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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024012056
(43)【公開日】2024-01-25
(54)【発明の名称】有機物処理装置
(51)【国際特許分類】
B09B 3/40 20220101AFI20240118BHJP
B01D 53/70 20060101ALI20240118BHJP
B01D 53/82 20060101ALI20240118BHJP
B09B 5/00 20060101ALI20240118BHJP
F23G 7/06 20060101ALI20240118BHJP
【ＦＩ】
B09B3/40
B01D53/70 ZAB
B01D53/82
B09B5/00 Z
F23G7/06 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023027218
(22)【出願日】2023-02-24
(31)【優先権主張番号】P 2022112130
(32)【優先日】2022-07-13
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】597073807
【氏名又は名称】株式会社日省エンジニアリング
(74)【代理人】
【識別番号】100129056
【弁理士】
【氏名又は名称】福田 信雄
(72)【発明者】
【氏名】平久井 健三
【テーマコード（参考）】
3K078
4D002
4D004
【Ｆターム（参考）】
3K078AA04
3K078CA09
3K078CA21
4D002AA21
4D002AC10
4D002BA04
4D002BA13
4D002CA07
4D002DA41
4D002EA01
4D002GA01
4D002GA02
4D002GA03
4D002GB03
4D002GB20
4D004AA01
4D004AB07
4D004AC05
4D004CA28
4D004CB31
(57)【要約】 （修正有）
【課題】有機物処理時の排ガス内のダイオキシンの含有量を極めて少なくすることが可能な有機物処理装置を提供する。
【解決手段】投入された有機物を加熱するとともに磁化空気を抑制的に供給して熱分解する処理槽Ａと、該処理槽Ａに接続され有機物から分解され発生したガスを燃焼処理する燃焼処理機構Ｂと、該処理槽Ａと燃焼処理機構Ｂとの間において該ガスに含まれている水分を分離除去する熱交換器Ｃと、を備えた有機物処理装置において、該燃焼処理機構Ｂは、バーナーで８００℃以上の高温加熱する高温処理炉Ｘと、第１の冷却水を貯え、該高温処理炉Ｘからのガスを上部から下部へ続く第１の連通筒に通し、該第１の連通筒内のガスを該第１の冷却水で冷却する第１の冷却処理槽Ｙ１と、該第１の冷却処理槽Ｙ１からのガスを冷却する第２の冷却処理槽Ｙ２と、該第２の冷却処理槽Ｙ２からのガスの有害成分を吸着する活性炭を備えた吸着槽Ｚとを有する。
【選択図】図１
【解決手段】投入された有機物を加熱するとともに磁化空気を抑制的に供給して熱分解する処理槽Ａと、該処理槽Ａに接続され有機物から分解され発生したガスを燃焼処理する燃焼処理機構Ｂと、該処理槽Ａと燃焼処理機構Ｂとの間において該ガスに含まれている水分を分離除去する熱交換器Ｃと、を備えた有機物処理装置において、該燃焼処理機構Ｂは、バーナーで８００℃以上の高温加熱する高温処理炉Ｘと、第１の冷却水を貯え、該高温処理炉Ｘからのガスを上部から下部へ続く第１の連通筒に通し、該第１の連通筒内のガスを該第１の冷却水で冷却する第１の冷却処理槽Ｙ１と、該第１の冷却処理槽Ｙ１からのガスを冷却する第２の冷却処理槽Ｙ２と、該第２の冷却処理槽Ｙ２からのガスの有害成分を吸着する活性炭を備えた吸着槽Ｚとを有する。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
投入された有機物を加熱するとともに磁化空気を抑制的に供給して熱分解する処理槽Ａと、該処理槽Ａに接続され有機物から分解され発生したガスを燃焼処理する燃焼処理機構Ｂと、該処理槽Ａと燃焼処理機構Ｂとの間において該ガスに含まれている水分を分離除去する熱交換器Ｃと、を備えた有機物処理装置において、
該燃焼処理機構Ｂは、バーナーで８００℃以上の高温加熱する高温処理炉Ｘと、第１の冷却水を貯え、該高温処理炉Ｘからのガスを上部から下部へ続く第１の連通筒に通し、該第１の連通筒内のガスを該第１の冷却水で冷却する第１の冷却処理槽Ｙ１と、該第１の冷却処理槽Ｙ１からのガスを冷却する第２の冷却処理槽Ｙ２と、該第２の冷却処理槽Ｙ２からのガスの有害成分を吸着する活性炭を備えた吸着槽Ｚと、を有し、
該第２の冷却処理槽Ｙ２は、下部に設けられたＹ２ガス受入部から入ったガスを上部のＹ２ガス送出部まで導く第２の連通筒と、該第２の連通筒内のガスを冷却する第２の冷却水と、第２の冷却水を槽内に供給するＹ２給水部と、槽内の第２の冷却水を排出するＹ２排水部と、該第２の連通筒内のガスを強制排気するブロアと、を有し、
該第２の連通筒は、上部が水平方向に折れ曲がるＬ字状であり、
該吸着槽Ｚは、該ブロアからのガスの勢いを低減する排気減圧空間と、網目状板で仕切られ、活性炭が充填された活性炭庫と、外気に該ガスを排出するＺガス排出部と、を有することを特徴とする有機物処理装置。
該燃焼処理機構Ｂは、バーナーで８００℃以上の高温加熱する高温処理炉Ｘと、第１の冷却水を貯え、該高温処理炉Ｘからのガスを上部から下部へ続く第１の連通筒に通し、該第１の連通筒内のガスを該第１の冷却水で冷却する第１の冷却処理槽Ｙ１と、該第１の冷却処理槽Ｙ１からのガスを冷却する第２の冷却処理槽Ｙ２と、該第２の冷却処理槽Ｙ２からのガスの有害成分を吸着する活性炭を備えた吸着槽Ｚと、を有し、
該第２の冷却処理槽Ｙ２は、下部に設けられたＹ２ガス受入部から入ったガスを上部のＹ２ガス送出部まで導く第２の連通筒と、該第２の連通筒内のガスを冷却する第２の冷却水と、第２の冷却水を槽内に供給するＹ２給水部と、槽内の第２の冷却水を排出するＹ２排水部と、該第２の連通筒内のガスを強制排気するブロアと、を有し、
該第２の連通筒は、上部が水平方向に折れ曲がるＬ字状であり、
該吸着槽Ｚは、該ブロアからのガスの勢いを低減する排気減圧空間と、網目状板で仕切られ、活性炭が充填された活性炭庫と、外気に該ガスを排出するＺガス排出部と、を有することを特徴とする有機物処理装置。
【請求項2】
前記第２の冷却処理槽Ｙ２は、ガスを６０℃以下に冷却することを特徴とする請求項１に記載の有機物処理装置。
【請求項3】
前記第２の連通筒の周囲にはフィンが配置されていることを特徴とする請求項１に記載の有機物処理装置。
【請求項4】
前記Ｙ２給水部は、前記第２の冷却処理槽Ｙ２の底面に設けられ、
前記Ｙ２排水部は、管状であって、前記第２の冷却処理槽Ｙ２の上部の前記第２の連通筒よりも高い位置に前記第２の冷却水の取入口があり、
前記第２の冷却水を前記第１の冷却水として、前記第１の冷却処理槽Ｙ１に送ることを特徴とする請求項１に記載の有機物処理装置。
前記Ｙ２排水部は、管状であって、前記第２の冷却処理槽Ｙ２の上部の前記第２の連通筒よりも高い位置に前記第２の冷却水の取入口があり、
前記第２の冷却水を前記第１の冷却水として、前記第１の冷却処理槽Ｙ１に送ることを特徴とする請求項１に記載の有機物処理装置。
【請求項5】
前記Ｙ２給水部は、前記第１の冷却水の減少量に応じて、給水量を調整することを特徴とする請求項１に記載の有機物処理装置。
【請求項6】
前記熱交換器Ｃは、炭化水素油を分離除去し、
該炭化水素油を気化させる液化ガス処理機構Ｄを備え、
