知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024119724
(43)【公開日】2024-09-03
(54)【発明の名称】光学センサ、製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 7/00 20210101AFI20240827BHJP
G01S 7/481 20060101ALI20240827BHJP
【ＦＩ】
G02B7/00 B
G01S7/481 A
G02B7/00 H
【審査請求】未請求
【請求項の数】18
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023145606
(22)【出願日】2023-09-07
(31)【優先権主張番号】P 2023026476
(32)【優先日】2023-02-22
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000004260
【氏名又は名称】株式会社デンソー
(74)【代理人】
【氏名又は名称】矢作 和行
(74)【代理人】
【識別番号】100121991
【弁理士】
【氏名又は名称】野々部 泰平
(74)【代理人】
【識別番号】100145595
【弁理士】
【氏名又は名称】久保 貴則
(72)【発明者】
【氏名】青木 慶伸
(72)【発明者】
【氏名】加野 裕士
(72)【発明者】
【氏名】正垣 好朗
【テーマコード（参考）】
2H043
5J084
【Ｆターム（参考）】
2H043AA02
2H043AB02
2H043AB07
2H043AB08
2H043AB15
2H043AB21
5J084AA05
5J084AA10
5J084AB01
5J084AB07
5J084AB20
5J084AC02
5J084BA04
5J084BA06
5J084BA20
5J084BA36
5J084BA40
5J084BA48
5J084BB02
5J084BB04
5J084BB28
5J084DA07
5J084FA01
(57)【要約】
【課題】光軸調整精度を確保する光学センサの提供。
【解決手段】光学センサ１０は、ＹＺ平面に沿うベース面１４１及びＸＺ平面に沿うベース面１４２を形成するセンサベース１４と、三次元座標系における姿勢の調整された受光光軸Ｏｒに沿って反射ビームを受光する受光ユニット４１と、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めする三箇所の第一シム１５と、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＸ軸まわりに位置決めする二箇所の第二シム１６とを備える。各第一シム１５は、受光光軸Ｏｒの姿勢角θに応じた厚さにより角部を受光ユニット４１の接触面と接触させた状態下、当該接触面と面１４１との間に螺子留めされ、各第二シム１６は、姿勢角θに応じた厚さにより角部１６０を面１４２と接触させた状態下、受光ユニット４１において接触面４５１とは直交位置関係の接触面４５２と面１４２との間に螺子留めされる。
【選択図】図６
【解決手段】光学センサ１０は、ＹＺ平面に沿うベース面１４１及びＸＺ平面に沿うベース面１４２を形成するセンサベース１４と、三次元座標系における姿勢の調整された受光光軸Ｏｒに沿って反射ビームを受光する受光ユニット４１と、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めする三箇所の第一シム１５と、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＸ軸まわりに位置決めする二箇所の第二シム１６とを備える。各第一シム１５は、受光光軸Ｏｒの姿勢角θに応じた厚さにより角部を受光ユニット４１の接触面と接触させた状態下、当該接触面と面１４１との間に螺子留めされ、各第二シム１６は、姿勢角θに応じた厚さにより角部１６０を面１４２と接触させた状態下、受光ユニット４１において接触面４５１とは直交位置関係の接触面４５２と面１４２との間に螺子留めされる。
【選択図】図６
【特許請求の範囲】
【請求項1】
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサ（１０）であって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
前記三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び前記三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
前記センサベースに固定され、前記三次元座標系における姿勢の調整された受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記反射ビームを受光する受光ユニット（４１）と、
前記センサベースに対して前記受光ユニットを前記Ｙ軸まわり及び前記Ｚ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
前記センサベースに対して前記受光ユニットを前記Ｘ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各前記第一シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記受光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、前記受光ユニットにおける第一接触面（４５１）と前記第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留めされ、
各前記第二シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記受光光軸の前記調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、前記受光ユニットにおいて前記第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と前記第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めされる光学センサ。
前記三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び前記三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
前記センサベースに固定され、前記三次元座標系における姿勢の調整された受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記反射ビームを受光する受光ユニット（４１）と、
前記センサベースに対して前記受光ユニットを前記Ｙ軸まわり及び前記Ｚ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
前記センサベースに対して前記受光ユニットを前記Ｘ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各前記第一シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記受光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、前記受光ユニットにおける第一接触面（４５１）と前記第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留めされ、
各前記第二シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記受光光軸の前記調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、前記受光ユニットにおいて前記第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と前記第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めされる光学センサ。
【請求項2】
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記受光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部における角部（１７０，１８０）が前記受光ユニット又は前記センサベースと接触した状態下、当該個別対応の前記固定螺子により螺子留めされる請求項１に記載の光学センサ。
【請求項3】
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記受光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部と、前記受光ユニット又は前記センサベースとの間にスプリングワッシャ（２０１７，２０１８）を挟んで、螺子留めされる請求項１に記載の光学センサ。
【請求項4】
前記センサベースに固定され、前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って導光する投光ユニット（２１）を、備え、
前記受光光軸が前記投光光軸と沿う前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項１に記載の光学センサ。
前記受光光軸が前記投光光軸と沿う前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項１に記載の光学センサ。
【請求項5】
前記投光ユニットには、前記Ｚ軸に沿う投光仮想軸（Ｖｐ）が想定されると共に、前記受光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う受光仮想軸（Ｖｒ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）との、相対誤差（δｐ＿ｒ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項４に記載の光学センサ。
前記三次元座標系において前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）との、相対誤差（δｐ＿ｒ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項４に記載の光学センサ。
【請求項6】
前記受光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う受光仮想軸（Ｖｒ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項１に記載の光学センサ。
前記三次元座標系において前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項１に記載の光学センサ。
【請求項7】
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサ（１０）であって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
前記三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び前記三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
前記センサベースに固定され、前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って導光する投光ユニット（２１）と、
前記センサベースに対して前記投光ユニットを前記Ｙ軸まわり及び前記Ｚ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
前記センサベースに対して前記投光ユニットを前記Ｘ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各前記第一シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記投光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、前記投光ユニットにおける第一接触面（４５１）と前記第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留めされ、
各前記第二シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記投光光軸の前記調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、前記投光ユニットにおいて前記第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と前記第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めされる光学センサ。
前記三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び前記三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
前記センサベースに固定され、前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って導光する投光ユニット（２１）と、
前記センサベースに対して前記投光ユニットを前記Ｙ軸まわり及び前記Ｚ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
前記センサベースに対して前記投光ユニットを前記Ｘ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各前記第一シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記投光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、前記投光ユニットにおける第一接触面（４５１）と前記第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留めされ、
各前記第二シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記投光光軸の前記調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、前記投光ユニットにおいて前記第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と前記第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めされる光学センサ。
【請求項8】
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記投光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部における角部（１７０，１８０）が前記投光ユニット又は前記センサベースと接触した状態下、当該個別対応の前記固定螺子により螺子留めされる請求項７に記載の光学センサ。
【請求項9】
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記投光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部と、前記投光ユニット又は前記センサベースとの間にスプリングワッシャ（２０１７，２０１８）を挟んで、螺子留めされる請求項７に記載の光学センサ。
【請求項10】
前記センサベースに固定され、前記三次元座標系における姿勢の調整された受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記反射ビームを受光する受光ユニット（４１）を、備え、
前記投光光軸が前記受光光軸と沿う前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項７に記載の光学センサ。
前記投光光軸が前記受光光軸と沿う前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項７に記載の光学センサ。
【請求項11】
前記投光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う投光仮想軸（Ｖｐ）が想定されると共に、前記受光ユニットには、前記Ｚ軸に沿う受光仮想軸（Ｖｒ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）との、相対誤差（δｒ＿ｐ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項１０に記載の光学センサ。
