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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024120006
(43)【公開日】2024-09-03
(54)【発明の名称】表面層、光学部材、及び眼鏡
(51)【国際特許分類】
G02B 1/18 20150101AFI20240827BHJP
G02B 1/11 20150101ALI20240827BHJP
G02C 7/00 20060101ALI20240827BHJP
G02B 1/14 20150101ALN20240827BHJP
【ＦＩ】
G02B1/18
G02B1/11
G02C7/00
G02B1/14
【審査請求】未請求
【請求項の数】3
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024098225
(22)【出願日】2024-06-18
(62)【分割の表示】P 2023549930の分割
【原出願日】2023-01-31
(31)【優先権主張番号】P 2022117421
(32)【優先日】2022-07-22
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】591111112
【氏名又は名称】キヤノンオプトロン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002860
【氏名又は名称】弁理士法人秀和特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】沼澤 廣斗
(72)【発明者】
【氏名】河目 直之
(57)【要約】
【課題】加工時の固定の安定性と、防汚特性とを両立した表面層、該表面層を有する光学部材および眼鏡を提供する。
【解決手段】少なくとも成分Ａと成分Ｂとを含む表面層であって、該成分Ａはシロキサン結合を含有するシロキサン部位を有し、該成分Ｂは、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有し、かつ下記一般式（３）で示される構造を有するアルキル化合物であり、該Ｙで示される部位は、所定の部位を含み、該表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比が、０．０４～３．００である表面層、並びに表面層形成用材料。
Ｒ３－Ｙ－Ｒ４ （３）
【選択図】図１
【解決手段】少なくとも成分Ａと成分Ｂとを含む表面層であって、該成分Ａはシロキサン結合を含有するシロキサン部位を有し、該成分Ｂは、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有し、かつ下記一般式（３）で示される構造を有するアルキル化合物であり、該Ｙで示される部位は、所定の部位を含み、該表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比が、０．０４～３．００である表面層、並びに表面層形成用材料。
Ｒ３－Ｙ－Ｒ４ （３）
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
表面層であって、
接触子として２ｍｍ２にカットしたゴムパッド（３Ｍ社製レンズブロッキングパッド）を使用し、
前記ゴムパッドを前記表面層に接触させて摩擦力の測定を行った場合に、
前記表面層にかかる荷重が１４ｋｇｆ、摩擦速度が２．５ｍｍ／秒で測定した摩擦力をＸとし、
前記表面層にかかる荷重が７０ｋｇｆ、摩擦速度が２．５ｍｍ／秒で測定した摩擦力をＹとしたとき、
前記Ｘが、１２２ｇｆ～３２８ｇｆであり、
前記Ｘおよび前記Ｙによって式（Ｙ－Ｘ）×１００／Ｘで表わされる摩擦力の変化割合が、５０％～２００％であることを特徴とする、表面層。
接触子として２ｍｍ２にカットしたゴムパッド（３Ｍ社製レンズブロッキングパッド）を使用し、
前記ゴムパッドを前記表面層に接触させて摩擦力の測定を行った場合に、
前記表面層にかかる荷重が１４ｋｇｆ、摩擦速度が２．５ｍｍ／秒で測定した摩擦力をＸとし、
前記表面層にかかる荷重が７０ｋｇｆ、摩擦速度が２．５ｍｍ／秒で測定した摩擦力をＹとしたとき、
前記Ｘが、１２２ｇｆ～３２８ｇｆであり、
前記Ｘおよび前記Ｙによって式（Ｙ－Ｘ）×１００／Ｘで表わされる摩擦力の変化割合が、５０％～２００％であることを特徴とする、表面層。
【請求項2】
請求項１に記載の表面層を有する、光学部材。
【請求項3】
請求項２に記載の光学部材を有する、眼鏡。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、加工性および防汚性に優れた表面層、該表面層を有する光学部材および該光学部材を有する眼鏡に関する。
また、本開示は、加工性および防汚性に優れた表面層を形成する表面層形成用材料、該表面層形成用材料を用いて形成された表面層、該表面層を有する光学部材および該光学部材を有する眼鏡に関する。
また、本開示は、加工性および防汚性に優れた表面層を形成する表面層形成用材料、該表面層形成用材料を用いて形成された表面層、該表面層を有する光学部材および該光学部材を有する眼鏡に関する。
【背景技術】
【0002】
反射防止膜、光学フィルター、光学レンズ、眼鏡レンズなどの光学部材は、一般的に光の反射を抑制するために無機材料により反射防止膜が形成されている。無機材料により形成された反射防止膜は表面自由エネルギーが高い。表面自由エネルギーが高いことに起因して、人が使用することにより、指紋、皮脂、汗、化粧品などの汚れが付着する場合が多い。また、付着した汚れは、除去しにくいという問題がある。汚れの付着と除去の問題を解決する手段として、特許文献１及び２では汚れが付着しにくく、付着しても除去しやすい性能を光学部材の表面に付与する技術が提案されている。
【0003】
しかし、汚れが付着しにくく、付着しても除去しやすい性能（以下、このような性能を「防汚性」、「防汚特性」ともいう）を付与された表面を有する光学部材は、摩擦力が小さく表面が滑りやすいため、光学部材の形状を加工する場合に、安定的に固定することが難しく、加工しにくいという課題があった。
【0004】
上記の課題に対して、特許文献３では、撥油性コート膜の上に、有機化合物からなる樹脂、無機酸化物微粒子、及び、所定の一般式で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物を有効成分として含有するコーティング液によって形成されてなる保護膜を形成し、有機化合物からなる樹脂と無機酸化物微粒子の組成比および所定の一般式で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物の含有量を所定の範囲内とすることで、撥油性コート膜が設けられていても従来の眼鏡用レンズと同様の保持方法により玉摺り加工を可能とする眼鏡用レンズが開示されている。
また、特許文献４では、表面に、少なくとも１種以上が含フッ素シラン化合物である、２種以上のシラン化合物により防汚層を形成する眼鏡レンズにおいて、２種以上のシラン化合物のそれぞれを単独成分として形成されるレンズ表面の動摩擦係数が、最も高い動摩擦係数値が、最も低い動摩擦係数値の１．４倍以上とすることで、防汚層の優れた防汚効果を低下させることなく、玉型加工できる程度にレンズ表面の滑性を低下させることができる眼鏡レンズが開示されている。
また、特許文献４では、表面に、少なくとも１種以上が含フッ素シラン化合物である、２種以上のシラン化合物により防汚層を形成する眼鏡レンズにおいて、２種以上のシラン化合物のそれぞれを単独成分として形成されるレンズ表面の動摩擦係数が、最も高い動摩擦係数値が、最も低い動摩擦係数値の１．４倍以上とすることで、防汚層の優れた防汚効果を低下させることなく、玉型加工できる程度にレンズ表面の滑性を低下させることができる眼鏡レンズが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０００－１４４０９７号公報
【特許文献2】特開２００３－２３８５７７号公報
【特許文献3】特開２０１３－０５０６５２号公報
【特許文献4】特開２００５－００３８１７号公報
【非特許文献】
【0006】
【非特許文献1】技術大全シリーズ シリコーン大全 １０－１１ページ
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、特許文献３及び４に記載された解決手段では、まだ加工時の固定という面で十分とは言えず、より加工の安定性と防汚特性とを両立した防汚性表面が望まれている。
【0008】
本開示は、加工時の固定の安定性と、防汚特性とを両立した表面層、該表面層を有する光学部材および眼鏡を提供するものである。また、本開示は、加工時の固定の安定性と、防汚特性とを両立した表面層を形成する表面層形成用材料を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本開示の表面層は、少なくとも成分Ａと成分Ｂとを含む表面層であって、
該成分Ａはシロキサン結合を含有するシロキサン部位を有し、
該成分Ｂは、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有し、かつ下記一般式（３）
Ｒ３－Ｙ－Ｒ４ （３）
で示される構造を有するアルキル化合物であり、
該Ｙで示される部位は、［ＣｉＨ２ｉ－２］ｊ１、［ＣｉＨ２ｉ］ｊ２、［Ｃ６Ｈ４］ｊ３、［Ｃｉ＋１Ｈ２ｉ－１Ｃｌ］ｊ４、［ＣｉＨｉＣｌ］ｊ５、［Ｃ５Ｈ４Ｏ３］ｊ６、［Ｃ３Ｈ６Ｎ］ｊ７及び［Ｃ４Ｈ６Ｏ２Ｎ］ｊ８からなる群から選択される少なくとも一の結合を含む部位を一以上含み、
該ｉ、ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、３２≦ｉ×（ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４＋ｊ５＋ｊ６＋ｊ７＋ｊ８）≦７５０を満たし、
該ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、それぞれ独立して０以上の整数であり、
該ｉは、該部位ごとにそれぞれ独立して１以上の整数であり、
該Ｒ３及び該Ｒ４は、それぞれ独立に、加水分解性基、シラノール基、ヒドロキシ基、反応性有機基、加水分解性基含有シリル基を含む有機基、アルキルシリル基又は水素原子であり、
該表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比が、０．０４～３．００であることを特徴とする表面層
である。
また、本開示の光学部材は、上記の表面層を有する光学部材である。
さらに、本開示の眼鏡は、上記の光学部材を有する眼鏡である。
該成分Ａはシロキサン結合を含有するシロキサン部位を有し、
該成分Ｂは、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有し、かつ下記一般式（３）
Ｒ３－Ｙ－Ｒ４ （３）
で示される構造を有するアルキル化合物であり、
該Ｙで示される部位は、［ＣｉＨ２ｉ－２］ｊ１、［ＣｉＨ２ｉ］ｊ２、［Ｃ６Ｈ４］ｊ３、［Ｃｉ＋１Ｈ２ｉ－１Ｃｌ］ｊ４、［ＣｉＨｉＣｌ］ｊ５、［Ｃ５Ｈ４Ｏ３］ｊ６、［Ｃ３Ｈ６Ｎ］ｊ７及び［Ｃ４Ｈ６Ｏ２Ｎ］ｊ８からなる群から選択される少なくとも一の結合を含む部位を一以上含み、
該ｉ、ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、３２≦ｉ×（ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４＋ｊ５＋ｊ６＋ｊ７＋ｊ８）≦７５０を満たし、
該ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、それぞれ独立して０以上の整数であり、
該ｉは、該部位ごとにそれぞれ独立して１以上の整数であり、
該Ｒ３及び該Ｒ４は、それぞれ独立に、加水分解性基、シラノール基、ヒドロキシ基、反応性有機基、加水分解性基含有シリル基を含む有機基、アルキルシリル基又は水素原子であり、
該表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比が、０．０４～３．００であることを特徴とする表面層
である。
また、本開示の光学部材は、上記の表面層を有する光学部材である。