前記熱交換器Ｃ、又は、前記熱交換器Ｃから該液化ガス処理機構Ｄまでの間で、該炭化水素油にＰＨ調整液を混合することを特徴とする請求項１に記載の有機物処理装置。
該炭化水素油を気化させる液化ガス処理機構Ｄを備え、
前記熱交換器Ｃ、又は、前記熱交換器Ｃから該液化ガス処理機構Ｄまでの間で、該炭化水素油にＰＨ調整液を混合することを特徴とする請求項１に記載の有機物処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、磁化空気による有機物の処理に関し、詳しくは、有機物を処理する際の有毒ガスの排出濃度を低減する技術に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、外気を遮断した処理槽に投入した有機物を加熱すると共に処理槽に磁化された空気（磁化空気）を抑制的に供給することで、有害物質であるダイオキシンの発生を低減し、比較的低温で熱分解させる処理技術が知られている。
しかしながら、国際基準に対応するためには、ダイオキシンの量をさらに低減する必要があった。
そこで、排ガスにおけるダイオキシンの含有量を国際基準以下に低減する技術が求められていた。
しかしながら、国際基準に対応するためには、ダイオキシンの量をさらに低減する必要があった。
そこで、排ガスにおけるダイオキシンの含有量を国際基準以下に低減する技術が求められていた。
【0003】
同様の技術について、発明者は、有機物を磁化空気で熱分解して発生した有害なガスを無害化して大気中に放出する技術を開発した（特許文献１）。より詳しくは、熱分解する処理槽と燃焼処理機構との間に熱交換器を設ける。燃焼処理機構は、高温処理炉と冷却処理槽を持ち、高温処理炉は８００度以上の高温を維持し、冷却処理槽は水冷により冷却する技術である。
しかしながら、本技術では、排ガスでのダイオキシン含有量が、国内基準をクリアするものの、国際基準をクリアすることができていなかった。
しかしながら、本技術では、排ガスでのダイオキシン含有量が、国内基準をクリアするものの、国際基準をクリアすることができていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開２０２０／２１７５８７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は、上記問題点に鑑み、有機物を処理する際の排ガス内のダイオキシンの含有量を極めて少なくすることが可能な有機物処理装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記課題を解決するため、本発明は、投入された有機物を加熱するとともに磁化空気を抑制的に供給して熱分解する処理槽Ａと、該処理槽Ａに接続され有機物から分解され発生したガスを燃焼処理する燃焼処理機構Ｂと、該処理槽Ａと燃焼処理機構Ｂとの間においてガスに含まれている水分を分離除去する熱交換器Ｃと、を備えた有機物処理装置において、該燃焼処理機構Ｂは、バーナーで８００℃以上の高温加熱する高温処理炉Ｘと、第１の冷却水を貯え、該高温処理炉Ｘからのガスを上部から下部へ続く第１の連通筒に通し、該連通筒内のガスを、該第１の冷却水で冷却する第１の冷却処理槽Ｙ１と、該第１の冷却処理槽Ｙ１からのガスを冷却する第２の冷却処理槽Ｙ２と、該第２の冷却処理槽Ｙ２からのガスの有害成分を吸着する活性炭を備えた吸着槽Ｚと、を有し、該第２の冷却処理槽Ｙ２は、下部に設けられた流入部から入ったガスを上部の流出部まで導く第２の連通筒と、第２の冷却水を貯え、該第２の連通筒内のガスを、該第２の冷却水によって冷却する冷却部と、第２の冷却水を槽内に供給する給水部と、槽内の第２の冷却水を排出する排水部と、該第２の連通筒内のガスを強制排気するブロアとを有し、該第２の連通筒は、上部が水平方向に折れ曲がるＬ字状であり、該吸着槽Ｚは、該ブロアからの該ガスの勢いを低減する排気減圧空間と、網目状板で仕切られ、活性炭が充填された活性炭庫と、外気に該ガスを排出する排出口と、を有する手段を採る。
【0007】
また、本発明は、前記第２の冷却処理槽Ｙ２が、ガスを６０℃以下に冷却する手段を採る。
【0008】
さらに、本発明は、前記第２の連通筒の周囲にフィンが配置されている手段を採る。
【0009】
またさらに、本発明は、前記給水部が、前記第２の冷却処理槽Ｙ２の底面に設けられ、前記排水部は、管状であって、前記第２の冷却処理槽Ｙ２の上部の前記第２の連通筒よりも高い位置に、前記第２の冷却水の取込口があり、前記第２の冷却水を前記第１の冷却水として、前記第１の冷却処理槽Ｙ１に送る手段を採る。
【0010】
さらにまた、本発明は、前記給水部が、前記第１の冷却水の減少量に応じて、給水量を調整する手段を採る。
【0011】
そしてまた、本発明は、前記熱交換器Ｃが、炭化水素油を分離除去し、該炭化水素油を気化させる液化ガス処理機構Ｄを備え、前記熱交換器Ｃ、又は、前記熱交換器Ｃから該液化ガス処理機構Ｄまでの間で、該炭化水素油にＰＨ調整液を混合する手段を採る。
【発明の効果】
【0012】
本発明に係る有機物処理装置によれば、有機物を処理する際の排ガス内のダイオキシンの含有量を極めて少なくすることができ、環境改善に大きく寄与することができる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1】本発明に係る有機物処理装置の実施形態を示す全体正面図並びに上面図である。
【図2】本発明に係る有機物処理装置における処理槽Ａの実施形態を示す断面図である。
【図3】本発明に係る有機物処理装置における燃焼処理機構Ｂの実施形態を示す斜視図である。
【図4】本発明に係る有機物処理装置における燃焼処理機構Ｂの実施形態を示す断面図である。
【図5】本発明に係る有機物処理装置における冷却処理槽の実施形態を示す断面図である。
【図6】本発明に係る有機物処理装置のダイオキシン濃度分析結果を示す表図である。
【図7】本発明に係る有機物処理装置における液化ガス処理機構Ｄの実施形態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0014】
本発明にかかる有機物処理装置は、有機物を処理する際の有毒ガスを低減できることを最大の特徴とする。
以下、本発明にかかる有機物処理装置の実施形態について、図面に基づき説明する。
なお、以下に示される有機物処理装置の全体構成及び各部構成は、下記に述べる実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内、即ち、同一の作用効果を発揮できる形状や寸法等の範囲内で変更することができるものである。
以下、本発明にかかる有機物処理装置の実施形態について、図面に基づき説明する。
なお、以下に示される有機物処理装置の全体構成及び各部構成は、下記に述べる実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内、即ち、同一の作用効果を発揮できる形状や寸法等の範囲内で変更することができるものである。
【0015】
図１から図７に従って、本発明を説明する。
図１は、有機物処理装置１の実施形態を示しており、（ａ）は全体上面図、（ｂ）は全体正面図である。図２は、有機物処理装置１における処理槽Ａの実施形態を示す断面図である。図３は、有機物処理装置１における燃焼処理機構Ｂの実施形態を示す斜視図である。図４は、有機物処理装置１における燃焼処理機構Ｂの実施形態を示す断面図であり、ガスの流れを説明するものである。図５は、有機物処理装置１における冷却処理槽Ｙ１、Ｙ２の実施形態を示す断面図であり、冷却水の流れを説明するものである。図６は、従来及び本発明の有機物処理装置のダイオキシン濃度分析結果を示す比較表である。