前記三次元座標系において前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）との、相対誤差（δｒ＿ｐ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項１０に記載の光学センサ。
【請求項12】
前記投光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う投光仮想軸（Ｖｐ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項７に記載の光学センサ。
前記三次元座標系において前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する請求項７に記載の光学センサ。
【請求項13】
請求項１～１２のいずれか一項に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記三次元座標系における前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装することと、
各前記第一シムを前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留め後、各前記第二シムを前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めすることとを、含む製造方法。
前記三次元座標系における前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装することと、
各前記第一シムを前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留め後、各前記第二シムを前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めすることとを、含む製造方法。
【請求項14】
各前記第一シムを前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留めすることは、
各前記第一シム同士では、厚さの薄い前記第一シムから順に螺子留めすることを、含み、
各前記第二シムを前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めすることは、
各前記第二シム同士では、厚さの薄い前記第二シムから順に螺子留めすることを、含む請求項１３に記載の製造方法。
各前記第一シム同士では、厚さの薄い前記第一シムから順に螺子留めすることを、含み、
各前記第二シムを前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めすることは、
各前記第二シム同士では、厚さの薄い前記第二シムから順に螺子留めすることを、含む請求項１３に記載の製造方法。
【請求項15】
請求項５に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記投光ユニットを前記センサベースに固定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義し、前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光光軸との前記受光光軸との前記姿勢角偏差同士での相対誤差（δｐ＿ｒ）に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記投光ユニットを前記センサベースに固定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義し、前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光光軸との前記受光光軸との前記姿勢角偏差同士での相対誤差（δｐ＿ｒ）に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
【請求項16】
請求項６に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記受光光軸の前記姿勢角偏差に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記受光光軸の前記姿勢角偏差に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
【請求項17】
請求項１１に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記受光ユニットを前記センサベースに固定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義し、前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記受光光軸と前記投光光軸との前記姿勢角偏差同士での相対誤差（δｒ＿ｐ）に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記受光ユニットを前記センサベースに固定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義し、前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記受光光軸と前記投光光軸との前記姿勢角偏差同士での相対誤差（δｒ＿ｐ）に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
【請求項18】
請求項１２に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義すると、前記三次元座標系における前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記投光光軸の前記姿勢角偏差に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義すると、前記三次元座標系における前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記投光光軸の前記姿勢角偏差に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、光学センサ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、投光ビームを外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビームを受光することで、外界を検出する光学センサは、広く知られている。この種の光学センサとして特許文献１に開示される技術では、投光ビームを発生させる光源モジュールに対して、光源モジュールからの投光ビームを外界側へ導光するレンズモジュールの光軸が、姿勢調整されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１７－３９３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかし、特許文献１に開示の装置では、光源モジュール及びレンズモジュールから構成される投光ユニットに対して、投光ビームに対する反射ビームを受光する受光ユニットの光軸も、さらに姿勢調整する必要がある。そうした受光ユニットの光軸調整では、特許文献１に開示されるように三軸方向での調整手法が適用可能であるものの、当該三軸方向に実質限定される調整では製造公差に起因して調整精度に限界が生じてしまう。
【0005】
以上より本開示の課題は、光軸調整精度を確保する光学センサ及びその製造方法を、提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
以下、課題を解決するための本開示の技術的手段について、説明する。尚、特許請求の範囲及び本欄に記載された括弧内の符号は、後に詳述する実施形態に記載された具体的手段との対応関係を示すものであり、本開示の技術的範囲を限定するものではない。
【0007】
本開示の第一態様は、
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサ（１０）であって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
センサベースに固定され、三次元座標系における姿勢の調整された受光光軸（Ｏｒ）に沿って反射ビームを受光する受光ユニット（４１）と、
センサベースに対して受光ユニットをＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
センサベースに対して受光ユニットをＸ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各第一シムは、それぞれ三次元座標系における受光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、受光ユニットにおける第一接触面（４５１）と第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第一ベース面及び第一接触面間に螺子留めされ、
各第二シムは、それぞれ三次元座標系における受光光軸の調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、受光ユニットにおいて第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第二ベース面及び第二接触面間に螺子留めされる。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサ（１０）であって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
センサベースに固定され、三次元座標系における姿勢の調整された受光光軸（Ｏｒ）に沿って反射ビームを受光する受光ユニット（４１）と、
センサベースに対して受光ユニットをＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
センサベースに対して受光ユニットをＸ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各第一シムは、それぞれ三次元座標系における受光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、受光ユニットにおける第一接触面（４５１）と第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第一ベース面及び第一接触面間に螺子留めされ、
各第二シムは、それぞれ三次元座標系における受光光軸の調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、受光ユニットにおいて第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第二ベース面及び第二接触面間に螺子留めされる。
【0008】
本開示の第二態様は、
第一態様の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
三次元座標系における調整姿勢角に応じた厚さの各第一シムと各第二シムとを、それぞれ第一ベース面及び第一接触面間と第二ベース面及び第二接触面間とに介装することと、
各第一シムを第一ベース面及び第一接触面間に螺子留め後、各第二シムを第二ベース面及び第二接触面間に螺子留めすることとを、含む。
第一態様の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
三次元座標系における調整姿勢角に応じた厚さの各第一シムと各第二シムとを、それぞれ第一ベース面及び第一接触面間と第二ベース面及び第二接触面間とに介装することと、
各第一シムを第一ベース面及び第一接触面間に螺子留め後、各第二シムを第二ベース面及び第二接触面間に螺子留めすることとを、含む。
【0009】
これら第一及び第二態様によると、三箇所の各第一シムは、それぞれ三次元座標系における受光光軸の調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部を、受光ユニットにおける第一接触面とセンサベースにおいてＹＺ平面に沿う第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第一ベース面及び第一接触面間に螺子留めされる。これにより、センサベースに対する受光ユニットのＹ軸まわり及びＺ軸まわりにおける位置決め状態は、受光光軸の調整姿勢角に合わせた三点支持の状態に、一義的に規定され得る。
【0010】
それと共に第一及び第二態様によると、二箇所の各第二シムは、それぞれ三次元座標系における受光光軸の調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部を、受光ユニットにおいて第一接触面とは直交位置関係の第二接触面とセンサベースにおいてＸＺ平面に沿う第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第二ベース面及び第二接触面間に螺子留めされる。これにより、センサベースに対する受光ユニットのＸ軸まわりにおける位置決め状態は、受光光軸の調整姿勢角に合わせただけでなく、上記三点支持への干渉を抑制できる二点支持の状態に規定され得る。
【0011】
このような第一及び第二態様によれば、センサベースの三次元座標系において受光ユニットの受光光軸を、ＸＹＺの各軸まわりに姿勢調整することができる。故に、光軸調整精度の確保が可能となる。
【0012】
しかも第二態様によると、センサベースに対して受光ユニットを三点支持状態に位置決めする三箇所での第一シムの螺子留め後に、センサベースに対して受光ユニットを二点支持状態に位置決めする二箇所での第二シムの螺子留めが、実行される。これによれば、一義的な三点支持状態への干渉を回避しつつ、二点支持状態を実現することができるので、光軸調整精度を高めることが可能となる。
【0013】
本開示の第三態様は、
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサ（１０）であって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
センサベースに固定され、投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って導光する投光ユニット（２１）と、
センサベースに対して投光ユニットをＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
センサベースに対して投光ユニットをＸ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各第一シムは、それぞれ三次元座標系における投光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、投光ユニットにおける第一接触面（４５１）と第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第一ベース面及び第一接触面間に螺子留めされ、
各第二シムは、それぞれ三次元座標系における投光光軸の調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、投光ユニットにおいて第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第二ベース面及び第二接触面間に螺子留めされる。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、投光ビームに対して外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、外界を検出する光学センサ（１０）であって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
センサベースに固定され、投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って導光する投光ユニット（２１）と、
センサベースに対して投光ユニットをＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
