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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024124706
(43)【公開日】2024-09-13
(54)【発明の名称】Ｎ－アリールアミド化合物の製造方法
(51)【国際特許分類】
C07C 231/10 20060101AFI20240906BHJP
C07C 233/75 20060101ALI20240906BHJP
B01J 21/16 20060101ALI20240906BHJP
B01J 27/188 20060101ALI20240906BHJP
B01J 29/18 20060101ALI20240906BHJP
B01J 29/08 20060101ALI20240906BHJP
B01J 29/70 20060101ALI20240906BHJP
C07B 61/00 20060101ALN20240906BHJP
【ＦＩ】
C07C231/10
C07C233/75
B01J21/16 Z
B01J27/188 Z
B01J29/18 Z
B01J29/08 Z
B01J29/70 Z
C07B61/00 300
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023032578
(22)【出願日】2023-03-03
(71)【出願人】
【識別番号】301021533
【氏名又は名称】国立研究開発法人産業技術総合研究所
(72)【発明者】
【氏名】市塚 知宏
(72)【発明者】
【氏名】牧野 貴至
(72)【発明者】
【氏名】石坂 孝之
【テーマコード（参考）】
4G169
4H006
4H039
【Ｆターム（参考）】
4G169AA02
4G169AA03
4G169BA02A
4G169BA03A
4G169BA07A
4G169BA07B
4G169BA10A
4G169BA10B
4G169BA45A
4G169BB04A
4G169BB07A
4G169BB07B
4G169BB14A
4G169BB14B
4G169BC16B
4G169BC22B
4G169BC31B
4G169BC35B
4G169BC51B
4G169BC60A
4G169BC60B
4G169BC66B
4G169BC67B
4G169BC68B
4G169BD07A
4G169BD07B
4G169CB25
4G169CB61
4G169DA08
4G169EA01Y
4G169EA02Y
4G169EA04Y
4G169EA06
4G169FB14
4G169FB26
4G169ZA04B
4G169ZA06A
4G169ZA06B
4G169ZA19B
4H006AA02
4H006AC53
4H006BA09
4H006BA10
4H006BA11
4H006BA14
4H006BA19
4H006BA20
4H006BA21
4H006BA71
4H006BB11
4H006BC10
4H006BJ50
4H006BP30
4H006BV55
4H039CA71
4H039CL25
(57)【要約】
【課題】簡便な方法で、効率よくN-アリールアミド化合物を製造できる方法を提供することである。
【解決手段】ビニルエステル類とアリールアミン類から直接的にN-アリールアミド化合物を製造する方法であって、前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類とを、ハメットの酸度関数（Ｈ０）の値が－８以下である不均一系酸触媒の存在下で接触させる、N-アリールアミド化合物の製造方法である。前記不均一系酸触媒は、モンモリロナイト、モルデナイト、ゼオライト、シリカアルミナ、メソポーラスシリカ、ベントナイト、カオリナイト、オキソ酸担持金属酸化物、ヘテロポリ酸、ヘテロポリ酸担持金属酸化物からなる群から選択されるとよい。また、前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、８０℃以上１４０℃以下の温度下で行うことや、有機溶媒の不存在下で行うことでもよい。
【選択図】なし
【解決手段】ビニルエステル類とアリールアミン類から直接的にN-アリールアミド化合物を製造する方法であって、前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類とを、ハメットの酸度関数（Ｈ０）の値が－８以下である不均一系酸触媒の存在下で接触させる、N-アリールアミド化合物の製造方法である。前記不均一系酸触媒は、モンモリロナイト、モルデナイト、ゼオライト、シリカアルミナ、メソポーラスシリカ、ベントナイト、カオリナイト、オキソ酸担持金属酸化物、ヘテロポリ酸、ヘテロポリ酸担持金属酸化物からなる群から選択されるとよい。また、前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、８０℃以上１４０℃以下の温度下で行うことや、有機溶媒の不存在下で行うことでもよい。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ビニルエステル類とアリールアミン類から直接的にN-アリールアミド化合物を製造する方法であって、前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類とを、ハメットの酸度関数（Ｈ０）の値が－８以下である不均一系酸触媒の存在下で接触させることを特徴とするN-アリールアミド化合物の製造方法。
【請求項2】
前記ビニルエステル類は下記式（１）で表され、前記アリールアミン類は下記式（２）で表され、前記N-アリールアミド化合物は下記式（３）で表されることを特徴とする請求項１に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法。
（式（１）中、Ｒ１は、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基またはアルキニル基である。さらに、Ｒ１は置換基を備えていても良い。Ｒ２は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアルコキシ基である。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ互いに独立して水素原子、アルキル基、またはアリール基である。）
（式（２）および式（３）中、Ｒ５－Ｒ９は、それぞれ互いに独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、ニトリル基、またはハロゲン原子である。さらに、Ｒ５－Ｒ９は、置換基を備えていても良い。また、Ｒ５－Ｒ９において、隣接する２箇所が結合して環を形成していてもよい。Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基である。）
【化1】
【化2】
【化3】
【請求項3】
前記不均一系酸触媒は、モンモリロナイト、モルデナイト、ゼオライト、シリカアルミナ、メソポーラスシリカ、ベントナイト、カオリナイト、オキソ酸担持金属酸化物、ヘテロポリ酸、ヘテロポリ酸担持金属酸化物からなる群から選択される、１種または２種以上であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法。
【請求項4】
前記不均一系酸触媒は、プロトン型モンモリロナイト、金属交換型モンモリロナイト、プロトン型モルデナイト、プロトン型ゼオライト、りんタングステン酸からなる群から選択される、１種または２種以上であることを特徴とする請求項３に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法。
【請求項5】
前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、８０℃以上１４０℃以下の温度下で行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法。
【請求項6】
前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、８０℃以上１４０℃以下の温度下で行うことを特徴とする請求項３に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法。
【請求項7】
前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、８０℃以上１４０℃以下の温度下で行うことを特徴とする請求項４に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法。
【請求項8】
前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、有機溶媒の不存在下で行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法。
【請求項9】
前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、有機溶媒の不存在下で行うことを特徴とする請求項３に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法。
【請求項10】
前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、有機溶媒の不存在下で行うことを特徴とする請求項４に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、N-アリールアミド化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
N-アリールアミド化合物は、ブロック共重合体型熱可塑性エラストマーのハードセグメントのモノマー、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、液晶ポリマー、エポキシ樹脂等の原料、高分子化合物の添加剤、感熱記録材料用の薬剤として有用な化合物である。また、N-アリールアミド化合物を合成する反応は、電子材料、医薬品、農薬等の各種化学品の製造における主要構造を構成するための重要反応として知られている。
【0003】
N-アリールアミド化合物は、ビニルエステル類とアリールアミン類から直接的に得られるが、この反応は反応性が低いため、反応性を飛躍的に向上させるための添加剤または触媒を加えることが必要とされる。
例えば、N-アリールアミド化合物の製造方法として、ビニルエステルとアリールアミンの混合物へ硫酸などの強酸を加えて反応させる方法が知られている（非特許文献1）。また、ビニルエステルとアリールアミンの混合物へヨウ素を加えて反応させる製造方法も知られている（非特許文献２）。さらに、触媒として、鉄(III)トリフラートを用いるビニルエステルとアリールアミンの反応によるN-アリールアミド化合物の製造方法が報告されている（非特許文献３）。
例えば、N-アリールアミド化合物の製造方法として、ビニルエステルとアリールアミンの混合物へ硫酸などの強酸を加えて反応させる方法が知られている（非特許文献1）。また、ビニルエステルとアリールアミンの混合物へヨウ素を加えて反応させる製造方法も知られている（非特許文献２）。さらに、触媒として、鉄(III)トリフラートを用いるビニルエステルとアリールアミンの反応によるN-アリールアミド化合物の製造方法が報告されている（非特許文献３）。
【0004】
他の触媒を用いるN-アリールアミド化合物の製造方法としては、有機触媒としてトリアゾールと強塩基を用いるビニルエステルとアリールアミンの反応による方法が報告されている（非特許文献４）。また、有機触媒としてイミダゾリウム塩と強塩基を用いるビニルエステルとアリールアミンの反応によるN-アリールアミド化合物の製造方法も知られている（非特許文献５）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0005】
【非特許文献1】Rothman, E. S., et al. The Journal of Organic Chemistry 1969, vol.34, No.8, pp.2486-2488.
【非特許文献2】Ahmed, N., et al. Tetrahedron Letters 2006, 47, pp.5345-5349.
