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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024123409
(43)【公開日】2024-09-12
(54)【発明の名称】デブリトラップユニット及び光源装置
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20240905BHJP
H05G 2/00 20060101ALI20240905BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 503
H05G2/00 K
【審査請求】未請求
【請求項の数】14
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023030807
(22)【出願日】2023-03-01
(71)【出願人】
【識別番号】000102212
【氏名又は名称】ウシオ電機株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003339
【氏名又は名称】弁理士法人南青山国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】藪田 泰伸
【テーマコード（参考）】
2H197
4C092
【Ｆターム（参考）】
2H197CA10
2H197FA01
2H197GA01
2H197GA04
2H197GA05
2H197GA06
2H197GA20
2H197GA24
2H197HA03
4C092AA07
4C092AB19
4C092AC09
(57)【要約】
【課題】ホイルトラップのメンテナンスを効率化することが可能なデブリトラップユニット及び光源装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一形態に係るデブリトラップユニットは着脱部材と、少なくとも１つのホイルトラップとを具備する。前記デブリトラップユニットは、プラズマからの放射線の出射口と前記出射口とは異なる開口部とを有するチャンバ本体の前記開口部に装着される。前記着脱部材は、前記開口部を覆い、かつ、前記チャンバ本体に着脱自在に構成される。前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記プラズマからのデブリを捕捉する複数のホイルを有し、前記着脱部材が前記チャンバ本体に装着された状態で、前記プラズマから前記出射口までの前記放射線の経路上に前記複数のホイルが配置されるように、前記着脱部材に接続される。
【選択図】図２
【解決手段】本発明の一形態に係るデブリトラップユニットは着脱部材と、少なくとも１つのホイルトラップとを具備する。前記デブリトラップユニットは、プラズマからの放射線の出射口と前記出射口とは異なる開口部とを有するチャンバ本体の前記開口部に装着される。前記着脱部材は、前記開口部を覆い、かつ、前記チャンバ本体に着脱自在に構成される。前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記プラズマからのデブリを捕捉する複数のホイルを有し、前記着脱部材が前記チャンバ本体に装着された状態で、前記プラズマから前記出射口までの前記放射線の経路上に前記複数のホイルが配置されるように、前記着脱部材に接続される。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
プラズマからの放射線の出射口と前記出射口とは異なる開口部とを有するチャンバ本体の前記開口部に装着されるデブリトラップユニットであって、
前記開口部を覆い、かつ、前記チャンバ本体に着脱自在に構成された着脱部材と、
前記プラズマからのデブリを捕捉する複数のホイルを有し、前記着脱部材が前記チャンバ本体に装着された状態で、前記プラズマから前記出射口までの前記放射線の経路上に前記複数のホイルが配置されるように、前記着脱部材に接続された少なくとも１つのホイルトラップと
を具備するデブリトラップユニット。
前記開口部を覆い、かつ、前記チャンバ本体に着脱自在に構成された着脱部材と、
前記プラズマからのデブリを捕捉する複数のホイルを有し、前記着脱部材が前記チャンバ本体に装着された状態で、前記プラズマから前記出射口までの前記放射線の経路上に前記複数のホイルが配置されるように、前記着脱部材に接続された少なくとも１つのホイルトラップと
を具備するデブリトラップユニット。
【請求項2】
請求項１に記載のデブリトラップユニットであって、
前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記複数のホイルと、前記複数のホイルを放射状に支持する回転部材とを有する回転式ホイルトラップを含み、
さらに、前記回転式ホイルトラップの前記回転部材に接続される軸部と、前記軸部を回転させる回転駆動部とを具備する
デブリトラップユニット。
前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記複数のホイルと、前記複数のホイルを放射状に支持する回転部材とを有する回転式ホイルトラップを含み、
さらに、前記回転式ホイルトラップの前記回転部材に接続される軸部と、前記軸部を回転させる回転駆動部とを具備する
デブリトラップユニット。
【請求項3】
請求項２に記載のデブリトラップユニットであって、
前記回転駆動部は、前記着脱部材の外側に接続され、
前記軸部は、前記着脱部材を貫通し、
前記回転部材は、前記着脱部材の内側で前記軸部に接続される
デブリトラップユニット。
前記回転駆動部は、前記着脱部材の外側に接続され、
前記軸部は、前記着脱部材を貫通し、
前記回転部材は、前記着脱部材の内側で前記軸部に接続される
デブリトラップユニット。
【請求項4】
請求項３に記載のデブリトラップユニットであって、さらに、
前記着脱部材とは別の部材として構成され、前記着脱部材に前記回転駆動部を固定する補強部材を具備する
デブリトラップユニット。
前記着脱部材とは別の部材として構成され、前記着脱部材に前記回転駆動部を固定する補強部材を具備する
デブリトラップユニット。
【請求項5】
請求項３に記載のデブリトラップユニットであって、
前記着脱部材は、前記回転駆動部が接続される部分の剛性を補強する補強部を有する
デブリトラップユニット。
前記着脱部材は、前記回転駆動部が接続される部分の剛性を補強する補強部を有する
デブリトラップユニット。
【請求項6】
請求項２から５のいずれか１項に記載のデブリトラップユニットであって、
前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記複数のホイルと、前記複数のホイルを固定する固定部材とを有する固定式ホイルトラップを含む
デブリトラップユニット。
前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記複数のホイルと、前記複数のホイルを固定する固定部材とを有する固定式ホイルトラップを含む
デブリトラップユニット。
【請求項7】
請求項６に記載のデブリトラップユニットであって、さらに、
前記着脱部材に接続され、前記回転式ホイルトラップの外周部を包囲して、前記回転式ホイルトラップから飛散する前記デブリを捕集するホイルトラップカバーを具備し、
前記固定式ホイルトラップは、前記ホイルトラップカバーに接続される
デブリトラップユニット。
前記着脱部材に接続され、前記回転式ホイルトラップの外周部を包囲して、前記回転式ホイルトラップから飛散する前記デブリを捕集するホイルトラップカバーを具備し、
前記固定式ホイルトラップは、前記ホイルトラップカバーに接続される
デブリトラップユニット。
【請求項8】
請求項６に記載のデブリトラップユニットであって、さらに、
前記着脱部材を貫通し、前記放射線に対して透明な透明ガスを前記固定式ホイルトラップに導入するガス導入管を具備する
デブリトラップユニット。
前記着脱部材を貫通し、前記放射線に対して透明な透明ガスを前記固定式ホイルトラップに導入するガス導入管を具備する
デブリトラップユニット。
【請求項9】
請求項１に記載のデブリトラップユニットであって、さらに、
前記着脱部材に接続され、前記プラズマからの放射線を集光する集光鏡を具備し、
前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記プラズマと前記集光鏡との間に配置される
デブリトラップユニット。
前記着脱部材に接続され、前記プラズマからの放射線を集光する集光鏡を具備し、
前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記プラズマと前記集光鏡との間に配置される
デブリトラップユニット。
【請求項10】
請求項９に記載のデブリトラップユニットであって、さらに、
前記集光鏡の配置を調整する位置調整機構を具備する
デブリトラップユニット。
前記集光鏡の配置を調整する位置調整機構を具備する
デブリトラップユニット。
【請求項11】
請求項９に記載のデブリトラップユニットであって、さらに、
前記チャンバ本体及び／又は前記集光鏡に伝わる振動を抑制する除振機構を具備する
デブリトラップユニット。
前記チャンバ本体及び／又は前記集光鏡に伝わる振動を抑制する除振機構を具備する
デブリトラップユニット。
【請求項12】
請求項１に記載のデブリトラップユニットであって、さらに、
前記着脱部材に接続され、前記プラズマと前記ホイルトラップとの間に配置される遮熱部材、又は、前記着脱部材に接続され、前記プラズマの状態を検出する検出センサの少なくとも一方を具備する
デブリトラップユニット。
前記着脱部材に接続され、前記プラズマと前記ホイルトラップとの間に配置される遮熱部材、又は、前記着脱部材に接続され、前記プラズマの状態を検出する検出センサの少なくとも一方を具備する
デブリトラップユニット。
【請求項13】
請求項１に記載のデブリトラップユニットであって、
前記着脱部材は、前記チャンバ本体に対する装着位置をガイドするガイド機構を有する
デブリトラップユニット。
前記着脱部材は、前記チャンバ本体に対する装着位置をガイドするガイド機構を有する
デブリトラップユニット。
【請求項14】
プラズマ原料をプラズマ化するプラズマ生成部と、
前記プラズマ生成部により生成されたプラズマからの放射線の出射口と前記出射口とは異なる開口部とを有するチャンバ本体と、
前記チャンバ本体の前記開口部に装着されるデブリトラップユニットとを具備し、
前記デブリトラップユニットは、
前記開口部を覆い、かつ、前記チャンバ本体に着脱自在に構成された着脱部材と、
前記プラズマからのデブリを捕捉する複数のホイルを有し、前記着脱部材が前記チャンバ本体に装着された状態で、前記プラズマから前記出射口までの前記放射線の経路上に前記複数のホイルが配置されるように、前記着脱部材に接続された少なくとも１つのホイルトラップとを有する
光源装置。
前記プラズマ生成部により生成されたプラズマからの放射線の出射口と前記出射口とは異なる開口部とを有するチャンバ本体と、
前記チャンバ本体の前記開口部に装着されるデブリトラップユニットとを具備し、
前記デブリトラップユニットは、
前記開口部を覆い、かつ、前記チャンバ本体に着脱自在に構成された着脱部材と、
前記プラズマからのデブリを捕捉する複数のホイルを有し、前記着脱部材が前記チャンバ本体に装着された状態で、前記プラズマから前記出射口までの前記放射線の経路上に前記複数のホイルが配置されるように、前記着脱部材に接続された少なくとも１つのホイルトラップとを有する
光源装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、プラズマから放出されるデブリを捕捉するデブリトラップユニット及び光源装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、Ｘ線は、医療用用途、工業用用途、研究用用途に用いられてきた。
医療用分野においては、Ｘ線は、胸部Ｘ線写真撮影、歯科Ｘ線写真撮影や、ＣＴ（Computer Tomogram）といった用途に用いられる。
工業用分野においては、Ｘ線は、構造物や溶接部などの物質内部を観察する非破壊検査、断層非破壊検査といった用途に用いられる。
研究用分野においては、Ｘ線は、物質の結晶構造を解析するためのＸ線回折、物質の構成元素を分析するためのＸ線分光（蛍光Ｘ線分析）といった用途に用いられる。
医療用分野においては、Ｘ線は、胸部Ｘ線写真撮影、歯科Ｘ線写真撮影や、ＣＴ（Computer Tomogram）といった用途に用いられる。
工業用分野においては、Ｘ線は、構造物や溶接部などの物質内部を観察する非破壊検査、断層非破壊検査といった用途に用いられる。
研究用分野においては、Ｘ線は、物質の結晶構造を解析するためのＸ線回折、物質の構成元素を分析するためのＸ線分光（蛍光Ｘ線分析）といった用途に用いられる。
【0003】
Ｘ線のうち比較的波長の長い軟Ｘ線領域にある波長１３．５ｎｍの極端紫外光（以下、「ＥＵＶ（Extreme Ultra Violet）光」ともいう）は、近年露光光として使用されている。
ここで、微細パターンが構成されているＥＵＶリソグラフィ用のマスクの基材は、積層構造として、低熱膨張性ガラスから成る基板の上に、ＥＵＶ光を反射させるための多層膜（例えば、モリブデンとシリコン）が設けられてなる反射ミラーである。
そして、多層膜上に波長１３．５ｎｍの放射線を吸収する材料をパターニングすることで、ＥＵＶマスクが構成される。
ここで、微細パターンが構成されているＥＵＶリソグラフィ用のマスクの基材は、積層構造として、低熱膨張性ガラスから成る基板の上に、ＥＵＶ光を反射させるための多層膜（例えば、モリブデンとシリコン）が設けられてなる反射ミラーである。
そして、多層膜上に波長１３．５ｎｍの放射線を吸収する材料をパターニングすることで、ＥＵＶマスクが構成される。
【0004】
また、ＥＵＶマスクにおける許容できない欠陥の大きさは、従来のＡｒＦマスクの場合に比べると大幅に小さくなっており検出することが困難となっている。
そこで、ＥＵＶマスクの検査として、通常はアクティニック検査（Actinic inspection）と呼ばれる、リソグラフィの作業波長と一致する波長の放射線を用いた検査が行われる。
例えば、波長１３．５ｎｍの放射線を用いて検査を行うと、ｌ０ｎｍよりも良好な分解能で欠陥を検出することが可能となる。
そこで、ＥＵＶマスクの検査として、通常はアクティニック検査（Actinic inspection）と呼ばれる、リソグラフィの作業波長と一致する波長の放射線を用いた検査が行われる。
例えば、波長１３．５ｎｍの放射線を用いて検査を行うと、ｌ０ｎｍよりも良好な分解能で欠陥を検出することが可能となる。
【0005】
一般にＥＵＶ光源装置としては、ＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）光源装置、ＬＤＰ（Laser Assisted Discharge Produced Plasma）光源装置、及びＬＰＰ（Laser Produced Plasma）光源装置が挙げられる。
【0006】
ＤＰＰ光源装置は、ＥＵＶ放射種を含む気体状のプラズマ原料（放電ガス）が供給された電極間に高電圧を印加して、放電により高密度高温プラズマを生成し、そこから放射される極端紫外光を利用するものである。
【0007】
ＬＤＰ光源装置は、ＤＰＰ光源装置が改良されたものであり、例えば、放電を発生させる電極（放電電極）表面にＥＵＶ放射種を含む液体状の高温プラズマ原料（例えば、Ｓｎ（スズ）やＬｉ（リチウム）等）を供給し、当該原料に対してエネルギービーム（例えば、電子ビームやレーザビーム等）を照射して当該原料を気化し、その後、放電によって高温プラズマを生成するものである。
【0008】