図７は、本発明に係る有機物処理装置における液化ガス処理機構Ｄの実施形態を示す断面図であり、（ａ）は液化ガスである炭化水素油を導入管・トラップ管で液化ガス処理機構Ｄに導く流れを示し、（ｂ）は液化ガスである炭化水素油を導入管・トラップ管で液化ガス処理機構Ｄに導く途中に炭化水素油貯留槽を備える場合を示している。尚、第２の冷却処理槽Ｙ２、吸着槽Ｚは省略している。
図１は、有機物処理装置１の実施形態を示しており、（ａ）は全体上面図、（ｂ）は全体正面図である。図２は、有機物処理装置１における処理槽Ａの実施形態を示す断面図である。図３は、有機物処理装置１における燃焼処理機構Ｂの実施形態を示す斜視図である。図４は、有機物処理装置１における燃焼処理機構Ｂの実施形態を示す断面図であり、ガスの流れを説明するものである。図５は、有機物処理装置１における冷却処理槽Ｙ１、Ｙ２の実施形態を示す断面図であり、冷却水の流れを説明するものである。図６は、従来及び本発明の有機物処理装置のダイオキシン濃度分析結果を示す比較表である。
図７は、本発明に係る有機物処理装置における液化ガス処理機構Ｄの実施形態を示す断面図であり、（ａ）は液化ガスである炭化水素油を導入管・トラップ管で液化ガス処理機構Ｄに導く流れを示し、（ｂ）は液化ガスである炭化水素油を導入管・トラップ管で液化ガス処理機構Ｄに導く途中に炭化水素油貯留槽を備える場合を示している。尚、第２の冷却処理槽Ｙ２、吸着槽Ｚは省略している。
【0016】
有機物処理装置１は、有機物を、磁化空気を用いて処理し、さらに、その際発生する排ガス中のダイオキシンの含有量を低減するものである。
有機物処理装置１は、処理槽Ａと燃焼処理機構Ｂと熱交換器Ｃと液化ガス処理機構Ｄとから構成されている。
有機物処理装置１は、処理槽Ａと燃焼処理機構Ｂと熱交換器Ｃと液化ガス処理機構Ｄとから構成されている。
【0017】
処理槽Ａは、投入された有機物Ｐを加熱すると共に、磁化空気を抑制的に供給して熱分解するものである。
処理槽Ａは、図１に示すように円筒形の槽の上部に有機物Ｐを投入するために投入口１１１を設け、側面下部には、有機物Ｐが熱分解されて生成される灰化物を排出するための排出口１１２を設ける。
空気を磁化して磁化空気Ｍとするマグネット１５２を備え、処理槽Ａの内部で投入された有機物Ｐよりも下方部分に、磁化空気Ｍを供給する磁化空気供給機構１０５を設ける。
磁化空気供給機構１０５から処理槽Ａの内部へ供給される磁化空気Ｍの量を調整する電磁バルブ１０６と、処理槽Ａの内部の温度を検出する温度センサ１７１，１７２と、接続された電磁バルブ１０６と温度センサ１７１，１７２とを連係制御するコントローラ１０８を設ける（図２）。
磁化空気供給機構１０５から供給された磁化空気Ｍは、ノズル１５１から処理槽Ａの軸中心に向かう構造である。
このような構成により、処理槽Ａにおいて、ガスＧの対流が形成され、処理槽Ａの内部の温度の均等化が図られ、温度センサ１７１，１７２による処理槽Ａの内部の温度の把握が正確になって、電磁バルブ１０６を動作させるタイミングが正確になり、有機物Ｐを熱分解するのに好適な環境が確実に実現される。
処理槽Ａは、図１に示すように円筒形の槽の上部に有機物Ｐを投入するために投入口１１１を設け、側面下部には、有機物Ｐが熱分解されて生成される灰化物を排出するための排出口１１２を設ける。
空気を磁化して磁化空気Ｍとするマグネット１５２を備え、処理槽Ａの内部で投入された有機物Ｐよりも下方部分に、磁化空気Ｍを供給する磁化空気供給機構１０５を設ける。
磁化空気供給機構１０５から処理槽Ａの内部へ供給される磁化空気Ｍの量を調整する電磁バルブ１０６と、処理槽Ａの内部の温度を検出する温度センサ１７１，１７２と、接続された電磁バルブ１０６と温度センサ１７１，１７２とを連係制御するコントローラ１０８を設ける（図２）。
磁化空気供給機構１０５から供給された磁化空気Ｍは、ノズル１５１から処理槽Ａの軸中心に向かう構造である。
このような構成により、処理槽Ａにおいて、ガスＧの対流が形成され、処理槽Ａの内部の温度の均等化が図られ、温度センサ１７１，１７２による処理槽Ａの内部の温度の把握が正確になって、電磁バルブ１０６を動作させるタイミングが正確になり、有機物Ｐを熱分解するのに好適な環境が確実に実現される。
【0018】
熱交換器Ｃは、処理槽Ａで、熱処理によって発生するガスＧに含まれる水分および炭化水素等を液化する部分である。熱交換器Ｃは、処理槽Ａの上部にあり、ドラム型の熱交換器本体１４１を有し、熱交換器本体１４１の内部空間は処理槽Ａの上部の空間に連結されている（図２）。
有機物Ｐの熱分解で生成され処理槽Ａの内部を上昇した高温のガスＧは、熱交換器Ｃに入り、その内部で冷却されてガスＧに含まれている水分及び炭化水素等が液化され、液化ガスＬとなる。液化ガスＬは、ドレン型の熱交換器Ｃの本体部１４１内の底部に貯留される。
液化ガスＬは、液化ガスＰＨ調整部から滴下される薬液によってＰＨ値が高められ、強酸性から弱酸性に変わる。さらに、液化ガスＬは、ドレンに臨んだ液化ガス導入口１４３を介して液化ガス処理機構Ｄに送られる。
熱交換器Ｃで乾質化されたガスは、一部が燃焼処理機構Ｂに移動し、他は処理槽Ａ内を流動する。
熱交換器本体１４１の内部空間は、次の燃焼処理機構Ｂにダクト１１を介して接続され、燃焼処理機構ＢにガスＧが送られる。
有機物Ｐの熱分解で生成され処理槽Ａの内部を上昇した高温のガスＧは、熱交換器Ｃに入り、その内部で冷却されてガスＧに含まれている水分及び炭化水素等が液化され、液化ガスＬとなる。液化ガスＬは、ドレン型の熱交換器Ｃの本体部１４１内の底部に貯留される。
液化ガスＬは、液化ガスＰＨ調整部から滴下される薬液によってＰＨ値が高められ、強酸性から弱酸性に変わる。さらに、液化ガスＬは、ドレンに臨んだ液化ガス導入口１４３を介して液化ガス処理機構Ｄに送られる。
熱交換器Ｃで乾質化されたガスは、一部が燃焼処理機構Ｂに移動し、他は処理槽Ａ内を流動する。
熱交換器本体１４１の内部空間は、次の燃焼処理機構Ｂにダクト１１を介して接続され、燃焼処理機構ＢにガスＧが送られる。
【0019】
液化ガス処理機構Ｄは、熱交換器Ｃで液化ガスとされたものを、ガス化し、燃焼処理機構Ｂに送るための部分である。
液化ガス処理機構Ｄは、熱交換器Ｃの熱交換器本体１４１の下部に付設されている。液化ガス導入口１４３を介して液化ガス処理機構Ｄに液化ガスが供給される（図２）。
液化ガスＬは、炭化水素等が液体化したものである。炭化水素は、液化することで、炭化水素油となる。炭化水素油は、ＰＨ２前後の強酸であるので、鉄、ステンレス等の金属材料を腐食させてしまう。酸性を弱めるために、後述する液化ガスＰＨ調整部を用いる。
液化ガスＬの熱交換器Ｃから液化ガス処理機構Ｄまでの流れを詳しく説明すると、炭化水素等が液体化した液化ガスＬは、液化ガス導入口１４３を介してドレンに臨んだ導入管１４３ａを通り、トラップ管１４３ｂに貯め、先端部１４３ｃから滴となって気化室１４５に入る。
気化室１４５内では、滴は、先端部１４３ｃの直下にある気化室１４５底部の加熱皿１４５ａに落下する（図７（ａ））。加熱皿１４５ａは、液化ガスＬの気化を担うもので、液化ガスＬの水分による錆、炭化水素油による腐食を防ぐため、陶製を素材とするのが望ましい。
加熱皿１４５ａは、第１の冷却処理槽Ｙ１からの排熱で加熱されている。
液化ガスＬは、気化室１４５の加熱皿１４５ａで加熱され、気化し、同室内を上昇して送気口１４５ｂに至り、送気管１４５ｃを介して、処理槽Ａの上部の熱交換器Ｃと高温処理炉Ｘとの間のダクト１１へと編入される（図７（ａ））。
該ダクト１１はガスＧを高温処置炉Ｘの下部のガス受入部２１に導くものであるから、そこに編入された気体は、そのまま高温処置炉Ｘ及び冷却処理槽Ｙ１、Ｙ２による無害化処理を受けるものとなる。つまり、高温処置炉Ｘによる無害化作用及び冷却処理槽Ｙ１、Ｙ２による冷却作用を受けて、上記有機物処理装置と同様液化ガスが無害なものとして処理されることになる。