【非特許文献3】Zhu, X., et al. Green Chemistry 2018, 20, pp.1444-1447.
【非特許文献4】Yang, X., et al. Organic Letters 2009, vol.11, No.7, pp.1499-1502.
【非特許文献5】Guo, H., et al. Tetrahedron 2015, 71, pp.3472-3477.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
非特許文献１－２に記載の方法では、硫酸やヨウ素を使用することから、製造容器の腐食や硫酸等の後処理の煩雑さにより、産業上有利な方法とは言えない。
また、非特許文献３に記載の方法は、腐食性の低い触媒を用いるものの不安定で取り扱いが難しく、かつ高価な鉄(III)トリフラートを必要とすることや、生成物と触媒成分との分離に多くの手間とコストもかかることから、この方法も産業上有利な方法とは言えない。
そして、非特許文献４－５に記載の方法においても、反応後に生成物中へ触媒等が溶け込んでしまい、生成物の精製処理に多くのエネルギーが必要であり、また精製処理で生じた副産物の廃棄処理に手間と費用もかかる。
また、非特許文献３に記載の方法は、腐食性の低い触媒を用いるものの不安定で取り扱いが難しく、かつ高価な鉄(III)トリフラートを必要とすることや、生成物と触媒成分との分離に多くの手間とコストもかかることから、この方法も産業上有利な方法とは言えない。
そして、非特許文献４－５に記載の方法においても、反応後に生成物中へ触媒等が溶け込んでしまい、生成物の精製処理に多くのエネルギーが必要であり、また精製処理で生じた副産物の廃棄処理に手間と費用もかかる。
【0007】
本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、簡便で効率よく、ビニルエステル類とアリールアミン類からN-アリールアミド化合物を製造可能な方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明によれば、生成物との分離が困難な均一系触媒を使用する代わりに、腐食性がなく、かつ生成物と溶け合わない不均一系酸触媒（固体酸触媒）を用いて効果的に基質を活性化することで、比較的温和な反応条件下で効率よくビニルエステル類とアリールアミン類から直接的に様々なN-アリールアミド化合物を製造できる。
【0009】
本発明は、下記に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法に関する。
（１）ビニルエステル類とアリールアミン類から直接的にN-アリールアミド化合物を製造する方法であって、前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類とを、ハメットの酸度関数（Ｈ０）の値が－８以下である不均一系酸触媒の存在下で接触させる、N-アリールアミド化合物の製造方法である。
（２）前記ビニルエステル類は下記式（１）で表され、前記アリールアミン類は下記式（２）で表され、前記N-アリールアミド化合物は下記式（３）で表される、前記（１）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（式（１）中、Ｒ１は、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基またはアルキニル基である。さらに、Ｒ１は置換基を備えていても良い。Ｒ２は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアルコキシ基である。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ互いに独立して水素原子、アルキル基、またはアリール基である。）
（式（２）および式（３）中、Ｒ５－Ｒ９は、それぞれ互いに独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、ニトリル基、またはハロゲン原子である。さらに、Ｒ５－Ｒ９は、置換基を備えていても良い。また、Ｒ５－Ｒ９において、隣接する２箇所が結合して環を形成していてもよい。Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基である。）
（１）ビニルエステル類とアリールアミン類から直接的にN-アリールアミド化合物を製造する方法であって、前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類とを、ハメットの酸度関数（Ｈ０）の値が－８以下である不均一系酸触媒の存在下で接触させる、N-アリールアミド化合物の製造方法である。
（２）前記ビニルエステル類は下記式（１）で表され、前記アリールアミン類は下記式（２）で表され、前記N-アリールアミド化合物は下記式（３）で表される、前記（１）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
【化1】
【化2】
【化3】
【0010】
（３）前記不均一系酸触媒は、モンモリロナイト、モルデナイト、ゼオライト、シリカアルミナ、メソポーラスシリカ、ベントナイト、カオリナイト、オキソ酸担持金属酸化物、ヘテロポリ酸、ヘテロポリ酸担持金属酸化物からなる群から選択される、１種または２種以上である前記（１）または（２）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（４）前記不均一系酸触媒は、プロトン型モンモリロナイト、金属交換型モンモリロナイト、プロトン型モルデナイト、プロトン型ゼオライト、りんタングステン酸からなる群から選択される、１種または２種以上である前記（３）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（５）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、８０℃以上１４０℃以下の温度下で行う、前記（１）または（２）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（６）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、８０℃以上１４０℃以下の温度下で行う、前記（３）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（７）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、８０℃以上１４０℃以下の温度下で行う、前記（４）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（８）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、有機溶媒の不存在下で行う、前記（１）または（２）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（９）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、有機溶媒の不存在下で行う、前記（３）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（１０）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、有機溶媒の不存在下で行う、前記（４）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（４）前記不均一系酸触媒は、プロトン型モンモリロナイト、金属交換型モンモリロナイト、プロトン型モルデナイト、プロトン型ゼオライト、りんタングステン酸からなる群から選択される、１種または２種以上である前記（３）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（５）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、８０℃以上１４０℃以下の温度下で行う、前記（１）または（２）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（６）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、８０℃以上１４０℃以下の温度下で行う、前記（３）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（７）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、８０℃以上１４０℃以下の温度下で行う、前記（４）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（８）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、有機溶媒の不存在下で行う、前記（１）または（２）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（９）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、有機溶媒の不存在下で行う、前記（３）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
（１０）前記ビニルエステル類と前記アリールアミン類との反応を、有機溶媒の不存在下で行う、前記（４）に記載のN-アリールアミド化合物の製造方法である。
【発明の効果】
【0011】
本発明によれば、簡便で効率よく、ビニルエステル類とアリールアミン類からN-アリールアミド化合物を製造可能な方法を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下において、本発明の実施の形態について詳しく説明する。なお、本発明の実施の形態において、温度範囲や濃度範囲等を示すときは、特に記載がない場合は上限値及び下限値を含むものとする。また、％濃度は質量％を示すものとする。さらに、以下の説明において例示される材料等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。
【0013】
本実施形態のN-アリールアミド化合物の製造方法は、不均一系酸触媒の存在下、所定温度でビニルエステル類とアリールアミン類とを反応させて、直接的にN-アリールアミド化合物を製造する方法である。なお、「直接的に」とは、「ビニルエステル類を別の活性エステルへと誘導する段階を経ずに」を意味している。すなわち、一段階で合成できることである。また、ビニルエステル類とアリールアミン類を「基質」とも記す。以下、各化合物について具体的に説明する。
【0014】
（基質）
基質としては、ビニルエステル類であれば特に制限はない。また、アリールアミン類も特に制限はない。基質としては、例えば、下記式（１）で表される化合物（以下、「化合物１」とも記す。）、下記式（２）で表される化合物（以下、「化合物２」とも記す。）等の、カルボン酸のビニルエステル化合物、及び芳香環に各種置換基が接続されたアリールアミン化合物が挙げられる。
基質としては、ビニルエステル類であれば特に制限はない。また、アリールアミン類も特に制限はない。基質としては、例えば、下記式（１）で表される化合物（以下、「化合物１」とも記す。）、下記式（２）で表される化合物（以下、「化合物２」とも記す。）等の、カルボン酸のビニルエステル化合物、及び芳香環に各種置換基が接続されたアリールアミン化合物が挙げられる。
【化4】
【0015】
式（１）中、Ｒ１は、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基またはアルキニル基である。例えば、炭素数１－１０、好ましくは汎用的である炭素数１－６のものが挙げられる。これらの官能基にはさらに、炭素数１－１０、好ましくは汎用的である炭素数１－６の炭化水素基、酸素含有基、窒素含有基、硫黄含有基、ハロゲン原子などの置換基を備えていても良い。置換基は、複数個有していても良い。例えば、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトリル基、チオール基、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）等の置換基が挙げられる。ヘテロアリール基のヘテロ原子は、酸素、窒素、硫黄等が挙げられる。Ｒ２は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはアルコキシ基である。例えば、炭素数１－８、好ましくは汎用的である炭素数１－６のものが挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、エトキシ基等である。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ互いに独立して水素原子、アルキル基、またはアリール基である。例えば、炭素数１－８、好ましくは汎用的である炭素数１－６のものが挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基等である。これらの中でも、反応性や原子効率、生成物と共生成物の分離の簡便さなどの観点から、Ｒ２にメチル基、Ｒ３とＲ４に水素原子を有するイソプロペニルエステルが好ましい。