ＬＰＰ光源装置は、ＥＵＶ放射種をレーザビーム等により励起して高温プラズマを生成するものである。この方式の光源装置としては、ＥＵＶ放射用ターゲット材料である微小な液滴状に噴出されたスズ（Ｓｎ）、または、リチウム（Ｌｉ）等のドロップレットに対して、レーザ光を集光することにより当該ターゲット材料を励起してプラズマを発生させるものが知られている。また、ＬＰＰ方式の光源装置として、回転体の表面にＥＵＶ放射種を含む液体状の高温プラズマ原料を供給し、回転体の表面にエネルギービーム（レーザビーム）を照射してプラズマを発生さる装置も知られている。
【0009】
このようにプラズマを利用してＥＵＶ光を発生する方法は、プラズマ原料の種類やプラズマを発生させるための励起エネルギーを変えることで、ＥＵＶ光だけでなくＥＵＶ光よりも波長の短いＸ線を発生させる装置にも適用可能である。
【0010】
ところで、これらの光源装置で生成されるプラズマからは、デブリが高速で放散される。このデブリには、高温プラズマ原料の粒子や、プラズマの発生に伴いスパッタリングされる電極や回転体の材料粒子等が含まれる。このようなデブリがＥＵＶ光等の放射線を利用する利用装置に到達すると、利用装置内に設けられた反射膜等の光学素子を損傷することや汚染することが考えられる。この結果、利用装置の性能を低下させる可能性がある。
【0011】
そこで、プラズマから放散されるデブリが利用装置に侵入しないように、プラズマと利用装置との間でデブリを捕捉するデブリ低減装置（ＤＭＴ（Debris Mitigation Tool）とも言う）が提案されている。デブリ低減装置は、典型的には、ホイルトラップ（foil trap）を用いて構成される。ホイルトラップは、薄い板状のホイルを用いてデブリを捕捉するデブリトラップである。
【0012】
例えば特許文献１には、固定式ホイルトラップ及び回転式ホイルトラップについて記載されている。回転式ホイルトラップは、回転軸を中心に放射状に配置された複数のホイルを回転させ、デブリとホイルとを衝突させることでデブリを捕捉する。固定式ホイルトラップは、位置が固定された複数のホイルにより空間を分割し、その空間での雰囲気ガスの圧力を上昇させ、デブリと雰囲気ガスとを衝突させることでデブリを捕捉する。これらのホイルトラップを用いることで、デブリの中でも大きさが比較的大きな部類に属するマイクロメートルサイズの液滴から、構成原子数の少ない粒子あるいは、中性状態やイオン状態の原子等を捕捉することが可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0013】
【特許文献1】特開２０１７－２１９６９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0014】
ホイルトラップに侵入したデブリは、例えばホイルやホイル周辺の部材に付着し、収容容器に流れ落ちて回収されるが、一部のデブリは、ホイル等に付着したまま残存する。例えば、運転時間が長くなるにつれ、デブリの付着量が増大し、ホイルトラップによるデブリの捕捉率が悪化することが考えられる。また回転式ホイルトラップでは、デブリが付着することでホイルの重量が増大し、回転が不安定になるといった可能性がある。
【0015】
このため、ホイルトラップを用いる場合には、ホイル等に付着したデブリの除去や、ホイルトラップの交換といったメンテナンスが必要となる。上記したように、ホイルトラップは、プラズマを発生させる光源部分と、利用装置との間に設けられる。このため、ホイルトラップを取り外すためには、例えば光源部分等の取り外しや分解、組み立て後の調整等が必要となり、結果として、ホイルトラップのメンテナンスに時間がかかっていた。
【0016】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、ホイルトラップのメンテナンスを効率化することが可能なデブリトラップユニット及び光源装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0017】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係るデブリトラップユニットは着脱部材と、少なくとも１つのホイルトラップとを具備する。
前記デブリトラップユニットは、プラズマからの放射線の出射口と前記出射口とは異なる開口部とを有するチャンバ本体の前記開口部に装着される。
前記着脱部材は、前記開口部を覆い、かつ、前記チャンバ本体に着脱自在に構成される。
前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記プラズマからのデブリを捕捉する複数のホイルを有し、前記着脱部材が前記チャンバ本体に装着された状態で、前記プラズマから前記出射口までの前記放射線の経路上に前記複数のホイルが配置されるように、前記着脱部材に接続される。
前記デブリトラップユニットは、プラズマからの放射線の出射口と前記出射口とは異なる開口部とを有するチャンバ本体の前記開口部に装着される。
前記着脱部材は、前記開口部を覆い、かつ、前記チャンバ本体に着脱自在に構成される。
前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記プラズマからのデブリを捕捉する複数のホイルを有し、前記着脱部材が前記チャンバ本体に装着された状態で、前記プラズマから前記出射口までの前記放射線の経路上に前記複数のホイルが配置されるように、前記着脱部材に接続される。
【0018】
このデブリトラップユニットでは、チャンバ本体の開口部を覆い、かつ、チャンバ本体に着脱される着脱部材に、プラズマからのデブリを捕捉する複数のホイルを備える少なくとも１つのホイルトラップが接続される。着脱部材が装着された状態では、プラズマから出射口までの放射線の経路上に複数のホイルが配置される。また着脱部材を取り外すことでホイルトラップも一緒に取り外すことが可能である。これにより、ホイルトラップのメンテナンスを効率化することが可能となる。
【0019】
前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記複数のホイルと、前記複数のホイルを放射状に支持する回転部材とを有する回転式ホイルトラップを含んでもよい。この場合、前記デブリトラップユニットは、さらに、前記回転式ホイルトラップの前記回転部材に接続される軸部と、前記軸部を回転させる回転駆動部とを具備してもよい。
【0020】
前記回転駆動部は、前記着脱部材の外側に接続されてもよい。この場合、前記軸部は、前記着脱部材を貫通してもよい。また前記回転部材は、前記着脱部材の内側で前記軸部に接続されてもよい。
【0021】
前記デブリトラップユニットは、さらに、前記着脱部材とは別の部材として構成され、前記着脱部材に前記回転駆動部を固定する補強部材を具備してもよい。
【0022】
前記着脱部材は、前記回転駆動部が接続される部分の剛性を補強する補強部を有してもよい。
【0023】
前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記複数のホイルと、前記複数のホイルを固定する固定部材とを有する固定式ホイルトラップを含んでもよい。
【0024】
前記デブリトラップユニットは、さらに、前記着脱部材に接続され、前記回転式ホイルトラップの外周部を包囲して、前記回転式ホイルトラップから飛散する前記デブリを捕集するホイルトラップカバーを具備してもよい。この場合、前記固定式ホイルトラップは、前記ホイルトラップカバーに接続されてもよい。
【0025】
前記デブリトラップユニットは、さらに、前記着脱部材を貫通し、前記放射線に対して透明な透明ガスを前記固定式ホイルトラップに導入するガス導入管を具備してもよい。
【0026】
前記デブリトラップユニットは、さらに、前記着脱部材に接続され、前記プラズマからの放射線を集光する集光鏡を具備してもよい。この場合、前記少なくとも１つのホイルトラップは、前記プラズマと前記集光鏡との間に配置される。
【0027】
前記デブリトラップユニットは、さらに、前記集光鏡の配置を調整する位置調整機構を具備してもよい。
【0028】
前記デブリトラップユニットは、さらに、前記チャンバ本体及び／又は前記集光鏡に伝わる振動を抑制する除振機構を具備してもよい。
【0029】
前記デブリトラップユニットは、さらに、前記着脱部材に接続され、前記プラズマと前記ホイルトラップとの間に配置される遮熱部材、又は、前記着脱部材に接続され、前記プラズマの状態を検出する検出センサの少なくとも一方を具備してもよい。
【0030】
前記着脱部材は、前記チャンバ本体に対する装着位置をガイドするガイド機構を有してもよい。
【0031】
本発明の一形態に係る光源装置は、プラズマ生成部と、チャンバ本体と、前記デブリトラップユニットとを具備する。
前記プラズマ生成部は、プラズマ原料をプラズマ化する。
前記チャンバ本体は、前記プラズマ生成部により生成されたプラズマからの放射線の出射口と前記出射口とは異なる開口部とを有する。
前記プラズマ生成部は、プラズマ原料をプラズマ化する。
前記チャンバ本体は、前記プラズマ生成部により生成されたプラズマからの放射線の出射口と前記出射口とは異なる開口部とを有する。
【発明の効果】
【0032】
以上のように、本発明によれば、ホイルトラップのメンテナンスを効率化することが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【0033】
【図1】本発明の第１の実施形態に係るデブリトラップユニットを備えたＥＵＶ光源装置の構成を示す概略断面図である。
【図2】第１の実施形態に係るデブリトラップユニットの構成例を示す模式図である。
【図3】デブリトラップユニットを取り外した状態を示す模式図である。
【図4】回転式ホイルトラップの構成例を示す模式的な断面図である。
【図5】回転式ホイルトラップの構成例を示す模式的な正面図である。
【図6】デブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。
【図7】デブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。
【図8】固定式ホイルトラップの構成例を示す模式的な断面図である。
【図9】固定式ホイルトラップの構成例を示す模式的な正面図である。
【図10】ホイルトラップカバーを含むデブリトラップユニットの構成例を示す模式図である。
【図11】遮熱板を含むデブリトラップユニットの構成例を示す模式図である。
【図12】第２の実施形態に係るデブリトラップユニットを備えたＥＵＶ光源装置の構成例を示す概略断面図である。
【図13】ＲＦＴ支持部の構成例を示す模式的な平面図である。
【図14】集光鏡の構成例を示す模式的な斜視図である。
【図15】は、集光鏡を含むデブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。
【図16】は、集光鏡を含むデブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。
【図17】は、集光鏡を含むデブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0034】
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【0035】
＜第１の実施形態＞
［光源装置の構成］
図１は、本発明の第１の実施形態に係るデブリトラップユニットを備えたＥＵＶ光源装置の構成を示す概略断面図である。本実施形態では、ＥＵＶ光源装置１００として、ＬＤＰ方式の極端紫外光光源装置（ＥＵＶ光源装置）を例に挙げて説明する。またＥＵＶ光源装置１００は、ＥＵＶ光を利用する利用装置１１０に接続され、利用装置１１０の光源として機能する。
［光源装置の構成］
図１は、本発明の第１の実施形態に係るデブリトラップユニットを備えたＥＵＶ光源装置の構成を示す概略断面図である。本実施形態では、ＥＵＶ光源装置１００として、ＬＤＰ方式の極端紫外光光源装置（ＥＵＶ光源装置）を例に挙げて説明する。またＥＵＶ光源装置１００は、ＥＵＶ光を利用する利用装置１１０に接続され、利用装置１１０の光源として機能する。
【0036】
なお図においてＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸は相互に直交する３軸方向を示しており、Ｚ軸は鉛直方向（重力方向）に相当する。したがって、図１は、ＥＵＶ光源装置１００を水平方向に切断したときの断面図である。
【0037】
［全体構成］
図１において、ＥＵＶ光源装置１００は、極端紫外光（ＥＵＶ光）を放出する。この極端紫外光の波長は、例えば、１３．５ｎｍである。
具体的には、ＥＵＶ光源装置１００は、放電を発生させる一対の放電電極ＥＡ，ＥＢの表面にそれぞれ供給された液相のプラズマ原料ＳＡ，ＳＢにレーザビームＬＢ等のエネルギービームを照射して当該プラズマ原料ＳＡ，ＳＢを気化させる。その後、放電電極ＥＡ，ＥＢ間の放電領域Ｄの放電によってプラズマＰを発生させる。プラズマＰからはＥＵＶ光が放出される。
図１において、ＥＵＶ光源装置１００は、極端紫外光（ＥＵＶ光）を放出する。この極端紫外光の波長は、例えば、１３．５ｎｍである。
具体的には、ＥＵＶ光源装置１００は、放電を発生させる一対の放電電極ＥＡ，ＥＢの表面にそれぞれ供給された液相のプラズマ原料ＳＡ，ＳＢにレーザビームＬＢ等のエネルギービームを照射して当該プラズマ原料ＳＡ，ＳＢを気化させる。その後、放電電極ＥＡ，ＥＢ間の放電領域Ｄの放電によってプラズマＰを発生させる。プラズマＰからはＥＵＶ光が放出される。
【0038】
利用装置１１０は、例えばリソグラフィに使用されるマスクの検査装置である。この場合、プラズマＰから放出されるＥＵＶ光の一部が出射口１６（光取出し部）から取り出され、マスク検査装置に導光される。マスク検査装置は、ＥＵＶ光源装置１００の出射口１６から放出されるＥＵＶ光を検査光として、マスクのブランクス検査またはパターン検査を行う。ＥＵＶ光を用いることにより、５ｎｍ～７ｎｍプロセスに対応することができる。
【0039】
本実施形態では、ＥＵＶ光は、プラズマから取り出される放射線に相当し、ＥＵＶ光源装置１００は、光源装置に相当する。また、マスク検査装置は、プラズマからの放射線を利用する利用装置の一例である。
【0040】
ＥＵＶ光源装置１００は、チャンバ本体１と、光源部２と、デブリトラップユニット３０と、図示しないデブリ収容部とを有する。光源部２は、チャンバ本体１内でＬＤＰ方式に基づいてＥＵＶ光を発生させる。デブリトラップユニット３０は、チャンバ本体１に装着され、光源部２から放射されるＥＵＶ光とともに飛散するデブリＤＢを捕捉するデブリ低減装置である。デブリ収容部は、光源部２で発生したデブリおよびデブリトラップユニット３０で捕捉されたデブリなどを収容する。
【0041】
（チャンバ本体）
チャンバ本体１は、プラズマＰを発生させ、プラズマＰからのＥＵＶ光を取り出すための減圧雰囲気を維持する真空筐体（真空チャンバ）の本体である。チャンバ本体１は、ＥＵＶ光を利用する利用装置１１０（マスク検査装置）と接続される。
図１に示すように、本実施形態では、チャンバ本体１は、光源チャンバ１１と、接続チャンバ１５とを備える。
チャンバ本体１は、プラズマＰを発生させ、プラズマＰからのＥＵＶ光を取り出すための減圧雰囲気を維持する真空筐体（真空チャンバ）の本体である。チャンバ本体１は、ＥＵＶ光を利用する利用装置１１０（マスク検査装置）と接続される。
図１に示すように、本実施形態では、チャンバ本体１は、光源チャンバ１１と、接続チャンバ１５とを備える。
【0042】
光源チャンバ１１は、内部で生成されるプラズマＰを外部と隔離する減圧容器である。光源チャンバ１１は、プラズマＰを生成する光源部２を収容するプラズマ生成室を形成する。光源チャンバ１１は、剛体、例えば、金属製の真空筐体であり、その内部は、プラズマ原料ＳＡ，ＳＢを加熱励起するための放電を良好に発生させ、ＥＵＶ光の減衰を抑制するために、図示しない真空ポンプにより所定圧力以下の減圧雰囲気に維持される。