センサベースに対して投光ユニットをＸ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各第一シムは、それぞれ三次元座標系における投光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、投光ユニットにおける第一接触面（４５１）と第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第一ベース面及び第一接触面間に螺子留めされ、
各第二シムは、それぞれ三次元座標系における投光光軸の調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、投光ユニットにおいて第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第二ベース面及び第二接触面間に螺子留めされる。
【0014】
本開示の第四態様は、
第三態様の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
三次元座標系における調整姿勢角に応じた厚さの各第一シムと各第二シムとを、それぞれ第一ベース面及び第一接触面間と第二ベース面及び第二接触面間とに介装することと、
各第一シムを第一ベース面及び第一接触面間に螺子留め後、各第二シムを第二ベース面及び第二接触面間に螺子留めすることとを、含む。
第三態様の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
三次元座標系における調整姿勢角に応じた厚さの各第一シムと各第二シムとを、それぞれ第一ベース面及び第一接触面間と第二ベース面及び第二接触面間とに介装することと、
各第一シムを第一ベース面及び第一接触面間に螺子留め後、各第二シムを第二ベース面及び第二接触面間に螺子留めすることとを、含む。
【0015】
これら第三及び第四態様によると、三箇所の各第一シムは、それぞれ三次元座標系における投光光軸の調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部を、投光ユニットにおける第一接触面とセンサベースにおいてＹＺ平面に沿う第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第一ベース面及び第一接触面間に螺子留めされる。これにより、センサベースに対する投光ユニットのＹ軸まわり及びＺ軸まわりにおける位置決め状態は、投光光軸の調整姿勢角に合わせた三点支持の状態に、一義的に規定され得る。
【0016】
それと共に第三及び第四態様によると、二箇所の各第二シムは、それぞれ三次元座標系における投光光軸の調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部を、投光ユニットにおいて第一接触面とは直交位置関係の第二接触面とセンサベースにおいてＸＺ平面に沿う第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、第二ベース面及び第二接触面間に螺子留めされる。これにより、センサベースに対する投光ユニットのＸ軸まわりにおける位置決め状態は、投光光軸の調整姿勢角に合わせただけでなく、上記三点支持への干渉を抑制できる二点支持の状態に規定され得る。
【0017】
このような第三及び第四態様によれば、センサベースの三次元座標系において投光ユニットの投光光軸を、ＸＹＺの各軸まわりに姿勢調整することができる。故に、光軸調整精度の確保が可能となる。
【0018】
しかも第四態様によると、センサベースに対して投光ユニットを三点支持状態に位置決めする三箇所での第一シムの螺子留め後に、センサベースに対して投光ユニットを二点支持状態に位置決めする二箇所での第二シムの螺子留めが、実行される。これによれば、一義的な三点支持状態への干渉を回避しつつ、二点支持状態を実現することができるので、光軸調整精度を高めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【図1】第一実施形態による光学センサの全体構成を示す断面図である。
【図2】第一実施形態による投光ユニットを示す斜視図である。
【図3】第一実施形態による投光ユニットを模式的に示すＸＹ平面視図である。
【図4】第一実施形態による受光ユニットを示す斜視図である。
【図5】第一実施形態による受光ユニットを模式的に示すＸＹ平面視図である。
【図6】第一実施形態による投光ユニット及び受光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ平面視図である。
【図7】第一実施形態による投光ユニットの構成を模式的に示すＸＺ平面視図である。
【図8】第一実施形態による受光ユニットの構成を模式的に示すＸＺ平面視図である。
【図9】第一実施形態による投光ユニット及び受光ユニットの構成を示すＸＹ平面視図である。
【図10】第一実施形態による受光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ断面図である。
【図11】第一実施形態による受光ユニットの構成を模式的に示すＸＺ断面図である。
【図12】第一実施形態による受光ユニットの構成を示すＸＹ断面図である。
【図15】第一実施形態による光学センサの製造方法を示すフローチャートである。
【図16】第二実施形態による受光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ断面図である。
【図17】第二実施形態による受光ユニットの構成を模式的に示すＸＺ断面図である。
【図18】第二実施形態による受光ユニットの構成を示すＸＹ断面図である。
【図19】第三実施形態による光学センサの製造方法を示すフローチャートである。
【図20】第三実施形態による製造方法のうち、準備サブルーチンの投光シーケンスを模式的に説明するためのＹＺ平面視図である。
【図21】第三実施形態による製造方法のうち、準備サブルーチンの投光シーケンスを模式的に説明するためのＹＺ平面視図である。
【図22】第三実施形態による製造方法のうち、準備サブルーチンの受光シーケンスを模式的に説明するためのＹＺ平面視図である。
【図23】第三実施形態による製造方法のうち、準備サブルーチンの受光シーケンスを模式的に説明するためのＹＺ平面視図である。
【図24】第四実施形態による投光ユニット及び受光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ平面視図である。
【図25】第四実施形態による光学センサの製造方法を示すフローチャートである。
【図26】第五実施形態による投光ユニット及び受光ユニットの構成を模式的に示すＹＺ平面視図である。
【図27】第五実施形態による光学センサの製造方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0020】
（第一実施形態）
図１に示すように、本開示の第一実施形態による光学センサ１０は、移動体に配置されて外界を光学的に検出するための、ＬｉＤＡＲ（Light Detection and Ranging/Laser Imaging Detection and Ranging）である。光学センサ１０の配置対象となる移動体は、手動運転、自動運転、及び遠隔運転のうち少なくとも一種類の運転が可能な、例えば自動車等の車両である。尚、以下の説明では断り書きがない限り、前、後、上、下、左、及び右が示す各方向は、水平面上の車両を基準として定義される。また、以下の説明において水平方向及び鉛直方向とは、それぞれ水平面上の車両における、当該水平面に対しての平行方向及び垂直方向を意味する。
図１に示すように、本開示の第一実施形態による光学センサ１０は、移動体に配置されて外界を光学的に検出するための、ＬｉＤＡＲ（Light Detection and Ranging/Laser Imaging Detection and Ranging）である。光学センサ１０の配置対象となる移動体は、手動運転、自動運転、及び遠隔運転のうち少なくとも一種類の運転が可能な、例えば自動車等の車両である。尚、以下の説明では断り書きがない限り、前、後、上、下、左、及び右が示す各方向は、水平面上の車両を基準として定義される。また、以下の説明において水平方向及び鉛直方向とは、それぞれ水平面上の車両における、当該水平面に対しての平行方向及び垂直方向を意味する。
【0021】
光学センサ１０は、例えば前方部、左右の側方部、後方部、及び上部ルーフ等のうち、車両における少なくとも一箇所に配置される。光学センサ１０は、外界のうち車両での配置箇所に応じた検出領域Ａｄへと向けて、投光ビームＢｐを投光する。光学センサ１０は、外界において投光ビームＢｐが検出領域Ａｄの物標により反射されることで戻ってくる戻り光を、反射ビームＢｒとして検出する。こうして反射ビームＢｒとなる投光ビームＢｐには、人間から視認困難な近赤外域の光が選択される。
【0022】
光学センサ１０は、投光ビームＢｐに対して反射された反射ビームＢｒを受光することで、外界のうち検出領域Ａｄに存在する物標を、検出する。こうした外界物標の検出とは、例えば光学センサ１０から物標までの距離、物標が存在する方向、及び物標からの反射ビームＢｒの反射強度等のうち、少なくとも距離を含む一種類又は複数種類の検出である。車両に適用の光学センサ１０において代表的な検出対象となる物標は、例えば歩行者、サイクリスト、人間以外の動物、及び他車両等の移動物体のうち、少なくとも一種類であってもよい。車両に適用の光学センサ１０において代表的な検出対象となる物標は、例えばガードレール、道路標識、道路脇の構造物、及び道路上の落下物等の静止物体のうち、少なくとも一種類であってもよい。
【0023】
光学センサ１０には、互いに直交した三軸となるＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により、三次元座標系が定義されている。特に光学センサ１０の三次元座標系では、Ｙ軸方向が車両の鉛直方向に沿って規定されていると共に、Ｘ軸方向及びＺ軸方向がそれぞれ車両の相異なる水平方向に沿って規定されている。これにより水平面上の車両では、三次元座標系のＸＹ平面及びＹＺ平面が水平面に垂直な鉛直面に沿うと共に、ＸＺ平面が水平面に沿うこととなる。尚、図１においてＹ軸方向に沿う一点鎖線よりも左側部分（後述の光学窓１３側）は、実際には当該一点鎖線よりも右側部分（後述のユニット２１，４１側）に対して垂直な断面を図示している。
【0024】
光学センサ１０は、ハウジングユニット１１、投光ユニット２１、走査ユニット３１、受光ユニット４１、及び制御ユニット５１を備えている。外界と内部とを仕切るハウジングユニット１１は、ハウジング本体１２、及び光学窓１３を含んで構成されている。遮光性のハウジング本体１２は、例えば金属又は樹脂等により箱状に形成されている。ハウジング本体１２は、投光ユニット２１、走査ユニット３１、受光ユニット４１、及び制御ユニット５１を内部に収容している。ハウジングユニット１１は、光学窓１３により閉塞された開口部を、有している。透光性の光学窓１３は、例えば樹脂又はガラス等により、板状に形成されている。
【0025】
図１，２に示すように投光ユニット２１は、投光光源モジュール２２、及び投光レンズモジュール２６を含んで構成されている。図３に示すように投光光源モジュール２２は、複数の投光光源２４が基板２２４上においてアレイ状に実装されることで、構築されている。特に本実施形態の各投光光源２４は、Ｙ軸方向に沿って単列に配列された、レーザダイオードである。各投光光源２４は、制御ユニット５１からの制御信号に従うことで、それぞれ投光ビームＢｐの一部となるレーザ光を、パルス状に生成する。各投光光源２４は、エッジエミッタレーザであってもよいし、垂直共振器面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ：Vertical Cavity Surface Emitting Laser）であってもよい。
【0026】
図１，３に示すように投光光源モジュール２２は、各投光光源２４の発光により投光ビームＢｐを投射する発光面２２６を、基板２２４の片面側に形成している。発光面２２６は、各投光光源２４におけるレーザ発振部の集合によって擬似的に、Ｙ軸方向に長手且つＸ軸方向に短手の長方形輪郭に規定される。各投光光源２４のレーザ発振部から投射されるレーザ光は、検出領域Ａｄにおいては上下に長いライン状に整形される投光ビームＢｐとして、発光面２２６から投射される。
【0027】
図１，２に示すように投光レンズモジュール２６は、少なくとも一つの投光レンズ２６０が鏡筒２６１によって保持される構造に、構築されている。透光性の投光レンズ２６０は、例えば樹脂又はガラス等の基材を主体として、発揮する光学作用に応じたレンズ形状に形成されている。投光レンズ２６０は、例えば集光、コリメート、及び整形等のうち少なくとも一種類の光学作用を、投光光源モジュール２２からの投光ビームＢｐに対して発揮する。投光レンズ２６０は、例えば金属又は樹脂等により形成された遮光性の鏡筒２６１内に、位置決めされている。
【0028】
こうした構成の投光レンズモジュール２６は、投光光軸Ｏｐを形成するように、投光光源モジュール２２と位置合わせされている。そこで、投光光源モジュール２２から投射された投光ビームＢｐは、投光レンズモジュール２６からの光学作用により投光光軸Ｏｐに沿って車両の外界側へと導光される。
【0029】
図１に示すように走査ユニット３１は、走査ミラー３２、及び走査モータ３５を含んで構成されている。走査ミラー３２は、基材の片面である反射面３３に反射膜が蒸着された板状に、形成されている。走査ミラー３２は、Ｙ軸方向の回転中心線まわりに回転駆動可能に、ハウジングユニット１１によって支持されている。走査ミラー３２は、機械的又は電気的なストッパにより有限となる駆動範囲内において、揺動運動する。走査モータ３５は、例えばボイスコイルモータ、ブラシ付きＤＣモータ、又はステッピングモータ等である。走査モータ３５の出力軸は、走査ミラー３２に対して直接的に、又は例えば減速機等の駆動機構を介して間接的に、結合されている。走査モータ３５は、出力軸と共に走査ミラー３２を回転駆動可能に、ハウジングユニット１１によって保持されている。走査モータ３５は、制御ユニット５１からの制御信号に従うことで、走査ミラー３２を有限の駆動範囲内にて回転駆動（即ち、揺動駆動）する。
【0030】
走査ミラー３２は、投光ユニット２１から入射する投光ビームＢｐを、反射面３３により反射して光学窓１３を通して検出領域Ａｄへと照射することで、当該領域Ａｄを走査モータ３５の回転角度に応じて走査する。このとき検出領域Ａｄに対しての投光ビームＢｐによる走査は、走査ミラー３２の回転駆動に従って、本実施形態では水平方向での走査に実質制限される。
【0031】
走査ミラー３２は、検出領域Ａｄの物標から光学窓１３を通して入射してくる反射ビームＢｒを、反射面３３により走査モータ３５の回転角度に応じて受光ユニット４１側へと反射する。このとき走査ミラー３２の回転運動速度に対しては、投光ビームＢｐ及び反射ビームＢｒの速度が十分に大きい。これにより反射ビームＢｒは、投光ビームＢｐに対する角度が実質同一回転角度と擬制可能な走査ミラー３２から反射作用を受けることで、投光ビームＢｐとは逆行するように受光ユニット４１側へと導光される。
【0032】
図１，４に示すように受光ユニット４１は、受光レンズモジュール４２、及び受光検出モジュール４５を含んで構成されている。受光レンズモジュール４２は、少なくとも一つの受光レンズ４２０が鏡筒４２１によって保持される構造に、構築されている。透光性の受光レンズ４２０は、例えば樹脂又はガラス等の基材を主体として、発揮する光学作用に応じたレンズ形状に形成されている。受光レンズ４２０は、走査ミラー３２からの反射ビームＢｒを受光検出モジュール４５へ結像させるように、光学作用を発揮する。受光レンズ４２０は、例えば金属又は樹脂等により形成された遮光性の鏡筒４２１内に、位置決めされている。
【0033】
こうした構成の受光レンズモジュール４２は、受光光軸Ｏｒを形成するように、受光検出モジュール４５と位置合わせされている。ここで受光レンズモジュール４２の受光光軸Ｏｒは、投光レンズモジュール２６の投光光軸Ｏｐに対してＹ軸方向にずらされている。これにより、走査ミラー３２の反射面３３からＹ軸方向にずれて反射されてくる反射ビームＢｒは、受光レンズモジュール４２からの光学作用により受光光軸Ｏｒに沿って導光されることで、受光検出モジュール４５に結像される。
【0034】
図５に示すように受光検出モジュール４５は、複数の受光画素４６が基板４５４上においてアレイ状に実装されることで、構築されている。各受光画素４６は、少なくともＹ軸方向に配列されている。各受光画素４６はさらに、それぞれ複数ずつの受光素子４６０としての、例えばシングルフォトンアバランシェダイオード（Single Photon Avalanche Diode）等から形成されている。
【0035】
