特開 2024-12084 発光素子

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024012084

(43)【公開日】2024-01-25

(54)【発明の名称】発光素子

(51)【国際特許分類】

   H10K 59/122 20230101AFI20240118BHJP

   H10K 50/86 20230101ALI20240118BHJP

   H10K 50/11 20230101ALI20240118BHJP

   H10K 71/12 20230101ALI20240118BHJP

   H10K 71/16 20230101ALI20240118BHJP

   H10K 77/10 20230101ALI20240118BHJP

   H10K 50/81 20230101ALI20240118BHJP

   H10K 85/60 20230101ALI20240118BHJP

   H10K 102/10 20230101ALN20240118BHJP

【ＦＩ】

H10K59/122

H10K50/86

H10K50/11

H10K71/12

H10K71/16

H10K77/10

H10K50/81

H10K85/60

H10K102:10

【審査請求】有

【請求項の数】15

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023081807

(22)【出願日】2023-05-17

(31)【優先権主張番号】202210835479.5

(32)【優先日】2022-07-15

(33)【優先権主張国・地域又は機関】CN

(71)【出願人】

【識別番号】523171733

【氏名又は名称】タイチョウ グァンユー テクノロジー カンパニー リミテッド

(74)【代理人】

【識別番号】100120891

【弁理士】

【氏名又は名称】林 一好

(74)【代理人】

【識別番号】100165157

【弁理士】

【氏名又は名称】芝 哲央

(74)【代理人】

【識別番号】100205659

【弁理士】

【氏名又は名称】齋藤 拓也

(74)【代理人】

【識別番号】100126000

【弁理士】

【氏名又は名称】岩池 満

(74)【代理人】

【識別番号】100185269

【弁理士】

【氏名又は名称】小菅 一弘

(72)【発明者】

【氏名】チェン フェイ－シオウ

(72)【発明者】

【氏名】ウェイ リー－チェン

(72)【発明者】

【氏名】シュー クオ－チェン

【テーマコード（参考）】

3K107

【Ｆターム（参考）】

3K107AA01

3K107BB01

3K107CC32

3K107CC33

3K107DD11

3K107DD21

3K107DD26

3K107DD39

3K107DD46X

3K107DD46Y

3K107DD46Z

3K107DD53

3K107DD58

3K107DD71

3K107DD74

3K107DD88

3K107DD89

3K107DD97

3K107EE27

3K107FF15

3K107GG03

3K107GG04

3K107GG05

3K107GG06

(57)【要約】

【課題】 発光素子を提供することを課題とする。
【解決手段】 発光素子であって、発光素子は、基板と、遮光層と、被覆層と、複数のバンプとを備える。遮光層は、基板の上にある。被覆層は、遮光層の上にある。複数のバンプは、基板の上に配置され、複数のバンプのうちの２つの隣り合うバンプ間に有機発光材料を含む有機発光ユニットが各々設けられる。遮光層の縁部は、複数のバンプのうちの１つの縁部と位置合わせされない。有機発光ユニットは、第１発光ユニットと、第２発光ユニットとを備える。第１発光ユニット及び第２発光ユニットは、それぞれ有機材料を含む積層有機発光層を有する。
【選択図】 図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板と、
前記基板の上にある遮光層と、
前記遮光層の上にある被覆層と、
複数のバンプであって、前記基板の上に配置され、複数のバンプのうちの２つの隣り合うバンプ間に有機発光材料を含む有機発光ユニットが各々設けられ、複数のバンプのうちの１つの縁部が前記遮光層の縁部と位置合わせされない複数のバンプと
を備えた発光素子であって、
前記有機発光ユニットは、第１発光ユニットと、第２発光ユニットとを備え、前記第１発光ユニット及び前記第２発光ユニットはそれぞれ有機材料を含む積層有機発光層を有する発光素子。

【請求項2】

前記有機発光材料は、共鳴構造を有する分子構造を含み、スピロ－トリアリールアミン、ビストリアリールアミン及びこれらの組み合わせからなる群から選択され得る請求項１に記載の発光素子。

【請求項3】

前記第１発光ユニット及び前記第２発光ユニットは、各々有効発光領域を有し、そのサイズが前記第１発光ユニットと前記第２発光ユニットの下にあるアノードによって画定され、前記第１発光ユニットと前記第２発光ユニットは、各々発光する時暗い領域と明るい領域を有し、前記第１発光ユニットと前記第２発光ユニットの暗い領域の総面積は前記第１発光ユニットと前記第２発光ユニットの前記有効発光領域の総面積の５０％未満である請求項１に記載の発光素子。

【請求項4】

前記遮光層は、前記被覆層によって、前記被覆層の上に設けられた導電層から電気的に絶縁される請求項１に記載の発光素子。

【請求項5】

前記積層有機発光層は、
キャリア注入層と、
キャリア輸送層と、
有機発射層と、
有機キャリア輸送層と
を含む請求項１に記載の発光素子。

【請求項6】

前記複数のバンプは、感光性材料を含む請求項１に記載の発光素子。

【請求項7】

前記基板は、透明材料を含む請求項１に記載の発光素子。

【請求項8】

基板と、
前記基板の上にある複数の遮光層と、
前記基板の上にあり、前記複数の遮光層を覆う被覆層と、
前記被覆層の上にある導電層と、
前記導電層の一部の上に配置された複数のバンプと、
前記複数のバンプのうちの２つの隣り合うバンプ間に有機材料を含む有機発光ユニットと
を備えた発光素子であって、
前記複数のバンプは、縦方向において、前記複数の遮光層のうちの１つの縁部と偏差が生じる縁部を各々有する発光素子。

【請求項9】

横方向において前記遮光層の面積は、前記複数のバンプ内の各々の面積より大きい請求項８に記載の発光素子。

【請求項10】

前記導電層は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）又はＩＧＺＯ（インジウムガリウム亜鉛酸化物）を含む透明導電膜を備える請求項８に記載の発光素子。

【請求項11】

前記導電層は、アノード電極を含む請求項８に記載の発光素子。

【請求項12】

複数のバンプのうちの２つの隣り合うバンプの各縁部間の距離は、前記複数の遮光層における２つの遮光層間の距離より大きい請求項８に記載の発光素子。

【請求項13】

前記被覆層は、化学気相成長（ＣＶＤ）、物理気相成長（ＰＶＤ）及びスピン・オン・ガラス（ＳＯＧ Ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）のいずれかにより、前記複数の遮光層の上に形成される請求項８に記載の発光素子。

