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特開2024-126760メチレンビスナフタレン化合物、メチレンビスナフタレン樹脂組成物、硬化物、成形体および光学材料
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024126760
(43)【公開日】2024-09-20
(54)【発明の名称】メチレンビスナフタレン化合物、メチレンビスナフタレン樹脂組成物、硬化物、成形体および光学材料
(51)【国際特許分類】
C08F 20/36 20060101AFI20240912BHJP
C08L 33/14 20060101ALI20240912BHJP
C08F 2/50 20060101ALI20240912BHJP
C07C 233/73 20060101ALI20240912BHJP
G02B 1/04 20060101ALI20240912BHJP
G02C 7/00 20060101ALI20240912BHJP
【ＦＩ】
C08F20/36
C08L33/14
C08F2/50
C07C233/73
G02B1/04
G02C7/00
【審査請求】未請求
【請求項の数】16
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023035370
(22)【出願日】2023-03-08
(71)【出願人】
【識別番号】000005887
【氏名又は名称】三井化学株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100110928
【弁理士】
【氏名又は名称】速水 進治
(72)【発明者】
【氏名】鈴木 比捺
(72)【発明者】
【氏名】塚田 裕以智
【テーマコード（参考）】
2H006
4H006
4J002
4J011
4J100
【Ｆターム（参考）】
2H006BA01
4H006AA01
4H006AB46
4H006BJ50
4H006BT16
4H006BV72
4J002BG071
4J002GP01
4J011QA03
4J011QA12
4J011QA38
4J011QA46
4J011SA02
4J011SA14
4J011SA16
4J011SA20
4J011UA01
4J011VA01
4J011VA04
4J011WA07
4J100AL08Q
4J100AL66P
4J100BA02Q
4J100BA15P
4J100BA34P
4J100BC43P
4J100BC43Q
4J100BC49P
4J100CA01
4J100CA03
4J100DA63
4J100JA33
(57)【要約】 （修正有）
【課題】高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上した硬化物、成形体および光学材料を得ることができるメチレンビスナフタレン化合物およびメチレンビスナフタレン樹脂組成物、並びに前記樹脂組成物を硬化させてなる硬化物、成形体および光学材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｘ）で表されるメチレンビスナフタレン化合物を提供する。
【選択図】図１
【解決手段】下記一般式（Ｘ）で表されるメチレンビスナフタレン化合物を提供する。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式（Ｘ）で表されるメチレンビスナフタレン化合物。
（一般式（Ｘ）中、Ｒ１～Ｒ３およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ベンジルエーテル、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ５はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ７はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表す。ｍは０以上１５以下を表し、ｎは０または１を表す。但し、ｎが０のときｍは０を表し、ｎが１のときｍは１以上１５以下を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ８は、一般式（I）で表される基、一般式（II）で表される基、式（III）で表される基、式（IＶ）で表される基、メチル基または炭素数２～１７の飽和炭化水素基を表す。
一般式（I）中、ａは０または１を表し、Ｙは炭素数３～６の飽和脂肪族炭化水素環を表す。
一般式（II）中、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１０は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、Ｒ１１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、フェニル基、または炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表す。）
【化1】
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】
（一般式（Ｘ）中、Ｒ１～Ｒ３およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ベンジルエーテル、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ５はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ７はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表す。ｍは０以上１５以下を表し、ｎは０または１を表す。但し、ｎが０のときｍは０を表し、ｎが１のときｍは１以上１５以下を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ８は、一般式（I）で表される基、一般式（II）で表される基、式（III）で表される基、式（IＶ）で表される基、メチル基または炭素数２～１７の飽和炭化水素基を表す。
一般式（I）中、ａは０または１を表し、Ｙは炭素数３～６の飽和脂肪族炭化水素環を表す。
一般式（II）中、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１０は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、Ｒ１１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、フェニル基、または炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表す。）
【請求項2】
前記一般式（Ｘ）中のｍが０であり、ｎが０である、請求項１に記載のメチレンビスナフタレン化合物。
【請求項3】
前記一般式（Ｘ）中のＲ８が、前記一般式（II）で表される基である、請求項１または２に記載のメチレンビスナフタレン化合物。
【請求項4】
請求項１～３のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン化合物を含むメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
【請求項5】
光重合開始剤をさらに含む、請求項４に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
【請求項6】
重合性化合物をさらに含む、請求項４または５に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
【請求項7】
前記重合性化合物は（メタ）アクリレート化合物を含む、請求項６に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
【請求項8】
前記メチレンビスナフタレン化合物の含有量が、前記メチレンビスナフタレン化合物の含有量および前記重合性化合物の含有量の合計を１００質量部としたときに、３質量部以上９９質量部以下である、請求項４～７に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
【請求項9】
前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の、下記＜硬化膜の作製＞に従って作製した硬化膜の、ＡＳＴＭ Ｄ５４２に準拠して測定される、２５℃におけるｄ線波長光に対する屈折率ｎＤが、１．６０７以上である、請求項４～８のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
【請求項10】
前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の、下記＜硬化膜の作製＞に従って作製した硬化膜の、ＡＳＴＭ Ｄ５４２に準拠して測定される、２５℃におけるアッベ数νｄが２０以上４０以下である、請求項４～９のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
【請求項11】
前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の、下記＜硬化膜の作製＞に従って作製した硬化膜の、下記＜硬化収縮率＞に従って測定される硬化収縮率（％）が８．０％以下である、請求項４～１０のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
＜硬化収縮率＞
（１）前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の比重ｄ１を、ＪＩＳ ８８０４：２０１２に基づいて、比重瓶を用いて測定する。
（２）前記硬化膜の比重ｄ２をアルキメデス法（ＪＩＳ ８８０７：２０１２）により測定する。
（３）得られた比重ｄ１および比重ｄ２の値を用い、下記式により硬化収縮率（％）を算出する。
式：硬化収縮率（％）＝（１－ｄ１／ｄ２）×１００
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
＜硬化収縮率＞
（１）前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の比重ｄ１を、ＪＩＳ ８８０４：２０１２に基づいて、比重瓶を用いて測定する。
（２）前記硬化膜の比重ｄ２をアルキメデス法（ＪＩＳ ８８０７：２０１２）により測定する。
（３）得られた比重ｄ１および比重ｄ２の値を用い、下記式により硬化収縮率（％）を算出する。
式：硬化収縮率（％）＝（１－ｄ１／ｄ２）×１００
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
【請求項12】
請求項４～１１のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物を硬化させてなる硬化物。
【請求項13】
請求項１２に記載の硬化物を含む成形体。
【請求項14】
請求項１３に記載の成形体を含む光学材料。
【請求項15】
ガラス基板をさらに含み、
前記成形体と前記ガラス基板との積層体である、請求項１４に記載の光学材料。
前記成形体と前記ガラス基板との積層体である、請求項１４に記載の光学材料。
【請求項16】
光学レンズである、請求項１４または１５に記載の光学材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、メチレンビスナフタレン化合物、メチレンビスナフタレン樹脂組成物、硬化物、成形体および光学材料に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、光学材料としては、屈折率の多様性や温度、湿度による変動が小さいことから、ガラスが好適に使われてきた。しかし、近年、軽量化や低コスト化等の要求により、樹脂硬化物が用いられるようになってきた。
例えば、スマートフォンに搭載されるカメラレンズモジュールは、小型化や低背化のためにウェハレベルレンズが用いられるようになってきている。ウェハレベルレンズにおいては屈折率が高く、耐熱性に優れる樹脂硬化物が求められている。また、ガラス基板上に樹脂レンズを形成する、いわゆるハイブリッド型のウェハレベルレンズにおいては、残留応力よるガラス基板－樹脂レンズ間の剥離を抑制するため、組成物が硬化する際の硬化収縮率が低いことが求められている。
より屈折率が高い樹脂硬化物を得る方法として、チオ（メタ）アクリレート等を含有する組成物を光硬化させて得られる透明性を有する材料を用いる方法が、特許文献１や特許文献２に報告されている。
