特開 2024-128248 フッ素系界面活性剤

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024128248

(43)【公開日】2024-09-24

(54)【発明の名称】フッ素系界面活性剤

(51)【国際特許分類】

   C09K 23/52 20220101AFI20240913BHJP

   C09K 23/42 20220101ALI20240913BHJP

   C07C 309/46 20060101ALI20240913BHJP

   C07C 303/22 20060101ALI20240913BHJP

   C07C 309/13 20060101ALI20240913BHJP

   C09D 201/00 20060101ALI20240913BHJP

   C09D 7/62 20180101ALI20240913BHJP

   A62D 1/00 20060101ALI20240913BHJP

【ＦＩ】

C09K23/52

C09K23/42

C07C309/46

C07C303/22

C07C309/13

C09D201/00

C09D7/62

A62D1/00

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023037123

(22)【出願日】2023-03-10

(71)【出願人】

【識別番号】000135265

【氏名又は名称】株式会社ネオス

(74)【代理人】

【識別番号】110000796

【氏名又は名称】弁理士法人三枝国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】久保田 篤志

【テーマコード（参考）】

2E191

4D077

4H006

4J038

【Ｆターム（参考）】

2E191AB13

4D077AA03

4D077AB03

4D077AB10

4D077AB20

4D077BA03

4D077BA07

4D077DC19X

4D077DC72Z

4D077DD29X

4D077DE24X

4D077DE29X

4H006AA01

4H006AA02

4H006AB68

4H006AC61

4H006BA51

4H006BB14

4H006BC10

4J038EA001

4J038JA11

4J038JB02

4J038JB06

4J038JC13

4J038KA09

(57)【要約】

【課題】優れた表面張力低下能を示すフッ素系界面活性剤を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩を含む、フッ素系界面活性剤。
式（１）：

（式中、Ｒｆ_１は炭素数１～４のパーフルオロアルキル基である。Ｒ^１は単結合、又は、炭素数１～１０の置換若しくは無置換の炭化水素基である。ｎは０～５の整数である。）
【選択図】なし

【特許請求の範囲】

【請求項1】

式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩を含む、フッ素系界面活性剤。
式（１）：

【化1】

（式中、Ｒｆ_１は炭素数１～４のパーフルオロアルキル基である。Ｒ^１は単結合、又は、炭素数１～１０の置換若しくは無置換の炭化水素基である。ｎは０～５の整数である。）

【請求項2】

式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物の分子量が４００～１４００の範囲である、請求項１に記載のフッ素系界面活性剤。

【請求項3】

ｎが０～２の整数である、請求項１に記載のフッ素系界面活性剤。

【請求項4】

式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩の０．１質量％水溶液の表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下である、請求項１に記載のフッ素系界面活性剤。

【請求項5】

式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル化合物とアミノスルホン酸とを反応させる工程を含む、請求項１に記載のフッ素系界面活性剤の製造方法。
式（２）：

【化2】

（式中、Ｒｆ_１は炭素数１～４のパーフルオロアルキル基である。Ｒ^２は置換又は無置換の炭化水素基である。ｎは０～５の整数である。）

【請求項6】

請求項１に記載のフッ素系界面活性剤を含む組成物。

【請求項7】

請求項１に記載のフッ素系界面活性剤を含む塗料。

【請求項8】

請求項１に記載のフッ素系界面活性剤を含む消火薬剤。

【請求項9】

式（１）で表される、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩。
式（１）：

【化3】

（式中、Ｒｆは炭素数１～４のパーフルオロアルキル基である。Ｒ^１は単結合、又は、炭素数１～１０の置換若しくは無置換の炭化水素基である。ｎは０～５の整数である。）

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、フッ素系界面活性剤に関する。

【背景技術】

【0002】

フッ素系界面活性剤は、表面張力低下能が高く、消火薬剤やコーティング用組成物等に混合することで、優れた浸透・濡れ性、レベリング性、表面機能性等を実現する添加剤であり、これまでにも各種フッ素系界面活性剤が提案されている。一般に、フッ素系界面活性剤は表面張力低下能を実現するためのパーフルオロアルキル基と、各種組成物に対する親和性に寄与する親媒性基とを同一分子内に有する化合物から成るものである。

【0003】

従来のフッ素系界面活性剤には、表面配向、凝集性が高く、少ない添加量で表面張力を低下させることができる炭素数６以上の直鎖フッ素が用いられてきたが、フッ素規制に伴い、これらの代替が進められている。