さらに、本開示の眼鏡は、上記の光学部材を有する眼鏡である。
【0010】
さらにまた、本開示の表面層形成用材料は、少なくとも成分Ａと成分Ｂとを含む表面層形成用材料であって、
該成分Ａは少なくともシロキサン結合を含有するシロキサン部位を有し、
該成分Ｂは、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有し、かつ下記一般式（３）
Ｒ３－Ｙ－Ｒ４ （３）
で示される構造を有するアルキル化合物であり、
該Ｙで示される部位は、［ＣｉＨ２ｉ－２］ｊ１、［ＣｉＨ２ｉ］ｊ２、［Ｃ６Ｈ４］ｊ３、［Ｃｉ＋１Ｈ２ｉ－１Ｃｌ］ｊ４、［ＣｉＨｉＣｌ］ｊ５、［Ｃ５Ｈ４Ｏ３］ｊ６、［Ｃ３Ｈ６Ｎ］ｊ７及び［Ｃ４Ｈ６Ｏ２Ｎ］ｊ８からなる群から選択される少なくとも一の結合を含む部位を一以上含み、
該ｉ、ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、３２≦ｉ×（ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４＋ｊ５＋ｊ６＋ｊ７＋ｊ８）≦７５０を満たし、
該ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、それぞれ独立して０以上の整数であり、
該ｉは、該部位ごとにそれぞれ独立して１以上の整数であり、
該Ｒ３及び該Ｒ４は、それぞれ独立に、加水分解性基、シラノール基、ヒドロキシ基、反応性有機基、加水分解性基含有シリル基を含む有機基、アルキルシリル基又は水素原子であり、
該表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比が、０．０４～３．００であることを特徴とする、表面層形成用材料である。
該成分Ａは少なくともシロキサン結合を含有するシロキサン部位を有し、
該成分Ｂは、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有し、かつ下記一般式（３）
Ｒ３－Ｙ－Ｒ４ （３）
で示される構造を有するアルキル化合物であり、
該Ｙで示される部位は、［ＣｉＨ２ｉ－２］ｊ１、［ＣｉＨ２ｉ］ｊ２、［Ｃ６Ｈ４］ｊ３、［Ｃｉ＋１Ｈ２ｉ－１Ｃｌ］ｊ４、［ＣｉＨｉＣｌ］ｊ５、［Ｃ５Ｈ４Ｏ３］ｊ６、［Ｃ３Ｈ６Ｎ］ｊ７及び［Ｃ４Ｈ６Ｏ２Ｎ］ｊ８からなる群から選択される少なくとも一の結合を含む部位を一以上含み、
該ｉ、ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、３２≦ｉ×（ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４＋ｊ５＋ｊ６＋ｊ７＋ｊ８）≦７５０を満たし、
該ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、それぞれ独立して０以上の整数であり、
該ｉは、該部位ごとにそれぞれ独立して１以上の整数であり、
該Ｒ３及び該Ｒ４は、それぞれ独立に、加水分解性基、シラノール基、ヒドロキシ基、反応性有機基、加水分解性基含有シリル基を含む有機基、アルキルシリル基又は水素原子であり、
該表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比が、０．０４～３．００であることを特徴とする、表面層形成用材料である。
【発明の効果】
【0011】
本開示によれば、加工時の固定の安定性と、防汚特性とを両立した表面層、該表面層を有する光学部材および眼鏡を提供することができる。また、本開示は、加工時の固定の安定性と、防汚特性とを両立した表面層を形成する表面層形成用材料を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】表面層の第１の実施形態における構成を示す概略図
【図2】表面層の第２の実施形態における構成を示す概略図
【図3】光学部材の第１の実施形態における構成を示す概略図
【図4】光学部材の第２の実施形態における構成を示す概略図
【図5】光学部材を使用した眼鏡の一実施形態における構成を示す概略図
【発明を実施するための形態】
【0013】
以下、好適な実施の形態を挙げて、本開示にかかる表面層、該表面層を有する光学部材、該光学部材を有する眼鏡、及び本開示にかかる表面層形成用材料の実施形態を説明する。また、本開示は下記実施形態に限定されるわけではない。
また、本開示において、数値範囲を表す「ＸＸ以上ＹＹ以下」や「ＸＸ～ＹＹ」の記載は、特に断りのない限り、端点である下限及び上限を含む数値範囲を意味する。さらに、数値範囲が段階的に記載されている場合、各数値範囲の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。
また、本開示において、数値範囲を表す「ＸＸ以上ＹＹ以下」や「ＸＸ～ＹＹ」の記載は、特に断りのない限り、端点である下限及び上限を含む数値範囲を意味する。さらに、数値範囲が段階的に記載されている場合、各数値範囲の上限及び下限は任意に組み合わせることができる。
【0014】
本開示によれば、母材または光学部材の表面層に高荷重がかかった際の摩擦力を高く保つことで滑り性を抑制し、母材または光学部材の加工時に、母材又は光学部材を安定して固定することができる。また、使用者が日常で母材または光学部材を使用する際に母材または光学部の表面層にかかる荷重の範囲では摩擦力が低くなり、かつ防汚特性を発現することができる。これらの結果、加工性と防汚特性を両立した表面層、該表面層を有する光学部材、該光学部材を有する眼鏡を提供することができる。また、上記特性を表面層に付与する表面層形成用材料を提供することができる。
【0015】
本開示に係る表面層、及び該表面層を有する光学部材が加工時の安定性と防汚特性とを両立しているメカニズムについて、発明者らは以下のように考察している。
表面層に含まれる成分Ａとして、シロキサン結合を含有するシロキサン部位を有する化合物を選択する。また、成分Ｂとして、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有する化合物を選択する。
表面層に含まれる成分Ａとして、シロキサン結合を含有するシロキサン部位を有する化合物を選択する。また、成分Ｂとして、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有する化合物を選択する。
【0016】
シロキサン結合を含有するシロキサン部位を有している成分Ａは、防汚特性が発現するが、荷重がかかった際の摩擦力が低い傾向にある。この原因として発明者は以下のように考えている。非特許文献１によると、シロキサン結合はケイ素原子と酸素原子からなる結合で、化学式では下記式（１）のように表される。
Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ ・・・（１）
上記式（１）中のケイ素－酸素結合の回転エネルギーは０．８ｋＪ／ｍоｌ以下と小さ
いことから、ケイ素－酸素結合は動きやすいという特徴を有している。この特徴から、シロキサン結合を有するシロキサン部位を持つ表面は、荷重をかけて固定しようとするとシロキサン結合を有するシロキサン部位が変形し、力を逃がすことができるため、摩擦力が低くなると考えられる。
Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ ・・・（１）
上記式（１）中のケイ素－酸素結合の回転エネルギーは０．８ｋＪ／ｍоｌ以下と小さ
いことから、ケイ素－酸素結合は動きやすいという特徴を有している。この特徴から、シロキサン結合を有するシロキサン部位を持つ表面は、荷重をかけて固定しようとするとシロキサン結合を有するシロキサン部位が変形し、力を逃がすことができるため、摩擦力が低くなると考えられる。
【0017】
一方、成分Ｂは、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有していることから、成分Ａに比べて荷重がかかっても変形しにくく、摩擦力が高い傾向にある。
そのため、少なくとも成分Ａと成分Ｂとを含む表面層が物体と接触する際に、高荷重がかかったときには成分Ａは変形するが成分Ｂは変形しにくい。その結果、表面層と接触する物体に対して成分Ｂが接触する割合が高くなることで、高い摩擦力が得られる。さらに成分Ｂが不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有していると、荷重がかかった際に、より変形しにくく、摩擦力が高くなるため好ましい。
そのうえで、表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比を所定の範囲内に調整することで、低荷重で表面層と物体が接触する際に高い防汚特性が得られる。
そのため、少なくとも成分Ａと成分Ｂとを含む表面層が物体と接触する際に、高荷重がかかったときには成分Ａは変形するが成分Ｂは変形しにくい。その結果、表面層と接触する物体に対して成分Ｂが接触する割合が高くなることで、高い摩擦力が得られる。さらに成分Ｂが不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有していると、荷重がかかった際に、より変形しにくく、摩擦力が高くなるため好ましい。
そのうえで、表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比を所定の範囲内に調整することで、低荷重で表面層と物体が接触する際に高い防汚特性が得られる。
【0018】
「表面層」とは、母材に接し、固体、液体又は気体と接触する界面のことを指す。すなわち、本明細書において「表面層」とは母材の表面であり、本明細書は該表面を有する母材をも開示するものである。
母材としては固形物であり、かつ後述する下地層１２、表面層１３、中間層１４又はハードコート層１５を形成可能なものであればどのような材質でも適用できるが、ガラス、セラミック、樹脂又は金属もしくはガラスや樹脂等から作られたフィルムであることが好ましい。
母材としては固形物であり、かつ後述する下地層１２、表面層１３、中間層１４又はハードコート層１５を形成可能なものであればどのような材質でも適用できるが、ガラス、セラミック、樹脂又は金属もしくはガラスや樹脂等から作られたフィルムであることが好ましい。
【0019】
光学部材は、上記表面層を有する母材を備える光学部材である。該光学部材としては、光学フィルター、光学レンズ、眼鏡レンズ、写真用レンズ、ディスプレイ用カバーガラス、ディスプレイ用タッチパネル及び各種フィルムなどが挙げられる。
【0020】
眼鏡は、上記光学部材を有する眼鏡である。該眼鏡としては目の周辺に装着する器具全般が包含されるものであり、通常の視力矯正用眼鏡に限定されず、伊達眼鏡、保護ゴーグル、ヘッドマウントディスプレイ、サングラス及びスマートグラスなどを含む。
【0021】
本開示に係る成分Ａを説明する。
成分Ａは、シロキサン結合を含有するシロキサン部位を有する。該シロキサン結合を含有するシロキサン部位は、ジメチルシロキサン部位、ジフェニルシロキサン部位、メチルフェニルシロキサン部位、メチルハイドロジェンシロキサン部位及びフェニルハイドロジェンシロキサン部位からなる群から選択される少なくとも一の部位であることが好ましく、ジメチルシロキサン部位、ジフェニルシロキサン部位及びメチルフェニルシロキサン部位からなる群から選択される少なくとも一の部位であることがより好ましい。
成分Ａは、シロキサン結合を含有するシロキサン部位を有する。該シロキサン結合を含有するシロキサン部位は、ジメチルシロキサン部位、ジフェニルシロキサン部位、メチルフェニルシロキサン部位、メチルハイドロジェンシロキサン部位及びフェニルハイドロジェンシロキサン部位からなる群から選択される少なくとも一の部位であることが好ましく、ジメチルシロキサン部位、ジフェニルシロキサン部位及びメチルフェニルシロキサン部位からなる群から選択される少なくとも一の部位であることがより好ましい。
【0022】
成分Ａは、具体的には例えば、下記一般式（２）
Ｒ１－Ｘ－Ｒ２ （２）
で示される構造を有する化合物であり、好ましくはジメチルシロキサン化合物、ジフェニルシロキサン化合物、メチルフェニルシロキサン化合物、メチルハイドロジェンシロキサン化合物及びフェニルハイドロジェンシロキサン化合物からなる群から選択される少なくとも一であり、より好ましくはジメチルシロキサン化合物、ジフェニルシロキサン化合物及びメチルフェニルシロキサン化合物からなる群から選択される少なくとも一である。