例えば、スマートフォンに搭載されるカメラレンズモジュールは、小型化や低背化のためにウェハレベルレンズが用いられるようになってきている。ウェハレベルレンズにおいては屈折率が高く、耐熱性に優れる樹脂硬化物が求められている。また、ガラス基板上に樹脂レンズを形成する、いわゆるハイブリッド型のウェハレベルレンズにおいては、残留応力よるガラス基板－樹脂レンズ間の剥離を抑制するため、組成物が硬化する際の硬化収縮率が低いことが求められている。
より屈折率が高い樹脂硬化物を得る方法として、チオ（メタ）アクリレート等を含有する組成物を光硬化させて得られる透明性を有する材料を用いる方法が、特許文献１や特許文献２に報告されている。
【0003】
特許文献１には、光学部品の分野において、優れた機械特性を維持しつつ、高反射率、高剛性、極低密度および良好な色味を実現することを目的として、特定の構造を有するアクリルまたはメタアクリル、ジまたはポリチオールモノマーを有効量含む、架橋可能な高分子注型組成物が記載されている。
【0004】
特許文献２には、目に着用するレンズの分野で有用であり、且つ熱に関する機械的特性が良好で、黄色度が低く、高い屈折率を持つ、特定のモノマーからなる透明なポリマー組成物と、該ポリマー組成物の製造方法と、該ポリマー組成物を用いて製造される目に着用するレンズ等およびその製造方法を提供することを目的として、少なくとも一つのチオアクリレート基、もしくは、チオメタクリレート基を含むモノマー（Ｉ）もしくはモノマー（Ｉ）の混合物を少なくとも１０重量％と、ラジカル反応により共重合可能な一つもしくはそれ以上のモノマー（ＩＩ）、モノマー（ＩＩ）の中でも好ましくは単官能もしくは多官能のビニル基、アクリレート基、もしくはメタクリレート基を０～９０重量％とを含有する構成成分Ａと、；芳香族系には寄与しない不飽和エチレンを含み、該不飽和エチレンに対してα位にフリーな水酸基を持つ炭素原子を有する、一つもしくはそれ以上のモノマー（ＩＩＩ）を、構成成分Ａの重量に関し０．１～１５重量％含有する構成成分Ｂと；を含有する透明なポリマー組成物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】国際公開第９８／２４７６１号
【特許文献2】特開平８－３２５３３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、光学材料に用いられる樹脂組成物は、屈折率および硬化収縮率の性能バランスについて改善の余地があることが明らかになった。
本発明は上記事情を鑑みてなされたものであり、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上した硬化物、成形体および光学材料を得ることができるメチレンビスナフタレン化合物およびメチレンビスナフタレン樹脂組成物、並びに、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上した硬化物、成形体および光学材料を提供するものである。
本発明は上記事情を鑑みてなされたものであり、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上した硬化物、成形体および光学材料を得ることができるメチレンビスナフタレン化合物およびメチレンビスナフタレン樹脂組成物、並びに、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上した硬化物、成形体および光学材料を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた。その結果、特定の構造を有するメチレンビスナフタレン化合物を用いることによって、得られる硬化物の高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスを向上できることを見出し、本発明を完成させた。
【0008】
本発明によれば、以下に示すメチレンビスナフタレン化合物、メチレンビスナフタレン樹脂組成物、硬化物、成形体および光学材料が提供される。
【0009】
［１］下記一般式（Ｘ）で表されるメチレンビスナフタレン化合物。
（一般式（Ｘ）中、Ｒ１～Ｒ３およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ベンジルエーテル、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ５はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ７はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表す。ｍは０以上１５以下を表し、ｎは０または１を表す。但し、ｎが０のときｍは０を表し、ｎが１のときｍは１以上１５以下を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ８は、一般式（I）で表される基、一般式（II）で表される基、式（III）で表される基、式（IＶ）で表される基、メチル基または炭素数２～１７の飽和炭化水素基を表す。
一般式（I）中、ａは０または１を表し、Ｙは炭素数３～６の飽和脂肪族炭化水素環を表す。
一般式（II）中、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１０は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、Ｒ１１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、フェニル基、または炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表す。）
［２］
前記一般式（Ｘ）中のｍが０であり、ｎが０である、［１］に記載のメチレンビスナフタレン化合物。
［３］
前記一般式（Ｘ）中のＲ８が、前記一般式（II）で表される基である、［１］または［２］に記載のメチレンビスナフタレン化合物。
［４］
［１］～［３］のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン化合物を含むメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
［５］
光重合開始剤をさらに含む、［４］に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
［６］
重合性化合物をさらに含む、［４］または［５］に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
［７］
前記重合性化合物は（メタ）アクリレート化合物を含む、［６］に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
［８］
前記メチレンビスナフタレン化合物の含有量が、前記メチレンビスナフタレン化合物の含有量および前記重合性化合物の含有量の合計を１００質量部としたときに、３質量部以上９９質量部以下である、［４］～［７］に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
［９］
前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の、下記＜硬化膜の作製＞に従って作製した硬化膜の、ＡＳＴＭ Ｄ５４２に準拠して測定される、２５℃におけるｄ線波長光に対する屈折率ｎＤが、１．６０７以上である、［４］～［８］のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
［１０］
前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の、下記＜硬化膜の作製＞に従って作製した硬化膜の、ＡＳＴＭ Ｄ５４２に準拠して測定される、２５℃におけるアッベ数νｄが２０以上４０以下である、［４］～［９］のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
［１１］
前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の、下記＜硬化膜の作製＞に従って作製した硬化膜の、下記＜硬化収縮率＞に従って測定される硬化収縮率（％）が８．０％以下である、［４］～［１０］のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
＜硬化収縮率＞
（１）前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の比重ｄ１を、ＪＩＳ ８８０４：２０１２に基づいて、比重瓶を用いて測定する。
（２）前記硬化膜の比重ｄ２をアルキメデス法（ＪＩＳ ８８０７：２０１２）により測定する。
（３）得られた比重ｄ１および比重ｄ２の値を用い、下記式により硬化収縮率（％）を算出する。
式：硬化収縮率（％）＝（１－ｄ１／ｄ２）×１００
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
［１２］
［４］～［１１］のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物を硬化させてなる硬化物。
［１３］
［１２］に記載の硬化物を含む成形体。
［１４］
［１３］に記載の成形体を含む光学材料。
［１５］
ガラス基板をさらに含み、
前記成形体と前記ガラス基板との積層体である、［１４］に記載の光学材料。
［１６］
光学レンズである、［１４］または［１５］に記載の光学材料。
【化1】
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】
（一般式（Ｘ）中、Ｒ１～Ｒ３およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ベンジルエーテル、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ５はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ７はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表す。ｍは０以上１５以下を表し、ｎは０または１を表す。但し、ｎが０のときｍは０を表し、ｎが１のときｍは１以上１５以下を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ８は、一般式（I）で表される基、一般式（II）で表される基、式（III）で表される基、式（IＶ）で表される基、メチル基または炭素数２～１７の飽和炭化水素基を表す。
一般式（I）中、ａは０または１を表し、Ｙは炭素数３～６の飽和脂肪族炭化水素環を表す。
一般式（II）中、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１０は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、Ｒ１１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、フェニル基、または炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表す。）
［２］
前記一般式（Ｘ）中のｍが０であり、ｎが０である、［１］に記載のメチレンビスナフタレン化合物。
［３］
前記一般式（Ｘ）中のＲ８が、前記一般式（II）で表される基である、［１］または［２］に記載のメチレンビスナフタレン化合物。
［４］
［１］～［３］のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン化合物を含むメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
［５］
光重合開始剤をさらに含む、［４］に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
［６］
重合性化合物をさらに含む、［４］または［５］に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
［７］
前記重合性化合物は（メタ）アクリレート化合物を含む、［６］に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
［８］
前記メチレンビスナフタレン化合物の含有量が、前記メチレンビスナフタレン化合物の含有量および前記重合性化合物の含有量の合計を１００質量部としたときに、３質量部以上９９質量部以下である、［４］～［７］に記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
［９］
前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の、下記＜硬化膜の作製＞に従って作製した硬化膜の、ＡＳＴＭ Ｄ５４２に準拠して測定される、２５℃におけるｄ線波長光に対する屈折率ｎＤが、１．６０７以上である、［４］～［８］のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