液化ガス処理機構Ｄは、熱交換器Ｃの熱交換器本体１４１の下部に付設されている。液化ガス導入口１４３を介して液化ガス処理機構Ｄに液化ガスが供給される（図２）。
液化ガスＬは、炭化水素等が液体化したものである。炭化水素は、液化することで、炭化水素油となる。炭化水素油は、ＰＨ２前後の強酸であるので、鉄、ステンレス等の金属材料を腐食させてしまう。酸性を弱めるために、後述する液化ガスＰＨ調整部を用いる。
液化ガスＬの熱交換器Ｃから液化ガス処理機構Ｄまでの流れを詳しく説明すると、炭化水素等が液体化した液化ガスＬは、液化ガス導入口１４３を介してドレンに臨んだ導入管１４３ａを通り、トラップ管１４３ｂに貯め、先端部１４３ｃから滴となって気化室１４５に入る。
気化室１４５内では、滴は、先端部１４３ｃの直下にある気化室１４５底部の加熱皿１４５ａに落下する（図７（ａ））。加熱皿１４５ａは、液化ガスＬの気化を担うもので、液化ガスＬの水分による錆、炭化水素油による腐食を防ぐため、陶製を素材とするのが望ましい。
加熱皿１４５ａは、第１の冷却処理槽Ｙ１からの排熱で加熱されている。
液化ガスＬは、気化室１４５の加熱皿１４５ａで加熱され、気化し、同室内を上昇して送気口１４５ｂに至り、送気管１４５ｃを介して、処理槽Ａの上部の熱交換器Ｃと高温処理炉Ｘとの間のダクト１１へと編入される（図７（ａ））。
該ダクト１１はガスＧを高温処置炉Ｘの下部のガス受入部２１に導くものであるから、そこに編入された気体は、そのまま高温処置炉Ｘ及び冷却処理槽Ｙ１、Ｙ２による無害化処理を受けるものとなる。つまり、高温処置炉Ｘによる無害化作用及び冷却処理槽Ｙ１、Ｙ２による冷却作用を受けて、上記有機物処理装置と同様液化ガスが無害なものとして処理されることになる。
【0020】
ＰＨ調整部７０は、熱交換器Ｃで生成された液化ガスＬに含まれる炭化水素油に、ＰＨ調整剤等のアルカリ液を混合することで、炭化水素油のＰＨ値を調整するものである。
ＰＨ調整部７０は、ＰＨ調整薬液タンク７１と、ＰＨ調整薬液ポンプ７２と、薬液移送チューブ７３とから成る。
ＰＨ調整薬液タンク７１には、炭化水素油のＰＨ値を高めるためのアルカリ液であるＰＨ調整用薬液が貯蔵されている。薬液としては、苛性ソーダ、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムや、市販のＰＨ調整剤等が考えられる。薬剤の種類、量は、発生する炭化水素油の量等によって、決定する。
ＰＨ調整薬液ポンプ７２は、ＰＨ調整用薬液をＰＨ調整薬液タンク７１から薬液移送チューブ７３に送る部分である。薬剤は、強アルカリ液を持ちる場合もあるので、ケミカルポンプを用いる。
また、熱交換器Ｃで生成される炭化水素油の量は、少量であることが多いので、対応する少量の薬剤を正確に滴下するため、チューブポンプを用いる。
薬液移送チューブ７３は、薬液を熱交換器本体１４１に滴下する部分である。滴下する薬液は強アルカリの場合もあるし、チューブの先端は、炭化水素油に接する場合もあるので、ＰＨ値によって影響を受けにくい、ケミカルチューブを用いる。
また、熱交換器本体１４１は、高温であるので、薬液移送チューブ７３は耐熱性が必要である。
薬液は、図２に示すように、熱交換器本体部１４１の上部から滴下される。上部から滴下することによって、熱交換器本体部１４１内の空間に、広く滴下できるからである。
ＰＨ調整部７０は、ＰＨ調整薬液タンク７１と、ＰＨ調整薬液ポンプ７２と、薬液移送チューブ７３とから成る。
ＰＨ調整薬液タンク７１には、炭化水素油のＰＨ値を高めるためのアルカリ液であるＰＨ調整用薬液が貯蔵されている。薬液としては、苛性ソーダ、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムや、市販のＰＨ調整剤等が考えられる。薬剤の種類、量は、発生する炭化水素油の量等によって、決定する。
ＰＨ調整薬液ポンプ７２は、ＰＨ調整用薬液をＰＨ調整薬液タンク７１から薬液移送チューブ７３に送る部分である。薬剤は、強アルカリ液を持ちる場合もあるので、ケミカルポンプを用いる。
また、熱交換器Ｃで生成される炭化水素油の量は、少量であることが多いので、対応する少量の薬剤を正確に滴下するため、チューブポンプを用いる。
薬液移送チューブ７３は、薬液を熱交換器本体１４１に滴下する部分である。滴下する薬液は強アルカリの場合もあるし、チューブの先端は、炭化水素油に接する場合もあるので、ＰＨ値によって影響を受けにくい、ケミカルチューブを用いる。
また、熱交換器本体１４１は、高温であるので、薬液移送チューブ７３は耐熱性が必要である。
薬液は、図２に示すように、熱交換器本体部１４１の上部から滴下される。上部から滴下することによって、熱交換器本体部１４１内の空間に、広く滴下できるからである。
【0021】
炭化水素油による金属部分の腐食を防ぐために、炭化水素油のＰＨ値を５～６にする必要がある。そこで、炭化水素油濃度測定部７４を用いて、炭化水素油の濃度を常時測定し、その濃度に応じて、滴下する薬液の量を調整する。
この処理によって、炭化水素油のＰＨ値を５～６に調整することができる。
この処理によって、炭化水素油のＰＨ値を５～６に調整することができる。
【0022】
また、炭化水素油への薬液の滴下を、熱交換器本体部１４１ではなく、熱交換器Ｃから液化ガス処理機構Ｄまでの間で、行っても良い。
図７（ｂ）に、具体例を示す。
炭化水素等が液体化した液化ガスＬは、液化ガス導入口１４３を介してドレンに臨んだ導入管１４３ａを通り、炭化水素油貯留槽７５に貯められる。炭化水素油貯留槽７５には、比較的長時間液化ガスＬが滞留することから、液化ガスＬに接触する部分は、炭化水素油による腐食を防ぐ意味で、陶製を素材とするのが望ましい。
炭化水素油貯留槽７５の下部には、炭化水素油濃度測定部７４が配置され、炭化水素油の濃度を常時測定できる。
炭化水素油の濃度を測定することで、炭化水素油のＰＨ値をある程度推定できる。その推定値に沿って、薬液の滴下量を調整し、炭化水素油のＰＨ値を５～６に調整する。
ＰＨ値が調整された炭化水素油は、トラップ管１４３ｂを通り、先端部１４３ｃから滴となって気化室１４５に入り、気化される。
図７（ｂ）に、具体例を示す。
炭化水素等が液体化した液化ガスＬは、液化ガス導入口１４３を介してドレンに臨んだ導入管１４３ａを通り、炭化水素油貯留槽７５に貯められる。炭化水素油貯留槽７５には、比較的長時間液化ガスＬが滞留することから、液化ガスＬに接触する部分は、炭化水素油による腐食を防ぐ意味で、陶製を素材とするのが望ましい。
炭化水素油貯留槽７５の下部には、炭化水素油濃度測定部７４が配置され、炭化水素油の濃度を常時測定できる。
炭化水素油の濃度を測定することで、炭化水素油のＰＨ値をある程度推定できる。その推定値に沿って、薬液の滴下量を調整し、炭化水素油のＰＨ値を５～６に調整する。
ＰＨ値が調整された炭化水素油は、トラップ管１４３ｂを通り、先端部１４３ｃから滴となって気化室１４５に入り、気化される。
【0023】
このように、液化ガスＰＨ調整部を用いて、炭化水素油を含む液化ガスＬのＰＨ値を調整することによって、炭化水素油等による金属部分の腐食を回避でき、機材の耐久性を向上させることができる。
【0024】
図３、図４に沿って、燃焼処理機構Ｂを説明する。
燃焼処理機構Ｂは、処理槽Ａで発生したガスＧを無害化、無臭化、冷却するための部分である。
燃焼処理機構Ｂは、高温処置炉Ｘ、第１の冷却処理槽Ｙ１、第２の冷却処理槽Ｙ２、吸着槽Ｚから成り、全体として近接しており、コンパクトである（図１、図３）。
燃焼処理機構Ｂは、処理槽Ａで発生したガスＧを無害化、無臭化、冷却するための部分である。