【0004】

特許文献１では、ヘキサフルオロプロペンオリゴマーとヒドロキシ基を少なくとも１つ以上有する芳香族化合物との反応によって得られる化合物をスルホン化し、アミノ酸又はその塩もしくはそのエステル類と反応させた含フッ素界面活性剤が開示されている。しかし、フッ素化合物に対し芳香族スルホン酸塩の導入が必要であるため、多段化の反応を要し、簡便に合成することができなかった。また、表面張力低下能も十分なものではなかった。

【0005】

また、炭化水素系界面活性剤として、特許文献２では、塩化カルボニルと脂肪酸を反応させて得られる脂肪酸クロライドとアミノスルホン酸とをアルカリの存在下に反応させることを特徴とするＮ－アシルアミノスルホン酸型界面活性剤が開示されている。アミノスルホン酸を用いることで比較的容易な反応によって得られるが、表面張力低下能が十分なものではなかった。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開昭５７－１６４１９９号公報

【特許文献2】特開平５－９７７８７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

本発明は、優れた表面張力低下能を示すフッ素系界面活性剤を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記課題を解決すべく、本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物を用いると、優れた表面張力低下能を示すフッ素系界面活性剤が得られることを見出した。

【0009】

本発明はこれらの知見に基づいて完成されたものであり、以下に示す広い態様の発明を含むものである。

【0010】

［項１］
式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩を含む、フッ素系界面活性剤。
式（１）：

【化1】

（式中、Ｒｆ_１は炭素数１～４のパーフルオロアルキル基である。Ｒ^１は単結合、又は、炭素数１～１０の置換若しくは無置換の炭化水素基である。ｎは０～５の整数である。）

【0011】

［項２］
式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物の分子量が４００～１４００の範囲である、項１に記載のフッ素系界面活性剤。

【0012】

［項３］
ｎが０～２の整数である、項１又は２に記載のフッ素系界面活性剤。

【0013】

［項４］
式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩の０．１質量％水溶液の表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下である、項１～３のいずれか１項に記載のフッ素系界面活性剤。

【0014】

［項５］
式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル化合物とアミノスルホン酸とを反応させる工程を含む、項１～４のいずれか１項に記載のフッ素系界面活性剤の製造方法。
式（２）：

【化2】

（式中、Ｒｆ_１は炭素数１～４のパーフルオロアルキル基である。Ｒ^２は置換又は無置換の炭化水素基である。ｎは０～５の整数である。）

【0015】

［項６］
項１～４のいずれか１項に記載のフッ素系界面活性剤を含む組成物。

【0016】

［項７］
項１～４のいずれか１項に記載のフッ素系界面活性剤を含む塗料。

【0017】

［項８］
項１～４のいずれか１項に記載のフッ素系界面活性剤を含む消火薬剤。

【0018】

［項９］
式（１）で表される、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩。
式（１）：

【化3】

（式中、Ｒｆは炭素数１～４のパーフルオロアルキル基である。Ｒ^１は単結合、又は、炭素数１～１０の置換若しくは無置換の炭化水素基である。ｎは０～５の整数である。）

【発明の効果】

【0019】

本発明によれば、優れた表面張力低下能を示すフッ素系界面活性剤を提供することができる。

【発明を実施するための形態】

【0020】

本発明に係るフッ素系界面活性剤は、式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩を含む。

【0021】

式（１）：

【0022】

【化4】

【0023】

（式中、Ｒｆ_１は炭素数１～４のパーフルオロアルキル基である。Ｒ^１は単結合、又は、炭素数１～１０の置換若しくは無置換の炭化水素基である。ｎは０～５の整数である。）

【0024】

式（１）において、Ｒｆ_１は炭素数１～４のパーフルオロアルキル基であり、例えばトリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基等が挙げられる。

【0025】

Ｒ^１は単結合、又は、炭素数１～１０の置換若しくは無置換の炭化水素基である。単結合又は炭素数１～８の置換又は無置換の２価の炭化水素基であることが好ましく、単結合又は炭素数１～６の置換又は無置換の２価の炭化水素基であることが好ましい。

【0026】

炭素数１～１０の置換若しくは無置換の２価の炭化水素基としては、炭素数１～１０の置換若しくは無置換のアルキレン基、炭素数２～１０の置換若しくは無置換のアルケニレン基、炭素数４～１０の置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、炭素数６～１０の置換若しくは無置換のアリーレン基、又は、炭素数７～１０の置換若しくは無置換のアラルキレン基等が挙げられる。