光源チャンバ１１の側壁１１ａには、レーザビームＬＢを導入するための透明窓１２が設けられる。また光源チャンバ１１の側壁１１ｂには、接続チャンバ１５と連通する貫通孔１３が設けられる。
光源チャンバ１１の側壁１１ａには、レーザビームＬＢを導入するための透明窓１２が設けられる。また光源チャンバ１１の側壁１１ｂには、接続チャンバ１５と連通する貫通孔１３が設けられる。
【0043】
接続チャンバ１５は、光源チャンバ１１と利用装置１１０とを接続する減圧容器である。接続チャンバ１５は、光源チャンバ１１の側壁１１ｂに接続され、接続チャンバ１５の内部空間は、貫通孔１３を介して光源チャンバ１１の内部空間と連通する。接続チャンバ１５は、剛体、例えば、金属製の真空筐体であり、その内部は、光源チャンバ１１と同様、ＥＵＶ光の減衰を抑制するために所定圧力以下の減圧雰囲気に維持される。
【0044】
接続チャンバ１５は、出射口１６と、開口部１７とを有する。
出射口１６は、貫通孔１３から入射したＥＵＶ光を利用装置１１０へ導入するための光学窓であり、ＥＵＶ光源装置１００においてＥＵＶ光を取り出す光取り出し部として機能する。図１に示す例では、出射口１６は、接続チャンバ１５の側壁１５ａに設けられる。
開口部１７は、デブリトラップユニット３０が装着される装着口であり、出射口１６とは異なる位置に設けられる。図１では、開口部１７が点線の領域により模式的に図示されている。
出射口１６は、貫通孔１３から入射したＥＵＶ光を利用装置１１０へ導入するための光学窓であり、ＥＵＶ光源装置１００においてＥＵＶ光を取り出す光取り出し部として機能する。図１に示す例では、出射口１６は、接続チャンバ１５の側壁１５ａに設けられる。
開口部１７は、デブリトラップユニット３０が装着される装着口であり、出射口１６とは異なる位置に設けられる。図１では、開口部１７が点線の領域により模式的に図示されている。
【0045】
このように、チャンバ本体１（接続チャンバ１５）は、プラズマＰからのＥＵＶ光の出射口１６と、出射口１６とは異なる開口部１７とを有する。また、開口部１７には、後述するデブリトラップユニット３０が装着される。
なお、図１に示す例では、２つのチャンバ（光源チャンバ１１及び接続チャンバ１５）を接続してチャンバ本体１が構成されている。これに限定されず、例えばチャンバ本体１は、単一の部材を用いた真空筐体として構成されてもよいし、全体として１つの真空筐体が構成されるように２以上の部材を組み合わせてもよい。
なお、図１に示す例では、２つのチャンバ（光源チャンバ１１及び接続チャンバ１５）を接続してチャンバ本体１が構成されている。これに限定されず、例えばチャンバ本体１は、単一の部材を用いた真空筐体として構成されてもよいし、全体として１つの真空筐体が構成されるように２以上の部材を組み合わせてもよい。
【0046】
（光源部）
光源部２は、プラズマ原料をプラズマ化して、ＥＵＶ光を放出するプラズマＰを生成する。本実施形態では、光源部２は、プラズマ原料をプラズマ化するプラズマ生成部に相当する。
光源部２は、プラズマ原料をプラズマ化して、ＥＵＶ光を放出するプラズマＰを生成する。本実施形態では、光源部２は、プラズマ原料をプラズマ化するプラズマ生成部に相当する。
【0047】
光源部２は、一対の放電電極ＥＡ，ＥＢを備える。放電電極ＥＡ，ＥＢは、同形同大の円板状部材であり、例えば、放電電極ＥＡがカソードとして使用され、放電電極ＥＢがアノードとして使用される。放電電極ＥＡ，ＥＢは、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）またはタンタル（Ｔａ）などの高融点金属から形成される。放電電極ＥＡ，ＥＢは、互いに離隔した位置に配置され、放電電極ＥＡ，ＥＢの周縁部が近接している。このとき、プラズマＰが生成される放電領域Ｄは、放電電極ＥＡ，ＥＢの周縁部が互いに最も接近した放電電極ＥＡ，ＥＢ間の間隙に位置する。
【0048】
光源チャンバ１１の内部には、液相のプラズマ原料ＳＡが貯留されるコンテナＣＡと、液相のプラズマ原料ＳＢが貯留されるコンテナＣＢとが配置される。各コンテナＣＡ，ＣＢには、加熱された液相のプラズマ原料ＳＡ，ＳＢが供給される。液相のプラズマ原料ＳＡ，ＳＢは、例えば、スズ（Ｓｎ）であるが、リチウム（Ｌｉ）であってもよい。
【0049】
コンテナＣＡは、放電電極ＥＡの下部が液相のプラズマ原料ＳＡに浸されるようにプラズマ原料ＳＡを収容する。コンテナＣＢは、放電電極ＥＢの下部が液相のプラズマ原料ＳＢに浸されるようにプラズマ原料ＳＢを収容する。従って、放電電極ＥＡ，ＥＢの下部には、液相のプラズマ原料ＳＡ，ＳＢが付着する。放電電極ＥＡ，ＥＢの下部に付着した液相のプラズマ原料ＳＡ，ＳＢは、放電電極ＥＡ，ＥＢの回転に伴って、プラズマＰが生成される放電領域Ｄに輸送される。
【0050】
放電電極ＥＡは、モータＭＡの回転軸ＪＡに連結され、放電電極ＥＡの軸線周りに回転する。放電電極ＥＢは、モータＭＢの回転軸ＪＢに連結され、放電電極ＥＢの軸線周りに回転する。モータＭＡ，ＭＢは、光源チャンバ１１の外部に配置され、各モータＭＡ，ＭＢの回転軸ＪＡ，ＪＢは、光源チャンバ１１を貫通して外部から内部に延びる。回転軸ＪＡと光源チャンバ１１の壁の間の隙間は、シール部材ＰＡで封止され、回転軸ＪＢと光源チャンバ１１の壁の間の隙間は、シール部材ＰＢで封止される。シール部材ＰＡ，ＰＢは、例えば、メカニカルシールである。各シール部材ＰＡ，ＰＢは、光源チャンバ１１内の減圧雰囲気を維持しつつ、回転軸ＪＡ，ＪＢを回転自在に支持する。
【0051】
ＥＵＶ光源装置１００は、制御部２０と、パルス電力供給部２１と、レーザ源（エネルギービーム照射装置）２２と、可動ミラー２３をさらに備える。制御部２０、パルス電力供給部２１、レーザ源２２、及び可動ミラー２３は、光源チャンバ１１の外部に設置される。制御部２０は、後述するように、ＥＵＶ光源装置１００の各部の動作を制御する。例えば、制御部２０は、モータＭＡ，ＭＢの回転駆動を制御し、放電電極ＥＡ，ＥＢを所定の回転数で回転させる。また、制御部２０は、パルス電力供給部２１の動作、レーザ源２２からのレーザビームＬＢの照射タイミングなどを制御する。
【0052】
パルス電力供給部２１から延びる２つの給電線ＱＡ，ＱＢは、フィードスルーＦＡ，ＦＢを通過して、光源チャンバ１１の内部に配置されたコンテナＣＡ，ＣＢにそれぞれ接続される。フィードスルーＦＡ，ＦＢは、光源チャンバ１１の壁に埋設されて光源チャンバ１１内の減圧雰囲気を維持するシール部材である。コンテナＣＡ，ＣＢは、導電性材料から形成され、各コンテナＣＡ，ＣＢの内部に収容されるプラズマ原料ＳＡ，ＳＢもスズなどの導電性材料である。各コンテナＣＡ，ＣＢの内部に収容されているプラズマ原料ＳＡ，ＳＢには、放電電極ＥＡ，ＥＢの下部がそれぞれ浸されている。従って、パルス電力供給部２１からパルス電力がコンテナＣＡ，ＣＢに供給されると、そのパルス電力は、プラズマ原料ＳＡ，ＳＢをそれぞれ介して放電電極ＥＡ，ＥＢに供給される。
【0053】
パルス電力供給部２１は、放電電極ＥＡ，ＥＢへパルス電力を供給することにより、放電領域Ｄで放電を発生させる。そして、各放電電極ＥＡ，ＥＢの回転に基づいて放電領域Ｄに輸送されたプラズマ原料ＳＡ，ＳＢが放電時に放電電極ＥＡ，ＥＢ間に流れる電流により加熱励起されることで、ＥＵＶ光を放出するプラズマＰが生成される。
【0054】
レーザ源２２は、放電領域Ｄに輸送された放電電極ＥＡに付着したプラズマ原料ＳＡにエネルギービームを照射して、当該プラズマ原料ＳＡを気化させる。レーザ源２２は、例えば、Ｎｄ：ＹＶＯ４（Neodymium-doped Yttrium Orthovanadate）レーザ装置である。このとき、レーザ源２２は、波長１０６４ｎｍの赤外領域のレーザビームＬＢを発する。ただし、エネルギービーム照射装置は、プラズマ原料ＳＡの気化が可能であれば、レーザビームＬＢ以外のエネルギービームを発する装置であってもよい。
【0055】
レーザ源２２から放出されたレーザビームＬＢは、例えば、集光レンズ２４を含む集光手段を介して可動ミラー２３に導かれる。集光手段は、放電電極ＥＡのレーザビーム照射位置におけるレーザビームＬＢのスポット径を調整する。集光レンズ２４および可動ミラー２３は、光源チャンバ１１の外部に配置される。
【0056】
集光レンズ２４で集光されたレーザビームＬＢは、可動ミラー２３により反射され、光源チャンバ１１の側壁１１ａに設けられた透明窓１２を通過して、放電領域Ｄ付近の放電電極ＥＡの周縁部に照射される。可動ミラー２３の姿勢を調整することにより、放電電極ＥＡにおけるレーザビームＬＢの照射位置が調整される。なお、可動ミラー２３の姿勢の調整は、作業員が手動で実施してもよいし、後述する検出センサ８２からのＥＵＶ光の強度情報に基づき、制御部２０が可動ミラー２３の姿勢制御を行ってもよい。この場合、可動ミラー２３は、図示を省略した可動ミラー駆動部により駆動される。
【0057】
放電領域Ｄ付近の放電電極ＥＡの周縁部にレーザビームＬＢを照射するのを容易にするため、放電電極ＥＡ，ＥＢの軸線は平行ではない。回転軸ＪＡ，ＪＢの間隔は、モータＭＡ，ＭＢ側が狭く、放電電極ＥＡ，ＥＢ側が広くなっている。これにより、放電電極ＥＡ，ＥＢの対向面側を接近させつつ、放電電極ＥＡ，ＥＢの対向面側とは反対側をレーザビームＬＢの照射経路から退避させることができ、放電領域Ｄ付近の放電電極ＥＡの周縁部にレーザビームＬＢを照射するのを容易にすることができる。
【0058】
放電電極ＥＢは、放電電極ＥＡと可動ミラー２３との間に配置される。可動ミラー２３で反射されたレーザビームＬＢは、放電電極ＥＢの外周面付近を通過した後、放電電極ＥＡの外周面に到達する。このとき、レーザビームＬＢが放電電極ＥＢで遮光されないように、放電電極ＥＢは、放電電極ＥＡよりも、モータＭＢ側の方向（図１の左側）に退避される。放電領域Ｄ付近の放電電極ＥＡの外周面に付着された液相のプラズマ原料ＳＡは、レーザビームＬＢの照射により気化され、気相のプラズマ原料ＳＡとして放電領域Ｄに供給される。
【0059】
放電領域ＤでプラズマＰを発生させるため（気相のプラズマ原料ＳＡをプラズマ化するため）、パルス電力供給部２１は、放電電極ＥＡ，ＥＢに電力を供給する。そして、レーザビームＬＢの照射により放電領域Ｄに気相のプラズマ原料ＳＡが供給されると、放電領域Ｄにおける放電電極ＥＡ，ＥＢ間で放電が生じる。放電電極ＥＡ、ＥＢ間で放電が発生すると、放電領域Ｄにおける気相のプラズマ材料ＳＡが電流により加熱励起されて、プラズマＰが発生する。生成されたプラズマＰから放射されるＥＵＶ光は、光源チャンバ１１の側壁１１ｂに設けられた貫通孔１３を通って接続チャンバ１５へ入射する。
【0060】
［デブリトラップユニットの構成］
図２は、第１の実施形態に係るデブリトラップユニットの構成例を示す模式図である。図３は、デブリトラップユニットを取り外した状態を示す模式図である。図２及び図３は、図１に示すＥＵＶ光源装置１００を鉛直方向に切断したときの断面図である。ここでは、プラズマＰを発生させる光源部２の図示が省略されている。
図２は、第１の実施形態に係るデブリトラップユニットの構成例を示す模式図である。図３は、デブリトラップユニットを取り外した状態を示す模式図である。図２及び図３は、図１に示すＥＵＶ光源装置１００を鉛直方向に切断したときの断面図である。ここでは、プラズマＰを発生させる光源部２の図示が省略されている。
【0061】
まず図２を参照して、デブリトラップユニット３０が装着される接続チャンバ１５（チャンバ本体１）の構成について説明する。
上記したように、接続チャンバ１５には、ＥＵＶ光の出射口１６と、デブリトラップユニット３０が装着される開口部１７とが設けられる。
上記したように、接続チャンバ１５には、ＥＵＶ光の出射口１６と、デブリトラップユニット３０が装着される開口部１７とが設けられる。
【0062】
出射口１６は、典型的には貫通孔であり、利用装置１１０の外側に設けられたＥＵＶ光の入射口１１１に接続される。この場合、接続チャンバ１５の内部空間は、出射口１６を介して利用装置１１０の内部空間と連通する。
図２に示す例では、接続チャンバ１５の側壁１５ａの下側に出射口１６が設けられ、出射口１６からは、プラズマＰから図中の右下方に進行するＥＵＶ光が取り出される。また出射口１６と利用装置１１０の入射口１１１とをつなぐ接続フランジ１８が設けられる。出射口１６及び接続フランジ１８の開口径は、利用装置１１０に出射するＥＵＶ光のビーム径等に応じて適宜設定される。
図２に示す例では、接続チャンバ１５の側壁１５ａの下側に出射口１６が設けられ、出射口１６からは、プラズマＰから図中の右下方に進行するＥＵＶ光が取り出される。また出射口１６と利用装置１１０の入射口１１１とをつなぐ接続フランジ１８が設けられる。出射口１６及び接続フランジ１８の開口径は、利用装置１１０に出射するＥＵＶ光のビーム径等に応じて適宜設定される。
【0063】
なお、出射口１６には、例えばＥＵＶ光を通過させる光学フィルタ等の透明部材が設けられてもよい。また、接続チャンバ１５から利用装置１１０までの経路を開閉するバルブやゲート等が設けられてもよい。このような構成により、ＥＵＶ光源装置１００側の減圧雰囲気と利用装置１１０側の減圧雰囲気とを独立に操作することが可能となる。これにより、例えば利用装置１１０内の減圧雰囲気を維持しつつ、接続チャンバ１５を大気開放するといったことが可能となり、メンテナンスが容易になる。
【0064】
開口部１７は、デブリトラップユニット３０の中身が出し入れ可能なように接続チャンバ１５に設けられる。図２に示すように、本実施形態では、接続チャンバ１５の上方から出射口１６が設けられる側壁１５ａにかけて開口部１７が設けられる。開口部１７の形状、サイズ、位置等は限定されず、ＥＵＶ光の光路や、光源部２及びデブリトラップユニット３０の構成等に応じて適宜設定されてよい。
【0065】
デブリトラップユニット３０は、接続チャンバ１５（チャンバ本体１）の開口部１７に装着され、プラズマＰから放散されるデブリＤＢを捕捉する。つまり、デブリトラップユニット３０は、チャンバ本体１に装着して用いられるデブリ低減装置ＤＭＴである。デブリトラップユニット３０は、着脱部材３１と、ホイルトラップＦＴと、回転軸３２と、回転駆動部３３とを有する。
【0066】
（着脱部材）
着脱部材３１は、開口部１７を覆い、かつ、接続チャンバ１５（チャンバ本体１）に着脱自在に構成された部材である。すなわち着脱部材３１は、開口部１７を塞ぐ蓋として機能するとともに、接続チャンバ１５により構成される真空筐体の外壁としても機能する。以下では、着脱部材３１のチャンバ内に向けられる側を、着脱部材３１の内側と記載し、その反対側を着脱部材３１の外側と記載する。
着脱部材３１は、開口部１７を覆い、かつ、接続チャンバ１５（チャンバ本体１）に着脱自在に構成された部材である。すなわち着脱部材３１は、開口部１７を塞ぐ蓋として機能するとともに、接続チャンバ１５により構成される真空筐体の外壁としても機能する。以下では、着脱部材３１のチャンバ内に向けられる側を、着脱部材３１の内側と記載し、その反対側を着脱部材３１の外側と記載する。
【0067】
着脱部材３１は、金属製の構造部材であり、接続チャンバ１５の内部の減圧雰囲気を維持しつつ、ホイルトラップＦＴ、回転軸３２、及び回転駆動部３３を支持することが可能なように構成される。着脱部材３１を構成する材料としては、アルミ等が用いられる。また着脱部材３１と接続チャンバ１５とが接触する部位には、リークを回避し減圧雰囲気を維持するために図示を省略したシール部材が設けられる。
【0068】
図２に示す例では、接続チャンバ１５の上方から側方にかけて設けられた開口部１７を覆うように、断面形状がＬ字型の着脱部材３１が装着されている。着脱部材３１は、典型的には、ネジ止めにより接続チャンバ１５に固定される。