【0016】
具体的には、カルボン酸のビニルエステル化合物としては、酢酸、p-トリル酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、ステアリン酸、オレイン酸、シトロネル酸、ケイ皮酸、2-フェニルプロピオン酸、3-フェニルプロピオン酸、フェニル酢酸、2-フェノキシ酢酸、マンデル酸、N-保護グリシン、N-保護アラニン、N-保護フェニルアラニンなどのN-保護アミノ酸、安息香酸、4-メチル安息香酸、4-メトキシ安息香酸、4-クロロ安息香酸、4-ニトロ安息香酸、2-メチル安息香酸、2-トリフルオロメチル安息香酸、ピリジンカルボン酸等のビニルエステル化合物及びイソプロペニルエステル化合物などが挙げられる。N-保護アミノ酸の保護基の種類としては、N-アセチル、N-カルボベンゾキシ、N-(9-フルオレニルメチルオキシカルボニル)などが挙げられる。そして、これらの中でも、エステルの反応性と共生成物の安定性・安全性・除去の簡便さなどの観点から、カルボン酸イソプロペニルエステル化合物が好ましい。
なお、ビニルエステルとは、通常、式（１）において、Ｒ２－Ｒ４がすべて水素原子の構造を有するものを指すが、本明細書においては、Ｒ２－Ｒ４がすべて水素原子には限定されないことから、ビニルエステル類と記している。なお、単にビニルエステルという場合もある。
なお、ビニルエステルとは、通常、式（１）において、Ｒ２－Ｒ４がすべて水素原子の構造を有するものを指すが、本明細書においては、Ｒ２－Ｒ４がすべて水素原子には限定されないことから、ビニルエステル類と記している。なお、単にビニルエステルという場合もある。
【0017】
【化5】
Ｒ５－Ｒ９は、反応性の観点から、アルキル基やアルコキシ基、アミノ基などの電子供与性の置換基であることが好ましい。ただし、Ｒ５－Ｒ９のうち１つが電子吸引性の置換基であっても、問題なくN-アリールアミドを合成することができる。
Ｒ５及びＲ９は、反応性の観点から、立体的に小さな水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基であることが好ましい。ただし、Ｒ５とＲ９のうち１つが、炭素数が３以上のイソプロピル基やフェニル基といった立体的に大きな置換基であっても、問題なくN-アリールアミドを合成することができる。
【0018】
具体的には、アニリン、2-メトキシアニリン、3-メトキシアニリン、4-メトキシアニリン、3-イソプロポキシアニリン、o-トルイジン、p-トルイジン、2,6-ジメチルアニリン、2,4,6-トリメチルアニリン、4-ヒドロキシアニリン、4-アミノ安息香酸メチル、4-アミノアセトフェノン、4-ニトロアニリン、3-アミノアセトフェノン、3-アミノベンゾニトリル、4-フルオロアニリン、4-クロロアニリン、4-ブロモアニリン、4-ヨードアニリン、1-アミノナフタレン、2-アミノピリジン、3-アミノピリジン、4-アミノピリジン、N-メチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。なお、アリールアミンとは、通常、芳香環上にアミノ基を有するものを指すが、本明細書においては、ヘテロ芳香環上にアミノ基を有するヘテロアリールアミンも含むことから、アリールアミン類と記している。
【0019】
そして、基質としてのビニルエステル類とアリールアミン類の当量について、アリールアミン類の使用量は、ビニルエステル類に対して、反応効率の観点から、０．５当量から３．０当量が好ましく、特に原子効率や生成物の精製操作の簡便さの観点から、１．０当量から２．０当量がより好ましく、１．１当量から１．５当量が特に好ましい。
【0020】
（触媒）
不均一系酸触媒は、表面にブレンステッド酸点もしくはルイス酸点、あるいはその両方を備えている。また、不均一系酸触媒は基質や生成物と溶け合わず、反応前後で分解もしないため、反応後に濾別および回収することにより、再利用できる。不均一系酸触媒の形態は、特に制限がないが、粉末状、粒状、球状、円柱型などが例示される。好ましくはミクロ細孔構造やメソ細孔構造、層構造を有し酸性度の高い、ゼオライト、シリカアルミナ、メソポーラスシリカ、モンモリロナイトやモルデナイトやカオリナイトなどの粘土鉱物、オキソ酸担持金属酸化物（硫酸化ジルコニア、硫酸化チタニア、硫酸化アルミナ、タングステン酸ジルコニア、モリブデン酸ジルコニアなど）、ヘテロポリ酸やヘテロポリ酸担持金属酸化物（りんタングステン酸担持シリカ、りんタングステン酸担持アルミナ、りんタングステン酸担持ジルコニア、けいタングステン酸担持シリカ、りんモリブデン酸担持シリカなど）等が挙げられる。前記オキソ酸としては、硫酸、ホウ酸、タングステン酸、モリブデン酸などが挙げられる。ゼオライトで好ましくは、プロトン置換したプロトン型（プロトン交換型）ゼオライトや金属交換型ゼオライトである。また、モンモリロナイトで好ましくは、プロトン型モンモリロナイト、金属交換型モンモリロナイトである。これらを複数混合して用いても良い。
不均一系酸触媒は、表面にブレンステッド酸点もしくはルイス酸点、あるいはその両方を備えている。また、不均一系酸触媒は基質や生成物と溶け合わず、反応前後で分解もしないため、反応後に濾別および回収することにより、再利用できる。不均一系酸触媒の形態は、特に制限がないが、粉末状、粒状、球状、円柱型などが例示される。好ましくはミクロ細孔構造やメソ細孔構造、層構造を有し酸性度の高い、ゼオライト、シリカアルミナ、メソポーラスシリカ、モンモリロナイトやモルデナイトやカオリナイトなどの粘土鉱物、オキソ酸担持金属酸化物（硫酸化ジルコニア、硫酸化チタニア、硫酸化アルミナ、タングステン酸ジルコニア、モリブデン酸ジルコニアなど）、ヘテロポリ酸やヘテロポリ酸担持金属酸化物（りんタングステン酸担持シリカ、りんタングステン酸担持アルミナ、りんタングステン酸担持ジルコニア、けいタングステン酸担持シリカ、りんモリブデン酸担持シリカなど）等が挙げられる。前記オキソ酸としては、硫酸、ホウ酸、タングステン酸、モリブデン酸などが挙げられる。ゼオライトで好ましくは、プロトン置換したプロトン型（プロトン交換型）ゼオライトや金属交換型ゼオライトである。また、モンモリロナイトで好ましくは、プロトン型モンモリロナイト、金属交換型モンモリロナイトである。これらを複数混合して用いても良い。
【0021】
ヘテロポリ酸としては、例えば、けいタングステン酸、けいモリブデン酸、りんタングステン酸、りんモリブデン酸、けいタングストモリブデン酸、りんバナドタングステン酸、りんバナドモリブデン酸、りんタングストモリブデン酸、けいバナドタングステン酸、および、けいバナドモリブデン酸などが挙げられる。なお、ヘテロポリ酸は、上記に示したものに限定されない。このような固体のヘテロポリ酸は、結晶水を含んでもよく、結晶水を含まなくてもよい。
そして、これら不均一系酸触媒の中でも、安価で入手性が高いこと、反応に適した酸強度により副反応が少なく、高い収率でN-アリールアミドが得られることから、プロトン型モンモリロナイト、金属交換型モンモリロナイトが好ましい。また、金属交換型モンモリロナイトの金属として、チタン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコニウム等の遷移金属や、アルミニウム、スズ等が挙げられる。
そして、これら不均一系酸触媒の中でも、安価で入手性が高いこと、反応に適した酸強度により副反応が少なく、高い収率でN-アリールアミドが得られることから、プロトン型モンモリロナイト、金属交換型モンモリロナイトが好ましい。また、金属交換型モンモリロナイトの金属として、チタン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ジルコニウム等の遷移金属や、アルミニウム、スズ等が挙げられる。
【0022】
これらの不均一系酸触媒は、表面に超強酸性あるいはそれに匹敵する強酸性を示す活性点を有する。例えば、酸の強さを表すハメットの酸度関数（Ｈ０）の値が－８以下である固体酸触媒が好ましい。ハメットの酸度関数（Ｈ０）とは、ある溶媒が塩基にプロトンを与える能力を表す尺度であり、固体表面に適用することで不均一系触媒の酸性点の強さ（酸強度）を定量的に表すことができる。Ｈ０の値が小さいほど酸強度が強いと言える。そして、Ｈ０の値は、プロトン型モンモリロナイト、アルミニウム(III)交換型モンモリロナイト、スズ(IV)交換型モンモリロナイトにおいて、いずれもＨ０≦－８．２である。（出典：Bensei, H. A. Journal of the American Chemical Society, 1956, vol.78, pp.5490-5494.； Izumi, Y. et al. Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1993, vol.66, pp.2016-2032.）
この反応では、下記式に示すように、酸触媒（HX）とアリールアミン(ArNH2)の一部が反応して生成するアンモニウム塩（ArNH3X)が触媒活性種と考えられる。
ＡｒＮＨ２ ＋ ＨＸ → ＡｒＮＨ３Ｘ
アンモニウム塩がビニルエステル類を求電子的に活性化することで、アリールアミンとのアミド化反応が円滑に進行するものである。
そして、このアンモニウム塩の窒素上のプロトンは、酸性を示す。また、その酸の強さは、元の酸触媒(HX)の強さに依存する。したがって、触媒活性種のArNH3Xがビニルエステル類を活性化できるだけの十分な酸触媒活性を示すためには、酸触媒HXが超強酸あるいは強酸（Ｈ０≦－８）であることが好ましい。遷移金属、ランタノイド、その他周期表の第１２－１４族等の金属の、単一の金属酸化物（例えば、アルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウムなど）やこれらの混合物は、固体酸触媒として汎用されるものであるが、酸性度が高くないため、この反応には適さない。また、遷移金属やランタノイド等は、毒性が高い、コストがかかる、製品中への残留量管理が厳しいなどの問題もある。ここで、金属交換型モンモリロナイトには遷移金属が含まれる場合があるものの、遷移金属の含有量はごく少量であり、かつ構造的な特徴から遷移金属成分の漏れ出しはほとんどなく、上記のような問題は生じない。なお、上記した不均一系酸触媒はＨ０が－８以下のものであるが、これらの不均一系酸触媒に限定されるものではない。また、これらの中でも、りんタングステン酸のＨ０は－１４であり、固体酸では最も強い酸であるといえる。
この反応では、下記式に示すように、酸触媒（HX）とアリールアミン(ArNH2)の一部が反応して生成するアンモニウム塩（ArNH3X)が触媒活性種と考えられる。
ＡｒＮＨ２ ＋ ＨＸ → ＡｒＮＨ３Ｘ
アンモニウム塩がビニルエステル類を求電子的に活性化することで、アリールアミンとのアミド化反応が円滑に進行するものである。
そして、このアンモニウム塩の窒素上のプロトンは、酸性を示す。また、その酸の強さは、元の酸触媒(HX)の強さに依存する。したがって、触媒活性種のArNH3Xがビニルエステル類を活性化できるだけの十分な酸触媒活性を示すためには、酸触媒HXが超強酸あるいは強酸（Ｈ０≦－８）であることが好ましい。遷移金属、ランタノイド、その他周期表の第１２－１４族等の金属の、単一の金属酸化物（例えば、アルミナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウムなど）やこれらの混合物は、固体酸触媒として汎用されるものであるが、酸性度が高くないため、この反応には適さない。また、遷移金属やランタノイド等は、毒性が高い、コストがかかる、製品中への残留量管理が厳しいなどの問題もある。ここで、金属交換型モンモリロナイトには遷移金属が含まれる場合があるものの、遷移金属の含有量はごく少量であり、かつ構造的な特徴から遷移金属成分の漏れ出しはほとんどなく、上記のような問題は生じない。なお、上記した不均一系酸触媒はＨ０が－８以下のものであるが、これらの不均一系酸触媒に限定されるものではない。また、これらの中でも、りんタングステン酸のＨ０は－１４であり、固体酸では最も強い酸であるといえる。
【0023】
（N-アリールアミドの合成）
上記した二種類の基質を上記不均一系酸触媒の存在下で混合させることにより、反応が進行してN-アリールアミドが得られる。
基質と触媒を接触させる方法としては、例えば、基質と触媒を容器に収容し、空気下で攪拌する方法が挙げられる。本実施形態のN-アリールアミド化合物の製造方法では、バッチ式反応器を用いてもよいし、不均一系酸触媒を充填した反応器を用いて、基質（原料）の反応器への導入と反応器内で生成する生成物の排出を連続的に行う連続式の方法でも行うことができる。
不均一系酸触媒の使用量は、例えば、プロトン型モンモリロナイトについては、一例として、基質の使用量に対して１－１００質量％、好ましくは５－５０質量％、より好ましくは１０－３０質量％である。不均一系酸触媒の使用量が前記下限値以上であれば、基質同士の反応が進みやすい。不均一系触媒の使用量が前記上限値を超えると、加えた触媒の攪拌効果が見込めず反応効率も頭打ちとなる。
上記した二種類の基質を上記不均一系酸触媒の存在下で混合させることにより、反応が進行してN-アリールアミドが得られる。
基質と触媒を接触させる方法としては、例えば、基質と触媒を容器に収容し、空気下で攪拌する方法が挙げられる。本実施形態のN-アリールアミド化合物の製造方法では、バッチ式反応器を用いてもよいし、不均一系酸触媒を充填した反応器を用いて、基質（原料）の反応器への導入と反応器内で生成する生成物の排出を連続的に行う連続式の方法でも行うことができる。
