特開 2024-125015 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024125015

(43)【公開日】2024-09-13

(54)【発明の名称】光学装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20240906BHJP

   G02B 17/00 20060101ALI20240906BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 501

G02B17/00

【審査請求】未請求

【請求項の数】13

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023033069

(22)【出願日】2023-03-03

(71)【出願人】

【識別番号】000001007

【氏名又は名称】キヤノン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003281

【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】西川 友弘

(72)【発明者】

【氏名】羽切 正人

(72)【発明者】

【氏名】木村 一貴

(72)【発明者】

【氏名】関 美津留

(72)【発明者】

【氏名】由井 友樹

(72)【発明者】

【氏名】白畑 恭平

【テーマコード（参考）】

2H087

2H197

【Ｆターム（参考）】

2H087KA06

2H087KA21

2H087LA01

2H087TA01

2H087TA04

2H197AA10

2H197BA03

2H197BA09

2H197BA11

2H197BA16

2H197CB16

2H197CC01

2H197CC16

2H197DB19

2H197HA05

2H197JA07

(57)【要約】

【課題】温調流体が各凹面ミラーの反射面に沿って流れる構成を実現して、結像性能の安定化に有利な技術を提供する。
【解決手段】光学装置は、第１反射面を有する第１凹面ミラーと、前記第１凹面ミラーから離間して配置された、第２反射面を有する第２凹面ミラーと、前記第１凹面ミラーおよび前記第２凹面ミラーを収容し、前記第２凹面ミラーから前記第１凹面ミラーに向かう気流を形成するチャンバと、前記チャンバ内の前記第１凹面ミラーと前記第２凹面ミラーとの間に配置され、前記第２凹面ミラーの前記第２反射面に沿って流動する前記気流を前記第１凹面ミラーの前記第１反射面に導く整流部とを備える。
【選択図】 図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１反射面を有する第１凹面ミラーと、
前記第１凹面ミラーから離間して配置された、第２反射面を有する第２凹面ミラーと、
前記第１凹面ミラーおよび前記第２凹面ミラーを収容し、前記第２凹面ミラーから前記第１凹面ミラーに向かう気流を形成するチャンバと、
前記チャンバ内の前記第１凹面ミラーと前記第２凹面ミラーとの間に配置され、前記第２凹面ミラーの前記第２反射面に沿って流動する前記気流を前記第１凹面ミラーの前記第１反射面に導く整流部と、
を備えることを特徴とする光学装置。

【請求項2】

前記チャンバは、前記第１反射面よりも前記第２反射面に近い位置に形成された給気口と、前記第２反射面よりも前記第１反射面に近い位置に形成された排気口とを有し、
前記給気口から気体が供給され前記排気口から気体が排出されることにより前記チャンバ内に前記気流が形成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。

【請求項3】

前記チャンバ内に配置された、第３反射面を有する凸面ミラーを更に備え、
前記チャンバ内に入射した光が前記第１反射面、前記第３反射面、および前記第２反射面の順に反射するように、前記第１凹面ミラー、前記第２凹面ミラー、および前記凸面ミラーが配置される、
ことを特徴とする請求項２に記載の光学装置。

【請求項4】

前記第２反射面と前記第３反射面との距離が前記第１反射面と前記第３反射面との距離よりも長くなるように、前記第１凹面ミラーおよび前記第２凹面ミラーが配置される、
ことを特徴とする請求項３に記載の光学装置。

【請求項5】

前記第１凹面ミラーは、前記第１反射面とは反対側の面である第１裏面を有し、
前記第１凹面ミラーの前記第１裏面より前記第１反射面に近い位置に前記排気口が形成されている、
ことを特徴とする請求項２に記載の光学装置。

【請求項6】

前記第２凹面ミラーは、前記第２反射面とは反対側の面である第２裏面を有し、
前記第２凹面ミラーの前記第２裏面より前記第２反射面に近い位置に前記給気口が形成されている、
ことを特徴とする請求項５に記載の光学装置。