［１０］
前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の、下記＜硬化膜の作製＞に従って作製した硬化膜の、ＡＳＴＭ Ｄ５４２に準拠して測定される、２５℃におけるアッベ数νｄが２０以上４０以下である、［４］～［９］のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
［１１］
前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の、下記＜硬化膜の作製＞に従って作製した硬化膜の、下記＜硬化収縮率＞に従って測定される硬化収縮率（％）が８．０％以下である、［４］～［１０］のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物。
＜硬化収縮率＞
（１）前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物の比重ｄ１を、ＪＩＳ ８８０４：２０１２に基づいて、比重瓶を用いて測定する。
（２）前記硬化膜の比重ｄ２をアルキメデス法（ＪＩＳ ８８０７：２０１２）により測定する。
（３）得られた比重ｄ１および比重ｄ２の値を用い、下記式により硬化収縮率（％）を算出する。
式：硬化収縮率（％）＝（１－ｄ１／ｄ２）×１００
＜硬化膜の作製＞
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
［１２］
［４］～［１１］のいずれかに記載のメチレンビスナフタレン樹脂組成物を硬化させてなる硬化物。
［１３］
［１２］に記載の硬化物を含む成形体。
［１４］
［１３］に記載の成形体を含む光学材料。
［１５］
ガラス基板をさらに含み、
前記成形体と前記ガラス基板との積層体である、［１４］に記載の光学材料。
［１６］
光学レンズである、［１４］または［１５］に記載の光学材料。
【発明の効果】
【0010】
本発明のメチレンビスナフタレン化合物およびメチレンビスナフタレン樹脂組成物によれば、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上した硬化物、成形体および光学材料を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、本発明を実施形態に基づいて説明する。
【0013】
本実施形態では、数値範囲を示す「Ａ～Ｂ」は特に断りがなければ、Ａ以上Ｂ以下を表す。
【0014】
＜メチレンビスナフタレン化合物＞
本実施形態のメチレンビスナフタレン化合物は、下記一般式（Ｘ）で表される。
本実施形態のメチレンビスナフタレン化合物は、下記一般式（Ｘ）で表される。
【0015】
【化6】
【0016】
【化7】
【0017】
【化8】
【0018】
【化9】
【0019】
【化10】
【0020】
一般式（Ｘ）中、Ｒ１～Ｒ３およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ベンジルエーテル、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ５はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、Ｒ７はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表す。ｍは０以上１５以下を表し、ｎは０または１を表す。但し、ｎが０のときｍは０を表し、ｎが１のときｍは１以上１５以下を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ８は、一般式（I）で表される基、一般式（II）で表される基、式（III）で表される基、式（IＶ）で表される基、メチル基または炭素数２～１７の飽和炭化水素基を表す。
一般式（I）中、ａは０または１を表し、Ｙは炭素数３～６の飽和脂肪族炭化水素環を表す。
一般式（II）中、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１０は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、Ｒ１１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、フェニル基、または炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ８は、一般式（I）で表される基、一般式（II）で表される基、式（III）で表される基、式（IＶ）で表される基、メチル基または炭素数２～１７の飽和炭化水素基を表す。
一般式（I）中、ａは０または１を表し、Ｙは炭素数３～６の飽和脂肪族炭化水素環を表す。
一般式（II）中、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１０は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、Ｒ１１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、フェニル基、または炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表す。
【0021】
一般式（Ｘ）中、ｍは０以上１５以下を表し、好ましくは０以上１２以下を表し、より好ましくは０以上６以下を表し、さらに好ましくは０以上３以下を表し、さらに好ましくは０以上１以下を表し、さらに好ましくは０を表す。
一般式（Ｘ）中、ｎは０または１を表し、好ましくは０を表す。
但し、ｎが０のときｍは０を表し、ｎが１のときｍは１以上１５以下を表し、好ましくは１以上１０以下を表し、より好ましくは１以上４以下を表す。
一般式（Ｘ）中、ｎは０または１を表し、好ましくは０を表す。
但し、ｎが０のときｍは０を表し、ｎが１のときｍは１以上１５以下を表し、好ましくは１以上１０以下を表し、より好ましくは１以上４以下を表す。
【0022】
一般式（Ｘ）中、Ｒ１～Ｒ３およびＲ６はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基を表し、より好ましくは水素原子を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ベンジルエーテル、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、より好ましくは水素原子またはメチル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ５はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、好ましくは水素原子、メチル基またはメトキシ基を表し、より好ましくは水素原子またはメチル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ７はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、好ましくはメチル基を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ベンジルエーテル、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、より好ましくは水素原子またはメチル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ５はそれぞれ独立して水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を表し、好ましくは水素原子、メチル基またはメトキシ基を表し、より好ましくは水素原子またはメチル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。
一般式（Ｘ）中、Ｒ７はそれぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、好ましくはメチル基を表す。
【0023】
一般式（Ｘ）中、Ｒ８は、一般式（I）で表される基、一般式（II）で表される基、式（III）で表される基、式（IＶ）で表される基、メチル基または炭素数２～１７の飽和炭化水素基を表し、好ましくは一般式（II）で表される基、および一般式（III）で表される基を表し、より好ましくは一般式（II）で表される基を表す。
【0024】
一般式（I）中、ａは０または１を表し、より好ましくは０を表し、Ｙは炭素数３～６の飽和脂肪族炭化水素環を表し、より好ましくは炭素数４～６の飽和脂肪族炭化水素環を表し、さらに好ましくは炭素数５～６の飽和脂肪族炭化水素環を表す。
【0025】
一般式（II）中、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、好ましくは水素原子または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、より好ましくは水素原子または炭素数１～５のアルコキシ基を表し、さらに好ましくは水素原子または炭素数１～３のアルコキシ基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。
一般式（II）中、Ｒ１０は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、好ましくは水素原子または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、より好ましくは水素原子または炭素数１～５のアルコキシ基を表し、さらに好ましくは水素原子または炭素数１～３のアルコキシ基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。
一般式（II）中、Ｒ１１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、フェニル基、または炭素数１～１０のアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはフェニル基を表し、より好ましくは水素原子を表す。
一般式（II）中、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、好ましくは水素原子またはフェニル基を表し、より好ましくは水素原子を表す。
一般式（II）中、Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、好ましくは水素原子または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、より好ましくは水素原子または炭素数１～５のアルコキシ基を表し、さらに好ましくは水素原子または炭素数１～３のアルコキシ基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。
一般式（II）中、Ｒ１０は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、好ましくは水素原子または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、より好ましくは水素原子または炭素数１～５のアルコキシ基を表し、さらに好ましくは水素原子または炭素数１～３のアルコキシ基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。
一般式（II）中、Ｒ１１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、フェニル基、または炭素数１～１０のアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはフェニル基を表し、より好ましくは水素原子を表す。
一般式（II）中、Ｒ１２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～７のアルコキシ基、またはフェニル基を表し、好ましくは水素原子またはフェニル基を表し、より好ましくは水素原子を表す。
一般式（II）中、Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、好ましくは水素原子または炭素数１～７のアルコキシ基を表し、より好ましくは水素原子または炭素数１～５のアルコキシ基を表し、さらに好ましくは水素原子または炭素数１～３のアルコキシ基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。
【0026】