【請求項14】

前記複数の遮光層のうちの１つは、単一の有機発光ユニットから発せられた光を透過させることができる十字形輪郭を有する凹部を備え得る請求項８に記載の発光素子。

【請求項15】

前記複数の遮光層のうちの１つは、複数の有機発光ユニットから発せられた光を透過させることができる十字形輪郭を有する凹部を備え得る請求項８に記載の発光素子。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、発光素子に関し、特に有機発光素子に関する。

【背景技術】

【0002】

有機発光ディスプレイは、最もハイエンドな電子機器で広く使用されている。しかしながら、従来技術の限界により有機ＥＬディスプレイ内の発光材料の発光効果を効果的に制御することができないことで、容易にハレーション及び光学的なクロストーク等の問題が発生し、有機ＥＬディスプレイの光学効果は期待通りにいかなかった。従来技術では、上記の問題を改善するため偏光子を増設するが、ハレーションを効果的に除去することはできず、かつ偏光子の増設によりディスプレイの厚さを増加させ、コストが高くなる等の欠点を有する。本開示は、上述の課題を解決できる装置を提供する。

【発明の概要】

【課題を解決するための手段】

【0003】

本発明は、基板と、遮光層と、被覆層と、複数のバンプとを備えた発光素子を提供する。遮光層は、基板の上にある。被覆層は、遮光層の上にある。複数のバンプは、基板の上に配置され、複数のバンプのうちの２つの隣り合うバンプ間に有機発光材料を含む有機発光ユニットが各々設けられる。遮光層の縁部は、複数のバンプのうちの１つの縁部と位置合わせされない。有機発光ユニットは、第１発光ユニットと、第２発光ユニットとを備える。第１発光ユニット及び第２発光ユニットは、それぞれ有機材料を含む積層有機発光層を有する。

【0004】

いくつかの実施形態において、前記有機発光材料は、共鳴構造を有する分子構造を含み、スピロ－トリアリールアミン、ビストリアリールアミン及びこれらの組み合わせからなる群から選択され得る。

【0005】

いくつかの実施形態において、前記第１発光ユニット及び前記第２発光ユニットは、各々有効発光領域を有し、そのサイズが各発光ユニットの下にあるアノードによって画定され、各発光ユニットは発光する時暗い領域と明るい領域を有し、暗い領域の総面積は前記有効発光領域の５０％未満である。

【0006】

いくつかの実施形態において、前記遮光層は、前記被覆層を介して前記被覆層に設けられた導電層から電気的に絶縁される。

【0007】

いくつかの実施形態において、前記積層有機発光層は、キャリア注入層と、キャリア輸送層と、有機発射層と、有機キャリア輸送層とを含む。

【0008】

いくつかの実施形態において、前記複数のバンプは、感光性材料を含む。

【0009】

いくつかの実施形態において、前記基板は、透明材料を含む。

【0010】

本発明は、基板と、複数の遮光層と、被覆層と、導電層と、複数のバンプとを備えた発光素子を提供する。複数の遮光層は、基板の上にある。被覆層は、基板の上にあり、複数の遮光層を覆う。導電層は、被覆層の上にある。複数のバンプは、導電層の一部に配置され、複数のバンプうちの２つの隣り合うバンプ間に有機材料を含む有機発光ユニットを有する。複数のバンプは、縦方向において、複数の遮光層のうちの１つの縁部と偏差が生じる縁部を各々有する。

【0011】

いくつかの実施形態において、横方向において前記遮光層の面積は、前記複数のバンプ内の各々の面積より大きい。

【0012】

いくつかの実施形態において、前記導電層は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）又はＩＧＺＯ（インジウムガリウム亜鉛酸化物）を含む透明導電膜を備える。

【0013】

いくつかの実施形態において、前記導電層は、アノード電極を含む。

【0014】

いくつかの実施形態において、前記有機発光ユニットの前記２つの隣り合うバンプの各縁部間の距離は、前記複数の遮光層における２つの遮光層間の距離より大きい。

【0015】

いくつかの実施形態において、前記被覆層は、化学気相成長（ＣＶＤ）、物理気相成長（ＰＶＤ）及びスピン・オン・ガラス（ＳＯＧ Ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）のいずれかにより、前記複数の遮光層の上に形成される。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】発光素子の中間製品を示す上面図である。

【図2】図１内のＡ－Ａ線に沿った断面図である。

【図3A】一実施形態による発光素子製造の流れを示す概略図である。

【図3B】一実施形態による発光素子製造の流れを示す概略図である。

【図3C】一実施形態による発光素子製造の流れを示す概略図である。

【図3D】一実施形態による発光素子製造の流れを示す概略図である。

【図3E】一実施形態による発光素子製造の流れを示す概略図である。

【図3F】一実施形態による発光素子製造の流れを示す概略図である。

【図3G】一実施形態による発光素子製造の流れを示す概略図である。

【図3H】一実施形態による発光素子製造の流れを示す概略図である。

【図3I】一実施形態による発光素子製造の流れを示す概略図である。

【図3J】一実施形態による発光素子製造の流れを示す概略図である。

【図3K】一実施形態による発光素子製造の流れを示す概略図である。

【図4A】一実施形態による遮光層を示す上面図である。

【図4B】一実施形態による遮光層を示す上面図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

図１は、発光素子１０の中間製品を示す上面図である。発光素子１０は、発光層２０と、前記発光層２０の上に位置する被覆層４０とを備える。発光層２０について、発光画素アレイを収容するための凹部アレイを提供するようにスペーサ２１を設計できる。いくつかの実施形態において、スペーサ２１は、感光性材料を含み得る。

【0018】

図２は、図１内のＡ－Ａ線に沿った断面図であり、発光領域のみを示している。簡単にするため、ここで被覆層４０を省略する。スペーサ２１は、発光画素パターンを定義するため、複数のバンプ１０５を有する。凹部は、２つの隣り合うバンプ１０５間にあり、発光画素を収容するための空間を提供する。当業者は、断面図から観察すると、バンプ１０５が切り離されて示されているが、図１の上面図から観察すると、これらはスペーサ２１の他の部分を介して互いに連結され得ることを理解すべきである。

