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特開2024-125328光学積層体、該光学積層体の製造方法及び該光学積層体を備える液晶表示装置
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024125328
(43)【公開日】2024-09-18
(54)【発明の名称】光学積層体、該光学積層体の製造方法及び該光学積層体を備える液晶表示装置
(51)【国際特許分類】
G02B 5/00 20060101AFI20240910BHJP
G02F 1/13357 20060101ALI20240910BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20240910BHJP
B32B 27/30 20060101ALI20240910BHJP
B32B 3/30 20060101ALI20240910BHJP
【ＦＩ】
G02B5/00 B
G02F1/13357
G02F1/1335
B32B27/30 A
B32B3/30
【審査請求】有
【請求項の数】6
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024097432
(22)【出願日】2024-06-17
(62)【分割の表示】P 2020009202の分割
【原出願日】2020-01-23
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＰＯＬＡＲＯＩＤ
(71)【出願人】
【識別番号】000002897
【氏名又は名称】大日本印刷株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100120031
【弁理士】
【氏名又は名称】宮嶋 学
(74)【代理人】
【識別番号】100120617
【弁理士】
【氏名又は名称】浅野 真理
(72)【発明者】
【氏名】冨田 宏幸
(72)【発明者】
【氏名】塚田 賢一
(72)【発明者】
【氏名】河北 徳明
(57)【要約】
【課題】基材と光学機能層とが高い密着性を有し、これらの間にプライマー層を形成する必要がなく、その生産性及び生産コストに優れる、光学積層体の提供。
【解決手段】本発明の光学積層体は、基材と、光透過部及び光吸収部を備える光学機能層と、基材と光学機能層との間に、光透過部形成用組成物と基材との相互拡散により形成された浸透層と、を備え、光透過部及び光吸収部は、第１方向に交互に配列され、光透過部及び光吸収部は、第１方向と非平行な方向に線状に延び、浸透層の厚さが１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下であることを特徴とする。
【選択図】図１
【解決手段】本発明の光学積層体は、基材と、光透過部及び光吸収部を備える光学機能層と、基材と光学機能層との間に、光透過部形成用組成物と基材との相互拡散により形成された浸透層と、を備え、光透過部及び光吸収部は、第１方向に交互に配列され、光透過部及び光吸収部は、第１方向と非平行な方向に線状に延び、浸透層の厚さが１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下であることを特徴とする。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と、
光透過部及び光吸収部を備える光学機能層と、
前記基材と前記光学機能層との間に、光透過部形成用組成物と前記基材との相互拡散により形成された浸透層と、
を備え、
前記光透過部及び前記光吸収部は、第１方向に交互に配列され、
前記光透過部及び前記光吸収部は、前記第１方向と非平行な方向に線状に延び、
前記浸透層の厚さが１００ｎｍ以上７００ｎｍ以下である、光学積層体。
光透過部及び光吸収部を備える光学機能層と、
前記基材と前記光学機能層との間に、光透過部形成用組成物と前記基材との相互拡散により形成された浸透層と、
を備え、
前記光透過部及び前記光吸収部は、第１方向に交互に配列され、
前記光透過部及び前記光吸収部は、前記第１方向と非平行な方向に線状に延び、
前記浸透層の厚さが１００ｎｍ以上７００ｎｍ以下である、光学積層体。
【請求項2】
前記（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）の分子量が、１５０以上２１０以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項3】
前記光透過部形成用組成物に含まれる固形分１００質量％に対する（メタ）アクリルモノマーの含有量が、３０質量％以上６５質量％以下である、請求項１又は２に記載の光学積層体。
【請求項4】
前記基材が、ポリカーボネートを主成分として含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項5】
基材を準備する工程と、
前記基材の一方の面に、光透過部形成用組成物を供給する工程と、
前記光透過部形成用組成物を成形する工程と、
成形後の前記光透過部形成用組成物に対し、電離放射線を照射し硬化させ、第１方向に複数の溝を有し、前記第１方向とは非平行な方向に延びる光透過部を形成するともに、浸透層を前記基材と前記光透過部との間に形成する工程と、
前記光透過部が有する溝に、光吸収部形成用組成物を充填し、電離放射線を照射し硬化させ、光吸収部を形成する工程と、
を備え、
前記浸透層の厚さが１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下である、光学積層体の製造方法。
前記基材の一方の面に、光透過部形成用組成物を供給する工程と、
前記光透過部形成用組成物を成形する工程と、
成形後の前記光透過部形成用組成物に対し、電離放射線を照射し硬化させ、第１方向に複数の溝を有し、前記第１方向とは非平行な方向に延びる光透過部を形成するともに、浸透層を前記基材と前記光透過部との間に形成する工程と、
前記光透過部が有する溝に、光吸収部形成用組成物を充填し、電離放射線を照射し硬化させ、光吸収部を形成する工程と、
を備え、
前記浸透層の厚さが１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下である、光学積層体の製造方法。
【請求項6】
面光源装置と、請求項１～４のいずれか一項に記載の光学積層体と、液晶パネルとを備える、液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学積層体、該光学積層体の製造方法及び該光学積層体を備える液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
カーナビゲーション、テレビ及びパソコン等の表示装置は、通常、表示すべき映像を出射する映像源と、映像光の質を向上する光学シートとを備える。
【0003】
このような表示装置はその用途によって視野角を限定することが求められる。
例えば、カーナビゲーション等の車載の表示装置では、出射された映像が、車窓に映り込んでしまう可能性があり、特許文献１においては、光透過部と光吸収部とを備える光学機能層を備える光学シートが開示され、この光学シートが備える光学機能層の光吸収部により広い視野角の光を吸収し、視野角を狭くすることでこの映り込みを防止することが提案されている。
例えば、カーナビゲーション等の車載の表示装置では、出射された映像が、車窓に映り込んでしまう可能性があり、特許文献１においては、光透過部と光吸収部とを備える光学機能層を備える光学シートが開示され、この光学シートが備える光学機能層の光吸収部により広い視野角の光を吸収し、視野角を狭くすることでこの映り込みを防止することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０１６－１２０３６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
特許文献１において開示される光学シートにおいて、基材と光学機能層との間に、プライマー層が密着性向上のために設けられており、このような光学シートは、基材上に、プライマー層形成用組成物を塗布、乾燥し、プライマー層を形成し、次いで、このプライマー層を形成した基材上に、光学機能層を形成し製造される。
【0006】
近年、これらの光学シートを備える表示装置には、より高い生産性と共に、その生産コスト削減が要求されている。
【0007】