【0027】

好ましくは、炭素数１～８の置換若しくは無置換のアルキレン基、炭素数２～８の置換若しくは無置換のアルケニレン基、炭素数４～８の置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、炭素数６～８の置換若しくは無置換のアリーレン基、又は、炭素数７～８の置換若しくは無置換のアラルキレン基であり、より好ましくは、炭素数１～６の置換若しくは無置換のアルキレン基、炭素数２～６の置換若しくは無置換のアルケニレン基、炭素数４～６の置換若しくは無置換のシクロアルキレン基、炭素数６の置換若しくは無置換のアリーレン基である。

【0028】

本明細書において、「置換若しくは無置換の２価の炭化水素基」は、（ｉ）置換基を有していても良い２価の炭化水素基と、（ｉｉ）ヘテロ原子で置換されていても良い２価の炭化水素基、（ｉｉｉ）置換基を有し、かつ、ヘテロ原子で置換された２価の炭化水素基を含む。

【0029】

また、「置換若しくは無置換のアルキレン基」は（ｉｖ）置換基を有していても良いアルキレン基と、（ｖ）ヘテロ原子で置換されていても良いアルキレン基、（ｖｉ）置換基を有し、かつ、ヘテロ原子で置換されたアルキレン基を含む。

【0030】

また、「置換若しくは無置換のアルケニレン」は、（ｖｉｉ）置換基を有していても良いアルケニレンと、（ｖｉｉｉ）ヘテロ原子で置換されていても良いアルケニレン、（ｉｘ）置換基を有し、かつ、ヘテロ原子で置換されたアルケニレンを含む。

【0031】

また、「置換若しくは無置換のシクロアルキレン基」は（ｘ）置換基を有していても良いシクロアルキレン基と、（ｘｉ）ヘテロ原子で置換されていても良いシクロアルキレン基、（ｘｉｉ）置換基を有し、かつ、ヘテロ原子で置換されたシクロアルキレン基を含む。

【0032】

また、「置換若しくは無置換のアリーレン基」は（ｘｉｉｉ）置換基を有していても良いアリーレン基と、（ｘｉｖ）ヘテロ原子で置換されていても良いアリーレン基、（ｘｖ）置換基を有し、かつ、ヘテロ原子で置換されたアリーレン基を含む。

【0033】

また、「置換若しくは無置換のアラルキレン基」は（ｘｖｉ）置換基を有していても良いアラルキレン基と、（ｘｖｉｉ）ヘテロ原子で置換されていても良いアラルキレン基、（ｘｖｉｉｉ）置換基を有し、かつ、ヘテロ原子で置換されたアラルキレン基を含む。

【0034】

炭素数１～１０の無置換のアルキレン基としては、例えば、炭素数１～１０の直鎖アルキレン基（メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等）；炭素数３～１０の分岐アルキレン基（１－メチルエチレン基、２－メチルエチレン基、１－エチルエチレン基、２－エチルエチレン基、１－メチルプロピレン基、２－メチルプロピレン基、１，１－ジメチルプロピレン基、１－ヘキシルプロピレン基、１－ヘキシルブチレン基、１－オクチルエチレン基等）等が挙げられる。

【0035】

炭素数２～１０の無置換のアルケニレン基としては、例えば、炭素数２～１０の直鎖アルケニレン基（エテニレン基、プロペニレン基等）；炭素数３～１０の分岐アルケニレン基（１－エチルエテニレン基、１，２－ジメチルエテニレン基、１－ブチルエテニレン基、１－ヘキシルエテニレン基等）等が挙げられる。

【0036】

炭素数４～１０のシクロアルキレン基としては、例えば、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、２－メチルシクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、１，３－ジメチルシクロヘキシレン基、１－エチルシクロペンチレン基、シクロヘキサンジメチレン基等が挙げられる。

【0037】

炭素数６～１０のアリーレン基としては、例えば、ｏ－、ｐ－又はｍ－フェニレン基、２，４－ナフチレン基、ビフェニレン基、トリレン基等が挙げられる。

【0038】

炭素数７～１０のアラルキレン基としては、例えば、フェニルメチレン基、ジフェニルメチン基、１－フェニルエチレン基、ｏ－フェニレンエチル基、ナフチルメチレン基等が挙げられる。

【0039】

Ｒ^１において、炭化水素基が置換基を有する場合、置換基の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、水酸基、チオール基、カルボキシル基、アミド基、グアニジド基、ニトロ基、シアノ基、ジメチルアミノ基等のジアルキルアミノ基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、メチルチオ基等のアルキルチオ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基、トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基、アルキルカルボニルアミノ基、アルキルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。