一般式（II）中のＲ８における炭素数２～１７の飽和炭化水素基としては、例えば、２価の鎖状飽和炭化水素基が挙げられる。２価の鎖状飽和炭化水素基としては、例えば、エタン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基、ヘプタデカン－１，１７－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；およびこれらの直鎖状アルカンジイル基に、炭素数１～２のアルキル基からなる側鎖を１個または複数個付加してなる分枝鎖状アルカンジイル基が挙げられる。
【0027】
メチレンビスナフタレン化合物の分子量は、硬化物の高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスを向上させる観点から、好ましくは４７０以上、より好ましくは５００以上、さらに好ましくは５３０以上、さらに好ましくは５６０以上であり、そして好ましくは１５００以下、より好ましくは１２００以下、さらに好ましくは９００以下、さらに好ましくは７００以下である。
【0028】
メチレンビスナフタレン化合物は、硬化物の高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスを向上させる観点から、下記式（Ｘ－１）で表される化合物Ａを含むことが好ましい。
【0029】
【化11】
【0030】
化合物Ａは、下記の合成スキームによって合成することができる。より具体的には、実施例に記載の合成例１の方法によって合成することができる。
また、合成スキーム中の途中段階の化合物および化合物Ａの構造は、１Ｈ－ＮＭＲにて分析することができる。
また、合成スキーム中の途中段階の化合物および化合物Ａの構造は、１Ｈ－ＮＭＲにて分析することができる。
【0031】
【化12】
【0032】
【化13】
【0033】
【化14】
【0034】
＜メチレンビスナフタレン樹脂組成物＞
本実施形態のメチレンビスナフタレン樹脂組成物（以下、単に「樹脂組成物」とも呼ぶ）は、上述したメチレンビスナフタレン化合物を含む。
本実施形態のメチレンビスナフタレン樹脂組成物（以下、単に「樹脂組成物」とも呼ぶ）は、上述したメチレンビスナフタレン化合物を含む。
【0035】
本実施形態のメチレンビスナフタレン樹脂組成物は、重合開始剤をさらに含んでもよい。重合開始剤は、例えば、熱ラジカル重合開始剤および光ラジカル重合開始剤からなる群から選択される一種または二種以上を含み、メチレンビスナフタレン樹脂組成物の硬化性をより向上させる観点から、好ましくは光重合開始剤を含む。
【0036】
熱ラジカル重合開始剤として、例えば、ジクミルパーオキシド、ｔ－ブチルクミルパーオキシド、２，５－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）２，５－ジメチルヘキサン、２，５－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）２，５－ジメチルヘキシン－３、ジ－ｔ－ブチルパーオキシド、イソプロピルクミル－ｔ－ブチルパーオキシド、ビス（α－ｔ－ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン等のジアルキルパーオキシド類；１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロドデカン、ｎ－ブチル－４，４－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）バレレート、エチル－３，３－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）ブチレート、３，３，６，６，９，９－ヘキサメチル－１，２，４，５－テトラオキシシクロノナン等のパーオキシケタール類；ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）イソフタレート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ－ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル類；ｔ－ブチルハイドロパーオキシド、ｔ－ヘキシルハイドロパーオキシド、クミンハイドロパーオキシド、１，１，３，３－テトラメチルブチルハイドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキシド、ｐ－メンタンハイドロパーオキシド等のハイドロパーオキシド類；２，３－ジメチル－２，３－ジフェニルブタン等のビベンジル化合物類；３，３，５，７，７－ペンタメチル－１，２，４－トリオキセパン等が挙げられる。
【0037】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンゾフェノン、メチルベンゾイルフォーメート、イソプロピルチオキサントンおよびこれらの２種以上の混合物等が挙げられる。また、これらの光ラジカル重合開始剤とともに増感剤を使用することもできる。増感剤としては、例えば、アントラキノン、１，２－ナフトキノン、１，４－ナフトキノン、ベンズアントロン、ｐ，ｐ'－テトラメチルジアミノベンゾフェノン、クロラニル等のカルボニル化合物；ニトロベンゼン、ｐ－ジニトロベンゼン、２－ニトロフルオレン等のニトロ化合物；アントラセン、クリセン等の芳香族炭化水素；ジフェニルジスルフィド等の硫黄化合物；ニトロアニリン、２－クロロ－４－ニトロアニリン、５－ニトロ－２－アミノトルエン、テトラシアノエチレン等の窒素化合物等を挙げることができる。
【0038】
本実施形態のメチレンビスナフタレン樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、メチレンビスナフタレン樹脂組成物中のメチレンビスナフタレン化合物および後述する重合性化合物の合計量を１００質量部としたとき、得られる硬化物の高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスをより向上させる観点から、好ましくは０．１質量部以上、より好ましくは０．５質量部以上、さらに好ましくは１．０質量部以上、さらに好ましくは１．５質量部以上、さらに好ましくは２．０質量部以上、さらに好ましくは２．５質量部以上、そして、好ましくは１０質量部以下、より好ましくは８．０質量部以下、さらに好ましくは５．０質量部以下、さらに好ましくは４．０質量部以下である。
【0039】
本実施形態のメチレンビスナフタレン樹脂組成物の、Ｅ型粘度計を用いて回転数２．５ｒｐｍの条件で測定される２５℃における粘度は、得られる硬化物の高屈折率、低硬化収縮性および成形性の性能バランスをより向上させる観点から、好ましくは１０ｍＰａ・ｓ以上、より好ましくは５０ｍＰａ・ｓ以上、さらに好ましくは１００ｍＰａ・ｓ以上、さらに好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以上であり、そして、好ましくは１００００ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは８０００ｍＰａ・ｓ以下、さらに好ましくは６５００ｍＰａ・ｓ以下、さらに好ましくは５０００ｍＰａ・ｓ以下、さらに好ましくは３５００ｍＰａ・ｓ以下である。
【0040】
本実施形態のメチレンビスナフタレン樹脂組成物は、重合性化合物をさらに含んでもよい。より具体的には、本実施形態のメチレンビスナフタレン樹脂組成物は、重合性化合物により希釈する事ができる。これにより樹脂組成物の成膜時の取り扱い性を向上させることができる。
希釈に用いる重合性化合物は、好ましくはエチレン性不飽和基を有する化合物である。エチレン性不飽和基としては、好ましくはビニル基、（メタ）アリル基および（メタ）アクリロイル基からなる群から選択される１種または２種以上を含み、より好ましくは（メタ）アクリロイル基を含む。
また、重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。これにより、メチレンビスナフタレン化合物および重合性化合物との間で、さらに架橋が形成しやすくなり、樹脂組成物から得られる硬化物の耐熱性および強度の性能バランスをさらに向上させることができる。
希釈に用いる重合性化合物は、好ましくはエチレン性不飽和基を有する化合物である。エチレン性不飽和基としては、好ましくはビニル基、（メタ）アリル基および（メタ）アクリロイル基からなる群から選択される１種または２種以上を含み、より好ましくは（メタ）アクリロイル基を含む。
また、重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。これにより、メチレンビスナフタレン化合物および重合性化合物との間で、さらに架橋が形成しやすくなり、樹脂組成物から得られる硬化物の耐熱性および強度の性能バランスをさらに向上させることができる。
【0041】
重合性化合物としては、モノマー、プレポリマー、オリゴマーなどの化学的形態のいずれであってもよいが、好ましくはモノマーである。
重合性化合物の分子量は、樹脂組成物の取り扱い性をより向上させる観点から、好ましくは１００以上、より好ましくは１５０以上、さらに好ましくは２００以上、さらに好ましくは２５０以上であり、そして好ましくは３，０００以下、より好ましくは２，０００以下、さらに好ましくは１，５００以下、さらに好ましくは１，０００以下、さらに好ましくは５００以下、さらに好ましくは３５０以下である。
重合性化合物の分子量は、樹脂組成物の取り扱い性をより向上させる観点から、好ましくは１００以上、より好ましくは１５０以上、さらに好ましくは２００以上、さらに好ましくは２５０以上であり、そして好ましくは３，０００以下、より好ましくは２，０００以下、さらに好ましくは１，５００以下、さらに好ましくは１，０００以下、さらに好ましくは５００以下、さらに好ましくは３５０以下である。
【0042】
重合性化合物は、好ましくは（メタ）アクリレート化合物を含む。
（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、および、これらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）が好ましい。
また、（メタ）アクリレート化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成（株）製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、および、これらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）が好ましい。
また、（メタ）アクリレート化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成（株）製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
【0043】
また、（メタ）アクリレート化合物として、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることも好ましい。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
【0044】
重合性化合物は、イソシアヌレート骨格を有する化合物を用いることもできる。イソシアヌレート骨格を有する重合性化合物を用いることにより、得られる膜の耐溶剤性を向上させることができる。イソシアヌレート骨格を有する重合性化合物の具体例としては、イソシアヌル酸トリス（２－アクリロイルオキシエチル）、ε－カプロラクトン変性トリス－（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレートなどが挙げられる。市販品としては、ファンクリルＦＡ－７３１Ａ（日立化成（株）製））、ＮＫエステルＡ９３００、Ａ９３００－１ＣＬ、Ａ９３００－３ＣＬ（新中村化学工業（株）製）、アロニックスＭ－３１５（東亞合成（株）製）等が挙げられる。
【0045】
重合性化合物は、酸基を有する化合物を用いることもできる。酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシル基が好ましい。酸基を有する重合性化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。
酸基を有する重合性化合物の酸価としては、好ましくは０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、より好ましくは５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、そして好ましくは４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。重合性化合物の酸価が上記下限値以上であれば、現像液に対するメチレンビスナフタレン樹脂組成物の溶解性をより向上させることができ、上記上限値以下であれば、メチレンビスナフタレン樹脂組成物の製造や取扱い上、有利である。