今般、本発明者らは、鋭意検討した結果、基材上への光透過部の形成において、光透過部形成用組成物と、基材とを相互拡散させ、光透過部の形成と共に、浸透層を形成することにより、プライマー層を形成することなく、基材と光学機能層との密着性を向上することができるとの新たな知見を得た。
【0008】
本発明は、上記知見に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、基材と光学機能層とが高い密着性を有し、これらの間にプライマー層を形成する必要がなく、その生産性及び生産コストに優れる、光学積層体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の光学積層体は、基材と、
光透過部及び光吸収部を備える光学機能層と、
基材と光学機能層との間に、光透過部形成用組成物と基材との間の相互拡散により形成された浸透層と、
を備え、
光透過部及び光吸収部は、第１方向に交互に配列され、
光透過部及び光吸収部は、第１方向と非平行な方向に線状に延び、
浸透層の厚さが１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下であることを特徴とする。
光透過部及び光吸収部を備える光学機能層と、
基材と光学機能層との間に、光透過部形成用組成物と基材との間の相互拡散により形成された浸透層と、
を備え、
光透過部及び光吸収部は、第１方向に交互に配列され、
光透過部及び光吸収部は、第１方向と非平行な方向に線状に延び、
浸透層の厚さが１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下であることを特徴とする。
【0010】
一実施形態において、光透過部形成用組成物は、（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）の少なくとも１つを含む。
【0011】
一実施形態において、（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）の分子量は、１５０以上２１０以下である。
【0012】
一実施形態において、光透過部形成用組成物に含まれる固形分１００質量％に対する（メタ）アクリルモノマーの含有量は、３０質量％以上６５質量％以下である。
【0013】
一実施形態において、光透過部形成用組成物の貯蔵弾性率は、１０００ＭＰａ以上６０００ＭＰａ以下である。
【0014】
一実施形態において、基材は、ポリカーボネートを主成分として含む。
【0015】
本発明の光学積層体の製造方法は、基材を準備する工程と、
基材の一方の面に、光透過部形成用組成物を供給する工程と、
光透過部形成用組成物を成形する工程と、
成形後の光透過部形成用組成物に対し、電離放射線を照射し硬化させ、第１方向に複数の溝を有し、第１方向とは非平行な方向に延びる光透過部を形成するともに、浸透層を前記基材と光透過部との間に形成する工程と、
光透過部が有する溝に、光吸収部形成用組成物を充填し、電離放射線を照射し硬化させ、光吸収部を形成する工程と、
を備え、
浸透層の厚さが１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下であることを特徴とする。
基材の一方の面に、光透過部形成用組成物を供給する工程と、
光透過部形成用組成物を成形する工程と、
成形後の光透過部形成用組成物に対し、電離放射線を照射し硬化させ、第１方向に複数の溝を有し、第１方向とは非平行な方向に延びる光透過部を形成するともに、浸透層を前記基材と光透過部との間に形成する工程と、
光透過部が有する溝に、光吸収部形成用組成物を充填し、電離放射線を照射し硬化させ、光吸収部を形成する工程と、
を備え、
浸透層の厚さが１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下であることを特徴とする。
【0016】
本発明の液晶表示装置は、面光源装置と、上記光学積層体と、液晶パネルとを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【0017】
本発明の光学積層体によれば、基材と光学機能層とが高い密着性を有し、別途基材と光学機能層との間にプライマー層を形成する工程を省くことができるため、生産性を顕著に改善することができると共に、その生産コストを効果的に低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】本発明の光学積層体の斜視図である。
【図2】本発明の光学積層体の模式断面図である。
【図4】本発明の光学積層体の製造方法の一実施形態を説明するための図である。
【図5】本発明の液晶表示装置の模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
（光学積層体）
本発明の光学積層体１０は、図１に示すように、基材１１と、光透過部１２及び光吸収部１３を備える光学機能層１４とを備え、基材１１と光学機能層１４との間に、浸透層１５を備える。
一実施形態において、図２に示すように、本発明の光学積層体１０は、光学機能層１４上に、入射面マット層１６を備える。
また、一実施形態において、図２に示すように、基材１１下に、出射面マット層１７を備える。
また、一実施形態において、図２に示すように、本発明の光学積層体１０は、基材１１と出射面マット層１７との間に、プライマー層又は第２の浸透層１８を備える。
また、一実施形態において、本発明の光学積層体は、基材下に、偏光フィルムを備える（図示せず）。
さらに、一実施形態において、本発明の光学積層体は、光学機能層上に反射型偏光フィルムを備える（図示せず）。
本発明の光学積層体１０は、図１に示すように、基材１１と、光透過部１２及び光吸収部１３を備える光学機能層１４とを備え、基材１１と光学機能層１４との間に、浸透層１５を備える。
一実施形態において、図２に示すように、本発明の光学積層体１０は、光学機能層１４上に、入射面マット層１６を備える。
また、一実施形態において、図２に示すように、基材１１下に、出射面マット層１７を備える。
また、一実施形態において、図２に示すように、本発明の光学積層体１０は、基材１１と出射面マット層１７との間に、プライマー層又は第２の浸透層１８を備える。
また、一実施形態において、本発明の光学積層体は、基材下に、偏光フィルムを備える（図示せず）。
さらに、一実施形態において、本発明の光学積層体は、光学機能層上に反射型偏光フィルムを備える（図示せず）。
【0020】
以下、本発明の光学積層体が備える各層について説明する。
【0021】
（基材）
基材としては、樹脂材料により構成されるシートを使用することができる。
樹脂材料としては、透光性を有するものであれば特に限定することなく使用することができ、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、（メタ）アクリル樹脂及びトリアセチルセルロース等のセルロース樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、浸透層の形成性及び耐熱性という観点からは、基材は、ポリカーボネートを主成分として含むことが好ましい。
また、基材は、上記した樹脂材料を２種以上含むものであってもよく、異なる樹脂材料により構成されるシートを従来公知の接着剤等を介して積層したものであってもよい。
なお、本発明において、「主成分」とは、基材における含有量が、５０質量％以上であることを意味する。
基材としては、樹脂材料により構成されるシートを使用することができる。
樹脂材料としては、透光性を有するものであれば特に限定することなく使用することができ、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、（メタ）アクリル樹脂及びトリアセチルセルロース等のセルロース樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、浸透層の形成性及び耐熱性という観点からは、基材は、ポリカーボネートを主成分として含むことが好ましい。
また、基材は、上記した樹脂材料を２種以上含むものであってもよく、異なる樹脂材料により構成されるシートを従来公知の接着剤等を介して積層したものであってもよい。
なお、本発明において、「主成分」とは、基材における含有量が、５０質量％以上であることを意味する。
【0022】
基材の屈折率は、１．４０以上１．７０以下であることが好ましい。これにより、基材に隣接する層との屈折率差を小さくすることができ、不要な全反射や屈折を防ぐことができる。