【請求項7】

前記チャンバは、前記第１凹面ミラーの前記第１反射面より前記第１裏面に近い位置に形成された第２排気口を更に有し、
前記整流部は、前記給気口から供給され前記第２凹面ミラーの前記第２反射面に沿って進む気流を、前記第１凹面ミラーの前記第１反射面に沿って前記排気口へ至る気流と、前記第１凹面ミラーと前記第２凹面ミラーとの間を通って前記第２排気口へ至る気流とに分岐させる、
ことを特徴とする請求項６に記載の光学装置。

【請求項8】

前記整流部は、前記第１凹面ミラーに配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。

【請求項9】

前記整流部は、前記第２凹面ミラーに配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。

【請求項10】

前記整流部は、
整流板と、
前記第１反射面に対する前記整流板の角度を調整する調整部と、
を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。

【請求項11】

原版に形成されたパターンを基板の上に投影する投影光学系であって、
請求項１から１０のいずれか１項に記載の光学装置を含む、ことを特徴とする投影光学系。

【請求項12】

基板を露光する露光装置であって、
請求項１１に記載の投影光学系を含む、ことを特徴とする露光装置。

【請求項13】

請求項１２に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、
を含み、前記現像された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光学装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイスや液晶表示装置などのデバイス製造工程に含まれるリソグラフィー工程において、露光装置が使用される。露光装置は、原版（マスクなど）のパターンを、投影光学系を介して感光性の基板（表面にレジスト層が形成されたウエハやガラスプレートなど）に転写する装置である。投影光学系は、特許文献１に示されるように、レンズやミラーなどの光学部材と、それらを収容する収容部材（チャンバ）を含む。投影光学系は、特許文献２に示すように、温調が必要とされる。光学部材やチャンバの熱変形や光路の温度むらに起因する結像性能の低下を防止するためである。

【0003】

近年、液晶表示デバイスの大型化が進み、露光装置の投影光学系の投影倍率が１倍（等倍）では、原版が大型化し製造コストが上昇するという問題が顕在化してきている。そのため、特許文献３では、１倍を超える投影倍率を有する拡大投影光学系が提案されている。特許文献３では、投影光学系の凹面ミラーが２つに分割され、２つの凹面ミラーは段違いに配置される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開昭６０－２０１３１６号公報

【特許文献2】特開２０１４－００７２６８号公報

【特許文献3】特開２００７－３３５０５７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

２つの凹面ミラーが段違いに配置される場合、その段差によって温調流体（気体）を２つの凹面ミラーの反射面に沿って流すことができない。このため、凹面ミラーを効率よく温調することができず、安定した結像性能が得られない。

【0006】

図６（ａ）に示すように、凹面ミラー５２の反射面５２ａに向けて給気口５５から温調流体としての気体５０が供給される。気体５０は、凹面ミラー５２の反射面５２ａに沿って流れるものの、凹面ミラー５１の端部５９に当たって、凹面ミラー５１の反射面５１ａに沿わずに流れてしまう。図６（ｂ）に示すように、凹面ミラー５１の反射面５１ａに向けて給気口５５から気体５０を流した場合、気体５０は凹面ミラー５１の反射面５１ａに沿って流れるものの、段差のため、気体５０を凹面ミラー５２の反射面５２ａに沿って流すことができない。

【0007】

給気口５５を複数設けて凹面ミラー５１の反射面５１ａと凹面ミラー５２の反射面５２ａのそれぞれに向かって気体５０を流す構成も考えられる。しかし、この場合、気体５０の経路が交差するため、気体５０の回収を効率よく行うことができない。

【0008】

このように、従来の温調方式では、段差のある２つの凹面ミラーの反射面に沿うように温調流体を流すことが困難であるため、安定した結像性能を得ることができない。

【0009】

本発明は、温調流体が各凹面ミラーの反射面に沿って流れる構成を実現して、結像性能の安定化に有利な技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0010】