【0040】

上記置換基として挙げているアルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン化アルキル基、アルキルカルボニルアミノ基、アルキルオキシカルボニルアミノ基のアルキル部分としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、１－エチルペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、２－エチルへキシル基等の直鎖状又は分枝鎖状の炭素数１～１２のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは炭素数１～８である。

【0041】

また、上記置換基として挙げているアリールオキシ基のアリール部分としては、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６～１０のアリール基が挙げられる。

【0042】

また、Ｒ^１において、炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等の少なくとも１種のヘテロ原子で置換されていても良い。ヘテロ原子の数は、好ましくは１～１０個、より好ましくは１～６個、とすることができる。炭化水素基が、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等の少なくとも１種のヘテロ原子で置換されていている場合、炭化水素基は例えば、－Ｏ－、－Ｎ＜、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－、－ＮＨ（Ｃ＝Ｏ）－、－（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ－等の基の少なくとも１種を有し、炭化水素鎖がこれらの基により中断されている。Ｒ^１において、炭化水素基がヘテロ原子で置換されていることにより、Ｒ^１がヘテロ環を有する構造となっていても良い。

【0043】

Ｒ^１としては、例えば以下に列挙するものが挙げられる。

【0044】

【化5】

【0045】

（式中、＊は結合手を示し、右側の＊はスルホン酸基の硫黄原子に結合する結合手を示す。）

【0046】

この中でも、以下の構造がＲ^１として好ましい。

【0047】

【化6】

【0048】

（式中、＊は結合手を示し、右側の＊はスルホン酸基の硫黄原子に結合する結合手を示す。）

【0049】

式（１）において、ｎは０～５の整数である。ｎは０～３の整数がより好ましく、０～２の整数がさらに好ましく、１が特に好ましい。ｎが上記範囲内であると、表面張力低下能に優れる。また、ｎが５を超えると、水溶性が低下する恐れがある。

【0050】

式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物の分子量は、４００～１４００であることが好ましく、４００～１０００がより好ましく、４００～９００がさらに好ましい。

【0051】

式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物の具体例としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これに限定されない。

【化7】

【0052】

式（１）のアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物としては、式（１－１）、（１－２）、（１－３）、（１－４）、（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）で表される化合物が好ましい。また、式（２－１）、（２－２）、（２－３）、（２－４）で表される化合物がより好ましい。

【0053】

好ましい一実施形態において、式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物の塩とすることができる。塩としては例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アンモニウム塩、アルカノールアミン塩、アミン塩等が挙げられる。この中でも、ナトリウム塩が好ましい。塩とすることにより、親水性を高めることができ、水中での安定性が高くなる。

【0054】

本発明の式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩は、例えば、下記式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル化合物とアミノスルホン酸とを反応させる工程を含む方法により製造することができる。

【0055】

式（２）：

【0056】

【化8】

【0057】

［式中、Ｒｆ_１は炭素数１～４のパーフルオロアルキル基である。Ｒ^２は置換又は無置換の炭化水素基である。ｎは０～５の整数である。］

【0058】

式（２）におけるＲｆ_１及びｎは、式（１）において定義されるものと同じである。

【0059】

式（２）において、Ｒ^２は置換又は無置換の炭化水素基である。好ましくは炭素数１～２０の置換又は無置換の炭化水素基、より好ましくは炭素数１～１２の置換又は無置換の炭化水素基、特に好ましくは炭素数１～６の置換又は無置換の炭化水素基である。

【0060】

無置換の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル、アリル基、ベンジル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、フェニル基等が挙げられる。好ましくはメチル基、エチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ベンジル基であり、特に好ましくはメチル基が挙げられる。

【0061】

Ｒ^２において、炭化水素基が置換基を有する場合、置換基としては、式（１）のＲ^１において上記に記載されている置換基を、特に制限なく用いることができる。

【0062】

式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル化合物の具体例としては、例えば以下のものが挙げられるが、これに限定されない。

【0063】

【化9】

【0064】

式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル化合物は、市販品として入手することもでき、例えば、ＣＡＥ－５００、ＣＡＥ－６００、ＣＡＥ－１０００（いずれもシノケム社製）が使用可能である。

【0065】

式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル化合物とアミノスルホン酸とを反応させる工程は、例えば、下記の反応式で表すことができる。