Ｒ１－Ｘ－Ｒ２ （２）
で示される構造を有する化合物であり、好ましくはジメチルシロキサン化合物、ジフェニルシロキサン化合物、メチルフェニルシロキサン化合物、メチルハイドロジェンシロキサン化合物及びフェニルハイドロジェンシロキサン化合物からなる群から選択される少なくとも一であり、より好ましくはジメチルシロキサン化合物、ジフェニルシロキサン化合物及びメチルフェニルシロキサン化合物からなる群から選択される少なくとも一である。
【0023】
式（２）中のＸで示される部位は、下記表１に示す部位から選択される少なくとも一の部位の任意の組み合わせからなることが好ましい態様である。
【0024】
【表1】
表中、ＳｉＣ２Ｈ６は、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－を示し、ＳｉＣ７Ｈ８は、－Ｓｉ（ＣＨ３）Ｐｈ－を示し、ＳｉＣ６Ｈ６は、－ＳｉＨＰｈ－を示し、ＳｉＣ１２Ｈ１０は、－Ｓｉ（Ｐｈ）２－を示し、ＳｉＣＨ４は、－Ｓｉ（ＣＨ３）Ｈ－を示す。Ｐｈはフェニル基を示す。
【0025】
表１中のｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、及びｍ５は、２≦ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５≦１５０を満たすことが好ましい。ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５のより好ましい範囲としては、５≦ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５≦１２０、更に好ましい範囲としては、１０≦ｍ１＋ｍ２＋ｍ３＋ｍ４＋ｍ５≦５０である。
【0026】
表１中のｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、及びｍ５はそれぞれ独立して０以上の整数である。すなわち、表１中のｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、及びｍ５は、部位ごとにそれぞれ異なる値としてもよい。
ここで、ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、及びｍ５が０であるとは、表１に記載のそれぞれの部位が式（２）中のＸで示される部位に含まれないことを示す。また、表１中のＯは、シロキサン結合を構成する酸素を示す。
ここで、ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、及びｍ５が０であるとは、表１に記載のそれぞれの部位が式（２）中のＸで示される部位に含まれないことを示す。また、表１中のＯは、シロキサン結合を構成する酸素を示す。
【0027】
また、Ｘで示される部位は、側鎖の一部がアミノ基、エポキシ基、チオール基、カルボキシ基、ポリエーテル基、長鎖アルキル基やフロロアルキル基などの有機基に置換されていてもよい。
【0028】
一般式（２）中のＲ１及びＲ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、シラノール基、ヒドロキシ基、反応性有機基、加水分解性基含有シリル基を含む有機基、アルキルシリル基又は水素原子であることが好ましい。加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１～１０のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の炭素数２～１０のアルコキシアルコキシ基、アセトキシ基等の炭素数１～１０のアシロキシ基、イソプロペノキシ基等の炭素数２～１０のアルケニルオキシ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基などのハロゲン基やアミノ基などが挙げられる。中でも、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基、クロロ基が好適である。反応性有機基としては、メタクリル基やカルボキシ基、エポキシ基、チオール基などが挙げられる。中でも、メタクリル基やカルボキシ基が好適である。
加水分解性基含有シリル基を含む有機基は、例えば加水分解性基がケイ素原子に直接又は間接的に結合している有機基である。加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１～１０のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の炭素数２～１０のアルコキシアルコキシ基、アセトキシ基等の炭素数１～１０のアシロキシ基、イソプロペノキシ基等の炭素数２～１０のアルケニルオキシ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基などのハロゲン基やアミノ基などが挙げられる。加水分解性基含有シリル基を含む有機基における加水分解性基の数は、好ましくは１個～３個、より好ましくは２個～３個、さらに好ましくは３個である。加水分解性基含有シリル
基を含む有機基は、後述のアルキルシリル基を有していてもよい。すなわち、加水分解性基含有シリル基を含む有機基としては、トリメトキシシリル基、ジメトキシメチルシリル基、エチルジメトキシシリル基、メトキシジメチルシリル基、ジエチルメトキシシリル基、エチルメトキシメチルシリル基、トリエトキシシリル基、ジエトキシエチルシリル基、ジエトキシメチルシリル基、エトキシジエチルシリル基、エトキシエチルメチルシリル基などが挙げられる。
アルキルシリル基としては、炭素数１～１０のアルキルシリル基が挙げられ、アルキルシリル基の炭素数は１～５であることが好ましく、１～３であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。アルキル基の数は、好ましくは１個～３個、より好ましくは２個～３個、さらに好ましくは３個である。すなわち、アルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、エチルジメチルシリル基、ジエチルメチルシリル基などが挙げられる。
加水分解性基含有シリル基を含む有機基は、例えば加水分解性基がケイ素原子に直接又は間接的に結合している有機基である。加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１～１０のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の炭素数２～１０のアルコキシアルコキシ基、アセトキシ基等の炭素数１～１０のアシロキシ基、イソプロペノキシ基等の炭素数２～１０のアルケニルオキシ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基などのハロゲン基やアミノ基などが挙げられる。加水分解性基含有シリル基を含む有機基における加水分解性基の数は、好ましくは１個～３個、より好ましくは２個～３個、さらに好ましくは３個である。加水分解性基含有シリル
基を含む有機基は、後述のアルキルシリル基を有していてもよい。すなわち、加水分解性基含有シリル基を含む有機基としては、トリメトキシシリル基、ジメトキシメチルシリル基、エチルジメトキシシリル基、メトキシジメチルシリル基、ジエチルメトキシシリル基、エチルメトキシメチルシリル基、トリエトキシシリル基、ジエトキシエチルシリル基、ジエトキシメチルシリル基、エトキシジエチルシリル基、エトキシエチルメチルシリル基などが挙げられる。
アルキルシリル基としては、炭素数１～１０のアルキルシリル基が挙げられ、アルキルシリル基の炭素数は１～５であることが好ましく、１～３であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。アルキル基の数は、好ましくは１個～３個、より好ましくは２個～３個、さらに好ましくは３個である。すなわち、アルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、エチルジメチルシリル基、ジエチルメチルシリル基などが挙げられる。
【0029】
成分Ａの具体例としては、表２－１及び表２－２に示す化合物を挙げることができるが、これらの化合物に限定されない。
また、成分Ａとしては、シロキサン結合を有するシロキサン部位を有する化合物を１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
表２－１及び表２－２中、ＳｉＣ２Ｈ６は、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－を示し、ＳｉＣ７Ｈ８は、－Ｓｉ（ＣＨ３）Ｐｈ－を示し、ＳｉＣ６Ｈ６は、－ＳｉＨＰｈ－を示し、ＳｉＣ１２Ｈ１０は、－Ｓｉ（Ｐｈ）２－を示し、ＳｉＣＨ４は、－Ｓｉ（ＣＨ３）Ｈ－を示し、Ｃ４Ｈ５Ｏ２はメタクリル基を示す。Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、Ｐｈはフェニル基を示す。
また、成分Ａとしては、シロキサン結合を有するシロキサン部位を有する化合物を１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【表2-1】
【表2-2】
表２－１及び表２－２中、ＳｉＣ２Ｈ６は、－Ｓｉ（ＣＨ３）２－を示し、ＳｉＣ７Ｈ８は、－Ｓｉ（ＣＨ３）Ｐｈ－を示し、ＳｉＣ６Ｈ６は、－ＳｉＨＰｈ－を示し、ＳｉＣ１２Ｈ１０は、－Ｓｉ（Ｐｈ）２－を示し、ＳｉＣＨ４は、－Ｓｉ（ＣＨ３）Ｈ－を示し、Ｃ４Ｈ５Ｏ２はメタクリル基を示す。Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、Ｐｈはフェニル基を示す。
【0030】
本開示に係る成分Ｂを説明する。
成分Ｂは、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有する。
好ましくは、成分Ｂは不飽和炭化水素結合を有する有機部位を有し、該不飽和炭化水素結合が、１，２－ポリブタジエン、１，４－ポリブタジエン、１，２－ポリイソプレン、１，４－ポリイソプレン、１，２－ポリクロロプレン及び１，４－ポリクロロプレンからなる群から選択される少なくとも一の化合物に由来する。より好ましくは、該不飽和炭化水素結合は、１，２－ポリブタジエン及び１，２－ポリイソプレンからなる群から選択される少なくとも一の化合物に由来する。
ここで、不飽和炭化水素結合が、上記少なくとも一の化合物に由来するとは、有機部位が有する不飽和炭化水素結合が、上記少なくとも一の化合物に含まれる不飽和炭化水素結合に対応していることを示す。
また、成分Ｂが、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を側鎖に有するポリオレフィンを有することも好ましい態様である。
成分Ｂは、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有する。
好ましくは、成分Ｂは不飽和炭化水素結合を有する有機部位を有し、該不飽和炭化水素結合が、１，２－ポリブタジエン、１，４－ポリブタジエン、１，２－ポリイソプレン、１，４－ポリイソプレン、１，２－ポリクロロプレン及び１，４－ポリクロロプレンからなる群から選択される少なくとも一の化合物に由来する。より好ましくは、該不飽和炭化水素結合は、１，２－ポリブタジエン及び１，２－ポリイソプレンからなる群から選択される少なくとも一の化合物に由来する。
ここで、不飽和炭化水素結合が、上記少なくとも一の化合物に由来するとは、有機部位が有する不飽和炭化水素結合が、上記少なくとも一の化合物に含まれる不飽和炭化水素結合に対応していることを示す。
また、成分Ｂが、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を側鎖に有するポリオレフィンを有することも好ましい態様である。
【0031】
具体的には、成分Ｂは、例えば、下記一般式（３）
Ｒ３―Ｙ―Ｒ４ （３）
で示される構造を有するアルキル化合物である。