本発明の一側面によれば、第１反射面を有する第１凹面ミラーと、前記第１凹面ミラーから離間して配置された、第２反射面を有する第２凹面ミラーと、前記第１凹面ミラーおよび前記第２凹面ミラーを収容し、前記第２凹面ミラーから前記第１凹面ミラーに向かう気流を形成するチャンバと、前記チャンバ内の前記第１凹面ミラーと前記第２凹面ミラーとの間に配置され、前記第２凹面ミラーの前記第２反射面に沿って流動する前記気流を前記第１凹面ミラーの前記第１反射面に導く整流部と、を備えることを特徴とする光学装置が提供される。

【発明の効果】

【0011】

本発明によれば、温調流体が各凹面ミラーの反射面に沿って流れる構成が実現され、これにより結像性能の安定化に有利な技術を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】光学装置の構成を示す図。

【図2】整流部の構成例を示す図。

【図3】光学装置の構成を示す図。

【図4】整流部の他の配置例を示す図。

【図5】露光装置の構成を示す図。

【図6】従来の温調方式の課題を説明する図。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

【0014】

＜第１実施形態＞
図５は、実施形態に係る露光装置ＥＸＰの構成を示す図である。露光装置ＥＸＰは、原版Ｍを保持する原版ステージ３０と、不図示の照明光学系によって照明される原版Ｍのパターンを基板Ｐの上に投影する投影光学系ＰＯと、基板Ｐを保持する基板ステージ３１とを備える。

【0015】

投影光学系ＰＯは、オフナー（Ｏｆｆｎｅｒ）光学系である。オフナー光学系の場合、良好な像領域を確保するために原版Ｍには円弧形状の光が照射される。原版Ｍを透過し投影光学系ＰＯ内に入射した光は、第１平面ミラー３２、第１凹面ミラー１、凸面ミラー３３、第２凹面ミラー２、第２平面ミラー３２の順に反射した後に、基板Ｐに到達する。これにより、原版Ｍ上のパターンが基板Ｐ上に転写される。

【0016】

第２凹面ミラー２は第１凹面ミラー１から離間して配置される。第１凹面ミラー１は、凹面形状をなす第１反射面１ａと、第１反射面１ａとは反対側の面である第１裏面１ｂを有する。第２凹面ミラー２は、凹面形状をなす第２反射面２ａと、第２反射面２ａとは反対側の面である第２裏面２ｂを有する。凸面ミラー３３は、凸面形状をなす第３反射面３ａを有する。投影光学系ＰＯは、凸面ミラー３３の収差を補正するメニスカスレンズ３４を含んでいてもよい。第１凹面ミラー１の曲率中心、凸面ミラー３３の曲率中心及び第２凹面ミラー２の曲率中心を結ぶ線は典型的には水平である。また、投影光学系ＰＯは、光学性能の向上のための屈折光学系３５を含んでいてもよい。

【0017】

一例において、投影光学系ＰＯは、拡大投影光学系である。拡大投影光学系においては、第２凹面ミラー２の第２反射面２ａと凸面ミラー３３の第３反射面３ａとの距離は、第１凹面ミラー１の第１反射面１ａと凸面ミラー３３の第３反射面３ａとの距離よりも長い。

【0018】

図１は、第１実施形態における光学装置の構成を示す図である。本実施形態では、該光学装置によって投影光学系ＰＯが構成されている。図１には、投影光学系ＰＯが示されていると理解されてもよいが。図１では、図５で示した凸面ミラー３３、メニスカスレンズ３４、屈折光学系３５の表示が省かれている。