なお、本発明において、屈折率の測定は、ＪＩＳ Ｋ ００６２に準拠し、アッベ屈折率計を用いて行う。
なお、本発明において、屈折率の測定は、ＪＩＳ Ｋ ００６２に準拠し、アッベ屈折率計を用いて行う。
【0023】
基材は、その表面、好ましくは、光学機能層が設けられた面とは反対の面に表面処理が施されていることが好ましい。表面処理方法は特に限定されるものではなく、例えば、サンドブラスト、エンボス加工されたロール等を使用した転写成形、印刷及び塗装等により行うことができる。
表面処理された基材の表面粗さＲａは、０．１μｍ以上１．５μｍ以下であることが好ましい。これにより、視野角を狭い状態に維持しつつ、本発明の光学積層体を表示装置に適用した際、光学的な密着による干渉縞（ニュートンリング）の発生を効果的に抑制することができる。
なお、本発明において、表面粗さＲａの測定は、キーエンス社製レーザー顕微鏡ＶＫ－８７００を用いて、５００倍での面分析にて行った。
表面処理された基材の表面粗さＲａは、０．１μｍ以上１．５μｍ以下であることが好ましい。これにより、視野角を狭い状態に維持しつつ、本発明の光学積層体を表示装置に適用した際、光学的な密着による干渉縞（ニュートンリング）の発生を効果的に抑制することができる。
なお、本発明において、表面粗さＲａの測定は、キーエンス社製レーザー顕微鏡ＶＫ－８７００を用いて、５００倍での面分析にて行った。
【0024】
基材の厚さは、５０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、８０μｍ以上２５０μｍ以下であることがより好ましい。これにより、基材の剛性及び強度と、製造コスト及び加工適性とを両立することができる。
【0025】
（光学機能層）
光学機能層１４は、図１に示すように、光透過部１２及び光吸収部１３が第１方向ｄ１に交互に配列されている。
また、この光透過部１２及び光吸収部１３は、第１方向ｄ１と非平行な方向、図１においては、第１方向ｄ１と直交する方向に線状に延びている。
光学機能層は、入光側から入射した光の進行方向を変化させて入光側とは反対の出光側から出射させ、正面方向（法線方向）の輝度を集中的に向上させる機能（集光機能）を有する。
なお、本明細書において使用する、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待しうる程度の範囲を含めて解釈することとする。
光学機能層１４は、図１に示すように、光透過部１２及び光吸収部１３が第１方向ｄ１に交互に配列されている。
また、この光透過部１２及び光吸収部１３は、第１方向ｄ１と非平行な方向、図１においては、第１方向ｄ１と直交する方向に線状に延びている。
光学機能層は、入光側から入射した光の進行方向を変化させて入光側とは反対の出光側から出射させ、正面方向（法線方向）の輝度を集中的に向上させる機能（集光機能）を有する。
なお、本明細書において使用する、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待しうる程度の範囲を含めて解釈することとする。
【0026】
光学機能層１４において、図３にＰｋで表した光透過部１２及び光吸収部１３のピッチは、３０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
また、図３にθａで示した光透過部１２と光吸収部１３との斜辺（脚部）における界面と、光学機能層１４の層面の法線と、の成す角は、０°以上１０°以下であることが好ましい。
また、図３にＤｋで示した光吸収部１３の厚さは、６０μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましい。
さらに、図３にＷａで示した光吸収部１３の上底幅は、５μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、下底幅Ｗｂは、２μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
これらの範囲内とすることにより、光の透過と光の吸収とのバランスをさらに良好なものとすることができる。
また、図３にθａで示した光透過部１２と光吸収部１３との斜辺（脚部）における界面と、光学機能層１４の層面の法線と、の成す角は、０°以上１０°以下であることが好ましい。
また、図３にＤｋで示した光吸収部１３の厚さは、６０μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましい。
さらに、図３にＷａで示した光吸収部１３の上底幅は、５μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましく、下底幅Ｗｂは、２μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
これらの範囲内とすることにより、光の透過と光の吸収とのバランスをさらに良好なものとすることができる。
【0027】
図１及び２は光透過部１２と光吸収部１３との界面（脚部）が断面において一直線状となる例を示したが、これに限らず折れ線状、凸である曲面状、凹である曲面状等であってもよい。また、複数の光透過部１２及び光吸収部１３で断面形状が同じであってもよいし、所定の規則性を有して異なる断面形状であってもよい。また本形態では光透過部１２、光吸収部１３は等脚台形としたが、等脚である必要はなく、一方の脚部と他方の脚部とで傾斜角度が異なってもよい。
【0028】
光学機能層の厚さは、９０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましく、１１０μｍ以上１５０μｍ以下であることがより好ましい。これにより、光学機能層の集光機能を向上することができる。また、光学機能層の生産コストを低減することができると共にその生産性を向上することができる。
【0029】
（光透過部）
光透過部は光を透過させることを主要の機能とする部位であり、一実施形態において、図１に示すように、基材側に短い下底、それとは反対側に長い上底を有する、等脚台形状を有する。
光透過部は、基材の層面に沿って当該断面を維持して延びるとともに、この延びる方向と略垂直方向に所定の間隔で配列される。そして、隣り合う光透過部の間には、等脚台形断面を有する溝が形成され、該溝中に、光吸収部が形成されている。
光透過部は光を透過させることを主要の機能とする部位であり、一実施形態において、図１に示すように、基材側に短い下底、それとは反対側に長い上底を有する、等脚台形状を有する。
光透過部は、基材の層面に沿って当該断面を維持して延びるとともに、この延びる方向と略垂直方向に所定の間隔で配列される。そして、隣り合う光透過部の間には、等脚台形断面を有する溝が形成され、該溝中に、光吸収部が形成されている。
【0030】
光透過部の屈折率は、１．５４以上１．５９以下であることが好ましい。
これにより、光吸収部と屈折率差を設けることができ、全反射による光の利用効率を高めることが出来る。また、基材との屈折率差を小さくすることができ、不要な全反射や屈折を防ぐことができる。
光透過部と、光吸収部との屈折率差は、０．０４以上であることが好ましく、０．６０以上であることがより好ましい。
光透過部と、基材との屈折率差は、０．０５以下であることが好ましく、０．０３以下であることがより好ましい。
これにより、光吸収部と屈折率差を設けることができ、全反射による光の利用効率を高めることが出来る。また、基材との屈折率差を小さくすることができ、不要な全反射や屈折を防ぐことができる。
光透過部と、光吸収部との屈折率差は、０．０４以上であることが好ましく、０．６０以上であることがより好ましい。
光透過部と、基材との屈折率差は、０．０５以下であることが好ましく、０．０３以下であることがより好ましい。
【0031】
光透過部は、光透過部形成用組成物を基材上に供給し、金型ロール等を使用して成形した後、紫外線や電子線等の電離放射線を照射し、成形された光透過部形成用組成物を硬化させることにより、形成することができる。
この光透過部形成用組成物を基材上へ供給してから、電離放射線照射までの間に、該組成物が基材へ浸透し、浸透層が形成される。
この光透過部形成用組成物を基材上へ供給してから、電離放射線照射までの間に、該組成物が基材へ浸透し、浸透層が形成される。
【0032】
光透過部の形成に用いられる光透過部形成用組成物は、（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）の少なくとも１つを含むことが好ましい。
