特開 2024-120202 基板処理装置及び基板処理方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024120202

(43)【公開日】2024-09-05

(54)【発明の名称】基板処理装置及び基板処理方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20240829BHJP

【ＦＩ】

H01L21/304 648G

H01L21/304 647Z

H01L21/304 643A

H01L21/304 648K

H01L21/304 651B

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023026837

(22)【出願日】2023-02-24

(71)【出願人】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】110002310

【氏名又は名称】弁理士法人あい特許事務所

(74)【代理人】

【識別番号】100168583

【弁理士】

【氏名又は名称】前井 宏之

(72)【発明者】

【氏名】尾崎 広

(72)【発明者】

【氏名】浦田 真吾

(72)【発明者】

【氏名】竹田 大輔

【テーマコード（参考）】

5F157

【Ｆターム（参考）】

5F157AA09

5F157AB02

5F157AB14

5F157AB33

5F157AB45

5F157AB49

5F157AB51

5F157AB64

5F157AB90

5F157AC04

5F157AC26

5F157BB23

5F157BB38

5F157BB39

5F157BB45

5F157BE12

5F157BE23

5F157BE33

5F157BE46

5F157CB14

5F157CE10

5F157CE11

5F157CE25

5F157CE33

5F157CF14

5F157CF44

5F157CF60

5F157CF99

5F157DA21

5F157DA43

5F157DB37

(57)【要約】

【課題】処理液が切り替わる際に基板の外周部が液膜で覆われない状態になり難くなる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、ノズル３と、基板保持部２と、液受け部１１と、排液機構６と、ノズル移動部５とを備える。ノズル３は、酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンス液を含む複数種類の処理液を選択的に吐出する。基板保持部２は、基板Ｗを保持する。液受け部１１は、基板保持部２の外側に配置されて、ノズル３から吐出される処理液を受け止める。排液機構６は、液受け部１１から排出される酸性薬液を第１ドレイン配管ＤＰ１へ導き、液受け部１１から排出されるアルカリ性薬液を第２ドレイン配管ＤＰ２へ導く。ノズル移動部５は、ノズル３を、基板保持部２に保持された基板Ｗに対向する処理位置ＰＳ１と、液受け部１１に対向する待機位置ＰＳ２との間で移動させる。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンス液を含む複数種類の処理液を選択的に吐出するノズルと、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部の外側に配置されて、前記ノズルから吐出される前記処理液を受け止める液受け部と、
前記液受け部から排出される前記酸性薬液を第１ドレイン配管へ導き、前記液受け部から排出される前記アルカリ性薬液を第２ドレイン配管へ導く排液機構と、
前記ノズルを、前記基板保持部に保持された前記基板に対向する処理位置と、前記液受け部に対向する待機位置との間で移動させるノズル移動部と
を備える、基板処理装置。

【請求項2】

前記ノズルへの前記複数種類の処理液の供給を制御する制御部を更に備え、
前記制御部は、前記ノズルから前記基板へ吐出させる前記処理液の種類を切り替える際に、前記ノズルから先行して吐出されている前記処理液の供給停止タイミングを遅延させて、２種類の前記処理液を一定期間同時に前記ノズルへ供給する、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項3】

前記複数種類の処理液を前記ノズルから吐出させる順序である吐出順序を記憶する記憶部と、
ユーザによって操作されて、前記吐出順序を入力する入力部と、
前記酸性薬液の吐出後に前記アルカリ性薬液を吐出させる前記吐出順序の設定を禁止する制御部と
を更に備える、請求項１又は請求項２に記載の基板処理装置。

【請求項4】

前記第２ドレイン配管から前記アルカリ性薬液が流入する液槽と、
前記複数種類の処理液を前記ノズルに選択的に供給する供給配管と、
前記供給配管に接続し、前記供給配管との接続箇所と前記ノズルの先端との間に滞留している前記処理液をサックバックして、サックバックした前記処理液を前記液槽まで流通させるサックバック機構と、
前記ノズルから前記基板に向けて前記複数種類の処理液を吐出させる順序である吐出順序において最後に前記ノズルから吐出される前記処理液が前記リンス液以外の処理液である場合に、前記サックバック機構の作動を禁止する制御部と
を更に備える、請求項１又は請求項２に記載の基板処理装置。

【請求項5】

前記基板から排出される前記処理液を受け止めるカップ部を更に備え、
前記排液機構は、前記カップ部から排出される前記酸性薬液を前記第１ドレイン配管へ導き、前記カップ部から排出される前記アルカリ性薬液を前記第２ドレイン配管へ導く、請求項１又は請求項２に記載の基板処理装置。

【請求項6】

前記液受け部は、
前記酸性薬液を受け止める第１液受け部と、
前記アルカリ性薬液を受け止める第２液受け部と
を含み、
前記排液機構は、前記第１液受け部から排出された前記酸性薬液を前記第１ドレイン配管へ導き、前記第２液受け部から排出された前記アルカリ性薬液を前記第２ドレイン配管へ導く、請求項１又は請求項２に記載の基板処理装置。

【請求項7】

前記ノズルから前記基板へ前記複数種類の処理液を吐出させる順序である吐出順序を記憶する記憶部と、
前記吐出順序に基づいて、前記ノズルから前記液受け部へ前記複数種類の処理液を吐出させる順序を生成する制御部と
を更に備える、請求項１又は請求項２に記載の基板処理装置。

【請求項8】

前記複数種類の処理液は、有機溶剤を更に含み、
前記排液機構は、前記液受け部から排出される前記酸性薬液を前記第１ドレイン配管へ導き、前記液受け部から排出される前記アルカリ性薬液を前記第２ドレイン配管へ導き、前記液受け部から排出される前記有機溶剤を第３ドレイン配管へ導く、請求項１又は請求項２に記載の基板処理装置。

【請求項9】

前記基板から排出される前記処理液を受け止めるカップ部を更に備え、
前記排液機構は、前記カップ部から排出される前記酸性薬液を前記第１ドレイン配管へ導き、前記カップ部から排出される前記アルカリ性薬液を前記第２ドレイン配管へ導き、前記カップ部から排出される前記有機溶剤を前記第３ドレイン配管へ導く、請求項８に記載の基板処理装置。

【請求項10】

前記液受け部は、
前記酸性薬液を受け止める第１液受け部と、
前記アルカリ性薬液を受け止める第２液受け部と、
前記有機溶剤を受け止める第３液受け部と
を含み、
前記排液機構は、前記第１液受け部から排出された前記酸性薬液を前記第１ドレイン配管へ導き、前記第２液受け部から排出された前記アルカリ性薬液を前記第２ドレイン配管へ導き、前記第３液受け部から排出された前記有機溶剤を前記第３ドレイン配管に導く、請求項８に記載の基板処理装置。

【請求項11】

基板を保持する基板保持部の外側に位置する液受け部に対向する位置に配置されたノズルから、酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンス液を含む複数種類の処理液を選択的に吐出する工程と、
前記液受け部から排出される前記酸性薬液を第１ドレイン配管へ導く工程と、
前記液受け部から排出される前記アルカリ性薬液を第２ドレイン配管へ導く工程と、
前記ノズルを前記基板に対向する位置へ移動させて、前記ノズルから前記基板に向けて、前記複数種類の処理液を選択的に吐出させる工程と
を包含する、基板処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。

【背景技術】

【0002】

回転している基板に向けて薬液及びリンス液を吐出して基板を処理する枚葉式の基板処理装置が知られている。この種の基板処理装置は、薬液及びリンス液によって基板を１枚ずつ処理する。例えば、特許文献１に、枚葉式の基板処理装置が開示されている。

【0003】

特許文献１の基板処理装置は、第１薬液を吐出する第１スキャンノズルと、第２薬液を吐出する第２スキャンノズルと、リンス液を吐出する固定ノズルとを備える。第１スキャンノズルは、第１待機位置から処理位置へ移動した後、回転している基板に向けて処理位置から第１薬液を吐出する。第２スキャンノズルは、第１待機位置とは異なる第２待機位置から処理位置へ移動した後、回転している基板に向けて処理位置から第２薬液を吐出する。特許文献１の基板処理装置は、第１薬液、第２薬液、及びリンス液を、第１薬液、リンス液、第２薬液、リンス液の順に基板に供給する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１９－０５７６２５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１の基板処理装置では、第１薬液からリンス液に切り替える際に、第１薬液の吐出を停止させ、第１スキャンノズルを第１待機位置へ移動させた後、固定ノズルからリンス液を吐出させる。また、リンス液から第２薬液に切り替える際に、リンス液の吐出を停止させた後、第２スキャンノズルを第２待機位置から処理位置へ移動させて、第２薬液を吐出させる。したがって、第１薬液からリンス液に切り替える際に、基板の外周部が液膜で覆われない状態となる可能性がある。同様に、リンス液から第２薬液に切り替える際に、基板の外周部が液膜で覆われない状態となる可能性がある。その結果、例えば後工程において、基板の外周部でパターンの倒壊が発生し易くなる。したがって、歩留まりを考慮すれば、更なる改良の余地がある。

【0006】

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、処理液が切り替わる際に基板の外周部が液膜で覆われない状態になり難くなる基板処理装置及び基板処理方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の一局面によれば、基板処理装置は、ノズルと、基板保持部と、液受け部と、排液機構と、ノズル移動部とを備える。前記ノズルは、酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンス液を含む複数種類の処理液を選択的に吐出する。前記基板保持部は、基板を保持する。前記液受け部は、前記基板保持部の外側に配置されて、前記ノズルから吐出される前記処理液を受け止める。前記排液機構は、前記液受け部から排出される前記酸性薬液を第１ドレイン配管へ導き、前記液受け部から排出される前記アルカリ性薬液を第２ドレイン配管へ導く。前記ノズル移動部は、前記ノズルを、前記基板保持部に保持された前記基板に対向する処理位置と、前記液受け部に対向する待機位置との間で移動させる。

【0008】

ある実施形態において、上記の基板処理装置は、制御部を更に備える。前記制御部は、前記ノズルへの前記複数種類の処理液の供給を制御する。前記制御部は、前記ノズルから前記基板へ吐出させる前記処理液の種類を切り替える際に、前記ノズルから先行して吐出されている前記処理液の供給停止タイミングを遅延させて、２種類の前記処理液を一定期間同時に前記ノズルへ供給する。

【0009】

ある実施形態において、上記の基板処理装置は、記憶部と、入力部と、制御部とを更に備える。前記記憶部は、吐出順序を記憶する。前記吐出順序は、前記複数種類の処理液を前記ノズルから吐出させる順序を示す。前記入力部は、ユーザによって操作されて、前記吐出順序を入力する。前記制御部は、前記酸性薬液の吐出後に前記アルカリ性薬液を吐出させる前記吐出順序の設定を禁止する。

【0010】

ある実施形態において、上記の基板処理装置は、液槽と、供給配管と、サックバック機構と、制御部とを更に備える。前記液槽には、前記第２ドレイン配管から前記アルカリ性薬液が流入する。前記供給配管は、前記複数種類の処理液を前記ノズルに選択的に供給する。前記サックバック機構は、前記供給配管に接続する。前記サックバック機構は、前記供給配管との接続箇所と前記ノズルの先端との間に滞留している前記処理液をサックバックする。前記サックバック機構は、サックバックした前記処理液を前記液槽まで流通させる。前記制御部は、前記ノズルから前記基板に向けて前記複数種類の処理液を吐出させる順序である吐出順序において最後に前記ノズルから吐出される前記処理液が前記リンス液以外の処理液である場合に、前記サックバック機構の作動を禁止する。

【0011】

ある実施形態において、上記の基板処理装置は、カップ部を更に備える。前記カップ部は、前記基板から排出される前記処理液を受け止める。前記排液機構は、前記カップ部から排出される前記酸性薬液を前記第１ドレイン配管へ導き、前記カップ部から排出される前記アルカリ性薬液を前記第２ドレイン配管へ導く。

【0012】

ある実施形態において、前記液受け部は、第１液受け部と、第２液受け部とを含む。前記第１液受け部は、前記酸性薬液を受け止める。前記第２液受け部は、前記アルカリ性薬液を受け止める。前記排液機構は、前記第１液受け部から排出された前記酸性薬液を前記第１ドレイン配管へ導き、前記第２液受け部から排出された前記アルカリ性薬液を前記第２ドレイン配管へ導く。