燃焼処理機構Ｂは、高温処置炉Ｘ、第１の冷却処理槽Ｙ１、第２の冷却処理槽Ｙ２、吸着槽Ｚから成り、全体として近接しており、コンパクトである（図１、図３）。
【0025】
高温処置炉Ｘは、処理槽Ａで有機物Ｐが熱分解されて生成された炭化水素等を含むガスＧを高温で無害化、無臭化するものである。但し、ダイオキシンについては、国際基準を下回るほどは無害化できない。
高温処置炉Ｘは、処理槽Ａの近傍に配置されている。ガスＧを、処理槽Ａ，熱交換器Ｃから高温処置炉Ｘに移動させるためのダクト１１は、高温処置炉Ｘの下部に接続されている。
高温処置炉Ｘは、内部に多数の発熱体３３を備え、周囲を１３００℃以上の高温に耐え得る耐熱材３１を用いて炉内を密閉状態に囲う。
発熱体３３は、高温処置炉Ｘの内部の下部から中間部にかけて、遠赤外線放射機能を備えた蓄熱性を有するセラミック製であり、相互間にガスが通過可能な隙間を形成し多数装着した構造である。
炉内の上段域に設けた発熱体３３の上方は空洞とし、高温処理空間を備えた高温処理部３である。
高温処置炉Ｘの下部には、熱交換器Ｃから移動したガスＧを、ダクト１１を介して炉内へ供給するためのＸガス受入部２１を、備える。
高温処置炉Ｘの外部の下部には、加熱部であるバーナー３４を備え、該バーナー３４によって、下段域の発熱体３３を加熱する。その際の燃料は、ガスやオイルである。
高温処置炉Ｘ内の発熱体３３の上方に存する高温処理空間の温度は、図示しない制御部によって制御される。制御部は、高温処理空間の温度を最低でも８００℃の高温に保持するために、高温処理空間に向けた温度センサ３２が９００℃を超えたことを検知した際、バーナー３４の稼働を停止する。また、温度センサ３２が８００℃を下回ったことを検知した際は、バーナー３４を稼働させ温度を上げる。
高温処理空間内の高温状態で、ガスＧは自らが燃焼して熱エネルギを発生する。従って、一旦通常の稼働状態に入ると、炉内は８００℃から１３００℃の高温状態が保持される。
高温処理空間内では、８００℃以上の高温環境下でガスＧと酸素とが反応し、大部分は無害な二酸化炭素ガスと水に変化する。また、一部は微量のダイオキシンとして残る。
ガスＧは、ダクト１２を通り、第１の冷却処理槽Ｙ１に移動する。
高温処置炉Ｘは、処理槽Ａの近傍に配置されている。ガスＧを、処理槽Ａ，熱交換器Ｃから高温処置炉Ｘに移動させるためのダクト１１は、高温処置炉Ｘの下部に接続されている。
高温処置炉Ｘは、内部に多数の発熱体３３を備え、周囲を１３００℃以上の高温に耐え得る耐熱材３１を用いて炉内を密閉状態に囲う。
発熱体３３は、高温処置炉Ｘの内部の下部から中間部にかけて、遠赤外線放射機能を備えた蓄熱性を有するセラミック製であり、相互間にガスが通過可能な隙間を形成し多数装着した構造である。
炉内の上段域に設けた発熱体３３の上方は空洞とし、高温処理空間を備えた高温処理部３である。
高温処置炉Ｘの下部には、熱交換器Ｃから移動したガスＧを、ダクト１１を介して炉内へ供給するためのＸガス受入部２１を、備える。
高温処置炉Ｘの外部の下部には、加熱部であるバーナー３４を備え、該バーナー３４によって、下段域の発熱体３３を加熱する。その際の燃料は、ガスやオイルである。
高温処置炉Ｘ内の発熱体３３の上方に存する高温処理空間の温度は、図示しない制御部によって制御される。制御部は、高温処理空間の温度を最低でも８００℃の高温に保持するために、高温処理空間に向けた温度センサ３２が９００℃を超えたことを検知した際、バーナー３４の稼働を停止する。また、温度センサ３２が８００℃を下回ったことを検知した際は、バーナー３４を稼働させ温度を上げる。
高温処理空間内の高温状態で、ガスＧは自らが燃焼して熱エネルギを発生する。従って、一旦通常の稼働状態に入ると、炉内は８００℃から１３００℃の高温状態が保持される。
高温処理空間内では、８００℃以上の高温環境下でガスＧと酸素とが反応し、大部分は無害な二酸化炭素ガスと水に変化する。また、一部は微量のダイオキシンとして残る。
ガスＧは、ダクト１２を通り、第１の冷却処理槽Ｙ１に移動する。
【0026】
第１の冷却処理槽Ｙ１は、ガスＧの温度を大幅に下げるための冷却部である。
第１の冷却処理槽Ｙ１は、主に、第１の連通筒４０、水蒸気放出部４１、水位センサ４２、Ｙ１給水部４３、Ｙ１排水部４５を備える。
第１の連通筒４０は、高温処置炉Ｘから送られたガスＧが通る部分である。第１の連通筒４０は、蛇行した形状である。ガスＧは、第１の冷却処理槽Ｙ１の上部のＹ１ガス受入部２３から入り、第１の連通筒４０内を通り、第１の冷却処理槽Ｙ１の下部に設けられたＹ１ガス送出部２４から第２の冷却処理槽Ｙ２に向け送出される。
第１の冷却処理槽Ｙ１の内側には、第１の冷却水Ｗ１が充填され、槽の外周をグラスウール等の断熱材４７が覆っている。第１の連通筒４０を通して、８００℃程度の高温のガスＧと第１の冷却水Ｗ１との間で熱交換が行われ、２００℃程度まで冷却される。
第１の冷却処理槽Ｙ１は、主に、第１の連通筒４０、水蒸気放出部４１、水位センサ４２、Ｙ１給水部４３、Ｙ１排水部４５を備える。
第１の連通筒４０は、高温処置炉Ｘから送られたガスＧが通る部分である。第１の連通筒４０は、蛇行した形状である。ガスＧは、第１の冷却処理槽Ｙ１の上部のＹ１ガス受入部２３から入り、第１の連通筒４０内を通り、第１の冷却処理槽Ｙ１の下部に設けられたＹ１ガス送出部２４から第２の冷却処理槽Ｙ２に向け送出される。
第１の冷却処理槽Ｙ１の内側には、第１の冷却水Ｗ１が充填され、槽の外周をグラスウール等の断熱材４７が覆っている。第１の連通筒４０を通して、８００℃程度の高温のガスＧと第１の冷却水Ｗ１との間で熱交換が行われ、２００℃程度まで冷却される。
【0027】
水蒸気放出部４１は、槽内の水蒸気を外部に放出させることで、槽内の圧力を一定以下にするものである。水蒸気放出部４１は、水蒸気を外部に放出させて槽内を減圧させる安全弁を備えている。
第１の冷却処理槽Ｙ１において、ガスＧは、８００℃程度の高温のガスであり、第１の連通筒４０の壁面に接触した第１の冷却水Ｗ１は、高温となり、水蒸気となり、嵩が急激に膨張するが、槽内上部は密閉されているので、そのままでは槽内が高温高圧状態となってしまう。
そのため、槽上部には、水蒸気放出部４１が設けられている。水蒸気放出部４１は、安全弁が設定した高圧状態に達したら、自動的に開かれることで水蒸気が外部に放出されて、槽内が規定以上の高圧状態になるのを防ぐ動作を行う。
第１の冷却処理槽Ｙ１において、ガスＧは、８００℃程度の高温のガスであり、第１の連通筒４０の壁面に接触した第１の冷却水Ｗ１は、高温となり、水蒸気となり、嵩が急激に膨張するが、槽内上部は密閉されているので、そのままでは槽内が高温高圧状態となってしまう。
そのため、槽上部には、水蒸気放出部４１が設けられている。水蒸気放出部４１は、安全弁が設定した高圧状態に達したら、自動的に開かれることで水蒸気が外部に放出されて、槽内が規定以上の高圧状態になるのを防ぐ動作を行う。
【0028】
水位センサ４２は、槽内の第１の冷却水Ｗ１の水位を検出するセンサである。槽内の水は、ガスＧを冷却するために、高温、水蒸気となり、水蒸気放出部４１を介して、一部は外部に排出される。したがって、槽内の水は、常に減少し続ける。槽内の水が第１の連通筒４０全体を覆わなくなると、冷却効率が下がってしまうので、水位を検出して、常に一定量の水を補充する必要がある。水位センサ４２の水位を検出して、図示しない制御部によって、Ｙ１給水部４３から水を供給する。
【0029】
Ｙ１給水部４３は、第１の冷却処理槽Ｙ１の槽内に、第１の冷却水Ｗ１を供給する部分である。供給される水は、第２の冷却処理槽Ｙ２から送出される水である。Ｙ１給水部４３は、Ｙ１給水バルブ４４を持ち、水の供給、停止を制御できる。