【0066】

【化10】

【0067】

上記反応式において、式（３）で表されるアミノスルホン酸におけるＲ^１及びｎは、式（１）において定義されるものと同じである。

【0068】

式（３）で表されるアミノスルホン酸としては、例えば、スルファミン酸、２－アミノベンゼンスルホン酸、３－アミノベンゼンスルホン酸、４－アミノベンゼンスルホン酸（スルファニル酸）、アミノメタンスルホン酸、２－アミノエタンスルホン酸、３－アミノ－１－プロパンスルホン酸等が挙げられるが、これに限定されない。

【0069】

上記反応は、塩基存在下で行う。塩基としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロノネン、ジアザビシクロウンデセン等の有機塩基、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、メチルリチウム、ブチルリチウム等の有機リチウム等が挙げられる。

【0070】

反応温度は、通常、０℃から１００℃又は溶媒の沸騰する温度である。

【0071】

反応時間は通常、１～４８時間であり、好ましくは１～２０時間である。

【0072】

反応溶媒としては、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。

【0073】

溶媒を使用する場合、溶媒の使用量としては式（２）で表されるパーフルオロポリエーテル化合物１質量部に対して、通常１００質量部以下、好ましくは０．５～５０質量部である。溶媒は必要に応じて２種以上を混合して使用することもできる。

【0074】

必要に応じて、窒素、アルゴン、ヘリウム等の反応に影響を与えない不活性ガス雰囲気下で反応させてもよい。

【0075】

反応終了後は、有機溶媒を用いた洗浄による不純物（例えば、未反応の原料）の除去や反応液の濃縮等により、式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物を得ることができ、必要に応じて、公知の方法を用いてさらなる精製を行っても良い。

【0076】

また、式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物の塩は、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の各種塩基により中和することで得ることができる。

【0077】

上記の通り、式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩の合成には、多段階の反応を必要とせず、簡便に合成することができる。

【0078】

式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩は、それ自体でフッ素系界面活性剤として使用できるが、水又は有機溶剤を含む組成物（界面活性剤組成物）としても用いることができる。当該組成物には、式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩のうちの１種を単独で含んでいても良く、２種以上を組み合わせて含んでいても良い。有機溶剤としては、例えば、ヘキシレングリコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ノルマルブチル等を用いることができる。

【0079】

上記界面活性剤組成物における式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩の含有量は、組成物全量１００質量部に対して、例えば１～６０質量部程度、好ましくは３０～５０質量部程度である。

【0080】

本発明のフッ素系界面活性剤は、優れた表面張力低下能を有する。式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩は、０．１質量％水溶液とした際の表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２０ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましい。表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であると、表面張力低下能に優れる。また、２０ｍＮ／ｍ以下であると、炭素数６以上の直鎖フッ素系界面活性剤の代替として用いることができるため、より好ましい。なお、本明細書において、表面張力は、実施例に記載のＷｉｌｈｅｌｍｙ法（液温２０℃）で測定されるものである。

【0081】

また、本発明のフッ素系界面活性剤は、低濃度においても優れた表面張力低下能を有する。式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩の水溶液濃度が０．１質量％以下で、当該水溶液の表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下となることが好ましい。また、水溶液濃度が０．０５質量％以下で、当該水溶液の表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下となることがより好ましい。このように低濃度においても優れた表面張力低下能を有すると、添加剤として本発明のフッ素系界面活性剤を使用する際に、添加量を低減することができ、好ましい。

【0082】

本発明のフッ素系界面活性剤は、上記の通り優れた表面張力低下能を有することから、水性溶媒や有機溶媒が用いられている各種材料、例えば、塗料、消火薬剤、工業用及び業務用の各種洗浄剤、コーティング材料、離型剤等の添加剤として好適に用いることができる。

【0083】

例えば、塗料用の添加剤として本発明のフッ素系界面活性剤を用いる場合、本発明のフッ素系界面活性剤の添加量は、塗料組成物１００質量部に対して、式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩として０．０１～１０質量部含むことが好ましく、０.０５～１質量部含むことがより好ましい。フッ素系界面活性剤の添加量が上記範囲内であれば、十分に表面張力を低下させることができ、目的とするレベリング性が得られ、塗工時の泡立ち等の不具合の発生を抑制できる。

【0084】

また、例えば、消火薬剤用の添加剤として本発明のフッ素系界面活性剤を用いる場合、本発明のフッ素系界面活性剤の添加量は、消火薬剤用組成物１００質量部に対して、式（１）で表されるアミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物又はその塩として０．０１～１０質量部含むことが好ましく、０.０５～１質量部含むことがより好ましい。フッ素系界面活性剤の添加量が上記範囲内であれば、十分に表面張力を低下させることができ、目的とする消火効果を得ることができる。