【0013】

ある実施形態において、上記の基板処理装置は、記憶部と、制御部とを更に備える。前記記憶部は、吐出順序を記憶する。前記吐出順序は、前記ノズルから前記基板へ前記複数種類の処理液を吐出させる順序を示す。前記制御部は、前記吐出順序に基づいて、前記ノズルから前記液受け部へ前記複数種類の処理液を吐出させる順序を生成する。

【0014】

ある実施形態において、前記複数種類の処理液は、有機溶剤を更に含む。前記排液機構は、前記液受け部から排出される前記酸性薬液を前記第１ドレイン配管へ導き、前記液受け部から排出される前記アルカリ性薬液を前記第２ドレイン配管へ導き、前記液受け部から排出される前記有機溶剤を第３ドレイン配管へ導く。

【0015】

ある実施形態において、上記の基板処理装置は、カップ部を更に備える。前記カップ部は、前記基板から排出される前記処理液を受け止める。前記排液機構は、前記カップ部から排出される前記酸性薬液を前記第１ドレイン配管へ導き、前記カップ部から排出される前記アルカリ性薬液を前記第２ドレイン配管へ導き、前記カップ部から排出される前記有機溶剤を前記第３ドレイン配管へ導く。

【0016】

ある実施形態において、前記液受け部は、第１液受け部と、第２液受け部と、第３液受け部とを含む。前記第１液受け部は、前記酸性薬液を受け止める。前記第２液受け部は、前記アルカリ性薬液を受け止める。前記第３液受け部は、前記有機溶剤を受け止める。前記排液機構は、前記第１液受け部から排出された前記酸性薬液を前記第１ドレイン配管へ導き、前記第２液受け部から排出された前記アルカリ性薬液を前記第２ドレイン配管へ導き、前記第３液受け部から排出された前記有機溶剤を前記第３ドレイン配管に導く。

【0017】

本発明の他の局面において、基板処理方法は、基板を保持する基板保持部の外側に位置する液受け部に対向する位置に配置されたノズルから、酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンス液を含む複数種類の処理液を選択的に吐出する工程と、前記液受け部から排出される前記酸性薬液を第１ドレイン配管へ導く工程と、前記液受け部から排出される前記アルカリ性薬液を第２ドレイン配管へ導く工程と、前記ノズルを前記基板に対向する位置へ移動させて、前記ノズルから前記基板に向けて、前記複数種類の処理液を選択的に吐出させる工程とを包含する。

【発明の効果】

【0018】

本発明に係る基板処理装置及び基板処理方法によれば、処理液が切り替わる際に基板の外周部が液膜で覆われない状態になり難くなる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】本発明の実施形態１に係る基板処理装置の模式的な平面図である。

【図2】本発明の実施形態１に係る基板処理装置に含まれる基板処理部の内部の構成、排液機構の構成、及び液供給機構の構成を模式的に図である。

【図3】本発明の実施形態１に係る基板処理装置に含まれる基板処理部の内部を模式的に示す平面図である。

【図4】本発明の実施形態１に係る基板処理装置に含まれる排液機構の構成を模式的に示す図である。

【図5】ノズルから処理液をプリディスペンスさせる方法を示すフローチャートである。

【図6】基板を処理する方法を示すフローチャートである。

【図7】（ａ）は、本発明の実施形態１に係る基板処理装置の構成の一部を示すブロック図である。（ｂ）は、本発明の実施形態１に係る基板処理装置に含まれる表示部に表示されるエラーメッセージを示す図である。

【図8】（ａ）は、プレレシピの第１例を模式的に示す図である。（ｂ）は、プレレシピの第２例を模式的に示す図である。

【図9】（ａ）は、プロセスレシピの第１例を模式的に示す図である。（ｂ）は、プロセスレシピの第２例を模式的に示す図である。

【図10】ノズルに処理液を供給するタイミングを示す図である。

【図11】本発明の実施形態２に係る基板処理装置に含まれる基板処理部の内部の構成、排液機構の構成、及び液供給機構の構成を模式的に示す図である。

【図12】本発明の実施形態２に係る基板処理装置に含まれる排液機構の構成を模式的に示す図である。

【図13】本発明の実施形態３に係る基板処理装置に含まれる基板処理部の内部の構成、排液機構の構成、及び液供給機構の構成を模式的に示す図である。

【図14】本発明の実施形態３に係る基板処理装置に含まれる排液機構の構成を模式的に示す図である。

【図15】ノズルから処理液をプリディスペンスさせる方法を示すフローチャートである。

【図16】基板を処理する方法を示すフローチャートである。

【図17】本発明の実施形態４に係る基板処理装置に含まれる基板処理部の内部の構成、排液機構の構成、及び液供給機構の構成を模式的に示す図である。

【図18】本発明の実施形態４に係る基板処理装置に含まれる排液機構の構成を模式的に示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、図面（図１～図１８）を参照して本発明の基板処理装置及び基板処理方法に係る実施形態を説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施することが可能である。なお、説明が重複する箇所については、適宜説明を省略する場合がある。また、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。

【0021】

本発明に係る基板処理装置及び基板処理方法において基板処理の対象となる「基板」には、半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示用ガラス基板、プラズマ表示用ガラス基板、ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、及び光磁気ディスク用基板などの各種の基板を適用可能である。以下では主として、円盤状の半導体ウエハを基板処理の対象とする場合を例に本発明の実施形態を説明するが、本発明に係る基板処理装置及び基板処理方法は、上記した半導体ウエハ以外の各種の基板に対しても同様に適用可能である。また、基板の形状についても、円盤状に限定されず、本発明に係る基板処理装置及び基板処理方法は、各種の形状の基板に対して適用可能である。

【0022】

［実施形態１］
まず、図１～図１０を参照して、本発明の実施形態１を説明する。図１は、本実施形態の基板処理装置１００の模式的な平面図である。基板処理装置１００は、基板Ｗを処理する。より具体的には、基板処理装置１００は、枚葉式の装置であり、複数種類の処理液を用いて１枚ずつ基板Ｗを処理する。以下、処理液による基板Ｗの処理を「基板処理」と記載する場合がある。

【0023】

図１に示すように、基板処理装置１００は、複数の基板処理部２００と、複数のロードポートＬＰと、インデクサーロボットＩＲと、センターロボットＣＲと、制御装置１０１とを備える。

【0024】

ロードポートＬＰの各々は、複数枚の基板Ｗを積層して収容する。インデクサーロボットＩＲは、ロードポートＬＰとセンターロボットＣＲとの間で基板Ｗを搬送する。センターロボットＣＲは、インデクサーロボットＩＲと基板処理部２００との間で基板Ｗを搬送する。なお、インデクサーロボットＩＲとセンターロボットＣＲとの間に、基板Ｗを一時的に載置する載置台（パス）を設けて、インデクサーロボットＩＲとセンターロボットＣＲとの間で載置台を介して間接的に基板Ｗを受け渡しする装置構成としてもよい。

【0025】

複数の基板処理部２００は、複数のタワーＴＷ（図１では４つのタワーＴＷ）を形成している。複数のタワーＴＷは、平面視においてセンターロボットＣＲを取り囲むように配置される。各タワーＴＷは、上下に積層された複数の基板処理部２００（図１では３つの基板処理部２００）を含む。

【0026】

基板処理部２００の各々は、複数種類の処理液を基板Ｗの上面に順次供給する。この結果、基板Ｗが処理される。本実施形態では、基板処理部２００は、エッチング処理を行う。詳しくは、基板処理部２００は、基板Ｗに形成されているハードマスクをエッチングする。

【0027】

複数種類の処理液は、酸性薬液と、アルカリ性薬液と、リンス液とを含む。酸性薬液は、例えば、ＤＨＦ（希フッ酸）である。アルカリ性薬液は、例えば、ＳＣ１（アンモニア過酸化水素水混合液）である。ＳＣ１は、アンモニア水（ＮＨ₄ＯＨ）と、過酸化水素水（Ｈ₂Ｏ₂）と、純水のような水との混合液である。純水は、例えば、脱イオン水（ＤＩＷ：Ｄｅｉｏｎｚｉｅｄ Ｗａｔｅｒ）である。リンス液は、例えば、純水（例えば、脱イオン水）のような水である。基板処理部２００の各々は、酸性薬液（例えば、ＤＨＦ）と、アルカリ性薬液（例えば、ＳＣ１）と、リンス液（例えば、ＤＩＷ）とを、酸性薬液、リンス液、アルカリ性薬液、リンス液の順に基板Ｗに供給して、基板Ｗを処理する。

【0028】

制御装置１０１は、基板処理装置１００の各部の動作を制御する。例えば、制御装置１０１は、ロードポートＬＰ、インデクサーロボットＩＲ、センターロボットＣＲ、及び基板処理部２００を制御する。制御装置１０１は、制御部１０２と、記憶部１０３とを含む。

【0029】

制御部１０２は、記憶部１０３に記憶されている各種情報に基づいて基板処理装置１００の各部の動作を制御する。制御部１０２は、例えば、プロセッサを有する。制御部１０２は、プロセッサとして、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、又は、ＭＰＵ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）を有してもよい。あるいは、制御部１０２は、汎用演算機又は専用演算器を有してもよい。

【0030】

記憶部１０３は、基板処理装置１００の動作を制御するための各種情報を記憶する。例えば、記憶部１０３は、データ及びコンピュータプログラムを記憶する。データは、種々のレシピデータを含む。レシピデータは、プロセスレシピＳＲＰと、プレレシピＹＲＰとを含む。プロセスレシピＳＲＰは、基板処理の手順を規定するデータである。具体的には、プロセスレシピＳＲＰは、基板処理に含まる一連の処理の実行順序、各処理の内容、及び各処理の条件（パラメータの設定値）を規定する。プレレシピＹＲＰは、プリディスペンス処理時にノズル３から吐出させる処理液の順序を規定する。

【0031】

記憶部１０３は、主記憶装置を有する。主記憶装置は、例えば、半導体メモリである。記憶部１０３は、補助記憶装置を更に有してもよい。補助記憶装置は、例えば、半導体メモリ及びハードディスクドライブの少なくも一方を含む。記憶部１０３はリムーバブルメディアを含んでもよい。

【0032】

続いて、図１～図３を参照して、本実施形態の基板処理装置１００を説明する。図２は、本実施形態の基板処理装置１００に含まれる基板処理部２００の内部の構成、排液機構６の構成、及び液供給機構８の構成を模式的に示す図である。図３は、本実施形態の基板処理装置１００に含まれる基板処理部２００の内部を模式的に示す平面図である。

【0033】

図２及び図３に示すように、基板処理部２００は、処理室２００ａと、基板保持部２と、ノズル３と、基板回転部４と、ノズル移動部５と、カップ部７と、サックバック機構９と、液受け部１１と、昇降部７３とを有する。また、基板処理装置１００は、排液機構６と、液供給機構８とを更に備える。

【0034】

基板Ｗは、処理室２００ａ内に搬入されて、処理室２００ａ内で処理される。処理室２００ａは、略箱形状を有する。処理室２００ａは、基板保持部２と、ノズル３と、基板回転部４と、ノズル移動部５と、排液機構６の一部と、カップ部７と、液供給機構８の一部と、サックバック機構９の一部と、液受け部１１と、昇降部７３とを収容する。処理室２００ａは、例えば、チャンバーである。

【0035】

基板保持部２は、基板Ｗを保持する。基板保持部２の動作は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御される。より具体的には、基板保持部２は、基板Ｗを水平な姿勢で保持する。基板保持部２は、例えば、スピンチャックである。本実施形態において、基板保持部２は、複数のチャック部材２１と、スピンベース２２とを有する。

【0036】

図３に示すように、スピンベース２２は、略円板状であり、水平な姿勢で複数のチャック部材２１を支持する。複数のチャック部材２１は、スピンベース２２の周縁部に配置される。複数のチャック部材２１は、基板Ｗの周縁部を挟持する。複数のチャック部材２１により、基板Ｗが水平な姿勢で保持される。複数のチャック部材２１の動作は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御される。複数のチャック部材２１は、基板Ｗの中心がスピンベース２２の中心と一致するように配置されている。

【0037】

図２に示すように、基板回転部４は、基板保持部２を回転させることにより、基板保持部２に保持されている基板Ｗを回転させる。具体的には、基板回転部４は、鉛直方向に延びる第１回転軸線ＡＸ１を中心として、基板Ｗと基板保持部２とを一体に回転させる。基板回転部４の動作は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御される。

