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特開2024-120334光学フィルムの製造方法、光学フィルム、光学部材の製造方法、画像表示装置の製造方法、光学部材、及び画像表示装置
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024120334
(43)【公開日】2024-09-05
(54)【発明の名称】光学フィルムの製造方法、光学フィルム、光学部材の製造方法、画像表示装置の製造方法、光学部材、及び画像表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 1/14 20150101AFI20240829BHJP
G02B 5/02 20060101ALI20240829BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20240829BHJP
B32B 37/00 20060101ALI20240829BHJP
【ＦＩ】
G02B1/14
G02B5/02 B
B32B7/023
B32B37/00
【審査請求】未請求
【請求項の数】24
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023027064
(22)【出願日】2023-02-24
(71)【出願人】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100115255
【弁理士】
【氏名又は名称】辻丸 光一郎
(74)【代理人】
【識別番号】100201732
【弁理士】
【氏名又は名称】松縄 正登
(74)【代理人】
【識別番号】100154081
【弁理士】
【氏名又は名称】伊佐治 創
(74)【代理人】
【識別番号】100227019
【弁理士】
【氏名又は名称】安 修央
(72)【発明者】
【氏名】遠藤 寛也
(72)【発明者】
【氏名】橋本 尚樹
(72)【発明者】
【氏名】西尾 美保
【テーマコード（参考）】
2H042
2K009
4F100
【Ｆターム（参考）】
2H042BA02
2H042BA12
2H042BA13
2H042BA15
2K009AA15
2K009BB28
2K009CC09
2K009CC24
2K009DD02
2K009DD05
2K009DD06
4F100AA20B
4F100AA20D
4F100AA20H
4F100AJ06A
4F100AK25B
4F100AR00B
4F100AR00C
4F100AR00D
4F100AT00A
4F100BA03
4F100BA10B
4F100BA10C
4F100BA10D
4F100CC02B
4F100CC02C
4F100CC02D
4F100EA02A
4F100EH462
4F100EH46B
4F100EH46C
4F100EH46D
4F100EJ082
4F100EJ08B
4F100EJ08C
4F100EJ08D
4F100EJ542
4F100GB48
4F100JK12B
4F100JK12C
4F100JL04
4F100JN00B
4F100JN00C
4F100JN00D
4F100YY002
(57)【要約】 （修正有）
【課題】光学フィルム製造時のカールを抑制可能な光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】光学フィルムの製造方法は、基材１１と、第１の光学層１２と、第２の光学層１３とを含む光学フィルムの製造方法であって、
基材１１の一方の面上に第１の光学層１２を形成する第１の光学層形成工程と、前記第１の光学層形成工程後に、基材１１の他方の面上に第２の光学層１３を形成する第２の光学層形成工程と、を含み、
前記第１の光学層形成工程において、第１の光学層１２の幅と基材１１の幅との関係が下記数式（１）を満たすように前記第１の光学層を形成することを特徴とする。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１）≦０．９５・・・（１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、第１の光学層１２の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、基材１１の幅［ｍｍ］である。
【選択図】図１
【解決手段】光学フィルムの製造方法は、基材１１と、第１の光学層１２と、第２の光学層１３とを含む光学フィルムの製造方法であって、
基材１１の一方の面上に第１の光学層１２を形成する第１の光学層形成工程と、前記第１の光学層形成工程後に、基材１１の他方の面上に第２の光学層１３を形成する第２の光学層形成工程と、を含み、
前記第１の光学層形成工程において、第１の光学層１２の幅と基材１１の幅との関係が下記数式（１）を満たすように前記第１の光学層を形成することを特徴とする。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１）≦０．９５・・・（１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、第１の光学層１２の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、基材１１の幅［ｍｍ］である。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含む光学フィルムの製造方法であって、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層を形成する第１の光学層形成工程と、
前記第１の光学層形成工程後に、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層を形成する第２の光学層形成工程と、を含み、
前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすように前記第１の光学層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１）≦０．９５ （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層を形成する第１の光学層形成工程と、
前記第１の光学層形成工程後に、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層を形成する第２の光学層形成工程と、を含み、
前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすように前記第１の光学層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１）≦０．９５ （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
【請求項2】
前記第２の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記第２の光学層の幅との関係が下記数式（２）を満たすように前記第２の光学層を形成する請求項１記載の光学フィルムの製造方法。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
【請求項3】
前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０８～０．３倍となるように前記第１の光学層を形成し、
前記第２の光学層形成工程において、前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．２倍となるように前記第２の光学層を形成する、
請求項１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
前記第２の光学層形成工程において、前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．２倍となるように前記第２の光学層を形成する、
請求項１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項4】
さらに、前記第１の光学層形成工程後に、前記第１の光学層における前記基材とは反対側の面上に第３の光学層を形成する第３の光学層形成工程を含む、
請求項１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
請求項１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項5】
前記第３の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記第３の光学層の幅との関係が下記数式（３）を満たすように前記第３の光学層を形成する請求項４記載の光学フィルムの製造方法。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
【請求項6】
前記基材が長尺状であり、
前記第１の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第１の光学層を連続的に形成し、
前記第２の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第２の光学層を連続的に形成する、
請求項１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
前記第１の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第１の光学層を連続的に形成し、
前記第２の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第２の光学層を連続的に形成する、
請求項１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項7】
前記第１の光学層及び前記第２の光学層が、ハードコート層である請求項１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項8】
請求項１記載の光学フィルムの製造方法により製造される光学フィルム。
【請求項9】
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含み、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層が積層され、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層が積層され、
前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルム。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１≦０．９５） （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層が積層され、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層が積層され、
前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルム。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１≦０．９５） （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
【請求項10】
前記第１の光学層の幅と前記第２の光学層の幅との関係が下記数式（２）を満たす請求項９記載の光学フィルム。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
【請求項11】
前記第１の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０８～０．３倍であり、
前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．２倍である、
請求項９又は１０記載の光学フィルム。
前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．２倍である、
請求項９又は１０記載の光学フィルム。
【請求項12】
さらに、前記第１の光学層における前記基材とは反対側の面上に第３の光学層を含む、
請求項９又は１０記載の光学フィルム。
請求項９又は１０記載の光学フィルム。
【請求項13】
前記第１の光学層の幅と前記第３の光学層の幅との関係が下記数式（３）を満たす、請求項１２記載の光学フィルム。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
【請求項14】
前記基材が長尺状である、請求項９又は１０記載の光学フィルム。
【請求項15】
前記第１の光学層及び前記第２の光学層が、ハードコート層である請求項９又は１０記載の光学フィルム。
【請求項16】
請求項１又は２記載の光学フィルムの製造方法により製造される請求項９又は１０記載の光学フィルム。
【請求項17】
製造される光学フィルムが請求項９又は１０記載の光学フィルムである、請求項１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項18】
光学フィルムを含む光学部材の製造方法であって、
前記光学フィルムを、請求項１又は２記載の製造方法により製造することを特徴とする光学部材の製造方法。
前記光学フィルムを、請求項１又は２記載の製造方法により製造することを特徴とする光学部材の製造方法。
【請求項19】
製造される前記光学部材が偏光板である請求項１８記載の光学部材の製造方法。
【請求項20】
光学フィルムを含む画像表示装置の製造方法であって、