図１，５に示すよう受光検出モジュール４５は、受光面４５６を、基板４５４の片面側に形成している。受光面４５６は、各受光画素４６における入射面の集合により、Ｙ軸方向に長手且つＸ軸方向に短手の長方形輪郭に構成されている。各受光画素４６は、受光レンズモジュール４２から受光面４５６へと入射したライン状の反射ビームＢｒを、受光光軸Ｏｒに沿って受光する。
【0036】
図１に示すように受光検出モジュール４５は、出力回路４７を有している。出力回路４７は、投光光源モジュール２２による投光ビームＢｐの投光周期に同期した、走査ミラー３２の回転角度に対応付けられる走査ライン別の検出フレームにおいて、制御ユニット５１からの制御信号に従う制御周期毎にサンプリング処理を実行する。このとき出力回路４７は、制御周期毎に各受光画素４６の受光素子４６０からの応答出力を合成することで、検出信号を生成する。こうして生成された検出信号は、出力回路４７から走査ライン別に制御ユニット５１へと出力される。
【0037】
制御ユニット５１は、外界の検出領域Ａｄに対する物標検出を、制御する。制御ユニット５１は、プロセッサ及びメモリを含むコンピュータの、少なくとも一つを主体として構築されている。制御ユニット５１は、投光光源モジュール２２、走査モータ３５、及び受光検出モジュール４５と接続されている。制御ユニット５１は、投光周期毎に投光ビームＢｐを生成するように、投光光源モジュール２２を制御する。それと共に制御ユニット５１は、投光光源モジュール２２による投光周期に同期した走査ミラー３２による走査及び反射を制御するように、走査モータ３５を制御する。さらに制御ユニット５１は、投光光源モジュール２２による投光周期、並びに走査ミラー３２による走査及び反射に合わせて受光検出モジュール４５から出力される検出信号を処理することで、検出領域Ａｄにおける物標の検出データを生成する。
【0038】
（詳細構成）
ハウジングユニット１１は、図６～１２に示すセンサベース１４、二種類のシム１５，１６、及び三種類の固定螺子１７，１８，１９を、さらに含んで構成されている。
ハウジングユニット１１は、図６～１２に示すセンサベース１４、二種類のシム１５，１６、及び三種類の固定螺子１７，１８，１９を、さらに含んで構成されている。
【0039】
図６～９に示すように遮光性のセンサベース１４は、例えば樹脂又は金属等の基材を主体として、ハウジング本体１２（図１参照）内を二分する隔壁状に形成されている。センサベース１４は、ハウジング本体１２により外周側から囲まれて保持されることで、光学窓１３の内面に片面を向き合わせて位置決めされている。これによりセンサベース１４には、上述した定義の三次元座標系が想定されている。センサベース１４は、受光ユニット４１を固定するための構造として、二種類のベース面１４１，１４２を有している。
【0040】
第一ベース面１４１は、センサベース１４において光学窓１３側を向く片面に、形成されている。第一ベース面１４１は、ＹＺ平面に沿って広がる平面状に、規定されている。第一ベース面１４１は、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めするための、三箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３に共通な連続面状に構築されていてもよい。第一ベース面１４１は、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めするための、三箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３毎に個別な複数の分割面状に構築されていてもよい。尚、図６，８，９は、連続面状に構築された第一ベース面１４１の例を示している。
【0041】
第二ベース面１４２は、センサベース１４において第一ベース面１４１を形成する片面からＸ軸方向へブロック状に突出する凸部の、側面に形成されている。第二ベース面１４２は、ＸＺ平面に沿って広がる平面状に規定されることで、第一ベース面１４１とは実質直交位置関係をもって配置されている。第二ベース面１４２は、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＸ軸まわりに位置決めするための二箇所Ｐ２１，Ｐ２２に共通な連続面状に、構築されていてもよい。第二ベース面１４２は、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＸ軸まわりに位置決めするための、二箇所Ｐ２１，Ｐ２２毎に個別な複数の分割面状に構築されていてもよい。尚、図６は、連続面状に構築された第二ベース面１４２の例を示している。
【0042】
センサベース１４は、投光ユニット２１を固定するための構造として、受光ユニット４１用のベース面１４１，１４２とは別に、投光ベース面１４３を有している。投光ベース面１４３は、センサベース１４において第一ベース面１４１と同じ側の片面に、形成されている。投光ベース面１４３は、ＹＺ平面に沿って広がる平面状に、規定されている。投光ベース面１４３は、第一ベース面１４１と連続する、連続面状に構築されていてもよい。投光ベース面１４３は、第一ベース面１４１とは分離した、分離面状に構築されていてもよい。尚、図６，９は、連続面状に構築された投光ベース面１４３の例を示している。
【0043】
図２，６，７，９に示すように、投光ユニット２１において投光光源モジュール２２は、投光レンズモジュール２６の鏡筒２６１とはＺ軸方向に並んで接着される投光ホルダ２２０を、有している。遮光性の投光ホルダ２２０は、例えば樹脂又は金属等の基材を主体として、筒状に形成されている。投光ホルダ２２０の内部には、投光光源２４（図３参照）の複数実装された基板２２４が、保持されている。
【0044】
投光ホルダ２２０は、センサベース１４に対して投光ユニット２１を固定するための構造として、図７，９に示すように投光接触面２２１を有している。投光接触面２２１は、投光ベース面１４３と面接触する平面状に規定されることで、当該投光ベース面１４３による位置決め状態ではＹＺ平面に沿って広がる姿勢に配置される。投光接触面２２１は、センサベース１４に対して投光ユニット２１を位置決めするための、複数箇所に共通な連続面状に構築されていてもよい。投光接触面２２１は、センサベース１４に対して投光ユニット２１を位置決めするための、複数箇所毎に個別な複数の分割面状に構築されていてもよい。尚、図７，９は、分割面状に構築された投光接触面２２１の例を示している。
【0045】
図６，７，９に示すように投光ホルダ２２０は、投光ベース面１４３にて投光接触面２２１と面接触するセンサベース１４に対して、複数の投光固定螺子１９により螺子留めされている。それらの各投光固定螺子１９は、例えば金属等により雄螺子状に形成されている。各投光固定螺子１９は、それぞれの軸部をＸ軸方向に沿って投光ホルダ２２０における個別の通し孔に遊挿されている。それと共に各投光固定螺子１９は、それぞれの軸部をＸ軸方向に沿ってセンサベース１４における個別の雌螺子孔に螺着されている。このような螺子留め構造により各投光固定螺子１９は、それぞれ頭部端面を投光ホルダ２２０のセンサベース１４とは反対側面に面接触させた状態下、投光ユニット２１をセンサベース１４に固定している。
【0046】
投光ホルダ２２０には、投光ベース面１４３による位置決め状態にてＺ軸方向に沿う投光仮想軸Ｖｐが、幾何学的に想定される。この想定により投光仮想軸Ｖｐは、投光接触面２２１に沿って定義される。投光ホルダ２２０では、基板２２４の保持姿勢、及び／又は基板２２４における各投光光源２４の実装姿勢に関して、三次元座標系での投光仮想軸Ｖｐに対する姿勢角公差が想定される。同様に鏡筒２６１では、投光ホルダ２２０に対する接着姿勢、及び／又は投光レンズ２６０の保持姿勢に関して、三次元座標系での投光仮想軸Ｖｐに対する姿勢角公差が想定される。
【0047】
これらのことから光学センサ１０の製品上、図６，７，９の如くＹＺ平面視、ＸＺ平面視、及びＸＹ平面視のうち少なくとも一平面視では、投光仮想軸Ｖｐに対する投光光軸Ｏｐの三次元座標系での姿勢角偏差δｐが現出する。具体的に図６のＹＺ平面視では、投光仮想軸Ｖｐに対する投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐとして、鏡筒２６１及び投光ホルダ２２０の接着界面を中心に投光仮想軸Ｖｐから、Ｘ軸まわりに投光光軸Ｏｐの傾斜した傾斜角が現出する。それと共に図７のＸＺ平面視では、投光仮想軸Ｖｐに対する投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐとして、鏡筒２６１及び投光ホルダ２２０の接着界面を中心に投光仮想軸Ｖｐから、Ｙ軸まわりに投光光軸Ｏｐの傾斜した傾斜角が現出する。さらに図９のＸＹ平面視では、投光仮想軸Ｖｐに対する投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐとして、鏡筒２６１及び投光ホルダ２２０の接着界面にて投光仮想軸Ｖｐ上での理想的な投光ビームＢｐｖから、Ｚ軸まわりに投光光軸Ｏｐ上での投光ビームＢｐの回転する回転角が現出する。
【0048】
図４，６，８，９に示すように受光ユニット４１において受光検出モジュール４５は、受光レンズモジュール４２の鏡筒４２１とはＺ軸方向に並んで接着される受光ホルダ４５０を、有している。遮光性の受光ホルダ４５０は、例えば樹脂又は金属等の基材を主体として、筒状に形成されている。受光ホルダ４５０の内部には、受光画素４６（図５参照）の複数配列された基板４５４が、保持されている。受光ホルダ４５０は、センサベース１４に対して受光ユニット４１を固定するための構造として、図６，８，９～１２に示すように二種類の接触面４５１，４５２を有している。
【0049】
図８，９，１１，１２に示すように第一接触面４５１は、第一ベース面１４１との間においてＸ軸方向に各第一シム１５を挟持する平面状に、規定されている。第一接触面４５１は、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めするための、三箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３に共通な連続面状に構築されていてもよい。第一接触面４５１は、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めするための、三箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３毎に個別な複数の分割面状に構築されていてもよい。尚、図８，９は、分割面状に構築された第一接触面４５１の例を示している。
【0050】
図８，９，１１，１２に示すように、第一接触面４５１及び第一ベース面１４１間となる三箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３には、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めするために、それぞれ個別の第一シム１５が介装されている。各第一シム１５は、例えば金属又は樹脂等により、全体として円形平板状に形成されている。各第一シム１５は、それぞれ一枚のシム材により構成されてもよい。各第一シム１５は、それぞれ複数枚のシム材の組み合わせにより構成されてもよい。
【0051】
各第一シム１５は、それぞれ片面を第一ベース面１４１と面接触させることで、当該面１４１の法線方向（第一実施形態ではＸ軸方向）に厚さを有して配置されている。各第一シム１５の厚さは、それぞれ個別の厚さＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３に設定されている。これらの厚さ設定により各第一シム１５は、それぞれ第一ベース面１４１とは反対側面における角部（即ち外周縁部）１５０を、第一接触面４５１と接触させている。ここで特に光学センサ１０では、介装箇所（即ち位置決め箇所）Ｐ１１，Ｐ１２の第一シム１５同士が、Ｙ軸方向に並んで配置されている。それと共に介装箇所Ｐ１３の第一シム１５は、Ｚ軸方向位置が介装箇所Ｐ１１，Ｐ１２とはずれる共に、Ｙ軸方向位置が介装箇所Ｐ１１よりも介装箇所Ｐ１２側に偏位して、配置されている（図６も参照）。これらより各箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３では、ＹＺ平面に沿って第一シム１５同士が相互離間して位置決めされている。
【0052】
各第一シム１５は、それぞれ個別に対応する第一固定螺子１７により、第一接触面４５１及び第一ベース面１４１間に螺子留めされている。それらの各第一固定螺子１７は、例えば金属等により雄螺子状に形成されている。各第一固定螺子１７は、それぞれの軸部を第一接触面４５１の法線方向に沿って受光ホルダ４５０における個別の通し孔に遊挿されている。それと共に各第一固定螺子１７は、それぞれの軸部を第一接触面４５１の法線方向に沿って第一シム１５の嵌合孔に嵌挿されている。さらに各第一固定螺子１７は、それぞれの軸部を第一接触面４５１の法線方向に沿ってセンサベース１４における個別の雌螺子孔に螺着されている。このような螺子留め構造により各第一固定螺子１７は、それぞれの頭部における軸部側端面の角部（即ち外周縁部）１７０を、受光ホルダ４５０における第一シム１５とは反対側面に接触させた状態下、受光ユニット４１をセンサベース１４に固定している。
【0053】
図６，１０に示すように第二接触面４５２は、第二ベース面１４２との間においてＹ軸方向に各第二シム１６を挟持する平面状に規定されることで、第一接触面４５１とは実質直交位置関係をもって配置されている。第二接触面４５２は、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＸ軸まわりに位置決めするための、二箇所Ｐ２１，Ｐ２２に共通な連続面状に構築されていてもよい。第二接触面４５２は、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＸ軸まわりに位置決めするための、二箇所Ｐ２１，Ｐ２２毎に個別な複数の分割面状に構築されていてもよい。尚、図６，１０は、連続面状に構築された第二接触面４５２の例を示している。
【0054】
第二接触面４５２及び第二ベース面１４２間となる二箇所Ｐ２１，Ｐ２２には、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＸ軸まわりに位置決めするために、それぞれ個別の第二シム１６が介装されている。各第二シム１６は、例えば金属又は樹脂等により、全体として円形平板状に形成されている。各第二シム１６は、それぞれ一枚のシム材により構成されてもよい。各第二シム１６は、それぞれ複数枚のシム材の組み合わせにより構成されてもよい。
【0055】
各第二シム１６は、それぞれ片面を第二接触面４５２と面接触させることで、当該面４５２の法線方向（第一実施形態ではＹ軸方向に対する傾斜方向）に厚さを有して配置されている。各第二シム１６の厚さは、それぞれ個別の厚さＴ２１，Ｔ２２に設定されている。これらの厚さ設定により各第二シム１６は、それぞれ第二接触面４５２とは反対側面における角部（即ち外周縁部）１６０を、第二ベース面１４２と接触させている。ここで特に光学センサ１０では、介装箇所（即ち位置決め箇所）Ｐ２１，Ｐ２２の第二シム１６同士が、Ｚ軸方向に並んで配置されている。これより各箇所Ｐ２１，Ｐ２２では、ＸＺ平面に沿って第二シム１６同士が相互離間して位置決めされている。
【0056】
各第二シム１６は、それぞれ個別に対応する第二固定螺子１８により、第二接触面４５２及び第二ベース面１４２間に螺子留めされている。それらの各第二固定螺子１８は、例えば金属等により雄螺子状に形成されている。各第二固定螺子１８は、それぞれの軸部を第二接触面４５２の法線方向に沿ってセンサベース１４における個別の通し孔に遊挿されている。それと共に各第二固定螺子１８は、それぞれの軸部を第二接触面４５２の法線方向に沿って第二シム１６の嵌合孔に嵌挿されている。さらに各第二固定螺子１８は、それぞれの軸部を第二接触面４５２の法線方向に沿って受光ホルダ４５０における個別の雌螺子孔に螺着されている。このような螺子留め構造により各第二固定螺子１８は、それぞれの頭部における軸部側端面の角部（即ち外周縁部）１８０を、センサベース１４の凸部における第二シム１６とは反対側面に接触させた状態下、受光ユニット４１をセンサベース１４に固定している。
【0057】
図６，８，９に示すように受光ホルダ４５０には、各ベース面１４１，１４２による対応シム１５，１６を介した位置決め状態として、同種のシム１５，１６同士での厚さがそれぞれ共通となる理想（即ち設計上）の状態ではＺ軸方向に沿って設計される受光仮想軸Ｖｒが、幾何学的に想定される。この想定により受光仮想軸Ｖｒは、第一接触面４５１及び第二接触面４５２の双方に沿って定義される。受光ホルダ４５０では、基板４５４の保持姿勢、及び／又は基板４５４における各受光画素４６の配列姿勢に関して、三次元座標系での受光仮想軸Ｖｒに対する姿勢角公差が想定される。同様に鏡筒４２１では、受光ホルダ４５０に対する接着姿勢、及び／又は受光レンズ４２０の保持姿勢に関して、三次元座標系での受光仮想軸Ｖｒに対する姿勢角公差が想定される。