ここで、「飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位」とは、成分Ｂが上記一般式（３）で示される構造を有す化合物である場合には、上記一般式（３）中、Ｙで示される部位である。
Ｒ３―Ｙ―Ｒ４ （３）
で示される構造を有するアルキル化合物である。
ここで、「飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位」とは、成分Ｂが上記一般式（３）で示される構造を有す化合物である場合には、上記一般式（３）中、Ｙで示される部位である。
【0032】
上記一般式（３）中のＹで示される部位は、表３に示す、飽和炭化水素結合、不飽和炭
化水素結合、炭素－酸素の２重結合及び炭素－窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を含む部位を一以上含む。また、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素－酸素の２重結合、及び炭素－窒素の２重結合としては、いずれか１種の結合のみを一又は二以上有してもよいし、２種以上の結合を組み合わせて有してもよい。
表中、Ｃ６Ｈ４はフェニレン基を表す。
化水素結合、炭素－酸素の２重結合及び炭素－窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を含む部位を一以上含む。また、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素－酸素の２重結合、及び炭素－窒素の２重結合としては、いずれか１種の結合のみを一又は二以上有してもよいし、２種以上の結合を組み合わせて有してもよい。
【表3】
表中、Ｃ６Ｈ４はフェニレン基を表す。
【0033】
表３中のｉ及びｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、３２≦ｉ×（ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４＋ｊ５＋ｊ６＋ｊ７＋ｊ８）≦７５０を満たすことが好ましく、４０≦ｉ×（ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４＋ｊ５＋ｊ６＋ｊ７＋ｊ８）≦１８０を満たすことがより好ましい。
表３中のｉは、それぞれ独立して１以上の整数であり、部位ごとにそれぞれ異なる値としてもよい。
表３中のｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、それぞれ独立して０以上の整数である。すなわち、表３中のｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、部位ごとにそれぞれ異なる値としてもよい。
ここで、ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８が０であるとは、表３に記載のそれぞれの部位が式（３）中のＹで示される部位に含まれないことを示す。
上記ｉ×（ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４＋ｊ５＋ｊ６＋ｊ７＋ｊ８）の取りうる範囲内であれば、分子鎖の途中で分岐し、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素－酸素の２重結合及び炭素－窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する部位からなる側鎖が、Ｙで示される部位内に存在していてもよい。
表３中のｉは、それぞれ独立して１以上の整数であり、部位ごとにそれぞれ異なる値としてもよい。
表３中のｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、それぞれ独立して０以上の整数である。すなわち、表３中のｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、部位ごとにそれぞれ異なる値としてもよい。
ここで、ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８が０であるとは、表３に記載のそれぞれの部位が式（３）中のＹで示される部位に含まれないことを示す。
上記ｉ×（ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４＋ｊ５＋ｊ６＋ｊ７＋ｊ８）の取りうる範囲内であれば、分子鎖の途中で分岐し、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素－酸素の２重結合及び炭素－窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する部位からなる側鎖が、Ｙで示される部位内に存在していてもよい。
【0034】
表３中、Ｃ５Ｈ４Ｏ３は、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンの側鎖の一部に、無水マレイン酸をグラフトさせて形成される結合を指す。
また、表３中、Ｃ３Ｈ６Ｎは、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンの側鎖の一部がアミノ基で置換された結合を指す。
さらに、表３中、Ｃ４Ｈ６Ｏ２Ｎは、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンの側鎖の一部がイソシアネート基で置換された結合を指す。
また、表３中、Ｃ３Ｈ６Ｎは、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンの側鎖の一部がアミノ基で置換された結合を指す。
さらに、表３中、Ｃ４Ｈ６Ｏ２Ｎは、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンの側鎖の一部がイソシアネート基で置換された結合を指す。
【0035】
上記一般式（３）中のＹで示される部位は、表４に示す、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素－酸素の２重結合及び炭素－窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を含む部位を一以上含むことが好ましい。
【表4】
【0036】
表４中のｋ１、ｋ２、ｋ３、ｋ４、ｋ５，ｋ６、ｋ７、ｋ８、ｋ９及びｋ１０は、８≦ｋ１＋ｋ２＋ｋ３＋ｋ４＋ｋ６＋ｋ７＋ｋ８＋ｋ９＋ｋ１０≦１８０を満たすことが好ましく、４０≦ｋ１＋ｋ２＋ｋ３＋ｋ４＋ｋ６＋ｋ７＋ｋ８＋ｋ９＋ｋ１０≦１２０を満たすことがより好ましい。
表４中のｋ１、ｋ２、ｋ３、ｋ４、ｋ５，ｋ６、ｋ７、ｋ８、ｋ９及びｋ１０は、それぞれ独立して０以上の整数である。すなわち、表４中のｋ１、ｋ２、ｋ３、ｋ４、ｋ５，ｋ６、ｋ７、ｋ８、ｋ９及びｋ１０は部位ごとにそれぞれ異なる値としてもよい。
ここで、ｋ１、ｋ２、ｋ３、ｋ４、ｋ５，ｋ６、ｋ７、ｋ８、ｋ９及びｋ１０が０であるとは、表４に記載のそれぞれの部位が式（３）中のＹで示される部位に含まれないことを示す。
上記ｋ１＋ｋ２＋ｋ３＋ｋ４＋ｋ６＋ｋ７＋ｋ８＋ｋ９＋ｋ１０の取りうる範囲内であれば、分子鎖の途中で分岐し、不飽和炭化水素結合、炭素－酸素の２重結合及び炭素－窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する部位からなる側鎖が、Ｙで示される部位内に存在していてもよい。
表４中のｋ１、ｋ２、ｋ３、ｋ４、ｋ５，ｋ６、ｋ７、ｋ８、ｋ９及びｋ１０は、それぞれ独立して０以上の整数である。すなわち、表４中のｋ１、ｋ２、ｋ３、ｋ４、ｋ５，ｋ６、ｋ７、ｋ８、ｋ９及びｋ１０は部位ごとにそれぞれ異なる値としてもよい。
ここで、ｋ１、ｋ２、ｋ３、ｋ４、ｋ５，ｋ６、ｋ７、ｋ８、ｋ９及びｋ１０が０であるとは、表４に記載のそれぞれの部位が式（３）中のＹで示される部位に含まれないことを示す。
上記ｋ１＋ｋ２＋ｋ３＋ｋ４＋ｋ６＋ｋ７＋ｋ８＋ｋ９＋ｋ１０の取りうる範囲内であれば、分子鎖の途中で分岐し、不飽和炭化水素結合、炭素－酸素の２重結合及び炭素－窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する部位からなる側鎖が、Ｙで示される部位内に存在していてもよい。
【0037】
成分Ｂの好ましい構造としては、不飽和炭化水素結合、炭素－酸素の２重結合及び炭素－窒素の２重結合、のいずれか、もしくはそれらが任意の組み合わせで側鎖側に存在していることが好ましい。より好ましくは、不飽和炭化水素結合、炭素－酸素の２重結合のいずれか、もしくはそれらが任意の組み合わせで側鎖側に存在していることが望ましい。
【0038】
上記一般式（３）中のＲ３及びＲ４は、それぞれ独立に、加水分解性基、シラノール基、ヒドロキシ基、反応性有機基、加水分解性基含有シリル基を含む有機基、アルキルシリル基であっても水素原子であってもよい。好ましくは加水分解性基含有シリル基を含む有機基、ヒドロキシ基、及び水素原子であることが好ましい。より好ましくは、ヒドロキシ基又は水素原子である。加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１～１０のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の炭素数２～１０のアルコキシアルコキシ基、アセトキシ基等の炭素数１～１０のアシロキシ基、イソプロペノキシ基等の炭素数２～１０のアルケニルオキシ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基などのハロゲン基やアミノ基などが挙げられる。中でも、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基、クロロ基が好適である。反応性有機基としては、メタクリル基やカルボキシ基、エポキシ基、チオール基などが挙げられる。中でも、メタクリル基やカルボキシ基が好適である。
加水分解性基含有シリル基を含む有機基は、例えば加水分解性基がケイ素原子に直接又は間接的に結合している有機基である。加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１～１０のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の炭素数２～１０のアルコキシアルコキシ基、アセトキシ基等の炭素数１～１０のアシロキシ基、イソプロペノキシ基等の炭素数２～１０のアルケニルオキシ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基などのハロゲン基やアミノ基などが挙げられる。加水分解性基含有シリル基を含む有機基における加水分解性基の数は、好ましくは１個～３個、より好ましくは２個～３個、さらに好ましくは３個である。加水分解性基含有シリル基を含む有機基は、後述のアルキルシリル基を有していてもよい。すなわち、加水分解性基含有シリル基を含む有機基としては、トリメトキシシリル基、ジメトキシメチルシリル基、エチルジメトキシシリル基、メトキシジメチルシリル基、ジエチルメトキシシリル基、エチルメトキシメチルシリル基、トリエトキシシリル基、ジエトキシエチルシリル基、ジエトキシメチルシリル基、エトキシジエチルシリル基、エトキシエチルメチルシリル基などが挙げられる。
アルキルシリル基としては、炭素数１～１０のアルキルシリル基が挙げられ、アルキルシリル基の炭素数は１～５であることが好ましく、１～３であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。アルキル基の数は、好ましくは１個～３個、より好ましくは２個～３個、さらに好ましくは３個である。すなわち、アルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、エチルジメチルシリル基、ジエチルメチルシリル基などが挙げられる。