前記光学フィルムを、請求項１又は２記載の製造方法により製造することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
前記光学フィルムを、請求項１又は２記載の製造方法により製造することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項21】
光学部材を含む画像表示装置の製造方法であって、
前記光学部材を、請求項１８記載の製造方法により製造することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
前記光学部材を、請求項１８記載の製造方法により製造することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項22】
請求項８又は９記載の光学フィルムを含むことを特徴とする光学部材。
【請求項23】
偏光板である請求項２２記載の光学部材。
【請求項24】
請求項８又は９記載の光学フィルムを含むことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学フィルムの製造方法、光学フィルム、光学部材の製造方法、画像表示装置の製造方法、光学部材、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
画像表示装置等に用いられる光学フィルムは、一般に、基材（例えば透明フィルム）上に光学層（例えばハードコート層等）を形成することにより製造される（特許文献１等）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２００８－２２１７４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
図２に、光学フィルムを製造する装置及びそれを用いた光学フィルムの製造方法の一例を、模式的に示す。図示のとおり、この光学フィルム製造装置１００は、塗工ロール１０２、ダイコータ１０３、ブロア１０４、ノズル１０５、光源１０６、及び巻き取りロール１０７を主要構成要素とする。この装置を用いた光学フィルムの製造方法は、例えば、以下のようにして行うことができる。まず、長尺状の基材（基材フィルム）１１が巻かれて形成された原反ロール１０１から、基材１１を連続的に繰り出す。基材１１を塗工ロール１０２で繰り出しながら、ダイコータ１０３で基材１１上に塗工膜を塗工し、基材１１上に塗工膜が積層された積層体１１ｘとする。塗工膜は、ブロア１０４で熱風を吹き付けて予備乾燥させた後に、乾燥オーブン内のノズル１０５で乾燥させ、さらに、光源１０６でＵＶ（紫外線）照射して硬化させ、光学層を形成する。そのようにして、基材１１上に光学層が積層された光学フィルム１０ｘを製造する。その光学フィルム１０ｘを、巻き取りロール１０７で送り出し、巻き取って光学フィルムロール（光学フィルム巻回体）１０８とする。
【0005】
しかしながら、基材上に光学層を形成する場合、基材端部のカールが問題となる。例えば、図２のような製造方法では、乾燥オーブン内のノズル１０５で乾燥させた時に、積層体１１ｘの両端がカールしてノズル１０５に接触し、積層体１１ｘの搬送の妨げになり、それが光学フィルム１０ｘの製造の妨げになるおそれがある。
【0006】
そこで、本発明は、光学フィルム製造時のカールを抑制可能な光学フィルムの製造方法、光学フィルム、光学部材の製造方法、画像表示装置の製造方法、光学部材、及び画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
前記目的を達成するために、本発明の光学フィルムの製造方法は、
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含む光学フィルムの製造方法であって、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層を形成する第１の光学層形成工程と、
前記第１の光学層形成工程後に、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層を形成する第２の光学層形成工程と、を含み、
前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすように前記第１の光学層を形成することを特徴とする。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１）≦０．９５ （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含む光学フィルムの製造方法であって、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層を形成する第１の光学層形成工程と、
前記第１の光学層形成工程後に、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層を形成する第２の光学層形成工程と、を含み、
前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすように前記第１の光学層を形成することを特徴とする。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１）≦０．９５ （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
【0008】
本発明の第１の光学フィルムは、前記本発明の製造方法により製造される光学フィルムである。
【0009】
本発明の第２の光学フィルムは、
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含み、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層が積層され、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層が積層され、
前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすことを特徴とする。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１）≦０．９５ （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含み、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層が積層され、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層が積層され、
前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすことを特徴とする。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１）≦０．９５ （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
【0010】
本発明の光学部材の製造方法は、
光学フィルムを含む光学部材の製造方法であって、
前記光学フィルムを、前記本発明の光学フィルムの製造方法により製造することを特徴とする。
光学フィルムを含む光学部材の製造方法であって、
前記光学フィルムを、前記本発明の光学フィルムの製造方法により製造することを特徴とする。
【0011】
本発明の画像表示装置の製造方法は、
光学部材を含む画像表示装置の製造方法であって、
前記光学部材を、前記本発明の光学部材の製造方法により製造することを特徴とする。
光学部材を含む画像表示装置の製造方法であって、
前記光学部材を、前記本発明の光学部材の製造方法により製造することを特徴とする。
【0012】
本発明の光学部材は、前記本発明の第１の光学フィルム又は前記本発明の第２の光学フィルムを含むことを特徴とする。
【0013】
本発明の画像表示装置は、
前記本発明の第１の光学フィルム若しくは前記本発明の第２の光学フィルム、又は前記本発明の光学部材を含むことを特徴とする。
前記本発明の第１の光学フィルム若しくは前記本発明の第２の光学フィルム、又は前記本発明の光学部材を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、光学フィルム製造時のカールを抑制可能な光学フィルムの製造方法、光学フィルム、光学部材の製造方法、画像表示装置の製造方法、光学部材、及び画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【発明を実施するための形態】
【0016】
つぎに、本発明について、例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、本発明は、以下の説明により、なんら限定されない。
【0017】
本発明の光学フィルムの製造方法は、例えば、
前記第２の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記第２の光学層の幅との関係が下記数式（２）を満たすように前記第２の光学層を形成してもよい。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
前記第２の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記第２の光学層の幅との関係が下記数式（２）を満たすように前記第２の光学層を形成してもよい。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
【0018】
本発明の光学フィルムの製造方法は、例えば、前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０８～０．３倍となるように前記第１の光学層を形成してもよい。
【0019】
本発明の光学フィルムの製造方法は、例えば、前記第２の光学層形成工程において、前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．２倍となるように前記第２の光学層を形成してもよい。
【0020】
本発明の光学フィルムの製造方法は、例えば、さらに、前記第１の光学層形成工程後に、前記第１の光学層における前記基材とは反対側の面上に第３の光学層を形成する第３の光学層形成工程を含んでいてもよい。
【0021】
本発明の光学フィルムの製造方法は、例えば、前記第３の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記第３の光学層の幅との関係が下記数式（３）を満たすように前記第３の光学層を形成してもよい。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
【0022】
本発明の光学フィルムの製造方法は、例えば、
前記基材が長尺状であり、
前記第１の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第１の光学層を連続的に形成し、
前記第２の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第２の光学層を連続的に形成してもよい。
前記基材が長尺状であり、
前記第１の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第１の光学層を連続的に形成し、
前記第２の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第２の光学層を連続的に形成してもよい。
【0023】
本発明の光学フィルムの製造方法は、例えば、前記第１の光学層及び前記第２の光学層が、ハードコート層であってもよい。
【0024】
本発明の第２の光学フィルムは、例えば、前記第１の光学層の幅と前記第２の光学層の幅との関係が下記数式（２）を満たしてもよい。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
【0025】
本発明の第２の光学フィルムは、例えば、
前記第１の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０８～０．３倍であり、
前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．２倍であってもよい。
前記第１の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０８～０．３倍であり、
前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．２倍であってもよい。
【0026】
本発明の第２の光学フィルムは、例えば、さらに、前記第１の光学層における前記基材とは反対側の面上に第３の光学層を含んでいてもよい。
【0027】
本発明の第２の光学フィルムは、例えば、前記第１の光学層の幅と前記第３の光学層の幅との関係が下記数式（３）を満たしてもよい。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
【0028】
本発明の第２の光学フィルムは、例えば、前記基材が長尺状であってもよい。
【0029】
本発明の第２の光学フィルムは、例えば、前記第１の光学層及び前記第２の光学層が、ハードコート層であってもよい。
【0030】
本発明の第２の光学フィルムは、例えば、前記本発明の光学フィルムの製造方法により製造される光学フィルムであってもよい。
【0031】
本発明の光学フィルムの製造方法は、例えば、製造される光学フィルムが、前記本発明の第１の光学フィルム、又は、前記本発明の第２の光学フィルムであってもよい。
【0032】
本発明の光学部材の製造方法は、例えば、製造される前記光学部材が偏光板であってもよい。
【0033】
本発明の光学部材は、例えば、偏光板であってもよい。
【0034】