【0058】
これらのことから光学センサ１０の製品上、図６，８，９の如くＹＺ平面視、ＸＺ平面視、及びＸＹ平面視のうち少なくとも一平面視では、受光仮想軸Ｖｒに対する受光光軸Ｏｒの三次元座標系での姿勢角偏差δｒが現出する。具体的に図６のＹＺ平面視では、受光仮想軸Ｖｒに対する受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒとして、鏡筒４２１及び受光ホルダ４５０の接着界面を中心に受光仮想軸Ｖｒから、Ｘ軸まわりに受光光軸Ｏｒの傾斜した傾斜角が現出する。それと共に図８のＸＺ平面視では、受光仮想軸Ｖｒに対する受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒとして、鏡筒４２１及び受光ホルダ４５０の接着界面を中心に受光仮想軸Ｖｒから、Ｙ軸まわりに受光光軸Ｏｒの傾斜した傾斜角が現出する。さらに図９のＸＹ平面視では、受光仮想軸Ｖｒに対する受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒとして、鏡筒４２１及び受光ホルダ４５０の接着界面にて受光仮想軸Ｖｒ上での理想的な反射ビームＢｒｖから、Ｚ軸まわりに受光光軸Ｏｒ上での反射ビームＢｒの回転する回転角が現出する。
【0059】
以上を踏まえて光学センサ１０の製品状態では、図６～９の如くＹＺ平面視、ＸＺ平面視、及びＸＹ平面視のいずれにおいても、三次元座標系での受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θは、受光光軸Ｏｒが投光光軸Ｏｐに沿う角度に調整されている。これにより受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θは、三次元座標系における投光仮想軸Ｖｐに対しての投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐと実質一致する。そこで調整姿勢角θは、三次元座標系における受光仮想軸Ｖｒの位置決め姿勢角ψを、投光仮想軸Ｖｐに対する投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐと受光仮想軸Ｖｒに対する受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒとの、相対誤差δｐ＿ｒ（＝δｐ－δｒ）と実質合致させるように選定される。ここで各姿勢角偏差δｐ，δｒは、相対誤差δｐ＿ｒの対象となる平面視毎に、図６～９のうちそれぞれ対応する図面上での、時計まわりを正且つ反時計まわりを負とする符号付き角度に定義されることで、当該平面視毎の相対誤差δｐ＿ｒも符号付き角度として位置決め姿勢角ψの選定に供される。
【0060】
具体的に図６及びその変形例図１３，１４のＹＺ平面視では、Ｚ軸からＸ軸まわりに受光光軸Ｏｒを傾斜させた傾斜角が、受光光軸Ｏｒを投光光軸Ｏｐに沿わせる姿勢角θとして、調整される。そこでＹＺ平面視では、Ｚ軸からＸ軸まわりに受光仮想軸Ｖｒを傾斜させる位置決め姿勢角ψを、ＹＺ平面視での姿勢角偏差δｐ，δｒ同士の相対誤差δｐ＿ｒに、実質合致させる調整姿勢角θが選定される。ここで図６は、負の姿勢角偏差δｐに対して姿勢角偏差δｒが正となるパターンにおいて、それら姿勢角偏差δｐ，δｒの絶対値同士の和をもって負の符号をとる相対誤差δｐ＿ｒの例を、示している。図１３は、負の姿勢角偏差δｐの絶対値よりも負の姿勢角偏差δｒの絶対値が小さくなるパターンにおいて、それら姿勢角偏差δｐ，δｒ同士の絶対差をもって負の符号をとる相対誤差δｐ＿ｒの例を、示している。図１４は、負の姿勢角偏差δｐの絶対値よりも負の姿勢角偏差δｒの絶対値が大きくなるパターンにおいて、それら姿勢角偏差δｐ，δｒ同士の絶対差をもって正の符号をとる相対誤差δｐ＿ｒの例を、示している。尚、以上の各例示に対して姿勢角偏差δｐ，δｒの正負関係が逆となるパターンでは、相対誤差δｐ＿ｒの正負関係も逆となる。
【0061】
それと共に図７，８のＸＺ平面視では、Ｚ軸からＹ軸まわりに受光光軸Ｏｒを傾斜させた傾斜角が、受光光軸Ｏｒを投光光軸Ｏｐに沿わせる姿勢角θとして、調整される。そこでＸＺ平面視では、Ｚ軸からＹ軸まわりに受光仮想軸Ｖｒを傾斜させる位置決め姿勢角ψを、ＸＺ平面視での姿勢角偏差δｐ，δｒ同士の相対誤差δｐ＿ｒに、実質合致させる調整姿勢角θが選定される。ここで図７，８は、正の姿勢角偏差δｐに対して姿勢角偏差δｒが負となるパターンにおいて、それら姿勢角偏差δｐ，δｒの絶対値同士の和をもって正の符号をとる相対誤差δｐ＿ｒの例を、示している。この例示以外のパターンでの相対誤差δｐ＿ｒは、ＹＺ平面でのパターンに準ずるものとなる。
【0062】
さらに図９のＸＹ平面視では、理想のライン状反射ビームＢｒが沿うべきＹ軸から、Ｚ軸まわりに受光光軸Ｏｒ上での反射ビームＢｒを回転させる回転角が、受光光軸Ｏｒを投光光軸Ｏｐに沿わせる姿勢角θとして、調整される。そこでＸＹ平面視では、Ｙ軸からＺ軸まわりに受光仮想軸Ｖｒをそれ上に想定の反射ビームＢｒｖと共に回転させるような位置決め姿勢角ψを、ＸＹ平面視での姿勢角偏差δｐ，δｒ同士の相対誤差δｐ＿ｒに、実質合致させる調整姿勢角θが選定される。ここで図９は、負の姿勢角偏差δｐに対して姿勢角偏差δｒが正となるパターンにおいて、それら姿勢角偏差δｐ，δｒの絶対値同士の和をもって負の符号をとる相対誤差δｐ＿ｒの例を、示している。この例示以外のパターンでの相対誤差δｐ＿ｒは、ＹＺ平面でのパターンに準ずるものとなる。
【0063】
このような調整原理から、ＸＺ平面視における調整姿勢角θの絶対値及びＹ軸まわりの符号と、ＸＹ平面視における調整姿勢角θの絶対値及びＺ軸まわりの符号との、相関に応じて各第一シム１５の個別厚さＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３が図１１，１２の如く決定される。それと共に、ＹＺ平面視における調整姿勢角θの絶対値及びＸ軸まわりの符号に応じて、各第二シム１６の個別厚さＴ２１，Ｔ２２が図１０の如く決定される。
【0064】
【0065】
Ｓ１０の準備工程は、三次元座標系における受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θを選定して、各第一シム１５の個別厚さＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３及び各第二シム１６の個別厚さＴ２１，Ｔ２２を決定する。具体的にはまず、投光ユニット２１における投光仮想軸Ｖｐに対しての投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐと、受光ユニット４１における受光仮想軸Ｖｒに対しての受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒとが、それぞれ測定される。このとき各姿勢角偏差δｐ，δｒは、それぞれ対応するビームＢｐ，Ｂｒの特定位置での合焦状態から、それぞれ対応する光軸Ｏｐ，Ｏｒが特定されることで、測定可能となる。
【0066】
Ｓ１０の準備工程では、これらの測定の結果から、センサベース１４により定義される三次元座標系における受光仮想軸Ｖｒの位置決め姿勢角ψを、各姿勢角偏差δｐ，δｒ同士の相対誤差δｐ＿ｒと実質合致させるように、調整姿勢角θが選定される。さらに、選定された調整姿勢角θを実現するように、各第一シム１５の個別厚さＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３と各第二シム１６の個別厚さＴ２１，Ｔ２２とが決定される。
【0067】
Ｓ２０のセット工程は、Ｓ１０による調整姿勢角θに応じた厚さの各第一シム１５と各第二シム１６とを、それぞれ第一ベース面１４１及び第一接触面４５１間と第二ベース面１４２及び第二接触面４５２間とに介装する。これにより、投光ユニット２１と共に受光ユニット４１が、投光光軸Ｏｐに沿う姿勢角θに調整された受光光軸Ｏｒを与える位置決め状態にて、センサベース１４にセットされる。
【0068】
Ｓ３０の第一固定工程は、Ｓ２０による調整姿勢角θの受光光軸Ｏｒを維持した状態の受光ユニット４１に関して、個別の第一固定螺子１７により各第一シム１５を第一ベース面１４１及び第一接触面４５１間に螺子留めする。このとき各第一シム１５同士では、厚さの薄い第一シム１５から順に螺子留めが実行される。
【0069】
Ｓ４０の第二固定工程は、Ｓ３０による第一固定工程後にも継続的に調整姿勢角θの受光光軸Ｏｒを維持した状態の受光ユニット４１に関して、個別の第二固定螺子１８により各第二シム１６を第二ベース面１４２及び第二接触面４５２間に螺子留めする。このとき各第二シム１６同士では、厚さの薄い第二シム１６から順に螺子留めが実行される。これにより、受光ユニット４１がセンサベース１４に対して固定される。
【0070】
これらＳ２０～Ｓ４０と並行して又は前後するＳ５０（図１５は並行の例）の第三固定工程は、受光光軸Ｏｒが沿う投光光軸Ｏｐを形成するように投光ユニット２１を、センサベース１４に対して螺子留めにより固定することになる。以上、Ｓ４０，Ｓ５０の実行完了により、光学センサ１０の製造が完了する。
【0071】
（作用効果）
ここまで説明した第一実施形態の作用効果を、以下に説明する。
ここまで説明した第一実施形態の作用効果を、以下に説明する。
【0072】
第一実施形態によると、三箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３の各第一シム１５は、それぞれ三次元座標系における受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θに応じた個別の厚さＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３により角部１５０を、受光ユニット４１における第一接触面４５１と接触させた状態下、センサベース１４においてＹＺ平面に沿う第一ベース面１４１及び第一接触面４５１間に螺子留めされる。これにより、センサベース１４に対する受光ユニット４１のＹ軸まわり及びＺ軸まわりにおける位置決め状態は、受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θに合わせた三点支持の状態に、一義的に規定され得る。
【0073】
それと共に第一実施形態によると、二箇所Ｐ２１，Ｐ２２の各第二シム１６は、それぞれ三次元座標系における受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θに応じた個別の厚さＴ２１，Ｔ２２により角部１６０を、センサベース１４においてＸＺ平面に沿う第二ベース面１４２に接触させた状態下、受光ユニット４１において第一接触面４５１とは直交位置関係の第二接触面４５２及び第二ベース面１４２間に螺子留めされる。これにより、センサベース１４に対する受光ユニット４１のＸ軸まわりにおける位置決め状態は、受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θに合わせただけでなく、上記三点支持への干渉を抑制できる二点支持の状態に規定され得る。
【0074】
このような第一実施形態によれば、センサベース１４の三次元座標系において受光ユニット４１の受光光軸Ｏｒを、ＸＹＺの各軸まわりに姿勢調整することができる。故に、光軸調整精度の確保が可能となる。
【0075】
第一実施形態における各第一シム１５と各第二シム１６とは、それぞれ個別に対応して受光ユニット４１をセンサベース１４に固定する固定螺子１７，１８の、頭部における角部１７０，１８０が受光ユニット４１又はセンサベース１４と接触した状態下、当該個別対応の固定螺子１７，１８により螺子留めされる。これによれば、三次元座標系における受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θに応じた個別厚さをそれぞれ有する各第一シム１５及び各第二シム１６の螺子留めにより、ＹＺ平面に沿って離間する箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３での三点支持状態と、ＸＺ平面に沿って離間する箇所Ｐ２１，Ｐ２２での二点支持状態とを、正確に実現することができる。故に、光軸調整精度を確保する効果の信頼性アップに貢献することが可能となる。
【0076】
第一実施形態によると、三次元座標系における受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θとして、受光光軸Ｏｒが投光光軸Ｏｐと沿う角度に応じた厚さを、各第一シム１５と各第二シム１６とがそれぞれ有する。これによれば、投光光軸Ｏｐに沿って受光光軸Ｏｒを正しく姿勢調整することができるので、投光ユニット２１及び受光ユニット４１間での光軸調整精度を確保することが可能となる。
【0077】
第一実施形態では、Ｚ軸に沿う投光仮想軸Ｖｐが投光ユニット２１に想定されると共に、第一接触面４５１及び第二接触面４５２の双方に沿う受光仮想軸Ｖｒが受光ユニット４１に想定される。そこで第一実施形態によると、三次元座標系において受光仮想軸Ｖｒの位置決め姿勢角ψを、投光仮想軸Ｖｐに対する投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐと、受光仮想軸Ｖｒに対する受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒとの、相対誤差δｐ＿ｒに合致させる調整姿勢角θに応じた厚さを、各第一シム１５と各第二シム１６とがそれぞれ有する。これによれば、投光光軸Ｏｐに対して受光光軸Ｏｒを幾何学的に正確に姿勢調整することができるので、投光ユニット２１及び受光ユニット４１間での光軸調整精度を高めることが可能となる。
【0078】
第一実施形態によると、センサベース１４に対して受光ユニット４１を三点支持状態に位置決めする三箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３での第一シム１５の螺子留め後に、センサベース１４に対して受光ユニット４１を二点支持状態に位置決めする二箇所Ｐ２１，Ｐ２２での第二シム１６の螺子留めが、実行される。これによれば、一義的な三点支持状態への干渉を回避しつつ、二点支持状態を実現することができるので、光軸調整精度を高めることが可能となる。
【0079】
第一実施形態によると、各第一シム１５同士では、厚さの薄い第一シム１５から順に螺子留めが実行され、同様に各第二シム１６同士では、厚さの薄い第二シム１６から順に螺子留めが実行される。これによれば、特に最薄厚さの第一シム１５と最薄厚さの第二シム１６との各螺子留め時に受光ユニット４１へ作用するモーメントを低減して、当該モーメントにより受光ユニット４１に生じる応力歪みを抑止することができる。故に、応力歪に起因する螺子軸力のばらつきを抑えて、光軸調整精度を確保することが可能となる。
【0080】
（第二実施形態）
図１６～１８に示すように第二実施形態は、第一実施形態の変形例である。
図１６～１８に示すように第二実施形態は、第一実施形態の変形例である。
【0081】
第二実施形態において図１７，１８に示す各第一シム１５は、それぞれ個別に対応して受光ユニット４１をセンサベース１４に固定する第一固定螺子１７の頭部と、受光ユニット４１の受光ホルダ４５０との間に金属製のスプリングワッシャ２０１７を挟んで、螺子留めされる。それと共に第二実施形態において図１６に示す各第二シム１６は、それぞれ個別に対応して受光ユニット４１をセンサベース１４に固定する第二固定螺子１８の頭部と、センサベース１４との間に金属製のスプリングワッシャ２０１８を挟んで、螺子留めされる。
【0082】
このような第二実施形態よっても、三次元座標系における受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θに応じた個別厚さをそれぞれ有する各第一シム１５及び各第二シム１６の、相異なる箇所での螺子留めにより、ＹＺ平面に沿って離間する箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３での三点支持状態と、ＸＺ平面に沿って離間する箇所Ｐ２１，Ｐ２２での二点支持状態とを、正確に実現することができる。故に、光軸調整精度を確保する効果の信頼性アップに貢献することが可能となる。しかも第一実施形態によると、スプリングワッシャ２０１７，２０１８により車両振動に起因する各ユニット２１，４１の姿勢ずれが抑制され得るので、光軸調整精度を継続的に確保することも可能となる。
【0083】
（第三実施形態）
図１９～２３に示すように第三実施形態は、第一実施形態の変形例である。
図１９～２３に示すように第三実施形態は、第一実施形態の変形例である。