【実施例0085】

以下、本発明を実施例によりさらに説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

【0086】

（^１Ｈ－ＮＭＲ分析条件）
装置：日本電子株式会社製ＪＮＭ-ＥＣＺ４００Ｓ
周波数：４００ＭＨｚ
重溶媒：重メタノール
基準ピーク：テトラメチルシランを０．００ｐｐｍとした。

【0087】

（ＬＣ－ＭＳ分析）
装置：島津製作所製 ＬＣＭＳ－２０２０
カラム：Ｋｉｎｅｔｅｘ ５μｍ ＥＶＯ Ｃ１８長さ１５０ｍｍ×内径４．６ｍｍ
移動相：ＭｅＯＨ／０．１％酢酸水溶液＝７０／３０
流速：０．６ ｍＬ／ｍｉｎ
カラム温度：40℃
注入量：１μＬ
イオン化モード：ＥＳＩ Ｎｅｇａｔｉｖｅ
分析モード：ＳＣＡＮ
ｍ／ｚ：１００－１０００
ネブライザーガス流量：１．５ Ｌ／ｍｉｎ
インターフェース：３５０℃
ＤＬ温度：２５０℃
ヒートブロック：４００
ドライングガス流量：１５ Ｌ／ｍｉｎ
イベント時間（サンプリングレート）：１秒

【0088】

（使用材料）
末端メチルエステル化パーフルオロポリエーテル：

【0089】

【化11】

【0090】

ＣＡＥ－５００、シノケム社製：（ｍ＝０）分子量３４４．０８
ＣＡＥ－６００、シノケム社製：（ｍ＝１）分子量５１０．１０
ＣＡＥ－１０００、シノケム社製：（ｍ＝３）分子量８４２．１５

【0091】

（合成例１）フッ素系界面活性剤１の製造
フッ素系界面活性剤１：

【0092】

【化12】

【0093】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－５００（３．５０ｇ、０．０１０２ｍｏｌ）およびスルファミン酸（１．０５ｇ、０．０１０８ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（３．９７ｇ、０．０２６１ｍｏｌ）、メタノール（５．０１ｇ、０．１５６ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物１を０．９１８ｇ（ｙｉｅｌｄ：２２．１％）回収した。

【0094】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびイソプロピルアルコールを加え３０質量％濃度（水：イソプロピルアルコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤１を得た。
得られたフッ素系界面活性剤１のＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）４０８

【0095】

（合成例２）フッ素系界面活性剤２の製造
フッ素系界面活性剤２：

【0096】

【化13】

【0097】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－５００（１．９８ｇ、０．００５７６ｍｏｌ）およびスルファニル酸（１．０９ｇ、０．００６３０ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（２．２０ｇ、０．０１４４ｍｏｌ）、メタノール（３．５４ｇ、０．１１１ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物２を１．７２ｇ（ｙｉｅｌｄ：６１．７％）回収した。

【0098】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびイソプロピルアルコールを加え３０質量％濃度（水：イソプロピルアルコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤２を得た。
得られたフッ素系界面活性剤２の^１Ｈ－ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：７．５（２Ｈ，ｄ），７．７（２Ｈ，ｄ）
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）４８４

【0099】

（合成例３）フッ素系界面活性剤３の製造
フッ素系界面活性剤３：

【0100】

【化14】

【0101】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－５００（１．９７ｇ、０．００５７３ｍｏｌ）および２－アミノベンゼンスルホン酸（１．０１ｇ、０．００５８２ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（２．６３ｇ、０．０１７３ｍｏｌ）、２Ｍ－ＮａＯＨ (２ｍＬ)、メタノール（２．１４ｇ、０．０６６８ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物３を０．７１０ｇ（ｙｉｅｌｄ：２５．５％）回収した。

【0102】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびイソプロピルアルコールを加え３０質量％濃度（水：イソプロピルアルコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤３を得た。
得られたフッ素系界面活性剤３の^１Ｈ－ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：７．６－７．８（４Ｈ，ｍ）
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）４８４

【0103】

（合成例４）フッ素系界面活性剤４の製造
フッ素系界面活性剤４：

【0104】

【化15】

【0105】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－５００（２．７４ｇ、０．００７９６ｍｏｌ）および２－アミノエタンスルホン酸（１．０３ｇ、０．００８２５ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（３．０４ｇ、０．０２００ｍｏｌ）、メタノール（４．０５ｇ、０．１２６ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物４を３．４１ｇ（ｙｉｅｌｄ：９８．０％）回収した。