【0038】

詳しくは、第１回転軸線ＡＸ１は、スピンベース２２の中心を通る。したがって、スピンベース２２は、スピンベース２２の中心を回転中心として回転する。また、既に説明したように、基板保持部２は、基板Ｗの中心がスピンベース２２の中心と一致するように基板Ｗを保持する。したがって、基板Ｗは、基板Ｗの中心を回転中心として回転する。

【0039】

基板回転部４は、例えば、シャフト４１と、モータ本体４２とを有する。シャフト４１はスピンベース２２に結合される。モータ本体４２は、シャフト４１を回転させる。その結果、スピンベース２２が回転する。モータ本体４２の動作は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御される。モータ本体４２は、例えば、電動モータである。

【0040】

図３に示すように、ノズル移動部５は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、ノズル３を処理位置ＰＳ１と待機位置ＰＳ２との間で移動させる。処理位置ＰＳ１は、基板保持部２に保持された基板Ｗに対向する位置である。待機位置ＰＳ２は、平面視において基板保持部２の外側の位置である。本実施形態において、待機位置ＰＳ２は、平面視においてカップ部７の外側の位置である。より具体的には、待機位置ＰＳ２は、液受け部１１に対向する位置である。

【0041】

詳しくは、ノズル移動部５は、鉛直方向及び水平方向にノズル３を移動させる。具体的には、図２に示すように、ノズル移動部５は、アーム５１と、基台５２と、ノズル移動機構５３とを有する。

【0042】

アーム５１は水平方向に沿って延びる。アーム５１はノズル３を支持する。例えば、ノズル３は、アーム５１の先端部に結合される。アーム５１は基台５２に結合される。基台５２は、鉛直方向に沿って延びる。

【0043】

ノズル移動機構５３は、鉛直方向及び水平方向にアーム５１を移動させる。この結果、ノズル３が鉛直方向及び水平方向に移動する。ノズル移動機構５３は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御される。

【0044】

具体的には、ノズル移動機構５３は、鉛直方向に延びる第２回転軸線ＡＸ２を中心として基台５２を揺動させて、アーム５１を水平面に沿って揺動させる。この結果、ノズル３が水平面に沿って移動する。また、ノズル移動機構５３は、基台５２を鉛直方向に沿って昇降させて、アーム５１を昇降させる。この結果、ノズル３が鉛直方向に沿って移動する。ノズル移動機構５３は、例えば、ボールねじ機構と、正逆回転可能な電動モータとを含む。電動モータは、ボールねじ機構を駆動する。

【0045】

ノズル３は、基板処理時に、処理位置ＰＳ１（図３参照）から、基板保持部２により保持されている基板Ｗの上面に向けて、複数種類の処理液を選択的に吐出する。処理液は、ノズル３の先端から吐出される。より具体的には、ノズル３は、処理位置ＰＳ１（図３参照）から、基板回転部４によって回転されている基板Ｗの上面に向けて、酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンス液を選択的に吐出する。

【0046】

本実施形態において、ノズル３は、基板処理時に、酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンス液を、酸性薬液、リンス液、アルカリ性薬液、リンス液の順に吐出する。基板処理時に複数種類の処理液をノズル３から吐出させる順序である第１吐出順序は、記憶部１０３（図１参照）に記憶されている。詳しくは、第１吐出順序は、プロセスレシピＳＲＰによって規定されている。

【0047】

更に、ノズル３は、プリディスペンス処理を行う。プリディスペンス処理は、ノズル３が待機位置ＰＳ２（図３参照）に配置されている間に実行される。詳しくは、プリディスペンス処理は、基板処理の実行前に、ノズル３から液受け部１１に向けて処理液を吐出させる処理を示す。プリディスペンス処理の実行時に、ノズル３は、複数種類の処理液を選択的に吐出する。

【0048】

本実施形態において、ノズル３は、プリディスペンス処理の実行時に、酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンス液を、酸性薬液、リンス液、アルカリ性薬液、リンス液の順に吐出する。プリディスペンス処理時にノズル３から液受け部１１へ複数種類の処理液を吐出させる順序である第２吐出順序は、記憶部１０３（図１参照）に記憶されている。詳しくは、第２吐出順序は、プレレシピＹＲＰによって規定されている。

【0049】

カップ部７は、基板Ｗから排出される処理液を受け止めて、処理液が処理室２００ａの内部に飛散することを防止する。具体的には、カップ部７は、ガード部７１と、カップ液受け部７２とを含む。

【0050】

ガード部７１は、基板保持部２及び基板回転部４の外方に配置される。ガード部７１は、略筒形状を有する。換言すると、ガード部７１は、基板保持部２及び基板回転部４を取り囲んでいる。ガード部７１は、回転する基板Ｗから飛散する処理液を受け止める。

【0051】

カップ液受け部７２は、ガード部７１の下端部に結合される。カップ液受け部７２は、環状であり、ガード部７１の内側に環状の溝を形成する。ガード部７１で受け止められた処理液は、自重によりカップ液受け部７２まで流れ落ちる。あるいは、ガード部７１で受け止められた処理液は、ガード部７１から跳ね返り、自重によってカップ液受け部７２に落ちる。この結果、カップ液受け部７２の溝に処理液が集められる。

【0052】

昇降部７３は、カップ部７を昇降させる。昇降部７３は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御される。昇降部７３は、例えば、ボールねじ機構と、正逆回転可能な電動モータとを含む。電動モータは、ボールねじ機構を駆動する。

【0053】

具体的には、昇降部７３は、カップ部７を上位置と下位置との間で昇降させる。上位置は、下位置よりも上方の位置である。例えば、センターロボットＣＲ（図１）により基板Ｗが処理室２００ａ内部に搬入される際、あるいは、センターロボットＣＲ（図１）により基板Ｗが処理室２００ａ内部から搬出される際に、カップ部７は下位置に退避している。カップ部７は、処理液を受け止める際に、上位置に配置される。換言すると、カップ部７は、基板処理時に上位置に配置される。

【0054】

液受け部１１は、基板保持部２の外側に配置される。液受け部１１は、プリディスペンス処理時にノズル３から吐出される処理液を受け止める。本実施形態では、液受け部１１は、カップ部７の外側に配置される。具体的には、液受け部１１は、待機位置ＰＳ２（図３参照）の下方に位置する。液受け部１１は、例えば、待機ポッドである。

【0055】

排液機構６は、カップ部７に集められた処理液をカップ部７から排出させる。また、排液機構６は、液受け部１１に集められた処理液を液受け部１１から排出させる。具体的には、排液機構６は、ポッド排液配管６２と、カップ排液配管６３とを含む。処理室２００ａは、ポッド排液配管６２の一部と、カップ排液配管６３の一部とを収容する。

【0056】

ポッド排液配管６２は、管状の部材である。ポッド排液配管６２の一端は、液受け部１１の底部に接続する。液受け部１１に集められた処理液は、ポッド排液配管６２に流入する。ポッド排液配管６２は、液受け部１１の底部から処理室２００ａの外部まで延びる。

【0057】

カップ排液配管６３は、管状の部材である。カップ排液配管６３の一端は、カップ部７の底部に接続する。詳しくは、カップ排液配管６３の一端は、カップ液受け部７２の底部に接続する。カップ部７（カップ液受け部７２）に集められた処理液は、カップ排液配管６３に流入する。カップ排液配管６３は、カップ部７（カップ液受け部７２）の底部から処理室２００ａの外部まで延びる。

【0058】

液供給機構８は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、複数種類の処理液をノズル３に選択的に供給する。具体的には、液供給機構８は、供給配管８１を含む。供給配管８１は、管状の部材である。供給配管８１の一端は、ノズル３に接続する。供給配管８１は、処理液をノズル３まで流通させる。処理液が供給配管８１を介してノズル３まで流通することで、ノズル３から処理液が吐出される。処理室２００ａは、供給配管８１の一部を収容する。供給配管８１は、ノズル３から処理室２００ａの外部まで延びる。

【0059】

サックバック機構９は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、サックバック処理を実行する。サックバック処理は、ノズル３から供給配管８１へ処理液を引き込む処理を示す。サックバック処理は、ノズル３による処理液の吐出を停止させている際に実行される。より詳しくは、サックバック処理は、液供給機構８による処理液の供給が停止している際に実行される。詳しくは、サックバック処理は、ノズル３から基板Ｗへの複数種類の処理液の吐出が終了した後に実行される。具体的には、サックバック機構９は、サックバック配管９１と、サックバック弁９２とを含む。

【0060】

サックバック配管９１の一端は、供給配管８１に接続する。処理室２００ａは、サックバック配管９１の一部を収容する。サックバック配管９１は、サックバック配管９１と供給配管８１との接続箇所ＳＰから処理室２００ａの外部まで延びる。

【0061】

サックバック弁９２は、サックバック配管９１に設けられる。サックバック弁９２は、サックバック弁９２の内部流路の体積を変化させることができる。制御装置１０１（制御部１０２）は、サックバック処理時にサックバック弁９２の内部流路を大きくする。サックバック弁９２の内部流路が大きくなると、サックバック弁９２と接続箇所ＳＰとの間に滞留している処理液がサックバック配管９１の下流側へ流れて、ノズル３の先端と接続箇所ＳＰとの間に滞留している処理液が接続箇所ＳＰからサックバック配管９１へ引き込まれる。この結果、ノズル３から供給配管８１へ処理液がサックバック（後退）される。なお、制御装置１０１（制御部１０２）は、サックバック処理を行わない間、サックバック弁９２の内部流路の体積を小さくする。

【0062】

続いて、液供給機構８を更に説明する。図２に示すように、液供給機構８は、供給配管８１に加えて、切替弁８２と、多連弁８３と、第１配管ＣＰ１～第６配管ＣＰ６と、第１開閉バルブＶＡ１～第５開閉バルブＶＡ５とを更に含む。切替弁８２と、多連弁８３と、第１配管ＣＰ１～第６配管ＣＰ６と、第１開閉バルブＶＡ１～第５開閉バルブＶＡ５とは、処理室２００ａの外部に配置される。本実施形態において、液供給機構８は、ＤＨＦ（酸性薬液）、ＳＣ１（アルカリ性薬液）、及びＤＩＷ（リンス液）をノズル３に選択的に供給する。

【0063】

供給配管８１は、切替弁８２の二次側に接続する。第１配管ＣＰ１の一端、及び第６配管ＣＰ６の一端は、切替弁８２の一次側に接続する。第２配管ＣＰ２の一端は、第１配管ＣＰ１に接続する。第３配管ＣＰ３～第５配管ＣＰ５の一端は、多連弁８３の一次側に接続する。第６配管ＣＰ６の他端は、多連弁８３の二次側に接続する。

【0064】

第１開閉バルブＶＡ１～第５開閉バルブＶＡ５はそれぞれ、第１配管ＣＰ１～第５配管ＣＰ５に設けられる。第１開閉バルブＶＡ１～第５開閉バルブＶＡ５はそれぞれ、開状態と閉状態との間で切り替え可能である。第１開閉バルブＶＡ１～第５開閉バルブＶＡ５の各々の開閉状態は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御される。第１開閉バルブＶＡ１～第５開閉バルブＶＡ５が閉状態である間、液供給機構８からノズル３への処理液の供給が停止する。

【0065】

第１配管ＣＰ１は、ＤＨＦ及びＤＩＷを選択的に切替弁８２まで流通させる。第２配管ＣＰ２は、ＤＩＷを第１配管ＣＰ１まで流通させる。具体的には、第１開閉バルブＶＡ１を開状態にし、第２開閉バルブＶＡ２を閉状態にすることで、ＤＨＦが第１配管ＣＰ１を介して切替弁８２まで流通する。また、第２開閉バルブＶＡ２を開状態にし、第１開閉バルブＶＡ１を閉状態にすることで、ＤＩＷが第２配管ＣＰ２と第１配管ＣＰ１とを介して切替弁８２まで流通する。このように、第１開閉バルブＶＡ１は、切替弁８２の一次側へのＤＨＦの供給、及び切替弁８２の一次側へのＤＨＦの供給停止を制御する。また、第２開閉バルブＶＡ２は、切替弁８２の一次側へのＤＩＷの供給、及び切替弁８２の一次側へのＤＩＷの供給停止を制御する。

【0066】

第３配管ＣＰ３は、アンモニア水（ＮＨ₄ＯＨ）を多連弁８３まで流通させる。具体的には、第３開閉バルブＶＡ３を開状態にすることで、アンモニア水が第３配管ＣＰ３を介して多連弁８３まで流通する。このように、第３開閉バルブＶＡ３は、多連弁８３の一次側へのアンモニア水の供給、及び多連弁８３の一次側へのアンモニア水の供給停止を制御する。