不均一系酸触媒の使用量は、例えば、プロトン型モンモリロナイトについては、一例として、基質の使用量に対して１－１００質量％、好ましくは５－５０質量％、より好ましくは１０－３０質量％である。不均一系酸触媒の使用量が前記下限値以上であれば、基質同士の反応が進みやすい。不均一系触媒の使用量が前記上限値を超えると、加えた触媒の攪拌効果が見込めず反応効率も頭打ちとなる。
【0024】
また、反応系に溶媒を含んでいてもよいが、無溶媒でも反応は進行する。溶媒には、反応の進行を阻害しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶媒が使用できる。例えば、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、アセトニトリル等がある。これらの溶媒は単独で使用しても、２種類以上を混合使用してもよい。溶媒の使用量は、基質に対して質量比で０．１－１０倍が好ましく、１－５倍がより好ましい。反応速度の観点から、溶媒の使用量は前記上限値とすることが好ましい。そして、反応条件に特に制限はないが、反応温度は、好ましくは３０－１５０℃、反応性の観点から、より好ましくは８０－１４０℃、さらに好ましくは１００－１４０℃、反応性と省エネルギー化の観点から、より一層好ましくは１１０－１３０℃である。反応時間は、基質同士の組み合わせや用いる触媒の量および反応温度等により左右され、一概に決めることはできないが、通常は１－４８時間あればよく、反応性や生産性、省エネルギー化の観点から、３－２４時間の範囲が好ましい。そして、反応終了後、濾過、洗浄、再結晶等の通常の方法によって、生成物（N-アリールアミド化合物）を取り出すことができる。
【0025】
（生成物）
上記のように基質であるビニルエステル類（化合物１）とアリールアミン類（化合物２）との反応によって得られる目的化合物のN-アリールアミド化合物は、下記の式（３）で表される（以下、「化合物３」とも記す。）。なお、Ｒ１及びＲ５－Ｒ１０は上記式（１）および式（２）で示したものと同じである。また、共生成物として、下記の式（４）で表されるカルボニル化合物が生成する。例えば、ビニルエステル（Ｒ２－Ｒ４がすべて水素原子）の場合はアセトアルデヒドが共生成物となり、イソプロペニルエステル（Ｒ２がメチル基、Ｒ３及びＲ４が水素原子）の場合はアセトンが共生成物となる。アセトアルデヒドやアセトンは低沸点溶媒のため容易に除去できる。他のカルボニル化合物の場合も、洗浄により容易に除去することができる。N-アリールアミド化合物は結晶性が高く、低極性有機溶媒には溶解しない。したがって、粗生成物を炭化水素溶媒で洗浄すると、共生成物や未反応原料だけを洗い流すことができる。
上記のように基質であるビニルエステル類（化合物１）とアリールアミン類（化合物２）との反応によって得られる目的化合物のN-アリールアミド化合物は、下記の式（３）で表される（以下、「化合物３」とも記す。）。なお、Ｒ１及びＲ５－Ｒ１０は上記式（１）および式（２）で示したものと同じである。また、共生成物として、下記の式（４）で表されるカルボニル化合物が生成する。例えば、ビニルエステル（Ｒ２－Ｒ４がすべて水素原子）の場合はアセトアルデヒドが共生成物となり、イソプロペニルエステル（Ｒ２がメチル基、Ｒ３及びＲ４が水素原子）の場合はアセトンが共生成物となる。アセトアルデヒドやアセトンは低沸点溶媒のため容易に除去できる。他のカルボニル化合物の場合も、洗浄により容易に除去することができる。N-アリールアミド化合物は結晶性が高く、低極性有機溶媒には溶解しない。したがって、粗生成物を炭化水素溶媒で洗浄すると、共生成物や未反応原料だけを洗い流すことができる。
【化6】
【化7】
【0026】
上記化合物１と化合物２から化合物３が生成する反応をまとめた化学反応式（式（５））を以下に示す。
本実施形態によれば、前記した不均一系酸触媒を用いることで、反応性の低い各種置換ビニルエステル類と各種置換アリールアミン類を比較的温和な条件下で効率よく反応させることができ、様々な官能基を有するN-アリールアミド化合物を比較的高収率で得ることができる。また、前記不均一系酸触媒は、生成物に溶け込まず、かつ反応前後で分解もしないため、反応後に濾別および回収することにより、再利用できる。したがって、環境にも優しく、省エネルギー化にも優れるものである。このように、本実施形態によれば、簡便で効率よく、N-アリールアミド化合物を製造できる。
【化8】
【実施例0027】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に制限されるものではない。
N-アリールアミド化合物の合成における転化率および収率は、使用量が最少の原料および得られた目的生成物の質量とガスクロマトグラフィーに基づいて、下記の計算式からそれぞれ算出した。
転化率（％）＝（１－残存した原料の物質量／使用した原料の物質量）×１００
収率（％）＝（得られた目的化合物の物質量／使用した原料の物質量）×１００
触媒として反応に使用したプロトン型モンモリロナイトは、高純度モンモリロナイト（クニミネ工業株式会社、クニピア（登録商標）-F、Naイオン型）を希塩酸で処理することにより調製した。具体的には、高純度モンモリロナイト（10g）を、塩酸水溶液(1.1重量%、670mL)中、90℃で24時間撹拌し、得られたスラリーをろ過し、ろ液が中性になるまで蒸留水で洗浄した後、大気中110℃で乾燥し、灰色の粉末を得た。（参考文献：Kaneda, K. et al. Angewandte Chemie International Edition, 2006, Vol.45, pp.2605-2609.）。同じく、金属交換型モンモリロナイトは、市販の高純度モンモリロナイト（クニミネ工業株式会社、クニピア（登録商標）-F、Naイオン型）を各金属塩水溶液（Al(NO3)3・9H2O、Fe(NO3)3・9H2O、Co(NO3)2・6H2O、Ni(NO3)2・6H2O、Cu(NO3)2・3H2O、Zn(NO3)2・6H2O、ZrOCl2・8H2O、SnCl4・5H2O）で処理することにより調製した。具体的には、高純度モンモリロナイト（10g）を、各金属塩水溶液（2.0 mol/L、80mL）中、室温で３時間撹拌し、得られたスラリーをろ過し、ろ液が中性になるまで蒸留水とメタノールで洗浄した。得られた固体を40℃で減圧乾燥した後、さらに大気中110℃で乾燥し、金属交換型モンモリロナイトの粉末を得た。（参考文献：Izumi, Y. et al. Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1993, vol.66, pp.2016-2032.）。
N-アリールアミド化合物の合成における転化率および収率は、使用量が最少の原料および得られた目的生成物の質量とガスクロマトグラフィーに基づいて、下記の計算式からそれぞれ算出した。
転化率（％）＝（１－残存した原料の物質量／使用した原料の物質量）×１００
収率（％）＝（得られた目的化合物の物質量／使用した原料の物質量）×１００
触媒として反応に使用したプロトン型モンモリロナイトは、高純度モンモリロナイト（クニミネ工業株式会社、クニピア（登録商標）-F、Naイオン型）を希塩酸で処理することにより調製した。具体的には、高純度モンモリロナイト（10g）を、塩酸水溶液(1.1重量%、670mL)中、90℃で24時間撹拌し、得られたスラリーをろ過し、ろ液が中性になるまで蒸留水で洗浄した後、大気中110℃で乾燥し、灰色の粉末を得た。（参考文献：Kaneda, K. et al. Angewandte Chemie International Edition, 2006, Vol.45, pp.2605-2609.）。同じく、金属交換型モンモリロナイトは、市販の高純度モンモリロナイト（クニミネ工業株式会社、クニピア（登録商標）-F、Naイオン型）を各金属塩水溶液（Al(NO3)3・9H2O、Fe(NO3)3・9H2O、Co(NO3)2・6H2O、Ni(NO3)2・6H2O、Cu(NO3)2・3H2O、Zn(NO3)2・6H2O、ZrOCl2・8H2O、SnCl4・5H2O）で処理することにより調製した。具体的には、高純度モンモリロナイト（10g）を、各金属塩水溶液（2.0 mol/L、80mL）中、室温で３時間撹拌し、得られたスラリーをろ過し、ろ液が中性になるまで蒸留水とメタノールで洗浄した。得られた固体を40℃で減圧乾燥した後、さらに大気中110℃で乾燥し、金属交換型モンモリロナイトの粉末を得た。（参考文献：Izumi, Y. et al. Bulletin of the Chemical Society of Japan, 1993, vol.66, pp.2016-2032.）。
【0028】
（実施例１）
密栓可能な耐圧ガラス試験管(日電理化硝子株式会社製、外径１８mm、内容積２７mL)に、撹拌子と、基質として安息香酸イソプロペニルエステル（３２４mg）と4-メトキシアニリン（東京化成工業株式会社製）（２４６mg、２．０mmol）を入れ、さらに酸触媒としてプロトン型モンモリロナイト（２０質量％、１１４mg）を加えた。耐圧ガラス試験管を密栓し、１１０℃で１５時間撹拌してN-(４’-メトキシフェニル)ベンズアミドを得た。その後、溶媒としてアセトン（２０mL）と内部標準としてn-テトラデカン（富士フィルム和光純薬株式会社製）（７９mg、０．４０mmol）を加え、ガスクロマトグラフィー測定を行った。なお、安息香酸イソプロペニルエステルは、安息香酸とプロピンの付加反応により調製した。具体的には、耐圧反応容器（東京理化器械株式会社製、HIP-30）へ、[RuCl2(p-Cymene)]2（東京化成工業株式会社製）（0.5mol%、50μmol、31mg）、PPh3（富士フィルム和光純薬株式会社製）（1.0mol%、0.10mmol、26mg）、Na2CO3（富士フィルム和光純薬株式会社製）（1.0mol%、0.10mmol、11mg）、安息香酸（東京化成工業株式会社製）（10mmol、1.22g）、プロピンのテトラヒドロフラン溶液（東京化成工業株式会社製）（1.0M、15mmol、15mL）を加え、80℃、0.5MPa（窒素）にて24時間加熱撹拌した。反応溶液をろ過、減圧濃縮することにより得た粗生成物を、カラムクロマトグラフィー精製（充填材：シリカゲル、展開溶媒：ヘキサン－酢酸エチル）することにより、無色透明の液体（収率89%、8.9mmol、1.4g）を得た（参考文献：Goossen, L. J. et al. Chemical Communication, 2003, pp.706-707.）。
密栓可能な耐圧ガラス試験管(日電理化硝子株式会社製、外径１８mm、内容積２７mL)に、撹拌子と、基質として安息香酸イソプロペニルエステル（３２４mg）と4-メトキシアニリン（東京化成工業株式会社製）（２４６mg、２．０mmol）を入れ、さらに酸触媒としてプロトン型モンモリロナイト（２０質量％、１１４mg）を加えた。耐圧ガラス試験管を密栓し、１１０℃で１５時間撹拌してN-(４’-メトキシフェニル)ベンズアミドを得た。その後、溶媒としてアセトン（２０mL）と内部標準としてn-テトラデカン（富士フィルム和光純薬株式会社製）（７９mg、０．４０mmol）を加え、ガスクロマトグラフィー測定を行った。なお、安息香酸イソプロペニルエステルは、安息香酸とプロピンの付加反応により調製した。具体的には、耐圧反応容器（東京理化器械株式会社製、HIP-30）へ、[RuCl2(p-Cymene)]2（東京化成工業株式会社製）（0.5mol%、50μmol、31mg）、PPh3（富士フィルム和光純薬株式会社製）（1.0mol%、0.10mmol、26mg）、Na2CO3（富士フィルム和光純薬株式会社製）（1.0mol%、0.10mmol、11mg）、安息香酸（東京化成工業株式会社製）（10mmol、1.22g）、プロピンのテトラヒドロフラン溶液（東京化成工業株式会社製）（1.0M、15mmol、15mL）を加え、80℃、0.5MPa（窒素）にて24時間加熱撹拌した。反応溶液をろ過、減圧濃縮することにより得た粗生成物を、カラムクロマトグラフィー精製（充填材：シリカゲル、展開溶媒：ヘキサン－酢酸エチル）することにより、無色透明の液体（収率89%、8.9mmol、1.4g）を得た（参考文献：Goossen, L. J. et al. Chemical Communication, 2003, pp.706-707.）。
【0029】
ガスクロマトグラフィーによる分析条件を以下に示す。
ＧＣ装置：ＧＣ－２０２５（株式会社島津製作所製）
カラム：Rtx-5、長さ３０ｍ、内径０．２５ｍｍ（RESTEK社製）
キャリアガス：窒素、線速度一定（３９．９ｃｍ／秒）
気化室温度：２８０℃
検出器温度：３００℃
カラムオーブン温度：５０℃ １分→（５℃／分）→１００℃ ４分→（２０℃／分）
→２８０℃ ３分（計２７分）
検出器：水素炎イオン化検出器
その結果、転化率は８５％、N-(４’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は７７％であった。なお、以下の実施例および比較例において、特に断り書きのない限り、実施例１と同様の方法および条件でN-アリールアミド化合物を合成した。また、共通する化合物は同じ試薬を用いた。そして、以下の実施例および比較例において、基質に対する触媒量は、全て同じ２０質量％とした。
ＧＣ装置：ＧＣ－２０２５（株式会社島津製作所製）
カラム：Rtx-5、長さ３０ｍ、内径０．２５ｍｍ（RESTEK社製）
キャリアガス：窒素、線速度一定（３９．９ｃｍ／秒）
気化室温度：２８０℃
検出器温度：３００℃