【0084】
第三実施形態による光学センサ１０の製造方法においてＳ１０の準備工程は、図１９に示す準備サブルーチンに従って実行される。尚、後述する図２０～２３では説明の理解を容易にするために、第一実施形態に対応する角度の図示が模式的に拡大されている。
【0085】
準備サブルーチンのうち、投光シーケンスにおいてＳ１００の第一投光測定工程は、投光仮想軸Ｖｐに対して投光光軸Ｏｐのなす投光合焦角ωｐを、投光ビームＢｐの合焦状態において測定する。具体的に第一投光測定工程は、図２０に示す製造装置１の可動ステージ３における可動ベース面３ａに対して、投光ホルダ２２０を一体駆動可能に取り付ける。このとき、鏡筒２６１及び投光ホルダ２２０間の接着界面には、例えばゲル状等の未硬化状態にある投光接着材２１０が挟持させられる。
【0086】
そこで第一投光測定工程は、投光レンズモジュール２６から設定距離のスクリーンにおいて投光ビームＢｐの、例えば結像サイズ等といった集光度合いを評価するデフォーカスにより、当該スクリーンの位置での合焦状態を与える投光合焦角ωｐを三次元に探索する。ここで合焦状態とは、ライン状投光ビームＢｐが長手方向において全体的に許容錯乱円の範囲で合焦する状態を、意味するとよい。こうした探索による投光合焦角ωｐの測定値は、可動ステージ３における可動ベース面３ａの三次元での姿勢角誤差により、補正されてもよい。
【0087】
準備サブルーチンのうち、投光シーケンスにおいてＳ１１０の投光接着工程は、鏡筒２６１及び投光ホルダ２２０間の投光接着材２１０を硬化させることで、当該投光接着材２１０を介して投光レンズモジュール２６を投光光源モジュール２２に接着する。このとき投光接着材２１０は、少なくとも投光光軸Ｏｐまわりの外周側からの紫外線照射によって硬化する。投光接着材２１０は、こうした紫外線硬化に加えて、加熱硬化されてもよい。
【0088】
準備サブルーチンのうち、投光シーケンスにおいてＳ１２０の第二投光測定工程は、投光接着材２１０の硬化により投光光源モジュール２２と接着された投光レンズモジュール２６の投光光軸Ｏｐに、図２１に示すように生じた投光誤差角ρｐを測定する。そこで第二投光測定工程では、投光レンズモジュール２６から設定距離のスクリーンにおいて投光ビームＢｐの合焦状態がＳ１００に準じて三次元探索されることで、当該合焦状態のズレに応じた投光光軸Ｏｐの投光誤差角ρｐが三次元測定される。こうした探索の結果、Ｓ１００による投光合焦角ωｐとＳ１２０による投光誤差角ρｐとの総和が、投光仮想軸Ｖｐに対する投光光軸Ｏｐの三次元での姿勢角偏差δｐ（＝ωｐ＋ρｐ）として取得される。
【0089】
第二投光測定工程では投光誤差角ρｐの測定値が、可動ステージ３における可動ベース面３ａの三次元での姿勢角誤差により、補正されてもよい。但し、Ｓ１２０においてＳ１００とは異なる可動ステージ３により、Ｓ１００での可動ベース面３ａの姿勢が再現されるような場合には、Ｓ１００，Ｓ１２０の各々における可動ベース面３ａの姿勢角誤差により、補正されるとよい。
【0090】
準備サブルーチンのうち、投光シーケンスと関連付けて実行される受光シーケンスにおいてＳ１３０の第一受光測定工程は、受光仮想軸Ｖｒに対して受光光軸Ｏｒのなす受光合焦角ωｒを、反射ビームＢｒの合焦状態において測定する。具体的に第一受光測定工程は、図２２に示す製造装置１の可動ステージ３における可動ベース面３ａに対して、受光ホルダ４５０を一体駆動可能に取り付ける。このとき、鏡筒４２１及び受光ホルダ４５０間の接着界面には、例えばゲル状等の未硬化状態にある受光接着材４１０が挟持させられる。
【0091】
そこで第一受光測定工程は、受光検出モジュール４５の受光面４５６において反射ビームＢｒの、例えば結像サイズ又はエネルギー等といった集光度合いを評価するデフォーカスにより、当該受光面４５６の位置での合焦状態を与える受光合焦角ωｒを探索する。ここで合焦状態とは、ライン状反射ビームＢｒが長手方向において全体的に許容錯乱円の範囲で合焦する状態を、意味するとよい。こうした探索による受光合焦角ωｒの測定値は、可動ステージ３における可動ベース面３ａの三次元での姿勢角誤差により、補正されてもよい。
【0092】
準備サブルーチンのうち、受光シーケンスにおいてＳ１４０の受光接着工程は、鏡筒４２１及び受光ホルダ４５０間の受光接着材４１０を硬化させることで、当該受光接着材４１０を介して受光レンズモジュール４２を受光検出モジュール４５に接着する。このとき受光接着材４１０は、少なくとも受光光軸Ｏｒまわりの外周側からの紫外線照射によって硬化する。受光接着材４１０は、こうした紫外線硬化に加えて、加熱硬化されてもよい。
【0093】
準備サブルーチンのうち、受光シーケンスにおいてＳ１５０の第二受光測定工程は、受光接着材４１０の硬化により受光検出モジュール４５と接着された受光レンズモジュール４２の受光光軸Ｏｒに、図２３に示すように生じた受光誤差角ρｒを測定する。そこで第二受光測定工程では、受光検出モジュール４５の受光面４５６において反射ビームＢｒの合焦状態がＳ１２０に準じて三次元探索されることで、当該合焦状態のズレに応じた受光光軸Ｏｒの受光誤差角ρｒが三次元測定される。こうした探索の結果、Ｓ１３０による受光合焦角ωｒとＳ１５０による受光誤差角ρｒとの総和が、受光仮想軸Ｖｒに対する受光光軸Ｏｒの三次元での姿勢角偏差δｒ（＝ωｒ＋ρｒ）として取得される。
【0094】
第二受光測定工程では受光誤差角ρｒの測定値が、可動ステージ３における可動ベース面３ａの三次元での姿勢角誤差により、補正されてもよい。但し、Ｓ１５０においてＳ１３０とは異なる可動ステージ３により、Ｓ１３０での可動ベース面３ａの姿勢が再現されるような場合には、Ｓ１３０，Ｓ１５０の各々における可動ベース面３ａの姿勢角誤差により、補正されるとよい。
【0095】
準備サブルーチンのうち、受光シーケンスにおいてＳ１６０の受光調整工程には、投光シーケンスのＳ１２０で取得された投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐと、受光シーケンスのＳ１５０で取得された受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒとが、申し送りされる。そこで受光調整工程は、三次元座標系における受光仮想軸Ｖｒの位置決め姿勢角ψを、各姿勢角偏差δｐ，δｒ同士の相対誤差δｐ＿ｒと実質合致させるように、調整姿勢角θを選定する。さらに受光調整工程は、選定した調整姿勢角θを実現するように、各第一シム１５の個別厚さＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３と各第二シム１６の個別厚さＴ２１，Ｔ２２とを決定する。
【0096】
以上の第三実施形態では、Ｓ１０の準備サブルーチンに続くＳ２０～Ｓ５０が、第一実施形態に準じて実行される。その結果、特に受光ユニット４１に関してＳ２０～Ｓ４０では、Ｓ１６０による調整姿勢角θに応じた厚さの各第一シム１５と各第二シム１６とが、それぞれ第一ベース面１４１及び第一接触面４５１間と第二ベース面１４２及び第二接触面４５２間とに介装されて螺子留めされる。
【0097】
このような第三実施形態によれば、位置決め姿勢角ψと相対誤差δｐ＿ｒとの合致から、投光光軸Ｏｐに対して受光光軸Ｏｒを幾何学的に高精度に姿勢調整することができるので、各ユニット２１，４１間での光軸調整精度を担保することが可能となる。さらに、そうした角度合致以外の作用効果も、第一実施形態の作用効果と同様に発揮され得る。
【0098】
（第四実施形態）
図２４～２５に示すように第四実施形態は、第三実施形態の変形例である。
図２４～２５に示すように第四実施形態は、第三実施形態の変形例である。
【0099】
図２４に示す第四実施形態の光学センサ１０では、ベース面１４１，１４２が投光ユニット２１用に設けられていると共に、ベース面１４３が受光ユニット４１用に設けられている。それと共に、接触面４５１，４５２が投光ホルダ２２０に設けられていると共に、接触面２２１が受光ホルダ４５０に設けられている。
【0100】
第四実施形態の光学センサ１０では、第一接触面４５１及び第一ベース面１４１間となる三箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３には、センサベース１４に対して投光ユニット２１をＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めするために、それぞれ個別の第一シム１５が介装されている。そこで、各第一シム１５を螺子留めする第一固定螺子１７は、それぞれの軸部を第一接触面４５１の法線方向に沿って投光ホルダ２２０における個別の通し孔に遊挿されて、第一シム１５の嵌合孔に嵌挿及びセンサベース１４の雌螺子孔に螺着されている。このような螺子留め構造により各第一固定螺子１７は、それぞれの頭部における軸部側端面の角部（即ち外周縁部）１７０を、投光ホルダ２２０における第一シム１５とは反対側面に接触させた状態下、投光ユニット２１をセンサベース１４に固定している。
【0101】
第四実施形態の光学センサ１０では、第二接触面４５２及び第二ベース面１４２間となる二箇所Ｐ２１，Ｐ２２には、センサベース１４に対して投光ユニット２１をＸ軸まわりに位置決めするために、それぞれ個別の第二シム１６が介装されている。そこで、各第二シム１６を螺子留めする第二固定螺子１８は、それぞれの軸部を第二接触面４５２の法線方向に沿ってセンサベース１４における個別の通し孔に遊挿されて、第二シム１６の嵌合孔に嵌挿及び投光ホルダ２２０の雌螺子孔に螺着されている。このような螺子留め構造により各第二固定螺子１８は、それぞれの頭部における軸部側端面の角部（即ち外周縁部）１８０を、センサベース１４の凸部における第二シム１６とは反対側面に接触させた状態下、投光ユニット２１をセンサベース１４に固定している。
【0102】
第四実施形態において固定螺子１９は、ベース面１４３にて接触面２２１と面接触するセンサベース１４に対して、受光ホルダ４５０を螺子留めするために、複数設けられている。各固定螺子１９は、それぞれの軸部をＸ軸方向に沿って受光ホルダ４５０における個別の通し孔に遊挿されて、センサベース１４の雌螺子孔に螺着されている。このような螺子留め構造により各投光固定螺子１９は、それぞれ頭部端面を受光ホルダ４５０のセンサベース１４とは反対側面に面接触させた状態下、受光ユニット４１をセンサベース１４に固定している。
【0103】
第四実施形態では、投光ホルダ２２０における投光仮想軸Ｖｐが第一接触面４５１及び第二接触面４５２の双方に沿って定義される一方、受光ホルダ４５０における受光仮想軸ＶｒがＺ軸方向及び接触面２２１に沿って定義される。これらの定義下においても、投光仮想軸Ｖｐに対する投光光軸Ｏｐの三次元座標系での姿勢角偏差δｐと、受光仮想軸Ｖｒに対する受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒとは、第一実施形態に準ずる。
【0104】
第四実施形態による光学センサ１０の製品状態では、三次元座標系での投光光軸Ｏｐの調整姿勢角θは、投光光軸Ｏｐが受光光軸Ｏｒに沿う角度に調整されている。これにより投光光軸Ｏｐの調整姿勢角θは、三次元座標系における受光仮想軸Ｖｒに対しての受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒと実質一致する。そこで調整姿勢角θは、三次元座標系における投光仮想軸Ｖｐの位置決め姿勢角ψを、受光仮想軸Ｖｒに対する受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒと投光仮想軸Ｖｐに対する投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐとの、相対誤差δｒ＿ｐ（＝δｒ－δｐ）と実質合致させるように選定されることになる。
【0105】
このような第四実施形態による光学センサ１０の製造方法においてＳ１０の準備工程は、図２５に示す準備サブルーチンに従って実行される。
【0106】
第四実施形態の準備サブルーチンのうち、受光シーケンスには第三実施形態によるＳ１６０の受光調整工程が省かれる代わりに、投光シーケンスにおいてＳ１２０に続くＳ４１６０の投光調整工程が実行される。具体的に投光調整工程には、受光シーケンスのＳ１５０で取得された受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒと、投光シーケンスのＳ１２０で取得された投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐとが、申し送りされる。そこで投光調整工程は、三次元座標系における投光仮想軸Ｖｐの位置決め姿勢角ψを、各姿勢角偏差δｒ，δｐ同士の相対誤差δｒ＿ｐと実質合致させるように、調整姿勢角θを選定する。さらに投光調整工程は、選定した調整姿勢角θを実現するように、各第一シム１５の個別厚さＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３と各第二シム１６の個別厚さＴ２１，Ｔ２２とを決定する。
【0107】
以上の第四実施形態では、Ｓ１０の準備サブルーチンに続くＳ２０～Ｓ５０が、第一実施形態に準じて実行される。但し、投光ユニット２１に関する工程となるＳ２０～Ｓ４０では、Ｓ４１６０による調整姿勢角θに応じた厚さの各第一シム１５と各第二シム１６とが、それぞれ第一ベース面１４１及び第一接触面４５１間と第二ベース面１４２及び第二接触面４５２間とに介装されて螺子留めされる。これにより、投光ユニット２１がセンサベース１４に対して固定される。一方、受光ユニット４１に関する工程となるＳ５０では、投光光軸Ｏｐが沿う受光光軸Ｏｒを形成するように同ユニット４１が、センサベース１４に対して螺子留めにより固定されることとなる。
【0108】
このような第四実施形態によれば、位置決め姿勢角ψと相対誤差δｒ＿ｐとの合致から、受光光軸Ｏｒに対して投光光軸Ｏｐを幾何学的に高精度に姿勢調整することができるので、各ユニット２１，４１間での光軸調整精度を担保することが可能となる。さらに、そうした角度合致以外の作用効果としては、第一実施形態に準じて「投光」と「受光」とを入れ替えた作用効果も、発揮され得る。
【0109】
（第五実施形態）
図２６～２７に示すように第五実施形態は、第三実施形態と第四実施形態とを組み合わせて、さらに変形させた変形例である。
図２６～２７に示すように第五実施形態は、第三実施形態と第四実施形態とを組み合わせて、さらに変形させた変形例である。
【0110】
図２６に示す第五実施形態の光学センサ１０では、ベース面１４１，１４２が受光ユニット４１用及び投光ユニット２１用にそれぞれ設けられている。それと共に、接触面４５１，４５２が受光ホルダ４５０及び投光ホルダ２２０にそれぞれ設けられている。
【0111】
第五実施形態の光学センサ１０では、受光ホルダ４５０の第一接触面４５１と受光ユニット４１用の第一ベース面１４１との間となる三箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３には、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めするために、それぞれ個別の第一シム１５が介装されている。それと共に、投光ホルダ２２０の第一接触面４５１と投光ユニット２１用の第一ベース面１４１間となる三箇所Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３には、センサベース１４に対して投光ユニット２１をＹ軸まわり及びＺ軸まわりに位置決めするために、それぞれ個別の第一シム１５が介装されている。
【0112】
第五実施形態の光学センサ１０では、受光ホルダ４５０の第二接触面４５２と受光ユニット４１用の第二ベース面１４２との間となる二箇所Ｐ２１，Ｐ２２には、センサベース１４に対して受光ユニット４１をＸ軸まわりに位置決めするために、それぞれ個別の第二シム１６が介装されている。それと共に、投光ホルダ２２０の第二接触面４５２と投光ユニット２１用の第二ベース面１４２との間となる二箇所Ｐ２１，Ｐ２２には、センサベース１４に対して投光ユニット２１をＸ軸まわりに位置決めするために、それぞれ個別の第二シム１６が介装されている。
【0113】
第五実施形態では、受光ホルダ４５０における受光仮想軸Ｖｒは、同ホルダ４５０の第一接触面４５１及び第二接触面４５２の双方に沿って定義される。それと共に、投光ホルダ２２０における投光仮想軸Ｖｐは、同ホルダ２２０の第一接触面４５１及び第二接触面４５２の双方に沿って定義される。これらの定義下においても、投光仮想軸Ｖｐに対する投光光軸Ｏｐの三次元座標系での姿勢角偏差δｐと、受光仮想軸Ｖｒに対する受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒとは、第一実施形態に準ずる。
【0114】