【0067】

同様に、第４配管ＣＰ４は、過酸化水素（Ｈ₂Ｏ₂）を多連弁８３まで流通させる。第５配管ＣＰ５は、ＤＩＷを多連弁８３まで流通させる。第４開閉バルブＶＡ４は、多連弁８３の一次側への過酸化水素の供給、及び多連弁８３の一次側への過酸化水素の供給停止を制御する。また、第５開閉バルブＶＡ５は、多連弁８３の一次側へのＤＩＷの供給、及び多連弁８３の一次側へのＤＩＷの供給停止を制御する。

【0068】

ノズル３へＳＣ１を供給する際に、制御装置１０１（制御部１０２）は、第３開閉バルブＶＡ３～第５開閉バルブＶＡ５を開状態にして、多連弁８３にアンモニア水、過酸化水素、及びＤＩＷを供給する。この結果、多連弁８３の内部で、アンモニア水、過酸化水素、及びＤＩＷが混合されて、ＳＣ１が生成される。第６配管ＣＰ６は、多連弁８３から切替弁８２までＳＣ１を流通させる。つまり、第６配管ＣＰ６は、切替弁８２にＳＣ１を供給する。

【0069】

切替弁８２は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、ＤＨＦ（酸性薬液）、ＳＣ１（アルカリ性薬液）、及びＤＩＷ（リンス液）を選択的に供給配管８１に供給する。具体的には、ＤＨＦ又はＤＩＷを供給配管８１に供給するとき、切替弁８２は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、供給配管８１と第１配管ＣＰ１とを連通させる。また、ＳＣ１を供給配管８１に供給するとき、切替弁８２は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、供給配管８１と第６配管ＣＰ６とを連通させる。

【0070】

続いて、図１～図４を参照して、排液機構６を説明する。図４は、本実施形態の基板処理装置１００に含まれる排液機構６の構成を模式的に示す図である。図４に示すように、排液機構６は、ポッド排液配管６２と、カップ排液配管６３とに加えて、切替弁６４を更に含む。基板処理装置１００は、第１ドレイン配管ＤＰ１と、第２ドレイン配管ＤＰ２と、ドレインタンク６５とを更に備える。

【0071】

排液機構６は、プリディスペンス処理時に液受け部１１（図２及び図３参照）から排出される酸性薬液（ＤＨＦ）を第１ドレイン配管ＤＰ１へ導く。また、排液機構６は、プリディスペンス処理時に液受け部１１（図２及び図３参照）から排出されるアルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）を第２ドレイン配管ＤＰ２へ導く。

【0072】

更に、排液機構６は、基板処理時にカップ部７（図２及び図３参照）から排出される酸性薬液（ＤＨＦ）を第１ドレイン配管ＤＰ１へ導く。また、排液機構６は、基板処理時にカップ部７（図２及び図３参照）から排出されるアルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）を第２ドレイン配管ＤＰ２へ導く。

【0073】

具体的には、カップ排液配管６３の他端は、切替弁６４の一次側に接続している。ポッド排液配管６２の他端は、カップ排液配管６３に接続している。したがって、プリディスペンス処理時に液受け部１１から排出される処理液は、ポッド排液配管６２からカップ排液配管６３に流入し、カップ排液配管６３を介して切替弁６４まで流通する。また、基板処理時にカップ部７から排出される処理液は、カップ排液配管６３を介して切替弁６４まで流通する。

【0074】

切替弁６４の二次側には、第１ドレイン配管ＤＰ１の一端と、第２ドレイン配管ＤＰ２の一端とが接続している。切替弁６４は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、酸性薬液（ＤＨＦ）を第１ドレイン配管ＤＰ１へ供給し、アルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）を第２ドレイン配管ＤＰ２に供給する。具体的には、ＤＨＦを第１ドレイン配管ＤＰ１に供給するとき、切替弁６４は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、カップ排液配管６３と第１ドレイン配管ＤＰ１とを連通させる。また、ＳＣ１又はＤＩＷを第２ドレイン配管ＤＰ２に供給するとき、切替弁６４は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、カップ排液配管６３と第２ドレイン配管ＤＰ２とを連通させる。

【0075】

ドレインタンク６５には、第２ドレイン配管ＤＰ２の他端が接続している。ドレインタンク６５には、第２ドレイン配管ＤＰ２からアルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）が流入する。ドレインタンク６５は、「液槽」の一例である。

【0076】

本実施形態では、サックバック配管９１の他端がドレインタンク６５に接続する。したがって、サックバック機構９は、サックバックした処理液をドレインタンク６５まで流通させる。よって、ドレインタンク６５には、サックバック機構９によってサックバックされた処理液が流入する。

【0077】

本実施形態では、制御装置１０１（制御部１０２）は、ノズル３から基板Ｗへの２回目のリンス液（ＤＩＷ）の供給が停止した後にサックバック処理を実行する。したがって、サックバック機構９は、サックバックしたリンス液（ＤＩＷ）をドレインタンク６５まで流通させる。つまり、ドレインタンク６５には、サックバック機構９によってサックバックされたリンス液（ＤＩＷ）が流入する。

【0078】

続いて、図１～図６を参照して、本実施形態の基板処理方法を説明する。本実施形態の基板処理方法は、ノズル３から処理液をプリディスペンス（予備吐出）させる方法と、基板Ｗを処理する方法とを含む。図５は、ノズル３から処理液をプリディスペンス（予備吐出）させる方法を示すフローチャートである。図６は、基板Ｗを処理する方法を示すフローチャートである。図５及び図６に示す基板処理方法は、図１～図４を参照して説明した基板処理装置１００によって実行される。したがって、図５及び図６は、本実施形態の基板処理装置１００の動作を示す。

【0079】

図５に示すように、プリディスペンス処理時に、制御装置１０１（制御部１０２）は、待機位置ＰＳ２に配置されたノズル３から、酸性薬液（ＤＨＦ）、アルカリ性薬液（ＳＣ１）、及びリンス液（ＤＩＷ）を選択的に吐出させる。

【0080】

具体的には、制御装置１０１（制御部１０２）は、プリディスペンス処理を開始すると、待機位置ＰＳ２に配置されたノズル３から、酸性薬液（ＤＨＦ）を吐出させる（ステップＳ１）。ノズル３から吐出された酸性薬液（ＤＨＦ）は、液受け部１１で受け止められる。そして、液受け部１１から排出された酸性薬液（ＤＨＦ）が、排液機構６によって第１ドレイン配管ＤＰ１へ導かれる。

【0081】

制御装置１０１（制御部１０２）は、酸性薬液（ＤＨＦ）の吐出後、待機位置ＰＳ２に配置されたノズル３からリンス液（ＤＩＷ）を吐出させる（ステップＳ２）。ノズル３から吐出されたリンス液（ＤＩＷ）は、液受け部１１で受け止められる。そして、液受け部１１から排出されたリンス液（ＤＩＷ）が、排液機構６によって第２ドレイン配管ＤＰ２へ導かれる。

【0082】

制御装置１０１（制御部１０２）は、リンス液（ＤＩＷ）の吐出後、待機位置ＰＳ２に配置されたノズル３からアルカリ性薬液（ＳＣ１）を吐出させる（ステップＳ３）。ノズル３から吐出されたアルカリ性薬液（ＳＣ１）は、液受け部１１で受け止められる。そして、液受け部１１から排出されたアルカリ性薬液（ＳＣ１）が、排液機構６によって第２ドレイン配管ＤＰ２へ導かれる。

【0083】

制御装置１０１（制御部１０２）は、アルカリ性薬液（ＳＣ１）の吐出後、待機位置ＰＳ２に配置されたノズル３からリンス液（ＤＩＷ）を再度吐出させる（ステップＳ４）。この結果、図５に示すプリディスペンス処理が終了する。ステップＳ２と同様に、ノズル３から吐出されたリンス液（ＤＩＷ）は、第２ドレイン配管ＤＰ２へ導かれる。

【0084】

プリディスペンス処理の終了後、基板処理が実行される。具体的には、図６に示すように、制御装置１０１（制御部１０２）は、センターロボットＣＲを制御して、処理室２００ａ内に基板Ｗを搬入させる（ステップＳ１１）。そして、制御装置１０１（制御部１０２）は、基板保持部２に基板Ｗを保持させる。基板保持部２が基板Ｗを保持すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、昇降部７３を制御して、カップ部７を下位置から上位置へ移動させる。

【0085】

カップ部７を下位置から上位置へ移動させた後、制御装置１０１（制御部１０２）は、基板回転部４を制御して、基板Ｗを回転させる。また、制御装置１０１（制御部１０２）は、ノズル移動部５を制御して、ノズル３を待機位置ＰＳ２から処理位置ＰＳ１へ移動させる。基板Ｗの回転速度が既定の回転速度に達すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、液供給機構８を制御して、回転中の基板Ｗに向けてノズル３から酸性薬液（ＤＨＦ）、アルカリ性薬液（ＳＣ１）、及びリンス液（ＤＩＷ）を選択的に吐出させる。

【0086】

具体的には、制御装置１０１（制御部１０２）は、基板処理を開始すると、液供給機構８を制御して、ノズル３に酸性薬液（ＤＨＦ）を供給する。この結果、ノズル３から酸性薬液（ＤＨＦ）が吐出されて、回転中の基板Ｗに酸性薬液（ＤＨＦ）が供給される（ステップＳ１２）。

【0087】

制御装置１０１（制御部１０２）は、酸性薬液（ＤＨＦ）の吐出を開始させてから第１既定時間が経過するまで、ノズル３から基板Ｗに酸性薬液（ＤＨＦ）を供給させる。この結果、基板Ｗの上面に酸性薬液（ＤＨＦ）の液膜が形成される。酸性薬液（ＤＨＦ）の供給中に基板Ｗから排出される酸性薬液（ＤＨＦ）は、カップ部７で受け止められる。カップ部７で受け止められた酸性薬液（ＤＨＦ）は、排液機構６により第１ドレイン配管ＤＰ１へ導かれる。

【0088】

第１既定期間が経過すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、液供給機構８を制御して、ノズル３に供給する処理液を酸性薬液（ＤＨＦ）からリンス液（ＤＩＷ）に切り替える。この結果、ノズル３からリンス液（ＤＩＷ）が吐出されて、回転中の基板Ｗにリンス液（ＤＩＷ）が供給される（ステップＳ１３）。

【0089】

制御装置１０１（制御部１０２）は、リンス液（ＤＩＷ）の吐出を開始させてから第２既定時間が経過するまで、ノズル３から基板Ｗにリンス液（ＤＩＷ）を供給させる。この結果、基板Ｗの上面にリンス液（ＤＩＷ）の液膜が形成される。換言すると、基板Ｗの上面の液膜が、酸性薬液（ＤＨＦ）の液膜からリンス液（ＤＩＷ）の液膜に置換される。リンス液（ＤＩＷ）の供給中に基板Ｗから排出されるリンス液（ＤＩＷ）は、カップ部７で受け止められる。カップ部７で受け止められたリンス液（ＤＩＷ）は、排液機構６により第２ドレイン配管ＤＰ２へ導かれる。この結果、第２ドレイン配管ＤＰ２を介してドレインタンク６５にリンス液（ＤＩＷ）が流入する。

【0090】

第２既定期間が経過すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、液供給機構８を制御して、ノズル３に供給する処理液をリンス液（ＤＩＷ）からアルカリ性薬液（ＳＣ１）に切り替える。この結果、ノズル３からアルカリ性薬液（ＳＣ１）が吐出されて、回転中の基板Ｗにアルカリ性薬液（ＳＣ１）が供給される（ステップＳ１４）。

【0091】

制御装置１０１（制御部１０２）は、アルカリ性薬液（ＳＣ１）の吐出を開始させてから第３既定時間が経過するまで、ノズル３から基板Ｗにアルカリ性薬液（ＳＣ１）を供給させる。この結果、基板Ｗの上面にアルカリ性薬液（ＳＣ１）の液膜が形成される。換言すると、基板Ｗの上面の液膜が、リンス液（ＤＩＷ）の液膜からアルカリ性薬液（ＳＣ１）の液膜に置換される。アルカリ性薬液（ＳＣ１）の供給中に基板Ｗから排出されるアルカリ性薬液（ＳＣ１）は、カップ部７で受け止められる。カップ部７で受け止められたアルカリ性薬液（ＳＣ１）は、排液機構６により第２ドレイン配管ＤＰ２へ導かれる。この結果、第２ドレイン配管ＤＰ２を介してドレインタンク６５にアルカリ性薬液（ＳＣ１）が流入する。