酸基を有する重合性化合物の酸価としては、好ましくは０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、より好ましくは５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、そして好ましくは４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。重合性化合物の酸価が上記下限値以上であれば、現像液に対するメチレンビスナフタレン樹脂組成物の溶解性をより向上させることができ、上記上限値以下であれば、メチレンビスナフタレン樹脂組成物の製造や取扱い上、有利である。
【0046】
重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。
【0047】
重合性化合物は、アルキレンオキシ基を有する重合性化合物を用いることもできる。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物は、好ましくはエチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基を有する重合性化合物であり、より好ましくはエチレンオキシ基を有する重合性化合物であり、さらに好ましくはエチレンオキシ基を４個～２０個有する３官能～６官能（メタ）アクリレート化合物である。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、イソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
【0048】
重合性化合物は、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。フルオレン骨格を有する重合性化合物の市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
【0049】
重合性化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＥＡ－１２ ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
【0050】
重合性化合物としては、特公昭４８－０４１７０８号公報、特開昭５１－０３７１９３号公報、特公平０２－０３２２９３号公報、特公平０２－０１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－０４９８６０号公報、特公昭５６－０１７６５４号公報、特公昭６２－０３９４１７号公報、特公昭６２－０３９４１８号公報に記載されたエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平０１－１０５２３８号公報に記載された分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する重合性化合物を用いることも好ましい。また、重合性化合物は、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、ＬＩＮＣ－２０２ＵＡ（共栄社化学（株）製）などの市販品を用いることもできる。
【0051】
この中でも、重合性化合物は、好ましくは、下記式（Ｙ）で表されるｏ－フェノキシベンジルアクリレート（ＰＯＢ－Ａ）を含む。
【0052】
【化15】
【0053】
本実施形態のメチレンビスナフタレン樹脂組成物中の、メチレンビスナフタレン化合物の含有量は、メチレンビスナフタレン化合物の含有量および重合性化合物の含有量の合計を１００質量部としたときに、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスをより向上させる観点から、好ましくは３質量部以上、より好ましくは５質量部以上、さらに好ましくは８質量部以上、さらに好ましくは１０質量部以上、さらに好ましくは１５質量部以上、さらに好ましくは２０質量部以上、さらに好ましくは２５質量部以上、さらに好ましくは３０質量部以上、さらに好ましくは３５質量部以上、さらに好ましくは４０質量部以上、さらに好ましくは４５質量部以上であり、樹脂組成物の成膜時の取り扱い性を向上させる観点から、好ましくは９９質量部以下、より好ましくは９５質量部以下、さらに好ましくは９０質量部以下、さらに好ましくは８０質量部以下、さらに好ましくは７０質量部以上である。
【0054】
メチレンビスナフタレン樹脂組成物の硬化膜の、ＡＳＴＭ Ｄ５４２に準拠して測定される、２５℃におけるｄ線波長光に対する屈折率ｎＤは、好ましくは１．６０７以上、より好ましくは１．６０８以上、さらに好ましくは１．６０９以上、さらに好ましくは１．６１０以上、さらに好ましくは１．６１５以上、さらに好ましくは１．６２０以上、さらに好ましくは１．６２３以上であり、また好ましくは、１．６５０以下、より好ましくは１．６４０以下、さらも好ましくは１．６３０以下である。ｄ線波長光に対する屈折率ｎＤが上記範囲内であることにより、この屈折率範囲において、光が優れた直進性を示す。
【0055】
メチレンビスナフタレン樹脂組成物の硬化膜の、ＡＳＴＭ Ｄ５４２に準拠して測定される、２５℃におけるアッベ数νｄは、得られる光学材料の色収差をより低減する観点から、好ましくは２０以上、より好ましくは２３以上、さらに好ましくは２５以上であり、また屈折率をより向上させる観点から、好ましくは４０以下、より好ましくは３５以下、さらに好ましくは３０以下である。
【0056】
メチレンビスナフタレン樹脂組成物の硬化膜の硬化収縮率は、成形性をより向上させる観点から、好ましくは８．０％以下、より好ましくは７．５％以下、さらに好ましくは７．０％以下、さらに好ましくは６．５％以下、さらに好ましくは６．０％以下、さらに好ましくは５．５％以下、さらに好ましくは５．０％以下である。硬化収縮率の下限に制限はないが、例えば０％以上であり、１．０％以上であってもよく、３．０％以上であってもよく、４．０％以上であってもよい。
なお、メチレンビスナフタレン樹脂組成物の硬化膜の硬化収縮率は、以下のように測定される。
（１）メチレンビスナフタレン樹脂組成物の比重ｄ１を、ＪＩＳ ８８０４：２０１２に基づいて、比重瓶を用いて測定する。
（２）メチレンビスナフタレン樹脂組成物の硬化膜の比重ｄ２をアルキメデス法（ＪＩＳ ８８０７：２０１２）により測定する。
（３）得られた比重ｄ１および比重ｄ２の値を用い、下記式により硬化収縮率（％）を算出する。
式：硬化収縮率（％）＝（１－ｄ１／ｄ２）×１００
なお、メチレンビスナフタレン樹脂組成物の硬化膜の硬化収縮率は、以下のように測定される。
（１）メチレンビスナフタレン樹脂組成物の比重ｄ１を、ＪＩＳ ８８０４：２０１２に基づいて、比重瓶を用いて測定する。
（２）メチレンビスナフタレン樹脂組成物の硬化膜の比重ｄ２をアルキメデス法（ＪＩＳ ８８０７：２０１２）により測定する。
（３）得られた比重ｄ１および比重ｄ２の値を用い、下記式により硬化収縮率（％）を算出する。
式：硬化収縮率（％）＝（１－ｄ１／ｄ２）×１００
【0057】
上記ｄ線波長光に対する屈折率ｎＤ、アッベ数νｄおよび硬化収縮率の測定において用いられる硬化膜は、下記のとおり作製されるものである。
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
（１）フッ化シラン系コーティング剤を用いて離型処理した無アルカリガラス基板上に、前記メチレンビスナフタレン樹脂組成物０．５ｍＬを塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得る。
（２）得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得る。
【0058】
＜メチレンビスナフタレン樹脂組成物の製造方法＞
本実施形態の樹脂組成物は、メチレンビスナフタレン化合物に対し、必要に応じて、重合性化合物、光重合開始剤やその他の成分を、従来公知の方法で混合することにより得ることができる。
本実施形態の樹脂組成物は、メチレンビスナフタレン化合物に対し、必要に応じて、重合性化合物、光重合開始剤やその他の成分を、従来公知の方法で混合することにより得ることができる。
【0059】
本実施形態のメチレンビスナフタレン樹脂組成物中の、メチレンビスナフタレン化合物の含有量および重合性化合物の含有量の合計は、メチレンビスナフタレン樹脂組成物全体を１００質量％としたときに、樹脂組成物の成形性および強度の性能バランスをより向上させる観点から、、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、さらに好ましくは９５質量％以上であり、そして好ましくは９９．５質量％以下、より好ましくは９９質量％以下、さらに好ましくは９８質量％以下である。
【0060】
＜硬化物＞
本実施形態の硬化物は、本実施形態のメチレンビスナフタレン樹脂組成物を硬化させてなるものである。本実施形態の硬化物は高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上しているため、光学材料に好適に用いることができる。
本実施形態の硬化物は、本実施形態のメチレンビスナフタレン樹脂組成物を硬化させてなるものである。本実施形態の硬化物は高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上しているため、光学材料に好適に用いることができる。
【0061】
＜成形体＞
本実施形態の成形体は、本実施形態の硬化物を含む成形体であり、例えば、本実施形態の樹脂組成物を硬化させながら、所定の形状に成形することにより得ることができる。
本実施形態の成形体は、本実施形態の硬化物を含むため、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上しているため、光学材料に好適に用いることができる。
本実施形態の成形体は、本実施形態の硬化物を含む成形体であり、例えば、本実施形態の樹脂組成物を硬化させながら、所定の形状に成形することにより得ることができる。
本実施形態の成形体は、本実施形態の硬化物を含むため、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上しているため、光学材料に好適に用いることができる。
【0062】
本実施形態の成形体中の本実施形態の硬化物の含有量は、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスをより向上させる観点から、当該成形体の全体を１００質量％としたとき、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは９０質量％以上、さらに好ましくは９５質量％以上、さらに好ましくは９７質量％以上であり、そして、好ましくは１００質量％以下である。
【0063】
＜光学材料＞
本実施形態の光学材料は、本実施形態の成形体を含むものであり、例えば、本実施形態の樹脂組成物を硬化させながら、所定の形状に成形することにより得ることができる。
本実施形態の光学材料は、本実施形態の硬化物や成形体を含むため、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上しているため、例えば、各種センサー用レンズ、ピックアップレンズ、プロジェクタ用レンズ、プリズム、ｆθレンズ、撮像用レンズ、カメラレンズ、導光板、ヘッドマウントディスプレイ用レンズ、プラスチック眼鏡レンズ、ゴーグル、視力矯正用眼鏡レンズ、撮像機器用レンズ、液晶プロジェクター用フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、コンタクトレンズ等の各種光学レンズ、発光ダイオード（ＬＥＤ）用封止材、光導波路、ウェハレベル光学部品（ＷＬＯ）や光導波路の接合に用いる光学用接着剤、光学レンズ等に用いる反射防止膜、液晶表示装置部材（基板、導光板、フィルム、シート等）に用いる透明性コーティング、車のフロントガラスやバイクのヘルメットに貼り付けるシートやフィルム、透明性基板等を挙げることができる。
本実施形態の光学材料は、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上しているため、各種光学レンズとして、より好適に用いることができる。
さらに、本実施形態の光学材料は、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上しているため、ガラス基板をさらに含み、本実施形態の成形体とガラス基板との積層体として好適に用いることができ、さらに、ガラス基板上に樹脂レンズを形成する、いわゆるハイブリッド型の光学レンズとして好適に用いることができる。
