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特開2024-127588液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子及びその製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024127588
(43)【公開日】2024-09-20
(54)【発明の名称】液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子及びその製造方法
(51)【国際特許分類】
G02F 1/1337 20060101AFI20240912BHJP
C08G 73/10 20060101ALI20240912BHJP
【ＦＩ】
G02F1/1337 525
C08G73/10
【審査請求】未請求
【請求項の数】14
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023036837
(22)【出願日】2023-03-09
(71)【出願人】
【識別番号】000004178
【氏名又は名称】ＪＳＲ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100121821
【弁理士】
【氏名又は名称】山田 強
(74)【代理人】
【識別番号】100122390
【弁理士】
【氏名又は名称】廣田 美穂
(74)【代理人】
【識別番号】100139480
【弁理士】
【氏名又は名称】日野 京子
(72)【発明者】
【氏名】藤下 翔平
(72)【発明者】
【氏名】新井 健一郎
(72)【発明者】
【氏名】井上 敦
(72)【発明者】
【氏名】中島 拓海
【テーマコード（参考）】
2H290
4J043
【Ｆターム（参考）】
2H290AA15
2H290AA18
2H290AA33
2H290AA53
2H290AA73
2H290BD01
2H290BF13
2H290BF24
2H290BF25
2H290BF54
2H290DA01
2H290DA03
4J043PA04
4J043PB01
4J043PB02
4J043PB03
4J043PB09
4J043PB11
4J043PB13
4J043QB15
4J043QB26
4J043QB31
4J043RA34
4J043RA35
4J043RA39
4J043SA06
4J043SA47
4J043SB01
4J043SB03
4J043SB04
4J043SB05
4J043TA22
4J043TA70
4J043TA71
4J043TB01
4J043TB03
4J043TB04
4J043UA022
4J043UA032
4J043UA082
4J043UA121
4J043UA122
4J043UA131
4J043UA132
4J043UA151
4J043UA171
4J043UA331
4J043UA381
4J043UA421
4J043UA632
4J043UA662
4J043UA672
4J043UB011
4J043UB121
4J043UB131
4J043UB161
4J043UB171
4J043UB211
4J043UB221
4J043UB231
4J043UB401
4J043UB402
4J043XA16
4J043YA08
4J043ZB11
4J043ZB23
(57)【要約】
【課題】液晶配向性、電圧保持特性及び膜強度に優れた液晶配向膜を得ることができ、かつ信頼性に優れた液晶素子を製造することができる液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物：（Ａ）重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基等よりなる群から選択される少なくとも１種の基Ｆ１を主鎖末端部分に有する重合体、（Ｂ）基Ｆ１若しくは基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基Ｆ１Ａと反応し得るか、又は脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより基Ｆ１若しくは基Ｆ１Ａと反応し得る基である基Ｆ２を１分子内に合計２個以上有する化合物（ただし、前記（Ａ）重合体を除く。）を液晶配向剤に含有させる。
【選択図】なし
【解決手段】（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物：（Ａ）重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基等よりなる群から選択される少なくとも１種の基Ｆ１を主鎖末端部分に有する重合体、（Ｂ）基Ｆ１若しくは基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基Ｆ１Ａと反応し得るか、又は脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより基Ｆ１若しくは基Ｆ１Ａと反応し得る基である基Ｆ２を１分子内に合計２個以上有する化合物（ただし、前記（Ａ）重合体を除く。）を液晶配向剤に含有させる。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記の（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物：
（Ａ）重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、ケテン構造を有する基、メルドラム酸構造を有する基、環状エーテル基、環状チオエーテル基、オキサゾリン基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種である基Ｆ１を主鎖末端部分に有する重合体、
（Ｂ）前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基Ｆ１Ａと反応し得るか、又は脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより、前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１Ａと反応し得る基である基Ｆ２を１分子内に合計２個以上有する化合物（ただし、前記（Ａ）重合体を除く。）
を含有する、液晶配向剤。
（Ａ）重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、ケテン構造を有する基、メルドラム酸構造を有する基、環状エーテル基、環状チオエーテル基、オキサゾリン基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種である基Ｆ１を主鎖末端部分に有する重合体、
（Ｂ）前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基Ｆ１Ａと反応し得るか、又は脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより、前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１Ａと反応し得る基である基Ｆ２を１分子内に合計２個以上有する化合物（ただし、前記（Ａ）重合体を除く。）
を含有する、液晶配向剤。
【請求項2】
前記基Ｆ２は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、求核性官能基、保護された求核性官能基、酸性官能基及び保護された酸性官能基よりなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項3】
前記（Ｂ）化合物が有する前記基Ｆ２の少なくとも１個が、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子と脱離性基とが結合した部分構造を有する、請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項4】
前記（Ｂ）化合物は、下記式（１）で表される化合物を含む、請求項１に記載の液晶配向剤。
（式（１）中、Ｘ１は、窒素原子、硫黄原子、酸素原子又は下記式（ｘ－１）で表される基である。Ｙ１は脱離性基である。Ｒ１は、水素原子又は１価の有機基である。ただし、「－Ｘ１（Ｒ１）ｎ（Ｙ１）ｍ」で表される基は、求核性官能基又は保護された求核性官能基を有する。Ｒ２はｋ価の有機基である。ｋは２以上の整数である。Ｘ１が硫黄原子又は酸素原子である場合、ｍ及びｎのうち一方は１であり、他方は０である。Ｘ１が窒素原子又は下記式（ｘ－１）で表される基である場合、ｍは０～２の整数であり、ｎは０～２の整数であり、かつｍ＋ｎ＝２を満たす。式中の複数のＸ１は互いに同一又は異なる。式中にＹ１が複数存在する場合、複数のＹ１は互いに同一又は異なり、式中にＲ１が複数存在する場合、複数のＲ１は互いに同一又は異なる。）
（式（ｘ－１）中、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１～１０の１価の炭化水素基である。「＊」は結合手であることを表す。ただし、式（ｘ－１）中の窒素原子が上記式（１）中のＲ２に結合している。）
【化1】
【化2】
【請求項5】
前記Ｒ２は、ｋ価の鎖状炭化水素基であるか、又は、鎖状炭化水素基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ４－、－ＣＯ－ＮＲ４－、－ＮＲ４－ＣＯ －Ｏ－、－ＮＲ４－ＣＯ－ＮＲ５－、－ＣＯ－ＮＲ４－ＮＲ５－（ただし、Ｒ４及びＲ５は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～１０の１価の有機基である。）、３級窒素原子若しくは複素環を含むｋ価の基である、請求項４に記載の液晶配向剤。
【請求項6】
前記（Ｂ）化合物は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基を１分子内に合計２個以上有する化合物を含む、請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項7】
前記（Ｂ）化合物は、下記式（２）で表される化合物を含む、請求項１に記載の液晶配向剤。
（式（２）中、Ｘ４は、カルボン酸基、リン酸基、亜リン酸基又はスルホン酸基である。Ｘ５は、保護されたカルボン酸基、保護されたリン酸基、保護された亜リン酸基、又は保護されたスルホン酸基である。Ｒ６は、（ｉ＋ｊ）価の有機基である。ｉは０以上の整数である。ｊは１以上の整数である。ただし、（ｉ＋ｊ）≧２を満たす。ｉが２以上の場合、複数のＸ４は同一又は異なる。ｊが２以上の場合、複数のＸ５は同一又は異なる。）
【化3】
【請求項8】
前記（Ａ）重合体は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリウレア及びポリアミドイミドよりなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項9】
前記基Ｆ１は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基である、請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項10】
下記の（Ｃ）化合物を更に含有する、請求項１に記載の液晶配向剤。
（Ｃ）前記（Ａ）重合体及び前記（Ｂ）化合物とは異なる化合物であって、求電子性官能基又は保護された求電子性官能基を１分子内に２個以上有する化合物
（Ｃ）前記（Ａ）重合体及び前記（Ｂ）化合物とは異なる化合物であって、求電子性官能基又は保護された求電子性官能基を１分子内に２個以上有する化合物
【請求項11】
請求項１～１０のいずれか一項に記載の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜。
【請求項12】
請求項１～１０のいずれか一項に記載の液晶配向剤を基板上に塗布し、該塗布した後に光照射又はラビング処理により液晶配向能を付与する、液晶配向膜の製造方法。
【請求項13】
請求項１１に記載の液晶配向膜を備える液晶素子。
【請求項14】
請求項１～１０のいずれか一項に記載の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板のそれぞれの前記導電膜上に塗布して塗膜を形成する工程と、
前記液晶配向剤を塗布した一対の基板を、液晶層を挟んで前記塗膜が対向するように配置して液晶セルを構築する工程と、
前記導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程と、
を含む、液晶素子の製造方法。
前記液晶配向剤を塗布した一対の基板を、液晶層を挟んで前記塗膜が対向するように配置して液晶セルを構築する工程と、
前記導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程と、
を含む、液晶素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶素子は、液晶テレビやインフォメーションディスプレイ等といった比較的大型の表示装置から、スマートフォンやタブレットＰＣ等の小型の表示装置まで幅広い用途に適用されている。液晶素子の性能は、液晶の配向性やプレチルト角の大きさ、電圧保持率等の各種特性により決定される。液晶素子の性能を向上させるべく、従来、液晶材料の改良のほか、液晶を一定方向に配列させるための液晶配向膜の改良が行われている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。
【0003】
特許文献１には、ポリアミック酸と二炭酸ジ－ｔｅｒｔ－ブチルとを反応させることによりポリアミック酸の主鎖末端にｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）を導入し、当該重合体を用いて液晶配向膜を形成することにより、シール剤と液晶配向膜との接着性を高めることが開示されている。また、特許文献２には、重合体と、求核性官能基又は酸性官能基を１分子内に２個以上有する化合物と、求電子官能基を１分子内に２個以上有する化合物とを含有する液晶配向剤を用いることにより、リワーク性及び液晶配向性が良好な液晶配向膜を形成することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】国際公開第２０１９／０２２２１５号
【特許文献2】特開２０２２－７１８０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
近年、液晶素子の高精細化に伴い、品質に対する要求は更に厳しくなっている。こうし
た要求を満たすべく、液晶素子には、液晶配向性や電圧保持特性を更に良化することが求められている。また、ラビング法の適用や、液晶配向性及び電圧保持率の改善、歩留まり低下の抑制等を考慮すると、液晶配向剤を用いて形成される有機膜は十分に高い強度を有することが求められる。加えて、液晶素子の特性としては、長期に亘って使用した場合にも高い電圧保持率を示し、信頼性に優れていることが求められる。
た要求を満たすべく、液晶素子には、液晶配向性や電圧保持特性を更に良化することが求められている。また、ラビング法の適用や、液晶配向性及び電圧保持率の改善、歩留まり低下の抑制等を考慮すると、液晶配向剤を用いて形成される有機膜は十分に高い強度を有することが求められる。加えて、液晶素子の特性としては、長期に亘って使用した場合にも高い電圧保持率を示し、信頼性に優れていることが求められる。
【0006】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、液晶配向性、電圧保持特性及び膜強度に優れた液晶配向膜を得ることができ、かつ信頼性に優れた液晶素子を製造することができる液晶配向剤を提供することを主たる目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
【0008】
＜１＞ 下記の（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物：
（Ａ）重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、ケテン構造を有する基、メルドラム酸構造を有する基、環状エーテル基、環状チオエーテル基、オキサゾリン基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種である基Ｆ１を主鎖末端部分に有する重合体、
（Ｂ）前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基Ｆ１Ａと反応し得るか、又は脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより、前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１Ａと反応し得る基である基Ｆ２を１分子内に合計２個以上有する化合物（ただし、前記（Ａ）重合体を除く。）
を含有する、液晶配向剤。
（Ａ）重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、ケテン構造を有する基、メルドラム酸構造を有する基、環状エーテル基、環状チオエーテル基、オキサゾリン基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種である基Ｆ１を主鎖末端部分に有する重合体、
（Ｂ）前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基Ｆ１Ａと反応し得るか、又は脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより、前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１Ａと反応し得る基である基Ｆ２を１分子内に合計２個以上有する化合物（ただし、前記（Ａ）重合体を除く。）
を含有する、液晶配向剤。
【0009】
＜２＞ 上記＜１＞の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜。
＜３＞ 上記＜１＞の液晶配向剤を基板上に塗布し、該塗布した後に光照射又はラビング処理により液晶配向能を付与する、液晶配向膜の製造方法。
＜４＞ 上記＜２＞の液晶配向膜を備える液晶素子。
＜５＞ 上記＜１＞の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板のそれぞれの前記導電膜上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記液晶配向剤を塗布した一対の基板を、液晶層を挟んで前記塗膜が対向するように配置して液晶セルを構築する工程と、前記導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程と、を含む、液晶素子の製造方法。
＜３＞ 上記＜１＞の液晶配向剤を基板上に塗布し、該塗布した後に光照射又はラビング処理により液晶配向能を付与する、液晶配向膜の製造方法。
＜４＞ 上記＜２＞の液晶配向膜を備える液晶素子。
＜５＞ 上記＜１＞の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板のそれぞれの前記導電膜上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記液晶配向剤を塗布した一対の基板を、液晶層を挟んで前記塗膜が対向するように配置して液晶セルを構築する工程と、前記導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程と、を含む、液晶素子の製造方法。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、上記の（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物を含有することにより、液晶配向性、電圧保持特性及び膜強度に優れた液晶配向膜を得ることができる。また、信頼性に優れた液晶素子を製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【0011】
≪液晶配向剤≫
本開示の液晶配向剤は、特定の官能基（以下、「基Ｆ１」ともいう）を主鎖末端部分に有する重合体（以下、「（Ａ）重合体」ともいう）と、基Ｆ１若しくは基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基と反応し得るか、又は脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより、基Ｆ１若しくは基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基と反応し得る基である官能基（以下、「基Ｆ２」ともいう）を有する化合物（以下、「（Ｂ）化合物」ともいう）と、を含有する。以下に、本開示の液晶配向剤に含まれる成分、及び必要に応じて任意に配合される成分（以下、「その他の成分」ともいう）について説明する。なお、以下では、「基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基」を「反応性基Ｆ１Ａ」ともいい、「基Ｆ２中の脱離性基が脱離することによって生じた基」を「反応性基Ｆ２Ｂ」ともいう。
本開示の液晶配向剤は、特定の官能基（以下、「基Ｆ１」ともいう）を主鎖末端部分に有する重合体（以下、「（Ａ）重合体」ともいう）と、基Ｆ１若しくは基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基と反応し得るか、又は脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより、基Ｆ１若しくは基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基と反応し得る基である官能基（以下、「基Ｆ２」ともいう）を有する化合物（以下、「（Ｂ）化合物」ともいう）と、を含有する。以下に、本開示の液晶配向剤に含まれる成分、及び必要に応じて任意に配合される成分（以下、「その他の成分」ともいう）について説明する。なお、以下では、「基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基」を「反応性基Ｆ１Ａ」ともいい、「基Ｆ２中の脱離性基が脱離することによって生じた基」を「反応性基Ｆ２Ｂ」ともいう。