なお、本発明において、「重量」と「質量」とは、特に断らない限り、互いに読み替えてもよいものとする。例えば、「質量部」は「重量部」と読み替えてもよく、「重量部」は「質量部」と読み替えてもよく、「質量％」は「重量％」と読み替えてもよく、「重量％」は「質量％」と読み替えてもよいものとする。
【0035】
［１．光学フィルムの製造方法、及び光学フィルム］
以下において、本発明の光学フィルムの製造方法及び本発明の光学フィルムについて、さらに例を挙げて具体的に説明する。ただし、本発明の光学フィルムの製造方法及び本発明の光学フィルムは、以下の例に限定されない。なお、以下において、単に「本発明の光学フィルム」という場合は、特に断らない限り、本発明の第１の光学フィルム、及び、本発明の第２の光学フィルムの両方を含むものとする。
以下において、本発明の光学フィルムの製造方法及び本発明の光学フィルムについて、さらに例を挙げて具体的に説明する。ただし、本発明の光学フィルムの製造方法及び本発明の光学フィルムは、以下の例に限定されない。なお、以下において、単に「本発明の光学フィルム」という場合は、特に断らない限り、本発明の第１の光学フィルム、及び、本発明の第２の光学フィルムの両方を含むものとする。
【0036】
本発明の光学フィルムの製造方法は、前述のとおり、
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含む光学フィルムの製造方法であって、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層を形成する第１の光学層形成工程と、
前記第１の光学層形成工程後に、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層を形成する第２の光学層形成工程と、を含み、
前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすように前記第１の光学層を形成することを特徴とする。
０．８≦ＨＣ１ａ／Ｐ１≦０．９５ （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含む光学フィルムの製造方法であって、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層を形成する第１の光学層形成工程と、
前記第１の光学層形成工程後に、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層を形成する第２の光学層形成工程と、を含み、
前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすように前記第１の光学層を形成することを特徴とする。
０．８≦ＨＣ１ａ／Ｐ１≦０．９５ （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
【0037】
図１の断面図に、本発明の光学フィルムの製造方法により製造される光学フィルムの構成の一例を示す。図示のとおり、この光学フィルム１０は、基材１１、第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４を主要構成要素とする。基材１１の一方の面上には、第１の光学層１２及び第３の光学層１４が、この順序で積層されている。基材１１の他方の面上には、第２の光学層１３が積層されている。第２の光学層１３における基材１１と反対側の面上には、保護フィルム２１が、粘接着層３１を介して貼付されている。また、第１の光学層１２は、第１の光学層形成樹脂１２ａ内にナノ粒子１２ｂが含まれて形成されている。第２の光学層１３は、第２の光学層形成樹脂１３ａ内にナノ粒子１３ｂが含まれて形成されている。第３の光学層１４は、第３の光学層形成樹脂１４ａ内にナノ粒子１４ｂが含まれて形成されている。
【0038】
図１の光学フィルム１０において、基材１１の幅Ｐ１と第１の光学層１２の幅ＨＣ１ａとの関係は、前記数式（１）すなわち０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１）≦０．９５を満たす。第１の光学層１２の幅ＨＣ１ａと第２の光学層１３の幅ＨＣ２ａとの関係は、前記数式（２）すなわち０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２を満たす。なお、図１では、第１の光学層１２の幅ＨＣ１ａよりも第２の光学層１３の幅ＨＣ２ａが大きい（幅広い）例を図示しているが、これに限定されず、前記数式（２）を満たしていればよい。第１の光学層１２の幅ＨＣ１ａと第３の光学層１４の幅ＨＣ１ｂとの関係は、前記数式（３）すなわち０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５を満たす。図１では、第１の光学層１２の幅ＨＣ１ａと第３の光学層１４の幅ＨＣ１ｂとが等しい例を図示している。また、図１では、保護フィルム２１の幅Ｐ２は、基材１１の幅Ｐ１よりも大きい。
【0039】
図１の光学フィルム１０は、本発明の光学フィルムの製造方法により製造することができる。したがって、図１の光学フィルムは、本発明の光学フィルムの製造方法により製造される光学フィルム、すなわち本発明の第１の光学フィルムであるということができる。また、図１の光学フィルムは、前記本発明の第２の光学フィルムの条件を満たしているため、本発明の第２の光学フィルムでもある。
【0040】
なお、図１の光学フィルム１０において、基材１１、第１の光学層１２、及び第２の光学層１３は、本発明の光学フィルムの製造方法及び本発明の光学フィルムに必須の構成要素である。第３の光学層１４、保護フィルム２１、及び粘接着層３１は、本発明の光学フィルムの製造方法及び本発明の光学フィルムにおいて任意の構成要素であり、あっても無くてもよい。また、第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４において、ナノ粒子１２ｂ、ナノ粒子１３ｂ、及びナノ粒子１４ｂは、それぞれ、あっても無くてもよい。また、本発明の光学フィルムの製造方法及び本発明の光学フィルムは、図１に示した以外の他の構成要素を有していてもよいし、有していなくてもよい。前記他の構成要素としては、具体的には、例えば、第３の光学層１４の外側（基材１１と反対側）に、又は、第３の光学層１４が無い場合は第１の光学層１２の外側（基材１１と反対側）に、さらに他の層が積層されていてもよい。前記他の層としては、具体的には、例えば、反射防止層（ＡＲ層ともいう）を積層させることで、反射防止効果を付与することもできる。前記反射防止層は、特に限定されないが、例えば、ＤＲＹ－ＡＲ層（スパッタリング法、蒸着法等のドライ方式により形成するＡＲ層）であってもよい。また、例えば、前記他の層として、粘接着層が形成されていてもよい。前記他の層は、例えば、塗工により形成することもできる。本発明の光学フィルムは、前述のとおりカールが抑制されているため、他の層を塗工により形成する際に、搬送性が良好である。
【0041】
また、本発明において「面上に」は、例えば、その面上に直接接触して積層されていてもよいし、間に他の構成要素を介して積層されていてもよい。例えば、図１において、基材１１と第１の光学層１２とは、間に他の構成要素が存在せず直接接触して積層されていてもよいし、間に他の構成要素（例えば粘接着層）を介して積層されていてもよい。同様に、基材１１と第２の光学層１３とは、間に他の構成要素が存在せず直接接触して積層されていてもよいし、間に他の構成要素（例えば粘接着層）を介して積層されていてもよい。第１の光学層１２と第３の光学層１４とは、間に他の構成要素が存在せず直接接触して積層されていてもよいし、間に他の構成要素（例えば粘接着層）を介して積層されていてもよい。
【0042】
なお、本発明において、「粘接着層」は「粘着層又は接着層」を意味する。「粘着層」は「粘着剤により形成された層」を意味する。「接着層」は「接着剤により形成された層」を意味する。一般に、接着力（粘着力）が比較的小さく被着体の再剥離が可能なものを「粘着剤」と呼び、接着力（粘着力）が比較的大きく被着体の再剥離が不可能又は困難なものを「接着剤」と呼んで区別する場合がある。本発明では、接着力（粘着力）が比較的小さいものを「粘着剤」と呼び、接着力（粘着力）が比較的大きいものを「接着剤」と呼ぶが、両者に明確な区別は無い。
【0043】
基材１１は、特に制限されないが、例えば光透過性基材であってもよく、具体的には、例えば、透明プラスチックフィルム基材等が挙げられる。前記透明プラスチックフィルム基材は、特に制限されないが、可視光の光線透過率に優れ（好ましくは光線透過率９０％以上）、透明性に優れるもの（好ましくはヘイズ値１％以下のもの）が好ましく、例えば、特開２００８－９０２６３号公報に記載の透明プラスチックフィルム基材が挙げられる。前記透明プラスチックフィルム基材としては、光学的に複屈折の少ないものが好適に用いられる。本発明の光学フィルムは、例えば、保護フィルムとして偏光板に使用することもでき、この場合には、前記透明プラスチックフィルム基材としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート、アクリル系ポリマー、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン等から形成されたフィルムが好ましい。また、本発明において、前記透明プラスチックフィルム基材は、偏光子自体であってもよい。このような構成であると、ＴＡＣ等からなる保護層を不要とし偏光板の構造を単純化できるので、偏光板もしくは画像表示装置の製造工程数を減少させ、生産効率の向上が図れる。また、このような構成であれば、偏光板を、より薄層化することができる。なお、前記透明プラスチックフィルム基材が偏光子である場合には、例えば、前記非透明層が、保護層としての役割を果たすことになる。また、このような構成であれば、本発明の光学フィルムは、例えば、液晶セル表面に装着される場合、カバープレートとしての機能を兼ねることになる。
【0044】
基材１１の厚みは、特に限定されないが、強度、取り扱い性などの作業性及び薄層性などの観点から、例えば、２０μｍ以上、３０μｍ以上、４０μｍ以上、５０μｍ以上、又は６０μｍ以上であってもよく、例えば、１２０μｍ以下、１１０μｍ以下、１００μｍ以下、９０μｍ以下、又は８０μｍ以下であってもよく、例えば、１０～４０μｍ、４０～７０μｍ、７０～１００μｍ、１００～１３０μｍ、又は１３０～１６０μｍであってもよい。基材１１の厚みは、光学フィルムの薄型化の観点からは大きすぎないことが好ましく、硬度維持の観点からは小さすぎないことが好ましい。
【0045】
基材１１の屈折率は、特に制限されない。前記屈折率は、例えば、１．３０～１．８０又は１．４０～１．７０の範囲である。
【0046】
なお、本発明において、「屈折率」は、特に断らない限り、波長５５０ｎｍの屈折率をいう。また、本発明において、屈折率の測定方法は、特に限定されないが、粒子等の微細な物質の屈折率の場合は、例えば、ベッケ法を用いて測定できる。ベッケ法とは、スライドガラス上で標準屈折液に測定試料を分散させ、顕微鏡で観察した際に、試料の輪郭が消えるか、又はぼやけるときの標準屈折液の屈折率をその試料の屈折率とする測定法である。また、ベッケ法で屈折率を測定できない測定対象物（例えば、防眩性フィルム、防眩層、又は防眩層を構成する樹脂等）の屈折率の測定方法は、特に限定されないが、例えば、一般的な屈折計（屈折率測定用の機器）を用いて測定できる。前記屈折計も特に限定されないが、例えば、アッベ屈折計等が挙げられる。前記アッベ屈折計としては、例えば、株式会社アタゴ製の多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２／１５５０（商品名）が挙げられる。
【0047】
第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４は、特に限定されないが、それぞれ、例えば、ハードコート層、反射防止層、アンチグレア層、防汚層等であってもよい。以下においては、主に、第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４がハードコート層である場合について説明する。また、第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４の少なくとも一つがハードコート層である場合、本発明の光学フィルムはハードコートフィルムであるということができる。以下において、ハードコートフィルムである本発明の光学フィルムを「本発明のハードコートフィルム」という場合がある。
【0048】
基材１１、第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４の材質は、特に限定されず、例えば、一般的なハードコートフィルム等の光学フィルムと同様又はそれに準じてもよい。基材１１の材質は、例えば、前述のとおりである。第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４がハードコート層である場合の材質の具体例については、後述する本発明のハードコートフィルムの製造方法において例示する。本発明のハードコートフィルムは、例えば、このように一般的なハードコートフィルムと同様の材質を使用できる（特別な材質、加工等を必要としない）ことで、外観、表示特性等を犠牲にせず、硬度の高さとカールの抑制とを両立できる。
【0049】
近年、例えばノートＰＣディスプレイにおいて、大型サイズディスプレイでも、タッチセンサーを液晶セル内に組み込むこと（タッチセンサーのインセル化）が行われている。また、例えば、ノートＰＣディスプレイにおいて、軽量、薄さ、加工性の観点から、ガラスレス構成（ディスプレイにガラスを用いない構成）が要求されている。例えば、本発明のハードコートフィルムは、硬度が高いことにより、これらの要望を満たすこともできる。
【0050】