【0092】

第３既定期間が経過すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、液供給機構８を制御して、ノズル３に供給する処理液をアルカリ性薬液（ＳＣ１）からリンス液（ＤＩＷ）に切り替える。この結果、ノズル３からリンス液（ＤＩＷ）が吐出されて、回転中の基板Ｗにリンス液（ＤＩＷ）が供給される（ステップＳ１５）。

【0093】

制御装置１０１（制御部１０２）は、リンス液（ＤＩＷ）の吐出を開始させてから第４既定時間が経過するまで、ノズル３から基板Ｗにリンス液（ＤＩＷ）を供給させる。この結果、基板Ｗの上面にリンス液（ＤＩＷ）の液膜が形成される。換言すると、基板Ｗの上面の液膜が、アルカリ性薬液（ＳＣ１）の液膜からリンス液（ＤＩＷ）の液膜に置換される。リンス液（ＤＩＷ）の供給中に基板Ｗから排出されるリンス液（ＤＩＷ）は、カップ部７で受け止められる。カップ部７で受け止められたリンス液（ＤＩＷ）は、排液機構６により第２ドレイン配管ＤＰ２へ導かれる。この結果、第２ドレイン配管ＤＰ２を介してドレインタンク６５にリンス液（ＤＩＷ）が流入する。

【0094】

第４既定時間が経過すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、基板回転部４を制御して、基板Ｗの回転速度を増加させる。この結果、基板Ｗが乾燥する（ステップＳ１６）。また、制御装置１０１（制御部１０２）は、ノズル移動部５を制御して、ノズル３を処理位置ＰＳ１から待機位置ＰＳ２へ移動させる。基板Ｗの回転速度を増加させてから第５既定時間が経過すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、基板回転部４を制御して、基板Ｗの回転を停止させる。

【0095】

制御装置１０１（制御部１０２）は、基板Ｗの回転を停止させると、昇降部７３を制御して、カップ部７を上位置から下位置へ移動させる。カップ部７が下位置へ移動すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、基板保持部２を制御して、基板Ｗの保持を解除させる。そして、制御装置１０１（制御部１０２）は、センターロボットＣＲを制御して、処理室２００ａの外部に基板Ｗを搬出させる（ステップＳ１７）。この結果、図６に示す処理が終了する。

【0096】

以上、図１～図６を参照して説明したように、本実施形態によれば、同一のノズル（ノズル３）から複数種類の処理液を選択的に吐出させることができる。したがって、基板Ｗに供給する処理液の種類を切り替える際に、基板Ｗへの処理液の供給が途切れない。よって、基板Ｗに供給する処理液の種類が切り替わる際に基板Ｗの外周部が液膜で覆われない状態になり難くなる。

【0097】

更に、本実施形態によれば、プリディスペンス処理時に排出される酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンス液を、基板処理時に排出される酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンスと同じドレイン配管に導くことができる。その結果、ドレインタンク６５に酸性薬液とアルカリ性薬液とが混入することを回避できる。よって、ドレインタンク６５において酸性薬液とアルカリ性薬液とが反応してドレインタンク６５が損傷をすることを回避できる。

【0098】

続いて、図１～図８を参照して、本実施形態の基板処理装置１００を説明する。図７（ａ）は、本実施形態の基板処理装置１００の構成の一部を示すブロック図である。図７（ｂ）は、本実施形態の基板処理装置１００に含まれる表示部１０５に表示されるエラーメッセージＭを示す図である。図７（ａ）に示すように、基板処理装置１００は、入力部１０４と、表示部１０５とを更に備える。

【0099】

入力部１０４は、作業者が操作するユーザーインターフェース装置である。入力部１０４は、作業者の操作に応じた指示（制御信号）を制御部１０２に入力する。また、入力部１０４は、作業者の操作に応じたデータを制御部１０２に入力する。入力部１０４は、典型的には、キーボード及びマウスを有する。なお、入力部１０４は、タッチセンサーを有してもよい。タッチセンサーは、表示部１０５の表示面に重畳されて、作業者の表示面に対するタッチ操作を示す信号を生成する。作業者は、タッチ操作により、制御部１０２に対して各種の指示を入力することができる。

【0100】

例えば、入力部１０４は、作業者によって操作されて、第１吐出順序と、第２吐出順序とを入力する。既に説明したように、第１吐出順序は、基板処理時にノズル３から基板Ｗへ向けて複数種類の処理液を吐出させる順序を示す。第２吐出順序は、プリディスペンス処理時にノズル３から液受け部１１へ向けて複数種類の処理液を吐出させる順序を示す。具体的には、作業者は、入力部１０４を操作して、プレレシピＹＲＰ及びプロセスレシピＳＲＰを作成する。

【0101】

表示部１０５は、各種の画面を表示する。表示部１０５は、典型的には、液晶表示装置又は有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置のような表示装置である。例えば、表示部１０５は、プレレシピＹＲＰの入力画面と、プロセスレシピＳＲＰの入力画面とを選択的に表示する。

【0102】

本実施形態において、記憶部１０３は、第１吐出順序の禁止規則である第１禁止規則と、第２吐出順序の禁止規則である第２禁止規則とを記憶している。第１禁止規則は、酸性薬液の吐出後にアルカリ性薬液を吐出させる吐出順序の設定を禁止する規則を示す。第２禁止規則も同様に、酸性薬液の吐出後にアルカリ性薬液を吐出させる吐出順序の設定を禁止する規則を示す。

【0103】

作業者が、入力部１０４を操作して、第１禁止規則に該当する第１吐出順序を入力した場合、制御部１０２は、その第１吐出順序の設定を受け付けない。同様に、作業者が、入力部１０４を操作して、第２禁止規則に該当する第２吐出順序を入力した場合、制御部１０２は、その第２吐出順序の設定を受け付けない。

【0104】

具体的には、作業者が、入力部１０４を操作して、第１禁止規則に該当する第１吐出順序を規定するプロセスレシピＳＲＰを入力した場合、制御部１０２は、そのプロセスレシピＳＲＰの設定を受け付けない。同様に、作業者が、入力部１０４を操作して、第２禁止規則に該当する第２吐出順序を規定するプレレシピＹＲＰを入力した場合、制御部１０２は、そのプレレシピＹＲＰの設定を受け付けない。

【0105】

制御部１０２は、第１禁止規則に該当する第１吐出順序が入力されたとき、表示部１０５にエラーメッセージＭを表示させてもよい。同様に、制御部１０２は、第２禁止規則に該当する第２吐出順序が入力されたとき、表示部１０５にエラーメッセージＭを表示させてもよい。図７（ｂ）に示すように、エラーメッセージＭは、例えば、作業者によって作成されたレシピに修正が必要である旨を示してもよい。

【0106】

具体的には、第１禁止規則に該当する第１吐出順序を規定するプロセスレシピＳＲＰが入力された場合、制御部１０２は、表示部１０５にエラーメッセージＭを表示させてもよい。同様に、第２禁止規則に該当する第２吐出順序を規定するプレレシピＹＲＰが入力された場合、制御部１０２は、表示部１０５にエラーメッセージＭを表示させてもよい。

【0107】

ここで、図８（ａ）及び図８（ｂ）を参照して、第２禁止規則を説明する。図８（ａ）は、プレレシピＹＲＰの第１例を模式的に示す図である。図８（ｂ）は、プレレシピＹＲＰの第２例を模式的に示す図である。以下、プレレシピＹＲＰの第１例を、「第１プレレシピＹＲＰ１」と記載する場合がある。また、プレレシピＹＲＰの第２例を、「第２プレレシピＹＲＰ２」と記載する場合がある。

【0108】

図８（ａ）に示すように、第１プレレシピＹＲＰ１は、酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンス液を、酸性薬液、リンス液、アルカリ性薬液、リンス液の順序で吐出することを規定している。したがって、第１プレレシピＹＲＰ１の第２吐出順序は、酸性薬液の吐出後にアルカリ性薬液を吐出させる吐出順序を示していないため、第２禁止規則に該当しない。よって、制御部１０２は、第１プレレシピＹＲＰ１（第２吐出順序）の設定を受け付ける。なお、第１禁止規則に該当しない第１吐出順序を規定するプロセスレシピＳＲＰが入力された場合も同様に、制御部１０２は、そのプロセスレシピＳＲＰ（第１吐出順序）の設定を受け付ける。

【0109】

一方、図８（ｂ）に示すように、第２プレレシピＹＲＰ２は、酸性薬液、アルカリ性薬液、及びリンス液を、酸性薬液、アルカリ性薬液、リンス液の順序で吐出することを規定している。したがって、第２プレレシピＹＲＰ２の第２吐出順序は、酸性薬液の吐出後にアルカリ性薬液を吐出させる吐出順序を示しているため、第２禁止規則に該当する。よって、制御部１０２は、第２プレレシピＹＲＰ２（第２吐出順序）の設定を受け付けず、図７（ｂ）を参照して説明したように、エラーメッセージＭを表示部１０５に表示させる。

【0110】

なお、第１禁止規則に該当する第１吐出順序を規定するプロセスレシピＳＲＰが入力された場合も同様に、制御部１０２は、そのプロセスレシピＳＲＰ（第１吐出順序）の設定を受け付けず、図７（ｂ）を参照して説明したように、エラーメッセージＭを表示部１０５に表示させる。

【0111】

本実施形態によれば、酸性薬液の吐出後にアルカリ性薬液が吐出されないため、基板処理時に、例えばカップ部７において酸性薬液とアルカリ性薬液とが反応してカップ部７が損傷することを回避できる。同様に、プリディスペンス処理時に、例えば液受け部１１において酸性薬液とアルカリ性薬液とが反応して液受け部１１が損傷することを回避できる。

【0112】

続いて、図１～図７及び図９を参照して、本実施形態の基板処理装置１００を説明する。本実施形態において、記憶部１０３は、第３禁止規則を更に記憶する。第３禁止規則は、基板処理時にノズル３から最後に吐出される処理液がリンス液以外の処理液である場合に、サックバック機構９の作動を禁止する規則を示す。具体的には、作業者が、入力部１０４を操作して、第３禁止規則に該当する第１吐出順序を規定するプロセスレシピＳＲＰを入力した場合、制御部１０２は、サックバック処理を実行しない。

【0113】

ここで、図９（ａ）及び図９（ｂ）を参照して、第３禁止規則を説明する。図９（ａ）は、プロセスレシピＳＲＰの第１例を模式的に示す図である。図９（ｂ）は、プロセスレシピＳＲＰの第２例を模式的に示す図である。以下、プロセスレシピＳＲＰの第１例を、「第１プロセスレシピＳＲＰ１１」と記載する場合がある。また、プロセスレシピＳＲＰの第２例を、「第２プロセスレシピＳＲＰ１２」と記載する場合がある。

【0114】

図９（ａ）に示すように、第１プロセスレシピＳＲＰ１１は、基板処理時にノズル３から最後にリンス液（ＤＩＷ）を吐出させる吐出順序（第１吐出順序）を規定している。したがって、第１プロセスレシピＳＲＰ１１は、第３規則に該当しない。よって、制御部１０２は、２回目のリンス液がノズル３から吐出された後に、サックバック機構９を作動させて、サックバック処理を実行する。

【0115】

一方、図９（ｂ）に示すように、第２プロセスレシピＳＲＰ１２は、基板処理時にノズル３から最後に酸性薬液（ＤＨＦ）を吐出させる吐出順序（第１吐出順序）を規定している。したがって、第２プロセスレシピＳＲＰ１２は、第３禁止規則に該当する。よって、制御部１０２は、酸性薬液（ＤＨＦ）がノズル３から吐出された後にサックバック機構９を作動させない。つまり、制御部１０２は、サックバック処理を実行しない。

【0116】

本実施形態によれば、第１吐出順序において最後にノズル３から吐出される処理液がリンス液以外の処理液である場合に、サックバック機構９の作動を禁止するため、サックバック機構９からドレインタンク６５にリンス液のみが流入する。したがって、ドレインタンク６５において酸性薬液とアルカリ性薬液とが反応してドレインタンク６５が損傷をすることを回避できる。