【0106】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびイソプロピルアルコールを加え３０質量％濃度（水：イソプロピルアルコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤４を得た。
得られたフッ素系界面活性剤４の^１Ｈ－ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：３．５（２Ｈ，ｔ），３．６（２Ｈ，ｔ）
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）４３６

【0107】

（合成例５）フッ素系界面活性剤５の製造
フッ素系界面活性剤５：

【0108】

【化16】

【0109】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－６００（５．２５ｇ、０．０１０３ｍｏｌ）およびスルファミン酸（１．０１ｇ、０．０１０４ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（２．５９ｇ、０．０１７０ｍｏｌ）、２Ｍ－ＮａＯＨ (５ｍＬ)、メタノール（５．２６ｇ、０．１６４ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物５を４．７５ｇ（ｙｉｅｌｄ：７９．２％）回収した。

【0110】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびへキシレングリコールを加え３０質量％濃度（水：へキシレングリコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤５を得た。
得られたフッ素系界面活性剤５のＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）５７４

【0111】

（合成例６）フッ素系界面活性剤６の製造
フッ素系界面活性剤６：

【0112】

【化17】

【0113】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－６００（２．９６ｇ、０．００５８０ｍｏｌ）およびスルファニル酸（１．００ｇ、０．００５７７ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（１．９１ｇ、０．０１２５ｍｏｌ）、２Ｍ－ＮａＯＨ (１０ｍＬ)、メタノール（２．９７ｇ、０．９２８ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物６を１．４１ｇ（ｙｉｅｌｄ：３７．６％）回収した。

【0114】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびへキシレングリコールを加え３０質量％濃度（水：へキシレングリコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤６を得た。
得られたフッ素系界面活性剤６の^１Ｈ－ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：７．５（２Ｈ，ｄ），７．７（２Ｈ，ｄ）
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）６５０

【0115】

（合成例７）フッ素系界面活性剤７の製造
フッ素系界面活性剤７：

【0116】

【化18】

【0117】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－６００（２．９５ｇ、０．００５７８ｍｏｌ）および２－アミノベンゼンスルホン酸（１．００ｇ、０．００５７７ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（１．９１ｇ、０．０１２６ｍｏｌ）、２Ｍ－ＮａＯＨ (１０ｍＬ)、メタノール（２．９５ｇ、０．０９２１ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物７を２．２７ｇ（ｙｉｅｌｄ：６０．５％）回収した。

【0118】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびへキシレングリコールを加え３０質量％濃度（水：へキシレングリコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤７を得た。
得られたフッ素系界面活性剤７の^１Ｈ－ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：７．７－８．０（４Ｈ，ｍ）
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）６５０

【0119】

（合成例８）フッ素系界面活性剤８の製造
フッ素系界面活性剤８：

【0120】

【化19】

【0121】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－６００（４．０７ｇ、０．００７９９ｍｏｌ）および２－アミノエタンスルホン酸（０．９７６ｇ、０．００７８０ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（２．４４ｇ、０．０１６０ｍｏｌ）、メタノール（８．１５ｇ、０．２５４ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物８を１．３５ｇ（ｙｉｅｌｄ：２８．６％）回収した。

【0122】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびへキシレングリコールを加え３０質量％濃度（水：へキシレングリコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤８を得た。
得られたフッ素系界面活性剤８の^１Ｈ－ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：３．５（２Ｈ，ｄ），３．６（２Ｈ，ｄ）
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）６０２

【0123】

（合成例９）フッ素系界面活性剤９の製造
フッ素系界面活性剤９：

【0124】

【化20】

【0125】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－１０００（８．６２ｇ、０．０１０２ｍｏｌ）およびスルファミン酸（１．０２ｇ、０．０１０５ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（３．９２ｇ、０．０２５７ｍｏｌ）、メタノール（８．７０ｇ、０．２７２ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物９を８．９４ｇ（ｙｉｅｌｄ：９６．３％）回収した。

【0126】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびイソプロピルアルコールを加え３０質量％濃度（水：イソプロピルアルコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤９を得た。
得られたフッ素系界面活性剤９のＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）９０６

【0127】

（合成例１０）フッ素系界面活性剤１０の製造
フッ素系界面活性剤１０：

【0128】

【化21】

【0129】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－１０００（４．５９ｇ、０．００５４５ｍｏｌ）およびスルファニル酸（１．００ｇ、０．００５７８ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（２．２７ｇ、０．０１４９ｍｏｌ）、メタノール（５．１１ｇ、０．１６０ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物１０を４．０１ｇ（ｙｉｅｌｄ：７４．７％）回収した。