第２の冷却処理槽Ｙ２からの水の供給量をそのまま受け入れる場合はＹ１給水バルブ４４は開放のままで良い。
Ｙ１排水部４５は、第１の冷却処理槽Ｙ１の槽内の第１の冷却水Ｗ１を排出する部分である。第１の冷却処理槽Ｙ１内の第１の冷却水Ｗ１の水位が想定よりも高い場合に、水位を下げるために、第１の冷却水Ｗ１の一部をＹ１排水バルブ４６を開けることで排出する。
また、槽のメンテナンスを行う際に、Ｙ１排水バルブ４６を開放して第１の冷却水Ｗ１を排出する。Ｙ１給水バルブ４４及びＹ１排水バルブ４６は電磁バルブとすることで、制御を容易にできる。
ガスＧは、ダクト１３を通り、第２の冷却処理槽Ｙ２に移動する。
第２の冷却処理槽Ｙ２からの水の供給量をそのまま受け入れる場合はＹ１給水バルブ４４は開放のままで良い。
Ｙ１排水部４５は、第１の冷却処理槽Ｙ１の槽内の第１の冷却水Ｗ１を排出する部分である。第１の冷却処理槽Ｙ１内の第１の冷却水Ｗ１の水位が想定よりも高い場合に、水位を下げるために、第１の冷却水Ｗ１の一部をＹ１排水バルブ４６を開けることで排出する。
また、槽のメンテナンスを行う際に、Ｙ１排水バルブ４６を開放して第１の冷却水Ｗ１を排出する。Ｙ１給水バルブ４４及びＹ１排水バルブ４６は電磁バルブとすることで、制御を容易にできる。
ガスＧは、ダクト１３を通り、第２の冷却処理槽Ｙ２に移動する。
【0030】
第２の冷却処理槽Ｙ２は、第１の冷却処理槽Ｙ１によって、ある程度冷却されたガスＧについて、吸着槽Ｚでの有害物質の除去を効率的に行うことができる程度まで、ガスＧの温度を下げるためのものである。
第２の冷却処理槽Ｙ２は、主に、第２の連通筒５０、Ｙ２給水部５２、Ｙ２排水部５４、ブロア５７とから成る。
第２の連通筒５０は、第１の冷却処理槽Ｙ１から送られたガスＧが通る部分である。第２の連通筒５０は、上部が水平方向に折れ曲がるＬ字状である。ガスＧは、第２の冷却処理槽Ｙ２の下部のＹ２ガス受入部２５から入り、第２の連通筒５０内を通り、第２の冷却処理槽Ｙ２の上部側面に設けられたＹ２ガス送出部２６から吸着槽Ｚに向け送出される。
第２の連通筒５０が上部で水平に折れ曲がり、第２の冷却処理槽Ｙ２の槽内の第２の冷却水Ｗ２の水位が、折れ曲がり位置よりも高いことによって、第２の連通筒５０は、第２の冷却処理槽Ｙ２内で、全て第２の冷却水Ｗ２で覆われることになり、ガスＧを効率的に冷却できる。
第２の冷却処理槽Ｙ２は、主に、第２の連通筒５０、Ｙ２給水部５２、Ｙ２排水部５４、ブロア５７とから成る。
第２の連通筒５０は、第１の冷却処理槽Ｙ１から送られたガスＧが通る部分である。第２の連通筒５０は、上部が水平方向に折れ曲がるＬ字状である。ガスＧは、第２の冷却処理槽Ｙ２の下部のＹ２ガス受入部２５から入り、第２の連通筒５０内を通り、第２の冷却処理槽Ｙ２の上部側面に設けられたＹ２ガス送出部２６から吸着槽Ｚに向け送出される。
第２の連通筒５０が上部で水平に折れ曲がり、第２の冷却処理槽Ｙ２の槽内の第２の冷却水Ｗ２の水位が、折れ曲がり位置よりも高いことによって、第２の連通筒５０は、第２の冷却処理槽Ｙ２内で、全て第２の冷却水Ｗ２で覆われることになり、ガスＧを効率的に冷却できる。
【0031】
第２の冷却処理槽Ｙ２の内部には、第２の冷却水Ｗ２が充填され、第２の連通筒５０を通して、２００℃程度の高温のガスＧと第２の冷却水Ｗ２との間で熱交換が行われ、６０℃程度まで冷却される。
第２の連通筒５０の周囲には、フィン５１がほぼ等間隔で５個程度配置されている。フィン５１を設けることで、ガスＧと第２の冷却水Ｗ２との熱交換を効率的に行うことができる。
第２の連通筒５０内のガスＧは、ブロア５７にて吸引され、強制的に吸着槽Ｚに送られる。ブロア５７を用いることで、高温処置炉Ｘで処理されたガスＧを、効率よく第１の冷却処理槽Ｙ１、第２の冷却処理槽Ｙ２内へ通すことができる。
第２の連通筒５０の周囲には、フィン５１がほぼ等間隔で５個程度配置されている。フィン５１を設けることで、ガスＧと第２の冷却水Ｗ２との熱交換を効率的に行うことができる。
第２の連通筒５０内のガスＧは、ブロア５７にて吸引され、強制的に吸着槽Ｚに送られる。ブロア５７を用いることで、高温処置炉Ｘで処理されたガスＧを、効率よく第１の冷却処理槽Ｙ１、第２の冷却処理槽Ｙ２内へ通すことができる。
【0032】
Ｙ２給水部５２は、第２の冷却処理槽Ｙ２内に第２の冷却水Ｗ２を供給するための部分である。Ｙ２給水部５２は、第２の冷却処理槽Ｙ２の底部に設けられている。Ｙ２給水部５２から供給された第２の冷却水Ｗ２により、第２の連通筒５０内のガスＧが冷却される。第２の冷却水Ｗ２を下部から供給し、ガスＧも下部から供給されることによって、最も高温のガスＧと、最も低温の第２の冷却水Ｗ２が、第２の冷却処理槽Ｙ２の槽の下部で熱的に接触することになるので、効率よく熱交換することができる。
Ｙ２給水部５２に水道の給水管を接続した場合には、Ｙ２給水バルブ５３を開くことで、水道の送水圧でポンプアップせずに水を第１の冷却処理槽Ｙ１の槽内に供給できる場合もある。また、第２の冷却処理槽Ｙ２、第１の冷却処理槽Ｙ１への水の供給をスムーズに行うために、高圧ポンプを用いて水をＹ２給水部５２に対して、供給しても良い。
Ｙ２給水部５２に水道の給水管を接続した場合には、Ｙ２給水バルブ５３を開くことで、水道の送水圧でポンプアップせずに水を第１の冷却処理槽Ｙ１の槽内に供給できる場合もある。また、第２の冷却処理槽Ｙ２、第１の冷却処理槽Ｙ１への水の供給をスムーズに行うために、高圧ポンプを用いて水をＹ２給水部５２に対して、供給しても良い。
【0033】
第１の冷却処理槽Ｙ１、第２の冷却処理槽Ｙ２の水量の調整を第１の冷却処理槽Ｙ１内の水位センサ４２の検出結果によって行う場合には、図示しない制御部によって、水位センサ４２により第１の冷却処理槽Ｙ１の水位低下が検知された際に、Ｙ２給水バルブ５３を開け、水位が規定の値となった場合に、Ｙ２給水バルブ５３を閉じる制御を行う。
この制御を行うことによって、第１の冷却処理槽Ｙ１、第２の冷却処理槽Ｙ２の水の制御を一括して行うことができる。
この制御を行うことによって、第１の冷却処理槽Ｙ１、第２の冷却処理槽Ｙ２の水の制御を一括して行うことができる。
【0034】
Ｙ２排水部５４は、第２の冷却処理槽Ｙ２内の第２の冷却水Ｗ２を排出する部分である。Ｙ２排水部５４は、直管状であり、第２の冷却処理槽Ｙ２の底面から第２の冷却処理槽Ｙ２の内部に入り、直管の上部である冷却水取入口５６は、第２の連通筒５０よりも高い位置にある。
Ｙ２排水部５４は、第２の冷却水Ｗ２を、第２の冷却処理槽Ｙ２内の上部の冷却水取入口５６を介して排出することになる。よって、ガスＧを冷却するために高温となり、対流で上部に昇った冷却水を排出できるので、冷却の点で効率的である。
Ｙ２排水部５４から排出された第２の冷却水Ｗ２は、そのまま、第１の冷却水Ｗ１として、Ｙ１給水部４３を介して、第１の冷却処理槽Ｙ１に供給される。第１の冷却処理槽Ｙ１で、第２の冷却処理槽Ｙ２からの水の排出分をそのまま受け入れる場合には、Ｙ２排水バルブ５５は開放のままで良い。
Ｙ２給水バルブ５３及びＹ２排水バルブ５５は、電磁バルブとすることで制御を容易にできる。
Ｙ２排水部５４は、第２の冷却水Ｗ２を、第２の冷却処理槽Ｙ２内の上部の冷却水取入口５６を介して排出することになる。よって、ガスＧを冷却するために高温となり、対流で上部に昇った冷却水を排出できるので、冷却の点で効率的である。
Ｙ２排水部５４から排出された第２の冷却水Ｗ２は、そのまま、第１の冷却水Ｗ１として、Ｙ１給水部４３を介して、第１の冷却処理槽Ｙ１に供給される。第１の冷却処理槽Ｙ１で、第２の冷却処理槽Ｙ２からの水の排出分をそのまま受け入れる場合には、Ｙ２排水バルブ５５は開放のままで良い。
Ｙ２給水バルブ５３及びＹ２排水バルブ５５は、電磁バルブとすることで制御を容易にできる。