着脱部材３１の具体的な形状は限定されない。例えば、図２に示す接続チャンバ１５が全体として有底の円筒形状である場合、着脱部材３１は円筒の側面及び底面を含む部分を切り出した形状となる。また接続チャンバ１５が全体として直方体形状である場合、着脱部材３１は直交する２つの面を含むように直方体を切り出したＬ字型の形状となる。また開口部１７が平面上に設けられる場合には、着脱部材３１は、開口部１７を塞ぐ平板状の部材となる。
着脱部材３１の具体的な形状は限定されない。例えば、図２に示す接続チャンバ１５が全体として有底の円筒形状である場合、着脱部材３１は円筒の側面及び底面を含む部分を切り出した形状となる。また接続チャンバ１５が全体として直方体形状である場合、着脱部材３１は直交する２つの面を含むように直方体を切り出したＬ字型の形状となる。また開口部１７が平面上に設けられる場合には、着脱部材３１は、開口部１７を塞ぐ平板状の部材となる。
【0069】
また着脱部材３１は、接続チャンバ１５（チャンバ本体１）に対する装着位置をガイドするガイド機構３４を有する。図２に示す例では、ガイド機構３４として、互いに篏合するように構成されたガイドピン３４ａとガイド穴３４ｂが用いられる。例えば、接続チャンバ１５の外側で着脱部材３１と接触する位置にガイドピン３４ａが設けられる。そして、着脱部材３１の内側には、各ガイドピン３４ａが挿入されるガイド穴３４ｂが設けられる。なおガイド機構３４の具体的な構成は限定されず、例えば互いに篏合するように構成されたスリット及びリブ等が用いられてもよい。
【0070】
ガイド機構３４を設けることで、着脱部材３１を所定の装着位置に精度よく装着することが可能となる。また、着脱部材３１を装着する際に装着位置の調整等をほとんど行わなくてよい。このため、例えば位置合わせのために着脱部材３１をずらすことでシール部材を破損するといった事態を回避することが可能となる。
なおガイド機構３４は、必ずしも設ける必要はない。
なおガイド機構３４は、必ずしも設ける必要はない。
【0071】
また着脱部材３１には、貫通孔３５が設けられる。この貫通孔３５は、回転軸３２を通すための穴である。この他、着脱部材３１の外側には、デブリトラップユニット３０全体を支えるための取手等が設けられてもよい。
【0072】
（ホイルトラップ）
光源部２で生成されるプラズマＰからはＥＵＶ光とともにデブリＤＢが高速で様々な方向に放散される。デブリＤＢは、プラズマ原料ＳＡ、ＳＢであるスズ粒子およびプラズマＰの発生に伴いスパッタリングされる放電電極ＥＡ、ＥＢの材料粒子を含む。これらのデブリＤＢは、プラズマＰの収縮および膨張過程を経て、大きな運動エネルギーを得る。すなわち、プラズマＰから発生するデブリＤＢは、高速で移動するイオン、中性粒子および電子を含む。このようなデブリＤＢは、利用装置１１０に到達すると、利用装置１１０内の光学素子の反射膜等を損傷または汚染させ、性能を低下させることがある。
光源部２で生成されるプラズマＰからはＥＵＶ光とともにデブリＤＢが高速で様々な方向に放散される。デブリＤＢは、プラズマ原料ＳＡ、ＳＢであるスズ粒子およびプラズマＰの発生に伴いスパッタリングされる放電電極ＥＡ、ＥＢの材料粒子を含む。これらのデブリＤＢは、プラズマＰの収縮および膨張過程を経て、大きな運動エネルギーを得る。すなわち、プラズマＰから発生するデブリＤＢは、高速で移動するイオン、中性粒子および電子を含む。このようなデブリＤＢは、利用装置１１０に到達すると、利用装置１１０内の光学素子の反射膜等を損傷または汚染させ、性能を低下させることがある。
【0073】
そこで、デブリトラップユニット３０には、デブリＤＢが利用装置１１０に侵入しないようにするため、ホイルトラップＦＴが設けられる。ホイルトラップＦＴは、接続チャンバ１５（チャンバ本体１）の内部に配置され、複数のホイルＦを用いてプラズマＰからのデブリＤＢを捕捉するデブリトラップである。ホイルトラップＦＴを用いることで、例えばｍｍサイズの大きなデブリから、原子サイズの小さなデブリまでを捕捉することが可能となる。本実施形態では、複数のホイルＦで構成され、デブリＤＢを捕捉する部分を指してホイルトラップＦＴと記載する。
【0074】
ホイルトラップＦＴは、着脱部材３１が接続チャンバ１５（チャンバ本体１）に装着された状態で、プラズマＰから出射口１６までのＥＵＶ光の経路上に複数のホイルＦが配置されるように、着脱部材３１に接続される。
【0075】
ここで、プラズマＰから出射口１６までのＥＵＶ光の経路とは、出射口１６から出射されるＥＵＶ光が通る経路である。図２に示す例では、プラズマＰから出射口１６を直接つなぐ直線状の経路が形成される。この経路上に複数のホイルＦが配置される。
なお複数のホイルＦは、プラズマＰと出射口１６とを結ぶ直線上に配置されるとは限らない。例えば、接続チャンバ１５内にＥＵＶ光の出射方向を変えるための反射ミラー等を設ける場合がある。この場合、プラズマＰと反射ミラーとの間のＥＵＶ光の経路上に複数のホイルＦが配置され、反射ミラーに向かうデブリＤＢが捕捉される。
なお複数のホイルＦは、プラズマＰと出射口１６とを結ぶ直線上に配置されるとは限らない。例えば、接続チャンバ１５内にＥＵＶ光の出射方向を変えるための反射ミラー等を設ける場合がある。この場合、プラズマＰと反射ミラーとの間のＥＵＶ光の経路上に複数のホイルＦが配置され、反射ミラーに向かうデブリＤＢが捕捉される。
【0076】
またホイルトラップＦＴが、着脱部材３１に接続されることは、複数のホイルＦからなるホイルトラップＦＴが、着脱部材３１に直接的又は間接的に接続されることを意味する。典型的には、１つ以上の部材を介してホイルトラップＦＴと着脱部材３１とが間接的に接続されるが、例えばホイルトラップＦＴが着脱部材３１に直接接続される構成も考えられる。
ホイルトラップＦＴと着脱部材３１とが互いに接続されることで、着脱部材３１と一緒にホイルトラップＦＴも着脱することが可能となる。
ホイルトラップＦＴと着脱部材３１とが互いに接続されることで、着脱部材３１と一緒にホイルトラップＦＴも着脱することが可能となる。
【0077】
ホイルトラップＦＴとしては、複数のホイルＦがデブリと能動的に衝突する作用を加えた回転式ホイルトラップと、複数のホイルＦの位置が固定された固定式ホイルトラップとが挙げられる。回転式ホイルトラップは、ＲＦＴ（Rotating Foil Trap）ともいう。また固定式ホイルトラップは、ＳＦＴ（Static Foil Trap）ともいう。
図２では、デブリトラップユニット３０の一例として、回転式ホイルトラップ３６だけが搭載される場合について説明する。なお、回転式ホイルトラップ３６と固定式ホイルトラップとの両方を搭載したデブリトラップユニット（図７等参照）や、固定式ホイルトラップだけを搭載したデブリトラップユニットが構成されてもよい。
図２では、デブリトラップユニット３０の一例として、回転式ホイルトラップ３６だけが搭載される場合について説明する。なお、回転式ホイルトラップ３６と固定式ホイルトラップとの両方を搭載したデブリトラップユニット（図７等参照）や、固定式ホイルトラップだけを搭載したデブリトラップユニットが構成されてもよい。
【0078】
（回転式ホイルトラップ）
図４は、回転式ホイルトラップ３６の構成例を示す模式的な断面図である。図５は、回転式ホイルトラップ３６の構成例を示す模式的な正面図である。図４及び図５に示すように、回転式ホイルトラップ３６は、複数のホイル（ブレード）Ｆと、中心支柱３７と、外側リング３８とを有する。
図４は、回転式ホイルトラップ３６の構成例を示す模式的な断面図である。図５は、回転式ホイルトラップ３６の構成例を示す模式的な正面図である。図４及び図５に示すように、回転式ホイルトラップ３６は、複数のホイル（ブレード）Ｆと、中心支柱３７と、外側リング３８とを有する。
【0079】
複数のホイルＦは、薄膜または薄い平板である。中心支柱３７は、複数のホイルＦを放射状に支持する部材である。外側リング３８は、中心支柱３７に同心に配置され、中心支柱３７から放射状に延びる各ホイルＦの先端に接続される。本実施形態では、中心支柱３７は、回転部材に相当する。
各ホイルＦは、ほぼ等しい角間隔をおいて中心支柱３７の周りに放射状に配置される。この時、各ホイルＦは、中心支柱３７の中心軸線Ｃ０を含む平面上にある。回転式ホイルトラップ３６の材料は、例えば、タングステン（Ｗ）またはモリブデン（Ｍｏ）などの高融点金属である。
各ホイルＦは、ほぼ等しい角間隔をおいて中心支柱３７の周りに放射状に配置される。この時、各ホイルＦは、中心支柱３７の中心軸線Ｃ０を含む平面上にある。回転式ホイルトラップ３６の材料は、例えば、タングステン（Ｗ）またはモリブデン（Ｍｏ）などの高融点金属である。
【0080】
図５に示すように、回転式ホイルトラップ３６の複数のホイルＦは、プラズマＰ（発光点）から出射口１６に向かうＥＵＶ光を遮らないように、ＥＵＶ光の光線方向に平行に配置される。すなわち、各ホイルＦが中心支柱３７の中心軸線Ｃ０を含む平面上に配置された回転式ホイルトラップ３６は、中心支柱３７の中心軸線Ｃ０の延長線上にプラズマＰ（発光点）が存在するように配置される（図２参照）。これにより、中心支柱３７および外側リング３８を除けば、ＥＵＶ光は各ホイルＦの厚みの分のみ遮光され、回転式ホイルトラップ３６を通過するＥＵＶ光の割合（透過率ともいう）を最大にすることが可能となる。
【0081】
（回転軸）
図２に戻り、回転軸３２は、円柱上の長手部材であり、回転式ホイルトラップ３６の中心支柱３７に接続される。本実施形態では、回転軸３２は、軸部に相当する。
本実施形態では、回転軸３２は、着脱部材３１の貫通孔３５を通るように配置される。着脱部材３１の内側に配置される回転軸３２の端部には、回転式ホイルトラップ３６の中心支柱３７が接続される。具体的には、回転軸３２の中心軸線と、中心支柱３７の中心軸線Ｃ０とが合致するように、回転軸３２と中心支柱３７とが接続される。また、着脱部材３１の内側に配置される回転軸３２の端部（回転式ホイルトラップ３６が接続される側とは反対側の端部）には、回転駆動部３３が接続される。
図２に戻り、回転軸３２は、円柱上の長手部材であり、回転式ホイルトラップ３６の中心支柱３７に接続される。本実施形態では、回転軸３２は、軸部に相当する。
本実施形態では、回転軸３２は、着脱部材３１の貫通孔３５を通るように配置される。着脱部材３１の内側に配置される回転軸３２の端部には、回転式ホイルトラップ３６の中心支柱３７が接続される。具体的には、回転軸３２の中心軸線と、中心支柱３７の中心軸線Ｃ０とが合致するように、回転軸３２と中心支柱３７とが接続される。また、着脱部材３１の内側に配置される回転軸３２の端部（回転式ホイルトラップ３６が接続される側とは反対側の端部）には、回転駆動部３３が接続される。
【0082】
またデブリトラップユニット３０は、メカニカルシール３９で回転軸３２を受ける構造となっている。図２に示すように、着脱部材３１に設けられる貫通孔３５は、回転軸３２の直径よりも大きく設計される。回転軸３２と貫通孔３５と間の隙間は、メカニカルシール３９で封止される。メカニカルシール３９は、接続チャンバ１５内の減圧雰囲気を維持しつつ、モータ４０の回転軸３２を回転自在に支持する。
【0083】
（回転駆動部）
回転駆動部３３は、回転軸３２を回転させる駆動機構であり、回転式ホイルトラップ３６の回転を制御する制御ユニットとして機能する。例えば、回転駆動部３３により、回転式ホイルトラップ３６の回転数等が適宜制御される。また回転駆動部３３は、着脱部材３１に対して自身が回転しないように、図示しない固定部材により着脱部材３１の外側に固定される。
回転駆動部３３は、モータ４０と、図示を省略した冷却機構とを有する。
回転駆動部３３は、回転軸３２を回転させる駆動機構であり、回転式ホイルトラップ３６の回転を制御する制御ユニットとして機能する。例えば、回転駆動部３３により、回転式ホイルトラップ３６の回転数等が適宜制御される。また回転駆動部３３は、着脱部材３１に対して自身が回転しないように、図示しない固定部材により着脱部材３１の外側に固定される。
回転駆動部３３は、モータ４０と、図示を省略した冷却機構とを有する。
【0084】
モータ４０は、回転軸３２に接続され、回転軸３２をその中心軸線の周りに回転させる。従って、モータ４０の回転軸３２は、回転式ホイルトラップ３６の回転軸とみなすことができる。モータ４０としては、例えば回転軸３２が回転子に直結された電動モータ等が用いられるが、例えば回転子と回転軸３２との間にギヤ等の変速機構が設けられてもよい。
【0085】
回転式ホイルトラップ３６は、モータ４０に駆動されて回転する。これにより、回転する複数のホイルＦは、プラズマＰから到来するデブリＤＢに衝突して、デブリＤＢを捕捉する。これにより、プラズマＰからのデブリＤＢが利用装置１１０に侵入するのを阻止することが可能となる。
【0086】
冷却機構は、回転式ホイルトラップ、回転軸３２、及びモータ４０を冷却する。
本実施形態では、水冷配管４１から供給される冷却水等の冷媒を利用した冷却機構が設けられる。回転駆動部３３の外側には、水冷配管４１から冷却水が供給される入水口４２と、冷却水を水冷配管４１に戻すための出水口４３とが設けられる。入水口４２及び出水口４３は、冷却機構に接続される。また水冷配管４１と入水口４２（出水口４３）との接続には、カプラ等が用いられる。これにより、水冷配管４１の取り外しが容易になる。
本実施形態では、水冷配管４１から供給される冷却水等の冷媒を利用した冷却機構が設けられる。回転駆動部３３の外側には、水冷配管４１から冷却水が供給される入水口４２と、冷却水を水冷配管４１に戻すための出水口４３とが設けられる。入水口４２及び出水口４３は、冷却機構に接続される。また水冷配管４１と入水口４２（出水口４３）との接続には、カプラ等が用いられる。これにより、水冷配管４１の取り外しが容易になる。
【0087】
例えば、回転式ホイルトラップ３６は、プラズマＰからの放射により高温となる。このため、回転式ホイルトラップ３６の過熱を防止するために、回転軸３２を冷却する冷却機構が設けられる。このような冷却機構として、例えば、回転軸３２を中空にして冷却水等の冷媒の循環通路が形成される。この循環通路に水冷配管４１から供給される冷却水を通すことで、回転軸３２と、それに接続される回転式ホイルトラップ３６とを冷却することができる。また、回転時のモータ４０自体も発熱するため、モータ４０の周囲に冷却水を通す配管を巻き付けて除熱してもよい。
【0088】
このように、本実施形態に係るデブリトラップユニット３０では、モータ４０は、着脱部材３１の外側に接続され、回転軸３２は、着脱部材３１を貫通し、回転式ホイルトラップの中心支柱３７（回転部材）は、着脱部材３１の内側で回転軸３２に接続される。
【0089】
このような構成とすることにより、回転駆動部３３をチャンバ内に配置する必要がなくなり、接続チャンバ１５を小型化することが可能となる。またプラズマＰから出射口１６までのＥＵＶ光の経路を短くすることが可能となるため、ＥＵＶ光のビーム径の広がりを抑えることが可能となる。この結果、利用装置１１０に設けられる光学系をコンパクトに構成することが可能となる。
【0090】
図３には、デブリトラップユニット３０を接続チャンバ１５（チャンバ本体１）から取り外した状態が模式的に図示されている。デブリトラップユニット３０を取り外す場合には、ＥＵＶ光源装置１００の動作を停止した後で、接続チャンバ１５内が大気圧に戻される。その後、着脱部材３１を固定するネジ等を外して、接続チャンバ１５から着脱部材３１が取り外される。この時、着脱部材３１と一緒に回転式ホイルトラップ３６も取り外される。
【0091】
このように、デブリトラップユニット３０は、ホイルトラップＦＴをチャンバ本体１である接続チャンバ１５の蓋となる着脱部材３１とユニット化して真空筐体の側面から取り外すことが可能な構成となっている。これにより、例えば光源部２を構成する部材（放電電極ＥＡ及びＥＢや、コンテナＣＡ及びＣＢ等）を取り外すことなく、接続チャンバ１５内に配置されるホイルトラップＦＴを容易に取り外すことが可能となる。また、光源部２を分解する必要がないため、ＥＵＶ光の光軸の調整等を行う必要がない。この結果、メンテナンスの作業時間を十分に短縮することが可能となり、ＥＵＶ光源装置１００の稼働率を向上することが可能となる。