光透過部形成用組成物が（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）の少なくとも１つを含むことにより、該組成物と、基板、特にポリカーボネート製の基板との相互拡散性を向上でき、浸透層を形成することができる。
（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）の中でも、芳香族基含有の、（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）が特に好ましい。 芳香族基含有の、（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）を使用することにより、基材と光透過部との間に形成される浸透層の屈折率と、基材の屈折率と、光透過部の屈折率との差を小さくすることができ、光の出射方向における輝度（正面輝度）を効果的に向上することができる。
芳香族基含有（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、パラフェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、パラフェニルフェニル（メタ）アクリレート及びフェニルグリシジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらの中でも、正面輝度の観点から、フェノキシエチル（メタ）アクリレート及びベンジル（メタ）アクリレートが好ましい。
また、芳香族基含有（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び芳香族基含有（メタ）アクリルトリマー（３量体）は、上記した芳香族基含有（メタ）アクリルモノマー同士の共重合体であってもよく、本発明の特性を損なわない範囲においては、上記した芳香族基含有（メタ）アクリルモノマーと、その他のモノマーとの共重合体であってもよい。
光透過部形成用組成物が（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）の少なくとも１つを含むことにより、該組成物と、基板、特にポリカーボネート製の基板との相互拡散性を向上でき、浸透層を形成することができる。
（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）の中でも、芳香族基含有の、（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）が特に好ましい。 芳香族基含有の、（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）を使用することにより、基材と光透過部との間に形成される浸透層の屈折率と、基材の屈折率と、光透過部の屈折率との差を小さくすることができ、光の出射方向における輝度（正面輝度）を効果的に向上することができる。
芳香族基含有（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、パラフェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、パラフェニルフェニル（メタ）アクリレート及びフェニルグリシジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらの中でも、正面輝度の観点から、フェノキシエチル（メタ）アクリレート及びベンジル（メタ）アクリレートが好ましい。
また、芳香族基含有（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び芳香族基含有（メタ）アクリルトリマー（３量体）は、上記した芳香族基含有（メタ）アクリルモノマー同士の共重合体であってもよく、本発明の特性を損なわない範囲においては、上記した芳香族基含有（メタ）アクリルモノマーと、その他のモノマーとの共重合体であってもよい。
【0033】
（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）の分子量は、１５０以上２１０以下であることが好ましく、１６０以上２００以下であることがより好ましい。これにより、光透過部形成用組成物と、基板、特にポリカーボネート製の基板との相互拡散性を向上することができる。
【0034】
光透過部形成用組成物に含まれる固形分１００質量％に対する（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）の含有量は、３０質量％以上６５質量％以下であることが好ましく、４０質量％以上５５質量％以下であることが好まし。光透過部形成用組成物における（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルダイマー（２量体）及び（メタ）アクリルトリマー（３量体）の含有量を上記数値範囲内とすることにより、基板、特にポリカーボネート製の基板と、光透過部形成用組成物との相互拡散性を向上することができる。また、形成される光透過部の弾性率を望ましいものとすることができる。
【0035】
また、光透過部形成用組成物は、電離放射線硬化型樹脂を含む。電離放射線硬化型樹脂とは、電子線や紫外線等を照射することにより、架橋硬化する樹脂である。
電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート及びブタジエン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル樹脂、ポリエステル、ポリエーテル並びにエポキシ樹脂等を挙げることができる。
電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート及びブタジエン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル樹脂、ポリエステル、ポリエーテル並びにエポキシ樹脂等を挙げることができる。
【0036】
一実施形態において、光透過部形成用組成物は、光重合開始剤を含む。
光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、α－アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン化合物等が挙げられる。
光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、α－アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン化合物等が挙げられる。
【0037】
一実施形態において、光透過部形成用組成物は、光増感剤を含む。
光増感剤としては、例えば、ｎ－ブチルアミン、トリエチルアミン及びポリ－ｎ－ブチルホソフィン等が挙げられる。
光増感剤としては、例えば、ｎ－ブチルアミン、トリエチルアミン及びポリ－ｎ－ブチルホソフィン等が挙げられる。
【0038】
光透過部形成用組成物の貯蔵弾性率は、１０００ＭＰａ以上６０００ＭＰａ以下であることが好ましく、２０００ＭＰａ以上４０００ＭＰａ以下であることがより好ましい。これにより、光透過部の形成をより容易に行うことができる。
なお、本発明において、貯蔵弾性率は、（株）ユービーエム製Ｐｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００又は同等品の装置を使用し、サンプルは厚さ１．０±０．１ｍｍ、幅５．０±０．５ｍｍ、長さ３０ｍｍ以上サイズを用いる。
測定条件は、測定モード：温度依存性、測定温度範囲０～１０１℃、ステップ温度４℃、昇温速度４℃／分、周波数：１０Ｈｚ，歪み波形は正弦波、測定治具は引っ張り、歪み制御３μｍにより測定し、２５±１℃での数値を読み取る。
また、光透過部形成用組成物の硬化は、Ｄバルブ（へレウス社製）により、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ２で行う。
なお、本発明において、貯蔵弾性率は、（株）ユービーエム製Ｐｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００又は同等品の装置を使用し、サンプルは厚さ１．０±０．１ｍｍ、幅５．０±０．５ｍｍ、長さ３０ｍｍ以上サイズを用いる。