第１の光学層１２の厚みは、特に限定されないが、例えば、０．１μｍ以上、１μｍ以上、２μｍ以上、３μｍ以上、４μｍ以上、５μｍ以上、６μｍ以上、７μｍ以上、８μｍ以上、９μｍ以上、又は１０μｍ以上であってもよく、例えば、３０μｍ以下、２０μｍ以上、１０μｍ以上、５μｍ以下、４μｍ以下、３μｍ以下、２μｍ以下、又は１μｍ以下であってもよく、例えば、０．１～３０μｍ、０．１～２０μｍ、０．１～１０μｍ、０．１～５μｍ、１～３０μｍ、１～２０μｍ、１～１０μｍ、１～５μｍ、５～３０μｍ、５～２０μｍ、５～１０μｍ、０．１～１μｍ、１～５μｍ、５～１０μｍ、１０～２０μｍ、又は２０～３０μｍであってもよい。第１の光学層１２の厚みは、加工性、屈曲性の観点からは大きすぎないことが好ましく、硬度の観点からは小さすぎないことが好ましい。
【0051】
第２の光学層１３の厚みは、特に限定されないが、例えば、０．１μｍ以上、１μｍ以上、２μｍ以上、３μｍ以上、４μｍ以上、又は５μｍ以上、であってもよく、例えば、５０μｍ以下、３０μｍ以下、２０μｍ以下、１５μｍ以下、１０μｍ以下、５μｍ以下、４μｍ以下、３μｍ以下、２μｍ以下、又は１μｍ以下であってもよく、例えば、０．１～５０μｍ、０．１～３０μｍ、０．１～２０μｍ、０．１～１０μｍ、０．１～５μｍ、１～５０μｍ、１～３０μｍ、１～２０μｍ、１～１０μｍ、５～５０μｍ、５～３０μｍ、５～２０μｍ、１０～５０μｍ、０．１～１μｍ、１～５μｍ、５～１０μｍ、１０～２０μｍ、又は２０～５０μｍであってもよい。第２の光学層１３の厚みは、加工性、屈曲性の観点からは大きすぎないことが好ましく、硬度の観点からは小さすぎないことが好ましい。
【0052】
本発明において、第３の光学層１４の厚みは、特に限定されないが、例えば、０．１μｍ以上、１μｍ以上、２μｍ以上、３μｍ以上、４μｍ以上、又は５μｍ以上、であってもよく、例えば、５０μｍ以下、３０μｍ以下、２０μｍ以下、１５μｍ以下、１０μｍ以下、５μｍ以下、４μｍ以下、３μｍ以下、２μｍ以下、又は１μｍ以下であってもよく、例えば、０．１～５０μｍ、０．１～３０μｍ、０．１～２０μｍ、０．１～１０μｍ、０．１～５μｍ、１～５０μｍ、１～３０μｍ、１～２０μｍ、１～１０μｍ、５～５０μｍ、５～３０μｍ、５～２０μｍ、１０～５０μｍ、０．１～１μｍ、１～５μｍ、５～１０μｍ、１０～２０μｍ、又は２０～５０μｍであってもよい。第３の光学層１４前記第３のハードコート層の厚みの厚みは、加工性、屈曲性の観点からは大きすぎないことが好ましく、硬度の観点からは小さすぎないことが好ましい。
【0053】
なお、本発明のハードコートフィルムにおいて、基材を含む任意の層の厚みが均一でない場合（例えば、層の表面に凹凸がある場合）は、その層の「厚み」は、平均厚みとする。
【0054】
第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４は、前述のとおり、それぞれ、ナノ粒子を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。前記ナノ粒子は、特に限定されないが、例えば、前述のとおり無機ナノ粒子であってもよく、例えば、ナノ酸化金属粒子、ナノシリカ粒子、ナノ金属粒子、ナノダイヤモンド粒子等が挙げられ、一種類のみ用いても複数種類併用してもよい。
【0055】
なお、本発明において、「ナノ粒子」は、重量平均粒子径が、おおむね数百ｎｍ以下のシリカ粒子をいう。本発明において、「ナノ粒子」の重量平均粒子径は、特に限定されないが、例えば、１ｎｍ以上、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以上、１００ｎｍ以上、１５０ｎｍ以上、２００ｎｍ以上、又は２５０ｎｍ以上であってもよく、例えば、３００ｎｍ以下、２５０ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、１００ｎｍ以下、５０ｎｍ以下、４０ｎｍ以下、３０ｎｍ以下、２０ｎｍ以下、又は１０ｎｍ以下であってもよく、例えば、１～３００ｎｍ、１～２５０ｎｍ、１～２００ｎｍ、１～１００ｎｍ、１～５０ｎｍ、１０～３００ｎｍ、１０～２５０ｎｍ、１０～２００ｎｍ、１０～１００ｎｍ、５０～３００ｎｍ、５０～２５０ｎｍ、５０～２００ｎｍ、５０～１００ｎｍ、１００～３００ｎｍ、１００～２５０ｎｍ、１～１０ｎｍ、１０～５０ｎｍ、５０～１００ｎｍ、１００～２００ｎｍ、又は２００～３００ｎｍであってもよい。これら「ナノ粒子」の重量平均粒子径の好適範囲は、第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４の全てにおいて同様である。前記ナノ粒子の重量平均粒子径は、本発明の光学フィルムの透明性の観点からは大きすぎないことが好ましく、本発明の光学フィルムの硬度の観点からは小さすぎないことが好ましい。
【0056】
なお、本発明において、重量平均粒子径の測定方法は、特に限定されないが、例えば下記のとおりである。例えば、ハードコート層中のナノ粒子の平均粒子径は、前記ハードコート層の断面のＴＥＭ（Transmission Electron Microscope、透過型電子顕微鏡）分析によって測定可能であり、これを重量平均粒子径と推定することができる。具体的には、断面のＴＥＭ像における０．５μｍ×０．５μｍの領域に観察された全ての粒子の粒子径（長径と短径を足して２で割った数値）を平均した数値を重量平均粒子径と推定することができる。また、ナノ粒子の分散している材料（溶液）における前記ナノ粒子系の重量平均粒子径を測定する場合は、例えば、光散乱・回折法を使って測定できる。
【0057】
第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４の各層は、前述のとおり、それぞれ、ナノ粒子を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。前記各層がナノ粒子を含む場合、前記各層中のナノ粒子の含有率は、特に限定されないが、前記各層全体の質量（重量）に対し、例えば、１質量％以上、２０質量％以上、３０質量％以上、４０質量％以上、５０質量％以上、６０質量％以上、７０質量％以上、８０質量％以上、又は９０質量％以上であってもよく、例えば、１００質量％未満、９０質量％以下、８０質量％以下、７０質量％以下、６０質量％以下、５０質量％以下、４０質量％以下、３０質量％以下、又は２０質量％以下であってもよく、例えば、１～９０質量％、１～８０質量％、１～７０質量％、１～６０質量％、１～５０質量％、１～４０質量％、２０～９０質量％、２０～８０質量％、２０～７０質量％、２０～６０質量％、２０～５０質量％、３０～９０質量％、３０～８０質量％、３０～７０質量％、３０～６０質量％、３０～５０質量％、３０～４０質量％、４０～９０質量％、４０～８０質量％、４０～７０質量％、４０～５０質量％、６０～９０質量％、１～２０質量％、２０～４０質量％、４０～６０質量％、６０～８０質量％、又は８０～９０質量％であってもよい。前記第１のハードコート層において、前記ナノシリカ粒子の含有率は、本発明の光学フィルムの加工性、屈曲性の観点からは大きすぎないことが好ましく、本発明の光学フィルムの硬度の観点からは小さすぎないことが好ましい。
【0058】
本発明の光学フィルムの光透過率は特に限定されないが、例えば、前記光学フィルム全体の波長５５０ｎｍにおける光透過率が９０％以上であってもよい。前記光学フィルム全体の波長５５０ｎｍにおける光透過率は、例えば、９０％以上、９２％以上、９４％以上、９５％以上、９６％以上、９７％以上、９８％以上、又は９９％以上であってもよく、例えば、１００％以下、９９％以下、９８％以下、９７％以下、９６％以下、９５％以下、９４％以下、９３％以下、９２％以下、又は９０％以下であってもよく、例えば、９０～１００％、９０～９９％、９０～９８％、９０～９７％、９０～９６％、９０～９５％、９０～９４％、９０～９３％、９０～９２％、９２～１００％、９２～９９％、９２～９８％、９２～９７％、９２～９６％、９２～９５％、９２～９４％、９２～９３％、９４～１００％、９４～９９％、９４～９８％、９４～９７％、９４～９６％、９４～９５％、９５～１００％、９５～９９％、９５～９８％、９５～９７％、９５～９６％、９６～１００％、９６～９９％、９６～９８％、９６～９７％、９７～１００％、９７～９９％、９７～９８％、９８～１００％、９８～９９％、又は９９～１００％であってもよい。光学フィルム全体の光透過率が高いことにより、例えば、偏光板化した際に明るさを損なわない、透明度が高いため外観検査がしやすい、等の利点がある。
【0059】
なお、本発明において、光透過率の測定方法は、特に限定されないが、例えば、下記の測定方法により測定できる。
【0060】
［光透過率の測定方法］
・装置：積分球式分光透過率測定器（商品名：DOT-3C、村上色彩技術研究所製）
・測定モード：全光線透過率＆色彩計算
・光源：D65光源
・視野角：2度視野
・以上の設定で気温２３度、湿度５０％の測定条件で、波長５５０ｎｍでの光透過率を測定する。
・装置：積分球式分光透過率測定器（商品名：DOT-3C、村上色彩技術研究所製）
・測定モード：全光線透過率＆色彩計算
・光源：D65光源
・視野角：2度視野
・以上の設定で気温２３度、湿度５０％の測定条件で、波長５５０ｎｍでの光透過率を測定する。
【0061】
本発明の光学フィルムの製造方法では、前述のとおり、前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅ＨＣ１ａ［ｍｍ］を前記基材の幅Ｐ１［ｍｍ］で割った数値ＨＣ１ａ／Ｐ１が、０．８以上かつ０．９５以下であり、すなわち、前記数式（１）を満たすように前記第１の光学層を形成する。ＨＣ１ａ／Ｐ１を０．９５以下と小さくすることで、反対側の面に第２の光学層を形成する際にもカールを抑制し、フィルムの搬送性が向上する。また、ＨＣ１ａ／Ｐ１が０．８以上と小さすぎないことで、製造時の歩留まりが低下し過ぎない。さらに、反対側の面に第２の光学層を形成することで、基材の両面に光学層が形成されることになり、これにより、さらにカールが抑制され、その後のフィルムの搬送性がさらに向上する。また、基材の両面に光学層が形成されることで、特に前記光学層がハードコート層である場合は、例えば、光学フィルムの硬度がさらに向上することにもなる。前記ＨＣ１ａ／Ｐ１は、例えば、０．８０以上、０．８２以上、０．８４以上、０．８６以上、又は０．８８以上であってもよく、例えば、０．９５以下、０．９４以下、０．９３以下、０．９２以下、又は０．９１以下であってもよく、例えば、０．８０～０．９４、０．８２～０．９４、０．８２～０．９３、０．８４～０．９３、又は０．８４～０．９２であってもよい。
【0062】
本発明の光学フィルムの製造方法では、前述のとおり、前記第２の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅ＨＣ１ａ［ｍｍ］を前記第２の光学層の幅ＨＣ２ａ［ｍｍ］で割った数値ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａが、０．８以上かつ１．２以下であり、すなわち、前記数式（２）を満たすように前記第２の光学層を形成してもよい。ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａを１．２以下とすることで、例えば、基材端部の折れ及びシワの発生が抑制され、以降のフィルムの搬送性が向上する。また、ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａを１．２以下とすることで、例えば、後述する保護フィルムを貼り合せた場合の不具合が抑制される。ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａを０．８以上とすることで、例えば、前記第２の光学層が前記基材の端部からはみ出すことを防止できる。前記ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａは、例えば、０．８以上、０．８２以上、０．８４以上、０．８６以上、又は０．８８以上であってもよく、例えば、１．２以下、１．１８以下、１．１６以下、１．１４以下、又は１．１２以下であってもよく、例えば、０．８～１．２、０．８～１．１８、０．８２～１．１８、０．８２～１．１６、又は０．８４～１．１６であってもよい。
【0063】
また、本発明の光学フィルムの製造方法では、例えば、前記第２の光学層形成工程において、前記第２の光学層の幅ＨＣ２ａ［ｍｍ］を前記基材の幅Ｐ１［ｍｍ］で割った数値ＨＣ２ａ／Ｐ１が、例えば、０．８以上、０．８２以上、０．８４以上、０．８６以上、又は０．８８以上であってもよく、例えば、１．０以下、０．９８以下、０．９６以下、０．９４以下、又は０．９２以下であってもよく、例えば、０．８～１．０、０．８～０．９８、０．８２～０．９８、０．８２～０．９６、又は０．８４～０．９６であってもよい。前記第２の光学層の両端が前記基材からはみ出さないためには、ＨＣ２ａ／Ｐ１は１．０以下が好ましい。また、後述するように、前記第２の光学層上に粘接着剤等により他の構成要素（例えば保護フィルム等）を貼付する場合には、前記基材の両端がなるべく露出しないように、ＨＣ２ａ／Ｐ１が１．０を超えない範囲でなるべく大きいことが好ましい。
【0064】