【0092】
［着脱部材と回転駆動部との接続を補強した構成例］
図６は、デブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。
図６に示すデブリトラップユニット５０は、着脱部材５１と、回転式ホイルトラップ５６と、回転軸５２と、回転駆動部５３と、補強部材５４とを有する。デブリトラップユニット５０は、図２及び図３に示すデブリトラップユニット３０と比べ、着脱部材と回転駆動部との接続部分の構成が異なる。なお図６では、ガイド機構が省略されている。
図６は、デブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。
図６に示すデブリトラップユニット５０は、着脱部材５１と、回転式ホイルトラップ５６と、回転軸５２と、回転駆動部５３と、補強部材５４とを有する。デブリトラップユニット５０は、図２及び図３に示すデブリトラップユニット３０と比べ、着脱部材と回転駆動部との接続部分の構成が異なる。なお図６では、ガイド機構が省略されている。
【0093】
着脱部材５１は、回転駆動部５３が接続される部分の剛性を補強する補強部５５を有する。補強部５５は、着脱部材５１そのものの剛性を補強する構造部であり、回転駆動部５３が接続される部分に設けられる。すなわち、補強部５５は、回転駆動部５３の荷重が加わる部分の変形等を抑制する構造であるともいえる。
【0094】
図６では、補強部５５として、着脱部材５１の厚みを大きくした肉厚構造が設けられる。ここでは、回転式ホイルトラップ５６（回転軸５２）の中心軸線Ｃ０が水平面に対して傾斜して設定される。この場合、回転駆動部５３も水平面に対して傾斜して配置される。このような場合、回転駆動部５３が接続される着脱部材５１の外側の面（接続面５１ａ）が、中心軸線Ｃ０と直交する傾斜面として構成される。このように、接続面５１ａを傾斜させることで、図６に示すように、着脱部材５１の内側の面と接続面５１ａとの間に、厚みが大きくなった補強部５５が構成される。なお、補強部５５の構造は限定されず、例えば補強部５５として、着脱部材５１の内側の面にリブ構造を設けてもよい。
【0095】
接続面５１ａの直下に補強部５５を設けることで、回転駆動部５３から接続面５１ａに加わる荷重により、着脱部材５１が変形するといった事態を回避することが可能となる。また、回転駆動部５３を安定して固定することが可能となる。
【0096】
補強部材５４は、着脱部材５１とは別の部材として構成され、着脱部材５１に回転駆動部５３を固定する部材である。補強部材５４は、金属製の構造部材であり、例えば着脱部材５１よりも剛性の高い材料で構成される。着脱部材５１がアルミ製である場合には、例えばステンレス製の補強部材５４が用いられる。なお、補強部材５４及び着脱部材５１は、同じ材質であってもよい。
【0097】
回転式ホイルトラップ５６の回転軸５２の後部には、その回転を制御する回転駆動部５３が接続される。回転駆動部５３の内部には、回転軸５２や回転式ホイルトラップ５６等の熱を冷却するために、冷却水を循環させる冷却機構が設けられる。このため、回転駆動部５３において、冷却機構が収納されている筐体は、回転軸５２の直径よりも大きくなっている。このため、回転駆動部５３の筐体を固定する方が、図２に示すように回転軸５２をメカニカルシールで受ける構造に比べ、回転駆動部５３を安定して固定することが可能である。
【0098】
補強部材５４は、着脱部材５１の接続面５１ａと、回転駆動部５３との間に配置され、回転駆動部５３を受ける台座として機能する。補強部材５４には、回転軸５２を通す貫通孔５７と、回転駆動部５３の筐体を嵌め込むことが可能な窪み部５８とが形成される。補強部材５４は、窪み部５８を外側に向けて着脱部材５１の接続面５１ａにネジ止め等により固定される。また回転駆動部５３は、補強部材５４の窪み部５８に嵌め込まれた状態で、補強部材５４にネジ止め等により固定される。
このように、図６では、接続チャンバ１５に対して取り外し可能な着脱部材５１に固定する補強部材５４を設け、その補強部材５４に備え付ける形で、回転軸５２を支えている回転駆動部５３が固定される。
このように、図６では、接続チャンバ１５に対して取り外し可能な着脱部材５１に固定する補強部材５４を設け、その補強部材５４に備え付ける形で、回転軸５２を支えている回転駆動部５３が固定される。
【0099】
このように、図６では、着脱部材５１に設けられた補強部５５と、着脱部材５１とは別に構成された補強部材５４とを用いて、着脱部材５１と回転駆動部５３との接続が補強される。なお、着脱部材５１と回転駆動部５３との接続を補強するための構成は限定されない。例えば、着脱部材５１の補強部５５と、補強部材５４とのどちらか一方だけが設けられてもよい。
例えば、補強部材５４が無くてもよい。この場合、着脱部材５１には、傾斜した接続面５１ａを備える補強部５５（肉厚構造等）が設けられ、回転駆動部５３が接続面５１ａに対して直接固定される。なお、接続面５１ａには、回転駆動部５３を受けるための窪み等が形成されてもよい。
また例えば、着脱部材５１の補強部５５（肉厚構造等）が無くてもよい。この場合、着脱部材５１は、例えば図２に示す着脱部材３１のように構成され、接続面５１ａは鉛直方向に沿った平面となる。補強部材５４は、このように鉛直方向に沿った接続面５１ａに対して、回転駆動部５３を傾斜した状態で支持するように構成される。
例えば、補強部材５４が無くてもよい。この場合、着脱部材５１には、傾斜した接続面５１ａを備える補強部５５（肉厚構造等）が設けられ、回転駆動部５３が接続面５１ａに対して直接固定される。なお、接続面５１ａには、回転駆動部５３を受けるための窪み等が形成されてもよい。
また例えば、着脱部材５１の補強部５５（肉厚構造等）が無くてもよい。この場合、着脱部材５１は、例えば図２に示す着脱部材３１のように構成され、接続面５１ａは鉛直方向に沿った平面となる。補強部材５４は、このように鉛直方向に沿った接続面５１ａに対して、回転駆動部５３を傾斜した状態で支持するように構成される。
【0100】
例えば、デブリトラップユニット５０には、直径や幅のサイズが比較的大きい回転式ホイルトラップ５６が搭載される。図６では、図２に示す回転式ホイルトラップ５６よりも直径の大きい回転式ホイルトラップ５６が模式的に図示されている。回転式ホイルトラップ５６のサイズが大きい場合、回転駆動部５３が大きくなることが考えられる。また回転式ホイルトラップ５６のサイズが大きいことで、回転時の振動や装置のブレが増大する可能性もある。
【0101】
これに対し、図６では、着脱部材５１の剛性が補強された補強部５５の上に、回転駆動部５３の筐体を抑える補強部材５４が設けられる。これにより、回転式ホイルトラップ５６を安定に運転させるための冷却機構等が収納された部位（回転駆動部５３の筐体）を機械的に安定に座らせることが可能となる。この結果、大型の回転式ホイルトラップ５６を用いる場合でも、振動や装置のブレを抑え安定に動作させることが可能となる。
なお図６を参照して説明した構成は、比較的サイズの小さい回転式ホイルトラップを用いる場合にも有効である。
なお図６を参照して説明した構成は、比較的サイズの小さい回転式ホイルトラップを用いる場合にも有効である。
【0102】
［固定式ホイルトラップを含む構成例］
図７は、デブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。デブリトラップユニット６０には、回転式ホイルトラップに加え、固定式ホイルトラップが設けられる。
図７は、デブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。デブリトラップユニット６０には、回転式ホイルトラップに加え、固定式ホイルトラップが設けられる。
【0103】
図７に示すデブリトラップユニット６０は、着脱部材６１と、回転式ホイルトラップ６６と、回転軸６２と、回転駆動部６３と、補強部材６４と、固定式ホイルトラップ６７と、ガス導入管６９と、を有する。着脱部材６１、回転軸６２、回転駆動部６３、及び補強部材６４は、図６に示す着脱部材５１、回転軸５２、回転駆動部５３、及び補強部材５４と同様に構成される。また、回転式ホイルトラップ６６として、図２に示す回転式ホイルトラップ３６が用いられているが、図６に示す比較的サイズの大きい回転式ホイルトラップ５６が用いられてもよい。
【0104】
固定式ホイルトラップ６７は、複数のホイルＦを固定したホイルトラップＦＴである。固定式ホイルトラップ６７は、プラズマＰから接続チャンバ１５（チャンバ本体１）の出射口１６へと進行するＥＵＶ光の経路上において、回転式ホイルトラップ６６と出射口１６との間に設けられる。すなわち固定式ホイルトラップ６７は、回転式ホイルトラップ６６の下流側に配置され、回転式ホイルトラップ６６を通過したデブリＤＢを捕捉する。
【0105】
また固定式ホイルトラップ６７は、出射口１６から取り出されるＥＵＶ光の光線束（ＥＵＶ取出光）が通る中心経路を基準に配置される。中心経路は、例えばプラズマＰの発光点と出射口１６の中心点とを結ぶ経路である。固定式ホイルトラップ６７は、着脱部材６１を接続チャンバ１５に装着した状態で、中心経路と交差するように、図示を省略した保持部を介して着脱部材６１に接続される。保持部の具体的な構成については、後に詳しく説明する。
【0106】
ガス導入管６９は、着脱部材６１を貫通し、ＥＵＶ光に対して透明な透明ガスを固定式ホイルトラップ６７に導入する。ガス導入管６９の一方の端は、着脱部材６１の外側から突出して配置されガス導入口として用いられる。またガス導入管６９の他方の端は、固定式ホイルトラップ６７に接続される。固定式ホイルトラップ６７に供給する透明ガスは、ＥＵＶ光に対して透過率の高いガスが望ましく、例えば、ヘリウム（Ｈｅ）、アルゴン（Ａｒ）などの希ガスまたは水素（Ｈ２）などが用いられる。
【0107】
図８は、固定式ホイルトラップの構成例を示す模式的な断面図である。図９は、固定式ホイルトラップの構成例を示す模式的な正面図である。図８は、ＥＵＶ光の中心経路に沿って固定式ホイルトラップ６７を切断した図である。また図９は、ＥＵＶ光の中心経路の方向から固定式ホイルトラップ６７を見た図である。
図８および図９に示すように、固定式ホイルトラップ６７は、複数のホイルＦと、複数のホイルＦを固定する固定枠６８とを備える。本実施形態では、固定枠６８は、固定部材に相当する。
図８および図９に示すように、固定式ホイルトラップ６７は、複数のホイルＦと、複数のホイルＦを固定する固定枠６８とを備える。本実施形態では、固定枠６８は、固定部材に相当する。
【0108】
図９に示すように、複数のホイルＦは、ＥＵＶ光の中心経路の方向から見て、それぞれ等間隔に配置される。また、固定枠６８は、例えば、正面から見て矩形状となっている。なお、固定枠６８の外形は、任意の形状であってよい。さらに、複数のホイルＦは、図８に示すように、中心経路に沿って切断した断面では、ＥＵＶ光の光線方向に伸びるように放射状に配置される。
【0109】
固定式ホイルトラップ６７の複数のホイルＦは、固定式ホイルトラップ６７が配置された空間を細かく分割することにより、その部分のコンダクタンスを下げて圧力を局所的に上げる働きをする。
また、固定式ホイルトラップ６７には、ガス導入管６９を介して透明ガスが供給される。これにより、固定式ホイルトラップ６７における圧力を上げることができる。言い換えると、接続チャンバ１５内において、固定式ホイルトラップ６７内にガスを局在化させて圧力が比較的高い部分を設定する。
また、固定式ホイルトラップ６７には、ガス導入管６９を介して透明ガスが供給される。これにより、固定式ホイルトラップ６７における圧力を上げることができる。言い換えると、接続チャンバ１５内において、固定式ホイルトラップ６７内にガスを局在化させて圧力が比較的高い部分を設定する。
【0110】
回転式ホイルトラップ６６で捕捉できなかった高速のデブリＤＢは、固定式ホイルトラップ６７における圧力が上がった領域でガスとの衝突確率が上がるために速度が低下する。また、ガスとの衝突によりデブリＤＢの進行方向も変わる。固定式ホイルトラップ６７は、このようにして速度が低下して進行方向が変わったデブリＤＢを、ホイルＦまたは固定枠６８により捕捉する。
【0111】
このように、回転式ホイルトラップ６６と固定式ホイルトラップ６７とを設けることで、デブリＤＢを十分に捕捉することが可能となる。またデブリトラップユニット６０では、回転式ホイルトラップ６６及び固定式ホイルトラップ６７が、両方とも着脱部材６１に接続される。これにより、着脱部材６１を取り外すことで、回転式ホイルトラップ６６及び固定式ホイルトラップ６７も取り外すことが可能となる。このような構成により、例えばあらかじめ用意しておいた新品のデブリトラップユニット６０と入れ替えることで、メンテナンス時間の短縮を図ることが可能となる。
【0112】
［ホイルトラップカバー］
図１０は、ホイルトラップカバーを含むデブリトラップユニットの構成例を示す模式図である。図１０に示すデブリトラップユニット７０は、図７に示すデブリトラップユニット６０に、ホイルトラップカバー７１を設けた構成となっている。なお図７では、回転駆動部と利用装置が省略されている。
図１０は、ホイルトラップカバーを含むデブリトラップユニットの構成例を示す模式図である。図１０に示すデブリトラップユニット７０は、図７に示すデブリトラップユニット６０に、ホイルトラップカバー７１を設けた構成となっている。なお図７では、回転駆動部と利用装置が省略されている。
【0113】
ホイルトラップカバー７１は、回転式ホイルトラップ６６の外周部を包囲して、回転式ホイルトラップ６６から飛散するデブリＤＢを捕集する。ホイルトラップカバー７１を設けることで、回転式ホイルトラップ６６により捕捉されたデブリＤＢが接続チャンバ１５の内部に飛散するのを防止することが可能となる。
【0114】
ホイルトラップカバー７１は、入射側開口部ＫＩおよび出射側開口部ＫＯを備える。入射側開口部ＫＩは、回転式ホイルトラップ６６に入射するＥＵＶ光が遮光されない位置に設けられる。出射側開口部ＫＯは、入射側開口部ＫＩおよび回転式ホイルトラップ６６を通過して固定式ホイルトラップ６７に入射するＥＵＶ光が遮光されない位置に設けられる。
【0115】
回転式ホイルトラップ６６により捕捉されたデブリＤＢの少なくとも一部は、遠心力により回転式ホイルトラップ６６のホイルＦ上を径方向に移動し、ホイルＦの端部から離脱して、ホイルトラップカバー７１の内面に付着する。ホイルトラップカバー７１は、図示しない加熱手段（カバー加熱部）や、ＥＵＶ光の放射に伴う輻射によって加熱され、当該加熱によりホイルトラップカバー７１の内面に付着したデブリＤＢは固化せず、液相状態を保持する。ホイルトラップカバー７１の内面に付着したデブリＤＢは、重力によりホイルトラップカバー７１の下部に集まり、ホイルトラップカバー７１の下部から排出管７２を介してホイルトラップカバー７１の外に排出されて廃原料となる。廃原料となったデブリＤＢは、図示しないデブリ収容部に収容される。
【0116】
図１０に示すように、デブリトラップユニット７０では、ホイルトラップカバー７１は、着脱部材６１に接続される。すなわち、ホイルトラップカバー７１は、着脱部材６１とユニット化される。例えばホイルトラップカバー７１の後側に回転軸６２を囲むように筒形の突出部７３が形成され、突出部７３の先端が着脱部材６１に接続される。もちろん、突出部７３の他に、ホイルトラップカバー７１と着脱部材６１とを接続する部分が設けられてもよい。これにより、着脱部材６１とともにホイルトラップカバー７１を取り外すことが可能となる。
【0117】