【0012】
ここで、本明細書において、「炭化水素基」とは、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基を含む意味である。「鎖状炭化水素基」とは、主鎖に環状構造を含まず、鎖状構造のみで構成された直鎖状炭化水素基及び分岐状炭化水素基を意味する。ただし、鎖状炭化水素基は飽和でも不飽和でもよい。「脂環式炭化水素基」とは、環構造としては脂環式炭化水素の構造のみを含み、芳香環構造を含まない炭化水素基を意味する。ただし、脂環式炭化水素基は脂環式炭化水素の構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造を有するものも含む。「芳香族炭化水素基」とは、環構造として芳香環構造を含む炭化水素基を意味する。ただし、芳香族炭化水素基は芳香環構造のみで構成されている必要はなく、その一部に鎖状構造や脂環式炭化水素の構造を含んでいてもよい。「芳香環」は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を含む意味である。「有機基」とは、炭素を含む化合物（すなわち有機化合物）から任意の水素原子を取り除いてなる原子団をいう。
【0013】
重合体の「主鎖」とは、重合体のうち最も長い原子の連鎖からなる「幹」の部分をいう。この「幹」の部分が環構造を含むことは許容される。例えば、「特定構造を主鎖に有する」とは、その特定構造が主鎖の一部分を構成することをいう。「側鎖」とは、重合体の「幹」から分岐した部分をいう。「主鎖末端部分」とは、重合体のうち最も長い原子の連鎖からなる「幹」の部分の端部をいう。「テトラカルボン酸誘導体」は、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジエステル及びテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物を含む意味である。「脱離性基」とは、反応性官能基の反応性を低下させる基であり、刺激（例えば、熱や光等）の付与により脱離して反応性官能基を生じさせる基をいう。
【0014】
＜（Ａ）重合体＞
（Ａ）重合体は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、ケテン構造を有する基、メルドラム酸構造を有する基、環状エーテル基、環状チオエーテル基、オキサゾリン基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種である基Ｆ１を主鎖末端部分に有する。
（Ａ）重合体は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、ケテン構造を有する基、メルドラム酸構造を有する基、環状エーテル基、環状チオエーテル基、オキサゾリン基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種である基Ｆ１を主鎖末端部分に有する。
【0015】
重合性炭素－炭素不飽和結合含有基は、架橋反応性が高く、液晶配向性及び電圧保持特性に優れた液晶配向膜を得ることができる点で、下記式（ａ１－１）～式（ａ１－１０）のいずれかで表される基であることが好ましい。
（式（ａ１－１）～式（ａ１－１０）中、「＊」は結合手を表す。）
【化1】
【0016】
（Ａ）重合体が有する重合性炭素－炭素不飽和結合含有基は、これらの中でも、上記式（ａ１－１）～式（ａ１－７）のいずれかで表される基が好ましく、架橋反応性が高い点及び官能基の導入しやすさの点で、上記式（ａ１－１）～式（ａ１－４）のいずれかで表される基がより好ましい。
【0017】
基Ｆ１のうち、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、ケテン構造を有する基、メルドラム酸構造を有する基、環状エーテル基、環状チオエーテル基、オキサゾリン基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基は、基Ｆ２若しくは反応性基Ｆ２Ｂに対して求電子性を示すか、又は、基Ｆ１中の脱離性基が脱離することにより、基Ｆ２若しくは反応性基Ｆ２Ｂに対して求電子性を示す基である。なお、以下では便宜上、基Ｆ１のうち、「イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、ケテン構造を有する基、メルドラム酸構造を有する基、環状エーテル基、環状チオエーテル基、オキサゾリン基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種の基」を「求電子性官能基Ｆ１Ｃ」ともいう。
【0018】
環状エーテル基としては、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。環状カーボネート基としては、エチレンカーボネート基、プロピレンカーボネート基等が挙げられる。ヒドロキシアルキルアミド基は、β－ヒドロキシアルキルアミド基が好ましい。
【0019】
保護されたイソシアネート基は、熱により脱離する基（以下、「熱脱離性基」ともいう）によって保護されていることが好ましい。イソシアネート基との反応により保護されたイソシアネート基を得るための試薬（以下、「ブロック剤」ともいう）としては公知のものを使用できる。ブロック剤の具体例としては、例えば、アルコール類、フェノール類、活性メチレン類、メルカプタン類、酸アミド類、酸イミド類、イミダゾール系類、ピラゾール類、尿素類、オキシム類、アミン類、イミン類、ピリジン類等が挙げられる。膜形成時の加熱によって脱離した基に由来する成分が膜中に残存することを抑制する観点から、熱脱離性基は、炭素数が１～１０であることが好ましく、１～６であることがより好ましい。
【0020】
保護されたメチロール基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基は、熱脱離性基によって保護されていることが好ましい。熱脱離性基は、熱によって脱離して水素原子に置き換わる基であればよいが、例えば、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ベンジル基、ｐ－メトキシベンジル基、トリチル基等のエーテル系脱離性基；メトキシメチル基、エトキシエチル基、２－テトラヒドロピラニル基等のアセタール系脱離性基；アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリクロロアセチル基等のアシル系脱離性基；アリル基、メタリル基等のアリル系脱離性基；ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基等のカルバメート系脱離性基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基等のシリルエーテル系脱離性基等が挙げられる。熱による脱離しやすさと保存安定性との両立を図る観点から、エーテル系脱離性基、アセタール系脱離性基、カルバメート系脱離性基又はアセチル基が好ましく、炭素数４～７のアルキル基、２－テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、１－エトキシエチル、アセチル基又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基がより好ましい。
【0021】
（Ａ）重合体が求電子性官能基Ｆ１Ｃを主鎖末端部分に有する場合に、（Ａ）重合体が主鎖末端部分に有する求電子性官能基Ｆ１Ｃを含む部分構造の具体例としては、例えば、下記式（ａ２－１）～式（ａ２－１５）のそれぞれで表される部分構造が挙げられる。
（式（ａ２－１）～式（ａ２－１５）中、「Ｍｅ」はメチル基を表す。「Ａｃ」はアセチル基を表す。「＊」は結合手を表す。）
【化2】
【0022】
（Ａ）重合体が主鎖末端部分に有する基Ｆ１は、基Ｆ１又は反応性基Ｆ１Ａの架橋反応性が高く、かつ基Ｆ１を重合体の主鎖末端部分に導入しやすい点や、保存安定性が高い点において、中でも、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、メルドラム酸構造を有する基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、メチロール基、保護されたメチロール基、メルドラム酸構造を有する基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種であることがより好ましく、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、メチロール基、保護されたメチロール基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種であることが更に好ましい。中でも特に、（Ａ）重合体が主鎖末端部分に重合性炭素－炭素不飽和結合含有基を有する場合、液晶配向性、電圧保持特性、膜強度及び信頼性の改善効果が高く好ましい。
【0023】
（Ａ）重合体の主骨格は特に限定されない。（Ａ）重合体の主骨格としては、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリアミン、ポリエナミン、ポリウレア、ポリオルガノシロキサン、ポリエステル、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリベンゾオキサゾール、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリマレイミド、スチレン－マレイミド系共重合体、又はポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、（メタ）アクリレートは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。ポリエナミンとは、ポリアミンのアミノ基の隣接位に炭素－炭素二重結合を有する重合体であり、例えば、ポリエナミノケトン、ポリエナミノエステル、ポリエナミノニトリル、ポリエナミノスルホニル等が挙げられる。
【0024】
（Ａ）重合体は、これらのうち、液晶配向性及び電圧保持特性に優れた液晶素子を得ることができる点、重合体の主鎖末端部分に基Ｆ１を導入しやすい点において、重合に関与する基としてアミノ基、酸無水物基又は－ＣＯＲ（Ｒは水酸基又はハロゲン原子）を有する単量体を構造単位として含む重合体であることが好ましい。具体的には、（Ａ）重合体は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリウレア及びポリアミドイミドよりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリウレア及びポリアミドイミドよりなる群から選択される少なくとも１種であることがより好ましい。これらの中でも特に、（Ａ）重合体は、ポリアミック酸及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【0025】
（Ａ）重合体が、ポリアミック酸及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種である場合、（Ａ）重合体は、例えば、テトラカルボン酸誘導体とジアミン化合物とを縮重合する工程を含む方法により得ることができる。また、基Ｆ１を重合体の主鎖末端部分に導入して（Ａ）重合体を得る方法としては、例えば、重合反応中に又は重合反応後に、重合反応を停止させるための末端封止剤として、基Ｆ１を有する化合物（以下、「化合物（Ｍ）」ともいう）を用いる方法が挙げられる。具体的には、以下の方法〔１〕及び〔２〕が挙げられる。
〔１〕 化合物（Ｍ）の存在下で、テトラカルボン酸誘導体とジアミン化合物とを縮重合させる方法。
〔２〕 テトラカルボン酸誘導体とジアミン化合物とを縮重合させた後に、当該重合により得られた重合体と、化合物（Ｍ）とを反応させる方法。
〔１〕 化合物（Ｍ）の存在下で、テトラカルボン酸誘導体とジアミン化合物とを縮重合させる方法。
〔２〕 テトラカルボン酸誘導体とジアミン化合物とを縮重合させた後に、当該重合により得られた重合体と、化合物（Ｍ）とを反応させる方法。
【0026】
上記〔１〕及び〔２〕の方法によれば、重合体の主鎖末端部分（より詳細には、重合体の端部に存在するテトラカルボン酸誘導体に由来する構造単位中の酸無水物基又はジアミン化合物に由来する構造単位中の１級アミノ基）と、化合物（Ｍ）との反応により、（Ａ）重合体として、化合物（Ｍ）に由来する部分構造を主鎖末端部分に有する重合体を得ることができる。中でも、上記〔１〕の方法によれば、製造工程の簡略化を図りながら（Ａ）重合体を得ることができる点で好ましい。
【0027】
（ポリアミック酸）
（Ａ）重合体がポリアミック酸である場合、当該ポリアミック酸（以下、「ポリアミック酸（Ａ）」ともいう）は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを反応させることにより得ることができる。
（Ａ）重合体がポリアミック酸である場合、当該ポリアミック酸（以下、「ポリアミック酸（Ａ）」ともいう）は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを反応させることにより得ることができる。
【0028】
・テトラカルボン酸二無水物
ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、脂肪族テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。脂肪族テトラカルボン酸二無水物は、鎖状テトラカルボン酸二無水物及び脂環式テトラカルボン酸二無水物を含む。
ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、脂肪族テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。脂肪族テトラカルボン酸二無水物は、鎖状テトラカルボン酸二無水物及び脂環式テトラカルボン酸二無水物を含む。
【0029】
これらの具体例としては、鎖状テトラカルボン酸二無水物として、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸二無水物等を；脂環式テトラカルボン酸二無水物として、１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３－ジメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５－トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフラン－３－イル）－３ａ，４，５，９ｂ－テトラヒドロナフト［１，２－ｃ］フラン－１，３－ジオン、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフラン－３－イル）－８－メチル－３ａ，４，５，９ｂ－テトラヒドロナフト［１，２－ｃ］フラン－１，３－ジオン、２，４，６，８－テトラカルボキシビシクロ［３．３．０］オクタン－２：４，６：８－二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物等を；芳香族テトラカルボン酸二無水物として、ピロメリット酸二無水物、４，４’－（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメート、４，４’－カルボニルジフタル酸無水物等を；それぞれ挙げることができるほか、特開２０１０－９７１８８号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。テトラカルボン酸二無水物としては、１種を単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【0030】
ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物は、重合体の溶解性を高くできる点、及び良好な電圧保持特性を示す液晶配向膜を得ることができる点で、脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び脂環式テトラカルボン酸二無水物よりなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、脂環式テトラカルボン酸二無水物を含むことがより好ましい。脂環式テトラカルボン酸二無水物の使用量は、ポリアミック酸の合成に使用するテトラカルボン酸二無水物の全量に対して、２０モル％以上であることが好ましく、４０モル％以上であることがより好ましく、５０モル％以上であることが更に好ましい。
【0031】
・ジアミン化合物
ポリアミック酸の合成に使用するジアミン化合物としては公知の化合物を用いることができる。当該ジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサン等が挙げられる。脂肪族ジアミンは、鎖状ジアミン及び脂環式ジアミンを含む。
ポリアミック酸の合成に使用するジアミン化合物としては公知の化合物を用いることができる。当該ジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサン等が挙げられる。脂肪族ジアミンは、鎖状ジアミン及び脂環式ジアミンを含む。
【0032】
ポリアミック酸の合成に使用するジアミン化合物としては、鎖状ジアミンとして、メタキシリレンジアミン、１，３－プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等を；
脂環式ジアミンとして、１，４－ジアミノシクロヘキサン、４，４’－メチレンビス（シクロヘキシルアミン）等を；
芳香族ジアミンとして、ｐ－フェニレンジアミン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルエタン、４－アミノフェニル－４－アミノベンゾエート、４，４’－ジアミノアゾベンゼン、３，５－ジアミノ安息香酸、１，５－ビス（４－アミノフェノキシ）ペンタン、１，２－ビス（４－アミノフェノキシ）エタン、１，３－ビス（４－アミノフェノキシ）プロパン、１，６－ビス（４－アミノフェノキシ）ヘキサン、ビス［２－（４－アミノフェニル）エチル］ヘキサン二酸、２，６－ジアミノピリジン、１，４－ビス－（４－アミノフェニル）－ピペラジン、２，２’－ジメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジアミノビフェニル、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス（４－アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’－（フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’－［４，４’－プロパン－１，３－ジイルビス（ピペリジン－１，４－ジイル）］ジアニリン、４，４’－ジアミノベンズアニリド、４，４’－ジアミノスチルベンゼン、１，４－ビス（４－アミノフェニル）－ピペラジン、６，６’－（ペンタメチレンジオキシ）ビス（３－アミノピリジン）、Ｎ，Ｎ’－ジ（５－アミノ－２－ピリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジ（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）エチレンジアミン、ビス［２－（４－アミノフェニル）エチル］ヘキサン二酸、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルアミン、４，４’－ジアミノジフェネチルウレア、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス（４－アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’－（フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、２，６－ジアミノピリジン、２，４－ジアミノピリミジン、３，６－ジアミノカルバゾール、Ｎ－メチル－３，６－ジアミノカルバゾール、３，６－ジアミノアクリジン、ジフェニルアミン構造含有モノマー、下記式（Ｄ－１）
（式（Ｄ－１）中、Ｒ３０は、アルカンジイル基における一部のメチレン基が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ３１－、－ＣＯ－ＮＲ３１－、－ＮＲ３１－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ３１－ＣＯ－ＮＲ３２－又は－ＣＯ－ＮＲ３１－ＮＲ３２－で置き換えられた２価の基である。Ｒ３１及びＲ３２は、互いに独立して、水素原子、炭素数１～３のアルキル基又は熱脱離性基である。Ｙ１及びＹ２は、互いに独立して、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～３のアルキル基又は熱脱離性基である。ｒ１及びｒ２は、互いに独立して、０～４の整数である。式中にＹ１が複数存在する場合、複数のＹ１は同一又は異なる。式中にＹ２が複数存在する場合、複数のＹ２は同一又は異なる。）
で表される化合物等の主鎖型ジアミン；