測定条件は、測定モード：温度依存性、測定温度範囲０～１０１℃、ステップ温度４℃、昇温速度４℃／分、周波数：１０Ｈｚ，歪み波形は正弦波、測定治具は引っ張り、歪み制御３μｍにより測定し、２５±１℃での数値を読み取る。
また、光透過部形成用組成物の硬化は、Ｄバルブ（へレウス社製）により、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ２で行う。
【0039】
（光吸収部）
一実施形態において、光吸収部は、図１に示すように、基材側に短い上底、それとは反対側に長い下底を有する、等脚台形状を有する。
一実施形態において、光吸収部は、図１に示すように、基材側に短い上底、それとは反対側に長い下底を有する、等脚台形状を有する。
【0040】
光吸収部の屈折率は、１．４３０以上１．５４０以下であることが好ましい。
これにより、光透過部と屈折率差を設けて、全反射による光の利用効率を高める事が出来る。
これにより、光透過部と屈折率差を設けて、全反射による光の利用効率を高める事が出来る。
【0041】
一実施形態において、光吸収部形成用組成物は、光吸収粒子及び上記電離放射線硬化型樹脂を含む。
また、一実施形態において、光吸収部形成用組成物は、上記光重合開始剤や光増感剤を含む。
また、一実施形態において、光吸収部形成用組成物は、上記光重合開始剤や光増感剤を含む。
【0042】
光吸収粒子としては、カーボンブラック等の光吸収性の着色粒子が好ましく用いられるが、これらに限定されるものではなく、映像光の特性に合わせて特定の波長を選択的に吸収する着色粒子を使用してもよい。具体的には、カーボンブラック、グラファイト及び黒色酸化鉄等の金属塩、染料又は顔料等で着色した有機微粒子、並びに着色したガラスビーズ等を挙げることができる。着色粒子の平均粒子径は、特に限定されるものではなく、例えば、１μｍ以上２０μｍ以下のものを使用することができる。また、光吸収部形成用組成物における分散性向上のため、光吸収粒子は、表面処理が施されたものであってもよい。
バインダー樹脂としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート及びブタジエン（メタ）アクリレート等の光硬化性樹脂を挙げることができる。
光吸収粒子の平均粒子径は特に限定されるものではないが、例えば、１μｍ以上２０μｍ以下のものを好適に使用することができる。
バインダー樹脂としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート及びブタジエン（メタ）アクリレート等の光硬化性樹脂を挙げることができる。
光吸収粒子の平均粒子径は特に限定されるものではないが、例えば、１μｍ以上２０μｍ以下のものを好適に使用することができる。
【0043】
（浸透層）
本発明の光学積層体は、基材と光学機能層との間に、光透過部形成用組成物と基材とが相互拡散することにより形成される浸透層を備える。これにより、基材と光学機能層との間の密着性を、別途プライマー層を形成することなく、効果的に向上することができる。
本発明の光学積層体は、基材と光学機能層との間に、光透過部形成用組成物と基材とが相互拡散することにより形成される浸透層を備える。これにより、基材と光学機能層との間の密着性を、別途プライマー層を形成することなく、効果的に向上することができる。
【0044】
本発明の光学積層体が備える浸透層は、走査電子顕微鏡により観察することができる。
具体的には、光学積層体の断面を仕上げ切削厚約８０ｎｍの超薄切片として切り出し、Ｃｕメッシュ上に採取する。その後、気相染色法にて四酸化オスミウムで３０分間染色した後、（株）日立ハイテクノロジーズ製のＳ－４８００又は同程度の装置を使用することにより、観察することができる。この際の測定条件としてはＳＴＥＭモード、加速電圧３０ｋＶ、エミッション電流１０μＡ、ＷＤ４ｍｍ、観察倍率２万倍～１０万倍とする。撮影時の観察倍率基準は、Ｐｏｌａｒｏｉｄ５４５とする。
具体的には、光学積層体の断面を仕上げ切削厚約８０ｎｍの超薄切片として切り出し、Ｃｕメッシュ上に採取する。その後、気相染色法にて四酸化オスミウムで３０分間染色した後、（株）日立ハイテクノロジーズ製のＳ－４８００又は同程度の装置を使用することにより、観察することができる。この際の測定条件としてはＳＴＥＭモード、加速電圧３０ｋＶ、エミッション電流１０μＡ、ＷＤ４ｍｍ、観察倍率２万倍～１０万倍とする。撮影時の観察倍率基準は、Ｐｏｌａｒｏｉｄ５４５とする。
【0045】
本発明において、浸透層の厚さは、１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下であることを特徴とする。これにより、基材と光学機能層との密着性を良好なものとすることができると共に、本発明の光学積層体の生産性を向上することができる。
より好ましくは、浸透層の厚さは、１００ｎｍ以上７００ｎｍ以下である。
浸透層の厚さは、後述するように、基材上に光透過部形成用組成物を供給後、電離放射線を照射するまでの時間、すなわち、基材と光透過部形成用組成物との接触時間を変更することにより、調整することができる。
より好ましくは、浸透層の厚さは、１００ｎｍ以上７００ｎｍ以下である。
浸透層の厚さは、後述するように、基材上に光透過部形成用組成物を供給後、電離放射線を照射するまでの時間、すなわち、基材と光透過部形成用組成物との接触時間を変更することにより、調整することができる。
【0046】
（入射面マット層）
一実施形態において、本発明の光学積層体は、光学機能層上に入射面マット層を備え、光源からの光の均一化を行うことができる。
一実施形態において、本発明の光学積層体は、光学機能層上に入射面マット層を備え、光源からの光の均一化を行うことができる。
【0047】
入射面マット層は、光学機能層側とは反対の面に表面処理が施されており、その表面粗さＲａは、０．１μｍ以上１．５μｍ以下であることが好ましい。これにより、視野角を狭い状態に維持しつつ、本発明の光学積層体を表示装置に適用した際、光学的な密着による干渉縞（ニュートンリング）の発生を効果的に抑制することができる。
【0048】
入射面マット層は、樹脂材料を含み、樹脂材料としては、透光性を有するものであれば特に限定することなく使用することができ、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、（メタ）アクリル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂等及び上記電離放射線硬化型樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性という観点からは、（メタ）アクリル樹脂を主成分として含むことが好ましい。
【0049】
入射面マット層の厚さは、５μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。これにより、干渉縞の発生をより効果的に防止することができる。
【0050】
入射面マット層は、一方の面に表面処理が施された上記樹脂材料から構成されるシートを後述するプライマー層を介して積層することにより形成してもよく、上記樹脂材料を含む組成物光学機能層上に、供給し、次いで、型等を利用し、成形し、硬化させることにより、形成してもよい。
【0051】
（出射面マット層）
一実施形態において、本発明の光学積層体は、基材下に出射面マット層を備え、これにより、干渉縞の発生を効果的に防止することができる。
一実施形態において、本発明の光学積層体は、基材下に出射面マット層を備え、これにより、干渉縞の発生を効果的に防止することができる。
【0052】
出射面マット層は、基材側とは反対の面に表面処理が施されており、その表面粗さＲａは、０．１μｍ以上１．５μｍ以下であることが好ましい。これにより、視野角を狭い状態に維持しつつ、本発明の光学積層体を表示装置に適用した際、光学的な密着による干渉縞（ニュートンリング）の発生を効果的に抑制することができる。
【0053】
出射面マット層は、樹脂材料を含み、樹脂材料としては、透光性を有するものであれば特に限定することなく使用することができ、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、（メタ）アクリル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂等及び上記電離放射線硬化型樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性という観点からは、（メタ）アクリル樹脂を主成分として含むことが好ましい。