加水分解性基含有シリル基を含む有機基は、例えば加水分解性基がケイ素原子に直接又は間接的に結合している有機基である。加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１～１０のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の炭素数２～１０のアルコキシアルコキシ基、アセトキシ基等の炭素数１～１０のアシロキシ基、イソプロペノキシ基等の炭素数２～１０のアルケニルオキシ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基などのハロゲン基やアミノ基などが挙げられる。加水分解性基含有シリル基を含む有機基における加水分解性基の数は、好ましくは１個～３個、より好ましくは２個～３個、さらに好ましくは３個である。加水分解性基含有シリル基を含む有機基は、後述のアルキルシリル基を有していてもよい。すなわち、加水分解性基含有シリル基を含む有機基としては、トリメトキシシリル基、ジメトキシメチルシリル基、エチルジメトキシシリル基、メトキシジメチルシリル基、ジエチルメトキシシリル基、エチルメトキシメチルシリル基、トリエトキシシリル基、ジエトキシエチルシリル基、ジエトキシメチルシリル基、エトキシジエチルシリル基、エトキシエチルメチルシリル基などが挙げられる。
アルキルシリル基としては、炭素数１～１０のアルキルシリル基が挙げられ、アルキルシリル基の炭素数は１～５であることが好ましく、１～３であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。アルキル基の数は、好ましくは１個～３個、より好ましくは２個～３個、さらに好ましくは３個である。すなわち、アルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、エチルジメチルシリル基、ジエチルメチルシリル基などが挙げられる。
【0039】
成分Ｂの具体例として、表５に示す化合物を挙げることができるが、これらの化合物に限定されない。また、成分Ｂとしては、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素－酸素の２重結合及び炭素－窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を含む部位を一以上含む化合物を１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【表5】
【0040】
また、成分Ｂの具体例としては表６に示す化合物も挙げることができるが、これらの化合物に限定されない。
【表6】
【0041】
表６で示される化合物は、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素－酸素の２重結合、炭素－窒素の２重結合、のいずれかを有するアルキル化合物で、ｄ－１からｄ－４は、側鎖の一部を異なる部位に置き換えた変性ポリオレフィンである。置き換える部位の例としては、イミノ部位、ビニル部位、カルボン酸部位、無水カルボン酸部位、ケテン部位、イソシアネート部位、などを挙げることができる。
【0042】
本開示の表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比は、該表面層を顕微ラマン分光装置で測定したときの成分Ａに由来するピーク強度をＰＡ、成分Ｂに由来するピーク強度をＰＢとしたときのＰＢ／ＰＡで表わされ、０．０４～３．００の範囲で示すことができる。また、本開示の表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比は、本開示の表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比によって調整することができる。該構成比は、好ましくは０．１０～１．００であり、より好ましくは０．２０～０．６０である。
成分Ａに対する成分Ｂの構成比が０．０４より小さい場合、防汚特性は発現するが、加工時に高荷重をかけた際の摩擦力が上がらず滑り性が抑制されないため、母材の加工が難しくなる。また、成分Ａに対する成分Ｂの構成比が３．００より大きい場合、防汚特性が低下するだけでなく、使用者が日常で使用する荷重の範囲でも摩擦力が高い状態となり、汚れを拭き取る際にクロスが引っかかるなど使い心地に難点が生じる。
成分Ａに対する成分Ｂの構成比が０．０４より小さい場合、防汚特性は発現するが、加工時に高荷重をかけた際の摩擦力が上がらず滑り性が抑制されないため、母材の加工が難しくなる。また、成分Ａに対する成分Ｂの構成比が３．００より大きい場合、防汚特性が低下するだけでなく、使用者が日常で使用する荷重の範囲でも摩擦力が高い状態となり、汚れを拭き取る際にクロスが引っかかるなど使い心地に難点が生じる。
【0043】
成分Ａに対する成分Ｂの構成比は、以下の方法により求めることができる。
まず、表面層のうち、顕微ラマン分光装置で測定する対象となる領域を決定する。当該領域は、装置に付属の対物レンズの倍率と励起レーザーの波長、アパーチャ径により決定する。以下、決定された当該領域を「測定領域」ともいう。
次に、測定領域について、励起レーザー光を照射し発生した散乱光を測定し、ラマンスペクトルを得る。測定条件は以下の通りである。
・測定装置：サーモフィッシャーサイエンティフィック社製顕微ラマン分光装置
・対物レンズ倍率：１０倍
・励起レーザー波長：５３２ｎｍ
・アパーチャ径：２５μｍ
・測定領域：２μｍ
得られたラマンスペクトル中のピークのうち、シロキサン結合に由来するピークを、成分Ａに由来するピークとし、当該ピークのピーク強度をＰＡとする。また、得られたラマ
ンスペクトル中のピークのうち、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合またはＣ＝Ｎ結合に由来するピークが得られたとき、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合またはＣ＝Ｎ結合に由来するピークを成分Ｂに由来するピークとし、当該ピークのピーク強度をＰＢとする。
また、得られたラマンスペクトル中のピークのうち、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合またはＣ＝Ｎ結合に由来するピークが含まれていないときは、Ｃ－Ｃ結合に由来するピークを成分Ｂに由来するピークとし、当該ピークのピーク強度をＰＢとする。
まず、表面層のうち、顕微ラマン分光装置で測定する対象となる領域を決定する。当該領域は、装置に付属の対物レンズの倍率と励起レーザーの波長、アパーチャ径により決定する。以下、決定された当該領域を「測定領域」ともいう。
次に、測定領域について、励起レーザー光を照射し発生した散乱光を測定し、ラマンスペクトルを得る。測定条件は以下の通りである。
・測定装置：サーモフィッシャーサイエンティフィック社製顕微ラマン分光装置
・対物レンズ倍率：１０倍
・励起レーザー波長：５３２ｎｍ
・アパーチャ径：２５μｍ
・測定領域：２μｍ
得られたラマンスペクトル中のピークのうち、シロキサン結合に由来するピークを、成分Ａに由来するピークとし、当該ピークのピーク強度をＰＡとする。また、得られたラマ
ンスペクトル中のピークのうち、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合またはＣ＝Ｎ結合に由来するピークが得られたとき、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合またはＣ＝Ｎ結合に由来するピークを成分Ｂに由来するピークとし、当該ピークのピーク強度をＰＢとする。
また、得られたラマンスペクトル中のピークのうち、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｏ結合またはＣ＝Ｎ結合に由来するピークが含まれていないときは、Ｃ－Ｃ結合に由来するピークを成分Ｂに由来するピークとし、当該ピークのピーク強度をＰＢとする。
【0044】
該表面層にかかる荷重が１４ｋｇｆ、摩擦速度が２．５ｍｍ／秒で測定した摩擦力をＸとし、
該表面層にかかる荷重が７０ｋｇｆ、摩擦速度が２．５ｍｍ／秒で測定した摩擦力をＹとしたとき、
（Ｙ－Ｘ）／Ｘ×１００で表わされる摩擦力の変化割合は、５０％～２００％であることが好ましく、８０％～１４０％であることがより好ましい。
該変化割合は、成分Ａの種類、成分Ｂの種類、成分Ａに対する成分Ｂの構成比によって制御することができる。
該表面層にかかる荷重が７０ｋｇｆ、摩擦速度が２．５ｍｍ／秒で測定した摩擦力をＹとしたとき、
（Ｙ－Ｘ）／Ｘ×１００で表わされる摩擦力の変化割合は、５０％～２００％であることが好ましく、８０％～１４０％であることがより好ましい。
該変化割合は、成分Ａの種類、成分Ｂの種類、成分Ａに対する成分Ｂの構成比によって制御することができる。
【0045】
本開示の表面層は、本開示の効果を損なわない範囲で、成分Ａおよび成分Ｂ以外の任意の化合物を含有してもよい。
【0046】
≪第１の実施形態≫
図１は、表面層の第１の実施形態における構成を示す概略図であって、母材の上に下地層が形成され、該下地層の上に表面層を有する構成例を示す。
図１においては、母材１１上に下地層１２が存在し、下地層１２の上に表面層１３が形成された構成となっている。
なお、図１は表面層を有する構成を模擬的に表したものであり、母材１１、下地層１２および表面層１３の実際の厚みを正確な比率で表したものではない。
図１は、表面層の第１の実施形態における構成を示す概略図であって、母材の上に下地層が形成され、該下地層の上に表面層を有する構成例を示す。
図１においては、母材１１上に下地層１２が存在し、下地層１２の上に表面層１３が形成された構成となっている。
なお、図１は表面層を有する構成を模擬的に表したものであり、母材１１、下地層１２および表面層１３の実際の厚みを正確な比率で表したものではない。
【0047】
（母材１１）
母材１１は、固形物であり、かつ下地層１２、表面層１３または後述する中間層１４もしくはハードコート層１５を形成可能なものであればよく、例えば、ガラス、セラミック、樹脂または金属もしくはガラスや樹脂等から作られたフィルムなどが挙げられる。本開示の表面層を有する光学部材の母材として上記の材質のものを使用する場合、該母材は可視光あるいは特定の波長の光を透過し得るものであることが好ましい。
母材の厚みは特に制限されず、用途に応じて適宜設定することができる。
母材１１は、固形物であり、かつ下地層１２、表面層１３または後述する中間層１４もしくはハードコート層１５を形成可能なものであればよく、例えば、ガラス、セラミック、樹脂または金属もしくはガラスや樹脂等から作られたフィルムなどが挙げられる。本開示の表面層を有する光学部材の母材として上記の材質のものを使用する場合、該母材は可視光あるいは特定の波長の光を透過し得るものであることが好ましい。
母材の厚みは特に制限されず、用途に応じて適宜設定することができる。
【0048】
（下地層１２）
必要に応じて、下地層を形成してもよい。下地層１２は、表面層１３を形成する下地となる層であり、母材１１と表面層１３との密着性を良好ならしめるものである。
本実施形態では、母材１１と表面層１３の密着性をより向上させるために、母材１１の上に下地層１２を形成し、当該下地層１２の上に表面層１３を形成している。なお、下地層の形成方法としては特に制限されないが、蒸着法、ディッピング法、塗布法、スプレー法、スピンコート法などが挙げられる。
下地層１２の厚みについては特に制限はないが、２ｎｍ～１５０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～１２５ｎｍである。
下地層１２を形成する材料は、表面にヒドロキシ基が存在する物質であることが好ましい。例えば、表面にヒドロキシ基を有するＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３などの金属酸化物や、ヒドロキシ基を有するアルキル化合物などが挙げられる。
必要に応じて、下地層を形成してもよい。下地層１２は、表面層１３を形成する下地となる層であり、母材１１と表面層１３との密着性を良好ならしめるものである。
本実施形態では、母材１１と表面層１３の密着性をより向上させるために、母材１１の上に下地層１２を形成し、当該下地層１２の上に表面層１３を形成している。なお、下地層の形成方法としては特に制限されないが、蒸着法、ディッピング法、塗布法、スプレー法、スピンコート法などが挙げられる。
下地層１２の厚みについては特に制限はないが、２ｎｍ～１５０ｎｍ、好ましくは５ｎｍ～１２５ｎｍである。