【0019】

投影光学系ＰＯは、第１凹面ミラー１および第２凹面ミラー２を収容するチャンバ４を有する。チャンバ４の内部には、第１凹面ミラー１と第２凹面ミラー２が配置されている。図１には、光軸方向３が示されている。第１凹面ミラー１の第１反射面１ａと第２凹面ミラー２の第２反射面２ａが光軸方向３に関して同じ向きになるように（紙面左側を向くように）、第１凹面ミラー１および第２凹面ミラー２が配置されている。また、本例では拡大投影光学系が想定されているため、第２反射面２ａが第１反射面１ａよりも光軸方向３に関して後方側（紙面右側）に位置するように、第１凹面ミラ－１および第２凹面ミラー２が配置されている。また、図１では、第１凹面ミラー１は第２凹面ミラー２よりも上方側に配置されている。これは、拡大投影光学系において露光光が上方から下方へ向けて照射されることが想定されているからである。原版Ｍに形成されたパターンを基板Ｐに縮小して投影する縮小投影光学系においては、第１凹面ミラー１と第２凹面ミラー２の上下の配置が逆転しうる。なお、第１反射面１ａと第２反射面２ａとが光軸方向３に関して同じ向きになるように第１凹面ミラー１および第２凹面ミラー２が配置されること以外、第１凹面ミラー１および第２凹面ミラー２の配置については本開示に限定されない。

【0020】

チャンバ４は、チャンバ４内に温調流体である気体２０を供給するための給気口５を有する。給気口５は、例えば、第１凹面ミラー１の第１反射面１ａよりも第２凹面ミラー２の第２反射面２ａに近い下方チャンバ壁４ａに形成される。また、給気口５は、第２凹面ミラー２の第２裏面２ｂより第２反射面２ａに近い位置に形成される。

【0021】

チャンバ４は、気体２０をチャンバ４の外部へ排出するための排気口６を更に有する。排気口６は、複数の排気口を有していてもよい。一例において、図１に示すように、排気口６は第１排気口６ａおよび第２排気口６ｂを有しうる。第１排気口６ａは、第２凹面ミラー２の第２反射面２ａよりも第１凹面ミラー１の第１反射面１ａに近い上方チャンバ壁４ｂに形成される。また、第１排気口６ａは、第１凹面ミラー１の第１裏面１ｂより第１反射面１ａに近い位置に形成される。これに対し、第２排気口６ｂは、第１凹面ミラー１の第１反射面１ａより第１裏面１ｂに近い後方チャンバ壁４ｃに形成される。

【0022】

給気口５から供給された気体２０は排気口６から排出される。これにより、チャンバ４の内部には、第２凹面ミラー２から第１凹面ミラー１に向かう気流が形成される。なお、給気口５には強制給気機構（ファン等を含む）が設けられてもよく、第１排気口６ａおよび第２排気口６ｂには強制排気機構（ファン等を含む）が設けられてもよい。給気口５から供給された気体２０は、第１凹面ミラー１および第２凹面ミラー２から放射される熱を回収する。気体２０の流量および温度は、安定した結像性能を実現するために適宜に調整されうる。気体２０は、不活性ガス、または、フィルターにより濾過された空気等でありうる。なお、チャンバ４の外部の原版Ｍ、基板Ｐ、ステージ等を取り囲む空間は、チャンバ４の内部と同様に温調されうる。そのため、排気部６によって回収された流体２０は、配管等を通して温調制御を行う機械室等に送られるように構成されてもよい。

【0023】

チャンバ内の第１凹面ミラー１と第２凹面ミラー２との間の位置には、第２凹面ミラー２の第２反射面２ａに沿って流動する気流を第１凹面ミラーの第１反射面１ａに導く整流部８が配置されている。図１の例においては、整流部８は、給気口５から供給され第２凹面ミラー２の第２反射面２ａに沿って進む気体２０の気流を気流２０ａと気流２０ｂとに分岐させる。気流２０ａは、第１凹面ミラー１の第１反射面１ａに沿って第１排気口６ａへ至る気流であり、気流２０ｂは、第１凹面ミラー１と第２凹面ミラー２との間を通って第２排気口６ｂへ至る気流である。この場合、第２排気口６ｂは、整流部８よりも高い位置に形成されていることが好ましい。また、第１排気部６ａは、整流部８によって分岐された気流２０ａの延長上に配置され、第２排気部６ｂは、整流部８によって分岐された気流２０ｂの延長上に配置されることが好ましい。図１の例では、第２排気部６ｂは、光軸方向３に関して第２凹面ミラー２より後方側、例えば、第１凹面ミラー１の第１反射面１ａより第１裏面１ｂに近い後方チャンバ壁４ｃに形成される。これにより、気流２０ｂの気体が第１凹面ミラー１の第１反射面１ａ側に流れ込むことが防止され、効果的に気流２０ｂの気体を回収することができる。