【0054】
出射面マット層を形成するために用いる組成物に、上記（メタ）アクリルモノマーを含有させてもよい。これにより、該組成物が基材に浸透し、出射面マット層の形成と共に、第２の浸透層を形成することができ、基材と出射面マット層との密着性を向上することができる。
好ましい（メタ）アクリルモノマーの種類、分子量や含有量については上記した通りである。
好ましい（メタ）アクリルモノマーの種類、分子量や含有量については上記した通りである。
【0055】
出射面マット層の厚さは、５μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。これにより、干渉縞の発生をより効果的に防止することができる。
【0056】
出射面マット層は、一方の面に表面処理が施された上記樹脂材料から構成されるシートを後述するプライマー層を介して積層することにより形成してもよく、上記樹脂材料を基材上に、供給し、次いで、型等を利用し、成形し、硬化させることにより、形成してもよい。
【0057】
（プライマー層）
本発明の光学積層体は、光学機能層と入射面マット層との間、基材と出射面マット層との間に、プライマー層を備えることができ、これにより、これら層間の密着性を向上することができる。
本発明の光学積層体は、光学機能層と入射面マット層との間、基材と出射面マット層との間に、プライマー層を備えることができ、これにより、これら層間の密着性を向上することができる。
【0058】
プライマー層は、樹脂材料を含み、層間の密着性を向上することができるものであれば特に限定されず、例えば、上記電離放射線硬化型樹脂を使用することができる。
【0059】
プライマー層の厚さは、０．１μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましい。これにより、層間の密着性を向上することができる。
【0060】
一実施形態において、プライマー層は、上記電離放射線硬化型樹脂を基材等の上に供給し、電離放射線を照射することにより形成することができる。
【0061】
（偏光フィルム）
一実施形態において、本発明の光学積層体は、基材下に、偏光フィルムを備える。
一実施形態において、本発明の光学積層体は、基材下に、偏光フィルムを備える。
【0062】
偏光フィルムとしては、市販されるものを適宜選択して使用することができ、例えば、日東電工（株）製のＮＰＦ等を使用することができる。
【0063】
偏光フィルムは、従来公知の接着剤、粘着剤又は上記プライマー層を介して積層することができる。
【0064】
（反射型偏光フィルム）
一実施形態において、本発明の光学積層体は、光学機能層上に反射型偏光フィルムを備える。
一実施形態において、本発明の光学積層体は、光学機能層上に反射型偏光フィルムを備える。
【0065】
反射型偏光フィルムとしては、市販されるものを適宜選択して使用することができ、例えば、住友スリーエム（株）製のＤＢＥＦ－Ｄ２－４００等を使用することができる。
【0066】
反射型偏光フィルムは、従来公知の接着剤、粘着剤又は上記プライマー層を介して積層することができる。
【0067】
（光学積層体の製造方法）
本発明の光学積層体の製造方法は、
基材を準備する工程と、
基材の一方の面に、光透過部形成用組成物を供給する工程と、
光透過部形成用組成物を成形する工程と、
成形後の光透過部形成用組成物に対し、電離放射線を照射し硬化させ、第１方向に複数の溝を有し、前記第１方向とは非平行な方向に延びる光透過部を形成するともに、浸透層を基材と光透過部との間に形成する工程と、
光透過部が有する溝に、光吸収部形成用組成物を充填し、電離放射線を照射し硬化させ、光吸収部を形成する工程と、
を備えることを特徴とする。
本発明の光学積層体の製造方法は、
基材を準備する工程と、
基材の一方の面に、光透過部形成用組成物を供給する工程と、
光透過部形成用組成物を成形する工程と、
成形後の光透過部形成用組成物に対し、電離放射線を照射し硬化させ、第１方向に複数の溝を有し、前記第１方向とは非平行な方向に延びる光透過部を形成するともに、浸透層を基材と光透過部との間に形成する工程と、
光透過部が有する溝に、光吸収部形成用組成物を充填し、電離放射線を照射し硬化させ、光吸収部を形成する工程と、
を備えることを特徴とする。
【0068】
（基材を準備する工程）
基材は、Ｔダイ法やインフレション法等の従来公知の方法により作製したものを使用してもよく、市販されるものを使用してもよい。また、異種の材料により構成される基材を従来公知の接着剤等を介して積層したものを使用してもよい。
基材は、Ｔダイ法やインフレション法等の従来公知の方法により作製したものを使用してもよく、市販されるものを使用してもよい。また、異種の材料により構成される基材を従来公知の接着剤等を介して積層したものを使用してもよい。
【0069】
（光透過部形成用組成物の塗布工程）
本発明の光学積層体の製造方法は、基材の一方の面に光透過部形成用組成物を供給する工程を含む。
一実施形態において、該工程は、図４に示すように、形成する光吸収部の形状に賦形された金型ロール２０及びニップロール２１の間に挿入された、基材１１と金型ロール２０との間に、例えば、ダイ２２により、光透過部形成用組成物２３が供給される。
該工程において、基材に接触する光透過部形成用組成物が、基材に浸透し、浸透層が形成される。
本発明の光学積層体の製造方法は、基材の一方の面に光透過部形成用組成物を供給する工程を含む。
一実施形態において、該工程は、図４に示すように、形成する光吸収部の形状に賦形された金型ロール２０及びニップロール２１の間に挿入された、基材１１と金型ロール２０との間に、例えば、ダイ２２により、光透過部形成用組成物２３が供給される。
該工程において、基材に接触する光透過部形成用組成物が、基材に浸透し、浸透層が形成される。
【0070】
（光透過部形成用組成物の成形工程）
基材上に供給された光透過部形成用組成物２３は、成形され、光吸収部の形状を有する溝が設けられる。一実施形態において、この成形は、上記した金型ロール２０により行われ、金型ロール２０の表面形状が、光透過部形成用組成物に転写される。
基材上に供給された光透過部形成用組成物２３は、成形され、光吸収部の形状を有する溝が設けられる。一実施形態において、この成形は、上記した金型ロール２０により行われ、金型ロール２０の表面形状が、光透過部形成用組成物に転写される。
【0071】
（電離放射線照射工程）
本発明の光学積層体の製造方法は、図４に示すように、金型ロール２０により、成形した光透過部形成用組成物２３に対し、電離放射線照射装置２４から電離放射線を照射し、硬化させ、光透過部を形成する工程を含む。また、この電離放射線照射により、光透過部形成用組成物の基材の浸透も止まり、浸透層が形成される。
また、一実施形態において、電離放射線照射後、基材該基材上に形成された浸透層及び光透過部を備える積層体は、離型ロール２５により金型ロール２０より剥離される。
本発明の光学積層体の製造方法は、図４に示すように、金型ロール２０により、成形した光透過部形成用組成物２３に対し、電離放射線照射装置２４から電離放射線を照射し、硬化させ、光透過部を形成する工程を含む。また、この電離放射線照射により、光透過部形成用組成物の基材の浸透も止まり、浸透層が形成される。
また、一実施形態において、電離放射線照射後、基材該基材上に形成された浸透層及び光透過部を備える積層体は、離型ロール２５により金型ロール２０より剥離される。
【0072】
電離放射線としては、例えば、紫外線を使用することができ、光源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等を使用することができる。また、電子線を使用することもでき、光源としては、コックロフトワルトン型電子線加速機や、共振変圧型電子線加速機を使用することができる。
【0073】
（光吸収部の形成工程）
光吸収部は、光透過部に形成された溝に、光吸収部形成用組成物を充填し、電離放射線を照射し、硬化させることにより、形成することができる。
充填された光吸収部形成用組成物の余剰分は、ドクターブレード等を使用し掻き落とすことが好ましい。なお、照射される光については、上記した通りである。
光吸収部は、光透過部に形成された溝に、光吸収部形成用組成物を充填し、電離放射線を照射し、硬化させることにより、形成することができる。
充填された光吸収部形成用組成物の余剰分は、ドクターブレード等を使用し掻き落とすことが好ましい。なお、照射される光については、上記した通りである。