【0117】

続いて、図１～図６及び図１０を参照して、本実施形態の基板処理装置１００を説明する。図１０は、ノズル３に処理液を供給するタイミングを示す図である。図１０において、横軸は時刻ｔを示す。また、図１０において、「ＯＮ」はノズル３に処理液を供給することを示し、「ＯＦＦ」はノズル３への処理液の供給を停止させることを示す。

【0118】

本実施形態において、制御装置１０１（制御部１０２）は、プロセスレシピＳＲＰで規定される処理液の吐出停止タイミングとは異なるタイミングで処理液の吐出を停止させる。具体的には、制御装置１０１（制御部１０２）は、処理液の吐出を、プロセスレシピＳＲＰで規定される処理液の吐出停止タイミングより遅れたタイミングで停止させる。

【0119】

詳しくは、制御装置１０１（制御部１０２）は、ノズル３への処理液の供給を制御して、ノズル３から基板Ｗへ吐出させる処理液の種類を切り替える際に、ノズル３から先行して吐出されている処理液の供給停止タイミングを遅延させて、２種類の処理液を一定期間同時にノズル３へ供給する。つまり、制御装置１０１（制御部１０２）は、液供給機構８を制御して、処理液の供給停止タイミングを遅延させる。

【0120】

具体的には、図１０に示すように、制御装置１０１（制御部１０２）は、時刻ｔ１において、１回目のリンス液（ＤＩＷ）の供給を開始させた後、時刻ｔ２において、酸性薬液（ＤＨＦ）の供給を停止させる。したがって、時刻ｔ１から時刻ｔ２にわたり、酸性薬液（ＤＨＦ）とリンス液（ＤＩＷ）とが一定期間同時にノズル３へ供給される。よって、酸性薬液（ＤＨＦ）とリンス液（ＤＩＷ）とが同時にノズル３から吐出される。

【0121】

同様に、制御装置１０１（制御部１０２）は、時刻ｔ３において、アルカリ性薬液（ＳＣ１）の供給を開始させた後、時刻ｔ４において、１回目のリンス液（ＤＩＷ）の供給を停止させる。したがって、時刻ｔ３から時刻ｔ４にわたり、リンス液（ＤＩＷ）とアルカリ性薬液（ＳＣ１）とが一定期間同時にノズル３へ供給される。よって、リンス液（ＤＩＷ）とアルカリ性薬液（ＳＣ１）とが同時にノズル３から吐出される。

【0122】

また、制御装置１０１（制御部１０２）は、時刻ｔ５において、２回目のリンス液（ＤＩＷ）の供給を開始させた後、時刻ｔ６において、アルカリ性薬液（ＳＣ１）の供給を停止させる。したがって、時刻ｔ５から時刻ｔ６にわたり、リンス液（ＤＩＷ）とアルカリ性薬液（ＳＣ１）とが一定期間同時にノズル３へ供給される。よって、リンス液（ＤＩＷ）とアルカリ性薬液（ＳＣ１）とが同時にノズル３から吐出される。

【0123】

本実施形態によれば、ノズル３から先行して吐出されている処理液の吐出を停止させる前に、次の処理液の供給を開始させることができる。したがって、基板Ｗに供給する処理液の種類を切り替える際に、基板Ｗへの処理液の供給がより途切れ難くなる。よって、基板Ｗに供給する処理液の種類が切り替わる際に基板Ｗの外周部が液膜で覆われない状態になり難くなる。

【0124】

［実施形態２］
続いて図１１及び図１２を参照して本発明の実施形態２について説明する。但し、実施形態１と異なる事項を説明し、実施形態１と同じ事項についての説明は割愛する。実施形態２では、実施形態１と異なり、基板処理部２００が第１液受け部１１ａ及び第２液受け部１１ｂを含む。また、実施形態２は、排液機構６の構成が実施形態１と異なる。

【0125】

図１１は、本実施形態の基板処理装置１００に含まれる基板処理部２００の内部の構成、排液機構６の構成、及び液供給機構８の構成を模式的に示す図である。図１１に示すように、本実施形態において、基板処理部２００は、第１液受け部１１ａと、第２液受け部１１ｂとを含む。また、排液機構６は、第１ポッド排液配管６２ａと、第２ポッド排液配管６２ｂとを含む。

【0126】

第１液受け部１１ａ及び第２液受け部１１ｂは、基板保持部２の外側に配置される。本実施形態において、第１液受け部１１ａ及び第２液受け部１１ｂは、カップ部７の外側に配置される。第１液受け部１１ａは、プリディスペンス処理時に、ノズル３から吐出されるアルカリ性薬液及びリンス液を受け止める。第２液受け部１１ｂは、プリディスペンス処理時に、ノズル３から吐出される酸性薬液を受け止める。第１液受け部１１ａ及び第２液受け部１１ｂは、例えば、待機ポッドである。

【0127】

第１ポッド排液配管６２ａ及び第２ポッド排液配管６２ｂは、管状の部材である。第１ポッド排液配管６２ａの一端は、第１液受け部１１ａの底部に接続する。第１液受け部１１ａに集められた処理液は、第１ポッド排液配管６２ａに流入する。第１ポッド排液配管６２ａは、第１液受け部１１ａの底部から処理室２００ａの外部まで延びる。同様に、第２ポッド排液配管６２ｂの一端は、第２液受け部１１ｂの底部に接続する。第２液受け部１１ｂに集められた処理液は、第２ポッド排液配管６２ｂに流入する。第２ポッド排液配管６２ｂは、第２液受け部１１ｂの底部から処理室２００ａの外部まで延びる。

【0128】

図１２は、本実施形態の基板処理装置１００に含まれる排液機構６の構成を模式的に示す図である。本実施形態において、排液機構６は、プリディスペンス処理時に第１液受け部１１ａ（図１１参照）から排出されるアルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）を第２ドレイン配管ＤＰ２へ導く。また、排液機構６は、プリディスペンス処理時に第２液受け部１１ｂ（図１１参照）から排出される酸性薬液（ＤＨＦ）を第１ドレイン配管ＤＰ１へ導く。

【0129】

具体的には、図１１を参照して説明した第１ポッド排液配管６２ａの他端が第２ドレイン配管ＤＰ２に接続する。また、図１１を参照して説明した第２ポッド排液配管６２ｂの他端が第１ドレイン配管ＤＰ１に接続する。

【0130】

したがって、プリディスペンス処理時に第１液受け部１１ａから排出されるアルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）は、第１ポッド排液配管６２ａを介して第２ドレイン配管ＤＰ２に導かれる。その結果、プリディスペンス処理時にノズル３から吐出されたアルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）は、ドレインタンク６５に流入する。また、プリディスペンス処理時に第２液受け部１１ｂから排出される酸性薬液（ＤＨＦ）は、第２ポッド排液配管６２ｂを介して第１ドレイン配管ＤＰ１に導かれる。

【0131】

以上、図１１及び図１２を参照して、本発明の実施形態２を説明した。実施形態２によれば、実施形態１と同様に、基板Ｗに供給する処理液の種類が切り替わる際に基板Ｗの外周部が液膜で覆われない状態になり難くなる。また、実施形態１と同様に、ドレインタンク６５において酸性薬液とアルカリ性薬液とが反応してドレインタンク６５が損傷をすることを回避できる。

【0132】

［実施形態３］
続いて図１３～図１６を参照して本発明の実施形態３について説明する。但し、実施形態１、２と異なる事項を説明し、実施形態１、２と同じ事項についての説明は割愛する。実施形態３では、実施形態１と異なり、カップ部７が、第１カップ部７ａと、第２カップ部７ｂとを含む。また、実施形態３は、排液機構６の構成と、サックバック機構９の構成と、液供給機構８の構成とが実施形態１、２と異なる。

【0133】

図１３は、本実施形態の基板処理装置１００に含まれる基板処理部２００の内部の構成、排液機構６の構成、及び液供給機構８の構成を模式的に示す図である。図１３に示すように、本実施形態の基板処理装置１００において、液供給機構８は、ＤＨＦと、ＳＣ１と、ＤＩＷと、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）とをノズル３に選択的に供給する。したがって、ノズル３は、ＤＨＦ（酸性薬液）と、ＳＣ１（アルカリ性薬液）と、ＤＩＷ（リンス液）と、ＩＰＡとを選択的に吐出する。ＩＰＡは、有機溶剤の一例である。

【0134】

具体的には、液供給機構８は、第６開閉バルブＶＡ６と、第７配管ＣＰ７とを更に含む。第６開閉バルブＶＡ６と、第７配管ＣＰ７とは、処理室２００ａの外部に配置される。第７配管ＣＰ７の一端は、第２配管ＣＰ２に接続する。第６開閉バルブＶＡ６は、第７配管ＣＰ７に設けられる。第６開閉バルブＶＡ６は、開状態と閉状態との間で切り替え可能である。第６開閉バルブＶＡ６の開閉状態は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御される。本実施形態では、第１開閉バルブＶＡ１～第６開閉バルブＶＡ６が閉状態である間、液供給機構８からノズル３への処理液の供給が停止する。

【0135】

第７配管ＣＰ７は、第２配管ＣＰ２までＩＰＡを流通させる。本実施形態では、第１配管ＣＰ１は、ＤＨＦ、ＤＩＷ及びＩＰＡを選択的に切替弁８２まで流通させる。第２配管ＣＰ２は、ＤＩＷ及びＩＰＡを選択的に第１配管ＣＰ１まで流通させる。

【0136】

具体的には、第１開閉バルブＶＡ１を開状態にし、第２開閉バルブＶＡ２及び第６開閉バルブＶＡ６を閉状態にすることで、ＤＨＦが第１配管ＣＰ１を介して切替弁８２まで流通する。また、第２開閉バルブＶＡ２を開状態にし、第１開閉バルブＶＡ１及び第６開閉バルブＶＡ６を閉状態にすることで、ＤＩＷが第２配管ＣＰ２と第１配管ＣＰ１とを介して切替弁８２まで流通する。同様に、第６開閉バルブＶＡ６を開状態にし、第１開閉バルブＶＡ１及び第２開閉バルブＶＡ２を閉状態にすることで、ＩＰＡが第７配管ＣＰ７、第２配管ＣＰ２、及び第１配管ＣＰ１を介して切替弁８２まで流通する。このように、第６開閉バルブＶＡ６は、切替弁８２の一次側へのＩＰＡの供給、及び切替弁８２の一次側へのＩＰＡの供給停止を制御する。

【0137】

切替弁８２は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、ＤＨＦ（酸性薬液）、ＳＣ１（アルカリ性薬液）、ＤＩＷ（リンス液）、及びＩＰＡ（有機溶剤）を選択的に供給配管８１に供給する。具体的には、ＤＨＦ、ＤＩＷ、又はＩＰＡを供給配管８１に供給するとき、切替弁８２は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、供給配管８１と第１配管ＣＰ１とを連通させる。また、ＳＣ１を供給配管８１に供給するとき、切替弁８２は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、供給配管８１と第６配管ＣＰ６とを連通させる。

【0138】

カップ部７は、第１カップ部７ａと、第２カップ部７ｂとを含む。第１カップ部７ａは、第１ガード部７１ａと、第１カップ液受け部７２ａとを含む。第２カップ部７ｂは、第２ガード部７１ｂと、第２カップ液受け部７２ｂとを含む。第１カップ部７ａの構成は、図２を参照して説明したカップ部７と同様であるため、その詳細な説明は割愛する。

【0139】

第２ガード部７１ｂは、第１ガード部７１ａの外方に配置される。第２ガード部７１ｂは、略筒形状を有する。換言すると、第２ガード部７１ｂは、第１ガード部７１ａを取り囲んでいる。

【0140】

第２カップ液受け部７２ｂは、第２ガード部７１ｂの下端部に結合される。第２カップ液受け部７２ｂは、環状であり、第２ガード部７１ｂの内側に環状の溝を形成する。図２を参照して説明したカップ部７と同様に、第２ガード部７１ｂで受け止められた処理液は、第２カップ液受け部７２ｂの溝に集められる。

【0141】

昇降部７３は、第１カップ部７ａ及び第２カップ部７ｂを個別に昇降させる。昇降部７３は、基板Ｗから排出される処理液を第１カップ部７ａで受け止める場合、第１カップ部７ａを上位置へ移動させる。昇降部７３は、基板Ｗから排出される処理液を第２カップ部７ｂで受け止める場合、第１カップ部７ａを下位置で待機させる。この結果、第２ガード部７１ｂが、回転する基板Ｗから飛散する処理液を受け止める。