ドデカノキシ－２，４－ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ－２，４－ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ－２，４－ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ－２，４－ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ－２，５－ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ－２，５－ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ－３，５－ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ－３，５－ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ－２，４－ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ－２，４－ジアミノベンゼン、３，５－ジアミノ安息香酸コレスタニル、３，５－ジアミノ安息香酸コレステニル、３，５－ジアミノ安息香酸ラノスタニル、３，６－ビス（４－アミノベンゾイルオキシ）コレスタン、３，６－ビス（４－アミノフェノキシ）コレスタン、４－（４’－トリフルオロメトキシベンゾイロキシ）シクロヘキシル－３，５－ジアミノベンゾエート、１，１－ビス（４－（（アミノフェニル）メチル）フェニル）－４－ブチルシクロヘキサン、３，５－ジアミノ安息香酸＝５ξ－コレスタン－３－イル、下記式（Ｅ－１）
（式（Ｅ－１）中、ＸI及びＸIIは、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、＊－ＣＯＯ－又は＊－ＯＣＯ－（ただし、「＊」はジアミノフェニル基側との結合手を示す。）である。ＲＩは、炭素数１～３のアルカンジイル基である。ＲＩＩは、単結合又は炭素数１～３のアルカンジイル基である。ＲＩＩＩは、炭素数１～２０のアルキル基、アルコキシ基、フルオロアルキル基、又はフルオロアルコキシ基である。ａは０又は１である。ｂは０～３の整数である。ｃは０～２の整数である。ｄは０又は１である。ただし、１≦ａ＋ｂ＋ｃ≦３である。）
で表される化合物等の側鎖型ジアミン等を；
ジアミノオルガノシロキサンとして、例えば、１，３－ビス（３－アミノプロピル）－テ
トラメチルジシロキサン等を；それぞれ挙げることができるほか、下記式（ｄａ－１）～式（ｄａ－１１）のそれぞれで表される含窒素構造を有するジアミン、特開２０１０－９７１８８号公報に記載のジアミンを用いることができる。ポリアミック酸の合成に際し、ジアミン化合物としては、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
脂環式ジアミンとして、１，４－ジアミノシクロヘキサン、４，４’－メチレンビス（シクロヘキシルアミン）等を；
芳香族ジアミンとして、ｐ－フェニレンジアミン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルエタン、４－アミノフェニル－４－アミノベンゾエート、４，４’－ジアミノアゾベンゼン、３，５－ジアミノ安息香酸、１，５－ビス（４－アミノフェノキシ）ペンタン、１，２－ビス（４－アミノフェノキシ）エタン、１，３－ビス（４－アミノフェノキシ）プロパン、１，６－ビス（４－アミノフェノキシ）ヘキサン、ビス［２－（４－アミノフェニル）エチル］ヘキサン二酸、２，６－ジアミノピリジン、１，４－ビス－（４－アミノフェニル）－ピペラジン、２，２’－ジメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、２，２’－ビス（トリフルオロメチル）－４，４’－ジアミノビフェニル、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス（４－アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’－（フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’－［４，４’－プロパン－１，３－ジイルビス（ピペリジン－１，４－ジイル）］ジアニリン、４，４’－ジアミノベンズアニリド、４，４’－ジアミノスチルベンゼン、１，４－ビス（４－アミノフェニル）－ピペラジン、６，６’－（ペンタメチレンジオキシ）ビス（３－アミノピリジン）、Ｎ，Ｎ’－ジ（５－アミノ－２－ピリジル）－Ｎ，Ｎ’－ジ（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）エチレンジアミン、ビス［２－（４－アミノフェニル）エチル］ヘキサン二酸、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルアミン、４，４’－ジアミノジフェネチルウレア、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス（４－アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’－（フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、２，６－ジアミノピリジン、２，４－ジアミノピリミジン、３，６－ジアミノカルバゾール、Ｎ－メチル－３，６－ジアミノカルバゾール、３，６－ジアミノアクリジン、ジフェニルアミン構造含有モノマー、下記式（Ｄ－１）
【化3】
で表される化合物等の主鎖型ジアミン；
ドデカノキシ－２，４－ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ－２，４－ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ－２，４－ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ－２，４－ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ－２，５－ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ－２，５－ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ－３，５－ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ－３，５－ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ－２，４－ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ－２，４－ジアミノベンゼン、３，５－ジアミノ安息香酸コレスタニル、３，５－ジアミノ安息香酸コレステニル、３，５－ジアミノ安息香酸ラノスタニル、３，６－ビス（４－アミノベンゾイルオキシ）コレスタン、３，６－ビス（４－アミノフェノキシ）コレスタン、４－（４’－トリフルオロメトキシベンゾイロキシ）シクロヘキシル－３，５－ジアミノベンゾエート、１，１－ビス（４－（（アミノフェニル）メチル）フェニル）－４－ブチルシクロヘキサン、３，５－ジアミノ安息香酸＝５ξ－コレスタン－３－イル、下記式（Ｅ－１）
【化4】
で表される化合物等の側鎖型ジアミン等を；
ジアミノオルガノシロキサンとして、例えば、１，３－ビス（３－アミノプロピル）－テ
トラメチルジシロキサン等を；それぞれ挙げることができるほか、下記式（ｄａ－１）～式（ｄａ－１１）のそれぞれで表される含窒素構造を有するジアミン、特開２０１０－９７１８８号公報に記載のジアミンを用いることができる。ポリアミック酸の合成に際し、ジアミン化合物としては、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【0033】
【化5】
【0034】
上記式（Ｄ－１）で表される化合物としては、例えば下記式（Ｄ－１－１）～式（Ｄ－１－８）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。上記式（Ｅ－１）で表される化合物としては、例えば下記式（Ｅ－１－１）～式（Ｅ－１－４）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。ポリアミック酸（Ａ）の合成に際し、ジアミン化合物としては、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【化6】
【0035】
・化合物（Ｍ）
化合物（Ｍ）としては、酸無水物基又は１級アミノ基と反応し得る官能基と基Ｆ１とを有する化合物を好ましく使用することができる。化合物（Ｍ）の具体例としては、酸一無水物、モノアミン化合物、モノイソ（チオ）シアネート化合物等が挙げられる。なお、「イソ（チオ）シアネート」は、イソシアネート及びイソチオシアネートを包含する用語である。
化合物（Ｍ）としては、酸無水物基又は１級アミノ基と反応し得る官能基と基Ｆ１とを有する化合物を好ましく使用することができる。化合物（Ｍ）の具体例としては、酸一無水物、モノアミン化合物、モノイソ（チオ）シアネート化合物等が挙げられる。なお、「イソ（チオ）シアネート」は、イソシアネート及びイソチオシアネートを包含する用語である。
【0036】
化合物（Ｍ）の具体例としては、下記式（ｍ１－１）～式（ｍ１－２３）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。化合物（Ｍ）としては１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【化7】
【0037】
・ポリアミック酸の合成
ポリアミック酸（Ａ）は、上記のようなテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを、化合物（Ｍ）とともに反応させることにより得ることが好ましい。ポリアミック酸（Ａ）の合成反応に使用されるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との使用割合は、ジアミン化合物のアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２～２当量となる割合が好ましい。
ポリアミック酸（Ａ）は、上記のようなテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを、化合物（Ｍ）とともに反応させることにより得ることが好ましい。ポリアミック酸（Ａ）の合成反応に使用されるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との使用割合は、ジアミン化合物のアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２～２当量となる割合が好ましい。
【0038】
上記合成反応において、化合物（Ｍ）の使用割合は、化合物（Ｍ）に由来する構造単位を重合体の主鎖末端部分に導入しつつ、好適な分子量範囲内の重合体を得る観点から、重合体の合成に使用する単量体（ポリアミック酸の場合、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との合計量）と化合物（Ｍ）との合計量に対して、０．５モル％以上とすることが好ましく、１モル％以上とすることがより好ましく、３モル％以上とすることが更に好ましい。また、化合物（Ｍ）の使用割合は、重合体の合成に使用する単量体と化合物（Ｍ）との合計量に対して、２０モル％以下とすることが好ましく、１５モル％以下とすることがより好ましく、１０モル％以下とすることが更に好ましい。
【0039】
なお、上記合成反応に際しては、末端封止剤として化合物（Ｍ）とともに、基Ｆ１を有しない化合物を使用してもよい。当該化合物としては、例えば、無水フタル酸等の酸一無水物；アニリン、シクロヘキシルアミン、ｎ－ブチルアミン等のモノアミン化合物；フェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等のモノイソシアネート化合物等を挙げることができる。ただし、これらの化合物の使用割合は、上記合成反応に際して使用する末端封止剤の合計量に対して、１０モル％以下とすることが好ましく、５モル％以下とすることがより好ましく、１モル％以下とすることが更に好ましい。
【0040】
ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。このときの反応温度は－２０℃～１５０℃が好ましく、反応時間は０．１～２４時間が好ましい。反応に使用する有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素等を挙げることができる。特に好ましい有機溶媒は、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド、ｍ－クレゾール、キシレノール及びハロゲン化フェノールよりなる群から選択される１種以上を溶媒として使用するか、あるいはこれらの１種以上と、他の有機溶媒（例えば、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールジエチルエーテル等）との混合物を使用することが好ましい。有機溶媒の使用量（ａ）は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計量（ｂ）が、反応溶液の全量（ａ＋ｂ）に対して、０．１～５０質量％になる量とすることが好ましい。
【0041】
以上のようにして、ポリアミック酸（Ａ）を溶解してなる反応溶液が得られる。この反応溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸（Ａ）を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。
【0042】
（ポリイミド）
（Ａ）重合体がポリイミドである場合、当該ポリイミド（以下、「ポリイミド（Ａ）」ともいう）は、例えば、上記の如くして合成されたポリアミック酸（Ａ）を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。ポリイミド（Ａ）は、その前駆体であるポリアミック酸（Ａ）が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存する部分イミド化物であってもよい。ポリイミド（Ａ）は、そのイミド化率が２０～９９％であることが好ましく、３０～９０％であることがより好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。
（Ａ）重合体がポリイミドである場合、当該ポリイミド（以下、「ポリイミド（Ａ）」ともいう）は、例えば、上記の如くして合成されたポリアミック酸（Ａ）を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。ポリイミド（Ａ）は、その前駆体であるポリアミック酸（Ａ）が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存する部分イミド化物であってもよい。ポリイミド（Ａ）は、そのイミド化率が２０～９９％であることが好ましく、３０～９０％であることがより好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。ここで、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。
【0043】
ポリアミック酸（Ａ）の脱水閉環は、好ましくはポリアミック酸（Ａ）を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行うことができる。この方法において、脱水剤としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸（Ａ）のアミック酸構造の１モルに対して０．０１～２０モルとすることが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えば、ピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等の３級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに対して０．０１～１０モルとすることが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸（Ａ）の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは０～１８０℃である。反応時間は、好ましくは１．０～１２０時間である。上記反応により得られるポリイミド（Ａ）を含有する反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミド（Ａ）を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリイミド（Ａ）は、ポリアミック酸エステルのイミド化により得ることもできる。
【0044】
なお、（Ａ）重合体としてのポリアミック酸エステル、ポリウレア及びポリアミドイミドについてもポリアミック酸（Ａ）及びポリイミド（Ａ）と同様に、重合反応を停止させるための末端封止剤として化合物（Ｍ）を用いることにより得ることができる。具体的には、ポリアミック酸エステルは、ポリアミック酸（Ａ）とエステル化剤とを反応させる方法や、化合物（Ｍ）の存在下でテトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミン化合物とを反応させる方法、テトラカルボン酸ジエステルジハロゲン化物とジアミン化合物とを反応させた後に化合物（Ｍ）を反応させる方法等によって得ることができる。また、ポリウレアは、イソシアネート化合物とポリアミン化合物とを反応させた後に化合物（Ｍ）を反応させる方法等によって得ることができる。ポリアミドイミドは、トリカルボン酸誘導体とジアミン化合物とを反応させた後に化合物（Ｍ）を反応させる方法等によって得ることができる。これらの各反応において、化合物（Ｍ）としては、ポリアミック酸（Ａ）の説明において例示した化合物と同様の化合物を用いることができる。
【0045】
液晶配向剤に含有させる（Ａ）重合体の溶液粘度は、濃度１０質量％の溶液としたときに１０～８００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものであることが好ましく、１５～５００ｍＰａ・ｓの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）は、重合体の良溶媒（例えば、γ－ブチロラクトン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等）を用いて調製した濃度１０質量％の重合体溶液につき、Ｅ型回転粘度計を用いて２５℃において測定した値である。
【0046】
（Ａ）重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００～５００，０００であり、より好ましくは５，０００～１００，０００である。ＧＰＣにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）に対するＭｗの比で表される分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１５以下であり、より好ましくは１０以下である。
【0047】
液晶配向剤中の（Ａ）重合体の含有割合は、液晶配向性及び電圧保持特性に優れ、膜強度が高く、かつ信頼性に優れた液晶素子を得る観点から、液晶配向剤中に含有される固形分の合計質量（液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計質量）に対して、５質量％以上とすることが好ましく、１０質量％以上とすることがより好ましく、２０質量％以上とすることが更に好ましい。
【0048】
＜（Ｂ）化合物＞
（Ｂ）化合物は、基Ｆ２を１分子内に合計２個以上有する。基Ｆ２は、（Ａ）重合体が主鎖末端部分に有する基Ｆ１と反応し得るか、若しくは基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基（反応性基Ｆ１Ａ）と反応し得る基、又は、脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより、基Ｆ１若しくは反応性基Ｆ１Ａと反応し得る基（反応性基Ｆ２Ｂ）である。基Ｆ２又は反応性基Ｆ２Ｂは、加熱（例えば、膜形成時の加熱）により、（Ａ）重合体が有する基Ｆ１又は反応性基Ｆ１Ａと反応する基であることが好ましい。なお、（Ｂ）化合物は（Ａ）重合体とは異なる成分である。（Ｂ）化合物は、繰り返し単位を有しない成分（すなわち、重合体とは異なる成分）であることが好ましい。（Ｂ）化合物の分子量は、膜強度を高める観点から、好ましくは３，０００以下であり、より好ましくは２，０００以下であり、更に好ましくは１，０００以下であり、より更に好ましくは８００以下である。
（Ｂ）化合物は、基Ｆ２を１分子内に合計２個以上有する。基Ｆ２は、（Ａ）重合体が主鎖末端部分に有する基Ｆ１と反応し得るか、若しくは基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基（反応性基Ｆ１Ａ）と反応し得る基、又は、脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより、基Ｆ１若しくは反応性基Ｆ１Ａと反応し得る基（反応性基Ｆ２Ｂ）である。基Ｆ２又は反応性基Ｆ２Ｂは、加熱（例えば、膜形成時の加熱）により、（Ａ）重合体が有する基Ｆ１又は反応性基Ｆ１Ａと反応する基であることが好ましい。なお、（Ｂ）化合物は（Ａ）重合体とは異なる成分である。（Ｂ）化合物は、繰り返し単位を有しない成分（すなわち、重合体とは異なる成分）であることが好ましい。（Ｂ）化合物の分子量は、膜強度を高める観点から、好ましくは３，０００以下であり、より好ましくは２，０００以下であり、更に好ましくは１，０００以下であり、より更に好ましくは８００以下である。
【0049】