【0019】

発光素子１０は、第１有機発光ユニット１０ａと、第２有機発光ユニット１０ｂと、第３有機発光ユニット１０ｃとを含む発光アレイを備える。有機発光ユニットは、本出願において発光画素と呼ばれることもある。いくつかの実施形態において、発光ユニット１０ａは、第１電極１０４と、バンプ１０５及び第１電極１０４の上にあるキャリア注入層１０６Ｌ１と、キャリア注入層１０６Ｌ１の上にあるキャリア輸送層１０６Ｌ２と、キャリア輸送層１０６Ｌ２の一部の上にある有機発射層１０６Ｌ３と、有機発射層１０６Ｌ３の上にある有機キャリア輸送層１０６Ｌ４とを備える。キャリア注入層１０６Ｌ１、キャリア輸送層１０６Ｌ２、有機発射層１０６Ｌ３，及び有機キャリア輸送層１０６Ｌ４は、総称されて積層有機発光層と呼ぶことができる。

【0020】

いくつかの実施形態において、キャリア注入層１０６Ｌ１は、第１電極１０４とキャリア輸送層１０６Ｌ２との間に配置される。発光ユニット１０ａは、有機材料を含み、この有機材料は異なる実施形態に従い発光ユニット１０ａ内のキャリア輸送層、キャリア注入層又は有機発射層のうちのいずれか層に配置されることができる。この有機材料は、いくつかの実施形態において、特定の波長の吸収率は、５０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長の吸収率は６０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長の吸収率は７０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長の吸収率は８０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長の吸収率は９０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長の吸収率は９５％以上である。

【0021】

いくつかの実施形態において、特定の波長は、４００ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は３５０ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は３００ｎｍであり、いくつかの実施形態において、特定の波長は２５０ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は２００ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は１５０ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は１００ｎｍである。

【0022】

基板１００は、発光層２０の下に位置する。いくつかの実施形態において、基板１００は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）アレイを備え得る。いくつかの実施形態において、基板１００は、基材（図示せず）と、誘電体層（図示せず）と、基材上又は基材内に設けられた１或は複数の回路（図示せず）とを備え得る。いくつかの実施形態において、基材は、透明基材である又は少なくとも部分的に透明である。いくつかの実施形態において、基材は、非可撓性基材であり、かつ基材の材料には玻璃、石英、低温ポリシリコン（ｌｏｗ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ｐｏｌｙ－ｓｉｌｉｃｏｎ、ＬＴＰＳ）又は他の適切な材料が含まれ得る。いくつかの実施形態において、基材は、可撓性基材であり、かつ基材の材料には透明エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、メタクリル酸メチル又は他の適切な材料が含まれ得る。誘電体層は、必要に応じて基材に設けられることができる。いくつかの実施形態において、誘電体層は、酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコン又は他の適切な材料を含み得る。

【0023】

いくつかの実施形態において、回路は、相補型金属酸化膜半導体（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ ｍｅｔａｌ－ｏｘｉｄｅ－ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ、ＣＭＯＳ）回路、又は複数のトランジスタ及びトランジスタに近い複数のコンデンサを含み得、ここでトランジスタ及びコンデンサは誘電体層に形成される。いくつかの実施形態において、トランジスタは、薄膜トランジスタ（ｔｈｉｎ－ｆｉｌｍ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）である。各トランジスタは、ソース／ドレイン領域（少なくとも１つのソース領域及びドレイン領域を含む）と、ソース／ドレイン領域間に介在するチャネル（ｃｈａｎｎｅｌ）領域と、チャネル領域の上に設けられたゲート電極と、チャネル領域とゲート電極との間に介在するゲート絶縁体とを備える。トランジスタのチャネル領域は、半導体材料、例えばシリコン或いはＩＶ族元素又はＩＩＩ元素族及びＶ族元素から選択された他の元素で作られてもよい。

【0024】

複数の遮光層１０１は、基板１００の上に形成される。複数の遮光層１０１は、基板１００に接触される。複数の遮光層１０１は、互いに距離Ｗ１まで離れている。複数の遮光層１０１は、可視光の９０％以上を吸収することができる。いくつかの実施形態において、遮光層１０１は、黒体材料を含み得る。いくつかの実施形態において、遮光層１０１は、１層の単一の材料を含む。いくつかの実施形態において、遮光層１０１は、複数の材料から形成された複合層を含む。いくつかの実施形態において、遮光層１０１は、有機材料を含む。いくつかの実施形態において、遮光層１０１は、無機材料を含む。

【0025】

被覆層１０２は、基板１００の上に形成され、複数の遮光層１０１を覆う。被覆層１０２は、複数の遮光層１０１間の隙間内に形成される。被覆層１０２は、遮光層１０１の上面及び両側面を覆う。

【0026】

複数の第１電極１０４は、被覆層１０２の上に形成される。複数の第１電極１０４は、互いに分離されている。複数の第１電極１０４は、被覆層１０２に接触される。複数の第１電極１０４は、基板１００と電気的に接続する。

【0027】

図２に示すように、複数のバンプ１０５は、第１電極１０４の上面の一部に形成される。第１電極１０４の周囲領域は、バンプ１０５で覆われている。いくつかの実施形態において、第１電極１０４の縁角は、バンプ１０５によって完全に包囲されている。いくつかの実施形態において、第１電極１０４の側壁は、バンプ１０５と完全に接触している。いくつかの実施形態において、２つの第１電極１０４間の隙間における２つのバンプ１０５は、互いに分離されている。遮光層１０１は、被覆層１０２を介して、被覆層１０２に設けられた第１電極１０４から電気的に絶縁されている。

【0028】

本出願において、第１電極１０４は、アノードであり得る。発光ユニット１０ａの第１電極１０４は、有効発光領域の大きさを画定できる。いくつかの実施形態において、発光ユニット１０ａは、発光している時暗い領域及び明るい領域を有する。暗い領域の総面積は、有効発光領域の５０％未満である。有効発光領域は、有効照明領域とも呼ぶことができる。

【0029】

いくつかの実施形態において、有効照明領域は、少なくとも１０ミクロン未満の幅を有する。いくつかの実施形態において、有効照明領域は、３ミクロン～６ミクロン程度の幅を有する。いくつかの実施形態において、有効照明領域は、４ミクロン～６ミクロン程度の幅を有する。有効照明領域は、図１内の発光素子１０の画素サイズを決定する。有効照明領域の大きさを１０ミクロン以下に制御できるため、発光素子１０の画素密度は、１０００又は２０００ｐｐｉを超えることができる。