カラムオーブン温度：５０℃ １分→（５℃／分）→１００℃ ４分→（２０℃／分）
→２８０℃ ３分（計２７分）
検出器：水素炎イオン化検出器
その結果、転化率は８５％、N-(４’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は７７％であった。なお、以下の実施例および比較例において、特に断り書きのない限り、実施例１と同様の方法および条件でN-アリールアミド化合物を合成した。また、共通する化合物は同じ試薬を用いた。そして、以下の実施例および比較例において、基質に対する触媒量は、全て同じ２０質量％とした。
【0030】
（実施例２）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、プロトン型モルデナイト (富士フィルム和光純薬株式会社製、合成ゼオライトHS-690、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は７８％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は７３％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、プロトン型モルデナイト (富士フィルム和光純薬株式会社製、合成ゼオライトHS-690、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は７８％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は７３％であった。
【0031】
（実施例３）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、プロトン型ゼオライト-Y (富士フィルム和光純薬株式会社製、合成ゼオライトHS-320、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は７５％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６６％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、プロトン型ゼオライト-Y (富士フィルム和光純薬株式会社製、合成ゼオライトHS-320、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は７５％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６６％であった。
【0032】
（実施例４）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、プロトン型ゼオライト-β(Alfa Aesar社製、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は６２％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は５８％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、プロトン型ゼオライト-β(Alfa Aesar社製、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は６２％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は５８％であった。
【0033】
（実施例５）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、りんタングステン酸(富士フィルム和光純薬株式会社製、Ｈ３ＰＷ１２Ｏ４０・２６Ｈ２Ｏ、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８２％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６３％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、りんタングステン酸(富士フィルム和光純薬株式会社製、Ｈ３ＰＷ１２Ｏ４０・２６Ｈ２Ｏ、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８２％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６３％であった。
【0034】
（実施例６）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ａｌ(III)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８８％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は８０％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ａｌ(III)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８８％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は８０％であった。
【0035】
（実施例７）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｆｅ(III)交換型モンモリロナイト （１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８５％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は７４％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｆｅ(III)交換型モンモリロナイト （１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８５％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は７４％であった。
【0036】
（実施例８）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｃｏ(II)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は６８％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６０％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｃｏ(II)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は６８％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６０％であった。
【0037】
（実施例９）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｎｉ(II)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８６％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は７４％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｎｉ(II)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８６％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は７４％であった。
【0038】
（実施例１０）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｃｕ(II)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は６８％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６０％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｃｕ(II)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は６８％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６０％であった。
【0039】
（実施例１１）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｚｎ(II)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は７７％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６６％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｚｎ(II)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は７７％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６６％であった。
【0040】
（実施例１２）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｚｒ(IV)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８０％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は７３％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｚｒ(IV)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８０％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は７３％であった。
【0041】
（実施例１３）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｓｎ(IV)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は７５％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６６％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Ｓｎ(IV)交換型モンモリロナイト (１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は７５％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６６％であった。
【0042】
（実施例１４）
反応溶媒としてn-ヘプタン（富士フィルム和光純薬株式会社製、１．０mL) を加えた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は７２％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６５％であった。
反応溶媒としてn-ヘプタン（富士フィルム和光純薬株式会社製、１．０mL) を加えた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は７２％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６５％であった。
【0043】
（実施例１５）
反応温度を１４０℃とした以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８４％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６８％であった。
反応温度を１４０℃とした以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は８４％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は６８％であった。
【0044】
上記実施例の結果を表１に示す。
【表1】
【0045】
（比較例１）
酸触媒のプロトン型モンモリロナイトを加えず、あとは実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は１７％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は１７％であった。
酸触媒のプロトン型モンモリロナイトを加えず、あとは実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は１７％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は１７％であった。
【0046】