基Ｆ２は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、求核性官能基、保護された求核性官能基、酸性官能基及び保護された酸性官能基よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。（Ｂ）化合物としては、例えば、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基を１分子内に２個以上有する化合物（以下、「化合物（Ｂ１）」ともいう）、求核性官能基又は保護された求核性官能基を１分子内に合計２個以上有する化合物（以下、「化合物（Ｂ２）」ともいう）、酸性官能基又は保護された酸性官能基を１分子内に合計２個以上有する化合物（以下、「化合物（Ｂ３）」ともいう）が挙げられる。
【0050】
・化合物（Ｂ１）
化合物（Ｂ１）が有する重合性炭素－炭素不飽和結合含有基は、架橋反応性が良好である点で、（メタ）アクリロイル基、マレイミド基、アルケニル基、ビニルフェニル基、ビニルエーテル基、及び３－メチレンテトラヒドロフラン－２（３Ｈ）－オン－５－イル基よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。化合物（Ｂ１）が有する重合性炭素－炭素不飽和結合含有基の数は、液晶配向性、電圧保持特性及び膜強度をバランス良く改善する観点から、２～１２個が好ましく、２～１０個がより好ましく、２～８個が更に好ましい。
化合物（Ｂ１）が有する重合性炭素－炭素不飽和結合含有基は、架橋反応性が良好である点で、（メタ）アクリロイル基、マレイミド基、アルケニル基、ビニルフェニル基、ビニルエーテル基、及び３－メチレンテトラヒドロフラン－２（３Ｈ）－オン－５－イル基よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。化合物（Ｂ１）が有する重合性炭素－炭素不飽和結合含有基の数は、液晶配向性、電圧保持特性及び膜強度をバランス良く改善する観点から、２～１２個が好ましく、２～１０個がより好ましく、２～８個が更に好ましい。
【0051】
化合物（Ｂ１）の具体例としては、下記式（３）で表される化合物等が挙げられる。
（式（３）中、Ｘ４は、（メタ）アクリロイル基、マレイミド基、アルケニル基、ビニルフェニル基、ビニルエーテル基又は３－メチレンテトラヒドロフラン－２（３Ｈ）－オン－５－イル基である。Ｒ１０はａ価の有機基である。ａは２以上の整数である。式中の複数のＸ４は同一又は異なる。）
【化8】
【0052】
上記式（３）において、Ｒ１０で表されるａ価の有機基は、膜強度を十分に高める観点から、炭素数１～４０であることが好ましい。ａ価の有機基の具体例としては、炭素数１～４０のａ価の炭化水素基、当該炭化水素基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ１１－、－ＣＯ－ＮＲ１１－、－ＮＲ１１－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ１１－ＣＯ－ＮＲ１２－、－ＣＯ－ＮＲ１１－ＮＲ１２－、３級窒素原子又は複素環を含むａ価の基等が挙げられる。ａ価の炭化水素基としては、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。Ｒ１１又はＲ１２で表される１価の有機基としては、炭素数１～１０の１価の炭化水素基、熱脱離性基等が挙げられる。
【0053】
化合物（Ｂ１）の具体例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、下記式（ｂ１－１）～式（ｂ１－７）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。
【化9】
【0054】
（Ｂ）化合物として化合物（Ｂ１）を用いる場合、架橋反応性が高く、液晶配向性及び電圧保持特性に優れた液晶素子を得ることができる点で、（Ａ）重合体が主鎖末端部分に有する基Ｆ１は重合性炭素－炭素不飽和結合含有基であることが好ましい。
【0055】
・化合物（Ｂ２）
（Ｂ）化合物が、求核性官能基又は保護された求核性官能基を１分子内に合計２個以上有する化合物（化合物（Ｂ２））である場合、求核性官能基は、（Ａ）重合体が有する基Ｆ１、又は基Ｆ１中の脱離性基の脱離により生じた反応性基Ｆ１Ａと反応して結合を形成し得る基であればよい。求核性官能基の具体例としては、１級アミノ基、２級アミノ基、チオール基、ヒドロキシ基等が挙げられる。また、保護された求核性官能基は、保護された求核性官能基中の脱離性基が脱離して水素原子に置き換わることによって、基Ｆ１又は反応性基Ｆ１Ａと反応して結合を形成し得る基であることが好ましい。保護された求核性官能基の具体例としては、保護された１級アミノ基、保護された２級アミノ基、保護されたチオール基、保護されたヒドロキシ基等が挙げられる。化合物（Ｂ２）が有する求核性官能基又は脱離性基が脱離することによって生じる求核性官能基は、中でも、１級アミノ基、２級アミノ基又はチオール基が好ましい。
（Ｂ）化合物が、求核性官能基又は保護された求核性官能基を１分子内に合計２個以上有する化合物（化合物（Ｂ２））である場合、求核性官能基は、（Ａ）重合体が有する基Ｆ１、又は基Ｆ１中の脱離性基の脱離により生じた反応性基Ｆ１Ａと反応して結合を形成し得る基であればよい。求核性官能基の具体例としては、１級アミノ基、２級アミノ基、チオール基、ヒドロキシ基等が挙げられる。また、保護された求核性官能基は、保護された求核性官能基中の脱離性基が脱離して水素原子に置き換わることによって、基Ｆ１又は反応性基Ｆ１Ａと反応して結合を形成し得る基であることが好ましい。保護された求核性官能基の具体例としては、保護された１級アミノ基、保護された２級アミノ基、保護されたチオール基、保護されたヒドロキシ基等が挙げられる。化合物（Ｂ２）が有する求核性官能基又は脱離性基が脱離することによって生じる求核性官能基は、中でも、１級アミノ基、２級アミノ基又はチオール基が好ましい。
【0056】
化合物（Ｂ２）は、液晶配向剤の保存安定性を向上させる観点から、分子内に存在する求核性官能基の少なくとも一部が保護されていることが好ましく、全部が保護されていることがより好ましい。なお、保護された１級アミノ基は、１級アミノ基における２個の水素原子のうち一方のみが脱離性基に置き換えられた基であってもよく、２個の水素原子が共に脱離性基に置き換えられた基であってもよい。すなわち、１級アミノ基における２個の水素原子の少なくとも一方が脱離性基に置き換えられた基は「保護された１級アミノ基」に含まれる。
【0057】
化合物（Ｂ２）の好ましい具体例としては、下記式（１）で表される化合物が挙げられる。
（式（１）中、Ｘ１は、窒素原子、硫黄原子、酸素原子又は下記式（ｘ－１）で表される基である。Ｙ１は脱離性基である。Ｒ１は、水素原子又は１価の有機基である。ただし、「－Ｘ１（Ｒ１）ｎ（Ｙ１）ｍ」で表される基は、求核性官能基又は保護された求核性官能基を有する。Ｒ２はｋ価の有機基である。ｋは２以上の整数である。Ｘ１が硫黄原子又は酸素原子である場合、ｍ及びｎのうち一方は１であり、他方は０である。Ｘ１が窒素原子又は下記式（ｘ－１）で表される基である場合、ｍは０～２の整数であり、ｎは０～２の整数であり、かつｍ＋ｎ＝２を満たす。式中の複数のＸ１は互いに同一又は異なる。式中にＹ１が複数存在する場合、複数のＹ１は互いに同一又は異なり、式中にＲ１が複数存在する場合、複数のＲ１は互いに同一又は異なる。）
（式（ｘ－１）中、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１～１０の１価の炭化水素基である。「＊」は結合手であることを表す。ただし、式（ｘ－１）中の窒素原子が上記式（１）中のＲ２に結合している。）
【化10】
【化11】
【0058】
上記式（１）において、Ｘ１が上記式（ｘ－１）で表される基である場合、式（ｘ－１）中のＲ３における１価の炭化水素基としては、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数３～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、炭素数６～１０のアラルキル基等が挙げられる。Ｒ３は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又はフェニル基が好ましく、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基がより好ましい。
Ｘ１は、架橋反応性が高い点で、上記のうち、窒素原子、硫黄原子又は上記式（ｘ－１）で表される基が好ましく、窒素原子又は上記式（ｘ－１）で表される基がより好ましい。
Ｘ１は、架橋反応性が高い点で、上記のうち、窒素原子、硫黄原子又は上記式（ｘ－１）で表される基が好ましく、窒素原子又は上記式（ｘ－１）で表される基がより好ましい。
【0059】
Ｙ１は、熱により脱離する基であることが好ましい。Ｘ１が窒素原子又は上記式（ｘ－１）で表される基である場合、Ｙ１としては、例えば、カルバメート系脱離性基、アミド系脱離性基、イミド系脱離性基、スルホンアミド系脱離性基等が挙げられる。これらのうち、熱による脱離性が高い点で、カルバメート系脱離性基が好ましく、その具体例としては、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、１，１－ジメチル－２－ハロエチルオキシカルボニル基、１，１－ジメチル－２－シアノエチルオキシカルボニル基、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、２－（トリメチルシリル）エトキシカルボニル基等が挙げられる。これらのうち、熱による脱離性に優れ、かつ脱保護した構造に由来する化合物の膜中における残存量を少なくできる点で、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）が特に好ましい。
【0060】
Ｘ１が酸素原子又は硫黄原子である場合、Ｙ１としては、例えば、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ベンジル基、ｐ－メトキシベンジル基、トリチル基等のエーテル系脱離性基；メトキシメチル基、エトキシエチル基、２－テトラヒドロピラニル基等のアセタール系脱離性基；アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリクロロアセチル基等のアシル系脱離性基；アリル基、メタリル基等のアリル系脱離性基；ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基等のカルバメート系脱離性基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基等のシリルエーテル系脱離性基が挙げられる。熱による脱離しやすさと保存安定性との両立を図る観点から、Ｘ１が酸素原子又は硫黄原子である場合、Ｙ１は、炭素数１～７のアルキル基、２－テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、１－エトキシエチル基、又はアセチル基であることが好ましい。
【0061】
Ｒ１で表される１価の有機基は、炭素数１～１２の１価の炭化水素基が好ましい。Ｒ１は、好ましくは水素原子又は炭素数１～１０の１価の炭化水素基であり、より好ましくは水素原子又は炭素数１～６のアルキル基である。
【0062】
Ｒ２で表されるｋ価の有機基は、Ｘ１の求核性を阻害しない構造が好ましい。Ｒ２で表されるｋ価の有機基は、膜強度を十分に高める観点から、炭素数１～４０であることが好ましい。なお、上記式（１）で表される化合物は、Ｒ２に求核性官能基又は保護された求核性官能基を有していてもよい。
【0063】
ｋ価の有機基の具体例としては、炭素数１～４０のｋ価の炭化水素基、当該炭化水素基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ４－、－ＣＯ－ＮＲ４－、－ＮＲ４－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ４－ＣＯ－ＮＲ５－、－ＣＯ－ＮＲ４－ＮＲ５－、３級窒素原子又は複素環を含むｋ価の基（ただし、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。）等が挙げられる。ここで、炭素数１～４０の炭化水素基としては、鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基が挙げられる。これらのうち、架橋反応性を高くでき、また液晶配向性及び電圧保持特性が良好な膜を形成できる点で、好ましくは鎖状炭化水素基である。Ｒ４又はＲ５で表される１価の有機基は、好ましくは炭素数１～１０の１価の炭化水素基又は熱脱離性基であり、より好ましくは炭素数１～６の１価の炭化水素基又は熱脱離性基であり、更に好ましくは炭素数１～６のアルキル基又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基である。
【0064】
架橋反応性をより高め、良好な液晶配向性を示す液晶配向膜を得ることができる点で、Ｒ２は、芳香環を有しないｋ価の基であることが好ましい。具体的には、Ｒ２は、ｋ価の鎖状炭化水素基であるか、又は、当該鎖状炭化水素基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ４－、－ＣＯ－ＮＲ４－、－ＮＲ４－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ４－ＣＯ－ＮＲ５－、－ＣＯ－ＮＲ４－ＮＲ５－、３級窒素原子若しくは非芳香族複素環を含むｋ価の基であることが好ましい。ここで、ｋ価の鎖状炭化水素基は、炭素数２～３０が好ましく、炭素数３～２０がより好ましい。非芳香族複素環は、窒素含有環であることが好ましく、例えば、ピペリジン環、ピロリジン環、ヘキサメチレンイミン環、モルホリン環、イソシアヌレート環等が挙げられる。Ｒ２の好ましい具体例としては、例えば、下記式（ｒ－１）～式（ｒ－４）のそれぞれで表される構造等が挙げられる。
（式（ｒ－１）～式（ｒ－４）中、ｔは０～１８の整数である。Ｘ２及びＸ３は、互いに独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ４－、－ＣＯ－ＮＲ４－、－ＮＲ４－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ４－ＣＯ－ＮＲ５－又は－ＣＯ－ＮＲ４－ＮＲ５－である。ｔ１、ｔ２及びｔ３は、互いに独立して、１～１０の整数である。ｕは０～３の整数である。Ｒ２０は、上記式（ｒ－１）又は上記式（ｒ－２）で表される２価の基である。「＊」は結合手を表す。）
【化12】
【0065】
Ｘ１が窒素原子又は上記式（ｘ－１）で表される基である場合、液晶配向性及び電圧保持特性を良好に維持しつつ、液晶配向剤の保存安定性を高くできる点で、ｍは１又は２が好ましい。液晶配向性、電圧保持特性及び膜強度をバランス良く改善する観点から、ｋは２～１０が好ましく、２～６がより好ましく、２～４が更に好ましい。
【0066】
化合物（Ｂ２）の具体例としては、下記式（ｂ２－１）～式（ｂ２－１９）のそれぞれで表される化合物等が挙げられる。
【化13】
【化14】
【化15】
【0067】
（Ｂ）化合物として化合物（Ｂ２）を用いる場合、化合物（Ｂ２）との架橋反応性を高くでき、液晶配向性及び電圧保持特性に優れた液晶素子を得ることができる点で、（Ａ）重合体が主鎖末端部分に有する基Ｆ１は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、ケテン構造を有する基、メルドラム酸構造を有する基、環状エーテル基、ヒドロキシアルキルアミド基、及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【0068】
・化合物（Ｂ３）
（Ｂ）化合物が、酸性官能基又は保護された酸性官能基を１分子内に合計２個以上有する化合物（化合物（Ｂ３））である場合、酸性官能基としては、カルボン酸基、リン酸基、亜リン酸基、スルホン酸基等が挙げられる。化合物（Ｂ３）は、液晶配向剤の保存安定性を向上させる観点から、分子内に存在する酸性官能基の少なくとも一部が保護されていることが好ましく、全部が保護されていることがより好ましい。
（Ｂ）化合物が、酸性官能基又は保護された酸性官能基を１分子内に合計２個以上有する化合物（化合物（Ｂ３））である場合、酸性官能基としては、カルボン酸基、リン酸基、亜リン酸基、スルホン酸基等が挙げられる。化合物（Ｂ３）は、液晶配向剤の保存安定性を向上させる観点から、分子内に存在する酸性官能基の少なくとも一部が保護されていることが好ましく、全部が保護されていることがより好ましい。
【0069】
化合物（Ｂ３）の好ましい具体例としては、下記式（２）で表される化合物が挙げられる。
（式（２）中、Ｘ４は、カルボン酸基、リン酸基、亜リン酸基又はスルホン酸基である。Ｘ５は、保護されたカルボン酸基、保護されたリン酸基、保護された亜リン酸基、又は保護されたスルホン酸基である。Ｒ６は、（ｉ＋ｊ）価の有機基である。ｉは０以上の整数である。ｊは１以上の整数である。ただし、（ｉ＋ｊ）≧２を満たす。ｉが２以上の場合、複数のＸ４は同一又は異なる。ｊが２以上の場合、複数のＸ５は同一又は異なる。）
【化16】
【0070】
上記式（２）において、Ｘ５は、カルボン酸基、リン酸基、亜リン酸基又はスルホン酸基に含まれるＯＨ基が有する水素原子を脱離性基で置き換えてなる基であり、「＊－Ｏ－Ｌ１」（ただし、Ｌ１は脱離性基であり、「＊」は結合手を表す。）で表される基を有する。Ｌ１は、熱により脱離して水素原子に置き換わる基であることが好ましい。「＊－Ｏ－Ｌ１」で表される基の具体例としては、下記式（Ｌ１－１）～式（Ｌ１－８）のそれぞれで表される基等が挙げられる。
（式（Ｌ１－１）～式（Ｌ１－８）中、「＊」は結合手を表す。）
【化17】
【0071】
Ｒ６で表される（ｉ＋ｊ）価の有機基は、Ｘ４及びＸ５の求核性を阻害しない構造であることが好ましい。（ｉ＋ｊ）価の有機基は、膜強度を十分に高める観点から、炭素数１～４０であることが好ましい。（ｉ＋ｊ）価の有機基の具体例としては、炭素数１～４０の（ｉ＋ｊ）価の炭化水素基、当該炭化水素基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ７－、－ＣＯ－ＮＲ７－、－ＮＲ７－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ７－ＣＯ－ＮＲ８－、－ＣＯ－ＮＲ７－ＮＲ８－、３級窒素原子又は複素環を含む（ｉ＋ｊ）価の基等が挙げられる。Ｒ７又はＲ８で表される１価の有機基は、好ましくは炭素数１～１０の１価の炭化水素基又は熱脱離性基であり、より好ましくは炭素数１～６の１価の炭化水素基又は熱脱離性基であり、更に好ましくは炭素数１～６のアルキル基又はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基である。
【0072】
架橋反応性をより高め、液晶配向性及び電圧保持特性に優れた液晶配向膜を得ることができる点で、Ｒ６は、芳香環を有しない（ｉ＋ｊ）価の基であることが好ましい。具体的には、Ｒ６は、（ｉ＋ｊ）価の鎖状炭化水素基であるか、当該鎖状炭化水素基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ７－、－ＣＯ－ＮＲ７－、－ＮＲ７－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ７－ＣＯ－ＮＲ８－、－ＣＯ－ＮＲ７－ＮＲ８－、３級窒素原子若しくは非芳香族複素環を含む（ｉ＋ｊ）価の基であるか、又は（ｉ＋ｊ）価の脂環式炭化水素基であることが好ましい。ここで、（ｉ＋ｊ）価の鎖状炭化水素基は、炭素数２～３０が好ましく、炭素数３～２０がより好ましい。非芳香族複素環は窒素含有環であることが好ましく、例えば、ピペリジン環、ピロリジン環、ヘキサメチレンイミン環、モルホリン環、イソシアヌレート環等が挙げられる。
【0073】
液晶配向膜の密着性の観点から、Ｒ６は、（ｉ＋ｊ）価の鎖状炭化水素基であるか、又は、鎖状炭化水素基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ７－、－ＣＯ－ＮＲ７－、－ＮＲ７－ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ７－ＣＯ－ＮＲ８－、－ＣＯ－ＮＲ７－ＮＲ８－、３級窒素原子若しくは非芳香族複素環を含む（ｉ＋ｊ）価の基であることが好ましい。
【0074】
化合物（Ｂ３）の具体例としては、多官能カルボン酸、多官能リン酸、多官能亜リン酸及び多官能スルホン酸、並びに、多官能カルボン酸、多官能リン酸、多官能亜リン酸及び多官能スルホン酸が有する酸性基のうち少なくとも１個が保護された化合物が挙げられる。これらのうち、（Ａ）重合体が有する基Ｆ１又は基Ｆ１中の脱離性基の脱離により生じた反応性基Ｆ１Ａとの反応性を高める観点から、化合物（Ｂ３）としては、多価カルボン酸、又は多官能カルボン酸が有するカルボキシ基のうち少なくとも１個が保護された化合物を好ましく使用でき、多官能カルボン酸が有するカルボキシ基のうち少なくとも１個が保護された化合物を特に好ましく使用することができる。
【0075】
化合物（Ｂ３）の更なる具体例としては、例えば、フマル酸、マロン酸、アジピン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸、ジフェニルエーテル－４，４’－ジカルボン酸、ピリジン－２，６－ジカルボン酸等の等のジカルボン酸が有するカルボキシ基のうち少なくとも１個が保護された化合物；１，２，４－ブタントリカルボン酸、１，２，３－シクロヘキサントリカルボン酸、トリメリット酸、１，２，４－ナフタレントリカルボン酸等のトリカルボン酸が有するカルボキシ基のうち少なくとも１個が保護された化合物；１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸、２，３，５－トリカルボキシシクロペンチル酢酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、ピロメリット酸等のテトラカルボン酸が有するカルボキシ基のうち少なくとも１個が保護された化合物；下記式（ｂ３－１）～式（ｂ３－３）のそれぞれで表される化合物；等が挙げられる。
（式（ｂ２－１）～式（ｂ２－３）中、複数のＬ２は、それぞれ独立に、水素原子又は熱脱離性基である。）
【化18】
【0076】