【0030】

図２において、遮光層１０１は、厚さ１０１Ｔを有する。第１電極１０４は、厚さ１０４Ｔを有する。いくつかの実施形態において、遮光層１０１の厚さ１０１Ｔは、第１電極１０４の厚さ１０４Ｔより大きい。いくつかの実施形態において、遮光層１０１の厚さ１０１Ｔは、第１電極１０４の厚さ１０４Ｔに等しい。いくつかの実施形態において、遮光層１０１の厚さ１０１Ｔは、第１電極１０４の厚さ１０４Ｔより小さい。

【0031】

第１電極１０４は、１５００Å～２７００Å程度の全厚さを有し得る。いくつかの実施形態において、第１電極１０４は、１８００Å～２２００Å程度の全厚さを有する。いくつかの実施形態において、第１電極１０４は、２０００Å程度の全厚さを有する。第１電極１０４は、導電層であり得る。第１電極１０４は、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＩＧＺＯ、ＡｌＣｕ合金、ＡｇＭｏ合金、５０Å～５００Å程度のＩＴＯ（又はＩＺＯ或いはＩＧＺＯ）と５００Å～２０００Å程度の金属膜（Ａｇ、Ａｌ、Ｍｇ、Ａｕ）及び５０Å～１０００Å程度のＩＴＯ（又はＩＺＯ或いはＩＧＺＯ）を含み得る。

【0032】

いくつかの実施形態において、電極１０４は、複合構造である。例えば電極１０４は、導電膜と、その上にある透明導電膜とを有する。導電膜は、透明導電膜と基板１００との間に位置する。いくつかの実施形態において、導電膜は、アルミニウム、金、銀、銅等を含む。いくつかの実施形態において、透明導電膜は、包含インジウム、スズ、グラフェン、亜鉛、酸素等を含む。いくつかの実施形態において、電極１０４は、透明導電薄膜を含む。いくつかの実施形態において、電極１０４は、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）を含む。いくつかの実施形態において、電極１０４は、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）を含む。いくつかの実施形態において、電極１０４は、ＩＧＺＯ（インジウムガリウム亜鉛酸化物）を含む。いくつかの実施形態において、透明導電膜の粗さＲａ＜１０Åとなる。導電膜の厚さは、１５００Å～３０００Å程度の間であり得る。透明導電膜の厚さは、８０Å～１０００Å程度の間であり得る。

【0033】

いくつかの実施形態において、第１電極１０４は、少なくとも３つの異なるフィルムを有する。導電膜（例えばＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ等）は、２つの透明導電膜の間に挟入される。場合によっては、２つの透明導電膜のうちの１つは、ＩＴＯであり、一側は基板１００と接触し、他側が導電膜と接触する。場合によっては、２つの透明導電膜のうちの１つは、ＩＴＯであり、一側は導電膜と接触し、他側がバンプ１０５又は発光材料と接触する。

【0034】

いくつかの実施形態において、各バンプ１０５は、基板１００から離れて突出し、第１電極１０４の外周領域を覆う曲面を有する。バンプ１０５は、異なる形状であってもよい。いくつかの実施形態において、バンプ１０５は、曲面を有する。いくつかの実施形態において、バンプ１０５の形状は、台形である。いくつかの実施形態において、バンプ１０５の形状は、矩形である。バンプ１０５のパターンは、画素配置に基づいて設計され、パターン化されたバンプ１０５は、画素定義層（ｐｉｘｅｌ ｄｅｆｉｎｅｄ ｌａｙｅｒ、ＰＤＬ）とも呼ばれる。バンプ１０５は、基板１００の上に配置される。各バンプ１０５は、２つの隣り合う第１電極１０４間の隙間を埋める。各第１電極１０４は、バンプ１０５によって部分的に覆われている。バンプ１０５は、感光性材料を含み得る。図２では、横方向において複数の遮光層１０１の各々の面積は、バンプ１０５のうちの各々の面積より大きい。

【0035】

バンプ１０５のうちの１つは、第１電極１０４を覆う上面に縁部１０５ａを有する。遮光層１０１は、第１電極１０４中心付近に縁部１０１ａを有する。遮光層１０１の縁部１０１ａは、バンプ１０５の縁部１０５ａと位置合わせされない。バンプ１０５の縁部１０５ａと遮光層の縁部１０１ａは、縦方向における偏差ｄが生じる。偏差ｄの遮光層１０１ の幅に占める割合は、１０％以上であり得る。偏差ｄの遮光層１０１の幅に占める割合は、２０％以上であり得る。偏差ｄの遮光層１０１の幅に占める割合は、３０％以上であり得る。偏差ｄの遮光層１０１に占める幅の割合は、４０％以上であり得る。

【0036】

バンプ１０５’のうちの１つは、第１電極１０４を覆う上面に縁部１０５’ａを有する。遮光層１０１’は、第１電極１０４中心付近に縁部１０１’ａを有する。バンプ１０５’の縁部１０５’ａと遮光層の縁部１０１’ａとの間に偏差ｄ’が生じる。偏差ｄ’の遮光層１０１’の幅に占める割合は、１０％以上であり得る。偏差ｄ’の遮光層１０１’の幅に占める割合は、２０％以上であり得る。偏差ｄ’の遮光層１０１’の幅に占める割合は、３０％以上であり得る。偏差ｄ’の遮光層１０１’に占める幅の割合は、４０％以上であり得る。いくつかの実施形態において、偏差ｄは、偏差ｄ’に等しい。いくつかの実施形態において、偏差ｄは、偏差ｄ’より大きい。いくつかの実施形態において、偏差ｄは、偏差ｄ’より小さい。