（比較例２）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、酸化チタン (富士フィルム和光純薬株式会社製、ルチル型、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は４２％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は３７％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、酸化チタン (富士フィルム和光純薬株式会社製、ルチル型、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は４２％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は３７％であった。
【0047】
（比較例３）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、酸化ジルコニウム (富士フィルム和光純薬株式会社製、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は４５％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は３７％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、酸化ジルコニウム (富士フィルム和光純薬株式会社製、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は４５％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は３７％であった。
【0048】
（比較例４）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、酸化セリウム (富士フィルム和光純薬株式会社製、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は４９％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は４２％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、酸化セリウム (富士フィルム和光純薬株式会社製、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は４９％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は４２％であった。
【0049】
（比較例５）
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Amberlyst（登録商標）15DRY (オルガノ株式会社製、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は４６％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は４１％であった。
酸触媒としてプロトン型モンモリロナイトの代わりに、Amberlyst（登録商標）15DRY (オルガノ株式会社製、１１４mg）を用いた以外は実施例１と同様の条件で反応を行った。その結果、転化率は４６％、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの収率は４１％であった。
【0050】
上記比較例の結果を表２に示す。
【表2】
【0051】
上記結果から、実施例によれば、酸性度の大きい不均一系酸触媒を使用することで、比較的低温の温和な条件で、良好な収率で生成物を得ることができることが確認された。また、代表的な不均一系酸触媒である単一の金属酸化物（酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム）などに比べて、高い収率で目的化合物が得られたことから、触媒の酸性度が関係しているものと思われる。また、溶媒は使用しなくても、高い収率で生成物を得ることができた。したがって、本実施例によれば、簡便な方法で、効率よくN-アリールアミド化合物を製造できるものである。
【0052】
次に、触媒には、上記実施例において収率の高かったプロトン型モンモリロナイトを用いて、アリールアミン側の基質には比較的反応性の高いアリールアミンであり、全体的に高い収率が見込めた4-メトキシアニリンを用いて、ビニルエステル側の基質を変更してN-アリールアミド化合物を製造した。この場合の化学反応式を式（６）に示す。なお、式（６）中、Ｒは有機基（式（１）のＲ１に相当する）を示す。
【化9】
【0053】
（実施例１６）
密栓可能な耐圧ガラス試験管(日電理化硝子株式会社製、外径１８mm、内容積２７mL)に、撹拌子と、基質として安息香酸イソプロペニルエステル（３２４mg、２．０mmol）と4-メトキシアニリン（東京化成工業株式会社製、２７１mg 、２．２mmol）を入れ、さらに酸触媒としてプロトン型モンモリロナイト（１００mg）を加えた。耐圧ガラス試験管を密栓し、１１０℃で２４時間撹拌してN-(４’-メトキシフェニル)ベンズアミドを含む粗生成物を得た。その後、溶媒としてアセトン（富士フィルム和光純薬株式会社製、２０mL）を加えて粗生成物を溶解させ、ろ過により固体のプロトン型モンモリロナイトを分離した。得られた粗生成物溶液の溶媒を減圧下で留去した。この粗生成物をn-ヘプタン（富士フィルム和光純薬株式会社製）で洗浄することにより、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドを得た(３９０mg、収率８６％)。ガスクロマトグラフィー分析により、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
密栓可能な耐圧ガラス試験管(日電理化硝子株式会社製、外径１８mm、内容積２７mL)に、撹拌子と、基質として安息香酸イソプロペニルエステル（３２４mg、２．０mmol）と4-メトキシアニリン（東京化成工業株式会社製、２７１mg 、２．２mmol）を入れ、さらに酸触媒としてプロトン型モンモリロナイト（１００mg）を加えた。耐圧ガラス試験管を密栓し、１１０℃で２４時間撹拌してN-(４’-メトキシフェニル)ベンズアミドを含む粗生成物を得た。その後、溶媒としてアセトン（富士フィルム和光純薬株式会社製、２０mL）を加えて粗生成物を溶解させ、ろ過により固体のプロトン型モンモリロナイトを分離した。得られた粗生成物溶液の溶媒を減圧下で留去した。この粗生成物をn-ヘプタン（富士フィルム和光純薬株式会社製）で洗浄することにより、N-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドを得た(３９０mg、収率８６％)。ガスクロマトグラフィー分析により、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0054】
（実施例１７）
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて安息香酸ビニルエステル(富士フィルム和光純薬株式会社製、２９６mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの合成を行なった。その結果、収率は５４％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて安息香酸ビニルエステル(富士フィルム和光純薬株式会社製、２９６mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの合成を行なった。その結果、収率は５４％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0055】
（実施例１８）
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて4-メトキシ安息香酸イソプロペニルエステル(３８４mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの合成を行なった。その結果、収率は７７％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、4-メトキシ安息香酸イソプロペニルエステルは、実施例１に記載の方法と同様の方法を用いて、4-メトキシ安息香酸（東京化成工業株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて4-メトキシ安息香酸イソプロペニルエステル(３８４mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの合成を行なった。その結果、収率は７７％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、4-メトキシ安息香酸イソプロペニルエステルは、実施例１に記載の方法と同様の方法を用いて、4-メトキシ安息香酸（東京化成工業株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
【0056】
（実施例１９）
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて4-クロロ安息香酸イソプロペニルエステル(３９３mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの合成を行なった。その結果、収率は７５％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、4-クロロ安息香酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、4-クロロ安息香酸（東京化成工業株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて4-クロロ安息香酸イソプロペニルエステル(３９３mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)ベンズアミドの合成を行なった。その結果、収率は７５％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、4-クロロ安息香酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、4-クロロ安息香酸（東京化成工業株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
【0057】
（実施例２０）
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて4-ニトロ安息香酸イソプロペニルエステル(４１４mg）を使用した点を除き、実施例１と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-4-ニトロベンズアミドの合成を行なった。その結果、収率は９１％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、4-ニトロ安息香酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、4-ニトロ安息香酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて4-ニトロ安息香酸イソプロペニルエステル(４１４mg）を使用した点を除き、実施例１と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-4-ニトロベンズアミドの合成を行なった。その結果、収率は９１％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、4-ニトロ安息香酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、4-ニトロ安息香酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
【0058】
（実施例２１）
密栓可能な耐圧ガラス試験管(日電理化硝子株式会社製、外径１８mm、内容積２７mL)に、撹拌子と、基質としてp-トリル酢酸イソプロペニルエステル(３８０mg、２．０mmol）と4-メトキシアニリン（東京化成工業株式会社製、２７１mg、２．２mmol）を入れ、さらに酸触媒としてプロトン型モンモリロナイト（１００mg）を加えた。耐圧ガラス試験管を密栓し、１１０℃で２４時間撹拌してN-(2’-メトキシフェニル)-2-(ｐ-トリル)アセトアミドを含む粗生成物を得た。その後、溶媒としてアセトン（富士フィルム和光純薬株式会社製、２０mL）を加えて粗生成物を溶解させ、ろ過により固体のプロトン型モンモリロナイトを分離した。得られた粗生成物溶液の溶媒を減圧下で留去した。この粗生成物をn-ヘプタン（富士フィルム和光純薬株式会社製）で洗浄することにより、N-(4’-メトキシフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドを得た(５２６mg、収率９７％)。ガスクロマトグラフィー分析により、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、p-トリル酢酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、p-トリル酢酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