第五実施形態による光学センサ１０の製品状態では、三次元座標系での受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θは、受光光軸Ｏｒが投光光軸Ｏｐに沿う角度として、実質０値（０度）に調整されている。このために受光光軸Ｏｒの調整姿勢角θは、三次元座標系における受光仮想軸Ｖｒの位置決め姿勢角ψを、受光仮想軸Ｖｒに対する受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒと実質合致させるように、選定されることになる。また一方、第五実施形態による光学センサ１０の製品状態では、三次元座標系での投光光軸Ｏｐの調整姿勢角θは、投光光軸Ｏｐが受光光軸Ｏｒに沿う角度として、実質０値（０度）に調整されている。このために投光光軸Ｏｐの調整姿勢角θは、三次元座標系における投光仮想軸Ｖｐの位置決め姿勢角ψを、投光仮想軸Ｖｐに対する投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐと実質合致させるように、選定されることになる。
【0115】
このような第五実施形態による光学センサ１０の製造方法においてＳ１０の準備工程は、図２７に示す準備サブルーチンに従って実行される。
【0116】
第五実施形態の準備サブルーチンのうち、受光シーケンスには第三実施形態によるＳ１６０に代えて、Ｓ５１６０の受光調整工程が実行される。具体的に受光調整工程には、受光シーケンスのＳ１５０で取得された受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒが、申し送りされる。そこで受光調整工程は、三次元座標系における受光仮想軸Ｖｒの位置決め姿勢角ψを、受光光軸Ｏｒの姿勢角偏差δｒと実質合致させるように、調整姿勢角θを実質０値（０度）選定する。さらに受光調整工程は、選定した調整姿勢角θを実現するように受光ユニット４１に関して、各第一シム１５の個別厚さＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３と各第二シム１６の個別厚さＴ２１，Ｔ２２とを決定する。
【0117】
第五実施形態の準備サブルーチンのうち、投光シーケンスには第四実施形態によるＳ４１６０に代えて、Ｓ５１７０の投光調整工程が実行される。具体的に投光調整工程には、投光シーケンスのＳ１２０で取得された投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐが、申し送りされる。そこで投光調整工程は、三次元座標系における投光仮想軸Ｖｐの位置決め姿勢角ψを、投光光軸Ｏｐの姿勢角偏差δｐと実質合致させるように、調整姿勢角θを実質０値（０度）選定する。さらに受光調整工程は、選定した調整姿勢角θを実現するように投光ユニット２１に関して、各第一シム１５の個別厚さＴ１１，Ｔ１２，Ｔ１３と各第二シム１６の個別厚さＴ２１，Ｔ２２とを決定する。
【0118】
以上の第五実施形態では、Ｓ１０の準備サブルーチンに続くＳ２０～Ｓ５０が、第一実施形態に準じて実行される。但し、受光ユニット４１に関してのＳ２０～Ｓ４０では、Ｓ５１６０による調整姿勢角θに応じた厚さの各第一シム１５と各第二シム１６とが、それぞれ第一ベース面１４１及び第一接触面４５１間と第二ベース面１４２及び第二接触面４５２間とに介装されて螺子留めされる。それと共に、投光ユニット２１に関してのＳ２０～Ｓ４０では、Ｓ５１７０による調整姿勢角θに応じた厚さの各第一シム１５と各第二シム１６とが、それぞれ第一ベース面１４１及び第一接触面４５１間と第二ベース面１４２及び第二接触面４５２間とに介装されて螺子留めされる。尚、Ｓ５０の実行は、こうした第五実施形態では省かれる。
【0119】
このような第五実施形態によれば、各位置決め姿勢角ψと姿勢角偏差δｐ又はδｒとの合致から、投光光軸Ｏｐと受光光軸Ｏｒとを幾何学的に互いに高精度に姿勢調整することができるので、各ユニット２１，４１間での光軸調整精度を担保することが可能となる。さらに、そうした角度合致以外の作用効果としては、第一実施形態の作用効果と、第一実施形態に準じて「投光」と「受光」とを入れ替えた作用効果も、発揮され得る。
【0120】
（他の実施形態）
以上、複数の実施形態について説明したが、本開示は、それらの実施形態に限定して解釈されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲内において種々の実施形態及び組み合わせに適用することができる。
以上、複数の実施形態について説明したが、本開示は、それらの実施形態に限定して解釈されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲内において種々の実施形態及び組み合わせに適用することができる。
【0121】
図２８～３１に示すように変形例において各第一シム１５は、それぞれ面接触する第一接触面４５１とは、反対側面における角部１５０を、第一ベース面１４１と接触させてもよい。ここで図２８，２９の変形例において各第一固定螺子１７は、それぞれの頭部における軸部側端面の角部１７０を、センサベース１４における第一シム１５とは反対側面に接触させるとよい。さらに図３０，３１の変形例において第二実施形態に準じて用いられる場合のスプリングワッシャ２０１７は、第一固定螺子１７の頭部とセンサベース１４との間に挟まれるとよい。
【0122】
図３２，３３に示すように変形例において各第二シム１６は、それぞれ面接触する第二ベース面１４２とは、反対側面における角部１６０を、第二接触面４５２と接触させてもよい。ここで図３２，３３の変形例において各第二固定螺子１８は、それぞれの頭部における軸部側端面の角部１８０を、受光ホルダ４５０における第二シム１６とは反対側面に接触させるとよい。さらに図３３の変形例において第二実施形態に準じて用いられる場合のスプリングワッシャ２０１８は、第二固定螺子１８の頭部と受光ユニット４１の受光ホルダ４５０との間に挟まれるとよい。
【0123】
第二実施形態は又は上述の各変形例に関するスプリングワッシャ２０１７，２０１８は、第三～第五実施形態に適用されてもよい。ここで、第四実施形態にスプリングワッシャ２０１７，２０１８を適用した例を図３４に示し、第五実施形態にスプリングワッシャ２０１７，２０１８を適用した例を図３５に示す。
【0124】
変形例においてＳ３０，Ｓ４０の実行順は、入れ替えられてもよい。変形例のＳ３０では、各第一シム１５同士において厚さの厚い第一シム１５から順に、螺子留めが実行されてもよい。変形例のＳ４０では、各第二シム１６同士において厚さの厚い第二シム１６から順に、螺子留めが実行されてもよい。
【0125】
変形例では、シム１５，１６に代えて、例えばスプリングスクリュー等の姿勢調整部材を用いて、ユニット２１及び／又は４１の姿勢が調整されていてもよい。この場合にも、第三～第五実施形態に準ずる姿勢調整は有効となる。
【0126】
変形例では、水平方向に沿うＹ軸方向と、鉛直方向に沿うＸ軸方向とが、規定されてもよい。変形例において光学センサ１０の適用対象となる移動体は、例えば走行をリモート制御可能な走行ロボット等であってもよい。変形例において光学センサ１０の適用対象は、移動体以外、例えば静止構造物等であってもよい。
【0127】
（付言）
本明細書には、以下に列挙する複数の技術的思想と、それらの複数の組み合わせが開示されている。
本明細書には、以下に列挙する複数の技術的思想と、それらの複数の組み合わせが開示されている。
【0128】
（技術的思想１）
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサ（１０）であって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
前記三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び前記三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
前記センサベースに固定され、前記三次元座標系における姿勢の調整された受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記反射ビームを受光する受光ユニット（４１）と、
前記センサベースに対して前記受光ユニットを前記Ｙ軸まわり及び前記Ｚ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
前記センサベースに対して前記受光ユニットを前記Ｘ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各前記第一シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記受光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、前記受光ユニットにおける第一接触面（４５１）と前記第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留めされ、
各前記第二シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記受光光軸の前記調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、前記受光ユニットにおいて前記第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と前記第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めされる光学センサ。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサ（１０）であって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
前記三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び前記三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
前記センサベースに固定され、前記三次元座標系における姿勢の調整された受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記反射ビームを受光する受光ユニット（４１）と、
前記センサベースに対して前記受光ユニットを前記Ｙ軸まわり及び前記Ｚ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
前記センサベースに対して前記受光ユニットを前記Ｘ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各前記第一シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記受光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、前記受光ユニットにおける第一接触面（４５１）と前記第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留めされ、
各前記第二シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記受光光軸の前記調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、前記受光ユニットにおいて前記第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と前記第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めされる光学センサ。
【0129】
（技術的思想２）
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記受光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部における角部（１７０，１８０）が前記受光ユニット又は前記センサベースと接触した状態下、当該個別対応の前記固定螺子により螺子留めされる技術的思想１に記載の光学センサ。
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記受光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部における角部（１７０，１８０）が前記受光ユニット又は前記センサベースと接触した状態下、当該個別対応の前記固定螺子により螺子留めされる技術的思想１に記載の光学センサ。
【0130】
（技術的思想３）
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記受光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部と、前記受光ユニット又は前記センサベースとの間にスプリングワッシャ（２０１７，２０１８）を挟んで、螺子留めされる技術的思想１に記載の光学センサ。
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記受光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部と、前記受光ユニット又は前記センサベースとの間にスプリングワッシャ（２０１７，２０１８）を挟んで、螺子留めされる技術的思想１に記載の光学センサ。
【0131】
（技術的思想４）
前記センサベースに固定され、前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って導光する投光ユニット（２１）を、備え、
前記受光光軸が前記投光光軸と沿う前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想１～３のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記センサベースに固定され、前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って導光する投光ユニット（２１）を、備え、
前記受光光軸が前記投光光軸と沿う前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想１～３のいずれか一項に記載の光学センサ。
【0132】
（技術的思想５）
前記投光ユニットには、前記Ｚ軸に沿う投光仮想軸（Ｖｐ）が想定されると共に、前記受光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う受光仮想軸（Ｖｒ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）との、相対誤差（δｐ＿ｒ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想４に記載の光学センサ。
前記投光ユニットには、前記Ｚ軸に沿う投光仮想軸（Ｖｐ）が想定されると共に、前記受光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う受光仮想軸（Ｖｒ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）との、相対誤差（δｐ＿ｒ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想４に記載の光学センサ。
【0133】
（技術的思想６）
前記受光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う受光仮想軸（Ｖｒ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想１～４のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記受光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う受光仮想軸（Ｖｒ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想１～４のいずれか一項に記載の光学センサ。
【0134】
（技術的思想７）
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサ（１０）であって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
前記三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び前記三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