【0037】

図２において、複数の遮光層１０１と１０１’との間の距離はＷ１で、２つの隣り合うバンプ１０５及び１０５’のそれぞれ縁部１０５ａと１０５’ａとの間の距離はＷ２である。偏差ｄ及びｄ’があるため、２つの隣り合うバンプ１０５及び１０５’のそれぞれ縁部１０５ａと１０５’ａとの間の距離Ｗ２は、複数の遮光層の１０１と１０１’との間の距離Ｗ１より大きい。図２において、２つの隣り合うバンプ１０５及び１０５’のそれぞれ縁部１０５ａと１０５’ａとの間の距離Ｗ２は、複数の遮光層１０１のうちの二者１０１と１０１’間の距離Ｗ１と偏差ｄ及び偏差ｄ’の和であり得る。２つの隣り合うバンプ１０５及び１０５’のそれぞれ縁部１０５ａと１０５’ａとの間の距離Ｗ２は、有効発光領域の面積を画定する。複数の遮光層１０１と１０１’との間の距離Ｗ１がＷ２より小さいため、複数の遮光層１０１及び１０１’は、第１電極１０４から発せられた光を制御できることで、パターンの結像効果を改善する。

【0038】

なお、遮光層１０１は、基板１００から上方へ向けて進行する周囲光を遮ることができるため、周囲光と発光ユニット１０ａから発らせる光との間の光学的なクロストーク（ｃｒｏｓｓ ｔａｌｋ）を低減することができる。すなわち、遮光層１０１は、基板１００から上方に向けて進行する周囲光の９０％以上を吸収することができるため、周囲光と発光ユニット１０ａから発せられる光との間の光学的なクロストークを低減することができる。

【0039】

いくつかの実施形態において、特定の波長に対するバンプ１０５の吸収率は、５０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長に対するバンプ１０５の吸収率は、６０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長に対するバンプ１０５の吸収率は、７０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長に対するバンプ１０５の吸収率は、８０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長に対するバンプ１０５の吸収率は、９０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長に対するバンプ１０５の吸収率は９５％以上である。いくつかの実施形態において、特定の波長は、４００ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、３５０ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、３００ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、２５０ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、２００ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、１５０ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、１００ｎｍ未満である。

【0040】

キャリア注入層１０６Ｌ１は、被覆層１０２、バンプ１０５及び第１電極１０４の露出面に設けられる。キャリア注入層１０６Ｌ１は、バンプ１０５及び第１電極１０４の露出面を連続的に覆っている。いくつかの実施形態において、各第１電極１０４の露出面は、１つの発光ユニット１０ａの有効発光領域に用いられるよう構成される。任意選択的に、キャリア注入層１０６Ｌ１は、バンプ１０５と接触する。いくつかの実施形態において、キャリア注入層１０６Ｌ１は、第１電極１０４と接触する。いくつかの実施形態において、キャリア注入層１０６Ｌ１は、有機体である。いくつかの実施形態において、キャリア注入層１０６Ｌ１は、正孔注入を行うように構成される。いくつかの実施形態において、キャリア注入層１０６Ｌ１は、正孔注入層である。いくつかの実施形態において、キャリア注入層１０６Ｌ１は、８０Å～５００Å程度の厚さを有し得る。

【0041】

キャリア輸送層１０６Ｌ２は、被覆層１０２、バンプ１０５及び第１電極１０４の露出面に設けられる。キャリア輸送層１０６Ｌ２は、キャリア注入層１０６Ｌ１の上に設けられ、キャリア注入層１０６Ｌ１を完全に覆う。キャリア注入層１０６Ｌ１は、キャリア輸送層１０６Ｌ２の下に設けられる。キャリア輸送層１０６Ｌ２は、キャリア注入層１０６Ｌ１を連続的に覆っている。キャリア輸送層１０６Ｌ２は、複数のバンプ１０５及び複数の第１電極１０４を覆う。任意選択的に、キャリア輸送層１０６Ｌ２は、キャリア注入層１０６Ｌ１と接触する。いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２は、有機体である。いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２は、正孔輸送を行うように構成される。いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２は、第１正孔輸送層である。いくつかの実施形態において、キャリア注入層１０６Ｌ１は、８０Å～５００Å程度の厚さを有する。

【0042】

有機発射層１０６Ｌ３は、被覆層１０２、バンプ１０５及び第１電極１０４的露出面に設けられる。有機発射層１０６Ｌ３は、キャリア輸送層１０６Ｌ２の上に設けられ、キャリア輸送層１０６Ｌ２を完全に覆う。キャリア輸送層１０６Ｌ２は、有機発射層１０６Ｌ３の下に設けられる。有機発射層１０６Ｌ３は、キャリア輸送層１０６Ｌ２を連続的に覆う。有機発射層１０６Ｌ３は、複数のバンプ１０５及び複数の第１電極１０４を覆う。任意選択的に、有機発射層１０６Ｌ３は、キャリア輸送層１０６Ｌ２と接触する。有機発射層１０６Ｌ３は、第１の色を発光するように構成される。

【0043】

いくつかの実施形態において、特定の波長に対する有機発射層１０６Ｌ３の吸収率は、５０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長に対する有機発射層１０６Ｌ３の吸収率は、６０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長に対する有機発射層１０６Ｌ３の吸収率は、７０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長に対する有機発射層１０６Ｌ３の吸収率は、８０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長に対する有機発射層１０６Ｌ３の吸収率は、９０％以上であり、いくつかの実施形態において、特定の波長に対する有機発射層１０６Ｌ３の吸収率は９５％以上である。いくつかの実施形態において、特定の波長は、４００ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、３５０ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、３００ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、２５０ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、２００ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、１５０ｎｍ未満であり、いくつかの実施形態において、特定の波長は、１００ｎｍ未満である。

【0044】

いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２及び有機発射層１０６Ｌ３のうちの少なくとも１つは、有機材料を含む。前記有機材料は、共鳴構造を有する分子構造を含み得る。前記有機材料は、スピロ－トリアリールアミン、ビストリアリールアミン及びこれらの組み合わせからなる群から選択されることができる。いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２及び有機発射層１０６Ｌ３のうちの少なくとも１つは、スピロ－トリアリールアミンを含む。いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２及び有機発射層１０６Ｌ３のうちの少なくとも１つは、ビストリアリールアミンを含む。いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２及び有機発射層１０６Ｌ３は、同じ材料を含む。いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２は、