【0142】

具体的には、制御装置１０１（制御部１０２）は、基板処理時に第１カップ部７ａを下位置に退避させる。また、制御装置１０１（制御部１０２）は、乾燥処理時に第１カップ部７ａを上位置へ移動させる。したがって、第２カップ部７ｂは、基板処理時に、基板Ｗから排出される処理液を受け止める。第１カップ部７ａは、乾燥処理時に、基板Ｗから排出される処理液を受け止める。

【0143】

排液機構６は、ポッド排液配管６２と、第１カップ排液配管６３ａと、第２カップ排液配管６３ｂと、分岐部６６と、第１分岐配管６７ａと、第２分岐配管６７ｂとを含む。処理室２００ａは、ポッド排液配管６２と、第１カップ排液配管６３ａの一部と、第２カップ排液配管６３ｂの一部と、分岐部６６と、第１分岐配管６７ａの一部と、第２分岐配管６７ｂの一部とを収容する。

【0144】

ポッド排液配管６２は、管状の部材である。ポッド排液配管６２の一端は、液受け部１１の底部に接続する。液受け部１１に集められた処理液は、ポッド排液配管６２に流入する。ポッド排液配管６２の他端は、分岐部６６に接続する。

【0145】

第１カップ排液配管６３ａは、管状の部材である。第１カップ排液配管６３ａの一端は、第２カップ部７ｂの底部に接続する。詳しくは、第１カップ排液配管６３ａの一端は、第２カップ液受け部７２ｂの底部に接続する。第２カップ部７ｂ（第２カップ液受け部７２ｂ）に集められた処理液は、第１カップ排液配管６３ａに流入する。第１カップ排液配管６３ａは、第２カップ部７ｂ（第２カップ液受け部７２ｂ）の底部から処理室２００ａの外部まで延びる。

【0146】

第２カップ排液配管６３ｂは、管状の部材である。第２カップ排液配管６３ｂの一端は、第１カップ部７ａの底部に接続する。詳しくは、第２カップ排液配管６３ｂの一端は、第１カップ液受け部７２ａの底部に接続する。第１カップ部７ａ（第１カップ液受け部７２ａ）に集められた処理液は、第２カップ排液配管６３ｂに流入する。第２カップ排液配管６３ｂは、第１カップ部７ａ（第１カップ液受け部７２ａ）の底部から処理室２００ａの外部まで延びる。

【0147】

分岐部６６には、第１分岐配管６７ａの一端と、第２分岐配管６７ｂの一端とが接続する。第１分岐配管６７ａ及び第２分岐配管６７ｂは、管状の部材である。分岐部６６は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、ポッド排液配管６２を、第１分岐配管６７ａと第２分岐配管６７ｂとのうちの一方に連通させる。第１分岐配管６７ａ及び第２分岐配管６７ｂは、分岐部６６から処理室２００ａの外部まで延びる。

【0148】

制御装置１０１（制御部１０２）は、液受け部１１で集められた処理液を第１分岐配管６７ａに流入させる場合、分岐部６６を制御して、ポッド排液配管６２を第１分岐配管６７ａに連通させる。同様に、制御装置１０１（制御部１０２）は、液受け部１１で集められた処理液を第２分岐配管６７ｂに流入させる場合、分岐部６６を制御して、ポッド排液配管６２を第２分岐配管６７ｂに連通させる。

【0149】

サックバック機構９は、サックバック配管９１と、第１分岐配管９１ａと、第２分岐配管９１ｂと、サックバック弁９３とを含む。サックバック配管９１の一端は、供給配管８１に接続する。サックバック配管９１は、サックバック配管９１と供給配管８１との接続箇所ＳＰからサックバック弁９３まで延びる。処理室２００ａは、サックバック配管９１を収容する。

【0150】

サックバック弁９３には、第１分岐配管９１ａの一端と、第２分岐配管９１ｂの一端とが接続する。第１分岐配管９１ａ及び第２分岐配管９１ｂは、管状の部材である。サックバック弁９３は、図２を参照して説明したサックバック弁９２と同様に、ノズル３から供給配管８１へ処理液をサックバック（後退）させる。処理室２００ａは、サックバック弁９３を収容する。

【0151】

更に、サックバック弁９３は、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、サックバック配管９１を、第１分岐配管９１ａと第２分岐配管９１ｂとのうちの一方に連通させる。処理室２００ａは、第１分岐配管９１ａの一部と、第２分岐配管９１ｂの一部とを収容する。第１分岐配管９１ａ及び第２分岐配管９１ｂは、サックバック弁９３から処理室２００ａの外部まで延びる。

【0152】

制御装置１０１（制御部１０２）は、サックバックした処理液を第１分岐配管９１ａに流入させる場合、サックバック弁９３を制御して、サックバック配管９１を第１分岐配管９１ａに連通させる。同様に、制御装置１０１（制御部１０２）は、サックバックした処理液を第２分岐配管９１ｂに流入させる場合、サックバック弁９３を制御して、サックバック配管９１を第２分岐配管９１ｂに連通させる。

【0153】

続いて、図１４を参照して、排液機構６を説明する。図１４は、本実施形態の基板処理装置１００に含まれる排液機構６の構成を模式的に示す図である。図１４に示すように、排液機構６は、切替弁６４Ａを更に含む。また、基板処理装置１００は、第１ドレイン配管ＤＰ１と、第２ドレイン配管ＤＰ２と、第３ドレイン配管ＤＰ３と、第１ドレインタンク６５ａと、第２ドレインタンク６５ｂとを更に備える。

【0154】

排液機構６は、プリディスペンス処理時に、液受け部１１（図１３参照）から排出される酸性薬液（ＤＨＦ）を第１ドレイン配管ＤＰ１へ導く。また、排液機構６は、プリディスペンス処理時に液受け部１１（図１３）から排出されるアルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）を第２ドレイン配管ＤＰ２へ導く。更に、排液機構６は、プリディスペンス処理時に液受け部１１（図１３）から排出される有機溶剤（ＩＰＡ）を第３ドレイン配管ＤＰ３へ導く。

【0155】

更に、排液機構６は、基板処理時に第２カップ部７ｂ（図１３参照）から排出される酸性薬液（ＤＨＦ）を第１ドレイン配管ＤＰ１へ導く。また、排液機構６は、基板処理時に第２カップ部７ｂ（図１３参照）から排出されるアルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）を第２ドレイン配管ＤＰ２へ導く。更に、排液機構６は、基板処理時に第２カップ部７ｂ（図１３参照）から排出される有機溶剤（ＩＰＡ）を第３ドレイン配管ＤＰ３へ導く。

【0156】

具体的には、第１カップ排液配管６３ａの他端は、切替弁６４Ａの一次側に接続している。第１分岐配管６７ａの他端は、第１カップ排液配管６３ａに接続している。したがって、プリディスペンス処理時に液受け部１１から排出される処理液は、第１分岐配管６７ａから第１カップ排液配管６３ａに流入し、第１カップ排液配管６３ａを介して切替弁６４Ａまで流通する。また、基板処理時に第２カップ部７ｂから排出される処理液は、第１カップ排液配管６３ａを介して切替弁６４Ａまで流通する。

【0157】

切替弁６４Ａの二次側には、第１ドレイン配管ＤＰ１の一端と、第２ドレイン配管ＤＰ２の一端と、第３ドレイン配管ＤＰ３の一端とが接続している。切替弁６４Ａは、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、酸性薬液（ＤＨＦ）を第１ドレイン配管ＤＰ１へ供給し、アルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）を第２ドレイン配管ＤＰ２に供給し、有機溶剤（ＩＰＡ）を第３ドレイン配管ＤＰ３に供給する。

【0158】

具体的には、ＤＨＦを第１ドレイン配管ＤＰ１に供給するとき、切替弁６４Ａは、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、第１カップ排液配管６３ａと第１ドレイン配管ＤＰ１とを連通させる。また、ＳＣ１又はＤＩＷを第２ドレイン配管ＤＰ２に供給するとき、切替弁６４Ａは、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、第１カップ排液配管６３ａと第２ドレイン配管ＤＰ２とを連通させる。また、ＩＰＡを第３ドレイン配管ＤＰ３に供給するとき、切替弁６４Ａは、制御装置１０１（制御部１０２）によって制御されて、第１カップ排液配管６３ａと第３ドレイン配管ＤＰ３とを連通させる。

【0159】

第１ドレインタンク６５ａには、第２ドレイン配管ＤＰ２の他端が接続している。第１ドレインタンク６５ａには、第２ドレイン配管ＤＰ２からアルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）が流入する。第１ドレインタンク６５ａは、「液槽」の一例である。

【0160】

サックバック機構９の第１分岐配管９１ａの他端は、第１カップ排液配管６３ａに接続する。本実施形態では、有機溶剤（ＩＰＡ）がサックバックされる。サックバック処理時に、排液機構６は、サックバックされた有機溶剤（ＩＰＡ）を第３ドレイン配管ＤＰ３に導く。具体的には、制御装置１０１（制御部１０２）が、切替弁６４Ａを制御して、第１カップ排液配管６３ａを第３ドレイン配管ＤＰ３に連通させる。この結果、サックバック機構９（第１分岐配管９１ａ）から第１カップ排液配管６３ａに流入した有機溶剤（ＩＰＡ）が第３ドレイン配管ＤＰ３に流入する。

【0161】

第２ドレインタンク６５ｂには、第２カップ排液配管６３ｂの他端が接続している。第２カップ排液配管６３ｂは、乾燥処理時に基板Ｗから排出された処理液を流通させる。したがって、第２ドレインタンク６５ｂには、乾燥処理時に基板Ｗから排出された処理液が流入する。本実施形態において、乾燥処理時に基板Ｗから排出される処理液は、有機溶剤（ＩＰＡ）である。したがって、第２ドレインタンク６５ｂには、乾燥処理時に有機溶剤（ＩＰＡ）が流入する。

【0162】

本実施形態では、第２分岐配管６７ｂの他端が第２カップ排液配管６３ｂに接続している。したがって、制御装置１０１（制御部１０２）は、プリディスペンス処理時にノズル３から有機溶剤（ＩＰＡ）を吐出させる際に、分岐部６６（図１３参照）を制御して、ポッド排液配管６２（図１３参照）と第２分岐配管６７ｂとを連通させてもよい。更に、制御装置１０１（制御部１０２）は、プリディスペンス処理時にノズル３からリンス液（ＤＩＷ）を吐出させる際に、分岐部６６（図１３参照）を制御して、ポッド排液配管６２（図１３参照）と第２分岐配管６７ｂとを連通させてもよい。

【0163】

また、本実施形態では、サックバック機構９の第２分岐配管９１ｂの他端が第２カップ排液配管６３ｂに接続している。したがって、制御装置１０１（制御部１０２）は、サックバック処理時に、サックバック弁９３を制御して、サックバック配管９１（図１３参照）と第２分岐配管９１ｂとを連通させてもよい。

【0164】

続いて、図１３～図１６を参照して、本実施形態の基板処理方法を説明する。本実施形態の基板処理方法は、ノズル３から処理液をプリディスペンス（予備吐出）させる方法と、基板Ｗを処理する方法とを含む。図１５は、ノズル３から処理液をプリディスペンス（予備吐出）させる方法を示すフローチャートである。図１６は、基板Ｗを処理する方法を示すフローチャートである。図１５及び図１６に示す基板処理方法は、図１、図４、図１３、及び図１４に示す基板処理装置１００によって実行される。したがって、図１５及び図１６は、本実施形態の基板処理装置１００の動作を示す。

【0165】

図１５に示すように、プリディスペンス処理時に、制御装置１０１（制御部１０２）は、待機位置ＰＳ２に配置されたノズル３から、酸性薬液（ＤＨＦ）、アルカリ性薬液（ＳＣ１）、リンス液（ＤＩＷ）、及び有機溶剤（ＩＰＡ）を選択的に吐出させる。具体的には、図１５に示すプリディスペンス処理は、ステップＳ２１～ステップＳ２５を含む。ここで、ステップＳ２１～ステップＳ２４の処理は、図５を参照して説明したステップＳ１～ステップＳ４と同様であるため、その説明は割愛する。

【0166】

制御装置１０１（制御部１０２）は、２回目のリンス液（ＤＩＷ）の吐出後（ステップＳ２４）、待機位置ＰＳ２に配置されたノズル３から有機溶剤（ＩＰＡ）を吐出させる（ステップＳ２５）。この結果、図１５に示すプリディスペンス処理が終了する。ノズル３から吐出された有機溶剤（ＩＰＡ）は、液受け部１１で受け止められる。そして、液受け部１１から排出された有機溶剤（ＩＰＡ）が、排液機構６によって第３ドレイン配管ＤＰ３へ導かれる。