また、図１０に示す例では、固定式ホイルトラップ６７は、ホイルトラップカバー７１に接続される。具体的には、ホイルトラップカバー７１の出射側開口部ＫＯを覆うように、固定式ホイルトラップ６７が、ホイルトラップカバー７１の後側に固定される。これにより、ホイルトラップカバー７１を利用することで、固定式ホイルトラップ６７を容易にユニット化することが可能となる。また固定式ホイルトラップ６７を固定するための専用の保持部等を設ける必要がなくなるため、装置コストを抑えることが可能となる。
【0118】
［遮熱部材、検出センサ］
図１１は、遮熱板を含むデブリトラップユニットの構成例を示す模式図である。図１１に示すデブリトラップユニット８０は、図１０に示すデブリトラップユニット７０に、遮熱部材８１と検出センサ８２とを設けた構成となっている。
図１１は、遮熱板を含むデブリトラップユニットの構成例を示す模式図である。図１１に示すデブリトラップユニット８０は、図１０に示すデブリトラップユニット７０に、遮熱部材８１と検出センサ８２とを設けた構成となっている。
【0119】
遮熱部材８１は、着脱部材６１に接続され、プラズマＰとホイルトラップＦＴとの間に配置される。図１１に示す例では、プラズマＰと回転式ホイルトラップＦＴとの間に遮熱部材８１が配置される。遮熱部材８１は、プラズマＰの近傍に配置されるため、例えば、モリブデンまたはタングステンなどの高融点材料から構成される。遮熱部材８１を設けることで、プラズマＰから回転式ホイルトラップ６６への放射を低減し、回転式ホイルトラップ６６の過熱を防止することができる。
【0120】
遮熱部材８１は、板状の部材であり、回転式ホイルトラップＦＴの全体を覆うように構成される。また、遮熱部材８１には、プラズマＰからのＥＵＶ光を通過させるための開口部ＫＡ及び開口部ＫＢが設けられる。
【0121】
開口部ＫＡは、出射口１６から利用装置１１０に向けて出射されるＥＵＶ光を取り出す開口部である。開口部ＫＡは、回転式ホイルトラップ６６の回転軸（中心軸線Ｃ０）から偏心した位置に設けられる。このとき、プラズマＰから放出されるＥＵＶ光の一部は、開口部ＫＡを介し、回転式ホイルトラップ６６の回転軸に対して傾斜角度をもって所定の立体角で遮熱部材８１から取り出される。回転式ホイルトラップ６６及び固定式ホイルトラップ６７は、遮熱部材８１の開口部ＫＡを通過したＥＵＶ光の光線束（ＥＵＶ取出光）の中心経路上にホイルＦが位置するように配置されている。
【0122】
開口部ＫＢは、後述する検出センサ８２に向けて出射されるＥＵＶ光を取り出す開口部である。開口部ＫＢは、プラズマＰの発光点から検出センサ８２に向かう直線上に設けられる。図１１では、プラズマＰと検出センサ８２との間には回転式ホイルトラップ６６とホイルトラップカバー７１とが配置される。なおホイルトラップカバー７１には、開口部ＫＢを介して取り出されたＥＵＶ光を通過させるための出射側開口部ＫＯ'が設けられる。
【0123】
図１１では、遮熱部材８１の上端側が折り曲げられて着脱部材６１の内側の面に固定される。すなわち、遮熱部材８１は、着脱部材６１とユニット化される。これにより、着脱部材６１とともに遮熱部材８１を取り外すことが可能となり、遮熱部材８１のクリーニングや交換等を容易に実現することが可能となる。
【0124】
検出センサ８２は、着脱部材６１に接続され、プラズマＰの状態を検出するセンサである。本実施形態では、着脱部材６１に検出センサ８２を接続するための貫通孔８３が設けられる。検出センサ８２は貫通孔８３を塞ぐように、着脱部材６１の外側に接続される。検出センサ８２には、上記した遮熱部材８１の開口部ＫＢと、回転式ホイルトラップ６６と、ホイルトラップカバー７１の出射側開口部ＫＯ'と、着脱部材６１の貫通孔８３を通過したＥＵＶ光が入射する。なお、貫通孔８３を設けずに、着脱部材６１の内側に検出センサ８２が接続されてもよい。
【0125】
検出センサ８２としては、例えばＥＵＶ光を検出する光センサ等が用いられる。この場合、検出センサ８２によりＥＵＶ光の強度（プラズマＰの発光強度）を検出することが可能である。また例えば、検出センサ８２として、プラズマＰの状態を撮影するカメラセンサ等が用いられてもよい。この場合、検出センサ８２によりプラズマＰの発光状態を観察することが可能となる。この他、検出センサ８２の種類は限定されず、プラズマＰの状態（温度、色、サイズ等）を検出可能な任意のセンサを用いることが可能である。
【0126】
このように、図１１では、検出センサ８２が着脱部材６１に接続される。すなわち検出センサ８２は、着脱部材６１とユニット化される。これにより、着脱部材６１とともに検出センサ８２を取り外すことが可能となり、検出センサ８２のクリーニングや交換等を容易に実現することが可能となる。
【0127】
以上、本実施形態に係るデブリトラップユニット３０、５０、６０、７０、及び８０では、チャンバ本体１である接続チャンバ１５の開口部１７を覆い、かつ、接続チャンバ１５に着脱される着脱部材に、プラズマＰからのデブリを捕捉する複数のホイルＦを備える少なくとも１つのホイルトラップＦＴが接続される。着脱部材が装着された状態では、プラズマＰから出射口までの放射線の経路上に複数のホイルＦが配置される。また着脱部材を取り外すことでホイルトラップＦＴも一緒に取り外すことが可能である。これにより、ホイルトラップＦＴのメンテナンス時間の短縮を図ることが可能となり、メンテナンスを効率化することが可能となる。
【0128】
一般に、ＥＵＶ光を出射する光源装置には、ＥＵＶ光を利用するための利用装置が接続される。利用装置には、光源装置から出射されるＥＵＶ光を調整する複雑な光学系が設けられ、その光軸はプラズマＰの発光点を起点として調節される。また利用装置は、光源装置と比べて大型の装置であることが多く、また他の装置と連結されていることも考えられる。このように、光源装置は、システムとして端に位置することから、デブリトラップのメンテナンスには、光源装置を一旦解体する必要があった。
【0129】
また、光源装置の解体においても、チャンバの蓋、回転電極、原料コンテナ、デブリトラップの境目の板（遮熱板等）といった部材を、端から順々に取り外す必要があり、その後で、ようやくデブリラップの取り外しが可能となる。このため、デブリトラップのメンテナンスを行う場合、デブリトラップ自体に触れるまでにも、かなりの労力と時間が必要であった。
【0130】
また、上記したように、利用装置の光学系はプラズマＰの発光点から始まる光軸に調整されている。一方で、光源装置を解体するようなメンテナンスでは、発光点である回転電極を取り外してしまう。このため、デブリトラップのメンテナンスを終え、光源装置を再度組み立てた後に、さらに光軸を合わせる調整が必要となる。この結果、光源装置及び利用装置の停止期間が長くなり、装置の利用効率が低下するおそれがあった。
【0131】
本実施形態に係るデブリトラップユニットは、チャンバ本体１である接続チャンバ１５の開口部１７に装着される着脱部材にホイルトラップＦＴが接続される。すなわち、ホイルトラップＦＴを収容する容器（接続チャンバ１５）の一部に蓋（着脱部材）を設け、その蓋とホイルトラップＦＴとがユニット化される。
【0132】
このような構成により、ホイルトラップＦＴを取り外す場合には、着脱部材を接続チャンバ１５から取り外せばよく、光源部２等を解体する必要がない。これにより、ホイルトラップＦＴの取り付け、取り外しを容易に行うことが可能となる。また、ホイルトラップＦＴのメンテナンスに要する時間を大幅に短縮することが可能となる。
【0133】
また、本実施形態では、デブリトラップユニットとユニット化される部材には、ＥＵＶ光の光路を変更するような光学素子は含まれない。これにより、プラズマＰの発光点（光発生部位）から、利用装置１１０の光学系に至る光軸を略維持した状態でメンテナンスが可能になる。これにより、例えば放電電極を取り外した場合に必要となる大幅な光軸調整は不要となり、比較的容易に光軸を調整することが可能となる。この結果、光源装置及び利用装置の停止期間が短くなり、装置の利用効率を向上することが可能となる。
【0134】
また、デブリトラップユニットでは、回転式ホイルトラップ、固定式ホイルトラップ、ホイルトラップカバー、遮熱部材、検出センサ等を一体的にユニット化することが可能である。これにより、ユニット化された複数の部材を同時にメンテナンスすることが可能となり、メンテナンスの手間を省くことが可能となる。これにより、接続チャンバ１５に設けられる様々な部材を効率的にメンテナンスすることが可能となる。
【0135】
＜第２の実施形態＞
本発明に係る第２の実施形態に係るＥＵＶ光源装置について説明する。これ以降の説明では、上記の実施形態で説明したＥＵＶ光源装置１００における構成及び作用と同様な部分については、その説明を省略又は簡略化する。
本発明に係る第２の実施形態に係るＥＵＶ光源装置について説明する。これ以降の説明では、上記の実施形態で説明したＥＵＶ光源装置１００における構成及び作用と同様な部分については、その説明を省略又は簡略化する。
【0136】
図１２は、第２の実施形態に係るデブリトラップユニットを備えたＥＵＶ光源装置の構成例を示す概略断面図である。ＥＵＶ光源装置２００は、チャンバ本体２０１と、光源ユニット２０２と、デブリトラップユニット２３０とを有する。本実施形態では、デブリトラップユニット２３０に、ＥＵＶ光を集光する集光鏡２５０をユニット化した構成について説明する。
【0137】
チャンバ本体２０１は、ＥＵＶ光の出射口９０と、第１の開口部９１と、第２の開口部９２と、真空排出口９３とを有する。図１２に示すチャンバ本体２０１は、筒形の筐体の一端にコーン型の筐体を接続した構造を有する。
コーン型の筐体の先端には、出射口９０が設けられる。また出射口９０とは反対側となる筒形の筐体の端部には、第１の開口部９１が設けられる。また、筒形の筐体の側面には、第２の開口部９２と真空排出口９３とが設けられる。
コーン型の筐体の先端には、出射口９０が設けられる。また出射口９０とは反対側となる筒形の筐体の端部には、第１の開口部９１が設けられる。また、筒形の筐体の側面には、第２の開口部９２と真空排出口９３とが設けられる。
【0138】
出射口９０は、プラズマＰからのＥＵＶ光を図示しない利用装置へ導入するための光学窓である。出射口９０は、典型的には貫通孔であるが、光学フィルタ等の透明部材が設けられてもよい。
第１の開口部９１は、光源ユニット２０２が接続される開口部である。
第２の開口部９２は、デブリトラップユニット２３０が接続される開口部である。図１２では、図中上側に、第２の開口部９２が形成される。
真空排出口９３は、チャンバ本体２０１を排気する真空ポンプ９５に接続される。図１２では、図中下側に真空排出口９３が形成される。
第１の開口部９１は、光源ユニット２０２が接続される開口部である。
第２の開口部９２は、デブリトラップユニット２３０が接続される開口部である。図１２では、図中上側に、第２の開口部９２が形成される。
真空排出口９３は、チャンバ本体２０１を排気する真空ポンプ９５に接続される。図１２では、図中下側に真空排出口９３が形成される。
【0139】
光源ユニット２０２は、第１の開口部９１の蓋として機能する基体部９６に、プラズマＰを発生させるための機構をユニット化したものである。
光源ユニット２０２は、例えば図１と同様にＬＤＰ方式でプラズマＰを発生させる装置として構成される。この場合、基体部９６には、互いに対向して配置された１対の放電電極と、各放電電極にプラズマ原料を供給する１対のコンテナとが固定される。またチャンバ本体２０１には、エネルギービーム（例えばレーザビーム）を導入するために図示しない透明窓が設けられる。
光源ユニット２０２は、例えば図１と同様にＬＤＰ方式でプラズマＰを発生させる装置として構成される。この場合、基体部９６には、互いに対向して配置された１対の放電電極と、各放電電極にプラズマ原料を供給する１対のコンテナとが固定される。またチャンバ本体２０１には、エネルギービーム（例えばレーザビーム）を導入するために図示しない透明窓が設けられる。
【0140】
エネルギービームは、各放電電極が対向する放電領域において、一方の放電電極に照射される。エネルギービームの照射により放電領域には気相のプラズマ原料が供給される。各放電電極に電力が供給されると、放電によりプラズマ原料が加熱励起されてプラズマＰが発生する。
なお、ＬＤＰ方式の光源ユニット２０２に代えて、ＬＰＰ方式等の他の方式でプラズマＰを発生させる光源ユニット２０２が用いられてもよい。
なお、ＬＤＰ方式の光源ユニット２０２に代えて、ＬＰＰ方式等の他の方式でプラズマＰを発生させる光源ユニット２０２が用いられてもよい。
【0141】
図１２に示すデブリトラップユニット２３０は、ホイルトラップＦＴと集光鏡２５０とをユニット化したものである。デブリトラップユニット２３０は、着脱部材２３１と、ホイルトラップＦＴである回転式ホイルトラップ２３６と、回転軸２３２と、回転駆動部２３３と、水冷配管２３４と、ＲＦＴ支持部２３７と、ホイルトラップカバー２４０と、集光鏡２５０とを有する。
【0142】
着脱部材２３１は、第２の開口部９２を覆い、かつ、チャンバ本体２０１に着脱自在に構成された部材であり、第２の開口部９２を塞ぐ蓋として機能する。デブリトラップユニット２３０を構成する回転式ホイルトラップ２３６及び集光鏡２５０等は、着脱部材２３１に直接又は間接的に接続されることでユニット化される。
図１２に示す例では、着脱部材２３１がチャンバ本体２０１に接続された状態で、プラズマＰの発光点から出射口９０に向かう経路上に、回転式ホイルトラップ２３６及び集光鏡２５０がこの順番で配置される。
図１２に示す例では、着脱部材２３１がチャンバ本体２０１に接続された状態で、プラズマＰの発光点から出射口９０に向かう経路上に、回転式ホイルトラップ２３６及び集光鏡２５０がこの順番で配置される。
【0143】
回転式ホイルトラップ２３６は、放射状に配置された複数のホイルＦを有し、回転軸２３２を介して、回転駆動部２３３に接続される。回転駆動部２３３には、着脱部材２３１を貫通する水冷配管２３４が接続され冷却水等が供給される。また回転駆動部２３３には、電力ケーブル等が適宜配線される。本実施形態では、デブリトラップユニット２３０がチャンバ本体２０１に装着された状態で、回転式ホイルトラップ２３６とその駆動機構（回転軸２３２及び回転駆動部２３３）が全てチャンバ本体２０１に収容される。
【0144】
ＲＦＴ支持部２３７は、着脱部材２３１に固定され、着脱部材２３１に対してＲＦＴ（回転式ホイルトラップ２３６）を支持する部材である。具体的には、ＲＦＴ支持部２３７は、回転駆動部２３３を支持するように構成される。また回転式ホイルトラップ２３６が接続された回転軸２３２は、回転駆動部２３３に内蔵された図示しないベアリング等の軸受機構を介して回転可能に支持される。このように、ＲＦＴ支持部２３７は、回転駆動部２３３及び回転軸２３２を介して回転式ホイルトラップ２３６を支持する。
【0145】
図１２に示すように、ＲＦＴ支持部２３７は、例えば全体として板状の部材であり、回転軸２３２を通すための貫通孔２３８と、ＥＵＶ光を通すための開口部ＫＣとを有する。またＲＦＴ支持部２３７は、回転式ホイルトラップ２３６と回転駆動部２３３との間に配置され、ＲＦＴ支持部２３７には、回転駆動部２３３の前方側の端面が固定される。この時、回転軸２３２の軸線が後述する集光鏡２５０の中心軸線Ｃ１と一致するように、ＲＦＴ支持部２３７と回転駆動部２３３とが固定される。
【0146】
図１３は、ＲＦＴ支持部２３７の構成例を示す模式的な平面図である。ＲＦＴ支持部２３７は、中央部２３７ａと、周縁部２３７ｂと、複数のスポーク部２３７ｃとを有する。
中央部２３７ａは、ＲＦＴ支持部２３７の中央に設けられ、回転駆動部２３３が固定される部分である。中央部２３７ａには、回転軸２３２の直径よりも大きな内径を持つ貫通孔２３８が設けられる。周縁部２３７ｂは、中央部２３７ａから一定の距離をあけて中央部２３７ａの周囲を囲むように設けられる。周縁部２３７ｂは、例えば着脱部材２３１やホイルトラップカバー２４０に接続される部分である。複数のスポーク部２３７ｃは、中央部２３７ａと周縁部２３７ｂとを接続する長手部材である。中央部２３７ａ、周縁部２３７ｂ、及び各スポーク部２３７ｃにより囲まれた空洞が、ＥＵＶ光を通すための開口部ＫＣとなる。