【0130】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびイソプロピルアルコールを加え３０質量％濃度（水：イソプロピルアルコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤１０を得た。
得られたフッ素系界面活性剤１０の^１Ｈ－ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：７．５－７．７（４Ｈ，ｍ）
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）９８２

【0131】

（合成例１１）フッ素系界面活性剤１１の製造
フッ素系界面活性剤１１：

【0132】

【化22】

【0133】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－１０００（４．６４ｇ、０．００５５１ｍｏｌ）および２－アミノベンゼンスルホン酸（１．００ｇ、０．００５７９ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（２．６８ｇ、０．０１７６ｍｏｌ）、メタノール（５．００ｇ、０．１５６ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物１１を４．６７ｇ（ｙｉｅｌｄ：８６．３％）回収した。

【0134】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびイソプロピルアルコールを加え３０質量％濃度（水：イソプロピルアルコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤７を得た。
得られたフッ素系界面活性剤１１の^１Ｈ－ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：７．７－８．０（４Ｈ，ｍ）
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）９８２

【0135】

（合成例１２）フッ素系界面活性剤１２の製造
フッ素系界面活性剤１２：

【0136】

【化23】

【0137】

スターラーを入れた５０ｍＬナスフラスコにＣＡＥ－１０００（６．５６ｇ、０．００７７９ｍｏｌ）および２－アミノエタンスルホン酸（１．０２ｇ、０．００８１５ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７（３．０５ｇ、０．０２０１ｍｏｌ）、２Ｍ－ＮａＯＨ (２ｍＬ)、メタノール（７．０６ｇ、０．２２０ｍｏｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液に塩酸およびメタキシレンヘキサフルオリドを入れ、反応液を分層させた。目的物を含む下層を分取した後、上層をメタキシレンヘキサフルオリドにて抽出した。下層および抽出液をナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物１２を２．１１ｇ（ｙｉｅｌｄ：２８．９％）回収した。

【0138】

得られた目的物に同ｍｏｌ数の水酸化ナトリウムを加えナトリウム塩とした後、水およびイソプロピルアルコールを加え３０質量％濃度（水：イソプロピルアルコール＝１：１、重量比）に調製し、フッ素系界面活性剤１２を得た。
得られたフッ素系界面活性剤１２の^１Ｈ－ＮＭＲ、ＬＣ－ＭＳは、以下の通りである。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤ_３ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：３．５（２Ｈ，ｄ），３．６（２Ｈ，ｄ）
ＬＣ－ＭＳ：Ｆｒａｇｍｅｎｔ Ｉｏｎ （－）９３４

【0139】

（実施例１）
合成例１で合成したフッ素系界面活性剤１を水で希釈し、アミノスルホン酸変性パーフルオロポリエーテル化合物１のナトリウム塩の濃度が０．０５質量％、０．１質量％、０．５質量％となるよう調整した。その後、各濃度における表面張力を測定した。結果を表１に示す。

【0140】

（表面張力測定条件）
装置：表面張力計ＤＹ－３００（協和界面科学株式会社製）
条件：Ｗｉｌｈｅｌｍｙ白金プレート法
液温：２０℃

【0141】

評価基準
◎：２０ｍＮ／ｍ以下
〇：２０ｍＮ／ｍより大きく３０ｍＮ／ｍ以下
△：３０ｍＮ／ｍより大きく４０ｍＮ／ｍ以下
×：４０ｍＮ／ｍより大きい

【0142】

（実施例２～１８、比較例１～３）
表１に記載の界面活性剤を用いた以外は、すべて実施例１と同様にして表面張力の測定を行った。

【0143】

なお、比較例１として用いた炭化水素系界面活性剤であるポリオキシエチレンアルキルアリルエーテルは第一工業製薬株式会社製のノイゲンＥＴ－１６５を使用した。また、比較例２，３はアミノスルホン酸ナトリウム（比較例２：スルファミン酸ナトリウム、比較例３：スルファニル酸ナトリウム）の水溶液での表面張力を測定した。結果を表１に示す。

【0144】

【表1】

【0145】

実施例１～１２と炭化水素系界面活性剤である比較例１の０．５質量％での結果から、炭化水素系界面活性剤と比べ本発明の界面活性剤は優れた表面張力低下能を有していることが分かった。また、比較例２、３に示したアミノスルホン酸ナトリウム水溶液の表面張力の値から、実施例の表面張力低下能にはパーフルオロポリエーテル構造が寄与していることが分かった。

【0146】

実施例５～８と実施例１～４及び９～１２の結果から、パーフルオロポリエーテルとしてＣＡＥ－６００を用いることでより優れた表面張力低下能を示すことが分かった。