【化1】

を含み、有機発射層１０６Ｌ３は

【化2】

を含む。いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２は、

【化3】

を含み、有機発射層１０６Ｌ３は

【化4】

を含む。

【0045】

有機キャリア輸送層１０６Ｌ４は、被覆層１０２、バンプ１０５及び第１電極１０４の露出面に設けられる。有機キャリア輸送層１０６Ｌ４は、有機発射層１０６Ｌ３の上に設けられ、有機発射層１０６Ｌ３を完全に覆う。有機発射層１０６Ｌ３は、有機キャリア輸送層１０６Ｌ４の下に設けられる。有機キャリア輸送層１０６Ｌ４は、有機発射層１０６Ｌ３を連続的に覆う。有機キャリア輸送層１０６Ｌ４は、複数のバンプ１０５及び複数の第１電極１０４を覆う。任意選択的に、有機キャリア輸送層１０６Ｌ４は、有機発射層１０６Ｌ３と接触する。

【0046】

第２電極１０６Ｄは、被覆層１０２、バンプ１０５及び第１電極１０４の露出面に設けられる。第２電極１０６Ｄは、有機キャリア輸送層１０６Ｌ４の上に位置し、有機キャリア輸送層１０６Ｌ４を完全に覆う。場合によっては、第２電極１０６Ｄは、各発光画素の有効発光領域のみを覆うようにパターン化される。場合によっては、第２電極１０６Ｄは、有機キャリア輸送層１０６Ｌ４と接触する。

【0047】

第２電極１０６Ｄは、８０Å～５００Å程度の厚さを有し得る。いくつかの実施形態において、第２電極１０６Ｄは、８０Å～１５０Å程度の厚さを有し得る。いくつかの実施形態において、第２電極１０６Ｄは、１５０Å～２００Å程度の厚さを有し得る。いくつかの実施形態において、第２電極１０６Ｄは、２００Å～３００Åの厚さを有し得る。いくつかの実施形態において、第２電極１０６Ｄは、３００Å～４００Å程度の厚さを有し得る。いくつかの実施形態において、第２電極１０６Ｄは、４００Å～５００Åの厚さを有し得る。

【0048】

本出願において、第２電極１０６Ｄは、カソードであってもよい。第２電極１０６Ｄは、例えばＡｇ、Ｍｇ等の金属材料であり得る。いくつかの実施形態において、第２電極１０６Ｄは、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）又はＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）を含む。

【0049】

いくつかの実施形態において、第２電極１０６Ｄは、複合構造である。例えば第２電極１０６Ｄは、導電膜と、その上の透明導電膜とを有する。導電膜は、透明導電膜と有機キャリア輸送層１０６Ｌ４との間に位置する。いくつかの実施形態において、導電膜は、アルミニウム、金、銀、銅、マグネシウム、モリブデン等を含む。いくつかの実施形態において、透明導電膜は、インジウム、スズ、グラフェン、亜鉛、酸素等を含む。いくつかの実施形態において、透明導電膜は、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）である。いくつかの実施形態において、透明導電膜は、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）である。いくつかの実施形態において、透明導電膜は、導電膜と有機キャリア輸送層１０６Ｌ４との間に位置する。

【0050】

図２において、発光素子１０は、基板１００と、基板１００上の複数のバンプ１０５と、バンプ１０５によって分離された複数の発光ユニットとを含む。

【0051】

これらの発光ユニットは、第１発光ユニット１０ａと、第２発光ユニット１０ｂと、第３発光ユニット１０ｃとを含む。いくつかの実施形態において、第１発光ユニット１０ａ、第２発光ユニット１０ｂ及び第３発光ユニット１０ｃは、互いに隣り合う。いくつかの実施形態において、第２発光ユニット１０ｂ及び第３発光ユニット１０ｃは、第１発光ユニット１０ａと類似する構造を有する。なお、第１発光ユニット１０ａ、第２発光ユニット１０ｂ及び第３発光ユニット１０ｃは類似の特徴を有するように図示されているが、これは例示に過ぎず、これらの実施形態を限定するものではない。第１発光ユニット１０ａ、第２発光ユニット１０ｂ及び第３発光ユニット１０ｃは、所望の機能要件を満たすため、類似の構造又は異なる構造を有し得る。

【0052】

第１発光ユニット１０ａ、第２発光ユニット１０ｂ及び第３発光ユニット１０ｃは、少なくとも積層有機発光層の厚さが互いに異なっていてもよい。いくつかの実施形態において、第１発光ユニット１０ａは、緑色光を発し、第２発光ユニット１０ｂは赤色光を発し、第３発光ユニット１０ｃは青色光を発する。

【0053】

いくつかの実施形態において、発光ユニット１０ａ、１０ｂ、１０ｃは、少なくとも３つの異なる群に分けられるように構成され、各群が他の群とは異なる色を発する。各積層有機発光層の厚さは、対応する発光ユニット１０ａ、１０ｂ、１０ｃによって表示される色に関連し得る。いくつかの実施形態において、異なる色を発するように構成された他の発光ユニットと比較して、第１発光ユニット１０ａは緑色光を発し、第１発光ユニット１０ａの積層有機発光層は最小厚さを有し得る。いくつかの実施形態において、異なる色を発するように構成された他の発光ユニットと比較して、第２発光ユニット１０ｂは赤色光を発し、かつ第２発光ユニット１０ｂ内の積層有機発光層の厚さは、第１発光ユニット１０ａ内の積層有機発光層の厚さと第３発光ユニット１０ｃ内の積層有機発光層の厚さとの間にある。いくつかの実施形態において、異なる色を発するように構成された他の発光ユニットと比較して、第３発光ユニット１０ｃは青色光を発し、かつ第３発光ユニット１０ｃの積層有機発光層は、最大厚さを有し得る。第１発光ユニット１０ａ、第２発光ユニット１０ｂ及び第３発光ユニット１０ｃの積層有機発光層は、例えば気相成長、液体噴射又はインクジェット印刷の各種処理を介して形成することができる。

【0054】

いくつかの実施形態において、第１、第２及び第３発光ユニット１０ａ、１０ｂ、１０ｃは、少なくとも第１、第２及び第３発光ユニット１０ａ、１０ｂ、１０ｃのキャリア輸送層の厚さの違いにおいて互いに異なり得る。