（Ｂ）化合物として化合物（Ｂ３）を用いる場合、化合物（Ｂ３）との架橋反応性を高くでき、液晶配向性及び電圧保持特性に優れた液晶素子を得ることができる点で、（Ａ）重合体が主鎖末端部分に有する基Ｆ１は、環状エーテル基、環状カーボネート基、オキサゾリン基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【0077】
液晶配向性及び電圧保持特性を良好としながら、膜強度がより高い液晶配向膜を得ることができる点において、上記の中でも、（Ａ）重合体が主鎖末端部分に重合性炭素－炭素不飽和結合含有基を有し、（Ｂ）化合物が（Ｂ１）化合物及び（Ｂ２）化合物よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、（Ａ）重合体が主鎖末端部分に重合性炭素－炭素不飽和結合含有基を有し、（Ｂ）化合物が（Ｂ２）化合物を含むことがより好ましい。
【0078】
本開示の液晶配向剤における（Ｂ）化合物の含有量は、電圧保持特性に優れた液晶素子を得る観点、並びに液晶配向膜の膜強度を十分に高くする観点から、液晶配向剤に含まれる（Ａ）重合体１００質量部に対して、０．２質量部以上が好ましい。（Ｂ）化合物の含有量は、（Ａ）重合体１００質量部に対して、０．５質量部以上がより好ましく、１質量部以上が更に好ましい。また、液晶配向性の低下を抑制する観点から、（Ｂ）化合物の含有量は、（Ａ）重合体１００質量部に対して、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましく、２０質量部以下が更に好ましい。
【0079】
液晶配向剤に含まれる重合体成分の合計１００質量部に対する（Ｂ）化合物の含有量は、０．５質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましく、２質量部以上が更に好ましい。また、（Ｂ）化合物の含有量は、液晶配向剤に含まれる重合体成分の合計１００質量部に対して、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましく、２０質量部以下が更に好ましい。（Ｂ）化合物としては、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0080】
＜その他の成分＞
液晶配向剤は、（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物のほか、必要に応じて、（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物とは異なる成分（その他の成分）を更に含有していてもよい。
液晶配向剤は、（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物のほか、必要に応じて、（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物とは異なる成分（その他の成分）を更に含有していてもよい。
【0081】
・（Ｃ）化合物
本開示の液晶配向剤は、求電子性官能基又は保護された求電子性官能基を１分子内に合計２個以上有する化合物（以下、「（Ｃ）化合物」ともいう）を更に含有していてもよい。（Ｃ）化合物は（Ｂ）化合物とは異なる架橋剤であり、（Ａ）重合体又は（Ｂ）化合物が有する官能基に対して求電子性を示すことが好ましい。具体的には、（Ｃ）化合物は、（Ａ）重合体が有する基Ｆ１とは異なる反応部位（例えば、重合体の側鎖の官能基やベンゼン環等）、あるいは（Ｂ）化合物中の重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、求核性官能基又は酸性官能基と、（Ｃ）化合物中の求電子性官能基との反応により架橋構造を形成し得ることが好ましい。なお、（Ｃ）化合物中の求電子性官能基と反応する（Ｂ）化合物中の求核性官能基は、保護された求核性官能基中の脱離性基が脱離することにより生じた基であってもよい。また、（Ｃ）化合物中の求電子性官能基と反応する（Ｂ）化合物中の酸性官能基は、保護された酸性官能基中の脱離性基が脱離することにより生じた基であってもよい。また同様に、（Ｂ）化合物中の求核性官能基又は酸性官能基と反応する（Ｃ）化合物中の求電子性官能基は、保護された求電子性官能基中の脱離性基が脱離することにより生じた基であってもよい。こうした（Ｃ）化合物を（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物と共に配合して液晶配向剤を調製することにより、液晶配向膜における膜強度を更に高めることができる。
本開示の液晶配向剤は、求電子性官能基又は保護された求電子性官能基を１分子内に合計２個以上有する化合物（以下、「（Ｃ）化合物」ともいう）を更に含有していてもよい。（Ｃ）化合物は（Ｂ）化合物とは異なる架橋剤であり、（Ａ）重合体又は（Ｂ）化合物が有する官能基に対して求電子性を示すことが好ましい。具体的には、（Ｃ）化合物は、（Ａ）重合体が有する基Ｆ１とは異なる反応部位（例えば、重合体の側鎖の官能基やベンゼン環等）、あるいは（Ｂ）化合物中の重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、求核性官能基又は酸性官能基と、（Ｃ）化合物中の求電子性官能基との反応により架橋構造を形成し得ることが好ましい。なお、（Ｃ）化合物中の求電子性官能基と反応する（Ｂ）化合物中の求核性官能基は、保護された求核性官能基中の脱離性基が脱離することにより生じた基であってもよい。また、（Ｃ）化合物中の求電子性官能基と反応する（Ｂ）化合物中の酸性官能基は、保護された酸性官能基中の脱離性基が脱離することにより生じた基であってもよい。また同様に、（Ｂ）化合物中の求核性官能基又は酸性官能基と反応する（Ｃ）化合物中の求電子性官能基は、保護された求電子性官能基中の脱離性基が脱離することにより生じた基であってもよい。こうした（Ｃ）化合物を（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物と共に配合して液晶配向剤を調製することにより、液晶配向膜における膜強度を更に高めることができる。
【0082】
（Ｃ）化合物において、求電子性官能基又は保護された求電子性官能基は、環状エーテル基、環状チオエーテル基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、環状カーボネート基、基「－ＣＲ２０＝ＣＲ２１－Ｒ２２－」（ただし、Ｒ２０は、アミノ基との反応により脱離する１価の有機基である。Ｒ２１は水素原子又はアルキル基、Ｒ２２は電子求引性基である。）、シラノール基及びアルコキシシリル基よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【0083】
上記の求電子性官能基又は保護された求電子性官能基のうち、基「－ＣＲ２０＝ＣＲ２１－Ｒ２２－」において、Ｒ２０で表される１価の有機基としては、例えば炭素数１～５のアルコキシ基、ピロリドン－１－イル基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）等が挙げられる。Ｒ２２の電子求引性基としては、カルボニル基、スルホニル基等が挙げられる。
保護されたイソシアネート基、保護されたメチロール基において、水素原子を置換する置換基（脱離性基）の具体例としては、（Ａ）重合体が有する基Ｆ１の説明で例示した基と同様の基が挙げられる。
保護されたイソシアネート基、保護されたメチロール基において、水素原子を置換する置換基（脱離性基）の具体例としては、（Ａ）重合体が有する基Ｆ１の説明で例示した基と同様の基が挙げられる。
【0084】
（Ｃ）化合物が１分子内に有する求電子性官能基及び保護された求電子性官能基の合計の数は、液晶配向性、電圧保持特性及び膜強度をバランス良く改善する観点から、２～１２個が好ましく、２～１０個がより好ましい。（Ｃ）化合物の分子量は、膜強度が十分に高い液晶配向膜を得る観点から、好ましくは３，０００以下、より好ましくは２，０００以下、更に好ましくは１，０００以下である。
【0085】
（Ｃ）化合物の具体例としては、環状（チオ）エーテル基を有する化合物として、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、２，２－ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－ｍ－キシリレンジアミン、１，３－ビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－４，４’－ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ－ジグリシジル－ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ－ジグリシジル－アミノメチルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ－ジグリシジル－シクロヘキシルアミン等を；イソシアネート基又は保護されたイソシアネート基を有する化合物として、下記式（ｃ１－１）～式（ｃ１－５）のそれぞれで表される化合物等を；メチロール基又は保護されたメチロール基を有する化合物として、下記式（ｃ２－１）～式（ｃ２－６）のそれぞれで表される化合物等を；環状カーボネート基を有する化合物として、下記式（ｃ３－１）又は式（ｃ３－２）で表される化合物等を；基「－ＣＲ２０＝ＣＲ２１－Ｒ２２－」を有する化合物として、下記式（ｃ４－１）～式（ｃ４－７）のそれぞれで表される化合物等を；アルコキシシリル基又はシラノール基を有する化合物として、例えば３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３－（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－（タ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物等を、それぞれ挙げることができる。
（式（ｃ１－１）及び式（ｃ１－２）中、Ｒ２３は熱脱離性基である。）
（式（ｃ２－５）中、Ａｃはアセチル基である。）
【化19】
【化20】
【化21】
【化22】
【0086】
本開示の液晶配向剤に（Ｃ）化合物を含有させる場合、その含有量は、液晶配向膜の膜強度をより高め、液晶素子の信頼性をより向上させる観点から、液晶配向剤に含まれる重合体成分の全量１００質量部に対して、０．１質量部以上が好ましい。（Ｃ）化合物の含有量は、重合体成分の全量１００質量部に対して、０．５質量部以上がより好ましく、１質量部以上が更に好ましい。また、液晶配向性、電圧保持特性及び膜強度をバランス良く改善する観点から、（Ｃ）化合物の含有量は、重合体成分の全量１００質量部に対して、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましく、２０質量部以下が更に好ましい。（Ｃ）化合物としては、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0087】
・（Ｄ）重合体
本開示の液晶配向剤は、重合体成分として、（Ａ）重合体とは異なる重合体（以下、「（Ｄ）重合体」ともいう）を更に含有していてもよい。（Ｄ）重合体は、主鎖末端部分に基Ｆ１を有しない重合体であればよく、その主骨格は特に限定されない。（Ｄ）重合体としては、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン、ポリエステル、ポリエナミン、ポリウレア、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリベンゾオキサゾール、セルロース誘導体、ポリアセタール、（メタ）アクリル系重合体、スチレン系重合体、マレイミド系重合体、スチレン－マレイミド系共重合体等が挙げられる。信頼性の高い液晶素子を得る観点から、（Ｄ）重合体は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン及び付加重合体よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。付加重合体としては、（メタ）アクリル系重合体、スチレン系重合体、マレイミド系重合体、及びスチレン－マレイミド系共重合体等が挙げられる。（Ｄ）重合体は、これらの中でも、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種を好ましく使用できる。
本開示の液晶配向剤は、重合体成分として、（Ａ）重合体とは異なる重合体（以下、「（Ｄ）重合体」ともいう）を更に含有していてもよい。（Ｄ）重合体は、主鎖末端部分に基Ｆ１を有しない重合体であればよく、その主骨格は特に限定されない。（Ｄ）重合体としては、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン、ポリエステル、ポリエナミン、ポリウレア、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリベンゾオキサゾール、セルロース誘導体、ポリアセタール、（メタ）アクリル系重合体、スチレン系重合体、マレイミド系重合体、スチレン－マレイミド系共重合体等が挙げられる。信頼性の高い液晶素子を得る観点から、（Ｄ）重合体は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン及び付加重合体よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。付加重合体としては、（メタ）アクリル系重合体、スチレン系重合体、マレイミド系重合体、及びスチレン－マレイミド系共重合体等が挙げられる。（Ｄ）重合体は、これらの中でも、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも１種を好ましく使用できる。
【0088】
（Ｄ）重合体を液晶配向剤に含有させる場合、（Ｄ）重合体の含有量は、（Ａ）重合体と（Ｄ）重合体との合計量に対して、例えば１質量％以上であり、２質量％以上としてもよい。また、（Ｄ）重合体の含有量は、（Ａ）重合体と（Ｄ）重合体との合計量に対して、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。（Ｄ）重合体としては、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0089】
・溶剤
本開示の液晶配向剤は、（Ａ）重合体、（Ｂ）化合物、及び必要に応じて使用されるその他の成分が、好ましくは適当な溶媒中に分散又は溶解してなる液状の組成物として調製される。
本開示の液晶配向剤は、（Ａ）重合体、（Ｂ）化合物、及び必要に応じて使用されるその他の成分が、好ましくは適当な溶媒中に分散又は溶解してなる液状の組成物として調製される。
【0090】
溶剤としては有機溶媒が好ましく使用される。その具体例としては、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、１，２－ジメチル－２－イミダゾリジノン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、フェノール、γ－ブチロラクトン、γ－ブチロラクタム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、ジアセトンアルコール、１－ヘキサノール、２－ヘキサノール、プロパン－１，２－ジオール、３－メトキシ－１－ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、プロピオン酸エチル、メチルメトキシプロピオネ－ト、エチルエトキシプロピオネ－ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコール－ｉ－プロピルエーテル、エチレングリコール－ｎ－ブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、ジエチレングリコールジエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールジアセテート、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。溶剤としては、１種を単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【0091】
液晶配向剤に含有されるその他の成分としては、上記のほか、例えば、酸化防止剤、金属キレート化合物、硬化促進剤、界面活性剤、充填剤、分散剤、光増感剤等が挙げられる。その他の成分の配合割合は、本開示の効果を損なわない範囲で各化合物に応じて適宜選択することができる。
【0092】
液晶配向剤における固形分濃度（液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合）は、粘性、揮発性等を考慮して適宜に選択される。液晶配向剤の固形分濃度は、好ましくは１～１０質量％の範囲である。固形分濃度が１質量％以上であると、塗膜の膜厚を十分に確保でき、より良好な液晶配向性を示す液晶配向膜を得ることができる点で好適である。一方、固形分濃度が１０質量％以下であると、塗膜を適度な厚みとすることができ、良好な液晶配向性を示す液晶配向膜が得られやすく、また、液晶配向剤の粘性が適度となり塗布性を良好にできる傾向がある。
【0093】
≪液晶配向膜及びその製造方法≫
本開示の液晶配向膜は、上記のように調製された液晶配向剤により形成される。液晶配向膜は、以下の塗膜形成工程を含む方法により製造することができる。また、本開示の液晶配向膜は、塗膜形成工程により得られた有機膜に対し、以下の配向処理工程により液晶配向処理を行い、液晶配向能を付与してもよい。
本開示の液晶配向膜は、上記のように調製された液晶配向剤により形成される。液晶配向膜は、以下の塗膜形成工程を含む方法により製造することができる。また、本開示の液晶配向膜は、塗膜形成工程により得られた有機膜に対し、以下の配向処理工程により液晶配向処理を行い、液晶配向能を付与してもよい。
【0094】
・塗膜形成工程
液晶配向膜の製造に際しては、まず、基板上に液晶配向剤を塗布し、好ましくは塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成する。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ（脂環式オレフィン）等のプラスチックからなる透明基板を用いることができる。
液晶配向膜の製造に際しては、まず、基板上に液晶配向剤を塗布し、好ましくは塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成する。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ（脂環式オレフィン）等のプラスチックからなる透明基板を用いることができる。
【0095】
基板への液晶配向剤の塗布方法は特に限定されない。基板への液晶配向剤の塗布は、例えば、スピンコート方式、印刷方式（例えば、オフセット印刷方式、フレキソ印刷方式等）、インクジェット方式、スリットコート方式、バーコーター方式、エクストリューションダイ方式、ダイレクトグラビアコーター方式、チャンバードクターコーター方式、オフセットグラビアコーター方式、含浸コーター方式、ＭＢコーター方式等により行うことができる。
【0096】
液晶配向剤を塗布した後、塗布した液晶配向剤の液垂れ防止等の目的で、好ましくは予備加熱（プレベーク）が実施される。プレベーク温度は、好ましくは３０～２００℃であり、プレベーク時間は、好ましくは０．２５～１０分である。その後、溶剤を完全に除去し、必要に応じて、重合体に存在するアミック酸構造を熱イミド化することを目的として焼成（ポストベーク）工程が実施される。このときの焼成温度（ポストベーク温度）は、好ましくは８０～２８０℃であり、より好ましくは８０～２５０℃である。ポストベーク時間は、好ましくは５～２００分である。形成される膜の膜厚は、好ましくは０．００１～１μｍである。
【0097】
・配向処理工程
配向処理工程では、液晶配向剤を基板上に塗布し、該塗布した後に好ましくは加熱処理を行った後、光照射又はラビング処理により液晶配向能を付与することが好ましい。ラビング処理では、基板上に形成した塗膜に対し、例えばナイロン、レーヨン、コットン等の繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦ることにより、塗膜に液晶配向能を付与する。光配向処理では、基板上に形成した塗膜に光照射を行って塗膜に液晶配向能を付与する。
配向処理工程では、液晶配向剤を基板上に塗布し、該塗布した後に好ましくは加熱処理を行った後、光照射又はラビング処理により液晶配向能を付与することが好ましい。ラビング処理では、基板上に形成した塗膜に対し、例えばナイロン、レーヨン、コットン等の繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦ることにより、塗膜に液晶配向能を付与する。光配向処理では、基板上に形成した塗膜に光照射を行って塗膜に液晶配向能を付与する。
【0098】
光配向処理において、光照射は、ポストベーク工程後の塗膜に対して照射する方法、プレベーク工程後であってポストベーク工程前の塗膜に対して照射する方法、プレベーク工程及びポストベーク工程の少なくともいずれかにおいて塗膜の加熱中に塗膜に対して照射する方法、等により行うことができる。塗膜に照射する放射線としては、例えば１５０～８００ｎｍの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができる。好ましくは、２００～４００ｎｍの波長の光を含む紫外線である。放射線が偏光である場合、直線偏光であっても部分偏光であってもよい。用いる放射線が直線偏光又は部分偏光である場合には、照射は基板面に垂直の方向から行ってもよく、斜め方向から行ってもよく、又はこれらを組み合わせて行ってもよい。非偏光の放射線の場合の照射方向は斜め方向とする。
【0099】