密栓可能な耐圧ガラス試験管(日電理化硝子株式会社製、外径１８mm、内容積２７mL)に、撹拌子と、基質としてp-トリル酢酸イソプロペニルエステル(３８０mg、２．０mmol）と4-メトキシアニリン（東京化成工業株式会社製、２７１mg、２．２mmol）を入れ、さらに酸触媒としてプロトン型モンモリロナイト（１００mg）を加えた。耐圧ガラス試験管を密栓し、１１０℃で２４時間撹拌してN-(2’-メトキシフェニル)-2-(ｐ-トリル)アセトアミドを含む粗生成物を得た。その後、溶媒としてアセトン（富士フィルム和光純薬株式会社製、２０mL）を加えて粗生成物を溶解させ、ろ過により固体のプロトン型モンモリロナイトを分離した。得られた粗生成物溶液の溶媒を減圧下で留去した。この粗生成物をn-ヘプタン（富士フィルム和光純薬株式会社製）で洗浄することにより、N-(4’-メトキシフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドを得た(５２６mg、収率９７％)。ガスクロマトグラフィー分析により、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、p-トリル酢酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、p-トリル酢酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
【0059】
（実施例２２）
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて2-フェニルプロピオン酸イソプロペニルエステル(３８０mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-2-フェニルプロピオンアミドの合成を行なった。その結果、収率は７８％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、2-フェニルプロピオン酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、2-フェニルプロピオン酸（東京化成工業株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて2-フェニルプロピオン酸イソプロペニルエステル(３８０mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-2-フェニルプロピオンアミドの合成を行なった。その結果、収率は７８％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、2-フェニルプロピオン酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、2-フェニルプロピオン酸（東京化成工業株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
【0060】
（実施例２３）
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて3-フェニルプロピオン酸イソプロペニルエステル(３８０mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-3-フェニルプロピオンアミドの合成を行なった。その結果、収率は９４％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、3-フェニルプロピオン酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、3-フェニルプロピオン酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
安息香酸イソプロペニルエステルに代えて3-フェニルプロピオン酸イソプロペニルエステル(３８０mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-3-フェニルプロピオンアミドの合成を行なった。その結果、収率は９４％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、3-フェニルプロピオン酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、3-フェニルプロピオン酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
【0061】
（実施例２４）
安息香酸イソプロペニルエステルに代えてケイ皮酸イソプロペニルエステル(３７６mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-ケイ皮酸アミドの合成を行なった。その結果、収率は９４％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、ケイ皮酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、ケイ皮酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
安息香酸イソプロペニルエステルに代えてケイ皮酸イソプロペニルエステル(３７６mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-ケイ皮酸アミドの合成を行なった。その結果、収率は９４％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、ケイ皮酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、ケイ皮酸（富士フィルム和光純薬株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
【0062】
（実施例２５）
安息香酸イソプロペニルエステルに代えてシトロネル酸イソプロペニルエステル(４２１mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-シトロネル酸アミドの合成を行なった。その結果、収率は７２％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、シトロネル酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、シトロネル酸（東京化成工業株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
安息香酸イソプロペニルエステルに代えてシトロネル酸イソプロペニルエステル(４２１mg）を使用した点を除き、実施例１６と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-シトロネル酸アミドの合成を行なった。その結果、収率は７２％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、シトロネル酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、シトロネル酸（東京化成工業株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
【0063】
（実施例２６）
安息香酸イソプロペニルエステルに代えてフェノキシ酢酸イソプロペニルエステル(３８４mg）を使用した点を除き、実施例１１と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-2-フェノキシアセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は９７％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、フェノキシ酢酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、フェノキシ酢酸（東京化成工業株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
安息香酸イソプロペニルエステルに代えてフェノキシ酢酸イソプロペニルエステル(３８４mg）を使用した点を除き、実施例１１と同様の条件でN-(4’-メトキシフェニル)-2-フェノキシアセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は９７％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、フェノキシ酢酸イソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、フェノキシ酢酸（東京化成工業株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
【0064】
（実施例２７）
安息香酸イソプロペニルエステルに代えてN-カルボベンゾキシ-L-フェニルアラニンイソプロペニルエステル（６７９mg）を使用した点を除き、実施例１と同様の条件でN-カルボベンゾキシ-N-(4’-メトキシフェニル)-L-フェニルアラニンアミドの合成を行なった。その結果、収率は８３％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、N-カルボベンゾキシ-L-フェニルアラニンイソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、N-カルボベンゾキシ-L-フェニルアラニン（富士フィルム和光純薬株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
安息香酸イソプロペニルエステルに代えてN-カルボベンゾキシ-L-フェニルアラニンイソプロペニルエステル（６７９mg）を使用した点を除き、実施例１と同様の条件でN-カルボベンゾキシ-N-(4’-メトキシフェニル)-L-フェニルアラニンアミドの合成を行なった。その結果、収率は８３％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。なお、N-カルボベンゾキシ-L-フェニルアラニンイソプロペニルエステルは、実施例１と同様の方法を用いて、N-カルボベンゾキシ-L-フェニルアラニン（富士フィルム和光純薬株式会社製）とプロピンの触媒的な付加反応により調製した。
【0065】
上記実施例の結果を表３に示す。
【表3】
【0066】
また、上記実施例による生成物３ａａ－３ｋａの構造式を下記に示す。
【化10】
【0067】
上記結果から、実施例によれば、様々な置換基を有する芳香族カルボン酸や脂肪族カルボン酸のビニルエステルから、対応するN-アリールアミド化合物を良好な収率かつ高純度に合成することができる。そして、N-ベンジルオキシカルボニル-L-フェニルアラニンイソプロペニルエステル（実施例２７）などの嵩高い化合物においても、良好な収率でN-アリールアミド化合物が得られた。特に、ビニルエステル類として、カルボン酸イソプロペニルエステルを使用した場合に、N-アリールアミド化合物が高い収率で得られた。その理由として、イソプロペニル基が立体的に小さいためにアリールアミンとの反応を抑制しないこと、脱離したアセトンによる、余計な副反応を起こしにくいこと、などが挙げられる。
【0068】
次に、上記実施例において収率の高かったプロトン型モンモリロナイトと、同じく収率が高く、比較的反応性がよかったp-トリル酢酸イソプロペニルエステルを用いて、アリールアミン側の基質を変更してN-アリールアミド化合物を製造した。この場合の化学反応式を式（７）に示す。なお、式（７）中、ＲとＲ’は有機基（Ｒは式（２）のＲ５－Ｒ９のいずれかに、Ｒ’は式（２）のＲ１０に相当する）を示す。
【化11】
【0069】
（実施例２８）
4-メトキシアニリンに代えて、2-メトキシアニリン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２７１mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(2’-メトキシフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は７８％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えて、2-メトキシアニリン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２７１mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(2’-メトキシフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は７８％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0070】
（実施例２９）