【0055】

いくつかの実施形態において、発光ユニット１０ａ、１０ｂ、１０ｃは、少なくとも３つの異なる群に分けられるように構成され、各群が他の群とは異なる色を発する。キャリア輸送層の厚さは、対応する発光ユニット１０ａによって表示される色に関連し得る。いくつかの実施形態において、異なる色を発するように構成された他の発光ユニットと比較して、第１発光ユニット１０ａは緑色光を発し、第１発光ユニット１０ａのキャリア輸送層は最小厚さを有し得る。いくつかの実施形態において、異なる色を発するように構成された他の発光ユニットと比較して、第２発光ユニット１０ｂは赤色光を発し、かつ第２発光ユニット１０ｂ内のキャリア輸送層の厚さは、第１発光ユニット１０ａ内のキャリア輸送層の厚さと第３発光ユニット１０ｃ内のキャリア輸送層の厚さとの間にある。いくつかの実施形態において、異なる色を発するように構成された他の発光ユニットと比較して、第３発光ユニット１０ｃは青色光を発し、かつ第３発光ユニット１０ｃのキャリア輸送層は、最大厚さを有し得る。

【0056】

図３Ａ～図３Ｋは、一実施形態による発光素子の製造方法を示す。

【0057】

図３Ａにおいて、基板１００を用意する。

【0058】

図３Ｂにおいて、基板１００に複数の遮光層１０１を設ける。各遮光層１０１は、基板の同じ側に配置される。各遮光層１０１は互いに分離されている。

【0059】

図３Ｃにおいて、各遮光層１０１に被覆層１０２を設ける。被覆層１０２は、複数の遮光層１０１の各々上面及び２つの側面を包囲する。被覆層１０２は、基板１００に接触される。被覆層１０２は、化学気相成長（ＣＶＤ）、物理気相成長（ＰＶＤ）及びスピン・オン・ガラス（ＳＯＧ Ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）のいずれかにより、複数の遮光層１０１の上に形成される。

【0060】

図３Ｄにおいて、被覆層１０２に複数の第１電極１０４を設ける。各第１電極１０４は、基板１００に電気的に接続されるように配置される。画素の配列を考慮して第１電極１０４のアレイパターンを設計する。

【0061】

図３Ｅにおいて、第１電極１０４に感光層１０５Ｌを設ける。いくつかの実施形態において、感光層１０５Ｌを第１電極１０４及び被覆層１０２にコーティングする。感光層１０５Ｌは、隣り合う第１電極１０４間の隙間を埋める。感光層１０５Ｌを所定の温度に加熱した後、指定された波長で露光させる。感光層１０５Ｌは、可視光の９０％以上を吸収することができる。露光後、感光層１０５Ｌを溶液に浸潤させて現象する。

【0062】

図３Ｆに示すように、感光層１０５Ｌの一部を除去し、残りの部分は隣り合う第１電極１０４間の隙間を部分的に覆う。この断面図において、残った感光層１０５Ｌは複数のバンプ１０５を形成し、各バンプ１０５が第１電極１０４の上面の一部に形成され、第１電極１０４の一方の側面を覆う。バンプ１０５は、各第１電極１０４を部分的に覆う。

【0063】

バンプ１０５は、異なる形状に形成されてもよい。図３Ｆにおいて、バンプ１０５は曲面を有する。いくつかの実施形態において、バンプ１０５の形状は、台形である。バンプ１０５を形成した後、バンプ１０５及び第１電極１０４の露出面を洗浄するため、洗浄操作を実行し得る。一実施形態において、洗浄操作の間、脱イオン水を３０℃～８０℃の間の温度に加熱する。脱イオン水の温度が所定の温度まで上昇した後、脱イオン水をバンプ１０５及び第１電極１０４の露出面に導く。

【0064】

いくつかの実施形態において、洗浄操作の間に超音波を使用する。超音波を洗浄剤（例えば水又はイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）等）に導入する。いくつかの実施形態において、二酸化炭素を洗浄剤に導入する。洗浄操作の後、加熱操作によって洗浄剤を露出面から除去する。加熱操作の間、基板１００及びバンプ１０５を８０℃～１１０℃の間の温度に加熱し得る。いくつかの実施形態において、加熱しながら残留洗浄剤を除去することを助けため、圧縮空気を露出面に導く。

【0065】

加熱操作の後、Ｏ２、Ｎ２、又はＡｒプラズマで露出面を処理できる。プラズマは、露出面を粗くするために用いられる。いくつかの実施形態において、露出面の表面状態を調整するため、オゾンを使用する。

【0066】

図３Ｇに示すように、バンプ１０５、被覆層１０２の露出面の一部、及び第１電極１０４の露出面にキャリア注入層１０６Ｌ１を設ける。キャリア注入層１０６Ｌ１は、露出面に沿って連続的にライニング（ｌｉｎｉｎｇ）する。より具体的に各第１電極１０４の露出面は、発光ユニット（すなわち、画素）の有効発光面積として構成される。この実施形態において、全ての発光ユニットは、キャリア注入層１０６Ｌ１を使用する。いくつかの実施形態において、キャリア注入層１０６Ｌ１は、正孔注入に用いられる。いくつかの実施形態において、キャリア注入層１０６Ｌ１は、電子注入に用いられる。キャリア注入層１０６Ｌ１は、複数のバンプ１０５及び第１電極１０４の露出面を連続的に覆う。任意選択的に、キャリア注入層１０６Ｌ１は、バンプ１０５と接触する。一実施形態において、キャリア注入層１０６Ｌ１は、第１電極１０４と接触する。いくつかの実施形態において、キャリア注入層１０６Ｌ１は、有機物である。

【0067】

図３Ｈに示すように、バンプ１０５、被覆層１０２の露出面の一部、及び第１電極１０４の露出面にキャリア輸送層１０６Ｌ２を設ける。キャリア注入層１０６Ｌ１は、キャリア輸送層１０６Ｌ２の下に設けられる。キャリア輸送層１０６Ｌ２は、キャリア注入層１０６Ｌ１に沿って連続的にライニングする。この実施形態において、全ての発光ユニットは、キャリア輸送層１０６Ｌ２を使用する。いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２は、正孔注入に用いられる。いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２は、電子注入に用いられる。キャリア輸送層１０６Ｌ２は、複数のバンプ１０５及び第１電極１０４の上を連続的に覆う。任意選択的に、キャリア輸送層１０６Ｌ２は、キャリア注入層１０６Ｌ１と接触する。いくつかの実施形態において、キャリア輸送層１０６Ｌ２は、有機物である。