使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー等が挙げられる。放射線の照射量は、好ましくは４００～５０，０００Ｊ／ｍ２であり、より好ましくは１，０００～２０，０００Ｊ／ｍ２である。配向能付与のための光照射後において、基板表面を、例えば水、有機溶媒（例えば、メタノール、イソプロピルアルコール、１－メトキシ－２－プロパノールアセテート、ブチルセロソルブ、乳酸エチル等）又はこれらの混合物を用いて洗浄する処理や、基板を加熱する処理を行ってもよい。なお、（Ａ）重合体と（Ｂ）化合物とを含む液晶配向剤を用いて光配向法により液晶配向膜を形成した場合、配向処理のための光照射に伴い生じる（Ａ）重合体の分解生成物と、（Ｂ）化合物とが反応することによって、液晶素子における輝点の発生を抑制できることが考えられる。
【0100】
≪液晶素子≫
本開示の液晶素子は、上記で説明した液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜を備える。液晶素子における液晶の駆動方式は特に限定されず、例えばＴＮ型、ＳＴＮ型、ＶＡ型（ＶＡ－ＭＶＡ型、ＶＡ－ＰＶＡ型等を含む）、ＩＰＳ（In Plane Switching）型、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型、ＯＣＢ（Optically Compensated Bend）型、ＰＳＡ（Polymer Sustained Alignment）型等の種々のモードに適用することができる。液晶素子は、例えば、上述した塗膜形成工程及び配向処理工程、並びに以下のセル構築工程を含む方法により製造することができる。
本開示の液晶素子は、上記で説明した液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜を備える。液晶素子における液晶の駆動方式は特に限定されず、例えばＴＮ型、ＳＴＮ型、ＶＡ型（ＶＡ－ＭＶＡ型、ＶＡ－ＰＶＡ型等を含む）、ＩＰＳ（In Plane Switching）型、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型、ＯＣＢ（Optically Compensated Bend）型、ＰＳＡ（Polymer Sustained Alignment）型等の種々のモードに適用することができる。液晶素子は、例えば、上述した塗膜形成工程及び配向処理工程、並びに以下のセル構築工程を含む方法により製造することができる。
【0101】
塗膜形成工程において使用する基板は、所望の動作モードによって異なる。例えば、ＴＮ型、ＳＴＮ型又はＶＡ型の液晶素子を製造する場合には、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板２枚を用いる。ＩＰＳ型又はＦＦＳ型の液晶素子を製造する場合には、櫛歯型にパターニングされた電極が設けられている基板と、電極が設けられていない対向基板とを用いる。透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ２）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム－酸化スズ（Ｉｎ２Ｏ３－ＳｎＯ２）からなるＩＴＯ膜等を用いることができる。
【0102】
なお、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＩＰＳ型又はＦＦＳ型の液晶素子を製造する場合には、塗膜形成工程により得られた塗膜に液晶配向能を付与する処理（配向処理）を実施する。これにより、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜となる。一方、垂直配向（ＶＡ）型の液晶素子を製造する場合には、塗膜形成工程により得られた塗膜をそのまま液晶配向膜として使用することができる。また、液晶配向能を更に高めるために、該塗膜に対し配向処理を施してもよい。垂直配向型の液晶素子に好適な液晶配向膜はＰＳＡ型の液晶素子にも好適である。
【0103】
・セル構築工程
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２枚準備し、２枚の基板間に液晶配向膜に隣接して液晶が配置されるように液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば、液晶配向膜が対向するように間隙を介して２枚の基板を対向配置し、２枚の基板の周辺部をシール剤により貼り合わせ、基板表面とシール剤で囲まれたセルギャップ内に液晶を注入充填し注入孔を封止する方法、ＯＤＦ方式による方法等が挙げられる。シール剤としては、例えば、硬化剤及びスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。液晶としては、ネマチック液晶及びスメクチック液晶を挙げることができ、その中でもネマチック液晶が好ましい。ＰＳＡモードでは、液晶セルの構築後に、一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する処理を行う。
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２枚準備し、２枚の基板間に液晶配向膜に隣接して液晶が配置されるように液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば、液晶配向膜が対向するように間隙を介して２枚の基板を対向配置し、２枚の基板の周辺部をシール剤により貼り合わせ、基板表面とシール剤で囲まれたセルギャップ内に液晶を注入充填し注入孔を封止する方法、ＯＤＦ方式による方法等が挙げられる。シール剤としては、例えば、硬化剤及びスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。液晶としては、ネマチック液晶及びスメクチック液晶を挙げることができ、その中でもネマチック液晶が好ましい。ＰＳＡモードでは、液晶セルの構築後に、一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する処理を行う。
【0104】
ＰＳＡ型の液晶素子は、以下の工程を含む方法により製造することができる。
・本開示の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板のそれぞれの導電膜上に塗布して塗膜を形成する工程。
・液晶配向剤を塗布した一対の基板を、液晶層を挟んで塗膜が対向するように配置して液晶セルを構築する工程。
・導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する工程。
・本開示の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板のそれぞれの導電膜上に塗布して塗膜を形成する工程。
・液晶配向剤を塗布した一対の基板を、液晶層を挟んで塗膜が対向するように配置して液晶セルを構築する工程。
・導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する工程。
【0105】
具体的には、まず、導電膜を有する一対の基板間に、液晶と共に光重合性モノマーを注入又は滴下する点以外は上記工程１～工程３と同様にして液晶セルを構築する。液晶と共に注入又は滴下する光重合性モノマーとしては、従来公知の化合物を用いることができる。好ましくは、多官能性（メタ）アクリルモノマーである。
【0106】
ＰＳＡ型液晶素子の製造においては、液晶セルの構築後、一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する。印加する電圧は、例えば５～５０Ｖの直流又は交流とすることができる。照射する光としては、例えば１５０～８００ｎｍの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができる。これらのうち、３００～４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。照射光の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー等を使用することができる。光の照射量としては、好ましくは１，０００～２００，０００Ｊ／ｍ２であり、より好ましくは１，０００～１００，０００Ｊ／ｍ２である。
【0107】
各モードの液晶セルにつき、続いて、必要に応じて、液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせ、液晶素子とする。偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と称される偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はＨ膜そのものからなる偏光板が挙げられる。
【0108】
液晶としては、ポジ型及びネガ型のいずれを用いてもよい。ＩＰＳ型及びＦＦＳ型の液晶素子においてネガ型液晶を用いた場合、電極上部での透過損失を小さくでき、コントラスト向上を図ることができる点で好ましい。液晶としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶を挙げることができ、中でもネマチック液晶が好ましい。
【0109】
本開示の液晶素子は、種々の用途に有効に適用することができる。具体的には、例えば、時計、携帯型ゲーム機、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、ＰＤＡ、デジタルカメラ、携帯電話機、スマートフォン、各種モニター、液晶テレビ、インフォメーションディスプレイ等の各種表示装置や、調光装置、位相差フィルム等として用いることができる。
【0110】
以上説明した本開示によれば、次の手段が提供される。
〔手段１〕 下記の（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物：
（Ａ）重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、ケテン構造を有する基、メルドラム酸構造を有する基、環状エーテル基、環状チオエーテル基、オキサゾリン基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種である基Ｆ１を主鎖末端部分に有する重合体、
（Ｂ）前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基Ｆ１Ａと反応し得るか、又は脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより、前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１Ａと反応し得る基である基Ｆ２を１分子内に合計２個以上有する化合物（ただし、前記（Ａ）重合体を除く。）
を含有する、液晶配向剤。
〔手段２〕 前記基Ｆ２は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、求核性官能基、保護された求核性官能基、酸性官能基及び保護された酸性官能基よりなる群から選択される少なくとも１種である、〔手段１〕に記載の液晶配向剤。
〔手段３〕 前記（Ｂ）化合物が有する前記基Ｆ２の少なくとも１個が、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子と脱離性基とが結合した部分構造を有する、〔手段１〕又は〔手段２〕に記載の液晶配向剤。
〔手段４〕 前記（Ｂ）化合物は、上記式（１）で表される化合物を含む、〔手段１〕～〔手段３〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔手段５〕 前記Ｒ２は、ｋ価の鎖状炭化水素基であるか、又は、鎖状炭化水素基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ４－、－ＣＯ－ＮＲ４－、－ＮＲ４－ＣＯ －Ｏ－、－ＮＲ４－ＣＯ－ＮＲ５－、－ＣＯ－ＮＲ４－ＮＲ５－（ただし、Ｒ４及びＲ５は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～１０の１価の有機基である。）、３級窒素原子若しくは複素環を含むｋ価の基である、〔手段４〕に記載の液晶配向剤。
〔手段６〕 前記（Ｂ）化合物は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基を１分子内に合計２個以上有する化合物を含む、〔手段１〕～〔手段５〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔手段７〕 前記（Ｂ）化合物は、上記式（２）で表される化合物を含む、〔手段１〕～〔手段６〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔手段８〕 前記（Ａ）重合体は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリウレア及びポリアミドイミドよりなる群から選択される少なくとも１種である、〔手段１〕～〔手段７〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔手段９〕 前記基Ｆ１は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基である、〔手段１〕～〔手段８〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔手段１０〕 下記の（Ｃ）化合物を更に含有する、〔手段１〕～〔手段９〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
（Ｃ）前記（Ａ）重合体及び前記（Ｂ）化合物とは異なる化合物であって、求電子性官能基又は保護された求電子性官能基を１分子内に２個以上有する化合物
〔手段１１〕 〔手段１〕～〔手段１０〕のいずれかに記載の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜。
〔手段１２〕 〔手段１〕～〔手段１０〕のいずれかに記載の液晶配向剤を基板上に塗布し、該塗布した後に光照射又はラビング処理により液晶配向能を付与する、液晶配向膜の製造方法。
〔手段１３〕 〔手段１１〕に記載の液晶配向膜を備える液晶素子。
〔手段１４〕 〔手段１〕～〔手段１０〕のいずれかに記載の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板のそれぞれの前記導電膜上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記液晶配向剤を塗布した一対の基板を、液晶層を挟んで前記塗膜が対向するように配置して液晶セルを構築する工程と、前記導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程と、を含む、液晶素子の製造方法。
〔手段１〕 下記の（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物：
（Ａ）重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、イソシアネート基、保護されたイソシアネート基、環状カーボネート基、メチロール基、保護されたメチロール基、ケテン構造を有する基、メルドラム酸構造を有する基、環状エーテル基、環状チオエーテル基、オキサゾリン基、ヒドロキシアルキルアミド基及び保護されたヒドロキシアルキルアミド基よりなる群から選択される少なくとも１種である基Ｆ１を主鎖末端部分に有する重合体、
（Ｂ）前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１中の脱離性基が脱離することによって生じた基Ｆ１Ａと反応し得るか、又は脱離性基を有し当該脱離性基が脱離することにより、前記基Ｆ１若しくは前記基Ｆ１Ａと反応し得る基である基Ｆ２を１分子内に合計２個以上有する化合物（ただし、前記（Ａ）重合体を除く。）
を含有する、液晶配向剤。
〔手段２〕 前記基Ｆ２は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基、求核性官能基、保護された求核性官能基、酸性官能基及び保護された酸性官能基よりなる群から選択される少なくとも１種である、〔手段１〕に記載の液晶配向剤。
〔手段３〕 前記（Ｂ）化合物が有する前記基Ｆ２の少なくとも１個が、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子と脱離性基とが結合した部分構造を有する、〔手段１〕又は〔手段２〕に記載の液晶配向剤。
〔手段４〕 前記（Ｂ）化合物は、上記式（１）で表される化合物を含む、〔手段１〕～〔手段３〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔手段５〕 前記Ｒ２は、ｋ価の鎖状炭化水素基であるか、又は、鎖状炭化水素基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ４－、－ＣＯ－ＮＲ４－、－ＮＲ４－ＣＯ －Ｏ－、－ＮＲ４－ＣＯ－ＮＲ５－、－ＣＯ－ＮＲ４－ＮＲ５－（ただし、Ｒ４及びＲ５は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～１０の１価の有機基である。）、３級窒素原子若しくは複素環を含むｋ価の基である、〔手段４〕に記載の液晶配向剤。
〔手段６〕 前記（Ｂ）化合物は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基を１分子内に合計２個以上有する化合物を含む、〔手段１〕～〔手段５〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔手段７〕 前記（Ｂ）化合物は、上記式（２）で表される化合物を含む、〔手段１〕～〔手段６〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔手段８〕 前記（Ａ）重合体は、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリウレア及びポリアミドイミドよりなる群から選択される少なくとも１種である、〔手段１〕～〔手段７〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔手段９〕 前記基Ｆ１は、重合性炭素－炭素不飽和結合含有基である、〔手段１〕～〔手段８〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
〔手段１０〕 下記の（Ｃ）化合物を更に含有する、〔手段１〕～〔手段９〕のいずれかに記載の液晶配向剤。
（Ｃ）前記（Ａ）重合体及び前記（Ｂ）化合物とは異なる化合物であって、求電子性官能基又は保護された求電子性官能基を１分子内に２個以上有する化合物
〔手段１１〕 〔手段１〕～〔手段１０〕のいずれかに記載の液晶配向剤を用いて形成された液晶配向膜。
〔手段１２〕 〔手段１〕～〔手段１０〕のいずれかに記載の液晶配向剤を基板上に塗布し、該塗布した後に光照射又はラビング処理により液晶配向能を付与する、液晶配向膜の製造方法。
〔手段１３〕 〔手段１１〕に記載の液晶配向膜を備える液晶素子。
〔手段１４〕 〔手段１〕～〔手段１０〕のいずれかに記載の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板のそれぞれの前記導電膜上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記液晶配向剤を塗布した一対の基板を、液晶層を挟んで前記塗膜が対向するように配置して液晶セルを構築する工程と、前記導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程と、を含む、液晶素子の製造方法。
【実施例0111】
以下、実施例に基づき実施形態をより詳しく説明するが、以下の実施例によって本発明が限定的に解釈されるものではない。
【0112】
以下の例において、重合体溶液中のポリイミドのイミド化率は以下の方法により測定した。
［ポリイミドのイミド化率］
ポリイミドの溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温で１Ｈ－ＮＭＲ測定を行った。得られた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルから、下記数式（Ｉ）によりイミド化率[％]を求めた。
イミド化率[％]＝（１－（Ａ１／（Ａ２×α）））×１００ …（Ｉ）
（数式（Ｉ）中、Ａ１は化学シフト１０ｐｐｍ付近に現れるＮＨ基のプロトン由来のピーク面積であり、Ａ２はその他のプロトン由来のピーク面積であり、αは重合体の前駆体（ポリアミック酸）におけるＮＨ基のプロトン１個に対するその他のプロトンの個数割合である。）
［ポリイミドのイミド化率］
ポリイミドの溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温で１Ｈ－ＮＭＲ測定を行った。得られた１Ｈ－ＮＭＲスペクトルから、下記数式（Ｉ）によりイミド化率[％]を求めた。
イミド化率[％]＝（１－（Ａ１／（Ａ２×α）））×１００ …（Ｉ）
（数式（Ｉ）中、Ａ１は化学シフト１０ｐｐｍ付近に現れるＮＨ基のプロトン由来のピーク面積であり、Ａ２はその他のプロトン由来のピーク面積であり、αは重合体の前駆体（ポリアミック酸）におけるＮＨ基のプロトン１個に対するその他のプロトンの個数割合である。）
【0113】
化合物の略号は以下の通りである。なお、以下では、式（Ｘ）で表される化合物（Ｘは記号）を単に「化合物（Ｘ）」と示すことがある。
【0114】
（テトラカルボン酸二無水物）
【化23】
【0115】
（ジアミン化合物）
【化24】
【化25】
【0116】
（末端封止剤）
【化26】
【0117】
（添加剤）
【化27】
【化28】
【0118】
＜重合体の合成＞
１．ポリアミック酸の合成
［合成例１］