【0024】

一例において、整流部８は、図１に示すように第１凹面ミラー１またはその枠体に配置（支持）される。整流部８は、第１凹面ミラー１またはその枠体と一体的に形成されていてもよい。整流部８は、例えば、鋼、ステンレス、アルミニウム合金など、結像性能の外乱となる振動や熱変形に対してロバストな材質により構成されうる。

【0025】

図２には、整流部８の構成例が示されている。整流部８は、例えば板状の整流板を含みうる。図２に示されるように、整流部８（整流板）は、第１凹面ミラー１の第１反射面１ａの曲率に倣う形状をしている。これによって、第１凹面ミラー１の第１反射面１ａの全反射面領域に沿うように気流２０ｂが形成され、第１凹面ミラー１が効率良く温調されうる。整流部８（整流板）の位置および形状は、露光光との干渉が無い範囲で気体２０の流路が最適化されるように設定されうる。

【0026】

以上説明した第１実施形態に従う構成によれば、第１凹面ミラー１の第１反射面１ａと第２凹面ミラー２の第２反射面２ａの両方に沿うように気体を流すことができる。このような構成は、結像性能の安定化に有利である。

【0027】

＜第２実施形態＞
図３を参照して、第２実施形態における投影光学系ＰＯについて説明する。なお、図３において、第１実施形態における構成要素と同一の構成要素には同一の参照符号を付し、それらの説明は簡略化または省略する。

【0028】

第２実施形態において、整流部８は、整流板８ａと、第１凹面ミラー１の第１反射面１ａに対する整流板８ａの角度を調整する調整部８ｂとを含みうる。調整部８ｂによって整流板８ａの角度を調整することで、気流の配分を変更することができる。気流の配分を変更することで、温調バランスの制御が可能になる。

【0029】

調整部８ｂによる整流板８ａの角度調整は、モータやリンク機構など制御によって実現されうる。この場合、露光装置の運用中や各製造プロセスに応じて適した温調バランスに設定することができる。整流板の角度は手動調整によっても行われうる。手動調整の場合、装置運用中の変更は難しいが、簡易的な手段としてコスト面では有利である。特開２０１４－００７２６８号公報（特許文献２）には、露光プロセスに応じて給気と排気の流量バランスを調整する技術が開示されている。この技術と、本実施形態の調整部８ｂとを併用することにより、気体２０の流れのバランスを多様に変化させることが可能になる。

【0030】

本実施形態によれば、第１凹面ミラー１の第１反射面１ａと第２凹面ミラー２の第２反射面２ａの両方に沿うように気体を流すために、気流をより細かく制御することができる。

【0031】

図１、図３では、整流部８が第１凹面ミラー１に配置（支持）された例を示した。しかし、図４に示すように、整流部８は第２凹面ミラー２に配置（支持）されてもよい。図４の例では、整流部８は、整流板８ａとスリット８ｃとを含みうる。この場合、気流２０ａは、第２凹面ミラー２の第２反射面２ａの沿って進み、整流板８ａによって第１凹面ミラー１の第１反射面１ａへと流れる。一方、気流２０ｂは、第２凹面ミラー２の第２反射面２ａに沿って進んだ後、スリット８ｃを通過して、第１凹面ミラー１と第２凹面ミラー２との間を通って第２排気口６ｂへ至る。

【0032】

＜物品製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態に係る物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