下地層１２を形成する材料は、表面にヒドロキシ基が存在する物質であることが好ましい。例えば、表面にヒドロキシ基を有するＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３などの金属酸化物や、ヒドロキシ基を有するアルキル化合物などが挙げられる。
【0049】
（表面層１３）
表面層１３は、上記本開示の成分Ａと成分Ｂとの表面層である。
表面層１３の厚みについては特に制限はないが、４ｎｍ～２０ｎｍであることが好ましい。厚みが４ｎｍ以上であると充分な防汚性が得られ、厚み２０ｎｍ以下であると透明性が良好である。なお、表面層の形成方法としては特に制限されないが、蒸着法、塗工法などがあげられる。また、塗工法としては、スピンコート、ディップコート、バーコート、スプレーコートなどが挙げられる。成分Ａと成分Ｂとを表面層の形成方法の際に用いることで、成分Ａと成分Ｂとの表面層を形成することができる。例えば、表面層は蒸着層である。また、例えば、表面層は塗工層である。
表面層１３は、上記本開示の成分Ａと成分Ｂとの表面層である。
表面層１３の厚みについては特に制限はないが、４ｎｍ～２０ｎｍであることが好ましい。厚みが４ｎｍ以上であると充分な防汚性が得られ、厚み２０ｎｍ以下であると透明性が良好である。なお、表面層の形成方法としては特に制限されないが、蒸着法、塗工法などがあげられる。また、塗工法としては、スピンコート、ディップコート、バーコート、スプレーコートなどが挙げられる。成分Ａと成分Ｂとを表面層の形成方法の際に用いることで、成分Ａと成分Ｂとの表面層を形成することができる。例えば、表面層は蒸着層である。また、例えば、表面層は塗工層である。
【0050】
≪第２の実施形態≫
図２は、表面層の第２の実施形態における構成を示す概略図であって、母材の上に中間層が形成され、該中間層の上に下地層が形成され、該下地層の上に表面層を有する構成例を示す。
図２においては、母材１１上に、低屈折率材料を有する中間層１４ａ，１４ｃと高屈折率材料を有する中間層１４ｂ，１４ｄとが交互に積層された中間層１４が形成されている。中間層１４上に設けられた下地層１２の上に、表面層１３が形成されている。
なお、図２は表面層の構成を模擬的に表したものであり、母材１１、中間層１４、下地層１２および表面層１３の実際の厚みを正確な比率で表したものではない。
図２は、表面層の第２の実施形態における構成を示す概略図であって、母材の上に中間層が形成され、該中間層の上に下地層が形成され、該下地層の上に表面層を有する構成例を示す。
図２においては、母材１１上に、低屈折率材料を有する中間層１４ａ，１４ｃと高屈折率材料を有する中間層１４ｂ，１４ｄとが交互に積層された中間層１４が形成されている。中間層１４上に設けられた下地層１２の上に、表面層１３が形成されている。
なお、図２は表面層の構成を模擬的に表したものであり、母材１１、中間層１４、下地層１２および表面層１３の実際の厚みを正確な比率で表したものではない。
【0051】
（中間層１４）
図２に示すように、中間層１４は、母材１１側から数えて奇数番目に積層された中間層１４ａ，１４ｃが低屈折率材料からなり、偶数番目に積層された中間層１４ｂ，１４ｄが高屈折率材料からなる。
なお、本実施形態では下地層１２も低屈折率材料からなり、中間層１４上に積層され、中間層１４と共に反射防止機能を発揮する。本実施形態では一例として中間層１４を４層としており、高屈折率材料を有する中間層１４ｄの上に下地層１２が形成されているので、該下地層１２は低屈折率材料とすることが好ましい。なお、例えば中間層１４が３層であり、高屈折率材料を有する中間層１４ｂの上に下地層１２を形成する場合は、該下地層１２は低屈折率材料とすることが好ましい。
また中間層１４は、本実施形態に限定されるものではなく、中屈折率材料からなる層が適宜積層されてもよい。
図２に示すように、中間層１４は、母材１１側から数えて奇数番目に積層された中間層１４ａ，１４ｃが低屈折率材料からなり、偶数番目に積層された中間層１４ｂ，１４ｄが高屈折率材料からなる。
なお、本実施形態では下地層１２も低屈折率材料からなり、中間層１４上に積層され、中間層１４と共に反射防止機能を発揮する。本実施形態では一例として中間層１４を４層としており、高屈折率材料を有する中間層１４ｄの上に下地層１２が形成されているので、該下地層１２は低屈折率材料とすることが好ましい。なお、例えば中間層１４が３層であり、高屈折率材料を有する中間層１４ｂの上に下地層１２を形成する場合は、該下地層１２は低屈折率材料とすることが好ましい。
また中間層１４は、本実施形態に限定されるものではなく、中屈折率材料からなる層が適宜積層されてもよい。
【0052】
低屈折率材料としては、ＳｉＯ２（二酸化ケイ素）、Ａｌ２Ｏ３添加ＳｉＯ２（アルミナ添加二酸化ケイ素）等が挙げられる。ただし、低屈折率材料はこれらに限定されるものではない。
高屈折率材料としては、アルミナ含有酸化チタン－酸化ランタン系混合材料、酸化チタン、酸化チタンを主成分とする他の混合酸化物、酸化ジルコニウム、酸化ジルコニウムを主成分とする混合材料、酸化ニオブ、酸化ニオブを主成分とする混合材料、酸化タンタル、酸化タンタルを主成分とする混合材料、酸化タングステン、酸化タングステンを主成分とする混合材料等が挙げられる。ただし、高屈折率材料はこれに限定されるものではない。
中屈折材料としては、酸化アルミニウム、酸化アルミニウムを主成分とする他の混合化合物、酸化マグネシウム、酸化マグネシウムを主成分とする他の混合化合物、フッ化イットリウム、フッ化セリウムなどが挙げられる。ただし、中屈折率材料はこれに限定されるものではない。
高屈折率材料としては、アルミナ含有酸化チタン－酸化ランタン系混合材料、酸化チタン、酸化チタンを主成分とする他の混合酸化物、酸化ジルコニウム、酸化ジルコニウムを主成分とする混合材料、酸化ニオブ、酸化ニオブを主成分とする混合材料、酸化タンタル、酸化タンタルを主成分とする混合材料、酸化タングステン、酸化タングステンを主成分とする混合材料等が挙げられる。ただし、高屈折率材料はこれに限定されるものではない。
中屈折材料としては、酸化アルミニウム、酸化アルミニウムを主成分とする他の混合化合物、酸化マグネシウム、酸化マグネシウムを主成分とする他の混合化合物、フッ化イットリウム、フッ化セリウムなどが挙げられる。ただし、中屈折率材料はこれに限定されるものではない。
【0053】
中間層１４および中間層１４を構成する各層（図２では１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ）の厚みについては特に制限はないが、例えば、中間層１４を構成する各層の厚みを１０ｎｍ～２００ｎｍとし、必要な数を積層して中間層１４を構成することができる。
なお、本実施形態における中間層１４は４層構成であるが、本開示はこれに何ら限定されるものではなく、層数は何層であってもよい。
なお、本実施形態における中間層１４は４層構成であるが、本開示はこれに何ら限定されるものではなく、層数は何層であってもよい。
【0054】
また、本実施形態では上述のように低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層して形成された反射防止膜の一部としての中間層１４を備えてなるが、本開示はこれに何ら限定されるものではない。例えば、他のフィルターやミラー、帯電防止、キズ防止用ハードコート等から選ばれる機能を有する少なくとも１つの層を母材１１と中間層１４との間に形成してもよい。
【0055】
なお、表面層の第２の実施形態における母材、下地層および表面層としては、表面層の第１の実施形態と同様のものとすることができる。
【0056】
≪光学部材≫
図３は光学部材の第１の実施形態における構成を示す概略図である。
本実施形態は、眼鏡レンズに用いることができる光学部材である。
図３の光学部材は、樹脂からなる母材１１と、キズ防止のためのハードコート層１５と、表面層の第２の実施形態で述べた反射防止機能を有する中間層１４と、下地層１２と、表面層１３と、が設けられている。図３では中間層１４として、母材１１側から数えて奇数番目に積層された中間層１４ａが低屈折率材料からなり、偶数番目に積層された中間層１４ｂが高屈折率材料からなる２層構成としているが、これに限定されず、層数は何層であってもよい。また、中屈折率材料からなる層が適宜積層されてもよい。
また、ハードコート層１５としては、例えばメラミン樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、または上記樹脂の混合物、シラン化合物等を用いることができる。ただし、ハードコート層に使用する材料はこれに限定されるものではない。
なお、第１の実施形態における構成で示される光学部材は、眼鏡レンズに限られず、その他の公知の用途に用いることができる。
図３は光学部材の第１の実施形態における構成を示す概略図である。
本実施形態は、眼鏡レンズに用いることができる光学部材である。
図３の光学部材は、樹脂からなる母材１１と、キズ防止のためのハードコート層１５と、表面層の第２の実施形態で述べた反射防止機能を有する中間層１４と、下地層１２と、表面層１３と、が設けられている。図３では中間層１４として、母材１１側から数えて奇数番目に積層された中間層１４ａが低屈折率材料からなり、偶数番目に積層された中間層１４ｂが高屈折率材料からなる２層構成としているが、これに限定されず、層数は何層であってもよい。また、中屈折率材料からなる層が適宜積層されてもよい。
また、ハードコート層１５としては、例えばメラミン樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、または上記樹脂の混合物、シラン化合物等を用いることができる。ただし、ハードコート層に使用する材料はこれに限定されるものではない。
なお、第１の実施形態における構成で示される光学部材は、眼鏡レンズに限られず、その他の公知の用途に用いることができる。
【0057】
図４は光学部材の第２の実施形態における構成を示す概略図である。
本実施形態は、カメラなどに用いられる光学レンズに用いることができる光学部材である。
図４の光学部材は、ガラスからなる母材１１と、表面層の第２の実施形態で述べた反射防止機能を有する中間層１４と、下地層１２と、表面層１３と、が設けられている。図４では中間層１４として、母材１１側から数えて奇数番目に積層された中間層１４ａが低屈折率材料からなり、偶数番目に積層された中間層１４ｂが高屈折率材料からなる２層構成としているが、これに限定されず、層数は何層であってもよい。また、中屈折率材料からなる層が適宜積層されてもよい。
なお、第２の実施形態における構成で示される光学部材は、カメラ用光学レンズに用いられるものに限らず、光学フィルター、ディスプレイ用タッチパネル、各種フィルムなどにも用いることができる。
本実施形態は、カメラなどに用いられる光学レンズに用いることができる光学部材である。
図４の光学部材は、ガラスからなる母材１１と、表面層の第２の実施形態で述べた反射防止機能を有する中間層１４と、下地層１２と、表面層１３と、が設けられている。図４では中間層１４として、母材１１側から数えて奇数番目に積層された中間層１４ａが低屈折率材料からなり、偶数番目に積層された中間層１４ｂが高屈折率材料からなる２層構成としているが、これに限定されず、層数は何層であってもよい。また、中屈折率材料からなる層が適宜積層されてもよい。
なお、第２の実施形態における構成で示される光学部材は、カメラ用光学レンズに用いられるものに限らず、光学フィルター、ディスプレイ用タッチパネル、各種フィルムなどにも用いることができる。
【0058】
【0059】
本開示の表面層形成用材料は、少なくとも成分Ａと成分Ｂとを含む表面層形成用材料であって、
該成分Ａは少なくともシロキサン結合を含有するシロキサン部位を有し、
該成分Ｂは、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有し、かつ下記一般式（３）
Ｒ３－Ｙ－Ｒ４ （３）
で示される構造を有するアルキル化合物であり、
該Ｙで示される部位は、［ＣｉＨ２ｉ－２］ｊ１、［ＣｉＨ２ｉ］ｊ２、［Ｃ６Ｈ４］ｊ３、［Ｃｉ＋１Ｈ２ｉ－１Ｃｌ］ｊ４、［ＣｉＨｉＣｌ］ｊ５、［Ｃ５Ｈ４Ｏ３］ｊ６、［Ｃ３Ｈ６Ｎ］ｊ７及び［Ｃ４Ｈ６Ｏ２Ｎ］ｊ８からなる群から選択される少なくとも一の結合を含む部位を一以上含み、