本発明の光学フィルムの製造方法では、前述のとおり、前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０８～０．３０倍となるように前記第１の光学層を形成してもよい。前記第１の光学層形成工程において形成する前記第１の光学層の厚みは、前記基材の厚みに対して、例えば、０．０８倍以上、０．１０倍以上、０．１２倍以上、０．１４倍以上、又は０．１６倍以上であってもよく、例えば、０．３０倍以下、０．２８倍以下、０．２６倍以下、０．２４倍以下、又は０．２２倍以下であってもよく、例えば、０．０８倍～０．３０倍、０．１０倍～０．３０倍、０．１０倍～０．２８倍、０．１２倍～０．２８倍、又は０．１２倍～０．２６倍であってもよい。前記第２の光学層形成工程において、前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．３０倍となるように前記第２の光学層を形成してもよい。前記第２の光学層形成工程において形成する前記第２の光学層の厚みは、前記基材の厚みに対して、例えば、０．０８倍以上、０．１０倍以上、０．１２倍以上、０．１４倍以上、又は０．１６倍以上であってもよく、例えば、０．３０倍以下、０．２８倍以下、０．２６倍以下、０．２４倍以下、又は０．２２倍以下であってもよく、例えば、０．０８倍～０．３０倍、０．１０倍～０．３０倍、０．１０倍～０．２８倍、０．１２倍～０．２８倍、又は０．１２倍～０．２６倍であってもよい。基材の厚みに対し、光学層の厚みを適切な比率とすることで、製造される光学フィルムにおいて、例えば、高硬度とカール抑制の両立、高硬度と折り曲げ性（折り曲げにより破損しにくい性質）の両立、高硬度と加工性（加工しやすい性質）の両立等が可能となる。高硬度の観点からは、光学層の厚みが小さすぎない（薄すぎない）ことが好ましい。カール抑制、折り曲げ性、加工性、透明度の高さ等の観点からは、光学層の厚みが大きすぎない（厚すぎない）ことが好ましい。
【0065】
本発明の光学フィルムの製造方法は、前述のとおり、さらに、前記第１の光学層形成工程後に、前記第１の光学層における前記基材とは反対側の面上に第３の光学層を形成する第３の光学層形成工程を含んでいてもよい。前記基材の一方の面に、複数の層を形成することで、例えば、前記複数の層に異なる機能を持たせ、光学フィルムの多機能化が可能である。例えば、前記第３の光学層を防眩層（アンチグレア層又はＡＧ層ともいう）としてもよい。この場合において、前記第１の光学層は、例えば、ハードコート層であってもよい。前記第３の光学層を防眩層とする場合、例えば、前記第３の光学層がフィラーを含むように前記第３の光学層を形成してもよい。前記フィラーは、特に限定されないが、例えば、前記ナノ粒子であってもよい。前記第３の光学層は、例えば、防眩性を有するハードコート層としてもよい。
【0066】
本発明の光学フィルムの製造方法では、前述のとおり、前記第３の光学層形成工程において、前記第３の光学層の幅ＨＣ１ｂ［ｍｍ］を前記第１の光学層の幅ＨＣ１ａ［ｍｍ］で割った数値ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａが０．９５以上かつ１．０５以下となるように、すなわち、前記数式（３）を満たすように前記第３の光学層を形成してもよい。このように、前記第３の光学層の幅ＨＣ１ｂ［ｍｍ］と前記第１の光学層の幅ＨＣ１ａ［ｍｍ］とをほぼ等しくすることで、製造される光学フィルムの有効幅を広くして歩留まりを向上させることができる。前記ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａは、例えば、０．９５以上、０．９６以上、０．９７以上、０．９８以上、又は０．９９以上であってもよく、例えば、１．０５以下、１．０４以下、１．０３以下、１．０２以下、又は１．０１以下であってもよく、例えば、０．９５～１．０５、０．９５～１．０４、０．９６～１．０４、０．９６～１．０３、又は０．９７～１．０３であってもよい。
【0067】
本発明の光学フィルムは、例えば、前述のとおり、前記第１の光学層、前記第２の光学層、及び前記第３の光学層の少なくとも一つがハードコート層であってもよい。この場合、本発明の光学フィルムは、ハードコートフィルム（本発明のハードコートフィルム）ということができる。本発明のハードコートフィルムは、例えば、硬度が高く、しかもカールが抑制されたハードコートフィルムとすることができる。具体的には、例えば、基材の両側にハードコート層が積層されていることでカールが抑制され、さらに、表面側（視認側）に、ハードコート層として前記第１の光学層（ハードコート層）及び前記第３の光学層（ハードコート層）が積層されていることで、硬度が高いハードコート層とすることができる。このような本発明のハードコートフィルムは、例えば、偏光板の部材として使用できるだけでなく、前面板としても使用可能である。
【0068】
本発明のハードコートフィルムは、例えば、クリアフィルム又は防眩性フィルム（ＡＧフィルムともいう）として使用できる。例えば、防眩性フィルムとして用いるためには、視認側の最表層（例えば前記第３の光学層）に防眩性（ＡＧ性）を持たせればよい。
【0069】
［２．光学フィルムの製造方法］
以下に、本発明の光学フィルムの製造方法について、例を挙げてさらに具体的に説明する。なお、以下では、主に、図１に示す光学フィルム１０の製造方法の例について説明する。また、以下では、主に、図１に示す第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４がそれぞれハードコート層であり、製造される光学フィルム１０がハードコートフィルムである場合について説明する。
以下に、本発明の光学フィルムの製造方法について、例を挙げてさらに具体的に説明する。なお、以下では、主に、図１に示す光学フィルム１０の製造方法の例について説明する。また、以下では、主に、図１に示す第１の光学層１２、第２の光学層１３、及び第３の光学層１４がそれぞれハードコート層であり、製造される光学フィルム１０がハードコートフィルムである場合について説明する。
【0070】
まず、基材１１を準備し、その一方の面上に第１の光学層１２を形成する（第１の光学層形成工程）。基材１１の材質は、特に限定されないが、例えば前述のとおりである。この第１の光学層形成工程において、第１の光学層１２の幅ＨＣ１ａ［ｍｍ］を基材１１の幅Ｐ１［ｍｍ］で割った数値ＨＣ１ａ／Ｐ１が、０．８以上かつ０．９５以下であり、すなわち、前記数式（１）を満たすように第１の光学層１２を形成する。
【0071】
前記第１の光学層形成工程において、基材１１上に第１の光学層１２を形成する方法は特に限定されないが、例えば、以下のとおりである。前記第１の光学層形成工程は、例えば、基材１１上に第１の光学層形成用塗工液（以下、単に「塗工液」又は「第１の光学層形成材料」という場合がある。）を塗工する塗工工程と、塗工した前記塗工液を乾燥させて塗膜を形成する塗膜形成工程とを含んでいてもよい。また、例えば、前記第１の光学層形成工程が、さらに、前記塗膜を硬化させる硬化工程を含んでいてもよい。前記硬化は、例えば、前記乾燥の後に行なうことができるが、これに限定されない。前記硬化は、例えば、加熱、光照射等により行うことができる。前記光は、特に限定されないが、例えば、紫外線等であってもよい。前記光照射の光源も特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ等であってもよい。
【0072】
前記塗工液（第１の光学層形成材料）は、例えば、樹脂材料と希釈溶媒（以下、単に「溶媒」という場合がある。）とを含む塗工液であってもよい。また、前記塗工液は、これら以外の他の成分を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。前記他の成分としては、特に限定されないが、例えば、チキソトロピー付与剤、及び前記ナノ粒子（例えばナノシリカ粒子）等が挙げられる。なお、図１では、第１の光学層１２がナノ粒子１２ｂを含む例を示した。しかし、本発明のハードコートフィルムは、前述のとおり、前記第１の光学層が、ナノ粒子を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。
【0073】
前記塗工液に含まれる前記樹脂材料は、例えば、第１の光学層１２を形成する第１の光学層形成樹脂１２ａそのものであってもよいし、重合、硬化等により第１の光学層形成樹脂１２ａを形成する樹脂材料であってもよい。第１の光学層形成樹脂１２ａは、特に限定されないが、例えば、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化樹脂等であってもよい。また、第１の光学層形成樹脂１２ａは、例えば、アクリレート樹脂（アクリル樹脂ともいう）を含んでいてもよく、例えば、ウレタンアクリレート樹脂を含んでいてもよい。また、前記樹脂は、例えば、硬化型ウレタンアクリレート樹脂及び多官能アクリレートの共重合物であってもよい。
【0074】
前記樹脂材料は、例えば、官能基を有するオリゴマーとモノマーとを含んでいてもよい。例えば、第１の光学層１２を形成する第１の光学層形成樹脂１２ａが、前記官能基を有するオリゴマーと前記モノマーとの共重合体であってもよい。前記官能基を有するオリゴマーとしては、特に限定されないが、例えば、硬化型ウレタンアクリレート樹脂等が挙げられる。前記硬化型ウレタンアクリレート樹脂としては、例えば、三菱ケミカル株式会社製の商品名「ＵＶ－１７００ＴＬ」、三菱ケミカル株式会社製の商品名「ＵＴ－７３１４」等が挙げられる。前記モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、多官能アクリレート等が挙げられる。前記多官能アクリレートとしては、例えば、東亜合成株式会社製の商品名「Ｍ－９２０」等が挙げられる。
【0075】
前記溶媒は、特に制限されず、種々の溶媒を使用可能であり、一種類を単独で使用してもよいし、二種類以上を併用してもよい。例えば、前記樹脂の組成、前記ナノシリカ粒子及び前記チキソトロピー付与剤の種類、含有量等に応じて、最適な溶媒種類や溶媒比率を適宜選択してもよい。前記溶媒としては、特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ブタノール、ｔ－ブチルアルコール（ＴＢＡ）、２－メトキシエタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ジイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類；ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等があげられる。また、例えば、前記溶媒が、炭化水素溶媒と、ケトン溶媒とを含んでいてもよい。前記炭化水素溶媒は、例えば、芳香族炭化水素であってもよい。前記芳香族炭化水素は、例えば、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、エチルベンゼン、及びベンゼンからなる群から選択される少なくとも一つであってもよい。前記ケトン溶媒は、例えば、シクロペンタノン、及びアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、アセトフェノンからなる群から選択される少なくとも一つであってもよい。前記溶媒は、例えば、チキソトロピー付与剤（例えば増粘剤）を溶解させるために、前記炭化水素溶媒（例えばトルエン）を含むことが好ましい。前記溶媒は、例えば、前記炭化水素溶媒と、前記ケトン溶媒とを、９０：１０～１０：９０の質量比で混合した溶媒であってもよい。前記炭化水素溶媒と、前記ケトン溶媒との質量比は、例えば、８０：２０～２０：８０、７０：３０～３０：７０、又は４０：６０～６０：４０等であってもよい。この場合において、例えば、前記炭化水素溶媒がトルエンであり、前記ケトン溶媒がメチルエチルケトンであってもよい。また、前記溶媒は、例えば、トルエンを含むとともに、さらに、酢酸エチル、酢酸ブチル、ＩＰＡ、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、及びＴＢＡからなる群から選択される少なくとも一つを含んでいてもよい。
【0076】
基材１１として、例えば、アクリルフィルムを採用して中間層（浸透層）を形成する場合は、アクリルフィルム（アクリル樹脂）に対する良溶媒が好適に使用できる。その溶媒としては、例えば、前述のとおり、炭化水素溶媒と、ケトン溶媒とを含む溶媒でもよい。前記炭化水素溶媒は、例えば、芳香族炭化水素であってもよい。前記芳香族炭化水素は、例えば、トルエン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、エチルベンゼン、及びベンゼンからなる群から選択される少なくとも一つであってもよい。前記ケトン溶媒は、例えば、シクロペンタノン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、及びアセトフェノンからなる群から選択される少なくとも一つであってもよい。前記溶媒は、例えば、前記炭化水素溶媒と、前記ケトン溶媒とを、９０：１０～１０：９０の質量比で混合した溶媒であってもよい。前記炭化水素溶媒と、前記ケトン溶媒との質量比は、例えば、８０：２０～２０：８０、７０：３０～３０：７０、又は４０：６０～６０：４０等であってもよい。この場合において、例えば、前記炭化水素溶媒がトルエンであり、前記ケトン溶媒がメチルエチルケトンであってもよい。
【0077】
基材１１として、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）を用いる場合は、前記溶媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸エチル、メチルエチルケトン、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）、シクロペンタノン等が挙げられ、一種類のみ用いても複数種類併用してもよい。この場合、前記溶媒は、例えば、ＭＩＢＫ及びシクロペンタノンの混合溶媒でもよい。ＭＩＢＫ及びシクロペンタノンの混合比は、特に限定されないが、例えば、質量比で、９０：１０～１０：９０、８０：２０～２０：８０、７０：３０～３０：７０であってもよい。
【0078】
また、溶媒を適宜選択することによって、チキソトロピー付与剤を含有する場合において防眩性ハードコート層形成材料（塗工液）へのチキソ性を良好に発現させることができる。例えば、有機粘土を用いる場合には、トルエン及びキシレンを好適に、単独使用又は併用することができ、例えば、酸化ポリオレフィンを用いる場合には、メチルエチルケトン、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルメーテルを好適に、単独使用又は併用することができ、例えば、変性ウレアを用いる場合には、酢酸ブチル及びメチルイソブチルケトンを好適に、単独使用又は併用することができる。