中央部２３７ａは、ＲＦＴ支持部２３７の中央に設けられ、回転駆動部２３３が固定される部分である。中央部２３７ａには、回転軸２３２の直径よりも大きな内径を持つ貫通孔２３８が設けられる。周縁部２３７ｂは、中央部２３７ａから一定の距離をあけて中央部２３７ａの周囲を囲むように設けられる。周縁部２３７ｂは、例えば着脱部材２３１やホイルトラップカバー２４０に接続される部分である。複数のスポーク部２３７ｃは、中央部２３７ａと周縁部２３７ｂとを接続する長手部材である。中央部２３７ａ、周縁部２３７ｂ、及び各スポーク部２３７ｃにより囲まれた空洞が、ＥＵＶ光を通すための開口部ＫＣとなる。
【0147】
図１３に示す例では、６つのスポーク部２３７ｃが６０度の角度間隔で配置され、中央部２３７ａと周縁部２３７ｂとの間に６つの開口部ＫＣが構成される。これらの開口部ＫＣは、主として回転式ホイルトラップ２３６を通過したＥＵＶ光の光路上に設けられる。この他、スポーク部２３７ｃ及び開口部ＫＣの数や形状は限定されない。
また図１３に示す例では、ＲＦＴ支持部２３７（周縁部２３７ｂ）の外周が円筒面となっているが、例えば着脱部材２３１に固定するために外周の一部が平面となるような形状であってもよい。
また図１３に示す例では、ＲＦＴ支持部２３７（周縁部２３７ｂ）の外周が円筒面となっているが、例えば着脱部材２３１に固定するために外周の一部が平面となるような形状であってもよい。
【0148】
図１２に戻り、ホイルトラップカバー２４０は、回転式ホイルトラップ２３６の外周部を包囲して、回転式ホイルトラップ２３６から飛散するデブリＤＢを捕集する。ホイルトラップカバー２４０は、回転式ホイルトラップ２３６を収容する筒状の部材である。ホイルトラップカバー２４０の前側（プラズマＰに向けられる側）には、ＥＵＶ光が入射する入射側開口部ＫＩが設けられ、ホイルトラップカバー２４０の後側には、ＲＦＴ支持部２３７が接続される。図１２に示す例では、ＲＦＴ支持部２３７がホイルトラップカバー２４０の後側を覆い、カバーの一部として機能する。
【0149】
例えば、ＲＦＴ支持部２３７及びホイルトラップカバー２４０は、互いに装着された状態でそれぞれが着脱部材２３１に固定される。また例えば、ＲＦＴ支持部２３７又はホイルトラップカバー２４０の一方が着脱部材２３１に固定され、着脱部材２３１に固定された方にもう一方が取付けられてもよい。またＲＦＴ支持部２３７及びホイルトラップカバー２４０が互いに装着されず、個別に着脱部材２３１に固定されてもよい。いずれの場合でも、ＲＦＴ支持部２３７により回転駆動部２３３が支持される。
なお、ＲＦＴ支持部２３７に加え、回転駆動部２３３の後方に接続される水冷配管２３４が、回転駆動部２３３を支持する部材として構成されてもよい。また水冷配管２３４をＲＦＴ支持部２３７に沿うように配置し、回転駆動部２３３の前方に水冷配管２３４を接続してもよい。
なお、ＲＦＴ支持部２３７に加え、回転駆動部２３３の後方に接続される水冷配管２３４が、回転駆動部２３３を支持する部材として構成されてもよい。また水冷配管２３４をＲＦＴ支持部２３７に沿うように配置し、回転駆動部２３３の前方に水冷配管２３４を接続してもよい。
【0150】
図１４は、集光鏡の構成例を示す模式的な斜視図である。
集光鏡２５０は、着脱部材２３１に接続され、プラズマＰからのＥＵＶ光を集光する。集光鏡２５０は、ＥＵＶ光を反射する反射面２５１と、反射面２５１が設けられる支持体２５２とを有する。
本実施形態では、筒形の支持体２５２の内周面に反射面２５１が形成される。従って、集光鏡２５０は筒型の反射鏡となる。図１４に示すように、集光鏡２５０は斜入射型の鏡であるため、反射面２５１は単層膜を用いて形成される。例えば反射面２５１は、支持体２５２の内周面をルテニウムの単層膜でコーティングすることで形成される。
以下では、ＥＵＶ光が入射する側を集光鏡２５０の前方と記載し、ＥＵＶ光が出射する側を集光鏡２５０の後方と記載する。
集光鏡２５０は、着脱部材２３１に接続され、プラズマＰからのＥＵＶ光を集光する。集光鏡２５０は、ＥＵＶ光を反射する反射面２５１と、反射面２５１が設けられる支持体２５２とを有する。
本実施形態では、筒形の支持体２５２の内周面に反射面２５１が形成される。従って、集光鏡２５０は筒型の反射鏡となる。図１４に示すように、集光鏡２５０は斜入射型の鏡であるため、反射面２５１は単層膜を用いて形成される。例えば反射面２５１は、支持体２５２の内周面をルテニウムの単層膜でコーティングすることで形成される。
以下では、ＥＵＶ光が入射する側を集光鏡２５０の前方と記載し、ＥＵＶ光が出射する側を集光鏡２５０の後方と記載する。
【0151】
反射面２５１は、例えば中心軸線Ｃ１に対して回転対称な曲面である。反射面２５１の形状（支持体２５２の内周面の形状）は、集光鏡２５０の前方に設定される中心軸線Ｃ１上の発光点２５３からの光を、集光鏡の後方に設定される中心軸線Ｃ１上の集光点２５４に集光するように設計される。ここで、集光鏡２５０の発光点２５３は、プラズマＰの発光点に対応する。また、集光鏡２５０の集光点２５４は、例えば出射口９０の中心位置に対応する。
なお、反射面２５１は回転対称な構成に限定されず、光学シミュレーションにより設計された自由曲面等が用いられもよい。
なお、反射面２５１は回転対称な構成に限定されず、光学シミュレーションにより設計された自由曲面等が用いられもよい。
【0152】
図１２に示すように、集光鏡２５０の支持体２５２は、着脱部材２３１がチャンバ本体２０１に接続された状態で、プラズマＰの発光点と集光鏡２５０に設定される発光点２５３とが一致し、かつ出射口９０の中心位置と集光鏡２５０に設定される集光点２５４とが一致するように、着脱部材２３１に固定される。これにより、プラズマＰから放出され、回転式ホイルトラップ２３６を通過し、集光鏡２５０の前方に入射するＥＵＶ光は、出射口９０に集光される。
【0153】
また、集光鏡２５０が、回転式ホイルトラップ２３６とともにユニット化されることで、着脱部材２３１とともに集光鏡２５０を取り外すことが可能となる。これにより、集光鏡２５０のクリーニングや交換等を容易に行うことが可能となる。
【0154】
また、プラズマＰと集光鏡２５０との間には、ホイルトラップＦＴである回転式ホイルトラップ２３６が配置される。これにより、プラズマＰから放散されるデブリＤＢを、集光鏡２５０に侵入する前に捕捉し、デブリＤＢが反射面２５１に衝突、堆積するといった事態を抑制することが可能となる。また、着脱部材２３１を取り外した場合には、回転式ホイルトラップ２３６も取り外されるため、回転式ホイルトラップ２３６のメンテナンスを容易に行うことができる。
【0155】
なお、集光鏡２５０は、ＲＦＴ支持部２３７やホイルトラップカバー２４０とは接続されず、ＲＦＴ支持部２３７やホイルトラップカバー２４０とは独立して着脱部材２３１に固定される。これにより、例えば回転式ホイルトラップ２３６を回転させることで発生する振動が、集光鏡２５０に直接伝わるといった事態を回避することが可能となる。これにより、集光鏡２５０の振動を抑制することが可能となる。
【0156】
また、筒形の集光鏡２５０を用いた本構成では、回転式ホイルトラップ２３６の全周を通過したＥＵＶ光が集光される。これにより、例えば図２等を参照して説明したように回転式ホイルトラップの一部の角度範囲を通過したＥＵＶ光だけを取り出す場合に比べ、ＥＵＶ光の光量を増大させることが可能となる。
なお、図１２及び図１４では、反射面２５１は単層であるが、例えば中心軸線Ｃ１を囲むように複数層の反射面２５１が構成されてもよい。これにより、ＥＵＶ光の集光効率をさらに向上することが可能となる。
なお、図１２及び図１４では、反射面２５１は単層であるが、例えば中心軸線Ｃ１を囲むように複数層の反射面２５１が構成されてもよい。これにより、ＥＵＶ光の集光効率をさらに向上することが可能となる。
【0157】
［回転式ホイルトラップと固定式ホイルトラップ］
図１５は、集光鏡を含むデブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。図１５に示すデブリトラップユニット２３０ａは、２種類のホイルトラップＦＴ（回転式ホイルトラップ２３６及び固定式ホイルトラップ２４５）と集光鏡２５０とをユニット化したものである。デブリトラップユニット２３０ａは、図１２に示すデブリトラップユニット２３０に、固定式ホイルトラップ２４５を追加した構成となっている。
図１５は、集光鏡を含むデブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。図１５に示すデブリトラップユニット２３０ａは、２種類のホイルトラップＦＴ（回転式ホイルトラップ２３６及び固定式ホイルトラップ２４５）と集光鏡２５０とをユニット化したものである。デブリトラップユニット２３０ａは、図１２に示すデブリトラップユニット２３０に、固定式ホイルトラップ２４５を追加した構成となっている。
【0158】
固定式ホイルトラップ２４５は、所定の軸線を中心に配置された内側リング２４６と、内側リング２４６を囲むように配置された外側リング２４７とを有する。内側リング２４６及び外側リング２４７で挟まれた筒状の内部領域には、複数のホイルＦが、所定の軸線を中心として放射状に配置される。この時、各ホイルＦは、所定の軸線を含む平面上にある。このように、本実施形態では、筒状の固定式ホイルトラップ２４５が用いられる。
【0159】
固定式ホイルトラップ２４５は、所定の軸線と回転軸２３２の軸線とが一致するように、ＲＦＴ支持部２３７を挟んで回転式ホイルトラップ２３６の後方に配置される。また、固定式ホイルトラップ２４５の内側リング２４６及び外側リング２４７は、ＲＦＴ支持部２３７に配置された開口部ＫＣから出射されるＥＵＶ光の光路を遮らないように構成される。また固定式ホイルトラップ２４５の内部領域には、着脱部材２３１を貫通するガス導入管２４８が接続され、ＥＵＶ光に対して透過率が高い透明ガスが供給される。
【0160】
例えば回転式ホイルトラップ２３６で捕捉できなかった高速のデブリＤＢは、固定式ホイルトラップ２４５における圧力が上がった領域でガスと衝突する。このようなガスとの衝突により、速度が低下して進行方向が変わったデブリＤＢは、ホイルＦ、内側リング２４６、及び外側リング２４７により捕捉される。
このように、回転式ホイルトラップ２３６と固定式ホイルトラップ２４５とを設けることで、デブリＤＢを十分に捕捉することが可能となる。
このように、回転式ホイルトラップ２３６と固定式ホイルトラップ２４５とを設けることで、デブリＤＢを十分に捕捉することが可能となる。
【0161】
デブリトラップユニット２３０ａに設けられるホイルトラップカバー２４０は、回転式ホイルトラップ２３６及び固定式ホイルトラップ２４５の両方を包囲する。すなわち、ＲＦＴ支持部２３７を挟んで配置される回転式ホイルトラップ２３６及び固定式ホイルトラップ２４５が、ホイルトラップカバー２４０の内部に収容される。
【0162】
ホイルトラップカバー２４０の前側には、図１２と同様に、ＥＵＶ光が入射する入射側開口部ＫＩが設けられる。また、ホイルトラップカバー２４０の後側には、ＲＦＴ支持部２３７に向けて突出する環状の突出部により囲まれた挿入孔２４１が形成される。挿入孔２４１は、回転軸２３２及び回転駆動部２３３が配置される穴であり、挿入孔２４１（突出部）の先端はＲＦＴ支持部２３７に接続される。また、挿入孔２４１の周りには、固定式ホイルトラップ２４５を通過したＥＵＶ光が出射する出射側開口部ＫＯが設けられる。
【0163】
例えば固定式ホイルトラップ２４５により捕捉されたデブリＤＢは、ホイルトラップカバー２４０に流れ込み、ホイルトラップカバー２４０により捕集される。これにより、固定式ホイルトラップ２４５により捕捉されたデブリＤＢが、回転軸２３２等に付着するといった事態を回避することが可能となる。
【0164】
図１５に示す例では、固定式ホイルトラップ２４５は、ＲＦＴ支持部２３７に固定されるが、例えばホイルトラップカバー２４０に固定式ホイルトラップ２４５が固定されてもよい。
また、ＲＦＴ支持部２３７及びホイルトラップカバー２４０は、互いに装着された状態でそれぞれが着脱部材２３１に固定されてもよいし、着脱部材２３１に固定された方にもう一方が取付けられてもよい。またＲＦＴ支持部２３７及びホイルトラップカバー２４０が、個別に着脱部材２３１に固定されてもよい。
なお、集光鏡２５０は、ホイルトラップカバー２４０とは接続されず、ホイルトラップカバー２４０とは独立して着脱部材２３１に固定される。これにより、回転式ホイルトラップ２３６からの振動が集光鏡２５０に伝わりにくくなる。
また、ＲＦＴ支持部２３７及びホイルトラップカバー２４０は、互いに装着された状態でそれぞれが着脱部材２３１に固定されてもよいし、着脱部材２３１に固定された方にもう一方が取付けられてもよい。またＲＦＴ支持部２３７及びホイルトラップカバー２４０が、個別に着脱部材２３１に固定されてもよい。
なお、集光鏡２５０は、ホイルトラップカバー２４０とは接続されず、ホイルトラップカバー２４０とは独立して着脱部材２３１に固定される。これにより、回転式ホイルトラップ２３６からの振動が集光鏡２５０に伝わりにくくなる。
【0165】
［位置調整機構］
図１６は、集光鏡を含むデブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。図１６に示すデブリトラップユニット２３０ｂは、図１５に示すデブリトラップユニット２３０ａに、位置調整機構２６２を設けた構成となっている。
デブリトラップユニット２３０ｂは、中間部材２６１と、位置調整機構２６２と、伸縮カバー２６３とを有する。なお、図１６では、図１２及び図１５で説明した水冷配管及びガス供給管の図示が省略されている。
図１６は、集光鏡を含むデブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。図１６に示すデブリトラップユニット２３０ｂは、図１５に示すデブリトラップユニット２３０ａに、位置調整機構２６２を設けた構成となっている。
デブリトラップユニット２３０ｂは、中間部材２６１と、位置調整機構２６２と、伸縮カバー２６３とを有する。なお、図１６では、図１２及び図１５で説明した水冷配管及びガス供給管の図示が省略されている。
【0166】
中間部材２６１は、着脱部材２３１とは独立した部材として構成され、回転式ホイルトラップ２３６、固定式ホイルトラップ２４５、及び集光鏡２５０を一体的に支持する。具体的には、中間部材２６１には、回転式ホイルトラップ２３６及び固定式ホイルトラップ２４５が、ＲＦＴ支持部２３７及びホイルトラップカバー２４０の少なくとも一方を介して固定される。また中間部材２６１には、集光鏡２５０の支持体２５２が、ＲＦＴ支持部２３７やホイルトラップカバー２４０とは独立に固定される。
【0167】
位置調整機構２６２は、集光鏡２５０の配置を調整するための機構である。ここで集光鏡２５０の配置には、集光鏡２５０の位置と姿勢が含まれる。集光鏡２５０の位置とは、例えば集光鏡２５０の基準位置（例えば重心位置）のＸ座標、Ｙ座標、及びＺ座標である。また集光鏡２５０の姿勢とは、集光鏡２５０のロール角度、ピッチ角度、及びヨー角度である。なお、集光鏡２５０が回転対称である場合には、ロール角度の調整は不要である。
位置調整機構２６２は、これらのパラメータが調整可能なように構成される。
位置調整機構２６２は、これらのパラメータが調整可能なように構成される。
【0168】
位置調整機構２６２は、駆動部２６４と、調整軸２６５とを有する。