【0068】

図３Ｉにおいて、有機発射層１０６Ｌ３は、バンプ１０５、被覆層１０２の露出面の一部、及び第１電極１０４の露出面に設けられる。有機発射層１０６Ｌ３は、キャリア輸送層１０６Ｌ２を覆う。有機発射層１０６Ｌ３は、露出したキャリア輸送層１０６Ｌ２を完全に覆う。有機発射層１０６Ｌ３は、第１の色を発光するよう構成される。

【0069】

図３Ｊに示すように、有機発射層１０６Ｌ３に有機キャリア輸送層１０６Ｌ４を設ける。有機キャリア輸送層１０６Ｌ４は、正孔又は電子輸送層であり得る。いくつかの実施形態において、有機キャリア輸送層１０６Ｌ４及びキャリア輸送層１０６Ｌ２は、それぞれ相反する原子価状態で構成される。

【0070】

図３Ｋにおいて、有機キャリア輸送層１０６Ｌ４に第２電極１０６Ｄを設ける。第２電極１０６Ｄは、有機キャリア輸送層１０６Ｌ４を覆う。

【0071】

第２電極１０６Ｄは、金属材料、例えばＡｇ、Ｍｇ等であり得る。いくつかの実施形態において、第２電極１０６Ｄは、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）又はＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）を含む。いくつかの実施形態において、断面図から見て各発光ユニット（すなわち、画素）は、独立した第２電極１０６Ｄを有する。

【0072】

図３Ａ～図３Ｋに示す操作を繰り返して異なる色の発光ユニットを形成することができる。

【0073】

図３Ｋに示すように、発光ユニットによって生成された光Ｌ１は、基板に向けて外側に出射することができ、外光Ｌ２は発光ユニットに向けて進行する成分を有する。外光Ｌ２が発光ユニットに入射した後、発光ユニット内の様々な構成要素により、異なる反射光Ｌ２ｒが生成される。反射光Ｌ２ｒは、発光ユニットによって生成された光Ｌ１と干渉するため、ハレーション及び光学的なクロストーク等の問題を引き起こし、有機ＥＬディスプレイの光学効果は期待通りにいかない。本開示の遮光層１０１によれば、適切な構成（例えば上述のように周囲光を遮蔽できるものを用いる）を経て、外光Ｌ２、及び光Ｌ１に対する反射光Ｌ２ｒの干渉を大幅に低減することができることで、ハレーション及び光学的なクロストーク等の問題を解決し、発光ユニットのコントラストを向上させることができる。

【0074】

図４Ａを参照すると、いくつかの実施形態において、遮光層１０１は、上面の角度から見て十字形輪郭を有する凹部４００（図２に示めるＷ１部分に対応し得る）を有し得る。十字形輪郭４００は、発光ユニット（例えば１０ａ、１０ｂ又は１０ｃ）から発せられた光を透過させることができる。いくつかの実施形態において、十字形輪郭４００は、単一の発光ユニットから発せられた光を透過させることができる。いくつかの実施形態において、十字形輪郭４００は、複数の発光ユニットから発せられた光を透過させることができる。

【0075】

図４Ｂを参照すると、いくつかの実施形態において、遮光層１０１は、第１凹部４０２と、第２凹部４０４、４０６、４０８、４１０とを含む。第１凹部４０２は、十字形輪郭を有し、第２凹部４０４、４０６、４０８、４１０は第１凹部４０２の四隅に位置し、Ｌ字形輪郭を有することで、第１凹部４０２と第２凹部４０４、４０６、４０８、４１０とが共にレチクルパターンを形成する。レチクルパターンは、発光ユニット（例えば１０ａ、１０ｂ又は１０ｃ）から発せられた光を透過させることができる。いくつかの実施形態において、第１凹部４０２は、単一の発光ユニットの有効発光面積と重なり、単一の発光ユニットから発せられた光を透過させることができる。いくつかの実施形態において、第１凹部４０２は、複数の発光ユニットの有効発光面積と重なり、複数の発光ユニットから発せられた光を透過させることができる。いくつかの実施形態において、第２凹部４０４、４０６、４０８、４１０の各々は、単一の発光ユニットの有効発光面積と重なり、各々は単一の発光ユニットから発せられた光を透過させることができる。いくつかの実施形態において、第２凹部４０４、４０６、４０８、４１０の各々は、複数の発光ユニットの有効発光面積と重なり、複数の発光ユニットから発せられた光を透過させることができる。

【0076】

いくつかの実施形態において、第１凹部４０２及び第２凹部４０４、４０６、４０８、４１０は、単一の発光ユニットの有効な発光面積と重なり、単一の発光ユニットから発せられた光を透過させることができる。いくつかの実施形態において、第１凹部４０２及び第２凹部４０４、４０６、４０８、４１０は、複数の発光ユニットの有効発光面積と重なり、複数の発光ユニットから発せられた光を透過させることができる。

【0077】

本出願は、実際のニーズに応じてパターン化されて所望の形状に調整できる。

【0078】

前述の概要は、いくつかの実施形態の特徴を概説したため、当業者が本開示の各態様をよりよく理解できる。本開示に基づいて他の製造工程及び構造を設計又は潤色して容易に本出願に記載された実施形態と同じ目的を達成し、及び／又は同じ利点を達成できることは当業者には明白になるであろう。当業者はまた、この均等な構造が本開示の精神及び範囲から逸脱せず、多種多様な変化、置換及び代替を行うことができるが、本開示の精神及び範囲に収まることを理解すべきである。

【符号の説明】

【0079】

１００ 基板
１０ 発光素子
１０ａ 発光ユニット
１０ｂ 発光ユニット
１０ｃ 発光ユニット
１０１ 遮光層
１０１’ 遮光層
１０１ａ 縁部
１０１’ａ 縁部
１０１Ｔ 厚さ
１０２ 被覆層
１０４ 第１電極
１０４Ｔ 厚さ
１０５ バンプ
１０５’ バンプ
１０５ａ 縁部
１０５’ａ 縁部
１０６Ｌ１ キャリア注入層
１０６Ｌ２ キャリア輸送層
１０６Ｌ３ 有機発射層
１０６Ｌ４ 有機キャリア輸送層
１０６Ｄ 第２電極
ｄ 偏差
ｄ’ 偏差
Ｗ１ 距離
Ｗ２ 距離

【図1】

【図2】

【図3A】

【図3B】

【図3C】

【図3D】

【図3E】

【図3F】

【図3G】

【図3H】

【図3I】

【図3J】

【図3K】

【図4A】

【図4B】