等が行われてもよい。この場合、連通部５５の上部開口のエッジ近傍の部位（すなわち、基台５の一部）も方向制御部５５２となる。なお、方向制御部５５２の構造、形状および配置は、上述の例には限定されず、様々に変更されてよい。

【0078】

図５に例示する描画装置１では、送風機構５５１および方向制御部５５２のうち、いずれか一方のみが設けられてもよい。また、図５に例示する描画装置１では、図４に示す他の仕切面５４ａがさらに設けられてもよい。

【0079】

上述の描画装置１では、様々な変更が可能である。

【0080】

例えば、描画装置１では、ハウジング６の形状は、上記例には限定されず、様々に変更されてよい。

【0081】

基台５の構造や形状は、上述の例には限定されず、様々に変更されてよい。例えば、上板部５１のうち連通部５５が設けられる部位は、ステージ移動機構２２が取り付けられる部位とは別部材とされてもよい。また、台座部５２の基台貫通孔５２１は設けられなくてもよい。

【0082】

ステージ２１は、第１移動機構２３により描画ヘッド４１に対して主走査方向に相対的に移動すればよい。したがって、例えば、ステージ２１が固定されており、ステージ２１の上方において、描画ヘッド４１が第１移動機構２３により主走査方向に移動されてもよい。同様に、描画ヘッド４１が第２移動機構２４により副走査方向に移動されてもよい。

【0083】

描画装置１では、ガス供給口６４からハウジング６内に供給されるガスの温度を調節する必要がない場合、温度調節部６７は省略されてもよい。

【0084】

ガス拡散部６６は、上述の多数の貫通孔６６１が設けられた整流板には限定されず、他の様々な構造を有していてもよい。ガス拡散部６６は、例えば、Ｚ方向またはＸ方向に延びる細長いスリット状の複数の孔が設けられた整流板であってもよく、整流板以外であってもよい。なお、ガス拡散部６６は省略されてもよい。

【0085】

ガス供給口６４、第１ガス排出口６５１および第２ガス排出口６５２は、搬出入口６３が設けられるハウジング６の（－Ｙ）側の端部に設けられてもよい。この場合、連通部５５は、上述のように、ハウジング６の内部空間６０において（＋Ｙ）側の端部に設けられる。

【0086】

仕切面５４は、上述のように基台５の上板部５１の上面のみにより実質的に構成されていてもよく、上板部５１および他の部材により構成されてもよい。例えば、上板部５１のＸ方向の側縁がハウジング６の内側面から離間している場合、上板部５１の当該側縁とハウジング６の内側面との間隙が、Ｚ方向に略垂直な平板状の蓋部材によって閉塞されることにより、上部空間６１と下部空間６２との間の空気の流通が妨げられてもよい。この場合、上板部５１の上面および当該蓋部材の上面によって仕切面５４が構成される。当該蓋部材は、上板部５１の上面よりも少し下側に配置されてもよい。この場合であっても、基台５は実質的に下部空間６２に配置されており、上板部５１の上面および当該蓋部材の上面によって仕切面５４が構成される。

【0087】

上述の基板９は、必ずしもプリント基板には限定されない。描画装置１では、例えば、半導体基板、半導体パッケージ用基板、液晶表示装置やプラズマ表示装置等のフラットパネル表示装置用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、太陽電池パネル用の基板等に対するパターンの描画が行われてもよい。

【0088】

上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。

【符号の説明】

【0089】

１ 描画装置
５ 基台
６ ハウジング
９ 基板
２１ ステージ
２２ ステージ移動機構
４１ 描画ヘッド
５４，５４ａ 仕切面
５５ 連通部
６０ 内部空間
６１ 上部空間
６２ 下部空間
６３ 搬出入口
６４ ガス供給口
６６ ガス拡散部
６７ 温度調節部
９１ （基板の）上面
５２１ 基台貫通孔
５５１ 送風機構
５５２ 方向制御部
６１１ 第１上部空間
６１２ 第２上部空間
６５１，６５２ ガス排出口

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】