【0035】
吸着槽Ｚは、活性炭によって、ダイオキシン等の有害物質を吸着する部分である。
吸着槽Ｚは、主に、排気減圧空間６３と活性炭収容部（以下、活性炭庫ともいう。）６０とから成る。ガスＧは、吸着槽Ｚの底部のＺガス受入部２７から入り、Ｚガス排出部２８から外部に排出される。
排気減圧空間６３は、ブロア５７からのガスＧの流速を低減するための空間である。言い換えれば、ブロアからのガスの勢いを低減するものである。活性炭収容部６０で有害物質を吸着する際、ガスＧの流速が早すぎると、活性炭収容部６０にガスＧが留まる時間が短くなり、十分な吸着を行うことができないからである。
排気減圧空間６３を設けることによって、ブロア５７からのガスＧは、一旦排気減圧空間６３内で留まり、ブロア５７からの風速の影響を低減することができる。
吸着槽Ｚは、主に、排気減圧空間６３と活性炭収容部（以下、活性炭庫ともいう。）６０とから成る。ガスＧは、吸着槽Ｚの底部のＺガス受入部２７から入り、Ｚガス排出部２８から外部に排出される。
排気減圧空間６３は、ブロア５７からのガスＧの流速を低減するための空間である。言い換えれば、ブロアからのガスの勢いを低減するものである。活性炭収容部６０で有害物質を吸着する際、ガスＧの流速が早すぎると、活性炭収容部６０にガスＧが留まる時間が短くなり、十分な吸着を行うことができないからである。
排気減圧空間６３を設けることによって、ブロア５７からのガスＧは、一旦排気減圧空間６３内で留まり、ブロア５７からの風速の影響を低減することができる。
【0036】
排気減圧空間６３と活性炭収容部６０は、網目状板であるメッシュ板６２で仕切られている。メッシュ板６２は、パンチングメタル等でも良い。メッシュ板６２を用いることで、上部の活性炭収容部６０内の活性炭６１を保持しつつ、ガスＧをメッシュ板６２の孔を通して、下部から活性炭６１に供給することができる。
活性炭収容部６０は、活性炭６１を収容する部分であり、活性炭６１が充填されている。ガスＧが、活性炭６１の隙間を通ることで、ガスＧに微量含まれるダイオキシン等の有害物質を活性炭６１の多孔質構造で吸着することができる。吸着量は、温度に依存し、６０℃以下で最も効果を発揮する。
活性炭収容部６０は、活性炭６１を収容する部分であり、活性炭６１が充填されている。ガスＧが、活性炭６１の隙間を通ることで、ガスＧに微量含まれるダイオキシン等の有害物質を活性炭６１の多孔質構造で吸着することができる。吸着量は、温度に依存し、６０℃以下で最も効果を発揮する。
【0037】
図３、図４に沿って、ガスＧの燃焼処理機構Ｂにおける流れを説明する。ガスの流れを矢印にて示している。
処理槽Ａによって、有機物Ｐを処理した結果発生したガスＧは、高温処置炉Ｘ内で高温処理され、大部分の有害物質は、水蒸気、二酸化炭素に分解される。しかし、微量のダイオキシン等は含まれる。高温処置炉Ｘで処理後、第１の冷却処理槽Ｙ１にてガスＧの温度を２００℃程度まで下げる。高温処置炉Ｘでの処理したままの８００℃程度の高温ガスでは、扱いが難しいからである。
処理槽Ａによって、有機物Ｐを処理した結果発生したガスＧは、高温処置炉Ｘ内で高温処理され、大部分の有害物質は、水蒸気、二酸化炭素に分解される。しかし、微量のダイオキシン等は含まれる。高温処置炉Ｘで処理後、第１の冷却処理槽Ｙ１にてガスＧの温度を２００℃程度まで下げる。高温処置炉Ｘでの処理したままの８００℃程度の高温ガスでは、扱いが難しいからである。
【0038】
第１の冷却処理槽Ｙ１で処理した時点でのダイオキシンの量は、国内基準を概ね満たすものの、国際基準をクリアすることはできていない。
国際基準を満たすには、ダイオキシン等を活性炭等で吸着する必要がある。しかし、活性炭等の吸着率は、６０℃以下で最も高く、それよりも高温となるほど、吸着率は下がる傾向がある。
そこで、６０℃以下でのダイオキシンの吸着を行うために、第２の冷却処理槽Ｙ２と吸着槽Ｚを配置している。第２の冷却処理槽Ｙ２は、第１の冷却処理槽Ｙ１と同様に、水によって、ガスＧの温度を下げるものであるが、対象とするガスＧの温度は２００℃程度であり、水（２０℃程度）との差は小さいことから水蒸気等が大量に発生することなく、ガスＧの温度を６０℃以下に下げることができる。
このようにして、第１の冷却処理槽Ｙ１で一時冷却を行い、第２の冷却処理槽Ｙ２で二次冷却を行い、ガスの温度を６０℃以下にした後、活性炭によって、ダイオキシンを吸着することによって、排ガス中のダイオキシンの濃度を国際基準以下にすることができる。
国際基準を満たすには、ダイオキシン等を活性炭等で吸着する必要がある。しかし、活性炭等の吸着率は、６０℃以下で最も高く、それよりも高温となるほど、吸着率は下がる傾向がある。
そこで、６０℃以下でのダイオキシンの吸着を行うために、第２の冷却処理槽Ｙ２と吸着槽Ｚを配置している。第２の冷却処理槽Ｙ２は、第１の冷却処理槽Ｙ１と同様に、水によって、ガスＧの温度を下げるものであるが、対象とするガスＧの温度は２００℃程度であり、水（２０℃程度）との差は小さいことから水蒸気等が大量に発生することなく、ガスＧの温度を６０℃以下に下げることができる。
このようにして、第１の冷却処理槽Ｙ１で一時冷却を行い、第２の冷却処理槽Ｙ２で二次冷却を行い、ガスの温度を６０℃以下にした後、活性炭によって、ダイオキシンを吸着することによって、排ガス中のダイオキシンの濃度を国際基準以下にすることができる。
【0039】
図６に、ダイオキシン濃度分析結果の表１を示す。分析の対象は、ダイオキシン類である。ダイオキシン類とは、ＰＣＤＤ（ポリ塩化ジベンゾ－パラ－ジオキシン）、ＰＣＤＦ（ポリ塩化ジベンゾフラン）及びコプラナーＰＣＢである。 １立方メートル内の含有量を濃度として算出する。実測濃度を測定し、適宜補正を行った濃度を補正濃度とし、ダイオキシン類の毒性影響をあらわす毒性等量を算出している。毒性等量（ＴＥＱ）とは、「ダイオキシン類」の濃度（毒性の強さ）を表示する際に用いられる記号で、ダイオキシン類の異性体ごとの毒性強度と存在量を考慮して算出した濃度である。
従来の処理装置では、毒性等量は、０．５８ｎｇ―ＴＥＱ／ｍ３である。国内小型炉の基準５ｎｇ－ＴＥＱ／ｍ３に対して基準は達成している。
しかし、ＣＯＰ等の国際基準は、０．１ｎｇ－ＴＥＱ／ｍ３であり、０．５８では、明らかに基準オーバーである。
本発明では、毒性等量は、０．００１７ｎｇ－ＴＥＱ／ｍ３であり、国際基準の０．１よりも大幅に低く、国際基準を十分クリアしていると言える。
従来の処理装置では、毒性等量は、０．５８ｎｇ―ＴＥＱ／ｍ３である。国内小型炉の基準５ｎｇ－ＴＥＱ／ｍ３に対して基準は達成している。
しかし、ＣＯＰ等の国際基準は、０．１ｎｇ－ＴＥＱ／ｍ３であり、０．５８では、明らかに基準オーバーである。
本発明では、毒性等量は、０．００１７ｎｇ－ＴＥＱ／ｍ３であり、国際基準の０．１よりも大幅に低く、国際基準を十分クリアしていると言える。
【0040】
図５に沿って、冷却水の流れを説明する。冷却水の流れを矢印にて示している。
第１の冷却処理槽Ｙ１、第２の冷却処理槽Ｙ２でのガスＧの冷却は、冷却水によって行っている。第１の冷却処理槽Ｙ１では、８００℃程度のガスＧを冷却し、第２の冷却処理槽Ｙ２では、２００℃程度のガスＧを冷却する。よって、第２の冷却処理槽Ｙ２で必要とする水の温度の方が、第１の冷却処理槽Ｙ１で必要とする水の温度よりも低い。従って、低温の水で第２の冷却処理槽Ｙ２の冷却を行い、第２の冷却処理槽Ｙ２から排出される若干高温となった水を、第１の冷却処理槽Ｙ１で用いるのが合理的である。
そのため、本実施形態では、第２の冷却処理槽Ｙ２で用いた第２の冷却水Ｗ２を、第１の冷却処理槽Ｙ１用の第１の冷却水Ｗ１として使用する流れとしている。