【0074】
（液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置３０は、図５に示すように、面光源装置３１と、上記光学積層体１０と、液晶パネル３２とを備える。光学積層体については上述したため、ここでは記載を省略する。
本発明の液晶表示装置３０は、図５に示すように、面光源装置３１と、上記光学積層体１０と、液晶パネル３２とを備える。光学積層体については上述したため、ここでは記載を省略する。
【0075】
（面光源装置）
面光源装置としては、従来公知のものを使用することができ、例えば、光源側から観察者側に向け、反射シート、光源を備える導光板、拡散シート及びレンズ（プリズム）シートの順に積層された面光源装置を使用することができる。
また、光源側から観察者側に向け、反射板、導光板、拡散シート、プリズムシート、反射型輝度向上シートの順に積層された面光源装置を使用することができる。
また、該面光源装置は、レンズシートの観察者側に、反射型偏光シートを備えていてもよい。
面光源装置としては、従来公知のものを使用することができ、例えば、光源側から観察者側に向け、反射シート、光源を備える導光板、拡散シート及びレンズ（プリズム）シートの順に積層された面光源装置を使用することができる。
また、光源側から観察者側に向け、反射板、導光板、拡散シート、プリズムシート、反射型輝度向上シートの順に積層された面光源装置を使用することができる。
また、該面光源装置は、レンズシートの観察者側に、反射型偏光シートを備えていてもよい。
【0076】
（液晶パネル）
液晶パネルとしては、従来公知のものを使用することができ、例えば、光源側から観察者側に向け、第１ガラス基板、液晶層、第２ガラス基板及び偏光フィルム（上偏光フィルム）の順に積層された液晶パネルを使用することができる。また、該液晶パネルは、第１ガラス板の光源側に、偏光フィルム（下偏光フィルム）を備えていてもよい。
液晶パネルとしては、従来公知のものを使用することができ、例えば、光源側から観察者側に向け、第１ガラス基板、液晶層、第２ガラス基板及び偏光フィルム（上偏光フィルム）の順に積層された液晶パネルを使用することができる。また、該液晶パネルは、第１ガラス板の光源側に、偏光フィルム（下偏光フィルム）を備えていてもよい。
【実施例0077】
次に実施例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。
【0078】
実施例１
基材として、厚さ１３０μｍのポリカーボネートフィルム（恵和（株）製、オプコン（登録商標）＃１３０ＭＨ２０、屈折率１．５９）を用意した。
基材として、厚さ１３０μｍのポリカーボネートフィルム（恵和（株）製、オプコン（登録商標）＃１３０ＭＨ２０、屈折率１．５９）を用意した。
【0079】
図４に示すように、金型ロール２０と、ニップロール２１との間に、基材１１を挟み込み、基材１１と金型ロール２０との間に、下記組成の光透過部形成用組成物２２を供給し、金型ロール及びニップロール間を通過させると共に、基材側から高圧水銀灯を用いて２０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、基材上に光透過部を形成すると共に、基材と光透過部との間に浸透層を形成した。基材上への光透過部形成用組成物の供給から電離放射線照射までの時間は、１０秒であり、この浸透層の厚さを測定したところ、１００ｎｍであった。
（光透過部形成用組成物）
・（メタ）アクリルモノマーＡ ５０質量部
（ベンジルアクリレート、分子量１６２．２）
・キシレンジイソシアネート １２質量部・アクリル酸２－ヒドロキシエチル １２質量部・ＥＯ変性ビスフェノールＡ １２質量部・イソボルニルアクリレート １０質量部・ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（開始剤）３質量部
・ヒンダードフェノール系酸化防止剤 １質量部
（光透過部形成用組成物）
・（メタ）アクリルモノマーＡ ５０質量部
（ベンジルアクリレート、分子量１６２．２）
・キシレンジイソシアネート １２質量部・アクリル酸２－ヒドロキシエチル １２質量部・ＥＯ変性ビスフェノールＡ １２質量部・イソボルニルアクリレート １０質量部・ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド（開始剤）３質量部
・ヒンダードフェノール系酸化防止剤 １質量部
【0080】
上記光透過部が形成された基材上に、下記組成の光吸収部形成用組成物を塗布し、ドクターブレードにより、金型ロールにより成形された光透過部の溝中に、光吸収部形成用組成物を充填すると共に、余剰分を掻き落とした。その後、基材側から高圧水銀灯を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、光吸収部を形成し、光透過部及び光吸収部からなる光学機能層を形成し、本発明の光学積層体を得た。
（光吸収部形成用組成物）
・イソホロンジイソシアネート ２０質量部・メタクリル酸メチル １０質量部・アクリル酸ブチル １０質量部・アクリル酸２－ヒドロキシエチル １０質量部・１，５－ペンタンジオール １０質量部・１，６－ヘキサンジオール １０質量部・１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ３質量部
（光吸収部形成用組成物）
・イソホロンジイソシアネート ２０質量部・メタクリル酸メチル １０質量部・アクリル酸ブチル １０質量部・アクリル酸２－ヒドロキシエチル １０質量部・１，５－ペンタンジオール １０質量部・１，６－ヘキサンジオール １０質量部・１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ３質量部
【0081】
なお、形成された光学機能層の詳細は以下の通りである。
・ピッチ（Ｐｋ）：３９μｍ
・光吸収部上底幅（Ｗａ）：１０μｍ
・光透過部下底幅（Ｗｂ）：４μｍ
・光吸収部の厚さ（Ｄｋ）：１０２μｍ
・光学機能層の厚さ：１２７μｍ
・光吸収部の屈折率：１．４９
・光透過部の屈折率：１．５７
・ピッチ（Ｐｋ）：３９μｍ
・光吸収部上底幅（Ｗａ）：１０μｍ
・光透過部下底幅（Ｗｂ）：４μｍ
・光吸収部の厚さ（Ｄｋ）：１０２μｍ
・光学機能層の厚さ：１２７μｍ
・光吸収部の屈折率：１．４９
・光透過部の屈折率：１．５７
【0082】
上記のようにして作製した光学積層体の断面を観察したところ、浸透層の形成が確認できた（図６参照）。
具体的には、光学積層体の断面を仕上げ切削厚約８０ｎｍの超薄切片として切り出し、Ｃｕメッシュ上に採取し、気相染色法にて四酸化オスミウムで３０分間染色した後、（株）日立ハイテクノロジーズ製のＳ－４８００を使用することにより、観察した。この際の測定条件としてはＳＴＥＭモード、加速電圧３０ｋＶ、エミッション電流１０μＡ、ＷＤ４ｍｍ、観察倍率２万倍～１０万倍とした。撮影時の観察倍率基準は、Ｐｏｌａｒｏｉｄ５４５とした。
また、ＡＦＭ－ＩＲ法により確認したところ、浸透層は基材層、光学機能層の成分の混合層であることが確認できた。なお、ＡＦＭ－ＩＲ法の条件は以下のようにした。
（測定条件）
・試料の断面作製：ミクロトームにより試料を断面方向から薄片化し、その断面切片をＡＦＭ－ＩＲ 用ＺｎＳｅ製プリズムに固定。
・試料切片の厚み：３００ｎｍ
・設定測定装置：ＮａｎｏＩＲ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ Ｓｙｓｔｅｍ（Ａｎａｓｙｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ 社製）
・光源： Ｔｕｎａｂｌｅ Ｐｕｌｓｅｄ Ｌａｓｅｒ（１ｋＨｚ）
・ＡＦＭモード：コンタクトモード
・測定波数範囲：１８５０～１０００ｃｍ－１
・波数分解能：２．５ｃｍ－１
・Ｃｏａｖｅｒａｇｅｓ ：２５６
・積算回数：３回（ラインスペクトルは１回）
・偏光角度：４５度
具体的には、光学積層体の断面を仕上げ切削厚約８０ｎｍの超薄切片として切り出し、Ｃｕメッシュ上に採取し、気相染色法にて四酸化オスミウムで３０分間染色した後、（株）日立ハイテクノロジーズ製のＳ－４８００を使用することにより、観察した。この際の測定条件としてはＳＴＥＭモード、加速電圧３０ｋＶ、エミッション電流１０μＡ、ＷＤ４ｍｍ、観察倍率２万倍～１０万倍とした。撮影時の観察倍率基準は、Ｐｏｌａｒｏｉｄ５４５とした。