該ｉ、ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、３２≦ｉ×（ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４＋ｊ５＋ｊ６＋ｊ７＋ｊ８）≦７５０を満たし、該ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、それぞれ独立して０以上の整数であり、
該ｉは、該部位ごとにそれぞれ独立して１以上の整数であり、
該Ｒ３及び該Ｒ４は、それぞれ独立に、加水分解性基、シラノール基、ヒドロキシ基、反応性有機基、加水分解性基含有シリル基を含む有機基、アルキルシリル基又は水素原子であり、
該表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比が、０．０４～３．００である。
該成分Ａは少なくともシロキサン結合を含有するシロキサン部位を有し、
該成分Ｂは、飽和炭化水素結合、不飽和炭化水素結合、炭素と酸素の２重結合及び炭素と窒素の２重結合からなる群から選択される少なくとも一の結合を有する有機部位を有し、かつ下記一般式（３）
Ｒ３－Ｙ－Ｒ４ （３）
で示される構造を有するアルキル化合物であり、
該Ｙで示される部位は、［ＣｉＨ２ｉ－２］ｊ１、［ＣｉＨ２ｉ］ｊ２、［Ｃ６Ｈ４］ｊ３、［Ｃｉ＋１Ｈ２ｉ－１Ｃｌ］ｊ４、［ＣｉＨｉＣｌ］ｊ５、［Ｃ５Ｈ４Ｏ３］ｊ６、［Ｃ３Ｈ６Ｎ］ｊ７及び［Ｃ４Ｈ６Ｏ２Ｎ］ｊ８からなる群から選択される少なくとも一の結合を含む部位を一以上含み、
該ｉ、ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、３２≦ｉ×（ｊ１＋ｊ２＋ｊ３＋ｊ４＋ｊ５＋ｊ６＋ｊ７＋ｊ８）≦７５０を満たし、該ｊ１、ｊ２、ｊ３、ｊ４、ｊ５、ｊ６、ｊ７及びｊ８は、それぞれ独立して０以上の整数であり、
該ｉは、該部位ごとにそれぞれ独立して１以上の整数であり、
該Ｒ３及び該Ｒ４は、それぞれ独立に、加水分解性基、シラノール基、ヒドロキシ基、反応性有機基、加水分解性基含有シリル基を含む有機基、アルキルシリル基又は水素原子であり、
該表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比が、０．０４～３．００である。
【0060】
本開示に係る表面層形成用材料を説明する。
本開示の表面層形成用材料を構成する成分Ａ及び成分Ｂに関しては、本開示の表面層を構成する成分Ａ及び成分Ｂと同様である。
本開示の表面層形成用材料における成分Ａと成分Ｂの質量比は、成分Ａの質量を１としたとき、成分Ｂの質量が０．０４～３．００の範囲である。すなわち、表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比は、０．０４～３．００である。該質量比は、好ましくは０．１０～１．００であり、より好ましくは０．２０～０．６０である。
成分Ａに対する成分Ｂの質量比が０．０４より小さい場合、表面層形成用材料を用いて形成された表面層が防汚特性を発現するが、該表面層を有する母材又は光学部材の加工時に高荷重をかけた際の摩擦力が上がらず滑り性が抑制されないため、母材又は光学部材の加工が難しくなる。また、成分Ａに対する成分Ｂの質量比が３．００より大きい場合、使用者が日常で使用する荷重の範囲でも摩擦力が高い状態となり、表面層形成用材料を用いて形成された表面層の防汚特性が低下するだけでなく、汚れを拭き取る際にクロスが引っかかるなど使い心地に難点が生じる。
表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比は、液体クロマトグラフィー質量分析法を用いて求めることができる。または、表面層形成用材料を作製する際の天秤で秤量した成分Ａの質量及び成分Ｂの質量の値を用いて求めることも可能である。
本開示の表面層形成用材料を構成する成分Ａ及び成分Ｂに関しては、本開示の表面層を構成する成分Ａ及び成分Ｂと同様である。
本開示の表面層形成用材料における成分Ａと成分Ｂの質量比は、成分Ａの質量を１としたとき、成分Ｂの質量が０．０４～３．００の範囲である。すなわち、表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比は、０．０４～３．００である。該質量比は、好ましくは０．１０～１．００であり、より好ましくは０．２０～０．６０である。
成分Ａに対する成分Ｂの質量比が０．０４より小さい場合、表面層形成用材料を用いて形成された表面層が防汚特性を発現するが、該表面層を有する母材又は光学部材の加工時に高荷重をかけた際の摩擦力が上がらず滑り性が抑制されないため、母材又は光学部材の加工が難しくなる。また、成分Ａに対する成分Ｂの質量比が３．００より大きい場合、使用者が日常で使用する荷重の範囲でも摩擦力が高い状態となり、表面層形成用材料を用いて形成された表面層の防汚特性が低下するだけでなく、汚れを拭き取る際にクロスが引っかかるなど使い心地に難点が生じる。
表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比は、液体クロマトグラフィー質量分析法を用いて求めることができる。または、表面層形成用材料を作製する際の天秤で秤量した成分Ａの質量及び成分Ｂの質量の値を用いて求めることも可能である。
【0061】
本開示に係る表面層形成用材料は、表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比が、０．０４～３．００の範囲であれば特に限定されず、その他の材料を含むこともできる。表面層形成用材料は、固体であってもよく、液体であってもよい。例えば、ヘキサンやトルエンなどの有機溶剤に成分Ａ及び成分Ｂを溶解し、液体である溶液とすることも可能である。表面形成用材料が液体であると、塗工法によって表面層を形成することができる。
表面形成用材料は、有機溶媒を含んでいてもよい。有機溶媒としては特に限定されないが、例えばアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒；並びにイソヘキサン（すなわち２－メチルペンタン）、３－メチルペンタン、２，２－ジメチルブタン及び２，３－ジメチルブタン、ノルマルヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素系溶媒からなる群から選択される少なくとも一が挙げられる。
有機溶剤の含有量は特に限定されないが、例えば表面層形成用材料における成分Ａ及び成分Ｂの合計の含有量を１００質量部としたとき、５０～１５０質量部とすることができる。
表面形成用材料は、有機溶媒を含んでいてもよい。有機溶媒としては特に限定されないが、例えばアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒；並びにイソヘキサン（すなわち２－メチルペンタン）、３－メチルペンタン、２，２－ジメチルブタン及び２，３－ジメチルブタン、ノルマルヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素系溶媒からなる群から選択される少なくとも一が挙げられる。
有機溶剤の含有量は特に限定されないが、例えば表面層形成用材料における成分Ａ及び成分Ｂの合計の含有量を１００質量部としたとき、５０～１５０質量部とすることができる。
【実施例0062】
以下に実施例を挙げて本開示をより具体的に説明するが、本開示は、以下の実施例により限定されるものではない。
【0063】
［実施例１］
（表面層形成用材料の作製）
成分Ａとして表２－１に記載された（Ａ－３）の化合物と、成分Ｂとして表５に記載された（ａ－３）の化合物を、成分Ａに対する成分Ｂの質量比が０．２０になるように金属製容器の中で調合し、表面層形成用材料１を得た。
（表面層形成用材料の作製）
成分Ａとして表２－１に記載された（Ａ－３）の化合物と、成分Ｂとして表５に記載された（ａ－３）の化合物を、成分Ａに対する成分Ｂの質量比が０．２０になるように金属製容器の中で調合し、表面層形成用材料１を得た。
【0064】
（下地層の作製）
母材１１である厚さ３ｍｍのホウケイ酸ガラス上に、ＳｉＯ２からなる厚さ１０ｎｍの下地層１２を真空蒸着装置（ドーム径Φ９００ｍｍ、蒸着距離８９０ｍｍ）を用いて、蒸着法によって形成した。下地層１２の厚みは分光エリプソメトリー（ＪＡ ＷＯＯＬＬＡＭ社製－ＥＳＭ３００）を用いて測定した。
母材１１である厚さ３ｍｍのホウケイ酸ガラス上に、ＳｉＯ２からなる厚さ１０ｎｍの下地層１２を真空蒸着装置（ドーム径Φ９００ｍｍ、蒸着距離８９０ｍｍ）を用いて、蒸着法によって形成した。下地層１２の厚みは分光エリプソメトリー（ＪＡ ＷＯＯＬＬＡＭ社製－ＥＳＭ３００）を用いて測定した。
【0065】
（表面層の作製）
下地層１２の上に、前記表面層形成用材料１からなる本開示の表面層１３を真空蒸着装置（ドーム径Φ９００ｍｍ、蒸着距離８９０ｍｍ）を用いて、蒸着法によって形成し、実施例１の光学部材を作製した。表面層１３の厚さを分光エリプソメトリー（ＪＡ ＷＯＯＬＬＡＭ社製－ＥＳＭ３００）を用いて測定したところ、１０ｎｍであった。また、得られた表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比を顕微ラマン分光装置にて測定したところ、表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比と同じく０．２０であった。
得られた光学部材の構成は、図１に示す本開示の表面層を有する光学部材の構成と同様である。
下地層１２の上に、前記表面層形成用材料１からなる本開示の表面層１３を真空蒸着装置（ドーム径Φ９００ｍｍ、蒸着距離８９０ｍｍ）を用いて、蒸着法によって形成し、実施例１の光学部材を作製した。表面層１３の厚さを分光エリプソメトリー（ＪＡ ＷＯＯＬＬＡＭ社製－ＥＳＭ３００）を用いて測定したところ、１０ｎｍであった。また、得られた表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比を顕微ラマン分光装置にて測定したところ、表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比と同じく０．２０であった。
得られた光学部材の構成は、図１に示す本開示の表面層を有する光学部材の構成と同様である。
【0066】
（摩擦力の評価）
作製した光学部材の表面層について、下記の方法に従い表面層の摩擦力を測定した。
摩擦力の測定装置として、協和界面科学株式会社製自動摩擦摩耗解析装置Ｔｒｉｂоｓｔｅｒ５００を使用した。摩擦力を測定するための接触子として２ｍｍ２にカットしたゴムパッド（３Ｍ社製レンズブロッキングパッド）を使用し、該ゴムパッドを光学部材の表面層に接触させて摩擦力の測定を行った。このとき、表面層にかかる荷重が１４ｋｇｆと７０ｋｇｆになるように装置の印加荷重を調整して試験を行った。摩擦速度は２．５ｍｍ／秒の条件で実施した。結果を表７－１に示す。
作製した光学部材の表面層について、下記の方法に従い表面層の摩擦力を測定した。
摩擦力の測定装置として、協和界面科学株式会社製自動摩擦摩耗解析装置Ｔｒｉｂоｓｔｅｒ５００を使用した。摩擦力を測定するための接触子として２ｍｍ２にカットしたゴムパッド（３Ｍ社製レンズブロッキングパッド）を使用し、該ゴムパッドを光学部材の表面層に接触させて摩擦力の測定を行った。このとき、表面層にかかる荷重が１４ｋｇｆと７０ｋｇｆになるように装置の印加荷重を調整して試験を行った。摩擦速度は２．５ｍｍ／秒の条件で実施した。結果を表７－１に示す。
【0067】
（防汚特性の評価）
作製した光学部材の表面層について、下記の方法に従い表面層の防汚特性を評価した。
防汚特性を示す指標として、蛍光ペンのインクの弾き具合と拭き取りやすさを評価指標とし、下記基準に基づいて評価を行った。結果を表７－１に示す。
（評価基準）
Ａ：ペン先を表面層に付着させた後、１秒～５秒かけてインクが球状になって弾かれ、クリント紙で拭き取ることができる。
Ｂ：ペン先を表面層に付着させた後、５秒を超えてもインクが弾かれず、クリント紙で強くこすらないと拭き取ることができない。
作製した光学部材の表面層について、下記の方法に従い表面層の防汚特性を評価した。
防汚特性を示す指標として、蛍光ペンのインクの弾き具合と拭き取りやすさを評価指標とし、下記基準に基づいて評価を行った。結果を表７－１に示す。
（評価基準）
Ａ：ペン先を表面層に付着させた後、１秒～５秒かけてインクが球状になって弾かれ、クリント紙で拭き取ることができる。