本実施形態の光学材料は、本実施形態の成形体を含むものであり、例えば、本実施形態の樹脂組成物を硬化させながら、所定の形状に成形することにより得ることができる。
本実施形態の光学材料は、本実施形態の硬化物や成形体を含むため、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上しているため、例えば、各種センサー用レンズ、ピックアップレンズ、プロジェクタ用レンズ、プリズム、ｆθレンズ、撮像用レンズ、カメラレンズ、導光板、ヘッドマウントディスプレイ用レンズ、プラスチック眼鏡レンズ、ゴーグル、視力矯正用眼鏡レンズ、撮像機器用レンズ、液晶プロジェクター用フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、コンタクトレンズ等の各種光学レンズ、発光ダイオード（ＬＥＤ）用封止材、光導波路、ウェハレベル光学部品（ＷＬＯ）や光導波路の接合に用いる光学用接着剤、光学レンズ等に用いる反射防止膜、液晶表示装置部材（基板、導光板、フィルム、シート等）に用いる透明性コーティング、車のフロントガラスやバイクのヘルメットに貼り付けるシートやフィルム、透明性基板等を挙げることができる。
本実施形態の光学材料は、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上しているため、各種光学レンズとして、より好適に用いることができる。
さらに、本実施形態の光学材料は、高屈折率および低硬化収縮性の性能バランスが向上しているため、ガラス基板をさらに含み、本実施形態の成形体とガラス基板との積層体として好適に用いることができ、さらに、ガラス基板上に樹脂レンズを形成する、いわゆるハイブリッド型の光学レンズとして好適に用いることができる。
【0064】
以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
また、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
また、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
【実施例0065】
以下、本実施形態を、実施例等を参照して詳細に説明する。なお、本実施形態は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。
【0066】
＜合成例１：化合物Ａの合成＞
（Ｎ－（２，２－ジエトキシエチル）ベンズアミドの合成）
５００ｍＬの４径フラスコに、１０ｇ（７５．１ｍｍｏｌ）の２，２－ジエトキシエタン－１－アミン（下記反応式にて化合物（１）と示す）を装入し、２００ｍＬのジクロロメタンを加え、溶解させた。得られた溶液を０℃まで冷却し、１２．６ｍＬ（９０．１ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン、および９．２ｍＬ（７８．９ｍｍｏｌ）のベンゾイルクロライドを添加した。その後、この溶液を室温で３時間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液に９０ｍＬの１Ｍ塩酸、および１００ｍＬの水を加え、１０分間撹拌し、混合物を得た。上記フラスコ内の混合物をジクロロメタン（２００ｍＬ×１回）で抽出した。抽出液を合わせて４００ｍＬの飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ ＳｆａｒＤ（Ｄｕｏ）２００ｇ、溶出溶媒：酢酸エチル－ヘキサン系グラジエント（酢酸エチル８％→６４％））にて精製し、無色オイルとして、Ｎ－（２，２－ジエトキシエチル）ベンズアミド（下記反応式にて化合物（２）と示す）を１３．５ｇ得た（収率７６％）。
化合物（１）から化合物（２）への合成スキームを以下に示す。
（Ｎ－（２，２－ジエトキシエチル）ベンズアミドの合成）
５００ｍＬの４径フラスコに、１０ｇ（７５．１ｍｍｏｌ）の２，２－ジエトキシエタン－１－アミン（下記反応式にて化合物（１）と示す）を装入し、２００ｍＬのジクロロメタンを加え、溶解させた。得られた溶液を０℃まで冷却し、１２．６ｍＬ（９０．１ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン、および９．２ｍＬ（７８．９ｍｍｏｌ）のベンゾイルクロライドを添加した。その後、この溶液を室温で３時間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液に９０ｍＬの１Ｍ塩酸、および１００ｍＬの水を加え、１０分間撹拌し、混合物を得た。上記フラスコ内の混合物をジクロロメタン（２００ｍＬ×１回）で抽出した。抽出液を合わせて４００ｍＬの飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ ＳｆａｒＤ（Ｄｕｏ）２００ｇ、溶出溶媒：酢酸エチル－ヘキサン系グラジエント（酢酸エチル８％→６４％））にて精製し、無色オイルとして、Ｎ－（２，２－ジエトキシエチル）ベンズアミド（下記反応式にて化合物（２）と示す）を１３．５ｇ得た（収率７６％）。
化合物（１）から化合物（２）への合成スキームを以下に示す。
【0067】
【化16】
【0068】
Ｎ－（２，２－ジエトキシエチル）ベンズアミド（化合物（２））のＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：７．７７（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１．５Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１．５Ｈｚ），７．４４（２Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１．５Ｈｚ），６．４０（１Ｈ，ｂｒｄ．ｓ），４．６３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），３．７２－３．７９（２Ｈ，ｍ），３．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．２４（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）．
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：７．７７（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１．５Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１．５Ｈｚ），７．４４（２Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１．５Ｈｚ），６．４０（１Ｈ，ｂｒｄ．ｓ），４．６３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），３．７２－３．７９（２Ｈ，ｍ），３．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．２４（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）．
【0069】
（Ｎ－（２，２－ビス（２－ヒドロキシナフタレン－１－イル）エチル）ベンズアミド（３）の合成）
５００ｍＬの４径フラスコに、１１ｇ（４６．４ｍｍｏｌ）のＮ－（２，２－ジエトキシエチル）ベンズアミド（化合物（２））、および１４．７ｇ（１０２ｍｍｏｌ）２－ナフトールを装入し、２３２ｍＬのクロロホルムを加え、これらを溶解させた。得られた溶液を０℃まで冷却し、３．６ｍＬ（４６．４ｍｍｏｌ）のトリフルオロ酢酸を添加した。その後、この溶液を室温で７日間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ ＳｆａｒＤ（Ｄｕｏ） ３５０ｇ、溶出溶媒：酢酸エチル－ヘキサン系グラジエント（酢酸エチル８％→６６％））にて精製し、黄色結晶として、Ｎ－（２，２－ビス（２－ヒドロキシナフタレン－１－イル）エチル）ベンズアミド（下記反応式にて化合物（３）と示す）を１０．３ｇ得た（収率５１％）。
化合物（２）から化合物（３）への合成スキームを以下に示す。
５００ｍＬの４径フラスコに、１１ｇ（４６．４ｍｍｏｌ）のＮ－（２，２－ジエトキシエチル）ベンズアミド（化合物（２））、および１４．７ｇ（１０２ｍｍｏｌ）２－ナフトールを装入し、２３２ｍＬのクロロホルムを加え、これらを溶解させた。得られた溶液を０℃まで冷却し、３．６ｍＬ（４６．４ｍｍｏｌ）のトリフルオロ酢酸を添加した。その後、この溶液を室温で７日間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ ＳｆａｒＤ（Ｄｕｏ） ３５０ｇ、溶出溶媒：酢酸エチル－ヘキサン系グラジエント（酢酸エチル８％→６６％））にて精製し、黄色結晶として、Ｎ－（２，２－ビス（２－ヒドロキシナフタレン－１－イル）エチル）ベンズアミド（下記反応式にて化合物（３）と示す）を１０．３ｇ得た（収率５１％）。
化合物（２）から化合物（３）への合成スキームを以下に示す。
【0070】
【化17】
【0071】
Ｎ－（２，２－ビス（２－ヒドロキシナフタレン－１－イル）エチル）ベンズアミド（化合物（３））のＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：９．０４（２Ｈ，ｓ），８．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．６５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１．２Ｈｚ），７．５３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．４６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３６（２Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１．２Ｈｚ），７．２９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．８６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），６．００（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）．
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：９．０４（２Ｈ，ｓ），８．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．６５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１．２Ｈｚ），７．５３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．４６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．３６（２Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１．２Ｈｚ），７．２９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），６．８６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），６．００（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）．
【0072】
（（２－ベンズアミドエタン－１，１－ジイル）ビス（ナフタレン－１，２－ジイル）ビス（２－メチルアクリレート）（４）の合成）
５００ｍＬの４径フラスコに、１０．３ｇ（２３．７ｍｍｏｌ）のＮ－（２，２－ビス（２－ヒドロキシナフタレン－１－イル）エチル）ベンズアミド（化合物（３））を装入し、２３７ｍＬのジクロロメタンを加え、これらを溶解させた。得られた溶液を０℃まで冷却し、７．３ｍＬ（５２．１ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン、および５．０ｍＬ（５２．１ｍｍｏｌ）のメタクリル酸クロライドを添加した。その後、この溶液を４５分間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液に５５ｍＬの１Ｍ塩酸、および１５０ｍＬの水を加え、１０分間撹拌した。上記フラスコ内の混合物をジクロロメタン（２５０ｍＬ×１回）で抽出した。抽出液を合わせて４００ｍＬの飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ ＳｆａｒＤ（Ｄｕｏ） ２００ｇ、溶出溶媒：酢酸エチル－ヘキサン系グラジエント（酢酸エチル６％→４９％））にて精製し、白色結晶として、（２－ベンズアミドエタン－１，１－ジイル）ビス（ナフタレン－１，２－ジイル）ビス（２－メチルアクリレート）（下記反応式にて化合物（４）と示す。またこれを化合物Ａとする）を１１．５ｇ得た（収率８５％）。