【0079】
前記第１の光学層形成材料には、各種レベリング剤を添加することができる。前記レベリング剤としては、塗工ムラ防止（塗工面の均一化）を目的に、例えば、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を用いることができる。本発明では、第１の光学層表面に防汚性が求められる場合、又は、前記他の層反射防止層（低屈折率層）や層間充填剤を含む層が第１の光学層上に形成される場合などに応じて、適宜レベリング剤を選定することができる。
【0080】
前記レベリング剤の配合量は、前記樹脂１００重量部に対して、例えば、５重量部以下、好ましくは０．０１～５重量部の範囲である。
【0081】
前記第１の光学層形成材料には、必要に応じて、性能を損なわない範囲で、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、防汚剤、酸化防止剤等が添加されてもよい。これらの添加剤は一種類を単独で使用してもよく、また二種類以上併用してもよい。
【0082】
前記第１の光学層形成材料には、例えば、特開２００８－８８３０９号公報に記載されるような、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。
【0083】
前記第１の光学層形成材料（塗工液）を基材１１上に塗工して塗膜を形成する方法としては、例えば、ファンテンコート法、ダイコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、バーコート法等の塗工法を用いることができる。
【0084】
つぎに、前述のとおり、前記塗膜を乾燥及び硬化させ、第１の光学層を形成する。前記乾燥は、例えば、自然乾燥でもよいし、風を吹きつけての風乾であってもよいし、加熱乾燥であってもよいし、これらを組み合わせた方法であってもよい。
【0085】
前記第１の光学層形成材料（塗工液）の乾燥温度は、例えば、３０～２００℃の範囲であってもよい。前記乾燥温度は、例えば、４０℃以上、５０℃以上、６０℃以上、７０℃以上、８０℃以上、９０℃以上、又は１００℃以上であってもよく、１９０℃以下、１８０℃以下、１７０℃以下、１６０℃以下、１５０℃以下、１４０℃以下、１３５℃以下、１３０℃以下、１２０℃以下、又は１１０℃以下であってもよい。乾燥時間は特に限定されないが、例えば、３０秒以上、４０秒以上、５０秒以上、又は６０秒以上であってもよく、１５０秒以下、１３０秒以下、１１０秒以下、又は９０秒以下であってもよい。
【0086】
前記塗膜の硬化手段は、特に制限されないが、紫外線硬化が好ましい。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０～５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。照射量が、５０ｍＪ／ｃｍ２以上であれば、硬化が十分に進行しやすく、形成される第１の光学層の硬度が高くなりやすい。また、５００ｍＪ／ｃｍ２以下であれば、形成される第１の光学層の着色を防止することができる。
【0087】
以上のようにして、図１に示す基材１１と第１の光学層１２との積層体を製造できる。
【0088】
つぎに、基材１１の他方の面上に第２の光学層１３を形成する（第２の光学層形成工程）。この第２の光学層形成工程において第２の光学層１３を形成する方法は特に限定されないが、例えば、前記第１の光学層形成工程において第１の光学層１２を形成する方法と同様でもよい。このようにして、図１に示す基材１１と第１の光学層１２と第２の光学層１３との積層体を製造できる。なお、前述のとおり、図１の光学フィルム１０において、基材１１、第１の光学層１２、及び第２の光学層１３以外は、本発明の光学フィルムの製造方法及び本発明の光学フィルムにおいて任意の構成要素である。このため、以上のようにして製造した基材１１と第１の光学層１２と第２の光学層１３との積層体を、そのまま本発明の光学フィルムとして用いることもできる。
【0089】
つぎに、一方の面上に粘接着層３１が形成された保護フィルム２１を、粘接着層３１によって第２の光学層１３に貼付し、積層させる（保護フィルム積層工程）。この保護フィルム積層工程は、本発明において必須ではなく、行っても行わなくてもよい。保護フィルム２１は、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリエステルフィルム、ＰＥＴフィルム等であってもよく、例えば、日東電工株式会社製の商品名「ＳＰＶ」シリーズ等であってもよい。保護フィルム２１は、粘接着層３１を介さずに光学層１３の面上に直接積層させることもできるが、図１のように粘接着層３１により第２の光学層１３に貼付するのが簡便で好ましい。また、この状態から保護フィルム２１を剥離し、粘接着層３１によって本発明の光学フィルムを被接着物に添付してもよい。前記被接着物は、例えば、画像表示装置における本発明の光学フィルム以外の他の部材であってもよい。粘接着層３１の形成方法は特に限定されず、一般的な方法を適宜用いることができるが、例えば、塗工等により形成できる。
【0090】
粘接着層３１は、例えば、粘着剤（粘着剤組成物）により形成された粘着層でもよい。本発明において、粘接着層３１は、例えば、第２の光学層１３から保護フィルム２１を再剥離可能な層であってもよい。粘接着層３１の厚みは、特に限定されないが、例えば、５μｍ以上、１０μｍ以上、２０μｍ以上、又は２５μｍ以上であってもよいし、例えば、５０μｍ以下、４０μｍ以下、３０μｍ以下、２５μｍ以下、又は２０μｍ以下であってもよい。前記粘着剤は、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル系ポリマー等が挙げられる。これらは、例えば、溶媒に溶解又は分散させて溶液又は分散液の形態とし、それを前記粘着剤（粘着剤組成物）として用いてもよい。前記溶媒としては、例えば、酢酸エチル等が挙げられ、１種類のみ用いても複数種類併用してもよい。前記溶液又は分散液中の溶質又は分散質（例えば、前記アクリル系ポリマー）の濃度は、例えば、１０質量％以上、又は１５質量％以上であってもよく、例えば、６０質量％以下、５０質量％以下、４０質量％以下、又は２５質量％以下であってもよい。なお、本発明において、「（メタ）アクリル系ポリマー」は、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、及び（メタ）アクリルアミドの少なくとも一種類のモノマーの重合体又は共重合体をいう。また、本発明において、（メタ）アクリル酸は、「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方」を意味し、「（メタ）アクリル酸エステル」は、「アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの少なくとも一方」を意味する。前記（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸の直鎖又は分枝アルキルエステル等があげられる。前記（メタ）アクリル酸の直鎖又は分枝アルキルエステルにおいて、アルキル基の炭素数は、例えば、１以上、２以上、３以上、又は４以上であってもよく、例えば、１８以下、１６以下、１４以下、１２以下、１０以下、又は８以下であってもよい。前記アルキル基は、例えば、１又は複数の置換基で置換されていても置換されていなくてもよい。前記置換基は、例えば、水酸基等が挙げられ、複数の場合は、同一でも異なっていてもよい。前記（メタ）アクリル酸エステルとしては、具体的には、例えば、２－エチルヘキシルアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート等が挙げられる。また、前記粘着剤は、一種類のみ用いてもよいし、複数種類併用してもよい。
【0091】
さらに、図１に示すとおり、第１の光学層１２における基材１１とは反対側の面上に第３の光学層１４を形成する（第３の光学層形成工程）。この第３の光学層形成工程において第３の光学層１４を形成する方法は特に限定されないが、例えば、前記第１の光学層形成工程において第１の光学層１２を形成する方法と同様でもよい。また、前述のとおり、第３の光学層１４は、本発明の光学フィルムの製造方法及び本発明の光学フィルムにおいて任意の構成要素であるから、この第３の光学層形成工程は、行っても行わなくてもよい。
【0092】
なお、例えば、第３の光学層１４が反射防止層である場合において、第３の光学層１４の形成工程後に、第３の光学層１４の塗工具合（不良の有無）を確認するために、保護フィルム２１を剥離して新たに黒色保護フィルムを貼付してもよい。このとき、基材１１の両端が第２の光学層１３から露出している部分が多いと、黒色保護フィルムに付与されている粘接着剤により基材１１と第２の光学層１３との段差を埋めきれず、気泡が生じてしまうおそれがある。この気泡により、モアレが発生してしまい、第３の光学層１４の塗工具合を正確に判定できないおそれがある。これを避けるためには、前述のとおり、基材１１の両端が第２の光学層１３から露出している部分をなるべく少なくするように、第２の光学層１３の幅を、基材１１の両端からはみ出さない程度になるべく広くすることが好ましい。これに限らず、本発明の光学フィルムの製造方法において、各工程での工程安定性、目的とする光学フィルムの取り数向上によるコスト改善等を考慮し、各層の塗工幅を適宜決定することができる。具体的には、例えば、前述のとおりである。
【0093】
以上のようにして、図１に示す本発明の光学フィルム１０を製造することができる。ただし、前述のとおり、この製造方法は例示であって、本発明の光学フィルムの製造方法は、これに限定されない。例えば、前述のとおり、本発明の光学フィルムは、前記基材、前記第１の光学層、及び前記第２の光学層以外の他の構成要素を含んでいてもいなくてもよいし、図１に示す以外の他の構成要素を含んでいてもいなくてもよい。このため、本発明の光学フィルムの製造方法は、前記他の構成要素の形成工程を含んでいてもいなくてもよい。前記他の構成要素の形成方法も特に限定されず、例えば、一般的な光学フィルムの製造方法における同様の構成要素の形成方法と同様又はそれに準じてもよい。
【0094】
また、本発明の光学フィルムの製造方法は、例えば、連続製法とすることが可能である。具体的には、例えば、本発明の光学フィルムの製造方法は、前記基材が長尺状であり、前記基材を搬送しながら、前記第１の光学層形成工程、前記第２の光学層形成工程、及び必要に応じて他の工程（例えば、前記第３の光学層形成工程、前記保護フィルム積層工程等）を連続的に行う製造方法であってもよい。より具体的には、例えば、前記長尺状の基材がロール状であり、ロールから前記基材を繰り出しながら本発明の光学フィルムの製造方法を実施してもよい。
【0095】
さらに、製造した本発明の光学フィルムは、そのまま用いてもよいが、適宜裁断等をして用いてもよい。例えば、本発明の光学フィルムは、前記基材端部が他の層（光学層等）からはみ出している部分等を裁断して各層の幅を揃えるために、裁断して用いてもよい。本発明の第２の光学フィルムは、前述のとおり、前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が前記数式（１）を満たすことを特徴とするが、本発明の第１の光学フィルムは、前記基材、前記第１の光学層等の各構成要素間の幅の関係は特に限定されず任意である。
【0096】
［３．光学フィルム、光学部材及び画像表示装置］
本発明の光学フィルムは、特に限定されず、例えば、ハードコートフィルムであってもよいし、クリアフィルムであってもよいし、防眩性フィルムであってもよいし、防眩性ハードコートフィルム）であってもよいし、反射防止フィルムであってもよい。
本発明の光学フィルムは、特に限定されず、例えば、ハードコートフィルムであってもよいし、クリアフィルムであってもよいし、防眩性フィルムであってもよいし、防眩性ハードコートフィルム）であってもよいし、反射防止フィルムであってもよい。
【0097】
本発明の光学部材は、特に限定されないが、例えば、偏光板であってもよい。前記偏光板も、特に限定されないが、例えば、本発明の光学フィルム及び偏光子を含んでいてもよいし、さらに、他の構成要素を含んでいてもよい。前記偏光板の各構成要素は、例えば、接着剤又は粘着剤等により貼り合わせられていてもよい。
【0098】
本発明の画像表示装置も特に限定されず、どのような画像表示装置でもよいが、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、プラズマ表示装置等が挙げられる。
【0099】
本発明の画像表示装置の構成は、特に限定されず、例えば、一般的な画像表示装置と同様の構成であってもよい。例えば、ＬＣＤの場合、液晶セル、偏光板等の光学部材、及び必要に応じ照明システム（バックライト等）等の各構成部品を適宜に組み立てて駆動回路を組み込むこと等により製造できる。
【0100】
本発明の画像表示装置の用途は、特に限定されず、任意の用途に使用可能である。その用途としては、例えば、パソコンモニター、ノートパソコン、タブレット、スマートフォン、コピー機等のＯＡ機器、携帯電話、時計、デジタルカメラ、携帯情報端末（ＰＤＡ）、携帯ゲーム機等の携帯機器、ビデオカメラ、テレビ、電子レンジ等の家庭用電気機器、バックモニター、カーナビゲーションシステム用モニター、カーオーディオ等の車載用機器、商業店舗用インフォメーション用モニター等の展示機器、監視用モニター等の警備機器、介護用モニター、医療用モニター等の介護・医療機器、スマートグラス、VR機器等が挙げられる。本発明の画像表示装置は、例えば、カメラ機能を有する画像表示装置であってもよい。
【実施例0101】
つぎに、本発明の実施例について、比較例と併せて説明する。ただし、本発明は、以下の実施例及び比較例により制限されない。
【0102】
なお、以下の実施例及び比較例において、物質の部数は、特に断らない限り、質量部（重量部）である。また、「平均粒径」は、特に断らない限り、重量平均粒子径である。