【0033】

本明細書の開示は、少なくとも以下の光学装置、投影光学系、露光装置、および物品製造方法を含む。
（項目１）
第１反射面を有する第１凹面ミラーと、
前記第１凹面ミラーから離間して配置された、第２反射面を有する第２凹面ミラーと、
前記第１凹面ミラーおよび前記第２凹面ミラーを収容し、前記第２凹面ミラーから前記第１凹面ミラーに向かう気流を形成するチャンバと、
前記チャンバ内の前記第１凹面ミラーと前記第２凹面ミラーとの間に配置され、前記第２凹面ミラーの前記第２反射面に沿って流動する前記気流を前記第１凹面ミラーの前記第１反射面に導く整流部と、
を備えることを特徴とする光学装置。
（項目２）
前記チャンバは、前記第１反射面よりも前記第２反射面に近い位置に形成された給気口と、前記第２反射面よりも前記第１反射面に近い位置に形成された排気口とを有し、
前記給気口から気体が供給され前記排気口から気体が排出されることにより前記チャンバ内に前記気流が形成される、
ことを特徴とする項目１に記載の光学装置。
（項目３）
前記チャンバ内に配置された、第３反射面を有する凸面ミラーを更に備え、
前記チャンバ内に入射した光が前記第１反射面、前記第３反射面、および前記第２反射面の順に反射するように、前記第１凹面ミラー、前記第２凹面ミラー、および前記凸面ミラーが配置される、
ことを特徴とする項目２に記載の光学装置。
（項目４）
前記第２反射面と前記第３反射面との距離が前記第１反射面と前記第３反射面との距離よりも長くなるように、前記第１凹面ミラーおよび前記第２凹面ミラーが配置される、
ことを特徴とする項目３に記載の光学装置。
（項目５）
前記第１凹面ミラーは、前記第１反射面とは反対側の面である第１裏面を有し、
前記第１凹面ミラーの前記第１裏面より前記第１反射面に近い位置に前記排気口が形成されている、
ことを特徴とする項目２から４のいずれか１項に記載の光学装置。
（項目６）
前記第２凹面ミラーは、前記第２反射面とは反対側の面である第２裏面を有し、
前記第２凹面ミラーの前記第２裏面より前記第２反射面に近い位置に前記給気口が形成されている、
ことを特徴とする項目５に記載の光学装置。
（項目７）
前記チャンバは、前記第１凹面ミラーの前記第１反射面より前記第１裏面に近い位置に形成された第２排気口を更に有し、
前記整流部は、前記給気口から供給され前記第２凹面ミラーの前記第２反射面に沿って進む気流を、前記第１凹面ミラーの前記第１反射面に沿って前記排気口へ至る気流と、前記第１凹面ミラーと前記第２凹面ミラーとの間を通って前記第２排気口へ至る気流とに分岐させる、
ことを特徴とする項目６に記載の光学装置。
（項目８）
前記整流部は、前記第１凹面ミラーに配置されている、ことを特徴とする項目１から７のいずれか１項に記載の光学装置。
（項目９）
前記整流部は、前記第２凹面ミラーに配置されている、ことを特徴とする項目１から７のいずれか１項に記載の光学装置。
（項目１０）
前記整流部は、
整流板と、
前記第１反射面に対する前記整流板の角度を調整する調整部と、
を含む、ことを特徴とする項目１から９のいずれか１項に記載の光学装置。
（項目１１）
原版に形成されたパターンを基板の上に投影する投影光学系であって、
項目１から１０のいずれか１項に記載の光学装置を含む、ことを特徴とする投影光学系。
（項目１２）
基板を露光する露光装置であって、
項目１１に記載の投影光学系を含む、ことを特徴とする露光装置。
（項目１３）
項目１２に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、
を含み、前記現像された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。

【0034】

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

【符号の説明】

【0035】

１：第１凹面ミラー、１ａ：第１反射面、２：第２凹面ミラー、２ａ：第２反射面、４：チャンバ、５：給気口、６：排気口、７：整流部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】