化合物（３）から化合物（４）への合成スキームを以下に示す。
５００ｍＬの４径フラスコに、１０．３ｇ（２３．７ｍｍｏｌ）のＮ－（２，２－ビス（２－ヒドロキシナフタレン－１－イル）エチル）ベンズアミド（化合物（３））を装入し、２３７ｍＬのジクロロメタンを加え、これらを溶解させた。得られた溶液を０℃まで冷却し、７．３ｍＬ（５２．１ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン、および５．０ｍＬ（５２．１ｍｍｏｌ）のメタクリル酸クロライドを添加した。その後、この溶液を４５分間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液に５５ｍＬの１Ｍ塩酸、および１５０ｍＬの水を加え、１０分間撹拌した。上記フラスコ内の混合物をジクロロメタン（２５０ｍＬ×１回）で抽出した。抽出液を合わせて４００ｍＬの飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ ＳｆａｒＤ（Ｄｕｏ） ２００ｇ、溶出溶媒：酢酸エチル－ヘキサン系グラジエント（酢酸エチル６％→４９％））にて精製し、白色結晶として、（２－ベンズアミドエタン－１，１－ジイル）ビス（ナフタレン－１，２－ジイル）ビス（２－メチルアクリレート）（下記反応式にて化合物（４）と示す。またこれを化合物Ａとする）を１１．５ｇ得た（収率８５％）。
化合物（３）から化合物（４）への合成スキームを以下に示す。
【0073】
【化18】
【0074】
化合物ＡのＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：８．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．５８（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１．６Ｈｚ），７．４３－７．４６（２Ｈ，ｍ），７．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），６．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．１４（２Ｈ，ｓ），６．０３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），５．７１（２Ｈ，ｓ），４．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．９２（６Ｈ，ｓ）．
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：８．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．５８（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１．６Ｈｚ），７．４３－７．４６（２Ｈ，ｍ），７．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），６．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．１４（２Ｈ，ｓ），６．０３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），５．７１（２Ｈ，ｓ），４．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．９２（６Ｈ，ｓ）．
【0075】
＜合成例２：化合物Ｂの合成＞
（１，１'－メチレンビス（ナフタレン－２－オール）（６）の合成）
５００ｍＬの４径フラスコに、２１．０ｇ（１４６ｍｍｏｌ）の２－ナフトール（下記反応式にて化合物（５）と示す）、および４．８１ｇ（１６０ｍｍｏｌ）のパラホルムアルデヒドを装入し、１５０ｍＬの酢酸を加え、これらを溶解させた。その後９０℃まで昇温し、３時間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液を５℃以下になるまでし氷冷し、１２０ｍＬのジクロロメタンを装入して３０分間撹拌し、懸濁液を得た。この懸濁液を冷時ろ過し、合計９０ｍＬのジクロロメタンを３回に分けて加えて、洗浄した。茶褐色固体として、１，１'－メチレンビス（ナフタレン－２－オール）（下記反応式にて化合物（６）と示す）を１２．９ｇ得た（収率５９％）。
化合物（５）から化合物（６）への合成スキームを以下に示す。
（１，１'－メチレンビス（ナフタレン－２－オール）（６）の合成）
５００ｍＬの４径フラスコに、２１．０ｇ（１４６ｍｍｏｌ）の２－ナフトール（下記反応式にて化合物（５）と示す）、および４．８１ｇ（１６０ｍｍｏｌ）のパラホルムアルデヒドを装入し、１５０ｍＬの酢酸を加え、これらを溶解させた。その後９０℃まで昇温し、３時間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液を５℃以下になるまでし氷冷し、１２０ｍＬのジクロロメタンを装入して３０分間撹拌し、懸濁液を得た。この懸濁液を冷時ろ過し、合計９０ｍＬのジクロロメタンを３回に分けて加えて、洗浄した。茶褐色固体として、１，１'－メチレンビス（ナフタレン－２－オール）（下記反応式にて化合物（６）と示す）を１２．９ｇ得た（収率５９％）。
化合物（５）から化合物（６）への合成スキームを以下に示す。
【0076】
【化19】
【0077】
１，１'－メチレンビス（ナフタレン－２－オール）（化合物（６））のＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ：１０．１（２Ｈ，ｓ），８．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．１１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），４．７０（２Ｈ，ｓ）．
１Ｈ－ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）δ：１０．１（２Ｈ，ｓ），８．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．１８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．１１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），４．７０（２Ｈ，ｓ）．
【0078】
（３，３－（（メチレンビス（ナフタレン－１，２－ジイル））ビス（オキシ））ビス（プロパン－１－オール）（７）の合成）
窒素雰囲気下にて、２００ｍＬの４径フラスコに、１．５８ｇ（５．２６ｍｍｏｌ）の１，１'－メチレンビス（ナフタレン－２－オール）（化合物（６））を装入し、１６ｍＬのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドを加え、これらを溶解させた。得られた溶液に、１．４２ｇ（１０．８ｍｍｏｌ）のカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、８７．４ｍｇ（０．５２６ｍｍｏｌ）のヨウ化カリウム、および１．１３ｇ（１１．６ｍｍｏｌ）の３－クロロプロパノールを添加した。その後７０℃で２時間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣に３０ｍＬの酢酸エチルおよび３０ｍＬの水を加えた。上記フラスコ内の混合物を酢酸エチル（３０ｍＬ×２回）で抽出した。抽出液を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ ＳｆａｒＤ（Ｄｕｏ） ２５ｇ、溶出溶媒：酢酸エチル－ヘキサン系グラジエント（酢酸エチル８％→６６％））にて精製し、黄褐色結晶として、３，３－（（メチレンビス（ナフタレン－１，２－ジイル））ビス（オキシ））ビス（プロパン－１－オール）（下記反応式にて化合物（７）と示す）を０．９１ｇ得た（収率４２％）。
化合物（６）から化合物（７）への合成スキームを以下に示す。
窒素雰囲気下にて、２００ｍＬの４径フラスコに、１．５８ｇ（５．２６ｍｍｏｌ）の１，１'－メチレンビス（ナフタレン－２－オール）（化合物（６））を装入し、１６ｍＬのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドを加え、これらを溶解させた。得られた溶液に、１．４２ｇ（１０．８ｍｍｏｌ）のカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド、８７．４ｍｇ（０．５２６ｍｍｏｌ）のヨウ化カリウム、および１．１３ｇ（１１．６ｍｍｏｌ）の３－クロロプロパノールを添加した。その後７０℃で２時間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液を減圧下濃縮し、得られた残渣に３０ｍＬの酢酸エチルおよび３０ｍＬの水を加えた。上記フラスコ内の混合物を酢酸エチル（３０ｍＬ×２回）で抽出した。抽出液を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ ＳｆａｒＤ（Ｄｕｏ） ２５ｇ、溶出溶媒：酢酸エチル－ヘキサン系グラジエント（酢酸エチル８％→６６％））にて精製し、黄褐色結晶として、３，３－（（メチレンビス（ナフタレン－１，２－ジイル））ビス（オキシ））ビス（プロパン－１－オール）（下記反応式にて化合物（７）と示す）を０．９１ｇ得た（収率４２％）。
化合物（６）から化合物（７）への合成スキームを以下に示す。
【0079】
【化20】
【0080】
３，３－（（メチレンビス（ナフタレン－１，２－ジイル））ビス（オキシ））ビス（プロパン－１－オール）（化合物（７））のＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：８．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．２５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．２０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．８３（２Ｈ，ｓ），４．５６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），４．３１（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），３．６３（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），１．９５（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）．
１Ｈ－ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：８．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ），７．２５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．２０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．８３（２Ｈ，ｓ），４．５６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），４．３１（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），３．６３（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），１．９５（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）．
【0081】
（（（メチレンビス（ナフタレン－１，２－ジイル））ビス（オキシ））ビス（プロパン－３，１－ジイル）ビス（２－メチルアクリレート）（８）の合成）