駆動部２６４は、調整軸２６５に接続され、調整軸２６５を駆動する。駆動部２６４は、例えば互いに直交する３軸方向に調整軸２６５の位置調整が可能なように構成される。また例えば調整軸２６５の回転や傾斜といった姿勢調整が可能なように駆動部２６４が構成されてもよい。駆動部２６４としては、サーボモータ等が用いられるが、例えば手動により調整軸２６５の位置や姿勢を調整する機構等が用いられてもよい。
駆動部２６４は、調整軸２６５に接続され、調整軸２６５を駆動する。駆動部２６４は、例えば互いに直交する３軸方向に調整軸２６５の位置調整が可能なように構成される。また例えば調整軸２６５の回転や傾斜といった姿勢調整が可能なように駆動部２６４が構成されてもよい。駆動部２６４としては、サーボモータ等が用いられるが、例えば手動により調整軸２６５の位置や姿勢を調整する機構等が用いられてもよい。
【0169】
図１６では、駆動部２６４と調整軸２６５とのペアが２つ配置されているが、駆動部２６４及び調整軸２６５は、集光鏡２５０の配置を調整可能なように、必要な数だけ配置される。
また駆動部２６４は、着脱部材２３１の外側に接続され、調整軸２６５は、着脱部材２３１に設けられた貫通孔２６７を通って着脱部材２３１の内側で中間部材２６１に接続される。この構成により、例えば大気中で動作するサーボモータ等をそのまま駆動部２６４として利用することが可能となり、装置コストを抑えることが可能となる。
また駆動部２６４は、着脱部材２３１の外側に接続され、調整軸２６５は、着脱部材２３１に設けられた貫通孔２６７を通って着脱部材２３１の内側で中間部材２６１に接続される。この構成により、例えば大気中で動作するサーボモータ等をそのまま駆動部２６４として利用することが可能となり、装置コストを抑えることが可能となる。
【0170】
なお、調整軸２６５を通すための貫通孔２６７は、調整軸２６５の位置や姿勢を変化させること可能なように、調整軸２６５よりも大きく形成される。そこで、調整軸２６５には、貫通孔２６７と調整軸２６５との間の隙間を塞ぐために、伸縮カバー２６３が設けられる。
【0171】
伸縮カバー２６３は、一端が開口した筒状の部材である。伸縮カバー２６３の側面は、例えばベローズ等を用いて構成される。伸縮カバー２６３の開口した端部は、調整軸２６５を通す貫通孔２６７を囲むように着脱部材２３１の内側に接続される。また調整軸２６５は、伸縮カバー２６３の底部を貫通して、中間部材２６１に接続される。なお、伸縮カバー２６３は、着脱部材２３１及び調整軸２６５に対して、リークが無いように接続される。これにより、チャンバ本体２０１の減圧雰囲気を維持したまま、調整軸２６５を動かして集光鏡２５０の配置を調整することが可能となる。
【0172】
集光鏡２５０は、ＥＵＶ光の光路を調整する光学素子である。このため、例えばデブリトラップユニット２３０ｂを着脱した場合に、集光鏡２５０の位置や姿勢がずれると、光源ユニット２０２から利用装置までのＥＵＶ光の光路が変わり、集光点等がずれる可能性がある。
このような場合であっても、デブリトラップユニット２３０ｂでは、位置調整機構２６２を利用して、集光鏡２５０の位置や姿勢を調整することができる。これにより、ＥＵＶ光の光路調整等を容易に行うことが可能となり、集光鏡２５０をユニット化した場合でも、短時間でメンテナンスを完了することが可能となる。
このような場合であっても、デブリトラップユニット２３０ｂでは、位置調整機構２６２を利用して、集光鏡２５０の位置や姿勢を調整することができる。これにより、ＥＵＶ光の光路調整等を容易に行うことが可能となり、集光鏡２５０をユニット化した場合でも、短時間でメンテナンスを完了することが可能となる。
【0173】
なお、図１６では、位置調整機構２６２の駆動部２６４が着脱部材２３１の外側に配置された。これに限定されず、着脱部材２３１の内側に駆動部２６４が配置されてもよい。この場合、着脱部材２３１に調整軸２６５を通すための貫通孔２６７や、リークを防止するための伸縮カバー２６３等を設ける必要がないため、装置構成をシンプルにすることが可能である。
【0174】
［除振機構］
図１７は、集光鏡を含むデブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。図１７に示すデブリトラップユニット２３０ｃは、図１６に示すデブリトラップユニット２３０ｂに、除振機構２７０を設けた構成となっている。
図１７は、集光鏡を含むデブリトラップユニットの他の構成例を示す模式図である。図１７に示すデブリトラップユニット２３０ｃは、図１６に示すデブリトラップユニット２３０ｂに、除振機構２７０を設けた構成となっている。
【0175】
除振機構２７０は、チャンバ本体２０１に伝わる振動を抑制する機構である。すなわち、除振機構２７０は、集光鏡２５０を含むデブリトラップユニット２３０ｃの振動がチャンバ本体２０１に伝わらないようにする。
チャンバ本体２０１に伝わる振動は、主として、デブリトラップユニット２３０ｃに設けられた回転式ホイルトラップ２３６とその駆動機構（回転軸２３２及び回転駆動部２３３）が動作することで発生する振動である。チャンバ本体２０１にはプラズマＰが発生する光源ユニット２０２が接続されている。そのため、チャンバ本体２０１が振動すると、集光点２５４の下流にある利用装置において光が位置変動しているように見えることがある。また、振動自体が利用装置に伝わって問題を起こすこともある。除振機構２７０は、このような振動をチャンバ本体２０１に伝わりにくくし、デブリトラップユニット２３０ｃ自体の振動を低減するための機構である。
除振機構２７０は、除振部２７１と、振動センサ（図示省略）とを有し、振動センサの出力に応じて除振部２７１を動作させてアクティブ除振を行う機構である。
チャンバ本体２０１に伝わる振動は、主として、デブリトラップユニット２３０ｃに設けられた回転式ホイルトラップ２３６とその駆動機構（回転軸２３２及び回転駆動部２３３）が動作することで発生する振動である。チャンバ本体２０１にはプラズマＰが発生する光源ユニット２０２が接続されている。そのため、チャンバ本体２０１が振動すると、集光点２５４の下流にある利用装置において光が位置変動しているように見えることがある。また、振動自体が利用装置に伝わって問題を起こすこともある。除振機構２７０は、このような振動をチャンバ本体２０１に伝わりにくくし、デブリトラップユニット２３０ｃ自体の振動を低減するための機構である。
除振機構２７０は、除振部２７１と、振動センサ（図示省略）とを有し、振動センサの出力に応じて除振部２７１を動作させてアクティブ除振を行う機構である。
【0176】
除振部２７１は、振動を小さくするように伸縮する素子であり、例えばピエゾ素子やステッピングモータ等で構成されたリニアアクチュエータが用いられる。図１７に示す例では、駆動部２６４と調整軸２６５とのペアごとに除振部２７１が設けられる。具体的には、駆動部２６４と調整軸２６５との間に除振部２７１が設けられる。すなわち、除振部２７１は、調整軸２６５の一部として機能するともいえる。
【0177】
振動センサは、回転式ホイルトラップ２３６の動作により発生する振動を検出するセンサであり、例えば中間部材２６１の振動を検出するように構成される。振動センサとしては、例えばレーザ変位計や加速度センサ等が用いられる。
【0178】
除振部２７１は、振動センサの出力に基づいて、中間部材２６１の振動を打ち消すように伸縮する。除振部２７１が伸縮することで、回転式ホイルトラップ２３６の動作等により発生する中間部材２６１の振動が抑制され、結果として中間部材２６１からチャンバ本体２０１に伝わる振動が抑制される。これにより、ＥＵＶ光が供給される利用装置における光の位置変動等を抑制することが可能となる。また、チャンバ本体２０１から利用装置に伝わる振動も抑制され、振動による不具合の発生等を回避することが可能となる。また、中間部材２６１の振動が抑制されるため、中間部材２６１に固定された集光鏡２５０の振動が抑制される。これにより、集光鏡２５０によるＥＵＶ光の集光精度の劣化を防ぐことが可能となる。
【0179】
図１７に示す例では、除振部２７１が駆動部２６４と調整軸２６５との間に設けられた。これにより、例えば伸縮長が比較的大きいリニアアクチュエータ等を導入することが可能となり、十分な除振性能を発揮することが可能となる。なお、他の部位に除振部２７１を設けてもよい。
例えば中間部材２６１と回転式ホイルトラップ２３６の固定部材（ＲＦＴ支持部２３７やホイルトラップカバー２４０）との間に除振部２７１が設けられてもよい。
また中間部材２６１と集光鏡２５０との間に除振部２７１が設けられてもよい。すなわち、除振機構２７０は、集光鏡２５０に伝わる振動を抑制するように構成されてもよい。これにより、例えばＥＵＶ光の集光精度を高いレベルで維持することが可能となる。
例えば中間部材２６１と回転式ホイルトラップ２３６の固定部材（ＲＦＴ支持部２３７やホイルトラップカバー２４０）との間に除振部２７１が設けられてもよい。
また中間部材２６１と集光鏡２５０との間に除振部２７１が設けられてもよい。すなわち、除振機構２７０は、集光鏡２５０に伝わる振動を抑制するように構成されてもよい。これにより、例えばＥＵＶ光の集光精度を高いレベルで維持することが可能となる。
【0180】
また除振機構２７０は、パッシブ除振が可能なように構成されてもよい。この場合、除振部２７１には、振動を減衰させるダンパーとして機能する部材等が用いられる。パッシブ除振では、例えば除振部２７１を安価に構成することが可能であるとともに、振動センサ等を設ける必要がない。このため、装置コストを抑えることが可能である。
【0181】
図１７では、位置調整機構２６２を備えるデブリトラップユニット２３０ｃに、除振機構２７０を設ける構成について説明した。これに限定されず、例えば図１２や図１５に示すように位置調整機構２６２を持たないデブリトラップユニットに除振機構２７０が設けられてもよい。この場合、例えば着脱部材２３１と回転式ホイルトラップ２３６の固定部材（ＲＦＴ支持部２３７やホイルトラップカバー２４０）との間に除振部２７１が設けられる。また着脱部材２３１と集光鏡２５０との間に除振部２７１が設けられてもよい。
【0182】
このように、集光鏡２５０をユニット化した構成では、除振機構２７０を設けることで、チャンバ本体２０１及び／又は集光鏡２５０に伝わる振動（回転式ホイルトラップ２３６の動作により発生する振動等）を抑制することが可能となる。これにより、適正に集光されたＥＵＶ光を利用装置に供給することが可能となる。
【0183】
＜その他の実施形態＞
本発明は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
本発明は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
【0184】
上記の実施形態では、プラズマＰからＥＵＶ光を取り出すＥＵＶ光源装置について説明した。これに限定されず、プラズマＰからＥＵＶ光よりも波長の短いＸ線等を取り出す光源装置に本発明が適用されてもよい。
【0185】
また、上記の実施形態では、主にＬＤＰ方式の光源装置について説明したが、ＥＵＶ光やＸ線等の放射線を生成するための方式は限定されない。例えばＬＰＰ方式の光源装置に本発明が適用されてもよい。この他、プラズマＰを発生させる任意の装置において、プラズマＰからのデブリＤＢを捕捉する場合には、本発明に係るデブリトラップユニットを適用することで、ホイルトラップのメンテナンスを効率化することが可能となる。
【0186】
本開示において、説明の理解を容易とするために、「略」「おおよそ」等の文言が適宜使用されているが、これらの文言を使用する場合と使用しない場合とで、明確な差異が規定されるわけではない。
すなわち、本開示において、「中心」「等しい」「同じ」「直交」「平行」「対称」「円筒」等の、形状、サイズ、位置関係、状態等を規定する概念は、「実質的に中心」「実質的に等しい」「実質的に同じ」「実質的に直交」「実質的に平行」「実質的に対称」「実質的に円筒」等を含む概念とする。
例えば「完全に中心」「完全に等しい」「完全に同じ」「完全に直交」「完全に平行」「完全に対称」「完全に円筒」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。
従って、「略」「おおよそ」等の文言が付加されていない場合でも、いわゆる「略」「おおよそ」等を付加して表現され得る概念が含まれ得る。反対に、「略」「おおよそ」等を付加して表現された状態について、完全な状態が必ず排除されるというわけではない。
すなわち、本開示において、「中心」「等しい」「同じ」「直交」「平行」「対称」「円筒」等の、形状、サイズ、位置関係、状態等を規定する概念は、「実質的に中心」「実質的に等しい」「実質的に同じ」「実質的に直交」「実質的に平行」「実質的に対称」「実質的に円筒」等を含む概念とする。
例えば「完全に中心」「完全に等しい」「完全に同じ」「完全に直交」「完全に平行」「完全に対称」「完全に円筒」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。
従って、「略」「おおよそ」等の文言が付加されていない場合でも、いわゆる「略」「おおよそ」等を付加して表現され得る概念が含まれ得る。反対に、「略」「おおよそ」等を付加して表現された状態について、完全な状態が必ず排除されるというわけではない。
【0187】
本開示において、「Ａより大きい」「Ａより小さい」といった「より」を使った表現は、Ａと同等である場合を含む概念と、Ａと同等である場合を含なまい概念の両方を包括的に含む表現である。例えば「Ａより大きい」は、Ａと同等は含まない場合に限定されず、「Ａ以上」も含む。また「Ａより小さい」は、「Ａ未満」に限定されず、「Ａ以下」も含む。
本技術を実施する際には、上記で説明した効果が発揮されるように、「Ａより大きい」及び「Ａより小さい」に含まれる概念から、具体的な設定等を適宜採用すればよい。
本技術を実施する際には、上記で説明した効果が発揮されるように、「Ａより大きい」及び「Ａより小さい」に含まれる概念から、具体的な設定等を適宜採用すればよい。
【0188】
以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。
【符号の説明】
【0189】
Ｆ…ホイル
ＦＴ…ホイルトラップ
１、２０１…チャンバ本体
１５…接続チャンバ
１６、９０…出射口
１７…開口部
３０、５０、６０、７０、８０、２３０、２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ…デブリトラップユニット
３１、５１、６１、２３１…着脱部材
３２、５２、６２、２３２…回転軸
３３、５３、６３、２３３…回転駆動部
３４…ガイド機構
３６、５６、６６、２３６…回転式ホイルトラップ
５４…補強部材
５５…補強部
６７、２４５…固定式ホイルトラップ
６９、２４８…ガス導入管
７１、２４０…ホイルトラップカバー
８１…遮熱部材
８２…検出センサ
９２…第２の開口部
１００、２００…ＥＵＶ光源装置
２５０…集光鏡
２６２…位置調整機構
２７０…除振機構
ＦＴ…ホイルトラップ
１、２０１…チャンバ本体
１５…接続チャンバ
１６、９０…出射口
１７…開口部
３０、５０、６０、７０、８０、２３０、２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ…デブリトラップユニット
３１、５１、６１、２３１…着脱部材
３２、５２、６２、２３２…回転軸
３３、５３、６３、２３３…回転駆動部
３４…ガイド機構
３６、５６、６６、２３６…回転式ホイルトラップ
５４…補強部材
５５…補強部
６７、２４５…固定式ホイルトラップ
６９、２４８…ガス導入管
７１、２４０…ホイルトラップカバー
８１…遮熱部材
８２…検出センサ
９２…第２の開口部
１００、２００…ＥＵＶ光源装置
２５０…集光鏡
２６２…位置調整機構
２７０…除振機構
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】