第１の冷却処理槽Ｙ１、第２の冷却処理槽Ｙ２でのガスＧの冷却は、冷却水によって行っている。第１の冷却処理槽Ｙ１では、８００℃程度のガスＧを冷却し、第２の冷却処理槽Ｙ２では、２００℃程度のガスＧを冷却する。よって、第２の冷却処理槽Ｙ２で必要とする水の温度の方が、第１の冷却処理槽Ｙ１で必要とする水の温度よりも低い。従って、低温の水で第２の冷却処理槽Ｙ２の冷却を行い、第２の冷却処理槽Ｙ２から排出される若干高温となった水を、第１の冷却処理槽Ｙ１で用いるのが合理的である。
そのため、本実施形態では、第２の冷却処理槽Ｙ２で用いた第２の冷却水Ｗ２を、第１の冷却処理槽Ｙ１用の第１の冷却水Ｗ１として使用する流れとしている。
【0041】
第２の冷却処理槽Ｙ２のＹ２給水部５２は、水道または高圧ポンプに接続され、水圧のかかった状態で第２の冷却処理槽Ｙ２内に充填される。充填された第２の冷却水Ｗ２は、Ｙ２排水部５４の冷却水取入口５６から排出される。Ｙ２給水部５２は、第２の冷却処理槽Ｙ２の底部であり、Ｙ２排水部５４の冷却水取入口５６は、第２の冷却処理槽Ｙ２の上部にある。第２の連通筒５０内のガスＧを冷却して温度が上がり、第２の冷却処理槽Ｙ２内を上昇した第２の冷却水Ｗ２は、冷却水取入口５６を経由して排出される。よって、常に温度の上がった水を排出し、新しい温度の低い水を供給することになるので、効率よく冷却できる。
【0042】
Ｙ２排水部５４から排出された第２の冷却水Ｗ２は、第１の冷却水Ｗ１としてＹ１給水部４３から第１の冷却処理槽Ｙ１に給水され、第１の冷却処理槽Ｙ１内に充填される。第１の冷却処理槽Ｙ１内で、高温（８００℃）のガスＧを冷却する。冷却は、主に水が水蒸気となる際の気化熱によって行われる。水蒸気は、ある程度の量になると水蒸気放出部４１より排出される。従って、第１の冷却水Ｗ１の量は、水蒸気放出部４１により排出された分減少する。減少した分は、第２の冷却処理槽Ｙ２からの排出分として補給されるので、第２の冷却処理槽Ｙ２の第２の冷却水Ｗ２と第１の冷却処理槽Ｙ１の第１の冷却水Ｗ１を一括して管理すべきものと言える。
【0043】
そこで、第１の冷却処理槽Ｙ１の水位センサ４２での検知結果に応じて、第２の冷却処理槽Ｙ２のＹ２給水バルブ５３を制御することで、第１の冷却水Ｗ１と第２の冷却水Ｗ２の量を一括して制御できる。その際、Ｙ１給水バルブ４４とＹ２給水バルブ５３は開放しておき、Ｙ１排水バルブ４６は閉鎖しておく。
水位センサ４２により水位が低下していることを検知した場合、Ｙ２給水バルブ５３を開き、水を第２の冷却処理槽Ｙ２に供給する。第２の冷却処理槽Ｙ２よりあふれた水は、Ｙ２排水部５４より排出され、Ｙ１給水部４３より第１の冷却処理槽Ｙ１に供給され、第１の冷却水Ｗ１として充填される。充填された結果、第１の冷却処理槽Ｙ１内の水位が上昇し、水位センサ４２により水位が規定の値に達したこと検知した際、Ｙ２給水バルブ５３を閉じ、第２の冷却処理槽Ｙ２への水の供給を停止する。
水位センサ４２により水位が低下していることを検知した場合、Ｙ２給水バルブ５３を開き、水を第２の冷却処理槽Ｙ２に供給する。第２の冷却処理槽Ｙ２よりあふれた水は、Ｙ２排水部５４より排出され、Ｙ１給水部４３より第１の冷却処理槽Ｙ１に供給され、第１の冷却水Ｗ１として充填される。充填された結果、第１の冷却処理槽Ｙ１内の水位が上昇し、水位センサ４２により水位が規定の値に達したこと検知した際、Ｙ２給水バルブ５３を閉じ、第２の冷却処理槽Ｙ２への水の供給を停止する。
【0044】
水位センサ４２の検知結果に沿って、Ｙ２給水バルブ５３での水の供給、停止を繰り返すことで、第１の冷却処理槽Ｙ１の水位を維持しつつ、第２の冷却処理槽Ｙ２に対して、新たな低温の水を供給しつづけることができる。
このように、第１の冷却処理槽Ｙ１と第２の冷却処理槽Ｙ２で冷却水を共通にし、第２の冷却処理槽Ｙ２のＹ２給水バルブ５３で給水量を制御することによって、第１の冷却処理槽Ｙ１，第２の冷却処理槽Ｙ２への冷却水の供給量を最適化することができる。
言い換えれば、Ｙ２給水部は、第１の冷却水の減少量に応じて給水量を調整するものと言える。
このように、第１の冷却処理槽Ｙ１と第２の冷却処理槽Ｙ２で冷却水を共通にし、第２の冷却処理槽Ｙ２のＹ２給水バルブ５３で給水量を制御することによって、第１の冷却処理槽Ｙ１，第２の冷却処理槽Ｙ２への冷却水の供給量を最適化することができる。
言い換えれば、Ｙ２給水部は、第１の冷却水の減少量に応じて給水量を調整するものと言える。
【0045】
また、第２の冷却処理槽Ｙ２に温度センサを設け、第２の冷却処理槽Ｙ２の冷却効果を一定に維持する場合には、温度センサの値によって第１の冷却処理槽Ｙ１のＹ１排水バルブ４６を開閉することが考えらえる。
第２の冷却処理槽Ｙ２から排出されるガスＧの温度が６０℃を超えると推定される場合には、Ｙ１排水バルブ４６を開ける。すると、第１の冷却処理槽Ｙ１内の水位が低下し、それを補うためにＹ２給水バルブ５３が開かれ、結果的に第１の冷却処理槽Ｙ１、第２の冷却処理槽Ｙ２内の冷却水の回転が速くなり、第２の冷却処理槽Ｙ２内に、多くの新しい低温の水が入ることになる。よって、第２の冷却処理槽Ｙ２内の冷却能力が向上し、ガスＧの温度を６０℃以下にすることができる。
第２の冷却処理槽Ｙ２から排出されるガスＧの温度が６０℃を超えると推定される場合には、Ｙ１排水バルブ４６を開ける。すると、第１の冷却処理槽Ｙ１内の水位が低下し、それを補うためにＹ２給水バルブ５３が開かれ、結果的に第１の冷却処理槽Ｙ１、第２の冷却処理槽Ｙ２内の冷却水の回転が速くなり、第２の冷却処理槽Ｙ２内に、多くの新しい低温の水が入ることになる。よって、第２の冷却処理槽Ｙ２内の冷却能力が向上し、ガスＧの温度を６０℃以下にすることができる。
【0046】
このように、本発明によれば、有機物を処理する際の排ガス内のダイオキシンの含有量を極めて少なくすることができ、環境改善に大きく寄与することができる。
【産業上の利用可能性】
【0047】
本発明に係る有機物処理装置は、磁化空気による有機物を処理する際の有毒ガスの排出量を低減する技術として広く利用可能であり、故に産業上の利用可能性は大きいものと思料する。
【符号の説明】
【0048】
１ 有機物処理装置
Ｄ 液化ガス処理機構
Ｙ１ 第１の冷却処理槽
Ｙ２ 第２の冷却処理槽
Ｚ 吸着槽
Ｗ１ 第１の冷却水
Ｗ２ 第２の冷却水
１１ ダクト
１２ ダクト
１３ ダクト
４０ 第１の連通筒
４１ 水蒸気放出部
４２ 水位センサ
４３ Ｙ１給水部
４５ Ｙ１排水部
４７ 断熱材
５０ 第２の連通筒
５１ フィン
５２ Ｙ２給水部
５４ Ｙ２排水部
５６ 冷却水取入口
５７ ブロア
６０ 活性炭収容部（活性炭庫）
６１ 活性炭
６２ メッシュ板
６３ 排気減圧空間
７０ ＰＨ調整部
７１ ＰＨ調整薬液タンク
７２ ＰＨ調整薬液ポンプ
７３ 薬液移送チューブ
７４ 炭化水素油濃度測定部
７５ 炭化水素油貯留槽
Ｌ 液化ガス（炭化水素油）
Ｄ 液化ガス処理機構
Ｙ１ 第１の冷却処理槽
Ｙ２ 第２の冷却処理槽
Ｚ 吸着槽
Ｗ１ 第１の冷却水
Ｗ２ 第２の冷却水
１１ ダクト
１２ ダクト
１３ ダクト
４０ 第１の連通筒
４１ 水蒸気放出部
４２ 水位センサ
４３ Ｙ１給水部
４５ Ｙ１排水部
４７ 断熱材
５０ 第２の連通筒
５１ フィン
５２ Ｙ２給水部
５４ Ｙ２排水部
５６ 冷却水取入口
５７ ブロア
６０ 活性炭収容部（活性炭庫）
６１ 活性炭
６２ メッシュ板
６３ 排気減圧空間
７０ ＰＨ調整部
７１ ＰＨ調整薬液タンク
７２ ＰＨ調整薬液ポンプ
７３ 薬液移送チューブ
７４ 炭化水素油濃度測定部
７５ 炭化水素油貯留槽
Ｌ 液化ガス（炭化水素油）
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