窒素雰囲気下にて、１０００ｍＬの４径フラスコに、１２．５ｇ（２９．９ｍｍｏｌ）の３，３－（（メチレンビス（ナフタレン－１，２－ジイル））ビス（オキシ））ビス（プロパン－１－オール）（化合物（７））を装入し、２９９ｍＬのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、および１５０ｍＬのテトラヒドロフランを加え、これらを溶解させた。得られた溶液を０℃まで冷却し、１０．４ｍＬ（１２０ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン、および６．４ｍＬ（１０６ｍｍｏｌ）のメタクリル酸クロライドを添加した。その後、室温で８．５時間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液に１２０ｍＬの１Ｍ塩酸、および２００ｍＬの水を加え、１０分間撹拌した。上記フラスコ内の混合物を酢酸エチル（３００ｍＬ×２回）で抽出した。抽出液を合わせて５００ｍＬの飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ ＳｆａｒＤ（Ｄｕｏ）２００ｇ、溶出溶媒：酢酸エチル－ヘキサン系グラジエント（酢酸エチル５％→３１％））にて精製し、赤褐色結晶として、（（メチレンビス（ナフタレン－１，２－ジイル））ビス（オキシ））ビス（プロパン－３，１－ジイル）ビス（２－メチルアクリレート）（下記反応式にて化合物（８）と示す。またこれを化合物Ｂとする）を４．９３ｇ得た（収率３０％）。
化合物（７）から化合物（８）への合成スキームを以下に示す。
窒素雰囲気下にて、１０００ｍＬの４径フラスコに、１２．５ｇ（２９．９ｍｍｏｌ）の３，３－（（メチレンビス（ナフタレン－１，２－ジイル））ビス（オキシ））ビス（プロパン－１－オール）（化合物（７））を装入し、２９９ｍＬのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、および１５０ｍＬのテトラヒドロフランを加え、これらを溶解させた。得られた溶液を０℃まで冷却し、１０．４ｍＬ（１２０ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン、および６．４ｍＬ（１０６ｍｍｏｌ）のメタクリル酸クロライドを添加した。その後、室温で８．５時間攪拌し、反応液を得た。
次に、上記反応液に１２０ｍＬの１Ｍ塩酸、および２００ｍＬの水を加え、１０分間撹拌した。上記フラスコ内の混合物を酢酸エチル（３００ｍＬ×２回）で抽出した。抽出液を合わせて５００ｍＬの飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（カラム：Ｂｉｏｔａｇｅ ＳｆａｒＤ（Ｄｕｏ）２００ｇ、溶出溶媒：酢酸エチル－ヘキサン系グラジエント（酢酸エチル５％→３１％））にて精製し、赤褐色結晶として、（（メチレンビス（ナフタレン－１，２－ジイル））ビス（オキシ））ビス（プロパン－３，１－ジイル）ビス（２－メチルアクリレート）（下記反応式にて化合物（８）と示す。またこれを化合物Ｂとする）を４．９３ｇ得た（収率３０％）。
化合物（７）から化合物（８）への合成スキームを以下に示す。
【0082】
【化21】
【0083】
化合物ＢのＮＭＲ分析結果を以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：８．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６９（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．２５（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．０８（２Ｈ，ｓ），５．５４（２Ｈ，ｓ），４．９１（２Ｈ，ｓ），４．１６（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．１０（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．７２－２．１２（４Ｈ，ｍ），１．９３（６Ｈ，ｓ）．
１Ｈ－ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：８．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６９（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．２５（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．０８（２Ｈ，ｓ），５．５４（２Ｈ，ｓ），４．９１（２Ｈ，ｓ），４．１６（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．１０（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．７２－２．１２（４Ｈ，ｍ），１．９３（６Ｈ，ｓ）．
【0084】
＜１Ｈ－ＮＭＲ測定＞
合成例１および２における、合成スキーム中の途中段階および最終的に得られた化合物の構造は以下の示す１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにより分析した。
測定機器：日本電子社製ＥＣＺ４００型核磁気共鳴装置または日本電子社製ＪＮＭ－ＥＸ２７０型核磁気共鳴装置
溶媒：重水素化クロロホルムまたは重水素化ジメチルスルホキシド
サンプル濃度：１０ｍｇ／０．７ｍＬ
パルス繰り返し時間：５．５秒
積算回数：８回
測定温度：２５℃
合成例１および２における、合成スキーム中の途中段階および最終的に得られた化合物の構造は以下の示す１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにより分析した。
測定機器：日本電子社製ＥＣＺ４００型核磁気共鳴装置または日本電子社製ＪＮＭ－ＥＸ２７０型核磁気共鳴装置
溶媒：重水素化クロロホルムまたは重水素化ジメチルスルホキシド
サンプル濃度：１０ｍｇ／０．７ｍＬ
パルス繰り返し時間：５．５秒
積算回数：８回
測定温度：２５℃
【0085】
＜実施例１＞
（メチレンビスナフタレン樹脂組成物の調製）
サンプル瓶中に、メチレンビスナフタレン化合物として上記で得られた化合物Ａ（下記式（Ｘ－１）で表される構造の化合物）１０質量部、重合性化合物としてＰＯＢ－Ａ（ｏ－フェノキシベンジルアクリレート、共栄社化学株式会社製）９０質量部、光重合開始剤としてＯｍｎｉｒａｄ１８４（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ＢＡＳＦ社製）３質量部を加え、ミックスローターを用いて外観が均一になるまで混合し、樹脂組成物を得た。得られたメチレンビスナフタレン樹脂組成物には相分離は観察されなかった。
（メチレンビスナフタレン樹脂組成物の調製）
サンプル瓶中に、メチレンビスナフタレン化合物として上記で得られた化合物Ａ（下記式（Ｘ－１）で表される構造の化合物）１０質量部、重合性化合物としてＰＯＢ－Ａ（ｏ－フェノキシベンジルアクリレート、共栄社化学株式会社製）９０質量部、光重合開始剤としてＯｍｎｉｒａｄ１８４（１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ＢＡＳＦ社製）３質量部を加え、ミックスローターを用いて外観が均一になるまで混合し、樹脂組成物を得た。得られたメチレンビスナフタレン樹脂組成物には相分離は観察されなかった。
【0086】
【化22】
【0087】
＜実施例２～３、比較例１～３＞
メチレンビスナフタレン樹脂組成物の配合組成を表１のように変更した以外は、実施例１と同様にして評価を行なった。得られた結果を表１に示す。
メチレンビスナフタレン樹脂組成物の配合組成を表１のように変更した以外は、実施例１と同様にして評価を行なった。得られた結果を表１に示す。
【0088】
（硬化膜の作製）
Ｎｏｖｅｃ１７２０（３Ｍ社製フッ化シラン系コーティング剤）を用いて離型処理したＥａｇｌｅ－ＸＧ（ＣＯＲＮＩＮＧ社製無アルカリガラス基板、７０×７０×０．７ｍｍＴ）上に、０．５ｍＬの各例で得られたメチレンビスナフタレン樹脂組成物を塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得た。
得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得た。
得られた硬化膜の屈折率とアッベ数、硬化時の収縮率を下記に示す方法で測定した。得られた結果を表１に示す。
なお、比較例１については、メチレンビスナフタレン化合物が溶解せず、均一な樹脂組成物が得られなかったため、硬化膜を作成できなかった。
Ｎｏｖｅｃ１７２０（３Ｍ社製フッ化シラン系コーティング剤）を用いて離型処理したＥａｇｌｅ－ＸＧ（ＣＯＲＮＩＮＧ社製無アルカリガラス基板、７０×７０×０．７ｍｍＴ）上に、０．５ｍＬの各例で得られたメチレンビスナフタレン樹脂組成物を塗布し、厚みが２５０μｍのスペーサーを介してもう一枚の離型処理したガラス基板で挟み込み、端部をクリップで固定し、積層体を得た。
得られた積層体の片面から無電極ランプ（Ｈバルブ）を用いて３６５ｎｍにおける露光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２になるよう紫外線を照射した後、硬化物をガラス基板から離型させ、得られた硬化物を窒素ガス雰囲気下、８０℃で３０分間加熱して、厚さ２５０μｍの硬化膜を得た。
得られた硬化膜の屈折率とアッベ数、硬化時の収縮率を下記に示す方法で測定した。得られた結果を表１に示す。
なお、比較例１については、メチレンビスナフタレン化合物が溶解せず、均一な樹脂組成物が得られなかったため、硬化膜を作成できなかった。
【0089】
＜相溶性の評価＞
メチレンビスナフタレン樹脂組成物の調製直後に、組成物が均一に溶解し相分離が見られなかった場合をＡ（良好）、溶解しない成分があり均一な組成物が得られなかった場合をＢ（不良）とした。
メチレンビスナフタレン樹脂組成物の調製直後に、組成物が均一に溶解し相分離が見られなかった場合をＡ（良好）、溶解しない成分があり均一な組成物が得られなかった場合をＢ（不良）とした。
【0090】
＜屈折率ｎＤおよびアッベ数の測定＞
得られた硬化膜の屈折率およびアッべ数をＡＳＴＭ Ｄ５４２に準拠して測定した。
まず、硬化膜の屈折率を、アッベ屈折計（ＤＲ－Ｍ４／１５５０、株式会社アタゴ製）を用いて測定した。干渉フィルターとしてＤ線（５８９ｎｍ、株式会社アタゴ製；ＲＥ－１６５０１）、Ｆ線（４８６ｎｍ、株式会社アタゴ製；ＲＥ－１６５０２）、Ｃ線（６５６ｎｍ、株式会社アタゴ製；ＲＥ－１６５０３）、中間液としてＲＥ－１１９６（モノブロモナフタレン、株式会社アタゴ製）を使用し、サンプル温度は２５℃になるよう設定して測定を行なった。
得られた測定結果より、以下の計算式によってアッベ数を求めた。
式：アッベ数＝（ｎＤ－１）／（ｎＦ－ｎＣ）
ｎＤ：Ｄ線における屈折率
ｎＦ：Ｆ線における屈折率
ｎＣ：Ｃ線における屈折率
得られた硬化膜の屈折率およびアッべ数をＡＳＴＭ Ｄ５４２に準拠して測定した。
まず、硬化膜の屈折率を、アッベ屈折計（ＤＲ－Ｍ４／１５５０、株式会社アタゴ製）を用いて測定した。干渉フィルターとしてＤ線（５８９ｎｍ、株式会社アタゴ製；ＲＥ－１６５０１）、Ｆ線（４８６ｎｍ、株式会社アタゴ製；ＲＥ－１６５０２）、Ｃ線（６５６ｎｍ、株式会社アタゴ製；ＲＥ－１６５０３）、中間液としてＲＥ－１１９６（モノブロモナフタレン、株式会社アタゴ製）を使用し、サンプル温度は２５℃になるよう設定して測定を行なった。
得られた測定結果より、以下の計算式によってアッベ数を求めた。
式：アッベ数＝（ｎＤ－１）／（ｎＦ－ｎＣ）
ｎＤ：Ｄ線における屈折率
ｎＦ：Ｆ線における屈折率
ｎＣ：Ｃ線における屈折率
【0091】
＜硬化収縮率の測定＞
得られたメチレンビスナフタレン樹脂組成物の比重ｄ１を、ＪＩＳ ８８０４：２０１２に基づいて、比重瓶を用いて測定した。また、硬化膜の比重ｄ２をアルキメデス法（ＪＩＳ ８８０７：２０１２）により測定した。得られた比重ｄ１および比重ｄ２の値を用い、下記式により硬化収縮率（％）を算出した。
式：硬化収縮率（％）＝（１－ｄ１／ｄ２）×１００
得られたメチレンビスナフタレン樹脂組成物の比重ｄ１を、ＪＩＳ ８８０４：２０１２に基づいて、比重瓶を用いて測定した。また、硬化膜の比重ｄ２をアルキメデス法（ＪＩＳ ８８０７：２０１２）により測定した。得られた比重ｄ１および比重ｄ２の値を用い、下記式により硬化収縮率（％）を算出した。
式：硬化収縮率（％）＝（１－ｄ１／ｄ２）×１００
【0092】
【表1】
【0093】
＜実施例４および比較例４＞
表１で得られた結果を元にして、外挿法を用いてメチレンビスナフタレン化合物を単独で硬化させた場合の屈折率と硬化収縮率を推算した。得られた結果を表２に示す。
外挿に用いたメチレンビスナフタレン化合物の配合重量部と屈折率のプロットを図１に示す。また、メチレンビスナフタレン化合物の配合重量部と硬化収縮率のプロットを図２に示す。
表１で得られた結果を元にして、外挿法を用いてメチレンビスナフタレン化合物を単独で硬化させた場合の屈折率と硬化収縮率を推算した。得られた結果を表２に示す。
外挿に用いたメチレンビスナフタレン化合物の配合重量部と屈折率のプロットを図１に示す。また、メチレンビスナフタレン化合物の配合重量部と硬化収縮率のプロットを図２に示す。
【0094】
【表2】
【図1】
【図2】