【0103】
［参考例：塗工液製造方法］
以下のようにして、第１の光学層形成材料である塗工液と、第２の光学層形成材料である塗工液と、第３の光学層形成材料である塗工液とを、それぞれ製造した。
以下のようにして、第１の光学層形成材料である塗工液と、第２の光学層形成材料である塗工液と、第３の光学層形成材料である塗工液とを、それぞれ製造した。
【0104】
［参考例１：第１の光学層形成材料（塗工液）の製造方法］
第１の光学層形成用の樹脂として、ナノシリカ入りアクリルレート樹脂（荒川化学工業（株）製、商品名「オプスターＺ７５４０」、固形分５６％）１００重量部を準備した。この樹脂に、レベリング剤（共栄社化学（株）製、商品名「ＬＥ３０３」、固形分４０％）を０．１重量部混合した。この混合物を、固形分濃度が５５重量％となるように、メチルエチルケトンで希釈し、混合して第１の光学層形成材料（塗工液）を調製（製造）した。
第１の光学層形成用の樹脂として、ナノシリカ入りアクリルレート樹脂（荒川化学工業（株）製、商品名「オプスターＺ７５４０」、固形分５６％）１００重量部を準備した。この樹脂に、レベリング剤（共栄社化学（株）製、商品名「ＬＥ３０３」、固形分４０％）を０．１重量部混合した。この混合物を、固形分濃度が５５重量％となるように、メチルエチルケトンで希釈し、混合して第１の光学層形成材料（塗工液）を調製（製造）した。
【0105】
［参考例２：第２の光学層形成材料（塗工液）の製造方法］
第２の光学層形成材料に含まれる樹脂として、ペンタエリストールトリアクリレートを主成分とする多官能アクリレート（大阪有機化学工業（株）製、商品名「ビスコート＃３００」、固形分１００％）１００重量部を準備した。この樹脂に、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」）を３重量部、及び、レベリング剤（ＤＩＣ（株）製、商品名「ＰＣ４１００」、固形分１０％）を０．０１重量部混合した。この混合物を、固形分濃度が４０重量％となるように、酢酸ブチルとメチルエチルケトンとの混合液（酢酸ブチル：メチルエチルケトン＝３：１）で希釈し、混合して第２の光学層形成材料（塗工液）を調製（製造）した。
第２の光学層形成材料に含まれる樹脂として、ペンタエリストールトリアクリレートを主成分とする多官能アクリレート（大阪有機化学工業（株）製、商品名「ビスコート＃３００」、固形分１００％）１００重量部を準備した。この樹脂に、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」）を３重量部、及び、レベリング剤（ＤＩＣ（株）製、商品名「ＰＣ４１００」、固形分１０％）を０．０１重量部混合した。この混合物を、固形分濃度が４０重量％となるように、酢酸ブチルとメチルエチルケトンとの混合液（酢酸ブチル：メチルエチルケトン＝３：１）で希釈し、混合して第２の光学層形成材料（塗工液）を調製（製造）した。
【0106】
［参考例３：第３の光学層形成材料（塗工液）の製造方法］
第３の光学層形成材料に含まれる樹脂として、ナノシリカ入りアクリルレート樹脂（荒川化学工業（株）製、商品名「ＮＣ０３５ＨＳ」、固形分５０％）１００重量部準備した。この樹脂に、レベリング剤（共栄社化学（株）製、商品名「ＬＥ３０３」、固形分４０％）を０．１５重量部混合した。この混合物を、固形分濃度が４０重量％となるように、シクロペンタノンで希釈し、混合して第３の光学層形成材料（塗工液）を調製（製造）した。
第３の光学層形成材料に含まれる樹脂として、ナノシリカ入りアクリルレート樹脂（荒川化学工業（株）製、商品名「ＮＣ０３５ＨＳ」、固形分５０％）１００重量部準備した。この樹脂に、レベリング剤（共栄社化学（株）製、商品名「ＬＥ３０３」、固形分４０％）を０．１５重量部混合した。この混合物を、固形分濃度が４０重量％となるように、シクロペンタノンで希釈し、混合して第３の光学層形成材料（塗工液）を調製（製造）した。
【0107】
［実施例１］
以下のようにして、実施例１の光学フィルムを製造した。
以下のようにして、実施例１の光学フィルムを製造した。
【0108】
まず、参考例１で製造した第１の光学層形成用材料（塗工液）を用いて、基材（光透過性基材）上に第１の光学層形成工程を行った。すなわち、まず、前記第１の光学層形成用材料（塗工液）を、トリアセチルセルロース製基材（厚み８０μｍ、幅１３３０ｍｍ、コニカミノルタ（株）製、商品名ＫＣ８ＵＡ）上にスロットダイを用いて塗工幅１２００ｍｍとなるよう塗工した。その後、８０℃で６０秒間加熱して乾燥させ、さらに、高圧水銀ランプにより、波長３６５ｎｍの紫外線を積算光量２１０ｍＪ／ｃｍ２となるように照射して前記第１の光学層形成用材料（塗工液）中の樹脂を硬化させ、前記トリアセチルセルロース製基材上に厚み２０μｍの第１の光学層を形成した。
【0109】
つぎに、第２の光学層形成工程を行った。具体的には、前記第１の光学層形成工程により前記第１の光学層が形成された基材を用いて、前記第１の光学層形成面とは反対側の面に、参考例２で製造した第２の光学層形成材料（塗工液）を用いて第２の光学層を形成した。第２の光学層形成材料は、塗工液として前記第１の光学層形成材料に代えて前記第２の光学層形成材料を用いたことと、塗工幅を１３００ｍｍにしたことと、乾燥及び光硬化後の第２の光学層厚みを１２μｍとしたこと以外は前記第１の光学層形成工程と同様の条件で行った。
【0110】
つぎに、第３の光学層形成工程を行った。具体的には、一方の面に第１の光学層、他方の面に第２の光学層が形成された前記基材を用いて、前記第１の光学層の面上に、参考例３で製造した第３の光学層形成用材料（塗工液）を用いて第３の光学層を形成した。第３の光学層形成工程は、塗工液として前記第１の光学層形成材料に代えて前記第３の光学層形成材料を用いたことと、塗工幅を１１９０ｍｍにしたことと、乾燥及び光硬化後の第３の光学層厚みを５μｍとしたこと以外は前記第１の光学層形成工程と同様の条件で行った。
【0111】
以上のようにして、実施例１の光学フィルムを製造した。この実施例の光学フィルムは、前記基材の一方の面上に前記第１の光学層が形成され、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層が形成され、さらに、前記第１の光学層における前記基材とは反対側の面上に前記第３の光学層が形成された光学フィルムである。
【0112】
［実施例２～５］
前記第１の光学層、前記第２の光学層、及び前記第３の光学層の各層の幅及び厚みを、下記表１に記載したとおりにした以外は、実施例１と同様の製造方法で、実施例２～５の光学フィルムを製造した。ただし、実施例３及び４の光学フィルムについては、前記第３の光学層を形成せず、前記第１の光学層及び前記第２の光学層のみを形成した。
前記第１の光学層、前記第２の光学層、及び前記第３の光学層の各層の幅及び厚みを、下記表１に記載したとおりにした以外は、実施例１と同様の製造方法で、実施例２～５の光学フィルムを製造した。ただし、実施例３及び４の光学フィルムについては、前記第３の光学層を形成せず、前記第１の光学層及び前記第２の光学層のみを形成した。
【0113】
［比較例１～５］
前記第１の光学層、前記第２の光学層、及び前記第３の光学層の各層の幅及び厚みを、下記表１に記載したとおりにした以外は、実施例１と同様の製造方法で、比較例１～５の光学フィルムを製造した。なお、比較例１～３は、第１の光学層形成工程後における第２の光学層形成工程で、基材両端のカールによってオーブン内へのフィルムの接触が起こり、塗工液の塗工が不可能であった。比較例４及び５は、第２の光学層形成後における第３の光学層形成工程で、基材両端のカールによってオーブン内へのフィルムの接触が起こり、塗工液の塗工が不可能であった。
前記第１の光学層、前記第２の光学層、及び前記第３の光学層の各層の幅及び厚みを、下記表１に記載したとおりにした以外は、実施例１と同様の製造方法で、比較例１～５の光学フィルムを製造した。なお、比較例１～３は、第１の光学層形成工程後における第２の光学層形成工程で、基材両端のカールによってオーブン内へのフィルムの接触が起こり、塗工液の塗工が不可能であった。比較例４及び５は、第２の光学層形成後における第３の光学層形成工程で、基材両端のカールによってオーブン内へのフィルムの接触が起こり、塗工液の塗工が不可能であった。
【0114】
実施例及び比較例の光学フィルムについて、カールは、下記の方法により測定した。この測定結果を、下記表１及び表２に示す。なお、下記表１及び表２において、厚みの単位はμｍであり、幅の単位はｍｍである。「ＨＣ１ａ幅」は、第１の光学層の幅ＨＣ１ａを表す。「ＨＣ１ａ厚」は、第１の光学層の厚みを表す。「ＨＣ２ａ幅」は、第２の光学層の幅ＨＣ２ａを表す。「ＨＣ２ａ厚」は、第２の光学層の厚みを表す。「ＨＣ１ｂ幅」は、第３の光学層の幅ＨＣ１ｂを表す。「ＨＣ１ｂ厚」は、第３の光学層の厚みを表す。
【0115】
［カール測定方法］
光学フィルムを、光学フィルム製造時の搬送方向（ＭＤ方向という。）及び幅方向（すなわちＭＤ方向と垂直方向、ＴＤ方向という。）にそれぞれ頂点が来るように、１５０ｍｍ×１５０ｍｍの正方形に切り出し、これを測定サンプルとした。測定サンプルを切り出す際には、幅方向の中心を物差し等で測り、その位置からフィルムを切り出した。ＭＤ方向のカールを測定する際は、ＴＤ方向の頂点どうしを結ぶように棒状の重りを置き、光学フィルム接地面からＭＤ方向の頂点までの高さを物差し等で測定した。２つあるＭＤ方向の頂点のうち、高い方の測定値を、ＭＤ方向のカールを表す数値とした。ＴＤ方向のカールを測定する際は、ＭＤ方向の頂点どうしを結ぶように棒状の重りを置き、光学フィルム接地面からＴＤ方向の頂点までの高さを物差し等で測定した。２つあるＴＤ方向の頂点のうち、高い方の測定値を、ＴＤ方向のカールを表す数値とした。なお、カールを表す数値は、第１の光学層側の面にフィルムが反ればプラスの数値とし、逆の面側にフィルムが反ればマイナスの数値とした。
光学フィルムを、光学フィルム製造時の搬送方向（ＭＤ方向という。）及び幅方向（すなわちＭＤ方向と垂直方向、ＴＤ方向という。）にそれぞれ頂点が来るように、１５０ｍｍ×１５０ｍｍの正方形に切り出し、これを測定サンプルとした。測定サンプルを切り出す際には、幅方向の中心を物差し等で測り、その位置からフィルムを切り出した。ＭＤ方向のカールを測定する際は、ＴＤ方向の頂点どうしを結ぶように棒状の重りを置き、光学フィルム接地面からＭＤ方向の頂点までの高さを物差し等で測定した。２つあるＭＤ方向の頂点のうち、高い方の測定値を、ＭＤ方向のカールを表す数値とした。ＴＤ方向のカールを測定する際は、ＭＤ方向の頂点どうしを結ぶように棒状の重りを置き、光学フィルム接地面からＴＤ方向の頂点までの高さを物差し等で測定した。２つあるＴＤ方向の頂点のうち、高い方の測定値を、ＴＤ方向のカールを表す数値とした。なお、カールを表す数値は、第１の光学層側の面にフィルムが反ればプラスの数値とし、逆の面側にフィルムが反ればマイナスの数値とした。
【0116】
塗工性については、全ての光学層が問題なく塗工できた場合は塗工性が良好である(○)と評価した。いずれかの光学層が塗工不可であった場合は、塗工性に問題があると評価した。この評価結果を、下記表１及び表２に示す。
【0117】
【表1】
【0118】
【表2】
【0119】
前記表１及び２に示したとおり、実施例１～５の光学フィルムは、第１の光学層の幅ＨＣ１ａを基材の幅Ｐ１で割ったＨＣ１ａ／Ｐ１の数値が、約０．８２７（実施例４）～約０．９１０（実施例５）の範囲であり、いずれも本発明の数値範囲（０．８～０．９５）内であった。その結果、実施例１～５の光学フィルムは、いずれも、塗工性（搬送性）が良好であり、かつ、カールも起こらなかった。これに対し、比較例１～３の光学フィルムは、第１の光学層の幅ＨＣ１ａを基材の幅Ｐ１で割ったＨＣ１ａ／Ｐ１の数値が、いずれも約０．９７７で本発明の数値範囲外であった（大きすぎた）ため、塗工性（搬送性）が良くなく、第２の光学層の形成自体が不可能であった。また、比較例４及び５は、基材の一方の面に第１の光学層及び第３の光学層の二層を形成したが、その後、第２の光学層を形成することができなかった。これは、第３の光学層の幅ＨＣ１ｂを第１の光学層の幅ＨＣ１ａで割った数値ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａが約１．０８で大きすぎたためと考えられる。さらに、比較例１～５の光学フィルムは、カール測定時に測定サンプルが丸まって筒状にカールしてしまい、カールを表す数値を測定することも不可能であった。
【0120】
本発明は、例えば、以下の付記のように記載することも可能である。ただし、以下の付記は例示であり、本発明はこれらの形態のみに限定されない。
【0121】
（付記１）
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含む光学フィルムの製造方法であって、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層を形成する第１の光学層形成工程と、
前記第１の光学層形成工程後に、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層を形成する第２の光学層形成工程と、を含み、
前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすように前記第１の光学層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１）≦０．９５ （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
（付記２）
前記第２の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記第２の光学層の幅との関係が下記数式（２）を満たすように前記第２の光学層を形成する付記１記載の光学フィルムの製造方法。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
（付記３）