【0167】

プリディスペンス処理の終了後、基板処理が実行される。具体的には、図１６に示すように、制御装置１０１（制御部１０２）は、センターロボットＣＲを制御して、処理室２００ａ内に基板Ｗを搬入させる（ステップＳ３１）。そして、制御装置１０１（制御部１０２）は、基板保持部２に基板Ｗを保持させる。基板保持部２が基板Ｗを保持すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、昇降部７３を制御して、第２カップ部７ｂを下位置から上位置へ移動させる。

【0168】

図１６に示すステップＳ３２～ステップＳ３５の処理は、基板Ｗから排出される処理液を第２カップ部７ｂが受け止める点を除いて、図６を参照して説明したステップＳ１２～ステップＳ３５と同様であるため、その説明は割愛する。

【0169】

制御装置１０１（制御部１０２）は、２回目のリンス液（ＤＩＷ）の吐出を開始させてから第４既定時間が経過すると、液供給機構８を制御して、ノズル３に供給する処理液をリンス液（ＤＩＷ）から有機溶剤（ＩＰＡ）に切り替える。この結果、ノズル３から有機溶剤（ＩＰＡ）が吐出されて、回転中の基板Ｗに有機溶剤（ＩＰＡ）が供給される（ステップＳ３６）。

【0170】

制御装置１０１（制御部１０２）は、有機溶剤（ＩＰＡ）の吐出を開始させてから第６既定時間が経過するまで、ノズル３から基板Ｗに有機溶剤（ＩＰＡ）を供給させる。この結果、基板Ｗの上面に有機溶剤（ＩＰＡ）の液膜が形成される。換言すると、基板Ｗの上面の液膜が、リンス液（ＤＩＷ）の液膜から有機溶剤（ＩＰＡ）の液膜に置換される。有機溶剤（ＩＰＡ）の供給中に基板Ｗから排出される有機溶剤（ＩＰＡ）は、第２カップ部７ｂで受け止められる。第２カップ部７ｂで受け止められた有機溶剤（ＩＰＡ）は、排液機構６により第３ドレイン配管ＤＰ３へ導かれる。

【0171】

第６既定時間が経過すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、昇降部７３を制御して、第１カップ部７ａを下位置から上位置へ移動させる。制御装置１０１（制御部１０２）は、第１カップ部７ａが上位置へ移動すると、基板回転部４を制御して、基板Ｗの回転速度を増加させる。この結果、基板Ｗが乾燥する（ステップＳ３７）。また、制御装置１０１（制御部１０２）は、ノズル移動部５を制御して、ノズル３を処理位置ＰＳ１から待機位置ＰＳ２へ移動させる。基板Ｗの回転速度を増加させてから第５既定時間が経過すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、基板回転部４を制御して、基板Ｗの回転を停止させる。

【0172】

本実施形態では、乾燥処理時に基板Ｗから排出される有機溶剤（ＩＰＡ）が第１カップ部７ａによって受け止められる。第１カップ部７ａで受け止められた有機溶剤（ＩＰＡ）は、排液機構６により第２ドレインタンク６５ｂへ導かれる。

【0173】

制御装置１０１（制御部１０２）は、基板Ｗの回転を停止させると、昇降部７３を制御して、第１カップ部７ａ及び第２カップ部７ｂを上位置から下位置へ移動させる。第１カップ部７ａ及び第２カップ部７ｂが下位置へ移動すると、制御装置１０１（制御部１０２）は、基板保持部２を制御して、基板Ｗの保持を解除させる。そして、制御装置１０１（制御部１０２）は、センターロボットＣＲを制御して、処理室２００ａの外部に基板Ｗを搬出させる（ステップＳ３８）。この結果、図１６に示す処理が終了する。

【0174】

以上、図１３～図１６を参照して、本発明の実施形態３を説明した。実施形態３によれば、実施形態１、２と同様に、基板Ｗに供給する処理液の種類が切り替わる際に基板Ｗの外周部が液膜で覆われない状態になり難くなる。また、実施形態１、２と同様に、第１ドレインタンク６５ａにおいて酸性薬液とアルカリ性薬液とが反応して第１ドレインタンク６５ａが損傷をすることを回避できる。

【0175】

なお、実施形態３においても、実施形態１，２と同様に、酸性薬液の吐出後にアルカリ性薬液を吐出させる吐出順序（第１吐出順序及び第２吐出順序）の設定を禁止してもよい。また、ノズル３から基板Ｗへ吐出させる処理液の種類を切り替える際に、ノズル３から先行して吐出されている処理液の供給停止タイミングを遅延させて、２種類の処理液を一定期間同時にノズル３へ供給してもよい。

【0176】

［実施形態４］
続いて図１７及び図１８を参照して本発明の実施形態４について説明する。但し、実施形態１～３と異なる事項を説明し、実施形態１～３と同じ事項についての説明は割愛する。実施形態４では、実施形態１～３と異なり、基板処理部２００が第１液受け部１１ａ～第３液受け部１１ｃを含む。また、実施形態４は、排液機構６の構成が実施形態１～３と異なる。

【0177】

図１７は、本実施形態の基板処理装置１００に含まれる基板処理部２００の内部の構成、排液機構６の構成、及び液供給機構８の構成を模式的に示す図である。実施形態４では、実施形態３と同様に、ノズル３から酸性薬液（ＤＨＦ）、アルカリ性薬液（ＳＣ１）、リンス液（ＤＩＷ）、及び有機溶剤（ＩＰＡ）が選択的に吐出される。また、実施形態３と同様に、カップ部７が、第１カップ部７ａと、第２カップ部７ｂとを含む。

【0178】

図１７に示すように、本実施形態において、基板処理部２００は、第１液受け部１１ａ～第３液受け部１１ｃを含む。また、排液機構６は、第１ポッド排液配管６２ａ～第３ポッド排液配管６２ｃを含む。

【0179】

第１液受け部１１ａ～第３液受け部１１ｃは、基板保持部２の外側に配置される。本実施形態において、第１液受け部１１ａ～第３液受け部１１ｃは、カップ部７の外側に配置される。第１液受け部１１ａは、プリディスペンス処理時に、ノズル３から吐出されるアルカリ性薬液及びリンス液を受け止める。第２液受け部１１ｂは、プリディスペンス処理時に、ノズル３から吐出される酸性薬液を受け止める。第３液受け部１１ｃは、プリディスペンス処理時に、ノズル３から吐出される有機溶剤を受け止める。第１液受け部１１ａ～第３液受け部１１ｃは、例えば、待機ポッドである。

【0180】

第１ポッド排液配管６２ａ及び第２ポッド排液配管６２ｂの構成は、図１１を参照して説明した第１ポッド排液配管６２ａ及び第２ポッド排液配管６２ｂと同様であるため、ここでの説明は割愛する。第３ポッド排液配管６２ｃは、管状の部材である。第３ポッド排液配管６２ｃの一端は、第３液受け部１１ｃの底部に接続する。第３液受け部１１ｃに集められた処理液（有機溶剤）は、第３ポッド排液配管６２ｃに流入する。第３ポッド排液配管６２ｃは、第３液受け部１１ｃの底部から処理室２００ａの外部まで延びる。

【0181】

図１８は、本実施形態の基板処理装置１００に含まれる排液機構６の構成を模式的に示す図である。本実施形態において、排液機構６は、プリディスペンス処理時に第１液受け部１１ａ（図１７参照）から排出されるアルカリ性薬液（ＳＣ１）及びリンス液（ＤＩＷ）を第２ドレイン配管ＤＰ２へ導く。また、排液機構６は、プリディスペンス処理時に第２液受け部１１ｂ（図１４参照）から排出される酸性薬液（ＤＨＦ）を第１ドレイン配管ＤＰ１へ導く。本実施形態では、排液機構６が、プリディスペンス処理時に第３液受け部１１ｃ（図１４参照）から排出される有機溶剤（ＩＰＡ）を第３ドレイン配管ＤＰ３へ導く。

【0182】

具体的には、実施形態２と同様に、図１７を参照して説明した第１ポッド排液配管６２ａの他端が第２ドレイン配管ＤＰ２に接続する。また、図１７を参照して説明した第２ポッド排液配管６２ｂの他端が第１ドレイン配管ＤＰ１に接続する。

【0183】

本実施形態では、図１７を参照して説明した第３ポッド排液配管６２ｃの他端が第３ドレイン配管ＤＰ３に接続する。したがって、プリディスペンス処理時に第３液受け部１１ｃから排出される有機溶剤（ＩＰＡ）は、第３ポッド排液配管６２ｃを介して第３ドレイン配管ＤＰ３に導かれる。

【0184】

以上、図１７及び図１８を参照して、本発明の実施形態４を説明した。実施形態４によれば、実施形態１～３と同様に、基板Ｗに供給する処理液の種類が切り替わる際に基板Ｗの外周部が液膜で覆われない状態になり難くなる。また、実施形態１～３と同様に、第１ドレインタンク６５ａにおいて酸性薬液とアルカリ性薬液とが反応して第１ドレインタンク６５ａが損傷をすることを回避できる。

【0185】

以上、図面（図１～図１８）を参照して本発明の実施形態について説明した。ただし、本発明は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施できる。また、上記の実施形態に開示される複数の構成要素は適宜改変可能である。例えば、ある実施形態に示される全構成要素のうちのある構成要素を別の実施形態の構成要素に追加してもよく、又は、ある実施形態に示される全構成要素のうちのいくつかの構成要素を実施形態から削除してもよい。

【0186】

図面は、発明の理解を容易にするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚さ、長さ、個数、間隔等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合もある。また、上記の実施形態で示す各構成要素の構成は一例であって、特に限定されるものではなく、本発明の効果から実質的に逸脱しない範囲で種々の変更が可能であることは言うまでもない。

【0187】

例えば、図１～図１８を参照して説明した実施形態において、基板保持部２は、複数のチャック部材２１を基板Ｗの周端面に接触させる挟持式のチャックであったが、基板Ｗを保持する方式は、基板Ｗを水平に保持できる限り、特に限定されない。例えば、基板保持部２は、バキューム式のチャックであってもよいし、ベルヌーイ式のチャックであってもよい。

【0188】

また、図１～図１８を参照して説明した実施形態において、リンス液は純水であったが、リンス液は純水に限定されない。リンス液は、例えば、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水、又は、希釈濃度（例えば、１０ｐｐｍ～１００ｐｐｍ程度）の塩酸水であってもよい。

【0189】

また、図１～図１８を参照して説明した実施形態では、作業者がプレレシピＹＲＰ（第２吐出順序）を作成したが、制御装置１０１（制御部１０２）が、プロセスレシピＳＲＰに規定されている第１吐出順序に基づいて、プレレシピＹＲＰ（第２吐出順序）を生成してもよい。例えば、制御装置１０１（制御部１０２）は、プリディスペンス処理時における複数種類の処理液の吐出順序が、基板処理時における複数種類の処理液の吐出順序（第１吐出順序）と同じ吐出順序となるように、第２吐出順序を生成してもよい。

【産業上の利用可能性】

【0190】

本発明は、基板を処理する装置、及び基板を処理する方法に有用である。

【符号の説明】

【0191】

２ ：基板保持部
３ ：ノズル
５ ：ノズル移動部
６ ：排液機構
７ ：カップ部
７ａ ：第１カップ部
７ｂ ：第２カップ部
８ ：液供給機構
９ ：サックバック機構
１１ ：液受け部
１１ａ ：第１液受け部
１１ｂ ：第２液受け部
１１ｃ ：第３液受け部
６５ ：ドレインタンク
６５ａ ：第１ドレインタンク
８１ ：供給配管
９１ ：サックバック配管
１００ ：基板処理装置
１０１ ：制御装置
１０２ ：制御部
１０４ ：入力部
ＤＰ１ ：第１ドレイン配管
ＤＰ２ ：第２ドレイン配管
ＤＰ３ ：第３ドレイン配管
ＰＳ１ ：処理位置
ＰＳ２ ：待機位置
ＳＲＰ ：プロセスレシピ
ＳＲＰ１１ ：第１プロセスレシピ
ＳＲＰ１２ ：第２プロセスレシピ
Ｗ ：基板
ＹＲＰ ：プレレシピ
ＹＲＰ１ ：第１プレレシピ
ＹＲＰ２ ：第２プレレシピ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】