また、ＡＦＭ－ＩＲ法により確認したところ、浸透層は基材層、光学機能層の成分の混合層であることが確認できた。なお、ＡＦＭ－ＩＲ法の条件は以下のようにした。
（測定条件）
・試料の断面作製：ミクロトームにより試料を断面方向から薄片化し、その断面切片をＡＦＭ－ＩＲ 用ＺｎＳｅ製プリズムに固定。
・試料切片の厚み：３００ｎｍ
・設定測定装置：ＮａｎｏＩＲ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ Ｓｙｓｔｅｍ（Ａｎａｓｙｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ 社製）
・光源： Ｔｕｎａｂｌｅ Ｐｕｌｓｅｄ Ｌａｓｅｒ（１ｋＨｚ）
・ＡＦＭモード：コンタクトモード
・測定波数範囲：１８５０～１０００ｃｍ－１
・波数分解能：２．５ｃｍ－１
・Ｃｏａｖｅｒａｇｅｓ ：２５６
・積算回数：３回（ラインスペクトルは１回）
・偏光角度：４５度
【0083】
実施例２～５及び比較例２～３
光透過部形成用組成物の供給から紫外線照射までの時間を変更し、浸透層の厚さを表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。
光透過部形成用組成物の供給から紫外線照射までの時間を変更し、浸透層の厚さを表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。
【0084】
比較例１
基材として、厚さ１３０μｍのポリカーボネートフィルム（恵和（株）製、オプコン（登録商標）＃１３０ＭＨ２０、屈折率１．５９）を用意した。
この一方の面に、下記組成のプライマー層形成用組成物を塗布、乾燥し、厚さ２．５μｍのプライマー層を形成した。
（プライマー層形成用組成物）
・ウレタンアクリレートＵＶ硬化樹脂 ５７質量部・１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ３質量部・トルエン ２０質量部・イソプロピルアルコール ２０質量部
基材として、厚さ１３０μｍのポリカーボネートフィルム（恵和（株）製、オプコン（登録商標）＃１３０ＭＨ２０、屈折率１．５９）を用意した。
この一方の面に、下記組成のプライマー層形成用組成物を塗布、乾燥し、厚さ２．５μｍのプライマー層を形成した。
（プライマー層形成用組成物）
・ウレタンアクリレートＵＶ硬化樹脂 ５７質量部・１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ３質量部・トルエン ２０質量部・イソプロピルアルコール ２０質量部
【0085】
上記のようにして形成したプライマー層上に、組成を以下のように変更した光透過部形成用組成物を用いて光学機能層を形成した以外は、実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。作製された光学積層体において、浸透層の形成は見られなかった。
（光透過部形成用組成物）
・キシレンジイソシアネート ２５質量部・アクリル酸２－ヒドロキシエチル ２５質量部・ＥＯ変性ビスフェノールＡ ２０質量部・ＰＣ変性ビスフェノールＡ １５質量部・イソボルニルアクリレート １１質量部・ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド ３質量部・ヒンダードフェノール系酸化防止剤 １質量部
（光透過部形成用組成物）
・キシレンジイソシアネート ２５質量部・アクリル酸２－ヒドロキシエチル ２５質量部・ＥＯ変性ビスフェノールＡ ２０質量部・ＰＣ変性ビスフェノールＡ １５質量部・イソボルニルアクリレート １１質量部・ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド ３質量部・ヒンダードフェノール系酸化防止剤 １質量部
【0086】
＜＜密着性試験－１＞＞
上記実施例及び比較例において得られた光学積層体における基材と光学機能層との密着性をＪＩＳ Ｋ ５６００－５－６（クロスカット法）に準拠して、評価した。
具体的には、上記実施例及び比較例において得られた光学積層体が備える光学機能層を、１００個（１ｍｍ×１ｍｍ）の格子状に、ガイド（大祐機材（株）製、スーパーカッターガイド（登録商標）ＮＯ．３１５）およびカッター（エヌティー（株）製、ＳＡ－４００ＧＲＰ）を用いて、カットし、次いで、セロテープ（登録商標、ニチバン（株）製）を貼着し、剥離した後、目視により、光学積層体を観察し、以下の評価基準に基づいて、評価した。評価結果を表１にまとめた。
（評価基準）
Ａ：どの格子においても剥がれが見られず、基材と光学機能層との高い密着性が確認された。
ＪＩＳ５６００―５－６の分類０相当。
Ｂ：格子の剥がれが少し見られたが、実用上問題のない程度であった。
ＪＩＳ５６００―５－６の分類１相当。
ＮＧ：格子の剥がれが多く見られた。
ＪＩＳ５６００―５－６の分類２～５相当。
上記実施例及び比較例において得られた光学積層体における基材と光学機能層との密着性をＪＩＳ Ｋ ５６００－５－６（クロスカット法）に準拠して、評価した。
具体的には、上記実施例及び比較例において得られた光学積層体が備える光学機能層を、１００個（１ｍｍ×１ｍｍ）の格子状に、ガイド（大祐機材（株）製、スーパーカッターガイド（登録商標）ＮＯ．３１５）およびカッター（エヌティー（株）製、ＳＡ－４００ＧＲＰ）を用いて、カットし、次いで、セロテープ（登録商標、ニチバン（株）製）を貼着し、剥離した後、目視により、光学積層体を観察し、以下の評価基準に基づいて、評価した。評価結果を表１にまとめた。
（評価基準）
Ａ：どの格子においても剥がれが見られず、基材と光学機能層との高い密着性が確認された。
ＪＩＳ５６００―５－６の分類０相当。
Ｂ：格子の剥がれが少し見られたが、実用上問題のない程度であった。
ＪＩＳ５６００―５－６の分類１相当。
ＮＧ：格子の剥がれが多く見られた。
ＪＩＳ５６００―５－６の分類２～５相当。
【0087】
＜＜密着性試験－２＞＞
上記実施例及び比較例において得られた光学積層体を、１０５℃、相対湿度０％の環境、６５℃、相対湿度９５％の環境、及び－４０℃、相対湿度２０％の環境にそれぞれ１０００時間ずつ静置した後、上記密着性試験－１と同様の評価を行った。評価結果を表１にまとめた。
上記実施例及び比較例において得られた光学積層体を、１０５℃、相対湿度０％の環境、６５℃、相対湿度９５％の環境、及び－４０℃、相対湿度２０％の環境にそれぞれ１０００時間ずつ静置した後、上記密着性試験－１と同様の評価を行った。評価結果を表１にまとめた。
【0088】
＜＜正面輝度の測定＞＞
観察者側から、上記実施例１で作製した光学積層体、反射型輝度向上シート、プリズムシート、拡散シート、導光板、反射板及び光源からなる面光源装置を作製した。なお、光学積層体
の光学機能層側に、反射型輝度向上シートを配置した。
この面光源装置の正面輝度を、トプコンテクノハウス社製「ＢＭ－７」を用いて、３００ｍｍ離れた距離から測定した。
光学積層体を、実施例２～５、比較例１において作製した光学積層体に変更し、同様に正面輝度を測定した。
これらの測定結果を表１にまとめた。
表１の結果からも明らかなように、本発明の光学積層体は、比較例１で得られた、浸透層を有しない光学積層体と同程度の正面輝度を示すことがわかる。
観察者側から、上記実施例１で作製した光学積層体、反射型輝度向上シート、プリズムシート、拡散シート、導光板、反射板及び光源からなる面光源装置を作製した。なお、光学積層体
の光学機能層側に、反射型輝度向上シートを配置した。
この面光源装置の正面輝度を、トプコンテクノハウス社製「ＢＭ－７」を用いて、３００ｍｍ離れた距離から測定した。
光学積層体を、実施例２～５、比較例１において作製した光学積層体に変更し、同様に正面輝度を測定した。
これらの測定結果を表１にまとめた。
表１の結果からも明らかなように、本発明の光学積層体は、比較例１で得られた、浸透層を有しない光学積層体と同程度の正面輝度を示すことがわかる。
【0089】
【表1】
【符号の説明】
【0090】
１０：光学積層体、１１：基材、１２：光透過部、１３：光吸収部、１４：光学機能層、１５：浸透層、１６：入射面マット層、１７：出射面マット層、１８：プライマー層又は第２の浸透層、２０：金型ロール、２１：ニップロール、２２：ダイ、２３：光透過部形成用塗工液、２４：電離放射線照射装置、２５：離型ロール、３０：液晶表示装置、３１：面光源装置、３２：液晶パネル
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】