Ｂ：ペン先を表面層に付着させた後、５秒を超えてもインクが弾かれず、クリント紙で強くこすらないと拭き取ることができない。
【0068】
［実施例２～２１４］
成分Ａとして用いる表２－１及び表２－２に記載された化合物、成分Ｂとして用いる表５及び表６に記載された化合物、及び、表面層形成後の成分Ａに対する成分Ｂの構成比を
、それぞれ表７－１、表７－２、表８－１及び表８－２に記載の通りになるように変更したこと以外は実施例１と同様にして、金属製容器の中で調合し、表面層形成用材料を作製した後、下地層と表面層を形成し、本開示の表面層を有する光学部材を作製した。また、実施例１と同様に摩擦力の評価と防汚性能の評価を行った。結果を表７－１、表７－２、表８－１及び表８－２に示す。
なお、実施例２～２１４においても、実施例１と同様に、得られた表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比と、表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比は一致していた。
成分Ａとして用いる表２－１及び表２－２に記載された化合物、成分Ｂとして用いる表５及び表６に記載された化合物、及び、表面層形成後の成分Ａに対する成分Ｂの構成比を
、それぞれ表７－１、表７－２、表８－１及び表８－２に記載の通りになるように変更したこと以外は実施例１と同様にして、金属製容器の中で調合し、表面層形成用材料を作製した後、下地層と表面層を形成し、本開示の表面層を有する光学部材を作製した。また、実施例１と同様に摩擦力の評価と防汚性能の評価を行った。結果を表７－１、表７－２、表８－１及び表８－２に示す。
なお、実施例２～２１４においても、実施例１と同様に、得られた表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比と、表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比は一致していた。
【表7-1】
【表7-2】
【表8-1】
【表8-2】
【0069】
表７－１、７－２、８－１、及び８－２中、摩擦力の単位はｇｆである。
［比較例１］
表２－１に記載された（Ａ－３）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を作製した後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。また、実施例１と同様に摩擦力の評価と防汚性能の評価を行った。結果を表９に示す。
［比較例１］
表２－１に記載された（Ａ－３）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を作製した後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。また、実施例１と同様に摩擦力の評価と防汚性能の評価を行った。結果を表９に示す。
【0070】
［比較例２］
表２－１に記載された（Ａ－８）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を作製した後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。また、実施例１と同様に摩擦力の評価と防汚性能の評価を行った。結果を表９に示す。
表２－１に記載された（Ａ－８）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を作製した後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。また、実施例１と同様に摩擦力の評価と防汚性能の評価を行った。結果を表９に示す。
【0071】
［比較例３］
表２－２に記載された（Ｂ－３）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を作製した後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
表２－２に記載された（Ｂ－３）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を作製した後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
【0072】
［比較例４］
表２－２に記載された（Ｃ－１）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
表２－２に記載された（Ｃ－１）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
【0073】
［比較例５］
表２－２に記載された（Ｄ－１）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
表２－２に記載された（Ｄ－１）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
【0074】
［比較例６］
表５に記載された（ａ－３）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
表５に記載された（ａ－３）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
【0075】
［比較例７］
表５に記載された（ａ－４）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
表５に記載された（ａ－４）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
【0076】
［比較例８］
表５に記載された（ｂ－３）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
表５に記載された（ｂ－３）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
【0077】
［比較例９］
表５に記載された（ｂ－４）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
表５に記載された（ｂ－４）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
【0078】
［比較例１０］
表５に記載された（ｃ－１）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
表５に記載された（ｃ－１）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
【0079】
［比較例１１］
表５に記載された（ｃ－２）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
表５に記載された（ｃ－２）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
【0080】
［比較例１２］
表６に記載された（ｄ－１）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
表６に記載された（ｄ－１）の化合物のみを金属製容器の中に注入し、表面層形成用材料を得た後、実施例１と同様に下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。
【0081】
［比較例１３及び１４］
成分Ａとして用いる表２－１に記載された各化合物、成分Ｂとして用いる表５に記載された各化合物、及び、表面層形成後の成分Ａと成分Ｂの構成比を、それぞれ表９に記載の通りになるように変更したこと以外は実施例１と同様に、下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。なお、比較例１３及び１４においても、実施例１と同様に、得られた表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比と、表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比は一致していた。
表９中、Ｏ．Ｌ．とは、過負荷によって摩擦力の測定が行えなかったことを示す。
成分Ａとして用いる表２－１に記載された各化合物、成分Ｂとして用いる表５に記載された各化合物、及び、表面層形成後の成分Ａと成分Ｂの構成比を、それぞれ表９に記載の通りになるように変更したこと以外は実施例１と同様に、下地層と表面層を形成し、光学部材を作製した。結果を表９に示す。なお、比較例１３及び１４においても、実施例１と同様に、得られた表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比と、表面層形成用材料における成分Ａに対する成分Ｂの質量比は一致していた。
【表9】
表９中、Ｏ．Ｌ．とは、過負荷によって摩擦力の測定が行えなかったことを示す。
【0082】
表９中、摩擦力の単位はｇｆである。
［実施例２１５］
実施例５と同様に作製し得られた光学部材（ガラスレンズ）を加工し、市販のフレームに装着して眼鏡を作製した。作製した眼鏡の光学部材について、実施例１と同様に摩擦力の評価と防汚性能の評価を行った。結果を表７－１に示す。
［実施例２１５］
実施例５と同様に作製し得られた光学部材（ガラスレンズ）を加工し、市販のフレームに装着して眼鏡を作製した。作製した眼鏡の光学部材について、実施例１と同様に摩擦力の評価と防汚性能の評価を行った。結果を表７－１に示す。
【0083】
［実施例２１６］
（表面層形成用材料の作製）
成分Ａとして表２－１に記載された（Ａ－３）の化合物と、成分Ｂとして表５に記載された（ａ－３）の化合物を、成分Ａに対する成分Ｂの質量比が０．３０になるようにガラス製容器の中で調合したあと、成分Ａと成分Ｂの合計重量と同じ重量のイソヘキサン（製品名：ｉｓｏｈｅｘａｎｅ、東京化成工業社製）を成分Ａと成分Ｂが存在しているガラス製容器に投入し、ガラス製容器中の混合物を目視で成分Ａ及び成分Ｂが確認できなくなるまで攪拌して表面層形成用材料２を得た。
（表面層形成用材料の作製）
成分Ａとして表２－１に記載された（Ａ－３）の化合物と、成分Ｂとして表５に記載された（ａ－３）の化合物を、成分Ａに対する成分Ｂの質量比が０．３０になるようにガラス製容器の中で調合したあと、成分Ａと成分Ｂの合計重量と同じ重量のイソヘキサン（製品名：ｉｓｏｈｅｘａｎｅ、東京化成工業社製）を成分Ａと成分Ｂが存在しているガラス製容器に投入し、ガラス製容器中の混合物を目視で成分Ａ及び成分Ｂが確認できなくなるまで攪拌して表面層形成用材料２を得た。
【0084】
（表面層の作製）
母材１１である厚さ３ｍｍのホウケイ酸ガラス上に表面層形成用材料２をバーコーターを用いて塗工し、さらに２５℃で２４時間乾燥することによって、本開示の表面層を有する光学部材を作製した。また、実施例１と同様に摩擦力の評価と防汚性能の評価を行った。結果を表７－１に示す。なお、実施例２１６においても、実施例１と同様に、得られた表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比と、表面層形成用材料における成分Ａに対
する成分Ｂの質量比は一致していた。
母材１１である厚さ３ｍｍのホウケイ酸ガラス上に表面層形成用材料２をバーコーターを用いて塗工し、さらに２５℃で２４時間乾燥することによって、本開示の表面層を有する光学部材を作製した。また、実施例１と同様に摩擦力の評価と防汚性能の評価を行った。結果を表７－１に示す。なお、実施例２１６においても、実施例１と同様に、得られた表面層における成分Ａに対する成分Ｂの構成比と、表面層形成用材料における成分Ａに対
する成分Ｂの質量比は一致していた。
【符号の説明】
【0085】
１１ 母材
１２ 下地層
１３ 表面層
１４ 中間層
１４ａ，１４ｃ 低屈折率材料を有する中間層
１４ｂ，１４ｄ 高屈折率材料を有する中間層
１５ ハードコート層
３１ 眼鏡レンズ
３２ 眼鏡フレーム
１２ 下地層
１３ 表面層
１４ 中間層
１４ａ，１４ｃ 低屈折率材料を有する中間層
１４ｂ，１４ｄ 高屈折率材料を有する中間層
１５ ハードコート層
３１ 眼鏡レンズ
３２ 眼鏡フレーム
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】