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－５）１００モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－６）１００モル部をＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）に溶解し、４０℃で６時間反応を行い、ポリアミック酸（これを重合体（ＰＡ－１）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
１．ポリアミック酸の合成
［合成例１］
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－５）１００モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－６）１００モル部をＮ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）に溶解し、４０℃で６時間反応を行い、ポリアミック酸（これを重合体（ＰＡ－１）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
【0119】
［合成例２］
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－１）１００モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－４）６５モル部及び化合物（Ｄ－７）３０モル部、末端封止剤として化合物（ＥＣ－８）５モル部をＮＭＰに溶解し、４０℃で６時間反応を行い、ポリアミック酸（これを重合体（ＰＡ－２）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－１）１００モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－４）６５モル部及び化合物（Ｄ－７）３０モル部、末端封止剤として化合物（ＥＣ－８）５モル部をＮＭＰに溶解し、４０℃で６時間反応を行い、ポリアミック酸（これを重合体（ＰＡ－２）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
【0120】
［合成例３］
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－２）４７．５モル部及び化合物（ＴＡ－５）４７．５モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－４）８０モル部、及び化合物（Ｄ－８）２０モル部をＮＭＰに溶解し、４０℃で６時間反応を行った。このポリアミック酸溶液に末端封止剤（ＥＣ－９）１０モル部を加え、更に４０℃で１時間反応を行い、ポリアミック酸（これを重合体（ＰＡ－３）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－２）４７．５モル部及び化合物（ＴＡ－５）４７．５モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－４）８０モル部、及び化合物（Ｄ－８）２０モル部をＮＭＰに溶解し、４０℃で６時間反応を行った。このポリアミック酸溶液に末端封止剤（ＥＣ－９）１０モル部を加え、更に４０℃で１時間反応を行い、ポリアミック酸（これを重合体（ＰＡ－３）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
【0121】
［合成例４～７、１６～１８］
使用するテトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物及び末端封止剤の種類及び量を表１に記載のとおり変更し、合成例３と同様の方法により重合することで、ポリアミック酸（重合体（ＰＡ－４）～（ＰＡ－７）、（ＰＡ－１６）～（ＰＡ－１８））を１５質量％含有する溶液を得た。
使用するテトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物及び末端封止剤の種類及び量を表１に記載のとおり変更し、合成例３と同様の方法により重合することで、ポリアミック酸（重合体（ＰＡ－４）～（ＰＡ－７）、（ＰＡ－１６）～（ＰＡ－１８））を１５質量％含有する溶液を得た。
【0122】
［合成例８］
使用するテトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物及び末端封止剤の種類及び量を表１に記載のとおり変更し、合成例２と同様の方法により重合することで、ポリアミック酸（重合体（ＰＡ－８））を１５質量％含有する溶液を得た。
使用するテトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物及び末端封止剤の種類及び量を表１に記載のとおり変更し、合成例２と同様の方法により重合することで、ポリアミック酸（重合体（ＰＡ－８））を１５質量％含有する溶液を得た。
【0123】
［合成例９～１５］
使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の種類及び量を表１に記載のとおり変更し、合成例１と同様の方法により重合することで、ポリアミック酸（重合体（ＰＡ－９）～（ＰＡ－１５））を１５質量％含有する溶液を得た。
使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミン化合物の種類及び量を表１に記載のとおり変更し、合成例１と同様の方法により重合することで、ポリアミック酸（重合体（ＰＡ－９）～（ＰＡ－１５））を１５質量％含有する溶液を得た。
【表1】
【0124】
２．ポリイミドの合成
［合成例１９］
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－１）１００モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－１）５０モル部及び化合物（Ｄ－１２）５０モル部をＮＭＰに溶解し、室温で６時間反応を行い、ポリアミック酸を１５質量％含有する溶液を得た。次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮＭＰを追加してポリアミック酸濃度１０質量％の溶液とし、ピリジン及び無水酢酸を添加して６０℃で４時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮＭＰで溶媒置換することにより、イミド化率約４２％のポリイミド（これを重合体（ＰＩ－１）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
［合成例１９］
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－１）１００モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－１）５０モル部及び化合物（Ｄ－１２）５０モル部をＮＭＰに溶解し、室温で６時間反応を行い、ポリアミック酸を１５質量％含有する溶液を得た。次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮＭＰを追加してポリアミック酸濃度１０質量％の溶液とし、ピリジン及び無水酢酸を添加して６０℃で４時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮＭＰで溶媒置換することにより、イミド化率約４２％のポリイミド（これを重合体（ＰＩ－１）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
【0125】
［合成例２０］
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－１）６７モル部及び化合物（ＴＡ－２）２８モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－１２）５５モル部、化合物（Ｄ－１５）３０モル部及び化合物（Ｄ－１６）１５モル部をＮＭＰに溶解し、４０℃で６時間反応を行った。このポリアミック酸溶液に末端封止剤（ＥＣ－１０）１０モル部を加え、更に４０℃で１時間反応を行い、ポリアミック酸を１５質量％含有する溶液を得た。次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮＭＰを追加してポリアミック酸濃度１０質量％の溶液とし、ピリジン及び無水酢酸を添加して６０℃で４時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮＭＰで溶媒置換することにより、イミド化率約７５％のポリイミド（これを重合体（ＰＩ－２）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－１）６７モル部及び化合物（ＴＡ－２）２８モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－１２）５５モル部、化合物（Ｄ－１５）３０モル部及び化合物（Ｄ－１６）１５モル部をＮＭＰに溶解し、４０℃で６時間反応を行った。このポリアミック酸溶液に末端封止剤（ＥＣ－１０）１０モル部を加え、更に４０℃で１時間反応を行い、ポリアミック酸を１５質量％含有する溶液を得た。次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮＭＰを追加してポリアミック酸濃度１０質量％の溶液とし、ピリジン及び無水酢酸を添加して６０℃で４時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮＭＰで溶媒置換することにより、イミド化率約７５％のポリイミド（これを重合体（ＰＩ－２）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
【0126】
［合成例２１～２４］
使用するテトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物及び末端封止剤の種類及び量を表２に記載のとおり変更し、ピリジン及び無水酢酸の量を調整してイミド化率を表２に記載の値としたこと以外は合成例２０と同様の方法により合成することで、ポリイミド（重合体（ＰＩ－３）～（ＰＩ－６））を１５質量％含有する溶液を得た。
使用するテトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物及び末端封止剤の種類及び量を表２に記載のとおり変更し、ピリジン及び無水酢酸の量を調整してイミド化率を表２に記載の値としたこと以外は合成例２０と同様の方法により合成することで、ポリイミド（重合体（ＰＩ－３）～（ＰＩ－６））を１５質量％含有する溶液を得た。
【0127】
［合成例２５］
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－１）１００モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－４）３０モル部、化合物（Ｄ－７）３５モル部及び化合物（Ｄ－３）３０モル部、末端封止剤として化合物（ＥＣ－５）１０モル部をＮＭＰに溶解し、４０℃で６時間反応を行い、ポリアミック酸を１５質量％含有する溶液を得た。次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮＭＰを追加してポリアミック酸濃度１０質量％の溶液とし、ピリジン及び無水酢酸を添加して６０℃で４時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮＭＰで溶媒置換することにより、イミド化率約８２％のポリイミド（これを重合体（ＰＩ－７）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
テトラカルボン酸二無水物として化合物（ＴＡ－１）１００モル部、ジアミン化合物として化合物（Ｄ－４）３０モル部、化合物（Ｄ－７）３５モル部及び化合物（Ｄ－３）３０モル部、末端封止剤として化合物（ＥＣ－５）１０モル部をＮＭＰに溶解し、４０℃で６時間反応を行い、ポリアミック酸を１５質量％含有する溶液を得た。次いで、得られたポリアミック酸溶液にＮＭＰを追加してポリアミック酸濃度１０質量％の溶液とし、ピリジン及び無水酢酸を添加して６０℃で４時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなＮＭＰで溶媒置換することにより、イミド化率約８２％のポリイミド（これを重合体（ＰＩ－７）とする）を１５質量％含有する溶液を得た。
【0128】
［合成例２６、２７］
使用するテトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物及び末端封止剤の種類及び量を表２に記載のとおり変更し、ピリジン及び無水酢酸の量を調整してイミド化率を表２に記載の値としたこと以外は合成例２３と同様の方法により合成することで、ポリイミド（重合体（ＰＩ－８）、（ＰＩ－９））を１５質量％含有する溶液を得た。
使用するテトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物及び末端封止剤の種類及び量を表２に記載のとおり変更し、ピリジン及び無水酢酸の量を調整してイミド化率を表２に記載の値としたこと以外は合成例２３と同様の方法により合成することで、ポリイミド（重合体（ＰＩ－８）、（ＰＩ－９））を１５質量％含有する溶液を得た。
【0129】
【表2】
【0130】
＜液晶配向剤の調製及び評価＞
［実施例１：ラビングＦＦＳ型液晶表示素子］
１．液晶配向剤の調製
合成例４で得た重合体（ＰＡ－４）１００質量部を含む溶液に、化合物（ＡＤ－１）５質量部を添加し、ＮＭＰ及びブチルセロソルブ（ＢＣ）により希釈して、溶媒組成がＮＭＰ／ＢＣ＝８０／２０（質量比）、固形分濃度が３．５質量％の溶液とした。この溶液を孔径０．２μｍのフィルターで濾過することにより液晶配向剤（ＡＬ－１）を調製した。
［実施例１：ラビングＦＦＳ型液晶表示素子］
１．液晶配向剤の調製
合成例４で得た重合体（ＰＡ－４）１００質量部を含む溶液に、化合物（ＡＤ－１）５質量部を添加し、ＮＭＰ及びブチルセロソルブ（ＢＣ）により希釈して、溶媒組成がＮＭＰ／ＢＣ＝８０／２０（質量比）、固形分濃度が３．５質量％の溶液とした。この溶液を孔径０．２μｍのフィルターで濾過することにより液晶配向剤（ＡＬ－１）を調製した。
【0131】
２．ラビング法を用いたＦＦＳ型液晶表示素子の製造
平板電極（ボトム電極）、絶縁層及び櫛歯状電極（トップ電極）がこの順で片面に積層されたガラス基板（第１基板とする）、並びに電極が設けられていないガラス基板（第２基板とする）を準備した。次いで、第１基板の電極形成面及び第２基板の片面のそれぞれに、液晶配向剤（ＡＬ－１）をスピンナーにより塗布し、８０℃のホットプレートで１分間加熱（プレベーク）した。その後、庫内を窒素置換した２３０℃のオーブンで３０分間乾燥（ポストベーク）を行い、平均膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、塗膜表面に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数１０００ｒｐｍ、ステージ移動速度３ｃｍ／秒、毛足押し込み長さ０．３ｍｍでラビング処理を行った。その後、超純水中で１分間超音波洗浄を行い、次いで１００℃クリーンオーブン中で１０分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する一対の基板を得た。
次いで、液晶配向膜を有する一対の基板につき、液晶配向膜を形成した面の縁に液晶注入口を残して、直径３．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷塗布した。その後、基板を重ね合わせて圧着し、１５０℃で１時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より、一対の基板間の間隙にネガ型液晶（メルク社製、ＭＬＣ－６６０８）を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを１２０℃で加熱してから室温まで徐冷し、液晶セルを製造した。なお、一対の基板を重ね合わせる際には、それぞれの基板のラビング方法が反平行となるようにした。次に、液晶セルにおける基板の外側両面に偏光板を貼り合わせ、ＦＦＳ型液晶表示素子を得た。
平板電極（ボトム電極）、絶縁層及び櫛歯状電極（トップ電極）がこの順で片面に積層されたガラス基板（第１基板とする）、並びに電極が設けられていないガラス基板（第２基板とする）を準備した。次いで、第１基板の電極形成面及び第２基板の片面のそれぞれに、液晶配向剤（ＡＬ－１）をスピンナーにより塗布し、８０℃のホットプレートで１分間加熱（プレベーク）した。その後、庫内を窒素置換した２３０℃のオーブンで３０分間乾燥（ポストベーク）を行い、平均膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。次いで、塗膜表面に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数１０００ｒｐｍ、ステージ移動速度３ｃｍ／秒、毛足押し込み長さ０．３ｍｍでラビング処理を行った。その後、超純水中で１分間超音波洗浄を行い、次いで１００℃クリーンオーブン中で１０分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する一対の基板を得た。
次いで、液晶配向膜を有する一対の基板につき、液晶配向膜を形成した面の縁に液晶注入口を残して、直径３．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷塗布した。その後、基板を重ね合わせて圧着し、１５０℃で１時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より、一対の基板間の間隙にネガ型液晶（メルク社製、ＭＬＣ－６６０８）を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止した。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを１２０℃で加熱してから室温まで徐冷し、液晶セルを製造した。なお、一対の基板を重ね合わせる際には、それぞれの基板のラビング方法が反平行となるようにした。次に、液晶セルにおける基板の外側両面に偏光板を貼り合わせ、ＦＦＳ型液晶表示素子を得た。
【0132】
３．液晶配向性の評価
上記２．で製造した液晶表示素子を、２７，０００ｃｄ／ｍ２の高輝度バックライト上で５００時間静置し、バックライトの照射前後におけるリタデーションの変化率αにより液晶配向性を評価した。リタデーションの測定は、オプトサイエンス社製Ａｘｏｓｃａｎにより行い、下記数式（ＩＩ）によりバックライト照射前後のリタデーションの変化率αを算出した。変化率αが小さいほど、液晶配向性が良好であるといえる。変化率αが０．５％以下であった場合を「優良（◎）」、０．５％よりも大きく１％以下であった場合を「良好（○）」、１％よりも大きく２％以下であった場合を「可（△）」、２％よりも大きかった場合を「不良（×）」とした。
α＝Δθ／θ１ …（ＩＩ）
（数式（ＩＩ）中、Δθは照射前後のリタデーション差を表し、θ１は照射前のリタデーション値を表す。）
その結果、この実施例では、液晶配向性は「優良（◎）」の評価であった。
上記２．で製造した液晶表示素子を、２７，０００ｃｄ／ｍ２の高輝度バックライト上で５００時間静置し、バックライトの照射前後におけるリタデーションの変化率αにより液晶配向性を評価した。リタデーションの測定は、オプトサイエンス社製Ａｘｏｓｃａｎにより行い、下記数式（ＩＩ）によりバックライト照射前後のリタデーションの変化率αを算出した。変化率αが小さいほど、液晶配向性が良好であるといえる。変化率αが０．５％以下であった場合を「優良（◎）」、０．５％よりも大きく１％以下であった場合を「良好（○）」、１％よりも大きく２％以下であった場合を「可（△）」、２％よりも大きかった場合を「不良（×）」とした。
α＝Δθ／θ１ …（ＩＩ）
（数式（ＩＩ）中、Δθは照射前後のリタデーション差を表し、θ１は照射前のリタデーション値を表す。）
その結果、この実施例では、液晶配向性は「優良（◎）」の評価であった。
【0133】
４．電圧保持率（ＶＨＲ）による電気特性の評価
上記２．で製造したＦＦＳ型液晶表示素子につき、１Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率（これを初期ＶＨＲとする）を測定した。測定装置には（株）東陽テクニカ製ＶＨＲ－１を使用した。このとき、電圧保持率が９８％以上の場合に「優良（◎）」、９６％以上９８％未満の場合に「良好（○）」、９２％以上９６％未満の場合に「可（△）」、９２％未満の場合に「不良（×）」とした。その結果、この実施例では、初期ＶＨＲは「優良（◎）」の評価であった。
上記２．で製造したＦＦＳ型液晶表示素子につき、１Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率（これを初期ＶＨＲとする）を測定した。測定装置には（株）東陽テクニカ製ＶＨＲ－１を使用した。このとき、電圧保持率が９８％以上の場合に「優良（◎）」、９６％以上９８％未満の場合に「良好（○）」、９２％以上９６％未満の場合に「可（△）」、９２％未満の場合に「不良（×）」とした。その結果、この実施例では、初期ＶＨＲは「優良（◎）」の評価であった。
【0134】
５．ＶＨＲ信頼性の評価
上記２．で製造したＦＦＳ型液晶表示素子に対して、ＣＣＦＬを光源とするバックライト上で１６８時間の光照射を行った。光照射後の液晶表示素子につき、７０℃において１Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率を測定した。このとき、電圧保持率が９５％以上の場合に「優良（◎）」、９０％以上９５％未満の場合に「良好（○）」、８０％以上９０％未満の場合に「可（△）」、８０％未満の場合に「不良（×）」とした。その結果、この実施例では、ＶＨＲ信頼性は「優良（◎）」の評価であった。