前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０８～０．３倍となるように前記第１の光学層を形成し、
前記第２の光学層形成工程において、前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．２倍となるように前記第２の光学層を形成する、
付記１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
（付記４）
さらに、前記第１の光学層形成工程後に、前記第１の光学層における前記基材とは反対側の面上に第３の光学層を形成する第３の光学層形成工程を含む、
付記１から３のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
（付記５）
前記第３の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記第３の光学層の幅との関係が下記数式（３）を満たすように前記第３の光学層を形成する付記４記載の光学フィルムの製造方法。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
（付記６）
前記基材が長尺状であり、
前記第１の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第１の光学層を連続的に形成し、
前記第２の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第２の光学層を連続的に形成する、
付記１から５のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
（付記７）
前記第１の光学層及び前記第２の光学層が、ハードコート層である付記１から６のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
（付記８）
付記１から７のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法により製造される光学フィルム。
（付記９）
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含み、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層が積層され、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層が積層され、
前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルム。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１≦０．９５） （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
（付記１０）
前記第１の光学層の幅と前記第２の光学層の幅との関係が下記数式（２）を満たす付記９記載の光学フィルム。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
（付記１１）
前記第１の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０８～０．３倍であり、
前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．２倍である、
付記９又は１０記載の光学フィルム。
（付記１２）
さらに、前記第１の光学層における前記基材とは反対側の面上に第３の光学層を含む、
付記９から１１のいずれかに記載の光学フィルム。
（付記１３）
前記第１の光学層の幅と前記第３の光学層の幅との関係が下記数式（３）を満たす、付記１２記載の光学フィルム。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
（付記１４）
前記基材が長尺状である、付記９から１３のいずれかに記載の光学フィルム。
（付記１５）
前記第１の光学層及び前記第２の光学層が、ハードコート層である付記９から１４のいずれかに記載の光学フィルム。
（付記１６）
付記１から７のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法により製造される付記９から１５のいずれかに記載の光学フィルム。
（付記１７）
製造される光学フィルムが付記８から１６のいずれかに記載の光学フィルムである、付記１から７のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
（付記１８）
光学フィルムを含む光学部材の製造方法であって、
前記光学フィルムを、付記１から７及び１７のいずれかに記載の製造方法により製造することを特徴とする光学部材の製造方法。
（付記１９）
製造される前記光学部材が偏光板である付記１８記載の光学部材の製造方法。
（付記２０）
光学フィルムを含む画像表示装置の製造方法であって、
前記光学フィルムを、付記１から７及び１７のいずれかに記載の製造方法により製造することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
（付記２１）
光学部材を含む画像表示装置の製造方法であって、
前記光学部材を、付記１８又は１９記載の製造方法により製造することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
（付記２２）
付記８から１６のいずれかに記載の光学フィルムを含むことを特徴とする光学部材。
（付記２３）
偏光板である付記２２記載の光学部材。
（付記２４）
付記８から１６のいずれかに記載の光学フィルム、又は付記２２若しくは２３記載の光学部材を含むことを特徴とする画像表示装置。
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含む光学フィルムの製造方法であって、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層を形成する第１の光学層形成工程と、
前記第１の光学層形成工程後に、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層を形成する第２の光学層形成工程と、を含み、
前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすように前記第１の光学層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１）≦０．９５ （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
（付記２）
前記第２の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記第２の光学層の幅との関係が下記数式（２）を満たすように前記第２の光学層を形成する付記１記載の光学フィルムの製造方法。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
（付記３）
前記第１の光学層形成工程において、前記第１の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０８～０．３倍となるように前記第１の光学層を形成し、
前記第２の光学層形成工程において、前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．２倍となるように前記第２の光学層を形成する、
付記１又は２記載の光学フィルムの製造方法。
（付記４）
さらに、前記第１の光学層形成工程後に、前記第１の光学層における前記基材とは反対側の面上に第３の光学層を形成する第３の光学層形成工程を含む、
付記１から３のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
（付記５）
前記第３の光学層形成工程において、前記第１の光学層の幅と前記第３の光学層の幅との関係が下記数式（３）を満たすように前記第３の光学層を形成する付記４記載の光学フィルムの製造方法。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
（付記６）
前記基材が長尺状であり、
前記第１の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第１の光学層を連続的に形成し、
前記第２の光学層形成工程において、前記長尺状の基材上に前記第２の光学層を連続的に形成する、
付記１から５のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
（付記７）
前記第１の光学層及び前記第２の光学層が、ハードコート層である付記１から６のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
（付記８）
付記１から７のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法により製造される光学フィルム。
（付記９）
基材と、第１の光学層と、第２の光学層とを含み、
前記基材の一方の面上に前記第１の光学層が積層され、前記基材の他方の面上に前記第２の光学層が積層され、
前記第１の光学層の幅と前記基材の幅との関係が下記数式（１）を満たすことを特徴とする光学フィルム。
０．８≦（ＨＣ１ａ／Ｐ１≦０．９５） （１）
前記数式（１）において、ＨＣ１ａは、前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、Ｐ１は、前記基材の幅［ｍｍ］である。
（付記１０）
前記第１の光学層の幅と前記第２の光学層の幅との関係が下記数式（２）を満たす付記９記載の光学フィルム。
０．８≦（ＨＣ１ａ／ＨＣ２ａ）≦１．２ （２）
前記数式（２）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ２ａは、前記第２の光学層の幅［ｍｍ］である。
（付記１１）
前記第１の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０８～０．３倍であり、
前記第２の光学層の厚みが前記基材の厚みに対して０．０５～０．２倍である、
付記９又は１０記載の光学フィルム。
（付記１２）
さらに、前記第１の光学層における前記基材とは反対側の面上に第３の光学層を含む、
付記９から１１のいずれかに記載の光学フィルム。
（付記１３）
前記第１の光学層の幅と前記第３の光学層の幅との関係が下記数式（３）を満たす、付記１２記載の光学フィルム。
０．９５≦（ＨＣ１ｂ／ＨＣ１ａ）≦１．０５ （３）
前記数式（３）において、ＨＣ１ａは、前記数式（１）と同じく前記第１の光学層の幅［ｍｍ］であり、ＨＣ１ｂは、前記第３の光学層の幅［ｍｍ］である。
（付記１４）
前記基材が長尺状である、付記９から１３のいずれかに記載の光学フィルム。
（付記１５）
前記第１の光学層及び前記第２の光学層が、ハードコート層である付記９から１４のいずれかに記載の光学フィルム。
（付記１６）
付記１から７のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法により製造される付記９から１５のいずれかに記載の光学フィルム。
（付記１７）
製造される光学フィルムが付記８から１６のいずれかに記載の光学フィルムである、付記１から７のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
（付記１８）
光学フィルムを含む光学部材の製造方法であって、
前記光学フィルムを、付記１から７及び１７のいずれかに記載の製造方法により製造することを特徴とする光学部材の製造方法。
（付記１９）
製造される前記光学部材が偏光板である付記１８記載の光学部材の製造方法。
（付記２０）
光学フィルムを含む画像表示装置の製造方法であって、
前記光学フィルムを、付記１から７及び１７のいずれかに記載の製造方法により製造することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
（付記２１）
光学部材を含む画像表示装置の製造方法であって、
前記光学部材を、付記１８又は１９記載の製造方法により製造することを特徴とする画像表示装置の製造方法。
（付記２２）
付記８から１６のいずれかに記載の光学フィルムを含むことを特徴とする光学部材。
（付記２３）
偏光板である付記２２記載の光学部材。
（付記２４）
付記８から１６のいずれかに記載の光学フィルム、又は付記２２若しくは２３記載の光学部材を含むことを特徴とする画像表示装置。
【産業上の利用可能性】
【0122】
以上、説明したとおり、本発明によれば、光学フィルム製造時のカールを抑制可能な光学フィルムの製造方法、光学フィルム、光学部材の製造方法、画像表示装置の製造方法、光学部材、及び画像表示装置を提供することができる。本発明の光学フィルムの用途は、特に限定されず、例えば、前述のとおり、ハードコートフィルムであってもよいし、クリアフィルムであってもよいし、防眩性フィルムであってもよいし、防眩性ハードコートフィルム）であってもよいし、反射防止フィルムであってもよい。したがって本発明の光学フィルムは、多種多様な光学部材及び画像表示装置に用いることができるため、その産業上利用価値は多大である。
【符号の説明】
【0123】
１０ 光学フィルム
１１ 基材
１２ 第１の光学層
１２ａ 第１の光学層形成樹脂
１２ｂ ナノ粒子
１３ 第２の光学層
１３ａ 第２の光学層形成樹脂
１３ｂ ナノ粒子
１４ 第３の光学層
１４ａ 第３の光学層形成樹脂
１４ｂ ナノ粒子
２１ 保護フィルム
３１ 粘接着層
１１ 基材
１２ 第１の光学層
１２ａ 第１の光学層形成樹脂
１２ｂ ナノ粒子
１３ 第２の光学層
１３ａ 第２の光学層形成樹脂
１３ｂ ナノ粒子
１４ 第３の光学層
１４ａ 第３の光学層形成樹脂
１４ｂ ナノ粒子
２１ 保護フィルム
３１ 粘接着層
【図1】
【図2】