前記センサベースに固定され、前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って導光する投光ユニット（２１）と、
前記センサベースに対して前記投光ユニットを前記Ｙ軸まわり及び前記Ｚ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
前記センサベースに対して前記投光ユニットを前記Ｘ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各前記第一シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記投光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、前記投光ユニットにおける第一接触面（４５１）と前記第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留めされ、
各前記第二シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記投光光軸の前記調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、前記投光ユニットにおいて前記第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と前記第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めされる光学センサ。
投光ビーム（Ｂｐ）を外界へ向けて投光し、前記投光ビームに対して前記外界から反射された反射ビーム（Ｂｒ）を受光することにより、前記外界を検出する光学センサ（１０）であって、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸により三次元座標系が定義され、
前記三次元座標系のＹＺ平面に沿う第一ベース面（１４１）、及び前記三次元座標系のＸＺ平面に沿う第二ベース面（１４２）を、形成するセンサベース（１４）と、
前記センサベースに固定され、前記投光ビームを投光光軸（Ｏｐ）に沿って導光する投光ユニット（２１）と、
前記センサベースに対して前記投光ユニットを前記Ｙ軸まわり及び前記Ｚ軸まわりに位置決めする三箇所（Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３）の第一シム（１５）と、
前記センサベースに対して前記投光ユニットを前記Ｘ軸まわりに位置決めする二箇所（Ｐ２１，Ｐ２２）の第二シム（１６）とを、備え、
各前記第一シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記投光光軸の調整姿勢角（θ）に応じた個別の厚さにより角部（１５０）を、前記投光ユニットにおける第一接触面（４５１）と前記第一ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留めされ、
各前記第二シムは、それぞれ前記三次元座標系における前記投光光軸の前記調整姿勢角に応じた個別の厚さにより角部（１６０）を、前記投光ユニットにおいて前記第一接触面とは直交位置関係の第二接触面（４５２）と前記第二ベース面とのうち一方に接触させた状態下、前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めされる光学センサ。
【0135】
（技術的思想８）
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記投光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部における角部（１７０，１８０）が前記投光ユニット又は前記センサベースと接触した状態下、当該個別対応の前記固定螺子により螺子留めされる技術的思想７に記載の光学センサ。
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記投光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部における角部（１７０，１８０）が前記投光ユニット又は前記センサベースと接触した状態下、当該個別対応の前記固定螺子により螺子留めされる技術的思想７に記載の光学センサ。
【0136】
（技術的思想９）
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記投光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部と、前記投光ユニット又は前記センサベースとの間にスプリングワッシャ（２０１７，２０１８）を挟んで、螺子留めされる技術的思想７に記載の光学センサ。
各前記第一シムと各前記第二シムとは、それぞれ個別に対応して前記投光ユニットを前記センサベースに固定する固定螺子（１７，１８）の頭部と、前記投光ユニット又は前記センサベースとの間にスプリングワッシャ（２０１７，２０１８）を挟んで、螺子留めされる技術的思想７に記載の光学センサ。
【0137】
（技術的思想１０）
前記センサベースに固定され、前記三次元座標系における姿勢の調整された受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記反射ビームを受光する受光ユニット（４１）を、備え、
前記投光光軸が前記受光光軸と沿う前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想７～９のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記センサベースに固定され、前記三次元座標系における姿勢の調整された受光光軸（Ｏｒ）に沿って前記反射ビームを受光する受光ユニット（４１）を、備え、
前記投光光軸が前記受光光軸と沿う前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想７～９のいずれか一項に記載の光学センサ。
【0138】
（技術的思想１１）
前記投光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う投光仮想軸（Ｖｐ）が想定されると共に、前記受光ユニットには、前記Ｚ軸に沿う受光仮想軸（Ｖｒ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）との、相対誤差（δｒ＿ｐ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想１０に記載の光学センサ。
前記投光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う投光仮想軸（Ｖｐ）が想定されると共に、前記受光ユニットには、前記Ｚ軸に沿う受光仮想軸（Ｖｒ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）との、相対誤差（δｒ＿ｐ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想１０に記載の光学センサ。
【0139】
（技術的思想１２）
前記投光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う投光仮想軸（Ｖｐ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想７～１０のいずれか一項に記載の光学センサ。
前記投光ユニットには、前記第一接触面及び前記第二接触面の双方に沿う投光仮想軸（Ｖｐ）が想定されるとすると、
前記三次元座標系において前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）に合致させる前記調整姿勢角に応じた厚さを、各前記第一シムと各前記第二シムとがそれぞれ有する技術的思想７～１０のいずれか一項に記載の光学センサ。
【0140】
（技術的思想１３）
技術的思想１～１２のいずれか一項に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記三次元座標系における前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装することと、
各前記第一シムを前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留め後、各前記第二シムを前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めすることとを、含む製造方法。
技術的思想１～１２のいずれか一項に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記三次元座標系における前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装することと、
各前記第一シムを前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留め後、各前記第二シムを前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めすることとを、含む製造方法。
【0141】
（技術的思想１４）
各前記第一シムを前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留めすることは、
各前記第一シム同士では、厚さの薄い前記第一シムから順に螺子留めすることを、含み、
各前記第二シムを前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めすることは、
各前記第二シム同士では、厚さの薄い前記第二シムから順に螺子留めすることを、含む技術的思想１３に記載の製造方法。
各前記第一シムを前記第一ベース面及び前記第一接触面間に螺子留めすることは、
各前記第一シム同士では、厚さの薄い前記第一シムから順に螺子留めすることを、含み、
各前記第二シムを前記第二ベース面及び前記第二接触面間に螺子留めすることは、
各前記第二シム同士では、厚さの薄い前記第二シムから順に螺子留めすることを、含む技術的思想１３に記載の製造方法。
【0142】
（技術的思想１５）
技術的思想５に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記投光ユニットを前記センサベースに固定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義し、前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光光軸との前記受光光軸との前記姿勢角偏差同士での相対誤差（δｐ＿ｒ）に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
技術的思想５に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記投光ユニットを前記センサベースに固定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義し、前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を、前記投光光軸との前記受光光軸との前記姿勢角偏差同士での相対誤差（δｐ＿ｒ）に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
【0143】
（技術的思想１６）
技術的思想６に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記受光光軸の前記姿勢角偏差に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
技術的思想６に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記受光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記受光光軸の前記姿勢角偏差に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
【0144】
（技術的思想１７）
技術的思想１１に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記受光ユニットを前記センサベースに固定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義し、前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記受光光軸と前記投光光軸との前記姿勢角偏差同士での相対誤差（δｒ＿ｐ）に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
技術的思想１１に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記受光仮想軸に対して前記受光光軸のなす受光合焦角（ωｒ）を、前記反射ビームの合焦状態において測定することと、
前記受光ユニットにおいて前記外界側からの前記反射ビームを受光検出モジュール（４５）により受光して前記外界を検出するために前記反射ビームを前記受光光軸に沿って前記受光検出モジュールへ導光する受光レンズモジュール（４２）を、受光接着材（４１０）を介して前記受光検出モジュールに接着することと、
前記受光接着材の硬化により前記受光検出モジュールと接着された前記受光レンズモジュールの前記受光光軸に、前記三次元座標系において生じた受光誤差角（ρｒ）を、測定することと、
前記受光ユニットを前記センサベースに固定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義し、前記受光合焦角と前記受光誤差角との総和を前記受光仮想軸に対する前記受光光軸の姿勢角偏差（δｒ）と定義すると、前記三次元座標系における前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記受光光軸と前記投光光軸との前記姿勢角偏差同士での相対誤差（δｒ＿ｐ）に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
【0145】
（技術的思想１８）
技術的思想１２に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義すると、前記三次元座標系における前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記投光光軸の前記姿勢角偏差に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
技術的思想１２に記載の光学センサ（１０）を製造する製造方法であって、
前記投光仮想軸に対して前記投光光軸のなす投光合焦角（ωｐ）を、前記投光ビームの合焦状態において測定することと、
前記投光ユニットにおいて投光光源モジュール（２２）から投光された前記投光ビームを前記投光光軸に沿って前記外界側へ導光する投光レンズモジュール（２６）を、投光接着材（２１０）を介して前記投光光源モジュールに接着することと、
前記投光接着材の硬化により前記投光光源モジュールと接着された前記投光レンズモジュールの前記投光光軸に、前記三次元座標系において生じた投光誤差角（ρｐ）を、測定することと、
前記投光合焦角と前記投光誤差角との総和を前記投光仮想軸に対する前記投光光軸の姿勢角偏差（δｐ）と定義すると、前記三次元座標系における前記投光仮想軸の位置決め姿勢角（ψ）を前記投光光軸の前記姿勢角偏差に合致させる、前記調整姿勢角に応じた厚さの各前記第一シムと各前記第二シムとを、それぞれ前記第一ベース面及び前記第一接触面間と前記第二ベース面及び前記第二接触面間とに介装して螺子留めすることとを、含む製造方法。
【符号の説明】
【0146】
１０：光学センサ、１４：センサベース、１５：第一シム、１６：第二シム、１７ 第一固定螺子、１８：第二固定螺子、２１：投光ユニット、２２：投光光源モジュール、２６：投光レンズモジュール、４１：受光ユニット、４２：受光レンズモジュール、４５：受光検出モジュール、１４１：第一ベース面、１４２：第二ベース面、１５０，１６０，１７０，１８０：角部、２１０：投光接着材、４１０：受光接着材、４５１：第一接触面、４５２：第二接触面、２０１７，２０１８：スプリングワッシャ、Ｂｐ：投光ビーム、Ｂｒ：反射ビーム、Ｏｐ：投光光軸、Ｏｒ：受光光軸、Ｖｒ：受光仮想軸、Ｖｐ：投光仮想軸、δｐ，δｒ：姿勢角偏差、δｐ＿ｒ，δｒ＿ｐ：相対誤差、θ：調整姿勢角、ρｐ：投光誤差角、ρｒ：受光誤差角、ψ：位置決め姿勢角、ωｐ：投光合焦角、ωｒ：受光合焦角
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】