上記２．で製造したＦＦＳ型液晶表示素子に対して、ＣＣＦＬを光源とするバックライト上で１６８時間の光照射を行った。光照射後の液晶表示素子につき、７０℃において１Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率を測定した。このとき、電圧保持率が９５％以上の場合に「優良（◎）」、９０％以上９５％未満の場合に「良好（○）」、８０％以上９０％未満の場合に「可（△）」、８０％未満の場合に「不良（×）」とした。その結果、この実施例では、ＶＨＲ信頼性は「優良（◎）」の評価であった。
【0135】
６．膜強度（ラビング耐性）の評価
上記１．で調製した液晶配向剤（ＡＬ－１）をガラス基板上にスピンナーを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートで３分間加熱（プレベーク）した。その後、庫内を窒素置換した２３０℃のオーブンで３０分間乾燥（ポストベーク）を行い、平均膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。この塗膜につき、ヘイズメーター（ｈａｚｅｍｅｔｅｒ）を用いて塗膜のヘイズ値を測定した。次いで、塗膜に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数１０００ｒｐｍ、ステージ移動速度３ｃｍ／秒、毛足押し込み長さ０．３ｍｍでラビング処理を５回実施した。その後、ヘイズメーターを用いて液晶配向膜のヘイズ値を測定し、ラビング処理前のヘイズ値との差（ヘイズ変化値）を計算した。ラビング処理前の膜のヘイズ値をＨｚ１（％）、ラビング処理後の膜のヘイズ値をＨｚ２（％）とした場合、ヘイズ変化値は下記数式（ＩＩＩ）で表される。
ヘイズ変化値（％）＝Ｈｚ２－Ｈｚ１ …（ＩＩＩ）
液晶配向膜におけるヘイズ変化値が０．５未満であった場合を「優良（◎）」、０．５以上１．０未満であった場合を「良好（○）」、ヘイズ変化値が１．０以上１．５未満であった場合を「可（△）」、１．５以上であった場合を「不良（×）」と評価した。その結果、この実施例では膜強度「良好（○）」の評価であった。
上記１．で調製した液晶配向剤（ＡＬ－１）をガラス基板上にスピンナーを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートで３分間加熱（プレベーク）した。その後、庫内を窒素置換した２３０℃のオーブンで３０分間乾燥（ポストベーク）を行い、平均膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。この塗膜につき、ヘイズメーター（ｈａｚｅｍｅｔｅｒ）を用いて塗膜のヘイズ値を測定した。次いで、塗膜に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数１０００ｒｐｍ、ステージ移動速度３ｃｍ／秒、毛足押し込み長さ０．３ｍｍでラビング処理を５回実施した。その後、ヘイズメーターを用いて液晶配向膜のヘイズ値を測定し、ラビング処理前のヘイズ値との差（ヘイズ変化値）を計算した。ラビング処理前の膜のヘイズ値をＨｚ１（％）、ラビング処理後の膜のヘイズ値をＨｚ２（％）とした場合、ヘイズ変化値は下記数式（ＩＩＩ）で表される。
ヘイズ変化値（％）＝Ｈｚ２－Ｈｚ１ …（ＩＩＩ）
液晶配向膜におけるヘイズ変化値が０．５未満であった場合を「優良（◎）」、０．５以上１．０未満であった場合を「良好（○）」、ヘイズ変化値が１．０以上１．５未満であった場合を「可（△）」、１．５以上であった場合を「不良（×）」と評価した。その結果、この実施例では膜強度「良好（○）」の評価であった。
【0136】
［実施例２～１０及び比較例１～７］
液晶配向剤の組成を表３のとおりに変更した以外は実施例１と同様にして液晶配向剤を調製した。また、得られた液晶配向剤を用いて、実施例１と同様にしてラビング配向法によりＦＦＳ型液晶表示素子を製造し、液晶配向性、初期ＶＨＲ、ＶＨＲ信頼性及び膜強度の評価を行った。それらの結果を表３に示した。なお、実施例２、３、５、７、８及び比較例１、４、７では重合体成分として２種類の重合体を使用し、実施例６及び１０では重合体成分として３種類の重合体を使用した。また、実施例２、４、６～８、１０及び比較例２では添加剤を２種類使用し、比較例６では添加剤を使用しなかった。表３中、重合体欄の数値は、液晶配向剤の調製に使用した重合体成分の全量１００質量部に対する、各重合体の固形分での配合割合（質量部）を表し、添加剤欄の数値は、重合体成分の全量１００質量部に対する添加量（質量部）を表す（表４、表５についても同じ）。
液晶配向剤の組成を表３のとおりに変更した以外は実施例１と同様にして液晶配向剤を調製した。また、得られた液晶配向剤を用いて、実施例１と同様にしてラビング配向法によりＦＦＳ型液晶表示素子を製造し、液晶配向性、初期ＶＨＲ、ＶＨＲ信頼性及び膜強度の評価を行った。それらの結果を表３に示した。なお、実施例２、３、５、７、８及び比較例１、４、７では重合体成分として２種類の重合体を使用し、実施例６及び１０では重合体成分として３種類の重合体を使用した。また、実施例２、４、６～８、１０及び比較例２では添加剤を２種類使用し、比較例６では添加剤を使用しなかった。表３中、重合体欄の数値は、液晶配向剤の調製に使用した重合体成分の全量１００質量部に対する、各重合体の固形分での配合割合（質量部）を表し、添加剤欄の数値は、重合体成分の全量１００質量部に対する添加量（質量部）を表す（表４、表５についても同じ）。
【0137】
【表3】
【0138】
表３に示すように、（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物を含む液晶配向剤を用いた実施例１～１０は、（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物を含まない液晶配向剤を用いた比較例１及び比較例６、（Ａ）重合体を含まない液晶配向剤を用いた比較例２～５、並びに、（Ｂ）化合物を含まない液晶配向剤を用いた比較例７に比べて、液晶配向性、初期ＶＨＲ、ＶＨＲ信頼性及び膜強度のバランスが取れており、良好な結果であった。
【0139】
［実施例１１：光ＦＦＳ型液晶表示素子］
１．液晶配向剤の調製
合成例５で得た重合体（ＰＡ－５）１００質量部を含む溶液に、化合物（ＡＤ－７）１０質量部を添加し、ＮＭＰ及びブチルセロソルブ（ＢＣ）により希釈して、溶媒組成がＮＭＰ／ＢＣ＝８０／２０（質量比）、固形分濃度が３．５質量％の溶液とした。この溶液を孔径０．２μｍのフィルターで濾過することにより液晶配向剤（ＡＬ－１１）を調製した。
１．液晶配向剤の調製
合成例５で得た重合体（ＰＡ－５）１００質量部を含む溶液に、化合物（ＡＤ－７）１０質量部を添加し、ＮＭＰ及びブチルセロソルブ（ＢＣ）により希釈して、溶媒組成がＮＭＰ／ＢＣ＝８０／２０（質量比）、固形分濃度が３．５質量％の溶液とした。この溶液を孔径０．２μｍのフィルターで濾過することにより液晶配向剤（ＡＬ－１１）を調製した。
【0140】
２．光配向法を用いたＦＦＳ型液晶表示素子の製造
実施例１と同様の第１基板及び第２基板を準備し、第１基板の電極形成面及び第２基板の片面のそれぞれに、液晶配向剤（ＡＬ－１８）をスピンナーにより塗布し、８０℃のホットプレートで１分間加熱（プレベーク）した。その後、庫内を窒素置換した２３０℃のオーブンで３０分間乾燥（ポストベーク）を行い、平均膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に対し、Ｈｇ－Ｘｅランプを用いて、直線偏光された２５４ｎｍの輝線を含む紫外線１,０００Ｊ／ｍ２を基板法線方向から照射して光配向処理を施した。なお、この照射量は、波長２５４ｎｍ基準で計測される光量計を用いて計測した値である。次いで、光配向処理が施された塗膜を、２３０℃のクリーンオーブンで３０分加熱して熱処理を行い、液晶配向膜を形成した。
次に、液晶配向膜を形成した一対の基板のうちの一方の基板につき、液晶配向膜を有する面の外縁に、直径３．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した。その後、光照射時の偏光軸の基板面への投影方向が逆平行となるように基板を重ね合わせて圧着し、１５０℃で１時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より一対の基板間にネガ型液晶（メルク社製、ＭＬＣ－６６０８）を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止し、液晶セルを得た。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを１２０℃で加熱してから室温まで徐冷した。その後、液晶セルにおける基板の外側両面に偏光板を貼り合わせ、液晶表示素子を得た。また、上記の一連の操作を、ポストベーク後の紫外線照射量を１００～１０，０００Ｊ／ｍ２の範囲でそれぞれ変更して実施することにより、紫外線照射量が異なる３個以上の液晶表示素子を製造し、最も良好な配向特性を示した露光量（最適露光量）の液晶表示素子を、以下の評価に用いた。
実施例１と同様の第１基板及び第２基板を準備し、第１基板の電極形成面及び第２基板の片面のそれぞれに、液晶配向剤（ＡＬ－１８）をスピンナーにより塗布し、８０℃のホットプレートで１分間加熱（プレベーク）した。その後、庫内を窒素置換した２３０℃のオーブンで３０分間乾燥（ポストベーク）を行い、平均膜厚０．１μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に対し、Ｈｇ－Ｘｅランプを用いて、直線偏光された２５４ｎｍの輝線を含む紫外線１,０００Ｊ／ｍ２を基板法線方向から照射して光配向処理を施した。なお、この照射量は、波長２５４ｎｍ基準で計測される光量計を用いて計測した値である。次いで、光配向処理が施された塗膜を、２３０℃のクリーンオーブンで３０分加熱して熱処理を行い、液晶配向膜を形成した。
次に、液晶配向膜を形成した一対の基板のうちの一方の基板につき、液晶配向膜を有する面の外縁に、直径３．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布した。その後、光照射時の偏光軸の基板面への投影方向が逆平行となるように基板を重ね合わせて圧着し、１５０℃で１時間かけて接着剤を熱硬化させた。次いで、液晶注入口より一対の基板間にネガ型液晶（メルク社製、ＭＬＣ－６６０８）を充填した後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止し、液晶セルを得た。さらに、液晶注入時の流動配向を除くために、これを１２０℃で加熱してから室温まで徐冷した。その後、液晶セルにおける基板の外側両面に偏光板を貼り合わせ、液晶表示素子を得た。また、上記の一連の操作を、ポストベーク後の紫外線照射量を１００～１０，０００Ｊ／ｍ２の範囲でそれぞれ変更して実施することにより、紫外線照射量が異なる３個以上の液晶表示素子を製造し、最も良好な配向特性を示した露光量（最適露光量）の液晶表示素子を、以下の評価に用いた。
【0141】
３．評価
上記２．で製造した液晶表示素子につき、実施例１と同様の方法により液晶配向性、初期ＶＨＲ及びＶＨＲ信頼性を評価した。また、液晶配向剤（ＡＬ－１８）を用いて、実施例１と同様にして膜強度を評価した。評価結果を表４に示す。
上記２．で製造した液晶表示素子につき、実施例１と同様の方法により液晶配向性、初期ＶＨＲ及びＶＨＲ信頼性を評価した。また、液晶配向剤（ＡＬ－１８）を用いて、実施例１と同様にして膜強度を評価した。評価結果を表４に示す。
【0142】
［実施例１２～２０及び比較例８］
液晶配向剤の組成を表４のとおりに変更した以外は実施例１１と同様にして液晶配向剤を調製した。また、得られた液晶配向剤を用いて、実施例１１と同様にして光配向法によりＦＦＳ型液晶表示素子を製造し、液晶配向性、初期ＶＨＲ、ＶＨＲ信頼性及び膜強度の評価を行った。それらの結果を表４に示した。なお、実施例１２～１４、１８～２０及び比較例８では重合体成分として２種類の重合体を使用し、実施例１６では重合体成分として３種類の重合体を使用した。また、実施例１２、１４、１６、１８、２０では添加剤を２種類使用した。
液晶配向剤の組成を表４のとおりに変更した以外は実施例１１と同様にして液晶配向剤を調製した。また、得られた液晶配向剤を用いて、実施例１１と同様にして光配向法によりＦＦＳ型液晶表示素子を製造し、液晶配向性、初期ＶＨＲ、ＶＨＲ信頼性及び膜強度の評価を行った。それらの結果を表４に示した。なお、実施例１２～１４、１８～２０及び比較例８では重合体成分として２種類の重合体を使用し、実施例１６では重合体成分として３種類の重合体を使用した。また、実施例１２、１４、１６、１８、２０では添加剤を２種類使用した。
【0143】
【表4】
【0144】
表４に示すように、重合体（Ａ）及び化合物（Ｂ）を含む液晶配向剤を用いた実施例１１～２０は、（Ａ）重合体を含まない液晶配向剤を用いた比較例８に比べて、液晶配向性、初期ＶＨＲ、ＶＨＲ信頼性及び膜強度のバランスが取れており、良好な結果であった。
【0145】
［実施例２１：ＰＳＡ型液晶表示素子］
１．液晶配向剤（ＡＬ－２１）の調製
合成例１７で得た重合体（ＰＡ－１７）３０質量部を含む溶液に、合成例１８で得た重合体（ＰＡ－１８）７０質量部を含む溶液、化合物（ＡＤ－２）５質量部、及び、溶剤としてＮＭＰ及びブチルセロソルブ（ＢＣ）を加え、溶剤組成がＮＭＰ／ＢＣ＝５０／５０（質量比）、固形分濃度が４．０質量％の溶液とした。この溶液を孔径０．２μｍのフィルターで濾過することにより液晶配向剤（ＡＬ－２１）を調製した。
１．液晶配向剤（ＡＬ－２１）の調製
合成例１７で得た重合体（ＰＡ－１７）３０質量部を含む溶液に、合成例１８で得た重合体（ＰＡ－１８）７０質量部を含む溶液、化合物（ＡＤ－２）５質量部、及び、溶剤としてＮＭＰ及びブチルセロソルブ（ＢＣ）を加え、溶剤組成がＮＭＰ／ＢＣ＝５０／５０（質量比）、固形分濃度が４．０質量％の溶液とした。この溶液を孔径０．２μｍのフィルターで濾過することにより液晶配向剤（ＡＬ－２１）を調製した。
【0146】
２．液晶組成物の調製
ネマチック液晶（メルク社製、ＭＬＣ－６６０８）１０ｇに対し、下記式（Ｌ１－１） で表される液晶性化合物を５質量％、及び下記式（Ｌ２－１）で表される光重合性化合物 を０．３質量％添加して混合し、液晶組成物ＬＣ１を得た。
ネマチック液晶（メルク社製、ＭＬＣ－６６０８）１０ｇに対し、下記式（Ｌ１－１） で表される液晶性化合物を５質量％、及び下記式（Ｌ２－１）で表される光重合性化合物 を０．３質量％添加して混合し、液晶組成物ＬＣ１を得た。
【化29】
【0147】
３．ＰＳＡ型液晶表示素子の製造
上記１．で調製した液晶配向剤（ＡＬ－２１）を、スリット状にパターニングされたＩＴＯ電極からなる導電膜をそれぞれ有するガラス基板２枚の各電極面上に、液晶配向膜印刷機（日本写真印刷（株）製）を用いて塗布し、８０℃のホットプレート上で２分間加熱（プレベーク）して溶媒を除去した後、２３０℃のホットプレート上で１０分間加熱（ポストベーク）して、平均膜厚０．０６μｍの塗膜を形成した。これら塗膜につき、超純水中で１分間超音波洗浄を行った後、１００℃クリーンオーブン中で１０分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を一対（２枚）得た。なお、使用した電極のパターンは、ＰＳＡモードにおける電極パターンと同種のパターンである。
次いで、上記一対の基板のうち一方の基板の液晶配向膜を有する面の外縁に、直径５．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化した。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、上記で調製した液晶組成物ＬＣ１を充填した後、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止することにより、液晶セルを製造した。その後、液晶セルの導電膜間に周波数６０Ｈｚの交流１０Ｖを印加し、液晶が駆動している状態で、光源にメタルハライドランプを使用した紫外線照射装置を用いて、１００，０００Ｊ／ｍ２の照射量にて紫外線を照射した。なお、この照射量は、波長３６５ｎｍ基準で計測される光量計を用いて測定した値である。その後、基板の外側両面に、偏光板を、その偏光方向が互いに直交し、かつ、液晶配向膜の紫外線の光軸の基板面への射影方向と４５°の角度をなすように貼り合わせることにより、ＰＳＡ型液晶表示素子を製造した。
上記１．で調製した液晶配向剤（ＡＬ－２１）を、スリット状にパターニングされたＩＴＯ電極からなる導電膜をそれぞれ有するガラス基板２枚の各電極面上に、液晶配向膜印刷機（日本写真印刷（株）製）を用いて塗布し、８０℃のホットプレート上で２分間加熱（プレベーク）して溶媒を除去した後、２３０℃のホットプレート上で１０分間加熱（ポストベーク）して、平均膜厚０．０６μｍの塗膜を形成した。これら塗膜につき、超純水中で１分間超音波洗浄を行った後、１００℃クリーンオーブン中で１０分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を一対（２枚）得た。なお、使用した電極のパターンは、ＰＳＡモードにおける電極パターンと同種のパターンである。
次いで、上記一対の基板のうち一方の基板の液晶配向膜を有する面の外縁に、直径５．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化した。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、上記で調製した液晶組成物ＬＣ１を充填した後、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止することにより、液晶セルを製造した。その後、液晶セルの導電膜間に周波数６０Ｈｚの交流１０Ｖを印加し、液晶が駆動している状態で、光源にメタルハライドランプを使用した紫外線照射装置を用いて、１００，０００Ｊ／ｍ２の照射量にて紫外線を照射した。なお、この照射量は、波長３６５ｎｍ基準で計測される光量計を用いて測定した値である。その後、基板の外側両面に、偏光板を、その偏光方向が互いに直交し、かつ、液晶配向膜の紫外線の光軸の基板面への射影方向と４５°の角度をなすように貼り合わせることにより、ＰＳＡ型液晶表示素子を製造した。
【0148】
４．液晶配向性の評価
上記３．で製造したＰＳＡ型液晶表示素子につき、５Ｖの電圧をＯＮ・ＯＦＦ（印加・解除）したときの明暗の変化における異常ドメインの有無を光学顕微鏡により観察し、液晶配向性を評価した。評価は、異常ドメインがない場合を「良好（○）」、一部に異常ドメインがある場合を「可（△）」、全体的に異常ドメインがある場合を「不良（×）」とした。その結果、この実施例では、液晶配向性は「良好（○）」の評価であった。
上記３．で製造したＰＳＡ型液晶表示素子につき、５Ｖの電圧をＯＮ・ＯＦＦ（印加・解除）したときの明暗の変化における異常ドメインの有無を光学顕微鏡により観察し、液晶配向性を評価した。評価は、異常ドメインがない場合を「良好（○）」、一部に異常ドメインがある場合を「可（△）」、全体的に異常ドメインがある場合を「不良（×）」とした。その結果、この実施例では、液晶配向性は「良好（○）」の評価であった。
【0149】
５．電圧保持率（ＶＨＲ）による電気特性の評価
上記３．で製造したＰＳＡ型液晶表示素子につき、５Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率（初期ＶＨＲ）を測定した。測定装置には（株）東陽テクニカ製ＶＨＲ－１を使用した。このとき、電圧保持率が９８％以上の場合に「優良（◎）」、９５％以上９８％未満の場合に「良好（○）」、８０％以上９５％未満の場合に「可（△）」、８０％未満の場合に「不良（×）」とした。その結果、この実施例では、初期ＶＨＲは「優良（◎）」の評価であった。
上記３．で製造したＰＳＡ型液晶表示素子につき、５Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率（初期ＶＨＲ）を測定した。測定装置には（株）東陽テクニカ製ＶＨＲ－１を使用した。このとき、電圧保持率が９８％以上の場合に「優良（◎）」、９５％以上９８％未満の場合に「良好（○）」、８０％以上９５％未満の場合に「可（△）」、８０％未満の場合に「不良（×）」とした。その結果、この実施例では、初期ＶＨＲは「優良（◎）」の評価であった。
【0150】
６．ＶＨＲ信頼性の評価
上記３．で製造したＰＳＡ型液晶表示素子に対して、ＣＣＦＬを光源とするバックライト上で１６８時間の光照射を行った。光照射後の液晶表示素子につき、７０℃において１Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率を測定した。このとき、電圧保持率が９５％以上の場合に「優良（◎）」、９０％以上９５％未満の場合に「良好（○）」、８０％以上９０％未満の場合に「可（△）」、８０％未満の場合に「不良（×）」とした。その結果、この実施例では、ＶＨＲ信頼性は「優良（◎）」の評価であった。
上記３．で製造したＰＳＡ型液晶表示素子に対して、ＣＣＦＬを光源とするバックライト上で１６８時間の光照射を行った。光照射後の液晶表示素子につき、７０℃において１Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率を測定した。このとき、電圧保持率が９５％以上の場合に「優良（◎）」、９０％以上９５％未満の場合に「良好（○）」、８０％以上９０％未満の場合に「可（△）」、８０％未満の場合に「不良（×）」とした。その結果、この実施例では、ＶＨＲ信頼性は「優良（◎）」の評価であった。
【0151】
７．膜強度（ラビング耐性）の評価
上記１．で調製した液晶配向剤（ＡＬ－２１）を用いて、実施例１と同様にして膜強度を測定した。その結果、この実施例では膜強度「良好（○）」の評価であった。
上記１．で調製した液晶配向剤（ＡＬ－２１）を用いて、実施例１と同様にして膜強度を測定した。その結果、この実施例では膜強度「良好（○）」の評価であった。
【0152】
【表5】
【0153】
表５に示すように、重合体（Ａ）及び化合物（Ｂ）を含む液晶配向剤を用いた実施例２１は、液晶配向性、初期ＶＨＲ、ＶＨＲ信頼性及び膜強度のバランスが取れており、良好な結果であった。
【0154】
以上の結果から、（Ａ）重合体及び（Ｂ）化合物を含む液晶配向剤によれば、液晶配向性、初期ＶＨＲ、ＶＨＲ信頼性及び膜強度に優れた液晶素子を得ることができることが明らかになった。