4-メトキシアニリンに代えて4-クロロアニリン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２８１mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(4’-クロロフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は９２％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えて4-クロロアニリン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２８１mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(4’-クロロフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は９２％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0071】
（実施例３０）
4-メトキシアニリンに代えて4-ブロモアニリン(富士フィルム和光純薬株式会社製、３７８mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(4’-ブロモフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は９１％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えて4-ブロモアニリン(富士フィルム和光純薬株式会社製、３７８mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(4’-ブロモフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は９１％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0072】
（実施例３１）
4-メトキシアニリンに代えて4-ヒドロキシアニリン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２４０mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(4’-ヒドロキシフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は８９％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えて4-ヒドロキシアニリン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２４０mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(4’-ヒドロキシフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は８９％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0073】
（実施例３２）
4-メトキシアニリンに代えて3-アミノベンゾニトリル(東京化成工業株式会社製、２６０mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(3’-シアノフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は６９％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えて3-アミノベンゾニトリル(東京化成工業株式会社製、２６０mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(3’-シアノフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は６９％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0074】
（実施例３３）
4-メトキシアニリンに代えて3-アミノアセトフェノン(東京化成工業株式会社製、２９７mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(3’-アセチルフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は９７％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えて3-アミノアセトフェノン(東京化成工業株式会社製、２９７mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(3’-アセチルフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は９７％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0075】
（実施例３４）
4-メトキシアニリンに代えて4-アミノアセトフェノン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２９７mg）を使用した点と、反応温度を１３０℃とした点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(4’-アセチルフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は９０％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えて4-アミノアセトフェノン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２９７mg）を使用した点と、反応温度を１３０℃とした点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(4’-アセチルフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は９０％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0076】
（実施例３５）
4-メトキシアニリンに代えて4-アミノ安息香酸メチル(富士フィルム和光純薬株式会社製、３３３mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(4’-メトキシカルボニルフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は７０％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えて4-アミノ安息香酸メチル(富士フィルム和光純薬株式会社製、３３３mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(4’-メトキシカルボニルフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は７０％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0077】
（実施例３６）
4-メトキシアニリンに代えて2,6-ジメチルアニリン(東京化成工業株式会社製、２６７mg）を使用した点と、反応温度を１３０℃とした点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(2,6-ジメチルフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は４９％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えて2,6-ジメチルアニリン(東京化成工業株式会社製、２６７mg）を使用した点と、反応温度を１３０℃とした点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(2,6-ジメチルフェニル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は４９％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0078】
（実施例３７）
4-メトキシアニリンに代えて2-アミノピリジン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２０７mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(2’-ピリジル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は７１％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えて2-アミノピリジン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２０７mg）を使用した点を除き、実施例２１と同様の条件でN-(2’-ピリジル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は７１％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0079】
（実施例３８）
4-メトキシアニリンに代えて３-アミノピリジン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２０７mg）を使用した点を除き、実施例６と同様の条件でN-(3’-ピリジル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は５６％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えて３-アミノピリジン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２０７mg）を使用した点を除き、実施例６と同様の条件でN-(3’-ピリジル)-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は５６％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0080】
（実施例３９）
4-メトキシアニリンに代えてN-メチルアニリン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２３６mg）を使用した点と、反応温度を１３０℃とした点を除き、実施例２１と同様の条件でN-メチル-N-フェニル-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は５９％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えてN-メチルアニリン(富士フィルム和光純薬株式会社製、２３６mg）を使用した点と、反応温度を１３０℃とした点を除き、実施例２１と同様の条件でN-メチル-N-フェニル-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は５９％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0081】
（実施例４０）
4-メトキシアニリンに代えてジフェニルアミン(富士フィルム和光純薬株式会社製、３７２mg）を使用した点と、反応温度を１３０℃とした点を除き、実施例２１と同様の条件でN,N-ジフェニル-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は５１％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
4-メトキシアニリンに代えてジフェニルアミン(富士フィルム和光純薬株式会社製、３７２mg）を使用した点と、反応温度を１３０℃とした点を除き、実施例２１と同様の条件でN,N-ジフェニル-2-(p-トリル)アセトアミドの合成を行なった。その結果、収率は５１％、生成物の純度が９９％以上であることを確認した。
【0082】
上記実施例の結果を表４に示す。
【表4】
【0083】
また、上記実施例による生成物３ｅｂ－３ｅｎの構造式を下記に示す。
【化12】
【0084】
上記結果から、実施例によれば、電子供与基、電子吸引基及びハロゲン原子などの様々な置換基を有するアリールアミンから、対応するN-アリールアミド化合物を良好な収率かつ高純度で合成することができた。特に、電子吸引基を有する3-アミノベンゾニトリル（実施例３２）、4-アミノアセトフェノン（実施例３４）、4-アミノ安息香酸メチル（実施例３５）、アミノ基の近傍が立体的に嵩高い2,6-ジメチルアニリン（実施例３６）、N-メチルアニリン（実施例３９）、ジフェニルアミン（実施例４０）などのアリールアミンは、置換基による電子吸引性や立体障害等の影響のため、特に反応性が低い、合成困難な生成物であるが、本実施例によれば、概ね良好な収率で合成することができた。また、この方法は、フェンフラム農業殺菌剤、メプロニル農業殺菌剤、フルトラニル農業殺菌剤、ボスカリド農業殺菌剤、メタラキシル農業殺菌剤、ベナラキシル農業殺菌剤、リドカイン局所麻酔薬、ブピバカイン局所麻酔薬等の合成にも適用できるものである。
【産業上の利用可能性】
【0085】
本発明は、電子材料、医薬品、農薬等やそれらの中間体の分野を中心に幅広く活用することができ、あらゆる用途のN-アリールアミド化合物の製造方法として、利用可能性がある。